KR102580125B1 - Display device including in cell touch panel having dummy touch link line - Google Patents

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Abstract

본 발명의 표시장치는 셀프정전용량 인셀터치방식으로서, 하나의 터치블록에 인가되는 신호에는 공통전압과 터치전압이 포함되며, 더미영역의 터치링크라인의 좌우측영역에는 각각 터치링크라인과 일정거리 이력된 적어도 하나의 금속라인이 배치되어 터치링크라인의 형성공정시 터치링크라인이 과식각되어 터치링크라인들 사이의 폭 차이가 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다.The display device of the present invention is a self-capacitance in-cell touch type, and the signal applied to one touch block includes a common voltage and a touch voltage, and the left and right areas of the touch link line in the dummy area each have a certain distance history from the touch link line. By disposing at least one metal line, it is possible to prevent the touch link line from being overetched during the forming process of the touch link line, resulting in a width difference between the touch link lines.

Description

더미터치링크라인을 가진 인셀터치방식 표시장치{DISPLAY DEVICE INCLUDING IN CELL TOUCH PANEL HAVING DUMMY TOUCH LINK LINE}In-cell touch display device with a touch link line {DISPLAY DEVICE INCLUDING IN CELL TOUCH PANEL HAVING DUMMY TOUCH LINK LINE}

본 발명은 인셀터치방식 표시장치에 관한 것으로, 특히 패드영역에 더미터치링크라인을 구비하여 공정중 터치배선이 파손되는 것을 방지할 수 있는 인셀터치방식 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to an in-cell touch display device, and in particular, to an in-cell touch display device that has a touch link line in a pad area to prevent damage to touch wiring during the process.

근래 사회가 본격적인 정보화시대로 접어 듦에 따라 대량의 정보를 처리하고 표시하는 표시장치(display) 분야가 급속도로 발전해 왔고, 최근에는 특히 경량화, 박형화, 저소비전력화의 우수한 성능을 지닌 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device; LCD), 유기전계발광 표시장치, PDP(Plasma Display Panel), 전기영동 표시장치(electrophoretic display device) 등과 같은 평판표시장치가 개발되어 기존의 브라운관(Cathode Ray Tube)을 대체하고 있다.Recently, as society has entered a full-fledged information age, the field of displays that process and display large amounts of information has developed rapidly. Recently, liquid crystal displays (LCDs) have been developed, especially with excellent performance in light weight, thinness, and low power consumption. Flat panel display devices such as Crystal Display Device (LCD), organic electroluminescence display, PDP (Plasma Display Panel), and electrophoretic display device have been developed and are replacing existing cathode ray tubes.

또한, 최근에는 글씨나 그림을 보다 편하고 정교하게 입력할 수 있는 장점을 갖는 터치패널(touch panel)이 스마트폰이나 태블릿PC 등의 정보처리 장치에 많이 사용되고 있는데, 최근에는 상기 표시장치에 상기 터치패널을 구비한 표시장치가 제공되고 있다.In addition, recently, touch panels, which have the advantage of allowing text or pictures to be input more conveniently and precisely, have been widely used in information processing devices such as smartphones and tablet PCs. Recently, the touch panels are used in display devices. A display device equipped with a is provided.

이러한 터치패널은 터치를 감지하는 방식에 따라 정전용량방식, 저항막방식, 적외선방식, 표면파방식으로 구별될 수 있다. 이중에서도 정전용량방식이 멀티터치가 가능하고 터치감이 우수하다는 장점으로 주로 사용되고 있다.These touch panels can be divided into capacitive type, resistive type, infrared type, and surface wave type depending on the method of detecting touch. Among these, the capacitive method is mainly used for its advantages of enabling multi-touch and providing excellent touch sensitivity.

또한, 터치패널은 표시장치에 배치되는 위치에 따라 별도의 터치패널을 제작하여 표시장치에 부착하는 부착(Add-on)방식, 표시장치의 상면에 터치패널을 직접 형성하는 온셀(On Cell)방식, 터치패널을 표시장치에 내장하는 인셀(In Cell)방식으로 분류된다. 이러한 방식중에서 인셀방식이 얇은 두께 및 좁은 베젤의 구현이 가능하면 광특성이 좋다는 이유로 인해 현재 주로 채용되고 있다. 다시 말해서, 현재는 터치패널이 표시장치에 내장되는 정전용량방식의 인셀 터치패널이 주로 표시장치에 채용되어 사용된다.In addition, the touch panel is manufactured using an add-on method in which a separate touch panel is manufactured and attached to the display device depending on the position of the display device, and an on-cell method is used in which the touch panel is formed directly on the top of the display device. , It is classified as an in-cell method that embeds the touch panel into the display device. Among these methods, the in-cell method is currently mainly used because it has good optical characteristics when it can realize a thin thickness and narrow bezel. In other words, currently, capacitive in-cell touch panels, in which the touch panel is built into the display device, are mainly used in display devices.

그러나, 현재에는 이러한 정전용량 인셀터치방식중 주로 상호정전용량(mutual capacitance) 인셀터치방식을 이용하는데, 이러한 상호정전용량을 이용한 인셀터치방식의 표시장치는 다음과 같은 문제가 발생한다.However, currently, among these capacitance in-cell touch methods, the mutual capacitance in-cell touch method is mainly used, and the following problems occur in the in-cell touch display device using this mutual capacitance.

첫째, 종래 상호정전용량 인셀터치방식 표시장치는 구조가 복잡하고 제조비용이 증가하게 된다. 종래 상호정전용량 인셀터치방식 표시장치에서는 표시패널의 각종 전극과는 별도로 터치감지를 위한 전극이 필요하게 되므로, 구조가 복잡해지고 제조비용이 증가하게 된다.First, the conventional mutual capacitance in-cell touch display device has a complicated structure and increases manufacturing costs. Conventional mutual capacitance in-cell touch display devices require electrodes for touch detection separately from the various electrodes of the display panel, making the structure complicated and manufacturing costs increasing.

둘째, 종래 상호용정전용량 인셀터치방식 표시장치는 별도의 터치전극 및 절연층이 필요하게 되므로, 표시장치의 두께가 증가하게 되어 박형 표시장치의 구현이 어려워진다.Second, since conventional mutual capacitance in-cell touch display devices require separate touch electrodes and insulating layers, the thickness of the display device increases, making it difficult to implement a thin display device.

셋째, 종래 상호정전용량 인셀터치방식 표시장치에서는 별도의 터치전극에서 검출한 신호를 전송하기 위한 별도의 터치배선이 표시패널의 좌우에 배치되어야만 하므로, 표시장치의 베젤의 면적이 증가하게 된다.Third, in a conventional mutual capacitance in-cell touch display device, separate touch wires for transmitting signals detected by separate touch electrodes must be placed on the left and right sides of the display panel, thereby increasing the bezel area of the display device.

본 발명은 상기한 점을 감안하여 이루어진 것으로, 더미영역의 터치링크라인 외곽에 더미라인을 배치하여 과식각에 의해 터치링크라인이 폭이 불균일하게 되는 것을 방지할 수 있는 인셀터치방식 표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention was made in consideration of the above points, and provides an in-cell touch display device that can prevent the touch link line from becoming uneven in width due to overetching by arranging a dummy line outside the touch link line in the dummy area. The purpose is to

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 표시장치는 공통전극이 터치전극으로서 작용하는 셀프정전용량 인셀터치 표시장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the display device according to the present invention provides a self-capacitance in-cell touch display device in which the common electrode acts as a touch electrode.

표시장치의 표시영역은 터치를 감지하는 복수의 터치블록으로 구성되며, 각각의 터치블록에는 복수의 화소를 포함한다. 각각의 터치블록에는 하나의 터치배선이 구비되어 더미영역에 배치된 터치링크라인과 접속되어, 감지된 터치가 상기 터치링크라인을 통해 터치감지부로 인가되어 터치를 검출한다.The display area of the display device is composed of a plurality of touch blocks that sense touch, and each touch block includes a plurality of pixels. Each touch block is provided with one touch wire and connected to a touch link line disposed in a dummy area, and the sensed touch is applied to the touch detection unit through the touch link line to detect the touch.

공통전극에는 공통전압과 터치전압이 모두 인가되어, 수직동기신호(Vsync)에 의해 정해지는 1 프레임기간은 영상표시기간과 터치감지기간으로 구분된다.Both the common voltage and the touch voltage are applied to the common electrode, and one frame period determined by the vertical synchronization signal (Vsync) is divided into an image display period and a touch detection period.

더미영역의 터치링크라인의 좌우측영역에는 각각 터치링크라인과 일정거리 이력된 적어도 하나의 금속라인(또는 더미터치링크라인)이 배치되어, 터치링크라인의 형성공정시 터치링크라인이 과식각되어 터치링크라인들 사이의 폭 차이가 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다.At least one metal line (or dummy touch link line) is disposed in the left and right areas of the touch link line in the dummy area at a certain distance from the touch link line, so that during the formation process of the touch link line, the touch link line is overetched and the touch link line is not touched. It is possible to prevent width differences between link lines from occurring.

터치배선과 터치링크라인은 Cu와 같은 전도성이 좋은 금속으로 이루어지고, 터치배선과 터치링크라인을 연결하는 연결배선은 ITO(Indium Tin Oxide)나 IZO(Indium Zinc Oxide)로 이루어진다. 또한, 금속라인은 터치링크라인과 동일한 금속, 즉 Cu로 이루어진다.The touch wiring and touch link line are made of a highly conductive metal such as Cu, and the connection wiring connecting the touch wiring and the touch link line is made of ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide). Additionally, the metal line is made of the same metal as the touch link line, that is, Cu.

금속라인과 터치링크라인은 동일한 형상으로 구성되며, 복수의 금속라인은 모두 동일한 폭으로 구성되거나 다른 폭으로 구성될 수 있다.The metal line and the touch link line have the same shape, and the plurality of metal lines may all have the same width or different widths.

본 발명에서는 공통전극을 터치전극으로 사용하는 셀프정전용량 인셀터치를 사용함으로써 제조공정을 단순화하고 제조비용을 절감할 수 있게 된다. 또한, 패드영역에 배치되는 배선을 최소화하게 되어 베젤을 면적을 감소시킬 수 있게 된다. In the present invention, the manufacturing process can be simplified and manufacturing costs can be reduced by using a self-capacitance incell touch that uses a common electrode as a touch electrode. Additionally, the wiring arranged in the pad area can be minimized, thereby reducing the bezel area.

또한, 본 발명에서는 패드영역의 터치링크라인의 외곽쪽에 더미터치링크라인을 배치함으로써 터치링크라인의 형성시 상기 최외곽 터치링크라인이 과식각되어 서로 다른 폭을 가진 터치링크라인이 형성되는 것을 방지할 수 있게 된다.In addition, in the present invention, by disposing the touch link line on the outer side of the touch link line in the pad area, when forming the touch link line, the outermost touch link line is overetched to prevent the formation of touch link lines with different widths. You can do it.

도 1은 본 발명에 따른 표시장치의 개략적인 구조를 나타내는 도면.
도 2는 본 발명에 따른 표시장치의 구체적인 구조를 나타내는 단면도.
도 3은 본 발명에 따른 표시장치의 공통전극에 인가되는 신호를 나타내는 파형도.
도 4는 도 1의 A영역 부분확대도.
도 5a-도 5k는 본 발명에 따른 표시장치의 제조방법을 나타내는 도면.
도 6a-도 6c는 더미터치링크라인을 구비하지 않은 표시장치의 터치배선과 터치링크라인 및 화소전극을 형성하는 공정을 나타내는 도면.
도 7a 및 도 7b는 터치링크라인 및 더미터치링크라인 상부의 포토레지스트패턴의 에이싱을 나타내는 도면.
도 8a 및 도 8b는 본 발명에 따른 표시장치의 더미터치링크라인의 다른 구조를 나타내는 도면.1 is a diagram showing the schematic structure of a display device according to the present invention.
Figure 2 is a cross-sectional view showing the specific structure of the display device according to the present invention.
Figure 3 is a waveform diagram showing a signal applied to the common electrode of the display device according to the present invention.
Figure 4 is a partial enlarged view of area A of Figure 1.
5A-5K are diagrams showing a method of manufacturing a display device according to the present invention.
6A to 6C are diagrams showing a process for forming touch wiring, touch link lines, and pixel electrodes of a display device without a touch link line.
7A and 7B are diagrams showing acing of the photoresist pattern on the upper part of the touch link line and the touch link line.
8A and 8B are diagrams showing different structures of the meter touch link line of the display device according to the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings.

도 1은 본 발명에 따른 표시장치의 구조를 간략하게 나타내는 도면으로, 이때의 표시장치는 셀프정전용량(self capacitance) 인셀터치방식 표시장치에 관한 것이다. 이때, 본 발명의 표시장치로는 액정표시장치, 유기전계발광 표시장치, 전계영동 표시장치와 같은 다양한 평판표시장치가 적용될 수 있을 것이다.1 is a diagram briefly showing the structure of a display device according to the present invention. The display device at this time relates to a self-capacitance in-cell touch display device. At this time, various flat panel displays such as liquid crystal displays, organic electroluminescent displays, and electrophoretic displays may be applied as the display device of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 표시장치(101)는 표시영역(AA)과 상기 표시영역의 외곽에 형성된 더미영역(DA)로 구성된다. 상기 표시영역(AA)은 실제 화상이 구현되는 영역으로 복수의 화소로 구성된다.As shown in FIG. 1, the display device 101 according to the present invention is composed of a display area (AA) and a dummy area (DA) formed outside the display area. The display area AA is an area where an actual image is displayed and is composed of a plurality of pixels.

도면에는 도시하지 않았지만, 상기 표시영역(AA)에는 수평방향(x-방향) 및 수직방향(y-방향으로) 서로 교차하도록 배치되어 복수의 화소를 정의하는 복수의 게이트라인과 데이터라인과, 각각의 화소에 배치되어 신호가 인가됨에 따라 구동하여 화소에 영상신호를 인가하는 스위칭소자인 박막트랜지스터와, 각각의 화소에 배치되어 신호를 인가하는 공통전극 및 화소전극과, 상기 화소에 배치되어 공통전극 및 화소전극에 신호가 인가됨에 따라 영상을 구현하는 영상구현부로 구성된다.Although not shown in the drawing, the display area AA includes a plurality of gate lines and data lines arranged to intersect each other in the horizontal direction (x-direction) and vertical direction (y-direction) to define a plurality of pixels, respectively. A thin film transistor, which is a switching element that is disposed in a pixel and operates as a signal is applied to apply an image signal to the pixel, a common electrode and a pixel electrode that are disposed in each pixel and apply a signal, and a common electrode disposed in the pixel. and an image implementation unit that implements an image as a signal is applied to the pixel electrode.

상기 영상구현부는 액정표장치의 경우 액정층이고 유기전계발광 표시장치의 경우 유기발광층이며, 전기영동 표시장치의 경우 전기영동층이다.The image realization unit is a liquid crystal layer in the case of a liquid crystal display device, an organic light emitting layer in the case of an organic electroluminescent display device, and an electrophoresis layer in the case of an electrophoresis display device.

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 더미영역(DA)에는 표시영역(AA)의 게이트라인 및 데이터라인과 접속되어, 외부로부터 입력되는 주사신호와 영상신호를 각각 상기 게이트라인 및 데이터라인에 주사신호를 인가하는 게이트패드와 데이터패드가 배치된다.In addition, although not shown in the drawing, the dummy area DA is connected to the gate line and data line of the display area AA, so that the scan signal and video signal input from the outside are transmitted to the gate line and data line, respectively. A gate pad and data pad that apply are arranged.

표시영역(AA)에는 복수의 터치블록(TB)이 배치되어 표시영역에 접촉되는 터치를 감지한다. 이때, 터치블록(TB)에 n×m개 배치된다. 하나의 터치블록(TB)은 화면상에 접촉되는 하나의 터치영역을 정의하므로, n×m개의 터치블록(TB)을 구비한 표시영역(AA)에 n×m개의 터치영역을 포함한다. 이러한 터치블록(TB)의 수는 다양하게 설정될 수 있다. 예를 들어, 표시장치의 면적에 따라 터치블록(TB)의 수를 설정할 수도 있고, 동일 면적의 표시영역(AA) 상의 미세한 영역의 터치를 위해서는 터치블록(TB)의 수가 증가할 수 있다.A plurality of touch blocks (TB) are arranged in the display area (AA) to detect a touch touching the display area. At this time, n×m pieces are arranged in the touch block (TB). Since one touch block (TB) defines one touch area that is touched on the screen, the display area (AA) with n × m touch blocks (TB) includes n × m touch areas. The number of touch blocks (TB) can be set in various ways. For example, the number of touch blocks (TB) may be set according to the area of the display device, and the number of touch blocks (TB) may be increased to touch a fine area on the display area (AA) of the same area.

각각의 터치블록(TB)에는 N×M개의 화소가 배치된다. 다시 말해서, 복수의 화소를 포함하는 일군의 화소가 하나의 터치영역을 형성하므로, 이 일군의 영역에 대응하는 화소들에 접촉되는 터치는 동일한 터치신호로서 감지된다.N×M pixels are arranged in each touch block (TB). In other words, since a group of pixels including a plurality of pixels forms one touch area, touches touching pixels corresponding to this group of areas are detected as the same touch signal.

표시영역(AA)에는 복수의 터치배선(132)이 배치되고, 일측의 더미영역(DA), 예를 들면 표시영역(AA)의 하부에 배치된 더미영역(DA)에는 복수의 터치링크라인(130) 및 복수의 터치감지부(102)가 배치된다. 하나의 터치블록(TB)에는 각각 대응하는 하나의 터치배선(132) 배치되고 각각의 터치배선(132)은 대응하는 터치링크라인(130)과 접속된다. 또한, 각각의 터치링크라인(130)은 터치감지부(102)의 대응하는 단자에 접속된다. 따라서, 각각의 터치블록(TB)의 터치가 터치배선(132) 및 터치링크라인(130)을 통해 터치감지부(102)의 입력되며, 상기 터치감지부(102)에서는 입력되는 신호에 의해 각각의 터치블록(TB)의 터치를 검출한다.A plurality of touch wires 132 are disposed in the display area (AA), and a plurality of touch link lines ( 130) and a plurality of touch sensing units 102 are disposed. One touch wire 132 corresponding to each touch block TB is disposed, and each touch wire 132 is connected to the corresponding touch link line 130. Additionally, each touch link line 130 is connected to a corresponding terminal of the touch sensing unit 102. Accordingly, the touch of each touch block (TB) is input to the touch detection unit 102 through the touch wire 132 and the touch link line 130, and the touch detection unit 102 receives the input signal respectively. Detect the touch of the touch block (TB).

표시장치에 구비되는 터치감지부(102)의 수는 터치블록(TB)의 개수나 터치감지부(102)의 구조(예를 들면, 단자의 수)는 등에 결정될 수 있다.The number of touch detection units 102 provided in the display device may be determined by the number of touch blocks TB or the structure (eg, number of terminals) of the touch detection units 102, etc.

상기 터치감지부(102)는 터치를 감지하기 위한 별도의 소자(IC)일 수 있고 표시영역에 영상신호를 인가하는 데이터구동부의 일부일 수도 있다. 또한, 상기 터치감지부(102)는 표시장치의 패널에 직접 실장될 수도 있고 FPC(Flexible Printed Circuit)와 같은 별도의 연성기판 상에 실장되어 상기 PFC가 패널에 부착됨으로써 전기적으로 패널과 접속될 수도 있다.The touch detection unit 102 may be a separate element (IC) for detecting touch or may be part of a data driver that applies an image signal to the display area. Additionally, the touch sensing unit 102 may be mounted directly on the panel of a display device, or may be mounted on a separate flexible substrate such as an FPC (Flexible Printed Circuit) and electrically connected to the panel by attaching the PFC to the panel. there is.

본 발명에 따른 표시장치에 포함되는 인셀터치는 셀프정전용량방식 인셀터치이다. 상호정전용량방식 인셀터치의 경우, 전극구조가 가로축과 세로축으로 격자구조로 이루어져 교차점에서 발생하는 정전용량의 변화를 측정하는데 반해, 본 발명과 같은 셀프정전용량방식 인셀터치에서는 한개의 전극, 즉 하나의 터치블록(TB)에 배치된 전극에 발생하는 정전용량의 변화만을 측정함으로써 터치를 감지할 수 있게 된다.The incell touch included in the display device according to the present invention is a self-capacitance type incell touch. In the case of the mutual capacitance type incell touch, the electrode structure is structured in a grid structure along the horizontal and vertical axes to measure the change in capacitance that occurs at the intersection, whereas in the self-capacitance type incell touch like the present invention, one electrode, that is, one It is possible to detect a touch by only measuring the change in capacitance that occurs in the electrodes placed on the touch block (TB).

따라서, 본 발명의 셀프정전용량방식 인셀터치 구조의 표시장치에서는 상호정전용량방식의 표시장치에 비해, 터치전극의 구조가 간단해진다. 또한, 본 발명에서는 복수의 화소를 하나의 터치블록(TB)으로 구획한 후, 터치배선(132) 및 터치링크라인(130)에 의해 각각의 터치블록(TB)의 터치감지부(102)로 접속하므로, 각각의 터치블록(TB)의 터치를 터치감지부(102)에서 감지할 수 있게 된다. 다시 말해서, 복수의 터치블록(TB)에 대한 터치(즉, 정전용량의 변화)가 터치링크라인(30)을 따라 각각 터치감지부(102)에서 입력되고 터치감지부(102)에서는 입력된 터치신호를 모두 독립적으로 감지하므로, 멀티터치의 감지가 가능하게 된다.Therefore, in the self-capacitance in-cell touch structure display device of the present invention, the structure of the touch electrode is simplified compared to the mutual capacitance display device. In addition, in the present invention, after dividing a plurality of pixels into one touch block (TB), they are connected to the touch sensing unit 102 of each touch block (TB) by the touch wire 132 and the touch link line 130. Because of the connection, the touch of each touch block TB can be detected by the touch detection unit 102. In other words, a touch (i.e., change in capacitance) to a plurality of touch blocks (TB) is input from each touch detection unit 102 along the touch link line 30, and the input touch is input from the touch detection unit 102. Since all signals are detected independently, multi-touch detection is possible.

특히, 본 발명에서는 기존의 표시장치에 구비되는 공통전극을 각각의 터치블록(TB)에 형성되는 터치전극으로 사용함으로써, 인셀터치방식 표시장치의 구조를 더욱 단순화할 수 있는데, 이를 좀더 구체적으로 설명한다.In particular, in the present invention, the structure of the in-cell touch display device can be further simplified by using the common electrode provided in the existing display device as a touch electrode formed in each touch block (TB), which will be described in more detail. do.

도 2는 본 발명에 따른 표시장치의 구조를 나타내는 단면도이다. 이때, 도면에 도시된 표시장치는 액정표시장치를 예를 들어 설명하지만, 본 발명이 이런 액정표시장치에만 한정되는 것이 아니라 유기전계발광 표시장치나 전기영동 표시장치에도 적용될 수 있을 것이다. 또한, 도면에는 설명의 편의를 위해 표시영역(AA)내의 하나의 화소, 더미영역의 게이트패드부 및 데이터패드부, 터치배선이 배치되는 터치링크부만을 도시하였다.Figure 2 is a cross-sectional view showing the structure of a display device according to the present invention. At this time, the display device shown in the drawing is explained by taking a liquid crystal display device as an example, but the present invention is not limited to such a liquid crystal display device and may also be applied to an organic electroluminescent display device or an electrophoretic display device. Additionally, for convenience of explanation, the drawing shows only one pixel in the display area AA, the gate pad portion and data pad portion of the dummy area, and the touch link portion where the touch wires are disposed.

도 2에 도시된 바와 같이, 유리나 플라스틱과 같이 투명한 물질로 이루어진 제1기판(110)의 표시영역(AA)에는 박막트랜지스터가 배치된다. 상기 박막트랜지스터는 상기 제1기판(110) 위에 배치된 게이트전극(111), 상기 게이트전극(111)이 배치된 제1기판(111) 전체에 걸쳐서 적층된 게이트절연층(122), 상기 게이트절연층(122) 위에 배치된 반도체층(112), 상기 반도체층(112) 위에 배치된 소스전극(113) 및 드레인전극(114)으로 구성된다.As shown in FIG. 2, a thin film transistor is disposed in the display area AA of the first substrate 110 made of a transparent material such as glass or plastic. The thin film transistor includes a gate electrode 111 disposed on the first substrate 110, a gate insulating layer 122 stacked over the entire first substrate 111 on which the gate electrode 111 is disposed, and the gate insulating layer. It consists of a semiconductor layer 112 disposed on the layer 122, a source electrode 113 and a drain electrode 114 disposed on the semiconductor layer 112.

상기 게이트전극(111)은 Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al 또는 Al합금 등의 금속으로 형성될 수 있으며, 상기 게이트절연층(122)은 SiO2나 SiNx와 같은 무기절연물질로 이루어진 단일층 또는 SiO2 및 SiNx으로 이루어진 이중의 층일 수도 있다. 반도체층(112)은 비정질실리콘과 같은 비정질반도체물질이나 다결정반도체물질로 형성된다. 또한, 상기 반도체층(112)은 IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide)와 같은 산화물반도체로 형성될 수도 있다. 상기 소스전극(113) 및 드레인전극(114)은 Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al, Al합금 또는 이들의 합금으로 형성할 수 있다.The gate electrode 111 may be formed of a metal such as Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al or Al alloy, and the gate insulating layer 122 may be formed of a single inorganic insulating material such as SiO 2 or SiNx. It may be a layer or a double layer consisting of SiO 2 and SiNx. The semiconductor layer 112 is formed of an amorphous semiconductor material such as amorphous silicon or a polycrystalline semiconductor material. Additionally, the semiconductor layer 112 may be formed of an oxide semiconductor such as IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide). The source electrode 113 and drain electrode 114 may be formed of Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al, Al alloy, or an alloy thereof.

상기 게이트절연층(122) 위에는 소스전극(113) 및 드레인전극(114)과 동일한 금속으로 이루어진 데이터라인(117)이 배치되어 상기 소스전극에 영상신호를 인가한다. 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 제1기판(110) 위에는 게이트전극(111)과 동일한 금속으로 이루어진 게이트라인이 배치되어, 상기 게이트전극(111)에 주사신호를 인가한다.A data line 117 made of the same metal as the source electrode 113 and the drain electrode 114 is disposed on the gate insulating layer 122 to apply an image signal to the source electrode. Although not shown in the drawing, a gate line made of the same metal as the gate electrode 111 is disposed on the first substrate 110 to apply a scan signal to the gate electrode 111.

게이트패드부의 제1기판(110) 위에는 게이트패드(118)가 배치되고 데이터패드부의 게이트절연층(122) 위에는 데이터패드(119)가 배치된다. 상기 게이트패드(118) 및 데이터패드(119)는 각각 표시영역(AA)의 게이트라인 및 데이터라인을 각각 표시영역(AA) 외부와 전기적으로 접속하기 위한 것이다. 상기 게이트패드(118)는 게이트전극(111)과 다른 금속으로 구성하는 것도 가능하지만, 동일한 금속으로 동일한 공정에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 데이터패드(119)는 소스전극(113) 및 드레인전극(114)과 다른 금속으로 구성하는 것도 가능하지만, 동일한 금속으로 동일한 공정에 의해 형성하는 것이 바람직하다.A gate pad 118 is disposed on the first substrate 110 of the gate pad portion, and a data pad 119 is disposed on the gate insulating layer 122 of the data pad portion. The gate pad 118 and data pad 119 are used to electrically connect the gate line and data line of the display area AA to the outside of the display area AA, respectively. The gate pad 118 can be made of a different metal than the gate electrode 111, but it is preferable to be made of the same metal through the same process. Additionally, the data pad 119 can be made of a different metal from the source electrode 113 and the drain electrode 114, but it is preferable to be made of the same metal through the same process.

상기 박막트랜지스터, 게이트패드(118), 데이터패드(119)가 배치된 제1기판(110)에는 제1절연층(124) 및 제2절연층(126)이 적층된다. 상기 제1절연층(124)은 SiO2나 SiNx와 같은 무기절연물질로 이루어질 수 있으며, 제2절연층(126)은 포토아크릴과 같은 유기절연물질로 이루어질 수 있다.A first insulating layer 124 and a second insulating layer 126 are stacked on the first substrate 110 on which the thin film transistor, gate pad 118, and data pad 119 are disposed. The first insulating layer 124 may be made of an inorganic insulating material such as SiO 2 or SiNx, and the second insulating layer 126 may be made of an organic insulating material such as photoacrylic.

상기 제1절연층(124) 및 제2절연층(126)은 화소가 구비된 표시영역(AA) 및 터치링크부에만 적층되고 게이트패드부 및 데이터패드부에는 적층되지 않는다.The first insulating layer 124 and the second insulating layer 126 are laminated only on the display area AA and the touch link portion where pixels are provided, but are not laminated on the gate pad portion and the data pad portion.

화소의 제2절연층(126) 상부에는 화소전극(135)이 배치된다. 상기 화소전극(135)은 제1절연층(124) 및 제2절연층(126)에 형성된 제1컨택홀(151)을 통해 박막트랜지스터의 드레인전극(114)에 접속된다. 이때, 상기 화소전극(135)은 각각의 화소 전체에 걸쳐서 하나의 패턴으로 형성된다. 상기 화소전극(135)은 ITO(Indium Tix Oxide)나 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 투명한 도전산화물로 형성될 수 있다. A pixel electrode 135 is disposed on the second insulating layer 126 of the pixel. The pixel electrode 135 is connected to the drain electrode 114 of the thin film transistor through the first contact hole 151 formed in the first insulating layer 124 and the second insulating layer 126. At this time, the pixel electrode 135 is formed as one pattern throughout each pixel. The pixel electrode 135 may be formed of a transparent conductive oxide such as ITO (Indium Tix Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide).

또한, 상기 화소전극(135)의 상부에는 터치배선(132)이 배치되는데, 상기 터치배선(132)은 화소전극(135)과 직접적으로 접촉된다. 상기 터치배선(132)으로는 Cu가 사용되는 것이 바람직하지만, Cr, Mo, Ta, Ti, Al 또는 Al합금과 같이 전도성이 좋은 다른 금속으로 구성될 수도 있다.Additionally, a touch wire 132 is disposed on the top of the pixel electrode 135, and the touch wire 132 is in direct contact with the pixel electrode 135. Cu is preferably used as the touch wire 132, but it may also be made of other metals with good conductivity, such as Cr, Mo, Ta, Ti, Al, or Al alloy.

화소전극(135)은 터치블록(TB)내에 배치되는 화소 각각에 서로 독립적으로 배치되어 각각의 화소에 다른 영상신호를 인가하지만, 터치배선(132)은 하나의 터치블록(TB)내 하나만 배치되어 하나의 터치블록(TB)에서 감지되는 정전용량의 변화가 터치배선(132)을 통해 출력된다.The pixel electrode 135 is independently disposed in each pixel disposed in the touch block (TB) and applies a different image signal to each pixel, but the touch wire 132 is disposed only in one touch block (TB). The change in capacitance detected in one touch block (TB) is output through the touch wire 132.

또한, 상기 제2절연층(126) 상부의 터치링크부에는 터치링크라인(130)이 배치된다. 상기 터치링크라인(130)은 표시영역 내에 배치되는 터치배선(132)과 전기적으로 접속되어 터치배선(132)으로 인가되는 터치신호가 상기 터치링크라인(130)을 통해 터치감지부로 전송된다. 상기 터치링크라인(130)과 화소의 터치배선(132)은 다른 물질로 구성될 수 있지만, 동일한 금속으로 동일한 공정에 의해 형성되는 것이 바람직하다.Additionally, a touch link line 130 is disposed on the touch link portion above the second insulating layer 126. The touch link line 130 is electrically connected to the touch wire 132 disposed in the display area, and the touch signal applied to the touch wire 132 is transmitted to the touch sensing unit through the touch link line 130. The touch link line 130 and the touch wire 132 of the pixel may be made of different materials, but it is preferable that they be formed of the same metal through the same process.

상기 터치링크라인(130)의 하부에는 투명도전층(135a)가 배치되는데, 상기 투명도전층(135a)은 화소전극(135)과 마찬가지로 ITO나 IZO와 같은 투명한 금속산화물로 구성된다.A transparent conductive layer 135a is disposed below the touch link line 130. Like the pixel electrode 135, the transparent conductive layer 135a is made of a transparent metal oxide such as ITO or IZO.

상기 화소전극(135) 및 터치배선(132)이 형성된 제1기판(110)에는 보호층(128)이 형성되며, 화소의 보호층(128) 위에 공통전극(138)이 배치된다. 이때, 상기 공통전극(138)은 화소 전체에 걸쳐 형성되고 공통전극(138)에는 복수의 슬릿(138a)이 형성되므로, 화소전극(135)과 공통전극(138)의 슬릿(138a)의 변 사이에 제1기판(110)의 표면과 수평한 프린지필드(fringe field)가 형성된다. 상기 공통전극(135)은 ITO나 IZO와 같은 투명한 금속산화물로 형성될 수 있다.A protective layer 128 is formed on the first substrate 110 on which the pixel electrode 135 and the touch wiring 132 are formed, and a common electrode 138 is disposed on the protective layer 128 of the pixel. At this time, the common electrode 138 is formed over the entire pixel and a plurality of slits 138a are formed in the common electrode 138, so between the sides of the pixel electrode 135 and the slit 138a of the common electrode 138. A fringe field parallel to the surface of the first substrate 110 is formed. The common electrode 135 may be formed of a transparent metal oxide such as ITO or IZO.

화소의 터치배선(132) 상부의 보호층(128)에는 제2컨택홀(152)이 형성되고 그 위에 ITO나 IZO와 같은 투명한 금속산화물로 이루어진 연결배선(133)이 배치된다. 게이트패드부의 게이트패드(118) 상부의 게이트절연층(122) 및 보호층(128)에는 제3컨택홀(153)이 형성되고 그 내부에 제1도전층(137a)가 배치되며, 데이터패드부의 데이터패드(119) 상부의 보호층(128)에는 제4컨택홀(154)이 형성되고 그 내부에 제2도전층(137b)가 배치된다.A second contact hole 152 is formed in the protective layer 128 above the touch wire 132 of the pixel, and a connection wire 133 made of a transparent metal oxide such as ITO or IZO is disposed thereon. A third contact hole 153 is formed in the gate insulating layer 122 and the protective layer 128 above the gate pad 118 of the gate pad portion, and a first conductive layer 137a is disposed therein, and a first conductive layer 137a is disposed therein, A fourth contact hole 154 is formed in the protective layer 128 on the upper part of the data pad 119, and a second conductive layer 137b is disposed therein.

또한, 터치배선부의 터치링크라인(130) 상부의 보호층(138)에는 제5컨택홀(155)가 형성되어 터치링크라인(130)이 외부로 노출되며, 그 상부에 ITO나 IZO로 이루어진 연결배선(133)이 배치된다. 상기 터치배선부의 연결배선(133)은 화소의 연결배선(133)과 동일한 배선으로서, 상기 연결배선(133)을 통해 화소의 터치배선(132)이 터치링크라인(130)과 전기적으로 연결된다.In addition, a fifth contact hole 155 is formed in the protective layer 138 above the touch link line 130 of the touch wiring part to expose the touch link line 130 to the outside, and a connection made of ITO or IZO is placed on the top of the protective layer 138. Wiring 133 is disposed. The connection wire 133 of the touch wiring unit is the same as the connection wire 133 of the pixel, and the touch wire 132 of the pixel is electrically connected to the touch link line 130 through the connection wire 133.

유리나 플라스틱과 같은 투명한 물질로 이루어진 제2기판(160)에는 블랙매트릭스(162)와 컬러필터층(164)이 형성된다. 상기 블랙매트릭스(162)는 화소와 화소 사이 영역과 더미영역 등과 같이 화상이 구현되지 않는 영역을 통해 광이 투과하는 것을 차단하기 위한 것으로, CrO나 CrOx 등의 금속산화물이나 블랙수지로 구성될 수 있다. 컬러필터층(164)은 R(Red), G(Green), B(Blue) 서브컬러필터층으로 구성되어 실제 컬러를 구현한다. 상기 제1기판(110)과 제2기판(160) 사이에는 액정층(150)이 구비된다.A black matrix 162 and a color filter layer 164 are formed on the second substrate 160 made of a transparent material such as glass or plastic. The black matrix 162 is intended to block light from transmitting through areas where images are not implemented, such as the area between pixels and the dummy area, and may be made of metal oxide such as CrO or CrOx or black resin. . The color filter layer 164 is composed of R (Red), G (Green), and B (Blue) subcolor filter layers to implement actual colors. A liquid crystal layer 150 is provided between the first substrate 110 and the second substrate 160.

상기한 구조의 표시장치에서는 게이트라인을 따라 주사신호가 인가됨에 따라 박막트랜지스터가 구동되어 박막트랜지스터의 반도체층(112)에 채널층이 형성되며, 이와 동시에 데이터라인을 따라 인가되는 영상신호가 박막트랜지스터의 소스전극(113), 채널층, 드레인전극(114)을 통해 화소전극(135)에 인가된다.In the display device of the above structure, as a scan signal is applied along the gate line, the thin film transistor is driven to form a channel layer in the semiconductor layer 112 of the thin film transistor, and at the same time, the image signal applied along the data line is transmitted to the thin film transistor. is applied to the pixel electrode 135 through the source electrode 113, the channel layer, and the drain electrode 114.

또한, 공통전극(138)에는 공통전압이 인가되어, 상기 화소전극(135)과 공통전극(138) 사이에 프린지전계가 형성되며, 이 전계에 의해 액정층(160)을 통한 광투과율이 조절되어 화상을 구현할 수 있게 된다.In addition, a common voltage is applied to the common electrode 138, so that a fringe electric field is formed between the pixel electrode 135 and the common electrode 138, and the light transmittance through the liquid crystal layer 160 is adjusted by this electric field. It becomes possible to create images.

한편, 본 발명의 표시장치는 인셀터치 표시장치로서, 화면상에 사용자의 손이나 터치펜 등이 접촉하면 이 터치를 인식하게 된다. 본 발명의 표시장치에서는 터치를 감지하기 위한 별도의 전극이 구비되는 것이 아니라 공통전극(138)을 터치전극으로 사용한다. 다시 말해서, 본 발명에서는 공통전극(138)에 공통전압과 터치신호를 인가함으로써, 화상을 구현함과 동시에 터치를 감지할 수 있게 된다.Meanwhile, the display device of the present invention is an in-cell touch display device, which recognizes the touch when the user's hand or touch pen touches the screen. In the display device of the present invention, a common electrode 138 is used as a touch electrode rather than a separate electrode for detecting touch. In other words, in the present invention, by applying a common voltage and a touch signal to the common electrode 138, it is possible to create an image and detect a touch at the same time.

도 3은 본 발명에 따른 표시장치의 공통전극에 인가되는 신호를 나타내는 도면이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 표시장치에서는 공통전극(138)이 터치용 구동전극이므로, 공통전극(138)에 공통전압(Vcom)과 터치전압(Vt)이 모두 인가된다. 이때, 수직동기신호(Vsync)에 의해 정해지는 1 프레임기간은 영상표시기간(display)과 터치감지기간(Touch)으로 구분되며, 상기 영상표시기간에는 공통전극(138)에 공통전압(Vcom)이 인가되고 터치감지기간에는 공통전극(138)에 터치전압(Vt)이 인가된다. 따라서, 본 발명에서는 1 프레임기간에 화상이 구현될 뿐만 아니라 터치를 감지할 수 있게 된다.Figure 3 is a diagram showing a signal applied to the common electrode of the display device according to the present invention. As shown in FIG. 3, in the display device according to the present invention, since the common electrode 138 is a driving electrode for touch, both the common voltage (Vcom) and the touch voltage (Vt) are applied to the common electrode 138. At this time, one frame period determined by the vertical synchronization signal (Vsync) is divided into an image display period (display) and a touch detection period (Touch), and during the image display period, a common voltage (Vcom) is applied to the common electrode 138. The touch voltage (Vt) is applied to the common electrode 138 during the touch detection period. Therefore, in the present invention, not only an image can be realized in one frame period, but a touch can also be detected.

본 발명에 따른 표시장치에서, 터치의 감지는 터치전극(132)에 의해 이루어진다. 즉, 공통전극(138)에 터치전압(Vt)이 인가됨에 따라 공통전극(138)과 터치전극(132) 사이에는 정전용량이 설정된 크기의 정전용량이 형성되며, 터치가 이루어지는 경우 정전용량에 변화가 발생하며, 이 변화된 정전용량값이 터치링크라인(130)을 통해 터치감지부로 입력된다. 터치입력부에서는 입력되는 정전용량값에 기초하여 터치된 영역을 감지한다.In the display device according to the present invention, touch is detected by the touch electrode 132. That is, as the touch voltage (Vt) is applied to the common electrode 138, a capacitance of a set capacitance is formed between the common electrode 138 and the touch electrode 132, and when a touch is made, the capacitance changes. occurs, and this changed capacitance value is input to the touch detection unit through the touch link line 130. The touch input unit detects the touched area based on the input capacitance value.

본 발명에 따른 표시장치에서는 화소전극(135)은 각각의 터치블록(TB)에 배치된 복수의 화소 각각에 독립적으로 배치되어 서로 다른 영상신호를 인가한다. 그러나, 공통전극(138)에는 공통전압이 인가될 뿐만 아니라 터치전압이 인가되며, 복수의 터치블록(TB) 각각이 하나의 터치영역을 형성하므로, 터치블록(TB)에 배치되는 복수의 화소의 공통전극(138)이 일체로 형성되어 동일한 공통전압(Vcom) 및 터치전압(Vt)이 인가된다. 또한, 상기 터치블록(TB)에 배치되는 복수의 화소의 공통전극(138)이 분리되어 배치되고 전기적으로 연결될 수도 있다.In the display device according to the present invention, the pixel electrode 135 is independently arranged in each of the plurality of pixels arranged in each touch block TB and applies different image signals. However, not only a common voltage is applied to the common electrode 138, but also a touch voltage is applied, and each of the plurality of touch blocks TB forms one touch area, so that the plurality of pixels arranged in the touch blocks TB The common electrode 138 is formed integrally and the same common voltage (Vcom) and touch voltage (Vt) are applied. Additionally, the common electrodes 138 of the plurality of pixels disposed in the touch block TB may be disposed separately and electrically connected.

이와 같이, 각각의 터치블록(TB)에 배치된 공통전극(138)이 일체로 형성되거나 전기적으로 접속되므로, 터치블록(TB)의 어느 영역에 터치가 이루어져도 모두 해당 터치블록(TB)의 터치임을 인식할 수 있게 된다.In this way, since the common electrode 138 disposed on each touch block TB is integrally formed or electrically connected, no matter which area of the touch block TB is touched, all touches of the corresponding touch block TB You can recognize that it is.

도 4는 도 1의 A영역 부분 확대도로서, 본 발명에 따른 표시장치의 터치링크라인(130)을 나타내는 도면이다. 이때, 도면은 표시장치의 최외곽, 즉 맨 좌측 영역의 터치링크라인(130)만을 나타내는 도면이지만, 표시장치의 맨 우측 영역도 동일한 구조로 이루어진다.Figure 4 is a partial enlarged view of area A of Figure 1, showing the touch link line 130 of the display device according to the present invention. At this time, the drawing shows only the touch link line 130 in the outermost, that is, left-most area of the display device, but the right-most area of the display device also has the same structure.

도 4에 도시된 바와 같이, 표시장치의 화소영역(AA)에는 복수의 화소를 포함하는 터치블럭(TB)이 배치되어 있으며, 더미영역(DA)에는 복수의 데이터링크라인(136) 및 터치링크라인(130)이 배치된다. 상기 데이터링크라인(136)은 화소에 배치된 데이터라인과 전기적으로 접속되어 데이터라인에 영상신호를 인가한다.As shown in FIG. 4, a touch block (TB) including a plurality of pixels is disposed in the pixel area (AA) of the display device, and a plurality of data link lines 136 and a touch link are placed in the dummy area (DA). Line 130 is placed. The data link line 136 is electrically connected to the data line arranged in the pixel and applies an image signal to the data line.

터치링크라인(130)은 표시영역(AA)에 배치된 터치배선(132)과 전기적으로 접속되어 터치배선(132)을 통해 터치구동부(102)와 전기적으로 접속된다. 또한, 터치링크라인(130)의 측면, 즉 표시장치의 최외각 변측에는 더미터치링크라인(131)이 배치된다. 상기 더미터치링크라인(131)은 표시영역(AA)의 터치배선(132)과 접속되지도 않고 터치구동부(102)와 접속되지도 않는다. 즉 상기 더미터치링크라인(131)에는 전기적으로 절연되어(또는 플로팅되어), 신호를 송수신하는 배선으로서의 역할을 하지 않는다. 이후 자세히 설명되지만, 상기 더미터치링크라인(131)은 터치링크라인(130)의 형성시 터치링크라인(130)이 과식각되어 터치링크라인(130)이 설정된 폭보다 작게 형성되는 것을 방지하기 위한 것이다.The touch link line 130 is electrically connected to the touch wire 132 disposed in the display area AA and is electrically connected to the touch driver 102 through the touch wire 132. Additionally, the touch link line 131 is disposed on the side of the touch link line 130, that is, on the outermost side of the display device. The meter touch link line 131 is neither connected to the touch wire 132 in the display area AA nor to the touch driver 102. That is, the meter touch link line 131 is electrically insulated (or floating) and does not serve as a wire for transmitting or receiving signals. Although it will be described in detail later, the touch link line 131 is used to prevent the touch link line 130 from being overetched when forming the touch link line 130 and forming the touch link line 130 smaller than the set width. will be.

상기 터치링크라인(130)의 폭(a)은 약 4-9㎛로 형성할 수 있으며, 더미터치링크라인(131)의 폭(b) 역시 4-9㎛로 형성할 수 있다. 그러나, 상기 더미터치링크라인(131)의 폭(b)은 상기 수치에 한정되는 것은 아니다. 상기 더미터치링크라인(131)의 폭(b)은 신호를 송수신하는 배선이 아니라 터치링크라인(130)의 형성시 터치링크라인(130)이 과식각되는 것을 방지하는 일종의 댐(dam)의 역할을 하는 것이므로, 이러한 역할을 수행할 수만 있다면 어떠한 폭으로 형성할 수 있다.The width (a) of the touch link line 130 can be formed to be about 4-9㎛, and the width (b) of the touch link line 131 can also be formed to be about 4-9㎛. However, the width (b) of the meter value link line 131 is not limited to the above value. The width (b) of the touch link line 131 is not a wire for transmitting and receiving signals, but acts as a kind of dam to prevent the touch link line 130 from being overetched when forming the touch link line 130. Since it is doing this, it can be formed to any extent as long as it can perform this role.

또한, 도면에서는 상기 더미터치링크라인(131)이 3개 배치되지만, 더미터치링크라인(131)은 3개 미만 및 그 이상이 배치될 수도 있다. 또한, 복수의 더미터치링크라인(131)이 배치되는 경우, 복수의 더미터치링크라인(131)의 폭(b)은 모두 동일할 수도 있고 동일하지 않을 수도 있다. 이후 설명되지만, 복수의 더미터치링크라인(131)를 배치할 때 과식각되는 것은 최외각 더미터치링크라인(131)이므로, 최외각 더미터치링크라인(131)의 폭을 가장 크게 하여 댐의 역할을 효율적으로 하게 할 수도 있게 된다.In addition, in the drawing, three metered link lines 131 are arranged, but less than three or more metered link lines 131 may be arranged. Additionally, when a plurality of the metered link lines 131 are arranged, the widths (b) of the plurality of the metered link lines 131 may or may not be the same. As will be explained later, when placing a plurality of the metered link lines 131, it is the outermost metered link line 131 that is overetched, so the width of the outermost metered link line 131 is maximized to play the role of a dam. It can also be done efficiently.

이하에서는 참조한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 표시장치의 제조방법 및 더미터치링크라인(131)을 배치하는 이유를 좀더 자세히 설명한다.Hereinafter, the manufacturing method of the display device according to the present invention and the reason for arranging the meter touch link line 131 will be described in more detail with reference to the referenced drawings.

도 5a-도 5k는 본 발명에 따른 표시장치의 제조방법을 나타내는 도면이다.5A-5K are diagrams showing a method of manufacturing a display device according to the present invention.

우선, 도 5a에 도시된 바와 같이, 투명한 제1기판(110) 상에 Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al 또는 Al합금 등의 금속을 단일층 또는 복수의 층으로 적층하고 포토레지스트 및 포토마스크를 이용한 포토공정에 의해 적층된 금속층을 식각하여 화소 및 게이트패드부에 각각 게이트전극(111) 및 게이트패드(118)를 형성한다.First, as shown in FIG. 5A, a metal such as Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al or Al alloy is stacked in a single layer or multiple layers on the transparent first substrate 110, and photoresist and photoresist are deposited on the transparent first substrate 110. The metal layer laminated through a photo process using a mask is etched to form a gate electrode 111 and a gate pad 118 in the pixel and gate pad portions, respectively.

이어서, 도 5b에 도시된 바와 같이, 제1기판(110) 상에 SiOx나 SiNx와 같은 무기절연층과, 비정질실리콘이나 다결절실리콘 또는 IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide)와 같은 반도체층과, Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al 또는 Al합금 등의 단일 또는 복수의 금속층을 형성한 후, 포토레지스트층 및 하프톤마스크(half-tone mask)를 사용하여 상기 무기절연층, 반도체층 및 금속층을 선택적으로 식각하여 상기 제1기판(110) 상에 게이트절연층(122), 반도체층(112), 소스전극(113), 드레인전극(114), 데이터라인(117) 및 데이터패드(119)를 형성한다. 이때, 상기 데이터라인(117) 및 데이터패드(119)는 금속층과 반도체층을 한꺼번에 식각함으로써 형성되므로, 상기 데이터라인(117) 및 데이터패드(119)의 하부에는 반도체층이 남아 있게 된다.Next, as shown in FIG. 5B, on the first substrate 110, an inorganic insulating layer such as SiOx or SiNx, a semiconductor layer such as amorphous silicon, multinodular silicon, or IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide), Cr, After forming a single or multiple metal layers such as Mo, Ta, Cu, Ti, Al or Al alloy, the inorganic insulating layer, semiconductor layer and metal layer are formed using a photoresist layer and a half-tone mask. By selectively etching, a gate insulating layer 122, a semiconductor layer 112, a source electrode 113, a drain electrode 114, a data line 117, and a data pad 119 are formed on the first substrate 110. form At this time, the data line 117 and the data pad 119 are formed by etching the metal layer and the semiconductor layer at the same time, so the semiconductor layer remains below the data line 117 and the data pad 119.

그 후, 도 5c에 도시된 바와 같이, 제1기판(110)의 표시영역과 터치링크부에 제1절연층(124) 및 제2절연층(126)을 적층한 후, 마스크를 이용하여 박막트랜지스터의 드레인전극(114) 상부의 제1절연층(124) 및 제2절연층(126)을 식각하여 상기 드레인전극(114)을 외부로 노출시키는 제1컨택홀(151)을 형성한다. 상기 제1절연층(124)은 SiOx나 SiNx와 같은 무기절연물질로 구성될 수 있고 제2절연층(126)은 포토아크릴과 같은 유기절연물질로 구성될 수 있다.Afterwards, as shown in FIG. 5C, the first insulating layer 124 and the second insulating layer 126 are stacked on the display area and the touch link part of the first substrate 110, and then a thin film is formed using a mask. The first insulating layer 124 and the second insulating layer 126 on the drain electrode 114 of the transistor are etched to form a first contact hole 151 exposing the drain electrode 114 to the outside. The first insulating layer 124 may be made of an inorganic insulating material such as SiOx or SiNx, and the second insulating layer 126 may be made of an organic insulating material such as photoacrylic.

이어서, 도 5d에 도시된 바와 같이, 제1기판(110) 전체에 걸쳐서 ITO나 IZO와 같은 투명한 금속산화물을 적층하여 투명도전층(135a)을 적층한 후, 그 위에 Cu와 같은 전도성이 좋은 금속을 적층하여 금속층(132a)을 적층한다. 그 후, 상기 금속층(132a) 상부에 포토레지스트를 적층한 후, 하프톤마스크 또는 회절마스크를 사용하여 상기 포토레지스트를 선택적으로 현상하여 상기 금속층(132a) 상부에 서로 다른 두께를 가진 제1포토레지스터패턴(148a)을 형성한다.Subsequently, as shown in FIG. 5D, a transparent conductive layer 135a is formed by stacking a transparent metal oxide such as ITO or IZO over the entire first substrate 110, and then a highly conductive metal such as Cu is layered on top of the transparent conductive layer 135a. The metal layer 132a is stacked. Thereafter, after stacking a photoresist on the metal layer 132a, the photoresist is selectively developed using a halftone mask or a diffraction mask to form a first photoresist having different thicknesses on the metal layer 132a. A pattern 148a is formed.

그 후, 도 5e에 도시된 바와 같이, 상기 제1포토레지스트패턴(148a)을 이용하여 금속층(132a)을 식각하여 화소부에 터치배선(132)을 형성하고 터치링크부에 터치링크라인(130) 및 더미터치링크라인(131)을 형성한다. 도면에서는 상기 터치링크라인(130) 및 더미터치링크라인(131)이 각각 하나씩 형성되지만, 이는 설명의 편의를 위한 것으로서, 상기 터치링크라인(130)은 터치링크부에 복수개 형성되고 상기 더미터치링크라인(131)도 터치링크부에 복수개 형성될 수 있다. 이때, 표시영역의 투명도전층(135a) 위에는 금속패턴(132b)이 남아 있게 된다.Thereafter, as shown in FIG. 5E, the metal layer 132a is etched using the first photoresist pattern 148a to form a touch wire 132 in the pixel portion and a touch link line 130 in the touch link portion. ) and the meter touch link line 131 is formed. In the drawing, the touch link line 130 and the touch link line 131 are formed one by one, but this is for convenience of explanation. A plurality of touch link lines 130 are formed in the touch link portion, and the touch link line 131 is formed one by one. A plurality of lines 131 may also be formed in the touch link portion. At this time, the metal pattern 132b remains on the transparent conductive layer 135a in the display area.

이어서, 도 5f에 도시된 바와 같이, 상기 제1포토레지스트패턴(148a)을 에이싱하여 제2포토레지스트패턴(148b)을 형성한다. 이러한 에이싱에 의해 금속패턴(132b) 상부의 제1포토레지스트패턴(148a)가 제거된다.Next, as shown in FIG. 5F, the first photoresist pattern 148a is aced to form the second photoresist pattern 148b. Through this acing, the first photoresist pattern 148a on the upper part of the metal pattern 132b is removed.

그 후, 도 5g에 도시된 바와 같이, 투명도전층(135a)를 식각하여 표시영역에 화소전극(135)을 형성한다. 이때, 투명도전층(135a)의 식각은 습식식각에 의해 이루어지는데, Cu와 같은 금속에 비해 ITO나 IZO와 같은 금속산화물에 대한 식각속도가 큰 식각액을 사용함으로써, 식각시 금속패턴(132b)은 식각되지 않고 상기 금소패턴(132b)을 마스크층으로 사용하여 투명도전층(135a)을 식각할 수 있게 된다.Afterwards, as shown in Figure 5g, the transparent conductive layer 135a is etched to form the pixel electrode 135 in the display area. At this time, the transparent conductive layer 135a is etched by wet etching. By using an etchant that has a higher etch rate for metal oxides such as ITO or IZO than for metals such as Cu, the metal pattern 132b is etched during etching. Instead, the transparent conductive layer 135a can be etched using the metal pattern 132b as a mask layer.

이어서, 도 5h에 도시된 바와 같이, 제2포토레지스트패턴(148b)를 이용하여 금속패턴(132b)을 식각하여 상기 화소전극(135) 상부의 금속패턴(132b)을 제거한 후, 도 5i에 도시된 바와 같이 제2포토레지스트패턴(148b)을 제거한다.Subsequently, as shown in FIG. 5H, the metal pattern 132b on the upper part of the pixel electrode 135 is removed by etching the metal pattern 132b using the second photoresist pattern 148b, as shown in FIG. 5I. The second photoresist pattern 148b is removed as described.

그 후, 도 5j에 도시된 바와 같이, 제1기판(110) 전체에 걸쳐 보호층(128)을 적층한 후 마스크에 의해 보호층(128)을 식각하여, 표시영역의 터치배선(132) 상부의 제2컨택홀(152), 게이트패드부의 게이트패드(118) 상부의 제3컨택홀(153), 데이터패드부의 데이터패드(119) 상부의 제4컨택홀(154), 터치링크부의 터치링크라인(130) 상부의 제5컨택홀(154)을 형성한다. 이때, 상기 보호층(128)은 포토아크릴과 같은 단일 유기절연층일 수 있고 SiOx나 SiNx와 같은 무기절연층과 유기절연층의 이중의 절연층일 수도 있다.Thereafter, as shown in FIG. 5J, the protective layer 128 is stacked over the entire first substrate 110 and then the protective layer 128 is etched using a mask to form an upper portion of the touch wire 132 in the display area. The second contact hole 152, the third contact hole 153 above the gate pad 118 of the gate pad section, the fourth contact hole 154 above the data pad 119 of the data pad section, and the touch link of the touch link section. A fifth contact hole 154 is formed in the upper part of the line 130. At this time, the protective layer 128 may be a single organic insulating layer such as photoacrylic, or may be a double insulating layer of an inorganic insulating layer such as SiOx or SiNx and an organic insulating layer.

이어서, 도 5k에 도시된 바와 같이, ITO나 IZO와 같은 투명한 금속산화물을 적층한 후, 포토레지스트와 마스크를 이용하여 상기 금속산화물을 식각하여 표시영역에 공통전극(135)에 형성하고 표시영역의 터치배선(132)에서 터치링크부의 터치링크라인(130)으로 연장되는 연결배선(133)을 형성한다. 동시에, 게이트패드부 및 데이터패드부의 게이트패드(118) 및 데이터패드(119) 상부에 각각 제1금속층(137a) 및 제2금속층(137b)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 5K, after stacking a transparent metal oxide such as ITO or IZO, the metal oxide is etched using a photoresist and a mask to form a common electrode 135 in the display area. A connection wire 133 extending from the touch wire 132 to the touch link line 130 of the touch link unit is formed. At the same time, a first metal layer 137a and a second metal layer 137b are formed on the gate pad 118 and data pad 119 of the gate pad portion and the data pad portion, respectively.

그 후, 유리나 플라스틱과 같은 제2기판(160)상에 CrOx나 CrO 또는 블랙수지로 이루어진 블랙매트릭스(162) 및 컬러수지 등으로 이루어진 컬러필터층(164)을 형성하여 실런트(sealant)에 의해 상기 제1기판(110)과 제2기판(160)을 합착한 후, 제1기판(110)과 제2기판(160) 사이에 액정층(150)을 구비함으로써 표시장치가 제작된다.Thereafter, a black matrix 162 made of CrOx, CrO or black resin and a color filter layer 164 made of color resin are formed on the second substrate 160 such as glass or plastic, and the above-described filter layer 164 is formed using a sealant. After bonding the first substrate 110 and the second substrate 160, a display device is manufactured by providing a liquid crystal layer 150 between the first substrate 110 and the second substrate 160.

이와 같이, 본 발명의 표시장치 제조방법에서는 화소전극(135)과 터치배선(132)을 하프톤마스크나 회절마스크를 이용한 1회의 마스크공정에 의해 형성한다. 따라서, 포토공정을 최소화하여 제조공정이 단순화되고 제조비용을 절감할 수 있을 뿐만 아니라 수율도 향상된다.As such, in the display device manufacturing method of the present invention, the pixel electrode 135 and the touch wire 132 are formed through a one-time mask process using a halftone mask or a diffraction mask. Therefore, by minimizing the photo process, the manufacturing process is simplified, manufacturing costs can be reduced, and yield is also improved.

그러나, 하프톤마스크나 회절마스크를 이용한 마스크공정은 포토레지스트층을 선택적으로 현상하고 현상된 포토레지스트패턴을 에이싱하는 공정이 필수적인데, 이러한 에이싱공정에 의해 터치링크라인의 제조시 문제가 발생하게 된다. 즉, 더미터치링크라인을 형성하지 않고 터치링크라인만을 형성하는 경우, 포토레지스트패턴의 에이싱공정에 의해 터치링크라인을 설정된 폭으로 형성할 수 없게 되는데, 이를 좀더 자세히 설명하면 다음과 같다.However, the mask process using a halftone mask or diffraction mask requires the process of selectively developing the photoresist layer and acing the developed photoresist pattern. This acing process causes problems when manufacturing touch link lines. I do it. That is, when only the touch link line is formed without forming the touch link line, the touch link line cannot be formed to the set width due to the acing process of the photoresist pattern. This will be explained in more detail as follows.

도 6a-도 6c는 더미터치링크라인을 구비하지 않고 터치링크라인만을 구비한 표시장치의 제조방법중 터치배선과 터치링크라인 및 화소전극을 형성하는 공정을 나타내는 도면이다. 이때, 도면에는 설명의 편의를 위해 화소부와 터치링크부만을 도시하였다.FIGS. 6A to 6C are diagrams showing a process for forming a touch wire, a touch link line, and a pixel electrode among the manufacturing methods of a display device having only a touch link line and no touch link line. At this time, only the pixel unit and the touch link unit are shown in the drawing for convenience of explanation.

도 6a에 도시된 바와 같이, 더미터치링크라인을 구비하지 않고 터치링크라인만을 구비한 경우, 제1포토레지스트패턴(148a)에 의해 하부의 금속층을 식각하여 표시영역(AA)에 터치배선(132)을 형성하고 더미영역(DA), 즉 터치링크부에 터치링크라인(130)을 형성한다. 이때, 표시영역(AA)의 화소전극이 형성될 투명도전층(135a) 위에는 금속패턴(132b)가 남아 있게 된다.As shown in FIG. 6A, when only the touch link line is provided without the touch link line, the lower metal layer is etched by the first photoresist pattern 148a to form the touch wire 132 in the display area AA. ) is formed, and the touch link line 130 is formed in the dummy area (DA), that is, the touch link portion. At this time, the metal pattern 132b remains on the transparent conductive layer 135a where the pixel electrode of the display area AA will be formed.

그 후, 도 6b에 도시된 바와 같이, 투명도전층(135a)을 식각하여 화소전극(136)을 형성한 후, 제1포토레지스트패턴(148a)을 에이싱하여 제2포토레지스트패턴(148b)을 형성한다. 이와 같은 에이싱공정에 의해 투명도전층(134a) 상부의 제1포토레지스트패턴(148a)이 제거된다.Then, as shown in FIG. 6B, the transparent conductive layer 135a is etched to form the pixel electrode 136, and then the first photoresist pattern 148a is aced to form the second photoresist pattern 148b. form Through this acing process, the first photoresist pattern 148a on the transparent conductive layer 134a is removed.

그런데, 에이싱에 의해 제거되는 제1포토레지스트패턴(148a)은 표시영역(AA)의 화소의 대부분 영역에 적층되는 것이므로, 상대적으로 넓은 면적을 가진다. 따라서, 에이싱가스에 의해 넓은 면적의 제1포토레지스트패턴(148a)을 제거하기 위해서는 장시간 동안의 에이싱이 필요하게 된다.However, the first photoresist pattern 148a removed by acing is stacked over most of the pixels in the display area AA, and therefore has a relatively large area. Therefore, in order to remove the large area of the first photoresist pattern 148a using acing gas, acing for a long period of time is required.

그런데, 이러한 장시간의 에이싱공정은 제2포토레지스트패턴(148b)의 폭을 감소시킬 수 있다. 터치배선(132)의 상부에 배치되는 제2포토레지스트패턴(148b)이나 터치링크라인(130)중 좌우측 최외곽이 아닌 영역의 터치링크라인(130) 위에 배치되는 제2포토레지스트패턴(148b)은 화소내의 다른 제2포토레지스트패턴(148b) 또는 인접하는 터치링크라인(130)에 상부에 배치되는 제2포토레지스트패턴(148b)에 의해 에이싱가스에 의해 전면적으로 노출되지 않는 반면에(즉, 인접하는 다른 제2포토레지스트패턴(148b)에 의해 에이싱가스가 일부 차단되므로), 터치링크라인(130)중 좌우측 최외곽에 배치된 터치링크라인(130)의 최외곽측의 면은 인접하는 다른 제2포토레지스트패턴(148b)이 없기 때문에 최외곽 제2포토레지스트패턴(148b)의 바깥쪽 면이 에이싱가스에 전면적으로 노출된다. 따라서, 표시장치의 좌우측 최외곽에 배치된 터치링크라인(130) 상부의 제2포토레지스트패턴(148b)은 장시간의 에이싱공정에 의해 과현상되어 제2포토레지스트패턴(148b)의 폭이 다른 영역의 제2포토레지스트패턴(148b)의 폭보다 작게 되며, 결국 상기 제2포토레지스트패턴(148b)에 의해 식각되는 표시장치의 좌우측 최외곽에 배치된 터치링크라인(130)의 폭이 다른 영역의 터치링크라인(130)의 폭보다 작게 된다.However, this long-time acing process may reduce the width of the second photoresist pattern 148b. A second photoresist pattern 148b disposed on top of the touch wire 132 or a second photoresist pattern 148b disposed on the touch link line 130 in an area other than the outermost left and right sides of the touch link line 130. On the other hand, it is not entirely exposed by the acing gas due to the second photoresist pattern 148b disposed on the other second photoresist pattern 148b in the pixel or the adjacent touch link line 130 (i.e. Since the acing gas is partially blocked by the other adjacent second photoresist pattern 148b), the outermost surface of the touch link line 130 disposed on the outermost left and right sides of the touch link line 130 is adjacent to the second photoresist pattern 148b. Since there is no other second photoresist pattern 148b, the outer surface of the outermost second photoresist pattern 148b is entirely exposed to the acing gas. Accordingly, the second photoresist pattern 148b above the touch link line 130 disposed on the outermost left and right sides of the display device is overdeveloped by the long-term acing process, causing the second photoresist pattern 148b to have different widths. The area is smaller than the width of the second photoresist pattern 148b, and the width of the touch link line 130 disposed on the outermost left and right sides of the display device that is ultimately etched by the second photoresist pattern 148b is different. It becomes smaller than the width of the touch link line 130.

이러한 터치링크라인(130)의 폭의 차이는 터치신호의 전송의 지연을 야기하므로, 표시장치의 터치를 인식할 때 표시장치의 좌우측 최외곽 영역과 다른 영역에서 감지된 터치신호가 감지에 차이가 발생하게 되어, 터치감지에 불량이 발생하게 된다.This difference in the width of the touch link line 130 causes a delay in the transmission of the touch signal, so when a touch on the display device is recognized, there is a difference in detection between the touch signals detected in the left and right outermost areas of the display device and other areas. This causes defects in touch detection.

본 발명에서는 이러한 문제를 해결하기 위해, 표시장치의 좌우측 최외곽에 배치된 터치링크라인(130)의 좌우측 바깥쪽에 각각 신호가 인가되지 않는 전기적으로 절연된 더미터치링크라인(131)을 배치함으로써, 표시장치의 좌우측 최외곽에 배치된 터치링크라인(130)의 폭이 감소하는 것을 방지할 수 있게 된다.In the present invention, in order to solve this problem, electrically insulated touch link lines 131 to which no signal is applied are disposed on the left and right outer sides of the touch link lines 130 disposed on the outermost left and right sides of the display device, respectively. It is possible to prevent the width of the touch link line 130 disposed on the outermost left and right sides of the display device from decreasing.

즉, 도 7a에 도시된 바와 같이, 터치링크라인(130) 및 더미터치링크라인(131) 상부에 배치된 제1포토레지스트패턴(148a)를 에이싱할 때, 더미터치링크라인(131) 상부에 배치된 제1포토레지스트패턴(148a)은 바깥쪽 측면이 에이싱가스에 전면적으로 노출되어 현상되는 반면에, 터치링크라인(130) 상부의 제1포토레지스트패턴(148a)은 인접하는 제1포토레지스트패턴(148a)에 의해 일부의 에이싱가스가 차단되어 부분적으로 현상된다. 이때, 터치링크라인(130)과 더미터치링크라인(131)의 폭은 각각 a1 및 b1이다.That is, as shown in FIG. 7A, when acing the first photoresist pattern 148a disposed on the touch link line 130 and the meter value link line 131, the upper part of the touch link line 131 While the first photoresist pattern 148a disposed in is developed with its outer side fully exposed to acing gas, the first photoresist pattern 148a on the upper part of the touch link line 130 is developed by exposing the entire outer side to the acing gas. Some acing gas is blocked by the photoresist pattern 148a and partial development is performed. At this time, the widths of the touch link line 130 and the touch link line 131 are a1 and b1, respectively.

따라서, 도 7b에 도시된 바와 같이, 터치링크라인(130) 상부의 제1포토레지스트패턴(148a)의 현상된 영역(d1) 보다 더미터치링크라인(131) 상부의 제1포토레지스트패턴(148a)의 현상된 영역(d2)이 더 크게 된다(d1<d2). 본 발명에서는 이러한 더미터치링크라인(131)을 표시장치의 맨 좌우측영역에서 터치링크라인(130)의 외곽에 배치함으로써 터치링크라인(130) 상부의 제1포토레지스트패턴(148a)의 과현상을 방지함으로써, 표시장치 전체에 걸쳐서 동일한 폭(a)의 터치링크라인(130)을 형성할 수 있게 된다.Therefore, as shown in FIG. 7B, the first photoresist pattern 148a above the touch link line 131 is larger than the developed area d1 of the first photoresist pattern 148a above the touch link line 130. ) becomes larger (d1<d2). In the present invention, by arranging the touch link line 131 on the outer edge of the touch link line 130 in the left and right areas of the display device, excessive phenomenon of the first photoresist pattern 148a on the upper part of the touch link line 130 is prevented. By preventing this, it is possible to form the touch link line 130 with the same width (a) throughout the display device.

이와 같이, 본 발명에서는 더미터치링크라인(131)을 표시장치의 맨 좌우측에 터치링크라인(130)과 인접하도록 배치함으로써, 공정시 바깥쪽 터치링크라인(130)이 과식각되어 터치링크라인(130)의 폭이 영역에 따라 불균일하게 되는 것을 방지할 수 있게 된다.As such, in the present invention, by arranging the touch link line 131 adjacent to the touch link line 130 on the left and right sides of the display device, the outer touch link line 130 is overetched during the process, resulting in the touch link line ( It is possible to prevent the width of 130) from becoming uneven depending on the area.

한편, 상기 더미터치링크라인(131)은 포토레지스트패턴의 과현상에 따른 터치링크라인(130)의 과식각을 방지할 수만 있다면 어떠한 형태로도 형성될 수 있다.Meanwhile, the touch link line 131 can be formed in any shape as long as it can prevent overetching of the touch link line 130 due to overdevelopment of the photoresist pattern.

상술한 설명에서는 댐역할을 하는 더미터치링크라인(131)을 복수개 배치되어 복수의 댐에 의해 과식각을 방지할 수 있지만, 도 8a에 도시된 바와 같이 복수의 더미터치링크라인의 폭을 합한 만큼의 넓은 폭의 더미터치링크라인(131)을 하나만 표시장치의 좌우측 외곽영역에 배치할 수도 있다.In the above description, a plurality of dermeter touch link lines 131 serving as dams are arranged to prevent overetching due to the plurality of dams. However, as shown in FIG. 8A, the width of the plurality of dermeter touch link lines 131 is added together. Only one wide meter touch link line 131 may be placed in the left and right outer areas of the display device.

또한, 다양한 폭을 가진 복수의 더미터치링크라인(131)을 표시장치의 좌우측 외곽영역에 배치할 수도 있다. 예를 들어, 도 8b에 도시된 바와 같이, 좌우측의 외곽영역으로 갈수록 폭을 증가시켜 더미터치링크라인(131)중 과식각이 가장 심한 맨 외곽의 더미터치링크라인(131)의 폭을 크게 함으로써 과식각방지역할을 더욱 충실히 수행할 수 있으며, 터치링크라인(130)과 인접하는 더미터치링크라인(131)의 폭을 가장 크게 하여 가장 바깥쪽 터치링크라인(130)의 과식각을 직접 방지할 수도 있다.Additionally, a plurality of the meter link lines 131 with various widths may be placed in the left and right outer areas of the display device. For example, as shown in Figure 8b, the width increases toward the outer areas on the left and right, thereby increasing the width of the outermost dermal touch link line 131, which has the most severe overetching, among the dummy touch link lines 131. The role of preventing over-etching can be performed more faithfully, and over-etching of the outermost touch link line 130 can be directly prevented by making the width of the touch link line 131 adjacent to the touch link line 130 the largest. It may be possible.

한편, 본 발명의 더미터치링크라인은 다양한 형상으로 이루어질 수 있다. 상술한 설명 및 도면에서는 더미터치링크라인을 터치링크라인(130)과 동일한 형상으로 구성하여 일정 거리 이격시켜 배치하지만(이러한 이유로 더미터치링크라인라는 용어를 사용한다), 더미터링크라인을 다른 형상으로 구성할 수도 있다. 예를 들어, 도면에서는 더미터치링크라인을 터치링크라인(130)과 마찬가지로 꺽여진 구조로 구성하지만, 더미터치링크라인을 꺽여지지 않은 직선 형상이나 터링크라인(130)의 형상을 따라 곡선으로 굽어진 형상, 복수회 꺽여진 형상과 같이 터치링크라인(130)의 과식각을 방지할 수 있는 다양한 형상으로 구성할 수 있다. 상기 더미터치링크라인은 터치링크라인과 다른 형상으로 구성될 수 있다는 점에서, 상기 더미터치링크라인을 단순히 금속패턴이나 금속라인, 또는 더미라인이라고 칭할 수 있을 것이다.Meanwhile, the meter touch link line of the present invention can be formed in various shapes. In the above description and drawings, the meter touch link line is configured to have the same shape as the touch link line 130 and is placed at a certain distance apart (for this reason, the term the meter touch link line is used), but the meter link line has a different shape. It can also be configured as: For example, in the drawing, the meter touch link line is configured as a bent structure like the touch link line 130, but the meter touch link line is curved in an unbent straight shape or along the shape of the touch link line 130. It can be configured in various shapes that can prevent overetching of the touch link line 130, such as a straight shape or a shape that is bent multiple times. Since the meter touch link line may be configured in a shape different from the touch link line, the meter touch link line may simply be referred to as a metal pattern, metal line, or dummy line.

또한, 상술한 설명에서는 표시장치가 특정한 구조로 설명되고 있지만, 본 발명이 이러한 특정 구조에 한정되는 것은 아니다. 본 발명은 더미영역의 터치링크라인의 외곽에 금속패턴이 배치되어 터치링크라인의 과식각을 방지할 수만 있다면, 현재 알려진 액정표시장치, 유기전계발광 표시장치, 전기영동 표시장치와 같은 다양한 평판표시장치의 구조에도 적용될 수 있을 것이다.Additionally, although the display device is described as having a specific structure in the above description, the present invention is not limited to this specific structure. The present invention provides various flat panel displays such as currently known liquid crystal displays, organic electroluminescent displays, and electrophoretic displays, as long as a metal pattern is placed on the outside of the touch link line in the dummy area to prevent overetching of the touch link line. It may also be applied to the structure of the device.

전술한 설명에 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나 이것은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 따라서 발명은 설명된 실시예에 의하여 정할 것이 아니고 특허청구범위와 특허청구범위에 균등한 것에 의하여 정하여져야 한다.Although many details are described in detail in the foregoing description, this should be interpreted as an example of a preferred embodiment rather than limiting the scope of the invention. Therefore, the invention should not be determined by the described embodiments, but by the scope of the patent claims and their equivalents.

110,160 : 기판 130 : 터치링크라인
131 : 더미터치링크라인 132: 터치배선
135 : 화소전극 138 : 공통전극
150 : 액정층110,160: substrate 130: touch link line
131: The meter touch link line 132: Touch wiring
135: pixel electrode 138: common electrode
150: liquid crystal layer

Claims (13)

복수의 화소를 포함하는 표시영역 및 상기 표시영역 외부의 더미영역;
상기 표시영역의 상기 복수의 화소 각각에 배치된 화소전극;
상기 복수의 화소전극 위에 배치되어 상기 화소전극과 접속하는 복수의 터치배선;
상기 화소전극 및 상기 터치배선 상부에 배치된 공통전극;
상기 더미영역에 배치되어 상기 터치배선과 접속되는 복수의 터치링크라인; 및
상기 더미영역의 복수의 터치링크라인의 외곽에 배치된 적어도 하나의 더미라인을 포함하며,
상기 공통전극에는 1 프레임기간에 공통전압 및 터치전압이 인가되는 표시장치.a display area including a plurality of pixels and a dummy area outside the display area;
a pixel electrode disposed in each of the plurality of pixels in the display area;
a plurality of touch wires disposed on the plurality of pixel electrodes and connected to the pixel electrodes;
a common electrode disposed on the pixel electrode and the touch wire;
a plurality of touch link lines disposed in the dummy area and connected to the touch wire; and
It includes at least one dummy line disposed outside the plurality of touch link lines in the dummy area,
A display device in which a common voltage and a touch voltage are applied to the common electrode during one frame period. 제1항에 있어서, 상기 터치링크라인이 접속되어 터치를 감지하는 터치감지부를 추가로 포함하는 표시장치.The display device according to claim 1, further comprising a touch detection unit connected to the touch link line to detect a touch. 제1항에 있어서,
각각 상기 복수의 화소를 포함하며, 터치를 감지하는 복수의 터치블록; 및
상기 복수의 화소 각각에 구비된 박막트랜지스터를 더 포함하며,
상기 화소전극에는 상기 복수의 화소 각각에 구비된 영상신호가 인가되는 표시장치.According to paragraph 1,
A plurality of touch blocks each including the plurality of pixels and detecting a touch; and
Further comprising a thin film transistor provided in each of the plurality of pixels,
A display device in which an image signal provided in each of the plurality of pixels is applied to the pixel electrode. 제3항에 있어서, 상기 1 프레임기간은 상기 공통전극에 상기 공통전압이 인가되는 영상표시기간(display)과 상기 공통전극에 상기 터치전압이 인가되는 터치감지기간(Touch)을 포함하는 표시장치.The display device of claim 3, wherein the one frame period includes an image display period (display) in which the common voltage is applied to the common electrode and a touch detection period (Touch) in which the touch voltage is applied to the common electrode. 제4항에 있어서, 하나의 상기 터치블록에는 동일한 상기 공통전압과 상기 터치전압이 인가되는 표시장치.The display device of claim 4, wherein the same common voltage and the same touch voltage are applied to one of the touch blocks. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 더미라인은 복수개 배치되는 표시장치.The display device of claim 1, wherein a plurality of dummy lines are arranged. 제7항에 있어서, 상기 더미라인은 상기 터치링크라인과 동일한 형상으로 이루어진 표시장치.The display device of claim 7, wherein the dummy line has the same shape as the touch link line. 제8항에 있어서, 상기 더미라인의 폭은 상기 터치링크라인과 동일한 표시장치.The display device of claim 8, wherein the dummy line has the same width as the touch link line. 제8항에 있어서, 상기 더미라인의 폭은 상기 터치링크라인에서 외곽쪽으로 갈수록 증가하거나 감소하는 표시장치.The display device of claim 8, wherein the width of the dummy line increases or decreases toward the outer edge of the touch link line. 제1항에 있어서, 상기 더미라인 및 상기 터치링크라인은 Cu로 이루어진 표시장치.The display device of claim 1, wherein the dummy line and the touch link line are made of Cu. 제1항에 있어서, 상기 터치링크라인 및 상기 터치배선을 접속시키는 연결배선을 추가로 포함하는 표시장치.The display device of claim 1, further comprising a connection wire connecting the touch link line and the touch wire. 제12항에 있어서, 상기 연결배선은 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)로 이루어진 표시장치.The display device of claim 12, wherein the connection wiring is made of ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide).
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