KR102514057B1 - Hazardous gas treatment equipment - Google Patents

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KR102514057B1
KR102514057B1 KR1020220181441A KR20220181441A KR102514057B1 KR 102514057 B1 KR102514057 B1 KR 102514057B1 KR 1020220181441 A KR1020220181441 A KR 1020220181441A KR 20220181441 A KR20220181441 A KR 20220181441A KR 102514057 B1 KR102514057 B1 KR 102514057B1
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gas
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filtration
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엽 남궁
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주식회사 거남
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Abstract

The present invention relates to a harmful gas treatment device which decomposes and treats a harmful gas, filtered through a filtration treatment chamber, by using plasma and re-supplies some of a decomposed exhaust gas to the filtration treatment chamber to adjust an ozone concentration in the filtration treatment chamber, thereby increasing filtration efficiency.

Description

유해가스처리장치{Hazardous gas treatment equipment}Hazardous gas treatment equipment

본 발명은 유해가스처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 여과처리챔버를 거쳐 여과된 유해가스를 플라즈마를 이용하여 분해처리하며, 분해처리된 배출가스 중 일부를 여과처리챔버 측으로 재공급함으로 여과처리챔버 내의 오존 농도를 조절하여 여과 효율을 증가시키도록 하는 유해가스처리장치에 대한 것이다.The present invention relates to a harmful gas treatment apparatus, and more particularly, to decompose and treat harmful gases filtered through a filtration chamber using plasma, and to supply some of the decomposed exhaust gas back to the filtration chamber for filtration treatment. It relates to a harmful gas treatment device that increases filtration efficiency by adjusting the ozone concentration in the chamber.

각종 산업설비에서 배출되는 유해가스에는 다양한 종류의 유해성분이 포함되어 있는데 그중에서도 질소산화물인 NOx는 여러 가지 형태의 오염을 유발하며, 특히 일산화질소가 자외선과 광화학적 반응을 일으켜서 스모그를 일으키고, NOx가 대기 중에서 산화되어 생성되는 이산화질소는 산화질소와 산소라디칼로 분해되어 대기중의 산소와 반응하여 오존의 형성을 유발한다. 이러한 NOx는 독성이 강한 물질로 인체에 치명적 영향을 줄 수 있다.Harmful gases emitted from various industrial facilities contain various kinds of harmful components. Among them, NOx, which is nitrogen oxide, causes various types of pollution. In particular, nitrogen monoxide causes photochemical reactions with ultraviolet rays to cause smog, and NOx in the atmosphere Nitrogen dioxide produced by oxidation in the air is decomposed into nitrogen oxide and oxygen radicals, and reacts with oxygen in the air to cause the formation of ozone. These NOx are highly toxic substances and can have fatal effects on the human body.

이러한 NOx를 포함하는 유해가스를 처리하는 방법으로는 NOx를 중화 또는 환원처리하는 방법이 널리 사용되고 있으나, 일산화질소(NO)는 이에 앞서 산화처리를 요한다. 종래에 이러한 NOx를 함유하는 유해가스의 처리를 위한 산화 또는 환원처리 시스템은 그 장치가 복잡하고 장대하여 제작코스트가 많이 드는 반면 만족할 만한 처리효율 얻지 못하는 실정이다.As a method of treating harmful gases containing NOx, a method of neutralizing or reducing NOx is widely used, but nitrogen monoxide (NO) requires oxidation treatment prior to this. Conventional oxidation or reduction treatment systems for the treatment of noxious gases containing NOx are complex and large, requiring a lot of manufacturing cost, but satisfactory treatment efficiency is not obtained.

이를 부연설명하면, 처리조를 수직으로 배치하는 수직타입의 처리장치는 산화처리과정과 환원처리과정을 분리하기 위해 별도의 처리조로 구성하므로 처리장치의 구조가 복잡하고 코스트가 상승하는 문제점이 있다, 한편 산화처리와 환원처리를 단일의 처리조에서 수행하는 수평타입 처리장치도 공개특허 제10-2008-0016320호로 소개된바 있으나, 이러한 수평타입 처리장치는 피처리가스는 수평방향으로 흐름에 비해, 처리조 내에 직립하도록 횡방향으로 다단 배치된 기액반응장치를 흐르는 산화제나 환원제는 중력에 의해 수직방향으로 흐르므로, 이를 산화제나 환원제가 처리조 내의 기류에 의해 기액반응장치의 하단으로 갈수록 후방으로 쏠리게 되어, 기액반응장치의 충전재 전체에 걸쳐서 산화제나 환원제가 균등하게 분포되지 못하므로, 피처리가스와 충분히 접촉되지 못하여 처리효율이 저하되며, 아울러 처리조 내를 수평방향으로 흐르는 피처리가스도 비중에 따라 기액반응장치의 상부 또는 하부로 치우쳐 흐르게 되어, 기액반응장치 내의 산화제 또는 환원제와 균일하고 충분한 접촉을 확보하기 어려웠다.To elaborate on this, since the vertical type treatment device in which the treatment tank is arranged vertically is composed of a separate treatment tank to separate the oxidation treatment process and the reduction treatment process, the structure of the treatment device is complicated and the cost increases. There is a problem. On the other hand, a horizontal type treatment device that performs oxidation treatment and reduction treatment in a single treatment tank has also been introduced in Patent Publication No. 10-2008-0016320, but in this horizontal type treatment device, the target gas flows in a horizontal direction, Since the oxidizing agent or reducing agent flowing through the gas-liquid reactor arranged in multiple stages in the horizontal direction so as to be upright in the treatment tank flows vertically due to gravity, the oxidizing agent or reducing agent is concentrated backward toward the lower end of the gas-liquid reactor by the air flow in the treatment tank. Therefore, since the oxidizing agent or reducing agent is not evenly distributed over the entire filling material of the gas-liquid reaction device, the treatment efficiency is lowered due to insufficient contact with the gas to be treated, and the gas to be treated flowing horizontally in the treatment tank also has a specific gravity Accordingly, the flow is biased toward the top or bottom of the gas-liquid reactor, making it difficult to ensure uniform and sufficient contact with the oxidizing agent or reducing agent in the gas-liquid reactor.

대한민국등록특허 제10-2068236호Korean Registered Patent No. 10-2068236

본 발명은 여과처리챔버를 거쳐 여과된 유해가스를 플라즈마를 이용하여 분해처리하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to decompose and treat harmful gases filtered through a filtration processing chamber using plasma.

본 발명은 여과처리챔버를 거쳐 여과된 유해가스를 플라즈마를 이용하여 분해처리 하기 위한 유해가스처리장치인 것을 특징으로 한다.The present invention is characterized in that it is a harmful gas treatment device for decomposing and treating harmful gases filtered through a filtering treatment chamber using plasma.

일 실시예에서, 상기 유해가스처리장치는, 미생물의 분사와 오존을 이용하여 1차 유해가스를 여과 처리하기 위한 여과처리부; 및 여과처리부를 통해 1차 처리되는 유해가스를 플라즈마를 이용하여 2차 처리하기 위한 플라즈마처리부; 및 여과처리부와 플라즈마처리부를 제어하기 위해 챔버프레임 일측으로 형성되는 제어함체를 포함하는 제어부를 포함하며, 상기 여과처리부는, 주입되는 유해가스를 여과처리하기 위해 챔버프레임 상부로 안착 형성되는 여과처리챔버와, 여과처리챔버를 지면으로부터 일정 높이를 두고 형성되도록 하며, 여과처리챔버를 지지하도록 지면에 고정 형성되는 챔버프레임과, 여과처리챔버 측으로 유해가스가 주입되도록 하기 위해 일측이 여과처리챔버 상부 일측으로 연결 형성되는 유해가스주입관과, 여과처리챔버 내부로 주입되는 유해가스를 필터링하기 위해 여과처리챔버 내부로 복수개 형성되는 여과필터와, 여과필터 측으로 미생물을 분사하기 위해 미생물주입관 일측으로 복수개 형성되는 미생물분사노즐과, 미생물을 이용하여 유해가스를 정화시키기 위한 미생물이 주입되도록 여과처리챔버 상부로 복수개 형성되는 미생물주입관과, 여과처리챔버 내부로 오존을 주입하기 위해 여과처리챔버 일측으로 형성되는 오존발생기와, 오존발생기에서 오존이 여과처리챔버 내부로 투입되도록 일측이 오존발생기에 연결되고, 타측이 여과처리챔버 내부 일측으로 관통 형성되는 오존투입관과, 미생물분사와 여과필터를 통해 1차 정화처리되는 유해가스가 플라즈마처리챔버 측으로 배출되도록 일측이 여과처리챔버 일측에 연결되고, 타측이 처리가스유입관에 연결 형성되는 여과가스배출관과, 플라즈마처리챔버가 챔버프레임에 고정될 수 있도록 일측이 챔버프레임 일측에 연결되고, 타측이 플라즈마처리챔버 일측으로 연결되도록 형성되는 연결고정프레임으로 이루어지며, 상기 플라즈마처리부는, 여과처리챔버를 통해 1차 정화처리되는 유해가스 중에 섞인 유해물질을 2차 정화시키기 위해 유해가스가 주입될 수 있도록 연결고정프레임 일측으로 연결 형성되는 플라즈마처리챔버와, 여과가스배출관과 처리가스유입관 간의 밀폐 연결을 위해 상호 맞닿도록 여과가스배출관 일측과 처리가스유입관 일측으로 각각 형성되어 결합되는 연결플랜지와, 여과가스배출관을 통해 배출되는 유해가스가 플라즈마처리챔버 상부 측으로 이동되도록 일측이 연결플랜지를 이용하여 여과가스배출관과 연결되고, 타측이 플라즈마처리챔버 상부로 연결 형성되는 처리가스유입관과, 처리가스유입관을 통해 유입되는 유해가스가 이동되도록 플라즈마처리챔버 내부 상측으로 형성되는 가스이동로와, 가스이동로로 이동되는 유해가스가 유입되어 플라즈마발생기로부터 발생되는 플라즈마에 의해 반응이 발생되도록 가스이동로 내부로 형성되는 플라즈마반응로와, 처리가스배출관을 통해 처리가스가 외부로 배출될 수 있도록 하며, 여과처리챔버 내부의 유해가스가 플라즈마처리챔버 측으로 이동될 수 있도록 하기 위한 흡입동력을 생성하도록 플라즈마처리챔버 하부 일측으로 형성되는 가스배출팬과, 플라즈마반응에 정화처리되는 처리가스를 배출하기 위해 가스배출팬 일측으로 형성되는 처리가스배출관과, 플라즈마처리챔버 내부 바닥측으로 형성되어 플라즈마반응로 측으로 플라즈마를 발생시키기 위해 형성되는 플라즈마발생기와, 플라즈마처리챔버 내부에서 플라즈마 반응이 이루어지는 유해가스가 순환될 수 있도록 하기 위해 플라즈마처리챔버 하부 타측으로 형성되는 순환팬으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the noxious gas treatment device, a filtration processing unit for filtering the primary noxious gas by using the injection of microorganisms and ozone; and a plasma processing unit for secondarily processing the harmful gas, which is primarily processed through the filtering unit, using plasma. and a control unit including a control box formed on one side of the chamber frame to control the filtering processing unit and the plasma processing unit, wherein the filtering processing unit is seated on top of the chamber frame to filter the injected harmful gas. And, a chamber frame fixed to the ground to support the filtration processing chamber and forming the filtration processing chamber at a certain height from the ground, and one side to the upper side of the filtration processing chamber to allow harmful gases to be injected into the filtration processing chamber. A harmful gas injection pipe formed to be connected, a plurality of filtration filters formed inside the filtration treatment chamber to filter harmful gases injected into the filtration treatment chamber, and a plurality of filtration filters formed on one side of the microbial injection pipe to inject microorganisms toward the filter filter A microbial injection nozzle, a plurality of microbial injection tubes formed above the filtration treatment chamber to inject microorganisms for purifying harmful gases using microorganisms, and ozone formed on one side of the filtration treatment chamber to inject ozone into the filtration treatment chamber. A generator, and an ozone inlet tube having one end connected to the ozone generator and the other end penetrating the inside of the filtration chamber so that ozone is injected into the filtering chamber, and primary purification treatment through microbial spraying and filtering. A filtered gas discharge pipe having one side connected to one side of the filtration processing chamber and the other side connected to the processing gas inlet pipe so that the harmful gas to be discharged to the plasma processing chamber side, and one side connected to the chamber frame so that the plasma processing chamber can be fixed to the chamber frame. It consists of a connecting frame connected to one side and the other side connected to one side of the plasma processing chamber. The plasma processing chamber, which is connected to one side of the connection fixed frame so that harmful gas can be injected, and the filtered gas discharge pipe and the processed gas inlet pipe are formed on one side of the filtered gas discharge pipe and one side of the processed gas inlet pipe so as to contact each other for a sealed connection. Working so that the harmful gas discharged through the coupled connection flange and the filtered gas discharge pipe is moved to the upper side of the plasma processing chamber. A processing gas inlet pipe having one side connected to the filtered gas discharge pipe using a connecting flange and the other side connected to the upper part of the plasma processing chamber, and formed upward inside the plasma processing chamber so that harmful gases flowing through the processing gas inlet pipe are moved. A gas flow path, a plasma reaction path formed inside the gas flow path so that the harmful gas moved into the gas flow path is introduced and a reaction is generated by the plasma generated from the plasma generator, and the process gas is discharged to the outside through a process gas discharge pipe. A gas discharge fan formed on one side of the lower part of the plasma processing chamber to generate a suction power for allowing harmful gases inside the filtering processing chamber to be moved to the plasma processing chamber side, and processing to purify the plasma reaction. A process gas discharge pipe formed on one side of the gas discharge fan to discharge gas, a plasma generator formed on the bottom side inside the plasma processing chamber to generate plasma toward the plasma reaction furnace, and a harmful plasma reaction in the plasma processing chamber It is characterized in that it consists of a circulation fan formed on the other side of the lower part of the plasma processing chamber so that the gas can be circulated.

또다른 일 실시예에서, 상기 유해가스처리장치는, 외부로부터 가해지는 충격 또는 지진으로 인한 진동 발생시 플라즈마처리챔버의 손상을 방지하기 위한 챔버내진부를 더 포함하며, 상기 챔버내진부는, 챔버안착판의 흔들림을 지지하고, 챔버안착판에 안착되는 플라즈마처리챔버의 무게를 지지하도록 지면에 고정 형성되는 지면고정판과, 플라즈마처리챔버가 안착되도록 지면고정판과 일정 간격을 두고 형성되는 챔버안착판과, 지면고정판과 챔버안착판 간의 상호 연결 지지되도록 형성되는 이탈방지바와, 지면고정판 양측 상부로 형성되는 이탈방지바와 챔버안착판 양측 하부로 형성되는 이탈방지바 간의 연결을 위해 형성되는 연결힌지와, 기설정되는 충격 또는 진동파에 의해 파손되도록 지면고정판 측에 형성되는 이탈방지바 일측과 챔버안착판 측에 형성되는 이탈방지바 일측으로 각각 형성되는 파손핀과, 지면고정판 측의 이탈방지바에 형성되는 파손핀과 챔버안착판 측의 이탈방지바에 형성되는 파손핀을 상호 고정시키기 위해 형성되는 핀고정대와, 에어실린더의 밀착시 챔버안착판과 지면고정판 간의 완충력을 제공하도록 챔버안착판 하면 양측으로 각각 형성되는 완충부재와, 완충부재에 밀착되도록 하여 챔버안착판을 지지하며, 파손핀의 파손시 챔버안착판을 지지하도록 지면고정판 상면 양측으로 형성되는 에어실린더와, 챔버안착판과 지면고정판 사이의 높낮이를 감지하여 감지정보를 에어실린더 측으로 제공하여 기설정되는 높이값이 유지될 수 있도록 하는 높낮이감지센서와, 높낮이감지센서가 높이를 감지하기 위해 지면고정판 상부 일측으로 높낮이감지센서와 대응되는 위치에 형성되는 센서부재와, 완충스프링을 고정하기 위해 챔버안착판 하면 중앙과 볼유동부재 상면으로 각각 형성되는 스프링고정부재와, 챔버안착판으로 가해지는 충격 및 진동을 감쇄시키며, 챔버안착판의 무게를 지지하도록 챔버안착판 측으로 형성되는 스프링고정부재와 볼유동부재 측으로 형성되는 스프링고정부재 사이에 형성되는 완충스프링과, 파손핀의 파손시 흔들리는 챔버안착판이 지면고정판 상에서 이탈되지 않도록 하기 위한 내진볼을 내장될 수 있도록 지면고정판 중앙 상면과 하측으로 형성되는 스프링고정부재 하면으로 각각 형성되는 볼유동부재와, 지면고정판을 기준으로 챔버안착판이 이탈되지 않도록 상측과 하측으로 형성되는 볼유동부재 사이에 복수개 형성되는 내진볼로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In another embodiment, the noxious gas processing apparatus further includes a chamber vibration unit for preventing damage to the plasma processing chamber when an external shock or vibration due to an earthquake occurs, and the chamber vibration unit includes a chamber seat plate A ground fixing plate fixed to the ground to support shaking and to support the weight of the plasma processing chamber seated on the chamber seating plate, a chamber seating plate formed at a predetermined distance from the ground fixing plate so that the plasma processing chamber is seated, and a ground fixing plate A separation prevention bar formed to support the mutual connection between the chamber seating plate, a connection hinge formed for connection between the separation prevention bar formed on both sides of the ground fixing plate and the separation prevention bar formed on both sides and lower portions of the chamber seating plate, and a predetermined impact Alternatively, a breakage pin formed on one side of the release prevention bar formed on the side of the ground fixing plate and one side of the release prevention bar formed on the side of the chamber seating plate to be damaged by vibration waves, and a breakage pin formed on the release prevention bar on the side of the ground fixation plate and the chamber A pin holder formed to mutually fix the breakage pins formed on the breakaway prevention bar on the seating plate side, and a buffer member formed on both sides of the lower surface of the chamber seating plate to provide a buffering force between the chamber seating plate and the ground fixing plate when the air cylinder is in close contact. , Air cylinders formed on both sides of the upper surface of the ground fixing plate to support the chamber seating plate by being in close contact with the buffer member, and detecting the height between the chamber seating plate and the ground fixing plate to support the chamber seating plate when the damage pin is damaged, and detecting information A height detection sensor that provides a height to the air cylinder to maintain a predetermined height value, and a sensor member formed at a position corresponding to the height detection sensor on one side of the upper part of the ground fixing plate to detect the height of the height detection sensor, In order to fix the buffer spring, the spring fixing member formed on the center of the lower surface of the chamber seat plate and the upper surface of the ball flow member, respectively, dampens shock and vibration applied to the chamber seat plate and moves toward the chamber seat plate to support the weight of the chamber seat plate A buffer spring formed between the spring fixing member formed and the spring fixing member formed on the side of the ball moving member, and the chamber seat plate shaking when the breakage pin is damaged To prevent separation from the ground fixing plate A spring fixing member formed on the upper and lower sides of the center of the ground fixing plate so that earthquake-resistant balls can be embedded, and a ball moving member formed on the bottom of the spring fixing member, and a ball moving member formed on the upper and lower sides to prevent the chamber seating plate from being separated from the ground fixing plate. It is characterized in that it consists of a plurality of seismic balls formed therebetween.

상술한 바와 같이, 여과필터와 플라즈마를 이용하여 분해처리된 배출가스 중 일부를 여과처리챔버 측으로 재공급함으로 여과처리챔버 내의 오존 농도를 조절하여 여과 효율을 증가시키는 효과를 제공한다.As described above, some of the exhaust gas decomposed using the filter and the plasma is re-supplied to the filtering chamber, thereby adjusting the concentration of ozone in the filtering chamber to increase the filtering efficiency.

도 1은 본 발명 유해가스처리장치에 대한 도면이다.
도 2는 도 1에 대한 상세도이다.
도 3은 본 발명에 대한 또다른 실시예인 챔버내진부를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명에 대한 또다른 실시예인 함체부호부를 나타낸 도면이다.
도 5는 도 4에 대한 상세도이다.
도 6은 본 발명에 대한 또다른 실시예인 작업자승하강부를 나타낸 도면이다.
도 7은 도 6에 대한 작동상태도이다.1 is a view of a harmful gas processing device according to the present invention.
FIG. 2 is a detailed view of FIG. 1 .
3 is a view showing an vibration chamber in another embodiment of the present invention.
4 is a view showing an enclosure code unit, which is another embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a detailed view of FIG. 4 .
6 is a view showing a worker lifting and lowering unit that is another embodiment of the present invention.
FIG. 7 is an operating state diagram for FIG. 6 .

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The detailed description of the present invention which follows refers to the accompanying drawings which illustrate, by way of illustration, specific embodiments in which the present invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable one skilled in the art to practice the present invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different from each other but are not necessarily mutually exclusive. For example, specific shapes, structures, and characteristics described herein may be implemented in another embodiment without departing from the spirit and scope of the invention in connection with one embodiment. Additionally, it should be understood that the location or arrangement of individual components within each disclosed embodiment may be changed without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, the detailed description set forth below is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if properly described, is limited only by the appended claims, along with all equivalents as claimed by those claims. Like reference numbers in the drawings indicate the same or similar function throughout the various aspects.

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 1은 본 발명 유해가스처리장치(100)에 대한 도면이며, 도 2는 도 1에 대한 상세도이다.1 is a view of a harmful gas treatment device 100 of the present invention, and FIG. 2 is a detailed view of FIG.

상기 도면에서 보는 바와 같이, 상기 유해가스처리장치(100)는 여과처리챔버를 거쳐 여과된 유해가스를 플라즈마를 이용하여 분해처리 하기 위한 것을 특징으로 한다.As shown in the drawing, the noxious gas treatment device 100 is characterized in that the noxious gas filtered through the filtering chamber is decomposed and treated using plasma.

상기 유해가스처리장치(100)는 여과처리부(110)와 플라즈마처리부(150)와 제어부(170)를 포함하는 것을 특징으로 한다.The noxious gas processing device 100 is characterized in that it includes a filtering processing unit 110, a plasma processing unit 150, and a control unit 170.

상기 여과처리부(110)는 미생물의 분사와 오존을 이용하여 1차 유해가스를 여과 처리하기 위한 것을 특징으로 한다.The filtration processing unit 110 is characterized in that for filtering the primary harmful gas by using the injection of microorganisms and ozone.

상기 여과처리부(110)는 여과처리챔버(111), 챔버프레임(112), 유해가스주입관(113), 여과필터(114), 미생물분사노즐(115), 미생물주입관(116), 오존발생기(117), 오존투입관(118), 여과가스배출관(119), 연결고정프레임(120)으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The filtration processing unit 110 includes a filtration processing chamber 111, a chamber frame 112, a harmful gas injection pipe 113, a filter filter 114, a microbial injection nozzle 115, a microbial injection pipe 116, and an ozone generator. (117), an ozone inlet pipe (118), a filtered gas discharge pipe (119), and a fixed connection frame (120).

상기 여과처리챔버(111)는 주입되는 유해가스를 여과처리하기 위해 형성되는 것으로, 상기 여과처리챔버(111)는 챔버프레임(112) 상부로 안착 형성되는 것을 특징으로 한다.The filtering processing chamber 111 is formed to filter the injected harmful gas, and the filtering processing chamber 111 is characterized in that it is formed to be seated on the upper part of the chamber frame 112.

상기 챔버프레임(112)은 여과처리챔버(111)를 지면으로부터 일정 높이를 두고 형성되도록 하며, 여과처리챔버(111)를 지지하도록 지면에 고정 형성되는 것을 특징으로 한다.The chamber frame 112 is characterized in that it is fixed to the ground so as to form the filtration processing chamber 111 at a certain height from the ground and to support the filtration processing chamber 111 .

상기 유해가스주입관(113)은 여과처리챔버(111) 측으로 유해가스가 주입되도록 하기 위해 형성되는 것으로, 상기 유해가스주입관(113)은 일측이 여과처리챔버(111) 상부 일측으로 연결 형성되는 것을 특징으로 한다.The noxious gas injection pipe 113 is formed to inject harmful gas into the filtration processing chamber 111, and one side of the noxious gas injection pipe 113 is connected to the upper one side of the filtration processing chamber 111. characterized by

상기 여과필터(114)는 여과처리챔버(111) 내부로 주입되는 유해가스를 필터링하기 위해 형성되는 것으로, 상기 여과필터(114)는 여과처리챔버(111) 내부로 복수개 형성되는 것을 특징으로 한다.The filtering filter 114 is formed to filter harmful gases injected into the filtering processing chamber 111, and the filtering filter 114 is formed in plurality into the filtering processing chamber 111.

상기 미생물분사노즐(115)은 여과필터(114) 측으로 미생물을 분사하기 위해 형성되는 것으로, 상기 미생물분사노즐(115)은 미생물주입관(116) 일측으로 복수개 형성되는 것을 특징으로 한다.The microbial spray nozzles 115 are formed to spray microorganisms toward the filter 114, and the microbial spray nozzles 115 are formed in plurality on one side of the microbial injection pipe 116.

상기 미생물주입관(116)은 미생물을 이용하여 유해가스를 정화시키기 위한 미생물이 주입되도록 형성되는 것으로, 상기 미생물주입관(116)은 여과처리챔버(111) 상부로 복수개 형성되는 것을 특징으로 한다.The microbial injection pipe 116 is formed to inject microorganisms for purifying harmful gas using microorganisms, and the microbial injection pipe 116 is characterized in that a plurality of microbial injection pipes 116 are formed above the filtering chamber 111.

상기 오존발생기(117)는 여과처리챔버(111) 내부로 오존을 주입하기 위해 형성되는 것으로, 상기 오존발생기(117)는 여과처리챔버(111) 일측으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The ozone generator 117 is formed to inject ozone into the filtering chamber 111, and the ozone generator 117 is formed on one side of the filtering chamber 111.

상기 오존투입관(118)은 오존발생기(117)에서 오존이 여과처리챔버(111) 내부로 투입되도록 형성되는 것으로, 상기 오존투입관(118)은 일측이 오존발생기(117)에 연결되고, 타측이 여과처리챔버(111) 내부 일측으로 관통 형성되는 것을 특징으로 한다.The ozone injection pipe 118 is formed so that ozone is injected from the ozone generator 117 into the filtering chamber 111, and one side of the ozone injection pipe 118 is connected to the ozone generator 117, and the other side It is characterized in that it is formed through one side of the inside of the filtration processing chamber 111.

상기 여과가스배출관(119)은 미생물분사와 여과필터(114)를 통해 1차 정화처리되는 유해가스가 플라즈마처리챔버(151) 측으로 배출되도록 형성되는 것으로, 상기 여과가스배출관(119)은 일측이 여과처리챔버(111) 일측에 연결되고, 타측이 처리가스유입관(153)에 연결 형성되는 것을 특징으로 한다.The filtered gas discharge pipe 119 is formed so that harmful gases, which are primarily purified through the microbial spray and filter 114, are discharged toward the plasma processing chamber 151, and one side of the filtered gas discharge pipe 119 is filtered. It is characterized in that it is connected to one side of the processing chamber 111 and connected to the processing gas inlet pipe 153 on the other side.

상기 연결고정프레임(120)은 플라즈마처리챔버(151)가 챔버프레임(112)에 고정될 수 있도록 형성되는 것으로, 상기 연결고정프레임(120)은 일측이 챔버프레임(112) 일측에 연결되고, 타측이 플라즈마처리챔버(151) 일측으로 연결되도록 형성되는 것을 특징으로 한다.The connection fixing frame 120 is formed so that the plasma processing chamber 151 can be fixed to the chamber frame 112, and one side of the connection fixing frame 120 is connected to one side of the chamber frame 112, and the other side It is characterized in that it is formed to be connected to one side of the plasma processing chamber 151.

상기 플라즈마처리부(150)는 여과처리부(110)를 통해 1차 처리되는 유해가스를 플라즈마를 이용하여 2차 처리하기 위한 것을 특징으로 한다.The plasma processing unit 150 is characterized in that it is used to secondarily process the harmful gas, which is primarily treated through the filtering unit 110, using plasma.

상기 플라즈마처리부(150)는 플라즈마처리챔버(151), 연결플랜지(152), 처리가스유입관(153), 가스이동로(154), 플라즈마반응로(155), 가스배출팬(156), 처리가스배출관(157), 플라즈마발생기(158), 순환팬(159)으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The plasma processing unit 150 includes a plasma processing chamber 151, a connection flange 152, a processing gas inlet pipe 153, a gas transfer furnace 154, a plasma reactor 155, a gas discharge fan 156, a processing It is characterized in that it consists of a gas discharge pipe 157, a plasma generator 158, and a circulation fan 159.

상기 플라즈마처리챔버(151)는 여과처리챔버(111)를 통해 1차 정화처리되는 유해가스 중에 섞인 유해물질을 2차 정화시키기 위해 유해가스가 주입될 수 있도록 형성되는 것으로, 상기 플라즈마처리챔버(151)는 연결고정프레임(120) 일측으로 연결 형성되는 것을 특징으로 한다.The plasma processing chamber 151 is formed so that harmful gases can be injected in order to secondarily purify harmful substances mixed in the harmful gases that are primarily purified through the filtering chamber 111, and the plasma processing chamber 151 ) is characterized in that it is formed connected to one side of the connection fixing frame (120).

상기 연결플랜지(152)는 여과가스배출관(119)과 처리가스유입관(153) 간의 밀폐 연결을 위해 상호 맞닿도록 형성되는 것으로, 상기 연결플랜지(152)는 여과가스배출관(119) 일측과 처리가스유입관(153) 일측으로 각각 형성되어 결합되는 것을 특징으로 한다.The connecting flange 152 is formed so as to contact each other for a sealed connection between the filtered gas discharge pipe 119 and the processed gas inlet pipe 153, and the connecting flange 152 is formed to contact one side of the filtered gas discharge pipe 119 and the processed gas. It is characterized in that each is formed on one side of the inlet pipe 153 and coupled.

상기 처리가스유입관(153)은 여과가스배출관(119)을 통해 배출되는 유해가스가 플라즈마처리챔버(151) 상부 측으로 이동되도록 형성되는 것으로, 상기 처리가스유입관(153)은 일측이 연결플랜지(152)를 이용하여 여과가스배출관(119)과 연결되고, 타측이 플라즈마처리챔버(151) 상부로 연결 형성되는 것을 특징으로 한다.The processing gas inlet pipe 153 is formed so that the harmful gas discharged through the filtered gas discharge pipe 119 moves to the upper side of the plasma processing chamber 151, and one side of the processing gas inlet pipe 153 is a connection flange ( 152) is connected to the filtered gas discharge pipe 119, and the other side is connected to the upper part of the plasma processing chamber 151.

상기 가스이동로(154)는 처리가스유입관(153)을 통해 유입되는 유해가스가 이동되도록 형성되는 것으로, 상기 가스이동로(154)는 플라즈마처리챔버(151) 내부 상측으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The gas passage 154 is formed to move the harmful gas introduced through the processing gas inlet pipe 153, and the gas passage 154 is formed upward inside the plasma processing chamber 151. do.

상기 플라즈마반응로(155)는 가스이동로(154)로 이동되는 유해가스가 유입되어 플라즈마발생기(158)로부터 발생되는 플라즈마에 의해 반응이 발생되도록 형성되는 것으로, 상기 플라즈마반응로(155)는 가스이동로(154) 내부로 형성되는 것을 특징으로 한다.The plasma reaction furnace 155 is formed so that the harmful gas transferred to the gas flow furnace 154 is introduced and a reaction is generated by the plasma generated from the plasma generator 158. It is characterized in that it is formed inside the moving path 154.

상기 가스배출팬(156)은 처리가스배출관(157)을 통해 처리가스가 외부로 배출될 수 있도록 하며, 여과처리챔버(111) 내부의 유해가스가 플라즈마처리챔버(151) 측으로 이동될 수 있도록 하기 위한 흡입동력을 생성하도록 형성되는 것으로, 상기 가스배출팬(156)은 플라즈마처리챔버(151) 하부 일측으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The gas discharge fan 156 allows the processing gas to be discharged to the outside through the processing gas discharge pipe 157, and allows the harmful gas inside the filtration processing chamber 111 to move toward the plasma processing chamber 151. The gas discharge fan 156 is formed to one side of the lower part of the plasma processing chamber 151.

상기 처리가스배출관(157)은 플라즈마반응에 정화처리되는 처리가스를 배출하기 위해 형성되는 것으로, 상기 처리가스배출관(157)은 가스배출팬(156) 일측으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The processing gas discharge pipe 157 is formed to discharge the processing gas purified by the plasma reaction, and the processing gas discharge pipe 157 is formed on one side of the gas discharge fan 156.

상기 플라즈마발생기(158)는 플라즈마처리챔버(151) 내부 바닥측으로 형성되어 플라즈마반응로(155) 측으로 플라즈마를 발생시키기 위해 형성되는 것을 특징으로 한다.The plasma generator 158 is formed on the inner bottom side of the plasma processing chamber 151 and is characterized in that it is formed to generate plasma toward the plasma reactor 155 side.

상기 순환팬(159)은 플라즈마처리챔버(151) 내부에서 플라즈마 반응이 이루어지는 유해가스가 순환될 수 있도록 하기 위해 형성되는 것으로, 상기 순환팬(159)은 플라즈마처리챔버(151) 하부 타측으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The circulation fan 159 is formed to circulate the harmful gas in which the plasma reaction takes place inside the plasma processing chamber 151, and the circulation fan 159 is formed on the other side of the lower part of the plasma processing chamber 151 characterized by

상기 제어부(170)는 여과처리부(110)와 플라즈마처리부(150)를 제어하기 위해 챔버프레임(112) 일측으로 형성되는 제어함체(171)를 포함하는 것을 특징으로 한다.The controller 170 is characterized in that it includes a control box 171 formed on one side of the chamber frame 112 to control the filtration processing unit 110 and the plasma processing unit 150 .

상기 제어함체(171)는 작업자가 여과처리와 플라즈마처리를 위한 조작을 하기 위한 조작패널이 전면으로 형성된다.The control box 171 is formed with an operation panel on the front for the operator to operate for filtering treatment and plasma treatment.

도 3은 본 발명에 대한 또다른 실시예인 챔버내진부(200)를 나타낸 도면이다.3 is a view showing a chamber vibration unit 200, which is another embodiment of the present invention.

상기 도면에서 보는 바와 같이, 상기 챔버내진부(200)는 본 발명 유해가스처리장치(100)에 더 포함하는 구성으로, 상기 챔버내진부(200)는 외부로부터 가해지는 충격 또는 지진으로 인한 진동 발생시 플라즈마처리챔버(151)의 손상을 방지하기 위한 것을 특징으로 한다.As shown in the drawing, the chamber earthquake-resistant part 200 is a configuration further included in the harmful gas processing device 100 of the present invention, and the chamber earthquake-resistant part 200 generates vibration due to an external shock or earthquake It is characterized in that it is for preventing damage to the plasma processing chamber 151.

상기 챔버내진부(200)는 지면고정판(210), 챔버안착판(211), 이탈방지바(212), 연결힌지(213), 파손핀(214), 핀고정대(215), 완충부재(216), 에어실린더(217), 높낮이감지센서(218), 센서부재(219), 스프링고정부재(220), 완충스프링(221), 볼유동부재(222), 내진볼(223)로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The chamber anti-seismic part 200 includes a ground fixing plate 210, a chamber seating plate 211, a release prevention bar 212, a connecting hinge 213, a breakage pin 214, a pin holder 215, and a buffer member 216 ), an air cylinder 217, a height sensor 218, a sensor member 219, a spring fixing member 220, a buffer spring 221, a ball flow member 222, and an earthquake-resistant ball 223. to be

상기 지면고정판(210)은 챔버안착판(211)의 흔들림을 지지하고, 챔버안착판(211)에 안착되는 플라즈마처리챔버(151)의 무게를 지지하도록 형성되는 것으로, 상기 지면고정판(210)은 지면에 고정 형성되는 것을 특징으로 한다.The ground fixing plate 210 supports shaking of the chamber seating plate 211 and is formed to support the weight of the plasma processing chamber 151 seated on the chamber seating plate 211, and the ground fixing plate 210 It is characterized in that it is formed fixed to the ground.

상기 챔버안착판(211)은 플라즈마처리챔버(151)가 안착되도록 형성되는 것으로, 상기 챔버안착판(211)은 지면고정판(210)과 일정 간격을 두고 형성되는 것을 특징으로 한다.The chamber seating plate 211 is formed to seat the plasma processing chamber 151, and the chamber seating plate 211 is formed at a predetermined distance from the ground fixing plate 210.

상기 이탈방지바(212)는 지면고정판(210)과 챔버안착판(211) 간의 상호 연결 지지되도록 형성되는 것을 특징으로 한다.The release prevention bar 212 is characterized in that it is formed to support the mutual connection between the ground fixing plate 210 and the chamber seating plate 211.

상기 연결힌지(213)는 지면고정판(210) 양측 상부로 형성되는 이탈방지바(212)와 챔버안착판(211) 양측 하부로 형성되는 이탈방지바(212) 간의 연결을 위해 형성되는 것을 특징으로 한다.The connection hinge 213 is formed for connection between the release prevention bar 212 formed on both sides of the ground fixing plate 210 and the release prevention bar 212 formed on both sides and bottom of the chamber seating plate 211. do.

상기 파손핀(214)은 기설정되는 충격 또는 진동파에 의해 파손되도록 형성되는 것으로, 상기 파손핀(214)은 지면고정판(210) 측에 형성되는 이탈방지바(212) 일측과 챔버안착판(211) 측에 형성되는 이탈방지바(212) 일측으로 각각 형성되는 것을 특징으로 한다.The breakage pin 214 is formed to be broken by a predetermined shock or vibration wave, and the breakage pin 214 is formed on one side of the release prevention bar 212 formed on the ground fixing plate 210 side and the chamber seating plate ( 211) characterized in that each is formed on one side of the departure prevention bar 212 formed on the side.

상기 핀고정대(215)는 지면고정판(210) 측의 이탈방지바(212)에 형성되는 파손핀(214)과 챔버안착판(211) 측의 이탈방지바(212)에 형성되는 파손핀(214)을 상호 고정시키기 위해 형성되는 것을 특징으로 한다.The pin holder 215 includes a breakage pin 214 formed on the release prevention bar 212 on the ground fixing plate 210 side and a breakage pin 214 formed on the release prevention bar 212 on the chamber seat plate 211 side. ) characterized in that it is formed to mutually fix.

상기 완충부재(216)는 에어실린더(217)의 밀착시 챔버안착판(211)과 지면고정판(210) 간의 완충력을 제공하도록 형성되는 것으로, 상기 완충부재(216)는 챔버안착판(211) 하면 양측으로 각각 형성되는 것을 특징으로 한다.The buffer member 216 is formed to provide a buffering force between the chamber seating plate 211 and the ground fixing plate 210 when the air cylinder 217 is in close contact with the chamber seating plate 211. It is characterized in that it is formed on both sides, respectively.

상기 에어실린더(217)는 완충부재(216)에 밀착되도록 하여 챔버안착판(211)을 지지하며, 파손핀(214)의 파손시 챔버안착판(211)을 지지하도록 형성되는 것으로, 상기 에어실린더(217)는 지면고정판(210) 상면 양측으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The air cylinder 217 is formed to support the chamber seat plate 211 by being in close contact with the buffer member 216, and to support the chamber seat plate 211 when the breakage pin 214 is damaged. (217) is characterized in that it is formed on both sides of the upper surface of the ground fixing plate (210).

상기 높낮이감지센서(218)는 챔버안착판(211)과 지면고정판(210) 사이의 높낮이를 감지하여 감지정보를 에어실린더(217) 측으로 제공하여 기설정되는 높이값이 유지될 수 있도록 하는 것을 특징으로 한다.The height sensor 218 detects the height between the chamber seating plate 211 and the ground fixing plate 210 and provides detection information to the air cylinder 217 so that a preset height value can be maintained. to be

상기 센서부재(219)는 높낮이감지센서(218)가 높이를 감지하기 위해 형성되는 것으로, 상기 센서부재(219)는 지면고정판(210) 상부 일측으로 높낮이감지센서(218)와 대응되는 위치에 형성되는 것을 특징으로 한다.The sensor member 219 is formed for the height sensor 218 to detect the height, and the sensor member 219 is formed at a position corresponding to the height sensor 218 on one side of the upper part of the ground fixing plate 210 characterized by being

상기 스프링고정부재(220)는 완충스프링(221)을 고정하기 위해 형성되는 것으로, 상기 스프링고정부재(220)는 챔버안착판(211) 하면 중앙과 볼유동부재(222) 상면으로 각각 형성되는 것을 특징으로 한다.The spring fixing member 220 is formed to fix the buffer spring 221, and the spring fixing member 220 is formed in the center of the lower surface of the chamber seating plate 211 and the upper surface of the ball flow member 222, respectively. to be characterized

상기 완충스프링(221)은 챔버안착판(211)으로 가해지는 충격 및 진동을 감쇄시키며, 챔버안착판(211)의 무게를 지지하도록 형성되는 것으로, 상기 완충스프링(221)은 챔버안착판(211) 측으로 형성되는 스프링고정부재(220)와 볼유동부재(222) 측으로 형성되는 스프링고정부재(220) 사이에 형성되는 것을 특징으로 한다.The buffer spring 221 damps shock and vibration applied to the chamber seating plate 211 and is formed to support the weight of the chamber seating plate 211. The buffer spring 221 is the chamber seating plate 211 ) It is characterized in that it is formed between the spring fixing member 220 formed on the side and the spring fixing member 220 formed on the ball flow member 222 side.

상기 볼유동부재(222)는 파손핀(214)의 파손시 흔들리는 챔버안착판(211)이 지면고정판(210) 상에서 이탈되지 않도록 하기 위한 내진볼(223)을 내장될 수 있도록 형성되는 것으로, 상기 볼유동부재(222)는 지면고정판(210) 중앙 상면과 하측으로 형성되는 스프링고정부재(220) 하면으로 각각 형성되는 것을 특징으로 한다.The ball flow member 222 is formed so that an earthquake-resistant ball 223 can be incorporated in order to prevent the shaking chamber seating plate 211 from being separated from the ground fixing plate 210 when the breakage pin 214 is damaged. The ball flow member 222 is characterized in that it is formed by the lower surface of the spring fixing member 220 formed on the upper and lower sides of the center of the ground fixing plate 210, respectively.

상기 내진볼(223)은 지면고정판(210)을 기준으로 챔버안착판(211)이 이탈되지 않도록 형성되는 것으로, 상기 내진볼(223)은 상측과 하측으로 형성되는 볼유동부재(222) 사이에 복수개 형성되는 것을 특징으로 한다.The seismic ball 223 is formed so that the chamber seating plate 211 does not escape from the ground fixing plate 210, and the seismic ball 223 is formed between the upper and lower ball flow members 222 It is characterized in that a plurality is formed.

도 4는 본 발명에 대한 또다른 실시예인 함체보호부(300)를 나타낸 도면이며, 도 5는 도 4에 대한 상세도이다.4 is a view showing an enclosure protection unit 300, which is another embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a detailed view of FIG.

상기 도면에서 보는 바와 같이, 상기 함체보호부(300)는 본 발명 유해가스처리장치(100)에 더 포함하는 구성으로, 상기 함체보호부(300)는 제어함체(171)의 조작판을 외부로부터 손상되지 않도록 하며, 조작을 관리하기 위한 것을 특징으로 한다.As shown in the drawing, the enclosure protection unit 300 is further included in the harmful gas treatment device 100 of the present invention, and the enclosure protection unit 300 controls the operation panel of the control enclosure 171 from the outside. It is characterized in that it is not damaged and for managing the operation.

상기 함체보호부(300)는 승하강가이드(310), 승하강스크류(311), 승하강모터(312), 부재홈(313), 승하강부재(314), 패널연결바(315), 보호패널(316), 밀착센서(317), 인증수단(318)으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The enclosure protection unit 300 includes an elevating guide 310, an elevating screw 311, an elevating motor 312, a member groove 313, an elevating member 314, a panel connection bar 315, protection It is characterized by consisting of a panel 316, an adhesion sensor 317, and an authentication means 318.

상기 승하강가이드(310)는 승하강되는 보호패널(316)의 승하강을 지지하기 위해 형성되는 것으로, 상기 승하강가이드(310)는 제어함체(171) 양측으로 각각 형성되는 것을 특징으로 한다.The elevating and descending guides 310 are formed to support the elevating and descending of the protective panel 316, and the elevating and descending guides 310 are formed on both sides of the control box 171, respectively.

상기 승하강스크류(311)는 승하강모터(312)의 회전시 회전됨으로 결합되는 승하강부재(314)가 부재홈(313)을 따라 승하강될 수 있도록 형성되는 것으로, 상기 승하강스크류(311)는 승하강가이드(310) 내부로 형성되는 것을 특징으로 한다.The elevating screw 311 is rotated when the elevating motor 312 is rotated, so that the coupled elevating member 314 can be elevated and lowered along the member groove 313, and the elevating screw 311 ) is characterized in that it is formed into the elevating guide 310.

상기 승하강모터(312)는 승하강스크류(311)를 회전시키기 위해 형성되는 것으로, 상기 승하강모터(312)는 승하강가이드(310) 상부로 형성되는 것을 특징으로 한다.The elevating motor 312 is formed to rotate the elevating screw 311, and the elevating motor 312 is formed above the elevating guide 310.

상기 부재홈(313)은 승하강부재(314)가 돌출되어 슬라이드 승하강 될 수 있도록 형성되는 것으로, 상기 부재홈(313)은 승하강가이드(310) 일측으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The member groove 313 is formed so that the elevating member 314 protrudes and slides up and down, and the member groove 313 is formed on one side of the elevating guide 310.

상기 승하강부재(314)는 승하강스크류(311)의 회전에 따라 부재홈(313)에서 슬라이드 승하강되도록 형성되는 것으로, 상기 승하강부재(314)는 일측이 패널연결바(315)와 결합되고, 타측이 승하강스크류(311)에 결합되는 것을 특징으로 한다.The elevating member 314 is formed so as to slide up and down in the member groove 313 according to the rotation of the elevating screw 311, and one side of the elevating member 314 is coupled with the panel connection bar 315. And, it is characterized in that the other side is coupled to the elevating screw (311).

상기 패널연결바(315)는 승하강부재(314)와 보호패널(316)을 연결시키기 위해 형성되는 것으로, 상기 패널연결바(315)는 일측이 승하강부재(314)에 연결되고, 타측이 보호패널(316) 일측에 연결 형성되는 것을 특징으로 한다.The panel connecting bar 315 is formed to connect the elevating member 314 and the protection panel 316, one side of the panel connecting bar 315 is connected to the elevating member 314, and the other side is connected to the elevating member 314. It is characterized in that it is connected to one side of the protection panel 316.

상기 보호패널(316)은 제어함체(171) 전면에 형성되는 조작판을 보호하기 위해 형성되는 것으로, 상기 보호패널(316)은 양측으로 형성되는 패널연결바(315) 사이로 형성되는 것을 특징으로 한다.The protection panel 316 is formed to protect the operation panel formed on the front surface of the control box 171, and the protection panel 316 is formed between the panel connection bars 315 formed on both sides. .

상기 밀착센서(317)는 보호패널(316)의 하강시 제어함체(171)의 상면과 밀착됨을 감지하기 하여 감지정보를 승하강모터(312) 측으로 제공하도록 형성되는 것으로, 상기 밀착센서(317)는 보호패널(316) 내부 상측으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The adhesion sensor 317 detects the contact with the upper surface of the control box 171 when the protection panel 316 descends and provides sensing information to the elevating and descending motor 312. The adhesion sensor 317 Is characterized in that formed on the inner upper side of the protective panel 316.

상기 인증수단(318)은 승하강모터(312)를 작동시키기 위해 형성되는 것으로, 상기 인증수단(318)은 보호패널(316) 전면 일측으로 작업자의 인증을 위한 조작이 이루어질 수 있도록 형성되는 것을 특징으로 한다.The authentication means 318 is formed to operate the lifting and lowering motor 312, and the authentication means 318 is formed to one side of the front side of the protection panel 316 to allow operation for operator authentication. to be

도 6은 본 발명에 대한 또다른 실시예인 작업자승하강부(400)를 나타낸 도면이며, 도 7은 도 6에 대한 작동상태도이다.6 is a view showing a worker lifting and lowering unit 400, which is another embodiment of the present invention, and FIG. 7 is an operating state diagram for FIG.

상기 도면에서 보는 바와 같이, 상기작업자승하강부(400)는 본 발명 유해가스처리장치(100)에 더 포함하는 구성으로, 상기 작업자승하강부(400)는 여과처리챔버(111)의 유지보수를 위해 작업자가 여과처리챔버(111) 외부에서 승하강이동할 수 있도록 하기 위한 것을 특징으로 한다.As shown in the drawing, the worker elevating unit 400 is further included in the harmful gas treatment device 100 of the present invention, and the operator elevating unit 400 is used for maintenance of the filtration processing chamber 111. It is characterized in that it allows the operator to move up and down from the outside of the filtration processing chamber 111.

상기 작업자승하강부(400)는 승하강프레임(410), 가이드프레임(411), 슬라이드홈(412), 가이드홈(413), 승하강가이드바(414), 회전스크류(415), 회전모터(416), 승하강판(417), 가이드부재(418), 승하강베어링(419), 스크류부재(420), 접이회전축(421), 접이모터(422), 작업발판(423), 터치센서(424), 발판승하강버튼(425)으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The worker elevating unit 400 includes an elevating frame 410, a guide frame 411, a slide groove 412, a guide groove 413, an elevating guide bar 414, a rotating screw 415, a rotary motor ( 416), elevating plate 417, guide member 418, elevating bearing 419, screw member 420, folding rotary shaft 421, folding motor 422, work plate 423, touch sensor 424 ), it is characterized in that consisting of a footrest elevating button (425).

상기 승하강프레임(410)은 작업발판(423)의 일측을 지지하여 승하강될 수 있도록 형성되는 것으로, 상기 승하강프레임(410)은 여과처리챔버(111) 일측으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The elevating frame 410 is formed to support one side of the working scaffold 423 to be elevated, and the elevating frame 410 is formed on one side of the filtering chamber 111.

상기 가이드프레임(411)은 작업발판(423)의 타측을 지지하여 승하강될 수 있도록 형성되는 것으로, 상기 가이드프레임(411)은 여과처리챔버(111) 타측으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The guide frame 411 is formed to be raised and lowered by supporting the other side of the working platform 423, and the guide frame 411 is formed on the other side of the filtration processing chamber 111.

상기 슬라이드홈(412)은 스크류부재(420)가 슬라이드 이동될 수 있도록 형성되는 것으로, 상기 슬라이드홈(412)은 승하강프레임(410) 전면으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The slide groove 412 is formed so that the screw member 420 can slide, and the slide groove 412 is formed on the front surface of the elevating frame 410.

상기 가이드홈(413)은 가이드부재(418)가 슬라이드 이동될 수 있도록 형성되는 것으로, 상기 가이드홈(413)은 가이드프레임(411) 전면으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The guide groove 413 is formed so that the guide member 418 can slide, and the guide groove 413 is formed on the front surface of the guide frame 411.

상기 승하강가이드바(414)는 가이드부재(418)가 결합되어 승하강판(417)의 승하강시 흔들림이 발생되지 않고, 승하강판(417)의 일측을 지지하도록 형성되는 것으로, 상기 승하강가이드바(414)는 승하강프레임(410) 내부로 형성되는 것을 특징으로 한다.The elevating guide bar 414 is formed to support one side of the elevating plate 417 without shaking when the elevating plate 417 is raised and lowered by combining the guide member 418, and the elevating guide bar (414) is characterized in that it is formed into the elevating frame (410).

상기 회전스크류(415)는 회전모터(416)의 구동으로 회전되도록 형성되는 승하강프레임(410) 내부로 형성되는 것을 특징으로 한다.The rotating screw 415 is characterized in that it is formed inside the elevating frame 410 formed to be rotated by driving the rotation motor 416.

상기 회전모터(416)는 회전스크류(415)를 회전시키기 위해 형성되는 것으로, 상기 회전모터(416)는 승하강프레임(410) 상부로 형성되는 것을 특징으로 한다.The rotary motor 416 is formed to rotate the rotary screw 415, and the rotary motor 416 is formed above the elevating frame 410.

상기 승하강판(417)은 회전모터(416)의 구동으로 회전스크류(415)를 따라 승하강되는 스크류부재(420)에 의해 승하강되도록 형성되는 것으로, 상기 승하강판(417)은 승하강프레임(410)과 가이드프레임(411) 전면 측으로 스크류부재(420)와 가이드부재(418)에 의해 연결 형성되는 것을 특징으로 한다.The elevating plate 417 is formed to be moved up and down by a screw member 420 that moves up and down along the rotary screw 415 by driving the rotary motor 416, and the elevating plate 417 is an elevating frame ( 410) and the guide frame 411, it is characterized in that the connection is formed by the screw member 420 and the guide member 418 toward the front side.

상기 가이드부재(418)는 승하강판(417) 일측으로 승하강가이드바(414)와 연결되도록 형성되는 것을 특징으로 한다.The guide member 418 is characterized in that it is formed to be connected to the elevating guide bar 414 on one side of the elevating plate 417.

상기 승하강베어링(419)은 가이드부재(418)가 승하강가이드바(414)를 따라 승하강시 마찰없이 원활하게 승하강될 수 있도록 형성되는 것으로, 상기 승하강베어링(419)은 가이드부재(418) 일측으로 매립 형성되는 것을 특징으로 한다.The elevating bearing 419 is formed so that the guide member 418 can be smoothly raised and lowered without friction during elevation along the elevating guide bar 414. ) characterized in that it is formed buried on one side.

상기 스크류부재(420)는 승하강판(417) 타측으로 회전스크류(415)와 결합되어 회전스크류(415)의 회전시 슬라이드홈(412)을 따라 승하강되도록 형성되는 것을 특징으로 한다.The screw member 420 is coupled to the rotating screw 415 to the other side of the elevating plate 417 and is formed to move up and down along the slide groove 412 when the rotating screw 415 rotates.

상기 접이회전축(421)은 승하강판(417)을 기준으로 작업발판(423)이 접혀질 수 있도록 형성되는 것으로, 상기 접이회전축(421)은 승하강판(417)과 작업발판(423) 간의 결합 형성되는 것을 특징으로 한다.The folding rotation shaft 421 is formed so that the working scaffold 423 can be folded based on the elevating plate 417, and the folding rotary shaft 421 forms a coupling between the elevating plate 417 and the working scaffold 423 characterized by being

상기 접이모터(422)는 접이회전축(421)을 회전시켜 작업발판(423)이 승하강판(417) 측으로 접혀지거나, 펼쳐질 수 있도록 형성되는 것으로, 상기 접이모터(422)는 접이회전축(421) 일측으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The folding motor 422 rotates the folding rotation shaft 421 so that the working foot plate 423 can be folded or unfolded toward the elevating plate 417, and the folding motor 422 is one side of the folding rotation shaft 421. It is characterized in that it is formed by.

상기 작업발판(423)은 접이모터(422)의 구동시 승하강판(417) 측으로 회전되도록 형성되는 것으로, 상기 작업발판(423)은 접이회전축(421)에 연결 형성되는 것을 특징으로 한다.The work plate 423 is formed to be rotated toward the elevating plate 417 when the folding motor 422 is driven, and the work plate 423 is connected to the folding rotation shaft 421.

상기 터치센서(424)는 작업자가 손 또는 발로 터치하여 접이모터(422)를 구동시키기 위해 형성되는 것으로, 상기 터치센서(424)는 작업발판(423) 일측면에 형성되는 것을 특징으로 한다.The touch sensor 424 is formed to drive the folding motor 422 when an operator touches it with a hand or foot, and the touch sensor 424 is formed on one side of the work stool 423.

상기 발판승하강버튼(425)은 작업자가 발로 승하강을 조작하기 위해 형성되는 것으로, 상기 발판승하강버튼(425)은 작업발판(423) 상면 일측으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The scaffold elevation button 425 is formed to allow the operator to operate the elevation by foot, and the scaffold elevation button 425 is formed on one side of the upper surface of the scaffold 423.

상술된 실시예들은 예시를 위한 것이며, 상술된 실시예들이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 상술된 실시예들이 갖는 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 상술된 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above-described embodiments are for illustrative purposes, and those skilled in the art to which the above-described embodiments belong can easily transform into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the above-described embodiments. You will understand. Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are illustrative in all respects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.

본 명세서를 통해 보호받고자 하는 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태를 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The scope to be protected through this specification is indicated by the following claims rather than the detailed description above, and should be construed to include all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and equivalent concepts thereof. .

100 : 유해가스처리장치
110 : 여과처리부 111 : 여과처리챔버
112 : 챔버프레임 113 : 유해가스주입관
114 : 여과필터 115 : 미생물분사노즐
116 : 미생물주입관 117 : 오존발생기
118 : 오존투입관 119 : 여과가스배출관
120 : 연결고정프레임
150 : 플라즈마처리부 151 : 플라즈마처리챔버
152 : 연결플랜지 153 : 처리가스유입관
154 : 가스이동로 155 : 플라즈마반응로
156 : 가스배출팬 157 : 처리가스배출관
158 : 플라즈마발생기 159 : 순환팬
170 : 제어부 171 : 제어함체
200 : 챔버내진부 210 : 지면고정판
211 : 챔버안착판 212 : 이탈방지바
213 : 연결힌지 214 : 파손핀
215 : 핀고정대 216 : 완충부재
217 : 에어실린더 218 : 높낮이감지센서
219 : 센서부재 220 : 스프링고정부재
221 : 완충스프링 222 : 볼유동부재
223 : 내진볼
300 : 함체보호부 310 : 승하강가이드
311 : 승하강스크류 312 : 승하강모터
313 : 부재홈 314 : 승하강부재
315 : 패널연결바 316 : 보호패널
317 : 밀착센서 318 : 인증수단
400 : 작업자승하강부 410 :승하강프레임
411 : 가이드프레임 412 : 슬라이드홈
413 : 가이드홈 414 : 승하강가이드바
415 : 회전스크류 416 : 회전모터
417 : 승하강판 418 : 가이드부재
419 : 승하강베어링 420 : 스크류부재
421 : 접이회전축 422 : 접이모터
423 : 작업발판 424 : 터치센서
425 : 발판승하강버튼100: Harmful gas treatment device
110: filtration processing unit 111: filtration processing chamber
112: chamber frame 113: harmful gas injection pipe
114: filtration filter 115: microbial spray nozzle
116: microorganism injection pipe 117: ozone generator
118: ozone inlet pipe 119: filtered gas discharge pipe
120: connection fixed frame
150: plasma processing unit 151: plasma processing chamber
152: connection flange 153: processing gas inlet pipe
154: gas transfer furnace 155: plasma reactor
156: gas discharge fan 157: processing gas discharge pipe
158: plasma generator 159: circulation fan
170: control unit 171: control box
200: earthquake-resistant chamber 210: ground fixing plate
211: chamber seating plate 212: departure prevention bar
213: connecting hinge 214: broken pin
215: pin holder 216: buffer member
217: air cylinder 218: height detection sensor
219: sensor member 220: spring fixing member
221: buffer spring 222: ball flow member
223: seismic ball
300: hull protection unit 310: lifting guide
311: lifting screw 312: lifting motor
313: member home 314: elevating member
315: panel connection bar 316: protection panel
317: adhesion sensor 318: authentication means
400: worker lifting unit 410: lifting frame
411: guide frame 412: slide groove
413: guide groove 414: lifting guide bar
415: rotation screw 416: rotation motor
417: lifting plate 418: guide member
419: elevating bearing 420: screw member
421: folding rotation axis 422: folding motor
423: work platform 424: touch sensor
425: step up and down button

Claims (3)

여과처리챔버를 거쳐 여과된 유해가스를 플라즈마를 이용하여 분해처리 하기 위한 유해가스처리장치에 있어서,
상기 유해가스처리장치는,
미생물의 분사와 오존을 이용하여 1차 유해가스를 여과 처리하기 위한 여과처리부; 및
여과처리부를 통해 1차 처리되는 유해가스를 플라즈마를 이용하여 2차 처리하기 위한 플라즈마처리부; 및
여과처리부와 플라즈마처리부를 제어하기 위해 챔버프레임 일측으로 형성되는 제어함체를 포함하는 제어부를 포함하며,
상기 여과처리부는,
주입되는 유해가스를 여과처리하기 위해 챔버프레임 상부로 안착 형성되는 여과처리챔버와,
여과처리챔버를 지면으로부터 일정 높이를 두고 형성되도록 하며, 여과처리챔버를 지지하도록 지면에 고정 형성되는 챔버프레임과,
여과처리챔버 측으로 유해가스가 주입되도록 하기 위해 일측이 여과처리챔버 상부 일측으로 연결 형성되는 유해가스주입관과,
여과처리챔버 내부로 주입되는 유해가스를 필터링하기 위해 여과처리챔버 내부로 복수개 형성되는 여과필터와,
여과필터 측으로 미생물을 분사하기 위해 미생물주입관 일측으로 복수개 형성되는 미생물분사노즐과,
미생물을 이용하여 유해가스를 정화시키기 위한 미생물이 주입되도록 여과처리챔버 상부로 복수개 형성되는 미생물주입관과,
여과처리챔버 내부로 오존을 주입하기 위해 여과처리챔버 일측으로 형성되는 오존발생기와,
오존발생기에서 오존이 여과처리챔버 내부로 투입되도록 일측이 오존발생기에 연결되고, 타측이 여과처리챔버 내부 일측으로 관통 형성되는 오존투입관과,
미생물분사와 여과필터를 통해 1차 정화처리되는 유해가스가 플라즈마처리챔버 측으로 배출되도록 일측이 여과처리챔버 일측에 연결되고, 타측이 처리가스유입관에 연결 형성되는 여과가스배출관과,
플라즈마처리챔버가 챔버프레임에 고정될 수 있도록 일측이 챔버프레임 일측에 연결되고, 타측이 플라즈마처리챔버 일측으로 연결되도록 형성되는 연결고정프레임으로 이루어지며,

상기 플라즈마처리부는,
여과처리챔버를 통해 1차 정화처리되는 유해가스 중에 섞인 유해물질을 2차 정화시키기 위해 유해가스가 주입될 수 있도록 연결고정프레임 일측으로 연결 형성되는 플라즈마처리챔버와,
여과가스배출관과 처리가스유입관 간의 밀폐 연결을 위해 상호 맞닿도록 여과가스배출관 일측과 처리가스유입관 일측으로 각각 형성되어 결합되는 연결플랜지와,
여과가스배출관을 통해 배출되는 유해가스가 플라즈마처리챔버 상부 측으로 이동되도록 일측이 연결플랜지를 이용하여 여과가스배출관과 연결되고, 타측이 플라즈마처리챔버 상부로 연결 형성되는 처리가스유입관과,
처리가스유입관을 통해 유입되는 유해가스가 이동되도록 플라즈마처리챔버 내부 상측으로 형성되는 가스이동로와,
가스이동로로 이동되는 유해가스가 유입되어 플라즈마발생기로부터 발생되는 플라즈마에 의해 반응이 발생되도록 가스이동로 내부로 형성되는 플라즈마반응로와,
처리가스배출관을 통해 처리가스가 외부로 배출될 수 있도록 하며, 여과처리챔버 내부의 유해가스가 플라즈마처리챔버 측으로 이동될 수 있도록 하기 위한 흡입동력을 생성하도록 플라즈마처리챔버 하부 일측으로 형성되는 가스배출팬과,
플라즈마반응에 정화처리되는 처리가스를 배출하기 위해 가스배출팬 일측으로 형성되는 처리가스배출관과,
플라즈마처리챔버 내부 바닥측으로 형성되어 플라즈마반응로 측으로 플라즈마를 발생시키기 위해 형성되는 플라즈마발생기와,
플라즈마처리챔버 내부에서 플라즈마 반응이 이루어지는 유해가스가 순환될 수 있도록 하기 위해 플라즈마처리챔버 하부 타측으로 형성되는 순환팬으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유해가스처리장치.
In the harmful gas treatment device for decomposing and treating the harmful gas filtered through the filtration treatment chamber using plasma,
The harmful gas treatment device,
A filtration processing unit for filtering the primary harmful gas by using the spray of microorganisms and ozone; and
A plasma processing unit for secondary processing of the harmful gas, which is primarily processed through the filtering unit, using plasma; and
A control unit including a control box formed on one side of the chamber frame to control the filtration processing unit and the plasma processing unit;
The filtering unit,
A filtration processing chamber seated on an upper portion of the chamber frame to filter the injected harmful gas;
A chamber frame fixed to the ground to support the filtration processing chamber and forming the filtration processing chamber at a predetermined height from the ground;
A noxious gas injection pipe having one side connected to an upper side of the filtration processing chamber so that harmful gas is injected into the filtration processing chamber;
A plurality of filtration filters formed inside the filtration processing chamber to filter harmful gases injected into the filtration processing chamber;
A plurality of microbial spray nozzles formed on one side of the microbial injection pipe to spray microbes toward the filter;
A plurality of microbial injection pipes formed in the upper part of the filtration treatment chamber so that microorganisms for purifying harmful gases using microorganisms are injected;
An ozone generator formed on one side of the filtration processing chamber to inject ozone into the filtration processing chamber;
An ozone inlet pipe having one end connected to the ozone generator and the other end penetrating the inside of the filtration chamber so that ozone is injected into the filtering chamber from the ozone generator;
A filtered gas discharge pipe having one side connected to one side of the filtration processing chamber and the other side connected to the processing gas inlet pipe so that harmful gases, which are primarily purified through microbial spraying and filtering, are discharged toward the plasma processing chamber;
It consists of a connection fixing frame formed such that one side is connected to one side of the chamber frame and the other side is connected to one side of the plasma processing chamber so that the plasma processing chamber can be fixed to the chamber frame.

The plasma processing unit,
A plasma processing chamber connected to one side of the connection fixed frame so that harmful gases can be injected in order to secondarily purify the harmful substances mixed in the harmful gases that are primarily purified through the filtering processing chamber;
A connection flange formed on one side of the filtered gas discharge pipe and one side of the processed gas inlet pipe and coupled to each other so as to contact each other for a sealed connection between the filtered gas discharge pipe and the processed gas inlet pipe;
A process gas inlet pipe having one side connected to the filtered gas discharge pipe using a connection flange and the other side connected to the upper part of the plasma processing chamber so that the harmful gas discharged through the filtered gas discharge pipe is moved to the upper side of the plasma processing chamber;
A gas passage formed upward inside the plasma processing chamber to move harmful gases introduced through the processing gas inlet pipe;
A plasma reaction furnace formed inside the gas flow path so that noxious gas transferred to the gas flow path is introduced and a reaction is generated by plasma generated from the plasma generator;
A gas discharge fan formed on one side of the lower part of the plasma processing chamber to generate suction power to allow the processing gas to be discharged to the outside through the processing gas discharge pipe and to move the harmful gas inside the filtering processing chamber to the plasma processing chamber side. class,
A process gas discharge pipe formed on one side of a gas discharge fan for discharging a process gas purified by a plasma reaction;
A plasma generator formed on the bottom side of the plasma processing chamber to generate plasma toward the plasma reactor;
A harmful gas processing apparatus comprising a circulation fan formed at the other side of the lower part of the plasma processing chamber to circulate the harmful gas in which the plasma reaction occurs inside the plasma processing chamber.
 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 유해가스처리장치는,
외부로부터 가해지는 충격 또는 지진으로 인한 진동 발생시 플라즈마처리챔버의 손상을 방지하기 위한 챔버내진부를 더 포함하며,
상기 챔버내진부는,
챔버안착판의 흔들림을 지지하고, 챔버안착판에 안착되는 플라즈마처리챔버의 무게를 지지하도록 지면에 고정 형성되는 지면고정판과,
플라즈마처리챔버가 안착되도록 지면고정판과 일정 간격을 두고 형성되는 챔버안착판과,
지면고정판과 챔버안착판 간의 상호 연결 지지되도록 형성되는 이탈방지바와,
지면고정판 양측 상부로 형성되는 이탈방지바와 챔버안착판 양측 하부로 형성되는 이탈방지바 간의 연결을 위해 형성되는 연결힌지와,
기설정되는 충격 또는 진동파에 의해 파손되도록 지면고정판 측에 형성되는 이탈방지바 일측과 챔버안착판 측에 형성되는 이탈방지바 일측으로 각각 형성되는 파손핀과,
지면고정판 측의 이탈방지바에 형성되는 파손핀과 챔버안착판 측의 이탈방지바에 형성되는 파손핀을 상호 고정시키기 위해 형성되는 핀고정대와,
에어실린더의 밀착시 챔버안착판과 지면고정판 간의 완충력을 제공하도록 챔버안착판 하면 양측으로 각각 형성되는 완충부재와,
완충부재에 밀착되도록 하여 챔버안착판을 지지하며, 파손핀의 파손시 챔버안착판을 지지하도록 지면고정판 상면 양측으로 형성되는 에어실린더와,
챔버안착판과 지면고정판 사이의 높낮이를 감지하여 감지정보를 에어실린더 측으로 제공하여 기설정되는 높이값이 유지될 수 있도록 하는 높낮이감지센서와,
높낮이감지센서가 높이를 감지하기 위해 지면고정판 상부 일측으로 높낮이감지센서와 대응되는 위치에 형성되는 센서부재와,
완충스프링을 고정하기 위해 챔버안착판 하면 중앙과 볼유동부재 상면으로 각각 형성되는 스프링고정부재와,
챔버안착판으로 가해지는 충격 및 진동을 감쇄시키며, 챔버안착판의 무게를 지지하도록 챔버안착판 측으로 형성되는 스프링고정부재와 볼유동부재 측으로 형성되는 스프링고정부재 사이에 형성되는 완충스프링과,
파손핀의 파손시 흔들리는 챔버안착판이 지면고정판 상에서 이탈되지 않도록 하기 위한 내진볼을 내장될 수 있도록 지면고정판 중앙 상면과 하측으로 형성되는 스프링고정부재 하면으로 각각 형성되는 볼유동부재와,
지면고정판을 기준으로 챔버안착판이 이탈되지 않도록 상측과 하측으로 형성되는 볼유동부재 사이에 복수개 형성되는 내진볼로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유해가스처리장치.
According to claim 1,
The harmful gas treatment device,
Further comprising an anti-vibration chamber for preventing damage to the plasma processing chamber when vibration is generated due to an external shock or earthquake,
The chamber internal vibration unit,
A ground fixing plate fixed to the ground to support shaking of the chamber seating plate and to support the weight of the plasma processing chamber seated on the chamber seating plate;
A chamber seating plate formed at a predetermined distance from the ground fixing plate so that the plasma processing chamber is seated thereon;
A separation prevention bar formed to support the mutual connection between the ground fixing plate and the chamber seating plate;
A connection hinge formed for connection between the release prevention bar formed on both sides of the ground fixing plate and the release prevention bar formed on both sides and bottom of the chamber seating plate;
Breakage pins formed on one side of the release prevention bar formed on the side of the ground fixing plate and one side of the release prevention bar formed on the side of the chamber seating plate so as to be damaged by a predetermined shock or vibration wave;
A pin holder formed to mutually fix the breakage pin formed on the release prevention bar on the ground fixing plate side and the breakage pin formed on the release prevention bar on the side of the chamber seating plate;
A buffer member formed on both sides of the lower surface of the chamber seating plate to provide a buffering force between the chamber seating plate and the ground fixing plate when the air cylinder is in close contact;
An air cylinder formed on both sides of the upper surface of the ground fixing plate to support the chamber seating plate by being in close contact with the buffer member and to support the chamber seating plate when the breakage pin is damaged;
A height detection sensor that detects a height between the chamber seating plate and the ground fixing plate and provides detection information to the air cylinder so that a preset height value can be maintained;
A sensor member formed at a position corresponding to the height detection sensor on one side of the upper part of the ground fixing plate to detect the height of the height detection sensor;
A spring fixing member formed at the center of the lower surface of the chamber seating plate and the upper surface of the ball flow member to fix the buffer spring;
A buffer spring formed between a spring fixing member formed on the side of the chamber seat plate and a spring fixing member formed on the side of the ball flow member to attenuate shock and vibration applied to the chamber seat plate and support the weight of the chamber seat plate;
A ball flow member formed on the lower surface of the spring fixing member formed on the upper and lower sides of the center of the ground fixing plate so that an earthquake-resistant ball can be embedded to prevent the shaking chamber seat plate from being separated from the ground fixing plate when the breakage pin is damaged;
Harmful gas treatment device, characterized in that consisting of a plurality of earthquake-resistant balls formed between the upper and lower ball flow members formed on the upper and lower sides so that the chamber seating plate does not come off based on the ground fixing plate.
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