KR102297373B1 - Liquid ejection unit and substrate treating apparatus including the same - Google Patents

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KR102297373B1 KR1020140194818A KR20140194818A KR102297373B1 KR 102297373 B1 KR102297373 B1 KR 102297373B1 KR 1020140194818 A KR1020140194818 A KR 1020140194818A KR 20140194818 A KR20140194818 A KR 20140194818A KR 102297373 B1 KR102297373 B1 KR 102297373B1
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Abstract

본 발명은 액 토출 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다. 액 토출 유닛은 복수개의 토출 헤드를 포함한다. 토출 헤드는 상부에서 바라볼 때, 각각 서로 상이하고 서로 평행한 열에 배열된 제 1 토출 헤드 및 제 2 토출 헤드를 가진다. 제 1 토출 헤드 및 제 2 토출 헤드는 각각 배열된 열의 중심선을 기준으로 각각에 직선으로 배열되도록 형성된 복수개의 토출구들이 배열된 열이 서로 반대 방향으로 경사지도록 제공된다.The present invention provides a liquid discharging unit and a substrate processing apparatus including the same. The liquid discharge unit includes a plurality of discharge heads. The discharge head has a first discharge head and a second discharge head arranged in rows that are different from each other and parallel to each other, respectively, when viewed from above. The first discharge head and the second discharge head are provided with a plurality of discharge ports formed to be arranged in a straight line with respect to the center line of the arranged rows, respectively, so that the arranged rows are inclined in opposite directions.

Description

액 토출 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{LIQUID EJECTION UNIT AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS INCLUDING THE SAME}A liquid discharging unit and a substrate processing apparatus including the same

본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판에 액을 토출하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for processing a substrate, and more particularly, to an apparatus for discharging a liquid to a substrate.

일반적으로, 잉크젯 프린트 장치는 기판 상에 액을 토출하는 토출 헤드를 포함한다. 토출 헤드는 복수개가 제공될 수 있고, 각 토출 헤드는 그 저면에 액이 토출되는 복수개의 토출구가 형성된다.In general, an inkjet printing apparatus includes an ejection head for ejecting a liquid onto a substrate. A plurality of discharge heads may be provided, and each discharge head is formed with a plurality of discharge ports through which the liquid is discharged.

도 1은 일반적인 토출 헤드의 저면도이다. 도 2은 일반적인 토출 헤드들이 배열된 모습을 나타낸 도면이다. 도 1 및 도 2를 참고하면, 토출 헤드(1)는 그 저면에 복수개가 일 방향으로 배열된 토출구(2)가 형성된다. 일반적으로, 하나의 토출 헤드(1)의 서로 인접한 두개의 토출구 간의 거리(3)와 서로 인접한 두개의 토출 헤드(1)에 각각 형성되되 가장 인접한 토출구(4) 간의 거리는 서로 상이하다. 따라서, 기판 상에 액을 균일하게 토출시키기 위해서, 토출 헤드들을 2열로 배열하고, 각 열에 놓인 토출 헤드들을 각 열의 중심선(5)을 기준으로 동일한 방향으로 경사지게 제공함으로써, 토출구 간의 거리를 균일하게 제공한다. 그러나, 이 경우, 서로 인접한 토출 헤드 간의 양 끝단 간의 거리가 상이하게 제공되므로 액 토출 시 서로 인접한 토출 헤드간의 끝단들 중 보다 먼 거리의 끝단들에 각각 제공된 토출구 간의 토출 시간 차가 길어짐으로써, 먼저 토출된 액과 나중에 토출된 액간의 경화 정도의 차이가 커짐으로 액이 도포된 기판 상에 얼룩이 발생될 수 있다.1 is a bottom view of a general discharge head. 2 is a view showing a state in which general discharge heads are arranged. 1 and 2 , the discharge head 1 has a plurality of discharge ports 2 arranged in one direction on the bottom surface thereof. In general, the distance 3 between the two discharge ports adjacent to each other of one discharge head 1 and the distance between the closest discharge ports 4 respectively formed in the two discharge heads 1 adjacent to each other are different from each other. Therefore, in order to uniformly discharge the liquid on the substrate, the discharge heads are arranged in two rows, and the discharge heads placed in each row are inclined in the same direction with respect to the center line 5 of each row, thereby providing a uniform distance between the discharge ports do. However, in this case, since the distances between both ends between the adjacent discharge heads are provided differently, the discharging time difference between the discharging ports respectively provided at the farther ends among the ends between the discharging heads adjacent to each other during liquid discharging becomes longer, so that the first As the difference in the degree of curing between the liquid and the liquid discharged later increases, stains may be generated on the substrate to which the liquid is applied.

본 발명은 인접하는 토출구 간 액이 토출되는 시간 차이를 최소화 시킬 수 있는 장치를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide an apparatus capable of minimizing a time difference between discharging liquids between adjacent discharging ports.

또한, 본 발명은 액이 도포된 기판 상에 얼룩이 발생되는 것을 방지할 수 있는 장치를 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide an apparatus capable of preventing stains from being generated on a substrate to which a liquid is applied.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems to be solved by the present invention are not limited thereto, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시예는 기판 처리 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는, 베이스; 상기 베이스에 설치되고, 기판이 놓여지는 기판 지지 유닛; 상기 기판 지지 유닛에 놓인 기판 상에 액을 토출하는 액 토출 유닛;을 포함하되, 상기 액 토출 유닛은, 액을 토출하는 토출 헤드; 및 상기 토출 헤드가 결합된 갠트리;를 포함하고, 상기 토출 헤드는, 제 1 열 상에 위치된 제 1 토출 헤드; 및 상기 제 1 열과 상이하고, 상부에서 바라볼 때 상기 제 1 열과 평행한 제 2 열 상에 위치된 제 2 토출 헤드;를 포함하되, 상기 제 1 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 1 토출구가 형성되고, 상기 제 2 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 2 토출구가 형성되며, 상기 제 1 토출구 및 상기 제 2 토출구는 각각 복수개가 직선으로 배열되고, 상기 제 1 토출 헤드는, 상기 제 1 열 및 상기 제 2 열의 사이를 지나는 중심선을 기준으로 상기 제 1 토출구가 배열된 방향이 양의 제 1 회전 각도로 경사지도록 제공되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선을 기준으로 상기 제 2 토출구가 배열된 방향이 음의 제 2 회전 각도로 경사지도록 제공된다.One embodiment of the present invention provides a substrate processing apparatus. A substrate processing apparatus comprising: a base; a substrate support unit installed on the base and on which a substrate is placed; a liquid discharging unit discharging a liquid onto the substrate placed on the substrate supporting unit, wherein the liquid discharging unit includes: a discharging head discharging the liquid; and a gantry to which the discharge head is coupled, wherein the discharge head includes: a first discharge head positioned on a first row; and a second discharge head different from the first row and positioned on a second row parallel to the first row when viewed from above, wherein the first discharge head has a first outlet through which the liquid is discharged and a second discharge port through which the liquid is discharged is formed in the second discharge head, a plurality of the first discharge port and the second discharge port are each arranged in a straight line, and the first discharge head includes the first row and a direction in which the first outlets are arranged is inclined at a positive first rotation angle based on a center line passing between the second rows, and the second outlet head includes the second outlets based on the center line. It is provided that the arranged direction is inclined at a negative second angle of rotation.

상기 제 1 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 1 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 2 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공된다.The first discharge head is provided rotatably about an axis perpendicular to the center line and a direction in which the first discharge ports are arranged, and the second discharge head is perpendicular to the center line and a direction in which the second discharge ports are arranged It is provided rotatably about a phosphor axis.

상기 제 1 토출 헤드 및 상기 제 2 토출 헤드는 각각 복수개가 제공된다.A plurality of each of the first discharge head and the second discharge head is provided.

상기 제 1 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되며, 상기 제 1 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 2 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 1 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열된다.The first discharge heads are arranged to be spaced apart from each other by a predetermined interval, the second discharge heads are arranged to be spaced apart from each other by a predetermined interval, and the first discharge head includes two adjacent second discharge heads, respectively. It is arranged to face between the livers, and the second ejection heads are arranged to face between the two first ejection heads adjacent to each other, respectively.

상기 제 1 회전 각도 및 상기 제 2 회전 각도는, 그 크기가 서로 동일할 수 있다.The first rotation angle and the second rotation angle may have the same size.

상기 갠트리는, 상기 제 1 토출 헤드가 결합된 제 1 갠트리; 및 상기 제 2 토출 헤드가 결합된 상기 제 1 갠트리와 상이한 제 2 갠트리;를 포함한다.The gantry may include: a first gantry to which the first discharge head is coupled; and a second gantry different from the first gantry to which the second discharge head is coupled.

상기 제 1 갠트리의 상기 제 1 토출 헤드가 결합된 면 및 상기 제 2 갠트리의 상기 제 2 토출 헤드가 결합된 면은 서로 마주 보도록 제공된다.A surface of the first gantry to which the first discharge head is coupled and a surface to which the second discharge head is coupled of the second gantry are provided to face each other.

또한, 본 발명의 일 실시 예는 기판 사에 액을 토출하는 액 토출 유닛을 제공한다. 액 토출 유닛은 액을 토출하는 토출 헤드; 및 상기 토출 헤드가 결합된 갠트리;를 포함하고, 상기 토출 헤드는, 제 1 열 상에 위치된 제 1 토출 헤드; 및 상기 제 1 열과 상이하고, 상부에서 바라볼 때 상기 제 1 열과 평행한 제 2 열 상에 위치된 제 2 토출 헤드;를 포함하되, 상기 제 1 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 1 토출구가 형성되고, 상기 제 2 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 2 토출구가 형성되며, 상기 제 1 토출구 및 상기 제 2 토출구는 각각 복수개가 직선으로 배열되고, 상기 제 1 토출 헤드는, 상기 제 1 열 및 상기 제 2 열의 사이를 지나는 중심선을 기준으로 상기 제 1 토출구가 배열된 방향이 양의 제 1 회전 각도로 경사지도록 제공되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선을 기준으로 상기 제 2 토출구가 배열된 방향이 음의 제 2 회전 각도로 경사지도록 제공된다.In addition, an embodiment of the present invention provides a liquid discharge unit for discharging a liquid between the substrate. The liquid discharge unit includes: a discharge head for discharging liquid; and a gantry to which the discharge head is coupled, wherein the discharge head includes: a first discharge head positioned on a first row; and a second discharge head different from the first row and positioned on a second row parallel to the first row when viewed from above, wherein the first discharge head has a first outlet through which the liquid is discharged and a second discharge port through which the liquid is discharged is formed in the second discharge head, a plurality of the first discharge port and the second discharge port are each arranged in a straight line, and the first discharge head includes the first row and a direction in which the first outlets are arranged is inclined at a positive first rotation angle based on a center line passing between the second rows, and the second outlet head includes the second outlets based on the center line. It is provided that the arranged direction is inclined at a negative second angle of rotation.

상기 제 1 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 1 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 2 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공된다.The first discharge head is provided rotatably about an axis perpendicular to the center line and a direction in which the first discharge ports are arranged, and the second discharge head is perpendicular to the center line and a direction in which the second discharge ports are arranged It is provided rotatably about a phosphor axis.

상기 제 1 토출 헤드 및 상기 제 2 토출 헤드는, 각각 복수개가 제공된다.A plurality of the first discharge head and the second discharge head are provided, respectively.

상기 제 1 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되며, 상기 제 1 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 2 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 1 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열된다.The first discharge heads are arranged to be spaced apart from each other by a predetermined interval, the second discharge heads are arranged to be spaced apart from each other by a predetermined interval, and the first discharge head includes two adjacent second discharge heads, respectively. It is arranged to face between the livers, and the second ejection heads are arranged to face between the two first ejection heads adjacent to each other, respectively.

상기 제 1 회전 각도 및 상기 제 2 회전 각도는, 그 크기가 서로 동일할 수 있다.The first rotation angle and the second rotation angle may have the same size.

본 발명의 일 실시 예에 의하면, 본 발명의 장치는 인접하는 토출구 간 액이 토출되는 시간 차이를 최소화 시킬 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the apparatus of the present invention can minimize the time difference between the discharge ports for discharging the liquid.

또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 본 발명의 장치는 액이 도포된 기판 상에 얼룩이 발생되는 것을 방지할 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, the device of the present invention can prevent the occurrence of stains on the substrate to which the liquid is applied.

도 1은 일반적인 토출 헤드의 저면도이다.
도 2은 일반적인 토출 헤드들이 배열된 모습을 나타낸 도면이다.
도 3는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이다.
도 4는 도 3의 기판 처리 장치의 일부를 나타낸 평면도이다.
도 5는 도 4의 제 1 토출 헤드 및 제 2 토출 헤드가 배열된 모습을 나타낸 도면이다.1 is a bottom view of a general discharge head.
2 is a view showing a state in which general discharge heads are arranged.
3 is a perspective view of a substrate processing apparatus according to an exemplary embodiment.
4 is a plan view illustrating a part of the substrate processing apparatus of FIG. 3 .
FIG. 5 is a view showing a state in which the first discharge head and the second discharge head of FIG. 4 are arranged;

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. Embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those of ordinary skill in the art. Accordingly, the shapes of elements in the drawings are exaggerated to emphasize a clearer description.

도 3는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이다.3 is a perspective view of a substrate processing apparatus according to an exemplary embodiment.

도 3을 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 베이스(B), 기판 지지 유닛(100) 및 액 토출 유닛(200)을 포함한다.Referring to FIG. 3 , the substrate processing apparatus 10 includes a base B, a substrate support unit 100 , and a liquid discharge unit 200 .

베이스(B)는 일정한 두께를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 베이스(B)의 상면에는 기판 지지 유닛(100)이 설치된다.The base (B) may be provided in a rectangular parallelepiped shape having a constant thickness. The substrate support unit 100 is installed on the upper surface of the base (B).

기판 지지 유닛(100)에는 기판(S)이 놓인다. 예를 들면, 기판 지지 유닛(100)은 기판(S)이 놓이는 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 부재(120)가 연결된다. 회전 구동 부재(120)는 회전 모터일 수 있다. 회전 구동 부재(120)는 지지판(110)에 수직한 회전 중심축을 중심으로 지지판(110)을 회전시킨다. 지지판(110)이 회전 구동 부재(120)에 의해 회전되면, 기판(S)은 지지판(110)의 회전에 의해 회전될 수 있다.A substrate S is placed on the substrate support unit 100 . For example, the substrate support unit 100 has a support plate 110 on which the substrate S is placed. The support plate 110 may be a plate having a rectangular shape. A rotation driving member 120 is connected to the lower surface of the support plate 110 . The rotation driving member 120 may be a rotation motor. The rotation driving member 120 rotates the support plate 110 about a central axis of rotation perpendicular to the support plate 110 . When the support plate 110 is rotated by the rotation driving member 120 , the substrate S may be rotated by the rotation of the support plate 110 .

제 1 방향(Ⅰ)은 갠트리(210)의 길이 방향이다. 제 2 방향(Ⅱ)은 상부에서 바라볼 때, 제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 방향이다. 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ) 및 제 2 방향(Ⅱ)에 수직한 방향이다.The first direction (I) is the longitudinal direction of the gantry 210 . The second direction (II) is a direction perpendicular to the first direction (I) when viewed from above. The third direction (III) is a direction perpendicular to the first direction (I) and the second direction (II).

지지판(110)과 회전 구동 부재(120)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동될 수 있다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 부재(120)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중심부에 제 2 방향(Ⅱ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터가 내장될 수 있으며, 슬라이더(132)는 리니어 모터에 의해 가이드 부재(134)를 따라 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동된다.The support plate 110 and the rotation driving member 120 may be linearly moved in the second direction (II) by the linear driving member 130 . The linear driving member 130 includes a slider 132 and a guide member 134 . The rotation driving member 120 is installed on the upper surface of the slider 132 . The guide member 134 extends long in the second direction (II) to the center of the upper surface of the base (B). A linear motor may be built in the slider 132 , and the slider 132 is linearly moved in the second direction (II) along the guide member 134 by the linear motor.

액 토출 유닛(200)은 기판 지지 유닛(100)에 놓인 기판(S) 상에 액을 토출한다. 액 토출 유닛(200)은 갠트리(210) 및 토출 헤드(220)를 포함한다.The liquid discharging unit 200 discharges a liquid onto the substrate S placed on the substrate supporting unit 100 . The liquid discharge unit 200 includes a gantry 210 and a discharge head 220 .

갠트리(210)는 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 갠트리(210)는 베이스(B)의 상면으로부터 위방향으로 이격 배치되며, 갠트리(210)는 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하도록 배치된다. 토출 헤드(220)는 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리(210)에 결합된다.The gantry 210 is provided above the path along which the support plate 110 is moved. The gantry 210 is disposed upwardly spaced apart from the upper surface of the base B, and the gantry 210 is disposed so that its longitudinal direction faces the first direction I. The discharge head 220 is coupled to the gantry 210 by the head moving unit 500 .

도 4는 도 3의 기판 처리 장치(10)의 일부를 나타낸 평면도이다. 도 3 및 도 4를 참고하면, 일 실시 예에 따르면, 갠트리(210)는 제 1 갠트리(211) 및 제 2 갠트리(212)를 포함할 수 있다. 제 1 갠트리(211)에는 제 1 토출 헤드(221)가 결합된다. 제 2 갠트리(212)는 제 1 갠트리(211)와 별개로 제공된다. 제 2 갠트리(212)에는 제 2 토출 헤드(222)가 결합된다. 제 1 갠트리(211)의 제 1 토출 헤드(221)가 결합된 면 및 제 2 갠트리(212)의 제 2 토출 헤드(222)가 결합된 면은 서로 마주 보도록 제공된다. 제 1 갠트리(211) 및 제 2 갠트리(212)는 액 토출 공정 전 또는 후에는 각각 베이스(B)의 서로 다른 양 끝단에 위치된다. 액을 토출하기 위해 제 1 갠트리(211) 및 제 2 갠트리(212)는 제 1 토출 헤드(221) 및 제 2 토출 헤드(222)가 기판 지지 유닛(10) 상에 놓인 기판(S) 상에 위치되도록 이동된다. 이후, 제 1 토출 헤드(221) 및 제 2 토출 헤드(222)는 액을 토출하고, 기판 지지 유닛(10)이 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 이동하면서 기판(S) 상에 액을 도포한다. 이와 달리, 기판 지지 유닛(10)은 이동하지 않고, 제 1 갠트리(211) 및 제 2 갠트리(212)가 서로 일정한 간격을 유지하며 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 이동하며 기판(S) 상에 액을 도포할 수 있다.4 is a plan view illustrating a part of the substrate processing apparatus 10 of FIG. 3 . 3 and 4 , according to an embodiment, the gantry 210 may include a first gantry 211 and a second gantry 212 . A first discharge head 221 is coupled to the first gantry 211 . The second gantry 212 is provided separately from the first gantry 211 . A second discharge head 222 is coupled to the second gantry 212 . A surface to which the first discharge head 221 of the first gantry 211 is coupled and a surface to which the second discharge head 222 is coupled of the second gantry 212 are provided to face each other. The first gantry 211 and the second gantry 212 are respectively positioned at different ends of the base B before or after the liquid discharging process. In order to discharge the liquid, the first gantry 211 and the second gantry 212 are mounted on the substrate S on which the first discharge head 221 and the second discharge head 222 are placed on the substrate support unit 10 . moved to position. Thereafter, the first discharge head 221 and the second discharge head 222 discharge the liquid, and the substrate support unit 10 applies the liquid on the substrate S while moving in the second direction II. . On the other hand, the substrate support unit 10 does not move, and the first gantry 211 and the second gantry 212 move along the second direction II while maintaining a constant distance from each other and are placed on the substrate S. liquid can be applied.

토출 헤드(220)는 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리(210)의 길이 방향, 즉 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동하고, 또한 제3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있다. 토출 헤드(220)는 기판에 액을 토출한다. 토출 헤드(220)는 복수 개가 제공될 수 있다. 토출 헤드(220)는 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 나란하게 배열될 수 있다.The discharge head 220 may be linearly moved in the longitudinal direction of the gantry 210 , that is, in the first direction (I), and may also be linearly moved in the third direction (III) by the head moving unit 500 . The discharge head 220 discharges the liquid to the substrate. A plurality of discharge heads 220 may be provided. The discharge heads 220 may be arranged side by side in a line in the first direction (I).

도 5는 도 4의 제 1 토출 헤드(221) 및 제 2 토출 헤드(222)가 배열된 모습을 나타낸 도면이다. 도 4 및 도 5를 참고하면, 토출 헤드(220)는 제 1 토출 헤드(221) 및 제 2 토출 헤드(222)를 포함한다.FIG. 5 is a view showing a state in which the first discharge head 221 and the second discharge head 222 of FIG. 4 are arranged. 4 and 5 , the discharge head 220 includes a first discharge head 221 and a second discharge head 222 .

제 1 토출 헤드(221)는 제 1 열(221a) 상에 위치된다. 제 1 토출 헤드(221)에는 액이 토출되는 제 1 토출구(221b)가 형성된다. 제 1 토출구(221b)는 복수개가 직선으로 배열된다. 제 1 토출구(221b)가 배열된 열은 서로 평행하게 복수개가 제공될 수 있다. 제 1 토출 헤드(221)는 제 1 열(221a) 및 제 2 열(222a) 사이를 지나는 중심선(223)을 기준으로 제 1 토출구(221b)가 배열된 방향이 양의 제 1 회전 각도(224)로 경사지도록 제공된다. 제 1 토출 헤드(221)는 중심선(223) 및 제 1 토출구(221b)가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공될 수 있다. 따라서, 제 1 토출 헤드(221)는 액 토출 공정 전 또는 후에는 제 1 토출구(221b)가 배열된 방향이 중심선(223)과 평행하도록 위치되고, 액 토출 공정 시에는 제 1 토출구(221b)가 배열된 방향이 중심선(223)을 기준으로 양의 제 1 회전 각도(224)로 경사지도록 회전된다.The first discharge head 221 is located on the first row 221a. A first discharge port 221b through which the liquid is discharged is formed in the first discharge head 221 . A plurality of first discharge ports 221b are arranged in a straight line. A plurality of rows in which the first outlets 221b are arranged may be provided in parallel to each other. The first discharge head 221 has a positive first rotation angle 224 in the direction in which the first discharge ports 221b are arranged with respect to the center line 223 passing between the first and second rows 221a and 222a. ) is provided to be inclined. The first discharge head 221 may be provided rotatably about an axis perpendicular to a direction in which the center line 223 and the first discharge ports 221b are arranged. Accordingly, the first discharge head 221 is positioned so that the direction in which the first discharge ports 221b are arranged is parallel to the center line 223 before or after the liquid discharge process, and during the liquid discharge process, the first discharge ports 221b The arrangement direction is rotated so as to be inclined at a positive first rotation angle 224 with respect to the center line 223 .

제 2 토출 헤드(222)는 제 2 열(222a) 상에 위치된다. 제 2 열(222a)은 제 1 열(221a)과 상이하고 상부에서 바라볼 때, 제 1 열(221a)과 평행하게 제공된다. 제 2 토출 헤드(222)에는 액이 토출되는 제 2 토출구(222b)가 형성된다. 제 2 토출구(222b)는 복수개가 직선으로 배열된다. 제 2 토출구(222b)가 배열된 열은 서로 평행하게 복수개가 제공될 수 있다. 제 2 토출 헤드(222)는 중심선(223)을 기준으로 제 2 토출구(222b)가 배열된 방향이 음의 제 2 회전 각도(225)로 경사지도록 제공된다. 제 2 토출 헤드(222)는 중심선(223) 및 제 2 토출구(222b)가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공될 수 있다. 따라서, 제 2 토출 헤드(222)는 액 토출 공정 전 또는 후에는 제 2 토출구(222b)가 배열된 방향이 중심선(223)과 평행하도록 위치되고, 액 토출 공정 시에는 제 2 토출구(222b)가 배열된 방향이 중심선(223)을 기준으로 음의 제 2 회전 각도(225)로 경사지도록 회전된다.The second discharge head 222 is located on the second row 222a. The second row 222a is different from the first row 221a and is provided parallel to the first row 221a when viewed from above. A second discharge port 222b through which the liquid is discharged is formed in the second discharge head 222 . A plurality of second discharge ports 222b are arranged in a straight line. A plurality of rows in which the second outlets 222b are arranged may be provided in parallel to each other. The second discharge head 222 is provided so that the direction in which the second discharge ports 222b are arranged with respect to the center line 223 is inclined at a negative second rotation angle 225 . The second discharge head 222 may be provided rotatably about an axis perpendicular to the direction in which the center line 223 and the second discharge port 222b are arranged. Accordingly, the second discharge head 222 is positioned so that the direction in which the second discharge ports 222b are arranged is parallel to the center line 223 before or after the liquid discharge process, and during the liquid discharge process, the second discharge ports 222b The arrangement direction is rotated to be inclined at a negative second rotation angle 225 with respect to the center line 223 .

제 1 회전 각도(224) 및 제 2 회전 각도(225)는 그 크기가 서로 동일하게 제공될 수 있다.The first rotation angle 224 and the second rotation angle 225 may be provided to have the same size.

제 1 토출 헤드(221) 및 제 2 토출 헤드(222)는 각각 복수개가 서로 일정 간격으로 이격되게 배열된다. 제 1 토출 헤드(221)는 각각 서로 인접하는 2개의 제 2 토출 헤드(222) 간의 사이와 대향되도록 배열된다. 제 2 토출 헤드(222)는 각각 서로 인접하는 2개의 제 1 토출 헤드(221) 간의 사이와 대향되도록 배열된다. A plurality of the first discharge heads 221 and the second discharge heads 222 are respectively arranged to be spaced apart from each other by a predetermined interval. The first discharge heads 221 are arranged to face each other between the two second discharge heads 222 adjacent to each other. The second discharge heads 222 are arranged to face each other between the two first discharge heads 221 adjacent to each other.

상술한 바와 같이 제 1 토출 헤드(221) 및 제 2 토출 헤드(222)가 중심선(223)을 기준으로 서로 반대 방향으로 경사 지도록 제공됨으로써, 서로 인접한 토출 헤드 간의 양 끝단의 거리의 차이가 최소화 되므로, 토출구 간 액이 토출되는 시간 차이를 최소화 시킬 수 있다. 따라서, 토출된 액의 경화 시간의 차가 최소화 되어 액의 경화된 정도의 차이가 최소화 되므로 액이 도포된 기판 상에 얼룩이 발생되는 것을 방지할 수 있다.As described above, since the first discharge head 221 and the second discharge head 222 are provided to be inclined in opposite directions with respect to the center line 223, the difference in the distance between the ends of the discharge heads adjacent to each other is minimized. , it is possible to minimize the time difference between the discharge ports for discharging the liquid. Accordingly, since the difference in curing time of the discharged liquid is minimized and the difference in the degree of curing of the liquid is minimized, it is possible to prevent stains from occurring on the substrate to which the liquid is applied.

10: 기판 처리 장치 S: 기판
100: 기판 지지 유닛 200: 액 토출 유닛
210: 갠트리 211: 제 1 갠트리
212: 제 2 갠트리 220: 토출 헤드
221: 제 1 토출 헤드 222: 제 2 토출 헤드
223: 중심선 224: 제 1 회전 각도
225: 제 2 회전 각도10: substrate processing apparatus S: substrate
100: substrate support unit 200: liquid discharge unit
210: gantry 211: first gantry
212: second gantry 220: discharge head
221: first discharge head 222: second discharge head
223: center line 224: first rotation angle
225: second rotation angle

Claims (16)

베이스;
상기 베이스에 설치되고, 기판이 놓여지는 기판 지지 유닛;
상기 기판 지지 유닛에 놓인 기판 상에 액을 토출하는 액 토출 유닛;을 포함하되,
상기 액 토출 유닛은,
제 1 열 상에 위치되어 액을 토출하는 제 1 토출 헤드;
상기 제 1 열과 상이하고, 상부에서 바라볼 때 상기 제 1 열과 평행한 제 2 열 상에 위치되어 액을 토출하는 제 2 토출 헤드;
상기 제 1 토출 헤드가 결합된 제 1 갠트리; 및
상기 제 2 토출 헤드가 결합된 상기 제 1 갠트리와 상이한 제 2 갠트리를 포함하되,
상기 제 1 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 1 토출구가 형성되고,
상기 제 2 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 2 토출구가 형성되며,
상기 제 1 토출구 및 상기 제 2 토출구는 각각 복수개가 직선으로 배열되고,
상기 제 1 토출 헤드는, 상기 제 1 열 및 상기 제 2 열의 사이를 지나는 중심선을 기준으로 상기 제 1 토출구가 배열된 방향이 양의 제 1 회전 각도로 경사지도록 제공되고,
상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선을 기준으로 상기 제 2 토출구가 배열된 방향이 음의 제 2 회전 각도로 경사지도록 제공되는 기판 처리 장치.Base;
a substrate support unit installed on the base and on which a substrate is placed;
a liquid discharge unit discharging a liquid onto the substrate placed on the substrate support unit;
The liquid discharging unit,
a first ejection head positioned on the first row to eject a liquid;
a second ejection head different from the first column and positioned on a second column parallel to the first column when viewed from above to eject a liquid;
a first gantry to which the first discharge head is coupled; and
and a second gantry different from the first gantry to which the second discharge head is coupled,
A first discharge port through which the liquid is discharged is formed in the first discharge head;
A second discharge port through which the liquid is discharged is formed in the second discharge head,
A plurality of the first outlet and the second outlet are each arranged in a straight line,
The first discharge head is provided such that a direction in which the first discharge ports are arranged is inclined at a positive first rotation angle with respect to a center line passing between the first row and the second row,
The second discharge head may be provided such that a direction in which the second discharge ports are arranged is inclined at a second negative rotation angle with respect to the center line. 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 1 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공되고,
상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 2 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공되는 기판 처리 장치.The method of claim 1,
The first discharge head is provided rotatably about an axis perpendicular to the center line and a direction in which the first discharge ports are arranged,
and the second discharge head is provided to be rotatable about an axis perpendicular to a direction in which the center line and the second discharge port are arranged. 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 토출 헤드는, 복수개가 제공되는 기판 처리 장치.The method of claim 1,
A plurality of the first discharge heads are provided in the substrate processing apparatus. 제 3 항에 있어서,
상기 제 1 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되고,
상기 제 2 토출 헤드는, 서로 인접하는 2개의 상기 제 1 토출 헤드 간의 사이와 대향되게 제공되는 기판 처리 장치.4. The method of claim 3,
The first discharge heads are arranged to be spaced apart from each other at regular intervals,
The second discharge head is provided to face between the two first discharge heads adjacent to each other. 제 3 항에 있어서,
상기 제 2 토출 헤드는, 복수개가 제공되는 기판 처리 장치.4. The method of claim 3,
A plurality of the second discharge heads are provided in the substrate processing apparatus. 제 5 항에 있어서,
상기 제 1 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되고,
상기 제 2 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되며,
상기 제 1 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 2 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열되고,
상기 제 2 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 1 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열되는 기판 처리 장치.6. The method of claim 5,
The first discharge heads are arranged to be spaced apart from each other at regular intervals,
The second discharge heads are arranged to be spaced apart from each other at regular intervals,
The first discharge heads are arranged to face each other between the two second discharge heads adjacent to each other,
The second discharge heads are arranged to face each other between two first discharge heads adjacent to each other. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 하나에 있어서,
상기 제 1 회전 각도 및 상기 제 2 회전 각도는, 그 크기가 서로 동일한 기판 처리 장치.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The first rotation angle and the second rotation angle have the same size as each other. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 갠트리의 상기 제 1 토출 헤드가 결합된 면 및 상기 제 2 갠트리의 상기 제 2 토출 헤드가 결합된 면은 서로 마주 보도록 제공된 기판 처리 장치.The method of claim 1,
A surface to which the first discharge head of the first gantry is coupled and a surface to which the second discharge head of the second gantry is coupled face each other. 기판 상에 액을 토출하는 액 토출 유닛에 있어서,
제 1 열 상에 위치되어 액을 토출하는 제 1 토출 헤드;
상기 제 1 열과 상이하고, 상부에서 바라볼 때 상기 제 1 열과 평행한 제 2 열 상에 위치되어 액을 토출하는 제 2 토출 헤드;
상기 제 1 토출 헤드가 결합된 제 1 갠트리; 및
상기 제 2 토출 헤드가 결합된 상기 제 1 갠트리와 상이한 제 2 갠트리를 포함하되,
상기 제 1 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 1 토출구가 형성되고,
상기 제 2 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 2 토출구가 형성되며,
상기 제 1 토출구 및 상기 제 2 토출구는 각각 복수개가 직선으로 배열되고,
상기 제 1 토출 헤드는, 상기 제 1 열 및 상기 제 2 열의 사이를 지나는 중심선을 기준으로 상기 제 1 토출구가 배열된 방향이 양의 제 1 회전 각도로 경사지도록 제공되고,
상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선을 기준으로 상기 제 2 토출구가 배열된 방향이 음의 제 2 회전 각도로 경사지도록 제공되는 액 토출 유닛.A liquid discharge unit for discharging a liquid onto a substrate, the liquid discharge unit comprising:
a first ejection head positioned on the first row to eject a liquid;
a second ejection head different from the first column and positioned on a second column parallel to the first column when viewed from above to eject a liquid;
a first gantry to which the first discharge head is coupled; and
and a second gantry different from the first gantry to which the second discharge head is coupled,
A first discharge port through which the liquid is discharged is formed in the first discharge head;
A second discharge port through which the liquid is discharged is formed in the second discharge head,
A plurality of the first outlet and the second outlet are each arranged in a straight line,
The first discharge head is provided such that a direction in which the first discharge ports are arranged is inclined at a positive first rotation angle with respect to a center line passing between the first row and the second row,
The second discharge head may be provided such that a direction in which the second discharge ports are arranged is inclined at a second negative rotation angle with respect to the center line. 제 10 항에 있어서,
상기 제 1 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 1 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공되고,
상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 2 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공되는 액 토출 유닛.11. The method of claim 10,
The first discharge head is provided rotatably about an axis perpendicular to the center line and a direction in which the first discharge ports are arranged,
and the second discharge head is provided to be rotatable about an axis perpendicular to a direction in which the center line and the second discharge port are arranged. 제 10 항에 있어서,
상기 제 1 토출 헤드는, 복수개가 제공되는 액 토출 유닛.11. The method of claim 10,
The first discharge head may include a plurality of liquid discharge units. 제 12 항에 있어서,
상기 제 1 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되고,
상기 제 2 토출 헤드는, 서로 인접하는 2개의 상기 제 1 토출 헤드 간의 사이와 대향되게 제공되는 액 토출 유닛.13. The method of claim 12,
The first discharge heads are arranged to be spaced apart from each other at regular intervals,
and the second discharge head is provided to face between the two first discharge heads adjacent to each other. 제 12 항에 있어서,
상기 제 2 토출 헤드는, 복수개가 제공되는 액 토출 유닛.13. The method of claim 12,
The second discharge head is a liquid discharge unit provided in plurality. 제 14 항에 있어서,
상기 제 1 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되고,
상기 제 2 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되며,
상기 제 1 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 2 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열되고,
상기 제 2 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 1 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열되는 액 토출 유닛.15. The method of claim 14,
The first discharge heads are arranged to be spaced apart from each other at regular intervals,
The second discharge heads are arranged to be spaced apart from each other at regular intervals,
The first discharge heads are arranged to face each other between the two second discharge heads adjacent to each other,
and the second discharge heads are arranged to face each other between two first discharge heads adjacent to each other. 제 10 항 내지 제 15 항 중 어느 하나에 있어서,
상기 제 1 회전 각도 및 상기 제 2 회전 각도는, 그 크기가 서로 동일한 액 토출 유닛.
16. The method according to any one of claims 10 to 15,
The first rotation angle and the second rotation angle have the same size.
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