KR102593445B1 - Apparatus for supplying material source and gas supply control method - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 가스공급장치에 관한 것으로사, 보다 상세하게는 액체 원료를 기화하여 기상 상태의 원료 가스로 변환하여 공정챔버로 공급하는 가스공급장치에 관한 것이다.
본 발명은, 기판처리가 수행되는 공정챔버(10)에 공정가스를 공급하는 가스공급장치로서, 공정가스가 공급되는 제1공급유로(110)와, 공정챔버(10)와 연통되는 제2공급유로(120)와, 제1,2공급유로(110, 120) 사이에서 분기되어 구비되는 복수의 분기공급유로(130)들을 포함하는 배관부(100)와; 복수의 분기공급유로(130)들의 일부를 형성하도록 각각 설치되며, 압전 소자의 신장을 이용하여 분기공급유로(130)의 개폐를 조절함으로써, 공정가스의 유량을 조절하는 복수의 유량제어밸브(200)들과; 공정챔버(10)로 공급되는 공정가스의 유량을 측정하기 위하여, 복수의 유량제어밸브(200)들과 공정챔버(10) 사이에 설치되는 적어도 하나의 측정센서와, 측정센서의 측정값을 통해 공정가스의 유량을 산출하는 유량산출부를 포함하는 유량측정부와; 유량측정부를 통해 측정된 공정가스의 유량에 따라 공정챔버(10)로 공급되는 공정가스의 유량을 미리 설정된 범위 내로 공급하도록 복수의 유량제어밸브(200)들을 제어하는 제어부를 포함하는 가스공급장치를 개시한다. The present invention relates to a gas supply device, and more specifically, to a gas supply device that vaporizes a liquid raw material, converts it into gaseous raw material gas, and supplies it to a process chamber.
The present invention is a gas supply device that supplies process gas to a process chamber 10 where substrate processing is performed, and includes a first supply passage 110 through which process gas is supplied, and a second supply communicating with the process chamber 10. A piping unit 100 including a flow passage 120 and a plurality of branch supply passages 130 branched between the first and second supply passages 110 and 120; A plurality of flow control valves 200 each installed to form part of a plurality of branch supply passages 130 and controlling the flow rate of the process gas by controlling the opening and closing of the branch supply passage 130 using the elongation of the piezoelectric element. ) and; In order to measure the flow rate of the process gas supplied to the process chamber 10, at least one measurement sensor installed between the plurality of flow control valves 200 and the process chamber 10 and the measurement value of the measurement sensor are used. a flow rate measurement unit including a flow rate calculation unit that calculates the flow rate of the process gas; A gas supply device including a control unit that controls a plurality of flow control valves 200 to supply the flow rate of the process gas supplied to the process chamber 10 within a preset range according to the flow rate of the process gas measured through the flow measurement unit. Begin.

Figure R1020180153627
Figure R1020180153627

Description

가스공급장치 및 가스공급제어방법{Apparatus for supplying material source and gas supply control method}Gas supply device and gas supply control method {Apparatus for supplying material source and gas supply control method}

본 발명은 가스공급장치 및 가스공급제어방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 액체원료를 기화하여 기체상태의 공정가스로 변환하여 공정챔버로 공급하는 가스공급장치 및 가스공급제어방법에 관한 것이다.The present invention relates to a gas supply device and a gas supply control method, and more specifically, to a gas supply device and a gas supply control method for vaporizing liquid raw materials, converting them into gaseous process gas, and supplying it to a process chamber.

일반적으로 PECVD(Plasma enhanced chemical vapor deposition)는 이종의 박막을 증착하기 위해서 플라즈마를 각각 형성해야 하며, 특히, 일부 원료의 경우, 액상 상태인 원료를 기화시켜 기상 상태의 원료 가스로 변환하여 공정챔버로 공급하여야 한다.In general, PECVD (Plasma enhanced chemical vapor deposition) requires the formation of plasma to deposit different types of thin films. In particular, in the case of some raw materials, the liquid raw material is vaporized and converted into gaseous raw material gas to be transported to the process chamber. must be supplied.

이를 위해서, 기판 처리 장치는 기판의 처리가 이루어지는 챔버와, 챔버 내부에 기판 처리를 위한 공정가스를 공급하는 가스공급장치를 포함하며, 여기에서 가스공급장치는, 액상의 원료를 기화시키는 기화기와, 각 구성요소들을 연결하는 도관 및 유체의 흐름을 조절하는 복수개의 밸브 및 센서들을 포함한다. For this purpose, the substrate processing device includes a chamber in which substrate processing is performed, and a gas supply device that supplies process gas for substrate processing inside the chamber, where the gas supply device includes a vaporizer that vaporizes a liquid raw material, It includes a conduit connecting each component and a plurality of valves and sensors that control the flow of fluid.

한편, 종래의 경우, 공정챔버로 공급되는 가스의 흐름을 제어하기 위해서, 기화기와 공정챔버 사이에 유체의 흐름을 조절하는 유량제어밸브가 설치되었으나, 이 경우 고온의 대유량 가스에 대한 유량 제어가 불가능한 문제점이 있다.Meanwhile, in the conventional case, in order to control the flow of gas supplied to the process chamber, a flow control valve was installed between the vaporizer and the process chamber to regulate the flow of fluid. However, in this case, the flow rate control for high-temperature, large-flow gas was required. There is an impossible problem.

먼저, 유량제어밸브가 150도 내지 200도의 고온 환경에서 안정적인 구동이 어렵고, 내구성이 떨어지는 문제점이 있다.First, there is a problem in that it is difficult for the flow control valve to operate stably in a high temperature environment of 150 to 200 degrees and its durability is poor.

이를 극복하기 위하여, 종래 피에조(piezo) 액추에이터를 이용하는 유량제어밸브를 사용하였으나, 종래의 단일 유량제어밸브를 통해 멀티챔버 등에 공급되기 위한 고온의 대유량 가스를 공급하는 경우, 피에조 액추에이터의 길이가 길어져 유로의 개방 정도를 크게하여야 하는 바, 길어진 피에조 액추에이터는 내구성이 떨어지는 문제점이 있다.To overcome this, a flow control valve using a conventional piezo actuator was used. However, when high-temperature, large-flow gas for supply to a multi-chamber, etc. is supplied through a conventional single flow control valve, the length of the piezo actuator becomes longer. Since the degree of opening of the flow path must be increased, the longer piezo actuator has the problem of lower durability.

또한, 피에조 액추에이터의 길이가 길어짐으로써, 가스공급장치 또는 가스공급을 위한 유량제어부분의 부피가 커져 장치가 대형화되는 문제점이 있다.In addition, as the length of the piezo actuator increases, the volume of the gas supply device or the flow control portion for gas supply increases, causing a problem in that the device becomes larger.

한편, 다른 방법으로서, 밸브 내 유로의 단면적을 넓게 하여 대유량 가스를 제어하는 경우, 개폐 단면이 넓어지는 바, 밸브의 개폐 성능이 떨어져 안정적인 유량제어가 어려운 문제점이 있다.Meanwhile, as another method, when controlling a large flow rate of gas by widening the cross-sectional area of the flow path within the valve, the opening/closing cross-section becomes wider, so the opening/closing performance of the valve deteriorates, making stable flow control difficult.

본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 복수의 유량제어밸브를 통해 고온의 대유량 가스를 원활히 제어 가능한 가스공급장치 및 가스공급제어방법을 제공하는데 있다.The purpose of the present invention is to provide a gas supply device and a gas supply control method that can smoothly control high-temperature, large-flow gas through a plurality of flow control valves in order to solve the above problems.

본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은, 기판처리가 수행되는 공정챔버(10)에 공정가스를 공급하는 가스공급장치로서, 상기 공정가스가 공급되는 제1공급유로(110)와, 상기 공정챔버(10)와 연통되는 제2공급유로(120)와, 상기 제1,2공급유로(110, 120) 사이에서 분기되어 구비되는 복수의 분기공급유로(130)들을 포함하는 배관부(100)와; 상기 복수의 분기공급유로(130)들의 일부를 형성하도록 각각 설치되며, 압전 소자의 신장을 이용하여 상기 분기공급유로(130)의 개폐를 조절함으로써, 상기 공정가스의 유량을 조절하는 복수의 유량제어밸브(200)들과; 상기 공정챔버(10)로 공급되는 상기 공정가스의 유량을 측정하기 위하여, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들과 상기 공정챔버(10) 사이에 설치되는 적어도 하나의 측정센서와, 상기 측정센서의 측정값을 통해 상기 공정가스의 유량을 산출하는 유량산출부를 포함하는 유량측정부와; 상기 유량측정부를 통해 측정된 상기 공정가스의 유량에 따라 상기 공정챔버(10)로 공급되는 상기 공정가스의 유량을 미리 설정된 범위 내로 공급하도록 상기 복수의 유량제어밸브(200)들을 제어하는 제어부를 포함하는 가스공급장치를 개시한다. The present invention was created to achieve the object of the present invention as described above, and the present invention is a gas supply device for supplying a process gas to a process chamber 10 where substrate processing is performed, and the process gas is supplied to the process chamber 10. 1 supply passage 110, a second supply passage 120 in communication with the process chamber 10, and a plurality of branch supply passages branched between the first and second supply passages 110 and 120 ( A piping unit 100 including 130); A plurality of flow rate controls that are each installed to form a part of the plurality of branch supply passages 130 and control the flow rate of the process gas by controlling the opening and closing of the branch supply passages 130 using the elongation of the piezoelectric element. valves 200; At least one measurement sensor installed between the plurality of flow control valves 200 and the process chamber 10 to measure the flow rate of the process gas supplied to the process chamber 10, and the measurement sensor a flow rate measurement unit including a flow rate calculation unit that calculates the flow rate of the process gas through the measured value; It includes a control unit that controls the plurality of flow control valves 200 to supply the flow rate of the process gas supplied to the process chamber 10 within a preset range according to the flow rate of the process gas measured through the flow rate measurement unit. A gas supply device is launched.

상기 측정센서는, 상기 공정가스의 압력을 측정하는 압력센서(P1)이며, 상기 유량산출부는, 상기 압력센서(P1)에 의해 측정된 상기 공정가스의 압력값을 토대로 상기 공정가스의 유량을 산출할 수 있다.The measurement sensor is a pressure sensor (P1) that measures the pressure of the process gas, and the flow rate calculation unit calculates the flow rate of the process gas based on the pressure value of the process gas measured by the pressure sensor (P1). can do.

상기 복수의 유량제어밸브(200) 전단에서 액체원료를 기화시켜 기체상태의 상기 공정가스로 상변화시키고, 기체상태의 상기 공정가스를 공급하는 기화기(20)를 포함할 수 있다.It may include a vaporizer 20 that vaporizes the liquid raw material in front of the plurality of flow control valves 200 to change the phase into the process gas in a gaseous state, and supplies the process gas in a gaseous state.

상기 제어부는, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들을 개별제어할 수 있다. The control unit may individually control the plurality of flow control valves 200.

상기 제2공급유로(120)에 설치되어, 공급되는 상기 공정가스를 상기 공정챔버(10)로 유입 또는 차단하는 차단밸브(400)를 추가로 포함할 수 있다.It may further include a blocking valve 400 installed in the second supply passage 120 to allow or block the supplied process gas into the process chamber 10.

상기 공정가스는, 온도가 섭씨 50도 이상일 수 있다.The process gas may have a temperature of 50 degrees Celsius or higher.

상기 복수의 유량제어밸브(200)들 중 용량이 가장 큰 유량제어밸브(200)의 단위 시간당 상기 공정가스의 최대 통과유량이 상기 공정챔버(10)의 기판처리공정에 필요한 상기 공정가스의 단위 시간당 필요유량보다 작을 수 있다.The maximum passing flow rate of the process gas per unit time of the flow control valve 200 with the largest capacity among the plurality of flow control valves 200 is the amount per unit time of the process gas required for the substrate processing process of the process chamber 10. It may be smaller than the required flow rate.

상기 복수의 유량제어밸브(200)들 중 용량이 가장 큰 유량제어밸브(200)의 단위 시간당 상기 공정가스의 최대 통과유량이 상기 제1공급유로(110)에 공급되는 상기 공정가스의 단위 시간당 공급유량보다 작을 수 있다.The maximum passing flow rate of the process gas per unit time of the flow control valve 200 with the largest capacity among the plurality of flow control valves 200 is supplied to the first supply passage 110. It may be smaller than the flow rate.

또한 본 발명은, 가스공급장치를 이용한 가스공급제어방법으로서, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들 중 적어도 하나를 개방하는 밸브개방단계(S110)와; 상기 유량측정부를 통해 공급되는 상기 공정가스의 유량을 측정하는 유량측정단계(S120)와; 상기 유량측정부를 통해 측정된 상기 공정가스의 유량을 통해 적어도 하나의 유량제어밸브(200)를 제어하는 유량조절단계(S130)를 포함하는 가스공급제어방법을 개시한다.In addition, the present invention is a gas supply control method using a gas supply device, comprising: a valve opening step (S110) of opening at least one of the plurality of flow control valves (200); A flow measurement step (S120) of measuring the flow rate of the process gas supplied through the flow measurement unit; A gas supply control method including a flow rate control step (S130) of controlling at least one flow control valve 200 through the flow rate of the process gas measured through the flow rate measurement unit is disclosed.

상기 유량조절단계(S130)는, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들이 싱크구동하도록 제어함으로써, 상기 공정가스의 유량을 조절할 수 있다.In the flow rate control step (S130), the flow rate of the process gas can be adjusted by controlling the plurality of flow control valves 200 to sink.

상기 유량조절단계(S130)는, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들 중 일부를 개방 또는 폐쇄하여 고정한 상태에서, 나머지 유량제어밸브(200)를 구동제어함으로써, 상기 공정가스의 유량을 조절할 수 있다.In the flow rate control step (S130), the flow rate of the process gas can be adjusted by controlling the operation of the remaining flow control valves 200 while some of the plurality of flow control valves 200 are opened or closed and fixed. there is.

또한 본 발명은, 가스공급장치를 이용한 가스공급제어방법으로서, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들을 폐쇄하여, 상기 공정가스의 이동을 차단하는 유량제어밸브폐쇄단계(S300)와; 상기 유량제어밸브폐쇄단계(S300) 이후에, 상기 제2공급유로(120)에 설치되어 공급되는 상기 공정가스를 상기 공정챔버(10)로 유입 또는 차단하는 차단밸브(400)를 폐쇄하여, 상기 공정가스의 상기 공정챔버(10)로의 공급을 차단하는 공급차단단계(S400)를 포함하는 가스공급제어방법을 개시한다.In addition, the present invention is a gas supply control method using a gas supply device, comprising: a flow control valve closing step (S300) of blocking the movement of the process gas by closing the plurality of flow control valves (200); After the flow control valve closing step (S300), the blocking valve 400 installed in the second supply passage 120 to introduce or block the process gas supplied to the process chamber 10 is closed, A gas supply control method including a supply blocking step (S400) of blocking the supply of process gas to the process chamber 10 is disclosed.

상기 공급차단단계(S400)는, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들과 상기 공정챔버(10) 사이의 공정가스를 배기하는 배기단계(S410)와, 상기 배기단계(S410) 이후에 상기 차단밸브(400)를 폐쇄하여 상기 공정가스의 상기 공정챔버(10)로의 공급을 차단하는 차단밸브폐쇄단계(S420)를 포함할 수 있다.The supply blocking step (S400) includes an exhausting step (S410) of exhausting the process gas between the plurality of flow control valves 200 and the process chamber 10, and the blocking after the exhausting step (S410). It may include a blocking valve closing step (S420) of blocking the supply of the process gas to the process chamber 10 by closing the valve 400.

상기 차단밸브폐쇄단계(S420)는, 상기 유량측정부의 측정값이 미리 설정된 값 이하일 때 수행될 수 있다.The blocking valve closing step (S420) may be performed when the measured value of the flow measurement unit is below a preset value.

본 발명에 따른 가스공급장치 및 가스공급제어방법은, 고온의 공정환경에서 액체 상태의 원료를 공정에 최적화된 기체 상태로 기화시키며, 기화시킨 공정가스를 공정챔버에 정량 공급이 가능한 이점이 있다.The gas supply device and gas supply control method according to the present invention have the advantage of vaporizing liquid raw materials into a gaseous state optimized for the process in a high-temperature process environment and supplying the vaporized process gas in a fixed amount to the process chamber.

본 발명에 따른 가스공급장치 및 가스공급제어방법은, 150도 내지 200도의 고온환경에서도 안정적으로 구동 가능한 유량제어밸브를 통해 공급되는 가스 유량을 제어함으로써, 정밀한 공정가스 유량제어가 가능한 이점이 있다.The gas supply device and gas supply control method according to the present invention have the advantage of enabling precise process gas flow rate control by controlling the gas flow rate supplied through a flow control valve that can be stably operated even in a high temperature environment of 150 to 200 degrees Celsius.

또한, 본 발명에 따른 가스공급장치 및 가스공급제어방법은, 복수의 유량제어밸브를 통해, 복수의 공정챔버에 이용되기 위한 고용량의 공급가스를 제어하고 안정적으로 공급할 수 있는 이점이 있다.In addition, the gas supply device and gas supply control method according to the present invention have the advantage of controlling and stably supplying a high volume of supply gas for use in a plurality of process chambers through a plurality of flow control valves.

또한, 본 발명에 따른 가스공급장치 및 가스공급제어방법은, 복수의 유량제어밸브를 통해, 단일의 유량제어밸브를 통한 유량 제어 시 길이가 길어지거나, 개폐 단면적이 커짐으로써 내구성 및 기능발현이 완전하지 못하는 문제점을 극복하고, 내구성 및 성능이 뛰어난 이점이 있다. In addition, the gas supply device and gas supply control method according to the present invention have a long length or a large opening/closing cross-sectional area when controlling the flow rate through a single flow control valve through a plurality of flow control valves, thereby ensuring complete durability and functionality. It overcomes the problems of not being able to do this and has the advantage of excellent durability and performance.

도 1은, 본 발명에 따른 가스공급장치의 모습을 보여주는 개념도이다.
도 2는, 도 1의 가스공급장치 중 배관부에 구비되는 유량제어밸브들의 모습을 보여주는 사시도이다.
도 3은, 도 2의 가스공급장치 중 배관부의 모습을 보여주는 Ⅲ-Ⅲ방향의 단면도이다.
도 4는, 도 2의 가스공급장치 중 유량제어밸브의 모습을 보여주는 Ⅳ-Ⅳ방향의 단면도이다.
도 5a 및 도 5b는, 도 1의 가스공급장치에서 공정가스 공급을 위해 수행되는 가스공급제어방법을 설명하는 순서도들이다.
도 6a 및 도 6b는, 도 1의 가스공급장치에서 공정가스 공급차단을 위해 수행되는 가스공급제어방법을 설명하는 순서도들이다.Figure 1 is a conceptual diagram showing a gas supply device according to the present invention.
FIG. 2 is a perspective view showing flow control valves provided in the piping section of the gas supply device of FIG. 1.
Figure 3 is a cross-sectional view taken in the III-III direction showing the piping part of the gas supply device of Figure 2.
FIG. 4 is a cross-sectional view taken in the direction IV-IV showing the flow control valve in the gas supply device of FIG. 2.
FIGS. 5A and 5B are flowcharts explaining a gas supply control method performed to supply process gas in the gas supply device of FIG. 1.
FIGS. 6A and 6B are flowcharts explaining a gas supply control method performed to cut off the supply of process gas in the gas supply device of FIG. 1.

이하 본 발명에 따른 가스공급장치 및 가스공급제어방법에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the gas supply device and gas supply control method according to the present invention will be described with reference to the attached drawings.

본 발명에 따른 가스공급장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 기판처리가 수행되는 공정챔버(10)에 공정가스를 공급하는 가스공급장치로서, 액체원료를 기화시켜 기체상태의 상기 공정가스로 상변화시키는 기화기(20)와; 상기 기화기(20)와 연통되는 제1공급유로(110)와, 상기 공정챔버(10)와 연통되는 제2공급유로(120)와, 상기 제1,2공급유로(110, 120) 사이에서 분기되어 구비되는 복수의 분기공급유로(130)들을 포함하는 배관부(100)와; 상기 복수의 분기공급유로(130)들의 일부를 형성하도록 각각 설치되며, 압전 소자의 신장을 이용하여 상기 분기공급유로(130)의 개폐를 조절함으로써, 상기 공정가스의 유량을 조절하는 복수의 유량제어밸브(200)들과; 상기 복수의 유량제어밸브(200)들과 상기 공정챔버(10) 사이에 설치되어, 상기 공정챔버(10)로 공급되는 상기 공정가스의 압력을 측정하는 적어도 하나의 압력센서(P1)와; 상기 압력센서(P1)를 통해 측정된 상기 공정가스의 압력에 따라 상기 공정챔버(10)로 공급되는 상기 공정가스의 유량을 미리 설정된 범위 내로 공급하도록 상기 복수의 유량제어밸브(200)들을 제어하는 제어부를 포함한다.As shown in FIG. 1, the gas supply device according to the present invention is a gas supply device that supplies process gas to the process chamber 10 where substrate processing is performed, and vaporizes the liquid raw material into the process gas in a gaseous state. A phase change vaporizer (20); Branched between the first supply passage 110 in communication with the vaporizer 20, the second supply passage 120 in communication with the process chamber 10, and the first and second supply passages 110 and 120. A piping unit 100 including a plurality of branch supply passages 130 provided with; A plurality of flow rate controls that are each installed to form a part of the plurality of branch supply passages 130 and control the flow rate of the process gas by controlling the opening and closing of the branch supply passages 130 using the elongation of the piezoelectric element. valves 200; At least one pressure sensor (P1) installed between the plurality of flow control valves 200 and the process chamber 10 to measure the pressure of the process gas supplied to the process chamber 10; Controlling the plurality of flow control valves 200 to supply the flow rate of the process gas supplied to the process chamber 10 within a preset range according to the pressure of the process gas measured through the pressure sensor P1. Includes a control unit.

또한, 본 발명에 따른 가스공급장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 액체원료를 미리 설정된 온도로 예열시켜 기화기(20)에 공급하는 액체원료예열부(30)를 추가로 포함할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 1, the gas supply device according to the present invention may further include a liquid raw material preheating unit 30 that preheats the liquid raw material to a preset temperature and supplies it to the vaporizer 20.

또한, 본 발명에 따른 가스공급장치는, 기화기(20)에 액체원료를 공급하는 액체원료공급배관(40)에 설치되어, 기화기(20)에 공급되는 액체원료의 양을 조절하는 액체원료조절밸브(300)와, 액체원료조절밸브(300)와 유량제어밸브(200) 사이의 압력을 측정하는 압력측정센서(P0)를 포함할 수 있다.In addition, the gas supply device according to the present invention is installed in the liquid raw material supply pipe 40 that supplies liquid raw material to the vaporizer 20, and includes a liquid raw material control valve that controls the amount of liquid raw material supplied to the vaporizer 20. It may include (300) and a pressure measurement sensor (P0) that measures the pressure between the liquid raw material control valve 300 and the flow control valve 200.

또한, 본 발명에 따른 가스공급장치는, 제2공급유로(120)에 설치되어, 기화기(20)로부터 공급되는 공정가스를 공정챔버(10)로 유입 또는 차단하는 차단밸브(400)를 추가로 포함할 수 있다.In addition, the gas supply device according to the present invention is installed in the second supply passage 120 and additionally includes a blocking valve 400 that flows in or blocks the process gas supplied from the vaporizer 20 into the process chamber 10. It can be included.

상기 공정가스는, 온도가 섭씨 50도 이상이며, 보다 바람직하게는 섭씨 150도 이상 200도 이하로서, 고온 환경에서 사용되는 가스일 수 있다.The process gas has a temperature of 50 degrees Celsius or more, more preferably 150 degrees Celsius or more and 200 degrees Celsius or less, and may be a gas used in a high temperature environment.

또한 본 발명에 따른 가스공급장치는, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들 중 용량이 가장 큰 유량제어밸브(200)의 단위 시간당 공정가스의 최대 통과유량이 공정챔버(10)의 기판처리공정에 필요한 공정가스의 단위 시간당 필요유량보다 작을 수 있다.In addition, the gas supply device according to the present invention is such that the maximum passing flow rate of process gas per unit time of the flow control valve 200 with the largest capacity among the plurality of flow control valves 200 is determined by the substrate processing process of the process chamber 10. It may be smaller than the required flow rate per unit time of process gas required for .

더 나아가, 본 발명에 따른 가스공급장치는, 복수의 유량제어밸브(200)들 중 용량이 가장 큰 유량제어밸브(200)의 단위 시간당 공정가스의 최대 통과유량이 제1공급유로(110)에 공급되는 공정가스의 단위 시간당 공급유량보다 작을 수 있다.Furthermore, the gas supply device according to the present invention has the maximum passing flow rate of process gas per unit time of the flow control valve 200 with the largest capacity among the plurality of flow control valves 200 in the first supply passage 110. It may be smaller than the supply flow rate per unit time of the supplied process gas.

즉, 단일의 유량제어밸브(200)로는 공정을 위한 공정가스를 충분히 공급하지 못하므로, 복수의 유량제어밸브(200)들이 사용될 수 있으며, 보다 구체적으로 고온의 공정환경에서 사용가능한 피에조밸브의 제한된 용량의 문제점을 해결하기 위하여, 복수의 피에조밸브가 사용되는 발명을 개시한다. That is, since a single flow control valve 200 cannot sufficiently supply process gas for the process, multiple flow control valves 200 can be used, and more specifically, the limited number of piezo valves usable in a high-temperature process environment is limited. In order to solve the problem of capacity, an invention in which a plurality of piezo valves are used is disclosed.

상기 공정챔버(10)는, 기판처리를 위한 밀폐된 처리공간이 형성되는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The process chamber 10 is configured to form an enclosed processing space for substrate processing, and various configurations are possible.

예를 들면, 상기 공정챔버(10)는, 공정가스를 통해 기판처리를 수행하며, 배관부(100)를 통해 기화기(20)와 연통되어 기화기(20)로부터 기화된 공정가스를 공급받을 수 있다.For example, the process chamber 10 performs substrate processing using process gas, and is in communication with the vaporizer 20 through the piping unit 100 to receive vaporized process gas from the vaporizer 20. .

상기 공정챔버(10)는, 공정가스를 이용하여 기판처리를 수행하는 앞서 개시된 어떠한 형태의 공정챔버(10)도 적용 가능하다.The process chamber 10 can be any type of process chamber 10 previously disclosed that performs substrate processing using process gas.

상기 기화기(20)는, 액체원료를 기화시켜 기체상태의 공정가스로 상변화시키는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The vaporizer 20 is a configuration that vaporizes a liquid raw material and changes its phase into a gaseous process gas, and can have various configurations.

즉, 상기 기화기(20)는, 액체원료를 기화시키는 방식이면 인젝션, 베이킹 등 어떠한 방식도 가능하며, 보다 바람직하게는 고온환경 조성을 통해 액체원료를 기화시키는 베이킹방식이 이용될 수 있다.That is, the vaporizer 20 can use any method, such as injection or baking, as long as it vaporizes the liquid material. More preferably, a baking method can be used to vaporize the liquid material by creating a high temperature environment.

예를 들면, 상기 기화기(20)는, 공급되는 액체원료에 대하여 기화가 이루어지는 기화몸체와, 기화몸체를 가열하는 히터를 포함할 수 있다.For example, the vaporizer 20 may include a vaporization body in which the supplied liquid raw material is vaporized, and a heater that heats the vaporization body.

상기 기화몸체는, 외부의 액체원료저장부 및 후술하는 액체원료예열부와 연통되어, 공급되는 액체원료를 일시적으로 저장하고 기화시키는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다. The vaporization body is in communication with an external liquid raw material storage unit and a liquid raw material preheating unit to be described later, and is configured to temporarily store and vaporize the supplied liquid raw material, and various configurations are possible.

상기 히터는, 액체원료가 담기는 기화몸체의 외부에 마련되어 기화몸체를 가열함으로써, 기화환경을 조성하는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The heater is provided outside the vaporization body containing the liquid raw material and heats the vaporization body to create a vaporization environment, and various configurations are possible.

예를 들면, 상기 히터는, 기화몸체를 감싸도록 기화몸체의 외부에 설치되며, 히팅코일 또는 히팅자켓에 전원을 공급함으로써 기화몸체를 가열할 수 있다.For example, the heater is installed outside the vaporization body to surround the vaporization body, and can heat the vaporization body by supplying power to a heating coil or heating jacket.

이 경우, 액체원료의 기화점에 따라 가열온도를 달라질 수 있으며, 150도 내지 200도 사이의 환경이 조성될 수 있다.In this case, the heating temperature can vary depending on the vaporization point of the liquid raw material, and an environment between 150 and 200 degrees can be created.

상기 액체원료는, 공정가스의 액체상태 소스물질로서, 기판처리에 사용되며 상온에서 액체상태로 존재하는 어떠한 원료도 사용 가능하다.The liquid raw material is a liquid source material of process gas, which is used for substrate processing, and any raw material that exists in a liquid state at room temperature can be used.

예를 들면, 상기 액체원료는, 액체유기화합물로서, TEOS, Ta20(C2H5)5, 유기 실란 전구체 등이 해당될 수 있다.For example, the liquid raw material is a liquid organic compound and may include TEOS, Ta20(C2H5)5, organic silane precursor, etc.

상기 배관부(100)는, 상기 기화기(20)와 상기 공정챔버(10)를 연통하여, 기화기(20)를 통해 기화된 기체상태의 공정가스를 전달하는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The piping unit 100 communicates with the vaporizer 20 and the process chamber 10, and is configured to transmit the gaseous process gas vaporized through the vaporizer 20. Various configurations are possible.

예를 들면, 상기 배관부(100)는, 기화기(20)와 연통되는 제1공급유로(110)와, 공정챔버(10)와 연통되는 제2공급유로(120)와, 제1,2공급유로(110, 120) 사이에서 분기되어 구비되는 복수의 분기공급유로(130)들을 포함할 수 있다.For example, the piping unit 100 includes a first supply passage 110 in communication with the vaporizer 20, a second supply passage 120 in communication with the process chamber 10, and first and second supply passages. It may include a plurality of branch supply passages 130 branched between the passages 110 and 120.

즉, 상기 배관부(100)는, 기화기(20)에 연결되는 제1공급유로(110)와, 제1공급유로(110)로부터 분기되는 복수의 분기공급유로(130)들과, 복수의 분기공급유로(130)들이 다시 합쳐져 형성되는 제2공급유로(120)를 포함할 수 있다.That is, the piping unit 100 includes a first supply passage 110 connected to the vaporizer 20, a plurality of branch supply passages 130 branching from the first supply passage 110, and a plurality of branches. It may include a second supply passage 120 formed by combining the supply passages 130 again.

한편, 이 경우 제1공급유로(110) 및 제2공급유로(120)가 복수의 분기공급유로(130)들에 각각 연통되도록 복수개 형성될 수 있음은 또한 물론이다.Meanwhile, in this case, it goes without saying that a plurality of the first supply passage 110 and the second supply passage 120 may be formed to communicate with the plurality of branch supply passages 130, respectively.

또한 상기 배관부(100)는, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 내부에 제1공급유로(110), 제2공급유로(120) 및 복수의 분기공급유로(130)들이 형성되는 배관블록(140)을 포함할 수 있다.In addition, the piping unit 100 is a pipe in which a first supply passage 110, a second supply passage 120, and a plurality of branch supply passages 130 are formed, as shown in FIGS. 2 and 3. It may include block 140.

상기 배관블록(140)은, 내부에 공정가스의 공급을 위한 제1공급유로(110), 제2공급유로(120) 및 복수의 분기공급유로(130)들이 형성되는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The piping block 140 has a first supply passage 110, a second supply passage 120, and a plurality of branch supply passages 130 formed therein for supply of process gas, and various configurations are possible. do.

예를 들면, 상기 배관블록(140)은, SUS재질의 블록으로서, 내부에 제1공급유로(110), 제2공급유로(120) 및 복수의 분기공급유로(130)들이 형성될 수 있다.For example, the piping block 140 is a block made of SUS material, and a first supply passage 110, a second supply passage 120, and a plurality of branch supply passages 130 may be formed therein.

상기 제1공급유로(110)는, 일단이 기화기(20)에 연결되고, 타단이 복수의 분기공급유로(130)들에 연결되어, 기화기(20)로부터 기화된 기체상태의 공정가스를 분기공급유로(130)들에 각각 공급할 수 있다.The first supply passage 110 has one end connected to the vaporizer 20 and the other end connected to a plurality of branch supply passages 130 to branchly supply the gaseous process gas vaporized from the vaporizer 20. It can be supplied to each euro (130).

상기 제2공급유로(120)는, 일단이 공정챔버(10)에 연결되고, 타단이 복수의 분기공급유로(130)들에 연결되어, 분기공급유로(130)로부터 공정가스를 전달받아 공정챔버(10)로 공급할 수 있다.The second supply passage 120 has one end connected to the process chamber 10 and the other end connected to a plurality of branch supply passages 130, so that it receives the process gas from the branch supply passage 130 and supplies it to the process chamber. It can be supplied as (10).

상기 복수의 분기공급유로(130)들은, 대용량의 공정가스의 유량을 원활히 제어하기 위하여, 복수의 유량제어밸브(200)들이 각각 설치가능하도록 형성되는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The plurality of branch supply passages 130 are configured so that a plurality of flow control valves 200 can be installed on each in order to smoothly control the flow rate of a large volume of process gas, and various configurations are possible.

예를 들면, 상기 복수의 분기공급유로(130)들은, 각각 유량제어밸브(200)를 기준으로, 제1공급유로(110)와 연결되는 제1분기공급유로(130a)와, 제2공급유로(120)와 연결되는 제1분기공급유로(130b)를 포함할 수 있다.For example, the plurality of branch supply passages 130 include a first branch supply passage 130a and a second supply passage connected to the first supply passage 110, respectively, based on the flow control valve 200. It may include a first branch supply passage (130b) connected to (120).

상기 복수의 유량제어밸브(200)들은, 공급되는 공정가스의 유량을 제어하기 위하여 설치되는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The plurality of flow control valves 200 are installed to control the flow rate of the supplied process gas, and various configurations are possible.

상기 복수의 유량제어밸브(200)들은, 150도 내지 200도의 고온의 공정가스에 대하여, 정밀한 유량제어가 요구되는 바, 고온의 공정환경에서 안정적으로 구동 가능한 압전소자 구동방식의 밸브일 수 있으며, 보다 구체적으로는 피에조밸브가 적용될 수 있다.The plurality of flow control valves 200 require precise flow control for high temperature process gas of 150 to 200 degrees, and may be piezoelectric element driven valves that can be stably operated in a high temperature process environment, More specifically, a piezo valve may be applied.

이 경우, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들은, 복수의 분기공급유로(130)들의 일부를 형성하도록 각각 설치되며, 압전소자의 신장을 이용하여 분기공급유로(130)의 개폐를 조절함으로써, 공정가스의 유량을 조절할 수 있다.In this case, the plurality of flow control valves 200 are each installed to form part of a plurality of branch supply passages 130, and by controlling the opening and closing of the branch supply passage 130 using the elongation of the piezoelectric element, The flow rate of process gas can be adjusted.

보다 구체적으로, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들은, 각각 제1분기공급유로(130a)와 제2분기공급유로(130b) 사이에 분기공급유로(130)의 일부를 형성하도록 설치될 수 있다.More specifically, the plurality of flow control valves 200 may be installed to form a part of the branch supply passage 130 between the first branch supply passage 130a and the second branch supply passage 130b. .

상기 복수의 유량제어밸브(200)들은, 도 4에 도시된 바와 같이, 전압이 인가되면 압전소자가 신장하여 구동하는 압전액추에이터(210)를 이용하여, 금속 다이어프램(220)과 밸브시트(230)를 접촉하거나 이격시킴으로써 분기공급유로(130)를 개폐할 수 있다.As shown in FIG. 4, the plurality of flow control valves 200 operate the metal diaphragm 220 and the valve seat 230 using a piezoelectric actuator 210 that expands and drives the piezoelectric element when voltage is applied. The branch supply passage 130 can be opened and closed by contacting or separating.

보다 구체적으로, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들은, 압전액추에이터(210)의 전압인가에 따른 신장으로 상승하는 지지통체(250)와, 지지통체(250)의 상승에 따라 금속 다이어프램(220)으로부터 이격되어 상승함으로써 공급유로를 개방하는 가압부(240)를 포함할 수 있다.More specifically, the plurality of flow control valves 200 include a support cylinder 250 that rises by extension in accordance with the application of voltage of the piezoelectric actuator 210, and a metal diaphragm 220 as the support cylinder 250 rises. It may include a pressurizing portion 240 that opens the supply passage by being spaced apart from and rising.

반면 전압인가가 없는 경우, 탄성력에 의해 지지통체(250) 및 가압부(240)가 하강하고, 가압부(240)의 금속다이어프램(220) 가압으로, 금속 다이어프램(220)이 밸브시트(230)에 접촉함으로써 공급유로를 폐쇄할 수 있다.On the other hand, when no voltage is applied, the support body 250 and the pressurizing part 240 are lowered by elastic force, and the metal diaphragm 220 is pressed by the pressurizing part 240, so that the metal diaphragm 220 is moved to the valve seat 230. The supply channel can be closed by contacting .

한편, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들은, 압전소자 구동방식을 이용하여 분기공급유로(130)를 개폐할 수 있는 구성이면, 종래 개시된 어떠한 형태의 압전소자구동밸브도 가능하다.Meanwhile, the plurality of flow control valves 200 can be any type of conventionally disclosed piezoelectric element driven valve as long as it is configured to open and close the branch supply passage 130 using a piezoelectric element driving method.

또한, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들은, 복수의 분기공급유로(130)들에 각각 설치되며, 분기공급유로(130)의 일부를 형성하도록 설치될 수 있다.Additionally, the plurality of flow control valves 200 are respectively installed in the plurality of branch supply passages 130 and may be installed to form a part of the branch supply passages 130.

보다 구체적으로, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들은, 배관블록(140)의 상단에 설치되며, 복수의 분기공급유로(130)들이 배관블록(140)의 상단으로 형성되어, 유량제어밸브(200)들이 복수의 분기공급유로(130)들의 일부를 각각 형성하도록 할 수 있다.More specifically, the plurality of flow control valves 200 are installed at the top of the piping block 140, and a plurality of branch supply passages 130 are formed at the top of the piping block 140, and the flow control valve ( 200) may each form part of a plurality of branch supply passages 130.

이를 통해, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들은, 종래 단일의 유량제어밸브(200)를 통해 밸브시트(230)와 금속 다이어프램(220) 사이의 이격거리를 최대 50㎛수준으로 이격시켜 공정가스의 유량을 조절함으로써 1000cc 내지 1200cc 수준의 공정가스만을 조절가능했던 것에 비해, 복수의 유량제어밸브(200)를 통해 동시에 2000cc 이상의 대유량의 공정가스 유량을 조절가능한 이점이 있다.Through this, the plurality of flow control valves 200 space the separation distance between the valve seat 230 and the metal diaphragm 220 to a maximum of 50㎛ through a conventional single flow control valve 200 to control the process gas. Compared to the fact that only the process gas level of 1000cc to 1200cc can be controlled by adjusting the flow rate, there is an advantage that the process gas flow rate of 2000cc or more can be adjusted simultaneously through the plurality of flow control valves 200.

상기 유량측정부는, 공정챔버(10)로 공급되는 공정가스의 유량을 측정하기 위하여, 복수의 유량제어밸브(200)들과 공정챔버(10) 사이에 설치되는 적어도 하나의 측정센서와, 측정센서의 측정값을 통해 공정가스의 유량을 산출하는 유량산출부를 포함하는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The flow rate measurement unit includes at least one measurement sensor installed between the plurality of flow control valves 200 and the process chamber 10 to measure the flow rate of the process gas supplied to the process chamber 10, and a measurement sensor It is a configuration that includes a flow rate calculation unit that calculates the flow rate of the process gas through the measured value, and various configurations are possible.

예를 들면, 상기 측정센서는, 온도센서, 압력센서 등 다양한 종류의 센서가 적용될 수 있으며, 보다 바람직하게는 고온의 환경에서 안정적인 센싱이 가능한 압력센서(P1)일 수 있다.For example, the measurement sensor may be a variety of sensors, such as a temperature sensor or a pressure sensor. More preferably, it may be a pressure sensor (P1) capable of stable sensing in a high temperature environment.

상기 압력센서(P1)는, 복수의 유량제어밸브(200)들과 공정챔버(10) 사이에 설치되어, 공정챔버(10)로 공급되는 공정가스의 압력을 측정하는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The pressure sensor (P1) is installed between the plurality of flow control valves 200 and the process chamber 10 to measure the pressure of the process gas supplied to the process chamber 10, and can be configured in various ways. do.

즉, 상기 압력센서(P1)는, 복수의 유량제어밸브(200)들과 공정챔버(10) 사이에 설치되어, 공정가스의 압력을 측정함으로써 공정가스의 유량을 측정할 수 있다.That is, the pressure sensor P1 is installed between the plurality of flow control valves 200 and the process chamber 10 and can measure the flow rate of the process gas by measuring the pressure of the process gas.

이때, 상기 압력센서(P1)는, 복수개로서, 복수의 분기공급유로(130)들에 각각 설치되어, 분기공급유로(130)들에 각각 존재하는 공정가스의 유량을 측정할 수 있다.At this time, the pressure sensor (P1) is plural and is installed in each of the plurality of branch supply passages 130 to measure the flow rate of the process gas present in each of the branch supply passages 130.

다른 예로서, 상기 압력센서(P1)는, 공정챔버(10)에 공급되는 공정가스의 유량을 정밀하게 측정하고, 원자재비용 절감을 위해 분기된 복수의 분기공급유로(130)들의 후단에서 합쳐져 형성되는 제2공급유로(120)에 1개가 설치될 수 있다.As another example, the pressure sensor P1 precisely measures the flow rate of the process gas supplied to the process chamber 10 and is formed by combining a plurality of branch supply passages 130 at the rear end to reduce raw material costs. One can be installed in the second supply passage 120.

이 경우, 상기 압력센서(P1)는, 제2공급유로(120)에 설치되어 제2공급유로(120)에 존재하는 상기 공정가스의 유량을 측정하여, 공정챔버(10)로 공급되는 공정가스의 양을 확인할 수 있다.In this case, the pressure sensor (P1) is installed in the second supply passage 120 and measures the flow rate of the process gas present in the second supply passage 120 to determine the process gas supplied to the process chamber 10. You can check the amount.

상기 액체원료예열부(30)는, 액체원료를 미리 설정된 온도로 예열시켜 기화기(20)에 공급하는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The liquid raw material preheating unit 30 is a component that preheats the liquid raw material to a preset temperature and supplies it to the vaporizer 20, and various configurations are possible.

예를 들면, 상기 액체원료예열부(30)는, 외부로부터 공급되는 액체원료를 미리 설정된 온도로 예열하는 액체원료예열몸체와, 액체원료예열몸체를 일정온도로 가열하여 액체원료예열몸체에 저장된 액체원료를 예열하는 예열히터를 포함할 수 있다.For example, the liquid raw material preheating unit 30 includes a liquid raw material preheating body that preheats the liquid raw material supplied from the outside to a preset temperature, and a liquid raw material preheating body that heats the liquid raw material preheating body to a certain temperature to store the liquid stored in the liquid raw material preheating body. It may include a preheater that preheats the raw materials.

한편, 이 경우, 상기 액체원료예열부(30)는, 액체원료를 저장하는 저장공간으로의 역할을 수행할 수 있으며, 기화기(20)에서 공정가스로의 상변화가 단시간 내에 일어나도록 함으로써, 가스공급을 위한 전체 공정시간을 줄일 수 있다. Meanwhile, in this case, the liquid raw material preheating unit 30 can serve as a storage space for storing liquid raw materials, and allows the phase change from the vaporizer 20 to the process gas to occur within a short time, thereby supplying gas. The overall process time can be reduced.

상기 액체원료조절밸브(300)는, 기화기(20)에 액체원료를 공급하는 액체원료공급배관(40)에 설치되어, 기화기(20)에 공급되는 액체원료의 양을 조절하는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The liquid raw material control valve 300 is installed on the liquid raw material supply pipe 40 that supplies liquid raw materials to the vaporizer 20, and is a component that controls the amount of liquid raw materials supplied to the vaporizer 20, and has various configurations. This is possible.

예를 들면, 상기 액체원료조절밸브(300)는, 후술하는 제어부의 제어에 따라, 기화기(20)에 공급되는 액체원료의 양을 조절할 수 있으며, 보다 바람직하게는 액체원료예열부(30)와 기화기(20) 사이에 설치되어, 액체원료예열부(30)로부터 예열된 액체원료의 공급량을 제어부의 제어에 따라 조절할 수 있다.For example, the liquid raw material control valve 300 can control the amount of liquid raw material supplied to the vaporizer 20 according to the control of the control unit described later, and more preferably, the liquid raw material preheating unit 30 and It is installed between the vaporizers 20, and the supply amount of the liquid raw material preheated from the liquid raw material preheating unit 30 can be adjusted according to the control of the control unit.

한편, 상기 액체원료조절밸브(300)는, 액체원료의 공급량을 조절할 수 있는 구성이면 어떠한 방식의 밸브도 가능하며, 보다 바람직하게는 고온의 환경에서 안정적으로 구동가능한 밸브일 수 있다.Meanwhile, the liquid raw material control valve 300 can be any type of valve as long as it is configured to control the supply amount of the liquid raw material, and more preferably, it can be a valve that can be stably operated in a high temperature environment.

상기 압력측정센서(P0)는, 액체원료조절밸브(300)와 유량제어밸브(200) 사이의 압력을 측정하는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The pressure measurement sensor (P0) is a component that measures the pressure between the liquid raw material control valve 300 and the flow control valve 200, and various configurations are possible.

이 경우, 상기 압력측정센서(P0)는 액체원료조절밸브(300)와 기화기(20) 사이에 설치되어, 공급되는 액체원료의 유량을 압력을 통해 측정함으로써, 기화기(20)에 공급되는 액체원료의 양을 측정할 수 있다.In this case, the pressure measurement sensor (P0) is installed between the liquid raw material control valve 300 and the vaporizer 20, and measures the flow rate of the liquid raw material supplied to the vaporizer 20 by measuring the flow rate of the liquid raw material supplied to the vaporizer 20. The amount can be measured.

다른 예로서, 상기 압력측정센서(P0)는 기화기(20)와 유량제어밸브(200) 사이, 보다 바람직하게는 제1공급유로(110)에 설치되어, 기화기(20)로부터 공급되는 기체 상태의 공정가스의 압력을 측정함으로써, 기화기(20) 내의 액체원료의 양을 측정할 수 있다.As another example, the pressure measurement sensor (P0) is installed between the vaporizer 20 and the flow control valve 200, more preferably in the first supply passage 110, to measure the gaseous state supplied from the vaporizer 20. By measuring the pressure of the process gas, the amount of liquid raw material in the vaporizer 20 can be measured.

즉, 상기 압력측정센서(P0)는, 제1공급유로(110)에 설치되어, 기화기(20)로부터 공급되는 기체상태의 공정가스의 압력을 측정하여, 측정값을 통해 기화기(20) 내부의 액체원료의 양을 추정 가능하도록 하며, 이를 근거로 액체원료조절밸브(300)를 통해, 기화기(20) 내로 공급되는 액체원료의 양을 조절할 수 있다.That is, the pressure measurement sensor (P0) is installed in the first supply passage 110, measures the pressure of the gaseous process gas supplied from the vaporizer 20, and uses the measured value to determine the pressure of the gaseous process gas inside the vaporizer 20. The amount of liquid raw material can be estimated, and based on this, the amount of liquid raw material supplied into the vaporizer 20 can be adjusted through the liquid raw material control valve 300.

한편, 이 경우 상기 압력측정센서(P0)가 복수개 구비되어 복수의 분기유로(130)들에 각각 설치될 수 있음은 또한 물론이다.Meanwhile, in this case, it goes without saying that a plurality of pressure measurement sensors (P0) may be provided and installed in each of the plurality of branch passages 130.

다른 예로서, 상기 압력측정센서(P0)는, 기화기(20) 내에 설치되어, 액체원료의 잔량을 직접 측정할 수도 있음은 또한 물론이다.As another example, of course, the pressure measurement sensor P0 can be installed in the vaporizer 20 to directly measure the remaining amount of liquid raw material.

상기 차단밸브(400)는, 제2공급유로(120)에 설치되어, 기화기(20)로부터 공급되는 공정가스를 공정챔버(10)로 유입 또는 차단하는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The blocking valve 400 is installed in the second supply passage 120 and is configured to flow in or block the process gas supplied from the vaporizer 20 into the process chamber 10, and various configurations are possible.

예를 들면, 상기 차단밸브(400)는, 제2공급유로(120) 중 공정챔버(10)의 전단에 설치되어, 개폐를 통해 공정가스를 공정챔버(10)로 유입 또는 차단할 수 있다.For example, the blocking valve 400 is installed at the front of the process chamber 10 in the second supply passage 120 and can block the process gas from flowing into the process chamber 10 by opening and closing.

이 경우, 상기 차단밸브(400)는, 유로의 차단면에 탄성을 가지는 소재가 적용되어, 제2공급유로(120)를 완전히 폐쇄할 수 있다.In this case, the blocking valve 400 can completely close the second supply passage 120 by applying an elastic material to the blocking surface of the passage.

상기 제어부는, 복수의 유량제어밸브(200)들을 제어하는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The control unit controls a plurality of flow control valves 200, and various configurations are possible.

예를 들면, 상기 제어부는, 압력센서(P1)를 통해 측정된 공정가스의 압력에 따라 공정챔버(10)로 공급되는 공정가스의 유량을 미리 설정된 범위 내로 공급하도록 복수의 유량제어밸브(200)들을 제어할 수 있다.For example, the control unit operates a plurality of flow control valves 200 to supply the flow rate of the process gas supplied to the process chamber 10 within a preset range according to the pressure of the process gas measured through the pressure sensor P1. You can control them.

이 경우, 상기 제어부는, 복수의 유량제어밸브(200)들이 싱크되어, 동시에 동일한 형태로 구동되도록 제어함으로써, 공급되는 공정가스의 유량을 제어할 수 있다.In this case, the control unit can control the flow rate of the supplied process gas by controlling the plurality of flow control valves 200 to be synchronized and operated in the same manner at the same time.

즉, 상기 제어부는, 복수의 유량제어밸브(200)들의 공급유로 개방정도가 동일하게 유지되면서 구동하도록 복수의 유량제어밸브(200)들을 제어할 수 있다.That is, the control unit can control the plurality of flow control valves 200 to operate while maintaining the opening degree of the supply passage of the plurality of flow control valves 200 the same.

보다 구체적으로, 공급량을 유량제어밸브(200)들의 수로 나누어 1개의 유량제어밸브(200) 당 공정가스의 공급유량을 유량제어밸브(200)들이 각각 공급하도록, 제어할 수 있다.More specifically, the supply flow rate of the process gas per one flow control valve 200 can be controlled by dividing the supply amount by the number of flow control valves 200 so that each flow control valve 200 supplies it.

한편, 다른 예로서 상기 제어부는, 복수의 유량제어밸브(200)들을 개별제어할 수 있다.Meanwhile, as another example, the control unit may individually control a plurality of flow control valves 200.

보다 구체적으로, 상기 제어부는, 복수의 유량제어밸브(200)들 각각을 개별제어함으로서, 공정가스의 공급유량을 조절할 수 있으며, 복수의 유량제어밸브(200)들 중 일부를 개방 또는 폐쇄하여 고정한 상태에서, 나머지 유량제어밸브(200)를 조절하여 공정가스의 공급유량을 조절할 수도 있다.More specifically, the control unit can control the supply flow rate of the process gas by individually controlling each of the plurality of flow control valves 200, and fixes some of the plurality of flow control valves 200 by opening or closing them. In this state, the supply flow rate of the process gas may be adjusted by adjusting the remaining flow control valves 200.

한편, 상기 제어부는, 압력측정센서(P0)를 통해 측정되는 압력값을 통해, 기화기(20)로 공급되는 액체원료의 유량을 조절하도록 액체원료조절밸브(300)를 제어할 수 있다.Meanwhile, the control unit may control the liquid raw material control valve 300 to adjust the flow rate of the liquid raw material supplied to the vaporizer 20 through the pressure value measured through the pressure measurement sensor P0.

보다 구체적으로, 상기 제어부는, 제1공급유로(110)에 설치되는 압력측정센서(P0)를 통해 측정되는 압력값이 기준보다 낮은 경우, 기화기(20) 내의 액체원료의 잔량이 부족한 것으로 판단하고, 액체원료조절밸브(300)를 개방하여 기화기(20)로 액체원료를 추가공급할 수 있다.More specifically, when the pressure value measured through the pressure measurement sensor (P0) installed in the first supply passage 110 is lower than the standard, the control unit determines that the remaining amount of liquid raw material in the vaporizer 20 is insufficient. , the liquid raw material control valve 300 can be opened to additionally supply liquid raw materials to the vaporizer 20.

또한, 상기 제어부는, 차단밸브(400)의 개폐를 제어함으로써, 공정가스가 공저챔버(10)로 유입 또는 차단되도록 할 수 있다.Additionally, the control unit may control the opening and closing of the blocking valve 400 to allow process gas to flow into or be blocked from the hollow chamber 10 .

이하 본 발명에 따른 가스공급장치를 이용하여 가스공급을 제어하는 가스공급제어방법에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, a gas supply control method for controlling gas supply using the gas supply device according to the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings.

본 발명에 따른 가스공급제어방법은, 도 5a 및 도 5b에 도시된 바와 같이, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들 중 적어도 하나를 개방하고, 상기 압력센서(P1)의 측정값을 통해 상기 적어도 하나의 유량제어밸브(200)를 제어함으로써, 상기 공정가스의 유량을 제어하는 유량제어밸브개방단계(S100)와; 상기 제2공급유로(120)에 설치되어 상기 기화기(20)로부터 공급되는 상기 공정가스를 상기 공정챔버(10)로 유입 또는 차단하는 차단밸브(400)를 개방하여, 상기 공정가스를 상기 공정챔버(10)로 공급하는 차단밸브개방단계(S200)를 포함한다.In the gas supply control method according to the present invention, as shown in FIGS. 5A and 5B, at least one of the plurality of flow control valves 200 is opened and the pressure sensor P1 is measured through the measured value. A flow control valve opening step (S100) of controlling the flow rate of the process gas by controlling at least one flow control valve (200); By opening the blocking valve 400, which is installed in the second supply passage 120 and allows the process gas supplied from the vaporizer 20 to flow into or block the process chamber 10, the process gas flows into the process chamber. It includes a blocking valve opening step (S200) supplied to (10).

또한, 본 발명에 따른 가스공급제어방법은, 도 6a 및 도 6b에 도시된 바와 같이, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들을 폐쇄하여, 상기 공정가스의 이동을 차단하는 유량제어밸브폐쇄단계(S300)와; 상기 제2공급유로(120)에 설치되어 상기 기화기(20)로부터 공급되는 상기 공정가스를 상기 공정챔버(10)로 유입 또는 차단하는 차단밸브(400)를 폐쇄하여, 상기 공정가스의 상기 공정챔버(10)로의 공급을 차단하는 공급차단단계(S400)를 포함한다.In addition, the gas supply control method according to the present invention includes a flow control valve closing step of blocking the movement of the process gas by closing the plurality of flow control valves 200, as shown in FIGS. 6A and 6B. S300) and; By closing the blocking valve 400, which is installed in the second supply passage 120 and allows the process gas supplied from the vaporizer 20 to flow into or block the process chamber 10, the process gas flows into the process chamber 10. It includes a supply blocking step (S400) that blocks the supply to (10).

상기 유량제어밸브개방단계(S100)는, 복수의 유량제어밸브(200)들 중 적어도 하나를 개방하고, 유량측정부의 측정값을 통해 적어도 하나의 유량제어밸브(200)를 제어함으로써, 공정가스의 유량을 제어할 수 있다.The flow control valve opening step (S100) opens at least one of the plurality of flow control valves 200 and controls at least one flow control valve 200 through the measured value of the flow measurement unit, thereby controlling the flow rate of the process gas. Flow rate can be controlled.

상기 유량제어밸브개방단계(S100)는, 공정챔버(10)에서 기판처리를 위한 공정 시작 전, 기화기(20)로부터 공정챔버(10)로의 공정가스 공급을 위해 수행될 수 있다. The flow control valve opening step (S100) may be performed to supply process gas from the vaporizer 20 to the process chamber 10 before starting the process for processing the substrate in the process chamber 10.

또한 상기 유량제어밸브개방단계(S100)는, 복수의 유량제어밸브(200)들 중 적어도 하나를 개방하는 밸브개방단계(S110)와, 상기 밸브개방단계(S110) 이후에 유량측정부를 통해 공급되는 공정가스의 유량을 측정하는 유량측정단계(S120)와, 유량측정부를 통해 측정된 공정가스의 유량을 통해 제어부가 적어도 하나의 유량제어밸브(200)를 제어하는 유량조절단계(S130)를 포함할 수 있다.In addition, the flow control valve opening step (S100) includes a valve opening step (S110) of opening at least one of the plurality of flow control valves 200, and the valve opening step (S110) supplied through the flow measurement unit. It may include a flow measurement step (S120) in which the flow rate of the process gas is measured, and a flow rate control step (S130) in which the control unit controls at least one flow control valve 200 through the flow rate of the process gas measured through the flow measurement unit. You can.

상기 밸브개방단계(S110)는, 복수의 유량제어밸브(200)들 중 적어도 하나를 개방하는 단계로서, 다양한 방법에 의할 수 있다.The valve opening step (S110) is a step of opening at least one of the plurality of flow control valves 200, and can be performed using various methods.

보다 구체적으로 상기 밸브개방단계(S110)는, 공정 시작 전, 복수의 유량제어밸브(200)들이 폐쇄되어, 기화기(20)로부터 전달되는 공정가스가 기화기(20)와 복수의 유량제어밸브(200) 사이인 제1공급유로(110)와 제1분기공급유로(130a)에 차 있는 상태에서, 적어도 하나의 유량제어밸브(200)를 개방하여 공정가스를 제2분기공급유로(130b) 및 제2공급유로(120)에 전달되도록 할 수 있다.More specifically, in the valve opening step (S110), before the start of the process, the plurality of flow control valves 200 are closed, so that the process gas delivered from the vaporizer 20 flows through the vaporizer 20 and the plurality of flow control valves 200. ) In a state where the first supply passage 110 and the first branch supply passage 130a are filled, at least one flow control valve 200 is opened to allow the process gas to flow into the second branch supply passage 130b and the first branch supply passage 130b. It can be delivered to 2 supply channel 120.

한편, 상기 유량측정단계(S120)는, 밸브개방단계(S110) 이후에 압력센서(P1)를 통해 공급되는 공정가스의 압력을 측정하는 단계로서, 다양한 방법에 의할 수 있다.Meanwhile, the flow rate measurement step (S120) is a step of measuring the pressure of the process gas supplied through the pressure sensor (P1) after the valve opening step (S110), and can be performed using various methods.

상기 유량측정단계(S120)는, 제2공급유로(120)에 설치되는 압력센서(P1)를 통해 공정가스의 압력을 측정하여, 공정가스의 유량을 판단하도록 할 수 있다.In the flow rate measurement step (S120), the pressure of the process gas can be measured through the pressure sensor (P1) installed in the second supply passage 120 to determine the flow rate of the process gas.

상기 유량조절단계(S130)는, 압력센서(P1)를 통해 측정된 측정값을 통해 제어부가 적어도 하나의 유량제어밸브(200)를 제어하는 단계로서, 다양한 방법에 의할 수 있다.The flow rate control step (S130) is a step in which the controller controls at least one flow control valve 200 using the measured value measured through the pressure sensor (P1), and can be performed using various methods.

상기 유량조절단계(S130)는, 압력센서(P1)를 통해 측정된 측정값을 통해 제어부가 적어도 하나의 유량제어밸브(200)의 개방정도를 제어함으로써, 공정가스의 유량을 조절할 수 있다. In the flow rate control step (S130), the control unit controls the degree of opening of at least one flow control valve 200 using the measured value measured through the pressure sensor (P1), thereby controlling the flow rate of the process gas.

이 경우, 상기 유량조절단계(S130)는, 복수의 유량제어밸브(200)를 동시에 제어하여 유량을 조절할 수 있으며, 다른 예로서 복수의 유량제어밸브(200) 중 일부를 제어하여 유량을 조절할 수도 있다.In this case, the flow rate control step (S130) may control the flow rate by simultaneously controlling a plurality of flow control valves 200. As another example, the flow rate may be adjusted by controlling some of the plurality of flow control valves 200. there is.

상기 차단밸브개방단계(S200)는, 제2공급유로(120)에 설치되어 기화기(20)로부터 공급되는 공정가스를 공정챔버(10)로 유입 또는 차단하는 차단밸브(400)를 개방하여, 공정가스를 공정챔버(10)로 공급하는 단계로서, 다양한 방법에 의할 수 있다.The blocking valve opening step (S200) opens the blocking valve 400, which is installed in the second supply passage 120 and allows the process gas supplied from the vaporizer 20 to flow into or blocks the process chamber 10, to process the process. This is the step of supplying gas to the process chamber 10, and can be done by various methods.

상기 차단밸브개방단계(S200)는, 차단밸브(400)를 개방하여, 공정가스를 공정챔버(10)로 공급함으로써, 공정챔버(10)를 통해 기판처리가 수행되도록 할 수 있다.In the blocking valve opening step (S200), the blocking valve 400 is opened to supply process gas to the process chamber 10, thereby allowing substrate processing to be performed through the process chamber 10.

상기 유량제어밸브폐쇄단계(S300)는, 복수의 유량제어밸브(200)들을 폐쇄하여, 공정가스의 이동을 차단하는 단계로서 다양한 방법에 의할 수 있다.The flow control valve closing step (S300) is a step of blocking the movement of process gas by closing the plurality of flow control valves 200, and can be performed in various ways.

예를 들면, 상기 유량제어밸브폐쇄단계(S300)는, 공정챔버(10)에서 기판처리를 위한 공정이 종료되고, 공정챔버(10)로의 공정가스 공급을 차단하기 위해 복수의 유량제어밸브(200)들을 폐쇄할 수 있다. For example, in the flow control valve closing step (S300), the process for substrate processing in the process chamber 10 is completed, and a plurality of flow control valves 200 are used to block the supply of process gas to the process chamber 10. ) can be closed.

상기 공급차단단계(S400)는, 제2공급유로(120)에 설치되어 기화기(20)로부터 공급되는 공정가스를 공정챔버(10)로 유입 또는 차단하는 차단밸브(400)를 폐쇄하여, 공정가스의 공정챔버(10)로의 공급을 차단하는 단계로서, 다양한 방법에 의할 수 있다.The supply blocking step (S400) closes the blocking valve 400, which is installed in the second supply passage 120 and allows the process gas supplied from the vaporizer 20 to flow into or blocks the process chamber 10, thereby This is a step of blocking the supply to the process chamber 10, and can be done by various methods.

즉, 상기 공급차단단계(S400)는, 복수의 유량제어밸브(200)들을 폐쇄한 이후에 일정한 시차를 두고 차단밸브(400)를 폐쇄할 수 있다.That is, in the supply blocking step (S400), the blocking valve 400 may be closed at a certain time lag after closing the plurality of flow control valves 200.

한편, 상기 공급차단단계(S400)는, 복수의 유량제어밸브(200)들과 공정챔버(10) 사이의 공정가스를 배기하는 배기단계(S410)와, 배기단계(S410) 이후에 차단밸브(400)를 폐쇄하여 공정가스의 공정챔버(10)로의 공급을 차단하는 차단밸브폐쇄단계(S420)를 포함할 수 있다.Meanwhile, the supply blocking step (S400) includes an exhausting step (S410) for exhausting the process gas between the plurality of flow control valves 200 and the process chamber 10, and a blocking valve (S410) after the exhausting step (S410). It may include a blocking valve closing step (S420) of blocking the supply of process gas to the process chamber 10 by closing 400).

상기 배기단계(S410)는, 복수의 유량제어밸브(200)들과 공정챔버(10) 사이의 공정가스를 배기하는 단계로서, 보다 상세하게는 제2분기공급유로(130b)들과 제2공급유로(120)에 잔존하는 공정가스를 별도의 배기부를 통해 배기할 수 있다.The exhaust step (S410) is a step of exhausting the process gas between the plurality of flow control valves 200 and the process chamber 10, and more specifically, the second branch supply passages 130b and the second supply The process gas remaining in the flow path 120 can be exhausted through a separate exhaust unit.

상기 차단밸브폐쇄단계(S420)는, 차단밸브(400)를 폐쇄함으로써, 제2분기공급유로(130b)들과 제2공급유로(120)가 배기되어 공정가스가 제거된 상태에서 공정챔버(10)로의 공정가스 공급을 차단할 수 있다.In the blocking valve closing step (S420), by closing the blocking valve 400, the second branch supply passages 130b and the second supply passage 120 are exhausted and the process chamber 10 in a state in which the process gas is removed. ) can block the supply of process gas to .

한편, 상기 차단밸브폐쇄단계(S420)는, 제2분기공급유로(130b)들과 제2공급유로(120)에 잔존하는 공정가스의 잔존량을 기준치 이하로 만들기 위하여, 압력센서(P1)의 측정값이 미리 설정된 값 이하일 때 차단밸브(400)를 차단할 수 있다. Meanwhile, in the blocking valve closing step (S420), in order to make the remaining amount of process gas remaining in the second branch supply passages 130b and the second supply passage 120 below the standard value, the pressure sensor P1 is operated. When the measured value is below a preset value, the blocking valve 400 can be blocked.

이때, 상기 차단밸브폐쇄단계(S420)는, 차단밸브(400)가 유량제어밸브(200)보다 먼저 차단되는 경우, 차단밸브(400)와 유량제어밸브(200) 사이에 잔존가스가 존재할 수 있는 바, 보다 바람직하게는 배기가 이루어지는 도중 유량제어밸브(200)와 차단밸브(400)가 순차적으로 차단될 수 있다. At this time, in the blocking valve closing step (S420), when the blocking valve 400 is blocked before the flow control valve 200, residual gas may exist between the blocking valve 400 and the flow control valve 200. Bar, more preferably, the flow control valve 200 and the blocking valve 400 can be sequentially blocked while exhaust is being performed.

이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께 하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.Since the above is only a description of some of the preferred embodiments that can be implemented by the present invention, as is well known, the scope of the present invention should not be construed as limited to the above embodiments, and the scope of the present invention described above Both the technical idea and the technical idea underlying it will be said to be included in the scope of the present invention.

10: 공정챔버 20: 기화기
100: 배관부 200: 유량제어밸브
300: 액체원료조절밸브 400: 차단밸브10: Process chamber 20: Vaporizer
100: Piping part 200: Flow control valve
300: Liquid raw material control valve 400: Blocking valve

Claims (14)

기판처리가 수행되는 공정챔버(10)에 공정가스를 공급하는 가스공급장치로서,
상기 공정가스가 공급되는 제1공급유로(110)와, 상기 공정챔버(10)와 연통되는 제2공급유로(120)와, 상기 제1,2공급유로(110, 120) 사이에서 분기되어 구비되는 복수의 분기공급유로(130)들을 포함하는 배관부(100)와;
상기 복수의 분기공급유로(130)들의 일부를 형성하도록 각각 설치되며, 압전 소자의 신장을 이용하여 상기 분기공급유로(130)의 개폐를 조절함으로써, 상기 공정가스의 유량을 조절하는 복수의 유량제어밸브(200)들과;
상기 공정챔버(10)로 공급되는 상기 공정가스의 유량을 측정하기 위하여, 상기 복수의 유량제어밸브(200)들과 상기 공정챔버(10) 사이에 설치되는 적어도 하나의 측정센서와, 상기 측정센서의 측정값을 통해 상기 공정가스의 유량을 산출하는 유량산출부를 포함하는 유량측정부와;
상기 유량측정부를 통해 측정된 상기 공정가스의 유량에 따라 상기 공정챔버(10)로 공급되는 상기 공정가스의 유량을 미리 설정된 범위 내로 공급하도록 상기 복수의 유량제어밸브(200)들을 제어하는 제어부를 포함하며,
서로 동일한 용량을 가지는 상기 복수의 유량제어밸브(200)들 각각의 용량은 유량제어밸브(200)의 단위 시간 당 상기 공정가스의 최대 통과유량이 상기 공정챔버(10)의 기판처리공정에 필요한 상기 공정가스의 단위 시간 당 필요유량보다 작으며,
상기 측정센서는,
복수의 상기 분기공급유로(130)들 후단에서 합쳐져 형성되는 상기 제2공급유로(120)에 설치되어 상기 공정가스의 압력을 측정하는 압력센서(P1)이며,
상기 제어부는,
상기 압력센서(P1)를 통해 측정된 상기 공정가스 압력에 따라 복수의 상기 유량제어밸브(200)를 동기화하여 제어하는 것을 특징으로 하는 가스공급장치.A gas supply device that supplies process gas to the process chamber 10 where substrate processing is performed,
It is provided as a branch between a first supply passage 110 through which the process gas is supplied, a second supply passage 120 in communication with the process chamber 10, and the first and second supply passages 110 and 120. A piping unit 100 including a plurality of branch supply passages 130;
A plurality of flow rate controls that are each installed to form a part of the plurality of branch supply passages 130 and control the flow rate of the process gas by controlling the opening and closing of the branch supply passages 130 using the elongation of the piezoelectric element. valves 200;
At least one measurement sensor installed between the plurality of flow control valves 200 and the process chamber 10 to measure the flow rate of the process gas supplied to the process chamber 10, and the measurement sensor a flow rate measurement unit including a flow rate calculation unit that calculates the flow rate of the process gas through the measured value;
It includes a control unit that controls the plurality of flow control valves 200 to supply the flow rate of the process gas supplied to the process chamber 10 within a preset range according to the flow rate of the process gas measured through the flow rate measurement unit. And
The capacity of each of the plurality of flow control valves 200 having the same capacity is determined by the maximum passing flow rate of the process gas per unit time of the flow control valve 200 required for the substrate processing process of the process chamber 10. It is smaller than the required flow rate per unit time of process gas,
The measurement sensor is,
A pressure sensor (P1) installed in the second supply passage 120 formed by combining a plurality of branch supply passages 130 at the rear end to measure the pressure of the process gas,
The control unit,
A gas supply device characterized in that the plurality of flow control valves (200) are synchronized and controlled according to the process gas pressure measured through the pressure sensor (P1). 청구항 1에 있어서,
상기 유량산출부는,
상기 압력센서(P1)에 의해 측정된 상기 공정가스의 압력값을 토대로 상기 공정가스의 유량을 산출하는 것을 특징으로 하는 가스공급장치. In claim 1,
The flow rate calculation unit,
A gas supply device characterized in that the flow rate of the process gas is calculated based on the pressure value of the process gas measured by the pressure sensor (P1). 청구항 1에 있어서,
상기 복수의 유량제어밸브(200) 전단에서 액체원료를 기화시켜 기체상태의 상기 공정가스로 상변화시키고, 기체상태의 상기 공정가스를 공급하는 기화기(20)를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스공급장치.In claim 1,
A gas supply device comprising a vaporizer (20) that vaporizes the liquid raw material in front of the plurality of flow control valves (200) to change the phase into the process gas in a gaseous state, and supplies the process gas in a gaseous state. . 청구항 1에 있어서,
상기 제어부는,
상기 복수의 유량제어밸브(200)들을 개별제어하는 것을 특징으로 하는 가스공급장치.In claim 1,
The control unit,
A gas supply device characterized in that the plurality of flow control valves (200) are individually controlled. 청구항 1에 있어서,
상기 제2공급유로(120)에 설치되어, 공급되는 상기 공정가스를 상기 공정챔버(10)로 유입 또는 차단하는 차단밸브(400)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스공급장치.In claim 1,
A gas supply device further comprising a shutoff valve 400 installed in the second supply passage 120 to allow the supplied process gas to flow into or block the process chamber 10. 청구항 1에 있어서,
상기 공정가스는,
온도가 섭씨 50도 이상인 것을 특징으로 하는 가스공급장치. In claim 1,
The process gas is,
A gas supply device characterized in that the temperature is 50 degrees Celsius or higher. 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 유량제어밸브(200)의 단위 시간당 상기 공정가스의 최대 통과유량이 상기 제1공급유로(110)에 공급되는 상기 공정가스의 단위 시간당 공급유량보다 작은 것을 특징으로 하는 가스공급장치.In claim 1,
A gas supply device, wherein the maximum passing flow rate of the process gas per unit time of the flow control valve (200) is smaller than the supply flow rate per unit time of the process gas supplied to the first supply passage (110). 청구항 1 내지 청구항 6 및 청구항 8 중 어느 하나의 항에 따른 가스공급장치를 이용한 가스공급제어방법으로서,
상기 복수의 유량제어밸브(200)들 중 적어도 하나를 개방하는 밸브개방단계(S110)와;
상기 유량측정부를 통해 공급되는 상기 공정가스의 유량을 측정하는 유량측정단계(S120)와;
상기 유량측정부를 통해 측정된 상기 공정가스의 유량을 통해 적어도 하나의 유량제어밸브(200)를 제어하는 유량조절단계(S130)를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스공급제어방법.A gas supply control method using the gas supply device according to any one of claims 1 to 6 and claim 8,
A valve opening step (S110) of opening at least one of the plurality of flow control valves 200;
A flow measurement step (S120) of measuring the flow rate of the process gas supplied through the flow measurement unit;
A gas supply control method comprising a flow rate control step (S130) of controlling at least one flow control valve 200 through the flow rate of the process gas measured through the flow rate measurement unit. 청구항 9에 있어서,
상기 유량조절단계(S130)는,
상기 복수의 유량제어밸브(200)들이 싱크구동하도록 제어함으로써, 상기 공정가스의 유량을 조절하는 것을 특징으로 하는 가스공급제어방법.In claim 9,
The flow rate control step (S130),
A gas supply control method, characterized in that the flow rate of the process gas is adjusted by controlling the plurality of flow control valves (200) to be driven to sink. 청구항 9에 있어서,
상기 유량조절단계(S130)는,
상기 복수의 유량제어밸브(200)들 중 일부를 개방 또는 폐쇄하여 고정한 상태에서, 나머지 유량제어밸브(200)를 구동제어함으로써, 상기 공정가스의 유량을 조절하는 것을 특징으로 하는 가스공급제어방법.In claim 9,
The flow rate control step (S130),
A gas supply control method, characterized in that the flow rate of the process gas is adjusted by controlling the operation of the remaining flow control valves (200) while some of the plurality of flow control valves (200) are opened or closed and fixed. 청구항 1 내지 청구항 6 및 청구항 8 중 어느 하나의 항에 따른 가스공급장치를 이용한 가스공급제어방법으로서,
상기 복수의 유량제어밸브(200)들을 폐쇄하여, 상기 공정가스의 이동을 차단하는 유량제어밸브폐쇄단계(S300)와;
상기 유량제어밸브폐쇄단계(S300) 이후에, 상기 제2공급유로(120)에 설치되어 공급되는 상기 공정가스를 상기 공정챔버(10)로 유입 또는 차단하는 차단밸브(400)를 폐쇄하여, 상기 공정가스의 상기 공정챔버(10)로의 공급을 차단하는 공급차단단계(S400)를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스공급제어방법.A gas supply control method using the gas supply device according to any one of claims 1 to 6 and claim 8,
A flow control valve closing step (S300) of blocking the movement of the process gas by closing the plurality of flow control valves 200;
After the flow control valve closing step (S300), the blocking valve 400 installed in the second supply passage 120 to introduce or block the process gas supplied to the process chamber 10 is closed, A gas supply control method comprising a supply blocking step (S400) of blocking the supply of process gas to the process chamber (10). 청구항 12에 있어서,
상기 공급차단단계(S400)는,
상기 복수의 유량제어밸브(200)들과 상기 공정챔버(10) 사이의 공정가스를 배기하는 배기단계(S410)와, 상기 배기단계(S410) 이후에 제2공급유로(120)에 설치되는 차단밸브(400)를 폐쇄하여 상기 공정가스의 상기 공정챔버(10)로의 공급을 차단하는 차단밸브폐쇄단계(S420)를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스공급제어방법.In claim 12,
In the supply blocking step (S400),
An exhaust step (S410) for exhausting the process gas between the plurality of flow control valves 200 and the process chamber 10, and a block installed in the second supply passage 120 after the exhaust step (S410) A gas supply control method comprising a blocking valve closing step (S420) of blocking the supply of the process gas to the process chamber (10) by closing the valve (400). 청구항 13에 있어서,
상기 차단밸브폐쇄단계(S420)는,
상기 유량측정부의 측정값이 미리 설정된 값 이하일 때 수행되는 것을 특징으로 하는 가스공급제어방법. In claim 13,
In the blocking valve closing step (S420),
A gas supply control method characterized in that it is performed when the measured value of the flow measurement unit is less than a preset value.
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