KR102320215B1 - Implant plasma surface treatment device - Google Patents

Implant plasma surface treatment device Download PDF

Info

Publication number
KR102320215B1
KR102320215B1 KR1020190067735A KR20190067735A KR102320215B1 KR 102320215 B1 KR102320215 B1 KR 102320215B1 KR 1020190067735 A KR1020190067735 A KR 1020190067735A KR 20190067735 A KR20190067735 A KR 20190067735A KR 102320215 B1 KR102320215 B1 KR 102320215B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
implant
case
plasma
surface treatment
wire portion
Prior art date
Application number
KR1020190067735A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20200141138A (en
Inventor
김노국
Original Assignee
(주) 예스바이오테크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주) 예스바이오테크 filed Critical (주) 예스바이오테크
Priority to KR1020190067735A priority Critical patent/KR102320215B1/en
Publication of KR20200141138A publication Critical patent/KR20200141138A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102320215B1 publication Critical patent/KR102320215B1/en

Links

Images

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C13/00—Dental prostheses; Making same
    • A61C13/01—Palates or other bases or supports for the artificial teeth; Making same
    • A61C13/02—Palates or other bases or supports for the artificial teeth; Making same made by galvanoplastic methods or by plating; Surface treatment; Enamelling; Perfuming; Making antiseptic
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C8/00—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools
    • A61C8/0003—Not used, see subgroups
    • A61C8/0009—Consolidating prostheses or implants, e.g. by means of stabilising pins
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C8/00—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools
    • A61C8/0012—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools characterised by the material or composition, e.g. ceramics, surface layer, metal alloy
    • A61C8/0013—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools characterised by the material or composition, e.g. ceramics, surface layer, metal alloy with a surface layer, coating
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C8/00—Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools
    • A61C8/0087—Means for sterile storage or manipulation of dental implants
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Dentistry (AREA)
  • Orthopedic Medicine & Surgery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials For Medical Uses (AREA)
  • Dental Prosthetics (AREA)

Abstract

본 발명은 임플란트 플라즈마 표면처리장치에 대한 것으로서, 더욱 상세하게는 임플란트의 나사골 부분에도 용이하게 플라즈마 표면처리를 하여 임플란트의 친수성을 향상시킬 수 있는 임플란트 플라즈마 표면처리장치에 대한 것입니다.
본 발명에 따른 임플란트 플라즈마 표면처리장치는 내부에 임플란트를 수용할 수 있도록 일단이 개방된 케이스와, 상기 케이스의 타단에서 상기 케이스의 내부에 플라즈마를 발생시키기 위한 가스를 주입하기 위한 주입구와, 일측에 상기 임플란트를 거치하는 거치부가 형성되며 상기 임플란트를 상기 케이스의 축방향을 따라 상기 임플란트를 길이방향으로 상기 케이스의 내부에 거치시킬 수 있도록 상기 케이스의 일단에 착탈하게 결합되는 캡과, 상기 케이스의 내주면에 상기 임플란트의 나사방향으로 형성되고 상기 케이스의 축방향을 따라 일정 간격 이격하여 교대로 배치된 복수의 양극선 및 음극선를 구비하며 상기 양극선 및 상기 음극선에 전기가 공급되면 상기 가스로 플라즈마를 발생시킬 수 있는 전극수단을 포함한다.
본 발명에 의하면, 전극수단의 양극선부와 음극선부는 임플란트의 나사방향으로 형성되고, 케이스의 축방향을 따라 일정 간격 이격하여 복수개가 교대로 배치된다. 그래서 임플란트의 나사산 뿐만 아니라 나사골 부분에도 플라즈마 표면처리가 이루어져 임플란트의 친수성을 높일 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 임플란트 시술전 임플란트가 오래 보관되어 그 표면이 산화되었더라도 시술시 임플란트 표면을 친수성으로 간단하게 플라즈마 처리를 할 수 있다. 따라서, 임플란트의 보관기간에 상관없이 임플란트를 시술할 수 있다. The present invention relates to an implant plasma surface treatment apparatus, and more particularly, to an implant plasma surface treatment apparatus capable of improving the hydrophilicity of an implant by easily plasma surface treatment on the screw bone part of the implant.
The implant plasma surface treatment apparatus according to the present invention includes a case with one end open to accommodate an implant therein, an injection hole for injecting a gas for generating plasma into the inside of the case at the other end of the case, and one side A cap for mounting the implant is formed and the cap is detachably coupled to one end of the case so that the implant can be mounted inside the case in the longitudinal direction along the axial direction of the case, and the inner circumferential surface of the case A plurality of anode and cathode wires formed in the screw direction of the implant and arranged alternately at regular intervals along the axial direction of the case are provided, and when electricity is supplied to the anode and cathode wires, plasma can be generated with the gas electrode means.
According to the present invention, the anode wire portion and the cathode wire portion of the electrode means are formed in the screw direction of the implant, and a plurality of them are alternately arranged at regular intervals along the axial direction of the case. Therefore, plasma surface treatment is made not only on the screw thread of the implant but also on the screw bone part to increase the hydrophilicity of the implant.
In addition, according to the present invention, even if the surface of the implant is stored for a long time before the implant operation and the surface is oxidized, the surface of the implant can be treated with a simple plasma treatment with hydrophilicity. Therefore, the implant can be operated regardless of the storage period of the implant.

Description

임플란트 플라즈마 표면처리장치{Implant plasma surface treatment device}Implant plasma surface treatment device

본 발명은 임플란트 플라즈마 표면처리장치에 대한 것으로서, 더욱 상세하게는 임플란트의 나사골 부분에도 용이하게 플라즈마 표면처리를 하여 임플란트의 친수성을 향상시킬 수 있는 임플란트 플라즈마 표면처리장치에 대한 것입니다. The present invention relates to an implant plasma surface treatment apparatus, and more particularly, to an implant plasma surface treatment apparatus capable of improving the hydrophilicity of an implant by easily plasma surface treatment on the screw bone part of the implant.

일반적으로, 임플란트란 인체조직이 상실되었을 때 이를 회복시켜 주는 대치물의 의미하며, 치과에서는 상실된 치아의 치근을 대체할 수 있도록 인체에 거부 반응이 적은 티타늄(titanium) 등의 픽스쳐(인공 치근), 치조골에 식립된 인공 치근에 결합되어 저작면을 형성하는 크라운 등을 의미하며, 상기 임플란트를 이용하여 치아의 원래 기능을 회복하는 시술이 이루어질 수 있다. In general, implant means a substitute that restores human tissue when it is lost. It means a crown, etc. that is coupled to an artificial tooth root implanted to form a masticatory surface, and a procedure for restoring the original function of the tooth can be performed using the implant.

티타늄 및 티타늄 합금 재질로 이루어진 픽스쳐 등의 임플란트의 경우, 티타늄 표면이 소수성을 가지므로 수분을 밀어내는 성질로 인해 인공치아의 식립 후에 혈액 및 단백질을 포함하는 골조직(치조골)이 융합되는 것을 더디게 하거나, 인체의 면역반응에 의해 염증을 유발하게 되는 문제점이 있었다. In the case of implants such as fixtures made of titanium and titanium alloy materials, because the titanium surface has hydrophobicity, it slows the fusion of bone tissue (alveolar bone) containing blood and protein after the implantation of artificial teeth due to the property of repelling moisture, There was a problem in that inflammation was caused by the body's immune response.

상기의 문제점을 해결하기 위하여 종래에는 임플란트의 표면을 플라즈마 처리하여 임플란트의 표면을 개질시킨 후 밀봉 포장하여 보관하였다. 그러나 종래의 경우, 상대적으로 돌출된 임플란트의 나사산 부분에는 플라즈마 표면처리가 용이하게 이루어졌지만 임팔란트의 나사골 부분에는 플라즈마 표면처리가 제대로 이루어지지 않는 문제점이 있었다. In order to solve the above problems, in the prior art, the surface of the implant was treated with plasma to modify the surface of the implant, and then sealed and stored. However, in the conventional case, plasma surface treatment was easily performed on the threaded portion of the relatively protruding implant, but there was a problem in that the plasma surface treatment was not properly performed on the screw bone portion of the implant.

또한, 표면처리 후 밀봉 포장되어 시술 전까지 보관되는데 상기의 임플란트의 표면은 공정 후 공기 중에 노출되면 시간이 지남에 따라 산화층이 증가하고 탄화수소 화합물과 같은 오염원에 의해 표면에너지가 안정화되어 소수성으로 변하게 된다. 그래서 임플란트의 표면이 산화되기 전 시술이 이루어져야 하므로 임플란트의 보관기간이 짧다는 문제점이 있었다. In addition, after surface treatment, it is sealed and packaged and stored until the procedure. When the surface of the implant is exposed to air after the process, the oxide layer increases over time, and the surface energy is stabilized by a contaminant such as a hydrocarbon compound and becomes hydrophobic. Therefore, there is a problem that the storage period of the implant is short because the procedure must be performed before the surface of the implant is oxidized.

등록특허 제10-1102993호 (등록일 2011.12.29)Registered Patent No. 10-1102993 (Registration Date 2011.12.29) 공개특허 제10-2016-0049683호 (공개일 2016.05.10)Patent Publication No. 10-2016-0049683 (published on May 10, 2016)

본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위한 것이다. 본 발명은 임플란트의 나사골 부분에도 용이하게 플라즈마 표면처리를 하여 임플란트의 친수성을 향상시킬 수 있는 임플란트 플라즈마 표면처리장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention is to solve the above problems. An object of the present invention is to provide an implant plasma surface treatment apparatus capable of improving the hydrophilicity of the implant by easily plasma-treating the screw bone portion of the implant.

또한, 본 발명은 임플란트 시술 전, 임플란트의 친수성을 향상시킬 수 있도록 간편하게 임플란트의 표면을 플라즈마 표면처리 할 수 있는 임플란트 플라즈마 표면처리장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. In addition, an object of the present invention is to provide an implant plasma surface treatment apparatus capable of plasma surface treatment of the implant surface in order to improve the hydrophilicity of the implant before the implant procedure.

본 발명에 따른 임플란트 플라즈마 표면처리장치는 내부에 임플란트를 수용할 수 있도록 일단이 개방된 케이스와, 상기 케이스의 타단에서 상기 케이스의 내부에 플라즈마를 발생시키기 위한 가스를 주입하기 위한 주입구와, 일측에 상기 임플란트를 거치하는 거치부가 형성되며 상기 임플란트를 상기 케이스의 축방향을 따라 상기 임플란트를 길이방향으로 상기 케이스의 내부에 거치시킬 수 있도록 상기 케이스의 일단에 착탈하게 결합되는 캡과, 상기 케이스의 내주면에 상기 임플란트의 나사방향으로 형성되고 상기 케이스의 축방향을 따라 일정 간격 이격하여 교대로 배치된 복수의 양극선 및 음극선를 구비하며 상기 양극선 및 상기 음극선에 전기가 공급되면 상기 가스로 플라즈마를 발생시킬 수 있는 전극수단을 포함한다. The implant plasma surface treatment apparatus according to the present invention includes a case with one end open to accommodate an implant therein, an injection hole for injecting a gas for generating plasma into the inside of the case at the other end of the case, and one side A cap for mounting the implant is formed and the cap is detachably coupled to one end of the case so that the implant can be mounted inside the case in the longitudinal direction along the axial direction of the case, and the inner circumferential surface of the case A plurality of anode and cathode wires formed in the screw direction of the implant and arranged alternately at regular intervals along the axial direction of the case are provided, and when electricity is supplied to the anode and cathode wires, plasma can be generated with the gas electrode means.

또한, 상기의 임플란트 플라즈마 표면처리장치에 있어서, 상기 양극선은 상기 케이스의 내주면에 상기 케이스의 축방향을 따라 배치된 제1연결선부와 일측이 개구되도록 상기 케이스의 내주면에 원주방향으로 형성되어 상기 제1연결선부를 따라 일정간격 이격되어 배치된 복수의 양극선부를 구비하는 것이 바람직하며, 상기 음극선은 상기 양극선부와 접촉되지 않도록 상기 케이스의 내주면에 상기 케이스의 축방향을 따라 배치된 제2연결선부와 상기 제1연결선부와 접촉되지 않도록 일측이 개구되게 상기 케이스의 내주면에 원주방향으로 형성되어 상기 제2연결선부를 따라 상기 양극선부와 교대되도록 배치된 복수의 음극선부를 구비하는 것이 바람직하다. In addition, in the implant plasma surface treatment apparatus, the anode wire is formed on the inner peripheral surface of the case in the circumferential direction on the inner peripheral surface of the case so that one side and the first connecting wire arranged along the axial direction of the case are opened. It is preferable to include a plurality of positive wire portions spaced apart from each other at a predetermined distance along the first connection wire portion, and the second connection wire portion disposed along the axial direction of the case on the inner circumferential surface of the case so that the cathode wire does not come into contact with the positive wire portion and the It is preferable to include a plurality of cathode ray portions formed in a circumferential direction on the inner circumferential surface of the case such that one side is opened so as not to contact the first connecting wire portion and arranged to alternate with the anode wire portion along the second connecting wire portion.

또는, 상기의 임플란트 플라즈마 표면처리장치에 있어서, 상기 양극선부 및 상기 음극선부는 0.1 ~ 7mm의 간격으로 이격하여 교대로 배치되는 것이 바람직하다. Alternatively, in the implant plasma surface treatment apparatus, it is preferable that the anode wire portion and the cathode wire portion are alternately arranged at intervals of 0.1 to 7mm.

또한, 상기의 임플란트 플라즈마 표면처리장치에 있어서, 상기 양극선은 상기 케이스의 내주면 또는 상기 케이스의 외주면 중 어느 하나에 배치되는 것이 바람직하며, 상기 음극선은 상기 케이스의 내주면 또는 상기 케이스의 외주면 중 어느 하나에 배치되는 것이 바람직하다. In addition, in the implant plasma surface treatment apparatus, the anode wire is preferably disposed on any one of the inner circumferential surface of the case or the outer circumferential surface of the case, and the cathode wire is on either the inner circumferential surface of the case or the outer circumferential surface of the case. It is preferable to place

본 발명에 의하면, 전극수단의 양극선부와 음극선부는 임플란트의 나사방향으로 형성되고, 케이스의 축방향을 따라 일정 간격 이격하여 복수개가 교대로 배치된다. 그래서 임플란트의 나사산 뿐만 아니라 나사골 부분에도 플라즈마 표면처리가 이루어져 임플란트의 친수성을 높일 수 있다. According to the present invention, the anode wire portion and the cathode wire portion of the electrode means are formed in the screw direction of the implant, and a plurality of them are alternately arranged at a predetermined interval along the axial direction of the case. Therefore, plasma surface treatment is made not only on the screw thread of the implant but also on the screw bone part, so that the hydrophilicity of the implant can be increased.

또한, 본 발명에 의하면, 임플란트 시술전 임플란트가 오래 보관되어 그 표면이 산화되었더라도 시술시 임플란트 표면을 친수성으로 간단하게 플라즈마 처리를 할 수 있다. 따라서, 임플란트의 보관기간에 상관없이 임플란트를 시술할 수 있다. In addition, according to the present invention, even if the surface of the implant is oxidized because the implant is stored for a long time before the implant operation, the surface of the implant can be treated with a simple plasma treatment with hydrophilicity. Therefore, the implant can be operated regardless of the storage period of the implant.

도 1은 본 발명에 따른 임플란트 플라즈마 표면처리장치의 일 실시예의 단면도,
도 2는 도 1에 도시된 실시예의 전극수단의 개념도이다. 1 is a cross-sectional view of an embodiment of an implant plasma surface treatment apparatus according to the present invention;
FIG. 2 is a conceptual diagram of the electrode means of the embodiment shown in FIG. 1 .

도 1 및 도 2를 참조하여 본 발명에 따른 임플란트 플라즈마 표면처리장치의 일 실시예를 설명한다. An embodiment of the implant plasma surface treatment apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2 .

본 발명에 따른 임플란트 플라즈마 표면처리장치는 케이스(10)와, 주입구(20)와, 캡(30) 및 전극수단(40)을 포함한다. The implant plasma surface treatment apparatus according to the present invention includes a case 10 , an injection hole 20 , a cap 30 , and an electrode means 40 .

케이스(10)는 내부에 임플란트(1)를 수용하는 역할을 하며, 이를 위하여 케이스(10)는 본체(11)와 커버(13)를 구비한다. The case 10 serves to accommodate the implant 1 therein, and for this, the case 10 includes a body 11 and a cover 13 .

본체(11)는 양단이 개방되며, 내부에 임플란트(1)를 수용한다. The main body 11 has both ends open and accommodates the implant 1 therein.

커버(13)는 본체(11)의 일단(11a)에 장착된다. 이때, 커버(13)는 본체(11)의 내부를 밀폐시킬 수 있도록 외주면에 패킹(14)이 장착된다. 본 실시예의 경우, 케이스(10)는 본체(11)와 커버(13)로 구비되지만, 본체(11)와 커버(13)가 일체로 형성될 수도 있다. The cover 13 is mounted on one end 11a of the main body 11 . At this time, the packing 14 is mounted on the outer circumferential surface of the cover 13 to seal the inside of the main body 11 . In this embodiment, the case 10 is provided with the body 11 and the cover 13, but the body 11 and the cover 13 may be integrally formed.

주입구(20)는 본체(11)의 일단(11a)에서 본체(11)의 내부로 플라즈마를 발생시키기 위한 가스를 주입하는 역할을 한다. 이를 위하여 주입구(20)는 커버(13)에 관통하여 장착되며, 가스주입수단의 호스 또는 밸브와 연결되어 본체(11)의 내부로 가스를 주입한다. The injection hole 20 serves to inject a gas for generating plasma from one end 11a of the body 11 into the interior of the body 11 . To this end, the inlet 20 is mounted through the cover 13 , and is connected to a hose or a valve of the gas injection means to inject gas into the body 11 .

캡(30)은 임플란트(1)를 본체(11)의 축방향을 따라 임플란트(1)의 길이방향으로 본체(11)의 내부에 거치시키는 역할을 한다. 이를 위하여 캡(30)은 일측에 임플란트(1)를 거치하는 거치부(31)가 형성되며, 본체(11)의 타단에 착탈하게 결합된다. 이때, 캡(30)은 본체(11)의 내부를 밀폐시킬 수 있도록 외주면에 패킹(33)이 장착된다. 본 실시예의 경우, 패킹(14,33)은 커버(13) 또는 캡(30)에 장착되지만, 본체(11)의 일단(11a) 또는 타단의 내주면에 장착될 수도 있다. The cap 30 serves to mount the implant 1 inside the body 11 in the longitudinal direction of the implant 1 along the axial direction of the body 11 . To this end, the cap 30 is provided with a mounting portion 31 for mounting the implant 1 on one side, and is detachably coupled to the other end of the main body 11 . At this time, the cap 30 is equipped with a packing 33 on the outer circumferential surface to seal the inside of the main body 11 . In the case of this embodiment, the packings 14 and 33 are mounted on the cover 13 or the cap 30 , but may be mounted on the inner peripheral surface of one end 11a or the other end of the main body 11 .

일반적으로 치과에서 시술전 임플란트는 보관용 케이스에 보관된다. 이때, 임플란트는 보관용 케이스의 뚜껑에 거치되어 진공 보관된다. 그러나, 보관용 케이스의 밀폐는 완벽하지 아니하므로 장기간 보관하게 되면 공기 중에 노출되어 보관용 케이스 내부의 임플란트는 산화된다. 이 경우, 보관용 케이스 내부의 임플란트는 시술전 반드시 플라즈마 표면처리가 되어야 한다. 그래서 본 실시예의 캡(30)은 임플란트가 거치된 보관용 케이스의 뚜껑이 될 수도 있다. In general, implants before surgery in dentistry are stored in a storage case. At this time, the implant is mounted on the lid of the storage case and stored in a vacuum. However, since the sealing of the storage case is not perfect, when it is stored for a long time, the implant inside the storage case is oxidized by exposure to the air. In this case, the implant inside the storage case must be plasma-treated before the procedure. Therefore, the cap 30 of this embodiment may be a lid of the storage case on which the implant is mounted.

전극수단(40)은 가스가 주입되면 전기를 공급받아 케이스(10)의 내부에 플라즈마를 발생시키는 역할을 한다. 이를 위하여 전극수단(40)은 양극선(41)과 음극선(45)을 구비한다. The electrode means 40 receives electricity when gas is injected and serves to generate plasma inside the case 10 . To this end, the electrode means 40 includes an anode wire 41 and a cathode wire 45 .

양극선(41)은 제1연결선부(42)와 양극선부(44)를 구비하며, 케이스(10)의 내부에 배치된다. The positive wire 41 includes a first connection wire portion 42 and a positive wire portion 44 , and is disposed inside the case 10 .

제1연결선부(42)는 본체(11)의 내주면에 본체(11)의 축방향을 따라 배치된다. The first connecting line portion 42 is disposed along the axial direction of the main body 11 on the inner circumferential surface of the main body 11 .

양극선부(44)는 일측(44a)이 개구되도록 본체(11)의 내주면에 원주방향으로 형성되어 제1연결선부(42)를 따라 일정간격 이격되도록 복수개가 배치된다. A plurality of the anode wire portions 44 are formed in the circumferential direction on the inner circumferential surface of the main body 11 so that one side 44a is opened, and are spaced apart from each other by a predetermined distance along the first connection wire portion 42 .

음극선(45)은 제2연결선부(46)와 음극선부(48)를 구비하며, 케이스(10)의 내부에 배치된다. The cathode ray 45 includes a second connection wire part 46 and a cathode ray part 48 , and is disposed inside the case 10 .

제2연결선부(46)는 양극선부(44)와 접촉되지 않도록 본체(11)의 내주면에 본체(11)의 축방향을 따라 배치된다. 즉, 양극선부(44)의 개구된 일측(44a)에 배치된다. The second connection wire part 46 is disposed along the axial direction of the body 11 on the inner circumferential surface of the body 11 so as not to come into contact with the anode wire part 44 . That is, it is disposed on the open side 44a of the anode wire portion 44 .

음극선부(48)는 제1연결선부(42)와 접촉되지 않도록 일측(48a)이 개구되게 본체(11)의 내주면에 원주방향으로 형성되어 제2연결선부(46)를 따라 양극선부(44)와 교대되도록 복수개가 배치된다. 이때, 양극선부(44) 및 음극선부(48)는 0.1 ~ 7mm의 간격으로 이격하여 교대로 배치된다. 본 실시예의 경우, 양극선부(44) 및 음극선부(48)가 교대로 배치되므로 임플란트(1)의 나사산(1a) 뿐만 아니라 나사골(1b)에도 플라즈마 처리가 이루어져 임플란트의 친수성을 높일 수 있다. 한편, 본 실시예의 경우, 양극선(41)과 음극선(45)은 모두 케이스(10)의 내부에 배치되었지만 케이스(10)의 내부 및 외부 어디에든 배치될 수도 있다. 즉, 양극선(41) 및 음극선(45) 모두 케이스(10)의 내부 및 외부에 배치되거나, 둘 중 하나가 내부 나머지 하나가 외부에 배치될 수도 있다. The cathode wire part 48 is formed in the circumferential direction on the inner circumferential surface of the main body 11 so that one side 48a is opened so as not to come into contact with the first connection wire part 42, and the anode wire part 44 along the second connection wire part 46. A plurality is arranged to alternate with. At this time, the anode wire portion 44 and the cathode wire portion 48 are alternately arranged at intervals of 0.1 to 7 mm. In the present embodiment, since the positive electrode portion 44 and the negative electrode portion 48 are alternately arranged, plasma treatment is performed not only on the screw thread 1a of the implant 1 but also on the screw bone 1b to increase the hydrophilicity of the implant. Meanwhile, in the present embodiment, both the positive electrode 41 and the negative electrode 45 are disposed inside the case 10 , but may be disposed anywhere inside and outside the case 10 . That is, both the anode wire 41 and the cathode wire 45 may be disposed inside and outside the case 10 , or one of them may be disposed inside and the other disposed outside.

종래에는 임플란트의 빠른 골융합을 유도하고 염증 유발을 방지하기 위하여 임플란트의 표면을 개질하는 플라즈마 표면처리가 이루어졌다. 그러나 종래의 경우, 상대적으로 돌출된 임플란트의 나사산 부분에는 플라즈마 표면처리가 용이하게 이루어졌지만 임팔란트의 나사골 부분에는 플라즈마 표면처리가 제대로 이루어지지 않는 문제점이 있었다. 또한, 표면처리 후 밀봉 포장되어 시술 전까지 보관되는데 보관용 케이스의 밀폐가 완벽하지 않으므로 임플란트의 보관기간이 짧다는 문제점이 있었다. Conventionally, plasma surface treatment for modifying the surface of the implant to induce rapid osseointegration of the implant and prevent inflammation has been performed. However, in the conventional case, plasma surface treatment was easily performed on the threaded portion of the relatively protruding implant, but there was a problem in that the plasma surface treatment was not properly performed on the screw bone portion of the implant. In addition, after surface treatment, the packaging is sealed and stored until the procedure, but the storage case is not completely sealed, so there is a problem that the storage period of the implant is short.

반면, 본 실시예의 경우, 보관용 케이스에 보관중인 임플란트의 표면이 산화된 경우, 케이스(10)의 커버(13)에 주입구(20)를 장착한 후, 가스주입수단의 호스 또는 밸브와 연결한다. 그리고 시술할 임플란트(1)를 보관용 케이스에서 꺼내 거치부(31)에 거치한 후, 본체(11)의 타단에 캡(30)을 장착한다. 본체(11)의 내부에 임플란트(1)가 수용되면 가스주입수단을 이용하여 본체(11)의 내부로 가스를 주입한다. 이때, 가스는 주입구(20)를 통해 플라즈마 표면처리가 완료될 때까지 계속해서 주입한다. 가스를 주입하기 전, 본체(11)의 내부에는 공기가 채워져있다. 가스가 주입되면 내부 압력에 의해 공기는 외부로 배출되고, 가스가 본체(11)의 내부에 채워진다. 본체(11)의 일단(11a)과 타단이 커버(13)와 캡(30)에 장착된 패킹(14,33)에 의해 밀폐되더라도 패킹(14,33)은 고무와 같은 탄성 재질로 만들어지므로 완벽하게 밀폐되지 않는다. 그리고 내부의 압력이 높으면 내부의 공기가 외부로 배출될 수 있다. 그러므로 플라즈마가 원활하게 발생되기 위해서 지속적으로 가스를 주입해주는 것이 바람직하다. 그리고 전극수단(40)으로 전기를 공급한다. 제1연결선부(42) 및 제2연결선부(46)로 전기가 공급되면, 제1연결선부(42)를 따라 복수의 양극선부(44)에 전기가 흐르게 되고, 제2연결선부(46)를 따라 복수의 음극선부(48)에 전기가 흐르게 된다. 그러면 케이스(10) 내부로 유입되는 가스와 반응하여 플라즈마 상태를 유도하게 된다. 그리고 플라즈마 상태가 계속되면, 거치부(31)에 거치된 임플란트(1)의 표면처리가 이루어지게 된다. 이때, 임플란트(1)의 나사산(1a)의 방향으로 형성된 양극선부(44)와 음극선부(48)는 서로 교대하여 배치되므로 임플란트(1)의 나사산(1a) 뿐만 아니라 나사골(1b)에도 플라즈마 표면처리가 이루어진다. 그래서 임플란트(1)의 친수성을 높일 수 있다. 또한, 본 실시예의 경우, 캡(30)은 임플란트가 거치된 보관용 케이스의 뚜껑이 될 수도 있다. 그래서 임플란트 시술전 임플란트가 거치된 보관용 케이스의 뚜껑을 본체(11)의 타단에 장착한 후, 임플란트를 플라즈마 표면처리 할 수 있다. 본 실시예에 의하면 구성 및 사용방법이 간단하므로 임플란트 시술전 임플란트의 표면을 개질할 수 있다. 그래서 임플란트를 장시간 보관하여 그 표면이 산화된 임플란트도 간단하게 표면처리하여 시술할 수 있다. On the other hand, in the case of this embodiment, when the surface of the implant stored in the storage case is oxidized, the inlet 20 is mounted on the cover 13 of the case 10 and then connected to the hose or valve of the gas injection means. . Then, the implant 1 to be treated is taken out of the storage case and mounted on the mounting unit 31 , and then the cap 30 is mounted on the other end of the main body 11 . When the implant 1 is accommodated in the body 11, gas is injected into the body 11 by using a gas injection means. At this time, the gas is continuously injected through the injection hole 20 until the plasma surface treatment is completed. Before gas is injected, the interior of the body 11 is filled with air. When the gas is injected, the air is discharged to the outside by the internal pressure, and the gas is filled in the inside of the body 11 . Even if the one end 11a and the other end of the body 11 are sealed by the packings 14 and 33 mounted on the cover 13 and the cap 30, the packings 14 and 33 are made of an elastic material such as rubber. not tightly sealed And when the internal pressure is high, the internal air may be discharged to the outside. Therefore, it is preferable to continuously inject gas in order to smoothly generate plasma. And electricity is supplied to the electrode means (40). When electricity is supplied to the first connection line portion 42 and the second connection line portion 46 , electricity flows through the plurality of positive wire portions 44 along the first connection line portion 42 , and the second connection line portion 46 . Accordingly, electricity flows through the plurality of cathode ray units 48 . Then, it reacts with the gas flowing into the case 10 to induce a plasma state. And when the plasma state continues, the surface treatment of the implant 1 mounted on the mounting unit 31 is performed. At this time, since the positive ray portion 44 and the negative ray portion 48 formed in the direction of the thread 1a of the implant 1 are alternately disposed with each other, not only the thread 1a of the implant 1 but also the thread 1b has a plasma surface. processing takes place. Therefore, it is possible to increase the hydrophilicity of the implant (1). In addition, in the case of this embodiment, the cap 30 may be a lid of the storage case on which the implant is mounted. Therefore, after the lid of the storage case on which the implant is mounted is mounted on the other end of the main body 11 before the implant procedure, the implant can be treated with plasma. According to this embodiment, since the configuration and the method of use are simple, the surface of the implant can be modified before the implant operation. Therefore, even implants whose surface is oxidized by storing the implants for a long time can be treated with a simple surface treatment.

1 : 임플란트 1a : 나사산
1b : 나사골 10 : 케이스
11 : 본체 11a : 일단
13 : 커버 14 : 패킹
20 : 주입구 30 : 캡
31 : 거치부 33 : 패킹
40 : 전극수단 41 : 양극선
42 : 제1연결선부 44 : 양극선부
44a : 일측 45 : 음극선
46 : 제2연결선부 48 : 음극선부
48a : 일측1: implant 1a: thread
1b: screw bone 10: case
11: body 11a: once
13: cover 14: packing
20: inlet 30: cap
31: mounting part 33: packing
40: electrode means 41: anode wire
42: first connection wire part 44: positive electrode wire part
44a: one side 45: cathode ray
46: second connection wire part 48: cathode ray part
48a: one side

Claims (4)

내부에 임플란트를 수용할 수 있도록 일단이 개방되며, 타단에 내부로 플라즈마를 발생시키기 위한 가스를 주입할 수 있도록 주입구를 구비한 케이스와,
일측에 상기 임플란트를 거치하는 거치부가 형성되며, 상기 임플란트를 상기 케이스의 축방향을 따라 상기 임플란트를 길이방향으로 상기 케이스의 내부에 거치시킬 수 있도록 상기 케이스의 일단에 착탈하게 결합되는 캡과,
상기 케이스의 축방향을 따라 배치된 제1연결선부와 상기 제1연결선부에서 일측이 개구되도록 상기 케이스의 원주방향으로 형성되며 상기 제1연결선부를 따라 일정간격 이격되어 배치된 복수의 양극선부를 구비한 양극선과, 상기 양극선부와 접촉되지 않도록 상기 케이스의 축방향을 따라 배치된 제2연결선부와 상기 제1연결선부와 접촉되지 않도록 상기 제2연결선부에서 일측이 개구되게 상기 케이스의 원주방향으로 형성되며 상기 제2연결선부를 따라 상기 양극선부와 교대되도록 배치된 복수의 음극선부를 구비한 음극선을 구비하며, 상기 제1연결선부 및 상기 제2연결선부에 전기가 공급되면 상기 가스로 플라즈마를 발생시킬 수 있는 전극수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 임플란트 플라즈마 표면처리장치. A case having one end open to accommodate the implant therein, and an injection hole at the other end for injecting a gas for generating plasma into the inside;
A cap for mounting the implant on one side is formed, and the cap is detachably coupled to one end of the case so that the implant can be mounted in the interior of the case in the longitudinal direction along the axial direction of the case;
A first connecting line portion disposed along the axial direction of the case and a plurality of positive wire portions formed in the circumferential direction of the case such that one side is opened from the first connecting line portion and disposed spaced apart from each other by a predetermined distance along the first connecting line portion Formed in the circumferential direction of the case such that one side of the anode wire and the second connecting wire portion disposed along the axial direction of the case not to be in contact with the anode wire portion and the second connecting wire portion are opened so as not to come into contact with the first connecting wire portion and a cathode ray having a plurality of cathode ray portions arranged alternately with the anode wire portion along the second connection wire portion, and when electricity is supplied to the first connection wire portion and the second connection wire portion, a plasma can be generated with the gas Implant plasma surface treatment apparatus, characterized in that it comprises an electrode means. 제1항에 있어서,
상기 양극선부 및 상기 음극선부는 0.1 ~ 7mm의 간격으로 이격하여 교대로 배치되는 것을 특징으로 하는 임플란트 플라즈마 표면처리장치. According to claim 1,
The implant plasma surface treatment apparatus, characterized in that the anode wire portion and the cathode wire portion are alternately arranged spaced apart at an interval of 0.1 ~ 7mm. 제2항에 있어서,
상기 양극선은 상기 케이스의 내주면 또는 상기 케이스의 외주면 중 어느 하나에 배치되고,
상기 음극선은 상기 케이스의 내주면 또는 상기 케이스의 외주면 중 어느 하나에 배치되는 것을 특징으로 하는 임플란트 플라즈마 표면처리장치. 3. The method of claim 2,
The anode wire is disposed on either the inner circumferential surface of the case or the outer circumferential surface of the case,
The cathode ray is implanted plasma surface treatment apparatus, characterized in that disposed on any one of the inner peripheral surface of the case or the outer peripheral surface of the case. 삭제delete
KR1020190067735A 2019-06-10 2019-06-10 Implant plasma surface treatment device KR102320215B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190067735A KR102320215B1 (en) 2019-06-10 2019-06-10 Implant plasma surface treatment device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190067735A KR102320215B1 (en) 2019-06-10 2019-06-10 Implant plasma surface treatment device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200141138A KR20200141138A (en) 2020-12-18
KR102320215B1 true KR102320215B1 (en) 2021-11-02

Family

ID=74041665

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190067735A KR102320215B1 (en) 2019-06-10 2019-06-10 Implant plasma surface treatment device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102320215B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022231272A1 (en) * 2021-04-26 2022-11-03 주식회사 플라즈맵 Apparatus for treating object to be treated

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2803017B2 (en) * 1993-06-07 1998-09-24 工業技術院長 Antithrombotic medical material and medical device, and their manufacturing method, manufacturing apparatus, and plasma processing apparatus
JP2003325553A (en) * 2002-05-14 2003-11-18 Advance Co Ltd Method for producing implant
JP2017501771A (en) 2013-12-10 2017-01-19 ノバ プラズマ リミテッド Containers, devices and methods for handling implants
JP2018519873A (en) 2015-05-11 2018-07-26 ノバ プラズマ リミテッド Apparatus and method for manipulating an implant

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101102993B1 (en) 2011-03-29 2012-01-05 주식회사 메가젠임플란트 A surface treating apparatus for dental implant
KR101677204B1 (en) * 2010-07-16 2016-11-17 아아프 임플란타테 아게 Apatite coatings on mg screws
KR20160049683A (en) 2014-10-28 2016-05-10 주식회사 피글 Oxide implant removal device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2803017B2 (en) * 1993-06-07 1998-09-24 工業技術院長 Antithrombotic medical material and medical device, and their manufacturing method, manufacturing apparatus, and plasma processing apparatus
JP2003325553A (en) * 2002-05-14 2003-11-18 Advance Co Ltd Method for producing implant
JP2017501771A (en) 2013-12-10 2017-01-19 ノバ プラズマ リミテッド Containers, devices and methods for handling implants
JP2018519873A (en) 2015-05-11 2018-07-26 ノバ プラズマ リミテッド Apparatus and method for manipulating an implant

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200141138A (en) 2020-12-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102169548B1 (en) Storage of Implant
US5725377A (en) Dental implant apparatus
ES2145293T3 (en) IMPLANT IN THE FORM OF INJECTABLE POLYETHYLENE OXIDE GEL AND ITS PRODUCTION PROCEDURE.
WO1997036551A9 (en) Dental implant apparatus
KR102320215B1 (en) Implant plasma surface treatment device
KR20160065698A (en) Method of processing dental implant surface using ultraviolet light with plasma and surface processing device for dental implant performing the same
US20160361150A1 (en) Systems and methods for sterile delivery of prostheses
KR102351510B1 (en) Plasma Dental Implant Capsulation Device
KR20140103630A (en) Plug type dental implant
KR101685934B1 (en) Abutment for implant healing
KR101306803B1 (en) Implant Using Organic Solvent For Enhancing Bioactivity Of Implant Surface, and Implant Manufacturing Method
Balshi et al. Treatment of osseous defects using vicryl mesh (polyglactin 910) and the Brånemark implant: a case report
KR101832979B1 (en) Prosthetic packing case
KR102047451B1 (en) package for dental implant
KR20230012561A (en) Manufacturing method of implant storage container and plasma treatment method of implant storage container
KR102590921B1 (en) Plasma surface treatment apparatus and method for plasma surface treatment using the same
KR102387694B1 (en) Storage of Implant
KR102569320B1 (en) A Method of Surface Treatment for Packaged Implant through Plasma and Surface Treatment System for Packaged Implant
KR102602281B1 (en) Fixture storage container for implants for plasma surface treatment
KR200303351Y1 (en) Ampoule for a fixture of dental implant fixture
CN214268380U (en) Implant package
KR102569322B1 (en) A Method of Surface Treatment for Packaged Implant through Plasma and Surface Treatment System for Packaged Implant
KR102569325B1 (en) A Method of Surface Treatment and Packaging for Implant and Its System
CN213535548U (en) Dampproofing antibacterial dentistry planting body packing bottle
KR20190117175A (en) Auxiliary Device for Dental Implant

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant