KR102678090B1 - Wet-cleaning apparatus - Google Patents

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KR102678090B1
KR102678090B1 KR1020230169624A KR20230169624A KR102678090B1 KR 102678090 B1 KR102678090 B1 KR 102678090B1 KR 1020230169624 A KR1020230169624 A KR 1020230169624A KR 20230169624 A KR20230169624 A KR 20230169624A KR 102678090 B1 KR102678090 B1 KR 102678090B1
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cleaning
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KR1020230169624A
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Inventor
정원식
김일호
이상문
이재엽
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한국건설기술연구원
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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 가스세정장치는 일측 하부에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 유입되는 제 1 유입구가.구비되고 상단에 제 1 배기구가 구비되며 내부에는 제 1 폴링충전층이 구비되고 상기 제 1 폴링충전층의 상부에는 세정수를 하향 분사하는 제 1 분사노즐이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 상기 제 1 분사노즐로 공급하는 제 1 세정수라인이 구비되는 제 1 가스세정유닛; 상기 제 1 세정수라인 상에 설치되고 상기 제 1 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 1 미세기포분산유닛; 일측 하부에 상기 제 1 배기구에 연결되는 제 2 유입구가.구비되고 상단에 제 2 배기구가 구비되며 내부에는 제 2 폴링충전층이 구비되고 상기 제 2 폴링충전층의 상부에는 세정수를 하향 분사하는 제 2 분사노즐이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 상기 제 2 분사노즐로 공급하는 제 2 세정수라인이 구비되는 제 2 가스세정유닛; 및 상기 제 2 세정수라인 상에 설치되고 상기 제 2 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 2 미세기포분산유닛을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 가스세정장치는 예를 들어 부숙 퇴비화시설, 하수처리시설, 소각장, 음식물쓰레기 처리시설, 쓰레기 매립장, 정유공장, 화학공장, 축산폐수 처리장, 소각처리시설 등과 같은 미세먼지 및 악취 발생원으로부터 발생되는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 대해 미세기포가 분산된 세정수를 분사함과 동시에 산성의 세정수와 염기성의 세정수가 각 파이프에서 순차적으로 분사되도록 함에 따라 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 대한 집진 및 세정효율이 극대화됨과 동시에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 포함된 염기성계 및 산성계 악취물질도 효과적으로 세정될 수 있도록 한다.
The gas cleaning device according to an embodiment of the present invention is provided with a first inlet through which gas containing fine dust and odorous substances flows in at the bottom of one side, a first exhaust port at the top, and a first polling filling layer provided inside. A first spray nozzle is provided on the upper part of the first falling filling layer to spray cleaning water downward, and a first cleaning water line is provided on the other side for supplying the stored cleaning water that falls downward to the first spray nozzle. 1 gas cleaning unit; a first microbubble dispersion unit installed on the first cleansing water line and dispersing microbubbles in the cleansing water flowing through the first cleansing water line; A second inlet connected to the first exhaust port is provided at the lower part of one side, a second exhaust port is provided at the top, a second polling filling layer is provided inside, and washing water is sprayed downward on the top of the second polling filling layer. a second gas cleaning unit equipped with a second spray nozzle and, on the other side, a second cleaning water line for supplying the cleaning water stored by falling downward to the second spray nozzle; and a second microbubble dispersion unit installed on the second washing water line and dispersing microbubbles in the washing water flowing through the second washing water line.
The gas cleaning device according to an embodiment of the present invention is, for example, fine dust such as composting facilities, sewage treatment facilities, incinerators, food waste treatment facilities, landfills, oil refineries, chemical plants, livestock wastewater treatment plants, incineration treatment facilities, etc. And cleaning water containing dispersed fine bubbles is sprayed against fine dust and odorous substance-containing gas generated from odor generating sources, and at the same time, acidic washing water and basic washing water are sequentially sprayed from each pipe, thereby removing fine dust and odorous substances. The dust collection and cleaning efficiency of the contained gas is maximized, and at the same time, basic and acidic odorous substances contained in the gas containing fine dust and odorous substances can be effectively cleaned.

Figure R1020230169624
Figure R1020230169624

Description

가스세정장치{WET-CLEANING APPARATUS}Gas cleaning device{WET-CLEANING APPARATUS}

본 발명은 미세먼지 및 악취물질 함유 가스를 세정하기 위한 가스세정장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 예를 들어 부숙 퇴비화시설, 하수처리시설, 소각장, 음식물쓰레기 처리시설, 쓰레기 매립장, 정유공장, 화학공장, 축산폐수 처리장, 소각처리시설 등과 같은 미세먼지 및 악취 발생원으로부터 발생되는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 대해 미세기포가 분산된 세정수를 분사함과 동시에 산성의 세정수와 염기성의 세정수가 순차적으로 분사되도록 함에 따라 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 대한 집진 및 세정효율이 극대화됨과 동시에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 포함된 염기성계 및 산성계 악취물질도 효과적으로 포집 및 제거될 수 있으며, 후단에 나노버블을 이용한 부상분리조가 연결되어 세정수의 교체주기가 더 길게 연장됨에 따라 세정폐수의 발생이 감소됨과 동시에 운영비용이 절감될 수 있도록 한 가스세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a gas cleaning device for cleaning gas containing fine dust and odorous substances, and more specifically, to, for example, composting facilities, sewage treatment facilities, incinerators, food waste treatment facilities, landfills, oil refineries, and chemical plants. Washing water with dispersed fine bubbles is sprayed against fine dust and odor-containing gases generated from fine dust and odor generating sources such as factories, livestock wastewater treatment plants, and incineration treatment facilities. At the same time, acidic washing water and basic washing water are sequentially sprayed. By spraying the dust and odor-containing gas, the dust collection and cleaning efficiency is maximized, and at the same time, basic and acidic odor substances contained in the fine dust and odor-containing gas can be effectively collected and removed. This relates to a gas cleaning device that reduces the generation of cleaning wastewater and reduces operating costs by connecting a flotation separator using nanobubbles to extend the replacement cycle of the cleaning water.

악취를 유발하는 물질은 발생원에 따라 매우 다양하며 일반적으로 부숙 퇴비화시설, 하수처리시설, 소각장, 음식물쓰레기 처리시설, 쓰레기 매립장, 정유공장, 화학공장, 축산폐수 처리장, 소각처리시설 등은 주요 미세먼지 및 악취 발생원으로 간주된다. Substances that cause odor are very diverse depending on the source, and generally, composting facilities, sewage treatment facilities, incinerators, food waste treatment facilities, landfills, oil refineries, chemical plants, livestock wastewater treatment plants, and incineration treatment facilities are the main sources of fine dust. and is considered a source of odor.

이러한 미세먼지 및 악취 발생원으로부터 발생하는 배출가스에 포함된 악취는 부패물질 또는 각종 휘발성 유기화합물로 인하여 발생하는 것이므로 불쾌감을 유발할 뿐만 아니라 인체에 유해하며 집중력의 감소로 인한 능률 저하 또는 안전사고의 증가에 이르기까지 많은 문제점을 가져온다.The odor contained in the exhaust gas generated from these fine dust and odor sources is caused by decaying substances or various volatile organic compounds, so it not only causes discomfort but is also harmful to the human body and causes a decrease in efficiency due to a decrease in concentration or an increase in safety accidents. It leads to many problems.

악취 물질은 pH에 따라 염기성계, 산성계 및 중성계로 구분될 수 있다. 예를 들어, 암모니아, 트리메틸아민은 염기성계에 속하고, 황화수소, 메틸메르캅탄, 프로피온산, 노르말부틸산, 이소발레르산 등은 산성계에 속하며, 황화메틸, 이황화메틸, 아세트알데히드 등은 중성계에 속한다.Odor substances can be classified into basic, acidic, and neutral types depending on pH. For example, ammonia and trimethylamine belong to the basic system, hydrogen sulfide, methyl mercaptan, propionic acid, n-butyric acid, and isovaleric acid belong to the acidic system, and methyl sulfide, methyl disulfide, and acetaldehyde belong to the neutral system. It belongs.

이러한 악취 물질을 제거하기 위한 종래의 가스세정장치는 대표적으로 집진실 내에 일정한 물을 채운 다음 처리가스를 고속으로 통과시킴으로써 수적과 수막을 형성시켜 처리가스를 세정하는 유수식과, 물에 압력을 가하여 분사시킴으로써 매우 크기가 작은 물방울로 처리가스를 세정하는 가압수식과, 물을 분사하는 방식은 가압수식의 일종인 분무탑과 유사하나 물과 오염공기의 접촉을 좋게 하기 위하여 탑의 중간부분에 표면적인 넓은 충전물(폴링)을 채워 두는 충전탑식(스크러버로 통용됨)으로 분류된다.Conventional gas cleaning devices for removing such odorous substances are typically a flow-through type, which cleans the treated gas by filling a certain amount of water in a dust collection chamber and then passing the treated gas through it at high speed to form water droplets and a water film, and a spray method by applying pressure to the water. The pressurized water method, which cleans the process gas with very small water droplets, and the water spray method are similar to the spray tower, which is a type of pressurized water, but a large surface area is installed in the middle of the tower to improve contact between water and contaminated air. It is classified as a packed tower type (commonly used as a scrubber) filled with packing material (polling).

이러한 종래의 가스세정장치의 일 예로, 대한민국 실용신안공개 제20-1999-0038335호(1999.10.25. 공개)에는 소정 크기의 구조물인 악취 제거탑, 악취 제거탑의 내부로 악취물질을 유입시키는 송풍기, 악취물질을 흡착하는 활성탄소 섬유 필터, 잔량의 악취물질을 미생물의 생물학적 분해를 통해 제거하는 바이오 필터, 미생물의 적정 pH와 습도를 유지시키는 pH 및 습도 조절수단, 바이오 필터의 수분을 모으는 집수판, 바이오 필터의 온도를 조절하는 수단, 활성탄소섬유 필터를 재생시키기 위한 고압증기를 투입하는 고압증기배관, 고압증기를 투입하여 활성탄 소섬유 필터를 재생시킬시 악취물질 유입구와 집수판의 악취물질 이송로를 차단하는 댐퍼, 활성탄소섬유 필터에 흡착된 악취물질을 제거한 고압증기를 액화시키는 응축기 및 응축기에 의해 액화된 액상의 유수를 분리하는 유수분리기를 포함하여 이루어지는 유기성 악취물질 제거장치가 개시된다.As an example of such a conventional gas cleaning device, Korean Utility Model Publication No. 20-1999-0038335 (published on October 25, 1999) discloses an odor removal tower, which is a structure of a predetermined size, and a blower that introduces odor substances into the interior of the odor removal tower. , an activated carbon fiber filter that adsorbs odorous substances, a biofilter that removes remaining odorous substances through biological decomposition of microorganisms, a pH and humidity control means that maintains the appropriate pH and humidity of microorganisms, and a water collection plate that collects moisture from the biofilter. , a means for controlling the temperature of the biofilter, a high-pressure steam pipe for injecting high-pressure steam to regenerate the activated carbon fiber filter, and transporting odorous substances from the odorous substance inlet and the collection plate when high-pressure steam is injected to regenerate the activated carbon fiber filter. An organic odor material removal device comprising a damper that blocks a furnace, a condenser that liquefies high-pressure steam from which odor materials adsorbed on an activated carbon fiber filter are removed, and an oil-water separator that separates liquid oil water liquefied by the condenser is disclosed.

또한 대한민국 특허공개 제10-2001-0098970호(2001.11.08. 공개)에는 산업현장에서 발생되는 휘발성유기화합물질을 포함한 유해가스 및 유기성 악취물질을 제거하는 악취물질 제거장치에 있어서, 소정 크기의 구조물인 악취 제거탑; 상기 악취 제거탑의 내부로 악취물질을 이송시키는 송풍기; 상기 악취 제거탑의 내부에 저수되어 유입된 악취물질과의 접촉을 통해 상기 악취물질을 화학적으로 흡수하는 악취물질 흡수용액; 상기 악취 제거탑 내부의 악취물질 흡수용액층 상부로 설치되어 유입된 상기 악취물질과의 접촉을 통해 상기 악취물질을 흡수할 수 있도록 상기 악취물질 흡수용액을 분사하는 제 1 세정수단; 상기 제 1 세정수단을 거친 악취물질을 흡착하는 활성탄소섬유를 주재로 한 활성탄소섬유 필터; 상기 악취 제거탑 내부의 활성탄소섬유 필터 상부측에 설치되어 상기 활성탄소섬유 필터를 거친 악취물질과의 접촉을 통해 상기 악취물질을 흡수할 수 있도록 상기 악취물질 흡수용액을 분사하는 제 2 세정수단; 상기 악취 제거탑의 적소에 설치되어 상기 악취물질 흡수용액의 pH를 조절하는 pH조절수단; 상기 활성탄소섬유 필터와 제 2 세정수단 사이에 설치되어 제 2 세정수단에 의해 분사되는 악취물질 흡수용액이 활성탄소섬유 필터로 떨어지지 않도록 하는 흡수용액 집수판; 상기 집수판에 집수된 악취물질 흡수용액을 상기 악취 제거탑의 하부에 회수시키는 회수용 배관; 및 상기 악취물질이 제거된 상태의 가스를 배출시키는 가스 배출구로 이루어진 것을 특징으로 하는 습식 세정기와 활성탄소섬유를 이용한 악취물질 탈취장치가 개시된다.In addition, Republic of Korea Patent Publication No. 10-2001-0098970 (published on November 8, 2001) discloses an odor removal device that removes harmful gases and organic odor substances, including volatile organic compounds generated in industrial sites, and has a structure of a predetermined size. Phosphorus odor removal tower; a blower that transports odorous substances into the interior of the odor removal tower; An odor absorption solution that chemically absorbs the odor substances through contact with the odor substances stored and introduced into the odor removal tower; a first cleaning means installed above the odor-absorbing solution layer inside the odor-removing tower and spraying the odor-absorbing solution to absorb the odor-substance through contact with the odor-absorbing solution; An activated carbon fiber filter mainly made of activated carbon fiber that adsorbs odorous substances that have passed through the first cleaning means; a second cleaning means installed on the upper side of the activated carbon fiber filter inside the odor removal tower and spraying the malodor substance absorbing solution to absorb the malodor substance through contact with the malodor substance that has passed through the activated carbon fiber filter; pH control means installed at an appropriate location in the odor removal tower to adjust the pH of the odor substance absorption solution; an absorption solution collecting plate installed between the activated carbon fiber filter and the second cleaning means to prevent the malodorous substance absorbing solution sprayed by the second cleaning means from falling onto the activated carbon fiber filter; a recovery pipe for recovering the malodorous substance absorption solution collected in the collection plate to the lower part of the malodor removal tower; and a gas outlet for discharging gas from which the odorous substances have been removed. A wet scrubber and an odorous substance deodorizing device using activated carbon fiber are disclosed.

또한 대한민국 특허등록공고 제10-1843478호(2018.04.02. 공고)에는 일측으로 펌프에 의하여 공기가 유입되는 유입구와 상부의 공기가 배출되는 배출구와 하부의 떨어지는 물을 수집하여 모으는 수조를 구비하는 챔버와, 상기 챔버의 내측에 물과 공기의 접촉면적을 증가시키기 위한 다공성 폴링이 적층된 다공성폴링층과 상기 다공성 폴링층의 상부에서 하부로 물을 분사하는 복수 개의 분사노즐과 상기 분사노즐의 상부로 섬유상태의 물체를 충전한 데미스터를 구비하는 습식 세정기를 포함하여 구성되는 습식 악취 제거장치에 있어서, 상기 유입구에는 공기를 챔버의 내측 상방향으로 경사지게 유도하는 하나 이상의 유도덕트와, 상기 유도덕트 출구의 내측 하부로 고압의 물을 분사하는 고압노즐을 추가로 구비하고; 상부에 테두리를 제외하고 함몰되는 함몰홈과, 상기 함몰홈에서 수직 아래로 저면 직전까지 연장되는 복수 개의 홀과, 측면에서 각각의 홀로 수평 연결하는 복수 개의 배출홀과, 상기 함몰홈에 장착되는 메쉬망으로 구성되는 미스트 블럭의 상기 함몰홈이 고압노즐의 분사 방향에 위치하도록 장착됨을 특징으로 하는 습식 악취 제거장치가 개시된다.In addition, Republic of Korea Patent Registration Publication No. 10-1843478 (announced on April 2, 2018) describes a chamber having an inlet on one side through which air is drawn in by a pump, an outlet through which air is discharged at the top, and a water tank at the bottom that collects falling water. and a porous polling layer in which porous polling is laminated to increase the contact area between water and air inside the chamber, and a plurality of spray nozzles that spray water from the top to the bottom of the porous polling layer and to the top of the spray nozzles. In the wet odor removal device comprising a wet scrubber having a demister filled with a fibrous object, the inlet includes one or more induction ducts that guide air inclined upward into the inside of the chamber, and an outlet of the induction duct. It is additionally provided with a high-pressure nozzle that sprays high-pressure water to the inner lower part of; A recessed groove at the top excluding the edge, a plurality of holes extending vertically downward from the recessed groove to just before the bottom, a plurality of discharge holes horizontally connected to each hole on the side, and a mesh mounted on the recessed groove. A wet odor removal device is disclosed, wherein the recessed groove of the mist block composed of a net is mounted in the spray direction of the high-pressure nozzle.

그러나, 종래의 세정법은 비교적 설비가 간단하고 운전비용이 저렴하다는 장점이 있지만, 입자가 많으면 세정효율이 감소하고 강한 산알칼리성 약품이 사용됨에 따라 부식 등의 위험성이 높고, 세정수와 기액 접촉시간이 길어야 하며, 악취 물질의 적용 범위가 좁고 강한 약품을 사용함에도 악취 포집 제거의 효과가 낮으며, 세정폐수가 다량 발생되는 문제점이 제기되어 왔다.However, the conventional cleaning method has the advantage of relatively simple equipment and low operating costs, but if there are many particles, the cleaning efficiency decreases, and as strong acid-alkaline chemicals are used, the risk of corrosion is high, and the contact time between the cleaning water and gas liquid is short. It must be long, the scope of application of odorous substances is narrow, the effectiveness of collecting and removing odors is low despite the use of strong chemicals, and problems have been raised in the generation of large amounts of cleaning wastewater.

대한민국 실용신안공개 제20-1999-0038335호(1999.10.25. 공개)Republic of Korea Utility Model Publication No. 20-1999-0038335 (published on October 25, 1999) 대한민국 특허공개 제10-2001-0098970호(2001.11.08. 공개)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2001-0098970 (published on November 8, 2001) 대한민국 특허등록공고 제10-1843478호(2018.04.02. 공고)Republic of Korea Patent Registration Notice No. 10-1843478 (announced on April 2, 2018)

본 발명의 목적은 예를 들어 부숙 퇴비화시설, 하수처리시설, 소각장, 음식물쓰레기 처리시설, 쓰레기 매립장, 정유공장, 화학공장, 축산폐수 처리장, 소각처리시설 등과 같은 미세먼지 및 악취 발생원으로부터 발생되는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 대해 미세기포가 분산된 세정수를 분사함과 동시에 산성의 세정수와 염기성의 세정수가 각 파이프에서 순차적으로 분사되도록 함에 따라 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 대한 집진 및 세정효율이 극대화됨과 동시에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 포함된 염기성계 및 산성계 악취물질도 효과적으로 세정될 수 있도록 한 가스세정장치를 제공하는 것이다.The purpose of the present invention is to remove fine dust and odor generated from sources of fine dust and odor, such as composting facilities, sewage treatment facilities, incinerators, food waste treatment facilities, landfills, oil refineries, chemical plants, livestock wastewater treatment plants, and incineration treatment facilities. Cleaning water with dispersed fine bubbles is sprayed against gas containing dust and odorous substances, and at the same time, acidic washing water and basic washing water are sequentially sprayed from each pipe, collecting and cleaning fine dust and gas containing odorous substances. The aim is to provide a gas cleaning device that maximizes efficiency and simultaneously effectively cleans basic and acidic odor substances contained in fine dust and odor-containing gas.

또한 본 발명의 목적은 후단에 나노버블을 이용한 부상분리조가 연결되어 세정수의 교체주기가 더 길게 연장됨에 따라 세정폐수의 발생이 감소됨과 동시에 운영비용이 절감될 수 있도록 한 가스세정장치를 제공하는 것이다.In addition, the object of the present invention is to provide a gas cleaning device that is connected to a flotation separator using nanobubbles at the rear end, thereby reducing the generation of cleaning wastewater and reducing operating costs by extending the replacement cycle of the cleaning water. will be.

본 발명의 목적은 일측 하부에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 유입되는 제 1 유입구가.구비되고 상단에 제 1 배기구가 구비되며 내부에는 제 1 폴링충전층이 구비되고 상기 제 1 폴링충전층의 상부에는 세정수를 하향 분사하는 제 1 분사노즐이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 상기 제 1 분사노즐로 공급하는 제 1 세정수라인이 구비되는 제 1 가스세정유닛; 상기 제 1 세정수라인 상에 설치되고 상기 제 1 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 1 미세기포분산유닛; 일측 하부에 상기 제 1 배기구에 연결되는 제 2 유입구가.구비되고 상단에 제 2 배기구가 구비되며 내부에는 제 2 폴링충전층이 구비되고 상기 제 2 폴링충전층의 상부에는 세정수를 하향 분사하는 제 2 분사노즐이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 상기 제 2 분사노즐로 공급하는 제 2 세정수라인이 구비되는 제 2 가스세정유닛; 및 상기 제 2 세정수라인 상에 설치되고 상기 제 2 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 2 미세기포분산유닛을 포함하는 가스세정장치를 제공함에 의해 달성된다.The purpose of the present invention is to provide a first inlet through which gas containing fine dust and odorous substances flows in at the bottom of one side, a first exhaust port at the top, a first polling filling layer provided inside, and a first polling filling layer of the first polling filling layer. A first gas cleaning unit having a first spray nozzle that sprays cleaning water downward on the upper side and a first cleaning water line on the other side that supplies the cleaning water that falls downward and is stored to the first spray nozzle; a first microbubble dispersion unit installed on the first cleansing water line and dispersing microbubbles in the cleansing water flowing through the first cleansing water line; A second inlet connected to the first exhaust port is provided at the lower part of one side, a second exhaust port is provided at the top, a second polling filling layer is provided inside, and washing water is sprayed downward on the top of the second polling filling layer. a second gas cleaning unit equipped with a second spray nozzle and, on the other side, a second cleaning water line for supplying the cleaning water stored by falling downward to the second spray nozzle; and a second fine bubble dispersion unit installed on the second cleaning water line and dispersing fine bubbles into the cleaning water flowing through the second cleaning water line.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 가스세정장치는 상기 제 1 세정수라인에 연결되고 상기 제 1 세정수라인을 관류하는 세정수에 제 1 약액을 공급하는 제 1 약액공급유닛와, 상기 제 2 세정수라인에 연결되고 상기 제 2 세정수라인을 관류하는 세정수에 제 2 약액을 공급하는 제 2 약액공급유닛을 더 포함할 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, the gas cleaning device includes a first chemical supply unit connected to the first cleaning water line and supplying a first chemical solution to the cleaning water flowing through the first cleaning water line, and the second cleaning device. It may further include a second chemical solution supply unit connected to the water line and supplying a second chemical solution to the cleaning water flowing through the second cleaning water line.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 약액은 수산화나트륨 수용액이고 상기 제 2 약액은 염소계 산화제일 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, the first chemical solution may be an aqueous sodium hydroxide solution and the second chemical solution may be a chlorine-based oxidizing agent.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 약액과 상기 제 2 약액은 계면활성제일 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, the first chemical solution and the second chemical solution may be a surfactant.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 가스세정유닛의 내부 상단에는 제 1 데미스터가 설치되고 상기 제 2 가스세정유닛의 내부 상단에는 제 2 데미스터가 설치될 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, a first demister may be installed at the inner top of the first gas cleaning unit, and a second demister may be installed at the inner top of the second gas cleaning unit.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 가스세정유닛의 제 1 유입구에는 제 1 암모니아센서가 설치되고 상기 제 2 가스세정유닛의 제 2 배기구에 제 2 암모니아센서가 설치될 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, a first ammonia sensor may be installed at the first inlet of the first gas cleaning unit, and a second ammonia sensor may be installed at the second exhaust port of the second gas cleaning unit.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 미세기포분산유닛과 상기 제 1 약액공급유닛, 상기 제 2 미세기포분산유닛과 상기 제 2 약액공급유닛은 상기 제 1 및 제 2 암모니아센서의 측정값에 따라 작동제어될 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, the first fine bubble dispersion unit, the first chemical solution supply unit, the second fine bubble dispersion unit and the second chemical solution supply unit are based on the measured values of the first and second ammonia sensors. Operation can be controlled accordingly.

또한, 본 발명의 목적은 일측 하부에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 유입되는 제 1 유입구가.구비되고 상단에 제 1 배기구가 구비되며 내부에는 다수의 격벽이 지그재그형 유로의 형성을 위해 교호적으로 구비되고 내부를 관류하는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 세정수를 분사하는 제 1 분사노즐이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 상기 제 1 분사노즐로 공급하는 제 1 세정수라인이 구비되는 제 1 가스세정유닛; 상기 제 1 세정수라인 상에 설치되고 상기 제 1 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 1 미세기포분산유닛; 일측 하부에 상기 제 1 배기구에 연결되는 제 2 유입구가.구비되고 상단에 제 2 배기구가 구비되며 내부에는 폴링충전층이 구비되고 상기 폴링충전층의 상부에는 세정수를 하향 분사하는 제 2 분사노즐이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 상기 제 2 분사노즐로 공급하는 제 2 세정수라인이 구비되는 제 2 가스세정유닛; 및 상기 제 2 세정수라인 상에 설치되고 상기 제 2 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 2 미세기포분산유닛을 포함하는 가스세정장치를 제공함에 의해서도 달성될 수 있다.In addition, the purpose of the present invention is to provide a first inlet through which gas containing fine dust and odorous substances flows in at the bottom of one side, a first exhaust port at the top, and a plurality of partitions inside alternating to form a zigzag-shaped flow path. It is provided with a first spray nozzle that sprays cleansing water into the gas containing fine dust and odorous substances flowing through the interior, and on the other side, a first cleansing water device that drops to the bottom and supplies the stored cleansing water to the first spray nozzle. A first gas cleaning unit provided with a line; a first microbubble dispersion unit installed on the first cleansing water line and dispersing microbubbles in the cleansing water flowing through the first cleansing water line; A second inlet connected to the first exhaust port is provided at the lower part of one side, a second exhaust port is provided at the top, a falling filling layer is provided inside, and a second spray nozzle sprays washing water downward on the upper part of the falling filling layer. a second gas cleaning unit having a second cleaning water line on the other side for supplying the cleaning water stored by falling to the bottom to the second spray nozzle; And it can also be achieved by providing a gas cleaning device including a second fine bubble dispersion unit installed on the second cleaning water line and dispersing fine bubbles in the cleaning water flowing through the second cleaning water line.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 가스세정장치는 상기 제 1 세정수라인에 연결되고 상기 제 1 세정수라인을 관류하는 세정수에 제 1 약액을 공급하는 제 1 약액공급유닛와, 상기 제 2 세정수라인에 연결되고 상기 제 2 세정수라인을 관류하는 세정수에 제 2 약액을 공급하는 제 2 약액공급유닛을 더 포함할 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, the gas cleaning device includes a first chemical supply unit connected to the first cleaning water line and supplying a first chemical solution to the cleaning water flowing through the first cleaning water line, and the second cleaning device. It may further include a second chemical solution supply unit connected to the water line and supplying a second chemical solution to the cleaning water flowing through the second cleaning water line.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 약액은 수산화나트륨 수용액이고 상기 제 2 약액은 염소계 산화제일 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, the first chemical solution may be an aqueous sodium hydroxide solution and the second chemical solution may be a chlorine-based oxidizing agent.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 약액과 상기 제 2 약액은 계면활성제일 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, the first chemical solution and the second chemical solution may be a surfactant.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 가스세정유닛의 내부 상단에는 제 1 데미스터가 설치되고 상기 제 2 가스세정유닛의 내부 상단에는 제 2 데미스터가 설치될 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, a first demister may be installed at the inner top of the first gas cleaning unit, and a second demister may be installed at the inner top of the second gas cleaning unit.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 가스세정유닛의 제 1 유입구에는 제 1 암모니아센서가 설치되고 상기 제 2 가스세정유닛의 제 2 배기구에 제 2 암모니아센서가 설치될 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, a first ammonia sensor may be installed at the first inlet of the first gas cleaning unit, and a second ammonia sensor may be installed at the second exhaust port of the second gas cleaning unit.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 미세기포분산유닛과 상기 제 1 약액공급유닛, 상기 제 2 미세기포분산유닛과 상기 제 2 약액공급유닛은 상기 제 1 및 제 2 암모니아센서의 측정값에 따라 작동제어될 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, the first fine bubble dispersion unit, the first chemical solution supply unit, the second fine bubble dispersion unit and the second chemical solution supply unit are based on the measured values of the first and second ammonia sensors. Operation can be controlled accordingly.

또한, 본 발명의 목적은 일측 하부에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 유입되는 제 1 유입구가.구비되고 상단에 제 1 배기구가 구비되며 내부에는 제 1 폴링충전층이 구비되고 상기 제 1 폴링충전층의 상부에는 세정수를 하향 분사하는 제 1 분사노즐이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 상기 제 1 분사노즐로 공급하는 제 1 세정수라인이 구비되는 제 1 가스세정유닛; 상기 제 1 세정수라인 상에 설치되고 상기 제 1 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 1 미세기포분산유닛; 일측 하부에 제 1 배기구에 연결되는 제 2 유입구가.구비되고 상단에 제 2 배기구가 구비되며 내부에는 2개의 제 2 폴링충전층이 상하이격되어 구비되고 상기 제 2 폴링충전층의 상부에서 세정수를 각각 하향 분사하는 2개의 제 2 분사노즐이 각각 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 2개의 상기 제 2 분사노즐로 공급하는 2개의 제 2 세정수라인이 구비되는 제 2 가스세정유닛; 상기 제 2 세정수라인 상에 각각 설치되고 상기 제 2 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 2 미세기포분산유닛; 및 2개의 상기 제 2 세정수라인에 연결되고 물을 전기분해하여 이온격막을 통해 산성수와 알칼리수로 분리제조하며 상기 산성수와 상기 알칼리수를 2개의 상기 제 2 세정수라인에 분리공급하는 전기분해유닛을 포함하는 가스세정장치를 제공함에 의해서도 달성될 수 있다.In addition, the object of the present invention is to provide a first inlet through which gas containing fine dust and odorous substances flows in at the bottom of one side, a first exhaust port at the top, a first polling charge layer provided inside, and the first polling charger. A first gas cleaning unit having a first spray nozzle that sprays cleaning water downward at the top of the layer and a first cleaning water line on the other side that supplies the cleaning water that falls downward and is stored to the first spray nozzle; a first microbubble dispersion unit installed on the first cleansing water line and dispersing microbubbles in the cleansing water flowing through the first cleansing water line; A second inlet connected to the first exhaust port is provided at the lower part of one side, and a second exhaust port is provided at the top. Two second polling filling layers are arranged vertically apart from each other, and washing water is discharged from the upper part of the second polling filling layer. A second gas cleaning device is provided with two second spray nozzles that each spray downward, and two second wash water lines are provided on the other side to supply the wash water, which falls downward and is stored, to the two second spray nozzles. unit; second microbubble dispersion units respectively installed on the second washing water line and dispersing microbubbles in the washing water flowing through the second washing water line; and an electrolysis unit connected to the two second washing water lines, electrolyzing water to separate acidic water and alkaline water through an ion diaphragm, and separately supplying the acidic water and the alkaline water to the two second washing water lines. This can also be achieved by providing a gas cleaning device comprising a unit.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 가스세정장치는 상기 제 1 가스세정유닛과 상기 제 2 가스세정유닛의 하단에 연결되고 상기 제 1 가스세정유닛과 상기 제 2 가스세정유닛로부터 유입되는 세정수에 미세기포의 분사를 통해 이물질을 부상시켜 스크레이핑 제거하고 바닥에 침전된 슬러지를 외부로 배출시키며 상기 이물질과 슬러지가 제거된 세정수를 상기 제 1 가스세정유닛과 상기 제 2 가스세정유닛으로 다시 공급하는 부상분리조를 더 포함할 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, the gas cleaning device is connected to the lower ends of the first gas cleaning unit and the second gas cleaning unit and is connected to the cleaning water flowing from the first gas cleaning unit and the second gas cleaning unit. By spraying fine bubbles, foreign substances are levitated and removed by scraping, sludge settled on the floor is discharged to the outside, and the cleaning water from which the foreign substances and sludge has been removed is returned to the first gas cleaning unit and the second gas cleaning unit. It may further include a supplied flotation separator.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 가스세정유닛의 내부 상단에는 제 1 데미스터가 설치되고 상기 제 2 가스세정유닛의 내부 상단에는 제 2 데미스터가 설치될 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, a first demister may be installed at the inner top of the first gas cleaning unit, and a second demister may be installed at the inner top of the second gas cleaning unit.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 가스세정유닛의 제 1 유입구에는 제 1 암모니아센서가 설치되고 상기 제 2 가스세정유닛의 제 2 배기구에 제 2 암모니아센서가 설치될 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, a first ammonia sensor may be installed at the first inlet of the first gas cleaning unit, and a second ammonia sensor may be installed at the second exhaust port of the second gas cleaning unit.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 미세기포분산유닛, 상기 제 2 미세기포분산유닛 및 상기 전기분해유닛은 상기 제 1 및 제 2 암모니아센서의 측정값에 따라 작동제어될 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, the first microbubble dispersion unit, the second microbubble dispersion unit, and the electrolysis unit can be controlled according to the measured values of the first and second ammonia sensors.

또한, 본 발명의 목적은 일측 하부에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 유입되는 제 1 유입구가.구비되고 상단에 제 1 배기구가 구비되며 내부에는 다수의 격벽이 지그재그형 유로의 형성을 위해 교호적으로 구비되고 내부를 관류하는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 세정수를 분사하는 제 1 분사노즐이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 상기 제 1 분사노즐로 공급하는 제 1 세정수라인이 구비되는 제 1 가스세정유닛; 상기 제 1 세정수라인 상에 설치되고 상기 제 1 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 1 미세기포분산유닛; 일측 하부에 제 1 배기구에 연결되는 제 2 유입구가.구비되고 상단에 제 2 배기구가 구비되며 내부에는 2개의 폴링충전층이 상하이격되어 구비되고 상기 폴링충전층의 상부에서 세정수를 각각 하향 분사하는 2개의 제 2 분사노즐이 각각 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 2개의 상기 제 2 분사노즐로 공급하는 2개의 제 2 세정수라인이 구비되는 제 2 가스세정유닛; 상기 제 2 세정수라인 상에 각각 설치되고 상기 제 2 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 2 미세기포분산유닛; 및 2개의 상기 제 2 세정수라인에 연결되고 물을 전기분해하여 이온격막을 통해 산성수와 알칼리수로 분리제조하며 상기 산성수와 상기 알칼리수를 2개의 상기 제 2 세정수라인에 분리공급하는 전기분해유닛을 포함하는 가스세정장치를 제공함에 의해서도 달성될 수 있다.In addition, the purpose of the present invention is to provide a first inlet through which gas containing fine dust and odorous substances flows in at the bottom of one side, a first exhaust port at the top, and a plurality of partitions inside alternating to form a zigzag-shaped flow path. It is provided with a first spray nozzle that sprays cleansing water into the gas containing fine dust and odorous substances flowing through the interior, and on the other side, a first cleansing water device that drops to the bottom and supplies the stored cleansing water to the first spray nozzle. A first gas cleaning unit provided with a line; a first microbubble dispersion unit installed on the first cleansing water line and dispersing microbubbles in the cleansing water flowing through the first cleansing water line; A second inlet connected to the first exhaust port is provided at the lower part of one side, and a second exhaust port is provided at the top. Two polling charging layers are provided inside, spaced apart from each other, and washing water is sprayed downward from the upper part of the polling charging layer. a second gas cleaning unit, each of which is provided with two second spray nozzles, and the other side of which is provided with two second cleaning water lines that drop downward and supply the stored cleaning water to the two second spray nozzles; second microbubble dispersion units respectively installed on the second washing water line and dispersing microbubbles in the washing water flowing through the second washing water line; and an electrolysis unit connected to the two second washing water lines, electrolyzing water to separate acidic water and alkaline water through an ion diaphragm, and separately supplying the acidic water and the alkaline water to the two second washing water lines. This can also be achieved by providing a gas cleaning device comprising a unit.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 가스세정장치는 상기 제 1 가스세정유닛과 상기 제 2 가스세정유닛의 하단에 연결되고 상기 제 1 가스세정유닛과 상기 제 2 가스세정유닛로부터 유입되는 세정수에 미세기포의 분사를 통해 이물질을 부상시켜 스크레이핑 제거하고 바닥에 침전된 슬러지를 외부로 배출시키며 상기 이물질과 슬러지가 제거된 세정수를 상기 제 1 가스세정유닛과 상기 제 2 가스세정유닛으로 다시 공급하는 부상분리조를 더 포함할 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, the gas cleaning device is connected to the lower ends of the first gas cleaning unit and the second gas cleaning unit and is connected to the cleaning water flowing from the first gas cleaning unit and the second gas cleaning unit. By spraying fine bubbles, foreign substances are levitated and removed by scraping, sludge settled on the floor is discharged to the outside, and the cleaning water from which the foreign substances and sludge has been removed is returned to the first gas cleaning unit and the second gas cleaning unit. It may further include a supplied flotation separator.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 가스세정유닛의 내부 상단에는 제 1 데미스터가 설치되고 상기 제 2 가스세정유닛의 내부 상단에는 제 2 데미스터가 설치될 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, a first demister may be installed at the inner top of the first gas cleaning unit, and a second demister may be installed at the inner top of the second gas cleaning unit.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 가스세정유닛의 제 1 유입구에는 제 1 암모니아센서가 설치되고 상기 제 2 가스세정유닛의 제 2 배기구에 제 2 암모니아센서가 설치되According to a preferred feature of the present invention, a first ammonia sensor is installed at the first inlet of the first gas cleaning unit, and a second ammonia sensor is installed at the second exhaust port of the second gas cleaning unit.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 제 1 미세기포분산유닛, 상기 제 2 미세기포분산유닛 및 상기 전기분해유닛은 상기 제 1 및 제 2 암모니아센서의 측정값에 따라 작동제어될 수 있다.According to a preferred feature of the present invention, the first microbubble dispersion unit, the second microbubble dispersion unit, and the electrolysis unit can be controlled according to the measured values of the first and second ammonia sensors.

본 발명에 따른 가스세정장치는 예를 들어 부숙 퇴비화시설, 하수처리시설, 소각장, 음식물쓰레기 처리시설, 쓰레기 매립장, 정유공장, 화학공장, 축산폐수 처리장, 소각처리시설 등과 같은 미세먼지 및 악취 발생원으로부터 발생되는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 대해 미세기포가 분산된 세정수를 분사함과 동시에 산성의 세정수와 염기성의 세정수가 각 파이프에서 순차적으로 분사되도록 함에 따라 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 대한 집진 및 세정효율이 극대화됨과 동시에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 포함된 염기성계 및 산성계 악취물질도 효과적으로 세정될 수 있도록 하는 장점이 있다.The gas cleaning device according to the present invention removes fine dust and odor from sources such as composting facilities, sewage treatment facilities, incinerators, food waste treatment facilities, landfills, oil refineries, chemical plants, livestock wastewater treatment plants, and incineration treatment facilities. Cleaning water with dispersed fine bubbles is sprayed against the generated fine dust and gas containing odorous substances, and at the same time, acidic washing water and basic washing water are sprayed sequentially from each pipe, thereby eliminating fine dust and odorous substance-containing gas. It has the advantage of maximizing dust collection and cleaning efficiency and at the same time allowing basic and acidic odor substances contained in fine dust and odor-containing gas to be effectively cleaned.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 가스세정장치의 전체 구조도.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 가스세정장치에 있어서, 제 1 가스세정유닛의 구조도.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 가스세정장치에 있어서, 제 2 가스세정유닛의 구조도.
도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 가스세정장치의 전체 구조도.
도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 가스세정장치에 있어서, 제 1 가스세정유닛의 구조도.
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 가스세정장치에 있어서, 제 2 가스세정유닛의 구조도.
도 7은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 가스세정장치의 전체 구조도.
도 8은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 가스세정장치의 전체 구조도.
1 is an overall structural diagram of a gas cleaning device according to a first embodiment of the present invention.
Figure 2 is a structural diagram of a first gas cleaning unit in the gas cleaning device according to the first embodiment of the present invention.
Figure 3 is a structural diagram of a second gas cleaning unit in the gas cleaning device according to the first embodiment of the present invention.
Figure 4 is an overall structural diagram of a gas cleaning device according to a second embodiment of the present invention.
Figure 5 is a structural diagram of a first gas cleaning unit in the gas cleaning device according to the second embodiment of the present invention.
Figure 6 is a structural diagram of a second gas cleaning unit in the gas cleaning device according to the second embodiment of the present invention.
Figure 7 is an overall structural diagram of a gas cleaning device according to a third embodiment of the present invention.
Figure 8 is an overall structural diagram of a gas cleaning device according to a fourth embodiment of the present invention.

이하에는, 본 발명의 바람직한 실시예와 각 구성요소를 상세하게 설명하되, 이는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세하게 설명하기 위한 것이지, 이로 인해 본 발명의 기술적인 사상 및 범주가 한정되는 것을 의미하지는 않는다.Below, preferred embodiments and each component of the present invention will be described in detail, but the purpose is to provide a detailed description so that a person skilled in the art can easily practice the invention. This does not mean that the technical idea and scope of the present invention are limited.

본 발명의 제 1 실시예에 따른 가스세정장치(100)는 예를 들어 부숙 퇴비화시설, 하수처리시설, 소각장, 음식물쓰레기 처리시설, 쓰레기 매립장, 정유공장, 화학공장, 축산폐수 처리장, 소각처리시설 등과 같은 미세먼지 및 악취 발생원으로부터 발생되는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스를 집진 및 세정하여 미세먼지와 악취물질을 포집 및 제거한 후 대기중으로 배출하는 것으로, 도 1 내지 도 3에 도시되는 바와 같이 일측 하부에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 유입되는 제 1 유입구(111)가.구비되고 상단에 제 1 배기구(112)가 구비되며 내부에는 제 1 폴링충전층(113)이 구비되고 제 1 폴링충전층(113)의 상부에는 세정수를 하향 분사하는 제 1 분사노즐(114)이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 세정수를 제 1 분사노즐(114)로 공급하는 제 1 세정수라인(115)이 구비되는 제 1 가스세정유닛(110)과, 제 1 세정수라인(115) 상에 설치되고 제 1 세정수라인(115)을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 1 미세기포분산유닛(120)과, 일측 하부에 제 1 배기구(112)에 연결되는 제 2 유입구(141)가.구비되고 상단에 제 2 배기구(142)가 구비되며 내부에는 제 2 폴링충전층(143)이 구비되고 제 2 폴링충전층(143)의 상부에는 세정수를 하향 분사하는 제 2 분사노즐(144)이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 세정수를 제 2 분사노즐(144)로 공급하는 제 2 세정수라인(145)이 구비되는 제 2 가스세정유닛(140)과, 제 2 세정수라인(145) 상에 설치되고 제 2 세정수라인(145)을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 2 미세기포분산유닛(150)을 포함한다.The gas cleaning device 100 according to the first embodiment of the present invention is, for example, composting facilities, sewage treatment facilities, incinerators, food waste treatment facilities, landfills, oil refineries, chemical plants, livestock wastewater treatment plants, and incineration treatment facilities. It collects and cleans gas containing fine dust and odorous substances generated from fine dust and odor generating sources such as the like, collects and removes the fine dust and odorous substances, and then discharges them into the atmosphere. As shown in Figures 1 to 3, the lower part of one side A first inlet 111 through which gas containing fine dust and odorous substances flows is provided, a first exhaust port 112 is provided at the top, and a first polling filling layer 113 is provided inside, and the first polling filling layer The upper part of (113) is provided with a first spray nozzle 114 that sprays washing water downward, and on the other side, a first washing water line 115 that falls downward and supplies the stored washing water to the first spray nozzle 114. A first gas cleaning unit 110 provided with this, and a first fine bubble dispersion unit installed on the first cleaning water line 115 and dispersing fine bubbles in the cleaning water flowing through the first cleaning water line 115. (120), a second inlet 141 connected to the first exhaust port 112 is provided at the lower part of one side, a second exhaust port 142 is provided at the top, and a second polling filling layer 143 is provided inside. A second spray nozzle 144 is provided on the upper part of the second falling filling layer 143 to spray cleaning water downward, and on the other side, a second spray nozzle 144 is provided that drops downward and supplies the stored cleaning water to the second spray nozzle 144. A second gas cleaning unit 140 provided with a cleaning water line 145, and a second gas cleaning unit 140 installed on the second cleaning water line 145 and dispersing fine bubbles in the cleaning water flowing through the second cleaning water line 145. It includes a second fine bubble dispersion unit 150.

여기서, 제 1 가스세정유닛(110)은 미세먼지 및 악취물질 함유 가스를 집진 및 세정하여 미세먼지와 악취물질을 포집 및 제거하는 역할을 한다.Here, the first gas cleaning unit 110 serves to collect and remove fine dust and odorous substances by collecting and cleaning gas containing fine dust and odorous substances.

이러한 제 1 가스세정유닛(110)의 일측 하부에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 유입되는 제 1 유입구(111)가.구비되고 제 1 가스세정유닛(110)의 상단에는 제 1 가스세정유닛(110)을 거쳐 1차 집진 및 세정된 가스를 후술될 제 2 가스세정유닛(140)로 공급되도록 하는 제 1 배기구(112)가 구비된다. 제 1 유입구(111)의 전단에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 강제이송을 위하여 예를 들어 배기팬과 같은 에어펌프가 구비될 수 있고, 제 1 배기구(112)는 후술될 제 2 가스세정유닛(140)의 유입구(211)에 연결된다.A first inlet 111 through which gas containing fine dust and odorous substances flows is provided at the lower part of one side of the first gas cleaning unit 110, and a first gas cleaning unit (111) is provided at the upper end of the first gas cleaning unit 110. A first exhaust port 112 is provided to supply the primary dust collected and cleaned gas through 110) to the second gas cleaning unit 140, which will be described later. The front end of the first inlet 111 may be equipped with an air pump, such as an exhaust fan, for forcibly transporting gas containing fine dust and odorous substances, and the first exhaust port 112 is a second gas cleaning unit to be described later. It is connected to the inlet 211 of (140).

또한 제 1 가스세정유닛(110)의 내부에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스와 세정수의 접촉면적을 증대시키는 위한 제 1 폴링충전층(113)이 구비되고, 제 1 폴링충전층(113)의 상부에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 습식 세정을 위한 세정수를 하향 분사하는 제 1 분사노즐(114)이 구비된다. 이 때 제 1 가스세정유닛(110) 내에서 다단 집진 및 세정이 이루어질 수 있도록 제 1 폴링충전층(113)은 상하방향으로 서로 이격된 다수개로 구비되고 제 1 분사노즐(114)도 제 1 폴링충전층(113)에 대응되는 개수로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the inside of the first gas cleaning unit 110 is provided with a first polling filling layer 113 to increase the contact area between the gas containing fine dust and odorous substances and the cleaning water, and the first polling filling layer 113 The upper part is provided with a first spray nozzle 114 that sprays cleaning water downward for wet cleaning of gas containing fine dust and odorous substances. At this time, so that multi-stage dust collection and cleaning can be performed within the first gas cleaning unit 110, the first polling filling layer 113 is provided in plural pieces spaced apart from each other in the vertical direction, and the first spray nozzle 114 is also provided with a first polling nozzle 114. It is desirable to form a number corresponding to the filling layer 113.

또한 제 1 가스세정유닛(110)의 타측에는 제 1 분사노즐(114)로부터 분사되어 하부로 낙하되어 저장된 세정수를 다시 제 1 분사노즐(114)로 순환공급하는 제 1 세정수라인(115)이 구비된다. In addition, on the other side of the first gas cleaning unit 110, there is a first washing water line 115 that circulates and supplies the washing water that is sprayed from the first spray nozzle 114, falls downward, and is stored, back to the first spray nozzle 114. This is provided.

또한 제 1 가스세정유닛(110)의 내부 상단에는 습기 제거를 위한 제 1 데미스터(116)가 설치되는 것이 바람직하다. 제 1 데미스터(116)는 습식세정용 스크러버 기술분야에서 이미 공지되어 있는 바, 더 이상의 상세 설명은 생략하기로 한다.In addition, it is preferable that a first demister 116 for removing moisture is installed at the top of the inside of the first gas cleaning unit 110. Since the first demister 116 is already known in the wet cleaning scrubber technology field, further detailed description will be omitted.

또한 제 1 가스세정유닛(110)의 하단에는 슬러지와 일정 수준 이상 오염된 세정수를 외부로 배출하기 위한 배출라인이 구비될 수 있다.Additionally, a discharge line may be provided at the bottom of the first gas cleaning unit 110 to discharge sludge and cleaning water contaminated above a certain level to the outside.

전술한 제 1 가스세정유닛(110)의 제 1 세정수라인(115) 상에는 제 1 미세기포분산유닛(120)이 설치된다. 제 1 미세기포분산유닛(120)은 제 1 세정수라인(115)을 관류하는 세정수에 예를 들어 나노버블과 같은 미세기포를 분산시킴에 따라 세정수를 나노에멀젼 상태로 변화시키는 역할을 하는 것으로, 특히 세정수에 기체를 용해시키되 세정수 내에서 기체를 강력하게 전단함으로써 미세 기포가 세정수 내에 분산잔류되도록 한다. 제 1 미세기포분산유닛(120)에 의한 미세기포 분산 원리로는 가압용해식, 2상류 선회식, 가압 선회식 등이 있다. A first fine bubble dispersion unit 120 is installed on the first cleaning water line 115 of the above-described first gas cleaning unit 110. The first fine bubble dispersion unit 120 serves to change the cleansing water into a nanoemulsion state by dispersing fine bubbles, such as nanobubbles, in the cleansing water flowing through the first cleansing water line 115. In particular, the gas is dissolved in the washing water, but the gas is strongly sheared within the washing water, so that fine bubbles remain dispersed in the washing water. The principles of microbubble dispersion by the first microbubble dispersion unit 120 include pressurized dissolution type, two-phase swirling type, and pressurized swirling type.

세정수가 제 1 미세기포분산유닛(120)을 통과하게 되면 세정수 내에 나노버블과 같은 미세기포가 분산되면서 나노에멀젼 상태로 변회된다. 나노에멀젼 상태란 세정수 내 나노버블이 고르게 분산되어 세정수의 표면 장력이 저감된 상태를 의미하는 것으로, 이러한 나노버블은 시간이 지나도 표면으로 부상하지 않고 세정수의 수중에 잔류하는 특성이 있다. 제 1 미세기포분산유닛(120)에 의해 세정수 내에 분산되는 나노버블의 직경은 1㎛보다 작고 1㎚보다 큰 것이 바람직하다.When the washing water passes through the first microbubble dispersion unit 120, microbubbles such as nanobubbles are dispersed in the washing water and changed into a nanoemulsion state. The nanoemulsion state refers to a state in which nanobubbles in the washing water are evenly dispersed and the surface tension of the washing water is reduced. These nanobubbles have the property of remaining in the washing water without rising to the surface over time. The diameter of the nanobubbles dispersed in the washing water by the first microbubble dispersion unit 120 is preferably smaller than 1㎛ and larger than 1㎚.

나노버블은 특히 물 계면 사이의 표면 장력을 감소시킴에 따라 나노에멀젼 상태의 세정수는 제 1 가스세정유닛(110) 내에서 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 악취 분자와 접촉할 때 악취 분자를 튕겨내지 않고 쉽게 포집할 수 있어 악취 분자 포집율을 향상시킬 수 있다. As nanobubbles especially reduce the surface tension between the water interface, the cleaning water in the nanoemulsion state bounces off the odor molecules when it comes into contact with the odor molecules of the gas containing fine dust and odor substances within the first gas cleaning unit 110. It can be easily collected without emitting, improving the collection rate of odor molecules.

또한 제 1 미세기포분산유닛(120)은 제 1 가스세정유닛(110) 내의 세정수를 나노에멀젼 상태로 변화시켜 제 1 세정수라인(115)과 제 1 분사노즐(114)을 통해 다시 제 1 가스세정유닛(110)로 순환공급함에 따라 제 1 가스세정유닛(110) 내에 집수된 세정수를 나노에멀젼 상태로 유지시킨다.In addition, the first fine bubble dispersion unit 120 changes the cleaning water in the first gas cleaning unit 110 into a nanoemulsion state and returns it to the first cleaning water line 115 and the first injection nozzle 114. As it is circulated and supplied to the gas cleaning unit 110, the cleaning water collected in the first gas cleaning unit 110 is maintained in a nanoemulsion state.

또한 제 1 가스세정유닛(110)의 제 1 세정수라인(115)에는 제 1 약액공급유닛(130)이 연결될 수 있다. 제 1 약액공급유닛(130)은 제 1 세정수라인(115)을 관류하는 세정수에 악취물질 제거효율을 증대시키는 제 1 약액을 공급하는 역할을 한다.Additionally, a first chemical supply unit 130 may be connected to the first cleaning water line 115 of the first gas cleaning unit 110. The first chemical solution supply unit 130 serves to supply a first chemical solution that increases the efficiency of removing malodorous substances to the cleaning water flowing through the first cleaning water line 115.

이 때 제 1 약액은 수산화나트륨 수용액일 수 있다. 수산화나트륨 수용액은 알칼리성을 띠므로 중화 반응을 통해 악취물질 중 산성계 악취물질을 포집 제거한다. 산성계 악취물질로는 대표적으로 황화수소(H2S)가 있으며, 그 외에, 메틸메르캅탄, 프로피온산, 노르말부틸산, 이소발레르산 등이 있다.At this time, the first chemical solution may be an aqueous sodium hydroxide solution. Since the aqueous sodium hydroxide solution is alkaline, it collects and removes acidic odorous substances through a neutralization reaction. Representative examples of acid-based odor substances include hydrogen sulfide (H 2 S), and others include methyl mercaptan, propionic acid, n-butyric acid, and isovaleric acid.

또한 제 1 약액은 계면활성제를 포함할 수 있다. 계면활성제는 세정수와 혼합되어 제 1 분사노즐(114)을 통해 제 1 가스세정유닛(110) 내부에 분무되며, 계면 활성 작용에 의해 세정수의 악취물질 포집효율을 증대시킨다. 구체적으로, 제 1 가스세정유닛(110)의 습식 집진은 액적, 액막, 기포 등에 의해 미세먼지 및 악취물질 함유 가스(처리가스)를 세정하여 악취물질을 흡착, 입자 상호 간의 응집을 촉진시켜 처리 가스의 흐름으로부터 악취물질을 포집하여 분리시키는 것인데, 흡착은 흡착제 표면과 흡착질 분자의 계면에서 일어나고, 흡착제와 흡착질 간의 원자, 이온 또는 분자 간의 결합력에 의해 일어난다.Additionally, the first chemical solution may include a surfactant. The surfactant is mixed with the washing water and sprayed into the first gas cleaning unit 110 through the first spray nozzle 114, and increases the efficiency of collecting odorous substances in the washing water through the surface activity. Specifically, the wet dust collection of the first gas cleaning unit 110 cleans fine dust and odorous substance-containing gas (processed gas) by liquid droplets, liquid films, bubbles, etc., adsorbs odorous substances, and promotes cohesion between particles to process gas. It collects and separates odorous substances from the flow. Adsorption occurs at the interface between the surface of the adsorbent and the molecules of the adsorbent, and is caused by the bonding force between atoms, ions, or molecules between the adsorbent and the adsorbent.

계면활성제는 세정수에 혼합되어 세정수의 표면 장력을 완화시킴에 따라 세정수 액적과 악취물질 사이의 경계를 완화시킴으로써 세정수가 보다 많은 악취물질을 포집할 수 있도록 한다. 계면 활성제로는 당 파생물과 펩티드가 함유된 고 활동성의 유기화합물질의 복합체로 이루어진 무이온 계면활성제인 것이 바람직하고, 탄산염, 폴리펩티드, 포타슘, 철, 마그네슘, 아연, 미네랄 중 적어도 하나 이상의 물질을 함유하는 것이 바람직하다.The surfactant is mixed with the washing water and relaxes the surface tension of the washing water, thereby relaxing the boundary between the washing water droplets and the odorous substances, thereby allowing the washing water to collect more odorous substances. The surfactant is preferably a non-ionic surfactant composed of a complex of highly active organic compounds containing sugar derivatives and peptides, and contains at least one of carbonate, polypeptide, potassium, iron, magnesium, zinc, and minerals. It is desirable.

전술한 제 1 가스세정유닛(110)의 배기구(112)에는 제 2 가스세정유닛(140)이 직렬 연결된다. 제 2 가스세정유닛(140)은 미세먼지 및 악취물질 함유 가스를 집진 및 세정하여 미세먼지와 악취물질을 재차 포집 및 제거하는 역할을 한다.The second gas cleaning unit 140 is connected in series to the exhaust port 112 of the above-described first gas cleaning unit 110. The second gas cleaning unit 140 collects and cleans gas containing fine dust and odorous substances, and collects and removes the fine dust and odorous substances again.

이러한 제 2 가스세정유닛(110)의 일측 하부에는 제 1 가스세정유닛(110)의 배기구(112)와 연결되어 제 1 가스세정유닛(110)에서 1차 집진 및 세정된 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 제 2 가스세정유닛(110) 내로 유입되도록 하는 제 2 유입구(141)가.구비되고 제 2 가스세정유닛(140)의 상단에는 제 2 가스세정유닛(140)을 거쳐 집진 및 세정된 가스를 최종 배출하는 제 2 배기구(142)가 구비된다. The lower part of one side of the second gas cleaning unit 110 is connected to the exhaust port 112 of the first gas cleaning unit 110 and contains fine dust and odorous substances that are primarily collected and cleaned in the first gas cleaning unit 110. A second inlet 141 is provided to allow gas to flow into the second gas cleaning unit 110, and at the top of the second gas cleaning unit 140, the gas collected and cleaned through the second gas cleaning unit 140 is provided. A second exhaust port 142 for final discharge is provided.

또한 제 2 가스세정유닛(140)의 내부에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스와 세정수의 접촉면적을 증대시키는 위한 제 2 폴링충전층(143)이 구비되고, 제 2 폴링충전층(143)의 상부에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 습식 세정을 위한 세정수를 하향 분사하는 제 2 분사노즐(144)이 구비된다. 이 때 제 2 가스세정유닛(140) 내에서 다단 집진 및 세정이 이루어질 수 있도록 제 2 폴링충전층(143)은 상하방향으로 서로 이격된 다수개로 구비되고 제 2 분사노즐(144)도 제 2 폴링충전층(143)에 대응되는 개수로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the inside of the second gas cleaning unit 140 is provided with a second polling filling layer 143 to increase the contact area between the gas containing fine dust and odorous substances and the cleaning water, and the second polling filling layer 143 The upper part is provided with a second spray nozzle 144 that sprays cleaning water downward for wet cleaning of gas containing fine dust and odorous substances. At this time, so that multi-stage dust collection and cleaning can be performed within the second gas cleaning unit 140, the second polling filling layer 143 is provided in plural pieces spaced apart from each other in the vertical direction, and the second spray nozzle 144 is also provided with a second polling nozzle 144. It is desirable to form a number corresponding to the filling layer 143.

또한 제 2 가스세정유닛(140)의 타측에는 제 2 분사노즐(144)로부터 분사되어 하부로 낙하되어 저장된 세정수를 다시 제 2 분사노즐(144)로 순환공급하는 제 2 세정수라인(145)이 구비된다. In addition, on the other side of the second gas cleaning unit 140, there is a second washing water line 145 that circulates the washing water that is sprayed from the second spray nozzle 144, falls to the bottom, and is stored, back to the second spray nozzle 144. This is provided.

또한 제 2 가스세정유닛(140)의 내부 상단에는 습기 제거를 위한 제 2 데미스터(146)가 설치되는 것이 바람직하다. 제 2 데미스터(146)는 습식세정용 스크러버 기술분야에서 이미 공지되어 있는 바, 더 이상의 상세 설명은 생략하기로 한다.In addition, it is preferable that a second demister 146 for removing moisture is installed at the top of the inside of the second gas cleaning unit 140. Since the second demister 146 is already known in the wet cleaning scrubber technology field, further detailed description will be omitted.

또한 제 2 가스세정유닛(210)의 하단에는 슬러지와 일정 수준 이상 오염된 세정수를 외부로 배출하기 위한 배출라인이 구비될 수 있다.Additionally, a discharge line may be provided at the bottom of the second gas cleaning unit 210 to discharge sludge and cleaning water contaminated above a certain level to the outside.

전술한 제 2 가스세정유닛(140)의 제 2 세정수라인(145) 상에는 제 2 미세기포분산유닛(150)이 설치된다. 제 2 미세기포분산유닛(150)은 제 2 세정수라인(145)을 관류하는 세정수에 예를 들어 나노버블과 같은 미세기포를 분산시킴에 따라 세정수를 나노에멀젼 상태로 변화시키는 역할을 하는 것으로, 특히 세정수에 기체를 용해시키되 세정수 내에서 기체를 강력하게 전단함으로써 미세 기포가 세정수 내에 분산잔류되도록 한다. 제 2 미세기포분산유닛(150)에 의한 미세기포 분산 원리로는 가압용해식, 2상류 선회식, 가압 선회식 등이 있다. A second fine bubble dispersion unit 150 is installed on the second cleaning water line 145 of the above-described second gas cleaning unit 140. The second fine bubble dispersion unit 150 serves to change the cleansing water into a nanoemulsion state by dispersing fine bubbles, such as nanobubbles, in the cleansing water flowing through the second cleansing water line 145. In particular, the gas is dissolved in the washing water, but the gas is strongly sheared within the washing water, so that fine bubbles remain dispersed in the washing water. The principles of fine bubble dispersion by the second fine bubble dispersion unit 150 include pressure dissolution type, two-phase swirl type, and pressure swirl type.

세정수가 제 2 미세기포분산유닛(150)을 통과하게 되면 세정수 내에 나노버블과 같은 미세기포가 분산되면서 나노에멀젼 상태로 변회된다. 나노에멀젼 상태란 세정수 내 나노버블이 고르게 분산되어 세정수의 표면 장력이 저감된 상태를 의미하는 것으로, 이러한 나노버블은 시간이 지나도 표면으로 부상하지 않고 세정수의 수중에 잔류하는 특성이 있다. 제 2 미세기포분산유닛(150)에 의해 세정수 내에 분산되는 나노버블의 직경은 1㎛보다 작고 1㎚보다 큰 것이 바람직하다.When the washing water passes through the second microbubble dispersion unit 150, microbubbles such as nanobubbles are dispersed in the washing water and changed into a nanoemulsion state. The nanoemulsion state refers to a state in which nanobubbles in the washing water are evenly dispersed and the surface tension of the washing water is reduced. These nanobubbles have the property of remaining in the washing water without rising to the surface over time. The diameter of the nanobubbles dispersed in the washing water by the second microbubble dispersion unit 150 is preferably smaller than 1㎛ and larger than 1㎚.

나노버블은 특히 물 계면 사이의 표면 장력을 감소시킴에 따라 나노에멀젼 상태의 세정수는 제 2 가스세정유닛(140) 내에서 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 악취 분자와 접촉할 때 악취 분자를 튕겨내지 않고 쉽게 포집할 수 있어 악취 분자 포집율을 향상시킬 수 있다. As nanobubbles especially reduce the surface tension between the water interface, the cleaning water in the nanoemulsion state bounces off the odor molecules when it comes into contact with the odor molecules of the gas containing fine dust and odor substances within the second gas cleaning unit 140. It can be easily collected without emitting, improving the collection rate of odor molecules.

또한 제 2 미세기포분산유닛(150)은 제 2 가스세정유닛(140) 내의 세정수를 나노에멀젼 상태로 변화시켜 제 2 세정수라인(145)과 제 2 분사노즐(144)을 통해 다시 제 2 가스세정유닛(140)로 순환공급함에 따라 제 2 가스세정유닛(140) 내에 집수된 세정수를 나노에멀젼 상태로 유지시킨다.In addition, the second fine bubble dispersion unit 150 changes the cleaning water in the second gas cleaning unit 140 into a nanoemulsion state and returns it to the second cleaning water line 145 and the second injection nozzle 144. As it is circulated and supplied to the gas cleaning unit 140, the cleaning water collected in the second gas cleaning unit 140 is maintained in a nanoemulsion state.

또한 제 2 가스세정유닛(140)의 제 2 세정수라인(145)에는 제 2 약액공급유닛(160)이 연결될 수 있다. 제 2 약액공급유닛(160)은 제 2 세정수라인(145)을 관류하는 세정수에 악취물질 제거효율을 증대시키는 제 2 약액을 공급하는 역할을 한다.Additionally, a second chemical supply unit 160 may be connected to the second cleaning water line 145 of the second gas cleaning unit 140. The second chemical solution supply unit 160 serves to supply a second chemical solution that increases the efficiency of removing malodorous substances to the cleaning water flowing through the second cleaning water line 145.

이 때 제 2 약액은 염소계 산화제(Chlorine-based oxidase)일 수 있다. 구체적으로, 제 2 약액은 제 2 세정수라인(145) 내에서 세정수와 혼합되어 제 2 분사노즐(144)을 통해 제 2 가스세정유닛(140) 내에서 하부방향으로 분사된다. 염소는 암모니아성 질소를 제거할 수 있고, 이러한 염소의 공급원인 염소계 산화제(Chlorine-based oxidase)는 차아염소산나트륨(NaOCl) 수용액, 아염소산나트륨(NaClO2) 수용액, 염소산나트륨(NaClO3) 수용액 및 과염소산나트륨(NaClO4) 수용액을 포함하는 군에서 선택될 수 있다. At this time, the second chemical solution may be a chlorine-based oxidase. Specifically, the second chemical liquid is mixed with cleaning water in the second cleaning water line 145 and is sprayed downward within the second gas cleaning unit 140 through the second injection nozzle 144. Chlorine can remove ammonia nitrogen, and chlorine-based oxidase, which is a source of chlorine, includes sodium hypochlorite (NaOCl) aqueous solution, sodium chlorite (NaClO 2 ) aqueous solution, sodium chlorate (NaClO 3 ) aqueous solution, and It may be selected from the group containing sodium perchlorate (NaClO 4 ) aqueous solution.

또한 제 2 약액은 계면활성제를 포함할 수 있다. 계면활성제는 세정수와 혼합되어 제 2 분사노즐(144)을 통해 제 2 가스세정유닛(140) 내부에 분무되며, 계면 활성 작용에 의해 세정수의 악취물질 포집효율을 증대시킨다. 구체적으로, 제 2 가스세정유닛(140)의 습식 집진은 액적, 액막, 기포 등에 의해 미세먼지 및 악취물질 함유 가스(처리가스)를 세정하여 악취물질을 흡착, 입자 상호 간의 응집을 촉진시켜 처리 가스의 흐름으로부터 악취물질을 포집하여 분리시키는 것인데, 흡착은 흡착제 표면과 흡착질 분자의 계면에서 일어나고, 흡착제와 흡착질 간의 원자, 이온 또는 분자 간의 결합력에 의해 일어난다.Additionally, the second chemical solution may contain a surfactant. The surfactant is mixed with the washing water and sprayed into the second gas cleaning unit 140 through the second spray nozzle 144, and increases the efficiency of collecting odorous substances in the washing water through the surface activity. Specifically, the wet dust collection of the second gas cleaning unit 140 cleans fine dust and odorous substance-containing gas (processed gas) by liquid droplets, liquid films, bubbles, etc., adsorbs odorous substances, and promotes cohesion between particles to process gas. It collects and separates odorous substances from the flow. Adsorption occurs at the interface between the surface of the adsorbent and the molecules of the adsorbent, and is caused by the bonding force between atoms, ions, or molecules between the adsorbent and the adsorbent.

계면활성제는 세정수에 혼합되어 세정수의 표면 장력을 완화시킴에 따라 세정수 액적과 악취물질 사이의 경계를 완화시킴으로써 세정수가 보다 많은 악취물질을 포집할 수 있도록 한다. 계면 활성제로는 당 파생물과 펩티드가 함유된 고 활동성의 유기화합물질의 복합체로 이루어진 무이온 계면활성제인 것이 바람직하고, 탄산염, 폴리펩티드, 포타슘, 철, 마그네슘, 아연, 미네랄 중 적어도 하나 이상의 물질을 함유하는 것이 바람직하다.The surfactant is mixed with the washing water and relaxes the surface tension of the washing water, thereby relaxing the boundary between the washing water droplets and the odorous substances, thereby allowing the washing water to collect more odorous substances. The surfactant is preferably a non-ionic surfactant composed of a complex of highly active organic compounds containing sugar derivatives and peptides, and contains at least one of carbonate, polypeptide, potassium, iron, magnesium, zinc, and minerals. It is desirable.

비록 도시되지는 않았지만 악취제거 효율의 모니터링 및 그에 상응하는 조치를 위해 제 1 가스세정유닛(110)의 제 1 유입구(111)에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 암모니아 농도를 측정하는 제 1 암모니아센서가 설치되고 제 2 가스세정유닛(140)의 제 2 배기구(142)에는 제 1 가스세정유닛(110)과 제 2 가스세정유닛(140)을 거쳐 습식제정된 후 최종 배출되는 가스의 암모니아 농도를 측정하는 제 2 암모니아센서가 설치될 수 있다.Although not shown, in order to monitor odor removal efficiency and take corresponding measures, a first ammonia sensor is installed at the first inlet 111 of the first gas cleaning unit 110 to measure the ammonia concentration of gas containing fine dust and odorous substances. is installed and the ammonia concentration of the gas finally discharged after wet purification through the first gas cleaning unit 110 and the second gas cleaning unit 140 is measured at the second exhaust port 142 of the second gas cleaning unit 140. A second ammonia sensor may be installed to measure.

제 1 및 제 2 암모니아센서의 측정값에 따라 전술한 제 1 미세기포분산유닛(120)과 제 1 약액공급유닛(130), 제 2 미세기포분산유닛(150)과 제 2 약액공급유닛(160)의 작동이 제어되는 것이 바람직하다.According to the measured values of the first and second ammonia sensors, the above-described first fine bubble dispersion unit 120, first chemical liquid supply unit 130, second fine bubble dispersion unit 150, and second chemical liquid supply unit 160 ) is preferably controlled.

본 발명의 제 1 실시예에 따른 가스세정장치(100)가 예를 들어 부숙 퇴비화시설, 하수처리시설, 소각장, 음식물쓰레기 처리시설, 쓰레기 매립장, 정유공장, 화학공장, 축산폐수 처리장, 소각처리시설 등과 같은 미세먼지 및 악취 발생원으로부터 발생되는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 세정처리를 위해 적용될 경우에는, 제 1 가스세정유닛(110) 내에서 미세기포가 분산됨과 동시에 제 1 약액의 혼합에 따라 알칼리화된 세정수가 분사되어 집진 및 세정이 이루어진 후 제 2 가스세정유닛(140) 내에서 미세기포가 분산됨과 동시에 제 2 약액의 혼합에 따라 산성화된 세정수가 분사됨에 따라 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 대한 집진 및 세정효율이 극대화됨과 동시에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 포함된 염기성계 및 산성계 악취물질도 효과적으로 세정될 수 있게 된다.The gas cleaning device 100 according to the first embodiment of the present invention is used, for example, in composting facilities, sewage treatment facilities, incinerators, food waste treatment facilities, landfills, oil refineries, chemical plants, livestock wastewater treatment plants, and incineration treatment facilities. When applied for cleaning treatment of gas containing fine dust and odorous substances generated from fine dust and odor generating sources such as the like, fine bubbles are dispersed within the first gas cleaning unit 110 and simultaneously alkalized by mixing the first chemical solution. After the cleansing water is sprayed and dust is collected and cleaned, the fine bubbles are dispersed within the second gas cleaning unit 140 and at the same time, the acidified cleaning water is sprayed by mixing the second chemical solution, thereby eliminating fine dust and gas containing odorous substances. Dust collection and cleaning efficiency are maximized, and at the same time, basic and acidic odor substances contained in fine dust and odor-containing gas can be effectively cleaned.

본 발명의 제 2 실시예에 따른 가스세정장치(200)는 예를 들어 부숙 퇴비화시설, 하수처리시설, 소각장, 음식물쓰레기 처리시설, 쓰레기 매립장, 정유공장, 화학공장, 축산폐수 처리장, 소각처리시설 등과 같은 미세먼지 및 악취 발생원으로부터 발생되는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스를 집진 및 세정하여 미세먼지와 악취물질을 포집 및 제거한 후 대기중으로 배출하는 것으로, 도 4 내지 도 6에 도시되는 바와 같이 일측 하부에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 유입되는 제 1 유입구(211)가.구비되고 상단에 제 1 배기구(212)가 구비되며 내부에는 다수의 격벽(213)이 지그재그형 유로의 형성을 위해 교호적으로 구비되고 내부를 관류하는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 세정수를 분사하는 제 1 분사노즐(214)이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 세정수를 제 1 분사노즐(214)로 공급하는 제 1 세정수라인(215)이 구비되는 제 1 가스세정유닛(210)과, 제 1 세정수라인(215) 상에 설치되고 제 1 세정수라인(215)을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 1 미세기포분산유닛(220)과, 일측 하부에 제 1 배기구(212)에 연결되는 제 2 유입구(241)가.구비되고 상단에 제 2 배기구(242)가 구비되며 내부에는 폴링충전층(243)이 구비되고 폴링충전층(243)의 상부에는 세정수를 하향 분사하는 제 2 분사노즐(244)이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 세정수를 제 2 분사노즐(244)로 공급하는 제 2 세정수라인(245)이 구비되는 제 2 가스세정유닛(240)과, 제 2 세정수라인(245) 상에 설치되고 제 2 세정수라인(245)을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 2 미세기포분산유닛(250)을 포함한다. The gas cleaning device 200 according to the second embodiment of the present invention is, for example, composting facilities, sewage treatment facilities, incinerators, food waste treatment facilities, landfills, oil refineries, chemical plants, livestock wastewater treatment plants, and incineration treatment facilities. It collects and cleans gas containing fine dust and odorous substances generated from fine dust and odor generating sources such as the like, collects and removes the fine dust and odorous substances, and then discharges them into the atmosphere. As shown in FIGS. 4 to 6, the lower part of one side A first inlet 211 through which gas containing fine dust and odorous substances flows is provided, and a first exhaust port 212 is provided at the top, and a plurality of partition walls 213 are arranged alternately to form a zigzag-shaped flow path. It is equipped with a first spray nozzle 214 that sprays cleaning water into the gas containing fine dust and odorous substances flowing through the inside, and on the other side, it drops to the bottom and supplies the stored cleaning water to the first spray nozzle 214. A first gas cleaning unit 210 equipped with a first cleaning water line 215, installed on the first cleaning water line 215, and fine bubbles in the cleaning water flowing through the first cleaning water line 215. A first fine bubble dispersion unit 220 for dispersing, a second inlet 241 connected to the first exhaust port 212 at the bottom of one side, and a second exhaust port 242 at the top are provided, and a polling charge is provided inside. A layer 243 is provided, and a second spray nozzle 244 is provided on the upper part of the polling filling layer 243 to spray washing water downward, and on the other side, the washing water that falls downward and is stored is provided to the second spray nozzle 244. The second gas cleaning unit 240 is provided with a second cleaning water line 245, and the cleaning water flowing through the second cleaning water line 245 and installed on the second cleaning water line 245 contains fine particles. It includes a second fine bubble dispersion unit 250 that disperses bubbles.

또한 제 1 가스세정유닛(210)의 내부 상단에는 제 1 데미스터(216)가 설치되고 제 2 가스세정유닛(240)의 내부 상단에는 제 2 데미스터(246)가 설치될 수 있다.Additionally, a first demister 216 may be installed at the inner top of the first gas cleaning unit 210, and a second demister 246 may be installed at the inner top of the second gas cleaning unit 240.

또한 본 발명의 제 2 실시예에 따른 가스세정장치(200)는 제 1 가스세정유닛(210)의 제 1 세정수라인(215)에 연결되고 제 1 세정수라인(215)을 관류하는 세정수에 제 1 약액을 공급하는 제 1 약액공급유닛(230)와, 제 2 가스세정유닛(240)의 제 2 세정수라인(245)에 연결되고 제 2 세정수라인(245)을 관류하는 세정수에 제 2 약액을 공급하는 제 2 약액공급유닛(260)을 더 포함할 수 있다.In addition, the gas cleaning device 200 according to the second embodiment of the present invention is connected to the first cleaning water line 215 of the first gas cleaning unit 210 and cleansing water flowing through the first cleaning water line 215. A first chemical solution supply unit 230 that supplies the first chemical solution to the , and a cleaning water connected to the second cleaning water line 245 of the second gas cleaning unit 240 and flowing through the second cleaning water line 245. It may further include a second chemical solution supply unit 260 that supplies a second chemical solution.

이 때 제 1 약액공급유닛(230)에 의해 공급되는 제 1 약액은 수산화나트륨 수용액이고 제 2 약액공급유닛(260)에 의해 공급되는 제 2 약액은 염소계 산화제일 수 있다. 또한 실시예에 따라 제 1 약액공급유닛(230)에 의해 공급되는 제 1 약액과 제 2 약액공급유닛(260)에 의해 공급되는 제 2 약액 모두 계면활성제일 수 있다.At this time, the first chemical solution supplied by the first chemical solution supply unit 230 may be an aqueous sodium hydroxide solution, and the second chemical solution supplied by the second chemical solution supply unit 260 may be a chlorine-based oxidizing agent. Additionally, depending on the embodiment, both the first chemical solution supplied by the first chemical solution supply unit 230 and the second chemical solution supplied by the second chemical solution supply unit 260 may be a surfactant.

또한 비록 도시되지는 않았지만 악취제거 효율의 모니터링 및 그에 상응하는 조치를 위해 제 1 가스세정유닛(210)의 제 1 유입구(211)에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 암모니아 농도를 측정하는 제 1 암모니아센서가 설치되고 제 2 가스세정유닛(240)의 제 2 배기구(242)에는 제 1 가스세정유닛(210)과 제 2 가스세정유닛(240)을 거쳐 습식제정된 후 최종 배출되는 가스의 암모니아 농도를 측정하는 제 2 암모니아센서가 설치될 수 있다.In addition, although not shown, in order to monitor the odor removal efficiency and take corresponding measures, a first ammonia device is installed at the first inlet 211 of the first gas cleaning unit 210 to measure the ammonia concentration of the gas containing fine dust and odorous substances. A sensor is installed in the second exhaust port 242 of the second gas cleaning unit 240 to measure the ammonia concentration of the gas finally discharged after wet purification through the first gas cleaning unit 210 and the second gas cleaning unit 240. A second ammonia sensor that measures may be installed.

제 1 및 제 2 암모니아센서의 측정값에 따라 전술한 제 1 미세기포분산유닛(220)과 제 1 약액공급유닛(230), 제 2 미세기포분산유닛(250)과 제 2 약액공급유닛(260)의 작동이 제어되는 것이 바람직하다.According to the measured values of the first and second ammonia sensors, the above-described first fine bubble dispersion unit 220, first chemical liquid supply unit 230, second fine bubble dispersion unit 250, and second chemical liquid supply unit 260 ) is preferably controlled.

전술한 본 발명의 제 2 실시예에 따른 가스세정장치(200)는 제 1 가스세정유닛(210) 내에 폴링충전층 대신에 지그재그식 유로를 형성하는 격벽(213)이 설치되고 제 1 분사노즐(214)이 폴링충전층이 아니라 격벽(213)에 의해 형성된 지그재그형 유로를 관류하는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 세정수를 분사하는 점에서만 차이가 있을 뿐, 전술한 본 발명의 제 1 실시예에 따른 가스세정장치(100)와 동일하므로, 명세서의 간략화를 위해 더 이상의 중복설명은 생략하기로 한다.In the gas cleaning device 200 according to the second embodiment of the present invention described above, a partition 213 forming a zigzag flow path is installed in the first gas cleaning unit 210 instead of the falling filling layer, and a first injection nozzle ( The first embodiment of the present invention described above differs only in that the cleaning water is sprayed on the gas containing fine dust and odorous substances flowing through the zigzag-shaped flow path formed by the partition wall 213 rather than the polling filling layer (214). Since it is the same as the gas cleaning device 100 according to, further redundant description will be omitted to simplify the specification.

본 발명의 제 2 실시예에 따른 가스세정장치(200)가 예를 들어 부숙 퇴비화시설, 하수처리시설, 소각장, 음식물쓰레기 처리시설, 쓰레기 매립장, 정유공장, 화학공장, 축산폐수 처리장, 소각처리시설 등과 같은 미세먼지 및 악취 발생원으로부터 발생되는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 세정처리를 위해 적용될 경우에는, 제 1 가스세정유닛(210) 내에서 미세기포가 분산됨과 동시에 제 1 약액의 혼합에 따라 알칼리화된 세정수가 분사되어 집진 및 세정이 이루어진 후 제 2 가스세정유닛(240) 내에서 미세기포가 분산됨과 동시에 제 2 약액의 혼합에 따라 산성화된 세정수가 분사됨에 따라 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 대한 집진 및 세정효율이 극대화됨과 동시에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 포함된 염기성계 및 산성계 악취물질도 효과적으로 세정될 수 있게 된다.The gas cleaning device 200 according to the second embodiment of the present invention is used, for example, in composting facilities, sewage treatment facilities, incinerators, food waste treatment facilities, landfills, oil refineries, chemical plants, livestock wastewater treatment plants, and incineration treatment facilities. When applied for cleaning treatment of gas containing fine dust and odor substances generated from fine dust and odor generating sources such as the like, fine bubbles are dispersed within the first gas cleaning unit 210 and at the same time are alkalized by mixing the first chemical solution. After the cleansing water is sprayed and dust is collected and cleaned, the fine bubbles are dispersed within the second gas cleaning unit 240 and at the same time, the acidified cleaning water is sprayed by mixing the second chemical solution, thereby eliminating fine dust and gas containing odorous substances. Dust collection and cleaning efficiency are maximized, and at the same time, basic and acidic odor substances contained in fine dust and odor-containing gas can be effectively cleaned.

본 발명의 제 3 실시예에 따른 가스세정장치(300)는 예를 들어 부숙 퇴비화시설, 하수처리시설, 소각장, 음식물쓰레기 처리시설, 쓰레기 매립장, 정유공장, 화학공장, 축산폐수 처리장, 소각처리시설 등과 같은 미세먼지 및 악취 발생원으로부터 발생되는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스를 집진 및 세정하여 미세먼지와 악취물질을 포집 및 제거한 후 대기중으로 배출하는 것으로, 도 7에 도시되는 바와 같이, 일측 하부에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 유입되는 제 1 유입구(311)가.구비되고 상단에 제 1 배기구(312)가 구비되며 내부에는 제 1 폴링충전층(313)이 구비되고 제 1 폴링충전층(313)의 상부에는 세정수를 하향 분사하는 제 1 분사노즐(314)이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 세정수를 제 1 분사노즐(314)로 공급하는 제 1 세정수라인(315)이 구비되는 제 1 가스세정유닛(310)과, 제 1 세정수라인(315) 상에 설치되고 제 1 세정수라인(315)을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 1 미세기포분산유닛(320)과, 일측 하부에 제 1 배기구(312)에 연결되는 제 2 유입구(331)가.구비되고 상단에 제 2 배기구(332)가 구비되며 내부에는 2개의 폴링충전층(333)이 상하이격되어 구비되고 폴링충전층(333)의 상부에서 세정수를 각각 하향 분사하는 2개의 제 2 분사노즐(334)이 각각 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 세정수를 2개의 제 2 분사노즐(334)로 공급하는 2개의 제 2 세정수라인(335)이 구비되는 제 2 가스세정유닛(330)과, 제 2 세정수라인(335) 상에 설치되고 제 2 세정수라인(335)을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 2 미세기포분산유닛(340)과, 2개의 제 2 세정수라인(335)에 연결되고 물을 전기분해하여 이온격막을 통해 산성수와 알칼리수로 분리제조하며 산성수와 상기 알칼리수를 2개의 상기 제 2 세정수라인(335)에 분리공급하는 전기분해유닛(350)을 포함한다.The gas cleaning device 300 according to the third embodiment of the present invention is, for example, composting facilities, sewage treatment facilities, incinerators, food waste treatment facilities, landfills, oil refineries, chemical plants, livestock wastewater treatment plants, and incineration treatment facilities. It collects and cleans gas containing fine dust and odorous substances generated from fine dust and odor generating sources such as the like, collects and removes the fine dust and odorous substances, and then discharges them into the atmosphere. As shown in FIG. 7, there is a fine dust at the bottom of one side. A first inlet 311 through which gas containing dust and odorous substances flows is provided, a first exhaust port 312 is provided at the top, and a first polling filling layer 313 is provided inside. ) is provided on the upper part of the first spray nozzle 314 that sprays washing water downward, and on the other side, a first washing water line 315 is provided that drops to the bottom and supplies the stored washing water to the first spray nozzle 314. a first gas cleaning unit 310, and a first fine bubble dispersion unit 320 installed on the first cleaning water line 315 and dispersing fine bubbles in the cleaning water flowing through the first cleaning water line 315. ) and a second inlet 331 connected to the first exhaust port 312 at the lower part of one side, a second exhaust port 332 is provided at the top, and two polling charge layers 333 are spaced apart from each other inside. Two second spray nozzles 334 are provided to spray the washing water downward from the upper part of the polling filling layer 333, and two second spray nozzles 334 are provided on the other side to drop the stored washing water downward. A second gas cleaning unit 330 provided with two second cleaning water lines 335 supplied to the gas cleaning unit 330, and a cleaning unit installed on the second cleaning water line 335 and flowing through the second cleaning water line 335. It is connected to a second microbubble dispersion unit 340, which disperses microbubbles in water, and two second washing water lines 335, and electrolyzes water to separate acidic water and alkaline water through an ion diaphragm, producing acidic water. and an electrolysis unit 350 that separately supplies the alkaline water to the two second washing water lines 335.

여기서, 제 1 가스세정유닛(310)은 미세먼지 및 악취물질 함유 가스를 집진 및 세정하여 미세먼지와 악취물질을 포집 및 제거하는 역할을 한다.Here, the first gas cleaning unit 310 serves to collect and remove fine dust and odorous substances by collecting and cleaning gas containing fine dust and odorous substances.

이러한 제 1 가스세정유닛(310)의 일측 하부에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 유입되는 제 1 유입구(311)가.구비되고 제 1 가스세정유닛(310)의 상단에는 제 1 가스세정유닛(310)을 거쳐 1차 집진 및 세정된 가스를 후술될 제 2 가스세정유닛(330)로 공급되도록 하는 제 1 배기구(312)가 구비된다. 제 1 유입구(311)의 전단에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 강제이송을 위하여 예를 들어 배기팬과 같은 에어펌프가 구비될 수 있고, 제 1 배기구(312)는 후술될 제 2 가스세정유닛(330)의 유입구(331)에 연결된다.A first inlet 311 through which gas containing fine dust and odorous substances flows is provided at the lower part of one side of the first gas cleaning unit 310, and a first gas cleaning unit (311) is provided at the upper end of the first gas cleaning unit 310. A first exhaust port 312 is provided to supply the primary dust collected and cleaned gas through 310) to the second gas cleaning unit 330, which will be described later. The front end of the first inlet 311 may be equipped with an air pump, such as an exhaust fan, for forcibly transporting gas containing fine dust and odorous substances, and the first exhaust port 312 is a second gas cleaning unit to be described later. It is connected to the inlet 331 of (330).

또한 제 1 가스세정유닛(310)의 내부에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스와 세정수의 접촉면적을 증대시키는 위한 제 1 폴링충전층(313)이 구비되고, 제 1 폴링충전층(313)의 상부에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 습식 세정을 위한 세정수를 하향 분사하는 제 1 분사노즐(314)이 구비된다. 이 때 제 1 가스세정유닛(310) 내에서 다단 집진 및 세정이 이루어질 수 있도록 제 1 폴링충전층(313)은 상하방향으로 서로 이격된 다수개로 구비되고 제 1 분사노즐(314)도 제 1 폴링충전층(313)에 대응되는 개수로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the inside of the first gas cleaning unit 310 is provided with a first polling filling layer 313 to increase the contact area between the gas containing fine dust and odorous substances and the cleaning water, and the first polling filling layer 313 The upper part is provided with a first spray nozzle 314 that sprays cleaning water downward for wet cleaning of gas containing fine dust and odorous substances. At this time, so that multi-stage dust collection and cleaning can be performed within the first gas cleaning unit 310, the first polling filling layer 313 is provided in plural pieces spaced apart from each other in the vertical direction, and the first spray nozzle 314 is also provided with a first polling nozzle 314. It is desirable to form a number corresponding to the filling layer 313.

또한 제 1 가스세정유닛(310)의 타측에는 제 1 분사노즐(314)로부터 분사되어 하부로 낙하되어 저장된 세정수를 다시 제 1 분사노즐(314)로 순환공급하는 제 1 세정수라인(315)이 구비된다. In addition, on the other side of the first gas cleaning unit 310, there is a first washing water line 315 that circulates and supplies the washing water that is sprayed from the first spray nozzle 314, falls downward, and is stored, back to the first spray nozzle 314. This is provided.

또한 제 1 가스세정유닛(310)의 내부 상단에는 습기 제거를 위한 제 1 데미스터(316)가 설치되는 것이 바람직하다. 제 1 데미스터(316)는 습식세정용 스크러버 기술분야에서 이미 공지되어 있는 바, 더 이상의 상세 설명은 생략하기로 한다.Additionally, it is preferable that a first demister 316 for removing moisture is installed at the top of the inside of the first gas cleaning unit 310. Since the first demister 316 is already known in the wet cleaning scrubber technology field, further detailed description will be omitted.

또한 제 1 가스세정유닛(310)의 하단에는 슬러지와 일정 수준 이상 오염된 세정수를 후술될 부상분리조(360)로 이송하기 위한 배출라인이 연결된다.In addition, a discharge line is connected to the bottom of the first gas cleaning unit 310 to transport sludge and cleaning water contaminated above a certain level to a flotation separation tank 360, which will be described later.

한편 전술한 제 1 가스세정유닛(310)은 예를 들어 전처리탑 또는 관성충돌형 집진유닛으로 대체 가능하되 세정수 분사구성을 포함하거나 또는 세정수 분사구성을 포함하지 않을 수 있다.Meanwhile, the above-described first gas cleaning unit 310 can be replaced with, for example, a pretreatment tower or an inertial collision type dust collection unit, but may include a cleaning water injection configuration or may not include a cleaning water injection configuration.

전술한 제 1 가스세정유닛(310)의 제 1 세정수라인(315) 상에는 제 1 미세기포분산유닛(320)이 설치된다. 제 1 미세기포분산유닛(320)은 제 1 세정수라인(315)을 관류하는 세정수에 예를 들어 나노버블과 같은 미세기포를 분산시킴에 따라 세정수를 나노에멀젼 상태로 변화시키는 역할을 하는 것으로, 특히 세정수에 기체를 용해시키되 세정수 내에서 기체를 강력하게 전단함으로써 미세 기포가 세정수 내에 분산잔류되도록 한다. 제 1 미세기포분산유닛(320)에 의한 미세기포 분산 원리로는 가압용해식, 2상류 선회식, 가압 선회식 등이 있다. A first fine bubble dispersion unit 320 is installed on the first cleaning water line 315 of the above-described first gas cleaning unit 310. The first fine bubble dispersion unit 320 serves to change the cleansing water into a nanoemulsion state by dispersing fine bubbles, such as nanobubbles, in the cleansing water flowing through the first cleansing water line 315. In particular, the gas is dissolved in the washing water, but the gas is strongly sheared within the washing water, so that fine bubbles remain dispersed in the washing water. The principles of microbubble dispersion by the first microbubble dispersion unit 320 include pressurized dissolution type, two-phase swirling type, and pressurized swirling type.

세정수가 제 1 미세기포분산유닛(320)을 통과하게 되면 세정수 내에 나노버블과 같은 미세기포가 분산되면서 나노에멀젼 상태로 변회된다. 나노에멀젼 상태란 세정수 내 나노버블이 고르게 분산되어 세정수의 표면 장력이 저감된 상태를 의미하는 것으로, 이러한 나노버블은 시간이 지나도 표면으로 부상하지 않고 세정수의 수중에 잔류하는 특성이 있다. 제 1 미세기포분산유닛(320)에 의해 세정수 내에 분산되는 나노버블의 직경은 1㎛보다 작고 1㎚보다 큰 것이 바람직하다.When the washing water passes through the first microbubble dispersion unit 320, microbubbles such as nanobubbles are dispersed in the washing water and changed into a nanoemulsion state. The nanoemulsion state refers to a state in which nanobubbles in the washing water are evenly dispersed and the surface tension of the washing water is reduced. These nanobubbles have the property of remaining in the washing water without rising to the surface over time. The diameter of the nanobubbles dispersed in the washing water by the first microbubble dispersion unit 320 is preferably smaller than 1㎛ and larger than 1㎚.

나노버블은 특히 물 계면 사이의 표면 장력을 감소시킴에 따라 나노에멀젼 상태의 세정수는 제 1 가스세정유닛(310) 내에서 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 악취 분자와 접촉할 때 악취 분자를 튕겨내지 않고 쉽게 포집할 수 있어 악취 분자 포집율을 향상시킬 수 있다. As nanobubbles especially reduce the surface tension between the water interface, the cleaning water in the nanoemulsion state bounces off the odor molecules when it comes into contact with the odor molecules of the gas containing fine dust and odor substances within the first gas cleaning unit 310. It can be easily collected without emitting, improving the collection rate of odor molecules.

또한 제 1 미세기포분산유닛(320)은 제 1 가스세정유닛(310) 내의 세정수를 나노에멀젼 상태로 변화시켜 제 1 세정수라인(315)과 제 1 분사노즐(314)을 통해 다시 제 1 가스세정유닛(310)로 순환공급함에 따라 제 1 가스세정유닛(310) 내에 집수된 세정수를 나노에멀젼 상태로 유지시킨다.In addition, the first fine bubble dispersion unit 320 changes the cleaning water in the first gas cleaning unit 310 into a nanoemulsion state and returns it to the first cleaning water line 315 and the first injection nozzle 314. As it is circulated and supplied to the gas cleaning unit 310, the cleaning water collected in the first gas cleaning unit 310 is maintained in a nanoemulsion state.

전술한 제 1 가스세정유닛(310)의 배기구(312)에는 제 2 가스세정유닛(330)이 직렬 연결된다. 제 2 가스세정유닛(330)은 미세먼지 및 악취물질 함유 가스를 집진 및 세정하여 미세먼지와 악취물질을 재차 포집 및 제거하는 역할을 한다.The second gas cleaning unit 330 is connected in series to the exhaust port 312 of the above-described first gas cleaning unit 310. The second gas cleaning unit 330 collects and cleans gas containing fine dust and odorous substances and collects and removes the fine dust and odorous substances again.

이러한 제 2 가스세정유닛(330)의 일측 하부에는 제 1 가스세정유닛(310)의 배기구(312)와 연결되어 제 1 가스세정유닛(310)에서 1차 집진 및 세정된 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 제 2 가스세정유닛(330) 내로 유입되도록 하는 제 2 유입구(331)가.구비되고 제 2 가스세정유닛(330)의 상단에는 제 2 가스세정유닛(330)을 거쳐 집진 및 세정된 가스를 최종 배출하는 제 2 배기구(332)가 구비된다. The lower part of one side of the second gas cleaning unit 330 is connected to the exhaust port 312 of the first gas cleaning unit 310 and contains fine dust and odorous substances that are primarily collected and cleaned in the first gas cleaning unit 310. A second inlet 331 is provided to allow gas to flow into the second gas cleaning unit 330, and at the top of the second gas cleaning unit 330, the gas collected and cleaned through the second gas cleaning unit 330 is provided. A second exhaust port 332 for final discharge is provided.

또한 제 2 가스세정유닛(330)의 내부에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스와 세정수의 접촉면적을 증대시키는 위한 2개의 폴링충전층(333)이 상하이격되어 구비되고, 2개의 제 2 폴링충전층(333)의 상부에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 습식 세정을 위한 세정수를 하향 분사하는 제 2 분사노즐(334)이 각각 구비된다.In addition, the inside of the second gas cleaning unit 330 is provided with two polling charging layers 333 spaced apart from each other to increase the contact area between the gas containing fine dust and odorous substances and the cleaning water, and two second polling charging layers 333 are provided inside the second gas cleaning unit 330. The upper part of the layer 333 is provided with a second spray nozzle 334 that sprays cleaning water downward for wet cleaning of gas containing fine dust and odorous substances.

또한 제 2 가스세정유닛(330)의 타측에는 제 2 분사노즐(334)로부터 분사되어 하부로 낙하되어 저장된 세정수를 다시 제 2 분사노즐(334)로 순환공급하는 제 2 세정수라인(335)이 구비된다. In addition, on the other side of the second gas cleaning unit 330, there is a second washing water line 335 that circulates and supplies the washing water that is sprayed from the second spray nozzle 334, falls downward, and is stored, back to the second spray nozzle 334. This is provided.

또한 제 2 가스세정유닛(330)의 내부 상단에는 습기 제거를 위한 제 2 데미스터(336)가 설치되는 것이 바람직하다. 제 2 데미스터(336)는 습식세정용 스크러버 기술분야에서 이미 공지되어 있는 바, 더 이상의 상세 설명은 생략하기로 한다.In addition, it is preferable that a second demister 336 for removing moisture is installed at the top of the second gas cleaning unit 330. Since the second demister 336 is already known in the wet cleaning scrubber technology field, further detailed description will be omitted.

또한 제 2 가스세정유닛(310)의 하단에는 슬러지와 일정 수준 이상 오염된 세정수를 후술될 부상분리조(360)로 이송하기 위한 배출라인이 연결된다.In addition, a discharge line is connected to the bottom of the second gas cleaning unit 310 to transport sludge and cleaning water contaminated above a certain level to the flotation separation tank 360, which will be described later.

전술한 제 2 가스세정유닛(330)의 제 2 세정수라인(335) 상에는 제 2 미세기포분산유닛(340)이 설치된다. 제 2 미세기포분산유닛(340)은 제 2 세정수라인(335)을 관류하는 세정수에 예를 들어 나노버블과 같은 미세기포를 분산시킴에 따라 세정수를 나노에멀젼 상태로 변화시키는 역할을 하는 것으로, 특히 세정수에 기체를 용해시키되 세정수 내에서 기체를 강력하게 전단함으로써 미세 기포가 세정수 내에 분산잔류되도록 한다. 제 2 미세기포분산유닛(340)에 의한 미세기포 분산 원리로는 가압용해식, 2상류 선회식, 가압 선회식 등이 있다. A second fine bubble dispersion unit 340 is installed on the second cleaning water line 335 of the above-described second gas cleaning unit 330. The second fine bubble dispersion unit 340 serves to change the cleansing water into a nanoemulsion state by dispersing fine bubbles, such as nanobubbles, in the cleansing water flowing through the second cleansing water line 335. In particular, the gas is dissolved in the washing water, but the gas is strongly sheared within the washing water, so that fine bubbles remain dispersed in the washing water. The principles of fine bubble dispersion by the second fine bubble dispersion unit 340 include pressure dissolution type, two-phase swirl type, and pressure swirl type.

세정수가 제 2 미세기포분산유닛(340)을 통과하게 되면 세정수 내에 나노버블과 같은 미세기포가 분산되면서 나노에멀젼 상태로 변회된다. 나노에멀젼 상태란 세정수 내 나노버블이 고르게 분산되어 세정수의 표면 장력이 저감된 상태를 의미하는 것으로, 이러한 나노버블은 시간이 지나도 표면으로 부상하지 않고 세정수의 수중에 잔류하는 특성이 있다. 제 2 미세기포분산유닛(340)에 의해 세정수 내에 분산되는 나노버블의 직경은 1㎛보다 작고 1㎚보다 큰 것이 바람직하다.When the washing water passes through the second microbubble dispersion unit 340, microbubbles such as nanobubbles are dispersed in the washing water and changed into a nanoemulsion state. The nanoemulsion state refers to a state in which nanobubbles in the washing water are evenly dispersed and the surface tension of the washing water is reduced. These nanobubbles have the property of remaining in the washing water without rising to the surface over time. The diameter of the nanobubbles dispersed in the washing water by the second microbubble dispersion unit 340 is preferably smaller than 1㎛ and larger than 1㎚.

나노버블은 특히 물 계면 사이의 표면 장력을 감소시킴에 따라 나노에멀젼 상태의 세정수는 제 2 가스세정유닛(330) 내에서 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 악취 분자와 접촉할 때 악취 분자를 튕겨내지 않고 쉽게 포집할 수 있어 악취 분자 포집율을 향상시킬 수 있다. As nanobubbles especially reduce the surface tension between the water interface, the cleaning water in the nanoemulsion state bounces off the odor molecules when it comes into contact with the odor molecules of the gas containing fine dust and odor substances within the second gas cleaning unit 330. It can be easily collected without emitting, improving the collection rate of odor molecules.

또한 제 2 미세기포분산유닛(340)은 제 2 가스세정유닛(330) 내의 세정수를 나노에멀젼 상태로 변화시켜 제 2 세정수라인(335)과 제 2 분사노즐(334)을 통해 다시 제 2 가스세정유닛(330)로 순환공급함에 따라 제 2 가스세정유닛(330) 내에 집수된 세정수를 나노에멀젼 상태로 유지시킨다.In addition, the second fine bubble dispersion unit 340 changes the cleaning water in the second gas cleaning unit 330 into a nanoemulsion state and returns it to the second cleaning water line 335 and the second injection nozzle 334. As it is circulated and supplied to the gas cleaning unit 330, the cleaning water collected in the second gas cleaning unit 330 is maintained in a nanoemulsion state.

전술한 제 2 가스세정유닛(330)의 2개의 제 2 세정수라인(335)에는 전기분해유닛(350)의 양측이 각각 연결된다. 전기분해유닛(350)은 물을 전기분해하여 이온격막을 통해 수소이온과 수산화이온을 양측으로 분리하여 산성수와 알칼리수가 양측에 분리제조되도록 함과 동시에 2개의 제 2 세정수라인(335) 중 하나에 산성수를 공급하고 2개의 제 2 세정수라인(335) 중 하나에 알칼리수를 공급하는 역할을 한다. Both sides of the electrolysis unit 350 are connected to the two second cleaning water lines 335 of the above-described second gas cleaning unit 330, respectively. The electrolysis unit 350 electrolyzes water and separates hydrogen ions and hydroxide ions on both sides through an ion diaphragm, so that acidic water and alkaline water are produced separately on both sides, and at the same time, one of the two second washing water lines 335 It serves to supply acidic water to one and alkaline water to one of the two second washing water lines (335).

이러한 전기분해유닛(350)은 중앙에 물을 전기분해하는 전기분해부가 구비되고, 양측에는 수소이온만 통과되는 이온격막과 수산화이온만 통과되는 이온격막이 구비되며, 양단에는 수소이온이 농축된 산성수가 제조저장되는 산성수저장부와, 수산화이온이 농축된 알칼리수가 제조저장되는 알칼리수저장부가 각각 구비되는 구성을 가진다.This electrolysis unit 350 is equipped with an electrolysis unit that electrolyzes water in the center, an ion diaphragm through which only hydrogen ions pass and an ion diaphragm through which only hydroxide ions pass through, on both sides, and acid with concentrated hydrogen ions at both ends. It has an acidic water storage unit in which water is manufactured and stored, and an alkaline water storage unit in which alkaline water concentrated in hydroxide ions is manufactured and stored.

이로 인해 2개의 제 2 세정수라인(335) 중 하나에 연결된 제 2 분사노즐(334)로부터는 산성의 세정수가 분사됨에 따라 중화반응을 통해 악취물질 중 염기성계 악취물질을 포집 제거될 수 있다. 또한 2개의 제 2 세정수라인(335) 중 다른 하나에 연결된 제 2 분사노즐(334)로부터는 염기성의 세정수가 분사됨에 따라 중화반응을 통해 악취물질 중 산성계 악취물질이 포집 제거될 수 있다.As a result, as acidic washing water is sprayed from the second spray nozzle 334 connected to one of the two second washing water lines 335, basic odorous substances among the odorous substances can be collected and removed through a neutralization reaction. In addition, as basic washing water is sprayed from the second spray nozzle 334 connected to the other of the two second washing water lines 335, acidic odorous substances among the odorous substances can be collected and removed through a neutralization reaction.

비록 도시되지는 않았지만 악취제거 효율의 모니터링 및 그에 상응하는 조치를 위해 제 1 가스세정유닛(310)의 제 1 유입구(311)에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 암모니아 농도를 측정하는 제 1 암모니아센서가 설치되고 제 2 가스세정유닛(330)의 제 2 배기구(332)에는 제 1 가스세정유닛(310)과 제 2 가스세정유닛(330)을 거쳐 습식제정된 후 최종 배출되는 가스의 암모니아 농도를 측정하는 제 2 암모니아센서가 설치될 수 있다.Although not shown, in order to monitor odor removal efficiency and take corresponding measures, a first ammonia sensor is installed at the first inlet 311 of the first gas cleaning unit 310 to measure the ammonia concentration of gas containing fine dust and odorous substances. is installed and the ammonia concentration of the gas finally discharged after wet purification through the first gas cleaning unit 310 and the second gas cleaning unit 330 is measured at the second exhaust port 332 of the second gas cleaning unit 330. A second ammonia sensor may be installed to measure.

제 1 및 제 2 암모니아센서의 측정값에 따라 전술한 제 1 미세기포분산유닛(320), 제 2 미세기포분산유닛(340) 및 전기분해유닛(350)의 작동이 제어되는 것이 바람직하다.It is preferable that the operation of the above-described first microbubble dispersion unit 320, second microbubble dispersion unit 340, and electrolysis unit 350 is controlled according to the measured values of the first and second ammonia sensors.

또한 제 1 가스세정유닛(310)과 제 2 가스세정유닛(330)의 하단에는 부상분리조(360)가 연결되는 것이 바람직하다. 부상분리조(360)는 오염된 세정수로부터 이물질과 슬러지를 제거한 후 순환공급함에 따라 세정수의 교체주기가 더 길게 연장시키는 역할을 한다.In addition, it is preferable that a floating separation tank 360 is connected to the lower ends of the first gas cleaning unit 310 and the second gas cleaning unit 330. The flotation separator 360 serves to extend the replacement cycle of the washing water by circulating and supplying it after removing foreign substances and sludge from the contaminated washing water.

이러한 부상분리조(360)는 제 1 가스세정유닛(310)과 제 2 가스세정유닛(330)로부터 유입되는 세정수에 예를 들어 나노버블과 같은 미세기포를 분사하여 이물질을 상부로 부상시킨 다음 예를 들어 컨베이어형 스크레이퍼와 같이 일방향으로 단속 이동되는 스크레이퍼를 통해 이물질을 분리제거함과 동시에 예를 들어 나노버블과 같은 미세기포에 의한 부상력에도 불구하고 바닥에 침전된 슬러지를 외부로 분리배출시킴에 따라 오염된 세정수를 정화시킨 다음, 이물질과 슬러지가 제거된 세정수를 다시 제 1 가스세정유닛(310)과 제 2 가스세정유닛(330)으로 다시 공급하는 구성을 가진다. This flotation separation tank 360 sprays fine bubbles, such as nanobubbles, into the cleaning water flowing in from the first gas cleaning unit 310 and the second gas cleaning unit 330 to float foreign substances to the top. For example, foreign substances are separated and removed through a scraper that moves intermittently in one direction, such as a conveyor-type scraper, and at the same time, sludge settled on the floor is separated and discharged to the outside despite the levitation force caused by fine bubbles such as nanobubbles. After purifying the contaminated washing water, the washing water from which foreign substances and sludge have been removed is supplied back to the first gas cleaning unit 310 and the second gas cleaning unit 330.

부상분리조(360) 내로 분사된 나노버블은 오염된 세정수와 최대 표면적으로 반응하여 세정수를 정화시키는 역할을 한다. 또한 부상분리조(360) 내로는 세정수를 정화시키기 위한 약품이 추가로 투입될 수 있다. The nanobubbles sprayed into the flotation separator 360 react with the contaminated washing water with a maximum surface area and serve to purify the washing water. Additionally, chemicals for purifying the washing water may be additionally added into the flotation separator 360.

또한 부상분리조(360) 내에는 예를 들어 나노버블과 같은 미세기포의 부상속도롤 지연시키기 위한 부상지연부재가 구비될 수 있는데, 이러한 부상지연부재는 예를 들어 다수의 경사판 세트로 형성될 수 있다. In addition, the flotation separation tank 360 may be provided with a flotation delay member to delay the flotation speed of fine bubbles such as nanobubbles. This flotation delay member may be formed, for example, by a set of multiple inclined plates. there is.

전술한 부상분리조(360)는 제 1 가스세정유닛(310)과 제 2 가스세정유닛(330)의 하단에 동시에 연결될 수도 있고, 제 1 가스세정유닛(310)과 제 2 가스세정유닛(330)의 하단에 각각 연결될 수도 있다. 또한 부상분리조(360)는 단일 개수만 설치될 수도 있고, 2개 이상이 직렬로 연결되어 다단설치될 수도 있다.The above-mentioned floating separation tank 360 may be connected to the lower ends of the first gas cleaning unit 310 and the second gas cleaning unit 330 at the same time, and the first gas cleaning unit 310 and the second gas cleaning unit 330 ) can also be connected to the bottom of each. In addition, only a single number of flotation separators 360 may be installed, or two or more may be connected in series and installed in multiple stages.

본 발명의 제 3 실시예에 따른 가스세정장치(300)가 예를 들어 부숙 퇴비화시설, 하수처리시설, 소각장, 음식물쓰레기 처리시설, 쓰레기 매립장, 정유공장, 화학공장, 축산폐수 처리장, 소각처리시설 등과 같은 미세먼지 및 악취 발생원으로부터 발생되는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 세정처리를 위해 적용될 경우에는, 제 1 가스세정유닛(310) 내에서 미세기포가 분산된 세정수가 분사되어 집진 및 세정이 이루어진 후 제 2 가스세정유닛(330) 내에서 미세기포가 분산됨과 동시에 산성수의 혼합에 따라 산성화된 세정수와 알칼리수의 혼합에 따라 알칼리화된 세정수가 각 파이프에서 순차적으로 분사됨에 따라 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 대한 집진 및 세정효율이 극대화됨과 동시에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 포함된 염기성계 및 산성계 악취물질도 강산성 및 강알칼리 약품의 사용 없이 효과적으로 세정될 수 있게 된다.The gas cleaning device 300 according to the third embodiment of the present invention can be used, for example, in composting facilities, sewage treatment facilities, incinerators, food waste treatment facilities, landfills, oil refineries, chemical plants, livestock wastewater treatment plants, and incineration treatment facilities. When applied for cleaning treatment of gas containing fine dust and odorous substances generated from fine dust and odor generating sources such as the like, cleaning water in which fine bubbles are dispersed is sprayed within the first gas cleaning unit 310 to collect and clean the dust. Afterwards, the fine bubbles are dispersed within the second gas cleaning unit 330, and at the same time, the cleaning water, which has been made alkalized by mixing acidic water and alkaline water, is sequentially sprayed from each pipe, thereby removing fine dust and odorous substances. The dust collection and cleaning efficiency of the contained gas is maximized, and at the same time, fine dust and basic and acidic odor substances contained in the odor-containing gas can be effectively cleaned without the use of strong acid or strong alkaline chemicals.

본 발명의 제 3 실시예에 따른 가스세정장치(300)의 경우에는 후단에 나노버블을 이용한 부상분리조(360)가 연결되어 세정수의 교체주기가 더 길게 연장됨에 따라 세정폐수의 발생이 감소됨과 동시에 운영비용이 절감될 수 있게 된다.In the case of the gas cleaning device 300 according to the third embodiment of the present invention, a flotation separator 360 using nanobubbles is connected to the rear end, and the replacement cycle of the cleaning water is extended, thereby reducing the generation of cleaning wastewater. At the same time, operating costs can be reduced.

본 발명의 제 4 실시예에 따른 가스세정장치(400)는 예를 들어 부숙 퇴비화시설, 하수처리시설, 소각장, 음식물쓰레기 처리시설, 쓰레기 매립장, 정유공장, 화학공장, 축산폐수 처리장, 소각처리시설 등과 같은 미세먼지 및 악취 발생원으로부터 발생되는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스를 집진 및 세정하여 미세먼지와 악취물질을 포집 및 제거한 후 대기중으로 배출하는 것으로, 도 8에 도시되는 바와 같이, 일측 하부에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 유입되는 제 1 유입구(411)가.구비되고 상단에 제 1 배기구(412)가 구비되며 내부에는 다수의 격벽(413)이 지그재그형 유로의 형성을 위해 교호적으로 구비되고 내부를 관류하는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 세정수를 분사하는 제 1 분사노즐(414)이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 세정수를 제 1 분사노즐(414)로 공급하는 제 1 세정수라인(415)이 구비되는 제 1 가스세정유닛(410)과, 제 1 세정수라인(415) 상에 설치되고 제 1 세정수라인(415)을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 1 미세기포분산유닛(420)과, 일측 하부에 제 1 배기구(412)에 연결되는 제 2 유입구(431)가.구비되고 상단에 제 2 배기구(432)가 구비되며 내부에는 2개의 폴링충전층(433)이 상하이격되어 구비되고 폴링충전층(433)의 상부에서 세정수를 각각 하향 분사하는 2개의 제 2 분사노즐(434)이 각각 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 세정수를 2개의 제 2 분사노즐(434)로 공급하는 2개의 제 2 세정수라인(435)이 구비되는 제 2 가스세정유닛(430)과, 제 2 세정수라인(435) 상에 설치되고 제 2 세정수라인(435)을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 2 미세기포분산유닛(440)과, 2개의 제 2 세정수라인(435)에 연결되고 물을 전기분해하여 이온격막을 통해 산성수와 알칼리수로 분리제조하며 산성수와 상기 알칼리수를 2개의 상기 제 2 세정수라인(435)에 분리공급하는 전기분해유닛(450)을 포함한다.The gas cleaning device 400 according to the fourth embodiment of the present invention is, for example, composting facilities, sewage treatment facilities, incinerators, food waste treatment facilities, landfills, oil refineries, chemical plants, livestock wastewater treatment plants, and incineration treatment facilities. It collects and cleans gas containing fine dust and odorous substances generated from fine dust and odor generating sources such as the like, collects and removes the fine dust and odorous substances, and then discharges them into the atmosphere. As shown in FIG. 8, there is a fine dust at the bottom of one side. A first inlet 411 through which gas containing dust and odorous substances flows is provided, and a first exhaust port 412 is provided at the top, and a plurality of partition walls 413 are provided alternately inside to form a zigzag-shaped flow path. and is provided with a first spray nozzle 414 that sprays cleaning water into the gas containing fine dust and odorous substances flowing through the interior, and on the other side, a first spray nozzle 414 that drops to the bottom and supplies the stored cleaning water to the first spray nozzle 414. A first gas cleaning unit 410 provided with a cleaning water line 415, and a first gas cleaning unit 410 installed on the first cleaning water line 415 and dispersing fine bubbles in the cleaning water flowing through the first cleaning water line 415. A first fine bubble dispersion unit 420 is provided, and a second inlet 431 connected to the first exhaust port 412 is provided at the bottom of one side, and a second exhaust port 432 is provided at the top, and there are two polling chargers inside. The layers 433 are arranged vertically apart from each other, and two second spray nozzles 434 are provided to each spray the washing water downward from the upper part of the polling filling layer 433. The other side is provided with two second spray nozzles 434 that drop downward and store the washing water. A second gas cleaning unit 430 is provided with two second cleaning water lines 435 supplied to two second injection nozzles 434, and is installed on the second cleaning water line 435 and supplies second cleaning water. A second microbubble dispersion unit 440, which disperses microbubbles in the washing water flowing through the line 435, is connected to the two second washing water lines 435 and electrolyzes water to produce acidic water through an ion diaphragm. and alkaline water, and includes an electrolysis unit 450 that separately supplies acidic water and alkaline water to the two second washing water lines 435.

또한 제 1 가스세정유닛(410)의 내부 상단에는 제 1 데미스터(416)가 설치되고 제 2 가스세정유닛(430)의 내부 상단에는 제 2 데미스터(436)가 설치될 수 있다.Additionally, a first demister 416 may be installed at the inner top of the first gas cleaning unit 410, and a second demister 436 may be installed at the inner top of the second gas cleaning unit 430.

또한 비록 도시되지는 않았지만 악취제거 효율의 모니터링 및 그에 상응하는 조치를 위해 제 1 가스세정유닛(410)의 제 1 유입구(411)에는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 암모니아 농도를 측정하는 제 1 암모니아센서가 설치되고 제 2 가스세정유닛(430)의 제 2 배기구(432)에는 제 1 가스세정유닛(410)과 제 2 가스세정유닛(430)을 거쳐 습식제정된 후 최종 배출되는 가스의 암모니아 농도를 측정하는 제 2 암모니아센서가 설치될 수 있다.In addition, although not shown, in order to monitor the efficiency of odor removal and take corresponding measures, a first ammonia device is installed at the first inlet 411 of the first gas cleaning unit 410 to measure the ammonia concentration of the gas containing fine dust and odorous substances. A sensor is installed in the second exhaust port 432 of the second gas cleaning unit 430 to measure the ammonia concentration of the gas finally discharged after wet purification through the first gas cleaning unit 410 and the second gas cleaning unit 430. A second ammonia sensor that measures may be installed.

제 1 및 제 2 암모니아센서의 측정값에 따라 전술한 제 1 미세기포분산유닛(420), 제 2 미세기포분산유닛(440) 및 전기분해유닛(450)의 작동이 제어되는 것이 바람직하다.It is preferable that the operation of the above-described first microbubble dispersion unit 420, second microbubble dispersion unit 440, and electrolysis unit 450 is controlled according to the measured values of the first and second ammonia sensors.

또한 제 1 가스세정유닛(410)과 제 2 가스세정유닛(430)의 하단에는 부상분리조(460)가 연결되는 것이 바람직하다. 부상분리조(460)는 오염된 세정수로부터 이물질과 슬러지를 제거한 후 순환공급함에 따라 세정수의 교체주기가 더 길게 연장시키는 역할을 한다.In addition, it is preferable that a floating separation tank 460 is connected to the lower ends of the first gas cleaning unit 410 and the second gas cleaning unit 430. The flotation separator 460 serves to extend the replacement cycle of the washing water by circulating and supplying it after removing foreign substances and sludge from the contaminated washing water.

이러한 부상분리조(460)는 제 1 가스세정유닛(410)과 제 2 가스세정유닛(430)로부터 유입되는 세정수에 예를 들어 나노버블과 같은 미세기포를 분사하여 이물질을 상부로 부상시킨 다음 예를 들어 컨베이어형 스크레이퍼와 같이 일방향으로 단속 이동되는 스크레이퍼를 통해 이물질을 분리제거함과 동시에 예를 들어 나노버블과 같은 미세기포에 의한 부상력에도 불구하고 바닥에 침전된 슬러지를 외부로 분리배출시킴에 따라 오염된 세정수를 정화시킨 다음, 이물질과 슬러지가 제거된 세정수를 다시 제 1 가스세정유닛(410)과 제 2 가스세정유닛(430)으로 다시 공급하는 구성을 가진다. This flotation separation tank 460 sprays fine bubbles, such as nanobubbles, into the cleaning water flowing in from the first gas cleaning unit 410 and the second gas cleaning unit 430 to float foreign substances to the top. For example, foreign substances are separated and removed through a scraper that moves intermittently in one direction, such as a conveyor-type scraper, and at the same time, sludge settled on the floor is separated and discharged to the outside despite the levitation force caused by fine bubbles such as nanobubbles. After purifying the contaminated washing water, the washing water from which foreign substances and sludge have been removed is supplied back to the first gas cleaning unit 410 and the second gas cleaning unit 430.

부상분리조(460) 내로 분사된 나노버블은 오염된 세정수와 최대 표면적으로 반응하여 세정수를 정화시키는 역할을 한다. 또한 부상분리조(460) 내로는 세정수를 정화시키기 위한 약품이 추가로 투입될 수 있다. The nanobubbles sprayed into the flotation separator 460 react with the contaminated washing water with a maximum surface area and serve to purify the washing water. Additionally, chemicals for purifying the washing water may be additionally added into the flotation separator 460.

또한 부상분리조(460) 내에는 예를 들어 나노버블과 같은 미세기포의 부상속도롤 지연시키기 위한 부상지연부재가 구비될 수 있는데, 이러한 부상지연부재는 예를 들어 다수의 경사판 세트로 형성될 수 있다. In addition, the flotation separation tank 460 may be provided with a flotation delay member to delay the flotation speed of fine bubbles such as nanobubbles. This flotation delay member may be formed, for example, by a set of multiple inclined plates. there is.

전술한 부상분리조(460)는 제 1 가스세정유닛(410)과 제 2 가스세정유닛(430)의 하단에 동시에 연결될 수도 있고, 제 1 가스세정유닛(410)과 제 2 가스세정유닛(430)의 하단에 각각 연결될 수도 있다. 또한 부상분리조(460)는 단일 개수만 설치될 수도 있고, 2개 이상이 직렬로 연결되어 다단설치될 수도 있다.The above-mentioned floating separation tank 460 may be connected to the lower ends of the first gas cleaning unit 410 and the second gas cleaning unit 430 at the same time, and the first gas cleaning unit 410 and the second gas cleaning unit 430 ) can also be connected to the bottom of each. Additionally, only a single number of floating separators 460 may be installed, or two or more may be connected in series and installed in multiple stages.

전술한 본 발명의 제 4 실시예에 따른 가스세정장치(400)는 제 1 가스세정유닛(410) 내에 폴링충전층 대신에 지그재그식 유로를 형성하는 격벽(413)이 설치되고 제 1 분사노즐(414)이 폴링충전층이 아니라 격벽(413)에 의해 형성된 지그재그형 유로를 관류하는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 세정수를 분사하는 점에서만 차이가 있을 뿐, 전술한 본 발명의 제 3 실시예에 따른 가스세정장치(300)와 동일하므로, 명세서의 간략화를 위해 더 이상의 중복설명은 생략하기로 한다.The gas cleaning device 400 according to the fourth embodiment of the present invention described above includes a partition wall 413 forming a zigzag flow path instead of a falling filling layer in the first gas cleaning unit 410, and a first injection nozzle ( The third embodiment of the present invention described above differs only in that the cleaning water is sprayed on the gas containing fine dust and odorous substances flowing through the zigzag-shaped flow path formed by the partition wall 413 rather than the polling filling layer (414). Since it is the same as the gas cleaning device 300 according to, further redundant description will be omitted to simplify the specification.

본 발명의 제 4 실시예에 따른 가스세정장치(400)가 예를 들어 부숙 퇴비화시설, 하수처리시설, 소각장, 음식물쓰레기 처리시설, 쓰레기 매립장, 정유공장, 화학공장, 축산폐수 처리장, 소각처리시설 등과 같은 미세먼지 및 악취 발생원으로부터 발생되는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스의 세정처리를 위해 적용될 경우에는, 제 1 가스세정유닛(410) 내에서 미세기포가 분산된 세정수가 분사되어 집진 및 세정이 이루어진 후 제 2 가스세정유닛(430) 내에서 미세기포가 분산됨과 동시에 산성수의 혼합에 따라 산성화된 세정수와 알칼리수의 혼합에 따라 알칼리화된 세정수가 각 파이프에서 순차적으로 분사됨에 따라 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 대한 집진 및 세정효율이 극대화됨과 동시에 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 포함된 염기성계 및 산성계 악취물질도 강산성 및 강알칼리 약품의 사용 없이 효과적으로 세정될 수 있게 된다.The gas cleaning device 400 according to the fourth embodiment of the present invention is used, for example, in composting facilities, sewage treatment facilities, incinerators, food waste treatment facilities, landfills, oil refineries, chemical plants, livestock wastewater treatment plants, and incineration treatment facilities. When applied for cleaning treatment of gas containing fine dust and odor substances generated from fine dust and odor generating sources such as the like, cleaning water in which fine bubbles are dispersed is sprayed within the first gas cleaning unit 410 to collect and clean the dust. Afterwards, the fine bubbles are dispersed within the second gas cleaning unit 430, and at the same time, the cleaning water, which has been made alkaline by mixing acidic water and alkaline water, is sequentially sprayed from each pipe, thereby removing fine dust and odorous substances. The dust collection and cleaning efficiency of the contained gas is maximized, and at the same time, fine dust and basic and acidic odor substances contained in the odor-containing gas can be effectively cleaned without the use of strong acid or strong alkaline chemicals.

본 발명의 제 4 실시예에 따른 가스세정장치(400)의 경우에는 후단에 나노버블을 이용한 부상분리조(460)가 연결되어 세정수의 교체주기가 더 길게 연장됨에 따라 세정폐수의 발생이 감소됨과 동시에 운영비용이 절감될 수 있게 된다.In the case of the gas cleaning device 400 according to the fourth embodiment of the present invention, a flotation separator 460 using nanobubbles is connected to the rear end, so that the replacement cycle of the cleaning water is extended, thereby reducing the generation of cleaning wastewater. At the same time, operating costs can be reduced.

이상에서 본 발명은 실시예를 중심으로 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail above with reference to embodiments, it is obvious to those skilled in the art that various changes and modifications are possible within the technical scope of the present invention, and it is natural that such changes and modifications fall within the scope of the appended patent claims.

100, 200, 300, 400 : 가스세정장치
110, 210, 310, 410 : 제 1 가스세정유닛
111, 211, 311, 411 : 제 1 유입구
112, 212, 312, 412 : 제 1 배기구
113, 313 : 제 1 폴링충전층
213, 413 : 격벽
114, 214, 314, 414 : 제 1 분사노즐
115, 215, 315, 415 : 제 1 세정수라인
116, 216, 316, 416 : 제 1 데미스터
120, 220, 320, 420 : 제 1 미세기포분산유닛
130, 230 : 제 1 약액공급유닛
140, 240, 330, 430 : 제 2 가스세정유닛
141, 241, 331, 431 : 제 2 유입구
142, 242, 332, 432 : 제 2 배기구
143, 333 : 제 2 폴링충전층
243, 433 : 폴링충전층
144, 244, 334, 434 : 제 2 분사노즐
145, 245, 335, 435 : 제 2 세정수라인
146, 246, 336, 436 : 제 2 데미스터
150, 250, 340, 440 : 제 2 미세기포분산유닛
350, 450 : 전기분해유닛
360, 460 : 부상분리조
100, 200, 300, 400: Gas cleaning device
110, 210, 310, 410: 1st gas cleaning unit
111, 211, 311, 411: first inlet
112, 212, 312, 412: first exhaust port
113, 313: first polling charge layer
213, 413: Bulkhead
114, 214, 314, 414: First injection nozzle
115, 215, 315, 415: 1st washing water line
116, 216, 316, 416: 1st demister
120, 220, 320, 420: 1st fine bubble dispersion unit
130, 230: First chemical supply unit
140, 240, 330, 430: 2nd gas cleaning unit
141, 241, 331, 431: second inlet
142, 242, 332, 432: second exhaust port
143, 333: second polling charge layer
243, 433: Polling charging layer
144, 244, 334, 434: Second injection nozzle
145, 245, 335, 435: 2nd washing water line
146, 246, 336, 436: 2nd demister
150, 250, 340, 440: 2nd fine bubble dispersion unit
350, 450: Electrolysis unit
360, 460: Flotation separation tank

Claims (19)

일측 하부에 제1암모니아센서가 설치되어 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 유입되는 제 1 유입구가.구비되고 상단에 제 1 배기구가 구비되며 내부에는 제 1 폴링충전층이 구비되고 상기 제 1 폴링충전층의 상부에는 세정수를 하향 분사하는 제 1 분사노즐이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 상기 제 1 분사노즐로 공급하는 제 1 세정수라인이 구비되는 제 1 가스세정유닛;
상기 제 1 세정수라인 상에 설치되고 상기 제 1 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 1 미세기포분산유닛;
일측 하부에 상기 제 1 배기구에 연결되는 제 2 유입구가.구비되고 상단에 제2 암모니아 센서가 설치된 제 2 배기구가 구비되며 내부에는 제 2 폴링충전층이 구비되고 상기 제 2 폴링충전층의 상부에는 세정수를 하향 분사하는 제 2 분사노즐이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 상기 제 2 분사노즐로 공급하는 제 2 세정수라인이 구비되는 제 2 가스세정유닛;
상기 제 2 세정수라인 상에 설치되고 상기 제 2 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 2 미세기포분산유닛;
상기 제 1 세정수라인에 연결되고 상기 제 1 세정수라인을 관류하는 세정수에 제 1 약액을 공급하는 제 1 약액공급유닛; 및
상기 제 2 세정수라인에 연결되고 상기 제 2 세정수라인을 관류하는 세정수에 제 2 약액을 공급하는 제 2 약액공급유닛;으로 구성되고
상기 제 1 미세기포분산유닛과 상기 제 1 약액공급유닛, 상기 제 2 미세기포분산유닛과 상기 제 2 약액공급유닛은 상기 제 1 및 제 2 암모니아센서의 측정값에 따라 작동제어 되는 것을 특징으로 하는 가스세정장치.
A first ammonia sensor is installed at the bottom of one side to provide a first inlet through which gas containing fine dust and odorous substances flows, a first exhaust port is provided at the top, and a first polling charging layer is provided inside, and the first polling charging A first gas cleaning unit having a first spray nozzle that sprays cleaning water downward at the top of the layer and a first cleaning water line on the other side that supplies the cleaning water that falls downward and is stored to the first spray nozzle;
a first microbubble dispersion unit installed on the first cleansing water line and dispersing microbubbles in the cleansing water flowing through the first cleansing water line;
A second inlet connected to the first exhaust port is provided at the lower part of one side, and a second exhaust port with a second ammonia sensor is installed at the top. A second polling charge layer is provided inside, and an upper portion of the second polling charge layer is provided. A second gas cleaning unit provided with a second spray nozzle that sprays cleaning water downward, and a second gas cleaning unit provided on the other side with a second cleaning water line that supplies the cleaning water that falls downward and is stored to the second spray nozzle;
a second microbubble dispersion unit installed on the second washing water line and dispersing microbubbles in the washing water flowing through the second washing water line;
a first chemical solution supply unit connected to the first cleaning water line and supplying a first chemical solution to the cleaning water flowing through the first cleaning water line; and
A second chemical solution supply unit connected to the second cleaning water line and supplying a second chemical solution to the cleaning water flowing through the second cleaning water line.
The first fine bubble dispersion unit, the first chemical solution supply unit, the second fine bubble dispersion unit, and the second chemical solution supply unit are controlled according to the measured values of the first and second ammonia sensors. Gas cleaning device.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 제 1 약액은 수산화나트륨 수용액이고 상기 제 2 약액은 염소계 산화제인 것을 특징으로 하는 가스세정장치.
In claim 1,
A gas cleaning device, wherein the first chemical solution is an aqueous sodium hydroxide solution and the second chemical solution is a chlorine-based oxidizing agent.
청구항 1에 있어서,
상기 제 1 약액과 상기 제 2 약액은 계면활성제인 것을 특징으로 하는 가스세정장치.
In claim 1,
A gas cleaning device, characterized in that the first chemical liquid and the second chemical liquid are surfactants.
청구항 1에 있어서,
상기 제 1 가스세정유닛의 내부 상단에는 제 1 데미스터가 설치되고 상기 제 2 가스세정유닛의 내부 상단에는 제 2 데미스터가 설치되는 것을 특징으로 하는 가스세정장치.
In claim 1,
A gas cleaning device, characterized in that a first demister is installed at the inner top of the first gas cleaning unit and a second demister is installed at the inner top of the second gas cleaning unit.
삭제delete 삭제delete 일측 하부에 제1 암모니아 센서가 설치되어 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 유입되는 제 1 유입구가.구비되고 상단에 제 1 배기구가 구비되며 내부에는 다수의 격벽이 지그재그형 유로의 형성을 위해 교호적으로 구비되고 내부를 관류하는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 세정수를 분사하는 제 1 분사노즐이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 상기 제 1 분사노즐로 공급하는 제 1 세정수라인이 구비되는 제 1 가스세정유닛;
상기 제 1 세정수라인 상에 설치되고 상기 제 1 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 1 미세기포분산유닛;
일측 하부에 상기 제 1 배기구에 연결되는 제 2 유입구가.구비되고 상단에 제2 암모니아 센서가 설치된 제 2 배기구가 구비되며 내부에는 폴링충전층이 구비되고 상기 폴링충전층의 상부에는 세정수를 하향 분사하는 제 2 분사노즐이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 상기 제 2 분사노즐로 공급하는 제 2 세정수라인이 구비되는 제 2 가스세정유닛;
상기 제 2 세정수라인 상에 설치되고 상기 제 2 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 2 미세기포분산유닛;
상기 제 1 세정수라인에 연결되고 상기 제 1 세정수라인을 관류하는 세정수에 제 1 약액을 공급하는 제 1 약액공급유닛; 및
상기 제 2 세정수라인에 연결되고 상기 제 2 세정수라인을 관류하는 세정수에 제 2 약액을 공급하는 제 2 약액공급유닛;을 포함하고,
상기 제 1 미세기포분산유닛과 상기 제 1 약액공급유닛, 상기 제 2 미세기포분산유닛과 상기 제 2 약액공급유닛은 상기 제 1 및 제 2 암모니아 센서의 측정값에 따라 작동제어되는 것을 특징으로 하는 가스세정장치.
A first ammonia sensor is installed at the bottom of one side to provide a first inlet through which gas containing fine dust and odorous substances flows in. A first exhaust port is provided at the top, and a plurality of partition walls are alternately formed inside to form a zigzag-shaped flow path. It is provided with a first spray nozzle that sprays cleansing water into the gas containing fine dust and odorous substances flowing through the interior, and on the other side, a first cleansing water device that drops to the bottom and supplies the stored cleansing water to the first spray nozzle. A first gas cleaning unit provided with a line;
a first microbubble dispersion unit installed on the first cleansing water line and dispersing microbubbles in the cleansing water flowing through the first cleansing water line;
A second inlet connected to the first exhaust port is provided at the lower part of one side, and a second exhaust port with a second ammonia sensor installed at the top is provided. A polling charge layer is provided inside, and the washing water is directed downward to the top of the polling charge layer. A second gas cleaning unit provided with a second spray nozzle for spraying, and a second gas cleaning unit provided on the other side with a second cleaning water line for supplying the cleaning water stored by falling to the bottom to the second spray nozzle;
a second microbubble dispersion unit installed on the second washing water line and dispersing microbubbles in the washing water flowing through the second washing water line;
a first chemical solution supply unit connected to the first cleaning water line and supplying a first chemical solution to the cleaning water flowing through the first cleaning water line; and
A second chemical solution supply unit connected to the second cleaning water line and supplying a second chemical solution to the cleaning water flowing through the second cleaning water line,
The first fine bubble dispersion unit, the first chemical solution supply unit, the second fine bubble dispersion unit, and the second chemical solution supply unit are controlled according to the measured values of the first and second ammonia sensors. Gas cleaning device.
삭제delete 청구항 8에 있어서,
상기 제 1 약액은 수산화나트륨 수용액이고 상기 제 2 약액은 염소계 산화제인 것을 특징으로 하는 가스세정장치.
In claim 8,
A gas cleaning device, wherein the first chemical solution is an aqueous sodium hydroxide solution and the second chemical solution is a chlorine-based oxidizing agent.
청구항 8에 있어서,
상기 제 1 약액과 상기 제 2 약액은 계면활성제인 것을 특징으로 하는 가스세정장치.
In claim 8,
A gas cleaning device, characterized in that the first chemical liquid and the second chemical liquid are surfactants.
청구항 8에 있어서,
상기 제 1 가스세정유닛의 내부 상단에는 제 1 데미스터가 설치되고 상기 제 2 가스세정유닛의 내부 상단에는 제 2 데미스터가 설치되는 것을 특징으로 하는 가스세정장치.
In claim 8,
A gas cleaning device, characterized in that a first demister is installed at the inner top of the first gas cleaning unit and a second demister is installed at the inner top of the second gas cleaning unit.
삭제delete 삭제delete 일측 하부에 제1암모니아 센서가 설치된 미세먼지 및 악취물질 함유 가스가 유입되는 제 1 유입구가.구비되고 상단에 제 1 배기구가 구비되며 내부에는 다수의 격벽이 지그재그형 유로의 형성을 위해 교호적으로 구비되고 내부를 관류하는 미세먼지 및 악취물질 함유 가스에 세정수를 분사하는 제 1 분사노즐이 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 상기 제 1 분사노즐로 공급하는 제 1 세정수라인이 구비되는 제 1 가스세정유닛;
상기 제 1 세정수라인 상에 설치되고 상기 제 1 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 1 미세기포분산유닛;
일측 하부에 상기 제 1 배기구에 연결되는 제 2 유입구가.구비되고 상단에 제2 암모니아센서가 설치된 제 2 배기구가 구비되며 내부에는 2개의 폴링충전층이 상하이격되어 구비되고 상기 폴링충전층의 상부에서 세정수를 각각 하향 분사하는 2개의 제 2 분사노즐이 각각 구비되며 타측에는 하부로 낙하되어 저장된 상기 세정수를 2개의 상기 제 2 분사노즐로 공급하는 2개의 제 2 세정수라인이 구비되는 제 2 가스세정유닛;
상기 제 2 세정수라인 상에 각각 설치되고 상기 제 2 세정수라인을 관류하는 세정수에 미세기포를 분산시키는 제 2 미세기포분산유닛; 및
2개의 상기 제 2 세정수라인에 연결되고 물을 전기분해하여 이온격막을 통해 산성수와 알칼리수로 분리제조하며 상기 산성수와 상기 알칼리수를 2개의 상기 제 2 세정수라인에 분리공급하는 전기분해유닛;을 포함하되
상기 제 1 미세기포분산유닛, 상기 제 2 미세기포분산유닛 및 상기 전기분해유닛은 상기 제 1 및 제 2 암모니아센서의 측정값에 따라 작동제어되는 것을 특징으로 하는 가스세정장치.
A first inlet through which gas containing fine dust and odorous substances flows in is provided with a first ammonia sensor installed at the lower part of one side, and a first exhaust port is provided at the top. Inside, a plurality of partition walls are alternately formed to form a zigzag-shaped flow path. It is equipped with a first spray nozzle that sprays cleansing water into the gas containing fine dust and odorous substances flowing through the interior, and on the other side, a first cleansing water line that drops to the bottom and supplies the stored cleansing water to the first spray nozzle. A first gas cleaning unit provided with;
a first microbubble dispersion unit installed on the first cleansing water line and dispersing microbubbles in the cleansing water flowing through the first cleansing water line;
A second inlet connected to the first exhaust port is provided at the lower part of one side, and a second exhaust port with a second ammonia sensor is installed at the top. Two polling charging layers are installed vertically apart from each other, and the upper portion of the polling charging layer The device is provided with two second spray nozzles, each of which sprays cleaning water downward, and is provided on the other side with two second cleaning water lines that drop downward and supply the stored cleaning water to the two second spray nozzles. 2 gas cleaning units;
second microbubble dispersion units respectively installed on the second washing water line and dispersing microbubbles in the washing water flowing through the second washing water line; and
An electrolysis unit connected to the two second washing water lines, electrolyzing water to separate acidic water and alkaline water through an ion diaphragm, and separately supplying the acidic water and the alkaline water to the two second washing water lines. Including ;
A gas cleaning device, wherein the first fine bubble dispersion unit, the second fine bubble dispersion unit, and the electrolysis unit are controlled according to the measured values of the first and second ammonia sensors.
청구항 15에 있어서,
상기 제 1 가스세정유닛과 상기 제 2 가스세정유닛의 하단에 연결되고 상기 제 1 가스세정유닛과 상기 제 2 가스세정유닛로부터 유입되는 세정수에 미세기포의 분사를 통해 이물질을 부상시켜 스크레이핑 제거하고 바닥에 침전된 슬러지를 외부로 배출시키며 상기 이물질과 슬러지가 제거된 세정수를 상기 제 1 가스세정유닛과 상기 제 2 가스세정유닛으로 다시 공급하는 부상분리조를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가스세정장치.
In claim 15,
It is connected to the lower ends of the first gas cleaning unit and the second gas cleaning unit, and scrapes foreign substances by levitating them by spraying fine bubbles into the cleaning water flowing from the first gas cleaning unit and the second gas cleaning unit. Characterized in that it further comprises a floating separation tank for discharging the sludge settled on the bottom to the outside and supplying the washing water from which the foreign substances and sludge has been removed back to the first gas cleaning unit and the second gas cleaning unit. Gas cleaning device.
청구항 16에 있어서,
상기 제 1 가스세정유닛의 내부 상단에는 제 1 데미스터가 설치되고 상기 제 2 가스세정유닛의 내부 상단에는 제 2 데미스터가 설치되는 것을 특징으로 하는 가스세정장치.
In claim 16,
A gas cleaning device, characterized in that a first demister is installed at the inner top of the first gas cleaning unit and a second demister is installed at the inner top of the second gas cleaning unit.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101001155B1 (en) 2010-06-28 2010-12-15 지테크 주식회사 Multi-stage chemical cleaning apparatus for remove high concentration of complex odor

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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