KR102586410B1 - Complex gas high-efficiency multi-stage treatment device - Google Patents
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Abstract
복합가스 고효율 다단 처리장치가 개시된다. 개시된 복합가스 고효율 다단 처리장치는 내부에 가스가 처리되는 가스처리공간이 형성되며, 하부 일측에는 처리할 배기가스가 유입되는 가스유입구가 구성되고, 상부에는 처리된 배기가스가 배출되는 가스배출구가 구성되며, 하단부 일측에는 상기 가스처리공간과 연통되고 제1약액순환수가 저장되는 제1순환수 저장부가 구성되고, 하단부 타측에는 상기 제1순환수 저장부와 별개로 독립적으로 구성되며 제2약액순환수가 저장되는 제2순환수 저장부가 구성된 본체부; 상기 본체부 내에 상기 가스유입구 상부로 구성되어 상기 제1순환수 저장부로부터 제1약액순환수를 공급받아 하부로 분사하는 제1순환수 분사노즐; 상기 본체부 내에 상기 제1순환수 분사노즐의 상부로 구성되어 상기 제2순환수 저장부로부터 제2약액순환수를 공급받아 하부로 분사하는 제2순환수 분사노즐; 상기 제1순환수 분사노즐의 하부에 구성되어 제1약액순환수가 소정수위로 저장되도록 구성되며 하부에서 상부로 상향이동하는 배기가스가 저장된 제1약액순환수를 통과하면서 1차 여과처리가 이루어지는 적어도 하나 이상으로 구성된 1차 여과장치; 상기 제2순환수 분사노즐의 하부에 구성되어 제2약액순환수가 소정수위로 저장되도록 구성되며 하부에서 상부로 상향이동하는 배기가스가 저장된 제2약액순환수를 통과하면서 2차 여과처리가 이루어지는 적어도 하나 이상으로 구성된 2차 여과장치; 상기 제2순환수 분사노즐의 상부에 설치되며 상기 제1약액순환수나 제2약액순환수와는 다르게 약액이 포함되지 않은 별도의 공급수가 공급되어 저장되는 수조형태로 구성되며, 상기 1차 여과장치 및 2차 여과장치를 순차적으로 거쳐 1차 및 2차 여과처리되어 상향이동되는 배기가스를 하향되게 흐름을 역전시켜 저장된 공급수에 침투되게 하여 3차 여과처리가 이루어도록 하는 적어도 하나 이상으로 구성된 3차 여과장치; 상기 본체부 내에 상기 1차 여과장치와 2차 여과장치 사이로 구성되며, 상기 제1여과장치에서 1차 여과처리된 배기가스는 상기 2여과장치를 향해 하부에서 상방향으로 통과하고, 상기 제1약액순환수와 제2약액순환수가 섞이지 않도록 상기 2차 여과장치에서 흘러내린 제2약액순환수가 수거되어 저장되며, 별도의 회수유로를 통해 상기 제2순환수 저장부와 연결되어 제2약액순환수의 회수가 이루어지도록 하는 기액분리장치; 상기 3차 여과장치의 상부에 구성되며 상기 3차 여과장치를 거쳐 처리된 배기가스가 상기 가스배출구를 통해 배출되기 전에 수분을 제거하여 배출되도록 하는 데미스터;를 포함하는 것을 특징으로 한다. A high-efficiency multi-stage treatment device for complex gas is disclosed. The disclosed complex gas high-efficiency multi-stage processing device has a gas processing space inside which gas is processed, a gas inlet through which the exhaust gas to be treated flows in on one side of the lower part, and a gas outlet through which the treated exhaust gas is discharged at the upper part. On one side of the lower part, there is a first circulating water storage part that communicates with the gas processing space and stores the first chemical liquid circulating water, and on the other side of the lower part, it is configured independently and separately from the first circulating water storage part and contains a second chemical liquid circulating water. a main body consisting of a second circulating water storage unit; A first circulating water injection nozzle located above the gas inlet in the main body and receiving the first chemical circulating water from the first circulating water storage unit and spraying it downwards; a second circulating water spraying nozzle located above the first circulating water spraying nozzle in the main body and receiving second circulating water from the second circulating water storage unit and spraying it downward; At least, which is configured to be located below the first circulating water injection nozzle and configured to store the first chemical liquid circulating water at a predetermined water level, and where the exhaust gas moving upward from the lower part to the upper part passes through the stored first chemical liquid circulating water and undergoes primary filtration. A primary filtration device consisting of one or more; It is configured at the lower part of the second circulating water injection nozzle so that the second chemical liquid circulating water is stored at a predetermined level, and the exhaust gas moving upward from the bottom to the upper part passes through the stored second chemical liquid circulating water and undergoes secondary filtration. Secondary filtration consisting of one or more devices; It is installed on the upper part of the second circulating water injection nozzle and is configured in the form of a water tank in which separate supply water that does not contain a chemical liquid is supplied and stored, unlike the first chemical liquid circulating water or the second chemical liquid circulating water, and the primary filtration device and 3, which consists of at least one device that sequentially passes through a secondary filtration device and undergoes primary and secondary filtration, reverses the flow of the upwardly moving exhaust gas to penetrate into the stored feed water, and performs tertiary filtration. tea filtration system; It is configured within the main body between the primary filtration device and the secondary filtration device, and the exhaust gas that has undergone primary filtration in the first filtration device passes from the bottom to the top toward the second filtration device, and the first chemical liquid The second chemical liquid circulating water flowing down from the secondary filtration device is collected and stored so that the circulating water and the second chemical liquid circulating water are not mixed, and is connected to the second circulating water storage unit through a separate recovery passage to collect the second chemical liquid circulating water. A gas-liquid separation device that allows recovery; A demister is installed on the upper part of the tertiary filtration device and removes moisture from the exhaust gas processed through the tertiary filtration device before it is discharged through the gas outlet.
Description
본 발명은 배기가스에서 유해성분을 처리하는 배기가스 처리장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 2단의 순환수 약액 세정으로 복합 배기가스 처리가 가능하며, 다단의 배기가스 처리구조로 이루어지면서도 단순한 구조로서 기존의 여러대의 가스처리장치를 연결통합한 것과 같은 가스처리효율을 달성함은 물론 운전유지보수가 용이하고 동시에 설비고장을 최소화할 수 있는 복합가스 고효율 다단 처리장치에 관한 것이다. The present invention relates to an exhaust gas treatment device that treats harmful components in exhaust gas. More specifically, it is capable of treating complex exhaust gas through two-stage circulating water chemical cleaning, and has a multi-stage exhaust gas treatment structure, yet is simple. It is about a complex gas high-efficiency multi-stage processing device that achieves the same gas processing efficiency as that of connecting and integrating several existing gas processing devices as a structure, as well as easy operation and maintenance and at the same time minimizing facility failure.
일반적으로, 폐기물처리장, 분뇨처리장, 오폐수처리장 및 각종 공장에서 발생되는 배기가스에는 암모니아, 트리메틸아민, 황화수소, 메틸메르캅탄 등의 유해성분들이 함유되어 이는 대기중으로 그대로 배출될 경우, 악취가 나고 인체에 악영향을 미치는 환경오염의 원인이 되었다. In general, exhaust gases generated from waste treatment plants, excrement treatment plants, wastewater treatment plants, and various factories contain harmful ingredients such as ammonia, trimethylamine, hydrogen sulfide, and methyl mercaptan, which, when discharged into the air, produce a foul odor and are harmful to the human body. It has become a cause of environmental pollution that has adverse effects.
이를 위해, 배기가스에 포함된 유해성분들을 처리하기 위한 연구가 많이 진행되고 있으며, 이러한 종래의 배기가스 처리장치 중에는 배기가스에 세정수를 분사시킴으로써 유해성분을 세정하여 제거하고 정화처리된 배기가스를 외부에 배출하는 세정식(water scrubbing type) 가스처리가 있다. To this end, much research is being conducted to treat harmful components contained in exhaust gas, and among these conventional exhaust gas treatment devices, harmful components are cleaned and removed by spraying cleaning water into the exhaust gas, and the purified exhaust gas is purified. There is a water scrubbing type gas treatment that is discharged to the outside.
이러한 세정식 가스처리 장치에 대해 등록특허 10-0972921호, 등록특허 10-1591849호, 등록특허 10-2275719호 등에 개시되어 있다. Such a cleaning gas treatment device is disclosed in Patent No. 10-0972921, Patent No. 10-1591849, Patent No. 10-2275719, etc.
이러한 처리장치는 상부에서 물을 하부로 분사하여 그 하측에 구성된 충진층의 충진재을 타고 흘러내도록 하여 상향 이동되는 배기가스가 충진층을 통과하면서 물과 접촉하면서 유해성분이 제거되는 가스처리장치가 개시되어 있다. This treatment device sprays water from the top to the bottom and causes it to flow through the filling material of the filling layer formed on the lower side, so that the upwardly moving exhaust gas passes through the filling layer and comes in contact with water to remove harmful components. .
하지만, 이러한 종래의 가스처리장치는 단순히 충진층을 통해서만 유해성분이 제거되는 구조이기 때문에 처리효율이 높지 못할 뿐 아니라, 처리효율을 높이기 위해서 충진층을 다단으로 구성하기도 하나 충진재만을 다단으로 구성한다고 하여 처리효율이 만족할 만한 수준에 미치지는 못하였다. However, since this conventional gas processing device is structured so that harmful components are removed simply through the filling layer, the treatment efficiency is not high. In order to increase the treatment efficiency, the filling layer is composed of multiple stages, but the treatment is performed by constructing only the fillers in multiple stages. Efficiency did not reach a satisfactory level.
특히, 처리효율을 높이기 위하여 여러 가스처리장치를 연결하여 처리설비를 구성하기도 하나 이러한 경우, 설비규모가 매우 커지고 여러대의 가스처리장치를 설치하는데 필요한 설비비가 크게 상승하게 되고 운전 및 유지보수도 복잡해지며 운전 전력 소모도 크게 상승하는 문제가 있었다. In particular, in order to increase processing efficiency, several gas processing devices are connected to form a processing facility, but in this case, the facility size becomes very large, the facility cost required to install multiple gas processing devices increases significantly, and operation and maintenance become complicated. There was also a problem that driving power consumption increased significantly.
아울러, 기존 가스처리장치에는 처리대상인 배기가스에 맞게 소정의 약액을 세정수에 포함시켜 약액세정수를 배기가스에 분사함으로써 배기가스가 순수하게 물과의 접촉에 의해서 유해성분이 제거될 뿐 아니라, 배기가스에 포함된 특정 유해성분이 약액세정수에 포함된 특정 약액에 의해 처리되도록 구성되어 있다. In addition, in existing gas treatment devices, a certain chemical solution is included in the cleaning water according to the exhaust gas to be treated and the chemical cleaning water is sprayed into the exhaust gas, so that not only are the harmful components of the exhaust gas purely contact with water removed, but the exhaust gas is also removed. It is configured so that specific harmful components contained in the gas are treated with a specific chemical solution contained in the chemical washing water.
하지만, 이러한 약액세정식 가스처리장치는 약액으로 처리할 유해성분이 단일이 아닌 여러개의 유해성분이 포함되어 있는 복합 배기가스 일 경우, 각 특정 유해성분을 처리하기 위한 특정 약액을 통한 약액세정을 수행하는 여러 대의 약액 세정식 가스처리장치를 각각 구비하여 연결설치해야 함으로써 설비의 규모가 매우 커대해지고 이에 운영 및 관리가 어려워지며 운영비용이 크게 상승하는 문제가 있었다. However, this chemical cleaning type gas treatment device uses several chemical cleaning devices to perform chemical cleaning using specific chemical solutions to treat each specific hazardous component when the hazardous component to be treated with a chemical liquid is not a single hazardous component but a complex exhaust gas containing several hazardous components. As several chemical cleaning gas treatment devices had to be installed and connected to each other, the size of the facility became very large, operation and management became difficult, and operating costs increased significantly.
본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하고자 창안된 것으로서, 2단의 순환수 약액 세정으로 복합 배기가스 처리가 가능하며, 다단의 배기가스 처리구조로 이루어지면서도 단순한 구조로서 기존의 여러대의 가스처리장치를 연결통합한 것과 같은 가스처리효율을 달성함은 물론 운전유지보수가 용이하고 동시에 설비고장을 최소화할 수 있는 복합가스 고효율 다단 처리장치를 제공하는데 목적이 있다. The present invention was created to solve the conventional problems as described above. It enables complex exhaust gas treatment through two-stage circulating water chemical cleaning, and has a multi-stage exhaust gas treatment structure, but has a simple structure, so that it can be used in various existing devices. The purpose is to provide a complex gas high-efficiency multi-stage processing device that not only achieves the same gas processing efficiency as connecting and integrating gas processing devices, but also allows easy operation and maintenance and minimizes facility failures.
또한, 본 발명은 본체 하부의 1차 여과장치는 제1액약순환수를 통한 순환방식으로 배기가스의 1차 약액처리가 이루어지고, 2차 여과장치는 1차 여과장치의 상부에서 제2약액순환수를 통한 순환방식으로 배기가스의 2차 약액처리가 이루어지며, 2차 여과장치의 상부에 구성된 3차 여과장치는 제1,2약액순환수와는 다른 약액이 혼합되지 않은 별도의 깨끗한 공급수에 의해 배기가스가 3차적으로 직접 처리되도록 하여 고효율의 배기가스 처리가 이루어질 수 있음은 물론 처리장치의 운용효율도 향상시킬 수 있는 복합가스 고효율 다단 처리장치를 제공하는데 다른 목적이 있다. In addition, in the present invention, the primary filtration device at the bottom of the main body performs the first chemical treatment of the exhaust gas by circulation through the first liquid chemical circulation water, and the secondary filtration device circulates the second chemical liquid at the top of the primary filtration device. The secondary chemical treatment of the exhaust gas is carried out by circulating through water, and the tertiary filtration device built on top of the secondary filtration device uses separate clean supply water that is not mixed with chemicals different from the 1st and 2nd chemical circulating water. Another purpose is to provide a complex gas high-efficiency multi-stage treatment device that can achieve high-efficiency exhaust gas treatment by directly treating the exhaust gas in a third way and also improve the operating efficiency of the treatment device.
다만, 본 발명의 목적은 이에만 제한되는 것은 아니며, 명시적으로 언급하지 않더라도 과제의 해결수단이나 실시 형태로부터 파악될 수 있는 목적이나 효과도 이에 포함됨은 물론이다. However, the purpose of the present invention is not limited to this, and of course, even if not explicitly mentioned, purposes or effects that can be understood from the means of solving the problem or the embodiment are also included.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 복합가스 고효율 다단 처리장치는, 내부에 가스가 처리되는 가스처리공간이 형성되며, 하부 일측에는 처리할 배기가스가 유입되는 가스유입구가 구성되고, 상부에는 처리된 배기가스가 배출되는 가스배출구가 구성되며, 하단부 일측에는 상기 가스처리공간과 연통되고 제1약액순환수가 저장되는 제1순환수 저장부가 구성되고, 하단부 타측에는 상기 제1순환수 저장부와 별개로 독립적으로 구성되며 제2약액순환수가 저장되는 제2순환수 저장부가 구성된 본체부; 상기 본체부 내에 상기 가스유입구 상부로 구성되어 상기 제1순환수 저장부로부터 제1약액순환수를 공급받아 하부로 분사하는 제1순환수 분사노즐; 상기 본체부 내에 상기 제1순환수 분사노즐의 상부로 구성되어 상기 제2순환수 저장부로부터 제2약액순환수를 공급받아 하부로 분사하는 제2순환수 분사노즐; 상기 제1순환수 분사노즐의 하부에 구성되어 제1약액순환수가 소정수위로 저장되도록 구성되며 하부에서 상부로 상향이동하는 배기가스가 저장된 제1약액순환수를 통과하면서 1차 여과처리가 이루어지는 적어도 하나 이상으로 구성된 1차 여과장치; 상기 제2순환수 분사노즐의 하부에 구성되어 제2약액순환수가 소정수위로 저장되도록 구성되며 하부에서 상부로 상향이동하는 배기가스가 저장된 제2약액순환수를 통과하면서 2차 여과처리가 이루어지는 적어도 하나 이상으로 구성된 2차 여과장치; 상기 제2순환수 분사노즐의 상부에 설치되며 상기 제1약액순환수나 제2약액순환수와는 다르게 약액이 포함되지 않은 별도의 공급수가 공급되어 저장되는 수조형태로 구성되며, 상기 1차 여과장치 및 2차 여과장치를 순차적으로 거쳐 1차 및 2차 여과처리되어 상향이동되는 배기가스를 하향되게 흐름을 역전시켜 저장된 공급수에 침투되게 하여 3차 여과처리가 이루어도록 하는 적어도 하나 이상으로 구성된 3차 여과장치; 상기 본체부 내에 상기 1차 여과장치와 2차 여과장치 사이로 구성되며, 상기 제1여과장치에서 1차 여과처리된 배기가스는 상기 2여과장치를 향해 하부에서 상방향으로 통과하고, 상기 제1약액순환수와 제2약액순환수가 섞이지 않도록 상기 2차 여과장치에서 흘러내린 제2약액순환수가 수거되어 저장되며, 별도의 회수유로를 통해 상기 제2순환수 저장부와 연결되어 제2약액순환수의 회수가 이루어지도록 하는 기액분리장치; 상기 3차 여과장치의 상부에 구성되며 상기 3차 여과장치를 거쳐 처리된 배기가스가 상기 가스배출구를 통해 배출되기 전에 수분을 제거하여 배출되도록 하는 데미스터;를 포함하는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, the complex gas high-efficiency multi-stage processing device of the present invention has a gas processing space inside which gas is processed, a gas inlet through which exhaust gas to be treated flows in on one side of the lower part, and a processing space on the upper part. A gas outlet through which the exhausted gas is discharged is formed, and on one side of the lower part, a first circulating water storage part is formed that communicates with the gas processing space and stores the first chemical liquid circulating water, and on the other side of the lower part, it is separate from the first circulating water storage part. a main body unit that is independently configured and includes a second circulating water storage unit in which the second chemical liquid circulating water is stored; A first circulating water injection nozzle located above the gas inlet in the main body and receiving the first chemical circulating water from the first circulating water storage unit and spraying it downwards; a second circulating water spraying nozzle located above the first circulating water spraying nozzle in the main body and receiving second circulating water from the second circulating water storage unit and spraying it downward; At least, which is configured to be located below the first circulating water injection nozzle and configured to store the first chemical liquid circulating water at a predetermined water level, and where the exhaust gas moving upward from the lower part to the upper part passes through the stored first chemical liquid circulating water and undergoes primary filtration. A primary filtration device consisting of one or more; It is configured at the lower part of the second circulating water injection nozzle so that the second chemical liquid circulating water is stored at a predetermined level, and the exhaust gas moving upward from the bottom to the upper part passes through the stored second chemical liquid circulating water and undergoes secondary filtration. Secondary filtration consisting of one or more devices; It is installed on the upper part of the second circulating water injection nozzle and is configured in the form of a water tank in which separate supply water that does not contain a chemical liquid is supplied and stored, unlike the first chemical liquid circulating water or the second chemical liquid circulating water, and the primary filtration device and 3, which consists of at least one device that sequentially passes through a secondary filtration device and undergoes primary and secondary filtration, reverses the flow of the upwardly moving exhaust gas to penetrate into the stored feed water, and performs tertiary filtration. tea filtration system; It is configured within the main body between the primary filtration device and the secondary filtration device, and the exhaust gas that has undergone primary filtration in the first filtration device passes from the bottom to the top toward the second filtration device, and the first chemical liquid The second chemical liquid circulating water flowing down from the secondary filtration device is collected and stored so that the circulating water and the second chemical liquid circulating water are not mixed, and is connected to the second circulating water storage unit through a separate recovery passage to collect the second chemical liquid circulating water. A gas-liquid separation device that allows recovery; A demister is installed on the upper part of the tertiary filtration device and removes moisture from the exhaust gas processed through the tertiary filtration device before it is discharged through the gas outlet.
상기 1차 여과장치는, 상기 제1순환수 분사노즐의 하부에 설치되며 복수의 제1통기홀이 구비된 제1다공판과, 상기 제1다공판의 일측단에 수직하게 구성되고 상기 본체부의 내벽과의 사이에 제1월류수로를 형성하는 제1월류벽으로 이루어지며, 상기 제1순환수 분사노즐로부터 공급된 순환수를 공급받아 상기 제1다공판 상에 제1약액순환수가 소정수위를 유지하고 추가 공급된 제1약액순환수는 상기 제1월류벽을 넘어 상기 제1월류수로를 통해 흘러내려 상기 제1순환수 저장부로 회수되도록 구성되며, 배기가스가 상기 복수의 제1통기홀을 통해 공급되어 상기 제1다공판 상에 소정수위로 저장된 제1약액순환수를 통과하면서 배기가스의 1차 여과처리가 이루어지도록 구성될 수 있다. The primary filtration device is configured to include a first porous plate installed below the first circulating water injection nozzle and provided with a plurality of first ventilation holes, perpendicular to one end of the first porous plate, and connected to the main body portion. It consists of a first overflow wall that forms a first overflow waterway between the inner wall and receives circulating water supplied from the first circulating water injection nozzle so that the first chemical liquid circulating water is maintained at a predetermined water level on the first perforated plate. The maintained and additionally supplied first chemical liquid circulating water is configured to flow beyond the first overflow wall through the first overflow waterway and be recovered into the first circulating water storage unit, and the exhaust gas flows through the plurality of first ventilation holes. It may be configured to perform primary filtration of the exhaust gas while passing through the first chemical liquid circulating water supplied through the first perforated plate and stored at a predetermined water level.
상기 2차 여과장치는, 상기 제2순환수 분사노즐의 하부에 설치되며 복수의 제2통기홀이 구비된 제2다공판과, 상기 제2다공판의 일측단에 수직하게 구성되고 상기 본체부의 내벽과의 사이에 제2월류수로를 형성하는 제2월류벽으로 이루어지며, 상기 제2순환수 분사노즐로부터 공급된 순환수를 공급받아 상기 제2다공판 상에 제2약액순환수가 소정수위를 유지하고 추가 공급된 제2약액순환수는 상기 제2월류벽을 넘어 상기 제2월류수로를 통해 흘러내리고 2차 여과장치의 하부에 구성된 기액분리장치를 거쳐 상기 제2순환수 저장부로 회수되도록 구성되며, 배기가스가 상기 복수의 제2통기홀을 통해 공급되어 상기 제2다공판 상에 소정수위로 저장된 제2약액순환수를 통과하면서 배기가스의 2차 여과처리가 이루어지도록 구성될 수 있다. The secondary filtration device is configured to include a second porous plate installed below the second circulating water injection nozzle and provided with a plurality of second ventilation holes, perpendicular to one end of the second porous plate, and connected to the main body portion. It consists of a second overflow wall that forms a second overflow waterway between the inner wall and receives circulating water supplied from the second circulating water injection nozzle so that the second chemical liquid circulating water is maintained at a predetermined water level on the second perforated plate. The second chemical liquid circulating water maintained and additionally supplied flows down through the second overflow waterway beyond the second overflow wall and is recovered to the second circulating water storage unit through a gas-liquid separator installed at the lower part of the secondary filtration device. The exhaust gas may be supplied through the plurality of second ventilation holes and pass through the second chemical liquid circulating water stored at a predetermined level on the second perforated plate, thereby performing secondary filtration of the exhaust gas.
상기 1차 여과장치는 상하방향으로 적어도 2개 이상 다단으로 구성되며, 상하 이웃하는 두 1차 여과장치는 상기 제1월류벽이 좌우 대향되도록 배치되어 상측의 1차 여과장치에서 월류된 제1약액순환수가 하측의 1차 여과장치에 공급된 후 월류하여 상기 제1순환수 저장부로 회수되도록 구성되며, 상기 2차 여과장치는 상하방향으로 적어도 2개 이상 다단으로 구성되며, 상하 이웃하는 두 2차 여과장치는 상기 제2월류벽이 좌우 대향되도록 배치되어 상측의 2차 여과장치에서 월류된 제2약액순환수가 하측의 2차 여과장치에 공급된 후 월류하여 상기 기액분리장치로 흘러내린 후, 상기 기액분리장치를 거쳐 상기 제2순환수 저장부로 회수되도록 구성될 수 있다. The primary filtration device is composed of at least two multi-stages in the vertical direction, and the two primary filtration devices adjacent to each other are arranged so that the first overflow walls are left and right, so that the first chemical solution overflows from the upper primary filtration device. Circulating water is configured to be supplied to the lower primary filtration device, then overflow and be recovered into the first circulating water storage unit, and the secondary filtration device is composed of at least two multi-stages in the up and down directions, and has two secondary filtration devices adjacent to each other above and below. The filtration device is arranged such that the second overflow walls are left and right, so that the second chemical liquid circulating water overflowing from the upper secondary filtration device is supplied to the lower secondary filtration device and then overflows to the gas-liquid separator. It may be configured to be recovered to the second circulating water storage unit through a gas-liquid separator.
상기 3차 여과장치는, 상기 공급수가 공급되어 저장되는 공급수 저장공간을 형성하며, 단부에는 추가 공급된 공급수가 월류되게 하며 상기 본체부의 내벽과의 사이에 제3월류수로를 형성하는 제3월류벽이 구성된 여과수조부와, 상기 여과수조부의 저면부로부터 상부로 구성되되, 상기 여과수조부에 저장되는 공급수의 수위보다 높도록 구성되어 배기가스를 상기 여과수조부의 하부에서 상기 여과수조부에 저장된 공급수 위로 이동시키는 가스통로부와, 상기 가스통로부의 상부에 구성되어 상기 가스통로부를 통해 상향이동되는 배기가스를 역 U자 형태로 역전시켜 상기 여과수조부에 저장된 공급수로 침투되도록 하는 가스안내부로 이루어지도록 구성될 수 있다. The tertiary filtration device forms a supply water storage space where the supply water is supplied and stored, and has a third water supply water storage space at the end, which allows additional supply water to overflow and forms a third overflow waterway between the inner wall of the main body. It consists of a filtration water tank with a flow wall, from the bottom to the top of the filtration water tank, and is configured to be higher than the level of the supply water stored in the filtration water tank, so that exhaust gas flows from the lower part of the filtration tank to the supply water stored in the filtration water tank. It is composed of a gas passage part that moves upward, and a gas guide part that is formed on the upper part of the gas passage part and reverses the exhaust gas moving upward through the gas passage part into an inverted U shape so that it penetrates into the supply water stored in the filtration tank. It can be configured.
상기 3차 여과장치는 상하방향으로 적어도 2개 이상이 다단으로 구성되며, 상하 이웃하는 두 3차 여과장치는 상기 제3월류벽이 좌우 대향되도록 배치되어 상측의 3차 여과장치에서 월류된 공급수가 하측의 3차 여과장치에 공급되도록 구성될 수 있다. The tertiary filtration device is composed of at least two multi-stages in the upper and lower directions, and the two tertiary filtration devices adjacent to each other are arranged so that the third overflow walls are left and right facing each other, so that the feed water overflowing from the upper tertiary filtration device is It may be configured to be supplied to the lower tertiary filtration device.
상하 이웃하는 상기 2차 여과장치와 3차 여과장치는 상기 2차 여과장치에 구성된 제2월류벽과 상기 3차 여과장치에 구성된 제3월류벽이 좌우 대향되게 배치되어, 상기 3차 여과장치에서 월류되어 흘러내리는 공급수가 상기 2차 여과장치로 공급되도록 구성될 수 있다. The upper and lower secondary filtration device and the tertiary filtration device are arranged such that the second overflow wall configured in the secondary filtration device and the third overflow wall configured in the tertiary filtration device are left and right facing each other, and in the tertiary filtration device, The overflowing feed water may be configured to be supplied to the secondary filtration device.
상기 1차 여과장치와 상기 제1순환수 분사노즐 사이에 구성되며, 충진재가 충진되도록 구성되어 상기 1차 여과장치를 거친 배기가스와 상기 제1순환수 분사노즐에서 분사된 제1약액순환수와의 접촉면적 및 접촉시간을 늘리도록 구성되는 하부충진층;을 더 포함하도록 구성될 수 있다. It is configured between the primary filtration device and the first circulating water injection nozzle, and is configured to be filled with a filler, so that the exhaust gas that has passed through the primary filtration device, the first chemical liquid circulating water injected from the first circulating water injection nozzle, and It may be configured to further include a lower filling layer configured to increase the contact area and contact time.
상기 2차 여과장치와 상기 제2순환수 분사노즐 사이에 구성되며, 충진재가 충진되도록 구성되어 상기 2차 여과장치를 거친 배기가스와 상기 제2순환수 분사노즐에서 분사된 제2약액순환수와의 접촉면적 및 접촉시간을 늘리도록 구성되는 상부충진층;을 더 포함하도록 구성될 수 있다. It is configured between the secondary filtration device and the second circulating water injection nozzle, and is configured to be filled with a filler, so that the exhaust gas that has passed through the secondary filtration device, the second chemical liquid circulating water injected from the second circulating water injection nozzle, and It may be configured to further include an upper filling layer configured to increase the contact area and contact time.
상기 제1순환수 저장부에 저장된 제1약액순환수를 상기 제1순환수 분사노즐에 공급하는 제1순환수 공급부; 상기 제2순환수 저장부에 저장된 제2약액순환수를 상기 제2순환수 분사노즐에 공급하는 제2순환수 공급부; 상기 제1순환수 저장부에 공급수를 공급하는 제1공급수 공급밸브를 구비하여 상기 제1공급수 공급밸브의 제어를 통해 상기 제1순환수 저장부에 대한 공급수의 물보충이 이루어지도록 하는 것과, 상기 3차 여과장치의 상부로 공급수를 공급하는 제2공급수 공급밸브를 구비하여 상기 제2공급수 공급밸브의 제어에 의해 상기 3차 여과장치로 공급수를 공급하여 상기 제2순환수 저장부에 대한 공급수의 물보충이 이루어지도록 하는 공급수 공급부; 상기 제1순환수 저장부에 제1약액을 공급하는 제1약액공급부; 상기 제2순환수 저장부에 제2약액을 공급하는 제2약액공급부;를 더 포함하도록 구성될 수 있다. a first circulating water supply unit that supplies the first chemical circulating water stored in the first circulating water storage unit to the first circulating water spray nozzle; a second circulating water supply unit that supplies the second chemical circulating water stored in the second circulating water storage unit to the second circulating water spray nozzle; It is provided with a first supply water supply valve that supplies supply water to the first circulating water storage unit, so that water replenishment of the supply water to the first circulating water storage unit is achieved through control of the first supply water supply valve. and a second water supply valve that supplies water to the upper part of the tertiary filtration device, and supplies water to the tertiary filtration device under the control of the second water supply valve. A supply water supply unit that ensures replenishment of supply water to the circulating water storage unit; a first chemical solution supply unit that supplies a first chemical solution to the first circulating water storage unit; It may be configured to further include a second chemical solution supply unit that supplies a second chemical solution to the second circulating water storage unit.
상기 제1순환수 저장부에 저장된 제1약액순환수를 외부로 배출되게 하는 것과, 상기 제2순환수 저장부에 저장된 제2약액순환수를 외부로 배출되게 하는 순환수 배출부가 구성될 수 있다. A circulating water discharge unit may be configured to discharge the first chemical liquid circulating water stored in the first circulating water storage unit to the outside, and to discharge the second chemical liquid circulating water stored in the second circulating water storage unit to the outside. .
상기 제1순환수 저장부에 저장된 제1약액순환수에 대해 저수위레벨과 고수위레벨을 감지하는 제1수위센서와, 상기 제1순환수 저장부에 저장된 제1약액순환수의 소정성분에 대한 농도를 측정하는 제1농도센서가 더 구성되고, 상기 제2순환수 저장부에 저장된 제2약액순환수에 대해 저수위레벨과 고수위레벨을 감지하는 제2수위센서와, 상기 제2순환수 저장부에 저장된 제2약액순환수의 소정성분에 대한 농도를 측정하는 제2농도센서가 더 구성되며, 상기 제1농도센서를 통해 상기 제1약액순환수의 소정성분 농도가 기 설정농도에 도달하면, 상기 제1순환수 저장부의 제1약액순환수 수위가 저수위레벨이 되도록 상기 순환수 배출부에 의해 순환수의 배출이 이루어지고, 상기 제1순환수 저장부의 재1약액순환수 수위가 저수위레벨이 되면 상기 제1공급수 밸브를 개방하여 고수위레벨이 될 때까지 상기 제1순환수 저장부에 대한 공급수의 물보충이 이루어지도록 구성되고, 상기 제2농도센서를 통해 상기 제2약액순환수의 소정성분 농도가 기 설정농도에 도달하면, 상기 제2순환수 저장부의 제2약액순환수 수위가 저수위레벨이 되도록 상기 순환수 배출부에 의해 순환수의 배출이 이루어지고, 상기 제2순환수 저장부의 재2약액순환수 수위가 저수위레벨이 되면 상기 제2공급수 밸브를 개방하여 고수위레벨이 될 때까지 상기 제2순환수 저장부에 대한 공급수의 물보충이 이루어지도록 구성될 수 있다. A first water level sensor that detects the low water level and high water level of the first chemical circulating water stored in the first circulating water storage unit, and the concentration of a predetermined component of the first chemical circulating water stored in the first circulating water storage unit. A first concentration sensor that measures is further configured, a second water level sensor that detects the low water level and high water level of the second chemical liquid circulating water stored in the second circulating water storage unit, and the second circulating water storage unit. A second concentration sensor is further configured to measure the concentration of a predetermined component of the stored second chemical liquid circulating water, and when the concentration of a predetermined component of the first chemical liquid circulating water reaches a preset concentration through the first concentration sensor, Circulating water is discharged by the circulating water discharge unit so that the level of the first chemical liquid circulating water in the first circulating water storage unit becomes the low water level, and when the level of the first chemical liquid circulating water in the first circulating water storage unit becomes the low water level, It is configured to replenish the supply water to the first circulating water storage unit by opening the first supply water valve until the high water level is reached, and the second chemical liquid circulating water is predetermined through the second concentration sensor. When the component concentration reaches the preset concentration, the circulating water is discharged by the circulating water discharge unit so that the level of the second chemical liquid circulating water in the second circulating water storage unit is at a low water level, and the circulating water is discharged from the second circulating water storage unit. When the level of the second chemical circulating water reaches a low level, the second supply water valve may be opened to replenish the supply water to the second circulating water storage unit until the level reaches a high level.
상기한 바에 따르면, 본 발명은 2단의 순환수 약액 세정으로 복합 배기가스 처리가 가능하고 순환수 약액세정이 이루어지는 1차, 2차 여과장치와는 다른 이종(異種)의 3차 여과장치를 상부에 다단으로 적층 구성하여 처리효율을 증가시킬 수 있음은 물론 설비 규모를 최적화할 수 있을 뿐 아니라 기존에 비해 운전효율성을 향상시키고 유지보수도 용이한 효과가 있다. According to the above, the present invention is capable of processing complex exhaust gases through two-stage circulating water chemical cleaning, and uses a heterogeneous tertiary filtration device at the top, which is different from the primary and secondary filtration devices in which circulating water chemical cleaning is performed. By configuring it in multiple layers, processing efficiency can be increased and the facility scale can be optimized, as well as improving operating efficiency and making maintenance easier than before.
또한, 본 발명은 본체 하부의 1차, 2차 여과장치는 제1 및 제2약액순환수를 통한 순환방식으로 배기가스에 대한 1차, 2차 약액세정처리가 이루어지고, 본체 상부의 3차 여과장치는 제1,제2약액순환수와는 다른 약액이 포함되지 않은 별도의 깨끗한 공급수에 의해 배기가스가 3차적으로 직접 처리되도록 할 뿐 아니라, 3차 여과장치에 공급되는 공급수가 2차 여과장치에 사용되는 제2약액순환수의 보충수로서 제공될 수 있어 가스처리효율을 향상시킴은 물론 처리장치의 운용효율도 더욱 향상시킬 수 있다. In addition, in the present invention, the primary and secondary filtration devices on the lower part of the main body perform primary and secondary chemical cleaning treatment on the exhaust gas by circulating through the first and second chemical liquid circulating water, and the tertiary chemical liquid cleaning treatment on the upper part of the main body is performed by a circulation method through the first and second chemical liquid circulating water. The filtration device not only allows the exhaust gas to be directly treated tertiarily by separate clean supply water that does not contain chemicals different from the first and second chemical circulating water, but also allows the supply water supplied to the tertiary filtration device to be treated as a secondary filtration device. It can be provided as supplementary water for the second chemical circulating water used in the filtration device, thereby improving gas processing efficiency and further improving the operating efficiency of the processing device.
또한 본 발명은 순환수의 한번 처리로 다단 처리 효과를 볼 수 있어 투자비 절감과 운전 전력소모비를 대폭 감축시킬 수 있는 효과가 있다. In addition, the present invention can achieve a multi-stage treatment effect with one treatment of circulating water, which has the effect of reducing investment costs and significantly reducing operating power consumption.
아울러, 본 발명은 고농도 배기가스 처리가 가능하며 특정 종류의 가스일 경우 농축회수하여 재사용함으로써 자원재활용을 통해 국가경제에 이바지할 수 있다. In addition, the present invention is capable of treating high-concentration exhaust gases, and can contribute to the national economy through resource recycling by concentrating and recovering certain types of gases and reusing them.
더불어, 본 발명의 다양하면서도 유익한 장점과 효과는 상술한 내용에 한정되지 않으며, 본 발명의 구체적인 실시 형태를 설명하는 과정에서 보다 쉽게 이해될 수 있을 것이다. In addition, the various and beneficial advantages and effects of the present invention are not limited to the above-described content, and may be more easily understood in the process of explaining specific embodiments of the present invention.
도 1은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 복합가스 고효율 다단 처리장치를 나타낸 도면이고,
도 2는 도 1의 1차 여과장치에 대한 평면도(a) 및 측단면도(b)를 확대하여 나타낸 도면이고,
도 3은 도 1의 2차 여과장치에 대한 평면도(a) 및 측단면도(b)를 확대하여 나타낸 도면이고,
도 4는 도 1의 3차 여과장치에 대한 평면도(a) 및 측단면도(b)를 확대하여 나타낸 도면이고,
도 5는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 배기가스 고효율 다단 처리장치를 나타낸 도면이고,
도 6은 도 5의 3차 여과장치에 대한 평면도(a) 및 측단면도(b)를 확대하여 나타낸 도면이고,
도 7은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 복합가스 고효율 다단 처리장치를 나타낸 도면이고,
도 8은 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 복합가스 고효율 다단 처리장치를 나타낸 도면이고,
도 9는 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 복합가스 고효율 다단 처리장치를 나타낸 도면이고,
도 10은 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 복합가스 고효율 다단처리장치의 요부를 나타낸 평면도이고,
도 11은 도 10에 도시된 회전수단에 대한 단면도이고,
도 12 및 도 13은 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 복합가스 고효율 다단처리장치의 동작상태를 계략적으로 나타낸 예시도이다. 1 is a diagram showing a complex gas high-efficiency multi-stage processing device according to a first embodiment of the present invention;
Figure 2 is an enlarged plan view (a) and side cross-sectional view (b) of the primary filtration device of Figure 1;
Figure 3 is an enlarged plan view (a) and side cross-sectional view (b) of the secondary filtration device of Figure 1;
Figure 4 is an enlarged plan view (a) and side cross-sectional view (b) of the tertiary filtration device of Figure 1;
Figure 5 is a diagram showing a high-efficiency multi-stage treatment device for exhaust gas according to a second embodiment of the present invention;
Figure 6 is an enlarged plan view (a) and side cross-sectional view (b) of the tertiary filtration device of Figure 5;
Figure 7 is a diagram showing a complex gas high-efficiency multi-stage processing device according to a third embodiment of the present invention;
Figure 8 is a diagram showing a complex gas high-efficiency multi-stage processing device according to a fourth embodiment of the present invention;
Figure 9 is a diagram showing a complex gas high-efficiency multi-stage processing device according to the fifth embodiment of the present invention;
Figure 10 is a plan view showing the main parts of the complex gas high-efficiency multi-stage processing device according to the sixth embodiment of the present invention;
Figure 11 is a cross-sectional view of the rotation means shown in Figure 10,
Figures 12 and 13 are exemplary diagrams schematically showing the operating state of the high-efficiency multi-stage processing device for complex gas according to the sixth embodiment of the present invention.
이상의 본 발명의 목적들, 다른 목적들, 특징들 및 이점들은 첨부된 도면과 관련된 이하의 바람직한 실시 예들을 통해서 쉽게 이해될 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시 예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. The above objects, other objects, features and advantages of the present invention will be easily understood through the following preferred embodiments related to the attached drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided so that the disclosed content will be thorough and complete and so that the spirit of the present invention can be sufficiently conveyed to those skilled in the art.
본 명세서에서, 어떤 구성요소가 다른 구성요소 상에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 구성요소 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 구성요소가 개재될 수도 있다는 것을 의미한다. 또한, 도면들에 있어서, 구성요소들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. In this specification, when an element is referred to as being on another element, it means that it may be formed directly on the other element or that a third element may be interposed between them. Additionally, in the drawings, the thickness of components is exaggerated for effective explanation of technical content.
본 명세서에서 기술하는 실시 예들은 본 발명의 이상적인 예시도인 단면도 및/또는 평면도들을 참고하여 설명될 것이다. 도면들에 있어서, 막 및 영역들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. 따라서 제조 기술 및/또는 허용 오차 등에 의해 예시도의 형태가 변형될 수 있다. 따라서 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다. 예를 들면, 직각으로 도시된 식각 영역은 라운드지거나 소정 곡률을 가지는 형태일 수 있다. 따라서 도면에서 예시된 영역들은 속성을 가지며, 도면에서 예시된 영역들의 모양은 소자의 영역의 특정형태를 예시하기 위한 것이며 발명의 범주를 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서의 다양한 실시 예들에서 제1, 제2 등의 용어가 다양한 구성요소들을 기술하기 위해서 사용되었지만, 이들 구성 요소들이 이 같은 용어들에 의해 한정되어서는 안된다. 이들 용어들은 단지 어느 구성요소를 다른 구성요소와 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다. 여기에 설명되고 예시되는 실시 예들은 그것의 상보적인 실시 예들도 포함한다. Embodiments described in this specification will be explained with reference to cross-sectional views and/or plan views, which are ideal illustrations of the present invention. In the drawings, the thicknesses of films and regions are exaggerated for effective explanation of technical content. Therefore, the shape of the illustration may be changed depending on manufacturing technology and/or tolerance. Accordingly, embodiments of the present invention are not limited to the specific form shown, but also include changes in form produced according to the manufacturing process. For example, an etch area shown at a right angle may be rounded or have a shape with a predetermined curvature. Accordingly, the regions illustrated in the drawings have properties, and the shapes of the regions illustrated in the drawings are intended to illustrate a specific shape of the region of the device and are not intended to limit the scope of the invention. In various embodiments of the present specification, terms such as first and second are used to describe various components, but these components should not be limited by these terms. These terms are merely used to distinguish one component from another. Embodiments described and illustrated herein also include complementary embodiments thereof.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며, 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소는 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. The terms used in this specification are for describing embodiments and are not intended to limit the invention. As used herein, singular forms also include plural forms, unless specifically stated otherwise in the context. As used in the specification, 'comprises' and/or 'comprising' does not exclude the presence or addition of one or more other elements.
아래의 특정 실시 예들을 기술하는데 있어서, 여러 가지의 특정적인 내용들은 발명을 더 구체적으로 설명하고 이해를 돕기 위해 작성되었다. 하지만, 본 발명을 이해할 수 있을 정도로 이 분야의 지식을 갖고 있는 독자는 이러한 여러 가지의 특정적인 내용들이 없어도 사용될 수 있다는 것을 인지할 수 있다. 어떤 경우에는, 발명을 기술하는데 있어서 흔히 알려졌으면서 발명과 크게 관련 없는 부분들은 본 발명을 설명하는데 있어 별 이유 없이 혼돈이 오는 것을 막기 위해 기술하지 않음을 미리 언급해 둔다. In describing specific embodiments below, various specific details have been written to explain the invention in more detail and to aid understanding. However, a reader skilled in the art to understand the present invention will recognize that it can be used without these specific details. In some cases, it is mentioned in advance that when describing the invention, parts that are commonly known but are not significantly related to the invention are not described in order to prevent confusion without any reason in explaining the invention.
이하, 도 1 내지 도 4를 참조하여, 본 발명의 제 1 실시 예에 복합가스 고효율 다단 처리장치에 대해 설명한다. Hereinafter, with reference to FIGS. 1 to 4, a complex gas high-efficiency multi-stage treatment device according to a first embodiment of the present invention will be described.
본 발명의 복합가스 고효율 다단 처리장치(100)는 본체부(110), 제1순환수 분사노즐(120a) 제2순환수 분사노즐(120b), 1차 여과장치(130a), 2차 여과장차(130b), 3차 여과장치(140), 기액분리자치(150), 공급수 공급부(155), 순환수 배출부(160)를 포함하도록 구성된다. The complex gas high-efficiency
본체부(110)는 가스처리가 이루어지는 가스처리공간을 제공하는 하우징으로서 원통형으로 이루어진다. 다만, 본체부(110)는 원통형으로 한정되는 것은 아니며, 가스처리가 이루어지는 챔버를 제공하는 것이며, 사각형 등 다양한 형태로 이루어질 수도 있다. The
본체부(110)의 하부 측면에는 처리할 배기가스가 유입되는 가스유입구(112)가 구성되고, 상단부에는 처리된 배기가스가 배출되는 가스배출구(114)가 구성된다. 가스유입구(112)에는 배기가스를 본체부(110) 내부로 이송시키는 가스송풍기가 연결되도록 구성될 수 있다. 배기가스는 가스유입구(112)를 통해 본체부(110) 내부로 유입되어 상향이동하여 가스배출구(114)로 배출되도록 구성된다. 가스배출구(114)의 측부에는 배출점검구(115)가 구성될 수 있다. A
본체부(110)의 하부 일측에는 가스처리공간의 하부로 연통되도록 구성되며 복합 배기가스에서 소정의 제1유해성분을 제거하기 위한 제1약액순환수가 저장되는 제1순환수 저장부(116a)가 구성되고, 본체부(110)이 하부 타측에는 제1순환수 저장부(116a)와 별개로 구획되어 독립적으로 구성되며 복합 배기가스에서 소정의 제2유해성분을 제거하기 위한 제2약액순환수가저장되는 제2순환수 저장부(116b)가 구성된다. On one lower side of the
제1순환수 분사노즐(120a)은 본체부(110)의 내부에 구성되고 가스유입구(112)의 상부에 배치되도록 구성되어, 제1순환수 저장부(116a)에 저장된 제1약액순환수를 공급받아 하방으로 분사하도록 구성된다. The first circulating
제1순환수 분사노즐(120a)은 제1순환수 공급부(122a)에 의해 제1순환수 저장부(116a)로부터 제1약액순환수를 공급받도록 구성된다. The first circulating
제1순환수 공급부(122a)는 제1순환수 분사노즐(120a)과 제1순환수 저장부(116a)를 연결하여 제1순환수 저장부(116a)에 수용된 제1약액순환수를 제1순환수 분사노즐(120a)로 공급하기 위한 구성으로서, 제1순환수 분사노즐(120a)과 제1순환수 저장부(116a)를 연결하는 제1순환수 배관(123a), 제1순환수 배관(123a) 상에 설치되어 제1약액순환수를 이송시키는 제1순환수 펌프(124a)를 포함하도록 구성된다. 도시되지는 않았지만, 순환수 배관(123a)에 설치되어 제1약액순환수 흐름을 제어하는 제1순환수 공급밸브가 구성될 수 있다. The first circulating
제2순환수 분사노즐(120b)은 본체부(110)의 내부에 구성되고 제1순환수 분사노즐(120a)의 상부에 배치되도록 구성되어, 제2순환수 저장부(116b)에 저장된 제2약액순환수를 공급받아 하방으로 분사하도록 구성된다. The second circulating
제2순환수 분사노즐(120b)은 제2순환수 공급부(122b)에 의해 제2순환수 저장부(116b)로부터 제2약액순환수를 공급받도록 구성된다. The second circulating
제2순환수 공급부(122b)는 제2순환수 분사노즐(120b)과 제2순환수 저장부(116b)를 연결하여 제2순환수 저장부(116b)에 수용된 제2약액순환수를 제2순환수 분사노즐(120b)로 공급하기 위한 구성으로서, 제2순환수 분사노즐(120b)과 제2순환수 저장부(116b)를 연결하는 제2순환수 배관(123b), 제2순환수 배관(123b) 상에 설치되어 제2약액순환수를 이송시키는 제2순환수 펌프(124b)를 포함하도록 구성된다. 도시되지는 않았지만, 순환수 배관(123b)에 설치되어 제2약액순환수 흐름을 제어하는 제1순환수 공급밸브가 구성될 수 있다. The second circulating
1차 여과장치(130a)는, 제1순환수 분사노즐(120a)의 하부에 설치되며 복수의통기홀(h1)이 형성된 제1다공판(131a)과, 제1다공판(131a)의 단부에 수직상항되게 설치되는 제1월류벽(133a)을 포함하도록 구성된다. The
제1다공판(131a)은 원판 등 판형태로 형성되되, 일측이 절단되어 절단된 부분을 제외한 나머지 둘레부는 본체부(110)의 내면에 연결되도록 구성되며, 절단된 단부에 제1월류벽(133a)이 구성된다. The first
제1월류벽(133a)에 의해 다공판(131a)의 상부공간에는 제1월류벽(133a)의 높이만큼의 수위로 공급된 제1약액순환수가 채워지고, 추가 공급된 제1약액순환수는 제1월류벽(133a)을 넘어 제1월류벽(133a)과 본체부(110)의 내벽 사이에 형성되는 제1월류수로(135a)를 통해 아래로 흘러내려 제1순환수 저장부(116a)에 회수되도록 구성된다. The upper space of the
가스유입구(112)를 통해 본체부(110) 내부로 유입되어 상승하는 배기가스는 도 2에서 보는 바와 같이, 복수의 통기홀(h1)을 통해 제1다공판(131a)의 상측으로 채워진 제1약액순환수를 기포를 형성하면서 통과함으로써 배기가스에 포함된 소정의 유해성분이 제거되는 1차 여과처리가 이루어지도록 구성된다. As shown in FIG. 2, the exhaust gas flowing into the
본 발명에서 1차 여과장치(130a)는 단일로 구성될 수도 있으나, 도 1에 도시된 바와 같이 상하로 2개가 다단형태로 배치되도록 구성될 수 있다. 아울러, 1차 여과장치(130a)는 2단 뿐 아니라 그 이상의 다단으로 구성될 수 있음은 물론이다. In the present invention, the
도 1에 도시된 바와 같이, 1차 여과장치(130a)가 2개의 다단으로 구성될 경우, 상측 1차 여과장치(130a)의 제1월류벽(133a)과 하측 1차 여과장치(130a)의 제1월류벽(133a)은 좌우로 대향되도록 배치되어, 제1순환수 분사노즐(120a)에서 분사되어 공급되는 제1약액순환수가 상측 1차 여과장치(130a)에 다 채워진 후, 월류하여 하측의 1차 여과장치(130a)를 채우고 난 다음 월류하여 제1순환수 저장부(116a)로 떨어져 회수되도록 구성된다. As shown in FIG. 1, when the
1차 여과장치(130a)가 3단 이상으로 구성되는 경우에도 마찬가지로 각 1차 여과장치(130a)에 구성된 제1월류벽(133a)들은 하방향으로 좌우측에 대향되게 교번하여 배치되도록 구성됨으로써, 제1순환수 분사노즐(120a)에서 분사 공급되는 제1약액순환수가 지그재그 유로를 형성하면서 상측부터 하측으로 다단으로 배열된 1차 여과장치(130a)들에 순차적으로 물을 공급하고 월류하여 제1순환수 저장부(116a)로 회수되도록 구성되는 것이다. Even when the primary filtration device (130a) is composed of three or more stages, the first overflow walls (133a) of each primary filtration device (130a) are configured to be alternately arranged downward on the left and right sides, The first chemical liquid circulating water sprayed and supplied from the first circulating water injection nozzle (120a) forms a zigzag flow path and sequentially supplies water to the primary filtration devices (130a) arranged in multiple stages from the top to the bottom and overflows to form the first circulation. It is configured to be recovered into the
2차 여과장치(130b)는, 제2순환수 분사노즐(120b)의 하부에 설치되며 복수의제2통기홀(h2)이 형성된 제2다공판(131b)과, 제2다공판(131b)의 단부에 수직상항되게 설치되는 제2월류벽(133b)을 포함하도록 구성된다. The
제2다공판(131b)은 원판 등 판형태로 형성되되, 일측이 절단되어 절단된 부분을 제외한 나머지 둘레부는 본체부(110)의 내면에 연결되도록 구성되며, 절단된 단부에 제2월류벽(133b)이 구성된다. The second
제2월류벽(133b)에 의해 제2다공판(131b)의 상부공간에는 제2월류벽(133b)의 높이만큼의 수위로 공급된 제2약액순환수가 채워지고, 추가 공급된 제2약액순환수는 제2월류벽(133b)을 넘어 제2월류벽(133b)과 본체부(110)의 내벽 사이에 형성되는 제2월류수로(135b)를 통해 아래로 흘러내려 기액분리장치(150)로 흘러내리고, 기액분리장치(150)를 거쳐서 기액분리장치(150)과 제2순환수 저장부(116b)를 연결하는 별도의 회수유로(154)를 통해 제2순환수 저장부(116b)로 회수되도록 구성된다. The upper space of the second porous plate (131b) is filled with the second chemical liquid circulation water supplied at a water level equal to the height of the second overflow wall (133b) by the second overflow wall (133b), and the second chemical liquid circulation is additionally supplied. The water flows down beyond the second overflow wall (133b) and through the second overflow channel (135b) formed between the second overflow wall (133b) and the inner wall of the
1차 여과장치(130a)를 거쳐 1차 여과처리된 후 기액부리장치(150)를 통과하여 상승하는 배기가스는 도 3와 같이, 복수의 제2통기홀(h2)을 통해 제2다공판(131b)의 상측으로 채워진 제2약액순환수를 기포를 형성하면서 통과함으로써 배기가스에 포함된 소정의 유해성분이 제거되는 2차 여과처리가 이루어지도록 구성된다. As shown in FIG. 3, the exhaust gas that undergoes primary filtration through the
본 발명에서 2차 여과장치(130b)는 단일로 구성될 수도 있으나, 도 1에 도시된 바와 같이 상하로 2개가 다단형태로 배치되도록 구성될 수 있다. 아울러, 2차 여과장치(130b)는 2단 뿐 아니라 그 이상의 다단으로 구성될 수 있음은 물론이다. In the present invention, the
도 1에 도시된 바와 같이, 2차 여과장치(130b)가 2개의 다단으로 구성될 경우, 상측 2차 여과장치(130b)의 제2월류벽(133b)과 하측 2차 여과장치(130b)의 제2월류벽(133b)은 좌우로 대향되도록 배치되어, 제2순환수 분사노즐(120b)에서 분사되어 공급되는 제2약액순환수가 상측 2차 여과장치(130b)에 다 채워진 후, 월류하여 하측의 2차 여과장치(130b)를 채우고 난 다음 월류하여 기액분리장치(150)로 흘러 내리도록 구성된다. As shown in FIG. 1, when the
2차 여과장치(130b)가 3단 이상으로 구성되는 경우에도 마찬가지로 각 2차 여과장치(130b)에 구성된 제2월류벽(133b)들은 하방향으로 좌우측에 대향되게 교번하여 배치되도록 구성됨으로써, 제2순환수 분사노즐(120b)에서 분사 공급되는 제2약액순환수가 지그재그 유로를 형성하면서 상측부터 하측으로 다단으로 배열된 2차 여과장치(130b)들에 순차적으로 물을 공급하고 월류하여 기액분리장치(150)를 거친 후 회수유로(154)를 통해 제2순환수 저장부(116b)로 회수되도록 구성되는 것이다. Even when the secondary filtration device (130b) is composed of three or more stages, the second overflow walls (133b) of each secondary filtration device (130b) are configured to be alternately arranged downward to the left and right, The second chemical liquid circulating water sprayed and supplied from the 2 circulating water injection nozzle (120b) forms a zigzag flow path and sequentially supplies water to the secondary filtration devices (130b) arranged in multiple stages from the top to the bottom and overflows to form a gas-liquid separator. It is configured to be recovered to the second circulating
3차 여과장치(140)는 제2순환수 분사노즐(120b)의 상부에 설치되며, 제1약액순환수나 제2약액순환수와는 다르게 약액이 포함되지 않은 별도의 공급수(예를 들어, 상수도에서 공급된 수돗물, 물정화장치를 거쳐 정화된 정화수)가 공급되어 저장되는 수조형태로 구성되는 것이며, 1차 여과장치(130a) 및 2차 여과장치(130b)를 순차적으로 거쳐 1차 여과처리 및 2차 여과처리되고, 상향이동되는 배기가스를 하향되게 흐름을 역전시켜 저장된 공급수에 침투되어 기포를 형성하면서 3차 여과처리가 이루어지도록 하는 구성이다. The
도 1 및 도 3을 참조하면, 3차 여과장치(140)는 원판으로 이루어지되, 단부가 절단되고 절단된 단부에는 본체부(110)의 내측벽과 이격되어 제3월류수로(146)를 형성하는 제3월류벽(145)이 구성되어 내측공간으로 공급수가 저장되며 제3월류벽(145)의 높이 이상으로 공급되는 공급수는 월류하도록 구성되는 여과수조부(141)와, 여과수조부(141)의 저면으로부터 상부로 관통되게 구성되되 여과수조부(141)에 저장되는 공급수의 수위보다 높도록 구성되어 상향이동되는 배기가스가 3차 여과장치(140)를 하부에서 상부로 통과하여 여과수조부(141)에 저장된 공급수 위로 이동되도록 하는 가스통로부(142)와, 가스통로부(142)의 상부에 소정간격 이격되게 구성되어 가스통로부(142)를 통해 상향되는 배기가스를 역 U 자 형태로 하향되게 역전시켜 여과수조부(141)에 채워져 있는 공급수로 침투되도록 하는 가스안내부(143)를 포함하도록 구성된다. Referring to Figures 1 and 3, the
도 4를 참조하면, 가스통로부(142)는 장방향의 사각 관체로 형성되어 원판 형태의 여과수조부(141) 저면에 관통되게 구성되고 좌우 전후로 나란히 복수개가 배치되도록 구성되며, 가스안내부(143)는 "ㄱ"자 형태의 패널부재로 이루어져 가스통로부(142)의 일측 상단으로부터 수평연장되고 말단에서 직각되게 하향절곡된 형태로 이루어지며, 말단부가 여과수조부(141)에 저장되는 공급수에 잠기도록 구성될 수 있다. Referring to FIG. 4, the
본 발명에서 3차 여과장치(140)는 단일로 구성될 수도 있으나, 도 1에 도시된 바와 같이 상하로 2개가 다단형태로 배치되도록 구성될 수 있다. 아울러, 3차 여과장치(140)는 2단 뿐 아니라 그 이상의 다단으로 구성될 수 있음은 물론이다. In the present invention, the
도 1에 도시된 바와 같이, 3차 여과장치(140)가 2개의 다단으로 구성될 경우, 상측 3차 여과장치(140)의 제3월류벽(145)과 하측 3차 여과장치(140)의 제3월류벽(145)은 좌우로 대향되도록 배치되어, 상측의 공급수 공급부(155)로부터 공급되는 공급수가 상측 3차 여과장치(140)에 다 채워진 후, 월류하여 하측의 3차 여과장치(140)를 채우고 난 다음 월류하여 2차 여과장치(130b) 측으로 흘러내린 후, 2차 여과장치(130b)를 거쳐 월류하고 기액분리장치(150)를 통해 제2순환수 저장부(116b)로 떨어져 물보충이 이루어질 수 있다. As shown in FIG. 1, when the
3차 여과장치(140)가 3단 이상으로 구성되는 경우에도 마찬가지로 각 3차 여과장치(140)에 구성된 제3월류벽(145)들은 상방향을 따라 좌우측에 교번하여 배치되도록 구성됨으로써, 공급수가 지그재그 유로를 형성하면서 상측부터 하측으로 다단으로 배열된 3차 여과장치(140)들에 순차적으로 물을 공급하고 월류하여 아래로 흘러내리도록 구성될 수 있다. Even when the
기액분리장치(150)는 본체부(110) 내에 1차 여과장치(130a)와 2차 여과장치 (130b) 사이로 구성되며, 제1여과장치(130a)에서 1차 여과처리된 배기가스는 2차 여과장치(130b)를 향해 하부에서 상방향으로 통과되도록 하고, 제1약액순환수와 제2약액순환수가 섞이지 않도록 2차 여과장치(130b)에서 흘러내린 제2약액순환수가 수거되어 저장되며, 별도의 회수유로(154)를 통해 제2순환수 저장부(116b)와 연결되어 제2약액순환수의 회수가 이루어지도록 하는 구성이다. The gas-
이 기액분리장치(150)는 본체부(110) 내에 설치되며 1차 여과장치(130a)과 설치되어 있는 공간과 2차 여과장치(130b)가 설치되어 있는 공간을 상하로 구획하는 구획판(151)과, 이 구획판(151)을 관통하고 상부로 돌출되게 구성되어 하부에서 상부로 이동하는 배기가스의 통과가 이루어지도록 하는 통기관(152)과, 이 통기관(152)의 상부에 소정간격 이격되게 구성되는 커버(153)로 구성될 수 있다. This gas-
1차 여과장치(130a)를 거쳐 1차 여과처리된 배기가스는 통기관(152)을 통과하여 2차 여과장치(130b)로 이동될 수 있으며, 이때, 통기관(152)을 통해 상승하는 배기과니 커버(153)에 의해 유로흐름이 전환되면서 커버(153)에서 기액분리가 이루어질 수 있다. The exhaust gas that has undergone primary filtration through the
아울러, 기액분리장치(150)는 통기관(152)의 높이만큼 구획판(151)의 상부공간으로 2차 여과장치(130b)에서 흘러내린 제2약액순환수가 수거 저장되며, 이러한 구획판(151)의 상부에 형성되어 제2약액순환수가 수거 저장되는 공간은 회수유로(154)를 통해 제2순환수 저장부(116b)와 연결되도록 구성되어, 구획판(151)의 상부로 수거 저장되는 제2약액순환수는 회수유로(154)를 통해 제2순환수 저장부(116b)로 흘러내려 회수되도록 구성된다. In addition, the gas-
또한, 본 발명은 상하 이웃하는 2차 여과장치(130b)와 3차 여과장치(140)는 제2월류벽(133b)과 제3월류벽(145)이 좌우 대향되도록 배치되어, 3차 여과장치(140)에서 월류되어 흘러내리는 공급수가 2차 여과장치(130b)로 공급된 후 월류하여 기액분리장치(150)로 흘러내린 후 회수유로(154)를 통해 제2순환수 저장부(116b)에 물보충되도록 구성된다. In addition, in the present invention, the secondary filtration device (130b) and the tertiary filtration device (140) adjacent to each other are arranged so that the second overflow wall (133b) and the third overflow wall (145) are left and right facing each other, so that the tertiary filtration device The feed water that overflows from (140) is supplied to the secondary filtration device (130b), then overflows and flows down to the gas-liquid separator (150) and then into the second circulating water storage unit (116b) through the recovery passage (154). It is configured to replenish water.
도 1에 도시된 바와 같이, 2차 여과장치(130b)가 다단으로 구성되고, 3차 여과장치(140)가 다단으로 구성되면, 최상측의 2차 여과장치(130b)의 제2월류벽(133b)과 최하측의 3차 여과장치(140)의 제3월류벽(145)이 좌우 대향되도록 구성되며, 이에 의해, 공급수 공급부(155)로부터 공급된 공급수는 다단의 3차 여과장치(140) 및 다단의 2차 여과장치(130b)에 지그재그형태의 유동흐름으로 물공급과 월류를 반복한 후 제2순환수 저장부(116b)에 물보충이 이루어질 수 있다. As shown in FIG. 1, when the
공급수 공급부(155)는 제1순환수 저장부(116a)로 직접 공급수를 공급하여 제1순환수 저장부(116a)에 대한 물보충이 이루어지도록 하는 제1공급수 공급배관(156)과, 이 제1공급수 공급배관(156)에 설치되어 공급되는 제1공급수 흐름을 제어하며 자동적으로 제어가 가능한 제1공급수 밸브(157)와, 2차 여과장치(140)의 상부로 공급수를 공급하여 제2순환수 저장부(116b)에 물보충이 이루어지도록 구성되는 제2공급수 공급배관(158)과, 이 제2공급수 공급배관(158)에 설치되어 공급되는 제2공급수 흐름을 제어하며 자동적으로 제어가 가능한 제2공급수 밸브(159)를 포함하도록 구성된다. The
본 발명에서 공급수 공급부(155)로부터 제1순환수 저장부(116a)에 직접공급되어 제1순환수 저장부(116a)에 대한 물보충 되거나 3차 여과장치(140)에 공급되어 제2순환수 저장부(116b)에 대한 물보충되는 공급수는 제1및제2약액순환수와는 별개의 약액이 포함되어 있지 않은 깨끗한 물로서 예를 들어, 공급배관(156,158)은 상수도 배관과 연결되어 수돗물이 공급수로서 적용될 수도 있으며, 수돗물이 아니더라도 공급배관(156,158)은 물정화장치와 연결되도록 구성되어, 물정화장치로부터 정화된 정화수를 공급수로서 사용되도록 구성될 수 있다. In the present invention, water is supplied directly from the supply
본 발명은 배기가스를 1차 여과장치(130a) 및 2차 가스처리장치(130b)를 순차적으로 통과시키면서 제1약액순환수 및 제2약액순환수에 의해 배기가스에서 2종의 유해성분을 순차적으로 제거하여 여과처리할 수 있으며, 이렇게 배기가스를 1차 여과장치(130a)를 통해 1차 가스처리하고 2차 여과장치(130b)를 통해 2차 가스처리한 다음, 가스 배출구(114)를 통해 배출되기 전에 3차 여과장치(140)를 통해 3차 가스처리를 진행하여 가스 배출구(114)로 배출하되, 3차 여과장치(140)에서는 1,2차 여과장치(130a,130b)에서 사용된 제1및제2순환수가 아닌 별도의 깨끗한 공급수로 직접 처리함으로써 배기가스에 대한 유해성분 처리효율을 높일 수 있다. In the present invention, two types of harmful components are sequentially removed from the exhaust gas by the first chemical liquid circulating water and the second chemical liquid circulating water while sequentially passing the exhaust gas through the primary filtration device (130a) and the secondary gas processing device (130b). It can be removed and filtered. In this way, the exhaust gas is treated as a primary gas through the primary filtration device (130a), secondary gas treatment through the secondary filtration device (130b), and then processed as a secondary gas through the gas outlet (114). Before being discharged, tertiary gas treatment is performed through the
순환수 배출부(160)는 제1순환수 저장부(116a)에 저장된 제1약액순환수의 오염농도가 기 설정농도에 도달할 경우, 제1약액순환수를 배수시키고, 제2순환수 저장부(116b)에 저장된 제2약액순환수의 오염농도가 기 설정농도에 도달한 경우, 제2약액순환수를 배수시키기 위한 구성이다. When the contamination concentration of the first chemical circulating water stored in the first circulating
순환수 배출부(160)는 제1순환수 저장부(116a)와 연결된 제1배출배관(161), 제1배출배관(161) 상에 설치되어 제1약액순환수의 배출흐름을 제어하는 제1배출밸브(162), 제2순환수 저장부(116b)와 연결된 제2배출배관(163), 제2배출배관(163) 상에 설치되어 제2약액순환수의 배출흐름을 제어하는 제2배출밸브(164)를 포함하도록 구성된다. 이때, 제1배출배관(161) 및 제2배출배관(163) 각각에는 약액순환수의 배출흐름을 형성시키는 배출펌프가 각각 구성될 수 있다. 본 발명에서 순환수 배출부(160)는 제어부에 의해 제어되도록 구성된다. The circulating
본 발명은 제1순환수 저장부(116a)에 저장된 제1약액순환수의 레벨을 감지하는 제1수위센서(171), 제2순환수 저장부(116b)에 저장된 제2약액순환수의 레벨을 감지하는 제2수위센서(173)를 포함하도록 구성된다. 제1,2수위센서(171,173) 각각은 제1및2순환수 저장부(116a,116b)에 저장된 제1약액순환수 및 제2약액순환수 각각에 대해 설정된 고수위레벨과 저수위레벨을 감지하도록 구성된다. The present invention provides a first
아울러, 제1순환수 저장부(116a)에 저장된 제1약액순환수의 오염농도를 측정하는 제1농도센서(172), 제2순환수 저장부(116b)에 저장된 제2약액순환수의 오염농도를 측정하는 제2농도센서(174)가 더 구성될 수 있다. 이를 위해, 제1, 제2농도센서(172,174)는 PH센서, 전기전도도 계측센서, ORP센서, 당도계, 특정성분 측정계 등으로 구성되어 처리되는 유해성분에 따라 다양하게 적용될 수 있다. In addition, the
본 발명은 각 구성의 제어가 필요한 구성에 적용되어 제어구성을 제어하는 제어부가 구성될 수 있다. The present invention can be applied to a configuration that requires control of each configuration, and a control unit can be configured to control the control configuration.
예를 들어, 본 발명은 제어부가 농도센서, 수위센서의 감지값을 바탕으로 순환수 배출부(160)의 배출펌프, 배출밸브 등의 구성, 공급수 공급부(150)의 공급펌프, 공급밸브 등의 구성을 제어하여 오염된 순환수의 배출과 배출되어 부족한 약액순환수에 대해 물보충이 자동적으로 제어동작하도록 구성될 수 있다. For example, in the present invention, the control unit configures the discharge pump and discharge valve of the circulating
제어부는 제1농도센서(172)를 통해 제1약액순환수의 소정성분 농도가 기 설정농도에 도달하면, 제1순환수 저장부(116a)의 제1약액순환수 수위가 저수위레벨이 되도록 순환수 배출부(160)를 제어하여 제1순환수 저장부(116a)로부터 제1약액순환수의 배출이 이루어지도록 하고, 저수위 레벨이 되면 순환수 배출부(160)의 동작을 오프시킨 다음, 공급수 공급부(155)의 제1공급수 밸브(157) 를 고수위 레벨이 될때까지 개방제어하여 공급수가 제1순환수 저장부(116a)에 공급되어 물보충이 이루어지도록 하고, 제1수위센서(171)를 통해 고수위레벨이 감지되면 제1공급수 밸브(157)를 차단제어하도록 구성된다. When the concentration of a predetermined component of the first chemical circulating water reaches the preset concentration through the
또한, 제어부는 제2농도센서(174)를 통해 제2약액순환수의 소정성분 농도가 기 설정농도에 도달하면, 제2순환수 저장부(116b)의 제2약액순환수 수위가 저수위레벨이 되도록 순환수 배출부(160)를 제어하여 제2순환수 저장부(116b)로부터 제2약액순환수의 배출이 이루어지도록 하고, 저수위 레벨이 되면 순환수 배출부(160)의 동작을 오프시킨 다음, 공급수 공급부(155)의 제2공급수 밸브(159)를 고수위 레벨이 될 때까지 개방제어하여 공급수가 3차 여과장치(140), 2차 여과장치(130b), 기액분리장치(150)를 순차적으로 거치고 회수유로(154)를 통해 제2순환수 저장부(116b)에 물보충이 이루어지게 하고 제2수위센서(173)를 통해 고수위레벨이 감지되면 제2공급수 밸브(159)를 차단제어하도록 구성된다. In addition, when the concentration of a predetermined component of the second chemical liquid circulating water reaches the preset concentration through the
한편, 본 발명은 3차 여과장치(140)의 상측으로 데미스터(175, 수분제거장치)를 구성하여 1차 및 2차 여과장치(130a,130b)와 3차 여과장치(140)를 통해 1,2,3차 가스처리가 이루어진 배기가스가 그대로 가스배출구(114)를 통해 배출되지 않고, 그 전에 데미스터(175)를 거쳐 수분이 제거한 후 가스배출구(114)를 통해 방출되도록 구성할 수 있다. Meanwhile, the present invention configures a demister (175, moisture removal device) above the tertiary filtration device (140) to filter 1 through the primary and secondary filtration devices (130a, 130b) and the tertiary filtration device (140). , The exhaust gas that has undergone secondary and tertiary gas processing is not discharged as is through the
본 발명에서 1차 여과장치(130a)는 제1월류벽(133a)의 하단으로부터 하방으로 연장형성되어, 상향이동되는 배기가스가 제1월류수로(135a)로 유입되는 것을 억제하는 제1가스유입방지벽(134a)이 더 구성될 수 있다. In the present invention, the primary filtration device (130a) extends downward from the bottom of the first overflow wall (133a), and is a first gas inflow that suppresses upward moving exhaust gas from flowing into the first overflow waterway (135a). A
이에, 상향이동되는 배기가스는 대부분 또는 전체가 제1다공판(131a)에 형성된 제1통기홀(h1)을 통해서만 상향이동되면서 제1다공판(131a) 상측에 저장된 순환수를 통과하면서 제1약액순환수와 접촉하여 유해성분의 처리효과를 높일 수 있다. Accordingly, most or all of the exhaust gases moving upward move upward only through the first ventilation hole (h1) formed in the first porous plate (131a) and pass through the circulating water stored on the upper side of the first porous plate (131a) The treatment effect of harmful ingredients can be increased by contact with circulating chemical water.
특히, 1차 여과장치(130a)가 다단으로 구성되는 경우, 상하 이웃하는 두 1차 여과장치(130a) 중 상측의 1차 여과장치(130a)에 형성된 제1가스유입방지벽(134a)은 하단 높이가 하측의 1차 여과장치(130a)에 형성된 제1월류벽(133a)의 상단 높이와 같거나 더 낮도록 구성되어 상측의 1차 여과장치(130a)의 제1가스유입방지벽(134a) 하단이 하측의 1차 여과장치(130a)에 저장되는 제1약액순환수의 액면에 접촉되거나 제1약액순환수 내측으로 잠기도록 구성됨으로써 상측의 1차 여과장치(130a)에 형성된 제1월류수로(135a)로는 배기가스의 유입이 완전 차단되어 제1다공판(131a)에 형성된 통기홀(h1)로만 배기가스가 상향이동되도록 구성될 수 있다. In particular, when the
아울러, 본 발명에서, 가스유입구(112)는 하측의 1차 여과장치(130a)의 제1가스유입방지벽(134a)과 대향되는 위치에 배치되도록 함으로써 가스유입구(112)를 통해 유입되는 배기가스가 제1가스유입방지벽(134a)과 본체부(110)의 내벽 사이를 통해 제1월류수로(135a)를 역류하여 상향이동되는 것을 억제할 수 있다. In addition, in the present invention, the
마찬가지로 2차 여과장치(130b)는 제2월류벽(133b)의 하단으로부터 하방으로 연장형성되어, 상향이동되는 배기가스가 제2월류수로(135b)로 유입되는 것을 억제하는 제2가스유입방지벽(134b)이 더 구성될 수 있다. 2차 여과장치(130b)가 다단으로 구성되는 경우, 상측의 2차 여과장치(130b)의 제2가스유입방지벽(134b) 하단이 하측의 2차 여과장치(130b)에 저장되는 제2약액순환수의 액면에 잠기도록 구성될 수 있다. Likewise, the secondary filtration device (130b) is a second gas inflow prevention wall that extends downward from the bottom of the second overflow wall (133b) and prevents upward moving exhaust gas from flowing into the second overflow waterway (135b). (134b) can be further configured. When the secondary filtration device (130b) is configured in multiple stages, the lower end of the second gas inflow prevention wall (134b) of the upper secondary filtration device (130b) is the second chemical liquid stored in the lower secondary filtration device (130b). It may be configured to be submerged in the liquid level of circulating water.
또한, 3차 여과장치(140)는 제3월류벽(145)의 하단으로부터 하방으로 연장형성되어, 상향이동되는 배기가스가 제3월류수로(146)로 유입되는 것을 억제하는 제3가스유입방지벽(147)이 더 구성될 수 있다. 3차 여과장치(140)가 다단으로 구성되는 경우, 상측의 3차 여과장치(140)의 제3가스유입방지벽(147) 하단이 하측의 3차 여과장치(140)에 저장되는 제3약액순환수의 액면에 잠기도록 구성될 수 있다. In addition, the
본 발명은 배기가스 처리특성에 따라 선택적으로 제1순환수 저장부(116a)에 제1약품을 공급하기 위한 제1약품공급부(180)가 더 구성될 수 있다. 제1약품공급부(180)는 제1약품이 저장되는 제1약품저장부(181)와, 제1약품저장부(181)와 제1순환수 저장부(116a)를 연결하여 제1약품을 공급하는 제1약품공급배관(182)과, 이 제1약품공급배관(182)에 설치되는 약품공급흐름을 제어하는 제1약품공급밸브(183)를 포함한다. 도시하지는 않았지만, 약품을 공급하는 약품공급펌프가 제1약품공급배관(182) 상에 설치될 수 있다. The present invention may further include a first
또한, 본 발명은 배기가스 처리특성에 따라 선택적으로 제2순환수 저장부(116b)에 제2약품을 공급하기 위한 제2약품공급부(184)가 더 구성될 수 있다. 제2약품공급부(184)는 제2약품이 저장되는 제2약품저장부(185)와, 제2약품저장부(185)와 제2순환수 저장부(116b)를 연결하여 제2약품을 공급하는 제2약품공급배관(186)과, 이 제2약품공급배관(186)에 설치되는 약품공급흐름을 제어하는 제2약품공급밸브(187)를 포함한다. 도시하지는 않았지만, 약품을 공급하는 약품공급펌프가 제2약품공급배관(186) 상에 설치될 수 있다. In addition, the present invention may further include a second
이하, 도 5 및 도 6을 참조하여, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 배기가스 고효율 다단 처리장치에 대해 설명한다. Hereinafter, with reference to FIGS. 5 and 6, a high-efficiency multi-stage treatment device for exhaust gas according to a second embodiment of the present invention will be described.
제 2 실시 예의 배기가스 고효율 다단처리장치는 제 1 실시 예에 비해, 3차 여과장치(140)의 가스통로부(242) 및 가스안내부(243)의 형상 및 구조에 있어서 차이가 있을 나머지 구성에 대해서는 제 1 실시 예와 동일하므로 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조부호를 부여하고 설명은 생략하며 차이가 있는 구성에 대해서만 설명하도록 한다. Compared to the first embodiment, the high-efficiency multi-stage treatment device for exhaust gas of the second embodiment has a difference in the shape and structure of the
도 5 및 도 6을 참조하면, 가스통로부(242)는 원형관체형태로 이루어져 여과수조부(141)의 저면을 관통하도록 복수개가 이격배치되도록 구성되며, 가스안내부(243)는 삿갓, 돔 또는, 하부가 개방된 원통형태의 원형캡으로 구성되어 가스통로부(242)의 상부에 이격되게 구성되고, 원형캡의 하단둘레부가 여과수조부(141)에 저장되는 공급수에 잠기도록 구성될 수 있다. Referring to Figures 5 and 6, the
즉, 본 발명은 가스통로부(142,242)와 가스안내부(143,243)는 제 1 실시 예와 같이 장방형 형태로 구성될 수도 있고, 원형형태의 버블캡구조로 이루어질 수도 있는 것이다. That is, in the present invention, the
도 7을 참조하면, 본 발명의 제 3 실시 예는 제 1 실시 예에 비해 1차 여과장치(130a)와 1차 순환수 분사노즐(120a) 사이, 그리고 2차 여과장치(130b)와 2차 순환수 분사노즐(120b) 사이에 각각 구성되는 충진재가 충진된 충진층(190)을 더 포함하도록 구성될 수 있다. Referring to FIG. 7, compared to the first embodiment, the third embodiment of the present invention has a filter between the
이에 의하면, 제1순환수 분사노즐(120a)로부터 하부로 분사된 제1약액순환수는 하부에 설치된 충진층(190)에 분사하게 되어 제1약액순환수가 충진층(190)에 충진된 충진재를 타고 흘러 내려 1차 여과장치(130a)로 떨어지게 되는데, 이 경우, 1차 여과장치(130a)를 거쳐 1차 처리된 배기가스는 충진층(190)의 충진재 기공들 사이를 통과하면서 상향이동하면서 충진재의 표면에 흐르는 순환수와 접촉하면서 가스처리가 더욱 효율적으로 이루어지게 된다. According to this, the first chemical circulating water sprayed downward from the first circulating
또한, 제2순환수 분사노즐(120b)로부터 하부로 분사된 제2약액순환수는 그 하부에 설치된 충진층(190)에 분사하게 되어 제2약액순환수가 충진층(190)에 충진된 충진재를 타고 흘러 내려 2차 여과장치(130b)로 떨어지게 되는데, 이 경우, 2차 여과장치(130b)를 거쳐 2차 처리된 배기가스는 충진층(190)의 충진재 기공들 사이를 통과하면서 상향이동하면서 충진재의 표면에 흐르는 순환수와 접촉하면서 가스처리가 더욱 효율적으로 이루어지게 된다. In addition, the second chemical circulating water sprayed downward from the second circulating
충진재는 PE(polyethylene) 또는 PP(polypropylene) 재질로 다양한 형상으로 만들어진 것으로, Pallring, Tri Pack, 등 가스처리용 충진재로 구성될 수 있고, 카트리지(Cartridge) 형 충진층 사용하다. 아울러, 충진층(190)은 배기가스 성분에 따라 내식성 재질로 구성될 수 있고, PP, PVC, PE, PTFE, Stainless Steel 등의 재질에서 선택적용이 가능하다. The filler is made of PE (polyethylene) or PP (polypropylene) material in various shapes. It can be composed of fillers for gas processing such as Pallring, Tri Pack, etc., and a cartridge-type filler layer is used. In addition, the
한편, 도 8을 참조하면, 제 4 실시 예에 따른 본 발명의 복합가스 고효율 다단 처리장치는 제 7에 도시된 제 3 실시 예에 비해 1차 여과장치(130a) 및 2차 여과장치(130) 각각이 다단으로 구성되는 것이 아니라 각각 단일로 구성될 수도 있음은 물론이다. Meanwhile, referring to FIG. 8, the complex gas high-efficiency multi-stage treatment device of the present invention according to the fourth embodiment has a
또한, 도 9를 참조하면, 제 5 실시 예에 따른 본 발명의 복합가스 고효율 다단 처리장치는 제 2 실시 예의 가스처리장치에 충진층(190)이 추가 구성된 형태로 구성될 수도 있음은 물론이다. In addition, referring to FIG. 9, it goes without saying that the high-efficiency multi-stage processing device for complex gas of the present invention according to the fifth embodiment may be configured by adding a
도 10 내지 도 13을 참조하면, 본 발명의 복합가스 고효율 다단 처리장치는 이종의 배기가스를 선택적으로 처리가 가능하도록 본체부(110)의 하부 양측에 각각 제1가스유입구(112a)와 제2가스유입구(112b)가 구성되어, 제1가스유입구(112a)를 통해서 제1배기가스가 유입되어 1차 여과장치(130a), 2차 여과장치(130b) 및 3차 여과장치(140)를 통해 1,2,3차 다단의 가스처리가 이루어지도록 할 수 있고, 제2가스유입구(112b)를 통해서 제2배기가스가 유입되어 1차 여과장치(130a), 2차 여과장치(130b) 및 3차 여과장치(140)를 통해 1,2,3차 다단의 가스처리가 이루어지도록구성될 수 있다. 10 to 13, the complex gas high-efficiency multi-stage processing device of the present invention has a
제1가스유입구(112a)와 제2가스유입구(112b) 각각에는 배기가스가 유입되는 방향으로만 가스의 흐름이 이루어지도록 하는 체크밸브가 더 구성됨으로써, 제1가스유입구(112a)를 통해 제1배기가스의 유입이 이루어지는 경우, 제1배기가스가 제2가스유입구(112b)로 역류하지 않고, 제2가스유입구(112b)를 통해 제2배기가스의 유입이 이루어지는 경우, 제2배기가스가 제1가스유입구(112a)로 역류하는 것이 방지되도록 구성될 수 있다. Each of the first gas inlet (112a) and the second gas inlet (112b) is further provided with a check valve that ensures that the gas flows only in the direction in which the exhaust gas flows, so that the first gas inlet (112a) When the exhaust gas flows in, the first exhaust gas does not flow back into the second gas inlet (112b), and when the second exhaust gas flows in through the second gas inlet (112b), the second exhaust gas flows into the second gas inlet (112b). 1 It can be configured to prevent backflow into the gas inlet (112a).
아울러, 본 발명은 제1가스유입구(112a) 또는 제2가스유입구(112b)를 통해 유입되는 배기가스 유입위치에 따라 최하측의 1차 여과장치(130a)에 구성된 제1월류벽(133a) 및 제1가스유입방지벽(134a)이 대향된 위치에 위치되도록 1차 여과장치(130a)를 본체부(110)에 대해 180도 회전가능하게 하는 회전수단(200)을 더 포함하도록 구성된다. In addition, the present invention is a first overflow wall (133a) configured in the lowermost primary filtration device (130a) according to the inlet position of the exhaust gas flowing through the first gas inlet (112a) or the second gas inlet (112b), and It is configured to further include a rotation means 200 that allows the
회전수단(200)은 본체부(110)의 원형내벽을 따라 원형링형태로 구성되며, 내주면을 따라 원형 레일홈(211)이 형성되고, 이 원형 레일홈(211)에 제1다공판(131a)의 둘레부가 삽입되어 제1다공판(131a)의 회전을 안내하는 회전가이드(210)와, 제1다공판(131a)의 일면 둘레를 따라 형성되는 소정원호형태로 구성되는 제1기어부(220)와, 본체부(110)의 측벽에 설치되는 구동모터(230)와, 구동모터(230)의 모터축에 결합되며 제1기어부(220)와 기어연결되어 구동모터(230)의 회전력을 전달하는 제2기어부(240)를 포함하도록 구성될 수 있다. The rotating means 200 is configured in a circular ring shape along the circular inner wall of the
상기한 구성으로, 본 발명은 제1가스유입구(112a)를 통한 제1배기가스에 대해 가스처리를 진행할 경우, 도 12와 같이, 회전수단(200)을 구동시켜 최하측의 1차 여과장치(130a)에 구성된 제1월류벽(133a) 및 제1가스유입방지벽(134a)이 제1가스유입구(112a)와 대향되게 우측으로 배치되도록 1차 여과장치(130a)를 회전시키며, 반대로 제2가스유입구(112b)를 통한 제2배기가스에 대해 가스처리를 진행할 경우, 도 13과 같이 회전수단(200)을 구동시켜 최하측의 1차 여과장치(130a)에 구성된 제1월류벽(133a) 및 제1가스유입방지벽(134a)이 제2가스유입구(112b)와 대향되게 좌측으로 배치되도록 1차 여과장치(130a)를 회전시킬 수 있다. With the above configuration, the present invention, when performing gas treatment on the first exhaust gas through the
아울러, 최하측의 1차 여과장치(130a)에 대한 제1월류벽(133a) 및 제1가스유입방지벽(134a)의 위치조정이 이루어진 경우, 그 위에 설치된 상측의 2차 여과장치(130a)를 회전수단(200)을 통해 회전조작하여, 상측의 1차 여과장치(130a)에 구성된 제1월류벽(133a) 및 제1가스유입방지벽(134a)이 하측의 1차 여과장치(130b)에 대해 대향되는 위치로 배치시킬 수 있을 것이다. In addition, when the position of the first overflow wall (133a) and the first gas inflow prevention wall (134a) is adjusted with respect to the lowermost primary filtration device (130a), the upper secondary filtration device (130a) installed thereon is rotated through the rotating means 200, so that the
이상, 본 발명을 본 발명의 원리를 예시하기 위한 바람직할 실시 예와 관련하여 도시하고 또한 설명하였으나, 본 발명은 그와 같이 도시되고 설명된 그대로의 구성 및 작용으로 한정되는 것이 아니다. 오히려 첨부된 특허청구범위의 사상 및 범주를 일탈함이 없이 본 발명에 대한 다수의 변경 및 수정 가능함을 당업자들은 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 그러한 모든 적절한 변경 및 수정과 균등물도 본 발명의 범주에 속하는 것으로 간주되어야 할 것이다. Although the present invention has been shown and described in connection with preferred embodiments for illustrating the principles of the present invention, the present invention is not limited to the configuration and operation as shown and described. Rather, those skilled in the art will be able to understand that many changes and modifications can be made to the present invention without departing from the spirit and scope of the appended claims. Accordingly, all such appropriate changes, modifications and equivalents shall be considered to fall within the scope of the present invention.
110…본체부
112…가스유입구
114…가스배출구
116a…제1순환수 저장부
116b…제2순환수 저장부
120a…제1순환수 분사노즐
120b…제2순환수 분사노즐
122a…제1순환수 공급부
123a…제1순환수 배관
124a…제1순환수 펌프
122b…제2순환수 공급부
123b…제2순환수 배관
124b…제2순환수 펌프
130a…1차 여과장치
131a…제1다공판
132a…제1순환수 수용공간
133a…제1월류벽
134a…제1가스유입방지벽
135a…제1월류수로
130b…2차 여과장치
131b…제2다공판
132b…제2순환수 수용공간
133b…제2월류벽
134b…제2가스유입방지벽
135b…제2월류수로
140…3차 여과장치
141…여과수조부
142,242…가스통로부
143,243…가스안내부
145…제3월류벽
146…제3월류수로
147…제3가스유입방지벽
150…기액분리장치
151…구획판
152…통기관
153…커버
154…회수유로
155…공급수 공급부
156…제1공급수 공급배관
157…제1공급수 밸브
158…제2공급수 공급배관
159…제2공급수 밸브
160…순환수 배출부
161…제1배출배관
162…제1배출밸브
163…제2배출배관
164…제2배출밸브
171…제1수위센서
172…제1농도센서
173…제2수위센서
174…제2농도센서
175…데미스터
180…제1약품공급부
181…제1약품저장부
182…제1약품공급배관
183…제1약품공급밸브
184…제2약품공급부
185…제2약품저장부
186…제2약품공급배관
187…제2약품공급밸브
190...충진층
200…회전수단
210…회전가이드
211…레일홈
220…제1기어부
230…구동모터
240…제2기어부110… main body
112… gas inlet
114… gas outlet
116a… 1st circulating water storage unit
116b… Second circulating water storage unit
120a… 1st circulating water injection nozzle
120b… 2nd circulating water injection nozzle
122a… 1st circulating water supply department
123a… 1st circulating water pipe
124a… 1st circulating water pump
122b… 2nd circulating water supply department
123b… 2nd circulating water pipe
124b… Second circulating water pump
130a... Primary filtration device
131a… 1st perforated plate
132a… 1st circulating water storage space
133a… 1st Wolryubyeok
134a… The first gas inflow prevention wall
135a… 1st overflow waterway
130b… Secondary filtration device
131b… 2nd perforated plate
132b… Second circulating water accommodation space
133b… 2nd Wolryu Wall
134b… Second gas inflow prevention wall
135b… Second overflow waterway
140… Tertiary filtration device
141… Filtration tank
142,242… gas passage department
143,243… Gas information section
145… 3rd lunar wall
146… Third overflow channel
147… 3rd gas inflow prevention wall
150… Gas-liquid separation device
151… partition board
152… vent pipe
153… cover
154… Recovery path
155… water supply department
156… 1st water supply pipe
157… 1st supply water valve
158… 2nd water supply piping
159… Second supply water valve
160… Circulating water outlet
161… 1st discharge pipe
162… First discharge valve
163… 2nd discharge pipe
164… Second discharge valve
171… 1st water level sensor
172… 1st concentration sensor
173… 2nd water level sensor
174… Second concentration sensor
175… demister
180… 1st Drug Supply Department
181… First drug storage department
182… 1st chemical supply pipe
183… 1st chemical supply valve
184… 2nd Drug Supply Department
185… Second drug storage unit
186… 2nd chemical supply piping
187… Second chemical supply valve
190...packing layer
200… means of rotation
210… rotation guide
211… rail home
220… 1st gear unit
230… driving motor
240… 2nd gear unit
Claims (12)
상기 본체부 내에 상기 가스유입구 상부로 구성되어 상기 제1순환수 저장부로부터 제1약액순환수를 공급받아 하부로 분사하는 제1순환수 분사노즐;
상기 본체부 내에 상기 제1순환수 분사노즐의 상부로 구성되어 상기 제2순환수 저장부로부터 제2약액순환수를 공급받아 하부로 분사하는 제2순환수 분사노즐;
상기 제1순환수 분사노즐의 하부에 구성되어 제1약액순환수가 소정수위로 저장되도록 구성되며 하부에서 상부로 상향이동하는 배기가스가 저장된 제1약액순환수를 통과하면서 1차 여과처리가 이루어지는 적어도 하나 이상으로 구성된 1차 여과장치;
상기 제2순환수 분사노즐의 하부에 구성되어 제2약액순환수가 소정수위로 저장되도록 구성되며 하부에서 상부로 상향이동하는 배기가스가 저장된 제2약액순환수를 통과하면서 2차 여과처리가 이루어지는 적어도 하나 이상으로 구성된 2차 여과장치;
상기 제2순환수 분사노즐의 상부에 설치되며 상기 제1약액순환수나 제2약액순환수와는 다르게 약액이 포함되지 않은 별도의 공급수가 공급되어 저장되는 수조형태로 구성되며, 상기 1차 여과장치 및 2차 여과장치를 순차적으로 거쳐 1차 및 2차 여과처리되어 상향이동되는 배기가스를 하향되게 흐름을 역전시켜 저장된 공급수에 침투되게 하여 3차 여과처리가 이루어지도록 하는 적어도 하나 이상으로 구성된 3차 여과장치;
상기 본체부 내에 상기 1차 여과장치와 2차 여과장치 사이로 구성되며, 상기 1차 여과장치에서 1차 여과처리된 배기가스는 상기 2차 여과장치를 향해 하부에서 상방향으로 통과하고, 상기 제1약액순환수와 제2약액순환수가 섞이지 않도록 상기 2차 여과장치에서 흘러내린 제2약액순환수가 수거되어 저장되며, 별도의 회수유로를 통해 상기 제2순환수 저장부와 연결되어 제2약액순환수의 회수가 이루어지도록 하는 기액분리장치;
상기 3차 여과장치의 상부에 구성되며 상기 3차 여과장치를 거쳐 처리된 배기가스가 상기 가스배출구를 통해 배출되기 전에 수분을 제거하여 배출되도록 하는 데미스터;를 포함하며,
상기 3차 여과장치에 공급되는 공급수는 상기 3차 여과장치에서 월류하여 상기 2차 여과장치로 공급되어 상기 제2약액순환수의 보충수로서 제공되고 난 다음, 상기 2차 여과장치에서 월류하여 상기 기액분리장치로 공급된 후 상기 기액분리장치를 거쳐 상기 제2순환수 저장부에 보충되도록 구성되며,
상기 1차 여과장치는, 상기 제1순환수 분사노즐의 하부에 설치되며 복수의 제1통기홀이 구비된 제1다공판과, 상기 제1다공판의 일측단에 수직하게 구성되고 상기 본체부의 내벽과의 사이에 제1월류수로를 형성하는 제1월류벽으로 이루어지며, 상기 제1순환수 분사노즐로부터 공급된 순환수를 공급받아 상기 제1다공판 상에 제1약액순환수가 소정수위를 유지하고 추가 공급된 제1약액순환수는 상기 제1월류벽을 넘어 상기 제1월류수로를 통해 흘러내려 상기 제1순환수 저장부로 회수되도록 구성되며, 배기가스가 상기 복수의 제1통기홀을 통해 공급되어 상기 제1다공판 상에 소정수위로 저장된 제1약액순환수를 통과하면서 배기가스의 1차 여과처리가 이루어지도록 구성되며,
상기 2차 여과장치는, 상기 제2순환수 분사노즐의 하부에 설치되며 복수의 제2통기홀이 구비된 제2다공판과, 상기 제2다공판의 일측단에 수직하게 구성되고 상기 본체부의 내벽과의 사이에 제2월류수로를 형성하는 제2월류벽으로 이루어지며, 상기 제2순환수 분사노즐로부터 공급된 순환수를 공급받아 상기 제2다공판 상에 제2약액순환수가 소정수위를 유지하고 추가 공급된 제2약액순환수는 상기 제2월류벽을 넘어 상기 제2월류수로를 통해 흘러내리고 2차 여과장치의 하부에 구성된 기액분리장치를 거쳐 상기 제2순환수 저장부로 회수되도록 구성되며, 배기가스가 상기 복수의 제2통기홀을 통해 공급되어 상기 제2다공판 상에 소정수위로 저장된 제2약액순환수를 통과하면서 배기가스의 2차 여과처리가 이루어지도록 구성되며,
상기 1차 여과장치는 상하방향으로 적어도 2개 이상 다단으로 구성되며,
상하 이웃하는 두 1차 여과장치는 상기 제1월류벽이 좌우 대향되도록 배치되어 상측의 1차 여과장치에서 월류된 제1약액순환수가 하측의 1차 여과장치에 공급된 후 월류하여 상기 제1순환수 저장부로 회수되도록 구성되며,
상기 2차 여과장치는 상하방향으로 적어도 2개 이상 다단으로 구성되며,
상하 이웃하는 두 2차 여과장치는 상기 제2월류벽이 좌우 대향되도록 배치되어 상측의 2차 여과장치에서 월류된 제2약액순환수가 하측의 2차 여과장치에 공급된 후 월류하여 상기 기액분리장치로 흘러내린 후, 상기 기액분리장치를 거쳐 상기 제2순환수 저장부로 회수되도록 구성되며,
상기 3차 여과장치는,
상기 공급수가 공급되어 저장되는 공급수 저장공간을 형성하며, 단부에는 추가 공급된 공급수가 월류되게 하며 상기 본체부의 내벽과의 사이에 제3월류수로를 형성하는 제3월류벽이 구성된 여과수조부와,
상기 여과수조부의 저면부로부터 상부로 구성되되, 상기 여과수조부에 저장되는 공급수의 수위보다 높도록 구성되어 배기가스를 상기 여과수조부의 하부에서 상기 여과수조부에 저장된 공급수 위로 이동시키는 가스통로부와,
상기 가스통로부의 상부에 구성되어 상기 가스통로부를 통해 상향이동되는 배기가스를 역 U자 형태로 역전시켜 상기 여과수조부에 저장된 공급수로 침투되도록 하는 가스안내부로 이루어지도록 구성되며,
상기 3차 여과장치는 상하방향으로 적어도 2개 이상이 다단으로 구성되며,
상하 이웃하는 두 3차 여과장치는 상기 제3월류벽이 좌우 대향되도록 배치되어 상측의 3차 여과장치에서 월류된 공급수가 하측의 3차 여과장치에 공급되도록 구성되며,
상하 이웃하는 상기 2차 여과장치와 3차 여과장치는 상기 2차 여과장치에 구성된 제2월류벽과 상기 3차 여과장치에 구성된 제3월류벽이 좌우 대향되게 배치되어, 상기 3차 여과장치에서 월류되어 흘러내리는 공급수가 상기 2차 여과장치로 공급되도록 구성되는 것이며,
상기 가스통로부는 장방형의 사각 관체로 형성되어 상기 여과수조부 저면에 관통되게 구성되고 좌우 전후로 나란히 복수개가 배치되도록 구성되고,
상기 가스안내부는 "ㄱ"자 형태의 패널부재로 이루어져 상기 가스통로부의 일측 상단으로부터 수평연장되고 말단에서 직각되게 하향절곡된 형태로 이루어지며, 말단부가 상기 여과수조부에 저장되는 공급수에 잠기도록 구성되는 것을 특징으로 하는 복합가스 고효율 다단 처리장치.
A gas processing space where gas is processed is formed inside, and on one side of the lower part, a gas inlet is formed through which the exhaust gas to be treated flows in, and at the upper part, a gas outlet is formed through which the treated exhaust gas is discharged, and on one side of the lower part, the gas processing space is formed. A first circulating water storage unit is in communication with the space and stores the first chemical liquid circulating water, and on the other side of the lower part, a second circulating water storage unit is independently configured separately from the first circulating water storage unit and stores the second chemical liquid circulating water. A main body consisting of:
A first circulating water injection nozzle located above the gas inlet in the main body and receiving the first chemical circulating water from the first circulating water storage unit and spraying it downwards;
a second circulating water spraying nozzle located above the first circulating water spraying nozzle in the main body and receiving second circulating water from the second circulating water storage unit and spraying it downward;
At least, which is configured to be located below the first circulating water injection nozzle and configured to store the first chemical liquid circulating water at a predetermined water level, and where the exhaust gas moving upward from the lower part to the upper part passes through the stored first chemical liquid circulating water and undergoes primary filtration. A primary filtration device consisting of one or more;
It is configured at the lower part of the second circulating water injection nozzle so that the second chemical liquid circulating water is stored at a predetermined level, and the exhaust gas moving upward from the bottom to the upper part passes through the stored second chemical liquid circulating water and undergoes secondary filtration. Secondary filtration consisting of one or more devices;
It is installed on the upper part of the second circulating water injection nozzle and is configured in the form of a water tank in which separate supply water that does not contain a chemical liquid is supplied and stored, unlike the first chemical liquid circulating water or the second chemical liquid circulating water, and the primary filtration device and 3, which consists of at least one device that sequentially passes through a secondary filtration device and undergoes primary and secondary filtration, reverses the flow of the upwardly moving exhaust gas to penetrate into the stored feed water, and performs tertiary filtration. tea filtration system;
The main body is configured between the primary filtration device and the secondary filtration device, and the exhaust gas that has undergone primary filtration in the primary filtration device passes from the bottom upward toward the secondary filtration device, and the first filtration device To prevent the chemical circulating water from mixing with the second chemical circulating water, the second chemical circulating water flowing down from the secondary filtration device is collected and stored, and is connected to the second circulating water storage unit through a separate recovery passage to provide the second chemical circulating water. A gas-liquid separation device that allows recovery of;
It includes a demister, which is provided on top of the tertiary filtration device and removes moisture from the exhaust gas processed through the tertiary filtration device before it is discharged through the gas outlet.
The feed water supplied to the tertiary filtration device overflows from the tertiary filtration device, is supplied to the secondary filtration device, is provided as supplementary water for the second chemical liquid circulating water, and then overflows from the secondary filtration device. After being supplied to the gas-liquid separator, it is configured to be replenished in the second circulating water storage unit through the gas-liquid separator,
The primary filtration device is configured to include a first porous plate installed below the first circulating water injection nozzle and provided with a plurality of first ventilation holes, perpendicular to one end of the first porous plate, and connected to the main body portion. It consists of a first overflow wall that forms a first overflow waterway between the inner wall and receives circulating water supplied from the first circulating water injection nozzle so that the first chemical liquid circulating water is maintained at a predetermined water level on the first perforated plate. The maintained and additionally supplied first chemical liquid circulating water is configured to flow beyond the first overflow wall through the first overflow waterway and be recovered into the first circulating water storage unit, and the exhaust gas flows through the plurality of first ventilation holes. It is configured to perform primary filtration of the exhaust gas while passing through the first chemical liquid circulating water supplied through the first perforated plate and stored at a predetermined water level,
The secondary filtration device is configured to include a second porous plate installed below the second circulating water injection nozzle and provided with a plurality of second ventilation holes, perpendicular to one end of the second porous plate, and connected to the main body portion. It consists of a second overflow wall that forms a second overflow waterway between the inner wall and receives circulating water supplied from the second circulating water injection nozzle so that the second chemical liquid circulating water is maintained at a predetermined water level on the second perforated plate. The second chemical liquid circulating water maintained and additionally supplied flows down through the second overflow waterway beyond the second overflow wall and is recovered to the second circulating water storage unit through a gas-liquid separator installed at the lower part of the secondary filtration device. The exhaust gas is supplied through the plurality of second ventilation holes and passes through the second chemical liquid circulating water stored at a predetermined level on the second perforated plate, thereby performing secondary filtration of the exhaust gas,
The primary filtration device is composed of at least two multi-stages in the vertical direction,
The two primary filtration devices adjacent to each other above and below are arranged so that the first overflow walls face left and right, so that the first chemical liquid circulation water overflowing from the upper primary filtration device is supplied to the lower primary filtration device and then overflows into the first circulation. It is configured to be recovered into the water storage unit,
The secondary filtration device is composed of at least two multi-stages in the vertical direction,
The two secondary filtration devices adjacent to each other are arranged so that the second overflow walls are left and right opposite each other, so that the second chemical liquid circulating water overflowing from the upper secondary filtration device is supplied to the lower secondary filtration device and then overflows into the gas-liquid separator. After flowing down, it is configured to be recovered to the second circulating water storage unit through the gas-liquid separator,
The tertiary filtration device is,
A filtration water tank forming a supply water storage space where the supply water is supplied and stored, and having a third overflow wall at the end that allows the additional supply water to overflow and forming a third overflow waterway between the inner wall of the main body part;
A gas passage part configured from the bottom of the filtration tank to the top, and configured to be higher than the level of the supply water stored in the filtration tank, to move exhaust gas from the lower part of the filtration tank to the top of the supply water stored in the filtration tank; ,
It is formed at the upper part of the gas passage part and is configured to consist of a gas guide part that reverses the exhaust gas moving upward through the gas passage part into an inverted U shape and penetrates into the supply water stored in the filtration water tank,
The tertiary filtration device is composed of at least two multi-stages in the vertical direction,
The two upper and lower tertiary filtration devices are arranged so that the third overflow walls face left and right so that the feed water overflowing from the upper tertiary filtration device is supplied to the lower tertiary filtration device,
The upper and lower secondary filtration device and the tertiary filtration device are arranged such that the second overflow wall configured in the secondary filtration device and the third overflow wall configured in the tertiary filtration device are left and right facing each other, and in the tertiary filtration device, It is configured so that the feed water that overflows and flows down is supplied to the secondary filtration device,
The gas passage portion is formed as a rectangular, square pipe body, is configured to penetrate the bottom of the filtration tank, and is configured to have a plurality of gas passages arranged side by side on the left, right, front, back, and back,
The gas guide part is made of an “L” shaped panel member, extends horizontally from the upper end of one side of the gas passage part and is bent downward at a right angle at the end, and the end part is configured to be submerged in the supply water stored in the filtration water tank. A high-efficiency multi-stage processing device for complex gas, characterized in that
상기 1차 여과장치와 상기 제1순환수 분사노즐 사이에 구성되며, 충진재가 충진되도록 구성되어 상기 1차 여과장치를 거친 배기가스와 상기 제1순환수 분사노즐에서 분사된 제1약액순환수와의 접촉면적 및 접촉시간을 늘리도록 구성되는 하부충진층;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 복합가스 고효율 다단 처리장치.
According to claim 1,
It is configured between the primary filtration device and the first circulating water injection nozzle, and is configured to be filled with a filler, so that the exhaust gas that has passed through the primary filtration device, the first chemical liquid circulating water injected from the first circulating water injection nozzle, and A high-efficiency multi-stage processing device for complex gas, characterized in that it further comprises a lower filling layer configured to increase the contact area and contact time.
상기 2차 여과장치와 상기 제2순환수 분사노즐 사이에 구성되며, 충진재가 충진되도록 구성되어 상기 2차 여과장치를 거친 배기가스와 상기 제2순환수 분사노즐에서 분사된 제2약액순환수와의 접촉면적 및 접촉시간을 늘리도록 구성되는 상부충진층;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 복합가스 고효율 다단 처리장치.
According to claim 1,
It is configured between the secondary filtration device and the second circulating water injection nozzle, and is configured to be filled with a filler, so that the exhaust gas that has passed through the secondary filtration device, the second chemical liquid circulating water injected from the second circulating water injection nozzle, and A high-efficiency multi-stage processing device for complex gas, characterized in that it further comprises an upper filling layer configured to increase the contact area and contact time.
상기 제1순환수 저장부에 저장된 제1약액순환수를 상기 제1순환수 분사노즐에 공급하는 제1순환수 공급부;
상기 제2순환수 저장부에 저장된 제2약액순환수를 상기 제2순환수 분사노즐에 공급하는 제2순환수 공급부;
상기 제1순환수 저장부에 공급수를 공급하는 제1공급수 공급밸브를 구비하여 상기 제1공급수 공급밸브의 제어를 통해 상기 제1순환수 저장부에 대한 공급수의 물보충이 이루어지도록 하는 것과, 상기 3차 여과장치의 상부로 공급수를 공급하는 제2공급수 공급밸브를 구비하여 상기 제2공급수 공급밸브의 제어에 의해 상기 3차 여과장치로 공급수를 공급하여 상기 제2순환수 저장부에 대한 공급수의 물보충이 이루어지도록 하는 공급수 공급부;
상기 제1순환수 저장부에 제1약액을 공급하는 제1약액공급부;
상기 제2순환수 저장부에 제2약액을 공급하는 제2약액공급부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 복합가스 고효율 다단 처리장치.
According to claim 1,
a first circulating water supply unit that supplies the first chemical circulating water stored in the first circulating water storage unit to the first circulating water spray nozzle;
a second circulating water supply unit that supplies the second chemical circulating water stored in the second circulating water storage unit to the second circulating water spray nozzle;
It is provided with a first supply water supply valve that supplies supply water to the first circulating water storage unit, so that water replenishment of the supply water to the first circulating water storage unit is achieved through control of the first supply water supply valve. and a second water supply valve that supplies water to the upper part of the tertiary filtration device, and supplies water to the tertiary filtration device under the control of the second water supply valve. A supply water supply unit that ensures replenishment of supply water to the circulating water storage unit;
a first chemical solution supply unit that supplies a first chemical solution to the first circulating water storage unit;
A high-efficiency multi-stage treatment device for complex gas, further comprising a second chemical solution supply unit that supplies a second chemical solution to the second circulating water storage unit.
상기 제1순환수 저장부에 저장된 제1약액순환수를 외부로 배출되게 하는 것과, 상기 제2순환수 저장부에 저장된 제2약액순환수를 외부로 배출되게 하는 순환수 배출부가 구성된 것을 특징으로 하는 복합가스 고효율 다단 처리장치.
According to claim 10,
Characterized by a circulating water discharge unit configured to discharge the first chemical liquid circulating water stored in the first circulating water storage unit to the outside, and to discharge the second chemical liquid circulating water stored in the second circulating water storage unit to the outside. A high-efficiency multi-stage processing device for complex gas.
상기 제1순환수 저장부에 저장된 제1약액순환수에 대해 저수위레벨과 고수위레벨을 감지하는 제1수위센서와, 상기 제1순환수 저장부에 저장된 제1약액순환수의 소정성분에 대한 농도를 측정하는 제1농도센서가 더 구성되고,
상기 제2순환수 저장부에 저장된 제2약액순환수에 대해 저수위레벨과 고수위레벨을 감지하는 제2수위센서와, 상기 제2순환수 저장부에 저장된 제2약액순환수의 소정성분에 대한 농도를 측정하는 제2농도센서가 더 구성되며,
상기 제1농도센서를 통해 상기 제1약액순환수의 소정성분 농도가 기 설정농도에 도달하면, 상기 제1순환수 저장부의 제1약액순환수 수위가 저수위레벨이 되도록 상기 순환수 배출부에 의해 순환수의 배출이 이루어지고, 상기 제1순환수 저장부의 재1약액순환수 수위가 저수위레벨이 되면 상기 제1공급수 공급밸브를 개방하여 고수위레벨이 될 때까지 상기 제1순환수 저장부에 대한 공급수의 물보충이 이루어지도록 구성되고,
상기 제2농도센서를 통해 상기 제2약액순환수의 소정성분 농도가 기 설정농도에 도달하면, 상기 제2순환수 저장부의 제2약액순환수 수위가 저수위레벨이 되도록 상기 순환수 배출부에 의해 순환수의 배출이 이루어지고, 상기 제2순환수 저장부의 재2약액순환수 수위가 저수위레벨이 되면 상기 제2공급수 공급밸브를 개방하여 고수위레벨이 될 때까지 상기 제2순환수 저장부에 대한 공급수의 물보충이 이루어지도록 구성되는 것을 특징으로 하는 복합가스 고효율 다단 처리장치.
According to claim 11,
A first water level sensor that detects the low water level and high water level of the first chemical circulating water stored in the first circulating water storage unit, and the concentration of a predetermined component of the first chemical circulating water stored in the first circulating water storage unit. A first concentration sensor that measures is further configured,
A second water level sensor that detects the low water level and high water level of the second chemical liquid circulating water stored in the second circulating water storage unit, and the concentration of a predetermined component of the second chemical liquid circulating water stored in the second circulating water storage unit. A second concentration sensor that measures is further configured,
When the concentration of a predetermined component of the first chemical circulating water reaches a preset concentration through the first concentration sensor, the circulating water discharge unit causes the level of the first chemical circulating water in the first circulating water storage unit to be at a low level. When the circulating water is discharged and the level of the first chemical circulating water in the first circulating water storage unit reaches a low water level, the first supply water supply valve is opened and the first circulating water storage unit is stored until the water level reaches a high level. It is configured to replenish the water supply to
When the concentration of a predetermined component of the second chemical liquid circulating water reaches a preset concentration through the second concentration sensor, the water level of the second chemical liquid circulating water in the second circulating water storage unit is adjusted to the low water level by the circulating water discharge unit. When the circulating water is discharged and the level of the second chemical liquid circulating water in the second circulating water storage unit reaches the low water level, the second supply water supply valve is opened and stored in the second circulating water storage unit until the water level reaches the high level. A high-efficiency multi-stage treatment device for complex gas, characterized in that it is configured to replenish the water supply.
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