KR102623598B1 - 웨이퍼용 건식 세정장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 웨이퍼용 건식 세정장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 레이저를 이용하여 웨이퍼 표면의 유기 잔류물을 효과적으로 제거할 수 있는 웨이퍼용 건식 세정장치에 관한 것이다.
본 발명은, 웨이퍼 표면의 유기 잔류물을 건식 세정하기 위한 웨이퍼용 건식 세정장치에 있어서, 레이저 광을 조사하는 레이저 광원; 상기 레이저 광원에서 조사된 레이저 광이 평행하게 진행하도록 하는 콜리메이션 광학계; 상기 콜리메이션 광학계를 통과한 광을 균일하게 하는 균일 광학계; 상기 균일 광학계를 통과한 광을 웨이퍼의 크기에 맞게 조절하기 위한 이미징 광학계; 를 포함하는 웨이퍼용 건식 세정장치를 제공한다.

Description

웨이퍼용 건식 세정장치{Dry-type Cleansing Apparatus for Wafers}
본 발명은 웨이퍼용 건식 세정장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 레이저를 이용하여 웨이퍼 표면의 유기 잔류물을 효과적으로 제거할 수 있는 웨이퍼용 건식 세정장치에 관한 것이다.
반도체 초임계 공정 또는 습식 세정 공정 후에 건조된 웨이퍼(Wafer)의 표면에는 PR(Photoresist) residue나 IPT(Isopropyl Alcohol) residue 등 다양한 유기 잔여물이 존재하고 웨이퍼 표면의 잔여물은 공정 수율에 영향을 미칠 수 있으므로 반드시 제거되어야 하는데, 이 잔여물들을 습식 세정하는 경우 Leaing 이 발생하는 등의 문제가 발생해 습식 세정은 적용하기 어려워 건식 세정해야 한다.
이러한 건식 세정방법의 하나로 광 발생장치나 히터 등을 이용하여 유기물질의 열반응온도(탄소 기준으로 600℃도) 이상으로 웨이퍼를 가열하여 잔여 유기물을 세정하는 장치가 개발 중이거나 사용되고 있는데 이러한 장치는 공정시간이 느리고 세정 효율이 낮은 문제가 있다.
KR 10-2014-0047643 A
본 발명은 배경 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 단시간에 작업이 완료되면서도 웨이퍼 상의 유기 잔류물 제거 효율이 높은 웨이퍼 건식 세정장치를 제공하는 것이다.
전술한 과제의 해결 수단으로서 본 발명은,
웨이퍼 표면의 유기 잔류물을 건식 세정하기 위한 웨이퍼용 건식 세정장치에 있어서,
레이저 광을 조사하는 레이저 광원;
상기 레이저 광원에서 조사된 레이저 광이 평행하게 진행하도록 하는 콜리메이션 광학계;
상기 콜리메이션 광학계를 통과한 광을 균일하게 하는 균일 광학계;
상기 균일 광학계를 통과한 광을 웨이퍼의 크기에 맞게 조절하기 위한 이미징 광학계;를 포함하는 웨이퍼용 건식 세정장치를 제공한다.
상기 균일 광학계는 DOE(Diffractive Optical Element)를 포함하거나,
상기 균일 광학계는 마이크로 렌즈 어레이를 포함하거나,
상기 균일 광학계는 라이트 파이프를 포함하거나,
상기 균일 광학계는 Light Pipe와 DOE(Diffractive Optical Element) 또는 마이크로 렌즈 어레이 중 적어도 하나를 조합하여 사용할 수 있다.
상기 레이저 광을 굴절하기 위한 굴절 광학계를 더 포함하는 것이 좋다.
또한, 본 발명은,
웨이퍼 표면의 유기 잔류물을 건식 세정하기 위한 웨이퍼용 건식 세정장치에 있어서,
레이저 광을 조사하는 레이저 광원;
상기 레이저 광원에서 조사된 광을 균일하게 하는 제1균일 광학계;
상기 제1균일 광학계를 통과한 레이저 광이 평행하게 진행하도록 하는 콜리메이션 광학계;
상기 콜리메이션 광학계를 통과한 광을 90도 굴절시키기 위한 굴절 광학계;
상기 굴절 광학계를 통과한 광을 균일하게 하는 제2균일 광학계;
상기 제2균일 광학계를 통과한 광을 웨이퍼의 크기에 맞게 조절하기 위한 이미징 광학계;를 포함하는 웨이퍼용 건식 세정장치를 제공한다.
또한, 본 발명은,
웨이퍼 표면의 유기 잔류물을 건식 세정하기 위한 웨이퍼용 건식 세정장치에 있어서,
레이저 광을 조사하는 레이저 광원;
상기 레이저 광원에서 조사된 광을 균일하게 하는 제1균일 광학계;
상기 제1균일 광학계를 통과한 레이저 광이 평행하게 진행하도록 하는 콜리메이션 광학계;
상기 콜리메이션 광학계를 통과한 광을 90도 굴절시키기 위한 굴절 광학계;
상기 굴절 광학계를 통과한 광을 균일하게 하는 제2균일 광학계;
상기 제2균일 광학계를 통과한 광을 웨이퍼의 크기에 맞게 조절하기 위한 이미징 광학계;
상기 광이 조사되어 가열된 웨이퍼를 냉각하기 위한 냉각 유닛;
웨이퍼의 한쪽에 마련되어 웨이퍼의 표면으로 비활성 가스를 분사하는 공기 분사부와,
상기 공기 분사부부의 반대쪽에서 마련되어 공기 분사부에 의해 분사된 비활성 가스와 웨이퍼의 표면의 유기 잔류물을 흡입하며 상기 공기 분사부에 비해 좁은 폭을 갖는 공기 흡입부를 포함하는 웨이퍼용 건식 세정장치를 제공한다.
본 발명에 의하면 단시간에 작업이 완료되면서도 웨이퍼 상의 유기물질 제거 효율이 높은 웨이퍼 건식 세정장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 웨이퍼용 건식 세정장치를 설명하기 위한 도면.
도 2는 본 발명의 제2실시예에 따른 웨이퍼용 건식 세정장치를 설명하기 위한 도면.
도 3은 파티클 제거 유닛을 설명하기 위한 도면.
도 4 내지 도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 웨이퍼용 건식 세정장치를 설명하기 위한 간략도.
이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명함으로써, 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용을 제공하기로 한다.
우선 본 발명의 제1실시예에 따른 웨이퍼용 건식 세정장치에 대하여 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 웨이퍼용 건식 세정장치를 설명하기 위한 도면이다.
본 실시예에 따른 웨이퍼용 건식 세정장치는 웨이퍼 표면의 유기 잔류물을 세정하기 위한 장치이다. 배경 기술에 기술된 바와 같이 유기 잔류물에는 PR residue, IPA residue 등이 있으며, 레이저를 이용하여 유기 잔류물을 세정하는 것이다. 레이저 세정은 광기계적(Photo-mechanical), 광화학적(Photo-chemical), 광열적(Photo-thermal)과 같은 세 가지 메커니즘으로 웨이퍼 표면을 세정하는 것으로 알려져 있는데 본 실시예에서는 유기물의 제거와 가장 큰 관련이 있는 광열적 메커니즘을 이용한다. 웨이퍼 표면에 부착된 유기물 입자를 급속 가열하면 갑자기 팽창을 하게 되고 이 팽창한 입자가 웨이퍼 표면으로부터 떨어지면서 제거되는 메커니즘을 이용하는 것이다.
본 실시예에 따른 웨이퍼용 건식 세정장치는 도 1에 도시된 바와 같이 레이저 광원(10), 콜리메이션(Collimation) 광학계(20), 균일 광학계(30) 및 이미징 광학계(40)를 포함하여 구성된다.
상기 레이저 광원(10)은 레이저 광을 조사하는 구성으로서 파이버(fiber) 광원, CO2광원 등이 이용될 수 있는데, 본 실시예에서는 파이버 광원을 이용한다.
상기 콜리메이션 광학계(20)는 레이저 광이 평행하게 진행하도록 하는 구성이다. Collimated Light의 정의가 빔의 내부에 있는 모든 광선이 서로 평행한 빛을 의미하는데 그 의미에 맞는 레이저 광을 만들기 위한 장치이다.
콜리메이션 광학계(20)는 도 1에 간략히 도시된 바와 같이 콜리메이터 렌즈를 포함하는 여러 개의 렌즈로 구성될 수 있다.
상기 균일 광학계(30)는 상기 콜리메이션 광학계를 통과한 광을 균일하게 하기 위한 구성이다.
광이 균일하다는 의미는 광이 조사되는 특정 영역 내의 각 지점에 조사되는 광량(에너지)이 균일하다는 의미이다. 레이저 광을 100% 균일하게 할 수는 없으나 여러 가지 메커니즘을 이용하여 균일에 가깝게 할 수 있는데 그러한 메커니즘을 이용한 균일 광학계(30)을 사용하는 것이다.
균일 광학계(30)에 의해 웨이퍼의 표면에 조사되는 레이저 광이 균일해짐으로 인해 웨이퍼 표면의 모든 영역에 있는 유기 잔류물을 효과적으로 제거할 수 있게 된다.
상기 균일 광학계(30)로는 DOE(Diffractive Optical Element; 회절 광학 소자)를 포함할 수 있는데 DOE는 내부 또는 표면의 주기 구조에 의한 회절 현상을 이용하여 광 경로를 제어하는 광학소자이다.
상기 균일 광학계(30)로 마이크로 렌즈 어레이를 포함할 수 있다. 마이크로 렌즈 어레이는 매질(substrate)에 일차원 또는 이차원으로 배열된 여러 개의 렌즈를 의미하는데, 콜리메이팅이나 포커싱과 같은 용도로 사용될 수 있는데 본 실시예에서는 콜리메이팅의 용도로 이용한다.
상기 균일 광학계(30)로 라이트 파이프(Light Pipe)를 포함할 수도 있다. 라이트 파이프는 광원에서 나오는 빛의 균일성(uniformity)을 키워서 Direct light(특정한 영역 또는 물건을 비추는 빛)으로 만드는 구성으로서 콜리메이팅의 용도로 사용할 수 있고 본 실시예에서는 콜레미이팅 용도로 사용한다.
한편, 상기 균일 광학계(30)로 라이트 파이프와 DOE 또는 마이크로 렌즈 어레이 중 어느 하나 또는 둘의 조합을 포함할 수도 있다. 라이트 파이프와 DOE, 라이트 파이프와 마이크로 렌즈 어레이, 라이트 파이프, DOE 및 마이크로 렌즈 어레이 등의 방식으로 구현할 수 있다는 의미이다.
상기 이미징 광학계(40)는 상기 균일 광학계(30)를 통과한 광을 웨이퍼(W)의 크기에 맞게 조절하는 구성하는 구성으로서 볼록 렌즈나 오목 렌즈 등 여러 개의 렌즈의 조합으로 구성될 수 있는데, 도 1에 도시된 바와 같이 레이저 광(L)을 확산시켜야 하는 경우라면 오목 렌즈를 사용한다.
레이저 광원(10)에서 조사된 레이저 광(L)은 콜리메이션 광학계(20)와 균일 광학계(30)를 거치면서 평행해지고 균일해진 상태로 이미징 광학계(40)를 통과하고 이미징 광학계(40)에 의해 웨이퍼(W)의 사이즈에 맞게 조절(확산 또는 축소)되어 웨이퍼(W)에 도달하게 된다.
웨이퍼(W)에 도달한 레이저 광(L)은 웨이퍼(W)의 표면에 에너지를 제공하게 되고 가열되면서 웨이퍼(W) 표면의 유기 잔여물이 웨이퍼(W)로부터 분리되고 제거된다.
도 1에 도시된 웨이퍼용 건식 세정장치는 레이저 광원(10), 콜리메이션 광학계(20), 균일 광학계(30), 이미징 광학계(40) 등의 구성을 간략하게 설명하기 위한 가장 원형에 가까운 건식 세정장치이다.
이하에서는 도면을 참조하면서 본 발명의 두 번째 실시예에 대하여 설명하기로 한다. 본 실시예에 따른 건식 세정장치는 앞서 설명한 실시예에 따른 건식 세정장치에 몇 개의 구성을 추가한 것으로서 앞서 설명한 건식 세정장치의 추가적인 구성에 대한 설명을 위주로 하고 앞선 실시예에 포함된 구성에 대해서는 간략히 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 제2실시예에 따른 웨이퍼용 건식 세정장치를 설명하기 위한 도면이고, 도 3은 파티클 제거 유닛을 설명하기 위한 도면이다.
본 실시예에 따른 웨이퍼용 건식 세정장치는 앞선 실시예의 웨이퍼용 건식 세정장치에 비하여 굴절 광학계와 파티클 제거 유닛 및 냉각 유닛을 더 포함하여 구성되는데, 레이저 광원(110)에서 조사된 레이저 광(L)은 제1균일 광학계(120), 콜리메이션 광학계(130), 굴절 광학계(140), 제2균일 광학계(150), 이미징 광학계(160)를 거쳐 웨이퍼(W)로 조사된다.
상기 제1균일 광학계(120)와 제2균일 광학계(150)는 앞서 설명한 제1실시예의 균일 광학계와 실질적으로 동일하고, 콜리메이션 광학계(130)나 이미징 광학계(160) 역시 제1실시예의 대응되는 구성과 실질적으로 동일하므로 추가적인 설명은 생략하기로 한다.
상기 굴절 광학계(140)는 레이저 광(L)의 방향이 변경될 수 있도록 굴절시키는 구성으로서 거울이 사용될 수 있다.
본 실시예에서는 굴절 광학계(140)를 사용하는 것은 레이저 광원(110)이 파이버 광원인 경우 수직으로 파이버 광원이 설치되면 핸들링이 어려울 수 있기 때문이다. 따라서 파이버 형태의 레이저 광원(110)은 수평방향으로 설치하고 굴절 광학계(140)에 의해 수직 방향으로 굴절시켜 사용한다.
상기 파티클 제거 유닛은 레이저 광(L)이 웨이퍼(W)로 조사되어 웨이퍼 표면에 부착된 유기물 입자를 급속 가열함으로써 팽창되어 웨이퍼(W)로부터 분리되면 이를 효과적으로 제거하기 위한 구성으로서, 공기 분사부(210), 공기 흡입부(220)와 유로(230)를 포함하여 구성된다.
상기 공기 분사부(210)는 도 3에 도시된 바와 같이 웨이퍼(W)의 웨이퍼(W)의 표면으로 불활성 가스를 분사하는 구성이고, 상기 공기 흡입부(220)는 공기 분사부(210)의 반대쪽에 마련되어 공기 분사부(210)에 의해 분사된 비활성 가스와 웨이퍼 표면의 유기 잔여물을 흡입하는 구성으로서 진공 펌프와 연결된다.
한편, 상기 공기 흡입부(220)는 공기 분사부(210)에 의해 폭이 좁은데 이러한 구성에 의해 공기 흡입부(220)로 갈수록 비활성 가스의 유속이 커지게 된다. 유량이 일정한 경우 유동 단면적이 작아지게 되면 유체의 속도가 커지게 되는데 공기 흡입부(220)의 폭이 좁다는 것은 공기 흡입부(220) 쪽의 유동 단면적이 작아진다는 것이고 따라서 유체의 이동속도가 빨라지는 것이다.
상기 비활성 가스의 속도가 빨라지면 웨이퍼 표면의 파티클(유기 잔류물)을 효율적으로 제거할 수 있게 되는 효과를 기대할 수 있게 된다.
상기 유로(230)는 상기 공기 분사부(210)와 공기 흡입부(220) 사이에 설치되어 비활성 기체가 유동할 수 있는 공간으로서 유로부(230)에 웨이퍼(W)가 배치된다.
상기 냉각 유닛(300)은 웨이퍼(W)의 하부에 배치되어 레이저 광(L)에 의해 가열된 웨이퍼(W)를 냉각하기 위한 구성이다. 이명화 등의 연구(레이저 세정기술을 이용한 웨이퍼의 표면세정; 한국액체미립화학회지 제12권 제4호 게재)에 의하면 웨이퍼를 냉각하면 광열적 메커니즘에 의해 유기물 제거 효율이 떨어질 수 있으므로 웨이퍼(W)에 레이저 광(L)을 조사하고 파티클 제거 유닛(200)에 의해 파티클을 제거한 이후에 냉각 유닛(300)을 가동하는 것이 바람직하다.
도 4 내지 도 6에 도시된 본 발명의 세 번째 실시예에 따른 웨이퍼용 건식 세정장치는 여러 개의 굴절 광학계를 사용한 실시예이다. 본 실시예는 웨이퍼용 건식 세정장치의 설치에 있어서 높이에 제한이 있는 경우에 도 1이나 도 2에 도시된 실시예와 같이 상하방향으로 긴 레이저 광의 경로를 가지도록 구성하는 것이 아니라 수평방향의 레이저 광(L) 경로를 가질 수 있도록 구성하는 것이다.
레이저 광원(1)에서 조사된 레이저 광(L)은 제1굴절 광학계(2), 제2굴절 광학계(4), 제3굴절 광학계(7)에서 3번 굴절되어 관통공(8)을 통하여 아래 방향으로 조사되어 웨이퍼에 도달하게 된다.
도면부호 3,5,6은 광학계를 표시한 것으로서, 균일 광학계, 콜리메이션 광학계, 이미징 광학계가 사용될 수 있으며, 도면에는 3개의 광학계만 간략히 표시되어 있지만 그 수와 종류에는 제한이 없다.
한편, 도 1 내지 도 6에서 도면부호 C는 내부에 각종 광학계를 수용하는 케이싱을 표시한다.
10 : 레이저 광원 20 : 콜리메이션 광학계
30 : 균일 광학계 40 : 이미징 광학계

Claims (20)

  1. 웨이퍼 표면 상부로부터 레이저 광을 웨이퍼 표면에 조사하여 웨이퍼 표면의 유기 잔류물을 건식 세정하기 위한 웨이퍼용 건식 세정장치에 있어서,
    레이저 광을 조사하는 레이저 광원;
    상기 레이저 광원에서 조사된 레이저 광이 평행하게 진행하도록 하는 콜리메이션 광학계;
    상기 콜리메이션 광학계를 통과한 광을 균일하게 하는 균일 광학계;
    상기 균일 광학계를 통과한 광을 웨이퍼의 크기에 맞게 조절하여 웨이퍼 표면에 조사하기 위한 이미징 광학계; 및
    상기 웨이퍼에 조사된 레이저 광에 의해 웨이퍼로부터 이탈한 유기 잔류물을 제거하기 위한 공기 흐름을 제공하는 파티클 제거 유닛을 더 포함하고,
    상기 파티클 제거 유닛은,
    웨이퍼의 한쪽에 마련되어 웨이퍼의 표면으로 가스를 분사하는 공기 분사부와,
    상기 공기 분사부의 반대쪽에서 마련되어 공기 분사부에 의해 분사된 가스와 레이저 광에 의해 웨이퍼의 표면에서 분리된 유기 잔류물을 흡입하는 공기 흡입부를 포함하고,
    상기 공기 흡입부의 폭이 상기 공기 분사부의 폭보다 좁은 웨이퍼용 건식 세정장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 균일 광학계는 DOE(Diffractive Optical Element)를 포함하는 웨이퍼용 건식 세정장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 균일 광학계는 마이크로 렌즈 어레이를 포함하는 웨이퍼용 건식 세정장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 균일 광학계는 라이트 파이프를 포함하는 웨이퍼용 건식 세정장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 균일 광학계는 라이트 파이프와 DOE(Diffractive Optical Element) 또는 마이크로 렌즈 어레이 중 적어도 하나를 조합하여 사용하는 웨이퍼용 건식 세정장치.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 레이저 광을 굴절하기 위한 굴절 광학계를 더 포함하는 웨이퍼용 건식 세정장치.
  7. 웨이퍼 표면 상부로부터 레이저 광을 웨이퍼 표면에 조사하여 웨이퍼 표면의 유기 잔류물을 건식 세정하기 위한 웨이퍼용 건식 세정장치에 있어서,
    레이저 광을 조사하는 레이저 광원;
    상기 레이저 광원에서 조사된 광을 균일하게 하는 제1균일 광학계;
    상기 제1균일 광학계를 통과한 레이저 광이 평행하게 진행하도록 하는 콜리메이션 광학계;
    상기 콜리메이션 광학계를 통과한 광을 90도 굴절시키기 위한 굴절 광학계;
    상기 굴절 광학계를 통과한 광을 균일하게 하는 제2균일 광학계;
    상기 제2균일 광학계를 통과한 광을 웨이퍼의 크기에 맞게 조절하여 웨이퍼 표면에 조사하기 위한 이미징 광학계;를 포함하고,
    상기 웨이퍼에 조사된 레이저 광에 의해 웨이퍼로부터 이탈한 유기 잔류물을 제거하기 위한 공기 흐름을 제공하는 파티클 제거 유닛을 더 포함하고,
    상기 파티클 제거 유닛은,
    웨이퍼의 한쪽에 마련되어 웨이퍼의 표면으로 가스를 분사하는 공기 분사부와,
    상기 공기 분사부의 반대쪽에서 마련되어 공기 분사부에 의해 분사된 가스와 레이저 광에 의해 웨이퍼의 표면에서 분리된 유기 잔류물을 흡입하는 공기 흡입부를 포함하고,
    상기 공기 흡입부의 폭이 상기 공기 분사부의 폭보다 좁은 웨이퍼용 건식 세정장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1균일 광학계 또는 제2균일 광학계는 DOE(Diffractive Optical Element)를 포함하는 웨이퍼용 건식 세정장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 제1균일 광학계 또는 제2균일 광학계는 마이크로 렌즈 어레이를 포함하는 웨이퍼용 건식 세정장치.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 제1균일 광학계 또는 제2균일 광학계는 라이트 파이프를 포함하는 웨이퍼용 건식 세정장치.
  11. 제7항에 있어서,
    상기 제1균일 광학계 또는 제2균일 광학계는 라이트 파이프와 DOE(Diffractive Optical Element) 또는 마이크로 렌즈 어레이 중 적어도 하나를 조합하여 사용하는 웨이퍼용 건식 세정장치.
  12. 제7항 내지 제11항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 레이저 광을 굴절하기 위한 굴절 광학계를 더 포함하는 웨이퍼용 건식 세정장치.
  13. 제1항 또는 제7항에 있어서,
    상기 웨이퍼의 하부에 배치되어 레이저 광에 의해 가열된 웨이퍼를 냉각하기 위한 냉각 유닛을 더 포함하는 웨이퍼용 건식 세정장치.
  14. 삭제
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 제1항 또는 제7항에 있어서,
    상기 공기 분사부에서 분사되는 가스는 비활성 가스인 웨이퍼용 건식 세정장치.
  18. 제6항에 있어서,
    다수의 굴절 광학계가 사용되는 웨이퍼용 건식 세정장치.
  19. 제12항에 있어서,
    다수의 굴절 광학계가 사용되는 웨이퍼용 건식 세정장치.
  20. 웨이퍼 표면 상부로부터 레이저 광을 웨이퍼 표면에 조사하여 웨이퍼 표면의 유기 잔류물을 건식 세정하기 위한 웨이퍼용 건식 세정장치에 있어서,
    레이저 광을 조사하는 레이저 광원;
    상기 레이저 광원에서 조사된 광을 균일하게 하는 제1균일 광학계;
    상기 제1균일 광학계를 통과한 레이저 광이 평행하게 진행하도록 하는 콜리메이션 광학계;
    상기 콜리메이션 광학계를 통과한 광을 90도 굴절시키기 위한 굴절 광학계;
    상기 굴절 광학계를 통과한 광을 균일하게 하는 제2균일 광학계;
    상기 제2균일 광학계를 통과한 광을 웨이퍼의 크기에 맞게 조절하여 웨이퍼 표면에 조사하기 위한 이미징 광학계;
    상기 광이 조사되어 가열된 웨이퍼를 냉각하기 위한 냉각 유닛;
    웨이퍼의 한쪽에 마련되어 웨이퍼의 표면으로 비활성 가스를 분사하는 공기 분사부와,
    상기 공기 분사부의 반대쪽에서 마련되어 공기 분사부에 의해 분사된 비활성 가스와 웨이퍼의 표면의 유기 잔류물을 흡입하는 공기 흡입부와,
    상기 공기 분사부와 공기 흡입부 사이에 설치되어 상기 공기 분사부에서 분사된 비활성 가스가 유동할 수 있는 공간인 유로부를 포함하고,
    상기 공기 흡입부는 상기 공기 분사부에 비해 좁은 폭을 가짐으로써 상기 유로부에서 유동하는 비활성 가스의 속도가 상기 공기 흡입부 쪽으로 갈수록 커지는 웨이퍼용 건식 세정장치.

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