KR102560720B1

KR102560720B1 - 다수의 검사 유닛을 포함하는 기판검사장치

Info

Publication number: KR102560720B1
Application number: KR1020220069545A
Authority: KR
Inventors: 김재선; 김승규
Original assignee: 시냅스이미징(주)
Priority date: 2022-06-08
Filing date: 2022-06-08
Publication date: 2023-07-28

Abstract

본 발명에서는 기판검사장치가 개시된다. 상기 기판검사장치는, 양면기판모체에 대한 이송력을 제공하도록 회전 구동되는 검사 롤러와, 검사 롤러의 외주를 따라 배열되어 양면기판모체에 대한 서로 다른 스캔 데이터를 생성하는 다수의 검사유닛을 포함하되, 다수의 검사유닛 중 제1 군의 검사유닛은, 양면기판모체의 폭 방향을 따라 분할되어 서로에 대해 겹쳐지지 않는 일부 폭과 더불어, 양면기판모체의 폭 방향을 따라 서로 이웃하는 검사유닛끼리 중첩되는 폭을 함께 화상 영역으로 한다.
본 발명에 의하면, 서로 다른 불량에 대해 식별성이 우수한 스캔 데이터 내지는 서로 다른 유형의 불량을 포착해내기 위하여 높은 대조비의 서로 다른 명암 영역을 갖는 스캔 데이터를 제공함으로써, 다양한 유형의 불량을 누락 없이 포착해낼 수 있는 기판검사장치가 제공된다.

Description

다수의 검사 유닛을 포함하는 기판검사장치{Inspection apparatus for substrate having multiple inspection units}

본 발명은 다수의 검사 유닛을 포함하는 기판검사장치에 관한 것이다.

기판검사장치는, 가요성의 절연 필름을 지지 기반으로 하여, 절연 필름의 서로 반대되는 제1, 제2 면 상에 형성된 도전 패턴을 포함할 수 있으며, 단위기판으로 절단되기 이전의 연속적인 릴 형태로 형성된 양면기판모체에 대한 자동화된 비전 검사를 수행할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태는 서로 다른 불량에 대해 식별성이 우수한 스캔 데이터 내지는 서로 다른 유형의 불량을 포착해내기 위하여 높은 대조비의 서로 다른 명암 영역을 갖는 스캔 데이터를 제공함으로써, 다양한 유형의 불량을 누락 없이 포착해낼 수 있는 기판검사장치를 포함한다.

본 발명의 일 실시형태는 스캔 시간의 지연이나 양면기판모체의 이송 지연 없이도 고해상도의 스캔 데이터를 생성할 수 있고, 고해상도의 스캔 데이터로부터 높은 신뢰도로 자동화된 비전 검사가 수행될 수 있으며, 자동화된 비전 검사와 함께, 육안 검사가 병행될 수 있도록, 고품질의 이미지를 제공하는 기판검사장치를 포함한다.

본 발명의 일 실시형태는 다수의 검사유닛이 배열된 검사 롤러의 과열 내지는 팽창에 따른 아웃 포커스를 방지하고, 양면기판모체가 감겨진 외주면의 위치 변화를 포착하여 검사 롤러의 온도를 적정 수준으로 제어함으로써, 양면기판모체의 결상면이 검출기의 촬상면으로부터 초점 심도 내에 형성되는 인 포커스를 유지할 수 있는 기판검사장치를 포함한다.

상기와 같은 목적 및 그 밖의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 기판검사장치는,

양면기판모체에 대한 이송력을 제공하도록 회전 구동되는 검사 롤러와, 상기 검사 롤러의 외주를 따라 배열되어 양면기판모체에 대한 서로 다른 스캔 데이터를 생성하는 다수의 검사유닛을 포함하되,

상기 다수의 검사유닛 중 제1 군의 검사유닛은, 양면기판모체의 폭 방향을 따라 분할되어 서로에 대해 겹쳐지지 않는 일부 폭과 더불어, 양면기판모체의 폭 방향을 따라 서로 이웃하는 검사유닛끼리 중첩되는 폭을 함께 화상 영역으로 한다.

예를 들어, 상기 기판검사장치는, 상기 서로 이웃하는 검사유닛끼리 중첩되는 화상 영역을 기준으로, 상기 제1 군의 검사유닛으로부터 생성된 스캔 데이터를 양면기판모체의 폭 방향을 따라 합성하여, 양면기판모체의 전체 폭에 대한 스캔 데이터를 생성할 수 있다.

예를 들어, 상기 제1 군의 검사유닛은, 서로 교차하는 양면기판모체의 길이 방향 및 폭 방향을 따라 서로로부터 이격되도록 배치되는 다수의 검사유닛을 포함할 수 있다.

예를 들어, 상기 다수의 검사유닛은,

상기 양면기판모체의 일부 폭을 화상 영역으로 하도록 상대적으로 높은 해상도를 갖는 제1 군의 검사유닛; 및

상기 양면기판모체의 전체 폭을 화상 영역으로 하도록 상대적으로 낮은 해상도를 갖는 제2 군의 검사유닛을 포함할 수 있다.

예를 들어, 상기 기판검사장치는, 상기 검사 롤러의 외주면 상에 비접촉식으로 배치되어, 상기 외주면의 과열 팽창으로 인한 외주면의 위치 변화를 포착하기 위한 변위 센서를 더 포함할 수 있다.

예를 들어, 상기 기판검사장치는, 상기 변위 센서의 출력으로부터 검사 롤러의 외주면의 위치 변화를 포착하고, 외주면의 위치 변화에 따라, i) 검사 롤러의 냉각 및 ii) 광축 모터의 구동 중에서, 어느 하나를 선택적으로 수행하거나 또는 병행적으로 수행하여 검사 롤러의 외주면 위치를 검사유닛의 초점 심도 내로 유지하도록 제어하는 제어부를 더 포함할 수 있다.

예를 들어, 상기 검사 롤러의 과열에 따른 외주면의 위치 변화를 감지한 제어부는, 검사 롤러의 냉각을 위한 드럼 쿨러를 가동하여, 외주면의 위치가 과열 이전의 수준으로 복귀되도록 제어할 수 있다.

예를 들어, 상기 검사 롤러의 팽창에 따른 외주면의 접근을 감지한 제어부는, 상기 광축 모터를 가동하여 검사유닛의 광축 상의 위치를 검사 롤러의 외주면으로부터 멀어지도록 제어할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에 따른 기판검사장치에 의하면, 서로 다른 불량에 대해 식별성이 우수한 스캔 데이터 내지는 서로 다른 유형의 불량을 포착해내기 위하여 높은 대조비의 서로 다른 명암 영역을 갖는 스캔 데이터를 제공함으로써, 다양한 유형의 불량을 누락 없이 포착해낼 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에 따른 기판검사장치에 의하면, 스캔 시간의 지연이나 양면기판모체의 이송 지연 없이도 고해상도의 스캔 데이터를 생성할 수 있고, 고해상도의 스캔 데이터로부터 높은 신뢰도로 자동화된 비전 검사가 수행될 수 있으며, 자동화된 비전 검사와 함께, 육안 검사가 병행될 수 있도록, 고품질의 이미지를 제공할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에 따른 기판검사장치에 의하면, 다수의 검사유닛이 배열된 검사 롤러의 과열 내지는 팽창에 따른 아웃 포커스를 방지하고, 양면기판모체가 감겨진 외주면의 위치 변화를 포착하여 검사 롤러의 온도를 적정 수준으로 제어함으로써, 양면기판모체의 결상면이 검출기의 촬상면으로부터 초점 심도 내에 형성되는 인 포커스를 유지할 수 있다.

도 1에는 제1 방향을 따라 배열된 서로 다른 스테이지를 포함하는 기판검사장치의 전체적인 구성을 보여주는 도면이 도시되어 있다.
도 2a 내지 도 2c에는 도 1에 도시된 제1, 제2 검사 롤러의 주변에 배치된 구성과, 제1 검사 롤러의 주변으로 형성된 검사영역 및 비검사영역을 도시한 서로 다른 도면들이 도시되어 있다.
도 3a 및 도 3b에는 제1 검사 롤러의 주변에 배치된 구성과, 제1 검사 롤러의 주변으로 형성된 검사영역 및 비검사영역을 도시한 도면이 도시되어 있다.
도 4a 및 도 4b에는 제2 검사 롤러의 주변에 배치된 구성과, 제2 검사 롤러의 주변으로 형성된 검사영역 및 비검사영역을 도시한 도면이 도시되어 있다.
도 5a 내지 도 5c에는 서로 다른 제1 내지 제5 검사유닛에 구비되는 서로 다른 제1 내지 제3 유형의 광원을 보여주는 도면이 도시되어 있다.
도 6에는 서로 다른 제1 내지 제5 검사유닛의 화소 영역 및 제3 내지 제5 검사유닛으로부터 출력되는 스캔 데이터의 합성을 통하여 2차원 합성 이미지를 생성하는 것을 개략적으로 보여주는 도면이 도시되어 있다.
도 7에는 제1, 제2 구동 롤러에 입력되는 구동 신호와, 제1 내지 제5 검사유닛에 입력되는 촬상 신호를 보여주는 도면이 도시되어 있다.
도 8에는 검사 롤러의 과열 및 팽창에 따른 아웃 포커스를 설명하기 위한 개략적인 도면이 도시되어 있다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시형태에 관한 기판검사장치에 대해 설명하기로 한다.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시형태에 따른 기판검사장치는, 공급 릴에 권취된 양면기판모체(10)가 연속적으로 풀리면서 기판검사장치에 로딩되는 로딩 스테이지(LS)와, 양면기판모체(10)의 제1 면을 비전 검사하는 제1 검사 스테이지(IS1)와, 양면기판모체(10)의 제1 면과 반대되는 제2 면을 비전 검사하는 제2 검사 스테이지(IS2)와, 검사 완료된 양면기판모체(10)가 회수 릴에 권취되는 언로딩 스테이지(US)를 포함할 수 있다.

상기 로딩 스테이지(LS), 제1 검사 스테이지(IS1), 제2 검사 스테이지(IS2) 및 언로딩 스테이지(US)는, 제1 방향(Z1)을 따라 순차적으로 배열될 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1 방향(Z1)은 기판검사장치의 지지 기반을 제공하는 베이스 플레이트(70)의 장변부 방향에 해당될 수 있으며, 대체로 양면기판모체(10)의 이송 방향에 해당될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1 방향(Z1)을 따라 전방 측에 배치된 스테이지(LS,IS1,IS2,US)는 기판검사장치의 상류 측을 형성할 수 있고, 상기 제1 방향(Z1)을 따라 후방 측에 배치된 스테이지(LS,IS1,IS2,US)는 기판검사장치의 하류 측을 형성할 수 있다.

참고로, 본 명세서를 통하여 제2 방향(Z2)이란 상기 제1 방향(Z1)과 교차하는 방향에 해당되며, 베이스 플레이트(70)의 단변부 방향에 해당될 수 있다. 후술하는 바와 같이, 상기 로딩 스테이지(LS)와 제1 검사 스테이지(IS1) 사이, 제1 검사 스테이지(IS1)와 제2 검사 스테이지(IS2) 사이, 그리고, 제2 검사 스테이지(IS2)와 언로딩 스테이지(US) 사이에 각각 개재된 제1 내지 제3 이송제어기구(M1,M2,M3)에 마련된 댄서 롤러(M15,M25,M35)는, 제2 방향(Z2)을 따라 승하강 하면서 축적되어 있던 양면기판모체(10)를 공급하여 양면기판모체(10)의 부족분을 해소하거나 또는 잉여의 양면기판모체(10)를 축적할 수 있다.

참고로, 본 명세서를 통하여 제3 방향(Z3)이란 제1, 제2 방향(Z1,Z2)과 교차하는 방향을 의미할 수 있으며, 예를 들어, 양면기판모체(10)의 폭 방향에 해당될 수 있다. 후술하는 바와 같이, 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2) 각각의 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)은 제3 방향(Z3)을 따라 서로 다른 위치에 배치되어, 양면기판모체(10)의 일부 폭에 대한 비전 검사를 수행할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 각각의 스테이지(LS,IS1,IS2,US), 그러니까, 로딩 스테이지(LS), 제1 검사 스테이지(IS1), 제2 검사 스테이지(IS2) 및 언로딩 스테이지(US)에는 기판의 이송 방향을 따라 이송력을 제공하기 위한 구동 롤러가 배치될 수 있으며, 각각의 로딩 스테이지(LS), 제1 검사 스테이지(IS1), 제2 검사 스테이지(IS2) 및 언로딩 스테이지(US)에는, 구동 롤러로서, 각각 로딩 롤러(LR), 제1 검사 롤러(I1), 제2 검사 롤러(I2), 언로딩 롤러(UR)가 배치될 수 있다. 본 명세서를 통하여 상기 로딩 롤러(LR), 제1 검사 롤러(I1), 제2 검사 롤러(I2) 및 언로딩 롤러(UR)는, 양면기판모체(10)에 대해 이송력을 제공하도록 구동 회전되는 것으로, 이들 롤러는 모두 구동 롤러로 통칭될 수 있다.

상기 기판검사장치에는 구동 롤러와 함께, 구동 롤러에 의해 제공되는 이송력을 추종하여 양면기판모체(10)를 따라 아이들 회전하는 종동 롤러가 마련될 수 있으며, 예를 들어, 각각의 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)에 마련된 공급 롤러(I11,I21) 및 배출 롤러(I12,I22)는 아이들 회전되는 종동 롤러에 해당될 수 있다. 상기 종동 롤러는 양면기판모체(10)의 이송을 안내하거나 또는 이송 방향을 전환하기 위하여 양면기판모체(10)의 일부에 감겨진 상태에서 양면기판모체(10)의 이송을 추종하여 아이들 회전될 수 있다.

도 2a 내지 도 2c를 참조하면, 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)는 제2 이송제어기구(M2)를 사이에 두고 서로 이웃하게 배치될 수 있다. 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)는 양면기판모체(10)의 서로 반대되는 제1, 제2 면에 대한 비전 검사를 수행할 수 있다. 이를 위해, 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)는 서로로부터 등진 위치, 또는 서로로부터 상대적으로 원거리 위치에 검사영역(IC)이 형성된 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)를 포함할 수 있다. 이때, 각각의 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)의 검사영역(IC)을 따라서는 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배열되어, 양면기판모체(10)의 제1, 제2 면에 대한 비전 검사를 수행할 수 있다. 그리고, 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2, 또는 제1, 제2 검사 스테이지 IS1,IS2에 구비된 제1, 제2 검사 롤러 I1,I2)의 서로 마주하는 위치, 또는 서로 인접한 근거리 위치에는 비검사영역(NIC)이 형성될 수 있다. 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)에 구비된 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)의 외주를 따라서는 각각 검사영역(IC)과 비검사영역(NIC)이 형성될 수 있는데, 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)의 검사영역(IC) 및 비검사영역(NIC)은, 제1, 제2 방향(Z1,Z2)을 동시에 추종하는 경계선(O)을 따라 구획될 수 있으며, 서로 반대되는 위치에 형성될 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)의 검사영역(IC)끼리는 상기 경계선(O)을 중심으로 서로 반대되는 위치에 배치될 수 있으며, 서로로부터 원거리 위치에 배치될 수 있고, 상기 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)의 비검사영역(NIC)끼리는 상기 경계선(O)을 중심으로 서로 반대되는 위치에 배치될 수 있으며, 서로 인접한 근거리 위치에 배치될 수 있다.

상기 제1 검사 롤러(I1)의 외주를 따라서는 양면기판모체(10)에 대한 검사가 수행되는 검사영역(IC)과, 양면기판모체(10)에 대한 공급(공급 롤러 I11) 및 배출(배출 롤러 112)이 이루어지면서 공급 및 배출 사이에서 제1 검사 롤러(I1)에 대한 클리닝(드럼 클리너 G, 도 2b) 및 제1 검사 롤러(I1)의 냉각이 이루어지는 비검사영역(NIC)이 형성될 수 있다. 여기서, 검사영역(IC)에는 양면기판모체(10)의 제1 면에 대한 비전 검사를 수행하기 위하여 서로 다른 스캔 데이터를 생성하는 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치될 수 있다.

유사하게, 상기 제2 검사 롤러(I2)의 외주를 따라서는 양면기판모체(10)에 대한 검사가 수행되는 검사영역(IC)과, 양면기판모체(10)에 대한 공급(공급 롤러, I11) 및 배출(배출 롤러, I12)이 이루어지면서 공급 및 배출 사이에서 제2 검사 롤러(I2)에 대한 클리닝(드럼 클리너 G, 도 2b) 및 제2 검사 롤러(I2)의 냉각이 이루어지는 비검사영역(NIC)이 형성될 수 있다. 여기서, 검사영역(IC)에는 양면기판모체(10)의 제2 면에 대한 비전 검사를 수행하기 위하여 서로 다른 스캔 데이터를 생성하는 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치될 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)에 구비된 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)은, 실질적으로 동일한 구조를 가질 수 있으며, 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)에 대해 양면기판모체(10)가 공급되는 공급(공급 롤러, I11,I21) 측으로부터 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)로부터 양면기판모체(10)가 배출되는 배출(배출 롤러, I12,I22) 측을 향하여 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 순차적으로 배치될 수 있다. 이때, 상기 제1 검사 스테이지(IS1)의 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)은, 제2 검사 스테이지(IS2)의 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)과 실질적으로 동일한 구조를 가질 수 있으며, 제1 검사 스테이지(IS1)의 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 배치 구조도, 제2 검사 스테이지(IS2)의 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 배치 구조와 실질적으로 동일할 수 있다. 본 명세서를 통하여, 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 중에서 어느 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)에 관한 기술적 사항은, 제1 검사 스테이지(IS1)의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 및 제2 검사 스테이지(IS2)의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)에 대해 공통적으로 적용될 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)은, 검사영역(IC)을 따라 서로 다른 검사 위치에 배치된 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)을 포함할 수 있다. 다만, 본 발명의 기술적 범위는 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 개수에 한정되지 않으며, 본 발명의 다양한 실시형태에서, 상기 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 개수는 5개에 한정되지 않고 다양하게 변형될 수 있다.

도 3a 내지 도 4b를 참조하면, 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)은 양면기판모체(10)에 대해 광을 주사하는 광원(L1,L2,L3,L4,L5)과, 양면기판모체(10)로부터의 반사광을 수광하여 전기적인 스캔 데이터를 생성하는 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)와, 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 광축 상에 정렬된 광학 렌즈(21,22,23,24,25)를 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)와 광학 렌즈(21,22,23,24,25)는 서로 광학적으로 정렬될 수 있으며, 예를 들어, 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 광축과 광학 렌즈(21,22,23,24,25)의 광축은 실질적으로 같은 광축 상에 정렬될 수 있다. 본 명세서를 통하여 광축이란 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)와 광학 렌즈(21,22,23,24,25)를 포함하는 촬상 광학계의 광축을 의미할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 광축을 따라 광학 렌즈(21,22,23,24,25)의 서로 반대편에는 양면기판모체(10)와 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)가 배치될 수 있으며, 상기 양면기판모체(10) 및 검출기(C1,C2,C3,C4,C5) 사이에서 광축을 벗어난 광축의 둘레에는 광원(L1,L2,L3,L4,L5)이 배치될 수 있다. 상기 광원(L1,L2,L3,L4,L5)은 양면기판모체(10) 및 검출기(C1,C2,C3,C4,C5) 사이, 보다 구체적으로, 양면기판모체(10)와 광학 렌즈(21,22,23,24,25) 사이에서 광축을 벗어난 광축의 둘레에 배치될 수 있다.

도 5a 내지 도 5c를 참조하면, 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)에는 서로 다른 유형의 광원(L1,L2,L3,L4,L5)이 구비될 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)에는 서로 같은 구조를 갖춘 제1 유형의 광원(L3, 도 5a)이 구비될 수 있으며, 제1, 제2 검사유닛(U1,U2)에는 서로 다른 제2 유형의 광원(L1, 도 5b) 및 제3 유형의 광원(L2, 도 5c)이 구비될 수 있다.

이하에서는 제1 유형의 광원(L3, 도 5a), 제2 유형의 광원(L1, 도 5b) 및 제3 유형의 광원(L2, 도 5c)에 대해 설명하기로 한다.

상기 제1 유형의 광원(L3, 도 5a)은 광축의 둘레를 둘러싸도록 환형으로 배치되는 광소자 어레이(L3a)가 양면기판모체(10)로부터 광학 렌즈(23,24,25)를 향하여 점진적으로 축소되는 직경을 따라 환형으로 배치되면서 전체적으로 돔(dome) 형상으로 배열된 일 군의 광소자 어레이(L3a)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 일 실시형태에서, 광축을 따라 점진적으로 축소되는 직경을 따라 환형으로 배치되는 광소자 어레이(L3a)는, 전체적으로 돔(dome) 형상을 추종하는 곡면 상에 배치될 수 있으며, 본 발명의 일 실시형태에서, 곡면의 가공 및 곡면 상에 장착되는 광소자 어레이(L3a)의 장착의 안정성을 고려하여, 돔(dome) 형상을 추종하는 다수의 평면을 갖춘 다각형 형상 위에 배치될 수 있다. 참고로, 본 명세서를 통하여, 광소자 어레이(L3a,L1a)란 레이저 다이오드와 같은 점 광원이 환형(제1 유형의 광원, L3a, 도 5a)이나 판형(제2 유형의 광원, L1a, 도 5b)으로 배열된 형태를 의미할 수 있다.

후술하는 바와 같이, 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)은 서로 겹쳐지지 않는 양면기판모체(10)의 일부 폭을 화상 영역으로 하여, 양면기판모체(10)의 일부 폭에 대한 스캔 데이터를 생성할 수 있으며, 양면기판모체(10)의 분할된 폭을 화상 영역으로 하는 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)로부터 취득된 일 군의 스캔 데이터를 합성하여 양면기판모체(10)의 전체 폭에 대한 스캔 데이터를 생성할 수 있다. 이때, 상기 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)은 동일한 제1 유형의 광원(L3, 도 5a)을 포함함으로써, 서로 동일한 휘도 조건의 스캔 데이터를 생성할 수 있으며, 동일한 휘도 조건의 스캔 데이터를 양면기판모체(10)의 폭 방향을 따라 합성하여 양면기판모체(10)의 전체 폭에 대한 스캔 데이터를 생성할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)은 양면기판모체(10)의 폭 방향을 따라 균등하게 분할되어 서로에 대해 겹쳐지지 않는 일부 폭을 각각 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)의 화상 영역으로 포함하되, 상기 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)의 화상 영역은 서로 이웃하는 검사유닛(U3,U4,U5)끼리 일부 중첩되는 폭을 더 포함할 수 있으며, 서로 이웃하는 검사유닛(U3,U4,U5)끼리 중첩되는 화소를 중심으로, 각각의 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)으로부터 생성된 스캔 데이터를 폭 방향으로 합성하여 전체 폭에 대한 스캔 데이터를 생성할 수 있다. 이때, 상기 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)은 양면기판모체(10)의 화상 영역에 해당되는 일부 폭을 넓은 직경으로 커버하는 돔(dome) 형상으로 배열된 광소자 어레이(L3a, 제1 유형의 광원, 도 5a)를 통하여 외부로부터 독립된 조명 환경을 제공할 수 있으며, 외부 환경으로부터 영향을 받지 않는 고립된 조명 환경을 통하여 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)으로부터 생성되는 스캔 데이터로부터 서로에 대해 중첩되는 폭에 해당되는 화소를 용이하게 검출할 수 있으며, 이를 기준으로 각각의 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)으로부터 생성된 스캔 데이터를 양면기판모체(10)의 폭 방향을 따라 합성함으로써 양면기판모체(10)의 전체 폭에 대한 스캔 데이터를 생성할 수 있다. 즉, 상기 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)의 조명 환경을 외부 환경으로부터 고립시킴으로써, 외부 환경에 의한 영향을 배제하고 균일한 조명 환경을 제공할 수 있고, 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)으로부터 생성된 스캔 데이터에서 서로에 대해 중첩되는 화소를 기준으로, 이들 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)으로부터 생성된 일부 폭에 대한 스캔 데이터를 합성하는 방식으로, 양면기판모체(10)의 전체 폭에 대한 스캔 데이터를 생성할 수 있다.

상기 제2 유형의 광원(L1, 도 5b)은 광축의 둘레를 따라 서로로부터 이격되며 광축에 대해 비스듬한 경사각을 따라 판형으로 배열된 서로 다른 광소자 어레이(L1a)와, 상기 광소자 어레이(L1a)와 마주하게 배치되어 광 반사 경로를 형성하는 반사면(L1b)을 포함할 수 있다. 이때, 상기 광원(L1)은 광축에 대해 비스듬한 경사각을 따라 판형으로 배열된 서로 다른 광소자 어레이(L1a)를 포함할 수 있는데, 예를 들어, 판형으로 배열된 2개의 광소자 어레이(L1a)는 광축에 대해 대칭적인 위치 및 대칭적인 각도를 갖고, 광축을 중심으로 서로 반대편에 배치될 수 있다.

상기 광소자 어레이(L1a)와 마주하게 배치되어 광 반사 경로를 형성하는 반사면(L1b)은, 광소자 어레이(L1a)로부터 입사되는 광 경로를 양면기판모체(10)를 향하도록 전환시키고 양면기판모체(10)의 화상 영역 상으로 집속(condensing)시키도록 돔(dome) 형상으로 형성될 수 있다. 상기 반사면(L1b)은 광축을 중심으로 서로 대칭적인 위치 및 대칭적인 배향을 갖고, 광축을 중심으로 서로 반대편에 배치되는 2개의 반사면(L1b)을 포함할 수 있으며, 지면 방향을 따라 동일한 돔(dome) 형상의 단면을 갖도록 연장되는 반사 부재가 광축을 중심으로 서로 대칭적으로 배치된 구조로부터 형성될 수 있다.

상기 제2 유형의 광원(L1, 도 5b)에서 광소자 어레이(L1a, 도 5b)가 배열된 판형의 경사각은, 양면기판모체(10)로부터 광학 렌즈(21)의 방향을 따라 점진적으로 확대되는 경향의 단면을 정의하는 경사각으로 마련될 수 있으며, 앞서 설명된 제1 유형의 광원(L3, 도 5a)에서 광소자 어레이(L3a, 도 5a)가 양면기판모체(10)로부터 광학 렌즈(23,24,25)의 방향을 따라 점진적으로 축소되는 경향으로 변화되는 환형을 따라 배열된 구조와는 반대되는 경사각으로 마련될 수 있다.

다시 말하면, 상기 제1 검사유닛(U1)에서 광소자 어레이(제2 유형의 광원, 도 5b)가 배열된 판형의 경사각은, 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)에서 광소자 어레이(제1 유형의 광원, 도 5a)가 양면기판모체(10)로부터 광학 렌즈(23,24,25)의 방향을 따라 점진적으로 축소되는 경향으로 변화되는 환형을 따라 배열된 구조와는 반대되는 경사각으로 마련될 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1 검사유닛(U1) 및 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)은, 서로 다른 배열의 광소자 어레이(L1a, 도 5b, L3a, 도 5a)를 포함하며, 양면기판모체(10)로부터 광학 렌즈(21,22,23,24,25)의 방향을 따라 확대되는 경향의 경사각을 갖는 판형의 배열(제2 유형의 광원, 도 5b)과 축소되는 경향으로 변화되는 환형의 배열(제1 유형의 광원, 도 5a)을 포함함으로써, 서로 다른 광원(L1,L3,L4,L5)의 조건에 따라 높은 대조비의 서로 다른 명암 영역을 갖는 스캔 데이터를 얻을 수 있다.

예를 들어, 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1 유형의 광원(L3, 도 5a)에서 광소자 어레이(L3a)는, 양면기판모체(10)로부터 광학 렌즈(23,24,25)를 향하여 점진적으로 축소되는 직경을 따라 환형으로 배열됨으로써, 돔(dome) 형상의 내측에 배치되는 광소자 어레이(L3a)는 양면기판모체(10)를 향하여 마주하는 경향으로 배치될 수 있다. 상기 제1 유형의 광원(L3, 도 5a)과 달리, 제2 유형의 광원(L1, 도 5b)에서 광소자 어레이(L1a)는 양면기판모체(10)로부터 광학 렌즈(21)를 향하여 점진적으로 확대되는 경향의 경사각을 갖는 판형으로 배열될 수 있고, 경사각을 갖는 판형의 내측에 배치되는 광소자 어레이(L1a)는 양면기판모체(10)와 등지는 경향으로 배치될 수 있다. 이와 같이, 상기 제1, 제2 유형의 광원(L3 도 5a, L1 도 5b)에서는, 광소자 어레이(L3a, L1a)의 배향이 양면기판모체(10)를 향하는 방향 또는 양면기판모체(10)로부터 등지는 방향으로 형성되면서, 서로 다른 광원(L1,L3,L4,L5) 하에서 서로 다른 명암 영역을 갖고 서로 다른 유형의 불량(예를 들어, 양면기판모체 10의 도전 패턴 사이의 단락이나 도전 패턴에 형성된 핀 홀 등)에 대한 식별성이 우수한 차등적인 이미지를 획득할 수 있다.

상기 제3 유형의 광원(L2, 도 5c)은, 광축을 따라 서로 반대편에 배치된 양면기판모체(10)와 제2 광학 렌즈(22) 사이에서 광축 상으로 배치된 빔 스플리터(50)를 포함할 수 있다. 이때, 상기 빔 스플리터(50)는 상기 광축과 교차하는 방향으로 입사되는 광소자(40)의 입사 경로와 양면기판모체(10)로부터 반사되어 제2 광학 렌즈(22)로 입사되는 촬상 경로를 분리시킬 수 있으며, 예를 들어, 광축에 대해 비스듬하게 형성된 투과/반사면(50a)을 포함하는 빔 스플리터(50)를 통하여 광축을 벗어난 광축의 둘레에 광소자(40)를 배치시키면서도, 양면기판모체(10)에 대해 수직의 입사광을 제공하여 경면 반사를 유도할 수 있다.

후술하는 바와 같이, 본 발명의 일 실시형태에서, 제1, 제2 검사유닛(U1,U2)은 양면기판모체(10)의 전체 폭을 화상 영역으로 하여 양면기판모체(10)의 전체 폭에 대한 스캔 데이터를 생성할 수 있는데, 제1, 제2 검사유닛(U1,U2)에 구비되는 제1, 제2 광원(L1,L2)은 서로 다른 유형의 불량을 포착해내기 위하여, 서로 다른 휘도 조건을 제공할 수 있다. 즉, 앞서 설명된 바와 같이, 상기 제1, 제2 검사유닛(U1,U2)은, 서로 다른 제2 유형의 광원(L1, 도 5b) 및 제3 유형의 광원(L2, 도 5c)을 포함함으로써 서로 다른 휘도 조건을 제공할 수 있으며, 예를 들어, 상기 제2 광원(L2 또는 광소자 40, 도 5c)이, 제1 광원(L1 또는 광소자 어레이 L1a, 도 5b)과 동일한 광 강도를 제공하더라도, 빔 스플리터(50)의 투과/반사면(50a)에서의 광 손실에 의해 제2 검출기(C2)에서 포착되는 광 강도가 상대적으로 낮아질 수 있고, 이에 따라, 제1, 제2 검사유닛(U1,U2)으로부터 서로 다른 휘도 조건에서 촬상된 이미지를 획득할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 광원(L1,L2,L3,L4,L5)은 광축을 벗어난 광축의 둘레에 배치됨으로써, 광축을 따라 서로 반대편에 배치된 양면기판모체(10)와 검출기(C1,C2,C3,C4,C5) 사이의 광 경로를 방해하지 않을 수 있으며, 광축의 둘레를 따라 환형이나 판형으로 배열된 다수의 점 광원(광소자 어레이, L3a, 도 5a, L1a, 도 5b)을 포함함으로써 면 광원의 형태로 양면기판모체(10)의 화상 영역에 대해 균일한 광을 조사할 수 있고, 다수의 점 광원으로부터 방사상으로 발산하는 광을 통하여 그림자 영역을 제거할 수 있다.

도면으로 도시되어 있지는 않지만, 본 발명의 일 실시형태에서 양면기판모체(10)의 제1, 제2 면 상에는 도전 패턴과 상기 도전 패턴과 연결되는 실장 영역이 형성될 수 있으며, 예를 들어, 상기 도전 패턴과 실장 영역은 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)에 형성된 촬상 광학계(광학 렌즈 21,22,23,24,25 및 검출기 C1,C2,C3,C4,C5)의 광축을 따라 서로 다른 깊이에 형성될 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시형태에 따른 양면기판모체(10)는 반사율이 서로 다른 구성을 포함할 수 있으며, 예를 들어, 상대적으로 높은 반사율을 갖는 금속 소재의 도전 패턴과 상대적으로 낮은 반사율을 갖는 절연 필름을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 도전 패턴은 절연 필름을 지지 기반으로 하여, 절연 필름 상에 형성된 다수의 도전 패턴을 포함할 수 있으며, 상기 절연 필름을 지지 기반으로 하는 양면기판모체(10)는 COF(Chip On Film) 필름이 단위기판으로 각각 절단되기 이전의 연속적인 릴 형태로 형성될 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)은 서로 다른 구조의 광원(L1,L2,L3,L4,L5)을 포함할 수 있고, 또한 서로 다른 해상도의 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)를 포함하여, 서로 다른 촬상 광학계(광학 렌즈 21,22,23,24,25 및 검출기 C1,C2,C3,C4,C5)를 형성할 수 있다. 이와 같이, 서로 다른 촬상 광학계가 형성된 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)을 통하여 서로 다른 불량에 대해 식별성이 우수한 이미지 내지는 서로 다른 유형의 불량을 포착해내기 위하여 높은 대조비의 서로 다른 명암 영역을 갖는 이미지를 획득할 수 있으며, 다양한 유형의 불량을 누락 없이 포착해낼 수 있다.

예를 들어, 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)으로부터 생성된 스캔 데이터 내지는 스캔 데이터로부터 구현된 이미지에는 명부와 암부가 형성될 수 있으며, 각각의 명부와 암부는 서로 다른 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)으로부터 생성된 스캔 데이터에서 서로 다른 휘도 데이터로 나타날 수 있으며, 예를 들어, 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)에 각각 구비된 광원(L1,L2,L3,L4,L5)의 특성에 따라, 양면기판모체(10)의 특정 영역은 명부를 형성하고, 양면기판모체(10)의 또 다른 특정 영역은 암부를 형성하면서, 상기 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)으로부터 생성된 스캔 데이터에서 서로 다른 유형의 불량이 높은 대조비를 갖는 명부 및 암부로 나타나도록 포착될 수 있다.

도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)은 양면기판모체(10)의 폭 방향을 따라 서로 다른 일부 폭을 화상 영역(A3,A4,A5)으로 할 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)은, 양면기판모체(10)의 폭 방향을 따라 균등하게 분할되어 서로에 대해 겹쳐지지 않는 일부 폭을 각각 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)의 화상 영역(A3,A4,A5)으로 포함하되, 상기 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)의 화상 영역(A3,A4,A5)은, 서로 이웃하는 검사유닛(U3,U4,U5)끼리 일부 중첩되는 폭을 더 포함할 수 있으며, 서로 이웃하는 검사유닛(U3,U4,U5)끼리 중첩되는 화소를 중심으로, 각각의 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)으로부터 생성된 스캔 데이터를 폭 방향으로 합성하여 전체 폭에 관한 스캔 데이터를 생성할 수 있다.

상기 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)은, 스캔 방향에 해당되는 양면기판모체(10)의 폭 방향(제3 방향, Z3)을 따라 서로 다른 위치에 배치되는 한편으로, 이송 방향에 해당되는 양면기판모체(10)의 길이 방향(제1 방향, Z1)을 따라 서로 다른 위치에 배치될 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서는 스캔 시간을 단축하기 위하여, 스캔 라인이 양면기판모체(10)의 폭 방향(Z3)을 따라 일부 폭으로 분할된 제3 내지 제5 검출기(C3,C4,C5)를 함께 적용하며, 이때, 상기 제3 내지 제5 검출기(C3,C4,C5)는, 양면기판모체(10)의 폭 방향(Z3)에 해당되는 스캔 방향을 따라 서로 다른 위치에 배치되는 한편으로, 서로 간의 물리적인 간섭을 회피하도록, 양면기판모체(10)의 길이 방향(Z1)에 해당되는 이송 방향을 따라서도 서로 다른 위치에 배치될 수 있다.

상기 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)은 양면기판모체(10)의 일부 폭을 화상 영역(A3,A4,A5)으로 하여, 상대적으로 높은 해상도의 스캔 데이터를 생성할 수 있다. 이와 달리, 상기 제1, 제2 검사유닛(U1,U2)은 양면기판모체(10)의 전체 폭을 화상 영역(A1,A2)으로 하여, 상대적으로 낮은 해상도의 스캔 데이터를 생성할 수 있다. 이때, 제1, 제2 검사유닛(U1,U2)이 양면기판모체(10)의 전체 폭을 화상 영역(A1,A2)으로 하여, 전체 폭을 스캔하는 동안에, 상기 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)은 양면기판모체(10)의 일부 폭을 화상 영역(A3,A4,A5)으로 하여 일부 폭을 스캔할 수 있으며, 예를 들어, 상기 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)은, 동일한 스캔 시간 동안에 각각의 화소에 해당되는 동일한 개수의 이미지 센서를 스캔할 수 있도록, 동일한 개수의 이미지 센서가 양면기판모체(10)의 폭 방향을 따라 1차원적으로 배열된 라인 스캔 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)를 포함할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제3 내지 제5 검출기(C3,C4,C5)는 같은 해상도를 갖는 고해상도의 검출기(C3,C4,C5)로 마련될 수 있으며, 예를 들어, 제1, 제2 검출기(C1,C2) 보다 높은 해상도의 검출기(C3,C4,C5)로 마련될 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1, 제2 검출기(C1,C2)는, 같은 해상도를 갖는 저해상도의 검출기(C1,C2)로 마련될 수 있으며, 예를 들어, 고해상도의 제3 내지 제5 검출기(C3,C4,C5) 보다 상대적으로 낮은 해상도의 저해상도의 검출기(C1,C2)로 마련될 수 있다. 상기 제1, 제2 검출기(C1,C2)는 양면기판모체(10)의 전체 폭을 스캔 라인으로 하여 양면기판모체(10)의 전체 폭에 대한 스캔 데이터를 생성할 수 있으며, 저해상도의 검출기(C1,C2)를 적용하여, 제3 내지 제5 검출기(C3,C4,C5)에서와 달리, 각각의 제1, 제2 검출기(C1,C2)가 양면기판모체(10)의 전체 폭을 스캔하더라도, 스캔 시간의 지연이 발생하지 않을 수 있으며, 양면기판모체(10)의 이송 시간에 대한 제약이 생기지 않을 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서는, 양면기판모체(10)의 전체 폭을 하나의 고해상도 검출기로 스캔하지 않고, 양면기판모체(10)의 폭 방향을 따라 분할된 일부 폭 상을 스캔하는 서로 다른 고해상도의 검출기, 즉, 제3 내지 제5 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)를 적용함으로써, 고해상도의 화질을 획득하면서도 스캔 시간을 단축할 수 있다. 만일 본 발명에서와 달리, 고해상도의 단일 검출기(C3,C4,C5)를 이용하여 양면기판모체(10)의 전체 폭 상을 스캔할 경우, 스캔 라인이 길어지면서 스캔 시간이 지연되고 양면기판모체(10)의 이송 속도가 제한될 수 있다.

도 6에서는 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 5개의 화소 내지는 이미지 센서를 포함하는 것으로 도시되어 있으나, 이를 이해의 편의를 위한 것으로, 본 발명의 일 실시형태에서 상기 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)은 5개 이상 다수의 이미지 센서를 포함하는 라인 스캔 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)를 포함할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서는, 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)으로부터 생성된 스캔 데이터에 대한 이미지 프로세싱을 포함하는 자동 검사가 수행되거나 또는 자동 검사와 함께, 자동 검사를 보조할 수 있는 AI(인공지능)를 이용한 딥러닝(deep learning) 또는 육안 검사가 병행될 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서는 상대적으로 높은 해상도를 갖는 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)으로부터 생성된 양면기판모체(10)의 일부 폭에 대한 스캔 데이터를 합성하는 방식으로, 양면기판모체(10)의 전체 폭에 대한 이미지를 합성할 수 있으며, 합성된 이미지를 검사자에게 제공하는 방식으로 육안 검사를 지원할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 일 실시형태에서는, 상대적으로 높은 해상도를 갖는 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)으로부터 합성된 양면기판모체(10)의 전체 폭에 대한 스캔 데이터를 양면기판모체(10)의 길이 방향(Z1)을 따라 2차원적으로 합성하여 2차원의 합성 이미지를 제공할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)의 스캔 데이터를 양면기판모체(10)의 폭 방향(Z3)을 따라 합성하여 양면기판모체(10)의 전체 폭에 관한 스캔 데이터를 생성하거나 또는 양면기판모체(10)의 길이 방향(Z1)을 따라 양면기판모체(10)의 전체 폭에 관한 스캔 데이터를 합성하여 2차원의 스캔 데이터를 생성하거나 또는 2차원의 이미지 영상을 구현하는 것은, 이미지 프로세싱을 수행하는 제어부의 관여 하에 이루어질 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 검사 롤러(I1,I2)의 외주를 따라 배열된 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 중에서 제1 군의 검사유닛은, 양면기판모체(10)의 일부 폭을 화상 영역으로 하여, 상대적으로 고해상도의 스캔 데이터를 생성할 수 있고, 또 다른 제2 군의 검사유닛은, 양면기판모체(10)의 전체 폭을 화상 영역으로 하여, 상대적으로 저해상도의 스캔 데이터를 생성할 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서, 고해상도의 제1 군의 검사유닛은, 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)을 포함할 수 있으며, 저해상도의 제2 군의 검사유닛은, 제1, 제2 검사유닛(U1,U2)을 포함할 수 있으나, 본 발명의 다양한 실시형태에서, 상기 제1 군의 검사유닛은, 검사 롤러(I1,I2)의 외주면을 따라 배치된 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 중에서 임의의 서로 다른 두 개의 검사유닛을 포함할 수 있으며, 상기 제2 군의 검사유닛은, 검사 롤러(I1,I2)의 외주면을 따라 배치된 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 중에서 상기 제1 군의 검사유닛을 제외한 임의의 적어도 하나의 검사유닛을 포함할 수 있다. 다시 말하면, 본 발명의 다양한 실시형태에서, 고해상도의 제1 군의 검사유닛 및 저해상도의 제2 군의 검사유닛은, 양면기판모체(10)의 일부 폭을 화상 영역으로 하는지 또는 양면기판모체(10)의 전체 폭을 화상 영역으로 하는지에 따라 구분될 수 있으며, 각각의 제1, 제2 군의 검사유닛에 포함되는 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 개수나 위치는, 앞서 설명된 본 발명의 일 실시형태에 의해 한정되지 않으며, 다양한 개수와 다양한 위치로 설계될 수 있다.

도 7을 참조하면, 본 발명의 일 실시형태에서 제1 내지 제5 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)는 동일한 프레임 속도로 연동될 수 있으며, 예를 들어, 상기 제1 내지 제5 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)는, 검사 롤러(I1,I2)를 구동하는 서보 모터(미도시)에 입력되는 펄스 신호에 의해 함께 연동될 수 있으며, 경시적으로 서로 연동된 동일한 시각에 촬상이 이루어질 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1 내지 제5 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)에는 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)를 동력 회전시키는 서보 모터(미도시)에 입력되는 펄스 신호와 동기화된 촬상 신호가 입력될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 일 실시형태에서, 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2, 제1, 제2 검사 롤러 I1,I2와 연결된 서보 모터)와, 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)의 외주를 따라 배열된 제1 내지 제5 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)에는 적어도 상승 에지(rising edge)끼리 서로 동기화된 펄스 신호가 입력될 수 있으며, 본 발명의 다양한 실시형태에서 상기 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2, 제1, 제2 검사 롤러 I1,I2와 연결된 서보 모터) 및 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)의 외주를 따라 배열된 제1 내지 제5 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)에는, 적어도 일부 상승 에지끼리 서로 동기화된 서로 다른 펄스 신호가 각각 입력되거나 또는 동일한 펄스 신호가 병렬적으로 입력될 수 있으며, 상기 펄스 신호는 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)에 대한 구동 신호로서 서보 모터(미도시)에 입력될 수 있고, 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)에 대한 촬상 신호로서 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)에 입력될 수 있다.

이와 같이, 상기 제1 내지 제5 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)는, 양면기판모체(10)의 길이 방향을 따라 동일한 속도로 이송되는 양면기판모체(10)에 대해, 동일한 프레임 속도로 촬상을 진행하므로, 저해상도의 제1, 제2 검출기(C1,C2)가 양면기판모체(10)의 전체 폭을 스캔하는 동안에, 고해상도의 제3 내지 제5 검출기(C3,C4,C5)는 양면기판모체(10)의 일부 폭을 스캔할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1 내지 제5 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)는 양면기판모체(10)의 폭 방향을 따라 서로 다른 폭의 화상 영역을 갖되, 광학적으로 서로 다른 배율의 제1 내지 제5 광학 렌즈(21,22,23,24,25)를 통하여 서로 다른 확대 배율의 화상을 입력으로 하는 서로 같은 개수의 센서(광전변환센서)를 포함하는 1차원 센서 어레이를 구비하는 라인 스캔 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)를 포함할 수 있다.

도 3a 내지 도 4b를 참조하면, 상기 제1 내지 제5 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 광축 상에는 제1 내지 제5 광학 렌즈(21,22,23,24,25)가 배치될 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서, 각각의 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)에서, 제1 내지 제5 광학 렌즈(21,22,23,24,25)와 제1 내지 제5 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)는 각각 일체로 형성된 하나의 카메라 모듈(총 5개의 카메라 모듈)을 형성할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1 내지 제5 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 광축 상에 배치되는 제1 내지 제5 광학 렌즈(21,22,23,24,25)는 서로 다른 배율의 줌렌즈로 마련될 수 있다. 예를 들어, 상대적으로 저해상도의 제1, 제2 검출기(C1,C2)의 광축 상에 배치되는 제1, 제2 광학 렌즈(21,22)는, 정배율(1배율) 보다는 높은 동일한 배율이면서 상대적으로 낮은 배율의 광학 렌즈(21,22)를 포함할 수 있으며, 상대적으로 고해상도의 제3 내지 제5 검출기(C3,C4,C5)의 광축 상에 배치되는 제3 내지 제5 광학 렌즈(23,24,25)는, 정배율(1배율) 보다는 높은 동일한 배율이면서 상대적으로 높은 배율의 광학 렌즈(23,24,25)를 포함할 수 있다. 이와 같이 상대적으로 높은 배율의 광학 렌즈(23,24,25)와 광학적으로 정렬된 고해상도의 제3 내지 제5 검출기(C3,C4,C5)로부터의 스캔 데이터에 근거하여 양면기판모체(10)의 이미지를 구현할 수 있으며, 스캔 데이터에 근거한 비전 검사와 함께, 스캔 데이터로부터 AI(인공지능)를 이용한 딥러닝(deep learning) 또는 스캔 데이터로부터 구현된 가시적인 이미지를 이용한 육안 검사가 병행될 수 있다.

도 3a 내지 도 4b를 참조하면, 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)은, 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)의 공급 롤러(I11,I21)로부터 배출 롤러(I12,I22)를 향하여 순차적으로 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 검사유닛(U1)은 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)의 공급 롤러(I11,I21)와 가장 가까운 검사 위치(검사 개시점, S)에 배치될 수 있으며, 상기 제5 검사유닛(U5)은 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)의 배출 롤러(I12,I22)와 가장 가까운 검사 위치(검사 종료점, F)에 배치될 수 있다. 그리고, 검사 개시점(S)에 배치된 제1 검사유닛(U1)과 검사 종료점(F)에 배치된 제5 검사유닛(U5) 사이의 서로 다른 위치에는, 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)이 배치될 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 내지는 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 위치란, 검사영역(IC)을 따라 서로 다른 각도 위치를 의미할 수 있으며, 예를 들어, 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 위치 또는 제1 내지 제5 검출기(C3,C4,C5)의 위치란, 검사영역(IC)을 따라 배치된 제1 내지 제5 검출기(C3,C4,C5)의 지향 각도 내지는 제3 내지 제5 검출기(C3,C4,C5)에 구비된 촬상 광학계의 광축 방향을 의미할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)은 검사영역(IC)을 따라 서로 다른 위치에 배치될 수 있는데, 검사 롤러(I1,I2)의 외주를 따라 180도 각도 영역에 형성되어 있는 검사영역(IC)을 5개소로 균등 분할하여, 다시 말하면, 검사영역(IC)의 검사 개시점(S)과 검사 종료점(F)에 각각 제1 검사유닛(U1)과 제5 검사유닛(U5)을 배치하고, 상기 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 사이에 배치된 서로 이웃하는 제2 내지 제4 검사유닛(U2,U3,U4)은 45도의 사이 각도를 형성하도록 제2 내지 제4 검사유닛(U2,U3,U4)을 배치할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서는, 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 서로 이웃하는 사이 각도를 45도로 설정하여, 서로 이웃하는 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 사이의 물리적인 간섭을 회피함과 아울러, 서로 이웃하는 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 사이의 광 간섭을 회피할 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서는 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 마다 설정된 고유한 휘도 조건이 이웃하는 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 광원(L1,L2,L3,L4,L5)에 의해 방해받지 않고 독립적으로 구현될 수 있도록, 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 서로 이웃하는 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 사이에 검사영역(IC)을 균등 분할한 45도의 사이 각도를 형성함으로써, 서로 이웃하는 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 사이에 광 간섭이 생기더라도, 광 간섭으로 인한 양불 판정의 오류가 최소화되도록 할 수 있다.

참고로, 본 명세서에 첨부된 도면들에서는 검사 롤러(I1,I2)의 외주를 따라 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 5개의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치되는 것으로 예시되어 있으나, 검사 롤러(I1,I2)의 외주를 따라 배치되는 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 개수는 5개로 한정될 필요가 없으며, 본 발명의 다양한 실시형태에서는, 검사 롤러(I1,I2)의 외주를 따라 5개 보다 작은 개수 또는 5개 보다 큰 개수로 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치될 수 있다.

본 명세서에 첨부된 도면들에서는 검사 롤러(I1,I2)의 외주를 따라 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치되는 검사영역(IC)이 180도의 반원영역에 형성되는 것으로 예시되어 있으나, 본 발명의 기술적 범위는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 다양한 실시형태에서, 상기 검사영역(IC)은 180도 보다 작은 각도 또는 180도 보다 큰 각도 범위에서 형성될 수 있다.

본 명세서에 첨부된 도면들에서는 검사 롤러(I1,I2)의 외주를 따라 180도의 반원 영역에 형성되어 있는 검사영역(IC)을 5개소로 균등 분할하여, 균등 분할된 위치에 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치되며, 서로 이웃하는 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 사이에 45도의 사이 각도가 형성되는 것으로 예시되어 있으나, 본 발명의 기술적 범위는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 다양한 실시형태에서, 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치되는 검사영역(IC)은 180도 보다 작거나 또는 180도 보다 큰 각도 범위에서 형성될 수 있으며, 검사영역(IC)에 배치되는 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 개수도 5개 보다 작거나 큰 개수로 설계될 수 있으므로, 서로 이웃하는 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 사이에 형성되는 사이 각도는 45도로 한정되지 않으며, 예를 들어, 본 발명의 다양한 실시형태에서, 검사영역(IC)의 각도 범위, 검사영역(IC)에 배치되는 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 개수 등에 따라 서로 이웃하는 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 사이에 형성되는 사이 각도는 45도 보다 크거나 작게 설계될 수 있다.

도 3a 내지 도 4b를 참조하면, 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 상에는 외주면의 위치 변화를 포착하여 외주면 상에 감겨진 양면기판모체(10)가 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 초점 심도(depth of focus) 내에서 결상되도록 하기 위한 인 포커싱(in-focusing) 기구가 마련될 수 있다. 이하에서는 본 발명의 일 실시형태에 따른 기판검사장치에 마련되는 인 포커싱 기구에 대해 설명하기로 한다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 검사 롤러(I1,I2)는 금속 드럼으로 마련될 수 있으며, 광원(L1,L2,L3,L4,L5)으로부터 조사되는 광이 검사 롤러(I1,I2)의 표면에 의해 반사되어 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)에 의해 포착되지 않도록, 상기 검사 롤러(I1,I2)는 표면이 흑색으로 착색된 금속 드럼으로 마련될 수 있다. 예를 들어, 상기 검사 롤러(I1,I2)는 광원(L1,L2,L3,L4,L5)으로부터 조사되는 광을 흡수하거나 광원(L1,L2,L3,L4,L5) 자체의 구동 열에 의해 과열되면서, 검사 롤러(I1,I2)를 형성하는 구체적인 금속 소재의 열팽창계수에 따라 방사상 방향으로 팽창할 수 있다.

도 8을 참조하면, 상기 검사 롤러(I1,I2)의 외주면이 검출기(C1,C2,C3,C4,C5, 검출기 C1,C2,C3,C4,C5의 촬상면 80)를 향하여 접근하도록 팽창하면서, 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 상의 양면기판모체(10)는 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 촬상면(80)을 벗어난 위치에서 결상될 수 있고, 예를 들어, 양면기판모체(10)의 결상면(80`)이 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 촬상면(80)으로부터 초점 심도(depth of focus)를 벗어난 위치에 형성되면서, 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 촬상면(80)에는 착란원(85, circles of confusion) 또는 상퍼짐(blurring)이 형성될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 양면기판모체(10)는 절연 필름을 지지 기반으로 하여, 절연 필름 상에 형성된 다수의 도전 패턴을 포함할 수 있는데, 이러한 도전 패턴의 두께는 수 μm에서 수십 μm 수준으로 얇게 형성될 수 있으며, 수 μm에서 수십 μm 두께의 도전 패턴에 대한 고해상도의 스캔 데이터를 형성하기 위한 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)은, 수 μm 또는 수십 μm 이하의 초점 심도(depth of focus)를 가질 수 있다. 예를 들어, 3도의 온도 상승에 따라 팽창된 검사 롤러(I1,I2)는, 검사 롤러(I1,I2)의 외주면과 촬상면(80) 사이의 거리를 10 μm 만큼 단축시킬 수 있기 때문에, 온도 모니터링을 통하여 검사 롤러(I1,I2)의 팽창에 따른 아웃 포커스(out of focus)를 포착할 필요가 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상대적으로 저배율(저해상도)의 스캔 데이터를 생성하는 제1, 제2 검사유닛(U1,U2)에서 보다는, 상대적으로 고배율(고해상도)의 스캔 데이터를 생성하는 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)에서 검사 롤러(I1,I2)의 팽창에 따른 아웃 포커스(out of focus)가 야기될 개연성이 높을 수 있고, 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)에 구비된 제3 내지 제5 광학 렌즈(23,24,25)는, 제1, 제2 검사유닛(U1,U2)에 구비된 제1, 제2 광학 렌즈(21,22) 보다 상대적으로 높은 배율의 광학 렌즈(23,24,25)를 포함할 수 있으며, 상대적으로 높은 배율의 광학 렌즈(23,24,25)에서는 상대적으로 초점 심도(depth of focus)가 짧기 때문에, 동일한 검사 롤러(I1,I2)의 팽창에 대해 제1, 제2 검사유닛(U1,U2)에서 보다는 제3 내지 제5 검사유닛(U3,U4,U5)에서 초점 심도를 벗어날 개연성이 높을 수 있으며, 검사 롤러(I1,I2)의 팽창을 보다 민감하게 포착할 필요성이 있을 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서는, 양면기판모체(10)가 감겨진 외주면의 위치 변화를 모니터링하여, 검사 롤러(I1,I2)의 과열에 따라 양면기판모체(10)의 결상면(80`)이 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 촬상면(80)으로부터 초점 심도를 벗어나는 아웃 포커스(out of focus)를 포착할 수 있다.

도 3a 내지 도 4b를 참조하면, 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 검사 롤러(I1,I2)의 원주 방향을 따라서는 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치되는 검사영역(IC)과, 양면기판모체(10)의 공급(공급 롤러 I11,I21) 및 배출(배출 롤러 I12,I22)과 검사 롤러(I1,I2)에 대한 클리닝(드럼 클리너 G) 및 검사 롤러(I1,I2)의 냉각이 이루어지는 비검사영역(NIC)이 형성될 수 있으며, 상기 비검사영역(NIC)에는 적어도 하나 이상의 변위 센서(R)가 배치될 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 변위 센서(R)는 검사 롤러(I1,I2)의 외주면으로부터 이격된 위치에서 외주면을 향하는 지향 각도를 갖고 외주면의 위치 변화를 측정하는 비접촉식 변위 센서(R)로 구현될 수 있으며, 예를 들어, 레이저 변위 센서(R)로 구현될 수 있다. 상기 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 상에는 양면기판모체(10)가 감겨져 있으므로, 검사 롤러(I1,I2)의 외주면에 대한 접촉식 변위 측정 보다는, 외주면으로부터 이격된 위치에서 측정이 이루어지는 비접촉식 변위 측정이 선호될 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 변위 센서(R)는, 변위 센서(R)가 지향하는 외주면 상의 일 개소로부터의 이격 거리를 측정할 수 있으며, 측정된 이격 거리에 관한 전기적인 신호를 출력할 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서, 변위 센서(R)로부터 출력되는 전기적인 신호는 제어부로 입력될 수 있으며, 변위 센서(R)의 출력에 근거하여, 검사 롤러(I1,I2)의 외주면의 위치 변화에 따라 양면기판모체(10)의 결상 위치(결상면 80`, 도 8)가 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 초점 심도를 벗어난 것으로 판단한 제어부는, 검사 롤러(I1,I2)의 과열을 해소하고 검사 롤러(I1,I2)의 외주면을 과열 이전의 수준으로 복귀시킴으로써, 양면기판모체(10)의 결상 위치(결상면 80`, 도 8)가 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 초점 심도 내에 형성되도록 하기 위하여, 검사 롤러(I1,I2)를 냉각시킬 수 있다. 본 발명의 다양한 실시형태에서, 상기 변위 센서(R)로부터 출력되는 전기적인 신호는 제어부(미도시)로 입력될 수 있으며, 변위 센서(R)의 출력에 근거하여, 검사 롤러(I1,I2)의 외주면의 위치 변화에 따라 양면기판모체(10)의 결상 위치(결상면 80`, 도 8)가 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 초점 심도를 벗어난 것으로 판단한 제어부는, 광학 렌즈(21,22,23,24,25) 및/또는 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 각각의 광축 모터를 이용하여 인포커싱 되도록 위치를 제어할 수 있다..

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 변위 센서(R)는 각각의 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 상에 배치된 하나씩의 변위 센서(R)를 포함할 수 있으며, 제1 검사 롤러(I1)의 변위 센서(R)는 제1 검사유닛(U1)이 배치된 검사 개시점(S)에 인접한 위치로서 검사 개시점(S) 이전의 선행하는 위치, 예를 들어, 제1 검사 롤러(I1)의 외주면을 따라 제1 검사유닛(U1)과 드럼 클리너(G) 사이에 배치될 수 있으며, 제2 검사 롤러(I2)의 변위 센서(R)는 제5 검사 유닛(U5)이 배치된 검사 종료점(F)에 인접한 위치로서 검사 종료점(F) 이후의 후행하는 위치, 예를 들어, 제2 검사 롤러(I2)의 외주면을 따라 제5 검사유닛(U5)과 드럼 클리너(G) 사이에 배치될 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서는 각각의 검사 롤러(I1,I2) 마다 하나씩 배치되어 있는 변위 센서(R)를 이용하여 검사 롤러(I1,I2)의 과열을 포착하고, 과열이 포착된 검사 롤러(I1,I2)의 온도를 적정 수준으로 제어함으로써, 예를 들어, 과열로 팽창된 검사 롤러(I1,I2)에 대한 냉각을 통하여 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 위치를 초점 심도 내로 유지할 수 있다.

보다 구체적으로, 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 상에는, 상기 변위 센서(R)와 함께, 상기 변위 센서(R)로부터의 전기적인 출력 신호에 따라, 검사 롤러(I1,I2)의 과열을 해소하고 검사 롤러(I1,I2)의 외주면을 과열 이전의 상태로 복원시키기 위한, 드럼 쿨러(미도시)가 배치될 수 있다. 상기 드럼 쿨러(미도시)는, 검사 롤러(I1,I2)의 외주면에 대해 탄성적으로 접촉한 상태에서, 검사 롤러(I1,I2)의 과열 여부 내지는 검사 롤러(I1,I2)의 팽창 여부와 무관하게, 외주면과의 접촉 상태를 유지하면서, 외주면에 대한 흡열을 수행할 수 있다.

예를 들어, 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 드럼 쿨러(미도시)는, 냉각 요소와 상기 냉각 요소를 외주면 상에 탄성 접촉시키기 위한 탄성 가압수단을 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 냉각 요소는 히트 파이프 또는 열전 소자(thermoelectric device, TED)와 같이, 냉각 요소의 일단은 흡열부로 작용하고, 냉각 요소의 타단은 방열부로 작용할 수 있으며, 상기 탄성 가압수단은 냉각 요소의 일단에 형성된 흡열부를 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 상에 가압 접촉시킬 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 드럼 쿨러(미도시)는, 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치되어 있지 않은 비검사영역(NIC)에 배치될 수 있으며, 비검사영역(NIC)에서 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 상의 일 개소에 대해 탄성적으로 접촉될 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서는 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 지향하는 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 상의 개별적인 위치 변화를 포착하기 위하여, 검사 롤러(I1,I2)의 외주면을 따라 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)과 인접한 각각의 위치마다 전용의 변위 센서(R)가 배치될 수 있다. 예를 들어, 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)마다에 할당된 전용의 변위 센서(R)는 검사 롤러(I1,I2)의 외주면을 따라 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치된 검사영역(IC)에 배치될 수 있으며, 서로 이웃하게 배치된 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 사이에 배치될 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서는, 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)마다에 할당된 변위 센서(R)의 출력으로부터 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 지향하는 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 상의 개별적인 위치 변화를 포착할 수 있으며, 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 지향하는 개별적인 위치 변화에 따라 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 광축 상의 위치를 제어할 수 있다. 본 명세서를 통하여 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 광축 상의 위치를 제어한다는 것은, 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)에 구비된 광학 렌즈(21,22,23,24,25) 및/또는 검출기(C1,C2,C3,C4,C5)의 광축 상의 위치를 제어한다는 것을 의미할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서는, 검사 롤러(I1,I2)의 과열 내지는 팽창에 대응하여, 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 광축 상의 위치를 제어하기 위한 광축 모터(미도시)를 구동함으로써, 검사 롤러(I1,I2)의 과열에 따른 외주면의 위치 변화에도 불구하고 양면기판모체(10)의 결상 위치를 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 초점 심도 내로 유지할 수 있으며, 검사 롤러(I1,I2)의 과열에 따른 외주면의 접근에 대응하여, 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 광축 상의 위치를 외주면으로부터 멀어지도록 제어함으로써, 인 포커스를 유지할 수 있다. 이때, 상기 광축 모터의 제어는, 앞서 설명된 바와 같이 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5) 마다에 할당된 전용의 변위 센서(R)의 출력에 근거하여 이루어질 수 있다.

본 발명의 다양한 실시형태에서, 변위 센서(R)의 출력으로부터 외주면의 위치 변화를 포착하고, 외주면의 위치 변화에 따른 검사 롤러(I1,I2)의 냉각과 광축 모터(미도시)의 구동은, 선택적으로 또는 병행적으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 일 실시형태에 따른 기판검사장치는, 상기 변위 센서(R)와 연결되는 한편으로, 검사 롤러(I1,I2)의 냉각을 위한 드럼 쿨러(미도시) 및 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 광축 상의 위치를 이동시키기 위한 광축 모터(미도시)와 연결되는 제어부(미도시)를 포함할 수 있으며, 상기 제어부(미도시)는 변위 센서(R)의 출력 신호로부터 검사 롤러(I1,I2)의 외주면의 위치 변화를 포착하고, 검사 롤러(I1,I2)의 과열 내지는 팽창에 따른 외주면의 위치 변화에 따라 드럼 쿨러(미도시) 및/또는 광축 모터(미도시)를 가동하여, 검사 롤러(I1,I2)의 외주면의 위치를 초점 심도 내로 유지할 수 있다.

예를 들어, 검사 롤러(I1,I2)의 외주면의 과열 내지는 팽창에 대응하여 신속한 검사 롤러(I1,I2)의 냉각이 어려운 경우와 같이, 검사 롤러(I1,I2)의 냉각 효율이 떨어질 경우, 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 광축 상의 위치를 제어하기 위한 광축 모터(미도시)의 구동을 통하여 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 위치를 초점 심도 내로 유지할 수 있다. 예를 들어, 상기 검사 롤러(I1,I2)의 제조 상의 한계로 인하여, 검사 롤러(I1,I2)가 정확한 진원을 형성하지 못하고 편심된 경우에는, 각각의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 지향하는 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 상의 개별적인 위치에 대응하여 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 광축 상의 위치를 개별적으로 제어할 수 있다.

본 발명의 다양한 실시형태에서, 상기 변위 센서(R)는 검사 롤러(I1,I2)의 외주면을 따라 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치된 검사영역(IC)에 배치될 수 있고, 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배제된 비검사영역(NIC)에 배치될 수도 있다. 본 발명의 다양한 실시형태에서, 상기 변위 센서(R)는 양면기판모체(10)가 배제된 검사 롤러(I1,I2)의 외주면의 위치 변화를 포착할 수 있으며, 예를 들어, 양면기판모체(10)의 폭 방향을 따라 양면기판모체(10)가 배제된 검사 롤러(I1,I2)의 여분의 위치를 지향하거나 또는 양면기판모체(10)의 길이 방향을 따라 양면기판모체(10)가 검사 롤러(I1,I2) 상에 감겨지기 이전의 위치 또는 양면기판모체(10)가 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 상으로부터 이탈된 이후의 위치를 지향할 수 있다. 상기 변위 센서(R)는 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 상에서 강성의 부족으로 다수의 진동(fluctuation)을 갖는 양면기판모체(10) 자체 보다는 검사 롤러(I1,I2)의 외주면 상의 위치 변화를 포착할 수 있다.

도 2a 내지 도 2c를 참조하면, 본 발명의 일 실시형태에서, 각각의 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)에 구비된 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)의 외주를 따라서는, 양면기판모체(10)의 제1, 제2 면에 대한 검사가 수행되는 검사영역(IC)과 양면기판모체(10)에 대한 공급(공급 롤러 I11,I12) 및 배출(배출 롤러 I12,I22)이 이루어지면서 공급 및 배출 사이에서 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)에 대한 클리닝(드럼 클리너 G)이 이루어지는 비검사영역(NIC)이 형성될 수 있다.

상기 검사영역(IC)을 따라 배열되는 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 배치 순서에 대해, 상기 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)은, 검사 스테이지(LS,IS1,IS2,US)의 공급 롤러(I11,I21)로부터 배출 롤러(I12,I22)를 향하여 순차적으로 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 검사유닛(U1)은 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)의 공급 롤러(I11,I21)와 가장 가까운 검사 위치(검사 개시점 S)에 배치될 수 있으며, 상기 제5 검사유닛(U5)은 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)의 배출 롤러(12,I22)와 가장 가까운 검사 위치(검사 종료점 F)에 배치될 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 검사영역(IC)과 비검사영역(NIC)은 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)의 반원에 해당되는 180도를 가로지르는 경계선(O)을 중심으로 이분될 수 있으며, 상기 검사영역(IC)과 비검사영역(NIC)은 180도를 따라 연장되는 경계선(O)을 중심으로 이분될 수 있다. 이때, 상기 검사영역(IC)과 비검사영역(NIC)을 경계 짓는 경계선(O)은, 베이스 플레이트(70)의 장변부를 따르는 제1 방향(Z1)과 베이스 플레이트(70)의 단변부를 따르는 제2 방향(Z2)을 동시에 추종하는 비스듬한 경사를 따라 연장될 수 있다. 예를 들어, 상기 경계선(O)은 서로 수직으로 교차하는 제1, 제2 방향(Z1,Z2) 사이에서 45도 각도를 갖는 비스듬한 경사를 가질 수 있다. 상기 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2) 내지는 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)에서 검사영역(IC)과 비검사영역(NIC)은 서로에 대해 나란하게 비스듬한 경사를 따라 연장되는 경계선(O)을 따라 구획될 수 있다.

참고로, 본 발명의 다양한 실시형태에서, 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치되는 검사영역(IC) 및 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치되지 않는 비검사영역(NIC)은, 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)의 외주면을 따라 180도의 각도 영역으로 한정될 필요가 없으며, 또한 각각의 검사영역(IC)에 배치되는 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 개수도 예시된 바와 같이, 5개로 한정될 필요가 없다. 본 발명의 일 실시형태에서, 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치된 검사영역(IC) 및 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배치되지 않은 비검사영역(NIC)을 각각 반원으로 표현하고 있으나, 이러한 표현은 이해의 편의를 위한 것이며, 상기 검사영역(IC) 및 비검사영역(NIC)이 반원에 해당되는 180도의 각도 영역에서 형성된다는 것을 한정하기 위한 것이 아니다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 경계선(O)의 일단 위치 및 타단 위치에는 각각 검사 개시점(S)과 검사 종료점(F)이 형성될 수 있으며, 제2 방향(Z2)을 따라 상기 경계선(O)의 일단 위치 및 타단 위치 중에서 하부 위치와 상부 위치에 각각 검사 개시점(S)과 검사 종료점(F)이 형성될 수 있다. 이러한 검사 개시점(S)과 검사 종료점(F)은 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)에서 서로 대응되는 각도 위치에 형성될 수 있으며, 상기 검사 개시점(S)과 검사 종료점(F)을 연결하는 2개의 반원(상부 반원 및 하부 반원) 중에서 어느 하나의 반원은 검사영역(IC)을 형성할 수 있고, 나머지 다른 반원은 비검사영역(NIC)을 형성할 수 있다.

상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)의 검사영역(IC)은 상기 경계선(O)을 중심으로 서로 반대되는 반원에 해당될 수 있으며, 유사하게, 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)의 비검사영역(NIC)은 상기 경계선(O)을 중심으로 서로 반대되는 반원에 해당될 수 있다. 예를 들어, 제1 검사 스테이지(IS1)의 검사영역(IC)은 제2 검사 스테이지(IS2)의 비검사영역(NIC)에 대응될 수 있고(제1, 제2 검사 스테이지 IS1,IS2의 상부 반원), 제1 검사 스테이지(IS1)의 비검사영역(NIC)은 제2 검사 스테이지(IS2)의 검사영역(IC)에 대응될 수 있다(제1, 제2 검사 스테이지 IS1,IS2의 하부 반원). 상기 제1 검사 스테이지(IS1)에서는 양면기판모체(10)의 제1 면에 대한 비전 검사가 수행되는 한편으로, 상기 제2 검사 스테이지(IS2)에서는 양면기판모체(10)의 제2 면에 대해 비전 검사가 수행되므로, 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)에서 양면기판모체(10)의 서로 반대편에 형성된 제1, 제2 면에 대한 비전 검사가 수행되도록, 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)에서의 검사영역(IC)은 서로 반전되는 상부 반원과 하부 반원에 형성될 수 있다.

상기 제1 검사 스테이지(IS1)에서 검사영역(IC)은 검사 개시점(S)으로부터 검사 종료점(F)을 향하여 시계 방향을 따라 연장될 수 있으며, 상기 제2 검사 스테이지(IS2)에서 검사영역(IC)은 검사 개시점(S)으로부터 검사 종료점(F)을 향하여 반시계 방향으로 연장될 수 있다. 달리 말하면, 제1 검사 스테이지(IS1)에서의 검사 방향과 제2 검사 스테이지(IS2)에서의 검사 방향은 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)를 중심으로 각각 시계 방향과 반시계 방향으로 서로 반전될 수 있으며, 이에 따라, 제1 검사 스테이지(IS1)에서의 검사 방향을 따라 검사 개시점(S)과 검사 종료점(F)은, 검사영역(IC)의 하부에서 상부를 향하게 되며, 또한, 제2 검사 스테이지(IS2)에서의 검사 방향을 따라 검사 개시점(S)과 검사 종료점(F)도, 검사영역(IC)의 하부에서 상부를 향하게 된다.

이와 같이, 상기 제1 검사 스테이지(IS1)와 제2 검사 스테이지(IS2)에서 검사 개시점(S)과 검사 종료점(F)이 각각 하부 위치와 상부 위치에 형성됨으로써, 예를 들어, 각각의 검사영역(IC)의 하부 일단과 상부 일단을 검사 개시점(S)과 검사 종료점(F)으로 하여 검사가 진행됨으로써, 양면기판모체(10)의 자중의 영향을 배제하고, 양면기판모체(10)와 검사 롤러(I1,I2) 간의 흡착력 및 이와 상관관계(ex. 수직 항력으로서의 흡착력에 비례하는 마찰력)를 갖는 마찰력에 의해 양면기판모체(10)의 이송을 제어할 수 있으며, 양면기판모체(10)와 검사 롤러(I1,I2) 간의 흡착력 및 마찰력을, 검사영역(IC)에 걸쳐서 균일하게 유지할 수 있으며, 예를 들어, 자중의 영향에 따른 양면기판모체(10)와 검사 롤러(I1,I2) 간의 위치 어긋남이나, 양면기판모체(10)의 구겨짐이나 뒤틀림과 같은 영향을 배제할 수 있다.

보다 구체적으로 설명하면 이하와 같다. 즉, 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 검사영역(IC)이 검사 롤러(I1,I2)의 최하부 위치로부터 검사 롤러(I1,I2)의 최상부 위치 사이에 형성되지 않고, 이들을 벗어난 위치에 형성되는 것, 그러니까, 검사 개시점(S)과 검사 종료점(F)이 검사 롤러(I1,I2)의 최하부 위치 및 최상부 위치에 형성되지 않는 것은, 검사 개시점(S)에서 검사 롤러(I1,I2)의 외주면을 향하여 양면기판모체(10)가 완만한 각도로 접근하도록 하고, 검사 종료점(F)에서 검사 롤러(I1,I2)의 외주면으로부터 양면기판모체(10)가 완만한 각도로 이탈하도록 하기 위한 목적에 기여할 수 있다. 즉, 본 발명의 일 실시형태에서는, 양면기판모체(10)가 검사 롤러(I1,I2)의 외주면에 대해 완만한 각도로 접근할 수 있고, 또한, 완만한 각도로 이탈할 수 있도록, 상기 검사영역(IC)이 제1, 제2 방향(Z1,Z2)을 동시에 추종하도록 비스듬하게 경사진 경계선(O), 예를 들어, 제1, 제2 방향(Z1,Z2)을 균등하게 분할하는 45도 각도의 경계선(O)을 중심으로 반원을 차지할 수 있고, 이에 따라 반원의 일단 및 타단에 해당되는 검사 개시점(S)과 검사 종료점(F)에서 양면기판모체(10)의 접근 및 이탈이 완만한 각도로 이루어질 수 있다.

보다 구체적으로, 상기 검사영역(IC)은 제1, 제2 방향(Z1,Z2)을 동시에 추종하도록 비스듬하게 경사진 경계선(O)을 중심으로 상부 반원 또는 하부 반원에 형성될 수 있는데, 이러한 구조를 통하여 검사 개시점(S)과 검사 종료점(F)에서 양면기판모체(10)가 완만한 각도로 검사 롤러(I1,I2)의 외주면에 대해 접근하여 면 접촉을 형성할 수 있고, 또한 검사 종료점(F)에서 양면기판모체(10)가 완만한 각도로 검사 롤러(I1,I2)의 외주면으로부터 이탈할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서는, 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)에서 검사영역(IC)과 비검사영역(NIC)이 서로 반전되는 배향으로 형성되는 한편으로, 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)의 서로 마주하는 근거리 위치에는 비검사영역(NIC)이 형성되고, 서로로부터 등지는 원거리 위치에는 검사영역(IC)이 형성될 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서는, 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)에서 서로에 대한 근거리 위치(서로 마주하는 위치)에 형성된 비검사영역(NIC)을 통하여 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2) 사이의 제2 이송제어기구(M2)가 형성될 수 있는 여분의 공간이 확보될 수 있고(제1, 제2 검사 스테이지 IS1,IS2의 비검사영역 NIC에는 검사유닛 U1,U2,U3,U4,U5이 배치되지 않음), 서로에 대한 원거리의 위치(서로 등지는 위치)에 검사영역(IC)을 형성함으로써, 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)을 배치할 수 있는 충분한 공간을 확보할 수 있다.

만일 본 발명에서와 달리, 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)의 서로 마주하는 위치에 다수의 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배열된 검사영역(IC)이 형성되면, 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2) 사이의 거리가 충분히 확보될 필요가 있으므로, 제1 방향(Z1)을 따라 기판검사장치의 종장이 증가하게 된다. 본 발명의 일 실시형태에서는 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)의 서로 마주하는 위치에 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)이 배제된 비검사영역(NIC)이 형성됨으로써, 제1 방향(Z1)을 따라 기판검사장치의 종장을 단축할 수 있고, 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2) 사이에 제2 이송제어기구(M2)를 배치할 수 있는 여분의 공간을 확보할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1 검사 스테이지(IS1)에 선행하는 제1 이송제어기구(M1)로부터 배출되는 양면기판모체(10)는 제1 검사 스테이지(IS1)의 검사영역(IC)을 회피하도록 제1 검사 스테이지(IS1)의 검사영역(IC)을 우회하여 U-턴되는 하부 유턴 구간(T1, 도 2b)을 형성하면서 제1 검사 롤러(I1)의 하부 위치에 형성된 검사 개시점(S)을 향하여 공급될 수 있다. 그리고, 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2) 사이에 배치된 제2 이송제어기구(M2)에 대한 공급 및 배출은 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)의 서로 마주하는 비검사영역(NIC)을 통하여 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)의 방해 없이 이루어질 수 있으며, 예를 들어, 제1 검사 스테이지(IS1)로부터 배출되는 양면기판모체(10)는, 제1 검사 롤러(I1)의 상부 위치에 형성된 검사 종료점(F)으로부터 제2 이송제어기구(M2)로 공급될 수 있으며, 제2 이송제어기구(M2)로부터 배출되는 양면기판모체(10)는 제2 검사 롤러(I2)의 하부 위치에 형성된 검사 개시점(S)을 향하여 공급될 수 있다. 그리고, 상기 제2 검사 스테이지(IS2)로부터 배출되는 양면기판모체(10)는 제2 검사 롤러(I2)의 상부 위치에 형성된 검사 종료점(F)으로부터 제2 검사 스테이지(IS2)의 검사영역(IC)을 우회하여 U-턴되는 상부 유턴 구간(T2, 도 2b)을 형성하면서 제3 이송제어기구(M3)로 공급될 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에 따른 기판검사장치에서, 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)의 서로에 대한 근거리 위치(서로 마주하는 위치)에는 비검사영역(NIC)이 형성되며, 상기 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)의 서로에 대한 원거리 위치(서로 등지는 위치)에는 검사영역(IC)과 상기 검사영역(IC)을 회피하도록 U-턴하여 양면기판모체(10)가 공급 또는 배출되는 유턴 구간(T1,T2, 도 2b)이 형성될 수 있다. 이때, 상기 유턴 구간(T1,T2, 도 2b)은, 제1 검사 스테이지(IS1)의 상부 반원(검사영역 IC)을 우회하여 하부 위치에 형성된 하부 유턴 구간(T1)과, 제2 검사 스테이지(IS2)의 하부 반원(검사영역 IC)을 우회하여 상부 위치에 형성된 상부 유턴 구간(T2)을 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에서, 상기 하부 유턴 구간(T1)은 양면기판모체(10)가 이송되는 제1 방향(Z1)을 따라 전방 위치에 형성될 수 있으며, 상기 상부 유턴 구간(T2)은 양면기판모체(10)가 이송되는 제1 방향(Z1)을 따라 후방 위치에 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 하부 유턴 구간(T1)은 제1 방향(Z1)을 따라 제1 검사 스테이지(IS1)와 겹치는 전방 위치에 형성될 수 있으며, 상기 상부 유턴 구간(T2)은 제1 방향(Z1)을 따라 제2 검사 스테이지(IS2)와 겹치는 후방 위치에 형성될 수 있다.

상기 제1 검사 스테이지(IS1)에서 제1 검사 롤러(I1)에 대해 제2 방향(Z2)을 따라 수직 방향으로 공급되는 양면기판모체(10)는, 검사 개시점(S)을 향하여 상방으로 진행하면서 제1 방향(Z1)을 따라 전방으로 꺾여 45로 각도로 비스듬하게 접근하면서, 제1 검사 롤러(I1)의 외주면 상에 흡착되어 제1 검사 롤러(I1) 상에 권취되어 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)을 향하여 이송될 수 있다.

상기 제2 검사 스테이지(IS2)에서 제2 검사 롤러(I2)에 대해 제1 방향(Z1)을 따라 수평 방향으로 공급되는 양면기판모체(10)는, 검사 개시점(S)을 향하여 진행하면서 제2 방향(Z2)을 따라 하방으로 꺾여 45로 각도로 비스듬하게 접근하면서, 제2 검사 롤러(I2)의 외주면에 흡착되어 제2 검사 롤러(I2) 상에 권취되어 제1 내지 제5 검사유닛(U1,U2,U3,U4,U5)을 향하여 이송될 수 있다.

도 2c를 참조하면, 상기 양면기판모체(10)는 비검사영역(NIC)을 통하여 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)를 향하여 공급되거나 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)로부터 배출될 수 있는데, 양면기판모체(10)가 이송되는 제1 방향(Z1)을 따라 전방 위치 및 후방 위치에 각각 배치된 공급 롤러(I11,I21)와 배출 롤러(I12,I22)를 통하여, 제1 방향(Z1)을 따라 비검사영역(NIC)의 전방 위치와 후방 위치에서 각각 양면기판모체(10)가 공급되고 배출될 수 있다. 그리고, 상기 전방 위치의 공급 롤러(I11,I21)와 후방 위치의 배출 롤러(I12,I22) 사이에는 드럼 클리너(G) 및 드럼 쿨러(미도시)가 배치될 수 있으며, 상기 드럼 클리너(G)는 양면기판모체(10)가 배제된 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)의 외주면과 마주하게 배치되어 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)의 외주면에 대한 클리닝을 수행할 수 있다. 예를 들어, 상기 드럼 클리너(G)는 상기 공급 롤러(I11,I21) 및 배출 롤러(I12,I22) 사이에서 양면기판모체(10)가 배제된 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)의 표면에 접촉되어 제1, 제2 검사 롤러(I1,I2)에 대한 클리닝을 수행할 수 있으며, 상기 공급 롤러(I11,I21)와 배출 롤러(I12,I22) 및 드럼 클리너(G), 드럼 쿨러(미도시)는 각각 제1, 제2 검사 스테이지(IS1,IS2)의 비검사영역(NIC)에 형성될 수 있다.

본 발명은 첨부된 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다.

LS: 로딩 스테이지 LR: 로딩 롤러
US: 언로딩 스테이지 UR: 언로딩 롤러
IS1: 제1 검사 스테이지 IS2: 제2 검사 스테이지
I1: 제1 검사 롤러 I2: 제2 검사 롤러
M1,M2,M3: 제1 내지 제3 이송제어기구
U1~U5: 제1 내지 제5 검사유닛 C1~C5: 제1 내지 제5 촬상기
L1~L5: 제1 내지 제5 광원 21~25: 제1 내지 제5 광학 렌즈
R: 변위 센서 G: 드럼 클리너

Claims

양면기판모체에 대한 이송력을 제공하도록 회전 구동되는 검사 롤러와, 상기 검사 롤러의 외주를 따라 배열되어 양면기판모체에 대한 서로 다른 스캔 데이터를 생성하는 다수의 검사유닛을 포함하되,
상기 다수의 검사유닛 중 제1 군의 검사유닛은, 양면기판모체의 폭 방향을 따라 분할되어 서로에 대해 겹쳐지지 않는 일부 폭과 더불어, 양면기판모체의 폭 방향을 따라 서로 이웃하는 검사유닛끼리 중첩되는 폭을 함께 화상 영역으로 하고,
상기 검사 롤러의 외주면 상에 비접촉식으로 배치되어, 상기 외주면의 과열 팽창으로 인한 외주면의 위치 변화를 포착하기 위한 변위 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.
제1항에 있어서,
상기 서로 이웃하는 검사유닛끼리 중첩되는 화상 영역을 기준으로, 상기 제1 군의 검사유닛으로부터 생성된 스캔 데이터를 양면기판모체의 폭 방향을 따라 합성하여, 양면기판모체의 전체 폭에 대한 스캔 데이터를 생성하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.
제1항에 있어서,
상기 제1 군의 검사유닛은, 서로 교차하는 양면기판모체의 길이 방향 및 폭 방향을 따라 서로로부터 이격되도록 배치되는 다수의 검사유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.
제1항에 있어서,
상기 다수의 검사유닛은,
상기 양면기판모체의 일부 폭을 화상 영역으로 하도록 상대적으로 높은 해상도를 갖는 제1 군의 검사유닛; 및
상기 양면기판모체의 전체 폭을 화상 영역으로 하도록 상대적으로 낮은 해상도를 갖는 제2 군의 검사유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.
삭제
제1항에 있어서,
상기 변위 센서의 출력으로부터 검사 롤러의 외주면의 위치 변화를 포착하고, 외주면의 위치 변화에 따라, i) 검사 롤러의 냉각 및 ii) 광축 모터의 구동 중에서, 어느 하나를 선택적으로 수행하거나 또는 병행적으로 수행하여 검사 롤러의 외주면 위치를 검사유닛의 초점 심도 내로 유지하도록 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.
제6항에 있어서,
상기 검사 롤러의 과열에 따른 외주면의 위치 변화를 감지한 제어부는, 검사 롤러의 냉각을 위한 드럼 쿨러를 가동하여, 외주면의 위치가 과열 이전의 수준으로 복귀되도록 제어하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.
제6항에 있어서,
상기 검사 롤러의 팽창에 따른 외주면의 접근을 감지한 제어부는, 상기 광축 모터를 가동하여 검사유닛의 광축 상의 위치를 검사 롤러의 외주면으로부터 멀어지도록 제어하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.