KR102295448B1 - System for removing photoresist having polyimide and recycling filter and method performing thereof - Google Patents

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Abstract

폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하는 복수의 메쉬 필터, 상기 복수의 메쉬 필터에서 배출된 제1 필터링 현상폐액이 저장되는 버퍼 탱크, 상기 버퍼 탱크에서 유입된 상기 제1 필터링 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하는 재생 필터, 상기 재생 필터에서 배출된 제2 필터링 현상폐액이 저장되는 공급 탱크, 상기 공급 탱크에서 유입된 상기 제2 필터링 현상폐액에서 이물질(Particle)을 필터링하여 배출하는 케미칼 필터 및 상기 복수의 메쉬 필터 중 제1 메쉬 필터 및 상기 재생 필터 중 어느 하나의 재생 필터 각각으로 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 제1 필터링 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었는지 여부 및 상기 제2 필터링 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거되었는지 여부를 판단하고, 상기 판단 결과에 따라 상기 이상이 발생한 메쉬 필터에 역세 방향으로 세정액을 투입하여 해당 필터를 재생하는 제어 장치를 포함한다.A photoresist removal and regeneration system including polyimide includes a plurality of mesh filters for discharging a first filtering developer solution by filtering polyimide from a developer solution, and a buffer tank in which the first filtering developer solution discharged from the plurality of mesh filters is stored. , a regeneration filter for discharging a second filtered developer solution by filtering the photoresist from the first filtering developer solution introduced from the buffer tank, a supply tank for storing the second filtering developer solution discharged from the regeneration filter, and the supply tank A chemical filter for filtering and discharging foreign substances from the second filtering developer solution introduced in the and determining whether the polyimide is removed from the first filtering developer solution and whether the photoresist is removed from the second filtering developer solution based on the information on the discharged developer solution, and the abnormality is determined according to the determination result. and a control device for regenerating the filter by injecting a cleaning solution into the generated mesh filter in a backwashing direction.

Figure R1020190094689
Figure R1020190094689

Description

폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템과 이를 실행하는 방법{SYSTEM FOR REMOVING PHOTORESIST HAVING POLYIMIDE AND RECYCLING FILTER AND METHOD PERFORMING THEREOF}SYSTEM FOR REMOVING PHOTORESIST HAVING POLYIMIDE AND RECYCLING FILTER AND METHOD PERFORMING THEREOF

본 발명은 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템과 이를 실행하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a photoresist removal and regeneration system comprising polyimide and a method for implementing the same.

오늘날과 같은 정보화 사회에 있어서 전자 디스플레이 장치(electronic display device)의 역할은 갈수록 중요해지며, 각종 전자 디스플레이 장치가 다양한 산업 분야에 광범위하게 사용되고 있다. 이러한 전자 디스플레이 분야는 발전 을 거듭하여 다양화하는 정보화 사회의 요구에 적합한 새로운 기능의 전자 디스플레이 장치로 지속적으로 개발되고 있다.In today's information society, the role of an electronic display device becomes increasingly important, and various electronic display devices are widely used in various industrial fields. The electronic display field is continuously being developed as an electronic display device with a new function suitable for the needs of a diversifying information society through continuous development.

일반적으로 전자 디스플레이 장치란 다양한 정보를 시각을 통하여 인간에게 전달하는 장치를 말한다. 즉, 각종 전자 기기로부터 출력되는 전기적 정보 신호를 인간의 시각으로 인식 가능한 광 정보 신호로 변환하는 전자 장치라고 정의 될 수 있으며, 인간과 전자기기를 연결하는 가교적인 역할을 담당하는 장치로 정의될 수도 있다.In general, an electronic display device refers to a device that transmits various information to a human through vision. That is, it can be defined as an electronic device that converts electrical information signals output from various electronic devices into optical information signals that can be recognized by human eyes, and can also be defined as a device that plays a bridging role connecting humans and electronic devices. have.

이러한 전자 디스플레이 장치는 광 정보 신호가 발광 현상에 의해 표시되는 경우에는 발광형 표시(emissive display) 장치로 불려지며, 반사, 산란, 간섭 현상 등에 의하여 광 변조로 표시되는 경우에는 수광형 표시(non-emissive displ ay) 장치로 일컬어진다.Such an electronic display device is called an emissive display device when an optical information signal is displayed by a light emitting phenomenon, and a non-emissive display device when an optical information signal is displayed by light modulation by a reflection, scattering, interference phenomenon, etc. It is called an emissive displ ay) device.

능동형 표시 장치라고도 불리는 상기 발광형 표시 장치로는 음극선관(cathode ray tube; CR T), 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel; PDP), 발광 다이오드(light emitting diode; LED) 및 일렉트로 루미네슨트 디스플레이(electroluminescent display; ELD) 등을 들 수 있다. 또한, 수동형 표시 장치인 상기 수광형 표시 장치에는 액정표시장치(liquid crystal display; LCD) (electrochemical display; ECD) 및 전기 영동 표시 장치 (electrophoretic image display; EPID) 등이 해당된다.The light emitting display device, also called an active display device, includes a cathode ray tube (CR T), a plasma display panel (PDP), a light emitting diode (LED), and an electroluminescent display (CRT). electroluminescent display (ELD); In addition, the light-receiving display device, which is a passive display device, includes a liquid crystal display (LCD) (electrochemical display; ECD), an electrophoretic image display (EPID), and the like.

텔레비전이나 컴퓨터용 모니터 등과 같은 화상 표시 장치에 사용되는 가장 오랜 역사를 갖는 디스플레이 장치인 음극 선관(CRT)은 표시 품질 및 경제성 등의 면에서 가장 높은 점유율을 차지하고 있으나, 무거운 중량, 큰 용적 및 높은 소비 전력 등과 같은 많은 단점을 가지고 있다.Cathode ray tube (CRT), which is a display device with the longest history used in image display devices such as televisions and computer monitors, occupies the highest share in terms of display quality and economic feasibility, but has the highest share in terms of display quality and economy, but has a heavy weight, large capacity, and high consumption. It has many disadvantages such as power.

그러나, 반도체 기술의 급속한 진보에 의하여 각종 전자 장치의 고체화, 저 전압 및 저 전력화와 함께 전자 기기의 소형화 및 경량화에 따라 새로운 환경에 적합한 전자 디스플레이 장치가 필요하게 되었다. 즉 얇고 가벼우면서도 낮은 구동 전압 및 낮은 소비 전력의 특징을 갖춘 평판 패널(flat panel)형 디스플레이 장치에 대한 요구가 급격히 증대하고 있는 것이다.However, due to the rapid progress of semiconductor technology, an electronic display device suitable for a new environment is needed according to the reduction in size and weight of electronic devices along with solidification, low voltage, and low power of various electronic devices. That is, the demand for a flat panel type display device that is thin and light and has low driving voltage and low power consumption is rapidly increasing.

현재 개발된 여러 가지 평판 디스플레이 장치 가운데 액정표시장치는 다른 디스플레이 장치에 비하여 얇고 가벼우며, 낮은 소비 전력 및 낮은 구동 전압을 갖추고 있는 동시에 음극선관에 가까운 화상 표시가 가능하기 때문에 다양한 전 자 장치에 광범위하게 사용되고 있다. 또한, 액정표시장치는 제조가 용이하기 때문에 더욱 그 적용 범위를 확장해가고 있다.Among the various flat panel display devices currently developed, the liquid crystal display is thinner and lighter than other display devices, has low power consumption and low driving voltage, and at the same time can display an image close to that of a cathode ray tube, so it is widely used in various electronic devices. is being used In addition, since the liquid crystal display device is easy to manufacture, its application range is further expanded.

이러한 액정표시장치의 제조에 있어서는 글래스의 대형화, 패널의 고정세화 추세에 따라 글래스 조건과 부합된 관련 공정의 조건에 적합한 포토레지스트 조성물이 적용되고 있다.In the manufacture of such a liquid crystal display device, a photoresist composition suitable for the conditions of a related process matching the conditions of the glass is applied according to the trend of increasing the size of the glass and the high resolution of the panel.

특히, 미세 회로의 제조 공정 중에서 포토리소그래피(photolithography) 공정은 라인 생산량을 결정하는 중요한 공정으로서, 포토레지스트막의 감도 특성, 현상 콘트라스트, 해상도, 기판과의 접착력, 잔막 특성 등이 후속되는 식각 공정에 의해 제조되는 미세 회로의 품질이 직접적인 영향을 미치게 된다. In particular, among the manufacturing processes of microcircuits, the photolithography process is an important process that determines the line production. The sensitivity characteristics of the photoresist film, the developing contrast, the resolution, the adhesion to the substrate, the remaining film characteristics, etc. are followed by the etching process. The quality of the manufactured microcircuit has a direct impact.

따라서, 현상폐액에 포함된 포토레지스트(photoresist)를 여과시켜 현상폐액을 재생시키는 시스템이 요구된다.Therefore, there is a need for a system for regenerating the developer by filtering the photoresist contained in the developer.

본 발명은 복수의 필터 중 어느 하나의 필터를 메인 필터로 설정하고 나머지 필터를 대기 필터로 설정함으로써 메인 필터에 이상이 발생 시 나머지 필터 중 어느 하나의 필터를 메인 필터로 설정하여 현상폐액의 알칼리 농도를 낮추는 요소를 효율적으로 필터링할 수 있도록 하는 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템과 이를 실행하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention sets any one of the plurality of filters as the main filter and sets the remaining filters as the standby filter, so that when an abnormality occurs in the main filter, any one of the remaining filters is set as the main filter, so that the alkali concentration of the developing solution An object of the present invention is to provide a system for removing and regenerating a photoresist including a polyimide that enables efficient filtering of elements lowering the fluorescence and a method for implementing the same.

또한, 본 발명은 메인 필터로 설정된 필터에 압력 차이가 발생 시 자동으로 감지하여 대기 상태로 설정된 필터를 메인 필터로 설정한 후 재생 공정이 자동 전환되게 하여 전체 시스템 공정 진행을 중단하지 않고 현상폐액 재생공정을 수행할 수 있는 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템과 이를 실행하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, the present invention automatically detects a pressure difference in the filter set as the main filter, sets the filter set to the standby state as the main filter, and then automatically switches the regeneration process to regenerate the developer without stopping the entire system process An object of the present invention is to provide a system for removing and regenerating a photoresist including a polyimide capable of performing the process and a method for implementing the same.

또한, 본 발명은 현상액 재생 시스템으로부터 필터를 분리하지 않고 시스템 내에서 역세를 포함한 즉석세정(CIP:Cleaning In Place)이 가능하게 하여, 현상액 재생 시스템 내의 일부 필터에서는 현상액을 재생하고, 이와 동시에 현상액 재생 시스템 내의 다른 필터에서는 역세를 포함한 즉석세정(CIP)을 함으로써, 현 상액 재생 공정의 효율을 높일 수 있는 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템과 이를 실행하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, the present invention enables instant cleaning (CIP:Cleaning In Place), including backwashing, in the system without removing the filter from the developer regeneration system. Another object of the present invention is to provide a photoresist removal and regeneration system including polyimide that can increase the efficiency of the developer regeneration process by performing instant cleaning (CIP) including backwashing in other filters in the system, and a method for implementing the same.

본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있고, 본 발명의 실시예에 의해 보다 분명하게 이해될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허 청구 범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 알 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects and advantages of the present invention not mentioned may be understood by the following description, and will be more clearly understood by the examples of the present invention. Moreover, it will be readily apparent that the objects and advantages of the present invention may be realized by the means and combinations thereof indicated in the claims.

이러한 목적을 달성하기 위한 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하는 복수의 메쉬 필터, 상기 복수의 메쉬 필터에서 배출된 제1 필터링 현상폐액이 저장되는 버퍼 탱크, 상기 버퍼 탱크에서 유입된 상기 제1 필터링 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하는 재생 필터, 상기 재생 필터에서 배출된 제2 필터링 현상폐액이 저장되는 공급 탱크, 상기 공급 탱크에서 유입된 상기 제2 필터링 현상폐액에서 이물질(Particle)을 필터링하여 배출하는 케미칼 필터 및 상기 복수의 메쉬 필터 중 제1 메쉬 필터 및 상기 재생 필터 중 어느 하나의 재생 필터 각각으로 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 제1 필터링 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었는지 여부 및 상기 제2 필터링 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거되었는지 여부를 판단하고, 상기 판단 결과에 따라 상기 이상이 발생한 메쉬 필터에 역세 방향으로 세정액을 투입하여 해당 필터를 재생하는 제어 장치를 포함한다.A photoresist removal and regeneration system including polyimide for achieving this purpose includes a plurality of mesh filters for discharging a first filtering developer solution by filtering polyimide from a developer solution, and a first filtering phenomenon discharged from the plurality of mesh filters. A buffer tank for storing waste liquid, a regeneration filter for filtering the photoresist from the first filtering developer liquid introduced from the buffer tank to discharge a second filtering developer liquid, and a second filtering developer liquid discharged from the regeneration filter is stored A supply tank, a chemical filter for filtering and discharging foreign substances from the second filtering and developing waste solution introduced from the supply tank, and a first mesh filter among the plurality of mesh filters and a regeneration filter of any one of the regeneration filters, respectively determining whether the polyimide has been removed from the first filtering developer solution and whether the photoresist has been removed from the second filtering developer solution based on the information on the incoming developer solution and the discharged developer solution, and and a control device for regenerating the filter by injecting a cleaning solution in the backwashing direction to the mesh filter having the abnormality according to the determination result.

또한, 이러한 목적을 달성하기 위한 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법은 회수 탱크에 저장된 현상폐액이 상기 복수의 메쉬 필터 중 제1 메쉬 필터에 유입되면, 상기 제1 메쉬 필터가 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하는 단계, 상기 제1 메쉬 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었는지 여부를 확인하고 버퍼 탱크에 저장할지 또는 다시 회수 탱크에 저장할지를 결정하는 단계, 상기 확인 결과에 따라 제 1 메쉬 필터에 이상이 발생할 경우 역세 방향으로 세정을 하고 제 2 메쉬 필터로 자동 전환되는 단계, 상기 버퍼 탱크에 저장된 제1 필터링 현상폐액이 상기 재생 필터재생에 유입되면, 상기 재생 필터가 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하는 단계, 상기 재생 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 제1 필터링 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거되었는지 여부를 확인하고 공급 탱크에 저장할지 또는 다시 버퍼 탱크에 저장할지를 결정하는 단계, 상기 제 2 필터링 현상폐액에서 제 3 필터링으로 상시 이물질을 제거하고 현상기 요청에 따라 공급하는 단계를 포함한다.In addition, in the method for removing and regenerating photoresist including polyimide for achieving this purpose, when the developer solution stored in the recovery tank flows into the first mesh filter among the plurality of mesh filters, the first mesh filter removes the polyimide from the developer solution. discharging the first filtering developer solution by filtering the mid; checking whether the polyimide is removed from the developer solution based on the information on the developer solution flowing into the first mesh filter and the information on the developer solution discharged Determining whether to store in the buffer tank or to be stored again in the recovery tank When the stored first filtering developer solution flows into the regeneration filter regeneration, the regeneration filter filters the photoresist from the developer liquid to discharge the second filtering developer liquid, information of the developer waste flowing into the regeneration filter and discharge determining whether the photoresist has been removed from the first filtering developer solution based on the information of the developer solution and determining whether to store it in a supply tank or a buffer tank again; and removing foreign substances at all times and supplying it according to the request of the developer.

전술한 바와 같은 본 발명에 의하면, 복수의 필터 중 어느 하나의 필터를 메인 필터로 설정하고 나머지 필터를 대기 필터로 설정함으로써 메인 필터에 이상이 발생 시 나머지 필터 중 어느 하나의 필터를 메인 필터로 설정하여 현상폐액의 알칼리 농도를 낮추는 요소를 효율적으로 필터링할 수 있다는 장점이 있다.According to the present invention as described above, when any one of the plurality of filters is set as the main filter and the remaining filters are set as the standby filter, any one of the remaining filters is set as the main filter when an error occurs in the main filter. This has the advantage of being able to efficiently filter out factors that lower the alkali concentration of the developing waste solution.

또한 본 발명에 의하면, 메인 필터로 설정된 필터에 압력 차이가 발생 시 자동으로 감지하여 대기 상태로 설정된 필터를 메인 필터로 설정한 후 재생 공정이 자동 전환되게 하여 전체 시스템 공정 진행을 중단하지 않고 현상폐액 재생 공정을 수행할 수 있다는 장점이 있다.In addition, according to the present invention, when a pressure difference occurs in the filter set as the main filter, it is automatically detected and the filter set to the standby state is set as the main filter, and then the regeneration process is automatically switched, so that the developing waste solution does not stop the entire system process. There is an advantage in that the regeneration process can be performed.

또한 본 발명에 의하면, 현상액 재생 시스템으로부터 필터를 분리하지 않고 시스템 내에서 역세를 포함한 즉석세정(CIP:Cleaning In Place)이 가능하게 하여, 현상액 재생 시스템 내의 일부 필터에서는 현상액을 재생하고, 이와 동시에 현상액 재생 시스템 내의 다른 필터에서는 역세를 포함한 즉석세정(CIP)을 함으로써, 현상액 재생 공정의 효율을 높일 수 있다는 장점이 있다.In addition, according to the present invention, instant cleaning (CIP:Cleaning In Place) including backwashing is possible in the system without removing the filter from the developer regeneration system, and some filters in the developer regeneration system regenerate the developer solution, and at the same time, the developer solution is regenerated. In other filters in the regeneration system, there is an advantage in that the efficiency of the developer regeneration process can be increased by performing instant cleaning (CIP) including backwashing.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템을 설명하기 위한 구성도이다.
도 2는 본 발명에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법의 일 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.
도 3은 본 발명에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법의 다른 일 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.
도 4은 본 발명에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법의 또 다른 일 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.1 is a configuration diagram for explaining a photoresist removal and regeneration system including polyimide according to an embodiment of the present invention.
2 is a flowchart for explaining an embodiment of a method for removing and regenerating a photoresist including a polyimide according to the present invention.
3 is a flowchart for explaining another embodiment of a method for removing and regenerating a photoresist including a polyimide according to the present invention.
4 is a flowchart for explaining another embodiment of a method for removing and regenerating a photoresist including a polyimide according to the present invention.

전술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 후술되며, 이에 따라 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 상세한 설명을 생략한다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 도면에서 동일한 참조부호는 동일 또는 유사한 구성요소를 가리키는 것으로 사용된다.The above-described objects, features and advantages will be described below in detail with reference to the accompanying drawings, and accordingly, those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to easily implement the technical idea of the present invention. In describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a known technology related to the present invention may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted. Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals are used to indicate the same or similar components.

본 명세서에서 사용된 용어 중 “회수 탱크”는 현상프로세스에 공급되는 현상액의 폐액을 집수하는 저장 용기이다.As used herein, the term “recovery tank” is a storage container that collects the waste solution of the developer supplied to the developing process.

본 명세서에서 사용된 용어 중 “버퍼 탱크”는 폴리이미드가 제거된 제 1필터링 현상폐액을 집수하는 저장 용기이다.As used herein, the term “buffer tank” is a storage container that collects the first filtering developer from which the polyimide has been removed.

본 명세서에서 사용된 용어 중 “공급 탱크”는 포토레지스트가 제거된 제 2필터링 현상폐액을 집수하는 저장 용기이다.As used herein, the term “supply tank” is a storage container that collects the second filtering developer solution from which the photoresist has been removed.

본 명세서에서 사용된 용어 중 “세정 탱크”는 신너, 초순수, 현상액 신액과 같은 세정액을 집수하는 저장 용기이다.As used herein, the term “cleaning tank” is a storage container that collects a cleaning solution such as thinner, ultrapure water, and new developer solution.

본 명세서에서 사용된 용어 중 “흡광도계”는 흡수되는 빛의 양은 그 물질의 농도에 따라 다른 원리인, 즉 빛이 액체를 투과할 때 흡수되는 빛의 세기를 측정하는 장치이다.Among the terms used herein, the term “absorber” is a device that measures the intensity of light absorbed when the amount of absorbed light is different according to the concentration of the material, that is, when light passes through a liquid.

본 명세서에서 사용된 용어 중 “복수의 메쉬 필터”는 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하는 두 개 이상의 메쉬 필터를 의미한다.As used herein, the term “a plurality of mesh filters” refers to two or more mesh filters for discharging the first filtering developer solution by filtering the polyimide from the developer solution.

본 명세서에서는 설명의 편의를 위해 복수의 메쉬 필터 중 제1 메쉬 필터만이 동작하며 제1 메쉬 필터의 이상이 발생 시 자동으로 다른 메쉬 필터가 동작된다.In the present specification, for convenience of description, only the first mesh filter of the plurality of mesh filters operates, and when an abnormality occurs in the first mesh filter, another mesh filter is automatically operated.

본 명세서에서 사용된 용어 중 “재생 필터”는 제1 필터링 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하는 두 개 이상의 재생 필터를 의미한다.As used herein, the term “regeneration filter” refers to two or more regeneration filters that filter the photoresist from the first filtering developer solution and discharge the second filtering developer solution.

본 명세서에서 사용된 용어 중 “케미칼 필터”는 제2 필터링 현상폐액에서 이물질(Particle)을 필터링하여 배출하는 필터를 의미한다.As used herein, the term “chemical filter” refers to a filter that filters and discharges particles from the second filtering developer.

본 명세서에서 사용된 용어 중 “제1 필터링 현상폐액”은 현상폐액에서 폴리이미드가 필터링된 후 배출되는 현상폐액을 의미한다.As used herein, the term “first filtering developer solution” refers to a developer solution discharged after polyimide is filtered from the developer solution.

본 명세서에서 사용된 용어 중 “제2 필터링 현상폐액”은 제1 필터링 현상폐액에서 포토레지스트가 필터링된 후 배출되는 현상폐액을 의미한다.본 명세서에서 사용된 용어 중 “폴리이미드가 포함된 포토레지스트”는 현상액의 알칼리 농도를 낮추는 요소이며, 가교제 성분으로 인하여 필터를 막히게 한다. 본 발명에서는 현상폐액 내에서 이를 제거한 재생액을 공급함으로써, 현상액의 사용량을 줄여 비용을 절감할 수 있다.As used herein, the term “second filtering developer solution” refers to a developer solution discharged after the photoresist is filtered in the first filtering developer solution. Among the terms used herein, “photoresist containing polyimide” ” is a factor that lowers the alkali concentration of the developer and clogs the filter due to the crosslinking agent component. In the present invention, it is possible to reduce the cost by reducing the amount of developer used by supplying the regenerated solution from which the developer has been removed.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템을 설명하기 위한 구성도이다.1 is a configuration diagram for explaining a photoresist removal and regeneration system including polyimide according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 회수 탱크(110), 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2), 세정 탱크(130), 버퍼 탱크(140), 재생 필터(150), 복수의 메쉬 필터 유입 압력 측정계(121_1, 121_2), 복수의 메쉬 필터 배출 압력 측정계(122_1, 122_2), 재생 필터 유입 압력 측정계(151), 재생 필터 배출 압력 측정계(152), 흡광도계(123, 153), 공급 탱크(160), 케미칼 필터(170) 및 제어 장치(180)를 포함한다. Referring to FIG. 1 , the photoresist removal and regeneration system including polyimide includes a recovery tank 110 , a plurality of mesh filters 120_1 and 120_2 , a cleaning tank 130 , a buffer tank 140 , and a regeneration filter 150 . , a plurality of mesh filter inlet pressure gauges (121_1, 121_2), a plurality of mesh filter outlet pressure gauges (122_1, 122_2), a regeneration filter inlet pressure gauge 151, a regeneration filter outlet pressure gauge 152, an absorbance meter 123, 153 ), a supply tank 160 , a chemical filter 170 , and a control device 180 .

회수 탱크(110)에 집수된 현상폐액은 펌프를 통해 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 중 제1 메쉬 필터(120_1)에 유입된다. The developing waste solution collected in the recovery tank 110 flows into the first mesh filter 120_1 among the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2 through a pump.

이러한 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각은 병렬로 구성되며, 이와 같은 이유는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 중 메인 장치로 설정된 제1 메쉬 필터(120_1)에 이상이 발생 시 자동으로 제2 메쉬 필터(120_2)가 메인 장치로 설정되고 이는 설비를 지속적으로 구동하기 위해서이다.Each of the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2 is configured in parallel, and for this reason, the first mesh filter 120_1 set as the main device among the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2 is automatically removed when an abnormality occurs. 2 The mesh filter 120_2 is set as the main device to continuously drive the equipment.

상기의 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각은 회수 탱크에서 유입된 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하고, 배출된 제1 필터링 현상폐액의 탁도를 흡광도계가 측정하여 설정된 탁도 설정 값 범위일 경우 버퍼 탱크(140)에 저장되고 아닐 경우 회수 탱크(110)에 다시 저장된다. Each of the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2 filters polyimide from the developer solution introduced from the recovery tank to discharge the first filtering developer solution, and the turbidity of the discharged first filtering developer solution is measured by an absorber and set If it is within the turbidity set value range, it is stored in the buffer tank 140 , and if not, it is stored again in the recovery tank 110 .

이때, 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각은 항상 동작하는 것이 아니라 제어 장치(180)의 제어에 따라 메인 장치로 설정된 제1 메쉬 필터(120_1)만이 동작하여 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출한다. At this time, each of the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2 does not always operate, but only the first mesh filter 120_1 set as the main device operates under the control of the control device 180 to filter the polyimide from the developer solution and 1 Discharge the filtering developer solution.

이를 위해, 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 중 제1 메쉬 필터(120_1)가 메인 장치로 동작할 때에는 제1 메쉬 필터(120_1)의 입구측 유로상에 형성된 현상폐액 유입 제어 밸브(V1)의 상태가 개방 상태로 변경되어 현상폐액이 제1 메쉬 필터(120_1)로 유입되며, 나머지 메쉬 필터(120_2)의 입구측 유로상에 형성된 현상폐액 유입 제어 밸브(V2)의 상태가 폐쇄 상태를 유지하여 현상폐액이 제2 메쉬 필터(120_2)에 유입되지 않도록 한다. To this end, when the first mesh filter 120_1 of the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2 operates as a main device, the developer waste inflow control valve V1 formed on the inlet flow path of the first mesh filter 120_1 is The state is changed to the open state, so that the developing solution flows into the first mesh filter 120_1, and the status of the developer inflow control valve V2 formed on the inlet flow path of the remaining mesh filter 120_2 is maintained in the closed state. Prevent the developer from flowing into the second mesh filter 120_2.

만일, 제1 메쉬 필터(120_1)에 이상이 발생 시 제어 장치(180)의 제어에 따라 제2 메쉬 필터(120_2)가 동작하여 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출한다.If an abnormality occurs in the first mesh filter 120_1 , the second mesh filter 120_2 operates under the control of the control device 180 to filter the polyimide from the developer solution to discharge the first filtering developer solution.

이때, 제1 메쉬 필터(120_1)의 입구측 유로상에 형성된 현상폐액 유입 제어 밸브(V1)의 상태가 개방 상태에서 폐쇄 상태로 변경되어 현상폐액이 제1 메쉬 필터(120_1)에 유입되지 않도록 하며, 제2 메쉬 필터(120_2)의 입구측 유로상에 형성된 현상폐액 유입 제어 밸브(V2)의 상태가 폐쇄 상태에서 개방 상태로 변경되어 현상폐액이 제2 메쉬 필터(120_2)에 유입되도록 한다.At this time, the state of the developer inflow control valve V1 formed on the inlet flow path of the first mesh filter 120_1 is changed from the open state to the closed state so that the developer does not flow into the first mesh filter 120_1. , the state of the developer inflow control valve V2 formed on the inlet flow path of the second mesh filter 120_2 is changed from the closed state to the open state to allow the developer to flow into the second mesh filter 120_2 .

그런 다음, 제1 메쉬 필터(120_1)에 세정액을 역세 방향으로 투입하여 제1 메쉬 필터(120_1)가 세척될 수 있도록 한다. 세정액은 신너, 초순수 및 현상액 신액을 포함한다.Then, the cleaning solution is injected into the first mesh filter 120_1 in the backwashing direction so that the first mesh filter 120_1 can be washed. The cleaning solution includes a thinner, ultrapure water, and a new developer solution.

이를 위해, 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각의 배출측에는 세정 탱크(130)의 세정액을 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2)의 유입측에 도입한 후 순환시키는 세정관을 구비한다. 세정액 탱크에는 초순수탱크로부터 초순수(DIW)가 유입되는 배관 및 밸브과, 신너탱크에서 신너(thinner)가 유입되는 배관 및 밸브와, 현상액 신액탱크로부터 현상액(Developer)이 유입되는 배관 및 밸브를 구비한다. To this end, a cleaning pipe for introducing the cleaning liquid of the cleaning tank 130 to the inflow side of the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2 and circulating it is provided on the discharge side of each of the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2 . The cleaning solution tank includes a pipe and a valve through which ultrapure water (DIW) is introduced from the ultrapure water tank, a pipe and a valve through which thinner is introduced from the thinner tank, and a pipe and a valve through which a developer (Developer) flows from the new developer tank.

재생 필터(150)는 버퍼 탱크(140)에서 유입된 제1 필터링 현상폐액을 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하고, 배출된 제2 필터링 현상폐액은 공급 탱크(160)에 저장된다. The regeneration filter 150 filters the first filtered developer solution introduced from the buffer tank 140 to discharge the second filtered developer solution, and the discharged second filtered developer solution is stored in the supply tank 160 .

이때, 재생 필터(150)는 항상 동작하는 것이 아니라 제어 장치(180)의 제어에 따라 동작하여 제1 필터링 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출한다. In this case, the regeneration filter 150 does not always operate, but operates under the control of the control device 180 to filter the photoresist from the first filtering developer solution to discharge the second filtering developer solution.

복수의 메쉬 필터 유입 압력 측정계(121_1, 121_2)는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각의 입구측에 설치되며, 회수 탱크(110)로부터 현상폐액의 유입 압력을 측정하여 제어 장치(180)에 제공한다. The plurality of mesh filter inlet pressure measuring instruments 121_1 and 121_2 are installed on the inlet side of each of the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2, and measure the inflow pressure of the developer from the recovery tank 110 to the control device 180. to provide.

복수의 메쉬 필터 배출 압력 측정계(122_1, 122_2)는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각의 출구측에 설치되며, 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각에서 배출되는 제1 필터링 현상폐액의 배출 압력을 측정하여 제어 장치(180)에 제공한다.The plurality of mesh filter discharge pressure gauges 122_1 and 122_2 are installed on the outlet side of each of the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2, and the first filtering developer discharged from each of the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2 is discharged. The pressure is measured and provided to the control device 180 .

재생 필터 유입 압력 측정계(151)는 재생 필터(150) 입구측에 설치되며, 제1 필터링 현상폐액의 유입 압력을 측정하여 제어 장치(180)에 제공한다. The regeneration filter inlet pressure measuring meter 151 is installed at the inlet side of the regeneration filter 150 , and measures the inlet pressure of the first filtering developer and provides it to the control device 180 .

재생 필터 배출 압력 측정계(152)는 재생 필터(150) 출구측에 설치되며, 재생 필터(150)에서 배출되는 제2 필터링 현상폐액의 배출 압력을 측정하여 제어 장치(180)에 제공한다.The regeneration filter discharge pressure gauge 152 is installed at the outlet side of the regeneration filter 150 , measures the discharge pressure of the second filtering developer discharged from the regeneration filter 150 , and provides it to the control device 180 .

메쉬 필터 흡광도계(123)는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 출구측에 설치되며, 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각에서 배출되는 제1 필터링 현상폐액의 탁도를 측정하여 제어 장치(180)에 제공한다. The mesh filter absorbance meter 123 is installed at the outlet side of the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2, and measures the turbidity of the first filtering developer discharged from each of the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2 to control device 180 ) is provided in

재생 필터 흡광도계(153)는 재생 필터(150) 출구측에 설치되며, 재생 필터(150)에서 배출되는 제2 필터링 현상폐액의 탁도를 측정하여 제어 장치(180)에 제공한다. The regeneration filter absorbance meter 153 is installed at the outlet side of the regeneration filter 150 , and measures the turbidity of the second filtering developer waste discharged from the regeneration filter 150 and provides it to the control device 180 .

공급 탱크(160)에는 재생 필터(150)에서 배출된 제2 필터링 현상폐액이 집수되며, 공급 탱크(160)에 집수된 제2 필터링 현상폐액은 케미칼 필터(170)를 통해 이물질(Particle)이 제거된다. 또한,케미칼 유입측과 배출측에 설치된 압력 측정계(171, 172)가 압력을 측정하여 제어 장치(180)에 제공한다.The supply tank 160 collects the second filtering developer solution discharged from the regeneration filter 150 , and the second filtering developer solution collected in the supply tank 160 is removed from foreign substances through the chemical filter 170 . do. In addition, the pressure gauges 171 and 172 installed on the chemical inlet side and the outlet side measure the pressure and provide it to the control device 180 .

제어 장치(180)는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 중 제1 메쉬 필터(120_1)로부터 유입된 제1 필터링 현상폐액을 이용하여 현상폐액에서 폴리이미드가 제거되었는지 여부를 확인한 후 확인 결과에 따라 제1 필터링 현상폐액을 버퍼 탱크(140) 또는 회수 탱크(110)에 저장되도록 제어한다.The control device 180 checks whether polyimide has been removed from the developer solution using the first filtering developer solution introduced from the first mesh filter 120_1 among the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2, and then according to the check result The first filtered developing waste solution is controlled to be stored in the buffer tank 140 or the recovery tank 110 .

일 실시예에서, 제어 장치(180)는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 중 제1 메쉬 필터(120_1)로부터 유입된 제1 필터링 현상폐액의 탁도 값이 설정 값 범위에 해당하면 제1 메쉬 필터(120_1)가 정상적으로 동작한다고 판단하며 제1 필터링 현상폐액을 버퍼 탱크(140)에 유입되도록 한다.In an embodiment, when the turbidity value of the first filtering developer introduced from the first mesh filter 120_1 among the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2 falls within the set value range, the control device 180 controls the first mesh filter It is determined that 120_1 operates normally, and the first filtering developer waste is introduced into the buffer tank 140 .

다른 일 실시예에서, 제어 장치(180)는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 중 제1 메쉬 필터(120_1)로부터 유입된 제1 필터링 현상폐액의 탁도 값이 설정 값 범위에 해당하지 않으면 제1 메쉬 필터(120_1)가 정상적으로 동작하지 않는다고 판단하며 제1 필터링 현상폐액을 다시 회수 탱크(110)에 유입되도록 한다. In another embodiment, if the turbidity value of the first filtering developing solution introduced from the first mesh filter 120_1 among the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2 does not fall within the set value range, the control device 180 performs the first It is determined that the mesh filter 120_1 does not operate normally, and the first filtering developer waste is introduced into the recovery tank 110 again.

제어 장치(180)는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 중 제1 메쉬 필터(120_1)가 정상적으로 동작하지 않는 경우 역세 방향으로 세정액을 투입하여 제1 메쉬 필터(120_1)가 세정되도록 제어한다.When the first mesh filter 120_1 of the plurality of mesh filters 120_1 and 120_2 does not operate normally, the control device 180 controls the first mesh filter 120_1 to be cleaned by injecting a cleaning solution in the backwashing direction.

일 실시예에서, 제어 장치(180)는 제1 메쉬 필터 유입 압력 측정계(121_1)로부터 수신된 제1 메쉬 필터(120_1)의 유입 압력 및 제1 메쉬 필터 배출 압력 측정계(122_1)로부터 수신된 제1 메쉬 필터(120_1)의 배출 압력을 비교하여 압력 차이를 산출하고, 압력 차이가 설정 압력 이상이면 상기 제1 메쉬 필터(120_1)에 이상이 발생하였다고 판단하여 역세 방향으로 세정액을 투입하여 제1 메쉬 필터(120_1)가 세정되도록 제어한다. In an embodiment, the control device 180 controls the inlet pressure of the first mesh filter 120_1 received from the first mesh filter inlet pressure gauge 121_1 and the first mesh filter outlet pressure gauge 122_1 received from the first mesh filter outlet pressure gauge 122_1. The pressure difference is calculated by comparing the discharge pressure of the mesh filter 120_1, and if the pressure difference is equal to or greater than the set pressure, it is determined that an abnormality has occurred in the first mesh filter 120_1, and the cleaning solution is injected in the backwashing direction to the first mesh filter (120_1) is controlled to be cleaned.

다른 일 실시예에서, 제어 장치(180)는 제1 메쉬 필터 흡광도계(123_1)로부터 수신된 제1 필터링 현생폐액의 탁도가 제1 탁도 범위를 벗어나면, 제1 메쉬 필터(120_1)에 이상이 발생하였다고 판단하여 역세 방향으로 세정액을 투입하여 제1 메쉬 필터(120_1)가 세정되도록 제어한다. In another embodiment, if the turbidity of the first filtered current waste liquid received from the first mesh filter absorbance meter 123_1 is out of the first turbidity range, the control device 180 may detect an abnormality in the first mesh filter 120_1. It is determined that the first mesh filter 120_1 is cleaned by injecting a cleaning solution in the backwashing direction.

즉, 제1 메쉬 필터(120_1)는 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하기 때문에 제1 메쉬 필터(120_1)에 이상이 없다면 제1 필터링 현상폐액의 탁도는 제1 탁도 범위에 해당할 것이고, 제1 메쉬 필터(120_1)에 이상이 있다면 제1 필터링 현상폐액의 탁도는 제1 탁도 범위를 벗어날 것이다.That is, since the first mesh filter 120_1 filters the polyimide from the developer solution to discharge the first filtering developer solution, if there is no abnormality in the first mesh filter 120_1, the turbidity of the first filtering developer solution is within the first turbidity range. , and if there is an abnormality in the first mesh filter 120_1, the turbidity of the first filtering developer will be out of the first turbidity range.

상기에서, 제어 장치(180)는 제1 메쉬 필터(120_1)를 세정할 때 세정 탱크(130) 내 세정액으로 신너(Thinner)와 초순수(DIW), 현상액을 순차적으로 역세 방향으로 투입하여 제1 메쉬 필터(120_1)가 세정될 수 있도록 한다. In the above, when the control device 180 cleans the first mesh filter 120_1, thinner, ultrapure water (DIW), and a developer are sequentially introduced as a cleaning solution in the cleaning tank 130 in the backwash direction to the first mesh. It allows the filter 120_1 to be cleaned.

제어 장치(180)는 재생 필터(150)로부터 유입된 제2 필터링 현상폐액을 이용하여 현상폐액에서 포토레지스트가 제거되었는지 여부를 확인한 후 확인 결과에 따라 제2 필터링 현상폐액을 버퍼 탱크(140) 또는 공급 탱크(160)에 저장되도록 제어한다.The control device 180 checks whether or not the photoresist is removed from the developer using the second filtering developer solution introduced from the regeneration filter 150, and then transfers the second filtered developer solution to the buffer tank 140 or It is controlled to be stored in the supply tank 160 .

일 실시예에서, 제어 장치(180)는 재생 필터(150)로부터 유입된 제2 필터링 현상폐액의 탁도 값이 설정 값 범위에 해당하면 재생 필터(150)가 정상적으로 동작한다고 판단하며 제2 필터링 현상폐액을 공급 탱크(160)에 유입되도록 한다.In an embodiment, the control device 180 determines that the regeneration filter 150 operates normally when the turbidity value of the second filtering developer solution introduced from the regeneration filter 150 falls within the set value range, and the second filtering developer solution to be introduced into the supply tank 160 .

다른 일 실시예에서, 제어 장치(180)는 재생 필터(150)로부터 유입된 제2 필터링 현상폐액의 탁도 값이 설정 값 범위에 해당하지 않으면 재생 필터(150)가 정상적으로 동작하지 않는다고 판단하며 제2 필터링 현상폐액을 다시 버퍼 탱크(140)에 유입되도록 한다. In another embodiment, the control device 180 determines that the regeneration filter 150 does not operate normally if the turbidity value of the second filtering developer waste introduced from the regeneration filter 150 does not fall within the set value range, and The filtered developing solution is again introduced into the buffer tank 140 .

즉, 재생 필터(150)는 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하기 때문에 재생 필터(150)에 이상이 없다면 제2 필터링 현상폐액의 탁도는 제2 탁도 범위에 해당할 것이고, 재생 필터(150)에 이상이 있다면 제2 필터링 현상폐액의 탁도는 제2 탁도 범위를 벗어날 것이다.That is, since the regeneration filter 150 filters the photoresist from the developer solution and discharges the second filtering developer solution, if there is no abnormality in the regeneration filter 150, the turbidity of the second filtering developer solution will correspond to the second turbidity range , if there is an abnormality in the regeneration filter 150, the turbidity of the second filtering developer will be out of the second turbidity range.

제어 장치(180)는 공급 탱크(160)에 저장된 제2 필터링 현상폐액에서 케미칼 필터(170)를 통해 이물질(Particle)을 제거하고 현상기(200)로부터 공급 요청을 받을 경우 제어 밸브(V4)가 자동으로 유량을 조절할 수 있도록 제어한다.The control device 180 removes particles from the second filtering developer solution stored in the supply tank 160 through the chemical filter 170 , and when receiving a supply request from the developer 200 , the control valve V4 automatically activates to control the flow rate.

도 2는 본 발명에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법의 일 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.2 is a flowchart for explaining an embodiment of a method for removing and regenerating a photoresist including a polyimide according to the present invention.

도 2를 참조하면, 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 회수 및 버퍼 탱크의 수위를 확인하고 설정된 조건과의 일치 여부를 판단한다(단계 S210).Referring to FIG. 2 , the system for removing and regenerating a photoresist including polyimide checks the water level of the recovery and buffer tank, and determines whether it matches the set conditions (step S210).

폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 제1 메쉬 필터로 현상폐액을 이송하여 제 1 필터링을 진행한다(단계 S220). The photoresist removal and regeneration system including polyimide transfers the developer solution to the first mesh filter to perform the first filtering (step S220).

폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 제 1 필터링 현상폐액의 탁도를 측정하여(단계 S230) 설정된 값과 일치할 경우 버퍼 탱크로 제 1 필터링 현상폐액을 저장하고(단계 S240), 설정된 값과 일치하지 않을 경우 회수 탱크로 제 1 필터링 현상폐액을 다시 저장한다.(단계 S250)The photoresist removal and regeneration system including polyimide measures the turbidity of the first filtering developer solution (step S230) and stores the first filtering developer solution into a buffer tank if it matches the set value (step S240), and the set value and If they do not match, the first filtered developing waste solution is stored again in the recovery tank (step S250).

도 3은 본 발명에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법의 다른 일 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.3 is a flowchart for explaining another embodiment of a method for removing and regenerating a photoresist including a polyimide according to the present invention.

도 3을 참조하면, 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 현상폐액 제 1 필터링 진행 중 필터 압력 상승, 탁도 상승, 재생률 저하 등과 같은 문제 발생 여부를 판단하고(단계 S310), 문제 발생 시 제 1 메쉬 필터 작동은 정지한다(단계 S320). Referring to FIG. 3 , the photoresist removal and regeneration system including polyimide determines whether problems such as filter pressure increase, turbidity increase, and regeneration rate decrease occur during the first filtering of the developer waste (step S310), and when a problem occurs, 1 The mesh filter operation is stopped (step S320).

폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 제 1 메쉬 필터 작동이 정지된 후 설정된 시간이 지나면 제 2 메쉬 필터로 자동 전환되어 현상폐액 제 1 필터링이 다시 진행된다.(단계 S330) The photoresist removal and regeneration system including polyimide is automatically switched to the second mesh filter after a set time has elapsed after the operation of the first mesh filter is stopped, and the first filtering of the developer solution proceeds again (step S330).

폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 정지된 제 1 메쉬 필터에는 역세 방향으로 세정액을 투입하여 설정된 시간 동안 순차적으로 세정 작업이 이뤄진 후 작동 대기 상태로 전환된다(단계 S340).The system for removing and regenerating the photoresist including polyimide is converted to a standby state after cleaning is sequentially performed for a set time by injecting a cleaning solution in the backwashing direction to the stopped first mesh filter (step S340).

도 4는 본 발명에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법의 또 다른 일 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.4 is a flowchart for explaining another embodiment of a method for removing and regenerating a photoresist including a polyimide according to the present invention.

도 4을 참조하면, 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 버퍼 및 공급 탱크의 수위를 확인하고 설정된 조건과의 일치 여부를 판단한다(단계 S410). 그 후, 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 재생 필터로 현상폐액을 이송하여 제 2 필터링을 진행한다.(단계 S420) Referring to FIG. 4 , the photoresist removal and regeneration system including polyimide checks the water levels of the buffer and the supply tank and determines whether the conditions match the set conditions (step S410 ). After that, the photoresist removal and regeneration system including polyimide transfers the developer solution to the regeneration filter to perform the second filtering (step S420).

폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 제 2 필터링 현상폐액의 탁도를 측정하여(단계 S430) 설정된 값과 일치할 경우 공급 탱크로 제 2 필터링 현상폐액을 저장하고(단계 S440), 설정된 값과 일치하지 않을 경우 회수 탱크로 제 2 필터링 현상폐액을 다시 저장한다(단계 S450). The photoresist removal and regeneration system including polyimide measures the turbidity of the second filtering developer solution (step S430) and stores the second filtering developer solution into the supply tank when it matches the set value (step S440), and the set value and If they do not match, the second filtered developing waste solution is stored again in the recovery tank (step S450).

폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 제 2 필터링 현상폐액은 상시 이물질이 제거되면서 공급 탱크에 저장되고 현상기로부터 공급 요청을 받게 되면 공급한다.(단계 S460)In the photoresist removal and regeneration system including polyimide, the second filtering developer solution is always stored in a supply tank while foreign substances are removed, and is supplied when a supply request is received from the developer (step S460).

이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 이는 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명 사상은 아래에 기재된 특허청구범위에 의해서만 파악되어야 하고, 이의 균등 또는 등가적 변형 모두는 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.As described above, although the present invention has been described with reference to the limited examples and drawings, the present invention is not limited to the above examples, which are various modifications and Transformation is possible. Accordingly, the spirit of the present invention should be understood only by the claims set forth below, and all equivalents or equivalent modifications thereof will fall within the scope of the spirit of the present invention.

110: 회수 탱크
120_1, 120_2: 복수의 메쉬 필터
121_1, 121_2: 복수의 메쉬 필터 유입 압력 측정계
122_1, 122_2: 복수의 메쉬 필터 배출 압력 측정계
123: 메쉬 필터 흡광도계
130: 세정 탱크
140: 버퍼 탱크
150: 재생 필터
151: 재생 필터 유입 압력 측정계
152: 재생 필터 배출 압력 측정계
153: 재생 필터 흡광도계
160: 공급 탱크
170 : 케미칼 필터
171: 케미칼 필터 유입 압력 측정계
172: 케미칼 필터 배출 압력 측정계
180: 제어 장치
200 : 현상기
V1, V2, V3, V4: 복수의 현상폐액 유량 제어 밸브110: recovery tank
120_1, 120_2: Multiple mesh filters
121_1, 121_2: Multiple mesh filter inlet pressure gauge
122_1, 122_2: Multiple mesh filter outlet pressure gauges
123: mesh filter absorbance meter
130: cleaning tank
140: buffer tank
150: regeneration filter
151: regenerative filter inlet pressure gauge
152: regenerative filter outlet pressure gauge
153: regenerative filter absorbance meter
160: supply tank
170: chemical filter
171: chemical filter inlet pressure gauge
172: chemical filter outlet pressure gauge
180: control device
200: developer
V1, V2, V3, V4: a plurality of developer waste flow control valves

Claims (9)

현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하는 복수의 메쉬 필터;
상기 복수의 메쉬 필터에서 배출된 제1 필터링 현상폐액이 저장되는 버퍼 탱크;
상기 버퍼 탱크에서 유입된 상기 제1 필터링 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하는 재생 필터;
상기 재생 필터에서 배출된 제2 필터링 현상폐액이 저장되는 공급 탱크;
상기 공급 탱크에서 유입된 상기 제2 필터링 현상폐액에서 이물질을 필터링하여 배출하는 케미칼 필터;
상기 복수의 메쉬 필터 중 제1 메쉬 필터 및 상기 재생 필터 중 어느 하나의 재생 필터 각각으로 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 제1 필터링 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었는지 여부 및 상기 제2 필터링 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거되었는지 여부를 판단하고, 상기 판단 결과에 따라 상기 이상이 발생한 필터에 역세 방향으로 세정액을 투입하여 해당 필터를 재생하는 제어 장치;
상기 복수의 메쉬 필터의 입구측에 설치되어 상기 복수의 메쉬 필터에 유입되는 현상폐액의 압력을 측정하여 전송하는 제1 유입 압력 측정계;
상기 복수의 메쉬 필터의 출구측에 설치되어 상기 복수의 메쉬 필터에서 배출되는 상기 제1 필터링 현상폐액의 배출 압력을 측정하여 전송하는 제1 메쉬 필터 배출 압력 측정계;
상기 재생 필터 입구측에 설치되어 재생 필터에 유입되는 상기 제1 필터링 현상폐액의 압력을 측정하여 전송하는 재생 필터 유입 압력 측정계;
상기 재생 필터 출구측에 설치되어 재생 필터에서 배출되는 상기 제2 필터링 현상폐액의 배출 압력을 측정하여 전송하는 압력 측정계;
상기 케미칼 필터 입구측에 설치되어 케미칼 필터에 유입되는 상기 제2 필터링 현상폐액의 압력을 측정하여 전송하는 케미칼 필터 유입 압력 측정계; 및
상기 케미칼 필터 출구측에 설치되어 케미칼 필터에서 배출되는 상기 제2 필터링 현상폐액의 배출 압력을 측정하여 전송하는 케미칼 배출 압력 측정계를 포함하는 것을 특징으로 하는
폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템.
a plurality of mesh filters for filtering the polyimide from the developer solution to discharge the first filtering developer solution;
a buffer tank in which the first filtering developer waste discharged from the plurality of mesh filters is stored;
a regeneration filter configured to filter the photoresist from the first filtered developer solution introduced from the buffer tank to discharge a second filtered developer solution;
a supply tank in which the second filtering developer waste discharged from the regeneration filter is stored;
a chemical filter for filtering and discharging foreign substances from the second filtering and developing waste solution introduced from the supply tank;
The polyimide is removed from the first filtering developer based on the information on the developer liquid flowing into each of the first mesh filter and the regeneration filter of the plurality of mesh filters and the information on the developer waste discharged. a control device for determining whether the photoresist has been removed from the second filtering and developing solution, and regenerating the filter by injecting a cleaning solution into the filter having the abnormality according to the determination result;
a first inlet pressure measuring meter installed at the inlet side of the plurality of mesh filters to measure and transmit the pressure of the developing waste solution flowing into the plurality of mesh filters;
a first mesh filter discharge pressure measuring meter installed at the outlet side of the plurality of mesh filters to measure and transmit the discharge pressure of the first filtering developer discharged from the plurality of mesh filters;
a regeneration filter inlet pressure measuring meter installed at the inlet side of the regeneration filter to measure and transmit the pressure of the first filtering developer waste flowing into the regeneration filter;
a pressure measuring meter installed at the outlet side of the regeneration filter to measure and transmit the discharge pressure of the second filtering developer waste discharged from the regeneration filter;
a chemical filter inlet pressure measuring meter installed at the inlet side of the chemical filter to measure and transmit the pressure of the second filtering developing waste solution flowing into the chemical filter; and
and a chemical discharge pressure measuring meter installed at the outlet side of the chemical filter to measure and transmit the discharge pressure of the second filtering developing waste discharged from the chemical filter.
Photoresist removal and regeneration system including polyimide.
 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제어 장치는
상기 복수의 메쉬 필터 중 제1 메쉬 필터의 유입 압력 및 배출 압력과 상기 재생 필터 중 재생 필터의 유입 압력 및 배출 압력과 상기 케미칼 필터의 유입 압력 및 배출 압력을 수신하여 각각의 압력 차이를 산출하고, 상기 압력 차이에 따라 상기 제1 메쉬 필터 및 상기 재생 필터, 케미칼 필터 각각의 이상 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는
폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템.
According to claim 1,
the control device
Receive the inlet pressure and outlet pressure of the first mesh filter among the plurality of mesh filters, the inlet pressure and outlet pressure of the regeneration filter of the regeneration filter, and the inlet pressure and outlet pressure of the chemical filter, and calculate the respective pressure differences, Characterized in that it is determined whether each of the first mesh filter, the regeneration filter, and the chemical filter is abnormal according to the pressure difference
Photoresist removal and regeneration system including polyimide.
 제1항에 있어서,
상기 제어 장치는
상기 제1 메쉬 필터를 세정할 때 세정 탱크 내 세정액으로 신너(Thinner)와 초순수(DIW)와 현상액(Developer)을 순차적으로 역세 방향으로 투입하여 제1 메쉬 필터를 세정하고 자동으로 제2 메쉬 필터로 전환되는 것을 특징으로 하는
폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템.
According to claim 1,
the control device
When cleaning the first mesh filter, thinner, ultrapure water (DIW) and developer are sequentially introduced in the backwashing direction as the cleaning solution in the cleaning tank to clean the first mesh filter and automatically to the second mesh filter characterized by conversion
Photoresist removal and regeneration system including polyimide.
 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템에서 실행되는 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법에 있어서,
회수 탱크에 저장된 현상폐액이 복수의 메쉬 필터 중 제1 메쉬 필터에 유입되면, 제1 메쉬 필터가 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하는 단계;
상기 제1 메쉬 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었는지 여부를 확인하는 단계;
상기 확인 결과에 따라 상기 제1 필터링 현상폐액을 회수 탱크에 저장하거나 버퍼 탱크에 저장, 또는 상기 제1 메쉬 필터에 역세 방향으로 세정액을 투입하여 해당 필터를 세정 단계;
상기 버퍼 탱크에 저장된 제1 필터링 현상폐액이 재생 필터에 유입되면, 상기 재생 필터가 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하는 단계;
상기 재생 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 제1 필터링 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거되었는지 여부를 확인하는 단계;
상기 확인 결과에 따라 상기 제2 필터링 현상폐액을 버퍼 탱크에 저장하거나 공급 탱크에 저장하는 단계;
케미칼 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 공급 탱크에 저장된 제2 필터링 현상폐액에서 이물질이 제거되었는지 여부를 확인하는 단계를 포함하고,
상기 제1 메쉬 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었는지 여부를 확인하는 단계는
상기 제1 메쉬 필터에 유입되는 현상폐액의 유입 압력 및 상기 제1 메쉬 필터에서 배출되는 제1 필터링 현상폐액의 배출 압력을 수신하는 단계;
상기 유입 압력 및 배출 압력 사이의 압력 차이를 산출하는 단계;
상기 제1 메쉬 필터의 흡광도계로부터 탁도를 수신하고 산출하는 단계; 및
상기 압력 차이와 탁도에 따라 상기 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었다고 판단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는
폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법.
A method for removing and regenerating a photoresist comprising a polyimide, the method comprising polyimide being carried out in a system for removing and regenerating a photoresist comprising a polyimide, the method comprising:
when the developer solution stored in the recovery tank flows into the first mesh filter among the plurality of mesh filters, the first mesh filter filters the polyimide from the developer solution to discharge the first filtering developer solution;
checking whether the polyimide has been removed from the developer solution based on information on the developer solution flowing into the first mesh filter and the information on the developer solution discharged;
cleaning the filter by storing the first filtering developer waste in a recovery tank or in a buffer tank, or injecting a cleaning solution into the first mesh filter in a backwashing direction according to the check result;
when the first filtering developer solution stored in the buffer tank flows into the regeneration filter, the regeneration filter filters the photoresist from the developer solution to discharge the second filtering developer solution;
checking whether the photoresist has been removed from the first filtering developer based on the information on the developer liquid flowing into the regeneration filter and the information on the developer waste liquid discharged;
storing the second filtering developing waste solution in a buffer tank or in a supply tank according to the check result;
a step of confirming whether foreign substances have been removed from the second filtering developer solution stored in the supply tank based on the information on the developer liquid flowing into the chemical filter and the information on the developer waste liquid discharged;
The step of determining whether the polyimide has been removed from the developer solution based on the information on the developer solution flowing into the first mesh filter and the information on the developer waste solution being discharged may include:
receiving an inlet pressure of the developer solution flowing into the first mesh filter and a discharge pressure of the first filtering waste developer discharged from the first mesh filter;
calculating a pressure difference between the inlet pressure and the outlet pressure;
receiving and calculating turbidity from the absorbance meter of the first mesh filter; and
and determining that the polyimide has been removed from the developer solution according to the pressure difference and turbidity.
A method of removing and regenerating photoresist including polyimide.
 삭제delete 제5항에 있어서,
상기 재생 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 제1 필터링 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거되었는지 여부를 확인하는 단계는
상기 재생 필터에 유입되는 제1 필터링 현상폐액의 유입 압력 및 상기 재생 필터에서 배출되는 제2 필터링 현상폐액의 배출 압력을 수신하는 단계;
상기 유입 압력 및 배출 압력 사이의 압력 차이를 산출하는 단계;
상기 재생 필터 흡광도계로부터 탁도를 수신하고 산출하는 단계; 및
상기 압력 차이와 탁도에 따라 상기 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었다고 판단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는
폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법.
6. The method of claim 5,
The step of determining whether the photoresist is removed from the first filtering developer based on the information on the developer liquid flowing into the regeneration filter and the information on the developer waste liquid discharged may include:
receiving an inlet pressure of a first filtering developer solution flowing into the regeneration filter and a discharge pressure of a second filtering developer solution discharged from the regeneration filter;
calculating a pressure difference between the inlet pressure and the outlet pressure;
receiving and calculating turbidity from the regenerative filter absorbance meter; and
and determining that the polyimide has been removed from the developer solution according to the pressure difference and turbidity.
A method for removing and regenerating photoresist including polyimide.
 제5항에 있어서,
상기 확인 결과에 따라 상기 제1 필터링 현상폐액을 회수 탱크에 저장하거나 버퍼 탱크에 저장, 또는 상기 제1 메쉬 필터에 역세 방향으로 세정액을 투입하여 해당 필터를 세정하는 단계는
상기 제1 메쉬 필터를 세정할 때 세정 탱크 내 세정액으로 신너(Thinner)와 초순수(DIW)와 현상액(Developer)을 순차적으로 역세 방향으로 투입하여 제1 메쉬 필터를 세정하고 자동으로 제2 메쉬 필터로 전환되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는
폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법.
6. The method of claim 5,
According to the confirmation result, storing the first filtering developing waste solution in a recovery tank or storing it in a buffer tank, or injecting a washing solution into the first mesh filter in a backwashing direction to clean the filter
When cleaning the first mesh filter, thinner, ultrapure water (DIW) and developer are sequentially introduced in the backwashing direction as the cleaning solution in the cleaning tank to clean the first mesh filter and automatically to the second mesh filter characterized in that it comprises a step of converting
A method for removing and regenerating photoresist including polyimide.
 제 5항에 있어서,
상기 케미칼 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 공급 탱크에 저장된 상기 제2 필터링 현상폐액에서 상기 이물질이 제거되었는지 여부를 확인하는 단계는
상기 케미칼 필터에 유입되는 제2 필터링 현상폐액의 유입 압력 및 상기 케미칼 필터에서 배출되는 제2 필터링 현상폐액의 배출 압력을 수신하는 단계;
상기 유입 압력 및 배출 압력 사이의 압력 차이를 산출하는 단계;
상기 압력 차이에 따라 상기 현상폐액에서 상기 이물질이 제거되었다고 판단하고 현상기로부터 공급 요청을 받을 경우 제어 밸브가 자동으로 유량을 조절할 수 있는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는
폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법.6. The method of claim 5,
The step of determining whether the foreign material is removed from the second filtering developer solution stored in the supply tank based on the information on the developer liquid flowing into the chemical filter and the information on the developer waste liquid discharged
receiving an inlet pressure of the second filtering developer solution flowing into the chemical filter and a discharge pressure of the second filtering developer solution discharged from the chemical filter;
calculating a pressure difference between the inlet pressure and the outlet pressure;
and allowing the control valve to automatically adjust the flow rate when it is determined that the foreign material has been removed from the developer according to the pressure difference and a supply request is received from the developer.
A method for removing and regenerating photoresist including polyimide.
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