KR102546102B1 - 노광 장치 및 노광 방법 - Google Patents

Abstract

공간 광변조기를 사용한 노광에서, 실장되는 소프트웨어의 볼륨을 작게 함과 더불어 프로그램의 개서에 요하는 시간을 짧게 한다.
공간 광변조기(3)를 구비한 노광 헤드(1)로부터의 광의 조사 영역을 사이에 두고 양측의 대기 위치에서 기판(W)이 각 스테이지(61, 62)에 재치되고, 반송계(6)에 의해 조사 영역을 통과시켜 교대로 왕복 반송된다. 카메라(8)가 촬영한 기판(W)의 얼라인먼트 마크의 촬영 데이터에 의해 시퀀스 개서 프로그램(77)이 초기 시퀀스 프로그램(73)을 개서하고, 조사 영역을 기판(W)이 통과할 때, 공간 광변조기(3)의 각 화소 미러(31)는 개서가 완료된 시퀀스 프로그램(74)에 의해 시퀀스 제어되어 노광 패턴이 기판(W)에 형성된다. 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)은 왕로 이동시에는 노광되지 않고 복로 이동시에 노광되며, 제2 스테이지(62) 상의 기판은 왕로 이동시에 노광되고 복로 이동시에 노광되지 않는다.

Description

노광 장치 및 노광 방법{EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD}

본 출원발명은, 공간 광변조기를 사용한 노광 기술에 관한 것이다.

표면에 감광층이 형성되어 있는 대상물을 노광하여 감광층을 감광시키는 노광 기술은, 포토리소그래피의 주요 기술로서 각종 미세 회로나 미세 구조의 형성에 활발히 이용되고 있다. 포토리소그래피에서는, 형성해야 할 부재의 형상에 따른 패턴으로 광을 조사한다. 이하, 이 광의 패턴을 노광 패턴이라고 한다. 「형성해야 할 부재의 형상」이란, 기판 자체의 표면 형상인 경우도 있고, 기판의 표면에 형성된 막이나 층 등의 부재의 형상인 경우도 있다.

이러한 노광 기술의 일종으로, 공간 광변조기를 사용하여 노광 패턴을 형성하는 기술이 알려져 있다. 공간 광변조기에는, 통상, DMD(Digital Mirror Device)가 사용된다. DMD는, 미소한 사각형의 미러가 직각 격자형으로 배치된 구조를 갖는다. 각 미러는, 광축에 대한 각도가 독립적으로 제어되도록 되어 있으며, 광원으로부터의 광을 반사하여 대상물에 도달시키는 자세와, 광원으로부터의 광을 대상물에 도달시키지 않는 자세를 취할 수 있도록 되어 있다. DMD는, 각 미러를 제어하는 컨트롤러를 구비하고 있으며, 컨트롤러는 노광 패턴에 따라 각 미러를 제어하여, 대상물의 표면에 노광 패턴의 광이 조사되도록 한다.

공간 광변조기를 사용한 경우, 노광 패턴을 필요에 따라 적절히 변경하는 것이 극히 용이하여, 다품종 소량 생산에 적합하며, 또 프로세스의 상황에 따라 유연하게 노광 조건을 변경할 수 있다. 이러한 우위성이 서서히 인지되어, 공간 광변조기를 탑재한 노광 장치가 서서히 확산되고 있다.

DMD를 공간 광변조기로서 사용한 종래의 노광 장치의 일례가 특허문헌 1에 개시되어 있다. 여기에 나타내어진 바와 같이, DMD를 공간 광변조기로서 사용하는 노광 장치는, 광원이나 DMD, 광학계 등을 내장한 노광 헤드를 복수 구비하여 구성된다. 각 노광 헤드는 독립적으로 메인 컨트롤러에 의해 제어되며, 조사 영역을 통과하는 대상물에 대해 각 노광 헤드로부터 소정 패턴의 광이 조사된다. 이동하는 대상물에 대해 각 노광 헤드로 조사되는 광의 패턴의 집합이, 전체적인 노광 패턴이며, 이것이 형성해야 할 부재의 형상에 따른 것이 된다.

대상물로서는 판형상의 것(기판)인 경우가 많으며, 기판은 스테이지에 재치(載置)된다. 기판이 재치된 스테이지는, 각 노광 헤드로부터의 광의 조사 영역을 통과시켜 반송되며, 이때에 노광이 행해진다.

또한 DMD는, 반사형의 공간 광변조기라고 부를 수 있는 것이지만, 투과형의 공간 광변조기로서 액정 디스플레이를 사용하는 것도 제안되어 있다(특허문헌 2).

일본국 특허공개 2008-191303호 공보 일본국 특허공개 2017-134375호 공보

상술한 바와 같은 공간 광변조기를 사용한 노광 장치에서는, 일반적으로 높은 조도로 노광 패턴을 형성하는 것이 어렵다. 이 때문에, 기판의 반송 속도를 낮게 하여 광량을 늘리거나, 노광 헤드의 수를 늘리거나 하는 연구가 이루어지는 경우가 많다.

그러나, 노광 헤드의 수를 늘리는 것은, 장치 비용의 대폭적인 상승을 초래하고, 장치의 구조도 커져, 복잡화된다. 이 때문에, 기판의 반송 속도를 낮게 한다는 선택을 하지 않을 수 없지만, 이는 처리 시간(택트타임)이 길어져, 생산성을 높게 할 수 없다는 결점을 안게 되는 것을 의미한다.

이러한 문제를 해결하기 위해, 특허문헌 1의 장치에서는, 조사 영역을 사이에 두고 양측에 스테이지를 배치하고, 교대로 조사 영역을 통과시켜 노광하는 구조가 채용되어 있다. 특허문헌 1에서, 각 스테이지 상의 기판은, 조사 영역을 일단 통과하고, 되돌아올 때에(복로(復路)에서) 각 노광 헤드에 의해 노광된다. 특허문헌 1의 장치에서는, 한쪽의 스테이지에서 기판의 로드(재치)나 언로드(내림)가 이루어지고 있는 동안에 다른 쪽의 스테이지를 이동시켜 기판을 노광할 수 있으므로, 이 점에서 생산성이 향상된다.

그러나, 발명자의 연구에 의하면, 특허문헌 1의 장치에서는, 소프트웨어의 볼륨의 문제나 데이터 처리에 관련된 생산성 저하의 문제가 있으며, 특히 노광 시에 필요한 얼라인먼트에 관련하여 이 문제가 현저해지는 것을 알 수 있었다. 이하, 이 점에 대해 설명한다.

상기와 같이, 공간 광변조기를 사용한 노광에서는, 공간 광변조기의 각 화소(DMD에서는 각각의 미러)를 조사 영역을 통과한 기판의 반송에 맞추어 소정의 타이밍으로 온 오프하는 제어가 행해진다. 온이란 화소에 의해 광이 조사되는 상태이며, 오프란 화소가 광을 조사하지 않는 상태이다. 기판의 반송 속도에 따른 각 화소의 온 오프의 시퀀스에 의해, 소정의 노광 패턴으로의 노광이 기판에 대해 행해진다.

이때, 1장의 기판에 대한 노광 패턴은 전체적으로 하나이며, 그 노광 패턴이 실현되도록 각 화소의 시퀀스가 미리 작성되어, 제어 프로그램으로서 메인 컨트롤러에 실장된다. 이 경우, 1개의 DMD는 예를 들면 1024×768개(합계 786432개)로 구성되어 있으며, 이러한 다수의 화소의 시퀀스가 각각 프로그래밍된다. 실제로는, 복수의 노광 헤드가 탑재되어 있으며, 노광 헤드의 수만큼 DMD가 있고, 각각 독립적으로 구동되기 때문에, 제어해야 할 화소의 총수는 노광 헤드의 수의 배수가 된다. 특허문헌 1에서는 노광 헤드는 16개 탑재되어 있으므로, 16배가 된다. 따라서, 방대한 수의 시퀀스 프로그램이 필요하며, 전체적인 프로그램의 볼륨은 매우 커진다.

이 경우, 특허문헌 1에서는, 좌우의 스테이지가 조사 영역을 교대로 통과하여 왕복 이동할 때의 각 복로에서 노광이 행해지므로, 노광 시의 스테이지의 이동 방향은 서로 역방향이다. 따라서, 각 화소의 온 오프의 순서도 반대가 되어, 전체적으로 동일한 노광 패턴임에도 불구하고 2개의 다른 시퀀스 프로그램이 필요해진다. 즉, 특허문헌 1의 장치에서는, 방대한 수의 시퀀스 프로그램으로 이루어지는 프로그램 세트가 2개 필요해진다. 특허문헌 1에서는, 「묘화 데이터 변경 수단」을 구비한 것을 특징점으로 하고 있지만, 실제로는, 볼륨이 큰 프로그램의 교체에 시간을 요하며, 이 점이 결점이 된다.

더욱 심각한 것은, 공간 광변조기를 사용한 노광의 우위성을 발휘시키기 위해, 데이터 처리상의 얼라인먼트를 행한 경우이다.

마스크를 사용한 일반적인 노광에서는, 스테이지에 XYθ의 얼라인먼트 기구를 설치하고, 기판 상의 얼라인먼트 마크를 판독하여 그 결과로부터 얼라인먼트 기구를 구동하여 마스크에 대해 기판의 위치를 보정하는 얼라인먼트를 행한다. 한편, 공간 광변조기를 사용하는 경우, 기판에 대한 노광 패턴의 형성 위치를 자유롭게 변경할 수 있으므로, 기구적인 얼라인먼트는 불필요하다. 즉, 공간 광변조기를 사용한 노광에서는, 기판의 얼라인먼트 마크를 카메라로 판독한 후, 카메라에서 송신되는 촬상 데이터에 따라 시퀀스 프로그램을 개서하는 데이터 처리를 행함으로써, 노광 패턴의 형성 위치를 변경하는 얼라인먼트(데이터 처리상의 얼라인먼트)가 행해진다.

보다 상세하게 설명하면, 각 화소의 시퀀스 프로그램은, 기판에 형성하는 패턴에 따른 소정의 노광 패턴을 전체적으로 그리도록 처음에는 프로그래밍된다. 이하, 이 프로그램을 초기 시퀀스 프로그램이라고 한다. 노광 장치에는, 노광 처리의 기준이 되는 위치(이하, 노광 기준점이라고 한다.)가 설정되어 있다. 각 노광 헤드는, 노광 기준점에 대해 소정의 위치가 되도록 조정된 다음에 탑재되어 있다. 또, 각 스테이지를 이동시키는 반송계는, 노광 기준점에 대해 소정의 위치를 통과하도록 정밀도 좋게 조립되어 설치되어 있다. 그리고, 초기 시퀀스 프로그램에는, 노광 기준점을 기준으로 하여 각 화소의 시퀀스가 프로그래밍되어 있다. 즉, 기판이 수평인 자세로 배치되는 것으로 하여, 수평면 내에서 직교하는 2개의 방향을 XY방향으로 하면, 각 화소의 노광 기준점에 대한 XY방향의 위치에 따라 당해 화소의 온 오프의 시퀀스가 정해져 있다.

기판은 이재(移載) 기구에 의해 스테이지에 재치되며, 그 재치 위치가 노광 기준점과의 관계에서 소정의 위치가 되도록 이재 기구는 제어되지만, 이재 기구의 구동 정밀도상의 한계로부터 그 위치는 어긋난다. 이 경우, 카메라가 얼라인먼트 마크를 촬영하였을 때, 그 촬영 데이터로부터 기판의 어긋남 방향과 양을 알 수 있으므로, 어긋남을 보상(캔슬)하도록 초기 시퀀스 프로그램을 개서하는 것이다. 개서된 시퀀스 프로그램으로 각 화소가 제어됨으로써, 기판의 어긋남은 그대로 두고, 노광 패턴의 형성 위치를 변경함으로써, 얼라인먼트된 상태로 노광이 이루어지게 된다.

이 데이터 처리상의 얼라인먼트는, 기구적인 얼라인먼트를 필요로 하지 않는 것이므로, 장치의 구조를 간략화하고, 필요한 정밀도로 위치 맞춤이 이루어질 때까지 기구가 동작을 반복하는 것과 같은 수고도 불필요하여, 공간 광변조기를 사용하는 노광의 큰 우위성이 되고 있다. 그러나, 상기와 같이 방대한 수의 화소에 대해 각각 작성되어 있는 시퀀스 프로그램에 대해 모두 개서를 행하는 것이 필요하여, 데이터 처리상의 부하는 적지 않다. 이 경우에 문제인 것은, 특허문헌 1의 경우, 초기 시퀀스 프로그램이 2종류 있으므로, 각각에 대해 개서용의 프로그램이 필요해져, 소프트웨어의 볼륨이 2배가 되어 버리고, 또 프로그램의 교체 등의 처리에도 시간이 필요해져 버리는 것이다. 데이터 처리상의 얼라인먼트는 각 기판에 대해 노광에 앞서 행해질 필요가 있으므로, 데이터 처리의 부하가 방대하면, 노광이 개시될 때까지 장시간을 요하고, 택트타임(1장의 기판의 노광 처리에 요하는 전체적인 시간)이 길어져 생산성을 저하시키는 큰 요인이 되어 버린다.

본 출원발명은, 상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 것이며, 공간 광변조기를 사용한 노광에서, 실장되는 소프트웨어의 볼륨을 작게 함과 더불어, 데이터 처리상의 얼라인먼트를 행하는 경우에도 프로그램의 개서에 요하는 시간을 짧게 하여, 필요한 정밀도의 노광을 실현하면서도 생산성이 저하하지 않는 우수한 노광 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 출원의 청구항 1에 기재된 발명은, 소정의 시퀀스에 따라 광을 공간적으로 변조함으로써 조사 영역에 노광 패턴을 형성하는 공간 광변조기를 구비한 노광 헤드와,

노광 헤드로부터의 광의 조사 영역을 사이에 둔 양측의 대기 위치에서 대기하는 한 쌍의 스테이지와,

일방측의 대기 위치에서 기판이 재치된 제1 스테이지를 조사 영역을 통과시켜 왕복 반송함과 더불어, 타방측의 대기 위치에서 기판이 재치된 제2 스테이지를 조사 영역을 통과시켜 왕복 반송하는 반송계와,

노광 헤드 내의 공간 광변조기를 제어하는 컨트롤러와,

각 스테이지 상의 기판이 조사 영역에서 노광되기 전에 당해 기판의 얼라인먼트 마크를 촬영하는 카메라와,

카메라로부터의 촬영 데이터에 따라 시퀀스를 수정하고, 수정된 시퀀스로 공간 광변조기가 제어되도록 하는 수정 수단을 구비하고 있으며,

컨트롤러는, 동일한 노광 패턴을 제1 스테이지 상의 기판과 제2 스테이지 상의 기판에 형성할 때에, 제1 스테이지 상의 기판의 촬영 데이터에 따라 수정된 시퀀스로 제1 스테이지의 복로 이동 시에 제1 스테이지 상의 기판을 노광하고 왕로 이동 시에는 노광하지 않도록 함과 더불어, 제2 스테이지 상의 기판의 촬영 데이터에 따라 수정된 시퀀스로 제2 스테이지의 왕로 이동 시에 제2 스테이지 상의 기판을 노광하고 복로 이동 시에는 노광하지 않도록 공간 광변조기를 제어하는 것이라는 구성을 갖는다.

또, 상기 과제를 해결하기 위해, 청구항 2에 기재된 발명은, 상기 청구항 1의 구성에서, 상기 카메라는, 상기 제1 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크의 촬영과 제2 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크의 촬영에 겸용되는 것이라는 구성을 갖는다.

또, 상기 과제를 해결하기 위해, 청구항 3에 기재된 발명은, 상기 청구항 2의 구성에서, 상기 제1 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크의 촬영 위치인 제1 카메라 배치 위치와 상기 제2 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크의 촬영 위치인 제2 카메라 배치는 다른 위치이며,

제1 카메라 배치 위치와 제2 카메라 배치 위치의 사이에서 상기 카메라를 이동시키는 카메라 이동 기구가 설치되어 있다는 구성을 갖는다.

또, 상기 과제를 해결하기 위해, 청구항 4에 기재된 발명은, 상기 청구항 1의 구성에서, 상기 제1 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크의 촬영 위치인 제1 카메라 배치 위치와 상기 제2 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크의 촬영 위치인 제2 카메라 배치는 다른 위치이며,

제1 카메라 배치 위치와 제2 카메라 배치 위치에 각각 카메라가 배치되어 있다는 구성을 갖는다.

또, 상기 과제를 해결하기 위해, 청구항 5에 기재된 발명은, 상기 청구항 1 내지 4 중 어느 하나의 구성에서, 상기 수정 수단은, 상기 기판에서 형성하는 부재의 형상에 따른 노광 패턴 데이터에 따라 초기적으로 작성된 시퀀스 프로그램인 초기 시퀀스 프로그램을, 상기 촬영 데이터에 따라 개서하는 시퀀스 개서 프로그램을 구비하고 있다는 구성을 갖는다.

또, 상기 과제를 해결하기 위해, 청구항 6에 기재된 발명은, 소정의 시퀀스에 따라 광을 공간적으로 변조함으로써 조사 영역에 노광 패턴을 형성하는 공간 광변조기를 구비한 노광 헤드에 의해 기판을 노광하는 노광 방법으로서,

노광 헤드로부터의 광의 조사 영역을 사이에 둔 일방측의 대기 위치에서 대기하는 제1 스테이지에 기판을 재치하는 단계와,

노광 헤드로부터의 광의 조사 영역을 사이에 둔 타방측의 대기 위치에서 대기하는 제2 스테이지에 기판을 재치하는 단계와,

제1 스테이지에 재치된 기판의 얼라인먼트 마크를 카메라로 촬영하는 제1 촬영 단계와,

제2 스테이지에 재치된 기판의 얼라인먼트 마크를 카메라로 촬영하는 제2 촬영 단계와,

제1 촬영 단계에서 얻어진 촬영 데이터에 따라 시퀀스를 수정하고, 수정된 시퀀스로 공간 광변조기가 제어되도록 하면서 제1 스테이지 상의 기판이 조사 영역을 통과하도록 제1 스테이지를 이동시킴으로써 제1 스테이지 상의 기판을 노광하는 제1 노광 단계와,

제2 촬영 단계에서 얻어진 촬영 데이터에 따라 시퀀스를 수정하고, 수정된 시퀀스로 공간 광변조기가 제어되도록 하면서 제2 스테이지 상의 기판이 조사 영역을 통과하도록 제2 스테이지를 이동시킴으로써 제2 스테이지 상의 기판을 노광하는 제2 노광 단계를 갖고 있으며,

동일한 노광 패턴을 제1 스테이지 상의 기판과 제2 스테이지 상의 기판에 형성할 때에, 제1 노광 단계에서의 제1 스테이지의 이동 방향과, 제2 노광 단계에서의 제2 스테이지의 이동 방향은 동일한 방향이고,

동일한 노광 패턴을 제1 스테이지 상의 기판과 제2 스테이지 상의 기판에 형성할 때에, 제1 스테이지의 이동 방향과 제2 스테이지의 이동 방향이 다른 방향인 상태로 기판을 노광하는 단계를 갖지 않는 방법이다.

이하에 설명하는 바와 같이, 본 출원의 청구항 1 또는 6에 기재된 발명에 의하면, 제1 스테이지와 제2 스테이지가 동일 방향의 이동으로 이동하고 있을 때에 기판이 노광되고, 다른 방향으로 이동하고 있을 때의 노광은 없으므로, 필요한 소프트웨어의 볼륨을 작게 할 수 있으며, 소프트웨어의 취급에 요하는 시간도 짧게 할 수 있다. 이 때문에, 장치의 구조가 심플해져, 전체적인 동작 시간의 단축(생산성의 향상)을 실현할 수 있다.

또 청구항 2에 기재된 발명에 의하면, 상기 효과에 더하여, 제1 스테이지 상의 기판용과 제2 스테이지 상의 기판용으로 카메라가 겸용되므로, 카메라의 대수가 적어도 되어, 이 점에서 비용이 저렴해진다.

또 청구항 3에 기재된 발명에 의하면, 상기 효과에 더하여, 카메라 이동 기구가 설치되어 있으므로, 제1 스테이지 상의 기판과 제2 스테이지 상의 기판에 대해 카메라를 겸용하면서도 최적인 촬영 위치에서 촬영할 수 있다.

또 청구항 4에 기재된 발명에 의하면, 상기 효과에 더하여, 제1 스테이지 상의 기판용과 제2 스테이지 상의 기판용으로 각기 다른 카메라가 설치되어 있으므로, 촬영 위치가 다른 경우여도 카메라의 이동을 위한 시간은 불필요하다. 이 때문에, 전체적인 택트타임이 짧아져, 기구적으로도 심플하고 저렴해진다.

또 청구항 5에 기재된 발명에 의하면, 시퀀스 개서 프로그램에 의해 초기 시퀀스 프로그램을 개서함으로써 데이터 처리상의 얼라인먼트가 행해지므로, 데이터 처리에 요하는 시간이 짧고, 이 점에서 생산성이 향상된다.

도 1은, 제1 실시형태의 노광 장치의 정면 개략도이다.
도 2는, 제1 실시형태의 노광 장치의 평면 개략도이다.
도 3은, 노광 헤드의 내부 구조를 나타낸 개략도이다.
도 4는, 조사 영역에 대해 나타낸 사시 개략도이다.
도 5는, 각 카메라에서 얻어진 촬영 데이터로부터 데이터 처리상의 얼라인먼트를 행하는 모습을 그린 개략도이다.
도 6은, 메인 컨트롤러에 실장된 메인 시퀀스 프로그램의 개략을 나타낸 흐름도이다.
도 7은, 제2 실시형태의 노광 장치의 정면 개략도이다.

다음으로, 본 출원발명을 실시하기 위한 형태(이하, 실시형태)에 대해 설명한다.

도 1 및 도 2는, 제1 실시형태의 노광 장치의 개략도이며, 도 1은 정면 개략 도, 도 2는 평면 개략도이다. 도 1 및 도 2에 나타내는 노광 장치는, 공간 광변조기를 사용한 노광 장치이다. 공간 광변조기는 노광 헤드(1)에 내장되어 있다. 우선, 노광 헤드(1)에 대해 상세하게 설명한다.

노광 헤드(1)는 전체적으로는 원통형이고, 수직으로 세운 상태로 배치되어 있으며, 아래쪽을 향해 광을 출사하는 것으로 되어 있다. 도 3은, 노광 헤드(1)의 내부 구조를 나타낸 개략도이다. 도 3에 나타내는 바와 같이, 노광 헤드(1)는, 광원(2)과, 광원(2)으로부터의 광을 공간적으로 변조하는 공간 광변조기(3)와, 공간 광변조기(3)에 의해 변조된 광에 의한 상을 투영하는 광학계(이하, 투영 광학계)(4) 등을 구비하고 있다.

광원(2)은, 기판(W)에서의 감광층의 감광 파장에 따라 최적인 파장의 광을 출력하는 것이 사용된다. 레지스트 필름의 감광 파장은 가시 단파장역으로부터 자외역인 경우가 많으며, 광원(2)으로서는, 405nm이나 365nm과 같은 가시 단파장역으로부터 자외역의 광을 출력하는 것이 사용된다. 또, 공간 광변조기(3)의 성능을 살리기 위해서는, 코히런트한 광을 출력하는 것임이 바람직하고, 이 때문에 레이저 광원(2)이 적합하게 사용된다. 예를 들면, 질화갈륨(GaN)계의 반도체 레이저가 사용된다.

공간 광변조기(3)로서는, 본 실시형태에서는 DMD가 사용되고 있다. 도 3 중에 확대하여 나타내는 바와 같이, DMD에서는, 각 화소는 미소한 미러(31)이다. 미러(이하, 화소 미러라고 한다.)(31)는, 예를 들면 가로 세로 13.68μm 정도의 정사각형의 미러이며, 다수의 화소 미러(31)가 직각 격자형으로 배열된 구조가 된다. 배열수는, 예를 들면 1024×768개이다.

공간 광변조기(3)는, 각 화소 미러(31)를 제어하는 변조기 컨트롤러(32)를 구비하고 있다. 실시형태의 노광 장치는, 전체를 제어하는 메인 컨트롤러(7)를 구비하고 있다. 변조기 컨트롤러(32)는, 메인 컨트롤러(7)로부터의 신호에 따라 각 화소 미러(31)를 제어한다. 또한 각 화소 미러(31)는, 각 화소 미러(31)가 배열된 평면을 기준면으로 하여, 이 기준면을 따른 제1 자세와, 이 기준면에 대해 예를 들면 11~13° 정도로 기울어진 제2 자세를 취할 수 있도록 되어 있다. 본 실시형태에서는, 제1 자세가 오프 상태이고, 제2 자세가 온 상태이다.

공간 광변조기(3)는, 각 화소 미러(31)를 구동하는 구동 기구를 포함하고 있으며, 변조기 컨트롤러(32)는, 각 화소 미러(31)에 대해 제1 자세를 취할지 제2 자세를 취할지를 독립적으로 제어 가능하도록 되어 있다. 이러한 공간 광변조기(3)는, 텍사스 인스트루먼트사로부터 입수할 수 있다.

도 3에 나타내는 바와 같이, 노광 헤드(1)는, 이러한 공간 광변조기(3)에 광원(2)로부터의 광을 조사하는 조사 광학계(5)를 구비하고 있다. 본 실시형태에서는, 조사 광학계(5)는 광파이버(51)를 포함하고 있다. 보다 높은 조도로 상을 형성하기 위해, 하나의 노광 헤드(1)는 복수의 광원(2)을 구비하고 있으며, 각 광원(2)에 대해 광파이버(51)가 형성되어 있다. 광파이버(51)로서는, 예를 들면 석영계의 멀티모드 파이버가 사용된다.

DMD인 공간 광변조기(3)를 사용하여 정밀도가 양호한 상을 형성하기 위해서는, 평행광을 입사시켜 각 화소 미러(31)에 반사시키는 것이 바람직하고, 또 각 화소 미러(31)에 대해 비스듬히 광을 입사시키는 것이 바람직하다. 이 때문에, 조사 광학계(5)는, 도 3에 나타내는 바와 같이, 각 광파이버(51)로부터 출사하여 확산되는 광을 평행광으로 하는 콜리메이터 렌즈(52)를 포함하고 있다.

투영 광학계(4)는, 2개의 투영 렌즈군(41, 42)과, 투영 렌즈군(41, 42)의 사이에 배치된 마이크로 렌즈 어레이(이하, MLA로 간략히 기재한다)(43) 등으로 구성되어 있다. MLA(43)는, 보다 형상 정밀도가 높은 노광을 행하기 위해, 보조적으로 배치되어 있다. MLA(43)는, 미소한 렌즈를 직각 격자형으로 다수 배열한 광학 부품이다. 각 렌즈 소자는, 공간 광변조기(3)의 각 화소 미러(31)에 1대1로 대응하고 있다.

상술한 노광 헤드(1)에서, 광원(2)으로부터의 광은, 광파이버(61)로 이끌려진 후, 조사 광학계(5)에 의해 공간 광변조기(3)에 입사된다. 이때, 공간 광변조기(3)의 각 화소 미러(31)는 변조기 컨트롤러(32)에 의해 제어되며, 노광 패턴에 따라 선택적으로 경사진 자세가 된다. 즉, 노광 패턴에 따라, 광을 조사 영역에 도달시켜야 할 위치에 위치하고 있는 화소 미러(31)는 온 상태가 되고, 그 이외의 화소 미러(31)는 오프 상태가 된다. 오프 상태의 화소 미러(31)에 반사된 광은 조사 영역에는 도달하지 않고, 온 상태의 화소 미러(31)에 반사된 광만이 도달한다. 이 때문에, 소정 패턴의 광이 조사 영역에 조사된다.

이러한 노광 헤드(1)는 복수 설치되어 있다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에서는 8개의 노광 헤드(1)가 설치되어 있다. 8개의 노광 헤드(1)에 의해, 전체적으로 하나의 노광 패턴이 형성된다. 또한 각 노광 헤드(1)는 동일한 구성이다.

한편, 도 1에 나타내는 바와 같이, 실시형태의 노광 장치는, 조사 영역을 사이에 두고 양측에 배치된 한 쌍의 스테이지(61, 62)와, 기판(W)이 재치된 스테이지(61, 62)를 이동시켜 기판(W)을 반송하는 반송계(6)를 구비하고 있다.

각 스테이지(61, 62)는, 수평인 상면에 기판(W)이 재치되는 것이다. 각 상면에는, 진공 흡착구멍이 형성되어 있다. 기판(W)과의 접촉 면적을 줄이기 위해, 상면에 다수의 돌기를 형성한 구조의 스테이지가 사용되기도 한다.

반송계(6)는, 조사 영역을 통과시켜 배치된 리니어 가이드(60)와, 리니어 가이드(60)를 따라 각 스테이지(61, 62)를 직선 이동시키는 도시 생략의 구동원을 구비하고 있다. 리니어 가이드(60)는, 한 쌍의 스테이지(61, 62)에서 공용하며, 동일한 궤도상을 각 스테이지(61, 62)가 직선 이동한다. 구동원은, 각 스테이지(61, 62)에 각각 설치되어 있으며, 독립적으로 각 스테이지(61, 62)를 구동 가능하다. 구동원으로서는 예를 들면 리니어 모터가 사용되며, 리니어 모터 스테이지의 구성이 채용될 수 있다.

리니어 가이드(60)가 연장되는 방향이, 반송 방향이다. 이하, 이 방향을 X방향이라고 부르고, X방향에 수직인 수평방향을 Y방향이라고 부른다.

또한 조사 영역에서 떨어진 양측에는, 각각 대기 위치(좌측 대기 위치, 우측 대기 위치)가 설정되어 있다. 각 대기 위치에는, 도시 생략의 이재 기구가 배치되어 있다. 이 예에서는, 노광해야 할 기판(W)은 컨베이어(63)로 운반되어 오도록 되어 있고, 노광 후의 기판(W)은 랙(64)에 수용되도록 되어 있다. 각 이재 기구는, 컨베이어(63)로부터 기판(W)을 스테이지(61, 62)에 재치하는 로드와, 노광이 완료된 기판(W)을 스테이지(61, 62)로부터 내려서 랙(64)에 수용하는 언로드를 행하도록 구성되어 있다.

조사 영역에 대해 도 4를 참조하여 보충한다. 도 4는, 조사 영역에 대해 나타낸 사시 개략도이다. 도 4에서, 1개의 노광 헤드(1)로 광이 조사될 수 있는 영역(이하, 개별 영역이라고 한다.)(E)이 사각 테두리로 나타내어져 있다. 개별 영역(E)의 집합이 조사 영역이다.

기판(W)은 도 4 중 화살표로 나타내는 방향(X방향)으로 이동하면서, 각 개별 영역(E)에서 광 조사를 받는다. 이때, 2열의 노광 헤드(1)는 서로 어긋나 배치되어 있으므로, 이동 방향에 수직인 수평방향(Y방향)에서도 간극 없이 노광이 행해진다.

도 4 중에 확대하여 나타내는 바와 같이, 실제로는, 각 개별 영역(E) 내는, 미소한 조사 패턴(이하, 미소 패턴이라고 한다.)(M)의 집합으로 되어 있다. 1개의 미소 패턴(M)은, 1개의 화소 미러(31)에 의한 패턴이다. 스테이지(61, 62)에 재치된 기판(W)이 스테이지(61, 62)의 이동에 따라 조사 영역을 이동하는데, 그 이동의 타이밍에 맞추어 소정의 시퀀스로 미소 패턴(M)의 온 오프가 이루어진다. 이에 따라, 원하는 노광 패턴이 기판(W)에 형성된다.

도 1에 나타내는 바와 같이, 메인 컨트롤러(7)는, 하드디스크 또는 대용량 메모리와 같은 기억부(71)를 구비하고 있다. 기억부(71)에는, 장치 전체의 시퀀스를 담당하는 메인 시퀀스 프로그램(72)과, 1장의 기판(W)에 대한 노광 시에 각 노광 헤드(1) 내의 공간 광변조기(3)의 각 화소 미러(31)를 시퀀스 제어하는 화소 시퀀스 프로그램이 기억되어 있다. 메인 시퀀스 프로그램(72)은, 각 기판(W)의 노광 시에, 화소 시퀀스 프로그램을 불러내어 실행한다. 또한, 각 화소 미러(31)을 실제로 제어하는 것은 변조기 컨트롤러(32)이므로, 화소 시퀀스 프로그램은, 변조기 컨트롤러(32)에 시퀀스를 부여하고 그 시퀀스로 각 화소 미러(31)가 구동되도록 하는 프로그램이다.

화소 시퀀스 프로그램에는 2종류가 있으며, 하나는 초기 시퀀스 프로그램(73)이고, 또 하나는, 얼라인먼트에 의해 개서된 개서가 완료된 시퀀스 프로그램(74)이다. 메인 시퀀스 프로그램(72)은, 실제로는 개서가 완료된 시퀀스 프로그램(74)을 실행한다.

또 기억부(71)에는, 노광 패턴 데이터(75)와, 시퀀스 작성 프로그램(76)과, 시퀀스 개서 프로그램(77)이 기억되어 있다. 노광 패턴 데이터(75)는, 기판(W)에 형성하는 패턴의 이미지 데이터이다. 실시형태의 장치는, 기본적으로 매엽(枚葉) 처리의 장치이며, 각 기판(W)에는 동일한 노광 패턴이 형성된다. 로트가 다른 경우에는 노광 패턴도 다른 경우가 많으며, 그 경우에는 다른 노광 패턴 데이터(75)가 기억부(71)에 기억되어 사용된다. 메인 컨트롤러(7)는, 입력부(701)를 구비하고 있으며, 각 노광 패턴 데이터(75)는 입력부(701)로부터 입력되어 기억부(71)에 기억된다.

시퀀스 작성 프로그램(76)은, 노광 패턴 데이터(75)로부터 초기 시퀀스 프로그램(73)을 작성하는 프로그램이다. 새롭게 노광 패턴 데이터(75)가 기억되면, 시퀀스 작성 프로그램(76)이 실행되고, 그 노광 패턴 데이터(75)에 의거한 초기 시퀀스 프로그램(73)이 작성되도록 되어 있다.

다음으로, 데이터 처리상의 얼라인먼트로서의 초기 시퀀스 프로그램(73)의 개서에 대해 설명한다.

설명의 형편상, 한 쌍의 스테이지 중, 좌측의 스테이지(61)를 제1 스테이지라고 부르고, 우측의 스테이지(62)를 제2 스테이지(62)라고 부른다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 장치는, 얼라인먼트용의 카메라(8)를 구비하고 있다. 제1 실시형태에서는, 카메라(8)는, 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)에 대한 얼라인먼트와, 제2 스테이지(62) 상의 기판(W)에 대한 얼라인먼트에 겸용되는 것으로 되어 있다.

보다 구체적으로 설명하면, 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 조사 영역의 우측에는 가이드 레일(801)이 설치되어 있다. 가이드 레일(801)은 X방향으로 연장된 것이며, 서로 평행하게 2개 설치되어 있다. 2개의 가이드 레일(801)의 이격 간격은, Y방향의 스테이지의 폭과 거의 동일하다.

각 가이드 레일(801)에는 받침대(802)가 부착되어 있으며, 받침대(802)에 카메라(8)가 고정되어 있다. 따라서, 본 실시형태에서는, 2대의 카메라(8)가 설치되어 있다. 각 카메라(8)는, 필요한 해상도를 구비한 CCD와 같은 디지털 카메라이다.

각 받침대(802)에는 카메라 이동 기구(803)가 설치되어 있으며, 카메라 이동 기구(803)에 의해 각 카메라(8)는 가이드 레일(801) 상의 임의의 위치로 이동 가능하게 되어 있다. 또 받침대(802)에는, 도시 생략의 Y방향 조정 기구가 부설되어 있다. Y방향의 이동은, 기판(W)의 사이즈가 다른 경우에 대응하기 위해서이다.

기판(W)은 얼라인먼트 마크를 갖고 있다. 장치에서, 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)의 얼라인먼트 마크를 촬영하기 위한 카메라(8)의 배치 위치(이하, 제1 카메라 배치 위치라고 한다.)와, 제2 스테이지(62) 상의 기판(W)의 얼라인먼트 마크를 촬영하기 위한 카메라(8)의 배치 위치(이하, 제2 카메라 배치 위치라고 한다.)가 설정되어 있다. 본 실시형태에서는, 제1 카메라 배치 위치는 가이드 레일(801)의 좌단 부근의 위치이며, 제2 카메라 배치 위치는 가이드 레일(801)의 우단 부근의 위치이다.

이하, 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)에 대한 얼라인먼트를 예로 하여, 보다 구체적으로 설명한다.

각 카메라(8)는, 미리 제1 카메라 배치 위치에 위치한 상태가 된다. 구체적으로는, 각 카메라(8)의 광축이 제1 카메라 배치 위치에 일치한 위치가 된다. 2개의 제1 카메라 배치 위치는, X방향에서는 동일한 위치이지만, Y방향에서는 소정 거리 떨어진 위치로 되어 있다. 기판(W)의 얼라인먼트 마크는 기판(W)의 폭방향으로 2개 형성되어 있으며, 2개의 제1 카메라 배치 위치의 Y방향의 이격 거리는, 2개의 얼라인먼트 마크의 설계상의 거리와 일치한 것이 된다. Y방향의 각 카메라(8)의 위치 조정을 위해, Y방향 조정 기구가 동작한다.

기판(W)이 재치된 제1 스테이지(61)는, 기판(W)의 얼라인먼트 마크가 카메라(8)에 의해 촬영될 수 있는 위치까지 이동한다. 이 이동 거리는, 기판(W)의 얼라인먼트 마크가 카메라(8)의 바로 아래가 된다고 상정되는 위치까지의 X방향의 거리이다. 이하, 이 거리를 제1 촬영용 이동 거리라고 한다. 「상정되는 위치」란, 기판(W)이 제1 스테이지(61) 상의 올바른 위치에 배치되고, 또한 기판(W)이 설계대로의 사이즈이며, 또한 반송계(6)에서의 기구 정밀도상의 오차를 무시한 경우에 위치한다고 상정되는 위치이다. 메인 컨트롤러(7)는, 제1 촬영용 이동 거리의 분만큼 X방향으로 이동하도록 반송계(6)에 제어 신호를 송신한다.

반송계(6)는 제1 촬영용 이동 거리만큼 제1 스테이지(61)를 이동시키는데, 기판(W)의 배치 위치의 어긋남, 기판(W) 크기의 편차 등에 의해, 각 얼라인먼트 마크는 각 카메라(8)의 광축의 바로 아래에는 위치하지 않는다. 그래도, 각 카메라(8)의 시야의 범위 내에 각 얼라인먼트 마크가 위치하도록, 각 카메라(8)는 충분한 시야를 갖고 있다. 또한 제1 스테이지(61)에 대해서는, 제1 촬영용 이동 거리의 이동 시에 조사 영역을 통과 또는 조사 영역 내에 위치하지만, 각 노광 헤드(1)는 동작하지 않으며, 광은 조사되지 않는다. 「동작하지 않는다」란, 각 화소 미러(31)로부터 광이 조사 영역에 도달하지 않는다는 상태이며, 모든 화소 미러(31)가 오프 상태가 되거나, 또는 셔터 등으로 차폐하여 각 노광 헤드(1)로부터 광이 출사되지 않는 상태가 된다는 것을 말한다.

도 5는, 각 카메라(8)로 얻어진 촬영 데이터로부터 데이터 처리상의 얼라인먼트를 행하는 모습을 그린 개략도이다.

도 5에서, 각 카메라(8)의 광축(A)은 시야(V)의 중심이며, 상기와 같이 제1 카메라 배치 위치이다. 데이터 처리상의 얼라인먼트에서는, 그 기준이 되는 점(이하, 얼라인먼트 기준점)(O)이 미리 정해진다. 예를 들면, 2개의 제1 카메라 배치 위치(광축(A))의 중간점이 얼라인먼트 기준점(O)으로 정해진다.

이 예에서는, 얼라인먼트 마크는 사각형의 패턴으로 되어 있다. 시퀀스 개서 프로로그램(77)은, 각 카메라(8)로부터의 촬영 데이터를 처리하고, 각 얼라인먼트 마크의 중심(C)을 특정한다. 이하, 특정된 얼라인먼트 마크의 중심(C)을 검출 마크 중심이라고 부른다. 시퀀스 개서 프로그램(77)은, 얼라인먼트 기준점(O)을 원점으로 한 XY 좌표에서의 2개의 검출 마크 중심(C)의 좌표를 취득한다. 그리고, 2개의 검출 마크 중심(C)을 연결하는 선분(L)의 길이, XY 좌표에서의 기울기를 산출한다.

이 예에서는, 기판(W)의 크기나 형태가 올바르고, 기판(W)이 올바르게 위치하고 있는 경우, 2개의 얼라인먼트 마크는, 2개의 제1 카메라 배치 위치 상(광축(A) 상)에 위치한다. 2개의 제1 카메라 배치 위치(광축(A))를 연결하는 선분이, 기준이 되는 올바른 선분(이하, 기준 선분)(Ls)이다. 따라서, 시퀀스 개서 프로그램(77)은, 2개의 검출 마크 중심을 연결하는 선분(L)의 기준 선분(Ls)에 대한 XY 방향의 어긋남, 회전 방향(θ방향)의 어긋남, 길이의 비율을 산출한다. 또한 회전 방향은, 2개의 얼라인먼트 마크가 각 제1 카메라 배치 위치(광축(A))에 위치하였을 때에 기판(W)의 중심이 위치한다고 상정되는 점을 중심으로 하는 회전 방향이다.

시퀀스 개서 프로그램(77)은, 이들 XYθ의 어긋남 및 길이의 비율(이하, n배라고 한다.)을 초기 시퀀스 프로그램(73)에 적용하여 개서를 행하여, 개서가 완료된 시퀀스 프로그램(74)을 작성한다. 즉, 노광 패턴의 형성 위치를 XYθ 어긋난 위치로 하고, 노광 패턴의 배율을 n배하여, 그러한 위치 및 크기로 노광 패턴이 형성되도록 개서가 완료된 시퀀스 프로그램(74)을 작성한다. 시퀀스 개서 프로그램(77)은, 이와 같이 프로그래밍되어 있다.

다음으로, 제2 스테이지(62) 상의 기판(W)에 대한 얼라인먼트에 대해 설명한다.

제2 스테이지(62) 상의 기판(W)에 대해서는, 얼라인먼트 마크의 촬영 위치(제2 카메라 배치 위치)가 다를 뿐이며, 다른 구성은 기본적으로 동일하다. 본 실시형태에서는, 제2 카메라 배치 위치는, 제1 카메라 배치 위치와 동일하게 조사 영역의 우측에 있지만, 제1 카메라 배치 위치에 비해 조사 영역으로부터 떨어진 위치로 되어 있다. 촬영 위치가 다르므로, 제2 스테이지(62)에 대한 촬영용 이동 거리(제2 촬영용 이동 거리)는, 제1 스테이지(61)에 대한 그것과는 다르다. 제2 스테이지(62)는, 우측 대기 위치에서 기판(W)이 재치되며, X방향을 조사 영역을 향해 조금 나아가, 그 위치에서 기판(W)의 얼라인먼트 마크가 촬영되고, 그 후, 더욱 나아가서 조사 영역에서 기판(W)에 대한 노광이 행해진다. 통상은, 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)과 얼라인먼트 마크의 위치도 동일하므로(동종의 기판(W)), 설정 마크간 거리나 기준 선분도, 상수로서 동일한 값이 사용된다.

이러한 제1 실시형태의 노광 장치에서, 기판(W)의 반송 방향에 관련된 각 노광 헤드(1)의 동작이 중요한 요소가 되고 있으며, 그들은 메인 컨트롤러(7)에 의해 실현되므로, 이하, 이 점에 대해 설명한다. 도 6은, 메인 컨트롤러(7)에 실장된 메인 시퀀스 프로그램(72)의 개략을 나타낸 흐름도이다.

메인 시퀀스 프로그램(72)은, 장치의 가동 중, 항상 실행 상태에 있는데, 도 6에서는 주요부가 개략적으로 나타내어져 있다. 또한, 새로운 노광 패턴 데이터(75)가 입력된 경우, 시퀀스 작성 프로그램(76)이 자동 실행되어, 당해 노광 패턴 데이터(75)에 대해 초기 시퀀스 프로그램(73)이 작성된다. 노광 패턴 데이터(75)마다 초기 시퀀스 프로그램(73)이 작성되므로, 메인 컨트롤러(7)의 기억부(71)에 기억된 각 초기 시퀀스 프로그램(73)을 식별할 수 있도록 ID가 부여된다. 이 ID는, 기판(W)의 품종에 따른 것이므로, 이하, 품종 ID라고 한다.

메인 시퀀스 프로그램(72)은, 변수로서 품종 ID가 부여된다. 품종 ID는, 장치의 가동 개시 시에 부여되는 것 외에, 노광 패턴 데이터(75)를 변경하는 경우(다른 품종의 노광을 행하는 경우)에 갱신하여 부여된다.

도 6에 나타내는 바와 같이, 메인 시퀀스 프로그램(72)은, 각 카메라(8)를 제1 카메라 배치에 위치하도록 카메라 이동 기구(803)에 제어 신호를 송신한다. 다음으로, 제1 스테이지(61)에 대한 기판(W)의 재치가 확인된 후, 반송계(6)에 제어 신호를 송신하여, 제1 스테이지(61)를 제1 촬영용 이동 거리의 분만큼 이동시킨다. 이에 따라, 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)의 각 얼라인먼트 마크는 각 카메라(8)의 시야에 들어간다.

메인 시퀀스 프로그램(72)은, 각 카메라(8)로부터의 촬영 데이터를 처리하여, 각 얼라인먼트 마크가 촬영되고 있는지의 여부를 판단한다. 어느 하나 또는 쌍방의 얼라인먼트 마크의 상을 확인할 수 없는 경우, 얼라인먼트 마크가 카메라(8)의 시야를 벗어나 버린 것이 되므로, 메인 시퀀스 프로그램(72)은 에러 처리를 행한다. 즉, 장치의 동작을 정지시키고, 디스플레이(702)에 그 취지를 표시한다.

각 얼라인먼트 마크의 상을 확인 가능한 경우, 메인 시퀀스 프로그램(72)은 시퀀스 개서 프로그램(77)을 실행한다. 시퀀스 개서 프로그램(77)의 상세한 것은 도시되어 있지 않지만, 시퀀스 개서 프로그램(77)은, 각 카메라(8)로부터의 촬영 데이터를 처리하여, 각 마크 중심(C)의 좌표를 취득한다. 그리고, 시퀀스 개서 프로그램(77)은, 마크 중심(C)을 연결하는 선분(L)의 기준 선분(Ls)으로부터의 어긋남과 길이의 비율을 취득하여, 그들을 초기 시퀀스 프로그램(73)에 적용하여 개서가 완료된 시퀀스 프로그램(74)을 작성한다. 또한, 각 얼라인먼트 마크의 상이 취득되어 있는 지를 확인하고, 확인 불가능한 경우의 에러 처리는, 시퀀스 개서 프로그램(77)의 기능으로서 실장되는 경우도 있다.

시퀀스 개서 프로그램(77)으로부터 올바르게 초기 시퀀스 프로그램(73)의 개서가 완료된 취지의 값이 되돌아오면, 메인 시퀀스 프로그램(72)은, 개서가 완료된 시퀀스 프로그램(74)을 불러내어, 곧바로 실행 가능한 상태로 해둔다. 그리고, 메인 시퀀스 프로그램(72)은, 반송계(6)에 추가로 제어 신호를 송신하여, 제1 스테이지(61)가 조사 영역을 통과하도록 한다. 이때, 각 얼라인먼트 마크의 촬영 시에 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)이 조사 영역 내에 일부 위치하고 있는 경우에는, 메인 시퀀스 프로그램(72)으로부터 반송계(6)로 송신되는 제어 신호는, 제1 스테이지(61)를 조금 우측을 향해 전진시켜 기판(W)이 조사 위치를 완전하게 지나도록 하여, 소정의 반전 위치에서 반전시켜 후퇴시키는 제어 신호이다.

반전 위치에서 반전된 제1 스테이지(61)는, 그 후, 조사 영역을 다시 통과한다. 이 타이밍에서, 메인 시퀀스 프로그램(72)은, 개서가 완료된 시퀀스 프로그램(74)을 동작시켜, 각 노광 헤드(1) 내의 공간 광변조기(3)의 각 화소 미러(31)를 소정의 시퀀스로 온 오프시킨다. 설명은 생략하였지만, 반송계(6)에 의한 반송 라인 상에는, 도시 생략의 센서가 복수 부착되어 있으며, 스테이지(61, 62)의 이동이 검출되어 메인 컨트롤러(7)에 송신되도록 되어 있다. 메인 시퀀스 프로그램(72)은, 이들 센서로부터의 신호에 의해 제1 스테이지(61)가 우측으로부터 나아가 조사 영역을 통과하는 것에 동기시켜 개서가 완료된 시퀀스 프로그램(74)을 실행한다. 이때, 제1 스테이지(61)의 이동 속도의 신호가 상수로서 메인 시퀀스 프로그램(72)에 부여되어 있으며, 그에 따라 동기화된다.

제1 스테이지(61)가 조사 영역을 통과하여 노광이 행해지고, 좌측 대기 위치로 되돌아온 것이 확인되면, 메인 시퀀스 프로그램(72)은, 좌측 대기 위치의 이재 기구에 기판(W)의 언로드와 다음 기판(W)의 로드를 행하게 하도록 제어 신호를 송신한다.

다음으로, 메인 시퀀스 프로그램(72)은, 카메라(8)를 제2 카메라 배치 위치에 위치시키도록 카메라 이동 기구(803)에 제어 신호를 송신한다. 그리고, 우측 대기 위치에 있는 제2 스테이지(62) 상에 기판(W)이 이미 로드되어 있는 것을 확인한 후, 제2 스테이지(62)를 제2 촬영용 이동 거리의 분만큼 이동하도록 반송계(6)에 제어 신호를 송신한다. 그리고, 시퀀스 개서 프로그램(77)을 기동하여, 각 카메라(8)로부터의 촬영 데이터를 처리하여 초기 시퀀스 프로그램(73)을 개서하고, 개서가 완료된 시퀀스 프로그램(74)을 작성한다. 이 시퀀스 개서 프로그램(77)은, 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)에 대해 작성한 시퀀스 개서 프로그램(77)에 덮어쓰기되는 형태로 기억부(71)에 기억된다.

메인 시퀀스 프로그램(72)은, 시퀀스 개서 프로그램(77)이 정상적으로 종료한 것을 확인하면, 제2 스테이지(62)를 더욱 전진시켜 조사 영역을 통과시키도록 반송계(6)에 제어 신호를 송신한다. 그리고, 도시 생략의 센서로 제2 스테이지(62)가 조사 영역을 통과시키는 타이밍을 취득하여, 개서가 완료된 시퀀스 프로그램(74)을 동기시켜 실행한다.

제2 스테이지(62)가 조사 영역을 통과하여, 조사 영역의 좌측에 설정된 반전 위치에 도달한 것이 확인되면, 메인 시퀀스 프로그램(72)은, 반전 위치로부터 제2 스테이지(62)를 후퇴시켜, 우측 대기 위치까지 되돌리도록 반송계(6)에 제어 신호를 송신한다. 이 복로에서의 이동 시, 각 노광 헤드(1)에는 동작 신호가 송신되지 않으며, 노광은 행해지지 않는다. 그리고, 우측 대기 위치로 제2 스테이지(62)가 되돌아온 것이 확인되면, 메인 시퀀스 프로그램(72)은, 우측 대기 위치의 이재 기구에 기판(W)의 언로드와 다음 기판(W)의 로드를 행하게 하도록 제어 신호를 송신한다.

이것으로, 제2 스테이지(62) 상의 각 기판(W)의 노광 처리는 종료하며, 메인 시퀀스 프로그램(72)은, 로트의 마지막 기판(W)까지 상기 단계를 반복하도록 프로그래밍되어 있다.

상기 메인 시퀀스 프로그램(72)의 구성에서 중요한 것은, 제1 스테이지(61)가 제1 카메라 배치 위치까지 전진할 때(왕로)에는, 메인 시퀀스 프로그램(72)은 각 노광 헤드(1)에 동작 신호를 송신하지 않고, 제1 스테이지(61)가 반전 위치에서 반전하여 되돌아올 때(복로)에 동작 신호를 송신하여 노광을 행하게 하는 한편, 제2 스테이지(62)가 제2 카메라 배치 위치로부터 전진하여 조사 영역을 통과할 때(왕로)에 각 노광 헤드(1)에 동작 신호를 송신하여 노광을 행하게 하고, 제2 스테이지(62)가 반전 위치로부터 반전하여 되돌아올 때(복로)에는 각 노광 헤드(1)에는 동작 신호를 송신하지 않는 것이다. 즉, 메인 시퀀스 프로그램(72)은, 제1 스테이지(61)에 대해서도 제2 스테이지(62)에 대해서도, 우측으로부터 좌측으로 조사 영역을 통과할 때에 노광이 행해지고, 좌측으로부터 우측으로 통과할 때에는 노광이 행해지지 않도록 프로그래밍되어 있다.

이 때문에, 메인 시퀀스 프로그램(72)이 실행하는 각 공간 광변조기(3)의 각 화소 미러(31)의 시퀀스 프로그램(초기 시퀀스 프로그램(73))은 1개이며, 특허문헌 1과 같이 2개의 다른 「묘화 데이터」를 준비하거나, 「묘화 데이터」를 변경하거나 할 필요는 없다. 이 때문에, 메인 컨트롤러(7)에 실장되는 소프트웨어의 볼륨은 작아도 된다.

동일 방향의 이동 시의 노광이라는 점은, 공간 광변조기(3)를 사용한 노광의 우위성인 데이터 처리상의 얼라인먼트라는 관점에서 더욱 현저한 의의를 갖게 한다. 데이터 처리상의 얼라인먼트에서는, 상기한 바와 같이, 얼라인먼트 마크의 촬영 데이터로부터 기판(W)의 위치 어긋남을 구하고, 그 어긋남에 맞추어 노광 패턴의 형성 위치를 변경한다. 이 경우, 기초가 되는 시퀀스 프로그램(실시형태에서는 초기 시퀀스 프로그램(73))이 다르면, 개서용의 프로그램도 그에 맞추어 다른 코드를 실장하지 않으면 안 되어, 개서용의 프로그램도 2종류 필요하게 되어 버린다. 이 때문에, 전체적인 소프트웨어의 볼륨이 더욱 커져 버리고, 프로그램의 교체(기억부(71)로부터의 읽어들임)에 요하는 시간도 무시할 수 없게 된다.

상기와 같이, 실시형태의 구성에 의하면, 필요한 소프트웨어의 볼륨을 작게 할 수 있으며, 소프트웨어의 취급에 요하는 시간도 짧게 할 수 있다. 이 때문에, 장치의 구조가 심플해져, 전체적인 동작 시간의 단축(생산성의 향상)을 실현할 수 있다.

노광 장치의 전체적인 동작의 설명에 대해서는, 메인 시퀀스 프로그램(72)의 구성의 설명과 중복되므로 생략한다. 또 노광 장치의 동작의 설명은, 노광 방법의 발명의 실시형태의 설명에 상당하는데, 이에 대해서도 중복을 피하기 위해 생략한다. 또한 노광 방법의 발명은, 노광된 기판의 제조 방법이라는 의미에서, 제조 방법의 발명에 해당한다.

또한 데이터 처리상의 얼라인먼트를 행할 때, 카메라(8)로부터의 촬영 데이터에 따라 처음부터 시퀀스 프로그램을 작성하는 것도 가능하다. 이 경우, 노광 패턴 데이터(75)를 촬영 데이터에 따라 개서하여 노광 패턴의 확대 축소를 행하거나, 시퀀스 작성 프로그램(76)에 대해 노광 패턴의 형성 위치의 상수(XYθ)를 변경하여 부여하거나 하여, 개서가 완료된 시퀀스 프로그램(74)과 동등한 시퀀스 프로그램이 시퀀스 작성 프로그램(76)에 의해 작성되도록 한다. 단, 이 경우는, 매회의 노광 처리마다 각 공간 광변조기(3)의 시퀀스 프로그램을 처음부터 다시 작성하므로, 데이터 처리에 요하는 시간이 길게 걸리는 결점이 있다. 시퀀스 개서 프로그램(77)에 의한 경우에는, 이러한 결점이 없어, 생산성이 향상된다.

다음으로, 제2 실시형태의 노광 장치에 대해 설명한다.

도 7은, 제2 실시형태의 노광 장치의 정면 개략도이다. 제2 실시형태에서는, 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)용의 카메라(81)와 제2 스테이지(62) 상의 기판(W)용의 카메라(82)가 각기 따로 설치되어 있으며, 이 점에서 제1 실시형태와 상위하다.

제2 실시형태에서도, X방향을 따라 서로 평행하게 연장되는 2개의 가이드 레일(801)이 설치되어 있다. 각 가이드 레일(801)에는, 2개씩 카메라(81, 82)가 설치되어 있으며, 각 1개가 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)용이며, 다른 각 1개가 제2 스테이지(62) 상의 기판(W)용이다. 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)용의 카메라(81)를 제1 카메라라고 부르고, 제2 스테이지(62) 상의 기판(W)용의 카메라(82)를 제2 카메라라고 부른다.

제1 카메라(81)가 설치된 위치는, 제1 실시형태에서의 제1 카메라 배치 위치에 상당하고, 제2 카메라(82)가 설치된 위치는, 제1 실시형태에서의 제2 카메라 배치 위치에 상당한다. 각 카메라(81, 82)에는, 동일하게 도시 생략의 Y방향 조정이 설치되어 있으며, 기판(W)의 사이즈 변경이나 얼라인먼트 마크의 위치 변경에 대응할 수 있도록 되어 있다.

제2 실시형태의 장치의 구성 및 동작은, 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)의 얼라인먼트 마크와 제2 스테이지(62) 상의 얼라인먼트 마크가 각기 다른 카메라(81, 82)로 촬영되는 점을 제외하고, 제1 실시형태와 동일하다. 메인 시퀀스 프로그램(72)은, 시퀀스 개서 프로그램(77)을 기동할 때, 어느 쪽의 스테이지 상의 기판(W)의 얼라인먼트인지를 특정하는 정보를 인수로서 부여한다. 시퀀스 개서 프로그램(77)은, 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)의 얼라인먼트이면, 제1 카메라(81)로부터의 촬영 데이터를 취득하여 그에 의거해 개서가 완료된 시퀀스 프로그램(74)을 작성하고, 제2 스테이지(62) 상의 기판(W)의 얼라인먼트이면, 제2 카메라(82)로부터의 촬영 데이터를 취득하여 그에 의거해 개서가 완료된 시퀀스 프로그램(74)을 작성한다.

제2 실시형태에서도, 초기 시퀀스 프로그램(73)은 1개로 충분하며, 그것을 수정하는 시퀀스 개서 프로그램(77)도 1개로 충분하다. 이 때문에, 필요한 소프트웨어의 볼륨을 작게 할 수 있으며, 소프트웨어의 취급에 요하는 시간도 짧게 할 수 있다. 이 때문에, 장치의 구조가 심플해져, 전체적인 동작 시간의 단축(생산성의 향상)을 실현할 수 있다.

또한 제2 실시형태에서는, 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)용과 제2 스테이지(62) 상의 기판(W)용으로 각기 다른 카메라(81, 82)가 설치되어 있으므로, 제1 실시형태와 같이 카메라(8)의 이동을 위한 시간은 불필요하다. 이 때문에, 전체적인 택트타임이 짧아진다. 또, X방향으로 각 카메라(81, 82)를 이동시키는 기구도 불필요하므로, 구조적으로 보다 심플해지고, 비용도 저렴해진다. 단, 카메라(8)의 대수가 증가하므로, 그 점에서는 제1 실시형태에 비해 비용이 높아진다. 또한, 각 카메라(81, 82)의 X방향 위치도 변경 가능하도록 이동 기구를 설치하는 경우도 있다.

상기 각 실시형태에서는, 1장의 기판(W)에 대한 얼라인먼트용으로 2대의 카메라(8, 81, 82)를 사용하였지만, 얼라인먼트 마크가 3개 이상 있는 경우, 그에 따라 카메라의 대수가 늘어난다. 예를 들면, 1장의 기판(W)에 4개의 얼라인먼트 마크가 있는 경우, 4대의 카메라(8)를 동시에 사용하여 4개의 얼라인먼트 마크를 동시에 촬영해서 얼라인먼트가 행해진다.

또, 1장의 기판(W)의 얼라인먼트 마크의 수보다 적은 수의 카메라가 사용되는 경우도 있다. 예를 들면, 4개의 얼라인먼트 마크에 대해 2대의 카메라가 사용되는 경우도 있다. 이 경우는, 제1 실시형태의 구성에서, 좌측의 2개의 얼라인먼트 마크를 촬영한 후, 기판(W)을 움직이지 않고 2대의 카메라를 우측으로 이동시켜 우측의 2개의 얼라인먼트 마크를 촬영하여 얼라인먼트를 행하는 것과 같은 동작예도 있을 수 있다. 또, 1대의 카메라를 순차적으로 4개소로 이동시켜 얼라인먼트를 행하는 경우도 있을 수 있다. 어느 경우나, 이동 후의 카메라의 배치 위치(촬영 위치)는 미리 기준 위치로서 정해져 있으며, 그 위치에 위치한 카메라의 시야 범위 내에 얼라인먼트 마크가 없으면(얼라인먼트 마크를 촬영할 수 없으면) 에러로 간주된다.

또한 제1 실시형태에서, 제1 카메라 배치 위치와 제2 카메라 배치 위치를 동일한 위치로 하는 것도 가능하다. 예를 들면, 제2 카메라 배치 위치에서 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)의 각 얼라인먼트 마크를 촬영해도 된다. 단, 제1 스테이지(61)에 있어서의 촬영용 이동 거리가 길어지므로, 그 점에서 택트타임이 길어지는 결점이 있다.

또 각 실시형태에서, 각 얼라인먼트 마크의 촬영은 스테이지(61, 62)가 정지한 상태로 행해지도록 설명하였지만, 스테이지(61, 62)를 이동시키면서 각 얼라인먼트 마크를 촬영할 수도 있다. 이 경우는, 각 카메라로부터는 동화상이 촬영 데이터로서 송신되므로, 각 얼라인먼트 마크가 동시에 촬영되고 있는 타이밍의 화상(정지화면)을 추출하여, 동일하게 화상 처리하여 각 마크 중심을 취득한다. 이 경우, 촬영을 위해 스테이지(61, 62)의 속도를 일시적으로 저하시킬 수도 있다.

상술한 바와 같이, 각 실시형태의 노광 장치 및 노광 방법에서는, 조사 영역을 사이에 두고 좌우에 스테이지(61, 62)를 배치하면서도, 각 스테이지(61, 62) 상의 기판(W)이 노광될 때에는, 조사 영역을 통과할 때의 이동 방향은 항상 동일한 방향이 된다. 이 경우의 「동일한 방향」이란, 각 스테이지(61, 62) 상의 기판(W)에 대해 동일한 노광 패턴을 형성하는 경우에 있어서 「동일한 방향」이라는 것이며, 동일한 노광 패턴을 형성하는데 역방향으로는 이동시키지 않는다는 것을 말한다.

다른 노광 패턴을 형성하는 경우는, 다른 방향으로 이동시키면서 노광하는 것이 있을 수 있다. 즉, 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)에는 패턴 A의 노광을 하고, 제2 스테이지(62) 상의 기판(W)에는 패턴 B의 노광을 하는 경우, 역방향으로 이동시킨 노광이 있을 수 있다. 그러한 경우는, 원래 노광 패턴 데이터가 다르므로, 초기 시퀀스 프로그램도 2개 필요해지므로, 동일한 방향으로 하는 의미가 없기 때문이다.

또, 1장의 기판(W)에 대해 왕로와 복로에서 다른 노광 패턴을 형성하기 위해 노광을 행하는 경우가 있지만, 이 경우, 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)의 왕로에서의 노광 패턴과 제2 스테이지(62) 상의 기판(W)의 복로에서의 노광 패턴이 동일하고, 제1 스테이지(61) 상의 기판(W)의 복로에서의 노광 패턴과 제2 스테이지(62) 상의 기판(W)의 왕로에서의 노광 패턴이 동일해지는 경우가 있을 수 있다. 이 경우도, 동일한 노광 패턴의 형성을 행하는 한에 있어서는 각 스테이지(61, 62)는 동일한 방향으로 이동하게 되어, 상기 각 실시형태와 동일하다.

각 실시형태에서, 데이터 처리상의 얼라인먼트는, XYθ의 각 방향에서의 기판(W)의 위치 어긋남에 따른 조정에 더하여, 형성하는 노광 패턴의 확대 축소도 행하는 것이었다. 이 점은, 예를 들면 이전 공정의 열처리에서 기판(W)이 불가역적으로 다소 열팽창되어 있는 케이스 등을 상정하고 있다. 이러한 열팽창이 발생하면, 2개의 얼라인먼트 마크의 이격 거리는, 기판(W)의 열팽창에 비례한다. 그러한 다소의 열팽창이 있어도 제품으로서는 문제가 없으며, 또한 형성하는 미세 패턴도 기판(W)의 팽창에 따라 확대할 필요가 있는 경우가 있다. 이 때문에, 전술한 바와 같이, 2개의 얼라인먼트 마크를 검출하여 이격 거리를 구하고, 기준이 되는 거리에 대한 배율을 산출하여 그 배율로 노광 패턴을 확대 축소한다. 얼라인먼트 마크가 3개소 형성되어 있는 경우, 기판(W)의 변형을 검출할 수도 있으므로, 그 변형에 맞추어 노광 패턴을 변형하는 경우도 있을 수 있다.

본원 발명에서, 「얼라인먼트 마크」는 넓은 의미로 해석될 필요가 있으며, 반드시 「마크」라고 부를 수 있는 것에 한정되지는 않는다. 스루홀과 같은 경우도 있고, 기판(W)의 둘레 가장자리에 형성된 노치와 같은 특이점이나 사각형의 기판(W)의 모서리와 같은 특이점을 얼라인먼트 마크로서 촬영할 수도 있다.

상술한 각 실시형태의 노광 장치 및 노광 방법은, 기판 상의 위치에 원하는 패턴을 형성하는 각종의 용도로 사용할 수 있다. 데이터 처리상의 얼라인먼트에 의해 소정의 위치에 노광 패턴을 형성하면서, 품종에 따라 적절히 노광 패턴을 변경하여 형성할 수 있으므로, 다품종 소량 생산이 필요한 고성능의 제품의 제조에 적합하다. 구체적으로는, 스마트폰 등의 각종 전자제품에 탑재되는 프린트 기판의 제조나, 각종 디스플레이의 제조에 필요한 표시 기판의 제조에 적합하게 채용할 수 있다.

또한 상기 각 실시형태는, 노광 장치는 복수의 노광 헤드(1)를 구비하고 있었지만, 1개만의 노광 헤드(1)로도 실시 가능하다. 대형의 노광 헤드를 사용하는 경우나, 형성하는 노광 패턴의 사이즈가 작은 경우, 1개만으로도 충분한 경우가 있을 수 있다.

또 상기 각 실시형태에서는, 공간 광변조기(3)는 DMD였지만, 액정 디스플레이와 같은 투과형의 공간 광변조기가 사용될 수도 있다.

1 : 노광 헤드
2 : 광원
3 : 공간 광변조기
31 : 화소 미러
32 : 변조기 컨트롤러
6 : 반송계
61 : 제1 스테이지
62 : 제2 스테이지
7 : 메인 컨트롤러
71 : 기억부
72 : 메인 시퀀스 프로그램
73 : 초기 시퀀스 프로그램
74 : 개서가 완료된 시퀀스 프로그램
75 : 노광 패턴 데이터
76 : 시퀀스 작성 프로그램
77 : 시퀀스 개서 프로그램
8 : 카메라
81 : 카메라
82 : 카메라
W : 기판

Claims (6)

1. 소정의 시퀀스에 따라 광을 공간적으로 변조함으로써 조사 영역에 노광 패턴을 형성하는 공간 광변조기를 구비한 노광 헤드와,
   노광 헤드로부터의 광의 조사 영역을 사이에 둔 양측의 대기 위치에서 대기하는 한 쌍의 스테이지와,
   일방측의 대기 위치에서 기판이 재치(載置)된 제1 스테이지를 조사 영역을 통과시켜 왕복 반송함과 더불어, 타방측의 대기 위치에서 기판이 재치된 제2 스테이지를 조사 영역을 통과시켜 왕복 반송하는 반송계와,
   노광 헤드 내의 공간 광변조기를 제어하는 컨트롤러와,
   각 스테이지 상의 기판이 조사 영역에서 노광되기 전에 당해 기판의 얼라인먼트 마크를 촬영하는 카메라와,
   카메라로부터의 촬영 데이터에 따라 시퀀스를 수정하고, 수정된 시퀀스로 공간 광변조기가 제어되도록 하는 수정 수단을 구비하고 있으며,
   컨트롤러는, 동일한 노광 패턴을 제1 스테이지 상의 기판과 제2 스테이지 상의 기판에 형성할 때에, 제1 스테이지 상의 기판의 촬영 데이터에 따라 수정된 시퀀스로 제1 스테이지의 복로(復路) 이동 시에 제1 스테이지 상의 기판을 노광하고 왕로 이동 시에는 노광하지 않도록 함과 더불어, 제2 스테이지 상의 기판의 촬영 데이터에 따라 수정된 시퀀스로 제2 스테이지의 왕로 이동 시에 제2 스테이지 상의 기판을 노광하고 복로 이동 시에는 노광하지 않도록 공간 광변조기를 제어하는 것이며,
   카메라가 제1 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크를 촬영하는 위치는 조사 영역의 타방측의 위치이며, 카메라가 제2 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크를 촬영하는 위치도 조사 영역의 타방측의 위치임을 특징으로 하는 노광 장치.
2. 청구항 1에 있어서,
   상기 카메라는, 상기 제1 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크의 촬영과 제2 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크의 촬영에 겸용되는 것임을 특징으로 하는 노광 장치.
3. 청구항 2에 있어서,
   상기 제1 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크의 촬영 위치인 제1 카메라 배치 위치와 상기 제2 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크의 촬영 위치인 제2 카메라 배치는 다른 위치이며,
   제1 카메라 배치 위치와 제2 카메라 배치 위치의 사이에서 상기 카메라를 이동시키는 카메라 이동 기구가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
4. 청구항 1에 있어서,
   상기 제1 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크의 촬영 위치인 제1 카메라 배치 위치와 상기 제2 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크의 촬영 위치인 제2 카메라 배치는 다른 위치이며,
   제1 카메라 배치 위치와 제2 카메라 배치 위치에 각각 카메라가 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 수정 수단은, 상기 기판에서 형성하는 부재의 형상에 따른 노광 패턴 데이터에 따라 초기적으로 작성된 시퀀스 프로그램인 초기 시퀀스 프로그램을, 상기 촬영 데이터에 따라 개서하는 시퀀스 개서 프로그램을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
6. 소정의 시퀀스에 따라 광을 공간적으로 변조함으로써 조사 영역에 노광 패턴을 형성하는 공간 광변조기를 구비한 노광 헤드에 의해 기판을 노광하는 노광 방법으로서,
   노광 헤드로부터의 광의 조사 영역을 사이에 둔 일방측의 대기 위치에서 대기하는 제1 스테이지에 기판을 재치하는 단계와,
   노광 헤드로부터의 광의 조사 영역을 사이에 둔 타방측의 대기 위치에서 대기하는 제2 스테이지에 기판을 재치하는 단계와,
   제1 스테이지에 재치된 기판의 얼라인먼트 마크를 카메라로 촬영하는 제1 촬영 단계와,
   제2 스테이지에 재치된 기판의 얼라인먼트 마크를 카메라로 촬영하는 제2 촬영 단계와,
   제1 촬영 단계에서 얻어진 촬영 데이터에 따라 시퀀스를 수정하고, 수정된 시퀀스로 공간 광변조기가 제어되도록 하면서 제1 스테이지 상의 기판이 조사 영역을 통과하도록 제1 스테이지를 이동시킴으로써 제1 스테이지 상의 기판을 노광하는 제1 노광 단계와,
   제2 촬영 단계에서 얻어진 촬영 데이터에 따라 시퀀스를 수정하고, 수정된 시퀀스로 공간 광변조기가 제어되도록 하면서 제2 스테이지 상의 기판이 조사 영역을 통과하도록 제2 스테이지를 이동시킴으로써 제2 스테이지 상의 기판을 노광하는 제2 노광 단계를 갖고 있으며,
   동일한 노광 패턴을 제1 스테이지 상의 기판과 제2 스테이지 상의 기판에 형성할 때에, 제1 노광 단계에서의 제1 스테이지의 이동 방향과, 제2 노광 단계에서의 제2 스테이지의 이동 방향은 동일한 방향이고,
   동일한 노광 패턴을 제1 스테이지 상의 기판과 제2 스테이지 상의 기판에 형성할 때에, 제1 스테이지의 이동 방향과 제2 스테이지의 이동 방향이 다른 방향인 상태로 기판을 노광하는 단계를 갖지 않으며,
   카메라가 제1 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크를 촬영하는 위치는 조사 영역의 타방측의 위치이며, 카메라가 제2 스테이지 상의 기판의 얼라인먼트 마크를 촬영하는 위치도 조사 영역의 타방측의 위치인 것을 특징으로 하는 노광 방법.

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