KR102673802B1 - 릴 타입 도금장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 릴 타입 도금장치에 관한 것이다.
이러한 본 발명의 실시예에 따르면, 공급풀리에 감겨있는 릴을 언코일러를 통해 상기 릴을 풀어 공급하는 릴 공급부, 상기 릴 공급부로부터 일정 길이만큼 이격되어 구비되며, 상기 공급된 릴을 회수하여 회수풀리에 감는 릴 회수부 및 상기 릴 공급부와 상기 릴 회수부 사이에 구비되며, 상기 릴을 도금하는 릴 도금부를 포함한다.
이러한 본 발명의 실시예에 따르면, 공급풀리에 감겨있는 릴을 언코일러를 통해 상기 릴을 풀어 공급하는 릴 공급부, 상기 릴 공급부로부터 일정 길이만큼 이격되어 구비되며, 상기 공급된 릴을 회수하여 회수풀리에 감는 릴 회수부 및 상기 릴 공급부와 상기 릴 회수부 사이에 구비되며, 상기 릴을 도금하는 릴 도금부를 포함한다.
Description
본 발명은 릴 타입 도금장치에 관한 것이다.
일반적으로 내열성 강화, 내부식성 강화 등 여러 목적에 의해 강판 표면에 피막을 형성하는데, 강판(steel sheet)을 코팅하여 피막을 형성하기 위한 방법에는 여러 가지가 있으나, 코일 상태에서 연속적으로 코팅 작업을 수행하기 위해, 코팅하고자 하는 물질이 포함된 코팅 용액이 저장되어 있는 도금조에 강판을 통과시키는 방식이 주로 사용된다.
이러한 도금 방식의 경우, 사용자가 도금이 필요한 원자재를 도금액, 세수등의 동작을 지속적으로 진행해야해서 도금의 효율을 줄이게 된다.
본 발명의 배경이 되는 기술은 대한민국 특허등록 제10-1481606호(2015.01.12. 공고)에 개시되어 있다.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 도출된 것으로, 작은 공간에서 릴 타입 소재의 도금을 끊김없이 진행하도록 하기 위한 릴 타입 도금장치의 제공을 목적으로 한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 공급풀리에 감겨있는 릴을 언코일러를 통해 상기 릴을 풀어 공급하는 릴 공급부, 상기 릴 공급부로부터 일정 길이만큼 이격되어 구비되며, 상기 공급된 릴을 회수하여 회수풀리에 감는 릴 회수부 및상기 릴 공급부와 상기 릴 회수부 사이에 구비되며, 상기 릴을 도금하는 릴 도금부를 포함한다.
상기 릴 도금부는 적어도 하나 이상의 구역으로 각각 구분되며, 상기 각각의 구역은 복수의 3개의 단으로 형성되며, 상기 3개의 단은 턴 방식으로 형성될 수 있다.
상기 릴 도금부는 턴1단, 턴2단 및 턴3단으로 형성되며, 상기 턴1단은 전해탈지 구역, 전극수세구역, 산화처리구역, 초음파 세척 구역으로 형성되고, 상기 턴2단은 제1고속니켈 도금구역, 제2고속니켈 도금구역으로 형성되며, 상기 턴3단은 금 도금구역, 수세 및 봉공 구역으로 형성될 수 있다.
상기 릴 도금부는 상기 턴3단의 하측에는 사용된 용액을 처리하는 수세틀 및 상기 수세틀에서 처리가 완료된 폐수를 수용하는 폐수조를 더 포함할 수 있다.
상기 방법 및 특징을 갖는 본 발명에 따르면, 릴 공급부, 릴 도금부 및 릴 회수부가 하나의 장치로 결합되어 있어 좁은 공간에 배치하여 사용할 수 있다.
또한, 릴 도금부는 복수의 단으로 형성되어 릴 타입 소재를 도금함으로써, 일열로 배치되어 도금되는 방법보다 작은 면적에서 도금을 빠르게 진행시킬 수 있다.
또한, 도금 방법에 따라 릴 도금부의 구역을 변경하여 사용할 수 있어, 복수의 도금 방법에 대해 대응되어 사용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 도금장치를 설명하기 위한 구성도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 릴 도금부를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 수세틀 및 폐수조를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 릴 도금부를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 수세틀 및 폐수조를 나타낸 도면이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 구현예(態樣, aspect)(또는 실시예)들을 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 구현예(태양, 態樣, aspect)(또는 실시예)를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, ~포함하다~ 또는 ~이루어진다~ 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
본 명세서에서 기재한 ~제1~, ~제2~ 등은 서로 다른 구성 요소들임을 구분하기 위해서 지칭할 것일 뿐, 제조된 순서에 구애받지 않는 것이며, 발명의 상세한 설명과 청구범위에서 그 명칭이 일치하지 않을 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 도금장치를 설명하기 위한 구성도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 릴 도금부를 설명하기 위한 도면이며, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 수세틀 및 폐수조를 나타낸 도면이다.
도 1 내지 도 3에서 나타낸 것처럼, 본 발명의 실시예에 따른 도금장치(100)는 릴 공급부(110), 릴 도금부(120) 및 릴 회수부(130)를 포함한다. 이러한 도금장치(100)를 릴을 이동시키면서 릴의 표면에 도금을 제공하기 위한 것으로, 릴의 이동의 멈춤없이 릴을 복수번 도금하는 것이다.
릴 공급부(110)는 타래 형태로 공급풀리에 감겨있는 릴을 언코일러를 통해 릴을 풀어 릴 도금부(120)측으로 공급한다. 이때, 릴은 릴타입 소재로써, 공급풀리에 타래형태로 감겨있는 소재이며, 지속적으로 공급풀리가 풀리게되어 릴 도금부 측으로 제공되게 된다. 또한, 공급풀리에 감겨있는 릴은 언코일러를 통해 풀려지게되며, 언코일러를 지나간 릴은 곡률을 포함하지 않도록 직선형태를 가지도록 형성될 수 있다. 이러한 언코일러를 통해 공급풀리에 감겨있는 릴을 풀어 후술할 릴 도금부(120)에서 릴의 표면에 도금을 더욱 원활하게 제공할 수 있다.
다음으로, 릴 도금부(120)는 턴1단(121), 턴2단(122) 및 턴3단(123)으로 복수개가 형성되며, 각각의 턴1단(121), 턴2단(122) 및 턴3단(123)에는 서로 다른 단계를 진행시키기 위해 서로 다른 복수의 구역으로 형성된다.
먼저, 턴1단(121)은 전해탈지 구역, 전극수세구역, 산화처리구역, 초음파 세척 구역으로 형성되고, 턴2단(122)은 제1고속니켈 도금구역, 제2고속니켈 도금구역으로 형성되며, 턴3단(123)은 금 도금구역, 수세 및 봉공 구역으로 형성된다.
먼저, 전해탈지 구역은 릴 소재의 오염물의 제거와 동시에 금속표면을 활성화하는 것으로, 주로 알칼리 탈지 방법인 직류, 교류 및 PR 전류로 전해하며 탈지한다. 이러한 전해탈지 구역은 릴 소재의 표면상의 오물을 완전히 제거하면서 금속표면을 활성화하는 데 있으며, 활성화는 부품을 양극에서 전해하여 이루어진다. 즉, 양극에서 발생하는 산소가 오물을 파고 들어가서 이들 오염물의 제거를 촉진한다. 그리고 양극전해로는 도금밀착성을 방해하는 불순금속의 전착을 방지할 수 있다. 또한, 릴소재가 열처리한 제품이나 용접한 부품 기타 산화막이 있는 경우 산화막의 정도에 따라 2중 전해법을 사용하는데 이 경우 양극전해 한 (필요시 전처리한 후에) 다음에 산세에서 산화막을 제거하고 산세에서 생긴 스마트를 제2전해탈지 (최종탈지)에서 제거한다. 처음의 전해탈지 구역은 스케일 제거 시에 방해가 되는 유지 및 오물을 미리 제거하기 위한 것이다.
다음으로, 전극수세구역은 전해탈지의 후처리 공정으로 로 엷은 산세액에 침적하여 알칼리 잔유물을 중화한다. 즉, 전해 탈지된 릴타입 소재의 경우, 알칼리성을 가지고 있으며, 알칼리성이 릴 타입 소재에 지속적으로 존재하는 경우, 추후 도금시 도금에 문제가 있어 산성액을 이용하여 알칼리성을 중화시킨다.
다음으로, 산화처리구역은 릴 타입 소재에 산화피막을 형성하기 위해 사용하고, 초음파 세척구역은 초음파를 통해 릴타입 소재를 세척한다.
다음으로, 제1고속니켈도금 구역은 릴 타입 소재의 내식성을 제공하고, 경도를 향상시키기 위해 수행하는 것으로, 니켈 이온이 전류를 통해 릴 타입 소재의 표면에 증착되는 전기 도금이다. 이러한 고속니켈도금을 통해 릴 타입 소재를 1차 코팅할 수 있다. 그리고 제1고속니켈도금구역이 종료되면, 릴 타입 소재를 수세하기 위해 앞서 전극 수세구역에서 사용된 수세액과 동일한 수세액을 이용하여 수세한다. 이때, 제1고속니켈도금은 니켈 도금을 30초 이내로 도금을 진행할 수 있다. 이렇게 도금이 진행됨에 따라 니켈도금의 속도를 향상시킬 수 있다.
다음으로, 제2고속니켈도금 구역은 제1니켈도금구역과 마찬가지로 니켈을 이용하여 도금을 더 진행한다. 도 2에서 나타낸 것과 같이 제1고속니켈도금구역에 비해 제2고속니켈도금구역이 길게 형성되는데 이는 제2고속니켈도금을 통해 릴 타입 소재에 니켈을 도금시키기 위함이다.
그리고 제2고속니켈도금 구역이 종료되면, 전극수세 및 초음파 수세를 통해 릴타입 소재의 표면에 존재하는 이물질을 제거한다.
다음으로, 금 도금구역은 금을 이용하여 도금하는 구역으로, 니켈 도금이 완료된 릴 타입 소재에 금을 도금한다. 금을 도금하는 것은 릴 타입 소재의 전도성을 증가시키기 위해 사용된다.
또한, 금 도금이 완료되면, 수세 및 보공구역으로 릴 타입 소재가 이동하는데 이는 금 도금이 완료된 릴 타입 소재의 표면을 세정하고, 릴 타입 소재의 표면에 존재하는 도금된 원료들이 외부로의 반출을 최소화 시키시기 위해 봉공을 진행한다.
또한, 릴 도금부(120)는 턴3단(123)의 하측에 사용된 용액을 처리하는 수세틀(124)와 수세틀(124)에서 처리가 완료된 폐수를 수용하는 폐수조(125)를 포함할 수 있다. 이러한 수세틀(124)는 앞서 도금구역에서 사용된 도금액을 재처리하여, 재사용할 수 있는 용액의 경우, 도금구역에서 재사용하고, 재처리가 불가능한 도금액은 폐수조(125) 측으로 용액을 제공한다. 그러면, 사용자는 페수조(125)가 일정량을 초과한 경우, 폐수조(125)를 교체하여 재사용할 수 있으며, 수세틀(124)도 동일하게 처리용량을 넘게되면 교체하여 사용할 수 있다.
다음으로, 릴 회수부(130)는 릴 도금부(120)를 통해 도금이 완료된 릴 타입 소재를 건조시킴과 동시에 리코일러에 감아 타래형태로 감는다.
이러한 릴 공급부(110)와 릴 회수부(130)는 동일한 속도로 릴 타입 소재를 공급 및 회수하게 되며, 바람직하게는 35m/min(분당 35m)의 이동속도를 제공할 수 있다. 이때, 릴 공급부(110)와 릴 회수부(130)의 속도가 다르게 형성되는 경우에는 릴 타입 소재의 공급이 불안정하게 되어 릴 도금을 방해할 수 있으며, 도금장치(100)의 고장을 유발시킬 수 있다.
또한, 본 발명에서 릴 도금부(120)는 턴1단(121), 턴2단(122) 및 턴3단(123)에 복수의 다른 단계를 진행하기 위한 구역이 설정되어 동작하지만, 도금의 종류가 변경되는 경우, 구역을 재배치하여 다른 도금을 진행할 수 있다. 즉, 릴 도금부(120)는 턴1단(121), 턴2단(122) 및 턴3단(123)의 구역을 변경하여 제공할 수 있다. 이렇게 도금방법에 따라 릴 도금부(120)의 각각의 단을 변경하여 제공할 수 있어, 복수의 도금방법에 대응될 수 있다.
그리고 도 1에서 나타낸 것과 같이 재생장치를 포함할 수 있는데 본원 발명에서의 재생장치는 사용된 용액을 필터를 통해 정수를 진행하고, 정수가 완료된 용액을 다시 릴도금부(120)에 제공한다. 이렇게 재생장치를 통해 용액을 재사용함에따라 도금시 발생하는 폐수의 양을 줄일 수 있다.
또한, 본원발명의 도금장치(100)는 자동으로 제어가 됨으로써, 턴1단, 턴2단 및 턴3단으로 진행할수록 상부에서 하부로 릴이 이동하게 되며, 각각의 단에는 도금 및 수세조를 일체형으로 포함하기 때문에 기존의 독립적으로 도금을 하는 방법보다 빠른 속도로 도금을 진행할 수 있다.
그리고 도 2에서 나타낸 것과 같이 릴이 도금창치로 공급될 때 릴의 텐션을 유지하기 위해 덴서를 이용한다. 이러한 덴서는 복수개의 회전하는 롤러를 포함하고 있으며, 롤러가 회전함에 따라 릴이 롤러의 표면으로 이동하여 릴의 텐션을 유지할 수 있다.
또한, 다른 실시예에 따르면, 각각의 구역의 내부의 표면에 도포되는 코팅층을 포함하고, 코팅층은 제1층 및 제2층으로 형성되며, 제1층은 도금시 발생하는 악취 입자가 적제함의 내부의 표면에 부착되는 것을 방지함과 동시에 일부의 악취 입자는 제거되고, 제2층이 함께 형성됨으로써, 릴 도금부(120)로부터 존재하는 날카로운 기구들(칼같은 것)에 의해 적제함의 내부에 스크래치 또는 파임이 형성되는 것을 억제하여 스크래치나 파임이 있는 곳에 수분이 인입되어 녹이 발생되는 것을 방지할 수 있다. 이러한 제1층은 인산화칼슘 10중량부와, 상기 인산화칼슘 10중량부를 기준으로 하여, 산화칼슘(Cao) 0.3 ~ 0.89중량부와, 황산구리(CuSO45H2O) 0.001 ~ 2.5 중량부와, 유무기산 0.5 ~ 3.0중량부 및 산화은 0.1 ~ 0.15중량부를 포함하고, 제2층은 과불화화합물 10중량부와, 상기 과불화화합물 10중량부를 기준으로 하여, 실리콘알콕시드 0.11중량부와, 옥타데실트리클로로실란을 포함하는 반응성실란 0.5 ~ 2.0 중량부와, 폴리테트라메틸렌글리콜 0.13중량부와, 광중합 개시제 0.1중량부 및 유기용매 2중량부를 포함한다.
먼저, 인산화 칼슘은 후술할 산화칼슘(CaO)의 반응성을 증대시키기 위해 촉매로 사용되며, 인산화 칼슘은 10중량부가 사용되는 것이 바람직한데, 인산화 칼슘이 10중량부보다 작게 사용되는 경우, 후술할 산화칼슘의 반응성을 저하시킬 수 있으며, 인산화 칼슘이 10중량부보다 많이 사용되는 경우, 후술할 산화칼슘의 반응을 더욱 촉진하여 다른 첨가물에 대한 거부반응을 일으킬 수 있다. 그리고 이러한 인산화 칼슘은 수산화아파타이트 또는 칼슘포스페이트등이 사용될 수 있다.
다음으로, 산화칼슘(CaO)은 일반적으로 위생소독용으로 사용되는 것으로, 물과 반응하여 80℃ 이상의 고온을 나타낸다. 상기 인산화칼슘 10중량부를 기준으로 할 때, 0.3 내지 0.89중량부의 산화칼슘의 혼합량이 바람직하다. 상기 인산화칼슘 함량이 0.3 중량부보다 작게 사용되는 경우, 악취를 발생시키는 악취 입자의 멸균력이 떨어지게 되며, 반대로 상기 인산화칼슘 함량이 0.89중량부보다 많이 사용되는 경우, 산화칼슘의 독특한 냄새가 나며 다른 제1층에 존재하는 첨가물에 거부반응이 나타날 수 있다.
다음으로, 황산구리(CuSO45H2O)는 악취를 제거하는 조성물로, 푸른색의 투명한 결정으로 비중은 2.286이다. 건조한 공기 중에서 서서히 수분을 잃고 가루가 된다. 45℃에서 2분자의 물, 110℃에서 4분자의 물, 다시 250℃에서 모든 물분자를 잃고 무색의 무수물이된다. 본 발명의 바람직한 실시예로서, 인산화 칼슘 10 중량부를 기준으로 할 때, 0.001 ~ 2.5 중량부의 황산구리가 함유되는 것이 바람직하다. 이때, 황산구리가 0.001중량부 미만이 사용되는 경우 구리이온의 농도가 낮아 산성취에 대한 탈취효과가 거이 없으며, 반대로 상기 황산구리가 2.5 중량부를 초과하여 사용되는 경우에는 과포화된 황산구리용액으로 결정이 생성되어 본 발명에서 설명하는 악취를 제거하는 효과가 저하된다.
다음으로, 유무기산은 황산구리에 함유되어 있는 구리 및 황산이온을 활성화 시키?z 것으로, 황산, 질산, 염산, 초산, 시트릭산, 살리실산, 주석산, 말레인산, 젖산, 사과산, 아스코빅산등의 유,무기산 중에서 하나 또는 그 이상을 선택하여 혼합 사용할 수 있다. 본 발명의 바람직한 실시예로서, 인산화 칼슘 10 중량부를 기준으로 할 때, 유무기산은 0.5 ~ 3.0중량부가 함유되는 것이 바람직하다. 이러한 유무기산이 0.5 중량부보다 작게 사용되는 경우, 낮은 농도로 악취원에 적용할 때 구리 및 황산이온을 활성화 시키지 못하며, 유무기산이 30중량부보다 많이 사용되는 경우, 황산구리의 용해도를 떨어뜨리게 되어 결정이 석출되며, 이러한 결정이 석출됨으로써, 구리 및 황산이온의 활성화를 저하시킬 수 있다.
다음으로, 산화은은 황산구리의 반응성을 증대시키기 위해 사용되는 것으로, 인산화 칼슘 10 중량부를 기준으로 할 때, 0.1 ~ 0.15중량부의 산화은이 함유되는 것이 바람직하다. 여기서, 상기 산화은이 0.1 중량부보다 적게 사용되는 경우, 황산구리의 반응을 저하시키게 되며, 0.15 중량부보다 많이 사용되는 경우, 황산구리의 용해도를 떨어뜨리게 되어 황산구리의 활성화를 저하시킬 수 있다.
즉, 제1층이 각각의 구역의 내부의 표면에에 형성됨으로써, 산화칼슘이 물과 반응해서 80도 이상의 고온을 발생시킴과 동시에 멸균을 진행 인산화칼슘은 산화칼슘이 반응을 빠르게 제공함과 동시에 황산구리와 유무기산의 반응성을 높게 형성시켜 구리 및 황산이온을 활성화됨에 따라 악취가 제거된다. 이때, 산화 칼슘은 각각의 구역의 내부의 표면에 존재하는 수분에 의해 활성화 되거나, 인입되는 물체에 함유되어 있는 수분을 통해 활성화될 수 있다.
다음으로, 제2층은 각각의 구역의 내부의 표면에 스크래치가 형성되는 것을 방지하고, 스크래치가 형성된 부분에 수분이 들어가는 것을 방지하여 각각의 구역의 내부의 표면에 녹이 발생하는 것을 억제하기 위해 제1층과 각각의 구역의 내부의 표면 사이의 상면에 도포된다. 이러한 제2층은 과불화화합물 10중량부, 상기 과불화화합물 10중량부를 기준으로 할 때, 실리콘알콕시드 0.11중량부, 옥타데실트리클로로실란을 포함하는 반응성실란 0.5 ~ 2.0 중량부 및 폴리테트라메틸렌글리콜 0.13중량부, 광중합 개시제 0.1중량부 및 유기용매 2중량부를 포함한다.
먼저, 과불화화합물은 각각의 구역의 내부의 표면으로 수분 또는 물이 인입되는 것을 방지하기 위한 발수코팅제로써, 무기물로 이루어진 무기향균제를 함께 사용한다. 이러한 과불화화합물은 10중량부가 사용되는 것이 바람직한데, 과불화화합물이 10 중량부보다 작게 사용되는 경우, 발수기능이 저하될 수 있으며, 10 중량부보다 크게 사용되는 경우, 침전물이 형성되어 발수코팅의 코팅력을 상실할 수 있다.
다음으로, 실리콘알콕시드는 과불화화합물을 각각의 구역의 내부의 표면에 결합력을 증대시키기 위해 사용되는 것으로, 상기 과불화화합물 10 중량부를 기준으로 할 때 0.11중량부의 실리콘알콕시드가 사용되는 것이 바람직하다. 상기 실리콘알콕시드가 0.11중량부보다 작게 사용되는 경우, 과불화화합물이 각 구역의 내부 표면에 접착되는 접착성이 저하될 수 있으며, 실리콘알콕시드가 0.11중량부보다 크게 사용되는 경우, 투명성이 저하될 수 있다.
다음으로, 반응성실란은 옥타데실트리클로로실란(CH3(CH2)17SiCl3)을 포함하며, 실리콘알콕시드의 반응을 용이하게 제공하고 임계경사각을 작게 하기 위해 사용한다. 이러한 목적으로 포함되는 반응성 실란은 상기 과불화화합물 10중량부를 기준으로 할 때, 0.5 ~ 2.0 중량부가 사용되는 것이 바람직하다. 상기 반응성실란이 0.5 중량부보다 작게 사용되는 경우, 실리콘알콕시드의 반응성이 저하되며, 2.0중량부보다 많이 사용하는 경우, 임계경사각이 증가하여 반응성이 저하된다.
다음으로, 폴리테트라메틸렌글리콜은 유리전이온도가 50도 이상이며, 경도값이 60이상을 가진다. 즉, 폴리테트라메틸렌글리콜을 이용함으로써, 제2층이 높은 온도인 80도 이상에서도 높은 경도값을 가지게 제공할 수 있다. 상기 폴리테트라메틸렌글리콜은 상기 과불화화합물 10중량부를 기준으로 할 때, 0.13중량부가 사용되는 것이 바람직하다. 만약, 상기 폴리테트라메틸렌글리콜이 0.13중량부보다 크거나 작게 사용되는 경우, 제2층의 유리전이온도와 높은 경도값을 가지기가 힘들다는 단점이 있다.
다음으로, 광중합 개시제는 자외선을 이용하여 경화시키는 것으로, 폴리테트라메틸렌글리콜을 경화시키기 위해 사용되며, 경화속도를 촉진시키기 위해 사용한다. 이러한 광중합 개시제는 상기 과불화화합물 10중량부를 기준으로 할 때, 0.1중량부를 사용하는 것이 바람직하다. 만약 상기 광중합 개시제가 0.1중량부보다 적게 사용되는 경우, 상기한 폴리테트라메틸렌글리콜의 경화가 충분히 형성되지 않으며, 상기 광중합 개시제가 0.1중량부보다 많이 사용되는 경우, 상기 폴리테트라메틸렌글리콜의 경화가 과도하게 촉진되어 원하는 경도 값을 가지기 어렵다.
다음으로, 유기용매는 폴리테트라메틸렌글리콜을 액체상의 물질로 형성시켜 놓기 위해 사용되는 것으로, 에테르, 아세톤 또는 알코올을 포함할 수 있다. 이러한 유기용매는 상기 과불화화합물 10중량부를 기준으로 할 때, 2중량부를 가지는 것이 바람직하다. 만약 상기 유기용매가 2중량부보다 적게 사용되는 경우, 폴리테트라메틸렌글리콜이 액화가 적게 되며, 유기용매가 2중량부보다 많이 사용되는 경우, 폴리테트라메틸렌글리콜의 경화가 느리게 진행되는 문제가있다.
이상에서 첨부된 도면을 참조하여 설명한 본 발명은 통상의 기술자에 의하여 다양한 변형 및 변경이 가능하고, 청구범위를 통해 한정되지 않은 이러한 변형 및 변경은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
100: 도금장치
110: 릴 공급부
120: 릴 도금부
121: 턴1단
122: 턴2단
123: 턴3단
124: 수세틀
125: 폐수조
130: 릴 회수부
110: 릴 공급부
120: 릴 도금부
121: 턴1단
122: 턴2단
123: 턴3단
124: 수세틀
125: 폐수조
130: 릴 회수부
Claims (4)
- 공급풀리에 감겨있는 릴을 언코일러를 통해 상기 릴을 풀어 공급하는 릴 공급부;
상기 릴 공급부로부터 일정 길이만큼 이격되어 구비되며, 상기 공급된 릴을 회수하여 회수풀리에 감는 릴 회수부; 및
상기 릴 공급부와 상기 릴 회수부 사이에 구비되며, 상기 릴을 도금하는 릴 도금부를 포함하되,
상기 릴 도금부의 표면에 도포되는 코팅층을 포함하고,
상기 코팅층은 제1층 및 제2층으로 형성되며,
상기 제1층은 인산화칼슘 10중량부와, 산화칼슘(Cao) 0.3 ~ 0.89중량부와, 황산구리(CuSO45H2O) 0.001 ~ 2.5 중량부와, 유무기산 0.5 ~ 3.0중량부 및 산화은 0.1 ~ 0.15중량부를 포함하고,
상기 제2층은 과불화화합물 10중량부와, 실리콘알콕시드 0.11중량부와, 옥타데실트리클로로실란을 포함하는 반응성실란 0.5 ~ 2.0 중량부와, 폴리테트라메틸렌글리콜 0.13중량부와, 광중합 개시제 0.1중량부 및 유기용매 2중량부
를 포함하는 도금장치.
- 청구항 1에 있어서,
상기 릴 도금부는 적어도 하나 이상의 구역으로 각각 구분되며, 상기 각각의 구역은 복수의 3개의 단으로 형성되며, 상기 3개의 단은 턴 방식으로 형성되는 도금장치.
- 청구항 2에 있어서,
상기 릴 도금부는 턴1단, 턴2단 및 턴3단으로 형성되며, 상기 턴1단은 전해탈지 구역, 전극수세구역, 산화처리구역, 초음파 세척 구역으로 형성되고, 상기 턴2단은 제1고속니켈 도금구역, 제2고속니켈 도금구역으로 형성되며, 상기 턴3단은 금 도금구역, 수세 및 봉공 구역으로 형성되는 도금장치.
- 청구항 3에 있어서,
상기 릴 도금부는 상기 턴3단의 하측에는 사용된 용액을 처리하는 수세틀 및 상기 수세틀에서 처리가 완료된 폐수를 수용하는 폐수조를 더 포함하는 도금장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020230090566A KR102673802B1 (ko) | 2023-07-12 | 2023-07-12 | 릴 타입 도금장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020230090566A KR102673802B1 (ko) | 2023-07-12 | 2023-07-12 | 릴 타입 도금장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR102673802B1 true KR102673802B1 (ko) | 2024-06-10 |
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ID=91482810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1020230090566A KR102673802B1 (ko) | 2023-07-12 | 2023-07-12 | 릴 타입 도금장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR102673802B1 (ko) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR920003633A (ko) * | 1990-07-28 | 1992-02-29 | 서주인 | 탄성표면파 장치의 전극 제작방법 |
JP2007162118A (ja) * | 2005-12-16 | 2007-06-28 | Fujifilm Corp | めっき処理装置、めっき処理方法、透光性導電性膜、及び透光性電磁波シールド膜 |
KR102545209B1 (ko) * | 2022-10-12 | 2023-06-16 | 대성하이피(주) | 공정길이 축소를 위해 스네이크-턴 방식을 활용하는 연속도금 공정방법 |
-
2023
- 2023-07-12 KR KR1020230090566A patent/KR102673802B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR920003633A (ko) * | 1990-07-28 | 1992-02-29 | 서주인 | 탄성표면파 장치의 전극 제작방법 |
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