KR102501167B1 - A film and a smart window comprising the film - Google Patents
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Abstract
본 출원은 상전이 물질을 전면 도포하여 형성하지 않고 패턴 형태를 가지고 있으므로 색이 탁하지 않고 밝아 심미적으로 우수하고, 김서림 문제를 해결하였으며, 우수한 가시광선 투과율을 가지면서 동시에 우수한 열변색 특성을 가지는 필름과 상기 필름을 포함하는 스마트 윈도우를 제공할 수 있다.The present application has a pattern shape without applying a phase change material on the entire surface, so the color is bright and not cloudy, and is aesthetically excellent, solves the problem of fogging, has excellent visible light transmittance and at the same time has excellent thermochromic properties. A smart window including the film may be provided.
Description
본 출원은 필름 및 상기 필름을 포함하는 스마트 윈도우에 관한 것이다.The present application relates to a film and a smart window including the film.
최근 에너지 절감을 위해 다양한 제품이 출시되고 있다. 그 중 외부에 유입되는 태양광의 적외선 투과율을 조절하는 스마트 윈도우가 주목을 받고 있다.Recently, various products have been released to save energy. Among them, smart windows that control infrared transmittance of sunlight entering the outside are attracting attention.
이산화바나듐(VO2) 나노 입자는 스마트 윈도우에 적용되는 대표적인 화합물이다. 단사정계의 절연체 특성을 가지는 이산화바나듐(VO2) 나노 입자는 상전이 온도(다른 용어로, 임계 온도)를 기준으로 하여, 상기 상전이 온도 이상에서는 금속상으로 상전이 한다. 이를 MIT(Metal-Insulator transition) 특성이라고 하며, 가역 반응이다. Vanadium dioxide (VO 2 ) nanoparticles are representative compounds applied to smart windows. Vanadium dioxide (VO 2 ) nanoparticles having monoclinic insulator properties undergo phase transition to a metal phase above the phase transition temperature based on a phase transition temperature (in other words, a critical temperature). This is called MIT (Metal-Insulator transition) characteristic and is a reversible reaction.
이산화바나듐(VO2) 나노 입자는 가시광선 영역(약 400 내지 700 nm의 파장대역)에서는 온도에 따른 투과율 변화가 거의 없으나, MIT 특성에 따라 적외선 영역(약 700 내지 2,500 nm의 파장대역)에서 상전이 온도 이하의 온도에서는 높은 적외선 투과율을 가지고, 상전이 온도보다 높은 온도에서는 낮은 적외선 투과율을 가진다. Vanadium dioxide (VO 2 ) nanoparticles have almost no change in transmittance with temperature in the visible light region (wavelength range of about 400 to 700 nm), but phase transition in the infrared region (wavelength range of about 700 to 2,500 nm) according to MIT characteristics At a temperature below the temperature, it has a high infrared transmittance, and at a temperature higher than the phase transition temperature, it has a low infrared transmittance.
이산화바나듐(VO2) 나노 입자가 적용된 스마트 윈도우는 여름철 온도보다 높고 겨울철 온도보다 낮도록 상전이 온도를 설정함으로써, 여름철에는 실내 온도를 높이는 적외선을 차단하고 겨울철에는 적외선을 투과시켜, 효율적인 에너지 사용이 가능하도록 하고 있다.Smart windows with vanadium dioxide (VO 2 ) nanoparticles set the phase transition temperature so that it is higher than the temperature in summer and lower than the temperature in winter, blocking infrared rays that increase the indoor temperature in summer and transmitting infrared rays in winter, enabling efficient energy use. are making it
이산화바나듐(VO2) 나노 입자가 적용된 종래의 스마트 윈도우는 이산화바나듐(VO2) 나노 입자가 도포된 필름을 이용하였고, 롤투롤(Roll-to-Roll) 공정을 적용하기 위해 저농도의 이산화바나듐(VO2) 나노 입자 용액을 기재 전면에 수백 나노미터 정도의 얇은 두께로 도포하였다. 예를 들면, 특허문헌 1에서 적어도 1층 이상을 구비하는 그래핀층; 상기 그래핀층 상부면에 형성되는 바나듐 디옥사이드층 및 상기 바나듐 디옥사이드층의 적어도 일면에 1층 이상 형성되는 기능층을 포함하는 스마트 윈도우용 그래핀 기반 VO2 적층체를 개시하고 있다.A conventional smart window to which vanadium dioxide (VO 2 ) nanoparticles are applied uses a film coated with vanadium dioxide (VO 2 ) nanoparticles, and in order to apply a roll-to-roll process, low-concentration vanadium dioxide ( The VO 2 ) nanoparticle solution was applied to a thin thickness of several hundred nanometers on the entire surface of the substrate. For example, in Patent Document 1, a graphene layer having at least one or more layers; Disclosed is a graphene-based VO 2 laminate for smart windows including a vanadium dioxide layer formed on an upper surface of the graphene layer and one or more functional layers formed on at least one surface of the vanadium dioxide layer.
다만, 기재 전면에 이산화바나듐(VO2) 나노 입자 용액을 도포하여 얇은 필름층을 형성하는 경우 색이 탁하여 심미적으로 좋지 않고, 가시광선에 대한 우수한 투과율을 확보할 수 없다는 문제가 있었다.However, when a thin film layer is formed by coating a solution of vanadium dioxide (VO 2 ) nanoparticles on the entire surface of the substrate, there is a problem in that the color is cloudy and not aesthetically pleasing, and excellent transmittance to visible light cannot be secured.
또한, 저농도의 이산화바나듐(VO2) 나노 입자 용액을 기재 전면에 수백 나노미터 정도의 얇은 두께로 도포하는 경우, 대기 중의 산소로 인해 열변색 특성이 없는 오산화이바나듐(V2O5) 및 팔산화삼바나듐(V3O8) 등으로 산화되는 문제가 있어서 상대적으로 두꺼운 보호층(encapsulation layer)이 필수적이었다. 다만, 두꺼운 보호층을 사용하는 경우, 이산화바나듐(VO2)의 산화를 방지할 수 있으나 생산 단가가 상승하고 가시광선에 대한 투과율이 저하된다는 문제가 있었다. In addition, when a low-concentration vanadium dioxide (VO 2 ) nanoparticle solution is applied to a thin thickness of about several hundred nanometers on the entire surface of a substrate, vanadium pentoxide (V 2 O 5 ) and hexamethane pentoxide (V 2 O 5 ) have no thermochromic properties due to oxygen in the air. A relatively thick encapsulation layer was essential because it was oxidized to vanadium (V 3 O 8 ). However, when using a thick protective layer, oxidation of vanadium dioxide (VO 2 ) can be prevented, but there is a problem in that the production cost increases and the transmittance of visible light decreases.
또한, 이산화바나듐(VO2) 나노 입자 용액이 도포되는 기재는 소수 성질의 고분자 필름을 주로 사용하였다. 그러나, 이산화바나듐(VO2) 나노 입자 용액은 친수 성질을 가져 기재 상 코팅 균일성과 접착성이 저하된다는 문제가 있었다.In addition, a hydrophobic polymer film was mainly used as a substrate to which the vanadium dioxide (VO 2 ) nanoparticle solution was applied. However, the vanadium dioxide (VO 2 ) nanoparticle solution has a hydrophilic property and has a problem in that coating uniformity and adhesion on a substrate are deteriorated.
또한, 종래에는 소수 성질의 고분자 수지층의 표면에 친수 성질을 가지도록 표면처리한 후, 표면처리된 면에 이산화바나듐(VO2) 나노 입자 용액을 도포하여 스마트 윈도우를 제조하였으나, 김서림 현상이 자주 발생되는 문제가 있었다.In addition, conventionally, after surface treatment to have hydrophilic properties on the surface of a hydrophobic polymer resin layer, a vanadium dioxide (VO 2 ) nanoparticle solution was applied to the surface treatment to manufacture a smart window, but fogging often occurs. There was a problem that occurred.
본 출원은 우수한 가시광선 투과율 및 우수한 열변색 특성을 가지면서, 김서림 문제를 해결한 필름 및 상기 필름을 포함하는 스마트 윈도우를 제공할 수 있다.The present application may provide a film having excellent visible light transmittance and excellent thermochromic properties and solving the problem of fogging, and a smart window including the film.
대량 생산이 가능하고 일정한 열변색 특성을 가지는 필름 및 상기 필름을 포함하는 스마트 윈도우를 제공할 수 있다.It is possible to provide a film that can be mass-produced and has constant thermochromic properties, and a smart window including the film.
본 출원은 상전이 물질을 전면 도포하여 형성하지 않고 패턴 형태를 가지고 있으므로 색이 탁하지 않고 밝아 심미적으로 우수한 필름 및 상기 필름을 포함하는 스마트 윈도우를 제공할 수 있다.Since the present application does not form a phase change material by applying the entire surface and has a pattern shape, it is possible to provide an aesthetically excellent film and a smart window including the film because the color is not cloudy and bright.
본 출원에 따른 필름은 표면에 선을 형성하는 하나 이상의 오목부를 가지는 기재층; 상기 기재층의 오목부에 존재하는 상전이 물질; 및 상기 상전이 물질이 점유된 상태의 오목부에 방담 물질을 포함하고, 상기 상전이 물질은 열에 의해서 적외선 투과율이 변화하는 물질이며, 상기 방담 물질은 친수성 작용기를 가지는 화합물을 포함하고, 25℃의 온도에서 550 nm 파장의 광에 대한 투과율(T550)이 57.5% 이상이며, 하기 수식 1에 따른 △T2000의 절대값이 10% 이상이다.A film according to the present application includes a substrate layer having one or more concave portions forming lines on the surface; a phase change material present in the concave portion of the substrate layer; and an antifogging material in the concave portion where the phase change material is occupied, the phase change material being a material whose infrared transmittance is changed by heat, the antifogging material including a compound having a hydrophilic functional group, and at a temperature of 25°C. The transmittance (T 550 ) for light having a wavelength of 550 nm is 57.5% or more, and the absolute value of ΔT 2000 according to Equation 1 below is 10% or more.
[수식 1][Equation 1]
△T2000 = T2000.L - T2000.H △T 2000 = T 2000.L - T 2000.H
수식 1에서 T2000.L은 25℃의 온도에서의 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이고, T2000.H는 90℃의 온도에서 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이다.In Equation 1, T 2000.L is the transmittance of the film at a temperature of 25°C to 2,000 nm wavelength light, and T 2000.H is the transmittance of the film to 2,000 nm wavelength light at a temperature of 90°C.
본 출원에 따른 스마트 윈도우는 유리 기재 및 본 출원에 따른 필름을 포함한다.A smart window according to the present application includes a glass substrate and a film according to the present application.
본 출원에 따른 필름 및 상기 필름을 포함하는 스마트 윈도우는 우수한 가시광선 투과율 및 우수한 열변색 특성을 가지면서, 김서림 문제를 해결할 수 있다.The film according to the present application and the smart window including the film can solve the fogging problem while having excellent visible light transmittance and excellent thermochromic properties.
본 출원에 따른 필름 및 상기 필름을 포함하는 스마트 윈도우는 상전이 물질을 전면 도포하여 형성하지 않고 패턴 형태를 가지고 있으므로 색이 탁하지 않고 밝아 심미적으로 우수하다.Since the film according to the present application and the smart window including the film have a pattern shape without applying a phase change material on the entire surface, the color is bright and not cloudy, and is aesthetically excellent.
본 출원에 따른 필름 및 상기 필름을 포함하는 스마트 윈도우는 대량 생산이 가능하고 일정한 열변색 특성을 가질 수 있다.A film according to the present application and a smart window including the film can be mass-produced and have constant thermochromic properties.
도 1은 본 출원의 일 실시예에 따른 필름의 구조를 나타낸 것이다.
도 2는 본 출원의 다른 실시예에 따른 것으로 보호층이 추가로 구성된 필름의 구조를 나타낸 것이다.1 shows the structure of a film according to an embodiment of the present application.
2 is according to another embodiment of the present application and shows the structure of a film additionally composed of a protective layer.
본 출원에서 사용되는 용어인 "가시광"은 약 400 nm 내지 700 nm 정도에 이르는 파장을 가진 광(光)을 의미한다.The term "visible light" used in this application means light having a wavelength ranging from about 400 nm to about 700 nm.
본 출원에서 사용되는 용어인 "적외선"은 약 700 nm 내지 2,500 nm 정도에 이르는 파장을 가진 광(光)을 의미한다.The term "infrared ray" used in this application means light having a wavelength ranging from about 700 nm to about 2,500 nm.
본 출원에서 사용되는 용어인 "열변색(thermochromic)"은 온도에 따라 특성이 변화하는 것을 의미하며, 특히 온도에 따라 광에 대한 투과율의 변화하는 것을 의미할 수 있다.The term "thermochromic" used in this application means that properties change according to temperature, and in particular, it may mean that light transmittance changes according to temperature.
본 출원에서 사용되는 용어인 "상온"은 인위적으로 가감하지 않은 자연 그대로의 온도로써, 계절에 따라 10℃내지 30℃정도의 온도를 의미할 수 있다.The term "room temperature" used in this application is a natural temperature that is not artificially increased or decreased, and may mean a temperature of about 10 ° C to 30 ° C depending on the season.
본 출원에서 사용되는 용어인 "대기 조건"은 인위적으로 가감하지 않은 자연 그대로의 기압으로써, 해발고도와 대기 상황에 따라 0.8 내지 1.2 atm 정도의 압력을 의미할 수 있다.The term "atmospheric condition" used in this application is natural air pressure that is not artificially increased or decreased, and may mean a pressure of about 0.8 to 1.2 atm depending on the altitude and atmospheric conditions.
본 출원에서 사용되는 용어인 "가시광 투과성" 또는 "우수한 가시광 투과성"은 550 nm 파장을 가진 광에 대한 투과율(T550)이 57.5% 이상인 것을 의미할 수 있다. 또한, 다른 예시에서는 550 nm 파장을 가진 광에 대한 투과율(T550)이 60% 이상, 65% 이상, 70% 이상, 75% 이상, 80% 이상 또는 85% 이상을 의미할 수 있다.As used herein, the term "visible light transmittance" or "excellent visible light transmittance" may mean that transmittance (T 550 ) to light having a wavelength of 550 nm is 57.5% or more. Also, in another example, transmittance (T 550 ) for light having a wavelength of 550 nm may mean 60% or more, 65% or more, 70% or more, 75% or more, 80% or more, or 85% or more.
본 출원에서 사용되는 용어인 "우수한 열변색 특성"이란 하기 수식 1에 따른 ΔT2000의 절대값이 10% 이상인 것을 의미할 수 있다. 다른 예시에서는 12% 이상, 14% 이상, 16% 이상, 18% 이상 또는 20% 이상인 것을 의미할 수 있다.As used herein, the term "excellent thermochromic property" may mean that the absolute value of ΔT 2000 according to Equation 1 below is 10% or more. In another example, it may mean 12% or more, 14% or more, 16% or more, 18% or more, or 20% or more.
[수식 1][Equation 1]
ΔT2000 = T2000.L - T2000.H ΔT 2000 = T 2000.L - T 2000.H
수식 1에서 T2000.L은 25℃의 온도에서의 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이고, T2000.H는 90℃의 온도에서 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이다.In Equation 1, T 2000.L is the transmittance of the film at a temperature of 25°C to 2,000 nm wavelength light, and T 2000.H is the transmittance of the film to 2,000 nm wavelength light at a temperature of 90°C.
본 출원에서 사용되는 용어인 "동일"이란 물리적으로 완전히 같은 것을 의미할 뿐만 아니라, 오차 범위 내에 해당하여 실질적으로 같다고 볼 수 있을 정도를 포함한다.The term "same" as used in this application not only means physically completely the same, but also includes a degree that can be seen as substantially the same as falling within the error range.
도 1은 본 출원의 일 실시예에 따른 필름의 구조를 나타낸 것이다. 본 출원의 일 실시예에 따른 필름(10)은 표면에 선(110)을 형성하는 하나 이상의 오목부(120)를 가지는 기재층(100)을 포함할 수 있다. 1 shows the structure of a film according to an embodiment of the present application. The
기재층(100)은 필름의 지지체로서 가시광 투과성 및/또는 투명성을 가질 수 있다. 이러한 성질을 가지기 위해, 기재층(100)은 가시광 투과성 및/또는 투명성을 가지는 재료를 사용할 수 있다. The
기재층(100)은 각각 독립적으로 가시광 투과성 및/또는 투명성을 가지는 재료를 사용할 수 있고, 예를 들면 환상 올레핀 수지, 폴리이미드 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리알킬렌테레프탈레이트 수지(예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 및 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지 등), 아크릴 수지 및 에폭시 수지로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The
기재층(100)은 각각 독립적으로 용융 성형 또는 캐스팅 성형에 의해 형성할 수 있으며, 필요에 따라서 성형 후 반사 방지제, 하드 코팅제 및 대전 방지제 등의 코팅제로 코팅될 수도 있다. 구체적으로는, 가시광 투과성 및/또는 투명성을 가지는 재료로 얻어진 펠릿을 사출 성형, 용융 압출 성형 또는 불로우 성형 등 용융 성형에 의해 기재층(100)을 형성할 수 있고, 적당한 기재 위에 가시광 투과성 및/또는 투명성을 가지는 재료를 캐스팅하여 경화 및 건조시키는 방법으로 기재층(100)을 형성할 수도 있다.The
필름(10)은 가시광 투과성 및/또는 투명성을 가진 기재층(100)을 포함함으로써, 전체적으로 밝은 색상을 가질 수 있고, 가시광선에 대해서 투과율 등의 우수한 광학 특성을 확보할 수 있다.The
필름(10)은 기재층(100)의 오목부(120)에 존재하는 상전이 물질(130)을 포함할 수 있다. 상기 상전이 물질(130)은 열에 의해서 적외선 투과율이 변화하는 물질이다.The
필름(10)은 상전이 물질(130)로 인해 우수한 열변색 특성을 가질 수 있다. 예를 들면, 하기 수식 1에 따른 ΔT2000의 절대값이 10% 이상인 것을 의미할 수 있다. 다른 예시에서는 12% 이상, 14% 이상, 16% 이상, 18% 이상 또는 20% 이상인 것을 의미할 수 있다.The
[수식 1][Equation 1]
ΔT2000 = T2000.L - T2000.H ΔT 2000 = T 2000.L - T 2000.H
수식 1에서 T2000.L은 25℃의 온도에서의 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이고, T2000.H는 90℃의 온도에서 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이다.In Equation 1, T 2000.L is the transmittance of the film at a temperature of 25°C to 2,000 nm wavelength light, and T 2000.H is the transmittance of the film to 2,000 nm wavelength light at a temperature of 90°C.
상전이 물질(130)은 이산화바나듐(VO2) 입자를 포함할 수 있다. 전술한 바와 같이, 이산화바나듐(VO2) 입자는 가시광선 영역(약 400 내지 700 nm의 파장대역)에서는 온도에 따른 투과율 변화가 거의 없으나, MIT 특성에 따라 적외선 영역(약 700 내지 2,500 nm의 파장대역)에서 상전이 온도 이하의 온도에서는 높은 적외선 투과율을 가지고, 상전이 온도보다 높은 온도에서는 낮은 적외선 투과율을 가진다. The
따라서, 필름(10)은 이산화바나듐(VO2) 입자를 이용하여 여름철 온도보다 높고 겨울철 온도보다 낮도록 상전이 온도를 설정함으로써, 여름철에는 실내 온도를 높이는 적외선을 차단하고 겨울철에는 적외선을 투과시킬 수 있다.Therefore, the
상전이 물질(130)에 포함되는 이산화바나듐(VO2) 입자의 평균입자크기는 40 nm 이상, 42 nm 이상, 44 nm 이상, 46 nm 이상 또는 48 nm 이상일 수 있고, 다른 예시에서는 70 nm 이하, 68 nm 이하, 66 nm 이하, 64 nm 이하 또는 62 nm 이하일 수 있다. The average particle size of the vanadium dioxide (VO 2 ) particles included in the
이 때, 이산화바나듐(VO2) 입자의 평균입자크기는 소위 D50 입경(메디안 입경)으로서, 입도 분포의 체적 기준 누적 50%에서의 입자 지름을 의미할 수 있다. 즉, 체적 기준으로 입도 분포를 구하고, 전 체적을 100%로 한 누적 곡선에서 누적치가 50%가 되는 지점의 입자 지름을 상기 평균 입경으로 볼 수 있다. 상기와 같은 D50 입경은 레이저 회절법(laser Diffraction) 방식으로 측정할 수 있다.At this time, the average particle size of the vanadium dioxide (VO 2 ) particles is a so-called D50 particle size (median particle size), and may mean a particle size at 50% cumulative volume basis of the particle size distribution. That is, the particle size distribution is obtained on a volume basis, and the particle diameter at the point where the cumulative value becomes 50% in the cumulative curve with the total volume as 100% can be regarded as the average particle diameter. The D50 particle diameter as described above can be measured by a laser diffraction method.
상기 이산화바나듐(VO2) 입자의 평균입자크기가 상기 범위를 만족하는 경우에는, 우수한 열변색 특성을 확보할 수 있다.When the average particle size of the vanadium dioxide (VO 2 ) particles satisfies the above range, excellent thermochromic properties may be secured.
상전이 물질(130)은 이산화바나듐(VO2) 입자와 극성 용매를 포함한 열변색 슬러리(slurry)에 의해 형성될 수 있다. 이 때, 이산화바나듐(VO2) 입자는 상기 슬러리 전체 중량 대비10 중량% 이상 또는 15 중량% 이상 함유될 수 있고, 다른 예시에서 40 중량% 이하, 35 중량% 이하, 30 중량% 이하 또는 25 중량% 이하 함유될 수 있다.The
상기 이산화바나듐(VO2) 입자의 함유량이 상기 범위를 만족하는 경우, 본 출원의 일 실시예에 따른 필름(10)이 가시광 투과성을 가지면서 적외선에서의 우수한 열변색 특성을 가질 수 있다.When the content of the vanadium dioxide (VO 2 ) particles satisfies the above range, the
상전이 물질(130)에는 분산 고분자를 추가로 포함할 수 있다. 분산 고분자는 이산화바나듐(VO2) 입자와의 물리적 및 화학적 상호 관계가 없도록 비이온성 고분자를 사용하는 것이 바람직하다. The
상전이 물질(130)에 포함되는 분산 고분자는, 예를 들면 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리스틸렌(PS), 폴리카프로락톤(PCL), 폴리아크릴로니트릴(PAN), 폴리비닐리덴플루오라이드(PVDF), 폴리비닐피롤리돈(PVP) 및 폴리비닐알코올(PVA)로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있으나 특별히 제한되는 것은 아니다.The dispersed polymer included in the
필름(10)은 기재층(100)의 오목부(120)에 존재하는 방담 물질(140)을 포함할 수 있다. 또한, 방담 물질(140)은 상전이 물질(130)이 점유된 상태의 오목부(120)에 포함될 수 있다.The
전술한 바와 같이, 기재층(100)에 사용되는 수지는 일반적으로 소수 성질을 가지고, 후술할 상전이 물질(130)은 친수 성질을 가지고 있다. 이러한 이유로 인해, 기재층(100)에 상전이 물질(130)을 직접 코팅시키면 균일한 코팅이 어려웠고 접착성이 저하된다는 문제가 있었다. As described above, the resin used for the
또한, 종래에는 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리 및 자외선 조사 처리 등으로 고분자 수지층 또는 기재층(100)의 표면을 개질하는 방법을 통해 필름을 제조하였으나, 상기 필름을 스마트 윈도우에 적용시키는 경우 김서림 현상이 자주 발생되는 문제가 있었다.In addition, conventionally, a film has been manufactured through a method of modifying the surface of the polymer resin layer or
본 출원의 일 실시예에 따른 필름(10)은 방담 물질(140)을 통해 종래에 고분자 수지층 또는 기재층(100)에 표면 개질 처리로 인해 발생되던 김서림 현상을 효과적으로 개선할 수 있다.The
또한, 도면에는 별도로 표시하지 않았으나, 기재층(100)과 상전이 물질(130) 사이의 접착성을 향상시키기 위해 기재층(100)과 상전이 물질(130) 사이에 접착층이 추가로 형성될 수 있다. In addition, although not separately indicated in the drawings, an adhesive layer may be additionally formed between the
다른 예시에서는, 상전이 물질(130)과 방담 물질(140) 사이의 접착성과 필름(10)의 내구성을 향상시키기 위해 상전이 물질(130)과 방담 물질(140) 사이에 접착층이 추가로 형성될 수 있다.In another example, an adhesive layer may be additionally formed between the
또 다른 예시에서는 기재층(100)과 상전이 물질(130) 사이 및 상전이 물질(130)과 방담 물질(140) 사이에 접착층이 추가로 형성될 수 있다.In another example, an adhesive layer may be additionally formed between the
상기 접착층은 수지가 경화되는 방식으로 형성될 수 있고, 상기 수지는 가시광 투과성 및 투명성을 가진 것이면 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 아크릴 수지 및 에폭시 수지 등을 사용할 수 있다.The adhesive layer may be formed by curing a resin, and the resin is not particularly limited as long as it has visible light transmittance and transparency, and for example, an acrylic resin and an epoxy resin may be used.
방담 물질(140)은 대기와 접촉하는 외부 노출면을 형성할 수 있다. 또한, 상기 외부 노출면에 대한 물방울의 상온 접촉각은 30°이하일 수 있고, 다른 예시에서는 25°이하, 20°이하, 18°이하 또는 14°이하일 수 있다. The
구체적으로는, 방담 물질(140)에 의해 형성된 고상의 표면인 외부노출면에 물방울을 떨어드려 접촉시킨 후, 정지된 물방울과 상기 외부노출면의 접합점에서 ASTM D 5946에 따라 상기 물방울과 공기 사이 계면이 이루는 각도를 접촉각으로 측정할 수 있다.Specifically, after dropping and contacting a water droplet on the externally exposed surface, which is the surface of the solid formed by the
방담 물질(140)은 친수성 작용기를 가지는 화합물을 포함할 수 있다. 여기서, 친수성 작용기는 물과 친화성이 있는 작용기를 의미하고, 작용기 내에 극성 원자(polar element)가 존재하는 작용기를 의미할 수 있다. 예를 들면, 친수성 작용기는 히드록시기, 싸이올기, 카르복시기 및 아민기로 이루어진 군에서 하나 이상을 포함할 수 있다. The
방담 물질(140)은 하나 이상의 친수성 작용기를 가지는 화합물을 포함할 수 있다.The
친수성 작용기를 가지는 화합물은 물과 친화성이 있는 작용기를 가지면 특별히 제한되는 것은 아니나, 환경보호 측면이나 상용성을 고려할 때 비이온성 계면활성제를 포함하는 것이 적절할 수 있다. 비이온성 계면활성제는 물에 녹였을 때 이온화 하지 않는 친수기를 가지고 있는 계면활성제를 의미하고, 예를 들면, 솔비탄(sorbitan)과 지방산의 에스테르 결합으로 이루어진 Span 및 알킬렌 옥사이드(alkylene oxide)와 지방산의 에스테르 결합으로 이루어진 Tween이 있다.The compound having a hydrophilic functional group is not particularly limited as long as it has a functional group having affinity for water, but it may be appropriate to include a nonionic surfactant in consideration of environmental protection or compatibility. Nonionic surfactant means a surfactant having a hydrophilic group that does not ionize when dissolved in water. There is a Tween composed of ester bonds.
비이온성 계면활성제는 HLB(hydrophile-lipophile balance)가 10 이상, 11 이상, 12 이상, 13 이상 또는 14 이상일 수 있고, 다른 예시에서는 18 이하, 17.5 이하 또는 16 이하일 수 있다. 상기 비이온성 계면활성제가 상기 HLB를 만족하는 경우에는 김서림 방지 효과 및 내구성이 우수한 필름을 제조할 수 있다. The nonionic surfactant may have a hydrophile-lipophile balance (HLB) of 10 or more, 11 or more, 12 or more, 13 or more, or 14 or more, and in other examples, 18 or less, 17.5 or less, or 16 or less. When the nonionic surfactant satisfies the HLB, a film having excellent antifogging effect and durability can be manufactured.
방담 물질(140)은 둘 이상의 친수성 작용기를 가지는 화합물을 포함하는 경우에는 HLB가 15 이하인 제1 친수성 작용기를 가지는 화합물 및 HLB가 15 초과인 제2 친수성 작용기를 가지는 화합물을 포함할 수 있다. When the
또한, 방담 물질(140)은 제1 친수성 작용기를 가지는 화합물 및 제2 친수성 작용기를 가지는 화합물을 포함하고, 상기 제2 친수성 작용기를 가지는 화합물은 제1 친수성 작용기를 가지는 화합물 100 중량부 대비 10 중량부 이상, 20 중량부 이상, 30 중량부 이상, 40 중량부 이상 또는 50 중량부 이상으로 함유될 수 있고, 다른 예시에서 150 중량부 이하, 100 중량부 이하, 90 중량부 이하, 70 중량부 이하 또는 60 중량부 이하로 함유될 수 있다. In addition, the
방담 물질(140)이 제1 친수성 작용기를 가지는 화합물 및 제2 친수성 작용기를 가지는 화합물을 포함하고, 상기 함량 비율을 만족하는 경우에는 김서림 방지 효과 및 내구성이 우수한 필름을 제조할 수 있다.When the
방담 물질(140)은 보조 첨가제를 추가로 포함할 수 있다. 상기 보조 첨가제는 방담 물질(140)의 접착력 향상 및 화학적 안정 등을 위해 추가적으로 포함될 수 있는 첨가제를 의미하고, 예를 들면 커플링제, 충진제, 가소제, 안정화제, 흐름 방지제 및 소포체 등이 있다. 보조 첨가제로 커플링제를 사용하는 경우에는 에폭시계 또는 우레탄계 커플링제를 사용할 수 있다. The
방담 물질(140)은 함유되는 화합물이 골고루 혼합될 수 있으면 그 혼합 방법에 대해서 특별히 제한되는 것은 아니지만, 비이온성 계면활성제의 점도를 고려하면 방담 물질(140)은 기계식 교반으로 혼합하여 형성되는 것이 적절할 수 있다.The mixing method of the
본 출원의 일 실시예에 따른 필름(10)은 25℃의 온도에서 550 nm 파장의 광에 대한 투과율(T550)이 57.5% 이상이고, 하기 수식 1에 따른 ΔT2000의 절대값이 10% 이상을 만족할 수 있다. The
[수식 1][Equation 1]
ΔT2000 = T2000.L - T2000.H ΔT 2000 = T 2000.L - T 2000.H
수식 1에서 T2000.L은 25℃의 온도에서의 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이고, T2000.H는 90℃의 온도에서 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이다.In Equation 1, T 2000.L is the transmittance of the film at a temperature of 25°C to 2,000 nm wavelength light, and T 2000.H is the transmittance of the film to 2,000 nm wavelength light at a temperature of 90°C.
다른 예시에서, 필름(10)은 550 nm 파장을 가진 광에 대한 투과율(T550)이 60% 이상, 65% 이상, 70% 이상, 75% 이상, 80% 이상 또는 85% 이상이고, 상기 수식 1에 따른 ΔT2000의 절대값이 12% 이상, 14% 이상, 16% 이상, 18% 이상 또는 20% 이상인 것을 의미할 수 있다.In another example, the
또한, 본 출원의 일 실시예에 따른 필름(10)은 25℃의 온도에서 550 nm 파장의 광에 대한 투과율(T550)과 수식 1에 따른 ΔT2000의 합계가 60% 이상을 만족할 수 있다.In addition, in the
다른 예시에서, 25℃의 온도에서 550 nm 파장의 광에 대한 투과율(T550)과 수식 1에 따른 ΔT2000의 합계는 65% 이상, 70% 이상, 75% 이상 또는 80% 이상을 만족할 수 있다.In another example, the sum of transmittance (T 550 ) for light having a wavelength of 550 nm at a temperature of 25° C. and ΔT 2000 according to Equation 1 may satisfy 65% or more, 70% or more, 75% or more, or 80% or more. .
또한, 본 출원의 일 실시예에 따른 필름(10)은 하기 수식 2에 따른 ΔT550의 절대값이 5% 이하를 만족할 수 있고, 다른 예시에서는 4% 이하, 3% 이하 또는 2% 이하를 만족할 수 있다. In addition, the
[수식 2][Equation 2]
ΔT550 = T550.L - T550.H ΔT 550 = T 550.L - T 550.H
수식 2에서 T550.L은 25℃의 온도에서의 상기 필름의 550 nm 파장의 광에 대한 투과율이고, T550.H는 90℃의 온도에서 상기 필름의 550 nm 파장의 광에 대한 투과율이다.In Equation 2, T 550.L is the transmittance of the film at a temperature of 25°C to light with a wavelength of 550 nm, and T 550.H is the transmittance of the film to light with a wavelength of 550 nm at a temperature of 90°C.
또한, 본 출원의 일 실시예에 따른 필름(10)은 하기 수식 3에 따른 ΔTA550,30의 절대값이 1.5% 이하이고, 하기 수식 4에 따른 ΔTA2000,30의 절대값이 2% 이하를 만족할 수 있다. In addition, the
[수식 3][Formula 3]
ΔTA550,30 = T550.A - T550.B ΔTA 550,30 = T 550.A - T 550.B
수식 3에서 T550.A는 상기 필름의 25℃의 대기 조건에서 30일 유지한 후의 상기 필름의 550 nm 파장의 광에 대한 25℃에서의 투과율이고, T550.B는 상기 25℃의 대기 조건에서 30일 유지하기 전의 상기 필름의 550 nm 파장의 광에 대한 25℃에서의 투과율이다:In Equation 3, T 550.A is the transmittance of the film at 25° C. to light having a wavelength of 550 nm after maintaining the film at 25° C. for 30 days, and T 550.B is the transmittance at 25° C. at 25° C. The transmittance of the film at 25° C. to light with a wavelength of 550 nm before being held for 30 days at
[수식 4][Formula 4]
ΔTA2000,30 = ΔT2000.A - ΔT2000.B ΔTA 2000,30 = ΔT 2000.A - ΔT 2000.B
수식 4에서 ΔT2000.A는 상기 필름의 25℃의 대기 조건에서 30일 유지한 후의 하기 수식 1에 따라 확인한 ΔT2000의 절대값이고, ΔT2000.B는 상기 25℃의 대기 조건에서 30일 유지하기 전의 상기 필름에 대해서 하기 수식 1에 따라 확인한 ΔT2000의 절대값이다:In Equation 4, ΔT 2000.A is the absolute value of ΔT 2000 determined according to Equation 1 after maintaining the film at 25 ° C. for 30 days, and ΔT 2000.B is maintained at 25 ° C. for 30 days. It is the absolute value of ΔT 2000 determined according to Equation 1 below for the above film before processing:
[수식 1][Equation 1]
ΔT2000 = T2000.L - T2000.H ΔT 2000 = T 2000.L - T 2000.H
수식 1에서 T2000.L은 25℃의 온도에서의 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이고, T2000.H는 90℃의 온도에서 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이다.In Equation 1, T 2000.L is the transmittance of the film at a temperature of 25°C to 2,000 nm wavelength light, and T 2000.H is the transmittance of the film to 2,000 nm wavelength light at a temperature of 90°C.
다른 예시에서, 필름(10)은 상기 수식 3에 따른 ΔTA550,30의 절대값이 1.45%, 1.4%, 1.35%, 1.3%, 1.25%, 1.2%, 1.15%, 1.1% 또는 1.05% 이하이고, 하기 수식 4에 따른 ΔTA2000,30의 절대값이 1.9% 이하, 1.8% 이하, 1.7% 이하, 1.6% 이하 또는 1.5% 이하를 만족할 수 있다.In another example, the
정리하면, 본 출원의 일 실시예에 따른 필름(10)은 25℃의 온도에서 550 nm 파장의 광에 대한 투과율(T550)이 57.5% 이상을 만족할 수 있다. 또한, 상기 필름(10)은 상기 수식 1에 따른 ΔT2000의 절대값이 10% 이상일 수 있으며, 25℃의 온도 에서 550 nm 파장의 광에 대한 투과율(T550)과 상기 수식 1에 따른 ΔT2000의 합계가 60% 이상을 만족할 수 있다. 또한, 상기 필름(10)은 상기 수식 2에 따른 ΔT550의 절대값이 5% 이하, 상기 수식 3에 따른 ΔTA550,30의 절대값이 1.5% 이하 및 상기 수식 4에 따른 ΔTA2000,30의 절대값이 2% 이하를 만족할 수 있다.In summary, the
본 출원의 일 실시예에 따른 필름(10)은 오목부(120)는 기재층(100)의 표면상에서 두 개 이상의 선(110)으로 형성되는 패턴이 형성되어 있을 수 있다.In the
오목부(120)의 평균 폭(W)과 서로 인접하는 두 개의 선간의 평균 간격(P)의 비율(W/P)이 1.5 이상, 1.6 이상, 1.7 이상, 1.8 이상, 1.9 이상 또는 2 이상일 수 있고, 다른 예시에서 상기 비율(W/P)은 6.5 이하, 6.4 이하, 6.3 이하, 6.2 이하, 6.1 이하 또는 6 이하일 수 있다. 상기 비율(W/P)이 상기 범위를 만족하는 경우에는, 필름(10)은 25℃의 온도에서 550 nm 파장의 광에 대한 투과율(T550)이 57.5% 이상을 만족하면서, 상기 수식 2에 따른 ΔT550의 절대값이 5% 이하 및 상기 수식 3에 따른 ΔTA550,30의 절대값이 1.5% 이하를 만족할 수 있다.The ratio (W/P) of the average width (W) of the
이 때, 하나의 오목부(120)의 평균 폭(W)은 폭(W)의 길이가 동일한 경우 그 때의 길이일 수 있고, 폭(W)의 길이가 상이한 경우에는 가장 긴 폭과 가장 짧은 폭의 길이의 산술 평균 값일 수 있다. At this time, the average width (W) of one
또한, 서로 인접하는 두 개의 선간의 평균 간격(P)도 그 길이가 동일한 경우 그 때의 길이일 수 있고, 상기 간격(P)이 상이한 경우에는 서로 인접하는 두개의 선 사이에서 가장 긴 간격과 가장 짧은 간격의 길이의 산술 평균 값일 수 있다.In addition, the average interval P between two adjacent lines may also be the same length when the length is the same, and when the interval P is different, the longest interval and the longest interval between the two adjacent lines It may be the arithmetic mean value of the length of the short intervals.
오목부(120)가 다수 개 있는 경우에는 각 오목부(120)의 폭(W)은 독립적인 길이를 가질 수 있다. 예를 들면, 다수 개의 오목부(120)의 각 폭(W)은 모두 동일할 수 있고, 또는 모두 상이할 수 있다. When there are a plurality of
또한, 서로 인접하는 두 개의 선(110) 사이가 다수 개 있는 경우(즉, 선(110)이 세 개 이상인 경우), 상기 오목부(120)가 다수 개 있는 경우와 마찬가지로 서로 인접하는 두 개의 선(110) 사이의 간격(P)은 각각 독립적일 수 있다.In addition, when there are a plurality of
오목부(120)의 평균 폭(W)은 10 ㎛ 이상, 11 ㎛ 이상, 12 ㎛ 이상, 13 ㎛ 이상, 14 ㎛ 이상 또는 14.5 ㎛ 이상일 수 있고, 다른 예시에서, 20 ㎛ 이하, 19 ㎛ 이하, 18 ㎛ 이하, 17 ㎛ 이하, 16 ㎛ 이하 또는 15 ㎛ 이하일 수 있다. The average width W of the
서로 인접하는 두 개의 선간의 평균 간격(P)은 1 ㎛ 이상, 1.25 ㎛ 이상, 1.5 ㎛ 이상, 1.75 ㎛ 이상, 2 ㎛ 이상, 2.25 ㎛ 이상, 2.5 ㎛ 이상 또는 2.75 ㎛ 이상일 수 있고, 다른 예시에서, 10 ㎛ 이하, 8 ㎛ 이하, 6 ㎛ 이하, 5 ㎛ 이하, 4 ㎛ 이하 또는 3.25 ㎛ 이하일 수 있다.The average spacing P between two adjacent lines may be 1 μm or more, 1.25 μm or more, 1.5 μm or more, 1.75 μm or more, 2 μm or more, 2.25 μm or more, 2.5 μm or more, or 2.75 μm or more, and in another example , 10 μm or less, 8 μm or less, 6 μm or less, 5 μm or less, 4 μm or less, or 3.25 μm or less.
상기 오목부(120)의 평균 폭(W) 및/또는 서로 인접하는 두 개의 선간의 평균 간격(P)이 상기 범위를 만족하는 경우에는, 색이 탁하지 않고 밝아 심미적으로 우수한 필름(10)을 얻을 수 있다.When the average width (W) of the
오목부(120)의 평균 높이(H)는 10 ㎛ 이상, 11 ㎛ 이상, 12 ㎛ 이상, 13 ㎛ 이상, 14 ㎛ 이상 또는 14.5 ㎛ 이상일 수 있고, 다른 예시에서, 20 ㎛ 이하, 19 ㎛ 이하, 18 ㎛ 이하, 17 ㎛ 이하, 16 ㎛ 이하 또는 15 ㎛ 이하일 수 있다.The average height H of the
오목부(120)의 평균 높이(H)와 평균 폭(W)의 비율(H/W)이 0.8 이상, 1 이상, 1.25 이상, 1.5 이상, 1.75 이상, 2 이상, 2.25 이상, 2.5 이상, 2.75 이상 또는 3 이상일 수 있고, 다른 예시에서 5 이하, 4.75 이하, 4.5 이하, 4.25 이하, 4 이하, 3.75 이하 또는 3.5 이하일 수 있다. 상기 비율(H/W)이 상기 범위를 만족하는 경우, 후술할 상전이 물질(200)을 상기 오목부(120)에 주입이 용이하여 제작이 쉽고 대량 생산이 가능할 수 있다.The ratio (H/W) of the average height (H) to the average width (W) of the
기재층(100) 표면의 단위 면적(1mm2) 당 오목부(120)에 의해 형성되는 공간의 체적(mm3)이 5×10-4 내지 1×10-2 mm3의 범위 내일 수 있고, 바람직하게는 6×10-4 내지 8.5×10-3 mm3의 범위 내일 수 있다. 기재층(100) 표면의 단위 면적 당 상기 오목부(120)에 의해 형성되는 공간의 체적이 상기 범위를 만족하는 경우, 필름(10)은 25℃의 온도에서 550 nm 파장의 광에 대한 투과율(T550)이 57.5% 이상을 만족하면서, 상기 수식 2에 따른 ΔT550의 절대값이 5% 이하 및 상기 수식 3에 따른 ΔTA550,30의 절대값이 1.5% 이하를 만족할 수 있다.The volume (mm 3 ) of the space formed by the
오목부(120)에 의해 형성되는 두 개 이상의 선(110)은 서로 교차하지 않도록 형성되어 있을 수 있다. 상기 두 개 이상의 선(110)이 서로 교차하지 않도록 형성되는 경우, 상기 오목부(120)에 충진되어야 할 상전이 물질(130)이 충분히 충진되지 못하는 현상을 방지하여, 후술하는 오목부(120) 내에서 점유하는 상전이 물질(130)의 부피 비율을 만족할 수 있다.Two or
상전이 물질(130)은 오목부(120)의 전체 부피에서 5% 이상, 8% 이상, 9% 이상, 10% 이상, 11% 이상 또는 12% 이상의 부피로 점유될 수 있고, 다른 예시에서 18% 이하, 17% 이하, 16% 이하, 15% 이하 또는 14% 이하의 부피로 점유될 수 있다. 상전이 물질(130)이 상기 오목부(120)의 전체 부피 대비 상기 범위의 부피로 점유되어 있는 경우, 필름(10)은 상기 수식 1에 따른 ΔT2000의 절대값이 10% 이상, 25℃의 온도 에서 550 nm 파장의 광에 대한 투과율(T550)과 상기 수식 1에 따른 ΔT2000의 합계가 60% 이상 및 수식 4에 따른 ΔTA2000,30의 절대값이 2% 이하를 만족할 수 있다.The
방담 물질(140)은 오목부(120)의 전체 부피에서 17% 이상, 20% 이상, 22.5% 이상 또는 25% 이상의 부피로 점유될 수 있고, 다른 예시에서 40% 이하, 35% 이하, 30 % 이하 또는 27.5% 이하의 부피로 점유될 수 있다. 방담 물질(140)이 상기 오목부(120)의 전체 부피 대비 상기 범위의 부피로 점유되어 있는 경우, 종래에 고분자 수지층 또는 기재층(100)에 표면 개질 처리로 인해 발생되던 김서림 현상을 효과적으로 개선할 수 있다.The
도 2는 본 출원의 다른 실시예에 따른 필름(20)의 구조를 나타낸 것이다. 본 출원의 일 실시예에 따른 필름(20)은 표면에 선(210)을 형성하는 하나 이상의 오목부(220)를 가지는 기재층(200), 오목부(220) 내에 존재하는 상전이 물질(230) 및 상기 상전이 물질(230)과 대기의 접촉을 방지하는 보호층(240)을 추가로 포함할 수 있다. 2 shows the structure of a
필름(20)은 오목부(220) 내에 친수성 작용기를 가지는 화합물을 포함하는 방담 물질을 추가로 포함할 수 있다. 방담 물질이 필름에 포함되는 방식은, 상기 방담 물질이 오목부(220) 내에 있으면서 대기와 직접적으로 접촉하면 특별히 제한되지 않고, 구체적으로는 보호층(240) 상에 별도의 층으로 형성되거나 보호층(240)에 상기 방담 물질이 포함되어 있는 방식일 수 있다. 도 2는 방담 물질이 보호층(240)에 포함되어 있는 필름을 도시한 것이다.The
필름(20)의 기재층(200), 선(210), 오목부(220), 상전이 물질(230) 및 방담 물질에 대한 설명은 전술한 바와 같으므로 자세한 설명은 생략하기로 한다.Descriptions of the
상전이 물질(230)은 기재층(200)에 의해 일부분 대기와의 접촉을 방지할 수 있으나, 상기 상전이 물질(230)의 다른 일부분은 여전히 대기에 노출되어 있을 수 있고, 상기 대기와 노출될 수 있는 일부분을 보호층(240)을 통해 상전이 물질(230)이 대기와 직접 노출되는 것을 방지한다.The
구체적으로는, 상전이 물질(230)은 대기에 있는 산소와 반응하여 산화될 수 있는데, 상기 상전이 물질(230)이 산화되는 경우에는 열변색 특성을 잃을 수 있다. 따라서, 상전이 물질(230)과 대기가 닿아 있는 부분을 보호층(240)으로 막아서, 상기 상전이 물질(230)이 산화되는 것을 방지할 필요가 있다.Specifically, the
종래에는 본 출원의 일 실시예에 따른 필름(20) 같이 패턴이 형성된 구조를 사용하지 않고, 기재 전면에 도포하기 위한 얇은 상전이 물질층을 사용하여 산화에 취약한 문제가 있었다. 이러한 문제를 해결하기 위해, 기재 전면에 도포된 얇은 상전이 물질층 위에 두꺼운 보호층을 적층하였다. 다만, 상기 보호층이 두껍다보니 가시광 투과성이 낮아졌고, 필름이 전반적으로 탁한 색으로 보이는 문제가 있었다.Conventionally, there is a problem of being vulnerable to oxidation by using a thin phase change material layer to be applied to the entire surface of a substrate without using a patterned structure such as the
본 출원의 일 실시예에 따른 필름(20)은 전술한 바와 같이 상전이 물질(230)을 오목부(220)에 5 내지 18%의 범위 내의 부피로 종래에 비해 큰 비율로 점유하게 하여 종래에 비해 산화 저항력을 향상시킬 수 있다. As described above, the
이로 인해, 보호층(240)의 두께를 종래에 비해 감소시킬 수 있고, 이로 인해 필름(20)의 가시광 투과성을 보존하면서 전반적으로 밝은 색으로 보이게 하여 심미성을 확보할 수 있다. Due to this, the thickness of the
본 출원의 일 실시예에 따른 필름(20)은 25℃의 온도에서 550 nm 파장의 광에 대한 투과율(T550)이 57.5% 이상을 만족할 수 있다. 또한, 상기 필름(20)은 상기 수식 1에 따른 ΔT2000의 절대값이 10% 이상일 수 있으며, 25℃의 온도 에서 550 nm 파장의 광에 대한 투과율(T550)과 상기 수식 1에 따른 ΔT2000의 합계가 60% 이상을 만족할 수 있다. 또한, 상기 필름(20)은 상기 수식 2에 따른 ΔT550의 절대값이 5% 이하, 상기 수식 3에 따른 ΔTA550,30의 절대값이 1.5% 이하 및 상기 수식 4에 따른 ΔTA2000,30의 절대값이 2% 이하를 만족할 수 있다. The
본 출원의 일 실시예에 따른 필름(20)은 오목부(220)는 기재층(200)의 표면상에서 두 개 이상의 선(210)으로 형성되는 패턴이 형성되어 있을 수 있다.In the
오목부(220)의 평균 폭(W)과 서로 인접하는 두 개의 선간의 평균 간격(P)의 비율(W/P), 오목부(220)의 평균 폭(W), 서로 인접하는 두 개의 선간의 평균 간격(P) 및 평균 높이(H), 오목부(220)의 평균 높이(H)와 평균 폭(W)의 비율(H/W), 기재층(100) 표면의 단위 면적(1mm2) 당 오목부(220)에 의해 형성되는 공간의 체적(mm3) 및 상전이 물질(230)이 오목부(220)의 전체 부피 대비 점유하는 부피 비율은 전술한 본 출원의 실시예에 따른 필름(10)과 동일한 수치범위를 만족할 수 있다.The ratio (W/P) of the average width (W) of the
또한, 필름(20)은 오목부(220)에 의해 형성되는 두 개 이상의 선(110)은 서로 교차하지 않도록 형성될 수 있다.In addition, the
본 출원의 일 실시예에 따른 필름(20)은 보호층(240)을 더 포함함으로써 하기 수식 5에 따른 ΔTA550,60의 절대값이 0.5% 이하를 만족하고, 하기 수식 6에 따른 ΔTA2000,60의 절대값이 0.3% 이하를 만족할 수 있다.The
[수식 5][Formula 5]
ΔTA550,60 = T550.C - T550.D ΔTA 550,60 = T 550.C - T 550.D
수식 5에서 T550.C는 상기 필름(20)의 25℃의 대기 조건에서 60일 유지한 후의 상기 필름의 550 nm 파장의 광에 대한 25℃에서의 투과율이고, T550.D는 상기 25℃의 대기 조건에서 60일 유지하기 전의 상기 필름(20)의 550 nm 파장의 광에 대한 25℃에서의 투과율이다:In Equation 5, T 550.C is the transmittance of the
[수식 6][Formula 6]
ΔTA2000,60 = ΔT2000.C - ΔT2000.D ΔTA 2000,60 = ΔT 2000.C - ΔT 2000.D
수식 6에서 ΔT2000.C는 상기 필름(20)의 25℃의 대기 조건에서 60일 유지한 후의 하기 수식 1에 따라 확인한 ΔT2000의 절대값이고, ΔT2000.D는 상기 25℃의 대기 조건에서 60일 유지하기 전의 상기 필름(20)에 대해서 하기 수식 1에 따라 확인한 ΔT2000의 절대값이다:In Equation 6, ΔT 2000.C is the absolute value of ΔT 2000 determined according to Equation 1 after maintaining the
[수식 1][Equation 1]
ΔT2000 = T2000.L - T2000.H ΔT 2000 = T 2000.L - T 2000.H
수식 1에서 T2000.L은 25℃의 온도에서의 상기 필름(20)의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이고, T2000.H는 90℃의 온도에서 상기 필름(20)의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이다.In Equation 1, T 2000.L is the transmittance of the
다른 예시에서, 필름(20)은 상기 수식 5에 따른 ΔTA550,60의 절대값이 0.45% 이하, 0.4% 이하, 0.35% 이하, 0.3% 이하 또는 0.25% 이하일 수 있다. 또한, 필름(20)은 상기 수식 6에 따른 ΔTA2000,60의 절대값이 0.25% 이하, 0.2% 이하, 0.15% 이하 또는 0.1% 이하일 수 있다.In another example, the
보호층(240)은 오목부(220)의 전체 부피에서 35% 이상, 37.5% 이상, 40% 이상, 42.5% 이상 또는 45% 이상의 부피로 점유될 수 있고, 다른 예시에서 55% 이하, 52.5% 이하, 50% 이하 또는 47.5% 이하의 부피로 점유될 수 있다. 보호층(240)이 상기 오목부(220)의 전체 부피 대비 상기 범위의 부피로 점유되어 있는 경우, 필름(20)은 상기 수식 5에 따른 ΔTA550,60의 절대값이 0.5% 이하를 만족하고, 상기 수식 6에 따른 ΔTA2000,60의 절대값이 0.3% 이하를 만족할 수 있다.The
전술한 바와 같이, 방담 물질은 보호층(240) 상에 별도의 층으로 형성되거 있을 수 있다. 이 경우, 방담 물질은 오목부(220)의 전체 부피에서 17% 이상, 20% 이상, 22.5% 이상 또는 25% 이상의 부피로 점유될 수 있고, 다른 예시에서 40% 이하, 35% 이하, 30 % 이하 또는 27.5% 이하의 부피로 점유될 수 있다. 방담 물질이 상기 오목부(220)의 전체 부피 대비 상기 범위의 부피로 점유되어 있는 경우, 종래에 고분자 수지층 또는 기재층(200)에 표면 개질 처리로 인해 발생되던 김서림 현상을 효과적으로 개선할 수 있다.As described above, the antifogging material may be formed as a separate layer on the
다른 예시에서, 방담 물질은 보호층(240)에 포함되어 있을 수 있다. 이 경우, 보호층(240)은 오목부(220)의 전체 부피에서 35% 이상, 37.5% 이상, 40% 이상, 42.5% 이상 또는 45% 이상의 부피로 점유될 수 있고, 다른 예시에서 55% 이하, 52.5% 이하, 50% 이하 또는 47.5% 이하의 부피로 점유될 수 있다. 방담 물질을 포함한 보호층(240)이 상기 오목부(220)의 전체 부피 대비 상기 범위의 부피로 점유되어 있는 경우, 종래에 발생되던 김서림 현상을 효과적으로 개선하면서 필름(20)은 상기 수식 5에 따른 ΔTA550,60의 절대값이 0.5% 이하를 만족하고, 상기 수식 6에 따른 ΔTA2000,60의 절대값이 0.3% 이하를 만족할 수 있다.In another example, an anti-fogging material may be included in the
보호층(240)은 오목부(220) 내의 상전이 물질(230)을 보호하기 위해 수지를 포함할 수 있고, 상기 수지는 폴리우레탄 아크릴레이트 등을 사용할 수 있다. 예를 들면, 상기 수지는 우레탄 아크릴레이트 올리고머(Urethan acrylate oligomer), 아크릴레이트 및 이들의 혼합물(예를 들면, 우레탄 아크릴레이트 올리고머와 메틸(메타)아크릴레이트를 2:1 중량 비율로 혼합한 혼합물)로 이루어진 군에서 하나를 단량체로 선택되어 형성될 수 있다.The
보호층(240)은 자외선 차단 및 가시광 투과율을 보존하기 위해, 금속 산화물 입자를 추가로 포함할 수 있다. 상기 금속 산화물 입자는 산화 티타늄, 산화 아연, 산화 지르코늄 및 산화 철로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다. The
금속 산화물 입자는 수지 중량 대비 10 중량% 이하로 포함될 수 있고, 다른 예시에서는 7 중량% 이하, 5 중량% 이하, 3 중량% 이하 또는 1 중량% 이하로 포함될 수 있다. 금속 산화물 입자의 함량이 상기 범위를 만족하는 경우, 필름(20)의 전체 파장 영역의 투과율 저하를 억제할 수 있어 투광성을 확보할 수 있을 뿐 아니라 가시광선 영역 및 적외선 영역에서 열변색에 의한 투과율 차이를 극대화할 수 있다.The metal oxide particles may be included in an amount of 10% by weight or less based on the weight of the resin, and in other examples, 7% by weight or less, 5% by weight or less, 3% by weight or less, or 1% by weight or less. When the content of the metal oxide particles satisfies the above range, it is possible to suppress the decrease in the transmittance of the entire wavelength range of the
본 출원의 일 실시예에 따른 필름의 제조방법은 표면에 선을 형성하는 하나 이상의 오목부를 가지는 기재층을 준비하는 단계, 상기 오목부에 상전이 물질을 주입하는 단계 및 상기 상전이 물질이 일정 부피로 점유된 상태의 오목부에 방담 물질을 주입하는 단계를 포함하고, 상기 방담 물질은 친수성 작용기를 가지는 화합물을 포함하며, 상기 상전이 물질은 열에 의해서 적외선 투과율이 변화하는 물질이고, 상기 필름은 25℃의 온도에서 550 nm 파장의 광에 대한 투과율(T550)이 57.5% 이상이고, 하기 수식 1에 따른 ΔT2000의 절대값이 10% 이상일 수 있다.A method for manufacturing a film according to an embodiment of the present application includes preparing a substrate layer having one or more concave portions forming lines on the surface, injecting a phase change material into the concave portion, and occupying a certain volume of the phase change material. and injecting an anti-fog material into the concave portion in a state where the anti-fog material contains a compound having a hydrophilic functional group, the phase change material is a material whose infrared transmittance is changed by heat, and the film has a temperature of 25 ° C. The transmittance (T 550 ) for light having a wavelength of 550 nm may be 57.5% or more, and the absolute value of ΔT 2000 according to Equation 1 below may be 10% or more.
[수식 1][Equation 1]
ΔT2000 = T2000.L - T2000.H ΔT 2000 = T 2000.L - T 2000.H
수식 1에서 T2000.L은 25℃의 온도에서의 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이고, T2000.H는 90℃의 온도에서 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이다.In Equation 1, T 2000.L is the transmittance of the film at a temperature of 25°C to 2,000 nm wavelength light, and T 2000.H is the transmittance of the film to 2,000 nm wavelength light at a temperature of 90°C.
표면에 선을 형성하는 하나 이상의 오목부를 가지는 기재층은 가시광 투과성 및/또는 투명성을 가지는 재료를 사용하여 각각 독립적으로 용융 성형 또는 캐스팅 성형에 의해 형성할 수 있다. The substrate layer having one or more concave portions forming lines on the surface may be independently formed by melt molding or casting using a material having visible light transmittance and/or transparency.
상기 가시광 투과성 및/또는 투명성을 가지는 재료는 예를 들면 환상 올레핀 수지, 폴리이미드 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리알킬렌테레프탈레이트 수지(예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 및 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지 등), 아크릴 수지 및 에폭시 수지로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. Materials having visible light transmittance and/or transparency include, for example, cyclic olefin resins, polyimide resins, polycarbonate resins, polyamide resins, and polyalkylene terephthalate resins (e.g., polyethylene terephthalate resins and polybutylene terephthalate resins). phthalate resins, etc.), acrylic resins, and epoxy resins, but may include one or more selected from the group consisting of, but is not limited thereto.
여기서, 오목부의 평균 폭(W)과 서로 인접하는 두 개의 선간의 평균 간격(P)의 비율(W/P), 오목부의 평균 폭(W), 서로 인접하는 두 개의 선간의 평균 간격(P), 오목부의 평균 높이(H)와 평균 폭(W)의 비율(H/W), 기재층 표면의 단위 면적(1mm2) 당 오목부에 의해 형성되는 공간의 체적(mm3) 및 상전이 물질이 오목부의 전체 부피 대비 점유하는 부피 비율은 전술한 본 출원의 실시예에 따른 필름과 동일한 수치범위를 만족하도록 준비할 수 있다.Here, the ratio (W/P) of the average width (W) of the concave portion and the average spacing (P) between two adjacent lines, the average width (W) of the concave portion, and the average spacing (P) between two adjacent lines , the ratio (H/W) of the average height (H) and average width (W) of the concave portion, the volume (mm 3 ) of the space formed by the concave portion per unit area (1 mm 2 ) of the substrate layer surface, and the phase change material The ratio of the volume occupied by the concave portion to the total volume may be prepared to satisfy the same numerical range as the film according to the above-described embodiment of the present application.
본 출원의 일 실시예에 따른 필름의 제조방법은 접착층을 형성하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 상기 접착층을 형성하는 단계는, 기재층과 상전이 물질 사이의 접착성을 향상시키거나 상전이 물질과 방담 물질 사이의 접착성을 향상시키기 위해서 수지를 경화시켜 접착층을 형성할 수 있다. 이 때, 수지는 활성 에너지선 경화형, 습기 경화형, 열 경화형 또는 상온 경화형 조성물 등을 이용할 수 있다.The method for manufacturing a film according to an embodiment of the present application may further include forming an adhesive layer. In the forming of the adhesive layer, the adhesive layer may be formed by curing a resin to improve adhesion between the base layer and the phase change material or between the phase change material and the antifogging material. At this time, as the resin, an active energy ray curing type, a moisture curing type, a heat curing type, or a room temperature curing type composition may be used.
경화성 조성물이 활성 에너지선 경화형인 경우, 상기 경화성 조성물의 경화는 자외선 등의 활성 에너지선 조사에 의해 수행되며, 습기 경화형인 경우, 상기 경화성 조성물의 경화는 적절한 습기 하에서 유지하는 방식에 의해 수행되고, 열 경화형인 경우, 상기 경화성 조성물의 경화는, 적절한 열을 인가하는 방식에 의해 수행되며, 또는 상온 경화형인 경우, 상기 경화성 조성물의 경화는, 상온에서 경화성 조성물을 유지하는 방식에 의해 수행될 수 있다.When the curable composition is an active energy ray curable type, curing of the curable composition is performed by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, and when the curable composition is a moisture curable type, curing of the curable composition is performed by maintaining under appropriate moisture, In the case of a heat curable type, the curing of the curable composition is performed by applying appropriate heat, or in the case of a room temperature curing type, the curing of the curable composition may be performed by maintaining the curable composition at room temperature. .
수지는 하기 상전이 물질이 오목부에 주입되는 방법과 동일한 방식으로 필름의 오목부로 주입될 수 있다. 또한, 상기 수지는 오목부에 주입된 후에 경화 방식으로 접착층을 형성할 수 있다. The resin may be injected into the concave portion of the film in the same manner as the method in which the phase change material described below is injected into the concave portion. In addition, the resin may form an adhesive layer by a curing method after being injected into the concave portion.
예를 들면, 상기 수지는 상전이 물질이 주입되기 전에 오목부에 주입될 수 있다. 이 경우, 상기 수지는 상전이 물질이 오목부에 주입된 이후에 경화될 수도 있고, 상기 수지가 경화된 후에 상전이 물질이 오목부에 주입될 수도 있다.For example, the resin may be injected into the concave portion before the phase change material is injected. In this case, the resin may be cured after the phase change material is injected into the concave portion, or the phase change material may be injected into the concave portion after the resin is cured.
다른 예시에서, 상기 수지는 방담 물질이 주입되기 전에 오목부에 주입될 수 있다. 이 경우, 상기 수지는 방담 물질이 오목부에 주입된 이후에 경화될 수도 있고, 상기 수지가 경화된 후에 방담 물질이 오목부에 주입될 수도 있다.In another example, the resin may be injected into the recess before the antifogging material is injected. In this case, the resin may be cured after the antifogging material is injected into the concave portion, or the antifogging material may be injected into the concave portion after the resin is cured.
본 출원의 일 실시예에 따른 필름의 제조방법은 전술한 바와 같이 오목부에 상전이 물질을 주입하는 단계를 포함할 수 있다. 또한, 상기 필름의 제조방법은 오목부에 주입된 상전이 물질을 경화시키는 단계를 추가로 포함할 수 있다.The manufacturing method of the film according to an embodiment of the present application may include injecting a phase change material into the concave portion as described above. In addition, the manufacturing method of the film may further include a step of curing the phase change material injected into the concave portion.
상전이 물질을 오목부에 주입하는 방법은 특별히 제한되지 않으나, 공정의 용이성을 위해 상기 상전이 물질을 오목부가 형성된 기재층의 면에 도포하는 방식으로 주입할 수 있다. A method of injecting the phase change material into the concave portion is not particularly limited, but for ease of the process, the phase change material may be injected in a manner of applying the phase change material to the surface of the substrate layer in which the concave portion is formed.
상전이 물질을 도포하는 방법은 그 종류가 특별히 제한되지 않으며, 공지된 다양한 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, 본 출원에서 사용할 수 있는 도포 방법은 롤코팅, 그라비아 코팅, 리버스 코팅, 롤 브러쉬, 스프레이 코팅, 에어 나이프 코팅 및 다이 코터 등에 의한 압출 코팅 등이 있고, 블레이드를 이용하여 주입할 수도 있다. 구체적으로는, 오목부가 형성된 기재층의 면에 스포이드로 상전이 물질을 골고루 떨어뜨린 후 블레이드를 이용하여 오목부 내로 상기 상전이 물질을 주입할 수 있고, 대량 생산을 고려하면 롤 투 롤(roll-to-roll) 공정을 활용할 수도 있다.The method of applying the phase change material is not particularly limited in its kind, and various known methods may be used. For example, application methods that can be used in this application include roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brushing, spray coating, air knife coating, and extrusion coating by die coater, etc., and may be injected using a blade. . Specifically, after evenly dropping the phase change material on the surface of the substrate layer on which the concave portion is formed, the phase change material may be injected into the concave portion using a blade, and considering mass production, roll-to-roll roll) process can also be used.
오목부에 주입된 상전이 물질은 경화 방법이 특별히 제한되는 것은 아니지만, 열경화를 통해 경화되는 것이 적절할 수 있다. 열경화를 통한 경화 방식은 단시간에 경화가 가능하여 생산성을 향상시킬 수 있다. A curing method of the phase change material injected into the concave portion is not particularly limited, but may be appropriately cured through thermal curing. The curing method through thermal curing can improve productivity by curing in a short time.
오목부에 주입된 상전이 물질의 용이한 경화를 위해서, 필름의 제조방법은 상전이 물질을 경화시키는 단계 이전에 오목부 외에 존재하는 상전이 물질을 제거하는 공정이 추가로 포함될 수 있다. 오목부 외에 존재하는 상전이 물질을 제거하는 공정은 무진 천 등을 이용하여 제거할 수 있고, 대량 생산을 고려하면 스퀴징(squzzing) 기법을 통해 제거할 수도 있다.For easy curing of the phase change material injected into the concave portion, the film manufacturing method may further include a process of removing the phase change material outside the concave portion prior to curing the phase change material. The process of removing the phase change material existing outside the concave portion can be removed using a dust-free cloth or the like, and considering mass production, it can also be removed through a squeezing technique.
오목부에 주입된 상전이 물질을 열경화하는 경우, 경화 온도는 기재층에 변성이 가해지지 않으면서 상기 상전이 물질이 경화될 수 있으면 특별히 제한되지는 않으나, 예를 들면 85℃이상, 90℃이상, 95℃이상 또는 97.5℃이상일 수 있고, 다른 예시에서는 110℃이하, 107.5℃이하, 105℃이하 또는 102.5℃이하일 수 있다. 또한, 경화 시간은 상기 상전이 물질이 전반적으로 경화되었다면 제한되지는 않으나, 예를 들면 3분 이상 또는 4분 이상, 다른 예시에서는 10분 이하 또는 7분 이하일 수 있다.In the case of thermally curing the phase change material injected into the concave portion, the curing temperature is not particularly limited as long as the phase change material can be cured without denaturation being applied to the base layer, but, for example, 85 ° C. or higher, 90 ° C. or higher, It may be 95 ° C or higher or 97.5 ° C or higher, and in other examples, it may be 110 ° C or lower, 107.5 ° C or lower, 105 ° C or lower, or 102.5 ° C or lower. In addition, the curing time is not limited as long as the phase change material is generally cured, but may be, for example, 3 minutes or more or 4 minutes or more, and in other examples, 10 minutes or less or 7 minutes or less.
상전이 물질은 이산화바나듐(VO2) 입자를 포함할 수 있다. 상기 이산화바나듐(VO2) 입자의 평균입자크기는 40 nm 이상, 42 nm 이상, 44 nm 이상, 46 nm 이상 또는 48 nm 이상일 수 있고, 다른 예시에서는 70 nm 이하, 68 nm 이하, 66 nm 이하, 64 nm 이하 또는 62 nm 이하일 수 있다.The phase change material may include vanadium dioxide (VO 2 ) particles. The average particle size of the vanadium dioxide (VO 2 ) particles may be 40 nm or more, 42 nm or more, 44 nm or more, 46 nm or more or 48 nm or more, and in another example, 70 nm or less, 68 nm or less, 66 nm or less, 64 nm or less or 62 nm or less.
이산화바나듐(VO2) 입자가 응집되어 있거나 평균입자크기가 큰 경우에는 분쇄 공정을 거쳐 상기 범위의 평균입자크기를 가진 이산화바나듐(VO2) 입자를 만들 수 있다. 상기 분쇄 공정은 밀링 장비(예를 들면, twin nanoset-mill 장비)를 이용할 수 있고, 구체적으로는 응집되어 있거나 평균입자크기가 큰 이산화바나듐(VO2) 입자를 이용하여 슬러리(slurry)를 형성한 후 금속 비드(bead)를 충진하여 밀링 장비로 분쇄하고, 이후 상기 금속 비드를 제거하면 상기 평균입자크기를 만족하는 이산화바나듐(VO2) 입자 슬러리를 수득할 수 있다.When the vanadium dioxide (VO 2 ) particles are agglomerated or have a large average particle size, vanadium dioxide (VO 2 ) particles having an average particle size within the above range may be produced through a pulverization process. The grinding process may use milling equipment (eg, twin nanoset-mill equipment), and specifically, a slurry is formed using vanadium dioxide (VO 2 ) particles that are agglomerated or have a large average particle size. After filling the metal beads (bead) and grinding with a milling equipment, and then removing the metal beads, a vanadium dioxide (VO 2 ) particle slurry satisfying the average particle size can be obtained.
상전이 물질은 극성 용매를 추가로 포함할 수 있다. 구체적으로, 상전이 물질은 이산화바나듐(VO2) 입자와 극성 용매를 포함한 열변색 슬러리(slurry)를 포함할 수 있다. The phase change material may further include a polar solvent. Specifically, the phase change material may include a thermochromic slurry including vanadium dioxide (VO 2 ) particles and a polar solvent.
이 때, 이산화바나듐(VO2) 입자는 상기 슬러리 전체 중량 대비 5 중량% 이상, 10 중량% 이상 또는 15 중량% 이상 함유될 수 있고, 다른 예시에서 40 중량% 이하, 35 중량% 이하, 30 중량% 이하 또는 25 중량% 이하 함유될 수 있다. 상기 이산화바나듐(VO2) 입자의 함유량이 상기 범위를 만족하는 경우 오목부에 주입이 용이하고, 우수한 가시광 투과율을 만족하면서 적외선에서의 우수한 열변색 특성을 가지는 필름을 제조할 수 있다. At this time, the vanadium dioxide (VO 2 ) particles may be contained in an amount of 5 wt% or more, 10 wt% or more, or 15 wt% or more based on the total weight of the slurry, and in another example, 40 wt% or less, 35 wt% or less, 30 wt% or less % or less or 25% by weight or less. When the content of the vanadium dioxide (VO 2 ) particles satisfies the above range, it is easy to inject into the concave portion, and a film having excellent visible light transmittance and excellent thermochromic properties in infrared light can be manufactured.
극성 용매는 상기 이산화바나듐(VO2) 입자와의 상용성을 고려하면, 이산화바나듐(VO2) 입자 100 중량부 대비 250 중량부 이상, 275 중량부 이상, 300 중량부 이상, 325 중량부 이상, 350 중량부 이상, 375 중량부 이상으로 함유될 수 있고, 다른 예시에서 이산화바나듐(VO2) 입자100 중량부 대비 500 중량부 이하, 475 중량부 이하, 450 중량부 이하 또는 425 중량부 이하로 함유될 수 있다.Considering the compatibility with the vanadium dioxide (VO 2 ) particles, the polar solvent is 250 parts by weight or more, 275 parts by weight or more, 300 parts by weight or more, 325 parts by weight or more, It may be contained in 350 parts by weight or more, 375 parts by weight or more, and in another example, vanadium dioxide (VO 2 )
극성 용매는 물 및 알코올 화합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있고, 상기 알코올 화합물은 예를 들면 메탄올, 에탄올, 프로판올, 2-뷰톡시에탄올 및 이소프로필 알코올 등이 있다.The polar solvent may be selected from the group consisting of water and alcohol compounds, and examples of the alcohol compounds include methanol, ethanol, propanol, 2-butoxyethanol, and isopropyl alcohol.
상전이 물질은 열변색 슬러리에 극성 용매를 추가로 포함할 수 있고, 이 때, 극성 용매는 상기 열변색 슬러리 100 중량부 대비 50 중량부 이상, 55 중량부 이상, 60 중량부 이상, 65 중량부 이상 또는 70 중량부 이상으로 함유될 수 있고, 다른 예시에서는 200 중량부 이하, 190 중량부 이하, 180 중량부 이하, 170 중량부 이하, 160 중량부 이하 또는 150 중량부 이하로 함유될 수 있다.The phase change material may further include a polar solvent in the thermochromic slurry, and at this time, the polar solvent is 50 parts by weight or more, 55 parts by weight or more, 60 parts by weight or more, 65 parts by weight or more based on 100 parts by weight of the thermochromic slurry Or it may be contained in 70 parts by weight or more, and in other examples, it may be contained in 200 parts by weight or less, 190 parts by weight or less, 180 parts by weight or less, 170 parts by weight or less, 160 parts by weight or less, or 150 parts by weight or less.
상전이 물질은 전술한 바와 같이 분산 고분자를 추가로 포함할 수 있다. As described above, the phase change material may further include a dispersed polymer.
분산 고분자는 이산화바나듐(VO2) 입자 100 중량부 대비 50 중량부 이상, 55 중량부 이상, 60 중량부 이상, 65 중량부 이상, 70 중량부 또는 80 중량부 이상으로 함유될 수 있고, 다른 예시에서는 200 중량부 이하, 190 중량부 이하, 180 중량부 이하, 170 중량부 이하, 160 중량부 이하 또는 150 중량부 이하로 함유될 수 있다. The dispersed polymer may be contained in an amount of 50 parts by weight or more, 55 parts by weight or more, 60 parts by weight or more, 65 parts by weight or more, 70 parts by weight or 80 parts by weight or more based on 100 parts by weight of vanadium dioxide (VO 2 ) particles. It may be contained in 200 parts by weight or less, 190 parts by weight or less, 180 parts by weight or less, 170 parts by weight or less, 160 parts by weight or less, or 150 parts by weight or less.
본 출원의 일 실시예에 따른 필름의 제조방법은 전술한 바와 같이 상전이 물질이 일정 부피로 점유된 상태의 오목부에 방담 물질을 주입하는 단계를 포함할 수 있다. As described above, the manufacturing method of a film according to an embodiment of the present application may include injecting an antifogging material into a concave portion in which a phase change material is occupied by a certain volume.
방담 물질을 오목부에 주입하는 방법은 특별히 제한되지 않으나, 공정의 용이성을 위해 상기 방담 물질을 오목부가 형성된 면에 도포하는 방식으로 주입할 수 있다.A method of injecting the anti-fog material into the concave portion is not particularly limited, but for ease of processing, the anti-fog material may be injected in a manner of applying the anti-fog material to the surface where the concave portion is formed.
방담 물질을 도포하는 방법은 상기 상전이 물질을 도포하는 방법과 마찬가지로 그 종류가 특별히 제한되지 않으며, 공지된 다양한 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, 본 출원에서 사용할 수 있는 도포 방법은 롤코팅, 그라비아 코팅, 리버스 코팅, 롤 브러쉬, 스프레이 코팅, 에어 나이프 코팅 및 다이 코터 등에 의한 압출 코팅 등이 있고, 블레이드를 이용하여 주입할 수도 있다. 구체적으로는, 오목부가 형성된 기재층의 면에 스포이드로 방담 물질을 골고루 떨어뜨린 후 블레이드를 이용하여 오목부 내로 상기 방담 물질을 주입할 수 있고, 대량 생산을 고려하면 롤 투 롤(roll-to-roll) 공정을 활용할 수도 있다.The method of applying the anti-fog material is not particularly limited in its kind, like the method of applying the phase change material, and various known methods may be used. For example, application methods that can be used in this application include roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brushing, spray coating, air knife coating, and extrusion coating by die coater, etc., and may be injected using a blade. . Specifically, after the anti-fog material is evenly dropped on the surface of the substrate layer on which the concave portion is formed, the anti-fog material may be injected into the concave portion using a blade, and considering mass production, roll-to-roll roll) process can also be used.
방담 물질이 오목부에만 존재하도록 하기 위해서, 오목부 외에 존재하는 방담 물질을 제거하는 공정이 추가로 포함될 수 있다. 오목부 외에 존재하는 방담 물질을 제거하는 공정은 무진 천 등을 이용하여 제거할 수 있고, 대량 생산을 고려하면 스퀴징(squzzing) 기법을 통해 제거할 수도 있다.In order to allow the antifogging material to exist only in the concave portion, a process of removing the antifogging material existing outside the concave portion may be further included. The process of removing the anti-fog material present outside the concave portion may be removed using a dust-free cloth or the like, or may be removed through a squeezing technique considering mass production.
방담 물질에 대한 내용은 상기 전술한 내용과 동일하다. 즉, 방담 물질은 친수성 작용기를 가지는 화합물을 포함할 수 있고, 상기 친수성 작용기는 히드록시기, 싸이올기, 카르복시기 및 아민기로 이루어진 군에서 하나 이상을 포함할 수 있다. The contents of the anti-fogging material are the same as those described above. That is, the antifogging material may include a compound having a hydrophilic functional group, and the hydrophilic functional group may include one or more from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, a carboxy group, and an amine group.
본 출원의 일 실시에에 따른 필름의 제조방법은 보호 잉크가 오목부에 주입되는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 또한, 필름의 제조방법은 오목부에 주입된 보호 잉크를 경화시켜 보호층을 형성하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.The manufacturing method of the film according to one embodiment of the present application may further include a step of injecting protective ink into the concave portion. In addition, the manufacturing method of the film may further include forming a protective layer by curing the protective ink injected into the concave portion.
또한, 보호층은 보호 잉크와 방담 물질이 혼합된 혼합물을 이용하여 형성될 수 있다. 이 경우, 상기 혼합물은 오목부의 전체 부피에서 35% 이상, 37.5% 이상, 40% 이상, 42.5% 이상 또는 45% 이상의 부피로 점유되도록 주입되거나, 55% 이하, 52.5% 이하, 50% 이하 또는 47.5% 이하의 부피로 점유되도록 주입될 수 있다.In addition, the protective layer may be formed using a mixture of a protective ink and an antifogging material. In this case, the mixture is injected such that it occupies at least 35%, at least 37.5%, at least 40%, at least 42.5% or at least 45% of the total volume of the recess, or at least 55%, at most 52.5%, at most 50% or at least 47.5%. % or less by volume.
보호 잉크와 방담 물질이 혼합된 혼합물은 상전이 물질의 산화를 방지하면서 김서림 문제를 개선한다면 특별히 제한되는 것은 아니고, 적당한 범위 내에서 혼합하여 사용할 수 있다.A mixture of the protective ink and the antifogging material is not particularly limited as long as it prevents oxidation of the phase change material and improves the fogging problem, and may be mixed and used within a suitable range.
또한, 필름은 보호 잉크에 방담 물질을 포함하지 않고 보호층 상에 방담 물질이 포함될 수 있다. 이 경우, 방담 물질은 오목부의 전체 부피에서 17% 이상, 20% 이상, 22.5% 이상 또는 25% 이상의 부피로 점유되도록 주입될 수 있고, 다른 예시에서 40% 이하, 35% 이하, 30 % 이하 또는 27.5% 이하의 부피로 점유되도록 주입될 수 있다.Further, the film may contain an antifogging material on the protective layer without including the antifogging material in the protective ink. In this case, the anti-fog material may be injected so as to occupy 17% or more, 20% or more, 22.5% or more, or 25% or more of the volume of the concave part, and in another example, 40% or less, 35% or less, 30% or less, or It can be injected such that it occupies less than 27.5% by volume.
또한, 상기 보호층은 상전이 물질이 대기와 접촉을 방지하도록 오목부 내에 보호 잉크를 주입하여 형성될 수 있다.In addition, the protective layer may be formed by injecting protective ink into the concave portion to prevent contact of the phase change material with the atmosphere.
보호 잉크를 오목부에 주입하는 방법은, 전술한 상전이 물질을 오목부에 주입하는 방법과 동일할 수 있다. A method of injecting the protective ink into the concave portion may be the same as the method of injecting the above-described phase change material into the concave portion.
보호 잉크를 오목부에 주입하는 방법은 특별히 제한되지 않으나, 공정의 용이성을 위해 상기 보호 잉크를 오목부가 형성된 기재층의 면에 도포하는 방식으로 주입할 수 있다. A method of injecting the protective ink into the concave portion is not particularly limited, but may be injected in a manner of applying the protective ink to the surface of the substrate layer on which the concave portion is formed for ease of the process.
오목부에 주입된 보호 잉크는 경화되어 보호층으로 형성될 수 있다. 이 때, 보호층은 전술한 내용과 동일하다. The protective ink injected into the concave portion may be cured and formed into a protective layer. At this time, the protective layer is the same as the above.
보호 잉크는 열변색층이 산화되지 않도록 보호하고 가시광 투과성을 유지하기 위해, 보호층이 오목부의 전체 부피에서 35% 이상, 37.5% 이상, 40% 이상, 42.5% 이상 또는 45% 이상의 부피로 점유되도록 주입되거나, 55% 이하, 52.5% 이하, 50% 이하 또는 47.5% 이하의 부피로 점유되도록 주입될 수 있다.In order to protect the thermochromic layer from oxidation and to maintain visible light transmittance, the protective ink is applied such that the protective layer occupies at least 35%, at least 37.5%, at least 40%, at least 42.5%, or at least 45% by volume of the total volume of the concave portion. or injected so as to occupy less than 55%, less than 52.5%, less than 50%, or less than 47.5% by volume.
오목부에 주입된 보호 잉크는 경화 방법이 특별히 제한되는 것은 아니지만, 활성에너지선 경화를 통해 보호층으로 형성되는 것이 적절할 수 있다. 활성에너지선 경화로 보호층을 형성하는 경우, 기재층과 상전이 물질의 손상을 방지할 수 있다. 이 때, 활성에너지선은 100 내지 380 nm의 파장영역의 광인 자외선일 수 있다.Although the curing method of the protective ink injected into the recess is not particularly limited, it may be appropriate to form a protective layer through active energy ray curing. When the protective layer is formed by active energy ray curing, damage to the base layer and the phase change material can be prevented. At this time, the active energy ray may be ultraviolet light of a wavelength range of 100 to 380 nm.
보호 잉크는 경화성 수지를 포함할 수 있고, 상기 경화성 수지는 활성에너지선의 조사에 의해 경화되면 특별히 제한되는 것은 아니나, 예를 들면, 아크릴 수지 또는 폴리올(polyol)과 이소시아네이트 화합물이 포함된 우레탄 수지가 적합할 수 있다. The protective ink may include a curable resin, and the curable resin is not particularly limited as long as the curable resin is cured by irradiation with active energy rays. For example, an acrylic resin or a urethane resin containing a polyol and an isocyanate compound is suitable can do.
또한, 보호 잉크는 활성에너지선에 의한 경화를 위해 광개시제를 추가로 포함할 수 있다. 여기서, 광개시제는 활성에너지선의 에너지를 흡수하여 중합 반응을 시작하게 하는 물질을 의미하고, 공지된 적합한 광개시제인 Irgacure 184D 등을 사용할 수 있다.In addition, the protective ink may further include a photoinitiator for curing by active energy rays. Here, the photoinitiator means a material that starts a polymerization reaction by absorbing the energy of active energy rays, and a known suitable photoinitiator such as Irgacure 184D may be used.
보호 잉크는 자외선 차단 및 가시광 투과율을 보존하기 위해, 금속 산화물 입자를 추가로 포함할 수 있다. 상기 금속 산화물 입자는 산화 티타늄, 산화 아연, 산화 지르코늄 및 산화 철로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다. The protective ink may further contain metal oxide particles to preserve UV protection and visible light transmittance. The metal oxide particles may include one or more selected from the group consisting of titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and iron oxide.
본 출원에 따른 필름은 유리 기재에 부착할 수 있고, 건물의 유리 외벽이나 창문에 부착하여 스마트 윈도우로 활용할 수 있다. 여기서, 스마트 윈도우는 여름철에는 실내 온도를 높이는 적외선을 차단하고 겨울철에는 적외선을 투과시킬 수 있다. 이처럼 본 출원에 따른 필름이 적용된 스마트 윈도우로 효율적인 에너지 사용이 가능할 수 있다.The film according to the present application can be attached to a glass substrate, and can be attached to a glass outer wall or window of a building to be used as a smart window. Here, the smart window can block infrared rays that increase the indoor temperature in summer and transmit infrared rays in winter. As such, efficient energy use may be possible with the smart window to which the film according to the present application is applied.
이하, 실시예 빛 비교예를 통해 본 출원을 설명하나, 본 출원의 범위가 하기 제시된 내용으로 인해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present application will be described through examples and comparative examples, but the scope of the present application is not limited due to the contents presented below.
실시예 1 Example 1
(1) 기재층 준비 (1) Base layer preparation
폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate) 수지를 이용하여 표면에 선을 형성하는 하나 이상의 오목부를 가지는 기재층을 준비하였다. 이 때, 오목부의 평균 폭은 약 10 ㎛, 인접하는 두 개의 선간의 평균 간격이 약 2 ㎛ 및 오목부의 평균 높이는 약 3 ㎛으로 형성하였다. 여기서 오목부의 평균 폭, 평균 높이 및 인접하는 두 개의 선간의 평균 간격은 오차 범위 내에서 모두 동일하게 제작하였다. 또한, 오목부에 의해 형성되는 두 개 이상의 선은 서로 교차하지 않도록 형성하였다.A substrate layer having one or more concave portions forming lines on the surface was prepared using a polyethylene terephthalate resin. At this time, the average width of the concave portion was about 10 μm, the average interval between two adjacent lines was about 2 μm, and the average height of the concave portion was about 3 μm. Here, the average width and average height of the recess and the average spacing between two adjacent lines were all made the same within the error range. In addition, two or more lines formed by the concave portion were formed so as not to cross each other.
(2) 상전이 물질의 준비 및 주입 (2) Preparation and injection of phase change material
구매한 상용 이산화바나듐(VO2) 파우더(공급사: FUNCMATER社, 평균입자크기: 200 내지 300 nm, 단사정계)를 밀링 장비(공급사: Dntek社, twin nanoset-mill, 모델명: TNS050)를 통해 분쇄하였다. 구체적으로, 상기 상용 이산화바나듐(VO2) 파우더 100 중량부를 증류수 400 중량부에 넣고 충분히 분산되도록 혼합하여 이산화바나듐(VO2) 슬러리(slurry)를 형성한 후, 평균 직경이 0.1 mm인 지르코니아 비드(bead)를 상기 이산화바나듐(VO2) 슬러리(slurry) 100 중량부 대비 400 중량부를 충진시켜 4,000 내지 4,500 rpm으로 180 분 동안 회전하여 상기 이산화바나듐(VO2) 파우더를 분쇄하였다. 이후, 약 70 회를 반복하고 충진된 지르코니아 비드를 제거하여 분쇄된 이산화바나듐(VO2) 슬러리를 수득하였다.Purchased commercial vanadium dioxide (VO 2 ) powder (supplier: FUNCMATER, average particle size: 200 to 300 nm, monoclinic) was pulverized through a milling equipment (supplier: Dntek, twin nanoset-mill, model name: TNS050) . Specifically, 100 parts by weight of the commercial vanadium dioxide (VO 2 ) powder was added to 400 parts by weight of distilled water and mixed to sufficiently disperse to form a vanadium dioxide (VO 2 ) slurry, and then zirconia beads having an average diameter of 0.1 mm ( bead) was filled with 400 parts by weight based on 100 parts by weight of the vanadium dioxide (VO 2 ) slurry and rotated at 4,000 to 4,500 rpm for 180 minutes to pulverize the vanadium dioxide (VO 2 ) powder. Thereafter, the process was repeated about 70 times and the filled zirconia beads were removed to obtain a pulverized vanadium dioxide (VO 2 ) slurry.
폴리비닐피롤리돈(공급사: Sigma-aldrich社, polyvinylpyrrolidone, PVP) 100 중량부 및 에탄올(ethanol) 900 중량부를 혼합한 혼합물을 중량 비율이 1:1이 되도록 상기 분쇄된 이산화바나듐(VO2) 슬러리와 혼합하여 최종 상전이 물질을 수득하였다. 상기 상전이 물질은 추가적으로 초음파 처리하여 이산화바나듐(VO2) 입자의 분산성을 높였다.A mixture of 100 parts by weight of polyvinylpyrrolidone (supplier: Sigma-aldrich, polyvinylpyrrolidone, PVP) and 900 parts by weight of ethanol is pulverized vanadium dioxide (VO 2 ) slurry so that the weight ratio is 1: 1 and was mixed to obtain the final phase change material. The phase change material was additionally treated with ultrasonic waves to increase the dispersibility of vanadium dioxide (VO 2 ) particles.
상전이 물질을 스포이드에 담아 오목부가 형성된 기재층의 일면에 골고루 떨어뜨린 후, 블레이드를 이용하여 전면 도포하였다. 이 때, 상전이 물질을 오목부의 전체 부피 대비 13.33%의 부피 비율로 점유되도록 오목부에 주입하였다. After putting the phase change material in a spoid and evenly dropping it on one side of the substrate layer on which the concave portion was formed, the entire surface was applied using a blade. At this time, the phase change material was injected into the concave portion to occupy a volume ratio of 13.33% compared to the total volume of the concave portion.
이후, 무진 천 등을 이용하여 건세정함으로써 오목부가 아닌 다른 부분에 있는 상전이 물질을 제거하고, 핫플레이트로 오목부 내의 상전이 물질을 100℃에서 약 5분간의 열경화를 3회 반복하였다.Thereafter, by dry cleaning using a dust-free cloth, etc., the phase change material in other parts other than the concave part was removed, and thermal curing of the phase change material in the concave part at 100 ° C. for about 5 minutes was repeated three times with a hot plate.
(3) 방담 물질의 준비 및 주입 (3) Preparation and injection of anti-fogging material
방담 물질은 Tween40(공급사: 대정화금社, HLB 값: 약 15.6) 및 Tween60(공급사: 대정화금社, HLB 값: 약 14.9)를 7:3 중량비로 첨가하고, 에폭시계 또는 우레탄계 커플링제를 추가로 첨가하여, 약 30분간의 기계식 교반을 통해 제조되었다.The anti-fog material is Tween40 (supplier: Daejeong Chemical & Gold Co., HLB value: about 15.6) and Tween60 (supplier: Daejeong Chemical Co., Ltd., HLB value: about 14.9) at a weight ratio of 7:3, and an epoxy or urethane-based coupling agent With further addition, it was prepared through mechanical stirring for about 30 minutes.
방담 물질을 스포이드에 담아 오목부가 형성된 기재층의 일면에 골고루 떨어뜨린 후, 블레이드를 이용하여 전면 도포하였다. 이 때, 방담 물질을 오목부의 전체 부피 대비 28%의 부피 비율로 점유되도록 오목부에 주입하였다. The anti-fogging material was put in a pipette and evenly dropped on one side of the substrate layer in which the concave portion was formed, and then the entire surface was applied using a blade. At this time, the anti-fogging material was injected into the concave portion to occupy a volume ratio of 28% relative to the total volume of the concave portion.
이 때, 오목부에 주입된 방담 물질이 고상의 표면을 형성하였을 때, 물방울은 상기 고상의 표면에 대해서 약 11°내지 14°의 상온 접촉각을 나타냈다. 여기서 접촉각은 물방울의 부피 20 μL로 ASTM D 5946에 따른 정적 접촉각으로 측정하였다.At this time, when the antifogging material injected into the concave portion formed the surface of the solid phase, the water droplets exhibited a room temperature contact angle of about 11° to 14° with respect to the surface of the solid phase. Here, the contact angle was measured as a static contact angle according to ASTM D 5946 with a water droplet volume of 20 μL.
이후, 무진 천 등을 이용하여 건세정함으로써 오목부가 아닌 다른 부분에 있는 방담 물질을 제거하여 필름을 수득하였다.Thereafter, by dry cleaning using a dust-free cloth or the like, the anti-fog material in other parts other than the concave part was removed to obtain a film.
실시예 2 Example 2
(1) 보호 잉크의 준비 (1) Preparation of protective ink
상기 보호 잉크는 경화성 수지인 우레탄 아크릴레이트 올리고머(공급사: 미원상사, 제품명: Miramer PU210, 중량평균분자량: 5,000 mol/g, PDI: 1.2) 100 중량부 및 광개시제인 irgacure 184D(공급사: CIBA GEIGY社) 10 중량부를 혼합하여 형성하였다.The protective ink is a curable resin, urethane acrylate oligomer (supplier: Miwon Corporation, product name: Miramer PU210, weight average molecular weight: 5,000 mol / g, PDI: 1.2) 100 parts by weight and photoinitiator irgacure 184D (supplier: CIBA GEIGY) It was formed by mixing 10 parts by weight.
(2) 방담 물질의 준비 (2) Preparation of anti-fog material
상기 실시예 1에서 준비한 방식과 동일하게 방담 물질을 준비하였다.An antifogging material was prepared in the same manner as in Example 1.
(3) 주입 및 보호층 형성 (3) Injection and protective layer formation
상기 준비된 보호 잉크 및 방담 물질을 1:1 중량비로 혼합하여 혼합물을 형성하였고, 상기 실시예 1에서 오목부 내에 상전이 물질의 주입 및 경화를 마친 후, 오목부 내로 상기 혼합물을 주입하였다. The prepared protective ink and the antifogging material were mixed in a weight ratio of 1:1 to form a mixture, and after injection and curing of the phase change material into the concave portion in Example 1 was completed, the mixture was injected into the concave portion.
혼합물을 스포이드에 담아 오목부가 형성된 기재층의 일면에 골고루 떨어뜨린 후, 블레이드를 이용하여 전면 도포하였다. 이 때, 형성될 보호층이 점유하는 부피의 비율이 오목부의 전체 부피 대비 46.7%가 되도록 오목부에 상기 혼합물을 주입하였다. After the mixture was put in a pipette and evenly dropped on one side of the substrate layer in which the concave portion was formed, the entire surface was applied using a blade. At this time, the mixture was injected into the concave portion so that the ratio of the volume occupied by the protective layer to be formed was 46.7% of the total volume of the concave portion.
이후, 무진 천 등을 이용하여 건세정함으로써 오목부가 아닌 다른 부분에 있는 혼합물을 제거하고, 1.2kW 수은 램프(mercury lamp)로 300초동안 약 250 nm 파장 영역의 광을 조사하여 상기 혼합물을 경화시켜 보호층을 추가로 포함하는 필름을 수득하였다.Thereafter, by dry cleaning using a dust-free cloth, etc., the mixture in a part other than the concave part is removed, and the mixture is cured by irradiating light in a wavelength region of about 250 nm for 300 seconds with a 1.2kW mercury lamp for 300 seconds. A film further comprising a protective layer was obtained.
<물성 측정 방법 및 측정 결과> <Physical property measurement method and measurement result>
1. 가시광선 영역의 투과율 측정방법 및 적외선 영역에서 열변색에 의한 투과율의 차이 측정방법 1. Transmittance measurement method in the visible ray region and transmittance difference measurement method by thermochromic color in the infrared region
(1) 가시광선 영역의 투과율 측정방법 (1) Method for measuring transmittance in the visible ray region
생산 직후의 필름을 외부 광이 없는 환경에 두고 25℃에서 UV-VIS-NIR spectrometer 장비(공급사: Jasco社, 모델명: V-670)를 이용하여, 550 nm 파장을 가진 광을 상기 광학 시트에 투과시켜 감소된 광량을 측정하여 광투과법(Light extinction method)에 따른 투과율을 측정하였다.Place the film immediately after production in an environment without external light and transmit light with a wavelength of 550 nm through the optical sheet using UV-VIS-NIR spectrometer equipment (supplier: Jasco, model name: V-670) at 25°C. The reduced amount of light was measured to measure the transmittance according to the light extinction method.
또한, 필름을 생산일로부터 30일 또는 60일동안 상온 및 상습 환경에서 방치한 후 상기와 동일한 방법으로 가시광선 영역의 투과율을 측정하였다.In addition, the transmittance of the visible ray region was measured in the same manner as described above after leaving the film in a room temperature and normal humidity environment for 30 or 60 days from the production date.
(2) 적외선 영역에서 열변색에 의한 투과율의 차이 측정방법 (2) Method for measuring the difference in transmittance by thermochromic in the infrared region
생산 직후의 필름을 외부 광이 없는 환경에 두고 UV-VIS-NIR spectrometer 장비(공급사: Jasco社, 모델명: V-670)를 이용하여, 2,000 nm 파장을 가진 광을 상기 광학 시트에 투과시켜 감소된 광량을 측정하여 광투과법(Light extinction method)에 따른 투과율을 측정하였다. 여기서, 하나는 25℃에서 측정한 (a) 투과율(T2000.L)이고, 다른 하나는 90℃에서 측정한 (b) 투과율(T2000.H)일 때의 그 차이의 절대값을 계산하였다.Place the film immediately after production in an environment without external light and transmit light with a wavelength of 2,000 nm through the optical sheet using UV-VIS-NIR spectrometer equipment (supplier: Jasco, model name: V-670) The amount of light was measured to measure the transmittance according to the light extinction method. Here, the absolute value of the difference between (a) transmittance (T 2000.L ) measured at 25 ° C and the other (b) transmittance (T 2000.H ) measured at 90 ° C was calculated. .
또한, 필름을 생산일로부터 30일 또는 60일동안 방치한 후 상기와 동일한 방법으로 적외선 영역에서 열변색에 의한 투과율의 차이를 측정하였다.In addition, after the film was left for 30 or 60 days from the production date, the difference in transmittance due to thermochromic discoloration in the infrared region was measured in the same manner as above.
2. 측정결과2. Measurement results
상기 실시예에 따른 필름의 가시광선 영역의 투과율 및 적외선 영역에서 열변색에 의한 투과율의 차이를 하기 표 1 및 표 2에 정리하였다. The difference between the transmittance of the visible light region and the transmittance due to thermal discoloration in the infrared region of the film according to the above example is summarized in Tables 1 and 2 below.
(30일 후)T -550.A
(After 30 days)
(30일 후)ΔT 2000.A
(After 30 days)
표 1을 참조하면, 실시예 1은 가시광선 영역의 투과율이 59.4%로 57.5% 이상이었고, 적외선 영역에서 열변색에 의한 투과율의 차이도 24.4%로 10% 이상이었다. 또한, 실시예 1은 ΔTA550,30의 절대값이 0.7%로 1.5%이하이고, ΔTA2000,30의 절대값은 0.9%로 2%이하였다. 또한, 실시예 1은 25℃의 온도에서 550 nm 파장의 광에 대한 투과율(T550)과 수식 1에 따른 ΔT2000의 합계가 60% 이상이었다.Referring to Table 1, Example 1 had a transmittance of 59.4% in the visible ray region of 57.5% or more, and a difference in transmittance due to thermochromic color in the infrared region of 24.4% of 10% or more. In Example 1, the absolute value of ΔTA 550,30 was 0.7%, which was 1.5% or less, and the absolute value of ΔTA 2000,30 was 0.9%, which was 2% or less. In Example 1, the sum of transmittance (T 550 ) for light having a wavelength of 550 nm at a temperature of 25° C. and ΔT 2000 according to Equation 1 was 60% or more.
(60일 후)T -550.C
(After 60 days)
(60일 후)ΔT 2000.C
(After 60 days)
표 2를 참조하면, 실시예 2는 550 nm 파장을 가진 광에 대한 투과율이 57.6%로 57.5% 이상, 2,000 nm 파장을 가진 광에 대해서 열변색에 의한 투과율의 차이가 23.4%로 10% 이상을 만족하였다. 또한, 실시예 2는 ΔTA550,60의 절대값이 0.1%로 0.5% 이하이고, ΔTA2000,60의 절대값이 0.2%로 0.3% 이하를 만족하였다.Referring to Table 2, Example 2 has a transmittance of 57.6% for light with a wavelength of 550 nm of 57.5% or more, and a difference in transmittance due to thermochromic color for light with a wavelength of 2,000 nm of 23.4% or more of 10%. Satisfied. In Example 2, the absolute value of ΔTA 550,60 was 0.1%, which was 0.5% or less, and the absolute value of ΔTA 2000,60 was 0.2%, which satisfied 0.3% or less.
10, 20: 필름 130, 230: 상전이 물질
100, 200: 기재층 140: 방담 물질
110, 210: 선 240: 보호층
120, 220: 오목부10, 20:
100, 200: base layer 140: antifogging material
110, 210: line 240: protective layer
120, 220: concave portion
Claims (18)
상기 기재층의 오목부에 존재하는 상전이 물질; 및
상기 상전이 물질이 점유된 상태의 오목부에 방담 물질을 포함하고,
상기 상전이 물질은 열에 의해서 적외선 투과율이 변화하는 물질이며,
상기 방담 물질은 친수성 작용기를 가지는 화합물을 포함하고,
25℃의 온도에서 550 nm 파장의 광에 대한 투과율(T550)이 57.5% 이상이며,
하기 수식 1에 따른 △T2000의 절대값이 10% 이상인 필름:
[수식 1]
△T2000 = T2000.L - T2000.H
수식 1에서 T2000.L은 25℃의 온도에서의 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이고, T2000.H는 90℃의 온도에서 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이다.a substrate layer having one or more concave portions forming lines on the surface;
a phase change material present in the concave portion of the substrate layer; and
Including an anti-fog material in the concave portion in which the phase change material is occupied,
The phase change material is a material whose infrared transmittance is changed by heat,
The anti-fogging material includes a compound having a hydrophilic functional group,
The transmittance (T 550 ) of light having a wavelength of 550 nm at a temperature of 25 ° C is 57.5% or more,
A film having an absolute value of ΔT 2000 of 10% or more according to Equation 1 below:
[Equation 1]
△T 2000 = T 2000.L - T 2000.H
In Equation 1, T 2000.L is the transmittance of the film at a temperature of 25°C to 2,000 nm wavelength light, and T 2000.H is the transmittance of the film to 2,000 nm wavelength light at a temperature of 90°C.
[수식 2]
△T550 = T550.L - T550.H
수식 2에서 T550.L은 25℃의 온도에서의 상기 필름의 550 nm 파장의 광에 대한 투과율이고, T550.H는 90℃의 온도에서 상기 필름의 550 nm 파장의 광에 대한 투과율이다.The film according to claim 1, wherein the absolute value of ΔT 550 according to Equation 2 below is 5% or less:
[Formula 2]
ΔT 550 = T 550.L - T 550.H
In Equation 2, T 550.L is the transmittance of the film at a temperature of 25°C to light with a wavelength of 550 nm, and T 550.H is the transmittance of the film to light with a wavelength of 550 nm at a temperature of 90°C.
[수식 3]
△TA550,30 = T550.A - T550.B
수식 3에서 T550.A는 상기 필름의 25℃의 대기 조건에서 30일 유지한 후의 상기 필름의 550 nm 파장의 광에 대한 25℃에서의 투과율이고, T550.B는 상기 25℃의 대기 조건에서 30일 유지하기 전의 상기 필름의 550 nm 파장의 광에 대한 25℃에서의 투과율이다:
[수식 4]
△TA2000,30 = △T2000.A - △T2000.B
수식 4에서 △T2000.A는 상기 필름의 25℃의 대기 조건에서 30일 유지한 후의 하기 수식 1에 따라 확인한 △T2000의 절대값이고, △T2000.B는 상기 25℃의 대기 조건에서 30일 유지하기 전의 상기 필름에 대해서 하기 수식 1에 따라 확인한 △T2000의 절대값이다:
[수식 1]
△T2000 = T2000.L - T2000.H
수식 1에서 T2000.L은 25℃의 온도에서의 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이고, T2000.H는 90℃의 온도에서 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이다.The film according to claim 1, wherein the absolute value of ΔTA 550,30 according to Equation 3 below is 1.5% or less, and the absolute value of ΔTA 2000,30 according to Equation 4 below is 2% or less:
[Formula 3]
ΔTA 550,30 = T 550.A - T 550.B
In Equation 3, T 550.A is the transmittance of the film at 25° C. to light having a wavelength of 550 nm after maintaining the film at 25° C. for 30 days, and T 550.B is the transmittance at 25° C. at 25° C. The transmittance at 25° C. to light of 550 nm wavelength of the film before being held for 30 days at
[Formula 4]
△TA 2000,30 = △T 2000.A - △T 2000.B
In Equation 4, ΔT 2000.A is the absolute value of ΔT 2000 determined according to Equation 1 after maintaining the film for 30 days under atmospheric conditions of 25 ° C., and ΔT 2000.B is the absolute value of ΔT 2000. It is the absolute value of ΔT 2000 confirmed according to Equation 1 below for the film before holding for 30 days:
[Equation 1]
△T 2000 = T 2000.L - T 2000.H
In Equation 1, T 2000.L is the transmittance of the film at a temperature of 25°C to 2,000 nm wavelength light, and T 2000.H is the transmittance of the film to 2,000 nm wavelength light at a temperature of 90°C.
[수식 5]
△TA550,60 = T550.C - T550.D
수식 5에서 T550.C는 상기 필름의 25℃의 대기 조건에서 60일 유지한 후의 상기 필름의 550 nm 파장의 광에 대한 25℃에서의 투과율이고, T550.D는 상기 25℃의 대기 조건에서 60일 유지하기 전의 상기 필름의 550 nm 파장의 광에 대한 25℃에서의 투과율이다:
[수식 6]
△TA2000,60 = △T2000.C - △T2000.D
수식 6에서 △T2000.C는 상기 필름의 25℃의 대기 조건에서 60일 유지한 후의 하기 수식 1에 따라 확인한 △T2000의 절대값이고, △T2000.D는 상기 25℃의 대기 조건에서 60일 유지하기 전의 상기 필름에 대해서 하기 수식 1에 따라 확인한 △T2000의 절대값이다:
[수식 1]
△T2000 = T2000.L - T2000.H
수식 1에서 T2000.L은 25℃의 온도에서의 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이고, T2000.H는 90℃의 온도에서 상기 필름의 2,000 nm 파장의 광에 대한 투과율이다.The film according to claim 15, wherein the absolute value of ΔTA 550,60 according to Equation 5 below is 0.5% or less, and the absolute value of ΔTA 2000,60 according to Equation 6 below is 0.3% or less:
[Formula 5]
ΔTA 550,60 = T 550.C - T 550.D
In Equation 5, T 550.C is the transmittance of the film at 25 ° C for light having a wavelength of 550 nm after maintaining the film at 25 ° C for 60 days, and T 550.D is the 25 ° C atmospheric condition. The transmittance at 25° C. to light of 550 nm wavelength of the film before being held for 60 days at
[Formula 6]
△TA 2000,60 = △T 2000.C - △T 2000.D
In Equation 6, ΔT 2000.C is the absolute value of ΔT 2000 determined according to Equation 1 after maintaining the film for 60 days under atmospheric conditions at 25 ° C, and ΔT 2000.D is the absolute value of ΔT 2000. It is the absolute value of ΔT 2000 confirmed according to Equation 1 below for the film before holding for 60 days:
[Equation 1]
△T 2000 = T 2000.L - T 2000.H
In Equation 1, T 2000.L is the transmittance of the film at a temperature of 25°C to 2,000 nm wavelength light, and T 2000.H is the transmittance of the film to 2,000 nm wavelength light at a temperature of 90°C.
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