KR102465656B1 - Plasma device for surface treatment of powder using horizontal plate electrode - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 수평 전극에 진동을 가하여, 상기 수평 전극 위에서 나노 또는 마이크로 크기의 분말을 보다 균일하게 표면처리할 수 있는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode, and more particularly, to a horizontal electrode capable of more uniform surface treatment of nano- or micro-sized powder on the horizontal electrode by applying vibration to the horizontal electrode. It relates to a plasma device for powder surface treatment using the present invention.
일반적으로 탄소나노튜브, 그래핀 등 탄소나노분말 소재는 우수한 물성에도 불구하고 상호 응집이 일어나기 쉬우므로,사업화되기 위해서는 모재나 용매에 균일하게 섞이게 하는 분산 기술이 필수적이다.In general, carbon nanopowder materials such as carbon nanotubes and graphene are prone to mutual aggregation despite their excellent physical properties, so a dispersion technology that uniformly mixes them in a base material or solvent is essential for commercialization.
종래의 분산 기술은 초음파, 밀링 등의 기계적 방식, 강산, 계면활성제의 화학 반응을 이용한 습식 방식 및 플라즈마를 이용한 건식 방식으로 구분될 수 있다.Conventional dispersion techniques can be divided into mechanical methods such as ultrasonic waves and milling, wet methods using chemical reactions of strong acids and surfactants, and dry methods using plasma.
기계적 방식이나 습식 방식은, 복잡한 공정, 긴 공정시간, 소재의 손상, 불순물 잔류, 폐수 발생 등의 문제점이 있다.The mechanical method or the wet method has problems such as complicated process, long process time, material damage, impurities remaining, and wastewater generation.
반면, 건식 플라즈마 방식은 양산성이나 환경 친화성 등을 고려 시 선호되는 방법이나, 나노분말에 플라즈마 표면처리를 하기 위해서는 나노분말을 균일한 처리가 되도록 분말을 회전, 교반 장치가 필수적이며, 분말의 크기가 작아질수록 균일한 표면처리가 매우 어렵고, 기능화 효율이 낮으며, 처리시간이 오래 걸리는 문제점이 있다. On the other hand, the dry plasma method is the preferred method when considering mass productivity or environmental friendliness, but in order to treat the nanopowder with plasma, a device for rotating and stirring the powder is essential to treat the nanopowder uniformly. As the size decreases, uniform surface treatment is very difficult, functionalization efficiency is low, and processing time is long.
최근에는 친환경 플라즈마 건식 방식에서 회전이나 교반 등 기계적인 방법을 이용하여 분말을 섞어주는 기술이 채택되고 있으나, 기능화 효율이 낮으며, 회전이나 교반하더라도 챔버 내에서 부유하는 다량의 분말을 균일하게 처리하는 것은 매우 어려운 문제점이 있다. Recently, a technique of mixing powder using mechanical methods such as rotation or stirring has been adopted in the eco-friendly plasma dry method, but the functionalization efficiency is low, and even if rotated or stirred, a large amount of powder floating in the chamber is uniformly processed. It has a very difficult problem.
본 발명의 목적은, 비용은 절감되고 양산성은 향상시킬 수 있는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치를 제공하는 데 있다. An object of the present invention is to provide a plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode that can reduce cost and improve mass productivity.
본 발명에 따른 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치는, 플라즈마가 생성되는 공간을 형성하는 챔버와; 상기 챔버의 내부에 수평방향으로 설치되고, 상면에 분말이 올려지도록 평평한 평판 형상으로 형성되며, 전원 인가시 플라즈마를 생성하여 상기 분말을 표면처리하여 기능화시키는 수평 전극과; 상기 수평 전극에 진동을 가하여, 상기 수평 전극의 상면에서 상기 분말들끼리 위치가 서로 바뀌도록 하여 상기 분말들을 고르게 표면처리시키기 위한 진동 발생기를 포함한다.A plasma apparatus for powder surface treatment using a horizontal electrode according to the present invention includes a chamber forming a space in which plasma is generated; a horizontal electrode installed in the chamber in a horizontal direction, formed in a flat flat plate shape so that powder is placed on the upper surface, and generating plasma when power is applied to surface-treat the powder to functionalize it; and a vibration generator for evenly surface-treating the powders by applying vibration to the horizontal electrode so that the positions of the powders are exchanged with each other on the upper surface of the horizontal electrode.
상기 수평 전극은, 다수의 홀들이 형성된 다공성의 필터 전극을 포함한다.The horizontal electrode includes a porous filter electrode in which a plurality of holes are formed.
상기 필터 전극의 내부 압력을 감소시켜, 상기 필터 전극의 상면에 상기 분말들을 흡착시키기 위한 흡착수단을 더 포함한다.An adsorption means for adsorbing the powders on the upper surface of the filter electrode by reducing the internal pressure of the filter electrode may be further included.
상기 진동 발생기는, 상기 수평 전극이 상하, 좌우, 회전 및 자이로 운동 중 적어도 하나가 가능하도록 진동을 가한다. The vibration generator applies vibration so that the horizontal electrode can perform at least one of vertical, horizontal, rotational, and gyro motion.
상기 진동 발생기는, 상기 수평 전극에 연결되어, 전원 인가시 회전력에 의해 상기 수평 전극에 진동을 가하는 진동 모터를 포함한다.The vibration generator includes a vibration motor connected to the horizontal electrode and applying vibration to the horizontal electrode by rotational force when power is applied.
상기 진동 발생기는, 상기 수평 전극의 하부에 구비되고, 압축 공기에 의해 피스톤을 이동시켜 상기 수평 전극에 진동을 가하는 에어 노커(Air knocker)를 포함한다.The vibration generator includes an air knocker provided below the horizontal electrode and applying vibration to the horizontal electrode by moving a piston with compressed air.
상기 진동 발생기는, 상기 수평 전극의 하부에 구비되고, 전원 인가시 발생되는 전자기력을 이용하여 상기 수평 전극에 진동을 가하는 전자 해머를 포함한다. The vibration generator includes an electronic hammer provided below the horizontal electrode and applying vibration to the horizontal electrode using electromagnetic force generated when power is applied.
상기 진동 발생기는, 상기 수평 전극의 하부에 구비되고, 전원 인가시 발생되는 초음파를 이용하여 상기 수평 전극에 진동을 가하는 초음파 진동자를 포함한다.The vibration generator includes an ultrasonic vibrator provided below the horizontal electrode and applying vibration to the horizontal electrode using ultrasonic waves generated when power is applied.
상기 진동 발생기는, 상기 수평 전극의 하부에 연결부재에 의해 연결되고, 음향을 발생시키고 공명시켜 상기 수평 전극에 음향 진동을 가하는 음향 진동 모듈을 포함한다.The vibration generator includes an acoustic vibration module connected to a lower portion of the horizontal electrode by a connecting member and applying acoustic vibration to the horizontal electrode by generating and resonating sound.
상기 수평 전극은, 복수개가 상하방향으로 서로 이격되게 적층되어 배치된다. A plurality of the horizontal electrodes are stacked and disposed spaced apart from each other in the vertical direction.
상기 수평 전극의 상면에 상기 분말을 공급하는 분말 공급부를 포함하고, 상기 분말 공급부로부터 공급되는 상기 분말의 양에 따라 상기 진동 발생기의 진동 강도를 제어하는 제어부를 더 포함한다.A powder supply unit supplying the powder to an upper surface of the horizontal electrode, and a control unit controlling vibration strength of the vibration generator according to an amount of the powder supplied from the powder supply unit.
본 발명에 따른 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치는, 플라즈마가 생성되는 공간을 형성하는 챔버와; 상기 챔버의 내부에 수평방향으로 설치되고 복수개가 상하방향으로 서로 이격되게 적층되어 배치되며, 각 상면에 분말이 올려지도록 평평한 평판 형상으로 형성되며, 전원 인가시 플라즈마를 생성하여 상기 분말을 표면처리하여 기능화시키는 수평 전극과; 상기 수평 전극에 기계적 진동을 가하여, 상기 수평 전극의 상면에서 상기 분말들끼리 위치가 서로 바뀌도록 하여 상기 분말들을 고르게 표면처리시키기 위한 진동 발생기와; 상기 수평 전극의 상면에 상기 분말을 공급하는 분말 공급부를 포함하고, 상기 분말 공급부로부터 공급되는 상기 분말의 양에 따라 상기 진동 발생기의 진동 강도를 제어하는 제어부를 포함한다.A plasma apparatus for powder surface treatment using a horizontal electrode according to the present invention includes a chamber forming a space in which plasma is generated; It is installed in the horizontal direction inside the chamber, and a plurality of them are stacked and arranged spaced apart from each other in the vertical direction, and are formed in a flat flat plate shape so that powder is placed on each upper surface. a horizontal electrode for functionalization; a vibration generator for evenly surface-treating the powders by applying mechanical vibration to the horizontal electrode so that the powders change positions on the upper surface of the horizontal electrode; A powder supply unit supplying the powder to the upper surface of the horizontal electrode, and a control unit controlling vibration strength of the vibration generator according to an amount of the powder supplied from the powder supply unit.
본 발명에 따른 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치는, 수평방향으로 배치되고 평평한 판 형상의 수평 전극 위에 분말들을 올려두고 플라즈마 처리함으로써, 분말들이 수평 전극의 표면으로부터 이탈되어 공중에 부유하는 현상이 거의 발생되지 않고 분말들이 수평 전극의 표면에 접촉된 상태에서 처리되므로 분말들의 손실이 거의 발생하지 않고, 보다 신속하고 균일하게 표면처리할 수 있는 이점이 있다.Plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode according to the present invention is a phenomenon in which powders are separated from the surface of the horizontal electrode and float in the air by placing powders on a flat plate-shaped horizontal electrode and performing plasma treatment. Since this rarely occurs and the powders are processed in a state of being in contact with the surface of the horizontal electrode, there is an advantage in that the powders are hardly lost and the surface can be treated more quickly and uniformly.
또한, 플라즈마 처리하는 동안 수평 전극에 진동을 가하여 수평 전극을 두드리는 효과를 줌으로써, 수평 전극의 표면에 상대적으로 보다 가까이 위치한 분말과 멀리 위치한 분말의 위치가 서로 바뀌는 것이 반복적으로 이루어져 분말들을 보다 균일하게 표면처리할 수 있는 이점이 있다.In addition, by applying vibration to the horizontal electrode during plasma treatment to give the effect of tapping the horizontal electrode, the position of the powder located relatively closer to the surface of the horizontal electrode and the powder located farther are repeatedly exchanged with each other, resulting in a more uniform surface of the powder. There are benefits to dealing with it.
또한, 수평 전극들을 상하방향으로 복수개 적층시킴으로써, 한번에 처리할 수 있는 용량을 조절 가능하다. In addition, by stacking a plurality of horizontal electrodes in the vertical direction, it is possible to adjust the capacity that can be processed at one time.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치를 개략적으로 나타낸 구성도이다.
도 2는 도 1에 도시된 수평 전극을 나타낸 측면도이다.
도 3은 본 발명의 제2실시예에 따른 수평 전극을 나타낸 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제3실시예에 따른 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 제4실시예에 따른 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 제5실시예에 따른 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 7은 도 6에 도시된 평판 전극을 나타낸 측면도이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 평판 전극과 필터 전극의 기능화를 비교한 그래프이다.1 is a schematic configuration diagram of a plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode according to a first embodiment of the present invention.
2 is a side view showing the horizontal electrode shown in FIG. 1;
3 is a cross-sectional view showing a horizontal electrode according to a second embodiment of the present invention.
4 is a diagram schematically showing a plasma apparatus for powder surface treatment using a horizontal electrode according to a third embodiment of the present invention.
5 is a diagram schematically showing a plasma apparatus for powder surface treatment using a horizontal electrode according to a fourth embodiment of the present invention.
6 is a diagram schematically showing a plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a side view illustrating the flat electrode shown in FIG. 6 .
8 is a graph comparing functionalization of a flat plate electrode and a filter electrode according to an embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치를 개략적으로 나타낸 구성도이다. 도 2는 도 1에 도시된 필터 전극을 나타낸 측면도이다. 1 is a schematic configuration diagram of a plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a side view illustrating the filter electrode shown in FIG. 1 .
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 분말 표면처리용 플라즈마 장치는, 수평 전극이 다수의 홀들이 형성된 다공성의 필터 전극(20)(이하, 필터 전극이라 칭함)인 것으로 예를 들어 설명한다.1 and 2, in the plasma device for powder surface treatment according to the first embodiment of the present invention, the horizontal electrode is a porous filter electrode 20 (hereinafter referred to as a filter electrode) in which a plurality of holes are formed. explain with an example.
상기 분말은, 탄소나노튜브, 그래핀 등 나노 또는 마이크로 크기의 분말을 포함한다. The powder includes nano- or micro-sized powders such as carbon nanotubes and graphene.
상기 분말 표면 처리용 플라즈마 장치는, 챔버(10), 필터 전극(20), 흡착수단(30) 및 진동 발생기를 포함한다.The plasma device for powder surface treatment includes a
상기 챔버(10)는, 상기 복수의 필터 전극들(20)이 수용되고, 내부에서 플라즈마가 생성되는 공간을 형성한다. 상기 챔버(10)에는 전원장치(미도시), 외부 가스를 공급하는 가스 공급부(미도시)가 연결된다. 상기 챔버(10)는 접지되어 그라운드 전극 역할을 한다. The
상기 챔버(10)의 내부에는 상기 복수의 필터 전극들(20)이 끼워지는 랙(Rack)(25)이 구비된다. 다만, 이에 한정되지 않고, 상기 랙(25)을 사용하지 않고, 상기 복수의 필터 전극들(20)을 서로 소정간격 이격되게 상하방향으로 적층 배치하는 것도 물론 가능하다. A
상기 랙(25)은, 상기 챔버(10)의 내부에 고정 설치되는 것도 가능하고, 상기 챔버(10)로부터 인출가능하도록 설치되어 상기 복수의 필터 전극들(20)이 끼운 후 다시 인입하는 것도 물론 가능하다. The
상기 필터 전극(20)은, 상기 전원장치(미도시)로부터 전원이 인가되는 전원 전극이다. 상기 필터 전극(20)은, 상기 전원장치(미도시)로부터 전원이 인가되고 상기 가스 공급부(미도시)로부터 상기 챔버(10)의 내부로 가스가 공급되면, 상기 챔버(10)의 내부에 플라즈마를 발생시킨다. 본 실시예에서는, 상기 챔버(10)가 그라운드 전극인 것으로 예를 들어 설명하나, 이에 한정되지 않고, 상기 필터 전극(20)의 일측과 타측이 전위차를 갖는 서로 다른 전극으로 구성되어 플라즈마를 발생시키도록 구성되는 것도 물론 가능하다.The
상기 필터 전극(20)에서 발생한 플라즈마는 상기 분말을 표면 처리하여 기능화시킨다. 상기 분말의 표면 기능화는 기존 물성의 저하 없이 분말들끼리는 응집되지 않게 분산시키되, 상기 분말과 다른 이종 재료의 계면 결합력은 향상시킬 수 있다. Plasma generated from the
상기 필터 전극(20)은, 상기 챔버(10)내에 수평방향으로 배치되고, 상면에 분말이 올려지도록 평평한 판 형상으로 형성된다. 상기 필터 전극(20)은, 사각판 형상인 것으로 예를 들어 설명하나, 이에 한정되지 않고 원판 형상인 것도 물론 가능하다. The
상기 필터 전극(20)은 복수개가 상하방향 또는 수평방향으로 서로 이격공간을 가지도록 적층되어 배치된다. 본 실시예에서는, 상기 복수의 필터 전극들(20)은 상기 랙(25)에 10개가 상하방향으로 이격되게 끼워진 것으로 예를 들어 설명한다. 상기 필터 전극들(20)의 적층 개수는 처리 용량에 따라 조절가능하다. The plurality of
상기 필터 전극(20)은, 다수의 홀들이 형성된 다공성 필터 전극이다. 상기 필터 전극(20)은, 다공질체나 다공성 메쉬로 형성된 필터부(20a)와, 상기 필터부(20a)의 하부에 형성되고 후술하는 진공 펌프(32)에 의해 진공 상태가 되는 진공부(20b)를 포함한다. 상기 필터 전극(20)은 상면만 다공성 구조를 가지도록 형성되는 것도 물론 가능하다. 상기 다수의 홀들은, 나노 또는 마이크로 단위 사이즈로 가공되며, 상기 분말의 크기보다는 작게 형성되거나 나노 부직포가 구비되어 상기 분말이 통과하지는 못하도록 형성되는 것이 바람직하다. 본 실시예에서는, 상기 홀들은 약 100 내지 1000nm의 크기인 것으로 예를 들어 설명한다. 또한, 상기 필터 전극(20)은 상기 홀들이 형성가능하도록 스테인레스(SUS, Stain use stainless)로 형성된 것으로 예를 들어 설명한다.The
상기 흡착수단(30)은, 상기 필터 전극(20)의 내부 압력을 감소시켜, 상기 필터 전극(20)의 표면에 상기 분말을 흡착시키기 위한 장치이다.The adsorption means 30 is a device for adsorbing the powder on the surface of the
상기 흡착수단(30)은, 진공 펌프(32), 진공 유로(33) 및 분말을 걸러주기 위한 분말 차단부(미도시)를 포함한다.The adsorbing means 30 includes a
상기 진공 펌프(32)는, 상기 챔버(10)의 외부에 설치되어, 상기 복수의 필터 전극들(20)의 내부로부터 공기를 흡입하여 상기 복수의 필터 전극들(20)의 내부를 진공상태로 형성한다. The
상기 진공 유로(33)는, 상기 진공 펌프(32)와 상기 복수의 필터 전극들(20)의 각 하부를 연결하는 유로이다. 상기 진공 유로(33)의 일단부는 상기 복수의 필터 전극들(20)의 하부에 각각 연결되고, 타단부는 상기 진공 펌프(32)에 연결된다. 상기 진공 유로(33)는, 상기 필터 전극(20)의 진공부(20b)에 연결된다. The
다만, 이에 한정되지 않고, 상기 진공 펌프(32)는, 상기 필터 전극(20)의 각 하부마다 설치되는 것도 가능하고, 상기 랙(25)에 설치되는 것도 물론 가능하다. However, the present invention is not limited thereto, and the
상기 진동 발생기는, 상기 필터 전극(20)에 진동을 가하여, 상기 필터 전극(20)의 상면에서 상기 분말들끼리 위치가 서로 바뀌도록 하여 상기 분말들이 고르게 표면처리시키기 위한 장치이다. 상기 진동 발생기는, 상기 필터 전극(20)의 하부를 두드리는 효과와 같은 진동을 발생시켜, 상기 필터 전극(20)의 표면에 상대적으로 가까이 위치한 분말과 멀리 위치한 분말의 위치를 서로 바꾸어 줄 수 있다. 따라서, 상기 필터 전극(20)의 상면에 놓인 분말들이 고르게 표면처리될 수 있다. The vibration generator is a device for applying vibration to the
상기 진동 발생기는, 기계식 진동, 음향 진동 및 초음파 진동 중 적어도 하나를 발생시켜 상기 필터 전극(20)에 진동을 가할 수 있다. 또한, 상기 진동 발생기(미도시)는 상기 평판 전극(520)이 상하, 좌우, 회전 및 자이로 모션 등 다양한 거동을 하도록 진동을 가할 수 있다. 또한, 상기 진동 발생기(미도시)는, 비연속적 또는 주기적으로 진동을 가할 수도 있다. The vibration generator may apply vibration to the
본 실시예에서는, 상기 진동 발생기는 초음파 진동자(40)인 것으로 예를 들어 설명한다. In this embodiment, the vibration generator will be described as being an
도 2를 참조하면, 상기 초음파 진동자(40)는, 상기 필터 전극(20)의 하부에 구비되고, 상기 전원 장치(미도시)로부터 인가되는 전원에 따라 초음파를 발생시키고, 이를 이용하여 상기 필터 전극(20)에 진동을 가한다. Referring to FIG. 2 , the
한편, 상기 분말 표면처리용 플라즈마 장치는, 상기 필터 전극(20)의 상면에 상기 분말들을 공급하는 분말 공급부(미도시)를 포함한다.Meanwhile, the plasma device for powder surface treatment includes a powder supply unit (not shown) supplying the powders to the upper surface of the
상기 분말 공급부(미도시)는, 상기 분말 공급부(미도시)가 상기 챔버(10)와 별도로 구비되어, 상기 필터 전극(20)을 상기 챔버(10)내에 배치하기 전에 상기 필터 전극(20)의 상면에 상기 분말들을 공급한 후 상기 분말들이 놓인 상기 필터 전극(20)을 상기 챔버(10)내에 배치시키는 것으로 예를 들어 설명한다. 다만, 이에 한정되지 않고, 상기 분말 공급부(미도시)는 상기 챔버(10)의 내부에 구비되어, 상기 필터 전극(20)이 상기 챔버(10)내에 배치된 상태의 상기 필터 전극(20)의 상면에 상기 분말들을 공급하는 것도 물론 가능하다. 상기 분말 공급부(미도시)는, 상기 복수의 필터 전극들(20)사이의 이격 공간마다 배치되어 상기 이격 공간들로 일괄적으로 분사하는 것도 가능하고, 하나의 분말 분사기(미도시)가 상하방향으로 이동가능하도록 설치되어 이동하면서 상기 필터 전극들(20)사이의 이격 공간마다 연속적으로 분사하는 것도 물론 가능하다. 또한, 상기 분말 분사기(미도시)는, 상기 챔버(10)의 내부로 분말을 분사하는 것도 물론 가능하다. The powder supply unit (not shown) is provided separately from the
상기 필터 전극(20)은 평판형상으로 형성되기 때문에, 상기 분말 공급부(미도시)를 통해 상기 필터 전극(20)의 상면에 분말들을 올리는 것이 용이하다. Since the
상기와 같이 구성된 본 발명의 제1실시예에 따른 플라즈마 장치의 작동을 설명하면, 다음과 같다.The operation of the plasma device according to the first embodiment of the present invention configured as described above will be described as follows.
상기 복수의 필터 전극들(20)의 각 상면에 분말을 올린 후, 상기 필터 전극들(20)을 상기 랙(25)에 끼워 적층 배치한다. After the powder is placed on each upper surface of the plurality of
본 실시예에서는, 상기 랙(25)에 상기 복수의 필터 전극들(20)을 끼워 적층 배치하는 것으로 예를 들어 설명하나, 이에 한정되지 않고, 상기 랙(25)을 사용하지 않고 상기 복수의 필터 전극들(20)이 서로 소정간격 이격되게 적층 배치하는 것도 물론 가능하다. In this embodiment, an example is described in which the plurality of
또한, 상기 실시예에 한정되지 않고, 상기 챔버(10)의 내부에 미리 장착된 상기 복수의 필터 전극들(20)에 분말을 각각 공급하는 것도 물론 가능하다.In addition, it is also possible to supply powder to each of the plurality of
상기 진공 펌프(32)를 작동시키면, 상기 진공 펌프(32)의 흡입 압력에 의해 상기 필터 전극들(20)의 진공부(20b)의 내부 압력이 감소된다.When the
상기 필터 전극들(20)의 진공부(20b)의 내부가 진공 상태가 되면, 상기 분말은 상기 필터 전극들(20)의 표면에 흡착된다. 즉, 상기 분말들에는 상기 필터 전극들(20)의 표면을 향한 방향으로 흡착력(B)이 작용한다. When the inside of the
또한, 상기 초음파 진동자(40)를 작동시키면, 상기 초음파 진동자(40)에 의해 상기 필터 전극들(20)에 진동이 가해진다. In addition, when the
상기 필터 전극(20)의 하부에 진동이 가해지면, 상기 필터 전극(20)의 상면에서 상기 분말들의 위치가 바뀌면서 고르게 분산된다. 상기 초음파 진동자(40)는 상기 필터 전극(20)을 두드리는 효과를 발생시키므로, 상기 필터 전극(20)의 표면에 상대적으로 가까이 위치한 분말과 멀리 위치한 분말의 위치가 서로 바뀌게 된다. When vibration is applied to the lower part of the
즉, 도 2를 참조하면, 상기 필터 전극(20)에 놓인 분말들에는 상기 필터 전극들(20)의 표면을 향한 방향의 흡착력(B)과 상기 필터 전극(20)의 표면으로부터 튕기는 방향의 분산력(A)이 작용한다. 이 때, 상기 흡착력(B)과 상기 분산력(A)은, 상기 진공 펌프(30)의 흡입력과 상기 초음파 진동자(40)의 진동 세기에 따라 조절 가능하다. 상기 흡착력(B)과 상기 분산력(A)은 실험 등에 의해 최적의 값을 산출가능하다. 상기 흡착력(B)과 상기 분산력(A)을 적절하게 조절함으로써, 상기 분말들이 상기 필터 전극(20)의 표면으로부터 날아가지 않으면서 서로 위치 이동만 가능하여, 분말들 전체가 고르게 플라즈마 표면 처리가 가능하다. That is, referring to FIG. 2 , the powders placed on the
또한, 상기 필터 전극들(20)이 복수개가 상하방향으로 적층되고, 상기 필터 전극들(20)이 미리 설정된 최소 간격으로 이격되며, 상기 진동 발생기(미도시)의 진동 강도가 소정의 강도 이상으로 높게 설정될 경우, 상기 필터 전극들(20)에 진동이 가해지면 상기 필터 전극들(20) 중에서 하측에 있는 전극으로부터 튕겨진 분말이 상측에 있는 전극의 표면에 접촉되면서 표면처리되는 것도 가능하다. In addition, a plurality of
또한, 상기 필터 전극(20)의 표면 중에서 특정 부분에 일정 두께 이상으로 분말이 쌓이는 것이 방지될 수 있다. In addition, it is possible to prevent powder from being piled up to a certain thickness or more on a specific portion of the surface of the
또한, 상기 초음파 진동자(40)를 이용해 상기 필터 전극(20)을 두드리는 효과를 줌으로써, 상기 필터 전극(20)의 표면에서 분말을 완전히 떼어내서 부유시켜 분산시킨 후 다시 흡착시킬 필요가 없으므로, 분말을 부유시키는 경우에 비해 처리 시간이 단축될 수 있다. In addition, by giving the effect of tapping the
따라서, 상기 필터 전극(20)의 표면에 분말들이 흡착된 상태에서 위치 이동이 가능하여 고르게 혼합되어, 분말들이 고르게 플라즈마에 의해 표면처리된다.Therefore, while the powders are adsorbed on the surface of the
상기 플라즈마에 의해 표면처리되는 공정은 미리 설정된 설정 시간동안 수행될 수 있다. 상기 설정시간이 경과하면, 플라즈마 처리를 중단하고, 상기 분말을 수거한다. The process of surface treatment by the plasma may be performed for a preset time. When the set time elapses, the plasma treatment is stopped and the powder is collected.
상기와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 분말 표면처리용 플라즈마 장치는, 복수의 수평 전극들 위에 분말들이 놓이기 때문에, 구조가 간단하면서도 수평 전극들의 적층 개수를 증가시킬 수 있으므로 한번에 처리할 수 있는 용량을 최대화시킬 수 있다. As described above, since powders are placed on a plurality of horizontal electrodes, the plasma device for powder surface treatment according to the first embodiment of the present invention has a simple structure and can increase the number of stacked horizontal electrodes, so that it can be processed at once. capacity can be maximized.
또한, 수평 전극들의 표면에 분말들이 올려지는 구조이므로, 분말들을 부유시킨 후 흡착시키는 경우에 비하여 처리되지 않고 버려지는 분말들이 최소화될 수 있으므로, 상기 필터 전극(20)의 표면으로부터 분말을 완전히 떼어냈다가 분산시키는 것을 반복하는 반복 공정이 필요없으므로, 처리 효율이 향상될 수 있다. In addition, since the powders are placed on the surface of the horizontal electrodes, the powders that are discarded without being treated can be minimized compared to the case where the powders are suspended and then adsorbed, so the powders are completely removed from the surface of the
또한, 상기 진동 발생기를 이용하여 상기 필터 전극(20)에 진동을 가하여, 상기 흡착력(B)과 상기 분산력(A)을 적절하게 조절함으로써, 상기 분말들이 상기 필터 전극(20)의 표면으로부터 날아가지 않으면서 서로 위치 이동이 가능하여, 분말들 전체가 고르게 플라즈마 표면 처리가 가능하다. In addition, by applying vibration to the
한편, 도 3은 본 발명의 제2실시예에 따른 수평 전극을 나타낸 단면도이다.Meanwhile, FIG. 3 is a cross-sectional view showing a horizontal electrode according to a second embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 본 발명의 제2실시예에서는 수평 전극은 다공성의 필터 전극(220)인 것으로 예를 들어 설명하고, 상기 필터 전극(220)은, 상면 필터부(220a), 하면 필터부(220b) 및 진공부(220c)를 포함하는 것이 상기 제1실시예와 상이하고, 그 외 나머지 구성 및 작용은 유사하므로 상이한 구성을 중심으로 설명하고 유사 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.Referring to FIG. 3, in the second embodiment of the present invention, the horizontal electrode is described as an example of a
상기 필터 전극(220)은 다공성 구조를 가지도록 형성되고, 복수개가 상하방향으로 서로 이격공간을 가지도록 적층되어 배치된다. The
상기 상면 필터부(220a)와 상기 하면 필터부(220b)는, 다공질체나 다공성 메쉬로 형성된다. 상기 상면 필터부(220a)와 상기 하면 필터부(220b)는, 나노 또는 마이크로 단위 사이즈로 가공되며, 구멍이 상기 분말의 크기보다는 작게 형성되거나 나노 부직포를 구비하여 상기 분말이 통과하지는 못하도록 형성되는 것이 바람직하다. The
상기 진공부(220c)는, 상기 상면 필터부(220a)와 상기 하면 필터부(220b)사이에 형성되어, 상기 진공 펌프(32)에 의해 진공 상태가 된다. 상기 진공부(220c)에는 진공 유로(33)가 연결된다. The
상기 진공 펌프(32)의 작동되면, 상기 진공 펌프(32)가 상기 진공부(220c)의 내부 공기를 흡입하게 되어 상기 진공부(220c)의 내부가 진공상태가 된다.When the
상기 진공부(220c)의 내부가 진공상태가 되면, 상기 챔버(10)의 내부 또는 상기 필터 전극(220)의 주변으로 공급된 분말이 상기 상면 필터부(220a)와 상기 하면 필터부(220b)의 표면에 흡착될 수 있다. When the inside of the
따라서, 상기 필터 전극(220)의 상,하면에 모두 분말들이 흡착되어 플라즈마 표면처리될 수 있으므로, 플라즈마 처리 용량이 증가될 수 있다. Therefore, since the powders are adsorbed on both the upper and lower surfaces of the
한편, 도 4는 본 발명의 제3실시예에 따른 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.Meanwhile, FIG. 4 is a diagram schematically showing a plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode according to a third embodiment of the present invention.
도 4를 참조하면, 본 발명의 제3실시예에 따른 수평 전극을 이용한 분말 처리용 플라즈마 장치에서 수평 전극은 다공성의 필터 전극(320)인 것으로 예를 들어 설명하고, 챔버(310), 필터 전극(320), 흡착수단(330) 및 진동 발생기를 포함하되, 상기 진동 발생기는 음향 진동 모듈(355)인 것이 상기 제1실시예와 상이하고, 그 외 나머지 구성 및 작용은 유사하므로 상이한 구성을 중심으로 설명하고 유사 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.Referring to FIG. 4, in the plasma device for powder processing using horizontal electrodes according to the third embodiment of the present invention, the horizontal electrode is described as an example of a
상기 음향 진동 모듈(355)은, 음향을 발생시키고 공명시켜, 상기 필터 전극(320)에 음향 진동을 발생시키는 음향 공명 진동기이다.The
상기 음향 진동 모듈(355)의 상부는 연결 부재(352)에 의해 상기 필터 전극(320)과 연결된다.An upper portion of the
본 실시예에서는, 상기 필터 전극(320)이 한 개가 배치된 것으로 예를 들어 설명하였으나, 이에 한정되지 않고 상기 필터 전극(320)은 복수개가 상하방향 또는 수평방향으로 서로 소정간격 이격되게 배치될 수 있다. In the present embodiment, it has been described that one
상기 필터 전극(320)의 내부에는 진공 펌프(미도시)와 연결되는 진공 유로(333)가 연결된다. A
또한, 상기 챔버의 내부에 구비되어 상기 필터 전극(320)이 끼워지도록 형성된 랙(Rack)이 구비되며, 상기 랙과 상기 필터 전극(320)사이에는 상기 필터 전극(320)의 진동시 충격을 흡수하는 충격흡수부재(미도시)가 구비될 수 있다. In addition, a rack is provided inside the chamber to fit the
본 발명의 제3실시예에 따른 분말 처리용 플라즈마 장치에서 진동 발생기는 상기 수평 전극이 다공성의 필터 전극(320)인 것으로 예를 들어 설명하였으나, 이에 한정되지 않고 다공성이 아닌 평판 전극을 사용하는 것도 물론 가능하다. 상기 평판 전극을 사용할 경우, 흡착 수단을 삭제할 수 있다. In the plasma device for powder processing according to the third embodiment of the present invention, the vibration generator has been described as an example in which the horizontal electrode is a
한편, 도 5는 본 발명의 제4실시예에 따른 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.Meanwhile, FIG. 5 is a diagram schematically showing a plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode according to a fourth embodiment of the present invention.
도 5를 참조하면, 본 발명의 제4실시예에 따른 수평 전극을 이용한 분말 처리용 플라즈마 장치에서, 수평 전극은 다공성의 필터 전극(420)인 것으로 예를 들어 설명하고, 상기 복수의 필터 전극들(420)이 상하방향으로 소정간격 이격되게 배치되고, 상기 필터 전극들(420)은 각각 상면 필터부(420a), 하면 필터부(420b) 및 진공부(420c)를 포함하는 것이 상기 제3실시예와 상이하고, 그 외 나머지 구성 및 작용은 유사하므로 상이한 구성을 중심으로 설명하고 유사 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.Referring to FIG. 5, in the plasma apparatus for powder processing using horizontal electrodes according to the fourth embodiment of the present invention, the horizontal electrode is described as an example of a
상기 필터 전극들(420)은 복수개가 상하방향으로 서로 이격공간을 가지도록 적층되어 배치된다. 상기 필터 전극들(420)의 적층 개수는 처리 용량에 따라 조절가능하다. The plurality of
상기 상면 필터부(420a)와 상기 하면 필터부(420b)는, 다공질체나 다공성 메쉬로 형성된다. 상기 상면 필터부(420a)와 상기 하면 필터부(420b)는, 나노 또는 마이크로 단위 사이즈로 가공되며, 구멍이 상기 분말의 크기보다는 작게 형성되어 상기 분말이 통과하지는 못하도록 형성되는 것이 바람직하다. The
상기 진공부(420c)는, 상기 상면 필터부(420a)와 상기 하면 필터부(420b)사이에 형성되어, 상기 진공 펌프(432)에 의해 진공 상태가 된다. 상기 진공부(420c)에는 진공 유로(433)가 연결된다. The vacuum part 420c is formed between the
상기 진공 펌프(432)의 작동되면, 상기 진공 펌프(432)가 상기 진공부(420c)의 내부 공기를 흡입하게 되어 상기 진공부(420c)의 내부가 진공상태가 된다.When the
상기 진공부(420c)의 내부가 진공상태가 되면, 상기 챔버(310)의 내부 또는 상기 필터 전극(420)의 주변으로 공급된 분말이 상기 상면 필터부(420a)와 상기 하면 필터부(420b)의 표면에 흡착될 수 있다. When the inside of the vacuum part 420c is in a vacuum state, the powder supplied to the inside of the
따라서, 상기 필터 전극(420)의 상,하면에 모두 분말들이 흡착되어 플라즈마 표면처리될 수 있으므로, 플라즈마 처리 용량이 증가될 수 있다. Therefore, since powders are adsorbed on both the upper and lower surfaces of the
상기 실시예에서는, 상기 복수의 필터 전극들(420)의 진공부(420c)가 하나의 진공 펌프(432)에 의해 진공상태가 되는 것으로 예를 들어 설명하였으나, 이에 한정되지 않고, 상기 복수의 필터 전극들(420)의 진공부(420c)마다 진공 유로와 진공 펌프가 각각 연결되는 것도 물론 가능하다.In the above embodiment, it has been described that the vacuum part 420c of the plurality of
또한, 상기 복수의 필터 전극들(420)사이의 이격공간에는 분말을 분사하여 공급하는 분말 분사기(미도시)가 구비된다. In addition, a powder sprayer (not shown) for spraying and supplying powder is provided in the spaced space between the plurality of
상기 분말 분사기(미도시)는 상기 복수의 필터 전극들(420)사이의 이격 공간마다 배치되어 상기 이격 공간들로 일괄적으로 분사하는 것도 가능하고, 하나의 분말 분사기(미도시)가 상하방향으로 이동가능하도록 설치되어 이동하면서 상기 필터 전극들(420)사이의 이격 공간마다 연속적으로 분사하는 것도 물론 가능하다. 또한, 상기 분말 분사기(미도시)는, 상기 챔버(310)의 내부로 분말을 분사하는 것도 물론 가능하다. The powder injector (not shown) may be disposed in each space between the plurality of
본 발명의 제4실시예에 따른 수평 전극을 이용한 분말 처리용 플라즈마 장치에서 진동 발생기는 기계식 진동, 음향 진동 및 초음파 진동 중 적어도 하나를 발생시켜 상기 필터 전극(420)에 진동을 가할 수 있는 것이라면 어느 것이나 적용 가능하다. In the plasma device for powder processing using a horizontal electrode according to the fourth embodiment of the present invention, the vibration generator can generate at least one of mechanical vibration, acoustic vibration, and ultrasonic vibration to apply vibration to the
한편, 도 6은 본 발명의 제5실시예에 따른 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 7은 도 6에 도시된 수평 전극을 나타낸 측면도이다.Meanwhile, FIG. 6 is a diagram schematically showing a plasma apparatus for powder surface treatment using a horizontal electrode according to a fifth embodiment of the present invention. FIG. 7 is a side view illustrating the horizontal electrode shown in FIG. 6 .
본 발명의 제5실시예에 따른 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치는, 수평 전극은 홀이 형성되지 않는 패널 형상의 평판 전극(520)이고, 진동 발생기(540)는 기계식 진동기인 것이 상기 제1실시예와 상이하고, 그 외 나머지 구성 및 작용은 유사하므로, 이하 상이한 구성을 중심으로 상세히 설명한다. In the plasma apparatus for powder surface treatment using a horizontal electrode according to the fifth embodiment of the present invention, the horizontal electrode is a panel-shaped
상기 평판 전극(520)은 적어도 한 개 이상이 챔버(510)의 내부에 수평방향으로 설치되고, 분말들이 상기 평판 전극(520)의 상면에 올려지도록 평평한 평판 형상으로 이루어진다. 본 실시예에서는, 상기 평판 전극(520)은 평판 형상인 것으로 예를 들어 설명하였으나, 이에 한정되지 않고 상기 평판 전극(520)은 그릇 등과 같이 상면에 분말들이 올려질 수 있는 형상이라면 어느 것이나 적용 가능하다. At least one
상기 평판 전극(520)은 다공성 구조가 아니므로, 금속, 폴리머, 세라믹 등 다양한 소재로 제조가 가능하다. 상기 평판 전극(520)은 금속 중에서도 알루미늄으로도 제조가 가능하여, 스테인레스 등 다른 금속에 비해 가볍고 비용이 절감될 수 있다. Since the
상기 진동 발생기(미도시)는, 상기 평판 전극(520)에 구비되어 상기 평판 전극(520)의 상면에서 상기 분말들끼리 위치가 서로 바뀌도록 하여 상기 분말들을 고르게 표면처리시키기 위한 장치이다.The vibration generator (not shown) is provided on the
상기 진동 발생기(미도시)는 상기 전원 장치에 의해 전원 인가시 기계식 진동을 발생시키는 것으로 예를 들어 설명한다. 다만, 이에 한정되지 않고, 상기 진동 발생기(540)는 초음파 진동자 또는 음향 진동 모듈을 사용하는 것도 물론 가능하다. The vibration generator (not shown) will be described as an example of generating mechanical vibration when power is applied by the power supply unit. However, it is not limited thereto, and the vibration generator 540 may also use an ultrasonic vibrator or an acoustic vibration module.
상기 진동 발생기(미도시)는, 상기 전원 인가시 회전력에 의해 상기 평판 전극(520)에 진동을 가하는 진동 모터(미도시), 압축 공기에 의해 피스톤을 이동시켜 상기 평판 전극(520)에 진동을 가하는 에어 노커(Air knocker)(미도시), 상기 전원 인가시 발생되는 전자기력을 이용하여 상기 평판 전극(520)에 진동을 가하는 전자 해머(미도시) 중 적어도 하나를 포함한다. 다만, 이에 한정되지 않고, 상기 진동 발생기(미도시)는 상기 평판 전극(520)이 상하, 좌우, 회전 및 자이로 모션 등 다양한 거동을 하도록 진동을 가할 수 있다. 또한, 상기 진동 발생기(미도시)는, 비연속적 또는 주기적으로 진동을 가할 수도 있다. The vibration generator (not shown) vibrates the
상기 진동 모터는, 모터의 회전축에 편심축을 연결하여 편심 회전 운동에 의한 진동을 발생시키는 장치이며, 상기 평판 전극(520)에 연결 부재에 의해 연결된다. The vibration motor is a device that generates vibration by eccentric rotation by connecting an eccentric shaft to the rotation shaft of the motor, and is connected to the
상기 에어 노커는, 하우징의 내부로 공급된 압축 공기에 의해 피스톤을 전진 이동시키고, 피스톤의 전진 이동에 의한 충격력을 상기 평판 전극(520)으로 전달하여 상기 수평 전극(520)에 진동을 발생시키는 장치이다. 상기 에어 노커는 상기 평판 전극(520)에 맞대어지도록 배치된다. The air knocker is a device that moves a piston forward by compressed air supplied into the housing and transmits an impact force generated by the forward movement of the piston to the
상기 전자 해머는, 내부에 E형 코어와 I형 코어를 포함하여, 전원 인가시 상기 E형 코어와 상기 I형 코어 사이에 발생되는 전자기력을 이용하여 상기 평판 전극(520)에 진동을 발생시키는 장치이다. The electronic hammer includes an E-type core and an I-type core therein, and generates vibrations in the
또한, 상기 분말 표면처리용 플라즈마 장치는, 상기 평판 전극(520)에 놓인 분말의 양에 따라 상기 진동 발생기(미도시)의 작동을 제어하여, 상기 평판 전극(520)에 가해지는 진동의 강도를 조절하는 제어부(미도시)를 포함한다. In addition, the plasma device for powder surface treatment controls the operation of the vibration generator (not shown) according to the amount of powder placed on the
상기 평판 전극(520)에 놓인 분말의 양은 분말 공급부(미도시)로부터 공급되는 분말의 양으로부터 측정될 수 있다. 상기 진동 발생기(미도시)의 진동 강도는, 상기 평판 전극(520)에 놓인 분말의 양이 많을수록 높게 설정될 수 있다. The amount of powder placed on the
상기 평판 전극들(520)이 복수개가 상하방향으로 적층되고, 상기 평판 전극들(520)이 미리 설정된 최소 간격으로 이격되며, 상기 진동 발생기(미도시)의 진동 강도가 소정의 강도 이상으로 높게 설정될 경우, 상기 평판 전극들(520)에 진동이 가해지면 상기 평판 전극들(520) 중에서 하측에 있는 전극으로부터 튕겨진 분말이 상측에 있는 전극의 표면에 접촉되면서 표면처리될 수 있다. A plurality of
도 8은 상기 분말이 탄소나노튜브이고, 상기 탄소나노튜브 산소 기능화 실험시 다공성의 필터 전극과 다공성이 아닌 평판 전극일 때 산소 기능화를 비교 도시한 그래프이다.8 is a graph showing comparison of oxygen functionalization when the powder is a carbon nanotube and a porous filter electrode and a non-porous flat electrode are used in an oxygen functionalization experiment of the carbon nanotube.
도 8을 참조하면, 다공성의 유무가 탄소나노튜브 산소 기능화에 거의 영향이 없는 것을 알 수 있다. Referring to FIG. 8 , it can be seen that the presence or absence of porosity has little effect on oxygen functionalization of carbon nanotubes.
따라서, 상기 평판 전극(520)을 다공성이 아닌 알루미늄 평판을 이용할 경우, 필터 전극을 사용하는 경우에 비해 무게가 감소되고 제조 비용이 절감될 수 있는 이점이 있다.Therefore, when a non-porous aluminum plate is used as the
또한, 상기와 같이 다공성이 아닌 상기 평판 전극(520)을 사용하는 경우, 별도의 흡착 수단이 없어도 되므로 장치가 보다 컴팩트화되어 비용이 절감될 수 있다. In addition, in the case of using the non-porous
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is only exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical scope of protection of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.
10: 챔버 20: 필터 전극
30: 흡착수단 32: 진공 펌프
33: 진공유로 40: 초음파 진동자
320: 필터 전극 350: 음향 진동 모듈
420: 필터 전극 520: 평판 전극10: chamber 20: filter electrode
30: adsorption means 32: vacuum pump
33: vacuum flow path 40: ultrasonic vibrator
320: filter electrode 350: acoustic vibration module
420: filter electrode 520: flat electrode
Claims (12)
상기 챔버의 내부에 수평방향으로 설치되고, 상면에 분말이 올려지도록 평평한 평판 형상으로 형성되며, 전원 인가시 플라즈마를 생성하여 상기 분말을 표면처리하여 기능화시키는 수평 전극과;
상기 수평 전극의 하부에 진동을 가하여, 상기 수평 전극의 상면에서 상기 분말들끼리 위치가 서로 바뀌도록 하여 상기 분말들을 고르게 표면처리시키기 위한 진동 발생기를 포함하고,
상기 진동 발생기는,
상기 수평 전극이 상하, 좌우, 회전 및 자이로 운동 중 적어도 하나가 가능하도록 진동을 가하여 상기 수평 전극의 상면에서 상기 분말들이 위치 이동하면서 고르게 분산되도록 하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치.a chamber forming a space in which plasma is generated;
a horizontal electrode installed in the chamber in a horizontal direction, formed in a flat flat plate shape so that powder is placed on the upper surface, and generating plasma when power is applied to surface-treat the powder to functionalize it;
A vibration generator for evenly surface-treating the powders by applying vibration to the lower portion of the horizontal electrode so that the powders are exchanged in position on the upper surface of the horizontal electrode,
The vibration generator,
Plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode that vibrates the horizontal electrode so that at least one of up and down, left and right, rotation, and gyro motion is possible so that the powder is evenly dispersed while moving in position on the upper surface of the horizontal electrode.
상기 수평 전극은, 다수의 홀들이 형성된 다공성의 필터 전극을 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치.The method of claim 1,
The horizontal electrode is a plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode including a porous filter electrode in which a plurality of holes are formed.
상기 필터 전극의 내부 압력을 감소시켜, 상기 필터 전극의 상면에 상기 분말들을 흡착시키기 위한 흡착수단을 더 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치.The method of claim 2,
The plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode further comprising an adsorption means for adsorbing the powders on the upper surface of the filter electrode by reducing the internal pressure of the filter electrode.
상기 진동 발생기는,
상기 수평 전극에 연결되어, 전원 인가시 회전력에 의해 상기 수평 전극에 진동을 가하는 진동 모터를 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치.According to claim 1 or claim 2,
The vibration generator,
A plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode including a vibration motor connected to the horizontal electrode and applying vibration to the horizontal electrode by rotational force when power is applied.
상기 진동 발생기는,
상기 수평 전극의 하부에 구비되고, 압축 공기에 의해 피스톤을 이동시켜 상기 수평 전극에 진동을 가하는 에어 노커(Air knocker)를 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치.According to claim 1 or claim 2,
The vibration generator,
Plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode including an air knocker provided below the horizontal electrode and applying vibration to the horizontal electrode by moving a piston with compressed air.
상기 진동 발생기는,
상기 수평 전극의 하부에 구비되고, 전원 인가시 발생되는 전자기력을 이용하여 상기 수평 전극에 진동을 가하는 전자 해머를 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치.According to claim 1 or claim 2,
The vibration generator,
A plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode including an electronic hammer provided under the horizontal electrode and applying vibration to the horizontal electrode using electromagnetic force generated when power is applied.
상기 진동 발생기는,
상기 수평 전극의 하부에 구비되고, 전원 인가시 발생되는 초음파를 이용하여 상기 수평 전극에 진동을 가하는 초음파 진동자를 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치.According to claim 1 or claim 2,
The vibration generator,
A plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode including an ultrasonic vibrator provided under the horizontal electrode and applying vibration to the horizontal electrode using ultrasonic waves generated when power is applied.
상기 진동 발생기는,
상기 수평 전극의 하부에 연결부재에 의해 연결되고, 음향을 발생시키고 공명시켜 상기 수평 전극에 음향 진동을 가하는 음향 진동 모듈을 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치.According to claim 1 or claim 2,
The vibration generator,
A plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode including a sound vibration module connected to a lower portion of the horizontal electrode by a connecting member and generating and resonating sound to apply sound vibration to the horizontal electrode.
상기 수평 전극은,
복수개가 상하방향으로 서로 이격되게 적층되어 배치된 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치.According to claim 1 or claim 2,
The horizontal electrode,
Plasma device for powder surface treatment using a plurality of horizontal electrodes stacked and spaced apart from each other in the vertical direction.
상기 수평 전극의 상면에 상기 분말을 공급하는 분말 공급부를 포함하고,
상기 분말 공급부로부터 공급되는 상기 분말의 양에 따라 상기 진동 발생기의 진동 강도를 제어하는 제어부를 더 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치.The method of claim 1,
A powder supply unit for supplying the powder to the upper surface of the horizontal electrode,
The plasma device for powder surface treatment using a horizontal electrode further comprising a control unit controlling the vibration intensity of the vibration generator according to the amount of the powder supplied from the powder supply unit.
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