KR102304140B1 - 네일 아트 및 상기 네일 아트의 제조 방법 - Google Patents

네일 아트 및 상기 네일 아트의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 기재층 및 상기 기재층 상에 위치하는 코팅층을 포함하며, 상기 코팅층은 자외선 경화 원료, 광 개시제, 및 수지를 포함하고, 하기 식 1을 만족하는 네일 아트 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
[식 1]
0.05 mm < T2-T1 < 0.6 mm
상기 T1는 상기 네일 아트의 외주에서 측정된 상기 네일 아트의 두께이며, 상기 T2은 상기 네일 아트의 외주로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점의 상기 네일 아트의 두께이다.

Description

네일 아트 및 상기 네일 아트의 제조 방법{NAIL ART AND METHOD FOR PREPARING THE NAIL ART}
본 발명은 네일 아트 및 상기 네일 아트의 제조 방법에 관한 것으로, 상기 네일 아트가 신규한 형상을 지닌 것에 특징이 있다.
인간이 추구하는 신체적 아름다움의 표현 방식의 하나로 미용 산업은 발달이 가속화되는 동시에 세분화되고 있다. 특히, 20세기 이후 급격한 시장 확대와 함께 일반인들에게 미용 산업은 대중화되기 시작했다. 미용 산업 중에서도, 네일 아트(nail art)는 연령층과 성별의 관계없이 신체에 대한 표현 예술의 필수적인 요소로 최근 급격한 발전이 이루어지고 있다.
본래, 네일 아트는 미용 예술의 한 분야로서 인간의 바디를 아름답게 꾸미기 위한 방법의 하나로서, 손톱의 길이나 모양 또는 색깔은 시대의 문화의 변화와 가치를 반영하여 표현되어 왔다.
네일 아트 중에서도 인공적으로 제조한 손톱 또는 발톱 형상의 네일 아트(네일 스티커라고도 불리움)이 많은 사람들에게 사용되고 있다. 예전에는 손톱 또는 발톱 형상과 같이 곡선을 그리며 휘어진 형상으로 네일 아트가 제조되어 소비자에게 공급되었다. 다만, 사람마다 손톱 또는 발톱의 모양(특히 곡률)이 상이하므로, 이미 휘어진 형상을 가지는 네일 아트와 소비자의 손톱 또는 발톱이 밀접하게 접착되기 어려운 문제가 있었다.
이를 해결하기 위한 방법으로 자외선 경화 원료를 포함하는 네일 아트가 최근 들어 각광을 받고 있다. 구체적으로, 소비자는 자신들의 손톱 또는 발톱에 맞게 상기 네일 아트를 변형시킨 뒤 자외선을 조사하여 상기 네일 아트를 경화시키게 된다. 이에 따라 소비자의 손톱 또는 발톱과 상기 네일 아트가 밀접하게 접착될 수 있으므로, 상기 네일 아트의 접착력이 개선될 수 있다.
한편, 종래의 네일 아트의 경우, 상기 네일 아트의 상면에 대해 수직에 가깝게 형성되는 문제가 있다. 도 2를 참조하면, 네일 아트(100)의 옆면(100b)과 상면(100a)은 거의 수직을 이루고 있다. 이에 따라, 소비자가 생활하는 과정에서 종래의 네일 아트의 외주 부분이 쉽게 마모되는 문제가 있으며, 외부 충격에 의해 손톱 또는 발톱으로부터 상기 네일 아트가 쉽게 떨어져나가는 문제가 있다. 이러한 문제는 네일 아트의 얇은 두께에 기하여 더욱 심하게 발생된다. 또한, 네일 아트의 옆면(100b)과 상면(100a)이 수직에 가까운 각도로 형성된 점은 빛이 반사되는 방향을 지나치게 한정하므로, 상기 네일 아트를 입체적으로 보이지 못하게 하여 미용상의 목적을 반감시키는 문제가 있다.
대한민국 공개특허 제10-2019-0014044호
본 발명이 해결하고자 하는 일 과제는, 마모가 억제되고 부착 능력이 높으며, 입체적으로 보여 미용성이 극대화된 네일 아트를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 상기 네일 아트를 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기재층 및 상기 기재층 상에 위치하는 코팅층을 포함하며, 상기 코팅층은 자외선 경화 원료, 광 개시제, 및 수지를 포함하고, 하기 식 1을 만족하는 네일 아트가 제공된다.
[식 1]
0.05 mm ≤ T2-T1 ≤ 0.6 mm
상기 T1는 상기 네일 아트의 외주에서 측정된 상기 네일 아트의 두께이며, 상기 T2은 상기 네일 아트의 외주로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점의 상기 네일 아트의 두께이다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 스크린 프린트 방법을 통해 코팅층 형성용 조성물로부터 코팅층을 형성하는 S1 단계를 포함하며, 기재층 및 상기 기재층 상에 위치하는 상기 코팅층을 포함하며, 상기 코팅층은 자외선 경화 원료, 광 개시제, 및 수지를 포함하고, 하기 식 1을 만족하는 네일 아트의 제조 방법이 제공된다.
[식 1]
0.05 mm ≤ T2-T1 ≤ 0.6 mm
상기 T1는 상기 네일 아트의 외주에서 측정된 상기 네일 아트의 두께이며, 상기 T2은 상기 네일 아트의 외주로부터 상게 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점의 상기 네일 아트의 두께이다.
본 발명에 따르면, 상기 네일 아트의 외주 부근에서부터, 상기 네일 아트의 중심부를 향하는 방향에 있어서 상기 네일 아트의 두께가 증가하므로, 상기 네일 아트의 외주 근처가 지나치게 각진 형상을 가지는 것이 억제될 수 있다. 이에 따라, 상기 네일 아트의 마모가 억제되고 부착 능력이 높으며, 상기 네일 아트가 입체적으로 보여 미용성이 극대화될 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 상술한 형태의 네일 아트를 비교적 간단한 방법으로 제조할 수 있는 바, 제조 공정의 간소화 및 비용 절감이 가능하다.
도 1은 네일 아트를 설명하기 위한 평면 모식도이다.
도 2는 도 1의 A-A'을 따라 확인한 종래의 네일 아트의 단면 모식도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 아트에 관한 것으로, 도 1의 A-A'을 따라 확인한 본 발명의 네일 아트의 단면 모식도이다.
도 4 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 아트를 설명하기 위한 도면으로, 도 3의 B 부분을 확대한 확대 단면 모식도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 네일 아트의 제조 방법을 설명하기 위한 모식도이다.
도 8 및 도 9는 각각 실시예 1의 네일 아트의 마모 평가 전/후 사진이다.
도 10 및 도 11은 각각 비교예 1의 네일 아트의 마모 평가 전/후 사진이다.
도 12 및 도 13은 각각 비교예 2의 네일 아트의 마모 평가 전/후 사진이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다.
그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
본 발명에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
본 발명에서, “상”에 배치 또는 위치하는 것은 직접 맞닿은 상태로 대상의 위에 존재하는 것 뿐만 아니라 이격된 상태로 대상의 위에 배치 또는 위치하는 것을 의미할 수 있다.
본 발명에서 측정되는 두께는 keyence의 VHX-970F 장비를 통해 확인될 수 있다.
본 발명에서, 점도는 Brookfield사 점도계를 통해 측정될 수 있다.
<네일 아트>
상기 네일 아트란, 손톱 또는 발톱에 부착되는 용도로 제조되는 인공적인 적층 구조체를 의미한다. 부착되는 용도를 고려할 시, 네일 스티커 또는 네일 아트 스티커라고도 불린다. 구체적으로, 소비자가 상기 네일 아트를 공급받으면, 소비자는 상기 네일 아트를 손톱 또는 발톱 상에 밀착되도록 상기 네일 아트의 형태를 변형시켜가며 상기 네일 아트를 손톱 또는 발톱 상 부착시키며, 이 후 자외선을 조사하여 상기 네일 아트를 경화시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 네일 아트는, 기재층 및 상기 기재층 상에 위치하는 코팅층을 포함하며, 상기 코팅층은 자외선 경화 원료, 광 개시제, 및 수지를 포함하고, 하기 식 1을 만족할 수 있다.
[식 1]
0.05 mm ≤ T2-T1 ≤ 0.6 mm
상기 T1는 상기 네일 아트의 외주에서 측정된 상기 네일 아트의 두께이며, 상기 T2은 상기 네일 아트의 외주로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점의 상기 네일 아트의 두께이다.
상기 코팅층은 자외선 경화 원료, 광 개시제, 및 수지를 포함할 수 있다.
상기 자외선 경화 원료가 상기 코팅층에 포함됨에 따라, 상기 네일 아트를 구매한 소비자는 자신의 손톱 또는 발톱과 밀착되도록 상기 네일 아트를 변형시킨 뒤, 자외선을 조사 하여 변형된 네일 아트의 형상대로 네일 아트를 경화시킬 수 있다. 이에 따라 상기 네일 아트와 손톱/발톱이 완전히 밀착된 상태로 서로 접합될 수 있으므로, 네일 아트 접착력이 개선될 수 있다. 또한, 코팅층 형성용 조성물이 건조되어 용매가 제거되어도, 상기 코팅층이 소정의 점도를 갖기 때문에, 상기 네일 아트가 식 1을 만족할 수 있다.
상기 자외선 경화 원료는 우레탄 아크릴레이트계 올리고머, 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머, 폴리에테르 아크릴레이트계 올리고머, 에폭시 아크릴레이트계 올리고머, 폴리 카보네이트 아크릴레이트계 올리고머, 실리콘 아크릴레이트계 올리고머, 및 아크릴 아크릴레이트계 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
구체적으로, 상기 자외선 경화 원료는 우레탄 아크릴레이트계 올리고머, 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머, 및 에폭시 아크릴레이트계 올리고머 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머는 자외선에 의한 경화가 용이하며 경화 후에도 소정의 유연한 물성을 가질 수 있어서 유리한다. 또한, 헤이즈 현상이 최소화될 수 있어서 코팅층의 투명성이 유지될 수 있다.
상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머는 2 관능성 우레탄 아크릴레이트계 올리고머, 4 관능성 우레탄 아크릴레이트계 올리고머, 6 관능성 우레탄 아크릴레이트계 올리고머, 및 9 관능성 우레탄 아크릴레이트계 올리고머 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
구체적으로 상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머는 미원 사 제품인 PU210, PU280, PU640, SC2404, SATOMER 사 제품인 CN 9033, CN 9047으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머의 중량평균분자량은 1,000 g/mol 내지 1,000,000 g/mol 내지 일 수 있으며, 구체적으로 1,000 g/mol 내지 100,000 g/mol일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우 작업성이 크게 개선될 수 있다.
상기 에폭시 아크릴레이트계 올리고머의 경우 고반응성을 가지고 있어 고경도 및 연마성 등이 좋고, 경화가 쉽고, 유연성이 우수하며, 산소와의 접촉에도 경화가 안정적으로 진행될 수 있다.
상기 에폭시 아크릴레이트계 올리고머는 관능기 1개 또는 2개의 관능기를 가지고 있을 수 있으며, 관능기 1개일 경우 연성을 나타내며, 관능기 수가 높을수록 강성 또는 열적 안정성에 유리하다.
구체적으로 상기 에폭시 아크릴레이트계 올리고머는 미원 사 제품인 PE210, PE 2120, PE 250로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
상기 에폭시 아크릴레이트계 올리고머의 중량평균분자량은 100 g/mol 내지 10,000 g/mol일 수 있으며, 구체적으로 500 g/mol 내지 6,000 g/mol일 수 있다. 코팅층 형성용 조성물의 고형분과 점도를 고려할 때, 상기 범위인 것이 바람직하다.
상기 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머는 반응성이 우수하고 우레탄 아크릴레이트계 올리고머 및 에폭시 아크릴레이트계 올리고머 보다 접착력이 우수한 성질을 가지고 있다.
상기 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머는 관능기가 4개 또는 6개를 갖는 올리고머일 수 있다.
구체적으로 상기 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머는 미원 사 제품인 PS4040, PS460, PS6300 Etermer 6311-100, 6312-100, 6314C-60 로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
상기 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머의 중량평균분자량은 500 g/mol 내지 50,000 g/mol 일 수 있으며, 구체적으로 1,500 g/mol 내지 38,000 g/mol일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 공정성 및 접착력이 개선될 수 있다.
상기 코팅층 내에서, 상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머 100중량부에 대해 상기 에폭시 아크릴레이트계 올리고머는 1중량부 내지 10중량부로 포함될 수 있으며, 구체적으로 1 중량부 내지 3 중량부로 포함될 수 있다. 상기 코팅층 내에서, 상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머 100 중량부에 대해 상기 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머는 10 중량부 내지 20 중량부로 포함될 수 있으며, 구체적으로 2 중량부 내지 8 중량부로 포함될 수 있다. 상기 조성을 만족할 시, 공기 중에 상기 코팅층이 노출되어도 급속한 경화가 발생하지 않으며, 네일 아트 부착 후에도 내구성이 유지될 수 있다. 또한. 본 발명의 제조 방법과 관련하여, 상기 조성을 가질 시 흐름성에 영향을 주기 때문에 자연스런 라인을 갖는 제품을 만들 수 있다.
이와 달리, 상기 자외선 경화 원료는 상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머를 포함할 수 있고, 구체적으로 상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머로 이루어질 수 있다.
상기 자외선 경화 원료는 상기 코팅층 내에 10 중량% 내지 60 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로 29 중량% 내지 49 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 자외선 조사 전에는 유연한 물성을 유지하다가, 자외선 조사를 통한 경화 후에는 매우 단단한 물성을 갖는다.
상기 광 개시제는 자외선 조사에 의해 중합 반응을 개시하는 역할을 한다. 구체적으로 상기 광 개시제는 자외선 광 개시제일 수 있다.
상기 광 개시제는 200nm 내지 600 nm 범위의 흡수 파장 대역을 갖는 것일 수 있다.
상기 광 개시제는 트리메틸벤조일 포스핀 옥사이드(Trimethylbenzoyl Phosphnie oxide), 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥사이드(Phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide), 및 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-4(4-모포리닐)페닐]-1-부타논(2-Benzyl-2-(dimethylamino)-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]-1-butanone)로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있으며, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 광 개시제는 상기 코팅층 내에 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로 1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위를 만족할 시, 사용자가 상기 네일 아트를 경화시킬 시, 상기 네일 아트가 적절한 경도를 가질 수 있다.
상기 수지는 상기 코팅층의 흐름성을 제어하여 형태를 유지시키는 역할을 할 수 있다. 또한, 상기 수지에 의해 상기 코팅층을 형성하기 위한 코팅층 형성용 조성물이 적절한 점도를 가질 수 있어서, 상기 코팅층이 목적하는 형태로 제조될 수 있다.
상기 수지는 유리전이온도(Tg)가 30 ℃ 내지 200 ℃, 구체적으로 50 ℃ 내지 120 ℃인 열가소성 수지일 수 있다. 상기 범위를 만족할 시 상온에서는 상기 수지의 이동성이 높지 않으나, 네일 아트 제조 과정에 있어서 건조로 안에서 상기 수지가 상기 자외선 경화 원료와 적절하게 혼합되어, 네일 아트의 옆 라인이 부드럽게 형성될 수 있다.
상기 수지는 아크릴계 수지, 니트로 셀룰로오스 수지, 에폭시계 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리비닐 수지, 우레탄 수지, 및 초산 비닐수지로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
특히, 상기 수지는 아크릴계 수지 및 니트로 셀룰로오스 수지를 포함할 수 있다. 상기 아크릴계 수지의 유리전이온도(Tg)는 30 ℃ 내지 200 ℃, 구체적으로 50 ℃ 내지 120 ℃일 수 있다. 상기 니트로 셀룰로오스 수지는 한국씨엔씨 HRS 1/8 ~ 20 SS type 1/8 ~ 1/2를 포함할 수 있다. 상기 니트로 셀룰로오스 수지의 질소 함량은 11.5 % 내지 12.2 %일 수 있으며, 구체적으로 점도에 따라 1/8초 ~ 20초로 나눌 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 낮은 점도를 유지할 수 있도록 가능하여 고형분 함량을 높일 수 있다.
상기 수지는 상기 코팅층 내에 30 중량% 내지 80 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로 50 중량% 내지 70 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위를 만족할 시 상온에서 취급해도 문제가 없을 정도 끈끈함이 없어지며, 라운드 모양을 이룰 수 있다.
한편, 상기 수지는 열경화성 수지와 열 개시제를 포함할 수도 있다.
상기 자외선 경화 원료와 상기 수지의 중량비는 10 : 90 내지 50 : 50일 수 있으며, 구체적으로 30 : 70 내지 40 : 60일 수 있다. 상기 범위를 만족할 시, 상기 네일 아트가 식 1을 만족하며, 상기 네일 아트의 외주 부분이 부드러운 곡선을 가질 수 있다.
경우에 따라 상기 코팅층은 용매를 포함할 수도 있다. 상기 용매는 상기 코팅층의 제조를 위한 코팅층 형성용 조성물을 형성할 시 사용된 용매에 해당하며, 상기 코팅층 제조 과정에서 건조에 의해 제거된다. 다만, 상기 코팅층에 일부 용매가 매우 낮은 함량으로 잔류할 수도 있다.
도 3 내지 도 5를 참조하면, 상기 기재층(120)의 상면과 상기 코팅층(110)의 하면은 대향할 수 있고, 구체적으로 접할 수도 있다. 즉, 상기 기재층(120) 상에 상기 코팅층(110)이 위치할 수 있다.
상기 기재층은 옆면과 상기 기재층의 하면이 이루는 각도는 직각 또는 직각에 유사할 수 있으며, 구체적으로 각도는 85˚ 내지 110˚일 수 있다.
도 6을 참조하면, 상기 기재층(120)은 접착층(121)을 포함할 수 있다. 상기 접착층(121)은 상기 네일 아트가 손톱 또는 발톱에 부착될 수 있도록 하는 화학적 접착력을 부여한다. 이에 따라, 상기 접착층(121)은 상기 네일 아트의 최 하면을 구성하고 있을 수 있다. 본 발명의 네일 아트의 하면은 평평할 수 있는데, 이는 상기 접착층(121)의 하면이 평평한 것을 의미할 수 있다. 상기 접착층(121)은 접착 성분을 포함하며, 이는 당해 분야에 있어서 통상적으로 사용되는 접착 성분에 해당될 수 있다.
도 6을 참조하면, 상기 기재층(120)은 디자인층(122)을 더 포함할 수 있다. 상기 디자인층(122)은 상기 접착층(121)과 상기 코팅층(110) 사이에 위치할 수 있다. 상기 디자인층은 컬러층 및 인쇄층 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 상기 디자인층은 상기 네일 아트에 색상을 부여하는 안료를 포함할 수 있다. 상기 인쇄층은 무늬 표현을 위한 입자, 운모 등의 심미성을 위한 다양한 재료를 포함할 수 있다.
상기 네일 아트는 상기 코팅층 상에 배치되는 디자인 표현층을 더 포함할 수 있다. 상기 디자인 표현층은 무광과 같은 표현을 할 수 있으며, 입체적인 라인 또는 원뿔, 원형돔 등과 같은 후막형 입체도형 등을 표현할 수 있다.
상기 기재층의 하면 상에는 기재 필름이 배치될 수 있다. 상기 기재 필름은 상기 접착층의 오염을 방지하여 상기 네일 아트를 사용하기 전까지 접착력을 유지시키는 역할을 하며, 상기 네일 아트 사용 시 제거되는 구성에 해당한다. 상기 기재 필름은 당해 분야에 있어서 통상적으로 사용되는 성분을 포함할 수 있다.
도 1, 도 3, 및 도 4를 참조하면, 상기 네일 아트는 하기 식 1을 만족할 수 있다.
[식 1]
0.05 mm ≤ T2-T1 ≤ 0.6 mm
상기 T1는 상기 네일 아트의 외주에서 측정된 상기 네일 아트의 두께이며, 상기 T2은 상기 네일 아트의 외주로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점의 상기 네일 아트의 두께이다.
상기 네일 아트는 도 4와 같이 기재층의 끝단에서 상기 코팅층 옆면이 수직 또는 수직에 가까운 각도로 형성되며, 상기 코팅층의 상부는 곡선을 형성하며 네일 아트의 중심부를 향해 기울어져있을 수 있다. 또한, 상기 네일 아트는 도 5와 같이 기재층의 끝단에서 상기 네일 아트의 두께는 0.1mm에 가까울 수 있고, 이 경우에 상기 코팅층은 수직한 옆면을 가지지 않는 것에 해당한다.
자세한 설명을 위해, 도 1, 도 3, 도 4, 도 5를 참조한다. 상기 네일 아트의 외주(S)란 상기 네일 아트의 측면을 의미하며, 구체적으로 상기 네일 아트의 측면 중 가장 돌출된 지점을 의미할 수 있다.
상기 식 1을 만족한다는 상기 네일 아트의 두께는 상기 네일 아트의 외주에서부터 상기 네일 아트의 외주로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점까지 증가하는 부분이 존재하는 것을 의미한다. 다시 말해, 상기 네일 아트의 옆면과 상면이 거의 수직을 이루는 종래의 네일 아트(도 2 참조)과는 달리, T1에서 T2로 향할수록 두께가 증가하는 부분이 존재하게 되며, 이는 상기 네일 아트의 상면과 옆면의 경계가 선이 아닌 완만한 면으로 존재하는 것을 의미한다. 이에 따라 상기 네일 아트의 테두리 근처가 지나치게 각진 형상을 가지는 것이 억제될 수 있다. 이에 따라, 상기 네일 아트의 마모(구체적으로는 코팅층의 마모)가 억제되고 부착 능력이 높으며, 상기 네일 아트가 입체적으로 보여 미용성이 극대화될 수 있다.
상기 식 1을 만족하지 않고 T2-T1 < 0.05 mm 인 경우에는 상기 네일 아트 테두리 근처가 지나치게 각진 형태일 수 있으므로, 상기 네일 아트의 마모가 쉽게 발생하며, 미용 상 효과가 줄어들 수 있다. 반대로 T2-T1 > 0.6 mm 인 경우에는 네일 아트가 지나치게 두꺼워지거나, 네일 아트의 옆면이 급격한 경사를 가지게 되어 사용자가 이질감을 더 느끼게 되는 문제가 있다. 따라서, 상기 식 1을 만족할 시 네일 아트의 내마모성이 개선되며, 미용 상 효과가 극대화될 수 있으며, 사용자가 이질감을 덜 느낄 수 있다.
보다 구체적으로 상기 네일 아트는 하기 식 1-1을 만족할 수 있다.
[식 1-1]
0.1 mm ≤ T2-T1 ≤ 0.4 mm
상기 식 1-1을 만족할 시, 네일 아트의 입체적 형상을 유지하면서도 내마모성이 개선될 수 있으며, 불량률이 줄어들 수 있고, 종래 액상 네일 아트를 사용하여 형성되는 네일 아트 모양과 가장 유사할 수 있으므로, 사용에 편리함이 있을 수 있다.
구체적으로 상기 T2는 0.25mm 내지 0.62mm일 수 있으며, 보다 구체적으로 0.3mm 내지 0.5mm, 예를 들어 0.3mm 내지 0.45mm 일 수 있다. 또한, 상기 T1은 0.015 mm 내지 0.3 mm일 수 있으며, 구체적으로 0.02 mm 내지 0.25 mm일 수 있다. 상기 범위를 만족할 시, 상기 T1에서 T2로 이어지는 부분의 기울기가 적절한 수준을 가질 수 있으므로, 각진 현상에 의한 거칠거칠한 표현이 없어지며, 마모도 부분 또한 부드러운 효과로 인해 좋아지는 효과가 있다.
상기 네일 아트의 두께 중 가장 큰 두께(T3)가 측정되는 지점은 상기 네일 아트의 외주로부터 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점보다 더 중심부에 가까이 위치할 수 있고, 경우에 따라서는 중심부에 해당할 수 있다.
상기 네일 아트의 두께 중 가장 큰 두께(T3)는 0.5 mm 내지 0.8 mm일 수 있으며, 구체적으로 0.52 mm 내지 0.7 mm일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 상기 코팅층의 상면이 볼록한 부분을 가질 수 있으므로, 상기 네일 아트 상단의 내구성이 개선될 수 있으며, 빛이 상기 네일 아트로부터 반사되는 방향이 더욱 다양해질 수 있는 바, 미용적 효과가 극대화될 수 있다.
구체적으로 상기 네일 아트는 하기 식 2를 만족할 수 있다.
[식 2]
0.05 mm ≤ T3-T2 ≤ 0.6 mm
상기 범위를 만족할 시 가운데가 볼록한 모양의 네일 아트에 의해 미용 상의 효과가 극대화될 수 있으며, 네일 아트 중심부 부근의 내구성이 증가할 수 있다.
보다 구체적으로 상기 네일 아트는 하기 식 2-2를 만족할 수 있다.
[식 2-2]
0.1 mm ≤ T3-T2 ≤ 0.4 mm
상기 식 2-2를 만족할 시, 상술한 효과와 더불어 사용자가 이질감을 덜 느낄 수 있으며, 자외선 경화가 고르게 이루어질 수 있다.
상기 코팅층의 하면은 평평할 수 있다. 또한, 상기 네일 아트의 하면은 평평할 수 있다. 상기 “평평하다”의 의미는 굴곡이나 단차가 없거나, 있더라도 무시할 수 있을 정도의 매우 작은 수준을 의미한다. 예컨대 오차 범위 ±0.01 mm 이하 수준일 수 있다.
<네일 아트의 제조 방법>
본 발명의 다른 실시예에 따른 네일 아트의 제조 방법은, 스크린 프린트 방법을 통해 코팅층 형성용 조성물로부터 코팅층을 형성하는 S1 단계를 포함하며, 기재층 및 상기 기재층 상에 위치하는 상기 코팅층을 포함하며, 상기 코팅층은 자외선 경화 원료, 광 개시제, 및 수지를 포함하고, 하기 식 1을 만족할 수 있다.
[식 1]
0.05 mm ≤ T2-T1 ≤ 0.6 mm
상기 T1는 상기 네일 아트의 외주에서 측정된 상기 네일 아트의 두께이며, 상기 T2은 상기 네일 아트의 외주로부터 상게 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점의 상기 네일 아트의 두께이다. 상기 네일 아트의 두께는 상기 네일 아트의 외주에서부터 상기 네일 아트의 외주로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점까지 증가할 수 있다.
상기 자외선 경화 원료, 광 개시제, 수지, 식 1은 상술한 실시예의 그것들과 동일한 바 설명을 생략한다.
상기 S1 단계는, 예비 기재층 상에 홀(hole)을 포함하는 마스크를 위치시킨 뒤, 상기 홀을 통해 노출된 상기 예비 기재층 상에 상기 코팅층 형성용 조성물을 배치하는 S1-1단계; 상기 마스크를 제거하는 S1-2단계; 및 상기 코팅층 형성용 조성물을 건조하여 코팅층을 형성하는 S1-3단계;를 포함할 수 있다.
도 7의 (a)를 참조하면, 상기 S1-1단계에서, 상기 마스크(300)에 포함된 홀(300a)은 상기 마스크(300)를 관통하여 형성되어 있으며, 상기 홀(300a)의 둘레는 상기 네일 아트의 코팅층(110)의 형상을 가진다.
상기 S1-1단계에서, 상기 코팅층 형성용 조성물(110')은 70㎛ 내지 700㎛의 두께(Ta)를 가지도록 배치될 수 있으며, 구체적으로 70 ㎛ 내지 500 ㎛, 보다 구체적으로 150 ㎛ 내지 500 ㎛의 두께를 가지도록 배치될 수 있다. 상기 코팅층 형성용 조성물(110')이 상기 두께를 만족하는 경우, 이 후 마스크(300)를 제거할 시 상기 코팅층 형성용 조성물(110')의 옆면이 중력 및 상기 코팅층 형성용 조성물(110')의 점성에 의해 변형되게 되며, 최종적으로 코팅층(110)은 상술한 실시예에서 설명한 형태를 가질 수 있다(도 7의 (d) 참조). 상기 두께가 70 ㎛ 미만인 경우, 상기 코팅층 형성용 조성물(110')의 옆면과 상면이 수직에 가까운 각도를 이루게 되는 바, 본 발명의 코팅층(110) 형태가 나타나기 어렵다. 반대로 상기 두께가 700 ㎛ 초과인 경우, 네일 아트의 건조가 어려우며, 마스크 제거 시 적절한 크기를 가지는 네일 아트 모양으로 형성되기 어렵다.
상기 S1-1단계는 상기 코팅층 형성용 조성물(110')을 상기 홀(300a) 내부에 배치하고, 스퀴즈 부재를 통해 압력을 가하는 것을 포함하는 스퀴즈 공정을 포함할 수 있다. 이를 통해, 상기 마스크(300)의 홀(300a) 내부에 상기 코팅층 형성용 조성물(110')이 용이하게 배치될 수 있다. 상기 스퀴즈 공정은 수차례에 걸쳐 수행될 수 있으며, 예컨대 1회 내지 5회 수행될 수 있다. 다시 말해, 상기 코팅층 형성용 조성물(110')은 수차례에 걸쳐 마스크 내에 배치될 수 있다. 이에 따라 상기 홀 내에 배치되는 코팅층 형성용 조성물(110')의 두께가 비교적 일정하고 두꺼울 수 있다.
상기 코팅층 형성용 조성물은 자외선 경화 원료, 광 개시제, 수지, 및 용매를 포함할 수 있다. 상기 자외선 경화 원료, 광 개시제, 수지는 상술한 실시예의 그것들과 동일한 바 설명을 생략한다. 상기 용매는 이염기성 에스테르(Dibasic ester), 에틸렌 글리콜 디아세테이트(Ethylene glycol diacetate), 및 부틸렌 글리콜 디아세테이트(Butylene glycol diacetate)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
상기 코팅층 형성용 조성물의 고형분 내에서, 상기 자외선 경화 원료는 29 중량% 내지 49 중량%로 포함되고, 상기 광 개시제는 1 중량% 내지 5 중량%로 포함되고, 상기 수지는 50 중량% 내지 70 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 상기 코팅층 형성용 조성물이 바람직한 점성을 가질 수 있는 바, 최종적으로 제조되는 코팅층은 상술한 실시예에서 설명한 형태를 가질 수 있다.
상기 코팅층 형성용 조성물은, BrookFiled 점도계를 이용하여 측정된 25℃에서의 점도가 4,500 cps 내지 10,000 cps 일 수 있으며, 구체적으로 4,500 cps 내지 9,000 cps 일 수 있다. 그 경우, 최종적으로 제조되는 코팅층이 상술한 실시예에서 설명한 형태를 가질 수 있다.
상기 코팅층 형성용 조성물의 고형분 함량은 50 중량% 내지 65 중량%일 수 있으며, 구체적으로 55 중량% 내지 60 중량%일 수 있다. 상기 범위를 만족할 시 홀에 상기 코팅층 형성용 조성물을 1~3회 수준의 낮은 회수로 채우더라도, 높은 고형분으로 상기 코팅층 형성용 조성물을 채울 수 있으며, 최종적으로는 큰 두께의 네일 아트를 제조할 수 있다.
도 7의 (b)를 참조하면, 상기 S1-2단계에서는 상기 마스크가 제거되며, 이에 따라 상기 코팅층 형성용 조성물의 옆면이 중력 및 상기 코팅층 형성용 조성물의 점성에 의해 변형되게 되며, 최종적으로 코팅층은 상술한 실시예에서 설명한 형태를 가질 수 있다.
도 7의 (c)를 참조하면, 상기 코팅층 형성용 조성물을 건조하여 코팅층(110)을 형성하는 S1-3단계는 1회 이상의 건조 공정을 포함할 수 있다. 상기 건조 공정은 상기 코팅층을 60 ℃ 내지 120 ℃의 온도 범위에서 30분 내지 2시간 동안 건조하는 것을 포함할 수 있다. 상기 건조를 통해 상기 코팅층 형성용 조성물(110')은 코팅층(110)이 될 수 있다.
도 7의 (d)를 참조하면, 상기 네일 아트의 제조 방법은 상기 예비 기재층(도 7의 (a)~(c)의 (120'))을 절단하여 기재층(120)을 형성하는 S2 단계를 더 포함할 수 있다. 이에 따라 코팅층(110)을 각각 포함하는 1 이상의 네일 아트들이 형성될 수 있다. 또한, 상기 기재층(120)의 옆면과 하면은 직각에 가까운 각도를 가질 수 있다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 상기 실시예는 본 기재를 예시하는 것일 뿐 본 기재의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것은 당연한 것이다.
<실시예 및 비교예>
실시예 1: 네일 아트의 제조
(1) 코팅층 형성용 조성물의 제조
용매인 이염기성 에스테르(Dibasic ester)에 자외선 경화 원료인 우레탄 아크릴계 올리고머(PU210), 광 개시제인 트리메틸벤조일 포스핀 옥사이드(TPO), 수지인 (유리전이온도 50℃를 갖는 아크릴 수지)와 니트로 셀룰로오스 수지 1/2초를 혼합하고 교반하여 코팅층 형성용 조성물을 형성하였다. 상기 코팅층 형성용 조성물의 고형분은 55 중량%였으며, 상기 고형분 중 자외선 경화 원료, 광 개시제, 수지의 중량비는 36 : 2 : 62 였다. 상기 코팅층 형성용 조성물의 점도는 25℃에서 6,500cps였다.
(2) 코팅층 형성
디자인층 및 접착층을 포함하는 예비 기재층 상에 네일 아트 형태를 가지는 홀을 포함하는 마스크를 배치하였다. 상기 마스크 내에 스퀴즈 부재를 통해 소정의 압력을 가하면서 상기 코팅층 형성용 조성물을 배치시켰다. 이러한 배치 공정을 4 회 반복하여 상기 마스크 내 상기 코팅층 형성용 조성물의 두께를 450 ㎛로 조절하였다. 이 후, 상기 마스크를 제거한 뒤, 90 ℃에서 60분간 건조시켜 코팅층을 형성하였다.
(3) 네일 아트의 제조
이 후, 상기 예비 기재층을 절단하여 네일 아트를 제조하였다.
비교예 1: 네일 아트의 제조
(1) 코팅층 형성용 조성물의 제조
용매인 에틸렌 글리콜 디아세테이트(Ethylene glycol diacetate) 에 자외선 경화 원료인 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머(6311-100), 광 개시제인 Ciba사 제품 (184), 수지인 폴리에스테르 수지와 니트로 셀룰로오스 수지 1/2초를 혼합하고 교반하여 코팅층 형성용 조성물을 형성하였다. 상기 코팅층 형성용 조성물의 고형분은 50중량%였으며, 상기 고형분 중 자외선 경화 원료, 광 개시제, 수지의 중량비는 20 : 2 : 78였다. 상기 코팅층 형성용 조성물의 점도는 25℃에서, 10,000 cps였다.
(2) 코팅층 형성 및 네일 아트의 제조
이 후에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅층 형성 및 네일 아트를 제조하였다.
비교예 2: 네일 아트의 제조
코팅층 형성 시, 마스크 내 코팅층 형성용 조성물의 두께를 60㎛으로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 네일 아트를 제조하였다.
비교예 3: 네일 아트의 제조
코팅층 형성 시, 마스크 내 코팅층 형성용 조성물의 두께를 800㎛로 하였다. 다만, 이 경우, 상기 코팅층 형성용 조성물의 지나치게 넓게 퍼져서 원하는 네일 아트의 제조가 불가하였다.
실험예 1: 두께 관찰
Keyence 사의 VHX-970F장비를 사용하여 실시예 1 및 비교예 1 및 2의 네일 아트를 각각 관찰한 뒤, 이를 표 1에 나타내었다.
T1(mm) T2(mm) T3(mm) T2-T1(mm) T3-T2(mm)
실시예 1 0.12 0.42 0.7 0.3 0.28
비교예 1 0.08 0.1 0.1 0.02 0
비교예 2 0.15 0.1 0.1 -0.05 0
비교예 3 형성안됨 형성안됨 형성안됨 형성안됨 형성안됨
상기 T1는 상기 네일 아트의 외주에서 측정된 상기 네일 아트의 두께이며, 상기 T2은 상기 네일 아트의 외주로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점의 상기 네일 아트의 두께이다. 상기 T3는 상기 네일 아트의 두께 중 가장 큰 두께일 수 이다.
실험예 2: 마모 정도 평가
제조된 네일 아트를 손톱 모형에 맞게 변형시킨 뒤, 자외선을 조사하여 경화시켰다. 이 후, 상기 네일 아트의 옆면을 천에 일정 시간 동안 문질러서 마모 정도를 사진으로 확인하였다. 실시예 1의 실험 전 사진은 도 8, 실험 후 사진은 도 9이며, 비교예 1의 실험 전 사진은 도 10, 실험 후 사진은 도 11이며, 비교예 2의 실험 전 사진은 도 12, 실험 후 사진은 도 13이다. 실시예 1의 경우 거의 마모가 일어나지 않았으나, 비교예 1, 2의 경우 옆면이 심하게 마모가 발생한 것을 알 수 있다.
100: 네일 아트
100a: 네일 아트의 상면
100b: 네일 아트의 옆면
110: 코팅층
120: 기재층
121: 접착층
122: 디자인층
300: 마스크
300a: 홀
110': 코팅층 형성용 조성물
120': 예비 기재층

Claims (35)

  1. 기재층 및 상기 기재층 상에 위치하는 코팅층을 포함하며,
    상기 코팅층은 자외선 경화 원료, 광 개시제, 및 수지를 포함하고,
    하기 식 1을 만족하는 네일 아트:
    [식 1]
    0.05 mm ≤ T2-T1 ≤ 0.6 mm
    상기 T1는 상기 네일 아트의 외주에서 측정된 상기 네일 아트의 두께이며,
    상기 T2은 상기 네일 아트의 외주로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점의 상기 네일 아트의 두께이다.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 네일 아트의 두께는 상기 네일 아트의 외주에서부터 상기 네일 아트의 외주로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점까지 증가하는 네일 아트.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 T2는 0.25mm 내지 0.62mm인 네일 아트.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 T1은 0.015 mm 내지 0.3 mm인 네일 아트.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 네일 아트의 두께 중 가장 큰 두께(T3)는 0.5 mm 내지 0.8 mm인 네일 아트.
  6. 청구항 5에 있어서,
    하기 식 2를 만족하는 네일 아트.
    [식 2]
    0.05 mm ≤ T3-T2 ≤ 0.6 mm
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 자외선 경화 원료는 상기 코팅층 내에 10 중량% 내지 60 중량%로 포함되는 네일 아트.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 자외선 경화 원료는 우레탄 아크릴레이트계 올리고머, 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머, 폴리에테르 아크릴레이트계 올리고머, 에폭시 아크릴레이트계 올리고머, 폴리 카보네이트 아크릴레이트계 올리고머, 실리콘 아크릴레이트계 올리고머, 및 아크릴 아크릴레이트계 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 네일 아트.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 자외선 경화 원료는 우레탄 아크릴레이트계 올리고머를 포함하는 네일 아트.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머는 2 관능성 우레탄 아크릴레이트계 올리고머, 4 관능성 우레탄 아크릴레이트계 올리고머, 6 관능성 우레탄 아크릴레이트계 올리고머, 및 9 관능성 우레탄 아크릴레이트계 올리고머 중 적어도 어느 하나를 포함하는 네일 아트.
  11. 청구항 1에 있어서,
    상기 광 개시제는 200nm 내지 600 nm 범위의 흡수 파장 대역을 갖는 네일 아트.
  12. 청구항 1에 있어서,
    상기 수지는 상기 코팅층 내에 30 중량% 내지 80 중량%로 포함되는 네일 아트.
  13. 청구항 1에 있어서,
    상기 수지는 유리전이온도(Tg)가 30 ℃ 내지 200 ℃ 인 열가소성 수지인 네일 아트.
  14. 청구항 1에 있어서,
    상기 수지는 아크릴계 수지, 니트로 셀룰로오스 수지, 에폭시계 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리비닐 수지, 우레탄 수지, 및 초산 비닐수지로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 네일 아트.
  15. 청구항 1에 있어서,
    상기 기재층의 옆면과 상기 기재층의 하면이 이루는 각도는 85˚ 내지 110˚인 네일 아트.
  16. 청구항 1에 있어서,
    상기 기재층은 접착층을 포함하는 네일 아트.
  17. 청구항 16에 있어서,
    상기 기재층은 상기 접착층과 상기 코팅층 사이에 배치된 디자인층을 더 포함하는 네일 아트.
  18. 청구항 1에 있어서,
    상기 네일 아트의 하면은 평평한 면인 네일 아트.
  19. 스크린 프린트 방법을 통해 코팅층 형성용 조성물로부터 코팅층을 형성하는 S1 단계를 포함하며,
    기재층 및 상기 기재층 상에 위치하는 상기 코팅층을 포함하며,
    상기 코팅층은 자외선 경화 원료, 광 개시제, 및 수지를 포함하고,
    하기 식 1을 만족하는 네일 아트의 제조 방법:
    [식 1]
    0.05 mm ≤ T2-T1 ≤ 0.6 mm
    상기 T1는 상기 네일 아트의 외주에서 측정된 상기 네일 아트의 두께이며,
    상기 T2은 상기 네일 아트의 외주로부터 상게 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점의 상기 네일 아트의 두께이다.
  20. 청구항 19에 있어서,
    상기 네일 아트의 두께는 상기 네일 아트의 외주에서부터 상기 네일 아트의 외주로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점까지 증가하는 네일 아트의 제조 방법.
  21. 청구항 19에 있어서,
    상기 S1 단계는,
    예비 기재층 상에 홀을 포함하는 마스크를 위치시킨 뒤, 상기 홀을 통해 노출된 상기 예비 기재층 상에 상기 코팅층 형성용 조성물을 배치하는 S1-1단계;
    상기 마스크를 제거하는 S1-2단계; 및
    상기 코팅층 형성용 조성물을 건조하여 코팅층을 형성하는 S1-3단계;를 포함하는 네일 아트의 제조 방법.
  22. 청구항 21에 있어서,
    상기 S1-1단계에서,
    상기 코팅층 형성용 조성물은 70 ㎛ 내지 700 ㎛의 두께로 가지도록 배치되는 네일 아트의 제조 방법.
  23. 청구항 21에 있어서,
    상기 S1-1단계는 상기 코팅층 형성용 조성물을 상기 홀 내부에 배치하고, 스퀴즈 부재를 통해 압력을 가하는 것을 포함하는 스퀴즈 공정을 포함하는 네일 아트의 제조 방법.
  24. 청구항 23에 있어서,
    상기 스퀴즈 공정은 1회 내지 5회 수행되는 네일 아트의 제조 방법.
  25. 청구항 19에 있어서,
    상기 코팅층 형성용 조성물의 고형분 내에서,
    상기 자외선 경화 원료는 29 중량% 내지 49 중량%로 포함되고,
    상기 광 개시제는 1 중량% 내지 5 중량%로 포함되고,
    상기 수지는 50 중량% 내지 70 중량%로 포함되는 네일 아트의 제조 방법.
  26. 청구항 19에 있어서,
    상기 코팅층 형성용 조성물은,
    BrookField 점도계를 이용하여 측정된 25℃에서의 점도가 4,500 cps 내지 10,000 cps인 네일 아트의 제조 방법.
  27. 청구항 19에 있어서,
    상기 코팅층 형성용 조성물의 고형분 함량은 50 중량% 내지 65 중량%인 네일 아트의 제조 방법.
  28. 청구항 21에 있어서,
    상기 코팅층 형성용 조성물을 건조하여 코팅층을 형성하는 S1-3단계는 1회 이상의 건조 공정을 포함하며,
    상기 건조 공정은 60 ℃ 내지 120 ℃의 온도에서 수행되는 네일 아트의 제조 방법.
  29. 청구항 21에 있어서,
    상기 예비 기재층을 절단하여 기재층을 형성하는 S2단계를 더 포함하는 네일 아트의 제조 방법.
  30. 청구항 1에 있어서,
    상기 자외선 경화 원료와 상기 수지의 중량비는 10 : 90 내지 50 : 50인 네일 아트.
  31. 청구항 1에 있어서,
    상기 자외선 경화 원료와 상기 수지의 중량비는 30 : 70 내지 40 : 60인 네일 아트.
  32. 청구항 31에 있어서,
    상기 자외선 경화 원료는 우레탄 아크릴계 올리고머를 포함하며,
    상기 수지는 아크릴 수지 및 니트로 셀룰로오스 수지를 포함하는 네일 아트.
  33. 청구항 19에 있어서,
    상기 자외선 경화 원료와 상기 수지의 중량비는 10 : 90 내지 50 : 50인 네일 아트의 제조 방법.
  34. 청구항 19에 있어서,
    상기 자외선 경화 원료와 상기 수지의 중량비는 30 : 70 내지 40 : 60인 네일 아트의 제조 방법.
  35. 청구항 34에 있어서,
    상기 자외선 경화 원료는 우레탄 아크릴계 올리고머를 포함하며,
    상기 수지는 아크릴 수지 및 니트로 셀룰로오스 수지를 포함하는 네일 아트의 제조 방법.
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