KR19980035311A - 평면브라운관의 새도우마스크 구조체 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 평면브라운관의 새도우마스크 구조체에 관한 것으로, 특히 마스크에 인가되는 변형력을 증가시키면서 뒤따르는 문제인 특정 부위의 응력 집중을 분산시켜 전면으로 변형을 위한 힘이 골고루 분산되어 최종적으로 응력절감 마스크를 제공하는데 목적이 있다.
이를 실현하기 위하여 본 발명은, 마스크의 중앙부인 유효면에는 전자총으로부터 발사된 전자빔이 통과되도록 통과홀이 형성되고, 상기 유효면의 주변부에 일정간격을 두고 레일이 고정되며, 상기 레일 고정부의 바깥면은 전자빔이 랜딩되지 않는 비유효면으로 이루어지는 평면브라운관의 새도우마스크 구조체에 있어서, 상기 마스크를 레일에 고정시 스트레치에 의하여 발생되는 코너부위 응력을 저감시키도록 상기 마스크의 통과홀 형성부위를 유효면과 레일 고정부 사이까지 연장하고, 연장된 부위의 코너부 통과홀은 방사방향으로 타이바 그레이딩(Tie_bar Grading) 처리하여 구성하였다.

Description

평면브라운관의 새도우마스크 구조체
본 발명은 평면형 칼라브라운관에 관한 것으로서, 특히 브라운관의 동작시 전자의 운동에너지를 열에너지로 변환시켜 흡수하여 평면판넬에 맞게 성형된 평면마스크의 열팽창으로 전자빔의 미스랜딩을 해결하고자 하는 평면브라운관의 새도우마스크 구조체에 관한 것이다.
종래 평면브라운관의 구성을 살펴보면 제 1 도 및 제 2 도에 도시된 바와 같이 방폭특성을 유지하도록 평면판넬(2) 전면에 레진수지로 고정되는 안전유리(1)와, 상기 판넬(2)의 후방에 프릿글라스를 이용하여 융착되는 펀넬(3)과, 상기 펀넬(3)의 넥크부(3a) 내에 봉입되어 R,G,B 3개의 전자빔(4)을 발사시키는 전자총(5)과, 상기 판넬(2)의 내측에 결합되어 전자빔의 색선별 기능을 하도록 슬릿형상의 작은 구멍이 무수히 뚫린 새도우마스크(7)와, 상기 새도우마스크(7)가 판넬(2)과 일정간격을 유지하도록 지지하는 레일(6)로 구성되었다.
그리고 상기 새도우마스크(7)상에는 제 3 도와 같이 전자빔의 랜딩영역인 유효면부(10)와, 통과홀이 형성되지 않은 부분(11)과 실제로 쓰이지 않는 비유효면부(12)로 이루어 지며 부호 13은 레일이 부착되는 위치를 나타낸다.
이와 같이 구성된 상태에서 전자총(5)에서 방사되어 나온 전자빔(4)은 새도우마스크(7)의 마스크구멍(7')을 통과하여 판넬(2) 내면에 도포되어진 형광스크린(미도시)에 충돌한다. 그리고 충돌된 전자빔(4)의 운동에너지는 형광체를 발광시켜 화상을 재현하게 되는데, 이때 새도우마스크(7)의 전자빔 통과공(7')을 통과하는 전자빔(4)은 전체 전자빔의 약 20%에 불과하고 나머지는 새도우마스크(7)에 충돌하여 열로 변환되며 이 열에 의하여 새도우마스크(7)가 열팽창하게 되는 도밍현상이 야기된다.
이러한 도밍현상은 형광막(9)에 랜딩하는 전자빔(4)의 위치를 변화시키게 되어 색순도를 저하시키는데, 이를 해결하기 위하여 종래에는 열팽창이 적은 인바르(INVAR) 마스크를 사용한다든가 새도우마스크를 판넬에 고정시키는 스프링에 바이메탈을 사용하여 도밍을 억제하는 방법을 사용하고 있지만 이는 제품의 제조단가 상승 및 작업성을 저하시키는 원인이 된다.
그래서 최근에는 플랫 포일 텐션마스크(flat foil tention mask;이하 텐션마스크라 함)를 사용하여 선명도를 향상시키는데, 텐션마스크는 강제적으로 인장시켜 마스크에 인장력을 인가시켜 놓았기 때문에 전자의 마스크 충돌로 발생하는 마스크의 열팽창을 강제적으로 인가한 기구적인 장력으로 대처하므로 높은 온도에서도 마스크에 형성시킨 홀의 위치가 변화하지 않는다.
텐션마스크는 평면판넬과 이웃해서 음극선관 앞쪽 내부에 조립되며 판넬 내면에 형성된 형광체에 전자가 제 위치에 도달할 수 있게 기하학적으로 배치되도록 마스크를 고정시키는 지지 구조물에 붙어있다. 이 텐션마스크는 두께가 대략 0.025mm이며 판넬의 내면과 일정거리를 두고 조립되어 전자를 선별하여 적,청,녹으로 도포된 스크린을 신호에 맞게 발광하게 해주는 색선별 장치이다.
이러한 텐션마스크는 전자빔 통과홀의 형태가 도트였으므로 수평방향과 수직방향의 영률(YOUNG'S MODULUS;탄성률)이 비슷하여 유효면을 균일하게 그리고 장력을 많이 인가할 수 있었으나 선명도와 화면상의 물결무늬 그리고 퓨리티여유도 등의 스크린 특성을 우수하게 하기 위하여 요즘 추세인 슬롯마스크 형태로 바뀌게 되는데, 이는 수평방향과 수직방향의 영률이 심하게 차이가 나면서 유효면을 균일하게 그리고 장력을 많이 인가할 수 없게 되었다. 또한 변형력을 적게 인가하면 마스크의 늘어남으로 인한 전자의 미스랜딩이 발생하게 되고 변형력을 많이 인가하게 되면 마스크의 특정 부위에 응력이 집중되어 마스크가 소성변형을 일으키거나 파단에 이르게 되는 문제점이 발생하였다.
이러한 문제를 해결하기 위해서 마스크 유효면 외주부에도 홀을 형성시키는 방법을 채택하게 되었는데 제 4 도에 나타나 있듯이 비유효면부인 A 부위에 홀을 형성시켜 양방향으로 탄성력이 작용하게 하였지만, 많은 변형력을 인가했을 때 비유효면의 코너부인 B 부위에 응력이 집중되어 많은 장력을 인가할 수 없는 문제점이 있었다.
본 발명은 이러한 점을 해결하기 위하여 텐션마스크의 통과홀 형성부위를 유효면과 레일 고정부 사이까지 연장하고, 연장된 부위의 코너부 통과홀은 방사방향으로 타이바 그레이딩(Tie_bar Grading) 처리함으로서, 마스크에 인가되는 변형력을 증가시키면서 뒤따르는 문제인 특정부위의 응력 집중을 분산시켜 전면으로 스트레칭을 위한 힘이 골고루 분산되어 최종적으로 응력절감마스크를 제공하도록 하는데 목적이 있다.
제 1 도는 평면브라운관의 단면도,
제 2 도는 평면브라운관의 판넬부 구조체 분해 사시도,
제 3 도는 종래 플렛포일 텐션마스크의 구조도,
제 4 도 및 제 5 도는 비유효면에 홀을 형성시킨 종래 텐션마스크의 구조도,
제 6 도는 본 발명 텐션마스크의 구조도 및 부분 상세도,
제 7 도는 본 발명 마스크의 다른 실시예에 의한 구조도 및 부분 상세도,
제 8 도는 본 발명에 의한 유효면 연장부의 코너부 구조도,
제 9 도는 본 발명의 비유효면부 타이바 그레이딩 상태도,
제 10 도는 본 발명의 비유효면부 타이바 그레이딩 실시예도,
제 11 도는 본 발명의 또다른 실시예도.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
100 : 유효면101 : 연장부
101' : 연장부 홀102 : 비유효면
104 : 기준홀(fiducial hole)
본 발명을 첨부도면을 참조하여 이하에서 상세히 설명한다.
먼저 텐션마스크의 구조를 살펴보면 제 6 도와 같이 중심부의 유효면(100)을 연장하여 연장부상에 홀(101')을 형성시킨 제 2 비유효면(101)을 구성시키고, 상기 홀(101')과 홀 사이거리인 타이바(a)를 화살표 방향으로 그레이딩 처리하였으며, 방사방향으로 타이바 그레이딩 처리되는 상기 연장부(101)의 코너측(C)은 제 8 도와 같이 라운드 처리하였다.
그리고 레일 고정부(105)의 외곽에는 제 6 도 내지 제 11 도에서와 같이 마스크 코너부를 제외한 상,하,좌,우에 홀이 형성된 제 1 비유효면(102)을 형성하였고, 상기 제 1 비유효면(102)의 외곽부는 제 10 도의 화살표방향으로 타이바 그레이딩을 형성시키며, 상기 제 1 비유효면(102)의 코너부는 제 7 도와 같이 곡면형상으로 형상하여 방사방향으로 타이바 그레이딩을 형성하였다.
또한 스트레치 스트레인(stretch strain)의 기준이 되는 기준홀(104)을 상기 유효면(100)의 연장부인 제 2 비유효면(101)에 제 7 도와 같이 각변에 각각 3개씩 형성하게 된다.
텐션마스크의 원래목적인 도밍 제거에 있어서 가장 중요한 것이 마스크에 인가되는 변형력인데 이와 맞물려 변형력과 직접 관계가 있는 것이 응력이다. 마스크에 변형력을 많이 인가하여 할수록 좋지만 이는 반대로 응력의 증가를 가져오게 되어 파단에 이르기 쉽게 된다.
즉, 마스크상에서 X반향, Y방향의 변형력을 어떤값으로 선택하느냐 하는 것도 중요한 기술이 된다. 변형력과 도밍의 이러한 관계를 가지는 마스크의 인장에 중요한 부분이 바로 유효면이다. 변형력이 균일하게 인가되어야 함은 물론 이에 따라 각 통과홀의 변위도 수평방향에 따라 일정해야 함은 브라운관에 있어서 필수적인 요건이 된다. 이렇게 수평방향에 따른 각 통과홀의 변위를 동일하게 하고 변형력을 많이 인가하면서 특정부위에 응력이 집중되는 것을 제거하여 고르게 분포할 수 있게 하기 위해서 마스크의 구조를 본 발명의 도면과 같이 형성하였다.
마스크 유효면(100)의 설계는 편향요크에 의한 전자빔의 궤도에 따라 발생하는 랜딩의 그루핑(grouping)과 디그루핑(degrouping)에 의해서 수평피치가 결정되고 모이어(moir)에 대처하기 위하여 수직피치를 결정하고 다른 사항은 선명도와 여유도측면에서 결정된다. 그러나 유효면 이외의 부분은 스크린 특성과는 무관하게 마스크에 인장력을 인가할 때 더 큰 값으로 안정적으로 작업하기 위해서 형성되어지는 것으로 이러한 마스크 유효면 이외의 부분을 설계하는 것을 메카니컬 마스크 디자인이라 한다.
또한 텐션마스크에 많은 변형력을 인가할 때 유의할 사항이 있는데 이는 수평방향과 수직방향의 탄성률이 다르다는 것이다. 이 값은 마스크의 수직피치, 수평피치, 슬롯폭, 타이바(tie_bar) 등에 따라서 틀려지게 되는데 0.025mm의 두께를 가지고 AK(Aluminium killed)강철의 재료를 사용하여 제작한 원판에 고해상도를 위해서 채택된 0.24mm 수평피치, 0.339mm 수직피치 마스크의 탄성률의 값은 대략,
EX~ 0.3×105(Mpa)
EY~ 0.15×106(Mpa)
으로 나타낼 수 있는데 X방향과 Y방향간에 나타나는 5배 정도의 차이는 마스크의 스트레칭을 위한 장치의 설계라든가 마스크의 다른 특성을 연구하는데 많은 영향을 끼친다. 또한 도트마스크나 슬롯마스크 특히, 슬롯마스크에서 각 방향의 스트레인을 가지는 영역이 특정부위가 되어 그 부분이 응력을 대부분 가지고 거동한다. 이러한 면에서 볼 때 응력을 지배하는 영역이 많은 응력을 가하고자 하여 모터에 많은 힘을 가했을 때 이 부분은 소성 변형을 일으킬 위험성이 있다. 만약 소성 영역에서 거동하게 된다면 작은 힘에 따라서 인가되는 응력이 심하게 변하기 때문에 우리가 원하는 마스크홀의 균일한 변위 변화를 기대하기가 어려워 진다.
그래서 마스크는 항상 탄성 영역 안에서만 거동을 해야 하며 탄성영역 안에서 최대로 인가될 수 있는 응력은 스크린 특성으로 결정되는 유효면의 홀형성으로 이미 결정되어 진다. 이렇게 결정된 응력의 최대값을 유효면에 인가하기 위해서 필요한 것이 마스크 유효면 외주부의 설계인 것이다.
플렛포일 텐션마스크를 부품으로 사용하는 브라운관의 제조에 있어서 공정상에 중요한 부분은 이 마스크를 잡아당기는 스트레칭작업으로 강제적으로 응력을 인가시켜 레일(프레임)에 고정시키는 것이다. 이를 위해서 우선 마스크의 에지부분을 그리퍼로 물어서 모터의 힘을 이용하여 마스크를 평면으로 늘린다. 이런 작업을 실행함에 있어서 응력이 집중되는 부분이 마스크 유효면의 코너인데, 본 발명은 유효면(100)을 연장하여 연장부(101)에 통과홀(101')을 형성하였다.
이렇게 유효면(100)을 5~8mm 정도 연장시켜 통과홀(101')을 형성시켰으나 여전히 코너에 응력이 집중되는데, 이때는 코너부분(C)을 라운드처리하여 각을 가지는 곳에서 응력이 집중된다는 사실을 배제할 수 있게 된다. 여기서 실제로 라운드처리를 할 수도 있고 지름방향으로 타이바를 증가시켜 처리한 효과를 가져올 수 있게 하였다.
그러나 유효면(100)을 연장시킨 것만으로 최대의 인장력을 인가할 수 있는 것은 아니기 때문에 외주부에도 홀이 형성된 비유효면(102)을 형성하여 탄성률의 균일성(uniformity)를 좋게 하고 변형을 안정적으로 실행할 수 있게 하였다. 즉 응력의 균일성을 좋게 하여 응력의 집중을 제거하고 많은 변형을 인가할 수 있게 하였다.
그리고 비유효면(102)의 코너부를 라운드 처리하여 유효면(100) 외곽부 특정 부분에 집중되는 응력을 감소시켰으며 세부 사항으로 제 7 도에 나타나 있는 것처럼 가장자리에 적절한 너비를 가지는 영역을 선택하여 타이바 그레이딩으로 처리하여 홀이 형성되어 있는 부분과 형성되어 있지 않은 부분의 영 모듈러스의 값을 부드럽게 변화시켜 주었다.
이렇게 탄성률의 값을 변화시킨다는 의미는 실제 홀의 형태가 슬롯이기 때문에 홀이 형성되어 있지 않은 부분과 홀이 형성되어 있는 부분의 경계에 위치하는 타이바 근처에는 많은 응력이 인가되기 마련이다. 그러나 이부분의 홀크기를 줄인다면 인가되는 힘은 똑같은 값을 갖는데, 힘을 받는 면적이 늘어난 것이므로 응력을 줄일 수 있다는 것이다. 이렇게 하여 점진적으로 홀의 크기를 늘려나가면 전체적으로 탄성률의 균일성을 좋게 할 수 있다. 물론, 이러한 구조는 타이바 그레이딩이 되는 방향은 응력에 안정적으로 대처하지만 그레이딩 방향에 수직한 방향으로 불리하게 작용할 수 있다.
그러나 마찬가지로 타이바 그레이딩을 형성하고 있기 때문에 응력에 가장 불리한 곳은 여전히 코너부분으로 남아 있지만, 앞에서 언급했듯이 응력에 불리한 코너부분은 라운드처리를 함으로서 이것도 해결할 수 있다.
결국, 수직방향과 수평방향의 변형 응력이 거의 독립적으로 거동하고 있다고 해도 상관없을 만큼 특이하게 슬롯마스크가 동작하고 있음을 알 수 있다.
지금까지는 마스크의 본질에 대한 거동과 발명에 대해 기술해 왔는데, 이하에서는 마스크와 마스크 고정 디바이스의 조립을 위한 마스크의 구조에 대해 살펴보겠다.
제 7 도에 나타낸 마스크를 어떤 기계나 기구로 스트레칭(stretching)할 때 힘을 즉, 응력을 제일 많이 받는 부분이 바로 힘의 작용점이라 할 수 있다.
그러므로 마스크 인장중에 마스크가 받는 힘의 작용점은 마스크 에지(edge)부분이다. 그렇기 때문에 유효면과 홀이 형성된 외주부 사이의 홀이 형성되지 않은 부분에서는 양쪽 부분에 대해 상대적으로 탄성률이 크기 때문에 그 방향의 응력은 거의 없다고 봐도 무방하다. 이유는 상대적으로 작은 탄성률을 갖는 양쪽 부분에서 변형력을 독점하기가 쉽기 때문이다. 이것은 물론 X 방향에 한한 것이다. Y 방향에서의 탄성률의 변화는 비교적 완만하다고 표현해도 되겠다. 이런 상태에서 마스크를 마스크 고정 프레임에 고정시키게 되면 이제부터는 마스크에 미치는 힘의 작용점이 홀이 형성되지 않은 유효면과 비유효면 사이가 되어 이제는 이 부분에서 부분 변형력이 인가되기 시작한다. 물론, 이것은 Y 방향도 포함한다.
이러한 현상을 모두 대처할 수 없지만 이 부분에 초기 변형력을 주게 되면 문제가 되는 현상은 조금 감소시킬 수 있다. 결국 이에 대처하는 방법은 각 방향의 영 모듈러스의 변화를 완만하게 가져가는 것이 가장 좋은 방법이므로 외주부(102)에 형성되는 홀도 제 9 도 및 제 10 도와 같이 타이바 그레이딩을 양쪽으로 주면 탄성률을 완만하게 변화시킬 수 있다. 또한 마스크 유효면을 완전히 라운드 처리하여 코너에서 응력의 집중을 제거하는 방법도 사용할 수 있다.
그리고 제 7 도와 같이 마스크상의 스트레칭의 기준을 삼을 수 있는 기준홀(104)을 유효면 연장부(101)의 홀이 형성되어 있는 부분에 별도로 도트형태로 형성하고 이 홀(104)을 기준으로 하여 마스크에 스트레칭 스트레인을 결정하여 인가한다.
마스크 스트레칭에 있어 모든 방향으로 힘을 가하는 것이 효과적이며 두 변이 스트레인 인가방향에 수직한 방향으로 변위를 고정시켜도 이 기준홀은 움직하게 되므로 모든 곳에 형성시켜 놓아야 정확한 값을 인식할 수 있다. 그래서 각 변에 3개씩 홀(104)을 형성시켜 놓았는데 이 갯수가 기준홀로서 최소가 된다.
이상에서 살펴본 바와 같은 본 발명은 플렛포일 텐션마스크에 인가되는 변형력을 증가시키면서 특정부위의 응력집중을 분산시켜 전면으로 변형을 위한 힘이 골고루 분산되도록 함으로서, 최종적으로 전자빔의 미스랜딩을 제거하기 위한 응력절감 마스크를 제공할 수 있게 되는 것이다.

Claims (55)

  1. 판넬 내면에는 형광스크린이 도포되어 있으며, 판넬과 전자빔을 발사하는 전자총이 봉입되어 있는 네크부를 가진 펀넬과, 상기 전자총에서 발사된 전자빔을 편향시켜 주는 편향요크와, 지지프레임에 연결된 새도우마스크를 통과하여 판넬 내면에 도포된 형광스크린을 발광시켜 동작하는 평면브라운관에 있어서,
    상기 마스크의 중앙부인 유효면에는 전자총으로부터 발사된 전자빔이 통과되도록 통과홀이 형성되고, 상기 유효면의 주변부에 일정간격을 두고 레일이 고정되며, 상기 레일 고정부의 바깥면은 전자빔이 랜딩되지 않는 제 1 비유효면으로 이루어지고,
    상기 마스크의 통과홀 형성부위를 레일 고정부까지 연장한 제 2 비유효면을 형성한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  2. 상기 제 1 비유효면중 마스크 코너부를 제외한 부분에 홀이 형성된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 연장된 제 2 유효면은 외측 또는 내측으로 타이바 그레이딩(Tie_bar Grading) 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 각각 중심부의 타이바를 일정하게 하고 외측을 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  5. 제 1 항 및 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 또는 제 2 비유효면의 홀형성 영역은 코너부위를 곡면형상으로 라운딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 또는 제 2 비유효면의 홀형성 영역은 상측 또는 하측으로 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  7. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 방사방향으로 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  8. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 각각 중심방향으로부터 방사방향으로 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  9. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 유효면측으로 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  10. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 마스크 외측이 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  11. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 외측 또는 내측으로 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  12. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 타이바 그레이딩이 내측에서 외측으로 감소하다가 증가하도록 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  13. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 타이바 그레이딩이 내측에서 외측으로 증가하다가 감소하도록 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  14. 제 1 항에 있어서,
    마스크 유효면의 연장된 제 1 비유효면에 스트레칭의 기준이 되는 기준홀을 형성한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  15. 판넬 내면에는 형광스크린이 도포되어 있으며, 판넬과 전자빔을 발사하는 전자총이 봉입되어 있는 네크부를 가진 펀넬과, 상기 전자총에서 발사된 전자빔을 편향시켜 주는 편향요크와, 지지프레임에 연결된 새도우마스크를 통과하여 판넬 내면에 도포된 형광스크린을 발광시켜 동작하는 평면브라운관에 있어서,
    상기 마스크의 중앙부인 유효면에는 전자총으로부터 발사된 전자빔이 통과되도록 통과홀이 형성되고, 상기 유효면의 주변부에 일정간격을 두고 레일이 고정되며, 상기 레일 고정부의 바깥면은 전자빔이 랜딩되지 않는 제 1 비유효면으로 이루어지고,
    상기 마스크의 통과홀 형성부위를 레일 고정부까지 연장한 제 2 비유효면을 형성하며,
    상기 연장된 제 2 비유효면의 코너부 통과홀은 방사방향으로 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 연장된 제 2 비유효면은 내측 또는 외측으로 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  17. 제 15 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면은 코너부를 제외한 부위에 홀을 형성시킨 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 각각 중심부의 타이바를 일정하게 하고 외측을 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  19. 제 15 항 또는 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 또는 제 2 비유효면의 홀형성 영역은 코너부위를 곡면형상으로 라운딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  20. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 방사방향으로 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  21. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 각각 중심방향으로부터 방사방향으로 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  22. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 유효면측이 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  23. 제 17 항에 있어서,
    제 1 비유효면의 홀형성 영역은 마스크 외측이 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  24. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 외측 또는 내측으로 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  25. 제 15 항에 있어서,
    상기 마스크의 연장된 제 2 비유효면 부위의 코너부를 곡면형상으로 라운딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  26. 제 15 항에 있어서,
    상기 마스크 유효면의 연장된 부위인 제 2 비유효면에는 스트레칭 기준이 되는 기준홀이 형성된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  27. 제 15 항 또는 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 또는 제 2 비유효면은 상 또는 하측으로 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  28. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 타이바 그레이딩이 내측에서 외측으로 감소하다가 증가하도록 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  29. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 타이바 그레이딩이 내측에서 외측으로 증가하다가 감소하도록 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  30. 판넬 내면에는 형광스크린이 도포되어 있으며, 판넬과 전자빔을 발사하는 전자총이 봉입되어 있는 네크부를 가진 펀넬과, 상기 전자총에서 발사된 전자빔을 편향시켜 주는 편향요크와, 지지프레임에 연결된 새도우마스크를 통과하여 판넬 내면에 도포된 형광스크린을 발광시켜 동작하는 평면브라운관에 있어서,
    상기 마스크의 중앙부인 유효면에는 전자총으로부터 발사된 전자빔이 통과되도록 통과홀이 형성되고, 상기 유효면의 주변부에 일정간격을 두고 레일이 고정되며, 상기 레일 고정부의 바깥면은 전자빔이 랜딩되지 않는 제 1 비유효면으로 이루어지고,
    상기 유효면의 주변부에는 마스크 통과홀이 연장된 제 2 비유효면이 있으며,
    상기 제 1 비유효면과 제 2 비유효면과의 사이에는 구멍이 없는 제 1 브랭크부분이 있고,
    상기 제 1 비유효면의 바깥부분으로는 제 2 브랭크부분이 형성되며,
    상기 제 1 비유효면의 코너부에는 구멍이 없는 제 3 브랭크부분으로 이루어진 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  31. 제 30 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면은 제 3 브랭크부를 제외한 부분에 홀이 형성된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  32. 제 30 항 또는 제 31 항에 있어서,
    상기 제 1 또는 2 비유효면의 홀형성부는 제 1 브랭크측 또는 제 2 브랭크측으로 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  33. 제 31 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 각각 중심부의 타이바를 일정하게 하고 제 2 브랭크측을 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  34. 제 30 항 또는 제 31 항에 있어서,
    상기 제 1 또는 제 2 비유효면의 홀형성 영역의 코너부위를 곡면형상으로 라운딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  35. 제 30 항 또는 제 31 항에 있어서,
    상기 제 1 또는 제 2 비유효면의 홀형성 영역은 상측 또는 하측으로 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  36. 제 31 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 방사방향으로 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  37. 제 31 항에 있어서,
    상기 비유효면의 홀형성 영역은 각각 중심방향으로부터 방사방향으로 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  38. 제 31 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 제 1 브랭크측이 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  39. 제 31 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 제 1 브랭크측이 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  40. 제 31 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 제 1 브랭크측 또는 제 2 브랭크으로 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  41. 제 31 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 타이바 그레이딩이 제 1 브랭크측에서 제 2 브랭크측으로 감소하다가 증가하도록 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  42. 제 31 항에 있어서,
    상기 제 1 비유효면의 홀형성 영역은 타이바 그레이딩이 제 1 브랭크측에서 제 2 브랭크측으로 증가하다가 감소하도록 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  43. 제 30 항에 있어서,
    제 2 비유효면에 스트레칭의 기준이 되는 기준홀을 형성한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  44. 판넬 내면에는 형광스크린이 도포되어 있으며, 판넬과 전자빔을 발사하는 전자총이 봉입되어 있는 네크부를 가진 펀넬과, 상기 전자총에서 발사된 전자빔을 편향시켜 주는 편향요크와, 지지프레임에 연결된 새도우마스크를 통과하여 판넬 내면에 도포된 형광스크린을 발광시켜 동작하는 평면브라운관에 있어서,
    상기 새도우마스크는 중앙부에 전자빔이 통과되는 통과홀이 형성되 유효면이 있고, 상기 유효면의 주변부에 일정간격을 두고 레일이 고정되며, 상기 레일 고정부의 바깥면은 전자빔이 랜딩되지 않는 비유효면이 있고,
    상기 유효면과 인접하는 부분에 구멍이 없는 제 1 브랭크부분이 형성되며,
    상기 비유효면 바깥부분에는 구멍이 없는 제 2 브랭크부분이 형성되고,
    상기 제 1 브랭크부분과 제 2 브랭크부분 사이의 코너부에는 구멍이 없는 제 3 브랭크부분이 형성되는 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  45. 제 44 항에 있어서,
    상기 비유효면은 제 3 브랭크부를 제외한 부위에 홀을 형성한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  46. 제 44 항에 있어서,
    상기 비유효면은 제 1 브랭크측 또는 제 2 브랭크측으로 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  47. 제 45 항에 있어서,
    상기 비유효면의 홀형성 영역은 각각 중심부의 타이바를 일정하게 하고 제 2 브랭크측을 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  48. 제 45 항에 있어서,
    상기 비유효면의 홀형성 영역은 코너 부위를 곡면형상으로 라운딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  49. 제 45 항에 있어서,
    상기 비유효면은 제 1 브랭크측 또는 제 2 브랭크측으로 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  50. 제 45 항에 있어서,
    상기 비유효면의 홀형성 영역은 방사방향으로 타이바 그레이딩 처리한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  51. 제 45 항에 있어서,
    상기 비유효면의 홀형성 영역은 제 1 브랭크측이 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  52. 제 45 항에 있어서,
    상기 비유효면의 홀형성 영역은 제 2 브랭크측이 타이바 그레이딩 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  53. 제 45 항에 있어서,
    상기 비유효면의 홀형성 영역은 타이바 그레이딩이 내측에서 외측으로 감소하다가 증가하도록 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  54. 제 45 항에 있어서,
    상기 비유효면의 홀형성 영역은 타이바 그레이딩이 내측에서 외측으로 증가하다가 감소하도록 처리된 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
  55. 제 44 항에 있어서,
    상기 유효면과 레일 고정부의 사이에는 스트레칭의 기준이 되는 기준홀을 형성한 것을 특징으로 하는 평면브라운관용 새도우마스크 구조체.
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