KR102613046B1 - Metal chalcogenide nanoparticle and manufacturing method thereof - Google Patents

Metal chalcogenide nanoparticle and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
KR102613046B1
KR102613046B1 KR1020150140614A KR20150140614A KR102613046B1 KR 102613046 B1 KR102613046 B1 KR 102613046B1 KR 1020150140614 A KR1020150140614 A KR 1020150140614A KR 20150140614 A KR20150140614 A KR 20150140614A KR 102613046 B1 KR102613046 B1 KR 102613046B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
metal chalcogenide
chalcogenide nanoparticles
nanoparticles
surfactant
organic solvent
Prior art date
Application number
KR1020150140614A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20170041091A (en
Inventor
김상우
박혜정
신현진
Original Assignee
삼성전자주식회사
성균관대학교산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사, 성균관대학교산학협력단 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020150140614A priority Critical patent/KR102613046B1/en
Publication of KR20170041091A publication Critical patent/KR20170041091A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102613046B1 publication Critical patent/KR102613046B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B17/00Sulfur; Compounds thereof
    • C01B17/20Methods for preparing sulfides or polysulfides, in general
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B19/00Selenium; Tellurium; Compounds thereof
    • C01B19/002Compounds containing, besides selenium or tellurium, more than one other element, with -O- and -OH not being considered as anions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G39/00Compounds of molybdenum
    • C01G39/06Sulfides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/01Particle morphology depicted by an image
    • C01P2004/04Particle morphology depicted by an image obtained by TEM, STEM, STM or AFM
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/20Particle morphology extending in two dimensions, e.g. plate-like
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/60Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
    • C01P2006/64Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values b* (yellow-blue axis)

Abstract

금속 칼코게나이드 나노입자 및 그 제조방법이 개시된다. 상기 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법은 한 단계의 저온 공정으로 결정성 및 분산력이 우수한 금속 칼코게나이드 나노입자를 제조할 수 있다. 상기 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법은 상압, 저온 조건에서 결정성 및 분산력이 뛰어난 금속 칼코게나이드 나노입자를 제조할 수 있다.Metal chalcogenide nanoparticles and a method for producing the same are disclosed. The method for producing metal chalcogenide nanoparticles can produce metal chalcogenide nanoparticles with excellent crystallinity and dispersibility through a one-step low-temperature process. The method for producing metal chalcogenide nanoparticles can produce metal chalcogenide nanoparticles with excellent crystallinity and dispersibility under normal pressure and low temperature conditions.

Description

금속 칼코게나이드 나노입자 및 그 제조방법 {Metal chalcogenide nanoparticle and manufacturing method thereof}Metal chalcogenide nanoparticle and manufacturing method thereof}

금속 칼코게나이드 나노입자 및 그 제조방법에 관한 것이다.It relates to metal chalcogenide nanoparticles and their manufacturing method.

금속 칼코게나이드(metal chalcogenides)는 중요한 반도체 물질로서 이들이 가지는 화학적 물리적 특성 때문에 양 전지(solar cell), 광 탐지기(photo detector), 빛 발광 다이오드(light-emitting diode)등 여러 분야에 있어서 연구 및 개발이 이루어지고 있다.Metal chalcogenides are important semiconductor materials, and due to their chemical and physical properties, they are studied and developed in various fields such as solar cells, photo detectors, and light-emitting diodes. This is being done.

일반적으로 나노 크기의 물질은 입자의 크기가 작아지면 입자의 표면 대 질량의 비율이 증가되어 단위 질량 당 표면적이 증가한다. 또한 전자의 에너지 상태가 분자에 가까워지면서 벌크 물질과는 전혀 다른 물성이 나타난다. 나노 물질의 표면적 증가와 활성화는 입자의 녹는점이 낮아지는 것처럼 물성의 변화에 영향을 주며 또한 양자 효과에 의한 광학적, 전기적 성질의 변화에 영향을 주어 새로운 광전자 소재로 응용할 수 있다.In general, in nano-sized materials, as the particle size decreases, the ratio of the surface to mass of the particle increases, thereby increasing the surface area per unit mass. Additionally, as the energy state of the electron approaches that of the molecule, physical properties appear that are completely different from those of the bulk material. Increased surface area and activation of nanomaterials affect changes in physical properties, such as lowering the melting point of particles, and also affect changes in optical and electrical properties due to quantum effects, which can be used as new optoelectronic materials.

나노 크기의 금속 칼코게나이드 물질은 생물학적 마커(biological marker), 비선형 광학 물질, 발광 소자, 광검출기, 촉매, 화학적 센서 등으로서 응용될 수 있기 때문에, 금속 칼코게나이드 나노입자를 보다 효율적으로 합성하기 위한 다양한 방법들이 시도되고 있다. Since nano-sized metal chalcogenide materials can be applied as biological markers, nonlinear optical materials, light-emitting devices, photodetectors, catalysts, chemical sensors, etc., it is possible to synthesize metal chalcogenide nanoparticles more efficiently. Various methods are being tried.

예를 들어, 비교적 높은 온도에서 칼코겐 소스의 존재 하에 유기금속 전구체를 열분해하는 수열합성(hydrothermal) 등의 용액 합성법이 제안되고 있다. 그러나, 기존의 용액 합성법은 고온에서 진행되고, 대체로 두 단계 이상의 온도 스텝을 갖는다. 높은 온도를 이용하는 것은 반응물질의 취급을 위험하게 만들 수 있고, 많은 양의 에너지를 반응에 사용하게 한다는 점에서 불리하다. 또한, 높은 온도에서 매우 빠른 시간, 즉 수초 안에 반응기 내에 전구체 물질을 주입해야만 균일한 크기의 나노입자가 제조될 수 있다는 단점이 있다.For example, solution synthesis methods such as hydrothermal synthesis, which thermally decomposes organometallic precursors in the presence of a chalcogen source at a relatively high temperature, have been proposed. However, existing solution synthesis methods proceed at high temperatures and generally have two or more temperature steps. Using high temperatures is disadvantageous in that it can make handling of reactants dangerous and requires a large amount of energy to be used for the reaction. In addition, there is a disadvantage that nanoparticles of uniform size can be manufactured only by injecting the precursor material into the reactor at a high temperature very quickly, that is, within a few seconds.

일 측면은 결정성 및 분산성이 우수한 금속 칼코게나이드 나노입자를 저온에서 제조할 수 있는 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법을 제공하는 것이다.One aspect is to provide a method for producing metal chalcogenide nanoparticles that can produce metal chalcogenide nanoparticles with excellent crystallinity and dispersibility at low temperatures.

다른 측면은 상기 제조방법에 의해 제조될 수 있는 금속 칼코게나이드 나노입자를 제공하는 것이다.Another aspect is to provide metal chalcogenide nanoparticles that can be produced by the above production method.

일 측면에서는, In terms of work,

유기 용매 내에 금속 전구체 및 칼코겐 전구체의 혼합물, 또는 금속-칼코겐 함유 전구체를 포함하는 혼합 용액을 상기 유기 용매의 기화점 이하의 소정 온도로 가열하여, 상기 혼합 용액의 반응 온도를 안정화시키는 단계; 및Stabilizing the reaction temperature of the mixed solution by heating a mixture of a metal precursor and a chalcogen precursor in an organic solvent, or a mixed solution containing a metal-chalcogen containing precursor to a predetermined temperature below the vaporization point of the organic solvent; and

상기 안정화된 반응 온도를 유지하면서 금속 칼코게나이드 나노입자를 형성하는 단계;Forming metal chalcogenide nanoparticles while maintaining the stabilized reaction temperature;

를 포함하는 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법이 제공된다.A method for producing metal chalcogenide nanoparticles comprising a is provided.

다른 측면에서는, 상기 제조방법에 의해 제조될 수 있는 금속 칼코게나이드 나노입자가 제공된다.In another aspect, metal chalcogenide nanoparticles that can be produced by the above production method are provided.

일 측면에 따른 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법은 한 단계의 저온 공정으로 결정성 및 분산력이 우수한 금속 칼코게나이드 나노입자를 제조할 수 있다. 상기 제조방법은 공정이 단순하고, 별다른 가스 분위기를 요하지 않기 때문에, 공정 단가를 대폭 감소시고 생산 효율을 증가시킬 수 있다.The method for producing metal chalcogenide nanoparticles according to one aspect can produce metal chalcogenide nanoparticles with excellent crystallinity and dispersibility through a one-step low-temperature process. Since the manufacturing method is simple and does not require a special gas atmosphere, the process cost can be significantly reduced and production efficiency can be increased.

도 1은 실시예 1 내지 3에 따라 제조한 MoS2 나노입자에 대한 고분해능 투과전자현미경 (High Resolution Transmission Electron Microscopy, HRTEM) 분석 결과이다.
도 2는 실시예 1 내지 3에 따라 제조한 MoS2 나노입자의 결정학적 분석 결과이다.
도 3은 실시예 1에 따라 제조한 MoS2 나노입자에 대한 라만 분광 분석 결과이다.
도 4는 실시예 1 내지 3에 따라 MoS2 나노입자를 제조하는 과정에서, 반응시간에 따라 혼합 용액의 pH 변화를 분석한 결과이다.
도 5는 실시예 1에 따라 제조한 MoS2 나노입자의 HRTEM 분석 결과이다.
도 6은 실시예 4-5에 따라 제조한 MoS2 나노입자의 HRTEM 분석 결과이다.
도 7은 실시예 6-7에 따라 제조한 MoS2 나노입자의 HRTEM 분석 결과이다.
도 8은 실시예 4에 따라 제조한 MoS2 나노입자의 결정학적 분석 결과이다.
도 9는 일 실시예에 따른 상기 금속 칼코게나이드 나노입자를 포함하는 박막을 채용한 반도체 소자의 구조를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
Figure 1 shows the results of high resolution transmission electron microscopy (HRTEM) analysis of MoS 2 nanoparticles prepared according to Examples 1 to 3.
Figure 2 shows the results of crystallographic analysis of MoS 2 nanoparticles prepared according to Examples 1 to 3.
Figure 3 shows the results of Raman spectroscopy analysis of MoS 2 nanoparticles prepared according to Example 1.
Figure 4 shows the results of analyzing the change in pH of the mixed solution according to reaction time during the process of manufacturing MoS 2 nanoparticles according to Examples 1 to 3.
Figure 5 shows the HRTEM analysis results of MoS 2 nanoparticles prepared according to Example 1.
Figure 6 shows the results of HRTEM analysis of MoS 2 nanoparticles prepared according to Examples 4-5.
Figure 7 shows the results of HRTEM analysis of MoS 2 nanoparticles prepared according to Examples 6-7.
Figure 8 shows the results of crystallographic analysis of MoS 2 nanoparticles prepared according to Example 4.
Figure 9 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a semiconductor device employing a thin film containing the metal chalcogenide nanoparticles according to an embodiment.

첨부된 도면들을 참조하면서 이하에서 예시적인 금속 칼코게나이드 나노입자 및 그 제조방법에 대하여 더욱 상세하게 설명하기로 한다.Exemplary metal chalcogenide nanoparticles and their manufacturing method will be described in more detail below with reference to the attached drawings.

일 구현예에 따른 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법은, A method for producing metal chalcogenide nanoparticles according to one embodiment,

유기 용매 내에 금속 칼코게나이드계 전구체를 포함하는 혼합 용액을 상기 유기 용매의 기화점 이하의 소정 온도로 가열하여, 상기 혼합 용액의 반응 온도를 안정화시키는 단계; 및Stabilizing the reaction temperature of the mixed solution by heating a mixed solution containing a metal chalcogenide-based precursor in an organic solvent to a predetermined temperature below the vaporization point of the organic solvent; and

상기 안정화된 반응 온도를 유지한 상태에서 금속 칼코게나이드 나노입자를 생성시키는 단계;를 포함한다.It includes generating metal chalcogenide nanoparticles while maintaining the stabilized reaction temperature.

상기 방법을 통해 제조되는 금속 칼코게나이드 나노입자는 사용되는 전구체 종류에 따라 하기 화학식 1로 표시되는 조성을 가질 수 있다.Metal chalcogenide nanoparticles prepared through the above method may have a composition represented by the following formula (1) depending on the type of precursor used.

[화학식 1][Formula 1]

MaXb M a

상기 식에서, M은 금속이고, X는 S, Se, Te이고, 1≤a≤7, 1≤b≤9 이다.In the above formula, M is a metal, X is S, Se, Te, and 1≤a≤7, 1≤b≤9.

상기 금속 칼코게나이드 나노입자는 예를 들어 전이금속 디칼코게나이드(transition metal dichalcogenide) 나노입자일 수 있다. The metal chalcogenide nanoparticles may be, for example, transition metal dichalcogenide nanoparticles.

상기 전이금속 디칼코게나이드 나노입자는 예를 들어 하기 화학식 2로 표시되는 조성을 가질 수 있다.For example, the transition metal dichalcogenide nanoparticles may have a composition represented by the following formula (2).

[화학식 2][Formula 2]

MX2 MX 2

상기 식에서, M은 전이금속 원소이고, A는 S, Se 또는 Te이다.In the above formula, M is a transition metal element and A is S, Se or Te.

예를 들어, 상기 M은 Mo, W, Nb, V, Ta, Ti, Zr, Hf, Tc 및 Re 중 하나일 수 있다.For example, M may be one of Mo, W, Nb, V, Ta, Ti, Zr, Hf, Tc, and Re.

이러한 전이금속 디칼코게나이드 나노입자로는 예를 들어, MoS2, MoSe2, MoTe2, WS2, WSe2, WTe2, ZrS2, ZrSe2, HfS2, HfSe2, NbSe2, ReSe2 등일 수 있다.Such transition metal dichalcogenide nanoparticles include, for example, MoS 2 , MoSe 2 , MoTe 2 , WS 2 , WSe 2 , WTe 2 , ZrS 2 , ZrSe 2 , HfS 2 , HfSe 2 , NbSe 2 , ReSe 2 , etc. You can.

상기 전이금속 디칼코게나이드 나노입자는 2차원의 층상 결정 구조를 갖는다.The transition metal dichalcogenide nanoparticles have a two-dimensional layered crystal structure.

이러한 금속 칼코게나이드 나노입자를 제조하기 위하여, 우선 유기 용매 내에 금속 칼코게나이드 전구체를 포함하는 혼합 용액을 준비한다.To prepare such metal chalcogenide nanoparticles, first prepare a mixed solution containing a metal chalcogenide precursor in an organic solvent.

상기 금속 칼코게나이드 전구체로는 예를 들어, 금속 전구체 물질 및 칼코겐 전구체 물질을 혼합하여 사용할 수 있다.For example, the metal chalcogenide precursor may be used by mixing a metal precursor material and a chalcogen precursor material.

상기 금속 전구체 물질로는 예를 들어, 금속 산화물, 금속 하이드록사이드, 금속 할라이드, 금속 아세테이트, 금속 카보네이트, 금속 설페이트, 금속 나이트레이트, 금속 알콕사이드, 금속 아미노알콕사이드, 금속 옥살레이트 등의 금속염을 사용할 수 있다.As the metal precursor material, for example, metal salts such as metal oxide, metal hydroxide, metal halide, metal acetate, metal carbonate, metal sulfate, metal nitrate, metal alkoxide, metal aminoalkoxide, and metal oxalate can be used. there is.

상기 칼코겐 전구체 물질로는 예를 들어, 황(S), 이황화탄소(CS2), 다이페닐다이설파이드(PhSSPh), 황화우레아(NH2CSNH2), CnH2n+1CSH, CnH2n+1SSCnH2n+1, 셀레늄(Se), 카본다이셀라나이드(CSe2), 다니페닐다이셀라나이드(PhSeSePh), NH2CSeNH2, CnH2n+1CSeH, CnH2n+1SeSeCnH2n+1, 텔루륨(Te), PhTeTePh 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 여기서, 상기 n은 1 이상이며, 예를 들어 1≤n≤10 일 수 있다. Examples of the chalcogen precursor material include sulfur (S), carbon disulfide (CS 2 ), diphenyl disulfide (PhSSPh), urea sulfide (NH 2 CSNH 2 ), CnH 2n+1 CSH, CnH 2n+1 SSCnH 2n+1 , selenium (Se), carbon diselanide (CSe 2 ), daniphenyl diselanide (PhSeSePh), NH 2 CSeNH 2 , CnH 2n+1 CSeH, CnH 2n+1 SeSeCnH 2n+1 , tellurium (Te), PhTeTePh, etc. can be used, but are not limited thereto. Here, n is 1 or more, and may be, for example, 1≤n≤10.

상기 금속 전구체 물질 및 칼코겐 전구체 물질의 혼합량은 원하는 금속 칼코게나이드 조성에 따라 화학량론적으로 결정될 수 있으나, 공정 조건이나 결정상 제어를 위하여 혼합량이 조절될 수 있다.The mixing amount of the metal precursor material and the chalcogen precursor material may be stoichiometrically determined depending on the desired metal chalcogenide composition, but the mixing amount may be adjusted for process conditions or crystal phase control.

예를 들어, 전이금속 디칼코게나이드 나노입자를 제조하기 위하여, 금속과 칼코겐 원소의 몰비가 M : X = 1 : 2 가 되도록 금속 전구체 물질 및 칼코겐 전구체 물질을 혼합할 수 있으나, 금속 전구체 물질의 분해로 금속 입자가 혼합되지 않은 상태로 전이금속 디칼코게나이드 나노입자가 생성될 수도 있다는 점을 고려하여, 칼코겐 전구체 물질을 금속 전구체 물질에 대하여 약 2 내지 3 당량 범위로 사용하는 것이 전이금속 디칼코게나이드 나노입자를 단일 결정상으로 제조할 수 있다.For example, to produce transition metal dichalcogenide nanoparticles, the metal precursor material and the chalcogen precursor material can be mixed so that the molar ratio of the metal and chalcogen elements is M: Considering that transition metal dichalcogenide nanoparticles may be generated without mixing metal particles due to decomposition, it is recommended to use the chalcogen precursor material in an amount of about 2 to 3 equivalents relative to the metal precursor material. Dichalcogenide nanoparticles can be manufactured in a single crystal phase.

상기 금속 전구체 물질 및 칼코겐 전구체 물질은 동시에 또는 순차적으로 유기 용매에 투입되어 혼합 용액이 준비될 수 있다.The metal precursor material and the chalcogen precursor material may be simultaneously or sequentially added to an organic solvent to prepare a mixed solution.

상기 금속 칼코게나이드 전구체의 다른 예로는, 금속 및 칼코겐을 모두 함유하고 있는 단일 전구체 물질을 들 수 있다. 이러한 단일 전구체 물질로는 예를 들어, (NH4)2MoS4, (NH4)2WS4 등이 사용될 수 있다. 이와 같은 단일 전구체 물질은 개별적인 전구체 물질의 혼합량을 조절할 필요가 없이 MX2 조성의 전이금속 디칼코게나이드 형성에 유용하게 사용될 수 있다.Another example of the metal chalcogenide precursor is a single precursor material containing both metal and chalcogen. For example, (NH 4 ) 2 MoS 4 , (NH 4 ) 2 WS 4 , etc. may be used as such a single precursor material. Such a single precursor material can be usefully used to form a transition metal dichalcogenide of the MX 2 composition without the need to adjust the mixing amount of individual precursor materials.

상기 혼합 용액에 사용되는 유기 용매는 비양성자성 극성 용매를 사용할 수 있다. 상기 비양자성 극성 용매로는 예를 들어 디메틸포름아미드. 디옥틸에테트. 술폭시화디메틸, 트리옥틸포스핀 또는 이의 혼합물을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The organic solvent used in the mixed solution may be an aprotic polar solvent. Examples of the aprotic polar solvent include dimethylformamide. Dioctyl ether. Dimethyl sulfoxide, trioctylphosphine, or mixtures thereof may be used, but are not limited thereto.

이와 같이 준비된 혼합 용액은 상기 유기 용매의 기화점(boiling point) 이하의 소정 온도로 가열하여, 상기 혼합 용액의 반응 온도를 안정화시킨다.The mixed solution prepared in this way is heated to a predetermined temperature below the boiling point of the organic solvent to stabilize the reaction temperature of the mixed solution.

상기 혼합 용액을 사용된 유기 용매의 기화점 이하로 하는 것은 온화한 반응 조건 하에서 유기 용매의 소실 없이 결정성의 금속 칼코게나이드 나노입자를 합성할 수 있다. 상기 혼합 용액을 사용된 유기 용매의 기화점보다 높을 경우, 반응 속도가 너무 빨라 생성되는 금속 칼코게나이드의 입자 크기를 제어하기 어려울 수 있으며, 온도 상승을 위한 제조비용의 증가로 경제적인 면에서 불리하게 된다. By keeping the mixed solution below the vaporization point of the organic solvent used, crystalline metal chalcogenide nanoparticles can be synthesized without loss of the organic solvent under mild reaction conditions. If the mixed solution is higher than the vaporization point of the organic solvent used, the reaction rate is too fast, and it may be difficult to control the particle size of the produced metal chalcogenide, and it is economically disadvantageous due to the increase in manufacturing cost for increasing temperature. I do it.

이와 같이 낮은 온도에서도 결정성의 금속 칼코게나이드가 생성되는 것을 후술하는 실시예를 통하여 확인할 수 있다.It can be confirmed through examples described later that crystalline metal chalcogenides are produced even at such low temperatures.

상기 혼합 용액의 반응 온도는 유기 용매의 기화점 이하의 범위에서, 예를 들어 약 50℃ 이상, 약 75℃ 이상, 약 100℃ 이상, 또는 약 120℃ 이상의 온도가 유지되도록 안정화시킬 수 있다. 또한, 반응 온도가 높아질수록 얻어지는 금속 칼코게나이드 나노입자의 평균 입경이 커지고, 결정성이 더 좋아질 수 있다. 따라서, 유기 용매의 기화점 이하의 범위에서 반응 온도를 조절함으로써 금속 칼코게나이드 나노입자의 평균 입경을 제어할 수 있다. The reaction temperature of the mixed solution can be stabilized to be maintained at or below the vaporization point of the organic solvent, for example, about 50°C or higher, about 75°C or higher, about 100°C or higher, or about 120°C or higher. Additionally, as the reaction temperature increases, the average particle diameter of the obtained metal chalcogenide nanoparticles increases and the crystallinity may improve. Therefore, the average particle diameter of the metal chalcogenide nanoparticles can be controlled by adjusting the reaction temperature in a range below the vaporization point of the organic solvent.

가열 수단으로는 열 에너지를 공급할 수 있는 가열 수단이라면 제한없이 사용가능며, 예를 들어 핫 플레이트 또는 히팅 맨틀 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.As a heating means, any heating means capable of supplying heat energy can be used without limitation. For example, a hot plate or a heating mantle can be used, but it is not limited thereto.

이와 같이 안정화된 반응 온도를 유지한 상태에서 금속 칼코게나이드 나노입자를 생성시킨다.In this way, metal chalcogenide nanoparticles are generated while maintaining the stabilized reaction temperature.

또한, 반응이 진행됨에 따라, 금속 칼코게나이드 입자가 더 많이 형성되고, 혼합용액 내 금속 칼코게나이드 전구체의 농도가 줄어든다. 이에 따라, 반응이 진행될수록 혼합용액의 pH가 낮아진다. 따라서, 반응시간에 따른 pH의 감소변화를 보면, 금속 칼코게나이드 나노입자의 형성 정도를 짐작할 수 있다.Additionally, as the reaction progresses, more metal chalcogenide particles are formed, and the concentration of the metal chalcogenide precursor in the mixed solution decreases. Accordingly, as the reaction progresses, the pH of the mixed solution decreases. Therefore, the degree of formation of metal chalcogenide nanoparticles can be estimated by looking at the decrease in pH depending on the reaction time.

상기 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법은 계면활성제를 사용하지 않고도, 결정성 및 분산력이 뛰어난 금속 칼코게나이드 나노입자를 제조할 수 있다. The method for producing metal chalcogenide nanoparticles can produce metal chalcogenide nanoparticles with excellent crystallinity and dispersibility without using a surfactant.

상기 제조방법은 특별히 계면활성제의 사용을 필요로 하지 않지만, 금속 칼코게나이드 나노입자 생성 반응시 금속 칼코게나이드 나노입자를 안정화시키고, 입자 크기를 제어하기 위하여 계면활성제를 추가적으로 사용할 수 있다.The manufacturing method does not specifically require the use of a surfactant, but a surfactant may be additionally used to stabilize the metal chalcogenide nanoparticles and control the particle size during the reaction to produce metal chalcogenide nanoparticles.

상기 계면활성제는 N, P, S 등의 전자 주개 원소를 1개 이상 포함하는 유기화합물을 사용할 수 있다. 이러한 예로는 1차 아민, 2차 아민, 3차 아민과 같은 아민 화합물, 포스핀 화합물, 포스핀 옥사이드 화합물, 인산 화합물, 티올 화합물 등을 들 수 있다.The surfactant may be an organic compound containing one or more electron donor elements such as N, P, and S. Examples of these include amine compounds such as primary amines, secondary amines, and tertiary amines, phosphine compounds, phosphine oxide compounds, phosphoric acid compounds, and thiol compounds.

상기 계면 활성제로는 예를 들어 올레일 아민(oleyl amine), 도데실 아민(dodecyl amine), 라우릴 아민(lauryl amine), 옥틸 아민(octyl amine), 트리옥틸 아민(trioctyl amine), 다이옥틸 아민(dioctyl amine), 헥사데실 아민(hexadecyl amine), 헵타데실 아민(heptadecyl amine) 등의 아민 화합물; 헥사데칸 티올(hexadecane thiol), 도데칸 티올(dodecane thiol), 헵타데칸 티올(heptadecane thiol), 옥타 데칸 티올(ocradecane thiol) 등의 알칸 티올; 트리옥틸포스핀옥사이드, 트리옥틸포스핀, 올레인산, 비스(2-에틸헥실)하이드로겐포스페이트 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The surfactant includes, for example, oleyl amine, dodecyl amine, lauryl amine, octyl amine, trioctyl amine, and dioctyl amine. Amine compounds such as dioctyl amine, hexadecyl amine, and heptadecyl amine; Alkane thiols such as hexadecane thiol, dodecane thiol, heptadecane thiol, and octadecane thiol; Trioctylphosphine oxide, trioctylphosphine, oleic acid, bis(2-ethylhexyl)hydrogenphosphate, etc. can be used, but are not limited thereto.

상기 계면활성제는 1종 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The above surfactants can be used alone or in combination of two or more types.

상기 계면활성제는 유기 용매에 대하여, 0.1 내지 5 배의 부피비로 사용될 수 있다. 예를 들어, 계면활성제는 유기 용매에 대하여 0.5 내지 3 배, 또는 1 내지 2 배의 부피비로 사용될 수 있다. 계면활성제의 사용량이 유기용매 부피의 5배를 초과하게 되면, 반응 완료 후에도 반응하지 않은 많은 양의 계면활성제가 남게 되어 이를 제거하기 위한 세척 및 분리 과정을 여러 번 수행해야 할 수 있다. The surfactant may be used in a volume ratio of 0.1 to 5 times the organic solvent. For example, the surfactant may be used in a volume ratio of 0.5 to 3 times, or 1 to 2 times the organic solvent. If the amount of surfactant used exceeds 5 times the volume of the organic solvent, a large amount of unreacted surfactant remains after the reaction is completed, and washing and separation processes may need to be performed several times to remove it.

또한, 상기 계면활성제는 첨가량을 조절하여 금속 칼코게나이드 나노입자의 입자 크기를 조절할 수 있다. 계면활성제의 사용량이 증가할수록, 금속 칼코게나이드 나노입자의 입자 크기가 작아진다. 이는 후술하는 실시예를 통하여 확인할 수 있었다.Additionally, the particle size of the metal chalcogenide nanoparticles can be adjusted by controlling the amount of the surfactant added. As the amount of surfactant used increases, the particle size of the metal chalcogenide nanoparticles becomes smaller. This could be confirmed through the examples described later.

상기 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법은, 전체 공정이 공기 분위기 하에서 수행될 수 있으며, 압력은 상압 상태에서 수행될 수 있다.In the method for producing the metal chalcogenide nanoparticles, the entire process may be performed under an air atmosphere and the pressure may be performed at normal pressure.

이와 같이 상기 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법은, 상압, 저온 조건에서 결정성 및 분산력이 뛰어난 금속 칼코게나이드 나노입자를 얻을 수 있다.In this way, the method for producing metal chalcogenide nanoparticles can obtain metal chalcogenide nanoparticles with excellent crystallinity and dispersibility under normal pressure and low temperature conditions.

이와 같이 제조된 금속 칼코게나이드 나노입자는 2차원의 층상 결정 구조를 가지며, 평균 입경이 약 10nm 이하이고, 용액 내에 잘 분산된 상태로 얻어질 수 있다. 상기 금속 칼코게나이드 나노입자의 평균 입경은 예를 들어 약 1nm 내지 약 10nm 범위일 수 있다.The metal chalcogenide nanoparticles prepared in this way have a two-dimensional layered crystal structure, have an average particle diameter of about 10 nm or less, and can be obtained well dispersed in a solution. The average particle diameter of the metal chalcogenide nanoparticles may range from about 1 nm to about 10 nm, for example.

생성된 금속 칼코게나이드 나노입자는 에탄올 또는 아세톤 등을 이용하여 침전시키고, 침전된 금속 칼코게나이드 나노입자를 분리, 회수할 수 있다. The produced metal chalcogenide nanoparticles can be precipitated using ethanol or acetone, and the precipitated metal chalcogenide nanoparticles can be separated and recovered.

이때, 상기 금속 칼코게나이드 나노입자의 분리는 원심분리기를 이용하며, 경우에 따라 여과법을 이용하여 분리될 수 있다.At this time, the metal chalcogenide nanoparticles are separated using a centrifuge, and in some cases, they may be separated using a filtration method.

상기 금속 칼코게나이드 나노입자는 입자 크기가 작고 분산력이 뛰어나, 잉크로 만들어 다양한 기판 위에 대면적 및 두께 조절 구현이 가능한 박막을 형성할 수 있다.The metal chalcogenide nanoparticles have a small particle size and excellent dispersibility, so they can be made into ink to form a thin film capable of controlling a large area and thickness on various substrates.

상기 금속 칼코게나이드 나노입자를 이용하여 형성된 박막은 우수한 유연성, 캐리어 이동도, 전자 및 광학 특성을 가질 수 있으며, 따라서 이러한 막은 투명 및 플랙서블 전계 효과 트랜지스터, 반도체 소자, 메모리 광학 소자, 이미지 센서, 포토디텍터(photodetector) 등의 분야에 광범위하게 적용 가능하다.Thin films formed using the metal chalcogenide nanoparticles can have excellent flexibility, carrier mobility, and electronic and optical properties, and therefore, such films can be used in transparent and flexible field effect transistors, semiconductor devices, memory optical devices, image sensors, It can be widely applied to fields such as photodetectors.

도 9는 일 실시예에 따른 상기 금속 칼코게나이드 나노입자를 포함하는 박막을 채용한 반도체 소자의 구조를 개략적으로 나타낸 단면도이다.Figure 9 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a semiconductor device employing a thin film containing the metal chalcogenide nanoparticles according to an embodiment.

도 9를 참조하면, 반도체 소자(100)는 기판(101) 상에 순서대로 적층된 게이트 전극(110), 게이트 절연층(120) 및 채널 영역(130)을 포함한다. 또한, 채널 영역(130)의 일부를 덮는 드레인 전극(140a) 및 소스 전극(140b)을 더 포함할 수 있으며, 드레인 전극(140a), 소스 전극(140b) 및 채널 영역(130)의 상부에는 패시베이션층(150)이 배치될 수 있다. 패시베이션층(150)을 관통하여 화소 전극(160a) 및 상부 게이트 전극(160b)이 배치될 수 있다. Referring to FIG. 9 , the semiconductor device 100 includes a gate electrode 110, a gate insulating layer 120, and a channel region 130 sequentially stacked on a substrate 101. In addition, it may further include a drain electrode 140a and a source electrode 140b covering a portion of the channel region 130, and a passivation layer may be applied to the drain electrode 140a, the source electrode 140b, and the upper part of the channel region 130. Layer 150 may be disposed. The pixel electrode 160a and the upper gate electrode 160b may be disposed through the passivation layer 150.

기판(101)은 유리 또는 플라스틱 등을 포함할 수 있다. 반도체 소자(100)가 디스플레이 소자에 사용되는 경우, 기판(101)은 절연성 물질을 포함할 수 있다. 게이트 전극(110)은 도전성 물질을 포함할 수 있으며, 투명 도전층과 불투명 도전층의 복합층으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 상기 투명 도전층은 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, ITO), 인듐 아연 산화물(Indium Zinc Oxide, IZO), 주석 산화물(Tin Oxide, TO) 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 상기 불투명 도전층은 알루미늄(Al), 은(Ag), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 탄탈륨(Ta) 및 티타늄(Ti) 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The substrate 101 may include glass or plastic. When the semiconductor device 100 is used in a display device, the substrate 101 may include an insulating material. The gate electrode 110 may include a conductive material and may be made of a composite layer of a transparent conductive layer and an opaque conductive layer. For example, the transparent conductive layer may include any one of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), and tin oxide (TO). The opaque conductive layer may include any one of aluminum (Al), silver (Ag), copper (Cu), molybdenum (Mo), chromium (Cr), tantalum (Ta), and titanium (Ti).

게이트 절연층(120)은 실리콘 산화물(SiO2), 실리콘 질화물(Si3N4), 실리콘 산질화물(SiON), 하프늄 산화물(HfO2), 하프늄 실리콘 산화물(HfSixOy), 알루미늄 산화물(Al2O3), 및 지르코늄 산화물(ZrO2) 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 채널 영역(130)은 드레인 전극(140a)과 소스 전극(140b)의 사이에서 반도체 소자(100)의 활성층인 채널이 형성되는 층에 해당한다. 채널 영역(130)은 일구현예에 따른 전이금속 칼코겐화합물 박막일 수 있다.The gate insulating layer 120 is made of silicon oxide (SiO 2 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), silicon oxynitride (SiON), hafnium oxide (HfO 2 ), hafnium silicon oxide (HfSi x O y ), and aluminum oxide ( Al 2 O 3 ), and zirconium oxide (ZrO 2 ) may be included. The channel region 130 corresponds to a layer in which a channel, which is an active layer of the semiconductor device 100, is formed between the drain electrode 140a and the source electrode 140b. The channel region 130 may be a transition metal chalcogenide thin film according to one embodiment.

드레인 전극(140a) 및 소스 전극(140b)은 게이트 전극(110)을 중심으로 서로 마주하도록 대칭적으로 배치될 수 있다. 소스 전극(140b)은, 게이트 전극(110)에 인가되는 신호가 채널 영역(130)을 통해 드레인 전극(140a)에 전달되도록 할 수 있다. 드레인 전극(140a) 및 소스 전극(140b)은 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 탄탈륨(Ta) 및 티타늄(Ti)과 같은 내화성 금속 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 패시베이션층(150)은 노출된 채널 영역(130)을 보호하기 위해, 드레인 전극(140a), 소스 전극(140b) 및 노출된 채널 영역(130) 상에 배치될 수 있다. 패시베이션층(150)은 무기 절연물 또는 유기 절연물을 포함할 수 있다. 화소 전극(160a) 및 상부 게이트 전극(160b)은 각각 드레인 전극(140a) 및 게이트 전극(110)과 접속된다. 드레인 전극(140a)을 통해서 전달된 신호가 화소 전극(160a)에 충전될 수 있다.The drain electrode 140a and the source electrode 140b may be symmetrically arranged to face each other with the gate electrode 110 as the center. The source electrode 140b may allow a signal applied to the gate electrode 110 to be transmitted to the drain electrode 140a through the channel region 130. The drain electrode 140a and the source electrode 140b may include any one of refractory metals such as molybdenum (Mo), chromium (Cr), tantalum (Ta), and titanium (Ti). The passivation layer 150 may be disposed on the drain electrode 140a, the source electrode 140b, and the exposed channel region 130 to protect the exposed channel region 130. The passivation layer 150 may include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The pixel electrode 160a and the upper gate electrode 160b are connected to the drain electrode 140a and the gate electrode 110, respectively. A signal transmitted through the drain electrode 140a may charge the pixel electrode 160a.

일구현예에 따른 반도체 소자(100)는 박막 트랜지스터로, 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD) 또는 유기 발광 표시 장치(Organic Light Emitting Display, OLED)에 스위칭 소자로서 사용될 수 있다. 상기 반도체 소자(100)는 하부-게이트(bottom-gate) 구조이지만, 이에 한정되지 않으며, 상부-게이트(top-gate) 구조에도 적용될 수 있으며, 전극 구조도 다양하게 변화될 수 있다. The semiconductor device 100 according to one embodiment is a thin film transistor and can be used as a switching device in a liquid crystal display (LCD) or an organic light emitting display (OLED). The semiconductor device 100 has a bottom-gate structure, but is not limited to this and can also be applied to a top-gate structure, and the electrode structure can also be changed in various ways.

이하의 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명이 더욱 상세하게 설명된다. 단, 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로서 이들만으로 본 발명의 범위가 한정되는 것이 아니다.
The present invention is explained in more detail through the following examples and comparative examples. However, the examples are for illustrating the present invention and are not intended to limit the scope of the present invention.

실시예Example 1 One

디메틸포름아미드(DMF) 내에 10μM로 (NH4)2MoS4를 용해시켜 혼합 용액을 준비하였다. 플라스크에 상기 혼합용액 10ml와 마그네틱 바를 넣고, 핫 플레이트 상에서 상기 혼합 용액을 교반하면서 가열하였고, 혼합 용액의 반응 온도는 50℃에서 안정화되도록 하였다. 상기 반응 온도에서 교반하면서 반응시켜 MoS2 나노입자를 제조하였다. 얻어진 MoS2 나노입자는 세척하고 건조시켰다. A mixed solution was prepared by dissolving (NH 4 ) 2 MoS 4 at 10 μM in dimethylformamide (DMF). 10 ml of the mixed solution and a magnetic bar were added to the flask, and the mixed solution was heated while stirring on a hot plate, and the reaction temperature of the mixed solution was stabilized at 50°C. MoS 2 nanoparticles were prepared by reacting with stirring at the above reaction temperature. The obtained MoS 2 nanoparticles were washed and dried.

실시예Example 2 2

상기 혼합 용액의 반응 온도를 75℃에서 안정화시킨 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 과정을 실시하여 MoS2 나노입자를 제조하였다.MoS 2 nanoparticles were prepared in the same manner as in Example 1, except that the reaction temperature of the mixed solution was stabilized at 75°C.

실시예Example 3 3

상기 혼합 용액의 반응 온도를 125℃에서 안정화시킨 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 과정을 실시하여 MoS2 나노입자를 제조하였다.
MoS 2 nanoparticles were prepared in the same manner as in Example 1, except that the reaction temperature of the mixed solution was stabilized at 125°C.

평가예Evaluation example 1: HRTEM 분석 1: HRTEM analysis

실시예 1 내지 3에 따라 제조한 MoS2 나노입자에 대하여 고분해능 투과전자현미경 (High Resolution Transmission Electron Microscopy, HRTEM) 분석을 수행하고, 관찰한 사진을 도 1에 나타내었으며, 또한, 결정학적 분석 결과를 도 2에 나타내었다. High-resolution transmission electron microscopy (HRTEM) analysis was performed on the MoS 2 nanoparticles prepared according to Examples 1 to 3, and the observed photographs are shown in Figure 1. Additionally, the crystallographic analysis results are shown in Figure 1. It is shown in Figure 2.

또한, HRTEM 분석으로부터 얻은 MoS2 나노입자의 평균 입경을 하기 표 1에 나타내었다.In addition, the average particle diameter of MoS 2 nanoparticles obtained from HRTEM analysis is shown in Table 1 below.

반응 온도reaction temperature MoS2 나노입자의
평균 입경
of MoS 2 nanoparticles
average particle size
실시예 1Example 1 50℃50℃ 3.35nm3.35nm 실시예 2Example 2 75℃75℃ 3.59nm3.59 nm 실시예 3Example 3 125℃125℃ 6.05nm6.05nm

도 1-2 및 표 1에서 보는 바와 같이, DMF의 기화점 이하의 낮은 온도에서도 결정성이 좋은 MoS2 나노입자가 합성된 것을 알 수 있다. 또한, 반응 온도가 높을수록 MoS2 나노입자의 평균 입경이 증가되는 것을 알 수 있다.As shown in Figures 1-2 and Table 1, it can be seen that MoS 2 nanoparticles with good crystallinity were synthesized even at low temperatures below the vaporization point of DMF. In addition, it can be seen that as the reaction temperature increases, the average particle diameter of MoS 2 nanoparticles increases.

평가예Evaluation example 2: 라만 스펙트럼 분석 2: Raman spectrum analysis

실시예 1에 따라 제조한 MoS2 나노입자에 대하여 라만 분광 분석을 실시하였다. 라만 분광 분석은 Renishaw사의 RM-1000 Invia 기기(514nm, Ar+ion laser)를 이용하였고, 라만 분광 분석 결과를 도 3에 나타내었다.Raman spectroscopic analysis was performed on the MoS 2 nanoparticles prepared according to Example 1. Raman spectroscopic analysis was performed using Renishaw's RM-1000 Invia device (514 nm, Ar + ion laser), and the results of the Raman spectral analysis are shown in Figure 3.

도 3에서 보는 바와 같이, 실시예 1에 따라 제조된 MoS2 나노입자는 라만 시프트 약 383cm-1 및 404cm-1에서 각각 E1 2g 모드 피크, A1g 모드 피크를 나타내었다. 이러한 결과로부터 실시예 1에 따라 제조된 MoS2 나노입자는 층상 구조를 갖는다는 것을 알 수 있다.As shown in FIG. 3, the MoS 2 nanoparticles prepared according to Example 1 showed E 1 2g mode peaks and A 1g mode peaks at Raman shifts of about 383 cm -1 and 404 cm -1 , respectively. From these results, it can be seen that the MoS 2 nanoparticles prepared according to Example 1 have a layered structure.

평가예Evaluation example 3: pH 변화 분석 3: pH change analysis

실시예 1 내지 3에 따라 MoS2 나노입자를 제조하는데 있어서, 반응시간에 따라 혼합 용액의 pH 변화를 분석하고, 그 결과를 도 4에 나타내었다.In preparing MoS 2 nanoparticles according to Examples 1 to 3, the change in pH of the mixed solution was analyzed depending on the reaction time, and the results are shown in FIG. 4.

도 4에서 보는 바와 같이, DMF의 pH가 6.7~7 사이인데, DMF에 (NH4)2MoS4를 녹인 용액의 초기 pH는 12 정도이고, 반응이 진행될수록, pH가 낮아지는 것을 확인하였다. 이는 반응이 진행됨에 따라, 전구체로 사용된 (NH4)2MoS4의 농도가 줄어들면서, MoS2 나노입자가 더 많이 형성되고 있다는 것을 의미한다.
As shown in Figure 4, the pH of DMF is between 6.7 and 7, and the initial pH of a solution of (NH 4 ) 2 MoS 4 dissolved in DMF is about 12, and it was confirmed that the pH decreases as the reaction progresses. This means that as the reaction progresses, the concentration of (NH 4 ) 2 MoS 4 used as a precursor decreases, and more MoS 2 nanoparticles are formed.

실시예Example 4 4

디메틸포름아미드(DMF)와 계면활성제로서 1-헵타데실아민(HAD)을 1:1 부피비로 혼합한 용매를 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 과정을 실시하여 MoS2 나노입자를 제조하였다.MoS 2 nanoparticles were prepared by carrying out the same process as Example 1, except that a solvent mixed with dimethylformamide (DMF) and 1-heptadecylamine (HAD) as a surfactant in a 1:1 volume ratio was used. did.

실시예Example 5 5

DMF와 HAD를 1:2 부피비로 혼합한 용매를 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 과정을 실시하여 MoS2 나노입자를 제조하였다.MoS 2 nanoparticles were prepared in the same manner as in Example 1, except that a solvent mixture of DMF and HAD at a volume ratio of 1:2 was used.

실시예Example 6 6

DMF와 계면활성제로서 트리옥틸포스핀 옥사이드(TOPO)를 1:1 부피비로 혼합한 용매를 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 과정을 실시하여 MoS2 나노입자를 제조하였다.MoS 2 nanoparticles were prepared in the same manner as in Example 1, except that a solvent mixed with DMF and trioctylphosphine oxide (TOPO) at a 1:1 volume ratio as a surfactant was used.

실시예Example 7 7

DMF와 TOPO를 1:2 부피비로 혼합한 용매를 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 과정을 실시하여 MoS2 나노입자를 제조하였다.MoS 2 nanoparticles were prepared in the same manner as in Example 1, except that a solvent mixture of DMF and TOPO in a volume ratio of 1:2 was used.

평가예Evaluation example 4: HRTEM 분석 4: HRTEM analysis

실시예 1, 실시예 4-5 및 실시예 6-7에 따라 제조한 MoS2 나노입자에 대하여 HRTEM 분석을 수행하였다. HRTEM analysis was performed on MoS 2 nanoparticles prepared according to Examples 1, 4-5, and 6-7.

실시예 1의 HRTEM 분석 결과는 도 5에, 실시예 4-5의 HRTEM 분석 결과는 도 6에, 실시예 6-7의 HRTEM 분석 결과는 도 7에 나타내었다.The HRTEM analysis results of Example 1 are shown in FIG. 5, the HRTEM analysis results of Examples 4-5 are shown in FIG. 6, and the HRTEM analysis results of Examples 6-7 are shown in FIG. 7.

도 5 내지 7에서 보는 바와 같이, 계면활성제를 사용한 경우, 계면활성제를 사용하지 않은 경우에 비하여 구형태와 비슷한 3차원 형태로 MoS2 나노입자가 성장한 것을 알 수 있다. 또한, 계면활성제의 농도가 높아지면, 입자 밀도가 더 커지는 것을 알 수 있다.As shown in Figures 5 to 7, it can be seen that when the surfactant was used, the MoS 2 nanoparticles grew in a three-dimensional shape similar to a spherical shape compared to the case where the surfactant was not used. Additionally, it can be seen that as the concentration of surfactant increases, the particle density increases.

실시예 4에 따라 제조한 MoS2 나노입자의 결정학적 분석 결과를 도 8에 나타내었다. 도 8에서 보는 바와 같이 계면활성제를 사용한 경우에도 결정성이 우수한 MoS2 나노입자를 형성할 수 있음을 알 수 있다.The results of crystallographic analysis of MoS 2 nanoparticles prepared according to Example 4 are shown in Figure 8. As shown in Figure 8, it can be seen that MoS 2 nanoparticles with excellent crystallinity can be formed even when a surfactant is used.

이상에서는 도면 및 실시예를 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 구현예가 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 구현예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서 정해져야 할 것이다. In the above, preferred embodiments according to the present invention have been described with reference to the drawings and examples, but this is merely illustrative, and various modifications and other equivalent embodiments can be made by those skilled in the art. You will be able to understand. Therefore, the scope of protection of the present invention should be determined by the appended claims.

Claims (19)

유기 용매 내에 금속 칼코게나이드계 전구체를 포함하는 혼합 용액을 상기 유기 용매의 기화점 이하의 소정 온도로 가열하여, 상기 혼합 용액의 반응 온도를 안정화시키는 단계; 및
상기 안정화된 반응 온도를 유지한 상태에서 금속 칼코게나이드 나노입자를 생성시키는 단계;를 포함하고,
상기 유기 용매는 디메틸포름아미드. 디옥틸에테트. 술폭시화디메틸, 트리옥틸포스핀, 또는 이의 혼합물을 포함하고,
공기 분위기, 상압 하에서 수행되는, 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법.
Stabilizing the reaction temperature of the mixed solution by heating a mixed solution containing a metal chalcogenide-based precursor in an organic solvent to a predetermined temperature below the vaporization point of the organic solvent; and
It includes generating metal chalcogenide nanoparticles while maintaining the stabilized reaction temperature,
The organic solvent is dimethylformamide. Dioctyl ether. Contains dimethyl sulfoxide, trioctylphosphine, or mixtures thereof,
A method for producing metal chalcogenide nanoparticles, performed under air atmosphere and normal pressure.
제1항에 있어서,
상기 혼합 용액의 반응 온도는 상기 유기 용매의 기화점 이하에서, 50℃ 이상에서 안정화된 것인 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법.
According to paragraph 1,
The reaction temperature of the mixed solution is below the vaporization point of the organic solvent and stabilized above 50°C.
제1항에 있어서,
상기 금속 칼코게나이드 나노입자의 입자 크기를 증가시키기 위하여, 상기 유기 용매의 기화점 이하의 범위에서 상기 혼합 용액의 반응 온도를 증가시키는 것인 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법.
According to paragraph 1,
In order to increase the particle size of the metal chalcogenide nanoparticles, the reaction temperature of the mixed solution is increased in a range below the vaporization point of the organic solvent.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 혼합 용액은 계면활성제를 더 포함하는 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법.
According to paragraph 1,
The mixed solution is a method of producing metal chalcogenide nanoparticles further comprising a surfactant.
제6항에 있어서,
상기 계면활성제는 N, P 및 S 중 하나 이상의 전자 주개 원소를 포함하는 유기화합물인 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법.
According to clause 6,
The surfactant is a method of producing metal chalcogenide nanoparticles, wherein the surfactant is an organic compound containing one or more electron donor elements among N, P, and S.
제6항에 있어서,
상기 계면활성제는 1차 아민, 2차 아민, 3차 아민, 포스핀 화합물, 포스핀 옥사이드 화합물, 인산 화합물, 및 티올 화합물 중에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법.
According to clause 6,
The surfactant is a method of producing metal chalcogenide nanoparticles comprising one or more selected from primary amines, secondary amines, tertiary amines, phosphine compounds, phosphine oxide compounds, phosphoric acid compounds, and thiol compounds.
제6항에 있어서,
상기 계면 활성제는 올레일 아민(oleyl amine), 도데실 아민(dodecyl amine), 라우릴 아민(lauryl amine), 옥틸 아민(octyl amine), 트리옥틸 아민(trioctyl amine), 다이옥틸 아민(dioctyl amine), 헥사데실 아민(hexadecyl amine), 헥사데칸 티올(hexadecane thiol), 도데칸 티올(dodecane thiol), 헵타데칸 티올(heptadecane thiol), 옥타 데칸 티올(ocradecane thiol), 트리옥틸포스핀옥사이드, 트리옥틸포스핀, 올레인산, 및 비스(2-에틸헥실)하이드로겐포스페이트 중에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법.
According to clause 6,
The surfactant is oleyl amine, dodecyl amine, lauryl amine, octyl amine, trioctyl amine, and dioctyl amine. , hexadecyl amine, hexadecane thiol, dodecane thiol, heptadecane thiol, octadecane thiol, trioctylphosphine oxide, trioctylphos. A method for producing metal chalcogenide nanoparticles containing at least one selected from pin, oleic acid, and bis(2-ethylhexyl)hydrogenphosphate.
제6항에 있어서,
상기 계면활성제는 상기 유기 용매에 대하여, 0.1 내지 5 배의 부피비로 사용되는 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법.
According to clause 6,
The surfactant is used in a volume ratio of 0.1 to 5 times the organic solvent.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 금속 칼코게나이드 나노입자는 하기 화학식 1로 표시되는 조성을 갖는 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법:
[화학식 1]
MaXb
상기 식에서, M은 금속이고, X는 S, Se, Te이고, 1≤a≤7, 1≤b≤9 이다.
According to paragraph 1,
The metal chalcogenide nanoparticles have a composition represented by the following Chemical Formula 1: Method for producing metal chalcogenide nanoparticles:
[Formula 1]
M a
In the above formula, M is a metal, X is S, Se, Te, and 1≤a≤7, 1≤b≤9.
제1항에 있어서,
상기 금속 칼코게나이드 나노입자는 전이금속 디칼코게나이드(transition metal dichalcogenide) 나노입자인 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법.
According to paragraph 1,
The metal chalcogenide nanoparticles are transition metal dichalcogenide nanoparticles. A method of producing metal chalcogenide nanoparticles.
제1항에 있어서,
상기 금속 칼코게나이드 나노입자는 하기 화학식 2로 표시되는 조성을 갖는 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법:
[화학식 2]
MX2
상기 식에서, M은 전이금속 원소이고, A는 S, Se 또는 Te이다.
According to paragraph 1,
The metal chalcogenide nanoparticles have a composition represented by the following formula (2). Method for producing metal chalcogenide nanoparticles:
[Formula 2]
MX 2
In the above formula, M is a transition metal element and A is S, Se or Te.
제15항에 있어서,
상기 M은 Mo, W, Nb, V, Ta, Ti, Zr, Hf, Tc 및 Re 중 하나인 금속 칼코게나이드 나노입자의 제조방법.
According to clause 15,
Wherein M is one of Mo, W, Nb, V, Ta, Ti, Zr, Hf, Tc and Re.
제1항 내지 제3항, 제6항 내지 제10항 및 제13항 내지 제16항 중 어느 한 항에 따른 제조방법에 의하여 제조된 금속 칼코게나이드 나노입자.Metal chalcogenide nanoparticles manufactured by the production method according to any one of claims 1 to 3, 6 to 10, and 13 to 16. 제17항에 있어서,
상기 금속 칼코게나이드 나노입자의 평균 입경이 1nm 내지 10nm인 금속 칼코게나이드 나노입자.
According to clause 17,
Metal chalcogenide nanoparticles having an average particle diameter of 1 nm to 10 nm.
제18항에 따른 금속 칼코게나이드 나노입자를 포함하는 잉크 조성물.An ink composition comprising the metal chalcogenide nanoparticles according to claim 18.
KR1020150140614A 2015-10-06 2015-10-06 Metal chalcogenide nanoparticle and manufacturing method thereof KR102613046B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150140614A KR102613046B1 (en) 2015-10-06 2015-10-06 Metal chalcogenide nanoparticle and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150140614A KR102613046B1 (en) 2015-10-06 2015-10-06 Metal chalcogenide nanoparticle and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170041091A KR20170041091A (en) 2017-04-14
KR102613046B1 true KR102613046B1 (en) 2023-12-12

Family

ID=58579417

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150140614A KR102613046B1 (en) 2015-10-06 2015-10-06 Metal chalcogenide nanoparticle and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102613046B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190089779A (en) 2018-01-23 2019-07-31 삼성전자주식회사 Semiconductor nanocrystal particles and production methods thereof

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100338196B1 (en) * 1999-04-30 2002-05-27 정명식 Organometallic complex, process for the preparation thereof and metal organic chemical vapor deposition using same
KR20060016109A (en) * 2003-06-05 2006-02-21 내셔널 유니버시티 오브 싱가포르 A method of preparing metal chalcogenide particles
KR100927700B1 (en) * 2008-03-20 2009-11-18 한국화학연구원 Method for preparing nano-sized metal chalcogenides using organometallic complexes and chalcogen elements
KR101046072B1 (en) * 2008-04-14 2011-07-01 삼성엘이디 주식회사 Metal chalcogenide nanoparticles and preparation method thereof
JP2013512311A (en) * 2009-11-25 2013-04-11 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー Aqueous production process for crystalline copper chalcogenide nanoparticles, nanoparticles so produced, and inks and coated substrates incorporating these nanoparticles
JP6338660B2 (en) * 2013-08-01 2018-06-06 エルジー・ケム・リミテッド Agglomerated phase precursor for producing solar cell light absorption layer and method for producing the same

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Yanguang Li et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, pages 7296-7299*

Also Published As

Publication number Publication date
KR20170041091A (en) 2017-04-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Liu et al. Metal Halide Perovskites: Synthesis, Ion Migration, and Application in Field‐Effect Transistors
Zhou et al. Photodetectors based on organic–inorganic hybrid lead halide perovskites
Cai et al. Chemical vapor deposition growth and applications of two-dimensional materials and their heterostructures
Paritmongkol et al. Synthetic variation and structural trends in layered two-dimensional alkylammonium lead halide perovskites
Fu et al. Metal halide perovskite nanostructures for optoelectronic applications and the study of physical properties
Clinckemalie et al. Challenges and opportunities for CsPbBr3 perovskites in low-and high-energy radiation detection
Zhu et al. Low‐dimensional metal halide perovskites and related optoelectronic applications
Ha et al. Metal halide perovskite nanomaterials: synthesis and applications
Chen et al. Crystal organometal halide perovskites with promising optoelectronic applications
Lv et al. Generalized colloidal synthesis of high-quality, two-dimensional cesium lead halide perovskite nanosheets and their applications in photodetectors
Xiao et al. Synthesis and characterization of ternary CuInS2 nanorods via a hydrothermal route
Kozhakhmetov et al. Scalable low-temperature synthesis of two-dimensional materials beyond graphene
Kar et al. Cadmium sulfide one‐dimensional nanostructures: synthesis, characterization and application
Chakraborty et al. Rudorffites and beyond: Perovskite‐inspired silver/copper pnictohalides for next‐generation environmentally friendly photovoltaics and optoelectronics
KR102119409B1 (en) Transition Metal Precursors, Liquid Composition Comprising Thereof and Method For Producing Transition Metal chalcogenides Thin Film Using Same
Hui et al. Unveiling the two-step formation pathway of Cs4PbBr6 nanocrystals
Yuan et al. Progress on the controllable synthesis of all-inorganic halide perovskite nanocrystals and their optoelectronic applications
Davis et al. Discrete composition control of two-dimensional morphologic all-inorganic metal halide perovskite nanocrystals
Parikh et al. Two-dimensional halide perovskite single crystals: principles and promises
Shi et al. Formulation of Water-Resistant Fluorescent Ink from Novel Octagonal CsPbBr3/CsPb2Br5 Composite Plates Coordinated with Thermoplastic Polyurethane
KR102613046B1 (en) Metal chalcogenide nanoparticle and manufacturing method thereof
Chiu et al. Synthesis and application of monolayer semiconductors (June 2015)
Ashton et al. A phosphine oxide route to formamidinium lead tribromide nanoparticles
Hsu et al. Preparation of nanosized zns-passivated cds particle films via the mocvd process with co-fed single source precursors
Lan et al. Preparation and promising optoelectronic applications of lead halide perovskite patterned structures: A review

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant