KR102310007B1 - 엑스선 모듈을 구비하는 유체 처리 장치 - Google Patents

엑스선 모듈을 구비하는 유체 처리 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102310007B1
KR102310007B1 KR1020190049529A KR20190049529A KR102310007B1 KR 102310007 B1 KR102310007 B1 KR 102310007B1 KR 1020190049529 A KR1020190049529 A KR 1020190049529A KR 20190049529 A KR20190049529 A KR 20190049529A KR 102310007 B1 KR102310007 B1 KR 102310007B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
fluid
chamber
ray
collection
module
Prior art date
Application number
KR1020190049529A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20200126053A (ko
Inventor
서천옥
문철호
Original Assignee
서경덕
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 서경덕 filed Critical 서경덕
Priority to KR1020190049529A priority Critical patent/KR102310007B1/ko
Priority to PCT/KR2019/005204 priority patent/WO2020222328A1/ko
Publication of KR20200126053A publication Critical patent/KR20200126053A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102310007B1 publication Critical patent/KR102310007B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/007—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by irradiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/32—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2259/00—Type of treatment
    • B01D2259/80—Employing electric, magnetic, electromagnetic or wave energy, or particle radiation
    • B01D2259/81—X-rays

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

본 발명의 일실시예는 제2 유체를 처리하여 제3 유체로 변환하는 엑스선 모듈을 포함하고, 상기 엑스선 모듈은, 제3 바디, 상기 제3 바디의 일단에 형성되며 상기 제2 유체가 유입되는 제3 입구, 그리고 상기 제3 바디의 타단에 형성되며 상기 제3 유체가 배출되는 제3 출구를 구비하는, 제3 챔버; 상기 제3 챔버의 내부에 위치하고, 길이 방향으로 연장된(elongated) 형상을 가지는, 복수 개의 엑스선 제공부; 그리고 상기 제3 챔버의 내부에 위치하고, 상기 제2 유체가 상기 제3 유체로 변환되는 과정에서 발생되는 염(salt)을 제거하는, 제3 수거부를 포함하며, 상기 제3 수거부는, 상기 제3 챔버의 내부에 위치하는 복수 개의 수거 풀리; 상기 수거 풀리에 결합되어 루프(loop)를 형성하며, 상기 루프를 따라 회전하고, 상기 염이 부착되는, 제3 수거 벨트; 그리고 상기 제3 수거 벨트에 인접하고, 상기 제3 수거 벨트가 회전하면 상기 염을 상기 제3 수거 벨트에서 분리시키는, 제3 스크레이퍼를 포함하는, 유체 처리 장치를 제공할 수 있다.

Description

엑스선 모듈을 구비하는 유체 처리 장치{FLUID TREATMENT DEVICE HAVING X-RAY MODULE}
본 발명은 유체 처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 유체에 포함된 입자상 오염 물질과 가스상 오염 물질을 제거하는 유체 처리 장치에 관한 것이다.
대기 오염 물질은 입자상 오염 물질과 가스상 오염 물질로 구분될 수 있다. 입자상 오염 물질은, 먼지를 포함하며, 특히 금속 가공시 발생되는 금속 미세 입자와 오일(oil) 입자를 포함할 수 있다.
가스상 오염 물질은, 예를 들어, 가스 상태의 질소산화물과 황산화물을 포함할 수 있다. 질소산화물과 황산화물은, 대기의 질을 악화시키며, 대기 오염의 지표가 되기도 한다.
대기 오염 물질 중 입자상 오염 물질과 가스상 오염 물질의 비율은, 경우에 따라 달라질 수 있다. 대기 오염 물질을 효율적으로 감소시키기 위하여, 입자상 오염 물질과 가스상 오염 물질을 각각 감소시키는 모듈을 포함하는 장치가 고려될 수 있다.
KR 10 - 1729844 B1
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 입자상 오염 물질을 제거하는 모듈과 가스상 오염 물질을 제거하는 모듈을 포함하는 유체 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른(another) 기술적 과제는, 서로 다른 상태의 오염 물질을 제거하는 복수 개의 모듈이 결합되어 구성되는 유체 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른(another) 기술적 과제는, 전자빔과 엑스선을 동시에 이용하는 유체 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른(another) 기술적 과제는, 일 구성요소에 부착된 질산암모늄과 황산암모늄을 효과적으로 상기 일 구성요소로부터 분리시키는 유체 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 측면(an aspect)에 따르면, 본 발명은, 제2 유체를 처리하여 제3 유체로 변환하는 엑스선 모듈을 포함하고, 상기 엑스선 모듈은, 제3 바디, 상기 제3 바디의 일단에 형성되며 상기 제2 유체가 유입되는 제3 입구, 그리고 상기 제3 바디의 타단에 형성되며 상기 제3 유체가 배출되는 제3 출구를 구비하는, 제3 챔버; 상기 제3 챔버의 내부에 위치하고, 길이 방향으로 연장된(elongated) 형상을 가지는, 복수 개의 엑스선 제공부; 그리고 상기 제3 챔버의 내부에 위치하고, 상기 제2 유체가 상기 제3 유체로 변환되는 과정에서 발생되는 염(salt)을 제거하는, 제3 수거부를 포함하며, 상기 제3 수거부는, 상기 제3 챔버의 내부에 위치하는 복수 개의 수거 풀리; 상기 수거 풀리에 결합되어 루프(loop)를 형성하며, 상기 루프를 따라 회전하고, 상기 염이 부착되는, 제3 수거 벨트; 그리고 상기 제3 수거 벨트에 인접하고, 상기 제3 수거 벨트가 회전하면 상기 염을 상기 제3 수거 벨트에서 분리시키는, 제3 스크레이퍼를 포함하는, 유체 처리 장치를 제공할 수 있다.
본 발명의 다른 측면(another aspect)에 따르면, 상기 유체 처리 장치는, 제1 유체를 처리하여 상기 제2 유체로 변환하고, 상기 제2 유체를 상기 엑스선 모듈에 제공하는 세퍼레이터 모듈을 더 포함하고, 상기 세퍼레이터 모듈은, 제1 바디, 상기 제1 바디의 일단에 형성되며 상기 제1 유체가 유입되는 제1 입구, 그리고 상기 제1 바디의 타단에 형성되며 상기 제2 유체가 배출되는 제1 출구를 포함하는, 제1 챔버; 그리고 상기 제1 바디의 내부에 위치하되 상기 제1 입구와 상기 제1 출구의 사이에 배치되며, 복수 개의 이격된 분리 플레이트를 구비하고, 상기 제1 유체로부터 입자상 오염 물질을 분리하는, 세퍼레이터를 포함하며, 상기 제3 입구는, 상기 제1 출구에 결합되어 상기 제2 유체를 제공받을 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유체 처리 장치는, 입자상 오염 물질을 제거하는 모듈과 가스상 오염 물질을 제거하는 모듈을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유체 처리 장치는, 서로 다른 상태의 오염 물질을 제거하는 복수 개의 모듈이 결합되어 구성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유체 처리 장치는, 전자빔과 엑스선을 동시에 이용할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 유체 처리 장치는, 일 구성요소에 부착된 질산암모늄과 황산암모늄을 상기 일 구성요소로부터 효과적으로 분리시킬 수 있다.
본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유체 처리 장치의 블록도를 나타낸 도면이다.
도 2는, 본 발명의 일 실시예에 따른 세퍼레이터 모듈을 나타낸 도면이다.
도 3은, 세퍼레이터의 단면을 나타낸 도면이다.
도 4는, 본 발명의 일 실시예에 따른 전자빔 모듈을 나타낸 도면이다.
도 5는, 도 4에 도시된 전자빔 모듈의 일 단면을 나타낸 도면이다.
도 6은, 본 발명의 다른(another) 실시예에 따른 전자빔 모듈의 단면을 나타낸 도면이다.
도 7은, 본 발명의 다양한 실시예에 따른 엑스선 발생부를 나타낸 도면이다.
도 8은, 본 발명의 일 실시예에 따른 제2 모듈을 나타낸 블록도이다.
도 9는, 본 발명의 일 실시예에 따른 엑스선 모듈을 나타낸 도면이다.
도 10은, 본 발명의 일 실시예에 따른 엑스선 제공부와 제3 수거부를 나타낸 도면이다.
도 11은, 본 발명의 제1 모듈과 제2 모듈이 하나의 챔버에 위치하는 유체 처리 장치(100)를 나타낸 도면이다.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결(접속, 접촉, 결합)"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유체 처리 장치(100)의 블록도를 나타낸 도면이다. 유체 처리 장치(100)는, “전자빔 모듈을 구비하는 유체 처리 장치”라 칭할 수 있다. 유체 처리 장치(100)는, “엑스선 모듈을 구비하는 유체 처리 장치”라 칭할 수 있다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유체 처리 장치(100)는, 오염된 유체 제공부(50)로부터 제1 유체(10)를 제공 받아 처리하여 제3 유체(30)로 변환시킬 수 있다. 유체 처리 장치(100)는, 제3 유체(30)를 외부(60)에 제공할 수 있다.
제1 유체(10)는, “오염된 유체(contaminated fluid)”를 의미할 수 있다. 제3 유체(30)의 오염도는, 제1 유체(10)의 오염도 보다 작을 수 있다. 제1 유체(10)를 유체 처리 장치(100)에 제공하는 오염된 유체 제공부(50)는, 예를 들어, 제철소, 제련소, 반도체 공장 중 하나일 수 있다. 외부(60)는, 유체 처리 장치(100)가 설치되는 장소의 외부를 의미할 수 있다.
유체 처리 장치(100)는, 제1 모듈(110)을 포함할 수 있다. 제1 모듈(110)은, 제1 유체(10)를 오염된 유체 제공부(50)로부터 제공받을 수 있다. 제1 모듈(110)은, 제1 유체(10)를 처리하여 제2 유체(20)로 변환시킬 수 있다. 제2 유체(20)의 오염도는, 제1 유체(10)의 오염도 보다 낮을 수 있다. 제1 모듈(110)이 제2 유체(20)를 외부(60)에 제공하는 경우, 제2 유체(20)는 제3 유체(30)를 의미할 수 있다.
제1 모듈(110)은, 예를 들어, 세퍼레이터 모듈(200, separator module)을 포함할 수 있다. 제1 모듈(110)은, 제1 유체(10)로부터 이물질을 제거할 수 있다. 예를 들어 제1 모듈(110)은, 제1 유체(10)에 포함된 입자상 물질을 제거할 수 있다. 예를 들어 제1 모듈(110)은, 제1 유체(10)에 포함된 먼지 또는 오일 미스트(oil mist)를 제거할 수 있다.
유체 처리 장치(100)는, 제2 모듈(120)을 포함할 수 있다. 제2 모듈(120)은, 제1 모듈(110)에 연결될 수 있다. 제2 모듈(120)은, 제1 모듈(110)에 결합될 수 있다. 제2 모듈(120)은, 제1 모듈(110)로부터 제2 유체(20)를 제공받을 수 있다. 제2 모듈(120)은, 제2 유체(20)를 처리하여 제3 유체(30)를 생성할 수 있다. 제3 유체(30)의 오염도는, 제2 유체(20)의 오염도 보다 작을 수 있다.
제2 모듈(120)은, 제2 유체(20)로부터 포함된 가스상 물질을 제거할 수 있다. 예를 들어, 제2 모듈(120)은, 제2 유체(20)로부터 질소산화물(NOx) 또는 황산화물(SOx)을 제거할 수 있다.
제2 모듈(120)은, 전자빔 모듈(300)을 포함할 수 있다. 전자빔 모듈(300)은, 제1 모듈(110)로부터 제2 유체(20)를 제공받을 수 있다. 전자빔 모듈(300)은, 제2 유체(20)에 전자빔(electron beam)을 조사할 수 있다. 예를 들어 전자빔 모듈(300)은, 제2 유체(20)에 전자빔의 에너지를 전달할 수 있다.
제2 모듈(120)은, 엑스선 모듈(400)을 포함할 수 있다. 엑스선 모듈(400)은, 제1 모듈(110)로부터 제2 유체(20)를 제공받을 수 있다. 엑스선 모듈(400)은, 제2 유체(20)에 엑스선(X-ray)을 조사할 수 있다. 예를 들어 엑스선 모듈(400)은, 제2 유체(20)에 엑스선의 에너지를 전달할 수 있다.
유체 처리 장치(100)는, 제어 모듈(500)을 포함할 수 있다. 제어 모듈(500)은, 제1 모듈(110)에 연결될 수 있다. 제어 모듈(500)은, 제1 모듈(110)과 제1 신호(S1)를 송수신할 수 있다. 제1 신호(S1)는, 제1 모듈(110)의 상태 또는 작동에 관한 정보를 포함할 수 있다. 제어 모듈(500)은, 제2 모듈(120)에 연결될 수 있다. 제어 모듈(500)은, 제2 모듈(120)과 제2 신호(S2)를 송수신할 수 있다. 제2 신호(S2)는, 제2 모듈(120)의 상태 또는 작동에 관한 정보를 포함할 수 있다.
제1 모듈(110)과 제2 모듈(120)은, 필요에 따라 택일적으로 설치될 수 있다. 예를 들어, 제1 유체(10)에 포함된 오염 물질의 대부분이 입자상 물질인 경우, 제1 모듈(110)이 설치되어 제1 유체(10)가 처리될 수 있다. 예를 들어, 제1 유체에 포함된 오염 물질의 대부분이 가스상 물질인 경우, 제2 모듈(120)이 설치되어 제1 유체(10)가 처리될 수 있다. 예를 들어, 제1 유체에 포함된 오염 물질이 입자상 물질과 가스상 물질을 모두 포함하는 경우, 제1 모듈(110)과 제2 모듈(120)이 설치되어 제1 유체(10)가 처리될 수 있다.
도 2는, 본 발명의 일 실시예에 따른 세퍼레이터 모듈(200)을 나타낸 도면이다.
도 2에서, 3가지 방향이 설정될 수 있다. 제1 방향(DR1)은, 수평면(水平面)과 나란한 방향일 수 있다. 제2 방향(DR2)은, 수직 방향 또는 연직 방향일 수 있다. 제3 방향(DR3)은, 전후(前後) 방향일 수 있다. 제1 방향(DR1), 제2 방향(DR2), 그리고 제3 방향(DR3)은, 서로 직교할 수 있다.
도 2를 참조하면, 세퍼레이터 모듈(200)은, 제1 챔버(210)를 포함할 수 있다. 제1 챔버(210)는, 제1 바디(211)를 포함할 수 있다. 제1 바디(211)는, 제1 챔버(210)의 골격을 형성할 수 있다. 제1 바디(211)는, 내부에 중공부를 형성할 수 있다.
제1 챔버(210)는, 제1 입구(213)와 제1 출구(215)를 포함할 수 있다. 제1 입구(213)와 제1 출구(215)는, 개구부(opening)의 형상을 가질 수 있다. 제1 입구(213)는, 제1 바디(211)의 일단(一端)에 형성될 수 있다. 제1 출구(215)는, 제1 바디(211)의 타단(他端)에 형성될 수 있다. 제1 입구(213)에서 제1 출구(215)를 향하는 방향은, 제3 방향(DR3)과 나란할 수 있다. 제1 출구(215)는, 제1 입구(213)의 후방에 위치할 수 있다. 달리 말하면, 제1 입구(213)는, 제1 출구(215)의 전방에 위치할 수 있다.
제1 유체(10)는, 제1 입구(213)를 통과하여 제1 챔버(210)의 내부에 유입될 수 있다. 제1 유체(10)는, 제1 챔버(210)의 내부에서 정화되어 제2 유체(20)로 변환될 수 있다. 제2 유체(20)는, 제1 출구(215)를 통해 외부로 배출될 수 있다. 제1 유체(10)는, 제1 챔버(210)의 내부에서 제3 방향(DR3)을 따라 이동할 수 있다.
세퍼레이터 모듈(200)은, 제1 세퍼레이터(220), 제2 세퍼레이터(230), 그리고 제3 세퍼레이터(240) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 세퍼레이터(220, 230, 240)는, 제1 세퍼레이터(220), 제2 세퍼레이터(230), 그리고 제3 세퍼레이터(240) 중 적어도 하나를 의미할 수 있다.
세퍼레이터(220, 230, 240)는, 제1 챔버(210)에 설치될 수 있다. 도 2에서 세퍼레이터(220, 230, 240)가 설명의 편의를 위하여 해칭(hatching)되어 표시될 수 있다. 세퍼레이터(220, 230, 240)는, 제1 입구(213)와 제1 출구(215)의 사이에 배치될 수 있다.
세퍼레이터(220, 230, 240)는, 제1 챔버(210)의 내부 공간을 구획할 수 있다. 예를 들어 세퍼레이터(220, 230, 240)는, 제1 챔버(210)의 내부 공간을, 전후 방향으로 구획할 수 있다. 예를 들어 세퍼레이터(220, 230, 240)는, 제1 챔버(210)의 내부 공간을, 제1 챔버(210) 내부에서 제1 유체(10)의 흐름 방향을 따라 구획할 수 있다. 예를 들어, 제1 챔버(210)의 내부 공간은, 제1 입구(213)와 제1 세퍼레이터(220) 사이의 공간, 제1 세퍼레이터(220)와 제2 세퍼레이터(230) 사이의 공간, 제2 세퍼레이터(230)와 제3 세퍼레이터 사이의 공간, 그리고 제3 세퍼레이터(240)와 제1 출구(215) 사이의 공간으로 구획할 수 있다.
세퍼레이터(220, 230, 240)는, 제1 유체(10)의 흐름을 방해할 수 있다. 제1 챔버(210)의 내부에 유입된 제1 유체(10)는, 세퍼레이터(220, 230, 240)에 의해 정화되어 제2 유체(20)로 변환될 수 있다. 세퍼레이터(220, 230, 240)는, 제1 유체(10)로부터 입자상 물질을 제거할 수 있다. 예를 들어, 제1 챔버(210)의 내부에 유입된 제1 유체(10)는, 세퍼레이터(220, 230, 240)에 도달하여 와류(turbulence)를 형성할 수 있다. 와류를 형성하는 제1 유체(10)에 포함된 입자상 물질은, 세퍼레이터(220, 230, 240)의 표면에 점착될 수 있다. 예를 들어 제1 유체(10)에 포함된 오일 미스트는, 세퍼레이터(220, 230, 240)의 표면에 점착되어 중력에 의해 하강할 수 있다.
제1 챔버(210)는 제1 드레인(216, drain)을 포함할 수 있다. 제1 드레인(216)은, 제1 챔버(210)의 하단부에 위치할 수 있다. 제1 드레인(216)은, 세퍼레이터(220, 230, 240)의 하부에 위치할 수 있다. 제1 드레인(216)은, 세퍼레이터(220, 230, 240)로부터 오염 물질을 제공받아 외부로 배출시킬 수 있다. 제1 드레인(216)은, 복수 개로 제공될 수 있다. 예를 들어, 제1 드레인(216)은, 제1 드레인 제1 부분(216a), 제1 드레인 제2 부분(216b), 그리고 제1 드레인 제3 부분(216c)을 포함할 수 있다. 제1 드레인 제1 부분(216a)은, 제1 세퍼레이터(220)의 하부에 위치할 수 있다. 제1 드레인 제2 부분(216b)은, 제2 세퍼레이터(230)의 하부에 위치할 수 있다. 제1 드레인 제3 부분(216c)은, 제3 세퍼레이터(240)의 하부에 위치할 수 있다.
도 3은, 세퍼레이터의 단면을 나타낸 도면이다. 도 3에서 수평면과 나란하게 잘린 세퍼레이터(220, 230, 240)가 관찰될 수 있다. 제1 방향(DR1)과 제3 방향(DR3)은, 수평면에 위치할 수 있다.
도 3의 (a)를 참조하면, 제1 세퍼레이터(220)는, 제1 전방 분리 플레이트(221)와 제1 후방 분리 플레이트(223)를 포함할 수 있다. 제1 후방 분리 플레이트(223)의 단면 형상은, 제1 전방 분리 플레이트(221)의 단면 형상과 동일할 수 있다.
제1 전방 분리 플레이트(221)는, 복수 개로 제공될 수 있다. 복수 개의 제1 전방 분리 플레이트(221)는, 제1 방향(DR1)을 따라 순차적으로 배치될 수 있다. 복수 개의 제1 전방 분리 플레이트(221)는, 서로 이격될 수 있다. 복수 개의 제1 전방 분리 플레이트(221)는, 동일한 자세(attitude)를 가질 수 있다.
제1 후방 분리 플레이트(223)는, 복수 개로 제공될 수 있다. 복수 개의 제1 후방 분리 플레이트(223)는, 제1 방향(DR1)을 따라 순차적으로 배치될 수 있다. 복수 개의 제1 후방 분리 플레이트(223)는, 서로 이격될 수 있다. 복수 개의 제1 후방 분리 플레이트(223)는, 동일한 자세를 가질 수 있다. 복수 개의 제1 후방 분리 플레이트(223)는, 복수 개의 제1 전방 분리 플레이트(221)에 인접할 수 있다.
제1 후방 분리 플레이트(223)의 자세는, 제1 전방 분리 플레이트(221)의 자세와 대칭을 형성할 수 있다. 예를 들어, 제1 후방 분리 플레이트(223)는, 제3 방향(DR3)을 기준으로, 제1 전방 분리 플레이트(221)와 대칭을 형성할 수 있다.
도 3의 (b)를 참조하면, 제2 세퍼레이터(230)는, 제2 전방 분리 플레이트(231)와 제2 후방 분리 플레이트(233)를 포함할 수 있다. 제2 후방 분리 플레이트(233)의 단면 형상은, 제2 전방 분리 플레이트(231)의 단면 형상과 동일할 수 있다.
제2 전방 분리 플레이트(231)는, 복수 개로 제공될 수 있다. 복수 개의 제2 전방 분리 플레이트(231)는, 제1 방향(DR1)을 따라 순차적으로 배치될 수 있다. 복수 개의 제2 전방 분리 플레이트(231)는, 서로 이격될 수 있다. 복수 개의 제2 전방 분리 플레이트(231)는, 동일한 자세(attitude)를 가질 수 있다.
제2 후방 분리 플레이트(233)는, 복수 개로 제공될 수 있다. 복수 개의 제2 후방 분리 플레이트(233)는, 제1 방향(DR1)을 따라 순차적으로 배치될 수 있다. 복수 개의 제2 후방 분리 플레이트(233)는, 서로 이격될 수 있다. 복수 개의 제2 후방 분리 플레이트(233)는, 동일한 자세를 가질 수 있다. 복수 개의 제2 후방 분리 플레이트(233)는, 복수 개의 제2 전방 분리 플레이트(231)에 인접할 수 있다.
제2 후방 분리 플레이트(233)의 자세는, 제2 전방 분리 플레이트(231)의 자세와 대칭을 형성할 수 있다. 예를 들어, 제2 후방 분리 플레이트(233)는, 제3 방향(DR3)을 기준으로, 제2 전방 분리 플레이트(231)와 대칭을 형성할 수 있다.
도 3의 (c)를 참조하면, 제3 세퍼레이터(240)는, 제3 전방 분리 플레이트(241)와 제3 후방 분리 플레이트(243)를 포함할 수 있다. 제3 후방 분리 플레이트(243)의 단면 형상은, 제3 전방 분리 플레이트(241)의 단면 형상과 동일할 수 있다.
제3 전방 분리 플레이트(241)는, 복수 개로 제공될 수 있다. 복수 개의 제3 전방 분리 플레이트(241)는, 제1 방향(DR1)을 따라 순차적으로 배치될 수 있다. 복수 개의 제3 전방 분리 플레이트(241)는, 서로 이격될 수 있다. 복수 개의 제3 전방 분리 플레이트(241)는, 동일한 자세(attitude)를 가질 수 있다.
제3 후방 분리 플레이트(243)는, 복수 개로 제공될 수 있다. 복수 개의 제3 후방 분리 플레이트(243)는, 제1 방향(DR1)을 따라 순차적으로 배치될 수 있다. 복수 개의 제3 후방 분리 플레이트(243)는, 서로 이격될 수 있다. 복수 개의 제3 후방 분리 플레이트(243)는, 동일한 자세를 가질 수 있다. 복수 개의 제3 후방 분리 플레이트(243)는, 복수 개의 제3 전방 분리 플레이트(241)에 인접할 수 있다.
제3 후방 분리 플레이트(243)의 자세는, 제3 전방 분리 플레이트(241)의 자세와 대칭을 형성할 수 있다. 예를 들어, 제3 후방 분리 플레이트(243)는, 제3 방향(DR3)을 기준으로, 제3 전방 분리 플레이트(241)와 대칭을 형성할 수 있다.
도 3을 참조하면, 전방 분리 플레이트(221, 231, 241)는, 제1 전방 분리 플레이트(221), 제2 전방 분리 플레이트(231), 그리고 제3 전방 분리 플레이트(241) 중 적어도 하나를 의미할 수 있다. 후방 분리 플레이트(223, 233, 243)는, 제1 후방 분리 플레이트(223), 제2 후방 분리 플레이트(233), 그리고 제3 후방 분리 플레이트(243) 중 적어도 하나로서 전방 분리 플레이트(221, 231, 241)에 대응되는 것을 의미할 수 있다. 분리 플레이트(221, 223, 231, 233, 241, 243)는, 전방 분리 플레이트(221, 231, 241)와 후방 분리 플레이트(223, 233, 243) 중 적어도 하나를 의미할 수 있다.
도 2 및 3을 참조하면, 분리 플레이트(221, 223, 231, 233, 241, 243)는, 상부에서 하부로 연장된(elongated) 형상을 가질 수 있다. 분리 플레이트(221, 223, 231, 233, 241, 243)는, 예를 들어 제2 방향(DR2)으로 연장된 형상을 가질 수 있다. 복수 개의 분리 플레이트(221, 223, 231, 233, 241, 243)는, 제1 챔버(210)의 길이 방향을 기준으로 횡방향(또는 가로방향)으로 순차적으로 배치될 수 있다.
예를 들어, 복수 개의 전방 분리 플레이트(221, 231, 241)는, 순차적으로 횡방향으로 배치될 수 있다. 복수 개의 전방 분리 플레이트(221, 231, 241)에 대응되는 복수 개의 후방 분리 플레이트(223, 233, 243)는, 복수 개의 전방 분리 플레이트(221, 231, 241)와 교대로 배치될 수 있다. 즉 이웃하는 양(兩) 전방 분리 플레이트(221, 231, 241)의 사이에 후방 분리 플레이트(223, 233, 243)가 배치될 수 있다. 또한 이웃하는 양(兩) 후방 분리 플레이트(223, 233, 243)의 사이에 전방 분리 플레이트(221, 231, 241)가 배치될 수 있다.
도 3을 참조하면, 전방 분리 플레이트(221, 231, 241)와 후방 플레이트(223, 233, 243)는, 서로 대칭된 단면 형상을 형성할 수 있다. 또한 전방 분리 플레이트(221, 231, 241)와 후방 플레이트(223, 233, 243)의 표면에 복수 개의 돌기가 형성될 수 있다. 이로써, 세퍼레이터(220, 230, 240)를 통과하는 유체는, 세퍼레이터(220, 230, 240)에서 와류(turbulence)를 형성할 수 있다.
세퍼레이터(220, 230, 240)에서 형성된 와류에 의하여, 세퍼레이터(220, 230, 240)를 통과하는 유체에 포함된 입자상 물질은 세퍼레이터(220, 230, 240)에 상대적으로 강하게 충돌할 수 있다. 또한 세퍼레이터(220, 230, 240)에서 형성된 와류에 의하여, 세퍼레이터(220, 230, 240)를 통과하는 유체에 포함된 입자상 물질은 세퍼레이터(220, 230, 240)에 상대적으로 긴 시간 동안 머무르며 세퍼레이터(220, 230, 240)와 반응할 수 있다.
이와 같은 작용에 의하여, 세퍼레이터(220, 230, 240)를 통과하는 유체에 포함된 입자상 물질은, 전방 분리 플레이트(221, 231, 241)와 후방 분리 플레이트(223, 233, 243)에 점착되어 하강할 수 있다.
도 4는, 본 발명의 일 실시예에 따른 전자빔 모듈(300)을 나타낸 도면이다. 전자빔 모듈(300)은, 제2 모듈(120)에 포함될 수 있다. 도 4에서, 설명의 편의를 위하여, 제2 챔버(320)의 내부가 외부에서 관찰될 수 있다.
도 4를 참조하면, 전자빔 모듈(300)은, 제1 모듈(110, 도 2 참조)로부터 제2 유체(20)를 제공받을 수 있다. 전자빔 모듈(300)은, 제2 유체(20)를 처리하여 제3 유체(30)로 변환시킬 수 있다.
전자빔 모듈(300)은 제2 챔버(320)를 포함할 수 있다. 제2 챔버(320)는, 제2 바디(321)를 포함할 수 있다. 제2 바디(321)는, 내부에 중공부를 형성할 수 있다. 제2 챔버(320)는, 제2 입구(323)와 제2 출구(325)를 포함할 수 있다.
제2 입구(323)는, 제2 바디(321)의 전단(前端)에 형성된 개구부일 수 있다. 제2 입구(323)는, 제2 바디(321)의 일단(一端)에 위치할 수 있다. 제2 출구(325)는, 제2 바디(321)의 후단(後端)에 형성된 개구부일 수 있다. 제2 출구(325)는, 제2 바디(321)의 타단(他端)에 위치할 수 있다. 제2 입구(323)와 제2 출구(325)는, 제2 바디(321)의 내부에 형성된 중공부에 연통될 수 있다.
제2 챔버(320)는, 제1 챔버(210, 도 2 참조)에 결합될 수 있다. 예를 들어, 제2 입구(323)는, 제1 챔버(210, 도 2 참조)의 제1 출구(215, 도 2 참조)에 결합될 수 있다. 예를 들어, 제2 입구(323)는, 제1 출구(215, 도 2 참조)에 연통될 수 있다. 제1 출구(215, 도 2 참조)를 통해 배출되는 제2 유체(20, 도 2 참조)는, 제2 입구(323)를 통해 제2 챔버(320)의 내부로 유입될 수 있다.
제2 유체(20)는, 제2 입구(323)를 통해 제2 챔버(320)의 내부로 유입될 수 있다. 도 4에 도시되지 않았으나, 제2 챔버(320)에 다른(another) 가스가 주입될 수 있다. 예를 들어 암모니아(NH3) 가스가 제2 챔버(320)에 주입될 수 있다. 예를 들어 암모니아(NH3) 가스는, 제2 입구(323)를 통해 제2 챔버(320)의 내부에 주입될 수 있다. 제2 유체(20)는, 제2 챔버(320)에서 처리되어 제3 유체(30)로 변환될 수 있다. 예를 들어 제2 유체(20)와 암모니아 가스는, 제2 챔버(320)에서 처리되어 제3 유체(30)로 변환될 수 있다. 제3 유체(30)는, 제2 출구(325)를 통해 외부로 배출될 수 있다.
전자빔 모듈(300)은, 전자빔 제공부(310)를 포함할 수 있다. 전자빔 제공부(310)는, 전자빔 가속기를 포함할 수 있다. 전자빔 제공부(310)의 일부는, 제2 챔버(320)의 내부에 위치할 수 있다. 전자빔 제공부(310)의 다른 일부는, 제2 챔버(320)의 외부에 위치할 수 있다. 전자빔 제공부(310)는, 제2 챔버(320)의 내부에 전자빔(electron beam)을 제공할 수 있다.
전자빔 제공부(310)가 제2 챔버(320)에 제공하는 전자빔의 방향은, 예를 들어, 제2 챔버(320)의 길이 방향과 나란할 수 있다. 제2 챔버(320)의 길이 방향은, 제2 입구(323)에서 제2 출구(325)를 향하는 방향과 나란할 수 있다. 제2 챔버(320)의 길이 방향은, 제3 방향(DR3)과 나란할 수 있다.
제2 챔버(320)의 크기는, 방향을 기준으로 측정될 수 있다. 예를 들어, 제2 챔버(320)의 크기는, 제1 방향(DR1) 또는/및 제2 방향(DR2)을 기준으로, 상대적으로 작을 수 있다. 예를 들어, 제2 챔버(320)의 크기는, 제3 방향(DR3)을 기준으로, 상대적으로 클 수 있다.
전자빔 제공부(310)에서 제2 챔버(320)에 제공하는 전자빔의 비행 거리(flight distance)는, 전자빔의 조사 방향과 제2 챔버(320)의 크기에 의존할 수 있다. 예를 들어, 제3 방향(DR3)을 기준으로 상대적으로 큰 크기를 가지는 제2 챔버(320)에서, 제3 방향(DR3)과 나란하게 조사되는 전자빔의 비행 거리는, 제1 방향(DR1) 또는/및 제2 방향(DR2)과 나란하게 조사되는 전자빔의 비행 거리 보다 클 수 있다.
전자빔 제공부(310)가 제2 챔버(320)에 제공하는 전자빔의 비행 거리는, 제2 챔버(320)에서 전자빔에 의해 조사되는 제2 유체(20)의 처리량과 관련될 수 있다. 예를 들어, 전자빔 제공부(310)가 제2 챔버(320)에 제공하는 전자빔의 비행 거리는, 제2 챔버(320)에서 전자빔에 의해 조사되는 제2 유체(20)의 처리량과 양의 상관 관계(positive correlation)를 가질 수 있다.
전자빔 제공부(310)에서 조사되는 전자빔은, 제2 챔버(320)의 내부를 비행할 수 있다. 전자빔이 제2 챔버(320)의 내부를 비행하는 과정에서, 전자빔은 제2 유체(20)와 충돌할 수 있다. 제2 유체(20)가 전자빔과 충돌하면, 제2 유체(20)의 일부 분자 또는 원자는, 이온화되거나 여기(excited) 상태로 변환될 수 있다.
제2 유체(20)는, 오염 물질로서 가스 상태의 질소산화물(NOx) 또는/및 가스 상태의 황산화물(SOx)을 포함할 수 있다. 질소산화물 또는/및 황산화물은, 전자빔 제공부(310)에서 제공되는 전자빔에 의하여 직접 이온화될 수 있다. 또는 질소산화물 또는/및 황산화물은, 이온화된 다른(another) 입자에 결합될 수 있다.
예를 들어, 질소산화물(NOx)은 질산암모늄(ammonium nitrate, NH4NO3)으로 변환될 수 있다. 예를 들어, 황산화물(SOx)은 황산암모늄(ammonium sulfate, (NH4)2SO4)으로 변환될 수 있다.
전자빔 모듈(300)은, 엑스선 발생부(330)를 포함할 수 있다. 엑스선 발생부(330)는, 전자빔 제공부(310)를 마주할 수 있다. 엑스선 발생부(330)는, 엑스선 발생부(330)는, 금속을 포함할 수 있다. 예를 들어 엑스선 발생부(330)는, 텅스텐을 포함할 수 있다. 다른 예를 들어, 엑스선 발생부(330)는, 구리를 포함할 수 있다.
전자빔 제공부(310)에서 조사되는 전자빔은, 제2 챔버(320)의 내부에서 비행하면서 제2 유체(20)에 에너지를 전달할 수 있다. 예를 들어, 전자빔 제공부(310)에서 조사되는 전자빔의 일부는, 제2 유체(20)에 에너지를 전달할 수 있다. 예를 들어, 전자빔 제공부(310)에서 조사되는 전자빔의 다른 일부는, 엑스선 발생부(330)에 도달할 수 있다. 엑스선 발생부(330)는, 전자빔과 반응하여 엑스선(X-ray)을 발생시킬 수 있다.
엑스선 발생부(330)에서 발생되는 엑스선은, 제2 유체(20)에 포함된 가스 상태의 물질에 에너지를 제공할 수 있다. 예를 들어, 제2 유체(20)의 일부는, 엑스선 발생부(330)에서 발생되는 엑스선에 의하여, 이온화되거나 래디컬(radical)로 변환될 수 있다. 제2 유체(20)에 포함된 질소산화물은 질산암모늄으로 변환될 수 있다. 제2 유체(20)에 포함된 황산화물은 황산암모늄으로 변환될 수 있다.
전자빔 모듈(300)은 제2 수거부(340)를 포함할 수 있다. 제2 수거부(340)는, 제2 챔버(320)의 내부에 위치할 수 있다. 제2 수거부(340)는, 전자빔 제공부(310)와 엑스선 발생부(330)의 사이에 위치할 수 있다. 제2 수거부(340)는, 제2수거 프레임(341)을 포함할 수 있다.
제2 수거 프레임(341)은, 내부에 형성된 중공부를 포함할 수 있다. 제2 수거 프레임(341)은, 제2 수거 프레임(341)의 일단(3411)에서 연장되어 타단(3413)으로 이어질 수 있다. 제2 수거 프레임(341)의 일단(3411)은, 전자빔 제공부(310)에 인접할 수 있다. 제2 수거 프레임(341)의 타단(3413)은, 엑스선 발생부(330)에 인접할 수 있다.
제2 수거 프레임(341)은, 콘(cone)의 형상을 형성할 수 있다. 제2 수거 프레임(341)은, 복수 개의 홀(hole)을 형성할 수 있다. 제2 수거 프레임(341)에 형성된 복수 개의 홀은, 제2 수거 프레임(341)의 일단(3411)과 타단(3413)의 사이에 위치할 수 있다. 제2 유체(20)는, 제2 수거 프레임(341)에 형성된 복수 개의 홀(hole)을 통과할 수 있다.
제2 수거 프레임(341)의 일단(3411)에 개구부(opening)가 형성될 수 있다. 제2 수거 프레임(341)의 타단(3413)에 개구부(opening)가 형성될 수 있다. 제2 수거 프레임(341)의 일단(3411)에 형성된 개구부의 크기는, 제2 수거 프레임(341)의 타단(3413)에 형성된 개구부의 크기 보다, 클 수 있다.
전자빔 제공부(310)에서 제공되는 전자빔은, 제2 수거 프레임(341)의 일단(3411)에서 타단(3413)을 향하여 비행하면서, 제2 유체(20)와 반응할 수 있다. 엑스선 발생부(330)에서 제공되는 엑스선은, 제2 수거 프레임(341)의 타단(3413)에서 일단(3411)을 향하여 조사되면서, 제2 유체(20)와 반응할 수 있다.
제2 유체(20)의 적어도 일부는, 별도로 유입된 암모니아 기체와 함께, 질산암모늄 또는/및 황산암모늄으로 변환될 수 있다. 질산암모늄 또는/및 황산암모늄은, 제2 수거 프레임(341)에 부착될 수 있다.
제2 수거부(340)는, 제2 수거부 회전체(343)를 포함할 수 있다. 제2 수거부 회전체(343)는, 제2 수거 프레임(341)의 일단(3411)에 위치할 수 있다. 제2 수거부 회전체(343)는, 제2 수거 프레임(341)에 결합될 수 있다. 제2 수거부 회전체(343)는, 제2 챔버(320)의 내부에 설치될 수 있다. 제2 수거부 회전체(343)는, 제2 수거 프레임(341)을 회전시킬 수 있다. 제2 수거부 회전체(343)는, 제2 수거 프레임(341)의 일단(3411)에서 타단(3413)을 향하는 방향을 기준으로 방위각 방향으로, 제2 수거 프레임(341)을 회전시킬 수 있다.
예를 들어, 제2 수거부 회전체(343)는, 제2 바디(321)의 내부에 설치되는 복수 개의 베어링(bearing)을 포함할 수 있다. 제2 수거부 회전체(343)는, 제2 수거 프레임(341)을 회전시키는 별도의 구동부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제2 수거부 회전체(343)는, 제2 수거 프레임(341)을 회전시키는 모터(motor)를 포함할 수 있다.제2 수거부(340)는, 제2 스크레이퍼(345)를 포함할 수 있다. 제2 스크레이퍼(345)는, 제2 바디(321)에 결합되거나 고정될 수 있다. 제2 스크레이퍼(345)는, 제2 수거 프레임(341)에 접할 수 있다. 제2 수거 프레임(341)이 회전하면, 제2 수거 프레임(341)에 부착된 질산암모늄 또는/및 황산암모늄은, 제2 스크레이퍼(345)에 의해 제2 수거 프레임(341)에서 분리될 수 있다.
제2 스크레이퍼(345)는, 제2 수거 프레임(341)의 내부에 위치하거나 외부에 위치할 수 있다. 제2 스크레이퍼(345)가 제2 수거 프레임(341)의 내부에 위치하는 경우, 제2 스크레이퍼(345)에 의해 제2 수거 프레임(341)에서 분리된 질산암모늄 또는/및 황산암모늄은, 제2 수거 프레임(341)에 형성된 복수 개의 홀을 통해 제2 수거 프레임(341)의 외부로 배출될 수 있다.
제2 스크레이퍼(345)는, 제2 수거 프레임(341)의 일면(一面)에 위치할 수 있다. 예를 들어, 제2 스크레이퍼(345)는, 제2 수거 프레임(341)의 내측면에 위치할 수 있다. 제2 스크레이퍼(345)는, 제2 수거 프레임(341)의 일단에서 타단을 향하는 방향으로 연장된(elongated) 형상을 가질 수 있다.
제2 챔버(320)는, 제2 드레인(326)을 포함할 수 있다. 제2 드레인(326)은, 제2 바디(321)에 결합될 수 있다. 제2 드레인(326)은, 제2 바디(321)에 형성된 중공부에 연통될 수 있다. 제2 드레인(326)은, 제2 수거 프레임(341)에서 분리된 질산암모늄 또는/및 황산암모늄을, 제2 챔버(320)의 외부로 배출시킬 수 있다.
도 4에서, 전자빔 제공부(310)에서 제공하는 전자빔의 진행 방향이 제2 유체(20)의 진행 방향과 나란할 것으로 도시되어 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 전자빔 제공부(310)는, 제2 유체(20)의 진행 방향과 수직한 방향으로 전자빔을 제2 챔버(320)의 내부에 제공할 수 있다.
예를 들어, 전자빔 제공부(310)는 제2 챔버(320)의 상단(上端)에서 전자빔을 제공할 수 있다. 즉 전자빔 제공부(310)에서 제공되는 전자빔은, 제2 챔버(320)의 상단에서 하단으로 향할 수 있다. 이 경우, 전자빔 제공부(310)의 구조는 상대적으로 단순해질 수 있다. 전자빔 제공부(310), 제2 수거부(340), 그리고 엑스선 발생부(330)의 상대적 위치 관계는, 전자빔 제공부(310)의 제2 챔버(320)에 대한 상대적 위치에 의존하지 않을 수 있다.
도 5는, 도 4에 도시된 전자빔 모듈의 일 단면을 나타낸 도면이다.
도 5를 참조하면, 엑스선 발생부(330)는 제2 수거 프레임(341)에 결합될 수 있다. 제2 수거 프레임(341)은, 금속 재질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제2 수거 프레임(341)의 적어도 일부는, 텅스텐으로 구성될 수 있다. 예를 들어, 제2 수거 프레임(341)의 표면의 적어도 일부는, 텅스텐으로 코팅될 수 있다. 달리 말하면, 제2 수거 프레임(341)은, 전자빔 제공부(310)에서 제공된 전자빔과 반응하여 엑스선을 발생시킬 수 있다. 즉 제2 수거 프레임(341)은, 엑스선 발생부(330)의 기능을 수행할 수 있다.
제2 수거 프레임(341)은, 중공부를 마주하는 내면(內面), 그리고 제2 챔버(320)를 마주하는 외면(外面)을 포함할 수 있다. 제2 수거 프레임(341)의 내면은, 제2 수거 프레임(341)의 일단(3411)에서 타단(3413)을 향하는 방향에 대하여, 경사를 형성할 수 있다.
달리 말하면, 제2 수거 프레임(341)의 종방향 내부 단면은, 제2 수거 프레임(341)의 일단(3411)에서 타단(3413)으로 갈수록 작아질 수 있다. 제2 수거 프레임(341)의 종방향 내부 단면은, 제2 수거 프레임(341)의 내부에 형성된 중공부의 단면으로서, 제2 수거 프레임(341)의 길이 방향을 기준으로 설정될 수 있다. 제2 수거 프레임(341)의 길이 방향은, 제2 수거 프레임(341)의 일단(3411)에서 타단(3413)을 향하는 방향과 나란할 수 있다. 제2 수거 프레임(341)의 형상은, 전자빔 제공부(310)의 기능 또는/및 엑스선 발생부(330)의 기능과 관련될 수 있다.
도 6은, 본 발명의 다른(another) 실시예에 따른 전자빔 모듈(300)의 단면을 나타낸 도면이다. 도 6에서 전자빔 모듈(300)의 길이 방향을 따라 자른 단면이 도시될 수 있다. 전자빔 모듈(300)의 길이 방향은, 제2 입구(323)에서 제2 출구(325)를 향하는 방향과 나란할 수 있다.
제2 바디(321)는, 제2 챔버(320)의 골격을 형성할 수 있다. 제2 입구(323)는, 제2 바디(321)의 일단에 위치할 수 있다. 제2 출구(325)는, 제2 바디(321)의 타단에 위치할 수 있다.
제2 바디(321)는, 내부에 중공부를 형성할 수 있다. 제2 바디(321)에 형성된 중공부는, 제2 입구(323)와 제2 출구(325)에 연통될 수 있다. 제2 바디(321)의 내부 단면은, 제2 입구(323)에서 제2 출구(325)로 갈수록 작아질 수 있다.
전자빔 제공부(310)는, 제2 바디(321)의 상단에 결합될 수 있다. 전자빔 제공부(310)는, 제2 바디(321)의 내부에 전자빔(EB)을 제공할 수 있다. 전자빔(EB)은, 제2 바디(321)의 내부에서 진행할 수 있다. 예를 들어, 전자빔(EB)은, 제2 바디(321)의 상단에서 하단을 향하여, 진행할 수 있다.
엑스선 발생부(330)는, 제2 바디(321)의 내부에 위치할 수 있다. 엑스선 발생부(330)는, 예를 들어, 제2 바디(321)의 하단에 인접할 수 있다. 엑스선 발생부(330)는, 전자빔 제공부(310)를 마주할 수 있다. 엑스선 발생부(330)는, 전자빔(EB)과 반응하여, 엑스선(XR)을 발생시킬 수 있다.
제2 챔버(320)의 내부로 유입된 제2 유체(20)의 일부는, 전자빔 제공부(310) 또는/및 엑스선 발생부(330)에 의해, 질산암모늄 또는/및 황산암모늄으로 변환될 수 있다. 제2 수거부(340)는, 제2 출구(325)에 인접할 수 있다. 제2 수거부(340)는, 질산암모늄 또는/및 황산암모늄을 제거할 수 있다.
도 7은, 본 발명의 다양한 실시예에 따른 엑스선 발생부(330)를 나타낸 도면이다. 도 7에서 엑스선 발생부(330)의 단면이 관찰될 수 있다.
도 7을 참조하면, 엑스선 발생부(330)는, 반응면(331)을 포함할 수 있다. 반응면(331)은, 엑스선 발생부(330)의 일면(一面)을 의미할 수 있다. 반응면(331)은, 전자빔 제공부(310, 도 4 내지 6 참조)를 마주할 수 있다. 반응면(331)은, 전자빔과 반응하여 엑스선을 발생시킬 수 있다. 엑스선 발생부(330)는, 비반응면(333)을 포함할 수 있다. 비반응면(333)은, 엑스선 발생부(330)의 타면(他面)을 의미할 수 있다.
도 7의 (a)를 참조하면, 반응면(331)은 평평한 형상을 형성할 수 있다. 이 경우, 엑스선 발생부(330)의 형성이 용이할 수 있다.
도 7의 (b)를 참조하면, 반응면(331)은 오목할 수 있다. 반응면(331)은, 전자빔 제공부(310, 도 4 내지 6 참조)에 대하여 오목할 수 있다. 달리 말하면, 반응면(331)은, 전자빔 제공부(310, 도 4 내지 6 참조)을 향하여 오목할 수 있다. 이 경우, 엑스선 발생부(330)에서 제공되는 엑스선이 상대적으로 집중될 수 있다.
도 7의 (c)를 참조하면, 엑스선 발생부(330)는, 전자빔 제공부(310, 도 4 내지 6 참조)를 향하여 볼록할 수 있다. 엑스선 발생부(330)는 절곡부(335)를 포함할 수 있다. 엑스선 발생부(330)는, 절곡부(335)에서 굽어지거나 휘어질 수 있다. 반응면(331)은, 제1 반응면(331a)과 제2 반응면(331b)을 포함할 수 있다. 제1 반응면(331a)과 제2 반응면(331b)은, 절곡부(335)에 의해 구분될 수 있다. 제1 반응면(331a)은 전자빔 제공부(310, 도 4 내지 6 참조)를 향하여 제1 경사를 형성할 수 있다. 제2 반응면(331b)은, 전자빔 제공부(310, 도 4 내지 6 참조)를 향하여 제2 경사를 형성할 수 있다. 제1 경사는, 제2 경사와 상이할 수 있다. 제1 반응면(331a)은, 절곡부(335)로 갈수록 전자빔 제공부(310, 도 4 내지 6 참조)에 근접할 수 있다. 제2 반응면(331b)는, 절곡부(335)로 갈수록 전자빔 제공부(310, 도 4 내지 6 참조)에 근접할 수 있다.
비반응면(333)은, 제1 비반응면(333a)과 제2 비반응면(333b)을 포함할 수 있다. 제1 비반응면(333a)과 제2 비반응면(333b)은, 절곡부(335)에 의해 구분될 수 있다.
제1 반응면(331a)이 마주하는 방향은, 제2 반응면(331b)이 마주하는 방향과 다를 수 있다. 따라서, 제1 반응면(331a)에서 발생되는 엑스선의 조사 방향은, 제2 반응면(331b)에서 발생되는 엑스선의 조사 방향과 다를 수 있다.
도 8은, 본 발명의 일 실시예에 따른 제2 모듈(120)을 나타낸 블록도이다. 도 8에서 제2 모듈(120)은 제어 모듈(500)과 함께 표시될 수 있다. 예를 들어, 도 8에서 제어 모듈(500)을 제외한 부분은 제2 모듈(120)을 의미할 수 있다. 도 8에서 실선(solid line)은, 유체의 흐름을 의미할 수 있다. 도 8에서 점선(dotted line)은, 신호(signal)의 흐름을 의미할 수 있다. 도 8에서 제2 모듈(120)은, 전자빔 모듈(300, 도 4 내지 6 참조)을 의미할 수 있다.
도 8을 참조하면, 제2 유체(20)는, 제2 챔버(320)에 유입될 수 있다. 제2 챔버(320)에 유입되는 제2 유체(20)의 특성 및 성질이 측정될 수 있다. 예를 들어 제2 모듈(120)은, 센서부(360)를 포함할 수 있다. 센서부(360)는, 예를 들어, 제2 챔버(320)에 유입되는 제2 유체(20)의 오염 물질 농도 또는/및 유량을 측정할 수 있다.
센서부(360)는, 제1 센서(361)를 포함할 수 있다. 제1 센서(361)는, 제2 유체(20)에 포함된 질소산화물의 농도를 측정할 수 있다. 센서부(360)는, 제2 센서(362)를 포함할 수 있다. 제2 센서(362)는, 제2 유체(20)에 포함된 황산화물의 농도를 측정할 수 있다. 센서부(360)는, 제3 센서(363)를 포함할 수 있다. 제3 센서(363)는, 제2 유체(20)의 유량을 측정할 수 있다. 또는 제3 센서(363)는, 제2 유체(20)의 유속을 측정할 수 있다. 입력측 센서(361, 362, 363)는, 제1 센서(361), 제2 센서(362), 그리고 제3 센서(363) 중 적어도 하나를 의미할 수 있다.
제2 모듈(120)은, 암모니아 제공부(350)를 포함할 수 있다. 암모니아 제공부(350)는, 암모니아 가스(ammonia gas, AM)를 제2 챔버(320)에 제공할 수 있다. 암모니아 제공부(350)는, 펌프(pump)를 포함할 수 있다. 암모니아 제공부(350)는, 제2 챔버(320)에 제공되는 암모니아 가스(AM)의 유량을 조절할 수 있다.
제2 모듈(120)은, 제2 수거부(340)를 포함할 수 있다. 제2 챔버(320)에서 형성된 염(salt)은, 제2 수거부(340)에서 제거될 수 있다. 제2 챔버(320)에서 형성된 염(salt)은, 예를 들어, 질산암모늄과 황산암모늄 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
도 8에서 제2 수거부(340)는 제2 챔버(320)에서 분리된 것으로 표시되었으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 제2 수거부(340)는, 제2 챔버(320)의 내부에 설치될 수 있다.
제2 유체(20)는, 제2 챔버(320)와 제2 수거부(340)를 거친 이후 제3 유체(30)로 변환될 수 있다. 제3 유체(20)의 오염도는, 제2 유체(20)의 오염도 보다 낮을 수 있다.
센서부(360)는, 제3 유체(30)의 특성 및 성질을, 측정할 수 있다. 센서부(360)는, 제4 센서(364)를 포함할 수 있다. 제4 센서(364)는 제3 유체(30)에 포함된 질소산화물의 농도를 측정할 수 있다. 센서부(360)는, 제5 센서(365)를 포함할 수 있다. 제5 센서(365)는, 제3 유체(30)에 포함된 황산화물의 농도를 측정할 수 있다. 센서부(360)는, 제6 센서(366)를 포함할 수 있다. 제6 센서(366)는, 제3 유체(30)의 유량 또는 유속을 측정할 수 있다. 출력측 센서(364, 365, 366)는, 제4 센서(364), 제5 센서(365), 그리고 제6 센서(366) 중 적어도 하나를 의미할 수 있다.
제2 모듈(120)은, 전자빔 제공부(310)를 포함할 수 있다. 전자빔 제공부(310)는, 제2 챔버(320)의 내부에 전자빔을 제공할 수 있다. 전자빔 제공부(310)에서 제공되는 전자빔은, 제2 유체(20) 또는/및 암모니아 가스(AM)와 반응할 수 있다.
제어 모듈(500)은, 제2 모듈(120)에 연결될 수 있다. 제어 모듈(500)은, 제1 제어기(510)와 제2 제어기(520)를 포함할 수 있다. 제1 제어기(510)는, 암모니아 제공부(350)를 제어할 수 있다. 제1 제어기(510)는, 제1 출력 신호를 생성할 수 있다. 제2 제어기(520)는, 전자빔 제공부(310)를 제어할 수 있다. 제2 제어기(520)는, 제2 출력 신호를 생성할 수 있다.
암모니아 제공부(350)는, 제1 제어기(510)에서 제공되는 제1 출력 신호에 대응하여 작동할 수 있다. 제1 출력 신호는, 암모니아 제공부(350)에서 제2 챔버(320)에 제공하는 암모니아 가스(AM)의 유량에 관한 정보를 포함할 수 있다.
제1 제어기(510)는, 센서부(360)로부터 감지된 신호를 획득할 수 있다. 예를 들어, 제1 제어기(510)는 센서부(360)로부터 제1 입력 신호를 획득할 수 있다. 제1 입력 신호는, 제1 센서(361), 제2 센서(362), 제3 센서(363), 그리고 제6 센서(366)로부터 수신된 신호 중 적어도 하나를 의미할 수 있다. 제1 제어기(510)는, 제1 입력 신호에 기초하여 제1 출력 신호를 생성할 수 있다.
전자빔 제공부(310)는, 제2 제어기(520)에서 제공되는 제2 출력 신호에 대응하여 작동할 수 있다. 제2 출력 신호는, 전자빔 제공부(310)에서 제2 챔버(320)에 제공하는 전자빔의 출력 또는/및 세기(intensity)에 관한 정보를 포함할 수 있다.
제2 제어기(520)는, 센서부(360)로부터 감지된 신호를 획득할 수 있다. 예를 들어, 제2 제어기(520)는 센서부(360)로부터 제2 입력 신호를 획득할 수 있다. 제2 입력 신호는, 제3 센서(363), 제4 센서(364), 그리고 제5 센서(365)로부터 수신된 신호 중 적어도 하나를 의미할 수 있다. 제2 제어기(520)는, 제2 입력 신호에 기초하여 제2 출력 신호를 생성할 수 있다.
제2 유체(20)에 포함된 오염 물질의 농도가 상대적으로 높아지는 경우가 고려될 수 있다. 이 경우, 제1 제어기(510)는 암모니아 제공부(350)를 제어하여, 제2 챔버(320)에 유입되는 암모니아 가스(AM)의 유량을 상대적으로 크게 할 수 있다.
제3 유체(30)에 포함된 오염 물질의 농도가 상대적으로 높아지는 경우가 고려될 수 있다. 이 경우는, 제2 유체(20)의 처리가 상대적으로 미흡한 경우에 해당될 수 있다. 이 경우, 제1 제어기(510)는, 전자빔 제공부(310)를 제어하여, 제2 챔버(320)에 제공되는 전자빔의 출력 또는/및 세기를 상대적으로 크게 할 수 있다.
제2 유체(20)의 유량이 상대적으로 높아지는 경우가 고려될 수 있다. 이 경우는, 제2 챔버(320)에서 처리될 오염 물질의 양이 상대적으로 큰 경우에 해당될 수 있다. 이 경우, 제1 제어기(510)는 암모니아 제공부(350)를 제어하여 제2 챔버(320)에 제공되는 암모니아 가스(AM)의 양을 상대적으로 크게 하고, 제2 제어기(520)는 전자빔 제공부(310)를 제어하여 제2 챔버(320)에 제공되는 전자빔의 출력 또는/및 세기를 상대적으로 크게 할 수 있다.
입력 신호는, 제1 입력 신호와 제2 입력 신호 중 적어도 하나를 의미할 수 있다. 출력 신호는, 제1 출력 신호와 제2 출력 신호 중 적어도 하나를 의미할 수 있다.
도 9는, 본 발명의 일 실시예에 따른 엑스선 모듈(400)을 나타낸 도면이다. 도 9에서, 설명의 편의를 위하여, 제3 바디(421)의 일부가 제거된 상태에서 제3 바디(421)의 내부가 관찰될 수 있다.
도 9를 참조하면, 엑스선 모듈(400)은 제3 챔버(420)를 포함할 수 있다. 제3 챔버(420)는, 제3 바디(421)를 포함할 수 있다. 제3 바디(421)는, 내부에 형성된 중공부를 포함할 수 있다. 제3 챔버(420)는, 제3 입구(423)와 제3 출구(425)를 포함할 수 있다. 제3 입구(423)는, 제3 바디(421)의 일단에 형성된 개구부를 포함할 수 있다. 제3 출구(425)는, 제3 바디(421)의 타단에 형성된 개구부를 포함할 수 있다.
제3 챔버(420)는, 제1 챔버(210, 도 2 참조)에 결합될 수 있다. 예를 들어, 제3 입구(423)는, 제1 챔버(210, 도 2 참조)의 제1 출구(215, 도 2 참조)에 결합될 수 있다. 제1 출구(215, 도 2 참조)를 통해 배출되는 제2 유체(20, 도 2 참조)는, 제3 입구(423)를 통해 제3 챔버(420)의 내부로 유입될 수 있다.
엑스선 모듈(400)은, 엑스선 제공부(410)를 포함할 수 있다. 엑스선 제공부(410)는, 제3 챔버(420)의 내부에 위치할 수 있다. 엑스선 제공부(410)는, 엑스선(X-ray)을 제3 챔버(420)의 내부에 제공할 수 있다. 예를 들어, 엑스선 제공부(410)는, 연엑스선(soft X-ray)을 제3 챔버(420)의 내부에 제공할 수 있다.
엑스선 제공부(410)는, 제2 유체(20)에 엑스선을 조사할 수 있다. 제2 유체(20)가 엑스선에 조사되면, 제2 유체(20)의 일부 분자 또는 원자는, 이온화되거나 여기(excited) 상태로 변환될 수 있다.
제2 유체(20)는, 오염 물질로서 가스 상태의 질소산화물(NOx) 또는/및 가스 상태의 황산화물(SOx)을 포함할 수 있다. 질소산화물 또는/및 황산화물은, 엑스선 제공부(410)에서 제공되는 엑스선에 의하여 직접 이온화될 수 있다. 또는 질소산화물 또는/및 황산화물은, 이온화된 다른(another) 입자에 결합될 수 있다.
예를 들어, 엑스선 제공부(410)는 질소산화물(NOx)을 질산암모늄(ammonium nitrate, NH4NO3)으로 변환시킬 수 있다. 예를 들어, 엑스선 제공부(410)는 황산화물(SOx)을 황산암모늄(ammonium sulfate, (NH4)2SO4)으로 변환시킬 수 있다.
엑스선 모듈(400)은, 제3 수거부(430)를 포함할 수 있다. 제3 수거부(430)는, 제3 챔버(420)의 내부에 위치할 수 있다. 제3 수거부(430)는, 엑스선 제공부(410)에 인접할 수 있다. 엑스선 제공부(410)에 의해 형성된 질산암모늄 또는/및 황산암모늄은, 제3 수거부(430)에 부착될 수 있다.
제3 수거부(430)는, 제3 수거 벨트(431)와 제3 수거 풀리(433)를 포함할 수 있다. 제3 수거 벨트(431)는, 제3 수거 풀리(433)에 결합될 수 있다. 제3 수거 벨트(431)는, 제3 수거 풀리(433)에 의해 장력(tension)을 형성할 수 있다. 엑스선 제공부(410)에 의해 형성된 질산암모늄 또는/및 황산암모늄은, 제3 수거 벨트(431)에 부착될 수 있다.
제3 수거 벨트(431)는, 가요성(flexible)일 수 있다. 제3 수거 벨트(431)는, 금속을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제3 수거 벨트(431)는, 상대적으로 얇은 금속판으로 구성될 수 있다.
제3 수거 풀리(433)는 복수 개로 제공될 수 있다. 제3 수거 벨트(431)는, 양(兩) 제3 수거 풀리(433)에 결합될 수 있다. 제3 수거 벨트(431)의 일지점은, 제3 수거 풀리(433)에 의해 형성된 경로를 따라 이동할 수 있다. 제3 수거 풀리(433)는, 모터(motor)를 포함하여, 회전할 수 있다. 제3 수거 벨트(431)는, 제3 수거 벨트(431)에 의해 형성된 루프(loop)를 따라 회전할 수 있다.
제3 수거부(430)는, 제3 스크레이퍼(435)를 포함할 수 있다. 제3 스크레이퍼(435)는, 제3 수거 벨트(431)에 인접할 수 있다. 제3 스크레이퍼(435)는, 제3 수거 벨트(431)에 부착된 질산암모늄 또는/및 황산암모늄을 제3 수거 벨트(431)로부터 분리시킬 수 있다. 제3 스크레이퍼(435)는, 제3 챔버(420)의 내부에 고정될 수 있다. 염(salt)은, 질산암모늄과 황산암모늄 중 적어도 하나를 의미할 수 있다.
제3 챔버(420)는, 제3 드레인(426)을 포함할 수 있다. 제3 드레인(426)은, 제3 수거부(430)의 하부에 위치할 수 있다. 제3 드레인(426)은, 제3 수거 벨트(431)에서 분리된 질산암모늄 또는/및 황산암모늄을 수용하여 제3 챔버(420)의 외부로 배출시킬 수 있다.
도 10은, 본 발명의 일 실시예에 따른 엑스선 제공부(410)와 제3 수거부(430)를 나타낸 도면이다.
도 10의 (a)를 참조하면, 엑스선 제공부(410)는, 엑스선 바디(411)를 포함할 수 있다. 엑스선 바디(411)는, 유리 재질로 구성될 수 있다. 엑스선 바디(411)에 조사된 엑스선의 적어도 일부는, 엑스선 바디(411)를 통과할 수 있다. 엑스선 바디(411)는, 밀봉 또는 밀폐될 수 있다. 예를 들어 엑스선 바디(411)의 내부 기압은, 엑스선 바디(411)의 외부 기압 보다 낮을 수 있다.
엑스선 바디(411)는, 길이 방향으로 연장된(elongated) 형상을 형성할 수 있다. 예를 들어, 엑스선 바디(411)는, 제3 방향(DR3)으로 연장된 형상을 형성할 수 있다. 제3 방향(DR3)은, 제3 입구(423, 도 9 참조)에서 제3 출구(425, 도 9 참조)를 향하는 방향과 나란할 수 있다. 엑스선 바디(411)는, 내부에 중공부를 형성할 수 있다. 엑스선 바디(411)는, 전체적으로 튜브(tube)의 형상을 가질 수 있다. 엑스선 바디(411)는, 제3 수거 벨트(431)가 형성하는 루프(loop)를 관통하는 방향으로 연장된(elongated) 형상을 형성할 수 있다.
엑스선 제공부(410)는, 캐소드(413, cathode)를 포함할 수 있다. 캐소드(413)는, 엑스선 바디(411)의 내부에 위치할 수 있다. 예를 들어, 캐소드(413)는, 엑스선 바디(411)의 내측면에 인접할 수 있다. 캐소드(413)는, 엑스선 바디(411)의 내측면에 형성될 수 있다. 캐소드(413)는, 내부에 중공부를 형성할 수 있다. 캐소드(413)는, 엑스선 바디(411)의 길이 방향으로 연장된(elongated) 형상을 형성할 수 있다.
캐소드(413)는 전자(electron)를 발생시킬 수 있다. 캐소드(413)는, 예를 들어, 메쉬(mesh) 구조를 가질 수 있다. 캐소드(413)는, 다른 예를 들어, 인듐 주석 산화물(indium tin oxide, ITO)을 포함할 수 있다. 캐소드(413)에 포함된 인듐 주석 산화물의 두께는, 엑스선이 통과할 정도로 형성될 수 있다. 캐소드(413)는, 산화아연(ZnO)을 포함할 수 있다.
엑스선 제공부(410)는, 애노드(415, anode)를 포함할 수 있다. 애노드(415)는, 엑스선 바디(411)에 수용될 수 있다. 애노드(415)는, 엑스선 바디(411)의 길이 방향으로 연장된 형상을 형성할 수 있다. 애노드(415)는, 캐소드(413)에 수용될 수 있다. 애노드(415)는, 금속으로 구성될 수 있다. 예를 들어 애노드(415)는, 구리 또는 텅스텐으로 구성될 수 있다. 애노드(415)는, 전자(electron)와 반응하여 엑스선을 발생시킬 수 있다. 애노드(415)에서 발생된 엑스선의 적어도 일부는, 캐소드(413)와 엑스선 바디(411)를 순차적으로 통과할 수 있다.
엑스선 제공부(410)의 형상은, 제3 챔버(420, 도 9 참조)에 제공되는 엑스선의 에너지 전달 측면에서 상대적으로 유리할 수 있다. 엑스선 제공부(410)는, 엑스선 바디(411)의 길이 방향을 따라 엑스선을 발생시킬 수 있다. 예를 들어, 엑스선 제공부(410)에서 제공되는 엑스선은, 엑스선 제공부(410)를 중심으로 외부 반경 방향(radial direction)을 따라 조사될 수 있다. 이와 같은 엑스선 제공부(410)의 구조에 따라, 제3 챔버(420, 도 9 참조)의 내부에 위치한 제2 유체(20, 도 9 참조)에 엑스선의 에너지가 효율적으로 전달될 수 있다.
도 10의 (b)를 참조하면, 엑스선 제공부(410)와 제3 수거부(430)가 관찰될 수 있다. 도 10의 (b)에서 엑스선 제공부(410)와 제3 수거부(430)의 단면이 관찰될 수 있다.
엑스선 제공부(410)는 복수 제공될 수 있다. 제3 수거부(430)는 복수 개로 제공될 수 있다. 복수 개의 엑스선 제공부(410) 중 일부는, 제3 수거 벨트(431)에 의해 형성된 루프(loop)의 내부에 위치할 수 있다. 복수 개의 엑스선 제공부(410) 중 다른 일부는, 제3 수거 벨트(431)에 의해 형성된 루프(loop)의 외부에 위치할 수 있다.
제2 유체(20, 도 9 참조)의 적어도 일부는, 엑스선 제공부(410)에 의해 질산암모늄 또는/및 황산암모늄으로 변환될 수 있다. 질산암모늄 또는/및 황산암모늄은, 제3 수거 벨트(431)에 부착될 수 있다.
제3 수거 벨트(431)는, 제3 수거 벨트(431)에 결합된 제3 수거 풀리(433)에 의해, 회전할 수 있다. 제3 수거 벨트(431)가 회전하면, 제3 수거 벨트(431)에 부착된 질산암모늄 또는/및 황산암모늄의 이동은, 제3 스크레이퍼(435)에 의해 억제될 수 있다. 즉 제3 수거 벨트(431)가 회전하면, 제3 스크레이퍼(435)는 질산암모늄 또는/및 황산암모늄을 제3 수거 벨트(431)에서 분리시킬 수 있다. 도 10에서 제3 스크레이퍼(435)가 제3 수거 벨트(431)의 외측에 위치하는 것으로 도시되나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 제3 스크레이퍼(435)는, 제3 수거 벨트(431)의 내측에 위치할 수 있다.
도 11은, 본 발명의 제1 모듈과 제2 모듈이 하나의 챔버에 위치하는 유체 처리 장치(100)를 나타낸 도면이다.
도 11을 참조하면, 유체 처리 장치(100)는, 공장(80)에 설치될 수 있다. 공장(80)은, 유체 처리 장치(100)가 설치되는 장소를 의미할 수 있다. 공장(80)은, 마운트(81)를 포함할 수 있다. 유체 처리 장치(100)는, 마운트(81)에 설치될 수 있다. 공장(80)은, 배기 팬(83)을 포함할 수 있다. 배기 팬(83)은, 유체 처리 장치(100)에서 배출되는 제3 유체(30)를 외부로 배출시킬 수 있다.
유체 처리 장치(100)는, 세퍼레이터 모듈(200, 도 2 참조)에 포함된 구성요소를 포함할 수 있다. 예를 들어, 유체 처리 장치(100)는, 제1 챔버(210)를 포함할 수 있다. 제1 챔버(210)는, 마운트(81)에 설치될 수 있다. 제1 유체(10)는, 제1 챔버(210)의 내부로 유입될 수 있다. 도 11에서 제1 챔버(210)가 도시되어 있으나, 도 1 챔버(210)는 제3 챔버(420, 도 9 참조)로 대체될 수 있다.
유체 처리 장치(100)는, 세퍼레이터(220, 230, 240)를 포함할 수 있다. 세퍼레이터(220, 230, 240)는, 제1 세퍼레이터(220), 제2 세퍼레이터(230), 그리고 제3 세퍼레이터(240)를 포함할 수 있다. 제1 세퍼레이터(220)와 제2 세퍼레이터(230)는, 제1 유체(10)를 정화시킬 수 있다. 예를 들어, 제1 세퍼레이터(220)와 제2 세퍼레이터(230)는, 제1 유체(10)에 포함된 오일 미스트 등을 제거할 수 있다.
유체 처리 장치(100)는, 엑스선 모듈(400)을 포함할 수 있다. 엑스선 모듈(400)은, 제2 세퍼레이터(230)의 후방에 위치할 수 있다. 유체 처리 장치(100)에서 전후 방향은, 제1 챔버(210)에 유입되는 제1 유체(10)의 흐름에 의해 결정될 수 있다. 예를 들어 제1 챔버(210)에 유입되는 제1 유체(10)는, 유체 처리 장치(100)의 전방에서 후방으로 이동할 수 있다.
엑스선 모듈(400)은, 엑스선 제공부(410, 도 9 참조)와 제3 수거부(430, 도 9 참조)를 포함할 수 있다. 엑스선 모듈(400)은, 오일 미스트 등이 제거된 상태의 유체에 엑스선을 조사하여 질산암모늄 또는/및 황산암모늄 등으로 변환시켜 오염 물질을 제거할 수 있다.
제3 세퍼레이터(240)는, 엑스선 모듈(400)의 후방에 위치할 수 있다. 제3 세퍼레이터(240)는, 유체에 비산된 염(salt)을 제거할 수 있다.
유체 처리 장치(100)는, 물 분사기(250)를 포함할 수 있다. 물 분사기(250)는, 세퍼레이터(220, 230, 240)에 액체를 분사할 수 있다. 예를 들어, 물 분사기(250)는, 액상의 물(水)을 세퍼레이터(220, 230, 240)에 분사할 수 있다. 물 분사기(250)에서 분사되는 물은, 세퍼레이터(220, 230, 240)에 점착된 이물질을 세퍼레이터(220, 230, 240)에서 분리시킬 수 있다. 세퍼레이터(220, 230, 240)에서 분리된 이물질과 물은, 별도의 통로를 통해 외부로 배출될 수 있다.
전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
100: 유체 처리 장치 110: 제1 모듈
120: 제2 모듈 200: 세퍼레이터 모듈
300: 전자빔 모듈 400: 엑스선 모듈
500: 제어 모듈

Claims (6)

  1. 제2 유체를 처리하여 제3 유체로 변환하는 엑스선 모듈을 포함하고,
    상기 엑스선 모듈은,
    제3 바디, 상기 제3 바디의 일단에 형성되며 상기 제2 유체가 유입되는 제3 입구, 그리고 상기 제3 바디의 타단에 형성되며 상기 제3 유체가 배출되는 제3 출구를 구비하는, 제3 챔버;
    상기 제3 챔버의 내부에 위치하고, 길이 방향으로 연장된(elongated) 형상을 가지는, 복수 개의 엑스선 제공부; 그리고
    상기 제3 챔버의 내부에 위치하고, 상기 제2 유체가 상기 제3 유체로 변환되는 과정에서 발생되는 염(salt)을 제거하는, 제3 수거부를 포함하며,
    상기 제3 수거부는,
    상기 제3 챔버의 내부에 위치하는 복수 개의 수거 풀리;
    상기 수거 풀리에 결합되어 루프(loop)를 형성하며, 상기 루프를 따라 회전하고, 상기 염이 부착되는, 제3 수거 벨트; 그리고
    상기 제3 수거 벨트에 인접하고, 상기 제3 수거 벨트가 회전하면 상기 염을 상기 제3 수거 벨트에서 분리시키는, 제3 스크레이퍼를 포함하되,
    상기 제2 유체는 오염 물질로서 가스 상태의 질소산화물 또는 가스 상태의 황산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유체 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 엑스선 제공부는,
    길이 방향으로 연장된(elongated) 형상을 가지며, 내부에 밀폐된 중공부를 형성하는, 엑스선 바디;
    상기 엑스선 바디의 내측면에 위치하며, 상기 길이 방향으로 연장된 형상을 가지며, 전자(electron)을 발생시키는, 캐소드(cathode); 그리고
    상기 엑스선 바디의 내측면에 위치하고, 상기 길이 방향으로 연장된 형상을 가지며, 상기 캐소드에 의해 감싸지는 형상을 가지며, 상기 전자와 반응하여 엑스선을 발생시키는, 애노드(anode)를 포함하는, 유체 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 길이 방향은,
    상기 제3 입구에서 상기 제3 출구를 향하는 방향과 나란한,
    유체 처리 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 엑스선 바디는,
    상기 루프를 관통하는 방향으로 연장된(elongated) 형상을 형성하는,
    유체 처리 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제3 챔버는,
    상기 제3 바디에 형성되되 상기 제3 수거부의 하부에 위치하고, 상기 염을 제공받아 상기 제3 챔버의 외부로 배출하는, 제3 드레인을 더 포함하는,
    유체 처리 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    제1 유체를 처리하여 상기 제2 유체로 변환하고, 상기 제2 유체를 상기 엑스선 모듈에 제공하는 세퍼레이터 모듈을 더 포함하고,
    상기 세퍼레이터 모듈은,
    제1 바디, 상기 제1 바디의 일단에 형성되며 상기 제1 유체가 유입되는 제1 입구, 그리고 상기 제1 바디의 타단에 형성되며 상기 제2 유체가 배출되는 제1 출구를 포함하는, 제1 챔버; 그리고
    상기 제1 바디의 내부에 위치하되 상기 제1 입구와 상기 제1 출구의 사이에 배치되며, 복수 개의 이격된 분리 플레이트를 구비하고, 상기 제1 유체로부터 입자상 오염 물질을 분리하는, 세퍼레이터를 포함하며,
    상기 제3 입구는,
    상기 제1 출구에 결합되어 상기 제2 유체를 제공받는,
    유체 처리 장치.
KR1020190049529A 2019-04-29 2019-04-29 엑스선 모듈을 구비하는 유체 처리 장치 KR102310007B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190049529A KR102310007B1 (ko) 2019-04-29 2019-04-29 엑스선 모듈을 구비하는 유체 처리 장치
PCT/KR2019/005204 WO2020222328A1 (ko) 2019-04-29 2019-04-30 유체 처리 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190049529A KR102310007B1 (ko) 2019-04-29 2019-04-29 엑스선 모듈을 구비하는 유체 처리 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200126053A KR20200126053A (ko) 2020-11-06
KR102310007B1 true KR102310007B1 (ko) 2021-10-07

Family

ID=73572195

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190049529A KR102310007B1 (ko) 2019-04-29 2019-04-29 엑스선 모듈을 구비하는 유체 처리 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102310007B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102330405B1 (ko) * 2021-02-09 2021-11-24 채승태 바이러스 사멸장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101112002B1 (ko) 2010-08-19 2012-02-16 (주) 브이에스아이 집진 시스템
KR101160891B1 (ko) 2011-10-27 2012-06-28 주식회사 알티엑스 전자빔을 이용한, 반도체 제조공정의 폐가스 처리장치 및 처리방법

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3361200B2 (ja) * 1994-12-12 2003-01-07 日本原子力研究所 電子ビーム照射排ガス処理法及び装置
KR101729844B1 (ko) 2015-06-29 2017-04-26 한국기계연구원 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101112002B1 (ko) 2010-08-19 2012-02-16 (주) 브이에스아이 집진 시스템
KR101160891B1 (ko) 2011-10-27 2012-06-28 주식회사 알티엑스 전자빔을 이용한, 반도체 제조공정의 폐가스 처리장치 및 처리방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200126053A (ko) 2020-11-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4657738A (en) Stack gas emissions control system
US4074983A (en) Wet electrostatic precipitators
US7297182B2 (en) Wet electrostatic precipitator for treating oxidized biomass effluent
US8088198B2 (en) Wet electrostatic precipitator
US5902380A (en) Dust collector
JP5400379B2 (ja) 半湿式静電収集による空気中粒子抽出装置と該装置の使用方法
KR102310007B1 (ko) 엑스선 모듈을 구비하는 유체 처리 장치
KR101478973B1 (ko) 복수기능의 기액접촉수단을 이용한 산성 폐가스 처리 스크러버
US8419841B2 (en) Air processing device
CZ279716B6 (cs) Elektrostatický precipitátor
US7459009B2 (en) Method and apparatus for flue gas desulphurization
KR20060129445A (ko) 유체 유동중 입자간 상호작용의 증진 방법
JP2007130042A (ja) 光触媒を用いた空気浄化装置
KR102309992B1 (ko) 전자빔 모듈을 구비하는 유체 처리 장치
US3853506A (en) Pollution control apparatus and method
KR20190084379A (ko) 정전 미스트 및 미세먼지 제거장치가 복합된 탈황장치
CN108771938A (zh) 一种超声波空气净化方法及***
US10431413B2 (en) X-ray source and system comprising an x-ray source
KR102466669B1 (ko) 전기 집진 장치
WO2016153046A1 (ja) 電気集塵装置用の重金属除去支援装置
KR101863676B1 (ko) 전기 집진장치
JP2006255524A (ja) 空気清浄機
US3971641A (en) Gas scrubber of the wet collector type
WO2020222328A1 (ko) 유체 처리 장치
KR101753747B1 (ko) 이동식 입자 처리 장치

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant