KR102646510B1 - 증발원 장치 - Google Patents
증발원 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102646510B1 KR102646510B1 KR1020227029880A KR20227029880A KR102646510B1 KR 102646510 B1 KR102646510 B1 KR 102646510B1 KR 1020227029880 A KR1020227029880 A KR 1020227029880A KR 20227029880 A KR20227029880 A KR 20227029880A KR 102646510 B1 KR102646510 B1 KR 102646510B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- auxiliary heater
- container
- heater
- source device
- auxiliary
- Prior art date
Links
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims abstract description 47
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 47
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 39
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 21
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 14
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 2
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 33
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B1/00—Details of electric heating devices
- H05B1/02—Automatic switching arrangements specially adapted to apparatus ; Control of heating devices
- H05B1/0227—Applications
- H05B1/023—Industrial applications
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Control Of Resistance Heating (AREA)
Abstract
본 발명은, 도가니의 미세한 온도 제어가 가능하고, 보다 단시간에 도가니의 온도 분포를 최적화하여 균일한 막두께 분포를 갖는 박막을 성막 가능한 증발원 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 증착 재료(1)가 수용되는 도가니(2)에 그 길이 방향을 따라 주(主) 히터(3)를 설치하고, 이 주 히터(3)를 설치한 상기 도가니(2)의 적어도 길이 방향 양단부에 각각 보조 히터(4)를 설치하여, 상기 도가니(2)의 길이 방향 양단부를 상기 주 히터(3) 및 보조 히터(4)로 가열 제어할 수 있도록 구성한다.
Description
본 발명은, 증발원 장치에 관한 것이다.
증착 재료가 수용되는 도가니를 구비하고, 이 도가니를 가열하여 증착 재료를 증발시켜 기판 상에 박막을 성막하는 증착 장치에 있어서는, 예컨대, 도가니에 그 길이 방향을 따라 라인형으로 복수의 재료 방출구를 병설하고, 이 도가니의 길이와 직교하는 방향으로 기판을 이동시킴으로써 증착을 행하고 있다.
그런데, 상기 구성의 도가니에서 증착을 행할 때에는, 도가니의 길이 방향 양단부일수록 차가워지기 쉽기 때문에, 길이 방향 양단부일수록 온도가 낮고 중앙 부근일수록 온도가 높은 편차가 있는 온도 분포가 되는 경우가 많다.
그 때문에, 도가니의 중앙 부근과 길이 방향 양단부에서 재료 방출구로부터의 재료 방출량에 차이가 생기고, 따라서, 기판 상에 성막되는 박막도, 기판의 양단측일수록 막두께가 얇고 중앙 부근일수록 막두께가 두꺼운 편차가 있는 막두께 분포가 되는 경우가 있다.
그래서, 증착시에 도가니의 길이 방향에 있어서의 온도 분포를 균일화하여 기판 상에 성막되는 박막의 막두께 분포를 균일화하기 위해, 예컨대, 특허문헌 1에 개시된 바와 같이, 도가니를 복수 영역으로 분할하여 각각의 영역에 대해서 도가니의 온도 제어를 행하는 온도 제어 수단을 구비하는 기술, 즉, 도가니 길이 방향으로 복수의 히터를 병설하여 이들을 개별로 온도 제어하는 기술이 제안되어 있다.
구체적으로는, 특허문헌 1에는, 차가워지기 쉬운 도가니의 길이 방향 양단부의 온도가 중앙 부근과 같은 온도가 되도록, 길이 방향 양단부의 히터의 출력을 중앙 부근의 히터의 출력보다 높게 함으로써, 온도 분포의 개선을 행하는 취지가 개시되어 있다.
그러나, 복수의 히터를 도가니 길이 방향으로 병설하고, 이들을 개별로 온도 제어하는 경우, 모든 히터를 상온(25℃ 정도)에서 증착 온도(350℃ 이상)까지 컨트롤해야 하여, 그만큼 출력이 커져 미세한 온도 제어를 행하기 어렵다는 문제점이 있다. 또한, 각 히터의 피드백 제어(클로즈 루프 제어)를 행하는 경우, 각 히터가 인접한 히터의 영향을 받기 때문에, 온도가 집속되기 어렵다는 문제점도 있다. 또한, 인접한 히터로부터 영향을 받지 않을 정도로 히터끼리를 충분히 거리를 두고 설치한 경우에는, 히터 사이의 도가니 벽면이 양호하게 가열되지 않게 된다.
본 발명은, 전술한 바와 같은 문제점을 해결한 것으로, 도가니의 미세한 온도 제어가 가능하고, 보다 단시간에 도가니의 온도 분포를 최적화하여 균일한 막두께 분포를 갖는 박막을 성막 가능한 증발원 장치를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
첨부 도면을 참조하여 본 발명의 요지를 설명한다.
증착 재료(1)가 수용되는 도가니(2)에 그 길이 방향을 따라 주(主) 히터(3)를 설치하고, 이 주 히터(3)를 설치한 상기 도가니(2)의 적어도 길이 방향 양단부에 각각 보조 히터(4)를 설치하여, 상기 도가니(2)의 길이 방향 양단부를 상기 주 히터(3) 및 보조 히터(4)로 가열 제어할 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 주 히터(3)를 오픈 루프 제어에 의해 가열 제어하는 주 히터 제어부를 설치한 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 보조 히터(4)를 클로즈 루프 제어에 의해 가열 제어하는 보조 히터 제어부를 설치한 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 보조 히터(4)를 클로즈 루프 제어에 의해 가열 제어하는 보조 히터 제어부를 설치한 것을 특징으로 하는 청구항 2에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 보조 히터(4)를 3개 이상의 영역으로 나누어 설치하고, 어느 한 영역의 보조 히터(4)를 오픈 루프 제어에 의해 가열 제어하고, 나머지 영역의 보조 히터(4)를 클로즈 루프 제어에 의해 가열 제어하도록 상기 보조 히터 제어부를 구성한 것을 특징으로 하는 청구항 3에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
상기 보조 히터(4)를 3개 이상의 영역으로 나누어 설치하고, 어느 한 영역의 보조 히터(4)를 오픈 루프 제어에 의해 가열 제어하고, 나머지 영역의 보조 히터(4)를 클로즈 루프 제어에 의해 가열 제어하도록 상기 보조 히터 제어부를 구성한 것을 특징으로 하는 청구항 4에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 증착 재료(1)의 성막 레이트를 계측하는 막두께 모니터(5)에 의해 계측된 성막 레이트에 따라 상기 보조 히터(4)의 가열 제어를 행하도록 상기 보조 히터 제어부를 구성한 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 도가니(2)의 길이 방향을 따라 복수 대 설치되는 상기 막두께 모니터(5)에 의해 계측된 성막 레이트에 따라 상기 보조 히터(4)의 가열 제어를 행하도록 상기 보조 히터 제어부를 구성한 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 도가니(2)의 길이 방향을 따라 복수 대 설치되는 상기 막두께 모니터(5)에 의해 계측된 성막 레이트에 따라 상기 각 보조 히터(4)의 가열 제어를 개별로 행하도록 상기 보조 히터 제어부를 구성한 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 보조 히터(4)는 상기 도가니(2)에 수용되는 증착 재료(1)의 노출면과 대향하는 상기 도가니(2)의 벽면을 가열하는 위치에 설치한 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 주 히터(3)는 상기 도가니(2)의 길이와 직교하는 방향으로 복수 병설되어 있는 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 증착 재료(1)가 성막되는 기판의 피성막면과 대향하는 상기 도가니(2)의 면에 재료 방출구(6)를 설치하고, 가열된 증착 재료(1)의 온도 이상으로 이 재료 방출구(6)를 가열하는 방출구용 보조 히터를 구비한 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 도가니(2)에 상기 재료 방출구(6)를 복수 설치한 것을 특징으로 하는 청구항 12에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 도가니(2)의 길이 방향 양단부측일수록 상기 재료 방출구(6)로부터의 재료 방출량이 많아지도록 상기 도가니(2)를 구성한 것을 특징으로 하는 청구항 12에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 도가니(2)의 길이 방향 양단부측일수록 상기 재료 방출구(6)로부터의 재료 방출량이 많아지도록 상기 도가니(2)를 구성한 것을 특징으로 하는 청구항 13에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 도가니(2)의 길이 방향 양단부측일수록 개구 면적이 커지도록 상기 재료 방출구(6)를 구성한 것을 특징으로 하는 청구항 14에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
또한, 상기 도가니(2)의 길이 방향 양단부측일수록 개구 면적이 커지도록 상기 재료 방출구(6)를 구성한 것을 특징으로 하는 청구항 15에 기재된 증발원 장치에 관한 것이다.
본 발명은 전술한 바와 같이 구성하였기 때문에, 도가니가 미세한 온도 제어가 가능하고, 보다 단시간에 도가니의 온도 분포를 최적화하여 균일한 막두께 분포를 갖는 박막을 성막 가능한 증발원 장치가 된다.
도 1은 본 실시예의 개략 설명도.
도 2는 본 실시예의 개략 설명 단면도.
도 3은 증발원 장치의 일 구성예를 도시한 개략 설명도.
도 4는 증발원 장치의 일 구성예를 도시한 개략 설명도.
도 2는 본 실시예의 개략 설명 단면도.
도 3은 증발원 장치의 일 구성예를 도시한 개략 설명도.
도 4는 증발원 장치의 일 구성예를 도시한 개략 설명도.
적합하다고 생각하는 본 발명의 실시형태를, 도면에 기초하여 본 발명의 작용을 도시하여 간단하게 설명한다.
진공조 내에 배치된 도가니(2)에 의해 기판에 증착을 행할 때, 주 히터(3)로 도가니(2)의 길이 방향 전체를 가열함과 동시에, 보조 히터(4)로 도가니(2)의 길이 방향 양단부를 보조적으로 가열한다.
즉, 주 히터(3)에 의한 가열만으로는 도가니(2)의 길이 방향 양단부가 중앙 부근에 비해 온도가 낮아지는 경우, 보조 히터(4)로 도가니(2)의 길이 방향 양단부가 중앙 부근과 같은 온도가 되도록 보조적으로 가열한다.
따라서, 도가니(2)의 길이 방향에 있어서의 온도 분포를 균일화하고, 기판 상에 성막되는 박막의 막두께 분포를 균일화하는 것이 가능해진다.
여기서, 본 발명에서는, 주 히터(3)가 도가니(2)의 길이 방향 전체의 증착 온도 부근까지의 가열을 담당한다. 그 때문에, 보조 히터(4)는 주 히터(3)에 의해 가열된 온도를 기초로 가열하면 되고, 예컨대 도가니(2)의 길이 방향 양단부의 중앙 부근과의 온도 차분만큼 가열하면 되어, 그만큼 출력이 작게 들고, 정밀도가 좋은 온도 제어가 가능해진다. 예컨대, 증착 온도가 350℃이고, 주 히터(3)에 의해 도가니(2)의 중앙 부근이 350℃, 길이 방향 양단부가 320℃까지 가열되는 경우, 보조 히터(4)는 320℃에서 350℃까지 가열하면 되어, 상온(25℃ 정도)에서 350℃까지 가열하는 경우에 비해, 보다 미세하고 정밀도가 좋은 온도 제어가 가능해져, 보다 단시간에 도가니(2)의 온도 분포를 최적화할 수 있다.
또한, 주 히터(3)에 의해 도가니 길이 방향 전체가 가열되기 때문에, 보조 히터(4)를 클로즈 루프 제어에 의해 가열 제어하는 구성으로 한 경우에도, 보조 히터(4)끼리를 충분히 거리를 두고 설치할 수 있어 보조 히터(4)끼리 서로 영향을 주는 일이 없어, 한층 더 양호한 온도 제어가 가능해진다.
실시예
본 발명의 구체적인 실시예에 대해서 도면에 기초하여 설명한다.
본 실시예는, 증착 장치의 진공조에 있어서 예컨대 유기 재료를 기판(7)에 증착하기 위해 이용되는 증발원 장치이다.
구체적으로는, 본 실시예는, 증착 재료(1)가 수용되는 도가니(2)에 그 길이 방향을 따라 주 히터(3)를 설치하고, 이 주 히터(3)를 설치한 상기 도가니(2)의 길이 방향 양단부에 각각 보조 히터(4)를 설치하여, 상기 도가니(2)의 길이 방향 양단부를 상기 주 히터(3) 및 보조 히터(4)로 가열할 수 있도록 구성한 것이다.
본 실시예에 있어서는, 도 1, 도 2에 도시된 바와 같이, 수용된 증착 재료(1)의 노출면과 대향하는 도가니(2)의 상부면에는, 주 히터(3)로서의 시스 히터(sheathed heater)를, 도가니(2)의 길이 방향을 따라 일단부에서 타단부에 걸쳐 설치하고, 도가니(2) 길이 방향 전체를 가열할 수 있도록 구성하고 있다. 또한, 도가니(2)의 상부면으로 하여 길이 방향 양단부에는, 이 양단부를 각각 가열하는 보조 히터(4)로서의 시스 히터를 각각 하나씩 설치하고 있다.
주 히터(3)는, 주 히터 제어부에 의해 가열 출력(전력)이 오픈 루프 제어되어 도가니(2)가 정해진 증착 온도가 되는 정해진 가열 출력으로 제어된다. 또한, 보조 히터(4)는, 보조 히터 제어부에 의해 가열 출력이 클로즈 루프 제어되어 도가니(2)의 길이 방향 양단부가 정해진 증착 온도가 되도록 제어된다.
보조 히터(4)의 클로즈 루프 제어는, 예컨대, 도 1에 도시된 바와 같이, 진공조 내에, 도가니(2)의 길이 방향을 따라 수정 진동자식 막두께 모니터(5)를 복수 설치하고, 각 막두께 모니터(5)로 측정되는 증착 레이트가 일정해지도록 보조 히터(4)의 가열 출력을 제어함으로써 행할 수 있다. 도가니(2)의 길이 방향에 복수의 막두께 모니터(5)를 병설함으로써, 기판의 막두께 분포를 한층 더 정확하게 예측하는 것이 가능해진다. 또한, 막두께 모니터(5)는, 기판(7)에의 성막을 방해하지 않는 위치에 설치하는 것이 바람직하다.
구체적으로는, 막두께 모니터(5)는, 도가니(2)의 길이 방향 중앙 부근의 상방 위치 및 도가니(2)의 길이 방향 양단부의 상방 위치에 각각 설치하고, 보조 히터(4)는 각 막두께 모니터(5)로 측정한 증착 레이트에 따라 개별로 제어하도록 보조 히터 제어부를 구성한다(혹은 보조 히터(4)마다 보조 히터 제어부를 설치함). 또한, 도 1 중, (a)는 증발원 장치의 개략도, (b)는 보조 히터 OFF시의 분포 개요도, (c)는 보조 히터 ON시의 분포 개요도이다.
따라서, 주 히터(3)에 의해 도가니(2)가 대략 정해진 온도가 되도록 가열한 후에, 보조 히터(4)에 의해 차가워지기 쉬운 도가니(2)의 길이 방향 양단부가 정해진 증착 온도가 되도록 보조 가열함으로써, 도가니(2)의 길이 방향 중앙 부근일수록 높고 길이 방향 양단부일수록 낮은 온도 분포를 균일화하는 것이 가능해져, 균일한 막두께 분포를 갖는 박막을 성막할 수 있게 된다.
즉, 보조 히터(4)는, 주 히터(3)에 의해 가열된 온도를 기초로 가열하면 되고, 예컨대, 도가니(2)의 길이 방향 양단부를, 길이 방향 중앙 부근과의 온도 차분만큼 가열하면 되어, 그만큼 보조 히터(4)의 출력이 작게 들고, 정밀도가 좋은 온도 제어가 가능해진다.
또한, 도가니(2)의 상부면에는 원통 노즐형의 재료 방출구(6)가, 도가니(2)의 길이 방향을 따라 라인형으로 복수 병설되어 있다. 이 재료 방출구(6)의 주위에는, 도시하지 않지만 방출구를 가열하는 방출구용 보조 히터로서의 시스 히터를 권취 상태로 설치하고 있다. 재료 방출구(6)는, 증착시에는, 방출구용 보조 히터에 의해 가열된 증착 재료(1)의 온도(증착 온도) 이상의 온도가 되도록 가열된다. 또한, 기판(7)의 피성막면이 도가니(2)의 상부면의 재료 방출구(6)와 대향하도록 각각 진공조 내에 배치된다.
또한, 도가니(2)의 길이 방향 양단부측일수록 상기 재료 방출구(6)로부터의 재료 방출량이 많아지도록 상기 도가니(2)를 구성하여도 좋다. 구체적으로는, 도가니(2)의 길이 방향 양단부측일수록 개구 면적이 커지도록 재료 방출구(6)를 구성하여도 좋다. 이 경우, 막두께 분포를 한층 더 균일화하기 쉬워진다. 또한, 도가니(2)의 상부면에 한정되지 않고, 도가니(2)의 측면 혹은 바닥면에 주 히터(3) 및 보조 히터(4)를 설치하는 구성으로 하여도 좋고, 도가니(2)의 2 이상의 면에 걸쳐 주 히터(3) 및 보조 히터(4)를 설치하는 구성으로 하여도 좋다.
또한, 보조 히터(4)를 도가니(2)의 길이 방향 양단부뿐만 아니라, 3지점 이상의 영역으로 나누어 설치하여도 좋다. 또한, 3지점 이상에 설치하는 경우에는, 오픈 루프 제어되는 것과 클로즈 루프 제어되는 것을 혼재시켜도 좋다.
예컨대, 도 3에 도시된 바와 같이, 도가니(2)의 길이 방향에서 5개의 영역으로 나누어, 각 영역에 1개씩 모두 5개의 보조 히터(4)를 설치하는 구성으로 하여도 좋다. 이 경우, 각 보조 히터(4)와 대향하도록 5개의 막두께 모니터(5)를 설치하고, 보조 히터(4)는 각 막두께 모니터(5)로 측정한 증착 레이트에 따라 개별로 제어하도록 구성한다. 또한, 도 3 중 A의 위치에 클로즈 루프 제어의 보조 히터(4)를 설치하고, 이것을 사이에 두도록 오픈 루프 제어의 보조 히터(4)를 설치하여 클로즈 루프 제어의 보조 히터(4)와 오픈 루프 제어의 보조 히터(4)를 교대로 배치함으로써, 가급적 클로즈 루프 제어의 보조 히터(4)끼리 서로 영향을 주지 않도록 하고 있다.
이러한 구성으로 함으로써, 도 3의 (b)에 도시된 바와 같은 약간 복잡한 막두께 분포에서도, 클로즈 루프 제어의 보조 히터(4)에 의한 보조 가열로, 도 3의 (c)에 도시된 바와 같이 고의로 국소적으로 승온하여 온도 분포를 최적화하여, 막두께 분포를 균일화하는 것이 가능해진다.
또한, 도 4의 (b)에 도시된 바와 같이 성막 범위가 좁은 경우에는, 성막에 필요한 영역을 필요한 만큼만 승온하여 온도 분포를 최적화하고, 도 4의 (c)에 도시된 바와 같이 성막 범위가 꼭 들어가는 범위에서 막두께 분포를 균일화하는 것도 가능해져, 증착에 이용하는 재료의 사용량을 억제함으로써, 이른바 수율을 개선하는 것이 가능해지는 등, 도가니(2)의 온도 제어를 보다 미세하게 행하는 것이 가능해진다.
또한, 본 발명은, 본 실시예에 한정되지 않고, 각 구성 요건의 구체적 구성은 적절하게 설계할 수 있는 것이다.
Claims (18)
- 재료를 수용하는 용기와,
상기 용기를 가열하는 가열부와,
상기 가열부를 제어하는 제어부를 구비한 증발원 장치로서,
상기 용기는, 상기 용기의 상면에 설치되고, 상기 용기의 길이 방향을 따라 늘어서는 복수의 방출구를 갖고,
상기 가열부는,
상기 길이 방향을 따라 연장되는 주(主) 히터와,
상기 용기의 상기 길이 방향에 있어서의 제1 단부에 배치된 제1 보조 히터와,
상기 용기의 상기 길이 방향에 있어서, 상기 제1 단부와는 반대측의 제2 단부에 배치된 제2 보조 히터와,
상기 제1 보조 히터와 상기 제2 보조 히터 사이에 배치되고, 상기 용기의 상면의 각각의 방출구의 주위에 배치된 제3, 제4 및 제5 보조 히터를 포함하며,
상기 제어부는, 상기 주 히터, 상기 제1 보조 히터, 및 상기 제2 보조 히터에 대해서 오픈 루프 제어를 행하고, 상기 제3 보조 히터 및 상기 제5 보조 히터에 대해서 클로즈 루프 제어를 행하며, 상기 제3 보조 히터와 상기 제5 보조 히터의 사이에 배치된 제4 보조 히터에 대해서 오픈 루프 제어를 행하고, 클로즈 루프 제어의 보조 히터와 오픈 루프 제어의 보조 히터가 교대로 배치되도록 하는
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 제1항에 있어서, 상기 주 히터는 상기 용기의 측면에 배치되는 제1 주 히터를 포함하는
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 제1항에 있어서, 상기 주 히터는 상기 용기의 측면에 배치되는 제1 주 히터와, 상기 용기의 바닥면에 배치되는 제2 주 히터를 포함하는
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 제1항에 있어서, 상기 제1 보조 히터 및 상기 제2 보조 히터는, 상기 용기의 상기 상면에 배치되는
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 제1항에 있어서, 상기 방출구로부터 방출되는 재료의 증착 레이트를 측정하는 모니터를 더 구비하는
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 제5항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 모니터의 측정 결과에 기초하여, 상기 제3 보조 히터 및 상기 제5 보조 히터에 대해서 클로즈 루프 제어를 행하는
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 제1항에 있어서, 상기 용기의 상기 제1 단부의 근방에 배치된 제1 막두께 모니터와,
상기 용기의 상기 제2 단부의 근방에 배치된 제2 막두께 모니터를 더 구비하는
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 제5항에 있어서, 상기 길이 방향의 중앙부에 배치된 상기 방출구로부터의 재료의 방출량보다, 상기 길이 방향에 있어서 상기 제1 단부 또는 상기 제2 단부에 가까운 상기 방출구로부터의 재료의 방출량이 많은
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 재료를 수용하는 용기와,
상기 용기를 가열하는 가열부와,
상기 가열부를 제어하는 제어부를 구비한 증발원 장치로서,
상기 용기는, 상기 용기의 상면에 설치되고, 상기 용기의 길이 방향을 따라 늘어서는 복수의 방출구를 갖고,
상기 가열부는,
상기 길이 방향을 따라 연장되는 주 히터와,
상기 용기의 상기 길이 방향에 있어서의 제1 단부에 배치된 제1 보조 히터와,
상기 용기의 상기 길이 방향에 있어서, 상기 제1 단부와는 반대측의 제2 단부에 배치된 제2 보조 히터와,
상기 제1 보조 히터와 상기 제2 보조 히터 사이에 배치되고, 상기 용기의 측면에 배치되어 각각의 방출구를 가열하는 제3, 제4 및 제5 보조 히터를 포함하며,
상기 제어부는, 상기 주 히터, 상기 제1 보조 히터, 및 상기 제2 보조 히터에 대해서 오픈 루프 제어를 행하고, 상기 제3 보조 히터 및 상기 제5 보조 히터에 대해서 클로즈 루프 제어를 행하며, 상기 제3 보조 히터와 상기 제5 보조 히터 사이에 배치된 제4 보조 히터에 대해서 오픈 루프 제어를 행하고, 클로즈 루프 제어의 보조 히터와 오픈 루프 제어의 보조 히터가 교대로 배치되도록 하는
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 제9항에 있어서, 상기 주 히터는 상기 용기의 상면에 배치되는 제1 주 히터를 포함하는
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 제9항에 있어서, 상기 주 히터는 상기 용기의 상면에 배치되는 제1 주 히터와, 상기 용기의 바닥면에 배치되는 제2 주 히터를 포함하는
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 제9항에 있어서, 상기 제1 보조 히터, 및 상기 제2 보조 히터는, 상기 용기의 상기 상면에 배치되는
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 제9항에 있어서, 상기 방출구로부터 방출되는 재료의 증착 레이트를 측정하는 모니터를 더 구비하는
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 제13항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 모니터의 측정 결과에 기초하여, 상기 제3 보조 히터 및 상기 제5 보조 히터에 대해서 클로즈 루프 제어를 행하는
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 제9항에 있어서, 상기 용기의 상기 제1 단부의 근방에 배치된 제1 막두께 모니터와,
상기 용기의 상기 제2 단부의 근방에 배치된 제2 막두께 모니터를 더 구비하는
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 제13항에 있어서, 상기 길이 방향의 중앙부에 배치된 상기 방출구로부터의 재료의 방출량보다, 상기 길이 방향에 있어서 상기 제1 단부 또는 상기 제2 단부에 가까운 상기 방출구로부터의 재료의 방출량이 많은
것을 특징으로 하는 증발원 장치. - 삭제
- 삭제
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013063941A JP2014189807A (ja) | 2013-03-26 | 2013-03-26 | 蒸発源装置 |
JPJP-P-2013-063941 | 2013-03-26 | ||
PCT/JP2014/057071 WO2014156750A1 (ja) | 2013-03-26 | 2014-03-17 | 蒸発源装置 |
KR1020217012321A KR20210049951A (ko) | 2013-03-26 | 2014-03-17 | 증발원 장치 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020217012321A Division KR20210049951A (ko) | 2013-03-26 | 2014-03-17 | 증발원 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20220123757A KR20220123757A (ko) | 2022-09-08 |
KR102646510B1 true KR102646510B1 (ko) | 2024-03-11 |
Family
ID=51623731
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020217012321A KR20210049951A (ko) | 2013-03-26 | 2014-03-17 | 증발원 장치 |
KR1020227029880A KR102646510B1 (ko) | 2013-03-26 | 2014-03-17 | 증발원 장치 |
KR1020157023879A KR20150133183A (ko) | 2013-03-26 | 2014-03-17 | 증발원 장치 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020217012321A KR20210049951A (ko) | 2013-03-26 | 2014-03-17 | 증발원 장치 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020157023879A KR20150133183A (ko) | 2013-03-26 | 2014-03-17 | 증발원 장치 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014189807A (ko) |
KR (3) | KR20210049951A (ko) |
TW (1) | TWI654325B (ko) |
WO (1) | WO2014156750A1 (ko) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10300634B2 (en) * | 2015-11-16 | 2019-05-28 | The Boeing Company | Advanced multiple grid heat sources to achieve optimized cure structure and method of making the same |
CN205443432U (zh) * | 2016-04-07 | 2016-08-10 | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 一种线性蒸发源、蒸发源***及蒸镀装置 |
EP3559306B1 (en) * | 2016-12-22 | 2022-10-05 | Flisom AG | Linear source for vapor deposition with at least three electrical heating elements |
KR102381054B1 (ko) * | 2017-07-11 | 2022-03-31 | 엘지전자 주식회사 | 증착 장치 |
CN112853271B (zh) * | 2019-11-27 | 2023-11-14 | 合肥欣奕华智能机器股份有限公司 | 一种线型蒸发源 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003297570A (ja) | 2002-03-08 | 2003-10-17 | Eastman Kodak Co | 有機発光デバイス製造用のコーティング方法及び細長い熱物理蒸着源 |
JP2007524763A (ja) * | 2004-02-25 | 2007-08-30 | イーストマン コダック カンパニー | 凝縮効果が最少にされた蒸着源 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3054168B2 (ja) * | 1990-05-22 | 2000-06-19 | アイシン精機株式会社 | 自動縫製装置 |
US5532102A (en) * | 1995-03-30 | 1996-07-02 | Xerox Corporation | Apparatus and process for preparation of migration imaging members |
JP4026449B2 (ja) * | 2002-08-30 | 2007-12-26 | ソニー株式会社 | 有機電界発光素子の製造装置 |
KR20060060994A (ko) * | 2004-12-01 | 2006-06-07 | 삼성에스디아이 주식회사 | 증착 소스 및 이를 구비한 증착 장치 |
CN101962750B (zh) * | 2009-07-24 | 2013-07-03 | 株式会社日立高新技术 | 真空蒸镀方法及其装置 |
-
2013
- 2013-03-26 JP JP2013063941A patent/JP2014189807A/ja active Pending
-
2014
- 2014-03-12 TW TW103108655A patent/TWI654325B/zh active
- 2014-03-17 KR KR1020217012321A patent/KR20210049951A/ko active Application Filing
- 2014-03-17 KR KR1020227029880A patent/KR102646510B1/ko active IP Right Grant
- 2014-03-17 WO PCT/JP2014/057071 patent/WO2014156750A1/ja active Application Filing
- 2014-03-17 KR KR1020157023879A patent/KR20150133183A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003297570A (ja) | 2002-03-08 | 2003-10-17 | Eastman Kodak Co | 有機発光デバイス製造用のコーティング方法及び細長い熱物理蒸着源 |
JP2007524763A (ja) * | 2004-02-25 | 2007-08-30 | イーストマン コダック カンパニー | 凝縮効果が最少にされた蒸着源 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150133183A (ko) | 2015-11-27 |
JP2014189807A (ja) | 2014-10-06 |
TWI654325B (zh) | 2019-03-21 |
KR20220123757A (ko) | 2022-09-08 |
KR20210049951A (ko) | 2021-05-06 |
TW201510252A (zh) | 2015-03-16 |
WO2014156750A1 (ja) | 2014-10-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102646510B1 (ko) | 증발원 장치 | |
KR100740058B1 (ko) | 진공 기상 증착 장치 | |
KR102260572B1 (ko) | 복수의 증발원을 갖는 박막 증착장치 | |
WO2015100984A1 (zh) | 一种镀膜机坩埚设备 | |
KR20150123809A (ko) | 증발원 장치 | |
JP2010168649A (ja) | 基板処理装置、成膜方法、電子デバイスの生産方法 | |
JP2014189807A5 (ko) | ||
KR20130111337A (ko) | 증착장치 | |
CN112204721A (zh) | 利用光束宽度调制的晶片点加热 | |
KR102260617B1 (ko) | 복수의 도가니가 장착된 증발원을 갖는 박막 증착장치 | |
JP2011162846A (ja) | 真空蒸発源 | |
KR20140027452A (ko) | 진공 증착 장치 | |
US20170159167A1 (en) | Thin Film Deposition Apparatus Having Plurality of Crucibles | |
US20120052189A1 (en) | Vapor deposition system | |
KR100800504B1 (ko) | 배치식 반응챔버의 히팅장치 | |
KR101766778B1 (ko) | 화학 기상 증착 장치 | |
KR102080764B1 (ko) | 리니어소스 및 그를 가지는 박막증착장치 | |
JP5578345B2 (ja) | 蒸着装置における蒸発源及び蒸着装置 | |
KR102123824B1 (ko) | 박막증착장치 및 그 제어방법 | |
EP3494243B1 (en) | Homogeneous linear evaporation source with heater | |
KR102260575B1 (ko) | 복수의 증발원을 갖는 박막 증착장치 | |
KR101314535B1 (ko) | 혼합 물질 증착을 위한 기상 증착 장치 | |
KR20190011611A (ko) | 개선된 기판 열처리 온도 제어 장치 및 방법, 및 이를 구비한 기판 열처리 챔버 및 장치 | |
WO2012086230A1 (ja) | 真空蒸着装置及び真空蒸着方法 | |
US20160312361A1 (en) | Method of forming a film |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
A201 | Request for examination | ||
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
X091 | Application refused [patent] | ||
AMND | Amendment | ||
X701 | Decision to grant (after re-examination) | ||
GRNT | Written decision to grant |