KR102623409B1 - 약액 검사 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 약액 검사 장치는, 약액을 공급하는 약액 공급부에 마련되는 배관부에 연결되며, 상기 약액이 유입되는 입구가 형성되고, 배관 구조을 이루는 라인부; 상기 입구로 유입되는 상기 약액이 유체의 속도가 변화되면서 이동되며, 상기 라인부의 입구에 인접하게 마련되는 제1 영역부와, 상기 제1 영역부와 직렬로 연통되어 상기 제1 영역부로부터 배출되는 상기 약액이 이동되는 제2 영역부를 포함하는 유로부; 상기 제1 영역부의 전기 신호인 제1 신호를 감지하는 제1 감지부재와, 상기 제2 영역부의 전기 신호인 제2 신호를 감지하는 제2 감지부재를 포함하는 감지부; 및 상기 감지부로부터 신호를 받아, 기준값에 대비하여 상기 제1 신호 및 상기 제2 신호의 전류가 변화되면 파티클과 기포가 감지되는 것으로 판별하며, 상기 제1 신호와 상기 제2 신호의 전류 차이 또는 전류가 변화되는 시간 차이에 따라 파티클과 기포를 구별하여 판별하는 판별부를 포함한다.

Description

약액 검사 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{APPARATUS FOR INSPECTING DROPLET AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME}
본 발명은 약액 검사 장치 및 이를 포함하는 기판 처리에 관한 것이다.
기판 표면에 잔류하는 파티클(Particle) 등의 물질은 반도체 소자의 특성과 생산 수율에 많은 영향을 미친다. 이 때문에 기판 표면에 부착된 각종 오염 물질을 제거하는 세정 공정이 반도체 제조 공정에서 중요하다. 반도체를 제조하는 각 단위 공정의 전후 단계에서 기판을 세정 처리하는 공정이 실시된다. 일반적으로 기판의 세정은 케미칼과 같은 약액(처리액)을 이용하여 기판 상에 잔류하는 파티클 등을 제거하는 케미칼 처리 공정, 순수를 이용하여 기판 상에 잔류하는 케미칼을 제거하는 린스 공정, 그리고 건조 가스 등을 이용하여 기판을 건조하는 건조 공정을 포함한다.
다만 약액은 배관 등을 통해 공급되는 바와 같이, 각종 상황에 따라 공정 과정에서 약액 내에 기포나 파티클이 발생될 수도 있다. 예를 들어 약액이 공급되는 과정에서 펌프의 동작이나 밸브의 온/오프(on/off) 동작으로 인해 기포가 불규칙적으로 발생될 수 있다.
특히 차세대 반도체는, 이물질인 파티클의 사이즈가 마이크로(μ) 단위 또는 나노(n) 단위와 같이 매우 작게 이루어지더라도 생산 수율에 영향을 미칠 수 있다. 이에 따라 미세 단위의 파티클이나 기포의 제거가 필요하다.
마이크로(μ) 단위 또는 나노(n) 단위와 같이 미세 단위의 기포와 파티클은 그 특성이나 발생 원인이 서로 상이하고 제거 방법 또한 상이하다. 그리고 기포나 파티클을 제거하기 위해서는, 기포나 파티클을 제거하기에 앞서 약액 내에 기포나 파티클이 있는지 검사할 필요가 있다.
한편, 기포의 발생 여부는 유량계 이상 발생과 같이 간접적인 측정방법으로 이룰 수 있다. 그런데 이러한 방법으로는 약액의 상태를 정확히 검사하기 어렵다. 게다가 유량계 이상 여부 만으로는 유체 내의 파티클을 검사하기 어렵다. 더불어 SURFSCAN 장비(Program to operate a LASER profilometer)가 근래에 개발되고 있으나, 이러한 장비는 사이즈가 대형으로 이루어지며 고가이다. 게다가 SURFSCAN 장비는 결함의 크기나 위치는 파악할 수 있으나, 결함의 원인이 기포로 인한 것인지 파티클로 인한 것인지 파악하기 어렵다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 고가의 장비를 사용하지 않고 간소한 구조를 가지는 약액 검사 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는, 간소한 구성의 추가만으로 기포와 파티클을 검사할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 약액 검사 장치의 일 면(aspect)은, 약액을 공급하는 약액 공급부에 마련되는 배관부에 연결되며, 상기 약액이 유입되는 입구가 형성되고, 배관 구조을 이루는 라인부; 상기 입구로 유입되는 상기 약액이 유체의 속도가 변화되면서 이동되며, 상기 라인부의 입구에 인접하게 마련되는 제1 영역부와, 상기 제1 영역부와 직렬로 연통되어 상기 제1 영역부로부터 배출되는 상기 약액이 이동되는 제2 영역부를 포함하는 유로부; 상기 제1 영역부의 전기 신호인 제1 신호를 감지하는 제1 감지부재와, 상기 제2 영역부의 전기 신호인 제2 신호를 감지하는 제2 감지부재를 포함하는 감지부; 및 상기 감지부로부터 신호를 받아, 기준값에 대비하여 상기 제1 신호 및 상기 제2 신호의 전류가 변화되면 파티클과 기포가 감지되는 것으로 판별하며, 상기 제1 신호와 상기 제2 신호의 전류 차이 또는 전류가 변화되는 시간 차이에 따라 파티클과 기포를 구별하여 판별하는 판별부를 포함한다.
상기 라인부는, 일단이 상기 배관부에서 분기되고 타단이 상기 배관부에 합류될 수 있다.
상기 유로부를 경유하는 상기 약액의 유체 속도는, 상기 제1 영역부의 압력을 높이거나 상기 제2 영역부의 압력을 낮추어, 상기 제1 영역부에 대비하여 상기 제2 영역부를 이동하는 상기 약액의 유체 속도가 증가될 수 있다.
상기 유로부에 연결되어 상기 제1 영역부의 압력을 높이는 압력변화부를 더 포함할 수 있다.
상기 판별부는, 상기 제1 신호와 상기 제2 신호의 전류 차이 또는 전류가 변화되는 시간 차이가 0이면 상기 약액에 파티클이 포함되는 것으로 판별하고, 상기 제1 신호와 상기 제2 신호의 전류 차이 또는 전류가 변화되는 시간 차이가 발생하면 상기 약액에 기포가 포함되는 것으로 판별하여, 파티클과 기포를 구별하여 판별할 수 있다.
상기 유로부는, 제1 폭을 이루는 제1 구간과, 제1 폭에 대비하여 폭이 크게 이루어진 제2 폭을 이루는 제2 구간이 형성되고, 상기 제1 구간과 상기 제2 구간 각각은 상기 제1 영역부와 상기 제2 영역부 각각에 하나 이상 마련될 수 있다.
상기 감지부는, 상기 제2 구간에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 다른 과제를 달성하기 위한 본 발명의 기판 처리 장치의 일 면은, 약액을 공급하는 약액 공급부; 상기 약액 공급부로부터 상기 약액이 공급되는 상기 약액 검사 장치를 포함한다.
상기 약액은 상기 웨이퍼를 세정하는 세정액 또는 상기 웨이퍼를 가공하는 처리액 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
상기 처리액은, 포토레지스터 또는 상기 웨이퍼를 식각하는 식각액 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 처리 장치를 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 약액 검사 장치가 공급 라인에 설치된 모습을 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 약액 검사 장치의 유로부에서 파티클이 포함된 유체가 이동되는 모습을 도시한 도면이다.
도 4는 도 3의 감지부의 전기 신호 변화를 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 약액 검사 장치의 유로부에서 기포가 포함된 유체가 이동되는 모습을 도시한 도면이다.
도 6은 도 5의 감지부의 전기 신호 변화를 도시한 도면이다.
도 7a는 본 발명의 제1 실시예에 따른 약액 검사 장치의 유로부의 제1 영역부와 제2 영역부의 다른 변형예를 도시한 도면이다.
도 7b는 본 발명의 제1 실시예에 따른 약액 검사 장치의 유로부의 제1 영역부와 제2 영역부의 또 다른 변형예를 도시한 도면이다.
도 8은 도 7b의 감지부의 전기 신호 변화를 도시한 도면이다.
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 처리 장치를 도시한 도면이다.
도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 처리 장치의 스핀척을 도시한 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 게시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 게시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층의 "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 다른 소자 또는 층의 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 소자가 "직접 위(directly on)" 또는 "바로 위"로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자 또는 층을 개재하지 않은 것을 나타낸다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 소자, 구성요소 및/또는 섹션들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 소자, 구성요소 및/또는 섹션들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 소자, 구성요소 또는 섹션들을 다른 소자, 구성요소 또는 섹션들과 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 소자, 제1 구성요소 또는 제1 섹션은 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 소자, 제2 구성요소 또는 제2 섹션일 수도 있음은 물론이다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 처리 장치를 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 약액 검사 장치가 공급 라인에 설치된 모습을 도시한 도면이며, 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 약액 검사 장치의 유로부에서 파티클이 포함된 유체가 이동되는 모습을 도시한 도면이다. 그리고 도 4는 도 3의 감지부의 전기 신호 변화를 도시한 도면이며, 도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 약액 검사 장치의 유로부에서 기포가 포함된 유체가 이동되는 모습을 도시한 도면이고, 도 6은 도 5의 감지부의 전기 신호 변화를 도시한 도면이다.
먼저 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치(1)는, 기판(이하에서 웨이퍼로 명칭될 수 있음)을 처리하는 장치로서, 약액 공급부(부호 도시하지 않음), 챔버(50) 및 약액 검사 장치(100)를 포함할 수 있다.
약액 공급부는 약액을 공급하는 구성으로서, 탱크(10), 순환 라인(20), 공급 라인(30), 회수 라인(40)을 포함할 수 있다.
먼저 탱크(10)는, 하나 이상 마련될 수 있다. 예시적으로 도 1을 참조하면 탱크(10)는 2개 마련될 수 있다. 탱크(10)가 복수 개로 마련되는 것은 하나의 탱크(10) 내의 약액(이하에서 유체로 명칭될 수 있음)이 소진되면, 공급중인 탱크(10)에 약액을 즉시 충전할 필요없이, 다른 탱크(10)를 예비용으로 사용하기 위함이나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어 하나 이상의 탱크(10)는 서로 연결될 수 있고, 펌프(11)의 펌핑 작동으로 약액의 이동이 이루어질 수도 있다. 더불어 약액에 열이 부가되도록 히터(12) 등이 연결될 수도 있는 바와 같이, 다양한 구성의 변경이 가능하다.
아울러 탱크(10)는 순환 라인(20)이 연결될 수 있다. 순환 라인(20)은 탱크(10)에서 탱크(10)까지 연결될 수 있고, 후술되는 공급 라인(30)과 회수 라인(40)이 연결될 수 있다. 그리고 순환 라인(20)에 연결되는 공급 라인(30)을 통해 약액이 탱크(10)로부터 챔버(50)로 공급될 수 있다. 더불어 순환 라인(20)에 회수 라인(40)이 연결되어, 순환 라인(20)을 경유한 약액이 회수 라인(40)을 통해 다시 탱크(10)로 회수될 수도 있다.
게다가 순환 라인(20)에는, 탱크(10)로부터 챔버(50)로 공급되는 약액의 온도와 유량 등을 제어하기 위한 다양한 구성이 마련될 수 있다. 예를 들어 순환 라인(20)에는 메인 펌프(21), 댐퍼(22), 메인 히터(23), 필터(24), 버블커터(25), 유량기(26) 밸브(부호 도시하지 않음) 등이 마련될 수 있다. 순환 라인(20)에 마련되는 메인 펌프(21), 댐퍼(22), 메인 히터(23) 및 유량기(26) 등의 구성은, 공지된 메카니즘에 갈음하여 구체적인 설명은 생략하도록 한다.
공급 라인(30)은, 챔버(50)로 공급되는 약액이 경유하는 구성으로서, 순환 라인(20)과 챔버(50) 사이를 연결할 수 있다. 이에 따라 약액은 순환 라인(20)으로부터 공급 라인(30)을 경유하여 챔버(50)로 이동할 수 있다. 이때 순환 라인(20)에 마련되는 메인 펌프(21)의 펌핑 작동에 의해 유체가 펌핑되어 유체의 흐름이 발생될 수 있고, 밸브(도시하지 않음)의 개도 조절에 의해 유량이 조절될 수 있다. 아울러 공급 라인(30)에는, 순환 라인(20)과 별도의 유량기(31) 등이 마련될 수 있으며, 다양한 구성의 변경이 가능하다.
더불어 공급 라인(30)에서 분기되는 회수 라인(40)을 통해 약액이 탱크(10)로 회수될 수도 있다. 예를 들어 회수 라인(40)은, 공급 라인(30)에서 순환 라인(20)으로 연결될 수 있다. 그리고 회수 라인(40)을 경유하는 약액은, 공급 라인(30)으로부터 순환 라인(20)을 경유하여 탱크(10)로 이동될 수 있다. 또한, 공급 라인(30)에서 회수 라인(40)이 분기되는 지점에는 삼방밸브(32)가 마련될 수 있다. 이에 따라 공급 라인(30)을 경유하는 약액은, 공급 라인(30)을 경유하여 챔버(50)로 이동되거나, 공급 라인(30)에서 삼방밸브(32)를 통해 회수 라인(40)으로 이동되는 바와 같이, 약액의 흐름 방향이 삼방밸브(32)에 의해 제어될 수 있다.
챔버(50)는, 순환 라인(20)에서 분기되는 공급 라인(30)을 통해 탱크(10)로부터 약액을 공급받아 웨이퍼를 처리할 수 있다. 챔버(50)는 기판 처리를 위한 공간이 형성되는 다양한 구조를 이룰 수 있다. 도면으로 도시하지는 않았으나 챔버(50)는 상자형으로 이루어질 수 있다. 더불어 챔버(50) 내부에는, 기판(도시하지 않음)이 수평하게 유지되면서 회전되기 위한 척(51)이 마련될 수 있다. 이와 더불어 챔버(50)는 기판으로부터 배출된 약액을 받아들여 수용하는 통 형태의 컵부(55)가 마련될 수 있다. 이외에 다양한 구성의 변경에 따라 여러 변형예가 가능하고, 공지 기술이 조합될 수도 있다.
예시적으로 챔버(50)는 세정 공정에 마련되는 세정 챔버일 수 있다. 즉 본 실시예의 기판 처리 장치(1)는, 기판 세정 공정에 사용되는 챔버(50)에 약액을 공급할 수 있다. 세정 공정을 위한 챔버(50)에 공급되는 약액은, 예시적으로 세정액으로서 알카리성 약액, 산성 약액, 린스액, 오존수 및 IPA(이소프로필알코올) 등일 수 있다.
그러나 본 실시예는 세정 공정에 한정되는 것은 아니며, 본 실시예에 상충되지 않는다면 약액을 공급하는 다양한 공정에 적용될 수 있다. 다른 예로 챔버(50)는 건조 공정이나 식각 공정 등을 위한 챔버일 수 있다. 그리고 앞서 기술되는 순환 라인(20) 상의 구성 또한 건조 공정이나 식각 공정 등을 위한 구성으로 변경될 수도 있다. 더불어 챔버(50)가 건조 공정이나 식각 공정을 위한 챔버로 이루어지면, 약액은 처리액으로서 건조액 또는 식각액일 수 있다. 그러나 이는 예시에 불과하므로 이에 한정되지 않는다.
게다가 챔버(50)가 세정 공정 또는 식각 공정 중 어느 하나만으로 한정되는 것은 아니며, 세정 공정, 건조 공정 및 식각 공정 중 어느 하나 이상이 포함될 수도 있다. 이러한 공정 외에도 본 실시예에 상충되지 않는다면 본 실시예에 언급되지 않는 다른 공정의 챔버가 포함될 수도 있다.
한편 기판 처리 장치(1)는, 세정 또는 식각 이외에 다른 공정을 수행할 수도 있어, 기판을 가공하기 위한 포토리소그래피 공정을 수행할 수도 있다. 다시 말해서 본 실시예의 기판 처리 장치(1)는 약액 공급을 이루는 다양한 공정에 적용될 수 있다.
다른 예로서 기판 처리 장치(1)가 포토리소그래피 공정을 수행하면, 약액은 처리액으로서 포토레지스터일 수 있다. 이에 대한 설명은 도 9 및 도 10을 참조하여 후술하도록 한다.
그리고 앞서 언급되는 바와 같이, 기판 처리 장치(1)는 순환 라인(20)에 버블커터(25)가 마련될 수 있다. 버블커터(25)에 의해 기포가 제거될 수 있으나, 공정 과정에서 버블커터(25)의 하류에 기포가 다시 발생되거나, 미세 기포는 버블커터(25)에 의해 제거되기 어려울 수 있다. 더불어 버블커터(25)에 의해 파티클은 제거되지 않고 유체에 계속 남을 수 있다. 기포와 파티클은 반도체 소자(웨이퍼 가공물)의 특성과 생산 수율에 영향을 미칠 수 있어 제거될 필요가 있다.
즉 기포와 파티클은 웨이퍼를 가공하는 과정에서 불규칙적으로 발생될 수 있다. 더불어 기포와 파티클은 특성이 상이하여 기포와 파티클을 제거하는 방법은 상이할 수 있다. 그리고 유체에는 기포와 파티클이 항상 동일한 현상으로 발생되는 것은 아니다. 이에 따라 기포와 파티클을 제거하거나 관리하기 위해, 유체에 기포 또는 파티클이 포함되는지 검사할 필요가 있다. 이를 위해 약액 검사 장치(100)가 마련될 수 있다.
이하에서 약액 검사 장치(100)를 설명한다. 다만 이에 앞서, 특성이 상이한 파티클과 기포에 대하여 언급하면 아래와 같다.
파티클은 고체로 이루어져 압력 변화(유체의 속도 변화에 의해 발생될 수 있음)와 관계없이 입자의 직경(또는 사이즈) 변화가 기포에 대비하여 없기 때문에, 유체의 속도와 관계없이 동일할 수 있다. 반면 기포는 내부에 기체(공기 등)가 포함되므로, 압력이 변화되면 기체의 부피 변화로 인해 기포의 직경이 달라질 수 있다. 이와 같이 파티클과 기포는 유체의 속도 및 압력에 대하여 상이한 특성을 가질 수 있다. 그리고 약액은 파티클이나 기포에 대비하여 전도성이 높아 전류가 용이하게 통할 수 있다. 반면, 파티클과 기포는 전도성이 낮아 전류의 저항 역할을 할 수 있다.
이러한 특성에 따라 약액 검사 장치(100)는, 전류 신호의 변화를 감지하여 파티클이나 기포를 감지할 수 있으며, 구체적으로 아래와 같다. 다만 본 명세서의 실시예 들은 하나 이상이 조합될 수 있고, 설명 및 이해의 편의를 위해 다른 실시예의 도면이 참조되어 설명될 수 있음을 언급하여 둔다.
도 3 내지 도 6를 참조하면, 본 실시예의 약액 검사 장치(100)는, 유체의 파티클 및 기포를 검사하도록, 라인부(110), 유로부(120), 감지부(130) 및 판별부(140)를 포함할 수 있다. 간략하게 약액 검사 장치(100)는 웨이퍼를 가공하거나 처리하는 약액이 약액 공급부로부터 공급될 수 있고, 배관부(20, 30, 40)에 연결되어 배관부(20, 30, 40)를 경유하는 약액을 검사할 수 있다. 여기서 배관부(20, 30, 40)는 약액을 공급하는 약액 공급부에 마련될 수 있으며, 순환 라인(20), 공급 라인(30) 및 회수 라인(40)을 포함할 수 있다.
구체적으로 라인부(110)는 약액이 유입되는 입구가 형성되는 배관 구조을 이룰 수 있다. 라인부(110)는 일단이 배관부(20, 30, 40)에 분기되는 형태로 연결되고 타단이 배관부(20, 30, 40)에 합류되는 형태를 이루어, 배관부(20, 30, 40)와 병렬 연결되는 구조를 이룸으로써 배관부(20, 30, 40)를 경유하는 약액이 분기되어 공급될 수 있다. 도 1을 참조하는 바와 같이 라인부(110)는 예를 들어 라인부(110)의 공급 라인(30)에 연결될 수 있다. 라인부(110)는 외관이 파이프 구조를 가질 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 그리고 라인부(110)는 내부에 유로부(120)가 형성될 수 있다.
유로부(120)는, 유체가 이동되는 구성으로서, 라인부(110)로 유입되는 약액이 유체의 속도가 변화되면서 이동될 수 있다. 유로부(120)를 이동하는 약액은, 라인부(110)에 가해지는 압력 등에 따라, 유체의 속도가 라인부(110)의 입구로부터 출구까지 점차 증가될 수 있다. 다시 말해서 유로부(120)를 이동하는 유체는, 라인부(110)로 유입된 이후 약액 검사 장치(100)의 단부 방향으로 이동(또는 약액 검사 장치(100)의 외부로 배출)되는 과정에서 유체의 속도가 압력 변화 등에 의해 점차 증가될 수 있다.
유로부(120)를 이동하는 약액은, 위치에 따라 유체의 속도 및 압력에 차이가 있다. 더불어 유체의 압력이 변화면 기포의 직경도 달라질 수 있다. 그러면 저항이 변화여 전기 신호 또한 변화될 수 있으므로, 이러한 변화를 통해 기포를 감지할 수 있다. 이러한 메카니즘을 설명하기 용이하도록, 유로부(120)는 위치로 구분하여 설명될 수 있다.
간략하게 유로부(120)는, 위치로 구분되는 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)를 포함할 수 있다. 더불어 유로부(120)는 폭으로 구분되는 제1 구간(1201)과 제2 구간(1202)을 포함할 수 있다. 후술하겠으나 일부 언급하면, 제1 영역부(121)/제2 영역부(122, 123)와 제1 구간(1201)/제2 구간(1202)은 서로 구분되는 것이 다르므로, 제1 영역부(121)에 제1 구간(1201)과 제2 구간(1202)이 마련될 수 있다. 더불어 제2 영역부(122, 123)에 제1 구간(1201)과 제2 구간(1202)이 마련될 수 있다. 즉 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)는, 제1 구간(1201)과 제2 구간(1202)의 조합으로 이루어질 수 있어, 형상이 서로 동일할 수 있다. 게다가 유로부(120)는, 구조 등이 다양한 변형예를 이룰 수 있다. 이러한 유로부(120)에 대하여 설명하면 아래와 같다.
유로부(120)는, 유체의 이동 통로를 이루는 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)가 서로 이어져서 길이를 가지는 구조를 가질 수 있다. 다만 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)는 위치만 상이하고 형상이 서로 동일할 수 있다. 즉 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)의 차이는, 입구와의 이격 거리가 다른 것에 차이가 있다. 예를 들어 제1 영역부(121)는, 라인부(110)의 입구에 인접하게 마련될 수 있다. 이에 따라 입구로 유입되는 유체가 제1 영역부(121)를 경로하여 라인부(110)의 단부로 이동될 수 있다. 그리고 제2 영역부(122, 123)는 제1 영역부(121)와 직렬로 연통되어 제1 영역부(121)로부터 배출되는 유체가 이동될 수 있다. 즉 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)가, 라인부(110)의 입구로부터 일렬로 마련될 수 있다.
이러한 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)는, 유체의 속도가 상이한 두 영역의 전기 신호를 감지부(130)가 감지하도록 하기 위함이므로, 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)의 위치는 유로부(120) 중 앞뒤(상하류) 방향으로 서로 구분되면 된다.
다시 말해서 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)는, 전기 검사 영역이 동일한 환경을 제공하도록, 예를 들어 전기 검사 영역이 동일한 면적을 이루면 된다. 즉 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)에 위치되는 제1 구간(1201)과 제2 구간(1202)의 개수나 범위가 서로 동일하면 된다.
이에 대하여 도 3 및 도 5를 참조하면(약액의 흐름은 도 3 및 도 5를 기준으로 왼쪽으로부터 오른쪽으로 이동됨, 도 3은 도 2의 A 내부가 확대된 모습), 제1 영역부(121)는 제1 구간(1201)과 제2 구간(1202)이 각각 하나씩 포함되는 영역을 이룰 수 있다. 이때 제2 구간(1202)이 2개의 제1 구간(1201) 사이의 영역으로 구분되지 않고, 1개의 제1 구간(1201)의 앞뒤 방향으로 일정한 영역으로 구분되는 것을 알 수 있다. 이는 제2 영역부(122, 123)도 동일하다. 이와 같이, 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)는 감지부(130)에서 전기를 감지하기 위한 동일한 환경/영역을 이루면 된다.
게다가 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)는 유로부(120)의 길이 방향에 대하여 앞뒤 방향으로 구분되므로, 제2 영역부(122, 123)의 위치가 제1 영역부(121)의 바로 후단에 위치되는 것으로 한정되지 않는다.
즉 도 3 및 도 5를 참조하는 바와 같이, 제2 영역부(122, 123)는 제1 영역부(121)의 바로 후단에 위치되거나(식별부호 122인 제2 영역부(122)를 의미함), 일정한 거리 이격된 위치에 마련될 수도 있다(식별부호 123인 제2 영역부(123)를 의미함). 이와 같이 다양한 변형예가 가능하다.
그리고 본 실시예에서 제2 영역부(122, 123)가 복수 개로 마련되나, 이는 제1 영역부(121)와 개별로 대조되기 위함이다. 즉 제1 영역부(121)의 전기 신호는 제2 영역부(122)와 대조되거나, 제2 영역부(123)와 대조될 수 있다. 또는 복수 개의 제2 영역부(122, 123)의 전기 신호가 대조될 수도 있다.
게다가 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123) 각각은, 하나의 제1 구간(1201) 및 제2 구간(1202)이 포함되는 것으로 한정되지 않는다. 이에 대하여 도 7a 및 도 7b를 참조하여 후술하도록 한다.
다음으로 유로부(120)의 제1 구간(1201)과 제2 구간(1202)에 대하여 설명하면 아래와 같다.
제1 구간(1201)은 제1 폭(도 3 참조, 식별번호 'W1' 참고)을 이룰 수 있다. 제2 구간(1202)은 제1 폭에 대비하여 폭이 크게 이루어진 제2 폭(도 3 참조, 식별번호 'W2' 참고)을 이룰 수 있다.
예를 들어 제1 구간(1201)과 제2 구간(1202)의 폭이 상이하게 이루어지는 것은, 파티클이나 기포에 의한 저항 변화를 세밀하게 감지하기 위해 적어도 일부 구간은 폭이 작게 이루어지도록 하기 위함이다. 다시 말해서, 저항 값의 변화는 폭이 큰 구간에 대비하여 폭이 작은 구간에서 비율의 변화가 크게 이루어질 수 있다. 이에 따라 감지부(130)가 전기 신호를 감지하는 영역 중 적어도 일부 구간의 폭이 작게 형성되도록, 유로부(120)는 제1 구간(1201)을 포함하는 것이다.
예시적으로 파티클이나 기포(미세 기포일 수 있음)가 마이크로(μ) 단위 또는 나노(n) 단위로 이루어질 수 있다. 그러면 제1 구간(1201)의 직경은, 복수개의 파티클이나 기포가 포함되는 유체의 이동이 가능한 직경을 가지되, 마이크로 단위 또는 나노 단위로 이루어질 수 있다. 예시적으로 하나의 파티클이 1 나노이고, 제1 구간(1201)의 직경은 20 나노 내지 100 나노일 수 있다.
다만 제1 구간(1201)의 직경의 단위가 마이크로 단위나 나노 단위로 한정되는 것은 아니며, 미리미리(mm) 단위 등으로 이루어질 수도 있는 바와 같이, 본 실시예에 상충되지 않는다면 다양한 변형예가 가능하다.
이러한 제1 구간(1201)과 제2 구간(1202) 각각은, 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123) 각각에 하나 이상 마련될 수 있다. 따라서 제1 영역부(121)는 하나 이상의 제1 구간(1201)과 하나 이상의 제2 구간(1202)이 마련될 수 있어, 제1 구간(1201)과 제2 구간(1202)이 서로 번갈아 마련될 수 있다. 이와 동일하게 제2 영역부(122, 123)는 하나 이상의 제1 구간(1201)과 하나 이상의 제2 구간(1202)이 마련될 수 있다.
감지부(130)는, 판별부(140)에서 유로부(120) 내의 전기 신호의 차이를 판별할 수 있도록, 감지부(130)의 전기 신호(약액의 전기 신호일 수 있음)를 감지할 수 있다. 감지부(130)의 연결은, 제1 구간(1201)에 대비하여 상대적으로 넓은 제2 폭을 가지는 제2 구간(1202)에 전기적으로 연결될 수 있다. 이때 감지부(130)의 양단 사이에는 전도성을 가지는 약액이 흘러 약액과 감지부(130)가 직렬 연결되는 구조를 가질 수 있다. 그리고 제1 구간(1201)은 앞서 언급되는 바와 같이, 기포와 파티클에 의해 저항값이 변화는 구간을 이룰 수 있다.
이러한 감지부(130)는, 제1 영역부(121) 및 제2 영역부(122, 123)의 전기 신호를 감지할 수 있는 제1 감지부재(131)와 제2 감지부재(132)를 포함할 수 있다. 제1 감지부재(131)와 제2 감지부재(132)는, 전기 신호를 측정하는 영역만 상이하고 기능 및 작동은 동일할 수 있다. 예시적으로 제1 감지부재(131)는 제1 영역부(121)의 전기 신호인 제1 신호를 감지할 수 있다. 제2 감지부재(132)는 제2 영역부(122, 123)의 전기 신호인 제2 신호를 감지할 수 있다. 그리고 제1 감지부재(131)와 제2 감지부재(132)는 동일 또는 유사하게 전기 신호를 감지할 수 있도록 전류계로 이루어질 수 있다.
감지부(130)의 전기 신호 감지에 대하여 설명하면 아래와 같다. 다만 설명에 앞서 도 4 및 도 6의 식별번호 CH1, CH2 및 CH3은 도 3 및 도 5의 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)를 표시한 것임을 언급하여 둔다. 즉 CH1은 제1 영역부(121)의 전기 신호 변화를 설명하기 위한 것이다. CH2 및 CH3은 제2 영역부(122, 123)의 전기 신호 변화를 설명하기 위한 것이다.
도 4 및 도 6을 참조하면, 가로 방향으로 이어지는 3개의 선이 도시된다. 여기서 3개의 선은 가상의 가로 축이 시간을 의미할 수 있다. 그리고 가상의 세로축은 전류의 변화량을 의미할 수 있다. 3개의 선이 동일한 기준점으로부터 전기 신호가 발생되고, 유체에 파티클 또는 기포가 포함되면 파티클 또는 기포가 저항으로 작용하여, 전류값인 세로 방향으로 변화가 발생된다. 파티클과 기포에 대한 전기 신호의 차이는 아래와 같다.
먼저 도 4를 참조하는 바와 같이, 세로 방향의 변화가 발생되는 구간에서 가로 축의 길이가 서로 동일하므로, 제1 감지부재(131)와 제2 감지부재(132)에서 감지되는 전류 변화의 시간이 동일함을 알 수 있다. 이는 앞서 언급된 바와 같이, 유체의 속도/압력이 증가되더라도 파티클은 직경 변화가 없어, 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)의 저항이 동일하기 때문이다.
다음으로 도 6을 참조하는 바와 같이, 제1 감지부재(131)와 제2 감지부재(132)에서 감지되는 전류 변화의 시간이 서로 상이함을 알 수 있다. 이는 유체의 속도가 증가되면 기포는, 압력 변화에 따라 부피 변화가 발생되어, 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)에서 크기가 다른 저항으로 작용하기 때문이다.
판별부(140)는, 기준값(예시적으로 파티클과 기포가 포함되지 않는 유체의 전류값일 수 있음)에 대비하여 감지부(130)에서 감지되는 제1 신호와 제2 신호의 전류가 변화되면 파티클과 기포가 감지되는 것으로 판별할 수 있다.
게다가 판별부(140)는 감지부(130)로부터 신호를 받아, 제1 영역부(121)의 전기 신호인 제1 신호와 제2 영역부(122, 123)의 전기 신호인 제2 신호의 전류 차이 또는 전류가 변화되는 시간 차이에 따라 파티클과 기포를 구별하여 판별할 수 있다.
판별부(140)는, 제1 신호와 제2 신호의 전류 차이 또는 전류가 변화되는 시간 차이가 0이면 유체에 파티클이 포함되는 것으로 판별할 수 있다. 그리고 판별부(140)는, 제1 신호와 제2 신호의 전류 차이 또는 전류가 변화되는 시간 차이가 발생하면 유체에 기포가 포함되는 것으로 판별할 수 있다. 이와 같이 판별부(140)는 파티클과 기포가 유체에 포함됨을 판별할 수 있을 뿐만 아니라, 파티클과 기포를 구별하여 판별할 수 있다. 그리고 판별부(140)는 기판 처리 장치(1)의 지속적인 관리 등을 위해, 표시 장치, 메모리 칩, 데이터 리더 장치 등이 포함될 수도 있다.
압력변화부(190)는, 유로부(120)의 입구와 출구의 압력 변화를 발생시키는 구성이다. 예시적으로 압력변화부(190)는 펌프로 이루어져 입구 측의 압력을 높일 수 있다. 그러면 유체가 유로부(120)를 이동하는 과정에서, 제1 영역부(121)의 유체 압력에 대비하여 제2 영역부(122, 123)의 유체 압력이 낮아질 수 있다. 압력에 변화가 발생되면 앞서 언급된 바와 같이 파티클과 기포는 직경의 변화가 서로 다르게 이루어질 수 있다.
이와 같이 압력에 변화가 발생되면, 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)의 전기 신호를 감지 및 판별하여, 유체 내에 기포가 포함되는지 또는 파티클이 포함되는지 감지할 수 있다.
이하에서는 도 7a 내지 도 8을 참조하여, 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122, 123)의 변형예를 설명하도록 한다.
도 7a는 본 발명의 제1 실시예에 따른 약액 검사 장치의 유로부의 제1 영역부와 제2 영역부의 다른 변형예를 도시한 도면이고, 도 7b는 본 발명의 제1 실시예에 따른 약액 검사 장치의 유로부의 제1 영역부와 제2 영역부의 또 다른 변형예를 도시한 도면이며, 도 8은 도 7b의 감지부의 전기 신호 변화를 도시한 도면이다.
먼저 도 7a를 참조하면, 유로부(120)는 앞서 언급된 실시예와 동일하거나 유사하게 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122)를 포함할 수 있다. 다만 본 실시예는 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122) 각각이, 하나 이상의 제1 구간(1201) 및 하나 이상의 제2 구간(1202)이 포함되는 것에 차이가 있다.
예를 들어 제1 영역부(121)는 2개의 제1 구간(1201)과 3개의 제2 구간(1202)이 서로 번갈아 위치될 수 있다. 이와 동일하게 제2 영역부(122)는 2개의 제1 구간(1201)과 3개의 제2 구간(1202)이 서로 번갈아 위치될 수 있다. 그리고 제2 영역부(122)는 제1 영역부(121)의 바로 후단에 위치되거나 일정 거리 이상 멀어진 위치에 마련될 수 있음은 물론이다.
더불어 감지부(130)의 제1 감지부재(131)와 제2 감지부재(132)는, 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122) 각각에 하나 이상 마련될 수 있다. 예를 들어 도 7a를 참조하는 바와 같이, 제1 영역부(121)에 2개의 제1 감지부재(131)가 마련되고, 제2 영역부(122)에 2개의 제2 감지부재(132)가 마련될 수 있다. 그리고 하나 이상의 제1 감지부재(131)와 하나 이상의 제2 감지부재(132) 각각은, 평균값으로 산출되어 판별부(140)에서 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122)의 전기 신호 차이를 판별하거나 개별의 전기 신호를 모두 대조할 수도 있다.
다만 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122) 각각에 하나 이상의 제1 감지부재(131)와 하나 이상의 제2 감지부재(132)가 마련되는 것으로 한정되지 않고 다른 변형예가 가능하다.
도 7b를 참조하면, 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122) 각각은, 하나 이상의 제1 구간(1201)과 하나 이상의 제2 구간(1202)이 포함될 수 있다. 그리고 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122) 각각에 하나의 제1 감지부재(131)와 하나의 제2 감지부재(132)가 전기적으로 연결될 수 있다.
그리고 본 실시예의 제1 영역부(121)와 제2 영역부(122)는, 제1 구간(1201)과 제2 구간(1202)의 수가 복수개로 마련되어, 전기 신호를 감지하는 영역이 확장되는 것이 제1 실시예와 차이가 있다. 따라서 전기 신호 감지는 동일한 원리 및 형태로 이루어질 수 있다. 이에 대하여 도 8을 참조하면 아래와 같다.
도 8을 참조하는 바와 같이, 유체에 파티클이 포함되면, 제1 감지부재(131)와 제2 감지부재(132)에서 감지되는 전류 변화의 시간이 동일함을 알 수 있다. 그리고 도면에 도시하지는 않았으나 본 실시예의 유로부(120)에 기포가 포함되면 전기 신호의 변화 시간이 상이해질 수 있다. 이는 앞서 설명한 기술 내용과 동일하므로 중복되는 설명은 생략하도록 한다.
한편 앞서 설명되는 제1 실시예의 기판 처리 장치(1)는 세정액을 공급하는 것을 예시하였다. 다른 예로 기판 처리 장치(1)는 포토리소그래피 공정을 포함할 수 있다. 이때 약액은 처리액으로서 포토레지스터일 수 있다. 이하에서 도면을 참조하여 설명하도록 한다. 그리고 동일한 기능을 하는 동일한 구성의 중복되는 설명은 생략하도록 한다. 아울러 동일한 부호를 이루는 구성에 대하여 일부 차이가 있더라도, 기능이 서로 동일하면 동일한 부호를 사용할 수 있음을 언급하여 둔다.
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 처리 장치를 도시한 도면이고, 도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 처리 장치의 스핀척을 도시한 도면이다.
도 9 및 도 10을 참조하면 기판 처리 장치(1)는, 인덱스부(60), 처리부(70), 인터페이스부(80) 및 노광부(90)를 포함할 수 있다. 그리고 본 실시예는 제1 실시예의 약액 검사 장치(100)가 배관부(20, 30, 40)에 동일하게 적용될 수 있으므로, 이와 중복되는 설명은 생략하도록 한다.
기판은, 기판 처리 장치(1)의 인덱스부(60), 처리부(70), 인터페이스부(80) 및 노광부(90)를 상하 및 좌우방향으로 루프식으로 이동할 수 있다. 예를 들어 처리부(70)의 일측에는 노광부(90)와 연결되는 인터페이스부(80)가 마련될 수 있다. 인터페이스부(80)에는 노광부(90)와 처리부(70) 간에 기판을 이송하는 로봇(81)이 배치될 수 있다. 로봇(81)은 기판을 직접 핸들링하는 핸드가 3축 방향으로 이동 가능하고 회전될 수 있도록 다축 구동이 가능한 구조를 가질 수 있다.
그리고 기판이 기판 처리 장치(1)를 이동하는 과정에서 포토 레지스트를 도포하는 공정(포토리소그래피 공정)과 현상하는 공정이 수행될 수 있다. 예시적으로 노광 공정 전에 기판 상에 포토 레지스트를 도포하는 공정과 노광 공정 후에 기판을 현상하는 공정이 진행될 수 있다.
그리고 포토 레지스트를 도포하는 공정과 현상 공정은, 처리부(70)에서 수행될 수 있다. 처리부(70)는 스핀척(51A), 현상 유닛(도시하지 않음), 그리고 베이크 유닛(도시하지 않음)을 포함할 수 있다.
본 실시예의 스핀척(51A)은 기판을 고정시키고 고정된 기판을 회전시킬 수 있다. 더불어 약액의 검사가 필요하면, 배관부(20, 30, 40)(도 1 참조)에 약액 검사 장치(100)를 연결시킨 후 약액 검사 장치(100)로 약액을 공급할 수 있다.
그리고 스핀척(51A)의 상부에는 포토레지스터를 배출하는 노즐(부호 도시하지 않음)이 마련될 수 있다. 도면에 도시하지 않았으나 노즐은 약액 공급부와 연결될 수 있다. 더불어 앞서 설명되는 제1 실시예의 기판 처리 장치(1)는 세정액을 수용하는 컵부(55)가 마련되나, 본 실시예의 기판 처리 장치(1)는 컵부(55)가 생략될 수 있다.
한편 본 실시예의 기판 처리 장치(1)와 도 1을 참조하여 설명한 기판 처리 장치(1)가 서로 다른 실시예로 설명되었다. 그러나 이는 예시에 불과하고, 이들 실시예가 조합되어 또 다른 실시예가 가능함은 물론이다. 다시 말해서 기판 처리 장치(1)는 스핀척(51A)(또는 척(51))을 포함하고 스핀척(51A)의 상부에 2개의 노즐(세정액이 공급되는 노즐과 포토레지스터가 공급되는 노즐)이 서로 이웃하여 함께 마련될 수 있다. 이와 더불어 기판 처리 장치(1)는 세정액을 수용할 수 있도록 컵부(55)도 마련될 수 있다. 이와 같이, 기판 처리 장치(1)는 다양한 변형예가 가능하다.
이상과 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
1: 기판 처리 장치 50: 챔버
100: 약액 검사 장치 110: 라인부
120: 유로부 130: 감지부
140: 판별부

Claims (10)

  1. 약액을 공급하는 약액 공급부에 마련되는 배관부에 연결되며, 상기 약액이 유입되는 입구가 형성되고, 배관 구조을 이루는 라인부;
    상기 입구로 유입되는 상기 약액이 유체의 속도가 변화되면서 이동되며, 상기 라인부의 입구에 인접하게 마련되는 제1 영역부와, 상기 제1 영역부와 직렬로 연통되어 상기 제1 영역부로부터 배출되는 상기 약액이 이동되는 제2 영역부를 포함하는 유로부;
    상기 제1 영역부의 전기 신호인 제1 신호를 감지하는 제1 감지부재와, 상기 제2 영역부의 전기 신호인 제2 신호를 감지하는 제2 감지부재를 포함하는 감지부; 및
    상기 감지부로부터 신호를 받아, 기준값에 대비하여 상기 제1 신호 및 상기 제2 신호의 전류가 변화되면 파티클과 기포가 감지되는 것으로 판별하며, 상기 제1 신호와 상기 제2 신호의 전류 차이 또는 전류가 변화되는 시간 차이에 따라 파티클과 기포를 구별하여 판별하는 판별부를 포함하고,
    상기 유로부를 경유하는 상기 약액의 유체 속도는, 상기 제1 영역부의 압력을 높이거나 상기 제2 영역부의 압력을 낮추어, 상기 제1 영역부에 대비하여 상기 제2 영역부를 이동하는 상기 약액의 유체 속도가 증가되는, 약액 검사 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 라인부는, 일단이 상기 배관부에서 분기되고 타단이 상기 배관부에 합류되는, 약액 검사 장치.
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 유로부에 연결되어 상기 제1 영역부의 압력을 높이는 압력변화부를 더 포함하는, 약액 검사 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 판별부는,
    상기 제1 신호와 상기 제2 신호의 전류 차이 또는 전류가 변화되는 시간 차이가 0이면 상기 약액에 파티클이 포함되는 것으로 판별하고,
    상기 제1 신호와 상기 제2 신호의 전류 차이 또는 전류가 변화되는 시간 차이가 발생하면 상기 약액에 기포가 포함되는 것으로 판별하여,
    파티클과 기포를 구별하여 판별하는, 약액 검사 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 유로부는, 제1 폭을 이루는 제1 구간과, 제1 폭에 대비하여 폭이 크게 이루어진 제2 폭을 이루는 제2 구간이 형성되고,
    상기 제1 구간과 상기 제2 구간 각각은 상기 제1 영역부와 상기 제2 영역부 각각에 하나 이상 마련되는, 약액 검사 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 감지부는, 상기 제2 구간에 전기적으로 연결되는, 약액 검사 장치.
  8. 약액을 공급하는 약액 공급부;
    상기 약액 공급부로부터 상기 약액이 공급되는 제1항의 상기 약액 검사 장치를 포함하는, 기판 처리 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 약액은 웨이퍼를 세정하는 세정액 또는 상기 웨이퍼를 가공하는 처리액 중 어느 하나를 포함하는, 기판 처리 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 처리액은, 포토레지스터 또는 상기 웨이퍼를 식각하는 식각액 중 어느 하나를 포함하는, 기판 처리 장치.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060177815A1 (en) 2004-11-29 2006-08-10 The Regents Of The University Of California Dielectrophoretic particle sorter
JP2008529673A (ja) 2005-02-14 2008-08-07 オプテイスカン・バイオメデイカル・コーポレーシヨン 身体流体サンプルを分析する装置と方法
JP2010281701A (ja) 2009-06-05 2010-12-16 Tohoku Univ 微粒子連続選別・計測装置およびマイクロ流体チップ
JP2018515764A (ja) 2015-04-30 2018-06-14 ヨーロピアン モレキュラー バイオロジー ラボラトリーＥｕｒｏｐｅａｎ Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｂｉｏｌｏｇｙ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ マイクロ流体の液滴の検出およびソーティング
US20210072137A1 (en) * 2019-09-11 2021-03-11 Woods Hole Oceanographic Institution System and method of use for electrically differentiating particles in a liquid

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100306951B1 (ko) * 1995-12-05 2001-11-15 테칸 보스턴, 인코포레이티드 내장된정보과학에의해미세유체공학시스템내의유체유동을구동시키기위해구심가속도를이용하는장치및방법
KR102193669B1 (ko) * 2018-06-07 2020-12-22 세메스 주식회사 압력 측정 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치
KR20200133892A (ko) * 2019-05-20 2020-12-01 삼성전자주식회사 스핀 코터 및 그를 이용한 반도체 소자의 제조 방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060177815A1 (en) 2004-11-29 2006-08-10 The Regents Of The University Of California Dielectrophoretic particle sorter
JP2008529673A (ja) 2005-02-14 2008-08-07 オプテイスカン・バイオメデイカル・コーポレーシヨン 身体流体サンプルを分析する装置と方法
JP2010281701A (ja) 2009-06-05 2010-12-16 Tohoku Univ 微粒子連続選別・計測装置およびマイクロ流体チップ
JP2018515764A (ja) 2015-04-30 2018-06-14 ヨーロピアン モレキュラー バイオロジー ラボラトリーＥｕｒｏｐｅａｎ Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｂｉｏｌｏｇｙ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ マイクロ流体の液滴の検出およびソーティング
US20210072137A1 (en) * 2019-09-11 2021-03-11 Woods Hole Oceanographic Institution System and method of use for electrically differentiating particles in a liquid

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