KR102516909B1 - Antireflective film and manufacturing method thereof, and method of measuring reflected light characteristics of antireflective film - Google Patents

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Abstract

본 발명의 방법은, 투명 필름 (10) 의 제 2 주면 상에, 필름 기재 (20) 가 접착층 (30) 을 개재하여 박리 가능하게 첩착된 적층체 (40) 를 준비하는 적층체 준비 공정과, 투명 필름의 제 1 주면 상에, 2 층 이상의 박막으로 이루어지는 반사 방지층 (50) 을 형성하는 반사 방지층 형성 공정과, 반사 방지층을 구성하는 박막의 적어도 1 층을 성막 후에, 적층체의 제 1 주면측으로부터 가시광을 조사하고, 그 반사광을 검출하는 인라인 검사 공정을 갖는다. 필름 기재 (20) 와 접착층 (30) 의 적층물은, 가시광 투과율이 40 ％ 이하이다. 반사 방지층 형성 공정 및 인라인 검사 공정은, 적층체 (40) 를 일방향으로 반송하면서 연속적으로 실시된다. 인라인 검사 공정에 있어서의 검출 결과에 따라, 반사 방지층 형성 공정에 있어서의 박막의 성막 조건을 조정하는 것이 바람직하다. The method of the present invention is a laminate preparation step of preparing a laminate 40 to which the film base material 20 is peelably attached to the second main surface of the transparent film 10 via the adhesive layer 30, An antireflection layer forming step of forming an antireflection layer 50 composed of two or more thin films on the first main surface of the transparent film, and after forming at least one layer of the thin film constituting the antireflection layer into a film, the first main surface side of the laminate It has an in-line inspection process of irradiating visible light from and detecting the reflected light. The laminate of the film substrate 20 and the adhesive layer 30 has a visible light transmittance of 40% or less. The antireflection layer forming step and the inline inspection step are continuously performed while conveying the layered product 40 in one direction. It is preferable to adjust the film formation conditions of the thin film in the antireflection layer forming step according to the detection result in the inline inspection step.

Description

반사 방지 필름 및 그 제조 방법, 그리고 반사 방지 필름의 반사광 특성 측정 방법{ANTIREFLECTIVE FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND METHOD OF MEASURING REFLECTED LIGHT CHARACTERISTICS OF ANTIREFLECTIVE FILM}Antireflection film, method for manufacturing the same, and method for measuring reflective light properties of the antireflection film

본 발명은, 투명 필름 상에 반사 방지층을 구비하는 반사 방지 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 또, 본 발명은, 반사 방지 필름의 반사광 특성을 인라인으로 측정하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an antireflection film comprising an antireflection layer on a transparent film and a manufacturing method thereof. Further, the present invention relates to a method for in-line measuring the reflected light characteristics of an antireflection film.

액정 디스플레이나 유기 EL 디스플레이 등의 화상 표시 장치의 시인측 표면에는, 외광의 반사나 상의 비침에 의한 화질 저하의 방지, 콘트라스트 향상 등을 목적으로 해, 반사 방지 필름이 사용되고 있다. 반사 방지 필름은, 투명 필름 상에, 굴절률이 상이한 복수의 박막 적층체로 이루어지는 반사 방지층을 구비한다.BACKGROUND ART An antireflection film is used for the purpose of preventing deterioration in image quality due to reflection of external light or reflection of an image, improvement of contrast, and the like, on the surface of an image display device such as a liquid crystal display or an organic EL display. The antireflection film includes an antireflection layer composed of a plurality of thin film laminates having different refractive indices on a transparent film.

반사 방지 필름의 일 형태로서, 반사 방지층이 형성된 편광판을 들 수 있다. 반사 방지층이 형성된 편광판은, 편광판의 표면에 반사 방지 필름을 첩합 (貼合) 하거나, 편광자의 표면에 보호 필름으로서 반사 방지 필름을 첩합함으로써 형성된다. 또, 편광판 상에 반사 방지층을 형성함으로써, 반사 방지층이 형성된 편광판을 형성하는 방법도 알려져 있다 (예를 들어 특허문헌 1).As one form of the antireflection film, a polarizing plate with an antireflection layer is exemplified. A polarizing plate with an antireflection layer is formed by bonding an antireflection film to the surface of the polarizing plate or by bonding an antireflection film to the surface of a polarizer as a protective film. Moreover, the method of forming the polarizing plate with an antireflection layer by forming an antireflection layer on a polarizing plate is also known (patent document 1, for example).

일본 공개특허공보 평8-136730호Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-136730

반사 방지층은, 박막의 다중 반사 간섭을 이용하여, 가시광의 반사율을 저감하고 있다. 그 때문에, 박막의 굴절률이나 막두께가 변동하면, 반사율이나 반사광 색상 등의 반사광 특성이 변화한다. 반사 방지층의 형성에 있어서, 박막의 성막 조건을 엄격하게 관리하여 일정하게 유지한 경우라도, 원료 특성의 편차나, 성막 환경의 시간 경과적인 변동 등에서 기인하여, 박막의 막두께나 굴절률 등이 약간 변동한다. 이와 같은 약간의 변동이 반사광 특성에 주는 영향은 작다. 그 때문에, 일반적으로는 일정한 조건으로 성막을 실시하고, 성막 후에 오프라인으로, 분광 광도계 등의 검사 장치나 육안으로 반사광 특성을 확인함으로써, 반사 방지 필름의 품질 관리가 실시되고 있다. The antireflection layer reduces the reflectance of visible light by utilizing multiple reflection interference of the thin film. Therefore, when the refractive index or film thickness of the thin film fluctuates, reflected light characteristics such as reflectance and reflected light color change. In the formation of the antireflection layer, even when the film formation conditions of the thin film are strictly managed and kept constant, the film thickness, refractive index, etc. do. The influence of such a slight fluctuation on the specular characteristics is small. Therefore, in general, quality control of the antireflection film is performed by performing film formation under certain conditions and confirming the reflected light characteristics offline after film formation with the naked eye or an inspection device such as a spectrophotometer.

최근, 디스플레이의 고정세화가 진행됨에 따라, 반사 방지 필름에 대한 요구 특성이 높아지고 있어, 보다 반사율이 낮고, 또한 반사광의 착색이 적은 반사 방지 필름이 요구되고 있다. 또, 반사광의 색상을 조정함으로써, 패널로부터의 출사광을 뉴트럴화하는 시도도 이루어지고 있다. 예를 들어, 패널로부터의 출사광이 황색을 띠고 있는 경우, 반사광이 청색을 띤 반사 방지 필름을 사용함으로써, 뉴트럴화가 실시된다. [0003] In recent years, as high resolution of displays progresses, the required properties for antireflection films are increasing, and antireflection films with lower reflectance and less coloration of reflected light are required. In addition, attempts have been made to neutralize the light emitted from the panel by adjusting the hue of the reflected light. For example, when the light emitted from the panel is yellow, the neutralization is performed by using an antireflection film in which the reflected light is blue.

이와 같은 요구 특성의 고조에 따라, 반사 방지 필름의 반사광 특성을 보다 엄밀하게 관리하는 것이 요구되도록 되고 있다. 그 때문에, 제조 조건의 약간의 변동에서 기인하는 반사광 특성의 변화에 의해, 반사 방지 필름이 품질 규격을 벗어나는 경우가 발생하고 있다. 따라서, 반사 방지 필름의 제조 공정에 있어서, 성막 조건을 보다 엄밀하게 제어하여, 박막의 굴절률이나 막두께의 변동을 억제하여, 반사광 특성을 일정하게 유지할 필요가 있다.With such an increase in required properties, more strict management of the reflected light properties of antireflection films is required. Therefore, there are cases in which the antireflection film deviate from the quality standard due to a change in reflected light characteristics resulting from slight fluctuations in manufacturing conditions. Therefore, in the manufacturing process of the antireflection film, it is necessary to control the film formation conditions more strictly to suppress fluctuations in the refractive index and film thickness of the thin film and to keep the reflected light characteristics constant.

필름 제조에서는, 제조 공정 중에서 인라인 측정을 실시하고, 그 측정 결과를 앞 공정에 피드백함으로써, 필름의 품질을 일정하게 유지하는 것이 실시되고 있다. 그러나, 반사 방지층을 구성하는 박막의 막두께는 수 ㎚ ∼ 수십 ㎚ 이고, 그 막두께를 직접 측정하는 것은 용이하지 않다. 특히, 복수의 박막 적층체에 있어서의 각 박막의 막두께를 측정하는 것은 매우 곤란하다. 또, 필름 제조에서는, 제조 개시 (라인 스타트) 시나 공정 도중에 제품을 자르고, 자른 제품을 오프라인으로 검사하고, 그 결과를 제조 공정에 피드백하는 것도 실시되고 있다. 그러나, 반사 방지층 등의 박막은, 스퍼터, 진공 증착, CVD 등의 진공 프로세스에 의해 성막되기 때문에, 라인 스타트 시나 공정 도중에 제품을 샘플링할 수는 없다.In film production, in-line measurement is performed during the production process, and the quality of the film is kept constant by feeding back the measurement result to the preceding process. However, the film thickness of the thin film constituting the antireflection layer is several nm to several tens of nm, and it is not easy to directly measure the film thickness. In particular, it is very difficult to measure the film thickness of each thin film in a plurality of thin film laminates. Further, in film production, products are cut at the start of production (line start) or during the process, the cut products are inspected off-line, and the results are fed back to the manufacturing process. However, since a thin film such as an antireflection layer is formed by a vacuum process such as sputtering, vacuum deposition, or CVD, products cannot be sampled at line start or during the process.

반사 방지 필름의 제조 공정에 있어서의 인라인 검사로서, 인라인으로 반사광 특성을 측정하고, 그 측정 결과를 박막의 성막 조건에 피드백하는 것이 생각된다. 그러나, 반사 방지 필름의 인라인으로의 반사광 특성의 측정에 있어서는, 이면 반사에 의한 영향이 문제가 된다.As an inline inspection in the manufacturing process of the antireflection film, it is conceivable to measure reflected light characteristics inline and feed back the measurement result to the film formation conditions of the thin film. However, in the measurement of the reflected light characteristics of the antireflection film in-line, the influence of the reflection on the back side becomes a problem.

일반적으로 반사 방지 필름은, 반사 방지층 형성면의 가시광 반사율이 1 ％ 이하가 되도록 설계되는데 대해, 투명 필름의 이면측 (투명 필름과 공기의 계면) 에서의 가시광 반사율은 4 ％ 정도이다. 반사 방지층을 형성 후의 오프라인 검사에서는, 이면 반사의 영향을 배제하여, 표면측의 반사광 특성을 측정하는 것은 비교적 용이하다. 한편, 반사 방지 필름의 인라인 검사에서는, 공기 중, 혹은 진공 중을 주행 중인 필름에 광을 조사하여 측정을 실시하기 때문에, 이면 반사를 배제하는 것은 용이하지 않다. 이면 반사를 수반하는 경우, 인라인 검사에서 검출되는 반사광의 대부분은 이면으로부터의 반사광이고, 반사 방지층 형성면으로부터의 반사광 특성 (반사 색상 등) 이 변화해도, 검출되는 반사광은 거의 변화하지 않는다. 그 때문에, 인라인으로 반사 방지층 형성면측으로부터의 반사광 특성을 정확하게 측정하는 것은 용이하지 않다.Generally, an antireflection film is designed so that the antireflection layer formation surface has a visible light reflectance of 1% or less, whereas the visible light reflectance on the back side of the transparent film (interface between the transparent film and air) is about 4%. In the off-line inspection after formation of the antireflection layer, it is relatively easy to measure the reflected light characteristics of the front side while excluding the influence of the back side reflection. On the other hand, in the in-line inspection of the antireflection film, it is not easy to eliminate backside reflection because the film is irradiated with light while traveling in air or in a vacuum. When backside reflection is involved, most of the reflected light detected in the inline inspection is reflected light from the backside, and even if the reflected light characteristics (reflected color, etc.) from the antireflection layer formation surface change, the detected reflected light hardly changes. Therefore, it is not easy to accurately measure the reflected light characteristics from the antireflection layer formation surface side in-line.

상기 특허문헌 1 에서는, 편광판의 표면에 반사 방지층을 형성할 때에, 편광판의 반사 방지층 형성면측에 편광자 (검광자) 를 배치하여 반사율을 측정하는 방법이 제안되어 있다. 반사 방지층이 형성된 편광판과 검광자를, 양자의 흡수축 방향이 직교하도록 배치하면, 반사 방지층이 형성된 편광판의 이면측에서의 반사광은 검광자에서 흡수되기 때문에, 이면 반사의 영향을 배제하여 표면측의 반사광 특성을 측정할 수 있다.In Patent Document 1, when forming an antireflection layer on the surface of a polarizing plate, a method of arranging a polarizer (analyzer) on the antireflection layer formation side of the polarizing plate and measuring the reflectance is proposed. If the polarizer with antireflection layer and the analyzer are arranged so that their absorption axis directions are orthogonal to each other, the reflected light from the back side of the polarizer with antireflection layer is absorbed by the analyzer. can be measured

그러나, 이 방법은, 편광판 상에 반사 방지층을 형성하는 경우 이외에는 적용할 수 없다. 편광판은 편광자의 양면에 투명 필름이 적층된 구성이고, 투명 필름 단체에 비해 고가이다. 그 때문에, 편광판 상에 반사 방지층을 형성하는 방법에서는, 반사 방지층의 형성 초기 (인라인 반사광 검출에 의한 성막 조건의 제어 개시 전) 등에 규격 외 부분이 생긴 경우의, 공정 로스에 의한 제조 비용의 증대가 현저해지기 쉽다. 또, 반사 방지층의 성막 환경에서 기인하여 편광판의 특성이 저하하는 경우가 있다. 예를 들어, 편광판이 스퍼터 성막 장치에 도입되면, 편광자가 고온 환경이나 고출력의 플라즈마에 노출되는 것에 의해 열화할 우려가 있다.However, this method cannot be applied except when forming an antireflection layer on a polarizing plate. A polarizing plate has a structure in which transparent films are laminated on both sides of a polarizer, and is more expensive than a transparent film alone. Therefore, in the method of forming an antireflection layer on a polarizing plate, an increase in manufacturing cost due to process loss occurs when an out-of-standard portion occurs in the early stage of formation of the antireflection layer (before control of film formation conditions by in-line reflected light detection) or the like. It is easy to become conspicuous. In addition, the properties of the polarizing plate may deteriorate due to the film formation environment of the antireflection layer. For example, when a polarizing plate is introduced into a sputter film forming apparatus, the polarizer may deteriorate due to exposure to a high-temperature environment or high-output plasma.

그 때문에, 생산성 향상이나 비용 저감의 관점에서, 편광자를 포함하지 않는 투명 필름 상에 대한 반사 방지층의 형성에 있어서, 이면 반사의 영향을 배제하여, 반사광 특성을 정확하게 측정하는 방법이 요구되고 있다. 본 발명은, 투명 필름 상에 대한 반사 방지층 형성 공정에 있어서 인라인으로 반사광 특성의 변화를 보다 정확하게 검출하는 것, 및 그 검출 결과를 성막 조건에 반영시킴으로써, 균일성이 우수한 반사 방지 필름을 얻는 것을 목적으로 한다. 또, 본 발명은, 반사 방지 필름의 반사광 특성을 인라인으로 측정하는 방법의 제공을 목적으로 한다.Therefore, from the viewpoint of productivity improvement or cost reduction, in forming an antireflection layer on a transparent film not containing a polarizer, there is a need for a method of accurately measuring reflected light characteristics by excluding the influence of backside reflection. An object of the present invention is to more accurately detect a change in reflected light characteristics in-line in a step of forming an antireflection layer on a transparent film, and to reflect the detection result to film formation conditions, thereby obtaining an antireflection film excellent in uniformity. to be Another object of the present invention is to provide a method for in-line measurement of reflected light characteristics of an antireflection film.

상기를 감안하여 검토한 결과, 투명 필름의 이면측에 광 흡수성의 필름 기재가 접착층을 개재하여 박리 가능하게 첩착 (貼着) 된 적층체를 사용함으로써 이면 반사가 저감되어, 반사 방지층의 굴절률이나 막두께 등의 약간의 변동에서 기인하는 반사광 특성의 변화를 검출 가능한 것이 발견되었다.As a result of the study in view of the above, by using a laminate in which a light-absorbing film base material is peelably adhered to the back side of the transparent film via an adhesive layer, the back surface reflection is reduced, and the refractive index of the antireflection layer and the film It was discovered that a change in reflected light characteristics resulting from a slight variation in thickness or the like could be detected.

본 발명의 반사 방지 필름의 일 형태는, 투명 필름의 일방의 면에 반사 방지층을 구비하고, 타방의 면에 필름 기재가 접착층을 개재하여 박리 가능하게 첩착된, 필름 기재가 형성된 반사 방지 필름이다.One embodiment of the antireflection film of the present invention is an antireflection film having a film base material in which an antireflection layer is provided on one surface of a transparent film and the film base material is peelably adhered to the other surface via an adhesive layer.

필름 기재가 형성된 반사 방지 필름은, 투명 필름의 제 2 주면 상에, 필름 기재가 접착층을 개재하여 박리 가능하게 첩착된 적층체를 준비하고 (적층체 준비 공정), 이 적층체의 투명 필름의 제 1 주면 상에, 2 층 이상의 박막으로 이루어지는 반사 방지층을 형성하는 것 (반사 방지층 형성 공정) 에 의해 얻어진다. 반사 방지층의 형성에 있어서, 박막의 적어도 1 층을 성막 후에, 적층체의 제 1 주면측으로부터 가시광을 조사하고, 그 반사광이 인라인으로 검출된다 (인라인 검사 공정). 반사 방지층의 형성 및 인라인 검사는, 적층체를 일방향으로 반송하면서 연속적으로 실시된다. 인라인 검사에 있어서의 반사광의 검출 결과에 따라, 박막의 성막 조건이 조정되는 것이 바람직하다. 이로써, 반사 방지 필름의 반사광 특성을 균일하게 유지하여, 품질의 안정성을 높일 수 있다.The antireflection film on which the film substrate is formed is prepared by preparing a laminate in which the film substrate is peelably adhered to the second main surface of the transparent film via an adhesive layer (laminate preparation step), and the transparent film of the laminate is prepared. It is obtained by forming an antireflection layer composed of two or more thin films on one principal surface (antireflection layer forming step). In formation of the antireflection layer, after forming at least one layer of the thin film, visible light is irradiated from the side of the first main surface of the laminate, and the reflected light is detected in-line (in-line inspection step). Formation of the antireflection layer and inline inspection are performed continuously while conveying the laminate in one direction. It is preferable that film formation conditions of the thin film are adjusted according to the detection result of the reflected light in the inline inspection. In this way, the reflected light characteristics of the antireflection film can be maintained uniformly, and the stability of quality can be improved.

필름 기재와 접착층의 적층물은, 가시광 투과율이 40 ％ 이하인 것이 바람직하다. 필름 기재와 접착층의 적층물에, 접착층측으로부터 광을 입사시킨 경우의 가시광의 이면 반사율은, 1.0 ％ 이하인 것이 바람직하다. 필름 기재로서 광 흡수성의 필름을 사용함으로써, 이면 반사율을 작게 할 수 있다. 필름 기재로서 이형층을 구비하는 것이 사용되어도 된다. 이형층을 구비하는 필름 기재가 사용되는 경우, 이형층 형성면이 접착층에 첩착된다. 필름 기재에 있어서, 이형층의 굴절률 n1 과 이형층 바로 아래 층의 굴절률 n2 의 차 n1 - n2 는, -0.25 ∼ 0.25 인 것이 바람직하다. 투명 필름과 필름 기재를 가부착하기 위한 접착층으로서, 광 산란성의 점착제를 사용함으로써도 이면 반사를 저감할 수 있다.The laminate of the film substrate and the adhesive layer preferably has a visible light transmittance of 40% or less. It is preferable that the back surface reflectance of visible light at the time of making light incident on the laminated body of a film base material and an adhesive layer from the adhesive layer side is 1.0 % or less. By using a light-absorbing film as the film substrate, the back surface reflectance can be reduced. As a film substrate, one provided with a mold release layer may be used. When a film substrate having a release layer is used, the release layer formation surface is adhered to the adhesive layer. In the film substrate, the difference n 1 - n 2 between the refractive index n 1 of the release layer and the refractive index n 2 of the layer immediately below the release layer is preferably -0.25 to 0.25. Backside reflection can be reduced also by using a light-scattering adhesive as an adhesive layer for temporarily attaching a transparent film and a film base material.

투명 필름 상에 반사 방지층을 형성 후, 필름 기재는 박리 제거된다 (박리 공정). 그 후, 투명 필름의 제 2 주면 상에, 편광판 등의 다른 광학 필름이 첩합되어, 반사 방지 필름이 실용에 제공된다.After forming the antireflection layer on the transparent film, the film substrate is peeled off (peeling step). Then, another optical film, such as a polarizing plate, is bonded on the 2nd main surface of a transparent film, and an antireflection film is provided for practical use.

이면 반사가 저감된 적층체 상에 반사 방지층을 형성함으로써, 인라인 검사에 있어서의 반사광의 검출 정밀도나 검출의 재현성이 높아진다. 또, 인라인으로의 반사광의 검출 결과를 박막의 성막 조건에 피드백함으로써, 반사광 특성의 균일성이 우수한 반사 방지 필름이 얻어진다.By forming the antireflection layer on the layered body in which the backside reflection is reduced, the detection accuracy and detection reproducibility of the reflected light in the inline inspection are improved. In addition, by feeding back the result of in-line reflected light detection to the film formation conditions of the thin film, an antireflection film having excellent uniformity in reflected light characteristics can be obtained.

도 1a 는 필름 기재가 형성된 반사 방지 필름의 일 형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 1b 는 필름 기재의 층 구성의 일례를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 2 는 반사 방지층의 성막 장치의 구성예를 나타내는 개념도이다.
도 3 의 (A) 는 반사 방지 필름의 형성에 사용되는 적층체의 구성예를 모식적으로 나타내는 단면도이고, (B) 는 적층체 상에 반사 방지층이 형성된 필름 기재가 형성된 반사 방지 필름의 구성예를 모식적으로 나타내는 단면도이다. (C1) 및 (C2) 는 필름 기재를 박리 후의 반사 방지 필름의 구성예를 모식적으로 나타내는 단면도이다. (D1) 및 (D2) 는, 다른 필름이 첩합된 반사 방지 필름의 구성예를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 4 의 (A) 및 (B) 는, 반사 방지층이 형성된 편광판의 구성예를 모식적으로 나타내는 단면도이다.1A is a cross-sectional view schematically showing one form of an antireflection film on which a film substrate is formed.
1B is a cross-sectional view schematically showing an example of a layer configuration of a film substrate.
2 is a conceptual diagram showing a configuration example of an antireflection layer film forming apparatus.
Fig. 3 (A) is a cross-sectional view schematically showing a structural example of a laminate used for forming an antireflection film, and (B) is a structural example of an antireflection film formed with a film substrate having an antireflection layer formed on the laminate. It is a cross-sectional view schematically showing. (C1) and (C2) are cross-sectional views schematically showing structural examples of the antireflection film after peeling the film substrate. (D1) and (D2) are cross-sectional views schematically showing structural examples of antireflection films to which other films are bonded.
4(A) and (B) are cross-sectional views schematically showing a configuration example of a polarizing plate with an antireflection layer.

[반사 방지 필름의 구성][Composition of antireflection film]

도 1a 는, 일 실시형태에 관련된 반사 방지 필름의 구성을 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 1a 의 반사 방지 필름 (101) 은, 투명 필름 (10) 의 제 1 주면 상에 반사 방지층 (50) 을 구비한다. 투명 필름 (10) 의 제 2 주면 상에는, 필름 기재 (20) 가 접착층 (30) 을 개재하여 박리 가능하게 첩착되어 있다. 반사 방지층은, 2 층 이상의 박막의 적층체이다. 도 1a 에서는, 4 층의 박막 (51, 52, 53, 54) 의 적층체로 이루어지는 반사 방지층 (50) 이 도시되어 있다.1A is a cross-sectional view schematically showing the configuration of an antireflection film according to an embodiment. The antireflection film 101 of FIG. 1A has an antireflection layer 50 on the first main surface of the transparent film 10 . On the 2nd main surface of the transparent film 10, the film base material 20 is attached via the adhesive layer 30 so that exfoliation is possible. The antireflection layer is a laminate of two or more thin films. In Fig. 1A, an antireflection layer 50 composed of a laminate of four layers of thin films 51, 52, 53, 54 is shown.

(투명 필름) (transparency film)

투명 필름 (10) 으로는, 가요성의 투명 필름이 사용된다. 투명 필름 (10) 은, 필름 표면 (반사 방지층 형성면) 에, 하드 코트층이나 접착 용이층 등의 기능층 (도시 생략) 을 가지고 있어도 된다. 하드 코트층은, 필름의 표면에 아크릴계, 실리콘계 등의 적절한 자외선 경화형 수지의 경화 피막을 형성하는 방법 등에 의해 형성할 수 있다.As the transparent film 10, a flexible transparent film is used. The transparent film 10 may have a functional layer (not shown) such as a hard coat layer or an easily bonding layer on the film surface (antireflection layer formation surface). The hard coat layer can be formed by, for example, a method of forming a cured film of an appropriate ultraviolet curable resin such as acrylic resin or silicone resin on the surface of the film.

투명 필름의 가시광 투과율은, 바람직하게는 80 ％ 이상, 보다 바람직하게는 90 ％ 이상이다. 투명 필름 (10) 의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 10 ㎛ ∼ 300 ㎛ 정도의 범위가 바람직하다.The visible light transmittance of the transparent film is preferably 80% or more, more preferably 90% or more. Although the thickness of the transparent film 10 is not specifically limited, the range of about 10 micrometers - 300 micrometers is preferable.

투명 필름을 구성하는 수지 재료로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트 (PBT), 폴리에틸렌나프탈레이트 (PEN) 등의 폴리에스테르 류 ; 디아세틸셀룰로오스나 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 폴리머 ; 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 폴리머 ; 폴리스티렌이나 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체 등의 스티렌계 폴리머 ; 폴리노르보르넨 등의 고리형 폴리올레핀 ; 폴리카보네이트 등을 들 수 있다. Examples of the resin material constituting the transparent film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), and polyethylene naphthalate (PEN); cellulosic polymers such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose; acrylic polymers such as polymethyl methacrylate; Styrene-type polymers, such as polystyrene and an acrylonitrile-styrene copolymer; cyclic polyolefins such as polynorbornene; Polycarbonate etc. are mentioned.

투명 필름의 표면에는, 밀착성 향상 등의 목적으로, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 플레임 처리, 오존 처리, 프라이머 처리, 글로 처리, 비누화 처리, 커플링제에 의한 처리 등의 표면 개질 처리가 실시되어도 된다.The surface of the transparent film may be subjected to a surface modification treatment such as corona treatment, plasma treatment, flame treatment, ozone treatment, priming treatment, gloss treatment, saponification treatment, treatment with a coupling agent, etc. for the purpose of improving adhesion.

(필름 기재) (film substrate)

반사 방지 필름의 제조에 있어서는, 투명 필름 (10) 의 제 2 주면 (반사 방지층 (50) 비형성면) 측에, 필름 기재 (20) 가 접착층 (30) 을 개재하여 박리 가능하게 첩착된 적층체 (40) 가 사용된다. 본 발명에 있어서는, 필름 기재 (20) 를 투명 필름 (10) 과 첩합함으로써, 투명 필름측으로부터 광을 입사시켰을 때의 이면 반사를 저감할 수 있다.In the production of the antireflection film, the film base material 20 is attached to the second main surface (nonreflection layer 50 non-formed surface) side of the transparent film 10 with an adhesive layer 30 interposed therebetween. (40) is used. In the present invention, by bonding the film substrate 20 to the transparent film 10, it is possible to reduce backside reflection when light is incident from the transparent film side.

필름 기재와 접착층의 적층물에, 접착층측으로부터 광을 입사시킨 경우의 가시광의 이면 반사율은, 1.0 ％ 이하인 것이 바람직하고, 0.7 ％ 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.5 ％ 이하인 것이 더 바람직하고, 0.3 ％ 이하인 것이 특히 바람직하다. 또한, 가시광 반사율은, JIS R3106 : 1998 에 준해 측정된다. 필름 기재 (20) 로는, 광 흡수성 필름이나, 표면에 미세한 요철을 갖는 광 산란 필름 등이 바람직하게 사용된다. 이면 반사를 보다 저감하기 위해서, 필름 기재 (20) 로는 광 흡수성 필름이 바람직하게 사용된다.The back surface reflectance of visible light when light is incident on the laminate of the film substrate and the adhesive layer from the adhesive layer side is preferably 1.0% or less, more preferably 0.7% or less, still more preferably 0.5% or less, and 0.3% or less is particularly preferred. In addition, the visible light reflectance is measured according to JIS R3106:1998. As the film substrate 20, a light absorbing film, a light scattering film having fine irregularities on the surface, and the like are preferably used. In order to further reduce backside reflection, a light absorbing film is preferably used as the film substrate 20 .

필름 기재 (20) 와 접착층 (30) 의 적층물의 가시광 투과율은, 40 ％ 이하가 바람직하고, 20 ％ 이하가 보다 바람직하며, 10 ％ 이하가 더 바람직하다. 접착층 (30) 으로서 투명 재료가 사용되는 경우에는, 필름 기재 (20) 의 가시광 투과율이 40 ％ 이하인 것이 바람직하고, 20 ％ 이하인 것이 보다 바람직하며, 10 ％ 이하인 것이 더 바람직하다.The visible light transmittance of the laminate of the film substrate 20 and the adhesive layer 30 is preferably 40% or less, more preferably 20% or less, and still more preferably 10% or less. When a transparent material is used as the adhesive layer 30, the visible light transmittance of the film substrate 20 is preferably 40% or less, more preferably 20% or less, and still more preferably 10% or less.

필름 기재와 접착층의 적층체의 가시광 투과율을 T (％), 필름 기재의 굴절률을 n 으로 하면, 접착층측으로부터 광을 입사시킨 경우의 이면 반사율 (필름 기재의 공기 계면에서 반사되어 점착층으로부터 재출사하는 광의 비율) 은, 이하와 같이 계산할 수 있다.If the visible light transmittance of the laminate of the film substrate and the adhesive layer is T (%) and the refractive index of the film substrate is n, the back surface reflectance when light is incident from the adhesive layer side (reflected at the air interface of the film substrate and re-emitted from the adhesive layer) The ratio of light) can be calculated as follows.

이면 반사율 (％) = (T2/100) × (n - 1)2/(n ＋ 1)2 Back surface reflectance (%) = (T 2 /100) × (n - 1) 2 / (n + 1) 2

가시광 투과율 T 가 40 ％ 이하이면, 필름 기재와 공기의 계면에서의 굴절률차에 의한 반사가 6 ％ 정도인 경우 (필름 기재의 굴절률이 1.6 정도인 경우) 라도, 투명 필름측으로부터의 입사광에 대한 이면 반사율이 1 ％ 이하가 된다.If the visible light transmittance T is 40% or less, even when the reflection due to the difference in refractive index at the interface between the film substrate and the air is about 6% (when the refractive index of the film substrate is about 1.6), the back surface to the incident light from the transparent film side The reflectance becomes 1% or less.

필름 기재 (20) 의 재료는, 폴리에스테르류, 셀룰로오스계 폴리머, 아크릴계 폴리머, 스티렌계 폴리머, 아미드계 폴리머, 폴리올레핀, 고리형 폴리올레핀, 폴리카보네이트 등이 사용된다. 이들 수지 재료에 카본 블랙 등의 흑색 안료를 첨가하거나, 베이스 필름의 표면에 흑색 잉크 등에 의한 착색층을 형성함으로써, 광 흡수성의 필름 기재가 얻어진다. 착색층은, 베이스 필름의 일방의 면에만 형성되어 있어도 되고, 양면에 형성되어 있어도 된다. 필름 기재 (20) 로서 착색층을 구비하는 광 흡수성 필름이 사용되는 경우, 투명 필름 (10) 측의 계면에서의 광 반사를 억제하는 관점에서, 적어도 베이스 필름의 투명 필름 (10) 측의 면에 착색층이 형성되어 있는 것이 바람직하다. 착색층의 두께는, 예를 들어 0.5 ㎛ ∼ 10 ㎛ 정도이다.As the material of the film substrate 20, polyesters, cellulose polymers, acrylic polymers, styrenic polymers, amide polymers, polyolefins, cyclic polyolefins, polycarbonates and the like are used. A light-absorbing film substrate is obtained by adding a black pigment such as carbon black to these resin materials or by forming a colored layer using black ink or the like on the surface of the base film. The colored layer may be formed only on one surface of the base film or may be formed on both surfaces. When a light absorptive film having a colored layer is used as the film substrate 20, from the viewpoint of suppressing light reflection at the interface on the transparent film 10 side, at least on the surface of the base film on the transparent film 10 side. It is preferable that a colored layer is formed. The thickness of the colored layer is, for example, about 0.5 µm to 10 µm.

도 3(C1), 도 3(C2) 에 나타내는 바와 같이, 반사 방지 필름의 실용 시에 필름 기재 (20) 는 박리 제거된다. 즉, 필름 기재 (20) 는, 최종 제품에는 포함되지 않는 공정재이다. 그 때문에, 필름 기재는 가능한 한 저렴한 것이 바람직하고, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 범용 필름이 바람직하게 사용된다. 필름 기재 (20) 의 두께는 특별히 제한되지 않는다. 필름 기재의 두께가 얇으면, 적층체 (40) 상에 반사 방지층 (50) 을 형성할 때의 연속 성막 길이를 길게 할 수 있어, 반사 방지 필름의 생산성을 향상시킬 수 있다. 그 때문에, 성막성이나 핸들링성을 저해하지 않는 범위에서, 필름 기재 (20) 의 두께는 가능한 한 얇은 것이 바람직하다. 필름 기재의 두께는, 5 ㎛ ∼ 200 ㎛ 가 바람직하고, 10 ㎛ ∼ 130 ㎛ 가 보다 바람직하며, 15 ㎛ ∼ 110 ㎛ 가 더 바람직하다.As shown in FIG. 3(C1) and FIG. 3(C2), the film substrate 20 is peeled and removed during practical use of the antireflection film. That is, the film substrate 20 is a process material not included in the final product. Therefore, it is preferable that the film base material is as inexpensive as possible, and a general-purpose film such as polyethylene terephthalate is preferably used. The thickness of the film substrate 20 is not particularly limited. If the thickness of the film substrate is thin, the length of continuous film formation at the time of forming the antireflection layer 50 on the layered product 40 can be increased, and the productivity of the antireflection film can be improved. Therefore, it is preferable that the thickness of the film substrate 20 is as thin as possible within a range that does not impair film formability or handling properties. The thickness of the film substrate is preferably from 5 μm to 200 μm, more preferably from 10 μm to 130 μm, still more preferably from 15 μm to 110 μm.

도 1b 는, 필름 기재 (20) 의 층 구성의 일례를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 1b 에 나타내는 필름 기재 (20) 는, 베이스 필름 (25) 상에 이형층 (21) 을 구비한다. 이형층 (21) 은, 예를 들어 베이스 필름 (25) 의 표면에 이형제를 도포함으로써 형성할 수 있다. 이형제로는, 실리콘계, 불소계, 장사슬 알킬계, 지방산 아미드계 등의 이형 재료나, 실리카 분말 등을 함유하는 용액이 사용된다. 이형층을 구비하는 필름 기재가 사용되는 경우, 접착층 (30) 과의 첩착면에 이형층 (21) 이 배치되는 것이 바람직하다. 접착층과의 첩착면에 이형층이 존재함으로써, 투명 필름 (10) 과 필름 기재 (20) 의 접착력이 작아지기 때문에, 반사 방지층을 형성 후의 반사 방지 필름으로부터의 필름 기재의 박리 제거를 용이하게 실시할 수 있다.1B is a cross-sectional view schematically showing an example of the layer structure of the film substrate 20. The film substrate 20 shown in FIG. 1B is equipped with the release layer 21 on the base film 25. The release layer 21 can be formed by, for example, applying a release agent to the surface of the base film 25 . As the release agent, a release material such as silicone, fluorine, long-chain alkyl, or fatty acid amide, or a solution containing silica powder or the like is used. When a film substrate having a release layer is used, it is preferable that the release layer 21 is disposed on the adhesive surface with the adhesive layer 30 . Since the adhesive strength between the transparent film 10 and the film base material 20 is reduced by the presence of the release layer on the adhesive surface and the adhesive layer, peeling and removal of the film base material from the antireflection film can be easily performed after forming the antireflection layer. can

필름 기재 (20) 의 이형층 (21) 과 그 바로 아래 층의 굴절률차는 작은 편이 바람직하다. 구체적으로는, 이형층 (21) 의 굴절률 n1 과 이형층 바로 아래 층의 굴절률 n2 의 차 n1 - n2 는, -0.3 ∼ 0.25 가 바람직하고, -0.25 ∼ 0.25 가 보다 바람직하며, -0.25 ∼ 0.15 가 더 바람직하고, -0.25 ∼ 0.1 이 특히 바람직하다. 굴절률은 파장 590 ㎚ 에 있어서의 값이다. 이형층 바로 아래 층이란, 이형층 (21) 에 인접하는 층이다. 베이스 필름 (25) 상에 직접 이형층 (21) 이 형성되어 있는 경우에는, 베이스 필름 (25) 이 이형층 바로 아래 층에 해당한다. 베이스 필름과 이형층 사이에, 착색층이나 올리고머 봉지층 등이 형성되어 있는 경우에는, 이들 층 중에서 이형층에 인접하는 층이 이형층 바로 아래 층에 해당한다. The smaller the difference in refractive index between the release layer 21 of the film substrate 20 and the layer immediately below it, the smaller the preferred one. Specifically, the difference n 1 - n 2 between the refractive index n 1 of the release layer 21 and the refractive index n 2 of the layer immediately below the release layer is preferably -0.3 to 0.25, more preferably -0.25 to 0.25, - 0.25 to 0.15 are more preferable, and -0.25 to 0.1 are particularly preferable. The refractive index is a value at a wavelength of 590 nm. The layer immediately below the release layer is a layer adjacent to the release layer 21 . In the case where the release layer 21 is formed directly on the base film 25, the base film 25 corresponds to a layer immediately below the release layer. Between the base film and the release layer, when a colored layer or an oligomer encapsulating layer is formed, the layer adjacent to the release layer among these layers corresponds to the layer immediately below the release layer.

예를 들어, PET 베이스 필름 상에 직접 이형층이 형성되어 있는 경우 (PET 베이스 필름이 이형층의 바로 아래 층인 경우), 이형층의 굴절률은 1.35 ∼ 1.8 이 바람직하고, 1.4 ∼ 1.75 가 보다 바람직하다.For example, when a release layer is formed directly on a PET base film (when the PET base film is a layer immediately below the release layer), the refractive index of the release layer is preferably from 1.35 to 1.8, and more preferably from 1.4 to 1.75. .

반사 방지 필름과 필름 기재의 적층체에 반사 방지층측으로부터 광을 입사시켰을 때의 필름 기재에 관련된 반사광은, 주로 필름 기재의 이면측 (공기 계면) 에서의 굴절률차에서 기인하는 반사광이지만, 이형층과 그 바로 아래 층 (베이스 필름 등) 의 계면에서의 굴절률차에서 기인하는 반사광도, 반사율의 측정에 영향을 주는 경우가 있다. 이 계면에서의 굴절률차 n1 - n2 를 상기 범위로 함으로써, 필름 기재의 반사율을 더욱 저감할 수 있다.The reflected light related to the film substrate when light is incident on the laminate of the antireflection film and the film substrate from the antireflection layer side is mainly the reflected light resulting from the difference in refractive index on the back side of the film substrate (air interface), but The reflected light resulting from the difference in refractive index at the interface of the layer immediately below it (base film or the like) may also affect the measurement of the reflectance. By setting the refractive index difference n 1 - n 2 at the interface within the above range, the reflectance of the film base material can be further reduced.

또, 필름 기재 (20) 와, 후술하는 접착층 (30) 의 계면에서의 굴절률차를 작게 하여, 이 계면에서의 반사광을 저감하면, 접착층측으로부터의 입사광에 대한 반사광을 더욱 저감할 수 있다. 이들 계면에서의 굴절률차를 작게 하기 위해서는, 이형층 (21) 의 굴절률 n1 은, 그 바로 아래 층의 굴절률 n2 와, 접착층 (30) 의 굴절률 n3 의 중간의 값인 것이 바람직하다. 즉, n2 ＜ n1 ＜ n3, 또는 n3 ＜ n1 ＜ n2 인 것이 바람직하다.In addition, by reducing the difference in refractive index at the interface between the film substrate 20 and the adhesive layer 30 described later, and reducing the reflected light at this interface, the reflected light for the incident light from the adhesive layer side can be further reduced. In order to reduce the difference in refractive index at these interfaces, the refractive index n 1 of the release layer 21 is preferably an intermediate value between the refractive index n 2 of the layer immediately below it and the refractive index n 3 of the adhesive layer 30 . That is, it is preferable that n 2 < n 1 < n 3 or n 3 < n 1 < n 2 .

(접착층) (adhesive layer)

투명 필름 (10) 과 필름 기재 (20) 는, 접착층 (30) 을 개재하여 첩합된다. 접착층 (30) 의 재료는 특별히 한정되지 않지만, 필름 기재 (20) 를 박리 가능하게 첩착하기 위해서, 점착제가 바람직하게 사용된다. 점착제로는, 예를 들어 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 아크릴계 폴리머를 주성분으로 하는 아크릴계 점착제가 바람직하게 사용된다.The transparent film 10 and the film substrate 20 are bonded together via the adhesive layer 30 . Although the material of the adhesive layer 30 is not specifically limited, In order to attach the film base material 20 so that exfoliation is possible, an adhesive is used preferably. As the pressure-sensitive adhesive, for example, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a silicone pressure-sensitive adhesive, and the like can be used. Among them, an acrylic adhesive containing an acrylic polymer as a main component is preferably used.

접착층 (30) 은, 투명해도 되고 불투명해도 된다. 필름 기재 (20) 로서 광 흡수성의 필름을 사용하고, 또한 광 흡수성의 접착층 (30) 을 사용하면, 필름 기재 (20) 와 접착층 (30) 의 적층물의 가시광 투과율을 저하시켜, 이면 반사를 더욱 저감할 수 있다. 한편, 도 3(D1) 에 나타내는 바와 같이, 반사 방지 필름으로부터 필름 기재 (20) 를 박리 후, 다른 필름 (71) 과의 첩합에 접착층 (30) 을 사용하는 경우에는, 광 투과성의 접착층을 사용하는 것이 바람직하다. 광 투과성의 접착층은, 가시광 투과율이 80 ％ 이상인 것이 바람직하고, 85 ％ 이상인 것이 보다 바람직하며, 90 ％ 이상인 것이 더 바람직하다. The adhesive layer 30 may be transparent or opaque. When a light-absorbing film is used as the film substrate 20 and the light-absorbing adhesive layer 30 is used, the visible light transmittance of the laminate of the film substrate 20 and the adhesive layer 30 is reduced, and the backside reflection is further reduced. can do. On the other hand, as shown in FIG. 3 (D1), when the adhesive layer 30 is used for bonding with another film 71 after peeling the film base material 20 from the antireflection film, a light-transmitting adhesive layer is used It is desirable to do The light-transmitting adhesive layer preferably has a visible light transmittance of 80% or more, more preferably 85% or more, and still more preferably 90% or more.

접착층 (30) 은, 광 산란성을 가지고 있어도 된다. 접착층에 광 산란성을 갖게 함으로써, 투명 필름 (10) 을 투과한 광을 접착층에서 산란시켜, 이면 반사를 더욱 저감할 수 있다. 광 산란성을 갖는 접착층으로는, 예를 들어 점착제 중에 입자를 분산시킨 광 산란 점착제를 들 수 있다. 접착층이 광 산란 점착제인 경우, 광 산란 점착제의 헤이즈가 클수록 이면 반사가 저감되는 경향이 있다. 그 때문에, 광 산란 점착제층의 헤이즈는, 40 ％ 이상이 바람직하고, 50 ％ 이상이 보다 바람직하며, 70 ％ 이상이 더 바람직하고, 90 ％ 이상이 특히 바람직하다.The adhesive layer 30 may have light scattering properties. By imparting light scattering properties to the adhesive layer, light transmitted through the transparent film 10 is scattered by the adhesive layer, and backside reflection can be further reduced. Examples of the adhesive layer having light scattering properties include light scattering adhesives in which particles are dispersed in the adhesive. When the adhesive layer is a light scattering adhesive, the back surface reflection tends to decrease as the haze of the light scattering adhesive increases. Therefore, the haze of the light scattering pressure-sensitive adhesive layer is preferably 40% or more, more preferably 50% or more, still more preferably 70% or more, and particularly preferably 90% or more.

광 산란 점착제에 포함되는 입자로는, 예를 들어 무기 미립자나 고분자 미립자 등을 들 수 있다. 상기 입자는, 바람직하게는 폴리머 미립자이다. 폴리머 미립자의 재질로는, 실리콘 수지, 폴리메타크릴산메틸 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리우레탄 수지, 멜라민 수지 등을 들 수 있다. 이들 수지는, 점착제에 대한 분산성이 우수하고, 아크릴계 점착제 등 점착제와의 적절한 굴절률차를 가지므로, 확산 성능이 우수한 광 산란 점착제층이 얻어진다. 입자의 형상은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 진구상, 편평상, 부정형상 등을 들 수 있다. 입자는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합해도 된다.Examples of the particles included in the light scattering adhesive include inorganic fine particles and polymer fine particles. The particles are preferably polymer fine particles. Examples of the material of the polymer fine particles include silicone resin, polymethyl methacrylate resin, polystyrene resin, polyurethane resin, and melamine resin. Since these resins are excellent in dispersibility to the pressure-sensitive adhesive and have an appropriate refractive index difference with the pressure-sensitive adhesive such as an acrylic pressure-sensitive adhesive, a light scattering pressure-sensitive adhesive layer having excellent diffusion performance is obtained. The shape of the particles is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a flat shape, and an irregular shape. Particles may be used alone or in combination of two or more.

상기 입자의 체적 평균 입경은, 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 10 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 1.5 ㎛ ∼ 5 ㎛ 이다. 체적 평균 입경을 상기 범위로 함으로써, 우수한 광 산란 성능을 부여할 수 있다. 체적 평균 입경은, 예를 들어 초원심식 자동 입도 분포 측정 장치를 사용하여 측정할 수 있다. 광 산란 점착제층 중의 상기 입자의 함유량은, 바람직하게는 0.3 중량％ ∼ 50 중량％ 이고, 보다 바람직하게는 3 중량％ ∼ 48 중량％ 이다. 입자의 배합량을 상기 범위로 함으로써, 우수한 광 산란 성능을 갖는 광 산란 점착제층이 얻어진다.The volume average particle diameter of the particles is preferably 1 μm to 10 μm, more preferably 1.5 μm to 5 μm. By setting the volume average particle diameter within the above range, excellent light scattering performance can be provided. The volume average particle diameter can be measured using, for example, an ultracentrifugal automatic particle size distribution analyzer. The content of the particles in the light scattering pressure-sensitive adhesive layer is preferably 0.3% by weight to 50% by weight, more preferably 3% by weight to 48% by weight. By setting the compounding amount of the particles within the above range, a light scattering pressure-sensitive adhesive layer having excellent light scattering performance can be obtained.

(반사 방지층) (antireflection layer)

투명 필름 (10) 의 제 2 주면 상에 접착층 (30) 을 개재하여 필름 기재 (20) 가 첩착된 적층체 (40) 의 제 1 주면 상에 반사 방지층 (50) 이 형성된다. 반사 방지층 (50) 은, 2 층 이상의 박막으로 이루어진다. 일반적으로 반사 방지층은, 입사광과 반사광의 역전된 위상이 서로 상쇄되도록, 박막의 광학 막두께 (굴절률과 두께의 곱) 가 조정된다. 반사 방지층을, 굴절률이 상이한 2 층 이상의 박막의 다층 적층체로 함으로써, 가시광의 광대역의 파장 범위에 있어서 반사율을 작게 할 수 있다.An antireflection layer 50 is formed on the first main surface of the layered product 40 to which the film substrate 20 is stuck on the second main surface of the transparent film 10 with the adhesive layer 30 interposed therebetween. The antireflection layer 50 is composed of two or more layers of thin films. In general, the optical film thickness (product of refractive index and thickness) of the antireflection layer is adjusted so that the inverted phases of incident light and reflected light cancel each other out. By making the antireflection layer a multilayer laminate of two or more thin films having different refractive indices, the reflectance can be reduced in a wide wavelength range of visible light.

반사 방지층 (50) 을 구성하는 박막의 재료로는, 금속의 산화물, 질화물, 불화물 등을 들 수 있다. 예를 들어, 굴절률 1.35 ∼ 1.55 정도의 저굴절률 재료로서 산화규소, 불화마그네슘 등, 굴절률 1.80 ∼ 2.40 정도의 고굴절 재료로서 산화티탄, 산화니오브, 산화지르코늄, 주석 도프 산화인듐 (ITO), 안티몬 도프 산화주석 (ATO) 등을 들 수 있다. 또, 저굴절률층과 고굴절률층에 추가로, 굴절률 1.50 ∼ 1.85 정도의 중굴절률층으로서 예를 들어 산화티탄이나, 상기 저굴절률 재료와 고굴절 재료의 혼합물 (산화티탄과 산화규소의 혼합물 등) 로 이루어지는 박막을 형성해도 된다.Examples of the material of the thin film constituting the antireflection layer 50 include metal oxides, nitrides, and fluorides. For example, silicon oxide, magnesium fluoride, etc. as a low refractive index material with a refractive index of about 1.35 to 1.55, titanium oxide, niobium oxide, zirconium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped oxide as a high refractive index material with a refractive index of about 1.80 to 2.40 Annotation (ATO) etc. are mentioned. In addition to the low refractive index layer and the high refractive index layer, as a medium refractive index layer having a refractive index of about 1.50 to 1.85, for example, titanium oxide or a mixture of the above-mentioned low refractive index material and high refractive index material (a mixture of titanium oxide and silicon oxide, etc.) You may form the thin film which consists of.

반사 방지층 (50) 의 적층 구성으로는, 투명 필름 (10) 측으로부터, 광학 막두께 240 ㎚ ∼ 260 ㎚ 정도의 고굴절률층과, 광학 막두께 120 ㎚ ∼ 140 ㎚ 정도의 저굴절률층의 2 층 구성 ; 광학 막두께 170 ㎚ ∼ 180 ㎚ 정도의 중굴절률층과, 광학 막두께 60 ㎚ ∼ 70 ㎚ 정도의 고굴절률층과, 광학 막두께 135 ㎚ ∼ 145 ㎚ 정도의 저굴절률층의 3 층 구성 ; 광학 막두께 25 ㎚ ∼ 55 ㎚ 정도의 고굴절률층과, 광학 막두께 35 ㎚ ∼ 55 ㎚ 정도의 저굴절률층과, 광학 막두께 80 ㎚ ∼ 240 ㎚ 정도의 고굴절률층과, 광학 막두께 120 ㎚ ∼ 150 ㎚ 정도의 저굴절률층의 4 층 구성 ; 광학 막두께 15 ㎚ ∼ 30 ㎚ 정도의 저굴절률층과, 광학 막두께 20 ㎚ ∼ 40 ㎚ 정도의 고굴절률층과, 광학 막두께 20 ㎚ ∼ 40 ㎚ 정도의 저굴절률층과, 광학 막두께 240 ㎚ ∼ 290 ㎚ 정도의 고굴절률층과, 광학 막두께 100 ㎚ ∼ 200 ㎚ 정도의 저굴절률층의 5 층 구성 등을 들 수 있다. 반사 방지층을 구성하는 박막의 굴절률이나 막두께의 범위는 상기 예시에 한정되지 않는다. 또, 반사 방지층 (50) 은, 6 층 이상의 박막의 적층체여도 된다. As the laminate configuration of the antireflection layer 50, from the side of the transparent film 10, a high refractive index layer having an optical film thickness of about 240 nm to 260 nm and a low refractive index layer having an optical film thickness of about 120 nm to 140 nm are two layers. composition ; a three-layer configuration of a medium refractive index layer with an optical film thickness of about 170 nm to 180 nm, a high refractive index layer with an optical film thickness of about 60 nm to 70 nm, and a low refractive index layer with an optical film thickness of about 135 nm to 145 nm; A high refractive index layer having an optical film thickness of about 25 nm to 55 nm, a low refractive index layer having an optical film thickness of about 35 nm to 55 nm, a high refractive index layer having an optical film thickness of about 80 nm to 240 nm, and an optical film thickness of 120 nm 4-layer configuration of a low refractive index layer of about 150 nm; A low refractive index layer having an optical film thickness of about 15 nm to 30 nm, a high refractive index layer having an optical film thickness of about 20 nm to 40 nm, a low refractive index layer having an optical film thickness of about 20 nm to 40 nm, and an optical film thickness of 240 nm A five-layer structure of a high refractive index layer of about -290 nm and a low refractive index layer of about 100 nm to 200 nm in optical film thickness, and the like are exemplified. The range of the refractive index or film thickness of the thin film constituting the antireflection layer is not limited to the above examples. Further, the antireflection layer 50 may be a laminate of six or more thin films.

[반사 방지층의 형성 방법][Method of Forming Antireflection Layer]

반사 방지층을 구성하는 박막의 성막 방법은 특별히 한정되지 않고, 웨트 코팅법, 드라이 코팅법의 어느 것이라도 된다. 막두께가 균일한 박막을 형성할 수 있는 점, 및 나노미터 레벨 박막의 막두께 조정이 용이한 점에서, 진공 증착, CVD, 스퍼터, 전자선 증착 등의 드라이 코팅법이 바람직하고, 그 중에서도 스퍼터 및 전자선 증착이 바람직하다.The film formation method of the thin film constituting the antireflection layer is not particularly limited, and may be either a wet coating method or a dry coating method. Dry coating methods such as vacuum deposition, CVD, sputtering, and electron beam deposition are preferable in that a thin film having a uniform film thickness can be formed and the film thickness of a nanometer-level thin film can be easily adjusted, and among them, sputtering and Electron beam deposition is preferred.

반사 방지층의 형성은, 적층체 (40) 를 일방향으로 반송하면서 연속적으로 실시된다. 예를 들어, 반사 방지층이 스퍼터에 의해 형성되는 경우, 권취식 스퍼터 장치를 사용하여 연속 성막이 실시된다.Formation of the antireflection layer is performed continuously while conveying the layered product 40 in one direction. For example, when the antireflection layer is formed by sputtering, continuous film formation is performed using a winding-type sputtering apparatus.

반사 방지층을 구성하는 박막의 적어도 1 층을 성막 후에, 적층체 (40) 의 제 1 주면측 (박막 형성면측) 으로부터 가시광이 조사되고, 그 반사광을 검출함으로써 인라인 검사가 실시된다. 이 인라인 검사의 결과를 기록함으로써, 반사 방지 필름과 다른 광학 필름의 첩합이나, 화상 표시 장치 형성 등의 공정을 효율화할 수 있다. 예를 들어, 인라인 검사에서 규격 외라고 판정된 부분이 다음 공정에 공급되지 않도록 하면, 최종 제품의 수율 향상이나, 리워크 빈도의 저감이 도모된다. 또, 인라인으로의 반사광 검출 결과에 기초하여 박막의 성막 조건을 조정함으로써, 반사광 특성의 균일성이 우수한 반사 방지 필름이 얻어진다.After at least one layer of the thin film constituting the antireflection layer is formed, visible light is irradiated from the first main surface side (thin film formation surface side) of the laminate 40, and the reflected light is detected to perform in-line inspection. By recording the result of this in-line inspection, it is possible to increase the efficiency of processes such as pasting the antireflection film and other optical films and forming an image display device. For example, if the part determined to be out of specification by in-line inspection is not supplied to the next process, the yield of the final product is improved and the rework frequency is reduced. In addition, by adjusting the film formation conditions of the thin film based on the in-line reflected light detection result, an antireflection film having excellent uniformity in reflected light characteristics can be obtained.

이하에서는, 투명 필름 (10) 상에, 4 층의 박막 (51, 52, 53, 54) 으로 이루어지는 반사 방지층 (50) 을 스퍼터법에 의해 형성하는 경우를 예로서, 인라인으로의 반사광 검출 결과를 성막 조건에 반영시키면서 반사 방지 필름을 제조하는 방법에 대해 설명한다.In the following, a case in which the antireflection layer 50 composed of four layers of thin films 51, 52, 53, and 54 is formed on the transparent film 10 by the sputtering method is taken as an example, and the reflected light detection result in line A method for manufacturing the antireflection film while reflecting the film formation conditions will be described.

도 2 는, 인라인으로의 반사광 검출 결과를 반사 방지층의 성막 조건에 반영시키기 위한 성막 장치의 구성예를 나타내는 개념도이다. 도 2 의 성막 장치는, 2 개의 성막 롤 (281, 282) 을 구비한다. 각 성막 롤 (281, 282) 의 둘레 방향을 따라, 격벽으로 구획된 복수의 성막실 (210, 220, 230, 240) 이 설치되어 있다. 각 성막실 내에는 캐소드가 형성되어 있고, 각각의 캐소드 (214, 224, 234, 244) 는 전원 (216, 226, 236, 246) 에 접속되어 있다. 캐소드 (214, 224, 234, 244) 상에는, 성막 롤 (281, 282) 에 대면하도록 타겟 (213, 223, 233, 243) 이 배치되어 있다. 각 성막실 (210, 220, 230, 240) 에는, 가스 도입관이 접속되어 있고, 가스 도입관의 상류에는, 밸브 (219, 229, 239, 249) 가 설치되어 있다.2 is a conceptual diagram showing an example of a configuration of a film forming apparatus for reflecting in-line reflected light detection results to film forming conditions of an antireflection layer. The film forming apparatus of FIG. 2 includes two film forming rolls 281 and 282 . Along the circumferential direction of each of the film-forming rolls 281 and 282, a plurality of film-forming chambers 210, 220, 230, and 240 partitioned off by partition walls are provided. A cathode is formed in each film formation chamber, and each cathode 214 , 224 , 234 , 244 is connected to a power source 216 , 226 , 236 , 246 . On the cathodes 214 , 224 , 234 , and 244 , targets 213 , 223 , 233 , and 243 are disposed so as to face the film forming rolls 281 and 282 . A gas inlet pipe is connected to each of the film formation chambers 210, 220, 230, and 240, and valves 219, 229, 239, and 249 are provided upstream of the gas inlet pipe.

준비실 (250) 내의 권출 (卷出) 롤 (251) 에는, 투명 필름 (10) 과 필름 기재 (20) 의 적층체 (40) 의 권회체가 세트되어 있다. 권출 롤로부터 권출된 적층체 (40) 는, 제 1 성막 롤 (281) 상으로 반송되고, 제 1 성막실 (210), 제 2 성막실 (220) 로 순서대로 유도된다. 제 1 성막실 (210) 에서 투명 필름 (10) 의 제 1 주면 상에 박막 (51) 이 성막되고, 제 2 성막실 (220) 에서 박막 (51) 상에 박막 (52) 이 성막된다. 박막 (51, 52) 이 형성된 적층체 (45) 는, 제 2 성막 롤 (282) 상으로 반송되고, 제 3 성막실 (230) 및 제 4 성막실 (240) 에서 박막 (53) 및 박막 (54) 이 순차 성막된다. 적층체 (40) 의 투명 필름 (10) 상에 4 층의 박막으로 이루어지는 반사 방지층 (50) 이 형성된 반사 방지 필름 (101) 은, 권취실 (260) 로 유도되고, 권취 롤 (261) 에서 권취되어, 반사 방지 필름의 권회체가 얻어진다.The winding body of the laminated body 40 of the transparent film 10 and the film base material 20 is set on the unwinding roll 251 in the preparation room 250. The layered product 40 unwound from the unwinding roll is conveyed onto the first film forming roll 281 and guided to the first film forming room 210 and the second film forming room 220 in this order. In the first film formation chamber 210, a thin film 51 is formed on the first main surface of the transparent film 10, and in the second film formation chamber 220, a thin film 52 is formed on the thin film 51. The laminate 45 on which the thin films 51 and 52 are formed is conveyed onto the second film forming roll 282, and the thin film 53 and the thin film ( 54) is sequentially formed. The antireflection film 101 in which the antireflection layer 50 composed of four layers of thin films is formed on the transparent film 10 of the laminate 40 is guided to a take-up chamber 260 and wound up by a take-up roll 261. Thus, a rolled body of the antireflection film is obtained.

권취실 (260) 내에는, 반사 방지 필름 (101) 의 반사 방지층 (50) 형성면과 대면하도록, 광 조사부 (291) 와 광 검출부 (293) 가 배치되어 있다. 광 조사부로부터 조사되는 광은, 가시광을 포함하고 있으면, 백색광이어도 되고, 단색광이어도 된다. 광 조사는, 연속적이어도 되고 단속적이어도 된다. 광 조사부 (291) 로부터 반사 방지 필름 (101) 으로 조사된 광의 반사광이, 광 검출부 (293) 에서 검출된다. 광 검출부 (293) 에서 검출된 반사광은, 수광 소자에 의해 전기 신호로 변환되고, 필요에 따라 연산부 (273) 에서 연산이 실시된다. 연산부에서는, 검출된 반사광의 스펙트럼 산출이나, 특정 표색계 (예를 들어, XYZ 표색계, L*a*b* 표색계, Yab 표색계) 로의 변환 등이 실시된다.Inside the take-up chamber 260, the light irradiation part 291 and the light detection part 293 are arrange|positioned so that it may face the surface on which the antireflection layer 50 of the antireflection film 101 is formed. The light irradiated from the light irradiation unit may be white light or monochromatic light as long as it includes visible light. Light irradiation may be continuous or intermittent. The reflected light of the light irradiated from the light irradiation unit 291 to the antireflection film 101 is detected by the light detection unit 293 . The reflected light detected by the photodetector 293 is converted into an electrical signal by the light receiving element, and calculation is performed by the arithmetic unit 273 as necessary. In the calculation unit, spectrum calculation of the detected reflected light and conversion to a specific color system (for example, XYZ color system, L*a*b* color system, Yab color system) are performed.

또한, 연산부 (273) 에서는, 검출된 반사광의 반사 특성과, 목적으로 하는 반사광 특성의 차이의 판정이 실시되고, 차이가 임계값을 초과한 경우에 박막의 성막 조건을 변경하도록 제어부로 신호를 송신한다. 제어부 (275) 는, 반사광의 특성 (반사율이나 색상 등) 이 소정의 범위 내가 되도록, 박막의 성막 조건 조정을 실시한다.Further, in the calculation unit 273, a difference between the reflection characteristic of the detected reflected light and the target reflected light characteristic is determined, and when the difference exceeds a threshold value, a signal is sent to the control unit to change the film formation conditions of the thin film. do. The control unit 275 adjusts the film formation conditions of the thin film so that the characteristics of the reflected light (reflectance, color, etc.) fall within a predetermined range.

조정의 대상이 되는 성막 조건으로는, 성막실 내로의 가스 도입량, 필름의 반송 속도, 투입 전력량 등을 들 수 있다. 예를 들어, 도 2 에 나타내는 성막 장치에서는, 제어부 (275) 가, 권출 롤 (251), 권취 롤 (261), 및 성막 롤 (281, 282) 의 회전 속도, 전원 (216, 226, 236, 246) 의 투입 전력량, 그리고 가스 도입관의 밸브 (219, 229, 239, 249) 의 개방도를 조정함으로써, 각 성막실 내에서의 박막의 성막 조건을 조정할 수 있다. 반사광의 특성 변화는, 주로 박막의 막두께의 변동에서 기인한다. 따라서, 박막의 막두께가 설정값에 근접하도록, 박막의 성막 조건 조정이 실시되는 것이 바람직하다. 성막 조건 조정은, 예를 들어 PID 제어에 의해 실행된다. 또, 박막의 조성을 변경하도록 제조 조건을 조정하여 굴절률을 변화시킬 수도 있다. 예를 들어, 반응성 스퍼터에 있어서, 성막실 내에 도입되는 산소량을 변화시킴으로써 금속 산화물 중의 산소 함유량이 변화하고, 이것에 따라 박막의 굴절률이 변화한다.Examples of the film formation conditions to be adjusted include the amount of gas introduced into the film formation chamber, the transport speed of the film, and the amount of power input. For example, in the film forming apparatus shown in FIG. 2 , the control unit 275 controls the rotation speed of the unwinding roll 251, the winding roll 261, and the film forming rolls 281 and 282, the power sources 216, 226, 236, 246) and the opening degree of the valves 219, 229, 239, and 249 of the gas inlet pipe, it is possible to adjust the thin film formation conditions in each film formation chamber. Changes in the characteristics of the reflected light mainly originate from fluctuations in the film thickness of the thin film. Therefore, it is preferable to adjust the film formation conditions of the thin film so that the film thickness of the thin film approaches the set value. Adjustment of film formation conditions is performed by, for example, PID control. In addition, the refractive index can be changed by adjusting the manufacturing conditions so as to change the composition of the thin film. For example, in reactive sputtering, by changing the amount of oxygen introduced into the film formation chamber, the oxygen content in the metal oxide is changed, and the refractive index of the thin film is changed accordingly.

목적으로 하는 반사광 특성과의 차이 판정을 실시하기 위해서는, 기준이 되는 반사광 특성을 미리 정해 둘 필요가 있다. 기준이 되는 반사광 특성은, 제품의 규격 등에 따라 적절히 정해진다. 일례로서, 제품의 규격 범위의 중앙을 기준으로 하는 방법이나, 각 층의 설정 막두께 및 굴절률로부터 광학 계산에 의해 산출되는 반사광 스펙트럼을 기준으로 하는 방법 (후술하는 실시예 참조) 을 들 수 있다. 또, 오프라인으로 측정한 제품의 반사광 스펙트럼을 기준으로 해도 된다.In order to determine the difference from the target specular characteristics, it is necessary to determine in advance the specular characteristics that serve as standards. The reflected light characteristics serving as standards are appropriately determined according to product standards and the like. As an example, a method using the center of the standard range of the product as a reference or a method using the reflected light spectrum calculated by optical calculation from the set film thickness and refractive index of each layer as a reference (refer to the examples described later) is exemplified. Moreover, you may use the reflected light spectrum of the product measured off-line as a reference.

광학 계산이나 오프라인으로의, 반사광의 기준 스펙트럼의 산출 또는 측정은, 이면 반사를 배제한 상태에서 실시하는 것이 바람직하다. 이면 반사를 배제하고 기준을 정함으로써, 목적으로 하는 반사광 특성을 제품의 규격과 합치시킬 수 있어, 기준값과 인라인 측정 결과의 차이를 정확하게 평가할 수 있게 된다.It is preferable to perform optical calculation or off-line calculation or measurement of the reference spectrum of reflected light in a state in which back surface reflection is excluded. By excluding the backside reflection and setting the standard, it is possible to match the target reflected light characteristics with the standard of the product, and it is possible to accurately evaluate the difference between the reference value and the in-line measurement result.

적층체 (40) 의 투명 필름 (10) 상에 반사 방지층 (50) 을 구성하는 모든 박막을 형성 후의 반사 방지 필름 (101) 은, Yab 표색계에 있어서의 휘도 Y 가 0.5 ％ 이하인 것이 바람직하다. 또한, Yab 표색계에 있어서의 Y 값은, XYZ 표색계에 있어서의 Y 값과 동일하다. 본 발명에 있어서는, 광 흡수성의 필름 기재 (20) 를 사용하여 이면 반사를 저감함으로써, 반사광의 Y 값을 작게 할 수 있다. 반사 Y 값을 작게 함으로써, 기준 스펙트럼과 인라인 측정값의 차를 양호한 감도로 검출할 수 있어, 색상의 상위 검출 감도도 향상되는 경향이 있다.The antireflection film 101 after forming all the thin films constituting the antireflection layer 50 on the transparent film 10 of the laminate 40 preferably has a luminance Y of 0.5% or less in the Yab color system. In addition, the Y value in the Yab color system is the same as the Y value in the XYZ color system. In the present invention, the Y value of the reflected light can be reduced by using the light-absorbing film base material 20 to reduce backside reflection. By making the reflection Y value small, the difference between the reference spectrum and the inline measurement value can be detected with good sensitivity, and the difference detection sensitivity of color tends to be improved.

이면 반사가 크고 검출 감도가 둔한 경우, 제품을 안정적으로 규격 내로 하기 위해서는, 인라인 측정값과 진짜값 사이에서 생길 수 있는 차를 감안하여, 안전을 보고 인라인 측정값의 관리폭을 좁게 할 필요가 있다. 그 때문에, 제조 조건의 관리폭이 좁아져, 박막의 성막 조건의 조정이 곤란해지는 경우가 있다. 또, 인라인 측정의 관리폭이 좁은 것에서 기인하여, 본래는 규격 내인 제품이 규격 외라고 판단되는 경우가 증가하여, 제품의 수율이 저하하는 경향이 있다.When the backside reflection is large and the detection sensitivity is dull, it is necessary to narrow the control range of the inline measurement value for safety in consideration of the difference that may occur between the inline measurement value and the true value in order to stably make the product within the standard. . Therefore, the control range of manufacturing conditions narrows, and it may become difficult to adjust thin film formation conditions. In addition, due to the narrow control range of in-line measurement, the number of cases in which a product that is originally within the standard is judged to be out of the standard increases, and the yield of the product tends to decrease.

한편, 본 발명에 의하면, 이면 반사를 억제함으로써, 기준값과 인라인 측정값의 차의 검출 감도가 높아져, 제조 공정에 있어서의 관리폭을 넓힐 수 있다. 그 때문에, 인라인 측정 결과에 근거하는 공정의 관리가 용이해지는 것에 추가로, 제품의 수율을 향상시킬 수 있다. On the other hand, according to the present invention, by suppressing back surface reflection, the detection sensitivity of the difference between the reference value and the inline measurement value is increased, and the control range in the manufacturing process can be widened. Therefore, in addition to facilitating process management based on inline measurement results, product yield can be improved.

또, 이면 반사를 억제하여 반사 Y 값을 작게 함으로써, 기준 스펙트럼과의 색도의 차가 작아지는 경향이 있다. 그 때문에, 인라인으로의 색상의 관리도 용이해진다. 적층체 (40) 의 투명 필름 (10) 상에 반사 방지층 (50) 을 구성하는 모든 박막을 형성 후의 반사 방지 필름 (101) 의 반사광과, 이면 반사를 배제한 반사 방지 필름의 기준 스펙트럼의 색도차 Δab 는, 7.5 이하인 것이 바람직하다. 또한, 색도차 Δab 는 Yab 표색계의 ab 색도도 상의 거리이고, 기준 스펙트럼의 색도 a0 및 b0, 그리고 측정 대상의 색도 a 및 b 로부터 하기 식에 의해 산출된다.In addition, the difference in chromaticity from the reference spectrum tends to be reduced by suppressing backside reflection and reducing the reflection Y value. Therefore, inline color management is also facilitated. Chromaticity difference Δab between the reflected light of the antireflection film 101 after all the thin films constituting the antireflection layer 50 are formed on the transparent film 10 of the laminate 40 and the reference spectrum of the antireflection film excluding back side reflection is preferably 7.5 or less. In addition, the chromaticity difference Δab is a distance on the ab chromaticity diagram of the Yab colorimetric system, and is calculated by the following formula from the chromaticities a 0 and b 0 of the reference spectrum and the chromaticities a and b of the measurement target.

Δab = {(a - a0)2 ＋ (b - b0)2}1/2 Δab = {(a - a 0 ) 2 + (b - b 0 ) 2 } 1/2

이상, 모든 박막 (51, 52, 53, 54) 을 성막 후에, 반사광의 인라인 검출이 실시되는 형태에 대해 설명했지만, 반사광의 인라인 검출은, 적어도 1 층의 박막을 형성 후라면, 어느 단계에서 실시되어도 된다. 예를 들어, 제 1 성막 롤 (281) 상에서 박막 (51, 52) 을 형성 후, 적층체 (45) 가 제 2 성막 롤 (282) 상으로 유도되기까지의 동안에, 광 조사부 (297) 로부터, 적층체 (45) 로 조사된 광의 반사광을, 광 검출부 (299) 에서 검출함으로써 반사광의 인라인 검출이 실시되어도 된다. 또, 2 지점 이상에서 반사광의 인라인 검출이 실시되어도 된다. 예를 들어, 도 2 에 나타내는 형태에 있어서, 2 층의 박막 (51, 52) 을 형성 후에 광 검출부 (299) 에서 적층체 (45) 로부터의 반사광의 검출이 실시되고, 또한 그 위에 2 층의 박막 (53, 54) 을 형성 후에 광 검출부 (293) 에서 반사 방지 필름 (101) 으로부터의 반사광의 검출이 실시되어도 된다. 이와 같이 2 지점 이상에서 인라인 측정을 실시하면, 성막 조건을 조정해야 하는 성막실의 판정이 용이해져, 보다 치밀한 제어가 가능해진다. 나아가서는, 폭 방향의 복수 지점에서 인라인 검출을 실시하여, 폭 방향의 반사광 특성이 균일해지도록 성막 조건의 조정이 실시되어도 된다. 예를 들어, 폭 방향으로 가스 도입량을 변화시킴으로써, 폭 방향의 성막 조건의 조정을 실시할 수 있다. In the above, the mode in which in-line detection of reflected light is performed after all the thin films 51, 52, 53, and 54 have been formed has been described, but in-line detection of reflected light is performed at any stage after forming at least one thin film layer. It can be. For example, after forming the thin films 51 and 52 on the first film-forming roll 281 and until the laminate 45 is guided onto the second film-forming roll 282, from the light irradiation unit 297, In-line detection of the reflected light may be performed by detecting the reflected light of the light irradiated to the laminate 45 by the photodetector 299 . In addition, inline detection of the reflected light may be performed at two or more points. For example, in the form shown in FIG. 2 , after forming the two layers of thin films 51 and 52, the light detection unit 299 detects the reflected light from the laminate 45, and furthermore, the two layers are formed thereon. After the thin films 53 and 54 are formed, the light reflected from the antireflection film 101 may be detected by the photodetector 293 . In this way, when inline measurement is performed at two or more points, it is easy to determine the film formation room in which the film formation conditions must be adjusted, and more precise control is possible. Furthermore, inline detection may be performed at a plurality of points in the width direction, and film formation conditions may be adjusted so that reflected light characteristics in the width direction become uniform. For example, the film formation conditions in the width direction can be adjusted by changing the gas introduction amount in the width direction.

도 2 에서는, 반사 방지층 (50) 이 4 층의 박막으로 이루어지는 예가 도시되어 있지만, 전술한 바와 같이 반사 방지층을 구성하는 박막의 수는, 2 층 이상이면 특별히 한정되지 않는다. 또, 박막의 수에 따라 적절한 성막 장치를 이용할 수 있다. 1 개의 성막 롤의 주위에 설치되는 성막실의 수는 1 개여도 되고, 3 개 이상이어도 된다. 성막 롤의 수는, 1 개여도 되고, 3 개 이상이어도 된다.2 shows an example in which the antireflection layer 50 is composed of four layers of thin films, however, as described above, the number of thin films constituting the antireflection layer is not particularly limited as long as it is two or more layers. In addition, an appropriate film forming apparatus can be used according to the number of thin films. The number of film forming chambers provided around one film forming roll may be one or three or more. The number of film-forming rolls may be one or three or more.

전술한 바와 같이, 박막의 형성 방법은 스퍼터법으로 한정되지 않고, 각종 드라이 코팅법이나, 웨트 코팅법이 채용되어도 된다. 스퍼터 이외의 방법에 의해 박막이 형성되는 경우도, 반사광의 인라인 검출 결과에 기초하여, 박막의 형성 조건을 조정함으로써, 반사광 특성의 균일성이 우수한 반사 방지 필름이 얻어진다.As described above, the method for forming the thin film is not limited to the sputtering method, and various dry coating methods and wet coating methods may be employed. Even when the thin film is formed by a method other than sputtering, an antireflection film having excellent uniformity in reflected light characteristics can be obtained by adjusting the conditions for forming the thin film based on the result of inline detection of the reflected light.

투명 필름의 제 1 주면 상에 반사 방지층이 형성된 반사 방지 필름에 광을 조사한 경우, 반사광의 대부분은 제 2 주면측에서의 이면 반사에 의한 것이고, 제 1 주면측 (반사 방지층 형성면) 에서의 반사광을 정확하게 검출하는 것은 곤란하다. 이에 대하여, 투명 필름 (10) 의 제 2 주면측에 광 흡수성의 필름 기재 (20) 를 첩착함으로써, 이면 반사가 억제된다. 이 형태에서는, 광 검출부 (293) 에서 검출되는 반사광의 대부분이, 제 1 주면측 (반사 방지층 형성면측) 으로부터의 반사광이기 때문에, 제 1 주면측으로부터의 반사광 특성의 약간의 변화를 인라인으로 검출할 수 있다. 이 검출 결과에 기초하여 박막의 성막 조건을 조정함으로써, 반사광 특성의 균일성이 우수한 반사 방지 필름을 제조할 수 있다.When light is irradiated to the antireflection film in which the antireflection layer is formed on the first main surface of the transparent film, most of the reflected light is due to backside reflection on the second main surface side, and the reflected light on the first main surface side (surface where the antireflection layer is formed) is accurately reflected. It is difficult to detect. In contrast, by attaching the light-absorbing film base material 20 to the second main surface side of the transparent film 10, back surface reflection is suppressed. In this embodiment, since most of the reflected light detected by the photodetector 293 is the reflected light from the first principal surface side (the antireflection layer formation surface side), slight changes in the reflected light characteristics from the first principal surface side can be detected in-line. can By adjusting the film formation conditions of the thin film based on this detection result, an antireflection film having excellent uniformity in reflected light characteristics can be manufactured.

이와 같이, 검사 대상이 되는 반사 방지층을 형성하기 전에, 투명 필름에 광 흡수성의 필름 기재를 첩착함으로써, 이면 반사를 억제하여, 반사광 특성을 인라인으로 정확하게 측정할 수 있다. 스퍼터법 등의 진공 성막에 의해 반사 방지층을 형성하는 경우, 성막 도중에 제품을 뽑아내 검사하는 것이나, 성막 라인과 동일 라인에서의 필름의 첩합이나 박리가 불가능하기 때문에, 본 발명의 방법은 특히 유용하다.In this way, by attaching the light-absorbing film base material to the transparent film before forming the antireflection layer to be inspected, backside reflection can be suppressed and reflected light characteristics can be accurately measured in-line. In the case of forming an antireflection layer by vacuum film formation such as sputtering, the method of the present invention is particularly useful because it is impossible to pull out and inspect a product during film formation, or to attach or peel a film on the same line as the film formation line. .

전술한 바와 같이, 필름 기재 (20) 로는 염가의 범용 필름이 사용되므로, 투명 필름과 필름 기재의 적층체는, 편광판에 비하여 저렴하다. 그 때문에, 상기 특허문헌 1 과 같이 편광판을 사용하는 경우에 비하면, 반사 방지층의 형성 초기 (인라인 반사광 검출에 의한 성막 조건의 제어 개시 전) 등에 규격 외 부분이 생겨도, 공정 로스의 제조 비용에 대한 영향이 작다.As described above, since an inexpensive general-purpose film is used as the film substrate 20, a laminate of a transparent film and a film substrate is less expensive than a polarizing plate. Therefore, compared to the case of using a polarizing plate as in Patent Literature 1, even if an out-of-standard part occurs in the early stage of formation of the antireflection layer (before start of film formation condition control by in-line reflected light detection), the effect of process loss on manufacturing cost this is small

또, 투명 필름 (10) 과 필름 기재 (20) 의 적층체 (40) 상에 반사 방지층을 형성함으로써, 편광판 상에 반사 방지층을 형성하는 경우에 비하여, 반사 방지층의 연속 성막 길이를 길게 할 수 있다. 일반적으로, 권출 롤 (251) 이나 권취 롤 (261) 은, 가대에 세트 가능한 필름 권회체의 중량이나 직경의 상한이 정해져 있다. 필름의 막두께가 얇을수록, 권회체의 중량이나 직경이 규정의 상한에 도달하는 필름의 길이가 길기 때문에, 연속 성막 가능 길이가 길어진다. 일반적으로, 편광판은, 편광자의 양면에 투명 보호 필름이 형성된 구성이고 3 장의 필름으로 구성되는데 대해, 상기 적층체 (40) 는, 2 장의 필름으로 구성할 수 있다. 그 때문에, 적층체 (40) 는, 편광판보다 두께를 얇게 설계할 수 있어, 연속 성막 길이를 길게 할 수 있다. 그 결과, 성막 장치의 가동률이 향상되어, 생산성을 높일 수 있게 된다.In addition, by forming the antireflection layer on the laminate 40 of the transparent film 10 and the film substrate 20, the length of continuous film formation of the antireflection layer can be increased compared to the case where the antireflection layer is formed on the polarizing plate. . Generally, the unwinding roll 251 and the winding roll 261 have upper limits of the weight and diameter of the film wound body that can be set on the frame. Since the length of the film which the weight and diameter of a winding object reach|attain the prescribed upper limit is so long that the film thickness of a film is thin, the continuous film-forming length becomes long. In general, a polarizing plate has a structure in which a transparent protective film is formed on both sides of a polarizer and is composed of three films, whereas the laminate 40 can be composed of two films. Therefore, the layered product 40 can be designed to be thinner than the polarizing plate, and the length of continuous film formation can be increased. As a result, the operation rate of the film forming apparatus is improved, and productivity can be increased.

[반사 방지 필름의 실용 형태][Practical form of antireflection film]

본 발명에서는, 반사 방지 필름의 반사광 특성을 인라인으로 측정할 목적으로, 투명 필름 (10) 의 제 2 주면측에 필름 기재 (20) 가 첩착된 적층체 (도 3(A)) 가 사용된다. 투명 필름 (10) 상에 반사 방지층 (50) 이 형성되고 (도 3(B)), 이 필름 기재가 형성된 반사 방지 필름 (101) 의 반사광 특성의 측정이 실시된 후에는, 필름 기재 (20) 는 불필요해진다. 그 때문에, 반사 방지 필름을 실용에 제공할 때에는, 필름 기재 (20) 는, 투명 필름 (10) 으로부터 박리 제거되는 것이 바람직하다.In the present invention, for the purpose of in-line measurement of the reflected light characteristics of an antireflection film, a laminate (FIG. 3(A)) in which a film substrate 20 is attached to the second main surface side of a transparent film 10 is used. After the antireflection layer 50 is formed on the transparent film 10 (FIG. 3(B)) and the reflection property of the antireflection film 101 on which the film substrate is formed is measured, the film substrate 20 becomes unnecessary. Therefore, when providing an antireflection film for practical use, it is preferable that the film substrate 20 be peeled off from the transparent film 10.

필름 기재의 박리 제거 시에는, 예를 들어 도 3(C1) 에 나타내는 바와 같이, 접착층 (30) 이 투명 필름 (10) 에 부설된 상태에서 필름 기재 (20) 만이 박리 제거된다. 예를 들어, 도 1b 에 나타내는 바와 같이, 베이스 필름 (25) 의 접착층 형성면측에 이형층 (21) 을 구비하는 필름 기재 (20) 를 사용하면, 투명 필름 (10) 상에 접착층 (30) 을 남긴 채 필름 기재 (20) 만을 박리할 수 있다. 필름 기재를 제거 후, 투명 필름 (10) 의 제 2 주면에는, 접착층 (30) 을 개재하여 다른 필름 (71) 이 첩합된다.In the case of peeling removal of the film substrate, only the film substrate 20 is peeled and removed in a state where the adhesive layer 30 is attached to the transparent film 10, as shown in FIG. 3 (C1), for example. For example, as shown in FIG. 1B , when the film substrate 20 provided with the release layer 21 is used on the side of the adhesive layer formation surface of the base film 25, the adhesive layer 30 is applied on the transparent film 10. Only the film substrate 20 can be peeled off while remaining. After removing the film substrate, another film 71 is bonded to the second main surface of the transparent film 10 via the adhesive layer 30 .

필름 기재의 제거 시에, 도 3(C2) 에 나타내는 바와 같이, 필름 기재 (20) 와 함께, 접착층 (30) 도 투명 필름 (10) 으로부터 박리 제거되어도 된다. 필름 기재를 제거 후, 투명 필름 (10) 의 제 2 주면에는, 다른 접착층 (33) 을 개재하여 다른 필름 (72) 이 첩합된다.At the time of removal of the film substrate, as shown in FIG. 3(C2), the adhesive layer 30 may also be peeled off from the transparent film 10 together with the film substrate 20. After removing the film substrate, another film 72 is bonded to the second main surface of the transparent film 10 via another adhesive layer 33 .

상기와 같이, 필름 기재 (20) 는, 반사 방지층 형성 시나, 반사 방지층 형성 후의 인라인으로의 반사광 특성의 검출 정밀도를 높이기 위해서 형성되는 것이고, 검사 종료 후에는 박리 제거된다. 투명 필름 (10) 상에 접착층 (30) 을 남긴 채 필름 기재 (20) 만을 박리하는 경우, 및 필름 기재 (20) 와 함께 접착층 (30) 도 투명 필름 (10) 으로부터 박리하는 경우의 어느 경우에 있어서도, 필름 기재를 박리 제거 후의 반사 방지 필름은, 다른 필름과 첩합하여 실용에 제공된다. 반사 방지 필름과 다른 필름의 첩합 작업 효율을 높이기 위해서는, 롤 라미네이터 등을 사용하여, 인라인으로 첩합이 실시되는 것이 바람직하다. 그 때문에, 반사광 특성의 인라인 검사와 다른 필름의 첩합 동안에 실시되는 필름 기재 (20) 의 박리 작업도 인라인으로 실시되는 것이 바람직하다.As described above, the film substrate 20 is formed in order to increase the detection accuracy of reflected light characteristics in-line at the time of formation of the antireflection layer or after formation of the antireflection layer, and is peeled off after completion of inspection. In either case of peeling only the film substrate 20 while leaving the adhesive layer 30 on the transparent film 10, or peeling the adhesive layer 30 together with the film substrate 20 from the transparent film 10 In this case, the antireflection film after peeling and removing the film substrate is bonded to another film and used for practical use. In order to increase the bonding operation efficiency of the antireflection film and other films, bonding is preferably performed in-line using a roll laminator or the like. Therefore, it is preferable that the peeling operation of the film substrate 20 performed during the in-line inspection of the reflected light characteristics and bonding of other films is also performed in-line.

반사 방지층 (50) 을 형성 후의 투명 필름 (10) 으로부터의 필름 기재 (20) 의 박리 제거를 인라인으로 안정적으로 실시하기 위해서는, 투명 필름 (10) 으로부터의 필름 기재 (20) 의 박리력이 작은 것이 바람직하다. 구체적으로는, 투명 필름과 필름 기재의 180°박리 시험 (박리 속도 : 10 m/분) 에 있어서의 박리력은, 2 N/50 ㎜ 이하가 바람직하고, 1.5 N/50 ㎜ 이하가 보다 바람직하며, 1 N/50 ㎜ 이하가 더 바람직하다. 접착층 (30) 의 조성을 조정하거나, 필름 기재의 표면에 이형층을 형성함으로써, 박리력을 저감할 수 있다.In order to stably carry out peeling removal of the film base material 20 from the transparent film 10 after forming the antireflection layer 50 in-line, the peeling force of the film base material 20 from the transparent film 10 is small. desirable. Specifically, the peel force in the 180° peel test (peel speed: 10 m/min) between the transparent film and the film substrate is preferably 2 N/50 mm or less, more preferably 1.5 N/50 mm or less, , 1 N/50 mm or less is more preferable. The peeling force can be reduced by adjusting the composition of the adhesive layer 30 or forming a release layer on the surface of the film substrate.

필름 기재 (20) 의 박리 후에 투명 필름 (10) 의 제 2 주면에 첩합되는 필름 (71, 72) 은 특별히 한정되지 않고, 투명 이형 필름 등이 첩합되어도 된다. 예를 들어, 투명 필름 상에 반사 방지층이 형성된 반사 방지 필름을 제품으로서 출하하는 경우, 반사 방지층 형성 시에 이용된 광 흡수성의 필름 기재 (20) 를, 투명 이형 필름으로 바꿔 첩합함으로써, 투과율 측정이나, 이물질 혼입 유무 등의 검사가 가능해진다. 또, 투명 이형 필름을 사용함으로써, 제품의 의장성이 높아진다.The films 71 and 72 bonded to the second main surface of the transparent film 10 after peeling of the film substrate 20 are not particularly limited, and a transparent release film or the like may be bonded. For example, when an antireflection film in which an antireflection layer is formed on a transparent film is shipped as a product, the light-absorbing film substrate 20 used in forming the antireflection layer is replaced with a transparent release film and bonded to measure transmittance and , it becomes possible to inspect whether or not foreign matter is mixed. Moreover, the designability of a product improves by using a transparent release film.

반사 방지 필름의 실용 시에는, 투명 필름 (10) 의 제 2 주면에 광학 필름이 첩합된다. 광학 필름으로는, 편광자, 편광자 보호 필름, 광학 보상 필름 (위상차 필름) 이나, 이들의 조합을 들 수 있다. 실용 형태의 일례로서, 반사 방지 필름과 편광자를 포함하는 광학 필름과 첩합함으로써, 반사 방지층이 형성된 편광판이 얻어진다. 이와 같이, 투명 필름 상에 반사 방지층을 형성 후에 편광자 등과의 첩합을 실시하는 형태에서는, 반사 방지층을 형성하기 위한 고온 환경이나 고출력의 플라즈마하에 편광자를 노출시키는 일 없이, 반사 방지층이 형성된 편광판이 얻어진다. 그 때문에, 편광자의 열화 등의 문제를 억제하여, 수율을 높일 수 있다.In practical use of the antireflection film, an optical film is bonded to the second main surface of the transparent film 10 . As an optical film, a polarizer, a polarizer protective film, an optical compensation film (retardation film), and a combination thereof are mentioned. As an example of a practical mode, a polarizing plate with an antireflection layer is obtained by bonding together with an optical film containing an antireflection film and a polarizer. In this way, in the form of bonding with a polarizer or the like after forming an antireflection layer on a transparent film, a polarizing plate with an antireflection layer can be obtained without exposing the polarizer to a high-temperature environment or high-output plasma for forming the antireflection layer. . Therefore, problems, such as deterioration of a polarizer, can be suppressed and a yield can be raised.

도 4(A) 및 (B) 는, 반사 방지층이 형성된 편광판의 구성예를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 4(A) 에 나타내는 반사 방지층이 형성된 편광판 (121) 에서는, 투명 필름 (10) 의 제 2 주면 상에, 접착층 (36) 을 개재하여, 편광자 (79) 의 일방의 면이 첩합되어 있다. 편광자 (79) 의 타방의 면에는, 접착층 (38) 을 개재하여 투명 보호 필름 (74) 이 첩합되어 있고, 투명 보호 필름 (74) 의 표면에는, 접착층 (39) 을 개재하여 이형 필름 (22) 이 가부착되어 있다.4(A) and (B) are cross-sectional views schematically showing a configuration example of a polarizing plate with an antireflection layer. In the polarizing plate 121 with an antireflection layer shown in FIG. 4A, one surface of the polarizer 79 is bonded to the second main surface of the transparent film 10 via the adhesive layer 36. A transparent protective film 74 is bonded to the other surface of the polarizer 79 via an adhesive layer 38, and a release film 22 is attached to the surface of the transparent protective film 74 via an adhesive layer 39. This is attached.

편광자 (79) 로는, 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르말화 폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 물질을 흡착시켜 1 축 연신한 것, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등의 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다.As the polarizer 79, a dichroic substance such as iodine or a dichroic dye is adsorbed to a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol-based film, a partially formalized polyvinyl alcohol-based film, or an ethylene-vinyl acetate copolymer-based partially saponified film. Polyene type oriented films, such as what uniaxially stretched, and the dehydration process material of polyvinyl alcohol, and the dehydrochlorination process material of polyvinyl chloride, etc. are mentioned.

그 중에서도, 높은 편광도를 갖는다는 관점에서, 폴리비닐알코올이나, 부분 포르말화 폴리비닐알코올 등의 폴리비닐알코올계 필름에, 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 물질을 흡착시켜 소정 방향으로 배향시킨 폴리비닐알코올 (PVA) 계 편광자가 바람직하다. 예를 들어, 폴리비닐알코올계 필름에, 요오드 염색 및 연신을 실시함으로써 PVA 계 편광자가 얻어진다. PVA 계 편광자로서, 두께가 10 ㎛ 이하인 박형 편광자를 사용할 수도 있다. 박형 편광자로는, 예를 들어 일본 공개특허공보 소51-069644호, 일본 공개특허공보 2000-338329호, WO2010/100917호 팜플렛, 일본 특허 제4691205호 명세서, 일본 특허 제4751481호 명세서 등에 기재되어 있는 박형 편광막을 들 수 있다. 이와 같은 박형 편광자는, 예를 들어 PVA 계 수지층과 연신용 수지 기재를 적층체 상태에서 연신하는 공정과, 요오드 염색하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻어진다.Among them, from the viewpoint of having a high degree of polarization, a polyvinyl alcohol-based film such as polyvinyl alcohol or partially formalized polyvinyl alcohol is oriented in a predetermined direction by adsorbing a dichroic substance such as iodine or a dichroic dye to a polyvinyl alcohol-based film. A vinyl alcohol (PVA)-based polarizer is preferred. For example, a PVA type polarizer is obtained by performing iodine dyeing and extending|stretching to a polyvinyl alcohol type film. As the PVA-based polarizer, a thin polarizer having a thickness of 10 µm or less may be used. As a thin polarizer, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 51-069644, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-338329, WO2010 / 100917 pamphlet, Japanese Patent No. 4691205 specification, Japanese Patent No. 4751481 is described in the specification, etc. A thin polarizing film is exemplified. Such a thin polarizer is obtained by a manufacturing method including, for example, a process of stretching a PVA-based resin layer and a resin substrate for stretching in a laminated body state, and a process of dyeing with iodine.

투명 보호 필름 (74) 으로는, 투명 필름 (10) 의 재료로서 전술한 것과 동일한 재료가 바람직하게 사용된다. 또한, 투명 보호 필름 (74) 의 재료와 투명 필름 (10) 의 재료는, 동일해도 되고, 상이해도 된다.As the transparent protective film 74, the same material as that described above as the material of the transparent film 10 is preferably used. In addition, the material of the transparent protective film 74 and the material of the transparent film 10 may be the same or different.

접착층 (36, 38) 에 사용되는 접착제로는, 아크릴계 중합체, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리비닐알코올, 폴리비닐에테르, 아세트산비닐/염화비닐 코폴리머, 변성 폴리올레핀, 에폭시계 폴리머, 불소계 폴리머, 고무계 폴리머 등을 베이스 폴리머로 하는 것을 적절히 선택하여 사용할 수 있다. PVA 계 편광자의 접착에는, 폴리비닐알코올계 접착제가 바람직하게 사용된다.Adhesives used for the adhesive layers 36 and 38 include acrylic polymers, silicone polymers, polyesters, polyurethanes, polyamides, polyvinyl alcohol, polyvinyl ethers, vinyl acetate/vinyl chloride copolymers, modified polyolefins, and epoxy polymers. , a fluorine-based polymer, a rubber-based polymer, or the like can be appropriately selected and used as a base polymer. For adhesion of the PVA-based polarizer, a polyvinyl alcohol-based adhesive is preferably used.

도 4(B) 에 나타내는 형태는, 편광자 (79) 의 양면에 접착층 (36, 38) 을 개재하여 투명 보호 필름 (73, 74) 이 첩합된 편광판과, 반사 방지 필름이, 접착층 (35) 을 개재하여 첩합된 반사 방지층이 형성된 편광판 (122) 이다. 투명 보호 필름 (74) 의 표면에는, 접착층 (39) 을 개재하여 이형 필름 (22) 이 가부착되어 있다.In the form shown in FIG. 4(B), a polarizing plate in which transparent protective films 73 and 74 are bonded to both sides of a polarizer 79 via adhesive layers 36 and 38, and an antireflection film, the adhesive layer 35 It is the polarizing plate 122 with the antireflection layer bonded through it. A release film 22 is temporarily attached to the surface of the transparent protective film 74 via an adhesive layer 39 .

투명 보호 필름 (73) 과 투명 필름 (10) 의 첩합에 사용되는 접착층 (35) 으로는, 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제 등의 점착제가 바람직하다. 투명 필름 (10) 과 필름 기재 (20) 의 가부착에 사용한 접착층 (30)(점착제) 을 그대로 사용할 수도 있다 (도 3(B) 및 (C1) 참조).As the adhesive layer 35 used for bonding the transparent protective film 73 and the transparent film 10, an adhesive such as an acrylic adhesive, a rubber adhesive, or a silicone adhesive is preferable. The adhesive layer 30 (adhesive) used for temporary attachment of the transparent film 10 and the film substrate 20 can also be used as it is (see Figs. 3(B) and (C1)).

반사 방지 필름은, 화상 표시 장치의 형성에 바람직하게 사용된다. 반사 방지 필름이 화상 표시 장치 최표면에 장착되면, 외부 환경으로부터의 오염 (지문, 손때, 먼지 등) 을 받기 쉽다. 이와 같은 외부 환경으로부터의 오염 방지나, 오염의 제거 용이성을 부여할 목적으로, 반사 방지층의 표면에, 불소기 함유 실란계 화합물이나 불소기 함유 유기 화합물 등으로 이루어지는 방오층을 형성해도 된다.An antireflection film is preferably used for formation of an image display device. When an antireflection film is attached to the outermost surface of an image display device, it is susceptible to contamination (fingerprints, hand stains, dust, etc.) from the external environment. For the purpose of preventing such contamination from the external environment or providing easy removal of contamination, an antifouling layer made of a fluorine group-containing silane-based compound or a fluorine group-containing organic compound may be formed on the surface of the antireflection layer.

실시예Example

[광학 시뮬레이션에 의한 반사광 특성의 평가][Evaluation of reflected light characteristics by optical simulation]

이하의 실시예 및 비교예에서는, 반사 방지 필름의 반사 방지층 형성면과 반대측에, 접착층을 개재하여 각종 필름 기재를 첩합한 적층체의 반사광 스펙트럼을, 광학 시뮬레이션에 의해 산출하였다. 반사 방지 필름으로는, 두께 80 ㎛ 의 트리아세틸셀룰로오스 (TAC) 필름 (굴절률 1.49) 의 표면에, 두께 8 ㎛ 의 아크릴계의 하드 코트층 (굴절률 1.51) 을 구비하고, 하드 코트층 상에, 막두께 12 ㎚ 의 산화티탄층 (굴절률 2.35), 막두께 28 ㎚ 의 산화실리콘층 (굴절률 1.46), 막두께 100 ㎚ 의 산화티탄층 (굴절률 2.35), 및 막두께 85 ㎚ 의 산화실리콘층 (굴절률 1.46) 의 4 층으로 이루어지는 반사 방지층을 구비하는 구성을 채용하였다.In the following Examples and Comparative Examples, the reflected light spectrum of a laminate in which various film substrates were bonded to the opposite side of the antireflection layer formed surface of the antireflection film through an adhesive layer was calculated by optical simulation. As the antireflection film, an acrylic hard coat layer (refractive index 1.51) having a thickness of 8 µm was provided on the surface of a triacetyl cellulose (TAC) film (refractive index 1.49) having a thickness of 80 µm, and on the hard coat layer, a film thickness A 12 nm titanium oxide layer (refractive index 2.35), a 28 nm thick silicon oxide layer (refractive index 1.46), a 100 nm thick titanium oxide layer (refractive index 2.35), and an 85 nm thick silicon oxide layer (refractive index 1.46) A configuration including an antireflection layer composed of four layers of was adopted.

＜실시예 1＞<Example 1>

두께 38 ㎛ 의 흑색 필름 (가시광 투과율 3 ％, 굴절률 1.65) 을, 두께 20 ㎛ 의 접착층 (굴절률 1.48) 을 개재하여, 반사 방지 필름의 반사 방지층 비형성면측에 첩합한 구성.A configuration in which a black film (visible light transmittance: 3%, refractive index: 1.65) with a thickness of 38 μm was bonded to the antireflection layer non-formed surface side of the antireflection film through an adhesive layer (refractive index: 1.48) with a thickness of 20 μm.

＜실시예 2＞<Example 2>

표면에 80 ㎚ 의 실리콘 이형층 (굴절률 1.46) 을 구비하는 두께 38 ㎛ 의 흑색 필름 (가시광 투과율 3 ％, 굴절률 1.65) 의 이형층측을, 두께 20 ㎛ 의 접착층 (굴절률 1.48) 을 개재하여, 반사 방지 필름의 반사 방지층 비형성면에 첩합한 구성.A black film (visible light transmittance: 3%, refractive index: 1.65) having a thickness of 38 μm having an 80 nm silicone release layer (refractive index: 1.46) on the surface of the release layer side, through an adhesive layer (refractive index: 1.48) having a thickness of 20 μm, to prevent reflection A configuration bonded to the non-reflection layer non-forming surface of the film.

＜비교예 1＞<Comparative Example 1>

실시예 1 의 흑색 필름 대신에, 가시광 투과율이 50 ％ 인 흑색 반투명 필름을 사용한 구성.A configuration using a black translucent film having a visible light transmittance of 50% instead of the black film of Example 1.

＜평가＞＜Evaluation＞

실시예 및 비교예의 각각의 구성에 대해, 반사 방지층측으로부터 백색광을 입사시켰을 때의 반사광 스펙트럼을 계산하였다. 또, 이면 반사를 제로로 한 경우의 반사 방지 필름의 반사광 스펙트럼 (기준 스펙트럼) 을 계산하였다. 얻어진 반사광 스펙트럼으로부터, Yab 표색계에 있어서의 휘도 Y (％), 그리고 색도 a 및 b 를 산출하고, 각 실시예 및 비교예의 반사광과, 기준 스펙트럼의 색도차 Δab 를 구하였다. 실시예 및 비교예에 있어서의, 투명 필름, 접착층 및 필름 기재의 적층 구성, 그리고 반사광 특성을 표 1 에 나타낸다. For each configuration of Examples and Comparative Examples, a reflected light spectrum was calculated when white light was incident from the antireflection layer side. In addition, the reflected light spectrum (reference spectrum) of the antireflection film in the case where the back surface reflection was zero was calculated. From the obtained reflected light spectrum, luminance Y (%) and chromaticities a and b in the Yab color system were calculated, and chromaticity difference Δab between the reflected light of each Example and Comparative Example and the reference spectrum was obtained. Table 1 shows the laminated structure of the transparent film, the adhesive layer and the film base material, and the reflected light characteristics in Examples and Comparative Examples.

Figure 112016125263886-pct00001
Figure 112016125263886-pct00001

[박리력 및 인라인 박리성의 평가][Evaluation of Peel Force and Inline Peelability]

이하에서는, 두께 80 ㎛ 의 TAC 필름 (후지 필름 제조 ; 후지탁 TD80UL) 에, 점착제층을 개재하여 필름 기재를 첩합하여 평가용 시료를 제작하고, 박리력의 평가를 실시하였다. Hereinafter, a film substrate was bonded to a TAC film (manufactured by Fujifilm; Fujitak TD80UL) having a thickness of 80 μm through an adhesive layer to prepare a sample for evaluation, and the peel force was evaluated.

＜시료 1＞<Sample 1>

롤 라미네이터를 사용하여, TAC 필름에, 두께 38 ㎛ 의 PET 필름 상에 두께 20 ㎛ 의 경박리 점착층이 형성된 보호 필름재 (닛토 덴코 제조 ; E-MASK RP300) 를 첩합하였다. A protective film material (manufactured by Nitto Denko; E-MASK RP300) in which an easily peelable adhesive layer having a thickness of 20 µm was formed on a PET film having a thickness of 38 µm was bonded to the TAC film using a roll laminator.

＜시료 2＞<Sample 2>

시료 1 의 제작과 동일하게, TAC 필름 상에 보호 필름재를 첩합한 후, 100 ℃ 에서 2 시간 가열 처리를 실시하였다. Similar to the preparation of Sample 1, after bonding the protective film material onto the TAC film, heat treatment was performed at 100°C for 2 hours.

＜시료 3＞<Sample 3>

롤 라미네이터를 사용하여, TAC 필름 상에, 두께 20 ㎛ 의 투명 점착 시트 (닛토 덴코 제조의 편광판용 아크릴계 점착 시트) 를 첩합하고, 그 위에 표면이 이형 처리된 두께 38 ㎛ 의 PET 필름 (미츠비시 수지 제조 ; 다이아포일 MRF38) 의 이형 처리면을 첩합하였다. Using a roll laminator, a transparent adhesive sheet (acrylic adhesive sheet for polarizing plates manufactured by Nitto Denko) having a thickness of 20 μm was bonded onto the TAC film, and a PET film having a thickness of 38 μm (manufactured by Mitsubishi Resins) was subjected to release treatment on the surface. The release-treated surface of diafoil MRF38) was bonded.

＜평가＞<Evaluation>

시료 1 및 시료 2 에 대해서는, TAC 필름과 점착층의 계면에서의 박리 시험, 시료 3 에 대해서는, PET 필름과 점착층의 계면에서의 박리 시험을 실시하였다.For samples 1 and 2, a peel test at the interface between the TAC film and the adhesive layer, and for sample 3, a peel test at the interface between the PET film and the adhesive layer was performed.

(필 시험) (Peel Test)

시료 1 ∼ 3 을 각각 폭 50 ㎜ 의 단책상 (短冊狀) 으로 자르고, 180°필 시험 (시험 속도 : 10 m/분) 에 의해 박리력을 측정하였다.Samples 1 to 3 were each cut into strips having a width of 50 mm, and peel strength was measured by a 180° peel test (test speed: 10 m/min).

(인라인 박리성 시험) (In-line peelability test)

롤 라미네이터를 사용하여, 시료 1 ∼ 3 의 필름 기재의 인라인 박리성을 평가하고, 문제 없이 박리를 실시할 수 있던 것을 「양호」, 필름의 주행 중에 장력 이상이 생긴 것을 「불량」으로 하였다.The in-line peelability of the film substrates of Samples 1 to 3 was evaluated using a roll laminator, and those in which peeling could be performed without problems were evaluated as "good", and those in which tension abnormality occurred during running of the film were evaluated as "bad".

결과를 표 2 에 나타낸다.A result is shown in Table 2.

Figure 112016125263886-pct00002
Figure 112016125263886-pct00002

표 1 에 나타낸 바와 같이, 필름 기재의 투과율을 낮게 함으로써, 이면 반사율이 저감하고, 이것에 수반하여 반사광의 Y 값이 작아짐과 함께, 기준 스펙트럼으로부터의 색도차 Δab 도 작아지는 것을 알 수 있다. 베이스 필름 상에 이형층을 구비하는 필름 기재가 사용된 실시예 2 에서는, 반사 계면이 증가한 것에 수반하여, 실시예 1 에 비해 Y 값 및 색도차가 증대하는 경향이 있지만, 이형층의 굴절률을 조정함으로써, 이면 반사를 저감할 수 있다. As shown in Table 1, it can be seen that by lowering the transmittance of the film base material, the back surface reflectance decreases, and as a result, the Y value of the reflected light decreases, and the chromaticity difference Δab from the reference spectrum also decreases. In Example 2 in which a film substrate having a release layer on the base film was used, the Y value and chromaticity difference tended to increase compared to Example 1 as the reflective interface increased, but by adjusting the refractive index of the release layer , the reflection can be reduced.

표 2 에 나타낸 바와 같이, 투명 필름과 필름 기재의 박리력을 작게 함으로써, 인라인으로의 박리가 용이해지는 경향이 있다. 이 결과로부터, 접착층의 재료로서 경박리성의 접착 재료를 사용하는 것이나, 이형층을 구비하는 필름 기재를 사용하는 것에 의해, 박리력을 작게 하면, 반사 방지층 형성 후에 필름 기재를 다른 필름으로 바꿔 첩합할 때의 작업성을 향상시킬 수 있어, 생산성이 높아지는 것을 알 수 있다.As shown in Table 2, in-line peeling tends to be facilitated by reducing the peeling force between the transparent film and the film substrate. From this result, if the peeling force is reduced by using an easily peelable adhesive material as the material of the adhesive layer or by using a film substrate having a release layer, the film substrate can be replaced with another film after forming the antireflection layer and bonded. It can be seen that the workability at the time of use can be improved, and the productivity increases.

10 : 투명 필름
20 : 필름 기재
21 : 이형층
25 : 베이스 필름
30, 33, 35, 36, 38, 39 : 접착층
40 : 적층체
50 : 반사 방지층
51, 52, 53, 54 : 박막
73, 74 : 투명 보호 필름
79 : 편광자
100, 101, 103 : 반사 방지 필름
111, 112 : 반사 방지 필름 (반사 방지층이 형성된 광학 필름)
121, 122 : 반사 방지 필름 (반사 방지층이 형성된 편광판) 10: transparent film
20: film substrate
21: release layer
25: base film
30, 33, 35, 36, 38, 39: adhesive layer
40: laminate
50: antireflection layer
51, 52, 53, 54: thin film
73, 74: transparent protective film
79: polarizer
100, 101, 103: antireflection film
111, 112: antireflection film (optical film with an antireflection layer)
121, 122: antireflection film (polarizing plate with an antireflection layer)

Claims (19)

투명 필름의 제 1 주면 상에 반사 방지층을 구비하는 반사 방지 필름의 제조 방법으로서,
투명 필름의 제 2 주면 상에, 접착층을 개재하여 필름 기재가 박리 가능하게 첩착된 적층체를 준비하는 적층체 준비 공정 ;
상기 적층체의 상기 투명 필름의 제 1 주면 상에, 2 층 이상의 박막으로 이루어지는 반사 방지층을 형성하는 반사 방지층 형성 공정 ;
상기 반사 방지층을 구성하는 박막의 적어도 1 층을 성막 후에, 상기 박막의 형성면측으로부터 가시광을 조사하고, 그 반사광을 검출하는 인라인 검사 공정 ; 및
상기 인라인 검사 공정 후에, 상기 투명 필름으로부터 상기 필름 기재가 박리되는 박리 공정을 갖고,
상기 필름 기재와 상기 접착층의 적층물은, 가시광 투과율이 40 ％ 이하이고,
상기 반사 방지층 형성 공정 및 상기 인라인 검사 공정은, 상기 적층체를 일방향으로 반송하면서, 연속적으로 실시되고,
상기 박리 공정에 있어서, 상기 접착층이 상기 투명 필름의 제 2 주면 상에 부설된 상태로, 상기 필름 기재가 박리되는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름의 제조 방법. A method for producing an antireflection film comprising an antireflection layer on a first main surface of a transparent film, comprising:
Laminate preparation process which prepares the laminated body to which the film base material was adhered on the 2nd main surface of a transparent film so that exfoliation was possible via an adhesive layer;
an antireflection layer forming step of forming an antireflection layer composed of two or more thin films on a first main surface of the transparent film of the laminate;
an inline inspection step of irradiating visible light from the side of the formation surface of the thin film after forming at least one layer of the thin film constituting the antireflection layer, and detecting the reflected light; and
After the in-line inspection step, a peeling step of peeling the film substrate from the transparent film,
The laminate of the film substrate and the adhesive layer has a visible light transmittance of 40% or less,
The antireflection layer forming step and the inline inspection step are performed continuously while conveying the laminate in one direction,
In the peeling step, the film substrate is peeled in a state where the adhesive layer is laid on the second main surface of the transparent film. 투명 필름의 제 1 주면 상에 반사 방지층을 구비하는 반사 방지 필름의 제조 방법으로서,
투명 필름의 제 2 주면 상에, 접착층을 개재하여 필름 기재가 박리 가능하게 첩착된 적층체를 준비하는 적층체 준비 공정 ;
상기 적층체의 상기 투명 필름의 제 1 주면 상에, 2 층 이상의 박막으로 이루어지는 반사 방지층을 형성하는 반사 방지층 형성 공정 ; 및
상기 반사 방지층을 구성하는 박막의 적어도 1 층을 성막 후에, 상기 박막의 형성면측으로부터 가시광을 조사하고, 그 반사광을 검출하는 인라인 검사 공정을 갖고,
상기 필름 기재와 상기 접착층의 적층물은, 가시광 투과율이 40 ％ 이하이고,
상기 접착층은, 헤이즈가 50 ％ 이상인 광 산란 점착제층이고,
상기 반사 방지층 형성 공정 및 상기 인라인 검사 공정은, 상기 적층체를 일방향으로 반송하면서, 연속적으로 실시되는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름의 제조 방법. A method for producing an antireflection film comprising an antireflection layer on a first main surface of a transparent film, comprising:
Laminate preparation process which prepares the laminated body to which the film base material was adhered on the 2nd main surface of a transparent film so that exfoliation was possible via an adhesive layer;
an antireflection layer forming step of forming an antireflection layer composed of two or more thin films on a first main surface of the transparent film of the laminate; and
After forming at least one layer of the thin film constituting the antireflection layer, an inline inspection step of irradiating visible light from the side on which the thin film is formed and detecting the reflected light;
The laminate of the film substrate and the adhesive layer has a visible light transmittance of 40% or less,
The adhesive layer is a light scattering pressure-sensitive adhesive layer having a haze of 50% or more,
The method for manufacturing an antireflection film, wherein the antireflection layer forming step and the inline inspection step are performed continuously while conveying the laminate in one direction. 제 2 항에 있어서,
상기 인라인 검사 공정 후에, 상기 투명 필름으로부터 상기 필름 기재가 박리되는 박리 공정을 추가로 포함하고,
상기 박리 공정에 있어서, 상기 접착층이 상기 투명 필름의 제 2 주면 상에 부설된 상태로, 상기 필름 기재가 박리되는, 반사 방지 필름의 제조 방법.According to claim 2,
After the in-line inspection step, further comprising a peeling step of peeling the film substrate from the transparent film,
In the peeling step, the film substrate is peeled in a state where the adhesive layer is laid on the second main surface of the transparent film. 제 2 항에 있어서,
상기 인라인 검사 공정 후에, 상기 투명 필름으로부터 상기 필름 기재가 박리되는 박리 공정을 추가로 포함하고,
상기 박리 공정에 있어서, 상기 접착층이 상기 필름 기재와 함께 상기 투명 필름으로부터 박리되는, 반사 방지 필름의 제조 방법.According to claim 2,
After the in-line inspection step, further comprising a peeling step of peeling the film substrate from the transparent film,
In the peeling step, the adhesive layer is peeled from the transparent film together with the film substrate. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 필름 기재는, 상기 접착층과의 접촉면측에 이형층을 구비하는, 반사 방지 필름의 제조 방법.According to any one of claims 1 to 3,
The method of manufacturing an antireflection film, wherein the film substrate is provided with a release layer on the side of the contact surface with the adhesive layer. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 인라인 검사 공정에 있어서, 상기 반사 방지층을 구성하는 복수의 박막의 모두를 성막 후에, 상기 박막의 형성면측으로부터 가시광을 조사하고, 그 반사광을 검출하는, 반사 방지 필름의 제조 방법.According to any one of claims 1 to 4,
In the in-line inspection step, after forming all of the plurality of thin films constituting the antireflection layer, visible light is irradiated from the side on which the thin films are formed, and the reflected light is detected. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 인라인 검사 공정에 있어서의 반사광의 검출 결과에 따라, 상기 반사 방지층 형성 공정에 있어서의 박막의 성막 조건이 조정되는, 반사 방지 필름의 제조 방법.According to any one of claims 1 to 4,
The method for manufacturing an antireflection film, wherein film formation conditions of the thin film in the antireflection layer forming step are adjusted according to the detection result of the reflected light in the inline inspection step. 제 5 항에 있어서,
상기 필름 기재는, 상기 이형층의 굴절률 n1 과, 상기 이형층 바로 아래 층의 굴절률 n2 의 차 n1 - n2 가, -0.25 ~ 0.25 인, 반사 방지 필름의 제조 방법.According to claim 5,
In the film substrate, the difference n 1 - n 2 between the refractive index n 1 of the release layer and the refractive index n 2 of the layer immediately below the release layer is -0.25 to 0.25. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 필름 기재와 상기 접착층의 적층물에, 상기 접착층측으로부터 광을 입사시킨 경우의 가시광의 이면 반사율이 1.0 ％ 이하인, 반사 방지 필름의 제조 방법.According to any one of claims 1 to 4,
The method for producing an antireflection film, wherein the back surface reflectance of visible light when light is incident from the adhesive layer side to the laminate of the film substrate and the adhesive layer is 1.0% or less. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 접착층이 점착제층인, 반사 방지 필름의 제조 방법.According to claim 1 or 2,
The manufacturing method of the antireflection film in which the said adhesive layer is an adhesive layer. 제 10 항에 있어서,
상기 점착제층은, 헤이즈가 50 ％ 이상인 광 산란 점착제층인, 반사 방지 필름의 제조 방법.According to claim 10,
The method for producing an antireflection film, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is a light-scattering pressure-sensitive adhesive layer having a haze of 50% or more. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 필름과 상기 필름 기재의 180°박리 시험에 있어서의 박리력이 2 N/50 ㎜ 이하인, 반사 방지 필름의 제조 방법.According to any one of claims 1 to 4,
A method for producing an antireflection film, wherein a peel force between the transparent film and the film substrate in a 180° peel test is 2 N/50 mm or less. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 박리 공정 후에, 상기 투명 필름의 제 2 주면 상에 부설된 상기 접착층에, 투명 이형 필름이 박리 가능하게 첩착되는, 반사 방지 필름의 제조 방법.According to claim 1 or 3,
The manufacturing method of the antireflection film in which, after the said peeling process, the transparent release film is peelably attached to the said adhesive layer provided on the 2nd main surface of the said transparent film. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 박리 공정 후에, 상기 투명 필름의 제 2 주면 상에 부설된 상기 접착층에, 광학 필름이 첩합되는, 반사 방지 필름의 제조 방법.According to claim 1 or 3,
The manufacturing method of the antireflection film in which an optical film is bonded to the said adhesive layer provided on the 2nd main surface of the said transparent film after the said peeling process. 제 14 항에 있어서,
상기 광학 필름은, 편광자를 포함하는 광학 필름인, 반사 방지 필름의 제조 방법.15. The method of claim 14,
The method of manufacturing an antireflection film, wherein the optical film is an optical film including a polarizer. 투명 필름의 제 1 주면 상에, 2 층 이상의 박막으로 이루어지는 반사 방지층을 구비하고, 상기 투명 필름의 제 2 주면 상에 필름 기재가 접착층을 개재하여 박리 가능하게 첩착되어 있고,
상기 필름 기재는, 상기 접착층과의 접촉면측에 이형층을 구비하고,
상기 필름 기재와 상기 접착층의 적층물은, 가시광의 투과율이 40 ％ 이하인, 반사 방지 필름.On the first main surface of the transparent film, an antireflection layer composed of two or more layers of thin films is provided, and on the second main surface of the transparent film, a film substrate is attached so as to be peelable with an adhesive layer interposed therebetween,
The film substrate is provided with a release layer on the side of the contact surface with the adhesive layer,
The antireflection film, wherein the laminate of the film substrate and the adhesive layer has a visible light transmittance of 40% or less. 투명 필름의 제 1 주면 상에, 2 층 이상의 박막으로 이루어지는 반사 방지층을 구비하고, 상기 투명 필름의 제 2 주면 상에 필름 기재가 접착층을 개재하여 박리 가능하게 첩착되어 있고,
상기 필름 기재와 상기 접착층의 적층물은, 가시광의 투과율이 40 ％ 이하이고,
상기 접착층은, 헤이즈가 50 ％ 이상인 광 산란 점착제층인, 반사 방지 필름.On the first main surface of the transparent film, an antireflection layer composed of two or more layers of thin films is provided, and on the second main surface of the transparent film, a film substrate is attached so as to be peelable with an adhesive layer interposed therebetween,
The laminate of the film substrate and the adhesive layer has a transmittance of visible light of 40% or less,
The antireflection film wherein the adhesive layer is a light scattering pressure-sensitive adhesive layer having a haze of 50% or more. 투명 필름의 제 1 주면 상에, 2 층 이상의 박막으로 이루어지는 반사 방지층을 구비하는 반사 방지 필름의 반사광 특성을 측정하는 방법으로서,
투명 필름의 제 2 주면 상에, 필름 기재가 접착층을 개재하여 박리 가능하게 첩착된 상태에서, 제 1 주면측으로부터 조사된 가시광의 반사광의 검출이 실시되고,
상기 필름 기재는, 상기 접착층과의 접촉면측에 이형층을 구비하고,
상기 필름 기재와 상기 접착층의 적층물은, 가시광 투과율이 40 ％ 이하이고,
상기 반사광의 검출은, 상기 반사 방지 필름을 일방향으로 반송하면서 연속적으로 실시되는, 반사광 특성의 측정 방법.A method for measuring reflected light characteristics of an antireflection film having an antireflection layer comprising two or more thin films on a first main surface of the transparent film, the method comprising:
On the second main surface of the transparent film, in a state where the film base material is peelably attached via the adhesive layer, reflected light of visible light irradiated from the side of the first main surface is detected,
The film substrate is provided with a release layer on the side of the contact surface with the adhesive layer,
The laminate of the film substrate and the adhesive layer has a visible light transmittance of 40% or less,
The method of measuring reflected light characteristics, wherein the detection of the reflected light is performed continuously while conveying the antireflection film in one direction. 투명 필름의 제 1 주면 상에, 2 층 이상의 박막으로 이루어지는 반사 방지층을 구비하는 반사 방지 필름의 반사광 특성을 측정하는 방법으로서,
투명 필름의 제 2 주면 상에, 필름 기재가 접착층을 개재하여 박리 가능하게 첩착된 상태에서, 제 1 주면측으로부터 조사된 가시광의 반사광의 검출이 실시되고,
상기 필름 기재와 상기 접착층의 적층물은, 가시광 투과율이 40 ％ 이하이고,
상기 접착층은, 헤이즈가 50 ％ 이상인 광 산란 점착제층이고,
상기 반사광의 검출은, 상기 반사 방지 필름을 일방향으로 반송하면서 연속적으로 실시되는, 반사광 특성의 측정 방법.A method for measuring reflected light characteristics of an antireflection film having an antireflection layer comprising two or more thin films on a first main surface of the transparent film, the method comprising:
On the second main surface of the transparent film, in a state where the film base material is peelably attached via the adhesive layer, reflected light of visible light irradiated from the side of the first main surface is detected,
The laminate of the film substrate and the adhesive layer has a visible light transmittance of 40% or less,
The adhesive layer is a light scattering pressure-sensitive adhesive layer having a haze of 50% or more,
The method of measuring reflected light characteristics, wherein the detection of the reflected light is performed continuously while conveying the antireflection film in one direction.
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