KR102273588B1 - Diagnostic apparatus for immunoassay - Google Patents

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Abstract

본 발명은 면역 분석 진단 장치에 관한 것으로, 슬릿부가 형성된 별도의 마스크를 배치하고, 마스크의 슬릿부를 전기적인 신호에 의해 형상 및 크기 조절할 수 있도록 함으로써, 실제 시료 스트립의 광 반사 복합체로부터 반사된 반사광 이외의 다른 반사광이 통과하지 않도록 할 수 있고, 이에 따라 반사광의 검출 정확도를 향상시켜 전체적인 진단 정확도를 향상시킬 수 있으며, 마스크의 슬릿부에 대한 형상 및 크기 조절과 함께 위치 조절을 가능하게 함으로써, 별도의 기계적인 구동부 없이도 슬릿부의 위치를 조절할 수 있어 검사광의 조사 위치를 편리하고 신속하게 변경할 수 있고, 이에 따라 제품 소형화 및 생산 단가 절감이 가능하며, 다양한 종류의 시료 스트립에 대해서도 하나의 기기를 통해 모두 적용할 수 있어 사용 범위가 확장되는 면역 분석 진단 장치를 제공한다.The present invention relates to an immunoassay diagnostic apparatus, by disposing a separate mask having a slit portion and allowing the shape and size of the slit portion of the mask to be adjusted by an electrical signal, so that the It is possible to prevent the other reflected light from passing through, thereby improving the detection accuracy of the reflected light to improve the overall diagnosis accuracy, and by enabling the position adjustment along with the shape and size adjustment of the slit part of the mask, separate The position of the slit can be adjusted without a mechanical drive, so the irradiation position of the inspection light can be changed conveniently and quickly. Accordingly, it is possible to miniaturize the product and reduce the production cost, and it is possible to apply all kinds of sample strips through one device. It provides an immunoassay diagnostic device that can be used to expand the scope of use.

Description

액정을 이용한 광학 스캔식 면역 분석 진단 장치{DIAGNOSTIC APPARATUS FOR IMMUNOASSAY}Optical scan type immunoassay diagnostic device using liquid crystal {DIAGNOSTIC APPARATUS FOR IMMUNOASSAY}

본 발명은 면역 분석 진단 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 슬릿부가 형성된 별도의 마스크를 배치하고, 마스크의 슬릿부를 전기적인 신호에 의해 형상 및 크기 조절할 수 있도록 함으로써, 실제 시료 스트립의 광 반사 복합체로부터 반사된 반사광 이외의 다른 반사광이 통과하지 않도록 할 수 있고, 이에 따라 반사광의 검출 정확도를 향상시켜 전체적인 진단 정확도를 향상시킬 수 있으며, 마스크의 슬릿부에 대한 형상 및 크기 조절과 함께 위치 조절을 가능하게 함으로써, 별도의 기계적인 구동부 없이도 슬릿부의 위치를 조절할 수 있어 검사광의 조사 위치를 편리하고 신속하게 변경할 수 있고, 이에 따라 제품 소형화 및 생산 단가 절감이 가능하며, 다양한 종류의 시료 스트립에 대해서도 하나의 기기를 통해 모두 적용할 수 있어 사용 범위가 확장되는 면역 분석 진단 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an immunoassay diagnostic device. More specifically, by disposing a separate mask having a slit portion and allowing the shape and size of the slit portion of the mask to be adjusted by an electrical signal, so that other reflected light other than the reflected light reflected from the light reflection composite of the actual sample strip does not pass through Accordingly, the overall diagnostic accuracy can be improved by improving the detection accuracy of the reflected light, and by enabling the position adjustment along with the shape and size adjustment of the slit part of the mask, the position of the slit part without a separate mechanical driving part can be adjusted so that the irradiation position of the inspection light can be changed conveniently and quickly, thereby reducing product size and production cost, and expanding the range of use as it can be applied to various types of sample strips through one device It relates to an immunoassay diagnostic device.

질병 진단에 사용되는 검사 방법은 주로 효소 반응에 의한 발색, 형광 등에 기반을 두고 있으나, 최근 항원과 항체 사이의 면역 반응을 이용한 면역검사(Immunoassay)를 이용하는 방법도 사용되고 있다. 이러한 면역검사 방법은 주로 항체에 방사성 동위 원소나 형광 물질 등으로 표지를 해서 항원의 유무를 판별하고, 방사선이나 형광 등의 세기에 의해 정량화할 수 있는 표지식 바이오센서(biosensor)를 이용한다.The test method used for disease diagnosis is mainly based on color development and fluorescence by enzymatic reaction, but recently, a method using an immunoassay using an immune reaction between an antigen and an antibody is also used. Such an immunoassay method mainly uses a labeled biosensor that can label an antibody with a radioactive isotope or a fluorescent substance to determine the presence or absence of an antigen, and quantify it by the intensity of radiation or fluorescence.

기존의 면역분석법은 항원이나 항체에 방사선 물질, 발광 물질 또는 형광 물질을 표지하여 얻어지는 신호를 측정하는 방법과, 효소의 촉매 반응에 광 표지를 결합한 엘리사(Enzyme Linked Immunosorbent Assay : ELISA), 웨스턴 블로팅(Western blotting) 등과 같은 광학적 측정 방법이 가장 많이 이용되었다. 이러한 방법들은 주로 실험실 위주의 숙련된 연구원에 의해 수행될 수 있는 복잡한 절차가 필요하고, 분석을 위한 장치가 고가의 대형 장치이며, 분석 시간이 오래 소요되는 단점이 있다.Conventional immunoassay methods include a method of measuring a signal obtained by labeling an antigen or antibody with a radioactive material, a luminescent material, or a fluorescent material, an Enzyme Linked Immunosorbent Assay (ELISA) that combines a light label with an enzyme catalytic reaction, and Western blotting. Optical measurement methods such as Western blotting have been used the most. These methods have disadvantages in that they require complicated procedures that can be mainly performed by skilled researchers mainly in laboratories, the apparatus for analysis is an expensive, large-scale apparatus, and the analysis time is long.

면역 센서의 목적 물질인 항체 등은 전혈(whole blood), 혈청(serum), 소변(urine) 등과 같은 생체시료에서 매우 낮은 농도로 존재하기 때문에, 면역 센서는 여타 물질을 검출하는 바이오센서 기술보다 센서의 검출 한도 면에서 훨씬 뛰어난 고감도의 신호화 기술을 갖추어야 한다. 또한, 항체나 단백항원 등과 단백질은 외부 환경의 변화에 의해 쉽게 구조가 변화되기 때문에, 항원이나 항체의 인식 부위가 변질하여 고유의 생체 인식 기능을 잃어버리기 쉽다. 고체 형태에서 분석을 해야하는 면역 센서의 여건상 이러한 생체물질들의 활성을 유지할 수 있는 생체 물질에 적합한 센서 표면의 제작, 검출 한계를 높일 수 있는 생체물질의 고정화 기술, 그리고 생체 인식반응을 정량화된 신호로 전환하는 측정 방법의 확보가 필요하다.Antibodies, which are the target substances of the immune sensor, exist in very low concentrations in biological samples such as whole blood, serum, and urine, so the immune sensor is more sensitive than biosensor technology that detects other substances. In terms of detection limit, it should have high-sensitivity signaling technology. In addition, since the structure of antibodies, protein antigens, and the like, is easily changed by changes in the external environment, the recognition site of the antigen or antibody is easily altered to lose its intrinsic biorecognition function. Under the circumstances of the immune sensor that needs to be analyzed in a solid form, a sensor surface suitable for a biomaterial that can maintain the activity of these biomaterials, a biomaterial immobilization technology that can increase the detection limit, and a biometric response as a quantified signal It is necessary to secure a measuring method that converts.

면역분석용 신속 진단 검사 키트(rapid diagnostic test kit for immunoassay)는 혈액, 소변, 타액 등과 같은 생체시료를 이용하여 진단검사가 가능한 현장검사(point-of-care)를 위한 검사 도구이다. 이러한 신속 진단 검사 키트의 예로서 임신 진단 키트, 에이즈 진단 키트 등이 있다.A rapid diagnostic test kit for immunoassay is a test tool for point-of-care in which a diagnostic test can be performed using a biological sample such as blood, urine, saliva, and the like. Examples of such rapid diagnostic test kits include a pregnancy diagnostic kit, an AIDS diagnostic kit, and the like.

이러한 진단 장치는 진단을 위해 소정의 생체물질(단백질 또는 DNA 등)을 검출할 수 있는 방법을 확립해야 한다. 종래의 생체물질의 검출 방법으로 유기 염료 등을 이용하는 형광 표지 방법이 알려져 있으나, 이는 형광을 검출할 수 있는 별도의 형광 검출 수단, 형광 물질 및 형광을 발생시키기 위한 별도의 광원 등 상대적으로 좀더 복잡한 구조를 갖는다. 이와 달리 단순히 생체 물질로부터 반사되는 반사광을 검출하는 방법 또한 널리 이용되고 있으며, 이는 상대적으로 구성이 단순하다는 장점이 있다.Such a diagnostic device must establish a method capable of detecting a predetermined biological material (protein or DNA, etc.) for diagnosis. A conventional fluorescent labeling method using an organic dye is known as a method for detecting a biological material, but it has a relatively more complex structure such as a separate fluorescence detection means capable of detecting fluorescence, a fluorescent material and a separate light source for generating fluorescence. has Contrary to this, a method of simply detecting reflected light reflected from a biological material is also widely used, which has the advantage of a relatively simple configuration.

이러한 면역 분석 진단 장치는 형광 방식이나 반사광 방식이나 동일한 작동 원리로 작동하며, 생체 시료를 모세관 현상을 통해 흡착 공급할 수 있는 시료 스트립을 이용한다. 시료 스트립에는 별도의 반응 물질이 각각 부착되는 복수개의 반응 영역이 각각 형성되며, 복수개의 반응 영역에서는 각각의 반응 물질이 특정 질환을 갖는 생체 시료와 결합하여 광 반사 복합체를 형성하는데, 이러한 광 반사 복합체는 빛을 받아 반사하게 된다. 시료 스트립을 장치 내에 삽입한 후, 광원으로부터 시료 스트립에 검사광을 조사하고, 시료 스트립의 반응 영역으로부터 반사되는 반사광을 광학계를 통해 검출함으로써, 생체 시료에 대한 특정 질환을 진단할 수 있다.The immunoassay diagnostic apparatus operates on the same operating principle as either a fluorescent method or a reflected light method, and uses a sample strip capable of adsorbing and supplying a biological sample through capillary action. A plurality of reaction regions to which a separate reaction material is attached are respectively formed on the sample strip, and in the plurality of reaction regions, each reaction material is combined with a biological sample having a specific disease to form a light reflection complex. receives light and reflects it. After the sample strip is inserted into the device, a test light is irradiated from a light source to the sample strip, and reflected light reflected from a reaction region of the sample strip is detected through an optical system, thereby diagnosing a specific disease of the biological sample.

이와 같은 방식으로 특정 질환을 진단하기 위해서는 시료 스트립으로부터 반사된 반사광을 정확하게 검출할 수 있어야 하고, 반사광 발생 영역이 어느 영역인지를 파악해야 한다. 반사광 발생 영역을 정확하게 파악하기 위해 일반적으로 시료 스트립이나 또는 광학계를 기계적으로 이동시켜 시료 스트립의 전체 영역을 스캔하는 방식이 이용되기도 하는데, 이 경우, 기계적 구동부가 필요하므로, 내구성 문제, 정밀도 제한 및 장치의 소형화 제한 등의 문제가 발생한다. 또한, 카메라를 이용하여 시료 스트립의 전체 영역을 2D 촬영하여 이를 분석하는 방식으로 광 반사 발생 영역의 위치를 정확하게 파악하는 방식이 이용되기도 하는데, 이 경우, 정확도는 향상되지만, 제조 비용이 증가하여 사용 범위가 제한되고 일반적으로 널리 사용되지 못한다는 문제가 있다.In order to diagnose a specific disease in this way, it is necessary to accurately detect the reflected light reflected from the sample strip, and to determine which area the reflected light is generated in. In order to accurately identify the reflected light generation area, a method of scanning the entire area of the sample strip by mechanically moving the sample strip or optical system is generally used. There are problems such as limiting the miniaturization of In addition, a method of accurately identifying the position of the light reflection generating area is used by taking a 2D image of the entire area of the sample strip using a camera and analyzing it. In this case, the accuracy is improved, but the manufacturing cost is increased. The problem is that the scope is limited and it is not generally widely used.

국내공개특허 제10-2017-0101822호Domestic Patent Publication No. 10-2017-0101822

본 발명은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 발명한 것으로서, 본 발명의 목적은 슬릿부가 형성된 별도의 마스크를 배치하고, 마스크의 슬릿부를 전기적인 신호에 의해 형상 및 크기 조절할 수 있도록 함으로써, 실제 시료 스트립의 광 반사 복합체로부터 반사된 반사광 이외의 다른 반사광이 통과하지 않도록 할 수 있고, 이에 따라 반사광의 검출 정확도를 향상시켜 전체적인 진단 정확도를 향상시킬 수 있는 면역 분석 진단 장치를 제공하는 것이다.The present invention was invented to solve the problems of the prior art, and an object of the present invention is to arrange a separate mask in which a slit part is formed, and to adjust the shape and size of the slit part of the mask by an electrical signal, so that the actual sample strip An object of the present invention is to provide an immunoassay diagnostic apparatus capable of preventing the passage of reflected light other than the reflected light from the light reflection complex, thereby improving the detection accuracy of the reflected light, thereby improving the overall diagnostic accuracy.

본 발명의 다른 목적은 마스크의 슬릿부에 대한 형상 및 크기 조절과 함께 위치 조절을 가능하게 함으로써, 전기적 신호에 의해 신속하고 다양하게 슬릿부의 형상, 크기 및 위치 조절이 가능하고, 별도의 기계적인 구동부 없이도 슬릿부의 위치를 조절할 수 있어 검사광의 조사 위치를 편리하고 신속하게 변경할 수 있고, 이에 따라 제품 소형화 및 생산 단가 절감이 가능하며, 다양한 종류의 시료 스트립에 대해서도 하나의 기기를 통해 모두 적용할 수 있어 사용 범위가 확장되는 면역 분석 진단 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to enable position control along with shape and size adjustment of the slit part of the mask, so that the shape, size and position of the slit part can be adjusted quickly and variously by an electrical signal, and a separate mechanical drive unit Since the position of the slit can be adjusted without the need for a slit, the irradiation position of the inspection light can be changed conveniently and quickly, thereby reducing product size and production cost, and can be applied to various types of sample strips through one device. An object of the present invention is to provide an immunoassay diagnostic device with an extended range of use.

본 발명의 또 다른 목적은 광원부에서 발생하는 검사광의 세기를 별도의 보조 수광 센서를 통해 모니터링하여 검사광의 세기를 일정하게 유지시킴으로써, 시료 스트립에서 반사되는 반사광의 세기 변화를 정확하게 인식할 수 있어 진단 정확도를 더욱 향상시킬 수 있는 면역 분석 진단 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to monitor the intensity of the inspection light generated from the light source unit through a separate auxiliary light receiving sensor to keep the intensity of the inspection light constant, so that the change in the intensity of the reflected light reflected from the sample strip can be accurately recognized, resulting in diagnostic accuracy To provide an immunoassay diagnostic device that can further improve the

본 발명은, 시료가 흡착 공급되도록 형성되며, 공급된 시료와 반응하여 광 반사 복합체를 형성하도록 별도의 반응 물질이 각각 도포되는 복수개의 반응 영역을 갖는 시료 스트립; 상기 시료 스트립에 검사광을 조사하는 광학 모듈; 상기 검사광의 조사에 의해 상기 시료 스트립의 광 반사 복합체로부터 반사되는 반사광을 수광 검출하는 메인 수광 센서; 상기 검사광 및 반사광을 차단하며, 일부 영역에 상기 검사광 및 반사광이 통과할 수 있는 슬릿부가 형성되고, 마스크 영역 내에서 상기 슬릿부의 형성 위치를 조절할 수 있도록 형성되는 마스크; 및 상기 슬릿부의 형성 위치가 조절되도록 상기 마스크를 동작 제어하는 마스크 제어부를 포함하고, 상기 마스크는 상기 마스크 제어부에 의해 동작 제어되어 상기 검사광이 상기 시료 스트립의 복수개의 반응 영역에 선택적으로 조사되도록 상기 슬릿부의 형성 위치가 조절되는 것을 특징으로 하는 면역 분석 진단 장치를 제공한다.The present invention provides a sample strip having a plurality of reaction regions formed so that a sample is adsorbed and supplied, and a separate reaction material is applied to each react with the supplied sample to form a light reflection complex; an optical module irradiating inspection light to the sample strip; a main light receiving sensor for receiving and detecting reflected light reflected from the light reflection complex of the sample strip by irradiation of the inspection light; a mask that blocks the inspection light and the reflected light, a slit portion through which the inspection light and the reflected light can pass is formed in a partial region, and a position of the slit portion can be adjusted in the mask region; and a mask controller for controlling the operation of the mask so that the position of the slit portion is adjusted, wherein the mask is controlled by the mask controller so that the inspection light is selectively irradiated to a plurality of reaction regions of the sample strip Provided is an immunoassay diagnostic apparatus characterized in that the formation position of the slit is controlled.

이때, 상기 마스크는 상기 슬릿부의 형상 및 크기를 조절할 수 있도록 형성되며, 상기 마스크 제어부는 상기 슬릿부를 통과하는 상기 반사광의 광량이 조절되도록 상기 슬릿부의 형상 또는 크기가 조절되게 상기 마스크를 동작 제어할 수 있다.In this case, the mask is formed to adjust the shape and size of the slit portion, and the mask control unit may control the operation of the mask so that the shape or size of the slit portion is adjusted so that the amount of reflected light passing through the slit portion is adjusted. have.

또한, 상기 마스크 제어부는 상기 마스크를 동작 제어하여 상기 시료 스트립의 광 반사 복합체로부터 반사된 반사광 이외의 반사광이 상기 슬릿부를 통과하지 못하도록 상기 슬릿부의 형상 또는 크기를 조절할 수 있다.In addition, the mask control unit may control the operation of the mask to adjust the shape or size of the slit to prevent reflected light other than reflected light from the light reflection complex of the sample strip from passing through the slit.

상기 마스크는, 상기 검사광 및 반사광이 통과하도록 투명한 재질로 형성되는 마스크 케이스; 및 상기 마스크 케이스의 내부 공간에 배치되며 전기적인 신호에 의해 배열 상태를 변화시켜 광을 통과시키거나 차단하도록 작동하는 액정을 포함하는 액정 모듈을 포함하고, 전기적 신호에 의한 상기 액정 모듈의 액정 배열 상태 조절을 통해 상기 슬릿부의 형성 및 상기 슬릿부의 형성 위치 조절이 가능함과 동시에 상기 슬릿부의 형상 및 크기 조절이 가능하도록 형성될 수 있다.The mask may include a mask case formed of a transparent material to allow the inspection light and reflected light to pass therethrough; and a liquid crystal module disposed in the inner space of the mask case and including a liquid crystal that operates to pass or block light by changing an arrangement state by an electric signal, wherein the liquid crystal arrangement state of the liquid crystal module by an electric signal It may be formed so that the formation of the slit portion and the position of the slit portion can be adjusted through adjustment, and the shape and size of the slit portion can be adjusted at the same time.

또한, 상기 시료 스트립의 종류에 따라 서로 다른 작동 모드를 선택할 수 있도록 사용자에 의해 선택 조작되는 모드 선택부가 구비되고, 상기 마스크 제어부는 상기 모드 선택부의 선택 신호를 인가받고, 선택된 작동 모드에 따라 상기 슬릿부의 형성 위치가 조절되도록 상기 마스크를 동작 제어함과 동시에 상기 슬릿부의 형상 또는 크기가 조절되도록 상기 마스크를 동작 제어할 수 있다.In addition, a mode selection unit selectively operated by a user to select different operation modes according to the type of the sample strip is provided, and the mask control unit receives a selection signal from the mode selection unit, and receives the selection signal from the mode selection unit to select the slit according to the selected operation mode. At the same time, the mask may be operated to control the shape or size of the slit portion while controlling the operation of the mask to adjust the formation position of the portion.

또한, 상기 모드 선택부에 의해 선택된 작동 모드에 따라 각각 설정된 상기 슬릿부의 기준 위치 정보를 저장하고, 상기 시료 스트립의 종류에 따라 상기 메인 수광 센서에서 검출되는 반사광의 광량 정보를 기초로 설정된 상기 슬릿부의 기준 형상 정보 및 기준 크기 정보를 저장하는 데이터 저장부가 구비되고, 상기 모드 선택부에 의해 작동 모드가 선택되면, 상기 마스크 제어부는 상기 데이터 저장부에 저장된 상기 슬릿부의 기준 위치 정보에 따라 상기 슬릿부의 형성 위치가 조절되도록 상기 마스크를 동작 제어함과 동시에 상기 데이터 저장부에 저장된 상기 슬릿부의 기준 형상 정보 및 기준 크기 정보에 따라 상기 슬릿부의 형상 또는 크기가 조절되도록 상기 마스크를 동작 제어할 수 있다.In addition, the reference position information of the slit unit each set according to the operation mode selected by the mode selection unit is stored, and the slit unit is set based on the light amount information of the reflected light detected by the main light receiving sensor according to the type of the sample strip. A data storage unit for storing reference shape information and reference size information is provided, and when an operation mode is selected by the mode selection unit, the mask control unit forms the slit portion according to the reference position information of the slit portion stored in the data storage unit The mask may be controlled so that the position is adjusted, and at the same time, the mask may be controlled so that the shape or size of the slit is adjusted according to the reference shape information and the reference size information of the slit stored in the data storage unit.

또한, 상기 광학 모듈은, 상기 검사광을 발생시키는 광원부; 및 상기 광원부에서 발생된 검사광이 통과하며 상기 시료 스트립의 광 반사 복합체로부터 반사된 반사광이 통과하도록 배치되는 렌즈 모듈을 포함하고, 상기 메인 수광 센서는 상기 시료 스트립의 광 반사 복합체로부터 반사된 반사광이 상기 렌즈 모듈을 통과한 이후 수광되도록 배치되고, 상기 마스크는 상기 렌즈 모듈과 상기 시료 스트립 사이 공간, 상기 렌즈 모듈과 상기 메인 수광 센서 사이 공간 및 상기 렌즈 모듈의 복수개 렌즈 사이 공간 중 어느 하나의 위치에 배치될 수 있다.In addition, the optical module may include: a light source for generating the inspection light; and a lens module disposed so that the inspection light generated by the light source passes through and reflected light reflected from the light reflection complex of the sample strip passes through, wherein the main light receiving sensor receives the reflected light reflected from the light reflection complex of the sample strip. It is arranged to receive light after passing through the lens module, and the mask is located at any one of a space between the lens module and the sample strip, a space between the lens module and the main light receiving sensor, and a space between a plurality of lenses of the lens module. can be placed.

또한, 상기 광학 모듈은, 상기 광원부에서 발생된 검사광을 일부 반사하여 상기 시료 스트립을 향해 진행시키는 다이크로익 필터; 및 상기 광원부에서 발생된 검사광 중 상기 다이크로익 필터에 의해 반사되지 않고 상기 다이크로익 필터를 통과한 일부 검사광을 수광 검출하는 보조 수광 센서를 더 포함하고, 상기 광원부는 상기 보조 수광 센서에 의해 검출된 검사광의 세기에 따라 상기 광원부에서 발생하는 검사광의 세기가 조절되도록 별도의 광원 제어부에 의해 동작 제어될 수 있다.In addition, the optical module may include a dichroic filter that partially reflects the inspection light generated from the light source and advances it toward the sample strip; and an auxiliary light receiving sensor configured to receive and detect a portion of the inspection light that has passed through the dichroic filter without being reflected by the dichroic filter among the inspection light generated by the light source, wherein the light source unit is connected to the auxiliary light receiving sensor. The operation may be controlled by a separate light source controller so that the intensity of the inspection light generated from the light source unit is adjusted according to the intensity of the inspection light detected by the light source.

한편, 본 발명은, 시료가 흡착 공급되도록 형성되며, 공급된 시료와 반응하여 광 반사 복합체를 형성하도록 별도의 반응 물질이 각각 도포되는 복수개의 반응 영역을 갖는 시료 스트립; 상기 시료 스트립에 검사광을 조사하는 광학 모듈; 상기 검사광의 조사에 의해 상기 시료 스트립의 광 반사 복합체로부터 반사되는 반사광을 수광 검출하는 메인 수광 센서; 빛을 차단하는 재질로 형성되며, 일부 영역에 빛이 통과할 수 있는 슬릿부가 형성되고, 마스크 영역 내에서 상기 슬릿부의 형성 위치를 조절할 수 있도록 형성되는 마스크; 및 상기 슬릿부의 형성 위치가 조절되도록 상기 마스크를 동작 제어하는 마스크 제어부를 포함하고, 상기 마스크는 상기 마스크 제어부에 의해 동작 제어되어 상기 시료 스트립의 복수개 반응 영역으로부터 반사되는 반사광이 선택적으로 상기 메인 수광 센서에 수광되도록 상기 슬릿부의 형성 위치가 조절되는 것을 특징으로 하는 면역 분석 진단 장치를 제공한다.On the other hand, the present invention, the sample strip is formed to be supplied by adsorption, the sample strip having a plurality of reaction regions to which a separate reaction material is applied to each react with the supplied sample to form a light reflection complex; an optical module irradiating inspection light to the sample strip; a main light receiving sensor for receiving and detecting reflected light reflected from the light reflection complex of the sample strip by irradiation of the inspection light; a mask formed of a material that blocks light, a slit through which light can pass is formed in a portion of the mask, and the position of the slit can be adjusted within the mask region; and a mask control unit for controlling the operation of the mask so that the formation position of the slit unit is adjusted, wherein the mask is operated by the mask control unit to selectively transmit reflected light reflected from a plurality of reaction regions of the sample strip to the main light receiving sensor Provided is an immunoassay diagnosis apparatus, characterized in that the formation position of the slit part is adjusted so as to receive light.

본 발명에 의하면, 슬릿부가 형성된 별도의 마스크를 배치하고, 마스크의 슬릿부를 전기적인 신호에 의해 형상 및 크기 조절할 수 있도록 함으로써, 실제 시료 스트립의 광 반사 복합체로부터 반사된 반사광 이외의 다른 반사광이 통과하지 않도록 할 수 있고, 이에 따라 반사광의 검출 정확도를 향상시켜 전체적인 진단 정확도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, by disposing a separate mask having a slit portion and allowing the shape and size of the slit portion of the mask to be adjusted by an electrical signal, other reflected light other than the reflected light reflected from the light reflection composite of the actual sample strip does not pass through. Accordingly, there is an effect of improving the overall diagnostic accuracy by improving the detection accuracy of the reflected light.

또한, 마스크의 슬릿부에 대한 형상 및 크기 조절과 함께 위치 조절을 가능하게 함으로써, 전기적 신호에 의해 신속하고 다양하게 슬릿부의 형상, 크기 및 위치 조절이 가능하고, 별도의 기계적인 구동부 없이도 슬릿부의 위치를 조절할 수 있어 검사광의 조사 위치를 편리하고 신속하게 변경할 수 있고, 이에 따라 제품 소형화 및 생산 단가 절감이 가능하며, 다양한 종류의 시료 스트립에 대해서도 하나의 기기를 통해 모두 적용할 수 있어 사용 범위가 확장되는 효과가 있다.In addition, by enabling the position control along with the shape and size adjustment of the slit part of the mask, the shape, size and position of the slit part can be adjusted quickly and variously by electrical signals, and the position of the slit part can be adjusted without a separate mechanical driving part. can be adjusted so that the irradiation position of the inspection light can be changed conveniently and quickly, thereby reducing product size and production cost, and expanding the range of use as it can be applied to various types of sample strips through one device has the effect of being

또한, 광원부에서 발생하는 검사광의 세기를 별도의 보조 수광 센서를 통해 모니터링하여 검사광의 세기를 일정하게 유지시킴으로써, 시료 스트립에서 반사되는 반사광의 세기 변화를 정확하게 인식할 수 있어 진단 정확도를 더욱 향상시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, by monitoring the intensity of the inspection light generated from the light source through a separate auxiliary light receiving sensor and maintaining the intensity of the inspection light constant, the change in the intensity of the reflected light reflected from the sample strip can be accurately recognized, thereby further improving the diagnosis accuracy. there is an effect

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치의 기본 구조를 개념적으로 도시한 개념도,
도 2는 도 1에 도시된 "A" 부분을 확대 도시한 도면,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치의 시료 스트립과 마스크의 크기 및 배치 상태를 개념적으로 도시한 도면,
도 4 및 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치의 마스크에 대한 슬릿부 위치 변경 상태를 예시적으로 도시한 도면,
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치의 마스크에 대한 슬릿부 크기 변경 상태를 예시적으로 도시한 도면,
도 7는 본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치의 구성을 기능적으로 도시한 기능 블록도,
도 8 및 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치의 광학 모듈에 대한 구성을 개념적으로 도시한 도면
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 배치 상태를 예시적으로 도시한 도면이다.
1 is a conceptual diagram conceptually illustrating a basic structure of an immunoassay diagnostic apparatus according to an embodiment of the present invention;
Figure 2 is an enlarged view of the part "A" shown in Figure 1,
3 is a view conceptually illustrating the size and arrangement of a sample strip and a mask of the immunoassay diagnostic apparatus according to an embodiment of the present invention;
4 and 5 are views exemplarily illustrating a state of changing a position of a slit with respect to a mask of an immunoassay diagnostic apparatus according to an embodiment of the present invention;
6 is a view exemplarily showing a change in the size of a slit for a mask of the immunoassay diagnostic apparatus according to an embodiment of the present invention;
7 is a functional block diagram functionally showing the configuration of an immunoassay diagnostic apparatus according to an embodiment of the present invention;
8 and 9 are diagrams conceptually illustrating the configuration of an optical module of an immunoassay diagnostic apparatus according to an embodiment of the present invention;
10 is a diagram illustrating an arrangement state of a mask according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same components are given the same reference numerals as much as possible even though they are indicated on different drawings. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치의 기본 구조를 개념적으로 도시한 개념도이고, 도 2는 도 1에 도시된 "A" 부분을 확대 도시한 도면이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치의 시료 스트립과 마스크의 크기 및 배치 상태를 개념적으로 도시한 도면이고, 도 4 및 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치의 마스크에 대한 슬릿부 위치 변경 상태를 예시적으로 도시한 도면이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치의 마스크에 대한 슬릿부 크기 변경 상태를 예시적으로 도시한 도면이고, 도 7는 본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치의 구성을 기능적으로 도시한 기능 블록도이다.1 is a conceptual diagram conceptually illustrating a basic structure of an immunoassay diagnostic apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged view of part "A" shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a view showing the present invention is a diagram conceptually illustrating the size and arrangement state of a sample strip and a mask of the immunoassay diagnosis apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 4 and 5 are views of the mask of the immunoassay diagnosis apparatus according to an embodiment of the present invention. It is a view exemplarily showing the state of changing the position of the slit, and FIG. 6 is a view exemplarily showing the state of changing the size of the slit with respect to the mask of the immunoassay diagnostic apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 7 is It is a functional block diagram functionally illustrating the configuration of an immunoassay diagnostic apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치는 기계적 구동부를 이용한 스캔 작업이나 카메라를 이용하지 않고도 시료 스트립에서 발생하는 반사광을 전체 영역에서 정확하게 검출할 수 있는 장치로서, 시료 스트립(100)과, 광학 모듈(200)과, 메인 수광 센서(700)와, 마스크(300)와, 마스크 제어부(600)를 포함하여 구성된다.The immunoassay diagnostic apparatus according to an embodiment of the present invention is an apparatus capable of accurately detecting reflected light generated from a sample strip in an entire area without using a scanning operation or a camera using a mechanical drive, the sample strip 100; It is configured to include an optical module 200 , a main light receiving sensor 700 , a mask 300 , and a mask control unit 600 .

시료 스트립(100)은 배경 기술에서 설명한 바와 같이 생체 시료를 모세관 현상을 통해 흡착 공급할 수 있도록 형성되며, 일면에는 별도의 반응 물질이 각각 도포되는 복수개의 반응 영역(110)이 각각 형성된다. 복수개의 반응 영역에서는 각각의 반응 물질이 특정 질환을 갖는 생체 시료와 결합하여 광 반사 복합체를 형성하는데, 이러한 광 반사 복합체는 빛이 조사되는 경우 빛을 반사하여 반사광을 발생시킨다.As described in the background art, the sample strip 100 is formed so that a biological sample can be adsorbed and supplied through capillary action, and a plurality of reaction regions 110 to which a separate reactant is applied are formed on one surface, respectively. In the plurality of reaction regions, each reactant is combined with a biological sample having a specific disease to form a light reflection complex, and when light is irradiated, the light reflection complex reflects light to generate reflected light.

반응 영역(110)에서 광 반사 복합체가 형성되는 과정을 살펴보면, 먼저, 시료 스트립(100)은, 생체 시료가 흡착 공급되는 샘플 패드와, 탐지용 반응체가 도포되는 프로브 패드와, 반응 영역이 형성되는 멤브레인과, 생체 시료의 원활한 흡착 이동을 위한 흡착 패드가 시료 스트립(100)의 길이 방향을 따라 순차적으로 배치된다. 생체 시료 내의 특정 질환 인자인 타겟 분석체가 프로브 패드에서 탐지용 반응체와 결합하고, 탐지용 반응체와 타겟 분석체가 결합된 결합체가 멤브레인을 따라 흡착 패드 측으로 전개되며, 이 과정에서 반응 영역(110)에서 반응 물질과 결합하여 광 반사 복합체를 형성하게 된다.Looking at the process in which the light reflection complex is formed in the reaction region 110 , first, the sample strip 100 includes a sample pad to which a biological sample is adsorbed and supplied, a probe pad to which a reactant for detection is applied, and a reaction region to be formed. The membrane and the adsorption pad for smooth adsorption movement of the biological sample are sequentially disposed along the longitudinal direction of the sample strip 100 . A target analyte, which is a specific disease factor in a biological sample, is combined with a detection reactant on the probe pad, and the combination of the detection reactant and the target analyte is developed along the membrane toward the adsorption pad, and in this process, the reaction region 110 It is combined with the reactant in the to form a light-reflecting complex.

탐지용 반응체는 마이크로 입자 또는 나노 입자를 포함하며, 생체물질(예를 들어, DNA 또는 RNA를 포함하는 핵산(nucleic acid), 아미노산(amino acid), 지방(fat), 당단백질(glycoprotein), 항체(antibody), 또는 이들의 조합)에 나노 입자가 결합된 구조로 형성된다. 나노 입자는 금속 나노 입자가 적용될 수 있는데, 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 코발트(Co), 철(Fe), 아연(Zn) 및 망간(Mn) 중에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이러한 탐지용 반응체는 생체 시료 내에 포함된 감염성 질환 인자들과 특이적으로 결합된다.The detection reagent includes microparticles or nanoparticles, and biological materials (eg, nucleic acids including DNA or RNA), amino acids, fats, glycoproteins, It is formed in a structure in which nanoparticles are bound to an antibody (antibody, or a combination thereof). Metal nanoparticles can be applied to the nanoparticles. Gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), aluminum (Al), nickel (Ni), cobalt (Co), iron (Fe), zinc (Zn) and at least one selected from among manganese (Mn). These detection reactants are specifically bound to infectious disease factors contained in the biological sample.

이러한 탐지용 반응체는, 기상 응축법(gas phase condensation method), 고주파 플라즈마 화학적 합성법(high frequency plasma chemical synthesis method), 화학 침전법(conventional chemical precipitation), 수열 합성법(hydrothermal synthesis method), 전기적 분산 반응법(electric dispersion re-action method), 연소 합성법(combustive synthesis method), 졸-겔 합성법(sol-gel synthesis method), 열화학 합성법(thermochemical synthesis method), 마이크로플루다이저 공정(microfludizer process), 마이크로에멀션 기술(microemulson technology), 고에너지 기계적 밀링(high energy mechanical milling), 또는 이들의 조합을 통해 형성될 수 있다.The reactant for detection is a gas phase condensation method, a high frequency plasma chemical synthesis method, a conventional chemical precipitation, a hydrothermal synthesis method, and an electrical dispersion reaction. method (electric dispersion re-action method), combustion synthesis method (combustive synthesis method), sol-gel synthesis method (sol-gel synthesis method), thermochemical synthesis method (thermochemical synthesis method), microfludizer process (microfludizer process), microemulsion It may be formed through microemulson technology, high energy mechanical milling, or a combination thereof.

광학 모듈(200)은 시료 스트립(100)의 광 반사 복합체로부터 반사광이 발생하도록 시료 스트립(100)에 검사광(L)을 조사하도록 구성되며, 검사광을 발생시키는 광원부와, 렌즈 모듈 등을 포함하여 구성된다.The optical module 200 is configured to irradiate the inspection light L to the sample strip 100 so as to generate reflected light from the light reflection complex of the sample strip 100, and includes a light source for generating the inspection light, a lens module, and the like. is composed by

메인 수광 센서(700)는 시료 스트립(100)의 광 반사 복합체로부터 발생하는 반사광(R)을 수광하여 검출하도록 구성되며, 반사광(R)을 검출할 수 있는 다양한 종류의 센서가 적용될 수 있다. 광학 모듈(200)과 메인 수광 센서(700)에 대한 상세한 설명은 도 8 및 도 9를 중심으로 후술한다.The main light receiving sensor 700 is configured to receive and detect reflected light R generated from the light reflection complex of the sample strip 100 , and various types of sensors capable of detecting the reflected light R may be applied. A detailed description of the optical module 200 and the main light receiving sensor 700 will be described later with reference to FIGS. 8 and 9 .

마스크(300)는 광학 모듈(200)과 시료 스트립(100) 사이에 배치되어 시료 스트립(100)에 대한 검사광(L)의 조사 위치를 가이드하도록 구성된다. 이때, 마스크(300)는 검사광을 차단하는 재질로 형성되어 검사광을 차단하며, 검사광이 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)에 조사되도록 검사광이 통과할 수 있는 슬릿부(310)가 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)과 대응되는 위치에 형성된다. 즉, 광학 모듈(200)에 의해 조사되는 검사광(L)은 마스크(300)에 형성된 슬릿부(310)를 통해 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)에 조사된다. 이때, 마스크(300)는 슬릿부(310)의 형성 위치가 마스크(300) 영역 내에서 조절될 수 있도록 형성되며, 이와 동시에 슬릿부(310)의 형상 및 크기가 마스크(300) 영역 내에서 조절될 수 있도록 형성된다.The mask 300 is disposed between the optical module 200 and the sample strip 100 to guide the irradiation position of the inspection light L with respect to the sample strip 100 . In this case, the mask 300 is formed of a material that blocks the inspection light to block the inspection light, and the slit part 310 through which the inspection light can pass so that the inspection light is irradiated to the reaction region 110 of the sample strip 100 . ) is formed at a position corresponding to the reaction region 110 of the sample strip 100 . That is, the inspection light L irradiated by the optical module 200 is irradiated to the reaction region 110 of the sample strip 100 through the slit 310 formed in the mask 300 . At this time, the mask 300 is formed so that the formation position of the slit part 310 can be adjusted within the mask 300 region, and at the same time, the shape and size of the slit part 310 are adjusted within the mask 300 region. formed to be

마스크 제어부(600)는 마스크(300) 영역 내에서 슬릿부(310)의 형성 위치가 조절되도록 마스크(300)를 동작 제어하며, 아울러, 슬릿부(310)의 형상 또는 크기가 조절되도록 마스크(300)를 동작 제어한다.The mask control unit 600 operates the mask 300 to adjust the formation position of the slit portion 310 in the mask 300 region, and also controls the mask 300 to adjust the shape or size of the slit portion 310 . ) to control the operation.

시료 스트립(100)에는 생체 시료로부터 다양한 질환을 진단할 수 있도록 복수개의 반응 영역(110)이 형성되며, 마스크 제어부(600)는 마스크(300)의 슬릿부(310)가 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)과 각각 대응되는 위치에 형성되도록 마스크(300)를 동작 제어하며, 이를 통해 슬릿부(310)의 위치가 조절되고, 그 형상 및 크기가 조절될 수 있다.A plurality of reaction regions 110 are formed in the sample strip 100 to diagnose various diseases from a biological sample, and the mask control unit 600 is configured such that the slit portion 310 of the mask 300 is disposed on the sample strip 100 . The mask 300 is operated to be formed at positions corresponding to the reaction regions 110 , and through this, the position of the slit 310 is adjusted, and the shape and size thereof can be adjusted.

이때, 마스크(300)의 슬릿부(310)는 광학 모듈(200)의 검사광(L)이 슬릿부(310)를 통해 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)에 조사되도록 형성된다.In this case, the slit portion 310 of the mask 300 is formed so that the inspection light L of the optical module 200 is irradiated to the reaction region 110 of the sample strip 100 through the slit portion 310 .

이러한 마스크(300)의 슬릿부(310)를 통해 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)에 검사광(L)이 조사되면, 반응 영역(110)에 형성된 광 반사 복합체로부터 반사광(R)이 발생하게 되는데, 이때, 마스크(300)의 슬릿부(310)는 시료 스트립(100)의 광 반사 복합체로부터 발생하는 반사광(R)이 각각의 반응 영역(110)에 대응되는 위치의 슬릿부(310)를 통해 광학 모듈(200)로 입사하여 검출되도록 형성된다.When the inspection light L is irradiated to the reaction region 110 of the sample strip 100 through the slit 310 of the mask 300 , the reflected light R is reflected from the light reflection complex formed in the reaction region 110 . In this case, the slit part 310 of the mask 300 is the slit part 310 at a position where the reflected light R generated from the light reflection complex of the sample strip 100 corresponds to each reaction region 110 . ) through the optical module 200 and is formed to be detected.

또한, 마스크(300)는 검사광이 슬릿부(310) 이외의 영역을 통해 시료 스트립(100)에 조사되지 않도록 형성되며, 마찬가지로 광 반사 복합체로부터 발생하는 반사광이 슬릿부(310) 이외의 영역을 통해 메인 수광 센서(700)로 입사하지 않도록 형성된다.In addition, the mask 300 is formed so that the inspection light is not irradiated to the sample strip 100 through a region other than the slit part 310 , and similarly, the reflected light generated from the light reflection composite passes the region other than the slit part 310 . It is formed so as not to be incident on the main light receiving sensor 700 through it.

이러한 구조에 따라 본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치는 광학 모듈(200)과 시료 스트립(100) 사이에 슬릿부(310)가 형성된 별도의 마스크(300)를 이용하여 검사광이 슬릿부(310)를 통해 시료 스트립(100)의 특정 반응 영역(110)에 조사되도록 하고, 이에 따라 반응 영역(110)의 광 반사 복합체로부터 반사광이 발생하고, 이때, 발생한 반사광은 마스크(300)의 슬릿부(310)를 통해 메인 수광 센서(700)로 입사하여 검출되도록 구성된다.According to this structure, the immunoassay diagnostic apparatus according to an embodiment of the present invention uses a separate mask 300 in which a slit part 310 is formed between the optical module 200 and the sample strip 100 so that the test light is transmitted through the slit. The portion 310 is irradiated to a specific reaction region 110 of the sample strip 100 , and accordingly, reflected light is generated from the light reflection complex of the reaction region 110 , and at this time, the generated reflected light is the mask 300 . It is configured to be incident upon and detected by the main light receiving sensor 700 through the slit portion 310 .

따라서, 시료 스트립(100)이나 광학 모듈(200)에 대한 이동 없이 슬릿부(310)에 대한 위치 조절만으로 시료 스트립(100)의 복수개의 반응 영역(110)에 검사광을 모두 동시에 조사할 수 있고, 생체 시료에 특정 질환이 있는 경우, 각 반응 영역(110)에서 발생한 반사광을 검출하여 특정 질환을 진단할 수 있다.Therefore, all of the inspection light can be simultaneously irradiated to the plurality of reaction regions 110 of the sample strip 100 only by adjusting the position of the slit 310 without moving the sample strip 100 or the optical module 200 , , when there is a specific disease in the biological sample, the specific disease may be diagnosed by detecting the reflected light generated in each reaction region 110 .

이 경우, 시료 스트립(100)이나 광학 모듈(200)의 이동을 위한 기계적인 구동부 없이 단순히 마스크(300)의 배치만으로 진단 정확성 및 사용 편의성을 향상시킬 수 있다. 특히, 마스크(300)의 슬릿부(310)가 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)과 대응되는 위치에 각각 순차적으로 형성되도록 함으로써, 광학 모듈(200)의 검사광을 복수개의 반응 영역(110)에 순차적으로 조사되도록 할 수 있고, 각 슬릿부(310)를 통해 반사광이 메인 수광 센서(700)로 입사됨으로써, 반사광 검출이 정확하고 용이하며, 모든 반응 영역(110)에 대한 반사광 검출을 순차적으로 수행할 수 있어 더욱 신속하고 편리한 사용이 가능하다.In this case, diagnostic accuracy and ease of use may be improved by simply disposing the mask 300 without a mechanical driving unit for moving the sample strip 100 or the optical module 200 . In particular, by causing the slit portion 310 of the mask 300 to be sequentially formed at positions corresponding to the reaction area 110 of the sample strip 100, respectively, the inspection light of the optical module 200 is transmitted to a plurality of reaction areas ( 110) can be sequentially irradiated, and the reflected light is incident on the main light receiving sensor 700 through each slit 310, so that the reflected light detection is accurate and easy, and the reflected light detection for all reaction regions 110 is performed. Since it can be performed sequentially, it is possible to use it more quickly and conveniently.

한편, 도 1 내지 도 3에서는 광학 모듈(200)과 시료 스트립(100) 사이에 마스크(300)가 배치되는 것으로 도시되는바, 이를 기준으로 설명하면, 마스크(300)의 슬릿부(310)와 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)은 서로 대응되는 위치에 형성된다. 예를 들면, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 슬릿부(310)의 중심과 반응 영역(110)의 중심을 연결한 가상의 직선(C)이 광학 모듈(200)로부터 조사되는 검사광의 광축(I)과 평행하게 위치하도록 배치될 수 있다. 즉, 슬릿부(310)와 반응 영역(110)이 검사광의 광축 방향을 따라 일렬 배치되도록 구성될 수 있으며, 이를 통해 검사광이 슬릿부(310)를 통과하여 반응 영역(110)에 조사됨과 동시에 반응 영역(110)에서 발생한 반사광이 슬릿부(310)를 통과하여 메인 수광 센서(700)에 입사될 수 있다.Meanwhile, in FIGS. 1 to 3 , the mask 300 is shown to be disposed between the optical module 200 and the sample strip 100 . Referring to this reference, the slit part 310 of the mask 300 and The reaction regions 110 of the sample strip 100 are formed at positions corresponding to each other. For example, as shown in FIGS. 2 and 3 , an imaginary straight line C connecting the center of the slit 310 and the center of the reaction region 110 is the optical axis of the inspection light irradiated from the optical module 200 . (I) may be arranged to be positioned parallel to That is, the slit portion 310 and the reaction region 110 may be configured to be arranged in a line along the optical axis direction of the inspection light, through which the inspection light passes through the slit portion 310 and is irradiated to the reaction region 110 and at the same time The reflected light generated in the reaction region 110 may pass through the slit 310 to be incident on the main light receiving sensor 700 .

이때, 마스크(300)의 슬릿부(310) 영역의 면적이 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)의 면적보다 더 작거나 같게 형성될 수 있으며, 슬릿부(310)와 반응 영역(110)은 동일한 형상을 갖도록 형성될 수 있다.In this case, the area of the slit portion 310 of the mask 300 may be formed to be smaller than or equal to the area of the reaction area 110 of the sample strip 100 , and the slit portion 310 and the reaction area 110 may be formed. may be formed to have the same shape.

예를 들면, 슬릿부(310)와 반응 영역(110)은 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 일방향으로 길고 폭이 좁은 형태의 직사각형 형상으로 형성될 수 있으며, 슬릿부(310)의 길이(L)가 반응 영역(110)의 길이(L)와 같거나 작게 형성되고, 슬릿부(310)의 폭(W)이 반응 영역(110)의 폭(W)과 같거나 작게 형성될 수 있다.For example, the slit portion 310 and the reaction region 110 may be formed in a rectangular shape with a long and narrow width in one direction as shown in FIGS. 2 and 3, and the length ( L) may be equal to or smaller than the length L of the reaction region 110 , and the width W of the slit 310 may be equal to or smaller than the width W of the reaction region 110 .

이와 같이 마스크(300)의 슬릿부(310)에 대한 형상 및 크기 조절은 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)으로부터 슬릿부(310)를 통과하는 반사광의 광량을 조절하기 위한 것이다. 검사광을 마스크(300)의 슬릿부(310)를 통해 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)에 조사한 후, 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)에 형성된 광 반사 복합체로부터 반사광(R)이 발생하여 슬릿부(310)를 통해 메인 수광 센서(700)로 입사하여 검출되는데, 이때, 반사광은 광 반사 복합체의 반사광 이외에 다른 영역에서 반사된 반사광(예를 들면, 다른 부품 등에서 반사된 반사광 등) 또한 슬릿부(310)를 통해 메인 수광 센서(700)로 입사될 수 있다. 광 반사 복합체의 반사광 이외의 반사광이 메인 수광 센서(700)로 입사되면, 이들이 노이즈로 작용하여 반사광에 대한 검출 정확도가 저하된다. 따라서, 본 발명에서는 슬릿부(310)의 형상 및 크기 조절을 통해, 예를 들면, 도 6에 도시된 바와 같이 슬릿부(310)의 폭을 W1에서 W2로 감소시키는 방식으로 반사광(R)이 통과하는 광량을 조절하여 실제 광 반사 복합체의 반사광 이외의 반사광이 통과하지 않도록 하고, 이에 따라 진단 정확도를 향상시킬 수 있다.As described above, the shape and size adjustment of the slit portion 310 of the mask 300 is to adjust the amount of reflected light passing through the slit portion 310 from the reaction region 110 of the sample strip 100 . After irradiating the inspection light to the reaction area 110 of the sample strip 100 through the slit 310 of the mask 300 , the reflected light R from the light reflection complex formed in the reaction area 110 of the sample strip 100 . ) is generated and is incident to the main light receiving sensor 700 through the slit 310 and detected. At this time, the reflected light is reflected light reflected in another area other than the reflected light of the light reflection complex (for example, reflected light reflected from other parts, etc.) etc.) may also be incident to the main light receiving sensor 700 through the slit 310 . When the reflected light other than the reflected light of the light reflection complex is incident on the main light receiving sensor 700 , they act as noise and the detection accuracy of the reflected light is lowered. Therefore, in the present invention, through the shape and size adjustment of the slit part 310, for example, as shown in FIG. 6, the reflected light R is reduced in such a way that the width of the slit part 310 is reduced from W1 to W2. By controlling the amount of light passing through, reflected light other than the reflected light of the actual light reflection complex does not pass through, thereby improving diagnostic accuracy.

한편, 마스크(300)는 마스크(300)의 이동 없이 슬릿부(310)의 위치, 형상 및 크기가 마스크(300) 영역 내에서 조절될 수 있도록 형성되는데, 마스크 제어부(600)에 의해 발생하는 전기적인 신호에 의해 슬릿부(310)의 위치, 형상 및 크기가 조절되도록 형성될 수 있다.On the other hand, the mask 300 is formed so that the position, shape, and size of the slit part 310 can be adjusted within the mask 300 region without movement of the mask 300 , and the electricity generated by the mask control unit 600 is The position, shape, and size of the slit part 310 may be adjusted by a negative signal.

좀더 구체적으로, 마스크(300)는 도 2에 도시된 바와 같이 검사광 및 반사광이 통과하도록 투명한 재질로 형성되는 마스크 케이스(302)와, 마스크 케이스(302)의 내부 공간에 배치되며 전기적인 신호에 의해 배열 상태를 변화시켜 광을 통과시키거나 차단하도록 동작하는 액정을 포함하는 액정 모듈(301)을 포함하여 구성될 수 있다.More specifically, the mask 300 is disposed in the inner space of the mask case 302 and the mask case 302 formed of a transparent material so that the inspection light and the reflected light pass through, as shown in FIG. It may be configured to include a liquid crystal module 301 including a liquid crystal that operates to pass or block light by changing the arrangement state by the method.

액정 모듈(301)은 가장 기본적인 구조로 서로 이격된 2개의 기판 사이에 액정을 충진한 상태로 구성되고, 2개의 기판에 특정 패턴을 갖는 전기신호를 인가하면, 2개 기판 사이의 액정이 전기 신호 패턴에 따라 배열 상태를 변화시키게 되고, 액정의 배열 상태에 따라 빛이 통과하는 영역이 변화하게 되는 원리를 이용하여 다양한 디스플레이 장치에 적용된다. 이러한 액정 모듈(301)은 휴대폰이나 TV와 같은 복잡하고 화려한 디스플레이 장치에 사용되고 있으며, 단순한 형태로는 전자 계산기, 전자 시계 등의 디스플레이 장치를 예로 들 수 있다.The liquid crystal module 301 has the most basic structure and is configured in a state in which liquid crystal is filled between two substrates spaced apart from each other, and when an electric signal having a specific pattern is applied to the two substrates, the liquid crystal between the two substrates generates an electric signal. It is applied to various display devices using the principle that the arrangement state is changed according to the pattern and the area through which light passes according to the arrangement state of the liquid crystal is changed. The liquid crystal module 301 is used in a complex and colorful display device such as a mobile phone or a TV, and as a simple form, a display device such as an electronic calculator or an electronic watch may be exemplified.

본 발명의 일 실시예에서는 마스크(300)에 대해 액정 모듈(301)을 적용하고, 전기적인 신호에 의해 액정 모듈(301)의 액정 배열 상태를 조절하여 빛이 통과할 수 있는 슬릿부(310)를 형성하고, 슬릿부(310)의 위치를 전기적인 신호에 의해 자유롭게 조절할 수 있도록 구성된다.In one embodiment of the present invention, the liquid crystal module 301 is applied to the mask 300 and the liquid crystal arrangement state of the liquid crystal module 301 is adjusted by an electrical signal to allow light to pass through the slit part 310 . is configured so that the position of the slit 310 can be freely adjusted by an electrical signal.

즉, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 시료 스트립(100)에는 반응 영역(110)이 다수개 형성되고, 마스크(300)에는 슬릿부(310)가 1개 형성되며, 슬릿부(310)의 위치를 조절함으로써, 광학 모듈(200)의 검사광(L)이 슬릿부(310)를 통해 시료 스트립(100)의 복수개 반응 영역(110)에 선택적으로 순차적으로 조사되며, 이러한 방식을 통해 복수개 반응 영역(110)의 광 반사 복합체로부터 발생한 반사광을 순차적으로 모두 검출할 수 있다.That is, as shown in FIGS. 4 and 5 , a plurality of reaction regions 110 are formed in the sample strip 100 , and one slit portion 310 is formed in the mask 300 , and the slit portion 310 is formed. By adjusting the position of the optical module 200, the inspection light L of the optical module 200 is selectively and sequentially irradiated to the plurality of reaction regions 110 of the sample strip 100 through the slit portion 310, in this way a plurality of All of the reflected light generated from the light reflection complex of the reaction region 110 may be sequentially detected.

이때, 마스크 제어부(600)는 검사광(L)이 시료 스트립(100)의 특정 영역을 스캔하며 조사되도록 슬릿부(310)의 형성 위치가 마스크(300) 영역 내에서 연속적으로 이동하도록 동작 제어할 수도 있고, 이와 달리 슬릿부(310)가 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)과 대응되는 위치에 각각 순차적으로 별도로 형성되도록 동작 제어할 수도 있다.At this time, the mask control unit 600 controls the operation so that the position of the slit unit 310 is continuously moved within the mask 300 area so that the inspection light L is irradiated while scanning a specific area of the sample strip 100 . Alternatively, the operation may be controlled such that the slits 310 are sequentially and separately formed at positions corresponding to the reaction regions 110 of the sample strip 100 .

슬릿부(310)의 형성 위치를 연속적으로 이동시키지 않고 복수개의 특정 위치에 순차적으로 별도 형성하는 경우, 시료 스트립(100)의 종류 또는 검사 질환의 종류 등에 따라 미리 설정된 슬릿부 위치 정보를 통해 해당 위치에 슬릿부(310)를 형성시킬 수 있다.When the slit part 310 is separately formed in a plurality of specific positions in sequence without continuously moving the formation position, the corresponding position through the slit part position information set in advance according to the type of the sample strip 100 or the type of test disease, etc. A slit portion 310 may be formed therein.

또한, 본 발명의 일 실시예에서는 전기적인 신호에 의해 액정 모듈(301)의 액정 배열 상태를 조절하여 슬릿부(310)의 형상 및 크기를 자유롭게 조절할 수 있도록 구성된다. In addition, in an embodiment of the present invention, the shape and size of the slit 310 can be freely adjusted by adjusting the liquid crystal arrangement state of the liquid crystal module 301 by an electrical signal.

이때, 마스크 제어부(600)는 전술한 바와 같이 마스크(300)를 동작 제어하여 시료 스트립(100)의 광 반사 복합체로부터 반사된 반사광 이외의 반사광이 슬릿부(310)를 통과하지 못하도록 슬릿부(310)의 형상 및 크기를 조절하며, 이를 통해 광학 모듈(200)의 반사광에 대한 검출 정확도를 향상시킬 수 있다.At this time, the mask control unit 600 operates the mask 300 as described above to prevent the reflected light other than the reflected light reflected from the light reflection complex of the sample strip 100 from passing through the slit portion 310 . ) by adjusting the shape and size, thereby improving the detection accuracy of the reflected light of the optical module 200 .

한편, 도 1에 도시된 바와 같이 시료 스트립(100), 광학 모듈(200), 메인 수광 센서(700) 및 마스크(300)는 별도의 케이스(400) 내부에 수용되는 형태로 구성될 수 있으며, 도시되지는 않았으나 시료 스트립(100)은 별도의 키트 케이스(미도시) 내부에 삽입된 형태로 키트 단위로 케이스(400)에 삽입 및 인출 가능하게 결합된다. 생체 시료가 시료 스트립(100)에 흡착 공급된 상태로 케이스(400)에 삽입되고, 이 상태에서 광학 모듈(200)로부터 검사광이 마스크(300)의 슬릿부(310)를 통해 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)에 조사되고, 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)에서는 생체 시료에 특정 질환이 있는 경우, 광 반사 복합체가 형성되어 반사광을 발생하게 된다. 발생된 반사광은 마스크(300)의 슬릿부(310)를 통해 메인 수광 센서(700)로 입사되어 검출된다. 이러한 방식으로 시료 스트립(100)이 키트 단위로 케이스(400)에 삽입된 상태에서 시료 스트립(100)에 흡착된 검사 대상 생체 시료에 특정 질환이 있는지 진단하게 된다.On the other hand, as shown in FIG. 1 , the sample strip 100 , the optical module 200 , the main light receiving sensor 700 and the mask 300 may be configured to be accommodated inside a separate case 400 , Although not shown, the sample strip 100 is inserted into and withdrawn from the case 400 in a kit unit in a form inserted inside a separate kit case (not shown). The biological sample is inserted into the case 400 in a state in which the biological sample is adsorbed and supplied to the sample strip 100 , and in this state, inspection light from the optical module 200 passes through the slit part 310 of the mask 300 to the sample strip 100 . ) is irradiated to the reaction area 110 , and in the reaction area 110 of the sample strip 100 , when a biological sample has a specific disease, a light reflection complex is formed to generate reflected light. The generated reflected light is incident on the main light receiving sensor 700 through the slit 310 of the mask 300 and is detected. In this way, in a state in which the sample strip 100 is inserted into the case 400 as a kit unit, it is diagnosed whether a specific disease exists in the test target biological sample adsorbed to the sample strip 100 .

이때, 시료 스트립(100)은 진단하고자 하는 특정 질환의 종류에 따라 반응 영역(110)의 위치 또는 개수가 다른 종류가 사용될 수 있는데, 이와 같이 사용되는 시료 스트립(100)의 종류가 달라지면, 이에 대응하여 마스크(300)의 슬릿부(310)의 형성 위치 또한 반응 영역(110)에 대응하여 조절되는 것이 바람직하며, 아울러, 슬릿부(310)의 형상 또는 크기 또한 조절될 수 있다.At this time, the sample strip 100 may be used in a different position or number of the reaction regions 110 according to the type of a specific disease to be diagnosed. Accordingly, the formation position of the slit portion 310 of the mask 300 is preferably adjusted to correspond to the reaction region 110 , and the shape or size of the slit portion 310 may also be adjusted.

본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치는 마스크(300)에 형성된 슬릿부(310)의 위치, 형상 및 크기를 전기적인 신호에 의해 신속하고 편리하게 조절할 수 있으므로, 다양한 종류의 시료 스트립(100)에 대해서도 하나의 기기를 통해 모두 적용할 수 있다.In the immunoassay diagnostic apparatus according to an embodiment of the present invention, the position, shape, and size of the slit 310 formed in the mask 300 can be quickly and conveniently adjusted by an electrical signal, so that various types of sample strips ( 100) can all be applied through one device.

또한, 도 7에 도시된 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 장치는 적용되는 시료 스트립(100)의 종류에 따라 서로 다른 작동 모드를 선택할 수 있도록 사용자에 의해 선택 조작되는 모드 선택부(610)가 구비될 수 있다.In addition, as shown in FIG. 7 , in the immunoassay apparatus according to an embodiment of the present invention, a mode selector ( 610) may be provided.

마스크 제어부(600)는 모드 선택부(610)의 모드 선택 신호를 인가받고, 선택된 작동 모드 신호에 따라 슬릿부(310)의 위치, 형상 및 크기가 해당 작동 모드에 적용되는 형태로 조절되도록 마스크(300)를 동작 제어할 수 있다.The mask control unit 600 receives the mode selection signal of the mode selection unit 610 and adjusts the position, shape, and size of the slit unit 310 according to the selected operation mode signal to be applied to the corresponding operation mode. 300) can be controlled.

이때, 모드 선택부(610)에 의해 선택된 작동 모드에 대응하여 슬릿부(310)의 기준 위치 정보, 기준 형상 정보 및 기준 크기 정보가 미리 설정되는데, 각 작동 모드에 따른 슬릿부(310)의 기준 위치 정보, 기준 형상 정보 및 기준 크기 정보는 별도의 데이터 저장부(610)에 저장될 수 있다. At this time, reference position information, reference shape information, and reference size information of the slit part 310 are preset in correspondence to the operation mode selected by the mode selection unit 610, and the reference of the slit part 310 according to each operation mode is set in advance. Location information, reference shape information, and reference size information may be stored in a separate data storage unit 610 .

따라서, 모드 선택부(610)에 의해 작동 모드가 선택되면, 마스크 제어부(600)는 데이터 저장부(610)에 저장된 슬릿부(310)의 기준 위치 정보에 따라 슬릿부(310)의 위치가 조절되도록 마스크(300)를 동작 제어하고, 이와 동시에 슬릿부(310)의 기준 형상 정보 및 기준 크기 정보에 따라 슬릿부(310)의 형상 및 크기가 조절되도록 마스크(300)를 동작 제어할 수 있다.Accordingly, when the operation mode is selected by the mode selection unit 610 , the mask control unit 600 adjusts the position of the slit unit 310 according to the reference position information of the slit unit 310 stored in the data storage unit 610 . The mask 300 may be controlled so as to be operated, and at the same time, the mask 300 may be controlled so that the shape and size of the slit part 310 are adjusted according to the reference shape information and the reference size information of the slit part 310 .

예를 들면, 제 1 질환을 진단하기 위한 작동 모드와, 제 2 질환을 진단하기 위한 작동 모드에서 사용되는 시료 스트립(100)에서 복수개의 반응 영역(110)의 위치가 서로 다른 경우, 이에 대응하는 슬릿부(310)의 형성 위치가 제 1 작동 모드와 제 2 작동 모드에서 서로 다른 위치에 형성될 수 있다. For example, when the positions of the plurality of reaction regions 110 in the sample strip 100 used in the operation mode for diagnosing the first disease and the operation mode for diagnosing the second disease are different from each other, corresponding The formation position of the slit part 310 may be formed at different positions in the first operation mode and the second operation mode.

슬릿부(310)의 위치를 연속 이동시켜 시료 스트립(100)의 특정 영역을 스캔하는 방식에서, 스캔 영역을 시료 스트립(100)의 전체 영역에 대해 스캔하도록 하는 경우 작동 모드에 따른 슬릿부(310) 형성 위치 변경이 중요하지 않지만, 슬릿부(310)의 위치를 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)과 대응되는 위치에 각각 순차적으로 별도 형성시키는 방식에서는, 작동 모드 선택에 따라 미리 설정된 슬릿부(310)의 형성 위치 정보를 통해 슬릿부(310) 위치를 조절하는 것이 작동 제어 방식에서 더욱 유리하다.In the method of scanning a specific area of the sample strip 100 by continuously moving the position of the slit part 310 , when scanning the entire area of the sample strip 100 , the slit part 310 according to the operation mode ) It is not important to change the formation position, but in a method in which the position of the slit part 310 is sequentially separately formed in a position corresponding to the reaction region 110 of the sample strip 100, a slit preset according to the operation mode selection It is more advantageous in the operation control method to adjust the position of the slit portion 310 through the formation position information of the portion 310 .

따라서, 본 발명의 일 실시예에서는 모드 선택부(610)를 통해 사용자가 다양한 작동 모드를 선택할 수 있고, 각 작동 모드에서 사용되는 서로 다른 종류의 시료 스트립(100)에 적용할 수 있도록 마스크(300)의 슬릿부(310) 형성 위치를 전기적인 신호에 의해 편리하게 조절할 수 있으며, 이에 따라 다양한 종류의 시료 스트립(100)에 대해서도 하나의 기기에 모두 적용 가능하며, 더욱 편리하게 사용할 수 있다.Accordingly, in one embodiment of the present invention, the user can select various operating modes through the mode selector 610 and the mask 300 can be applied to different types of sample strips 100 used in each operating mode. ), the formation position of the slit part 310 can be conveniently controlled by an electrical signal, and accordingly, it can be applied to one device for various types of sample strips 100, and can be used more conveniently.

이때, 작동 모드에 따른 슬릿부(310)의 기준 위치 정보는 도 2 및 도 3에서 설명한 바와 같이 시료 스트립(100)의 종류에 따라 반응 영역(110)의 중심과 마스크(300)의 슬릿부(310) 중심을 연결한 가상의 직선(C)이 검사광의 광축(I)과 평행한 상태를 갖는 위치로 설정될 수 있다.At this time, the reference position information of the slit part 310 according to the operation mode is the center of the reaction region 110 and the slit part of the mask 300 according to the type of the sample strip 100 as described with reference to FIGS. 2 and 3 . 310) The virtual straight line C connecting the centers may be set to a position having a state parallel to the optical axis I of the inspection light.

또한, 작동 모드에 따른 슬릿부(310)의 기준 위치 정보는 마스크 제어부(600)에 의해 슬릿부(310)의 위치를 조절하며 메인 수광 센서(700)에서 검출되는 시료 스트립(100)의 광 반사 복합체로부터 발생한 반사광의 검출량이 가장 높은 상태의 위치로 설정될 수도 있다. 이는 기하학적으로 기준 위치를 설정하는 것이 아니라 실제 반사광 검출량을 기준으로 하여 기준 위치를 설정하는 것이므로, 반사광 검출에 따라 질환을 진단하는 방식의 특성상 진단 결과의 정확도 측면에서 더욱 유리할 수 있다.In addition, the reference position information of the slit part 310 according to the operation mode adjusts the position of the slit part 310 by the mask controller 600 and the light reflection of the sample strip 100 detected by the main light receiving sensor 700 . The position in which the detected amount of reflected light generated from the complex is highest may be set. Since the reference position is not set geometrically, but based on the actual amount of reflected light detected, it may be more advantageous in terms of the accuracy of the diagnosis result due to the characteristics of the method of diagnosing a disease according to the detection of reflected light.

배경 기술에서는 광학계 또는 시료 스트립을 이동시켜 시료 스트립의 전체 영역을 스캔하는 구성에 대해 설명하였으며, 이는 기계적인 구동부가 필요하여 다양한 문제가 발생한다. 본 발명의 일 실시예에서는 마스크(300)의 슬릿부(310)를 액정 모듈(301)을 이용하여 형성하는 방식으로 구성되기 때문에, 기계적인 구동부 없이 전기적인 신호를 통해 슬릿부(310)의 위치를 다양하게 조절할 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에서는 슬릿부(310)의 위치를 이동시켜가며 슬릿부(310)를 통과한 검사광이 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)에 선택적 순차적으로 모두 조사되거나 또는 시료 스트립(100)의 전체 영역을 스캔하며 조사되도록 마스크 제어부(600)에 의해 동작 제어될 수 있다.In the background art, a configuration for scanning the entire area of the sample strip by moving the optical system or the sample strip has been described, which requires a mechanical driving unit, which causes various problems. In an embodiment of the present invention, since the slit portion 310 of the mask 300 is formed in a manner using the liquid crystal module 301, the position of the slit portion 310 through an electrical signal without a mechanical driving unit can be adjusted in various ways. Therefore, in one embodiment of the present invention, the inspection light passing through the slit 310 while moving the position of the slit 310 is selectively and sequentially irradiated to the reaction region 110 of the sample strip 100, or The operation may be controlled by the mask controller 600 so that the entire area of the sample strip 100 is scanned and irradiated.

또한, 각 작동 모드에서 슬릿부(310)의 기준 형상 및 크기는 모두 동일하게 형성될 수도 있지만, 필요에 따라서는 그 기준 형상 및 크기가 달라질 수 있고, 이 경우, 기 설정된 기준 형상 및 크기 정보에 따라 슬릿부(310)의 형상 및 크기를 조절해야 할 것이다. 이때, 슬릿부(310)에 대한 기준 형상 정보 및 기준 크기 정보는 각 작동 모드에서 사용되는 시료 스트립(100)의 종류에 따라 메인 수광 센서(700)에서 검출되는 반사광의 검출량 정보를 기초로 설정되어 데이터 저장부(610)에 저장될 수 있다.In addition, the reference shape and size of the slit part 310 in each operation mode may be formed to be the same, but the reference shape and size may be changed if necessary. The shape and size of the slit 310 will have to be adjusted accordingly. At this time, the reference shape information and the reference size information for the slit part 310 are set based on the detection amount information of the reflected light detected by the main light receiving sensor 700 according to the type of the sample strip 100 used in each operation mode. It may be stored in the data storage unit 610 .

이와 같이 슬릿부(310)의 형상 및 크기 조절이 기준 형상 정보 및 기준 크기 정보를 기초로 하여 이루어질 수도 있지만, 이와 달리 시료 스트립(100)에 대한 반사광을 검출하는 과정에서 광학 모듈(200)에 의해 검출된 반사광의 검출량이 데이터 저장부(620)에 저장된 해당 작동 모드에서의 기준 검출량 정보와 다른 경우, 이를 보완하는 형태로 이루어질 수도 있다.As described above, the shape and size adjustment of the slit part 310 may be performed based on the reference shape information and the reference size information, but unlike this, by the optical module 200 in the process of detecting the reflected light to the sample strip 100 When the detection amount of the detected reflected light is different from the reference detection amount information in the corresponding operation mode stored in the data storage unit 620 , this may be supplemented.

이와 같은 구성에 따라 본 발명의 일 실시예에서는 모드 선택부(610)를 통해 사용자가 다양한 작동 모드를 선택할 수 있고, 각 작동 모드에서 사용되는 서로 다른 종류의 시료 스트립(100)에 적용할 수 있도록 마스크(300)의 슬릿부(310)의 위치, 형상 및 크기가 전기적인 신호에 의해 편리하게 조절되며, 이에 따라 다양한 종류의 시료 스트립(100)에 대해서도 모두 적용 가능하며, 편리하게 사용할 수 있다.According to such a configuration, in an embodiment of the present invention, a user can select various operating modes through the mode selection unit 610 and can be applied to different types of sample strips 100 used in each operation mode. The position, shape, and size of the slit part 310 of the mask 300 are conveniently controlled by an electrical signal, and accordingly, it is applicable to various types of sample strips 100 and can be conveniently used.

도 8 및 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 면역 분석 진단 장치의 광학 모듈에 대한 구성을 개념적으로 도시한 도면이고, 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 다양한 배치 상태를 예시적으로 도시한 도면이다.8 and 9 are diagrams conceptually illustrating the configuration of an optical module of an immunoassay diagnostic apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 10 illustrates various arrangement states of a mask according to an embodiment of the present invention. It is a schematic drawing.

본 발명의 일 실시예에 따른 광학 모듈(200)은, 도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이 검사광을 발생시키는 광원부(210)와, 광원부(210)에서 발생된 검사광(L)이 통과하며 시료 스트립(100)의 광 반사 복합체로부터 발생된 반사광(R)이 통과하도록 배치되는 렌즈 모듈(250)을 포함하여 구성될 수 있다. 이때, 메인 수광 센서(700)는 시료 스트립(100)의 광 반사 복합체로부터 발생된 반사광이 렌즈 모듈(250)을 통과한 이후 수광되도록 배치된다.In the optical module 200 according to an embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 8 and 9 , the light source unit 210 for generating inspection light and the inspection light L generated from the light source unit 210 pass through. And it may be configured to include a lens module 250 disposed to pass through the reflected light (R) generated from the light reflection complex of the sample strip (100). At this time, the main light receiving sensor 700 is disposed so that the reflected light generated from the light reflection complex of the sample strip 100 is received after passing through the lens module 250 .

또한, 광학 모듈(200)은, 광원부(210)에서 발생된 검사광을 일부 반사하여 시료 스트립(100)을 향해 진행시키는 다이크로익 필터(220)와, 다이크로익 필터(220)를 사이에 두고 광원부(210)와 대향되게 배치되며 광원부(210)에서 발생하여 다이크로익 필터(220)에 의해 반사되지 않고 다이크로익 필터(220)를 통과한 일부 검사광을 수광하여 검출하는 보조 수광 센서(240)를 더 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the optical module 200 includes a dichroic filter 220 that partially reflects the inspection light generated from the light source 210 and advances toward the sample strip 100, and the dichroic filter 220 is interposed between the optical module 200 and the dichroic filter 220 . Auxiliary light receiving sensor that is disposed opposite to the light source unit 210 and receives and detects some inspection light that is generated from the light source unit 210 and passed through the dichroic filter 220 without being reflected by the dichroic filter 220 (240) may be configured to further include.

이때, 광원부(210)는 시료 스트립(100)의 반응 영역(110)으로부터 반사광이 발생하도록 자외선을 발생시키는 UV LED가 사용될 수 있다.In this case, the light source unit 210 may be a UV LED that generates ultraviolet rays to generate reflected light from the reaction region 110 of the sample strip 100 .

도 8 및 도 9에서 마스크(300)는 렌즈 모듈(250)을 통과한 검사광이 슬릿부(310)를 통해 시료 스트립(100)에 조사되도록 렌즈 모듈(250)과 시료 스트립(100) 사이에 배치되는 것으로 도시되지만, 도 10에 도시된 바와 같이 마스크(300)는 렌즈 모듈(250)과 시료 스트립(100) 사이 공간, 렌즈 모듈(250)과 메인 수광 센서(700) 사이 공간 및 렌즈 모듈(250)의 복수개 렌즈 사이 공간 중 어느 하나의 공간에 위치하도록 배치될 수 있다.8 and 9 , the mask 300 is disposed between the lens module 250 and the sample strip 100 so that the inspection light passing through the lens module 250 is irradiated to the sample strip 100 through the slit part 310 . Although shown to be disposed, as shown in FIG. 10 , the mask 300 includes a space between the lens module 250 and the sample strip 100, a space between the lens module 250 and the main light receiving sensor 700, and a lens module ( 250) may be arranged to be located in any one of the spaces between the plurality of lenses.

렌즈 모듈(250)은 복수개의 다양한 렌즈들로 구성될 수 있는데, 예를 들면, 도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이 광원부(210), 메인 수광 센서(230) 및 보조 수광 센서(240)의 전방에 광을 집광하거나 평행광으로 변환시킬 수 있는 다양한 렌즈들이 배치되는 형태로 구성될 수 있다. 또한, 광원부(210)와 메인 수광 센서(230)의 전방에는 이외에도 특정 파장대의 광을 필터링할 수 있는 대역 필터(260)가 배치될 수 있다.The lens module 250 may be composed of a plurality of various lenses. For example, as shown in FIGS. 8 and 9 , the light source unit 210 , the main light receiving sensor 230 and the auxiliary light receiving sensor 240 . It may be configured in a form in which various lenses capable of condensing light or converting light into parallel light are disposed in front. In addition, a band filter 260 capable of filtering light in a specific wavelength band may be disposed in front of the light source unit 210 and the main light receiving sensor 230 .

한편, 도시되지는 않았으나, 광원부(210)의 동작 상태를 제어할 수 있는 광원 제어부(500)(도 7 참조)가 구비될 수 있는데, 광원부(210)는 보조 수광 센서(240)에 의해 검출된 검사광의 세기에 따라 광원부(210)에서 발생하는 검사광의 세기가 조절되도록 광원 제어부에 의해 동작 제어될 수 있다.Meanwhile, although not shown, a light source control unit 500 (see FIG. 7 ) capable of controlling the operating state of the light source unit 210 may be provided, and the light source unit 210 detects the detection by the auxiliary light receiving sensor 240 . The operation may be controlled by the light source controller so that the intensity of the inspection light generated from the light source unit 210 is adjusted according to the intensity of the inspection light.

이와 같이 보조 수광 센서(240)에 의해 광원부(210)에서 발생하는 검사광의 세기가 조절됨으로써, 광원부(210)에서 시료 스트립(100)으로 조사되는 검사광의 세기를 일정하게 유지시킬 수 있고, 이에 따라 시료 스트립(100)에서 발생하는 반사광의 세기 또한 일정하게 유지시킬 수 있으므로, 메인 수광 센서(230)에 의해 검출되는 반사광 검출량의 기준치를 정확하게 설정할 수 있어 반사광 검출량의 변화를 쉽게 인식할 수 있고, 이에 따라 특정 질환에 대한 진단 정확도를 향상시킬 수 있다.As described above, the intensity of the inspection light emitted from the light source unit 210 is adjusted by the auxiliary light receiving sensor 240 , so that the intensity of the inspection light irradiated from the light source unit 210 to the sample strip 100 can be constantly maintained, and accordingly Since the intensity of the reflected light generated from the sample strip 100 can also be kept constant, the reference value of the detected amount of reflected light detected by the main light receiving sensor 230 can be accurately set, so that the change in the detected amount of reflected light can be easily recognized. Accordingly, it is possible to improve the diagnosis accuracy for a specific disease.

광원부(210)에서 발생한 검사광은 도 8에 도시된 바와 같이 다이크로익 필터(220)를 통해 일부는 반사되어 마스크(300)의 슬릿부(310)를 통과하여 시료 스트립(100)의 반사 영역(110)에 조사되고, 검사광의 일부는 다이크로익 필터(220)를 통과하여 보조 수광 센서(240)에 수광되어 검출된다. 광원부(210)에서 발생한 검사광의 세기는 보조 수광 센서(240)에 의해 수광되는 검사광의 세기에 따라 광학 제어부(500)에 의해 일정하게 유지된다. 시료 스트립(100)의 반사 영역(110)에서 발생한 반사광은 도 9에 도시된 바와 같이 마스크(300)의 슬릿부(310)를 통과하여 광학 모듈(200)로 입사되는데, 입사 반사광 중 일부는 다이크로익 필터(220)를 통과하여 메인 수광 센서(230)로 수광되어 검출된다. 메인 수광 센서(230)에 의해 수광된 반사광의 검출 여부를 통해 특정 질환에 대해 진단할 수 있다.As shown in FIG. 8 , the inspection light generated by the light source unit 210 is partially reflected through the dichroic filter 220 and passes through the slit unit 310 of the mask 300 to the reflection area of the sample strip 100 . It is irradiated to 110 , and a part of the inspection light passes through the dichroic filter 220 and is received and detected by the auxiliary light receiving sensor 240 . The intensity of the inspection light generated by the light source unit 210 is constantly maintained by the optical controller 500 according to the intensity of the inspection light received by the auxiliary light receiving sensor 240 . As shown in FIG. 9 , the reflected light generated in the reflective region 110 of the sample strip 100 passes through the slit 310 of the mask 300 and is incident on the optical module 200 , some of the incident reflected light is diced. The light is received and detected by the main light receiving sensor 230 through the loic filter 220 . A specific disease may be diagnosed based on whether the reflected light received by the main light receiving sensor 230 is detected.

한편, 이상에서는 광원부(210)의 검사광이 마스크(300)의 슬릿부(310)를 통과하여 시료 스트립(100)의 반응 영역에 조사되는 것으로 설명하였으나, 이와 달리 광원부(210)의 검사광이 마스크(300)의 슬릿부(310)를 통과하지 않고 시료 스트립(100)의 반응 영역에 조사되도록 구성될 수도 있다. 이 경우, 시료 스트립(100)의 반응 영역으로부터 반사되는 반사광은 전술한 바와 마찬가지 방식으로 마스크(300)의 슬릿부(310)를 통과하여 메인 수광 센서(700)에 수광되도록 구성된다. 이때, 슬릿부(310)의 위치를 조절함으로써, 시료 스트립(100)의 복수개 반응 영역으로부터 각각 반사되는 반사광이 순차적으로 메인 수광 센서(700)에 수광된다.Meanwhile, in the above description, it has been described that the inspection light of the light source unit 210 passes through the slit unit 310 of the mask 300 and is irradiated to the reaction region of the sample strip 100 , but unlike this, the inspection light of the light source unit 210 passes through the slit unit 310 . It may be configured to be irradiated to the reaction region of the sample strip 100 without passing through the slit 310 of the mask 300 . In this case, the reflected light reflected from the reaction region of the sample strip 100 passes through the slit 310 of the mask 300 in the same manner as described above and is configured to be received by the main light receiving sensor 700 . At this time, by adjusting the position of the slit part 310 , the reflected light reflected from the plurality of reaction regions of the sample strip 100 is sequentially received by the main light receiving sensor 700 .

즉, 광원부(210)의 검사광은 마스크(300)의 슬릿부(310)를 통해 그 조사 위치가 반드시 가이드될 필요가 없으며, 단순히 시료 스트립(100)의 전체 영역에 조사되도록 할 수 있고, 시료 스트립(100)의 복수개 반응 영역에서 각각 반사되는 반사광이 슬릿부(310)를 통해 순차적으로 메인 수광 센서(700)에 수광되도록 함으로써, 전술한 바와 마찬가지로 복수개 반응 영역에 대한 반사광을 정확하게 검출할 수 있다.That is, the inspection light of the light source unit 210 does not necessarily need to be guided through the slit unit 310 of the mask 300 to the irradiation position, and can be simply irradiated to the entire area of the sample strip 100 , and the sample By allowing the reflected light respectively reflected from the plurality of reaction areas of the strip 100 to be sequentially received by the main light receiving sensor 700 through the slit part 310, the reflected light for the plurality of reaction areas can be accurately detected as described above. .

이와 같이 광원부(210)의 검사광이 마스크(300)의 슬릿부(310)를 통과하지 않고 직접 시료 스트립(100)에 조사되도록 함으로써, 광원부(210)에 대한 배치 자유도가 더욱 증가하므로, 광학계에 대한 설계 및 제작이 용이하다. 예를 들면, 도 10에 도시된 바와 같이 광원부(210)를 렌즈 모듈(250), 메인 수광 센서(700) 및 마스크(300) 등의 배치 상태와 무관하게 별도 위치에 자유롭게 배치시킬 수 있다. 물론, 이 경우에도 광원부(210)의 검사광이 시료 스트립(100)의 복수개 반응 영역에 모두 조사되도록 배치되어야 하는 것은 당연하다.As described above, by allowing the inspection light of the light source unit 210 to be directly irradiated to the sample strip 100 without passing through the slit unit 310 of the mask 300, the degree of freedom of arrangement with respect to the light source unit 210 is further increased. It is easy to design and manufacture for For example, as shown in FIG. 10 , the light source unit 210 may be freely disposed at a separate location regardless of the arrangement state of the lens module 250 , the main light receiving sensor 700 , and the mask 300 . Of course, even in this case, it is natural that the inspection light of the light source unit 210 should be arranged so that all of the plurality of reaction regions of the sample strip 100 are irradiated.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical spirit of the present invention, and various modifications and variations will be possible without departing from the essential characteristics of the present invention by those skilled in the art to which the present invention pertains. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to explain, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the equivalent range should be construed as being included in the scope of the present invention.

100: 시료 스트립
110: 반응 영역
200: 광학 모듈
210: 광원부 220: 다이크로익 필터
240: 보조 수광 센서 250: 렌즈 모듈
300: 마스크
301: 액정 모듈 302: 마스크 케이스
310: 슬릿부
500: 광원 제어부
600: 마스크 제어부
610: 모드 선택부 620: 데이터 저장부
700: 메인 수광 센서
100: sample strip
110: reaction zone
200: optical module
210: light source 220: dichroic filter
240: auxiliary light receiving sensor 250: lens module
300: mask
301: liquid crystal module 302: mask case
310: slit portion
500: light source control unit
600: mask control unit
610: mode selection unit 620: data storage unit
700: main light sensor

Claims (9)

시료가 흡착 공급되도록 형성되며, 공급된 시료와 반응하여 광 반사 복합체를 형성하도록 별도의 반응 물질이 각각 도포되는 복수개의 반응 영역을 갖는 시료 스트립;
상기 시료 스트립에 검사광을 조사하는 광학 모듈;
상기 검사광의 조사에 의해 상기 시료 스트립의 광 반사 복합체로부터 반사되는 반사광을 수광 검출하는 메인 수광 센서;
상기 검사광 및 반사광을 차단하며, 일부 영역에 상기 검사광 및 반사광이 통과할 수 있는 슬릿부가 형성되고, 상기 검사광 및 반사광이 통과하도록 투명한 재질로 형성되는 마스크 케이스와, 상기 마스크 케이스의 내부 공간에 배치되며 전기적인 신호에 의해 배열 상태를 변화시켜 광을 통과시키거나 차단하도록 작동하는 액정을 포함하는 액정 모듈을 포함하고, 전기적 신호에 의한 상기 액정 모듈의 액정 배열 상태 조절을 통해 상기 슬릿부의 형성 및 상기 슬릿부의 형성 위치 조절이 가능함과 동시에 상기 슬릿부의 형상 및 크기 조절이 가능하도록 형성되는 마스크;
상기 시료 스트립의 종류에 따라 서로 다른 작동 모드를 선택할 수 있도록 사용자에 의해 선택 조작되는 모드 선택부;
상기 모드 선택부에 의해 선택된 작동 모드에 따라 각각 설정된 상기 슬릿부의 기준 위치 정보를 저장하고, 상기 시료 스트립의 종류에 따라 상기 메인 수광 센서에서 검출되는 반사광의 광량 정보를 기초로 설정된 상기 슬릿부의 기준 형상 정보 및 기준 크기 정보를 저장하는 데이터 저장부; 및
상기 슬릿부의 형성 위치가 조절되도록 상기 마스크를 동작 제어하는 마스크 제어부를 포함하고,
상기 마스크는 상기 마스크 제어부에 의해 동작 제어되어 상기 검사광이 상기 시료 스트립의 복수개의 반응 영역에 선택적으로 조사되도록 상기 슬릿부의 형성 위치가 조절되되,
상기 모드 선택부에 의해 작동 모드가 선택되면, 상기 마스크 제어부는 상기 데이터 저장부에 저장된 상기 슬릿부의 기준 위치 정보에 따라 상기 슬릿부의 형성 위치가 조절되도록 상기 마스크를 동작 제어함과 동시에 상기 데이터 저장부에 저장된 상기 슬릿부의 기준 형상 정보 및 기준 크기 정보에 따라 상기 슬릿부의 형상 및 크기가 조절되도록 상기 마스크를 동작 제어하며,
작동 모드에 따른 상기 슬릿부의 기준 위치 정보는 상기 시료 스트립의 종류에 따라 반응 영역의 중심과 상기 슬릿부의 중심을 연결한 가상의 직선이 검사광의 광축과 평행한 상태를 갖는 위치로 설정되는 것을 특징으로 하는 면역 분석 진단 장치.
a sample strip having a plurality of reaction regions in which a sample is adsorbed and supplied and a separate reaction material is applied to form a light reflection complex by reacting with the supplied sample;
an optical module irradiating inspection light to the sample strip;
a main light receiving sensor for receiving and detecting reflected light reflected from the light reflection complex of the sample strip by irradiation of the inspection light;
A mask case that blocks the inspection light and the reflected light, a slit part through which the inspection light and the reflected light can pass is formed in a partial area, and is formed of a transparent material so that the inspection light and the reflected light pass; and an inner space of the mask case and a liquid crystal module including a liquid crystal that is disposed on the pole and operates to pass or block light by changing the arrangement state by an electric signal, and the slit portion is formed by adjusting the liquid crystal arrangement state of the liquid crystal module by an electric signal and a mask formed so that a position of the slit portion can be adjusted and a shape and size of the slit portion can be adjusted at the same time.
a mode selector operated by a user to select different operating modes according to the type of the sample strip;
The reference shape of the slit part is set based on the information on the amount of reflected light detected by the main light receiving sensor according to the type of the sample strip, and stores the reference position information of the slit part set according to the operation mode selected by the mode selection part. a data storage unit for storing information and reference size information; and
And a mask control unit for controlling the operation of the mask so that the formation position of the slit portion is adjusted,
The mask is controlled by the mask controller so that the inspection light is selectively irradiated to a plurality of reaction regions of the sample strip so that the formation position of the slit part is adjusted;
When an operation mode is selected by the mode selection unit, the mask control unit operates and controls the mask so that the formation position of the slit portion is adjusted according to the reference position information of the slit portion stored in the data storage unit, and at the same time, the data storage unit operating the mask so that the shape and size of the slit part are adjusted according to the reference shape information and the reference size information of the slit part stored in
The reference position information of the slit part according to the operation mode is set to a position where an imaginary straight line connecting the center of the reaction region and the center of the slit part is parallel to the optical axis of the inspection light according to the type of the sample strip. Immunoassay diagnostic device.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 마스크 제어부는 상기 마스크를 동작 제어하여 상기 시료 스트립의 광 반사 복합체로부터 반사된 반사광 이외의 반사광이 상기 슬릿부를 통과하지 못하도록 상기 슬릿부의 형상 또는 크기를 조절하는 것을 특징으로 하는 면역 분석 진단 장치.
The method of claim 1,
The mask control unit controls the operation of the mask to adjust the shape or size of the slit portion so that reflected light other than the reflected light reflected from the light reflection complex of the sample strip does not pass through the slit portion.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 광학 모듈은
상기 검사광을 발생시키는 광원부; 및
상기 광원부에서 발생된 검사광이 통과하며 상기 시료 스트립의 광 반사 복합체로부터 반사된 반사광이 통과하도록 배치되는 렌즈 모듈
을 포함하고, 상기 메인 수광 센서는 상기 시료 스트립의 광 반사 복합체로부터 반사된 반사광이 상기 렌즈 모듈을 통과한 이후 수광되도록 배치되고,
상기 마스크는 상기 렌즈 모듈과 상기 시료 스트립 사이 공간, 상기 렌즈 모듈과 상기 메인 수광 센서 사이 공간 및 상기 렌즈 모듈의 복수개 렌즈 사이 공간 중 어느 하나의 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 면역 분석 진단 장치.
4. The method of claim 1 or 3,
The optical module is
a light source for generating the inspection light; and
A lens module disposed so that the inspection light generated from the light source passes and the reflected light reflected from the light reflection complex of the sample strip passes through
Including, wherein the main light receiving sensor is arranged to receive the reflected light reflected from the light reflection complex of the sample strip after passing through the lens module,
The mask is an immunoassay diagnosis apparatus, characterized in that it is disposed in any one of a space between the lens module and the sample strip, a space between the lens module and the main light receiving sensor, and a space between a plurality of lenses of the lens module.
제 7 항에 있어서,
상기 광학 모듈은
상기 광원부에서 발생된 검사광을 일부 반사하여 상기 시료 스트립을 향해 진행시키는 다이크로익 필터; 및
상기 광원부에서 발생된 검사광 중 상기 다이크로익 필터에 의해 반사되지 않고 상기 다이크로익 필터를 통과한 일부 검사광을 수광 검출하는 보조 수광 센서
를 더 포함하고, 상기 광원부는 상기 보조 수광 센서에 의해 검출된 검사광의 세기에 따라 상기 광원부에서 발생하는 검사광의 세기가 조절되도록 별도의 광원 제어부에 의해 동작 제어되는 것을 특징으로 하는 면역 분석 진단 장치.
8. The method of claim 7,
The optical module is
a dichroic filter that partially reflects the inspection light generated from the light source and advances it toward the sample strip; and
Auxiliary light receiving sensor that receives and detects a portion of the inspection light that has passed through the dichroic filter without being reflected by the dichroic filter among the inspection light generated by the light source
The apparatus of claim 1, wherein the light source unit is operated and controlled by a separate light source controller so that the intensity of the inspection light generated from the light source unit is adjusted according to the intensity of the inspection light detected by the auxiliary light receiving sensor.
시료가 흡착 공급되도록 형성되며, 공급된 시료와 반응하여 광 반사 복합체를 형성하도록 별도의 반응 물질이 각각 도포되는 복수개의 반응 영역을 갖는 시료 스트립;
상기 시료 스트립에 검사광을 조사하는 광학 모듈;
상기 검사광의 조사에 의해 상기 시료 스트립의 광 반사 복합체로부터 반사되는 반사광을 수광 검출하는 메인 수광 센서;
빛을 차단하는 재질로 형성되며, 일부 영역에 빛이 통과할 수 있는 슬릿부가 형성되고, 상기 검사광 및 반사광이 통과하도록 투명한 재질로 형성되는 마스크 케이스와, 상기 마스크 케이스의 내부 공간에 배치되며 전기적인 신호에 의해 배열 상태를 변화시켜 광을 통과시키거나 차단하도록 작동하는 액정을 포함하는 액정 모듈을 포함하고, 전기적 신호에 의한 상기 액정 모듈의 액정 배열 상태 조절을 통해 상기 슬릿부의 형성 및 상기 슬릿부의 형성 위치 조절이 가능함과 동시에 상기 슬릿부의 형상 및 크기 조절이 가능하도록 형성되는 마스크;
상기 시료 스트립의 종류에 따라 서로 다른 작동 모드를 선택할 수 있도록 사용자에 의해 선택 조작되는 모드 선택부;
상기 모드 선택부에 의해 선택된 작동 모드에 따라 각각 설정된 상기 슬릿부의 기준 위치 정보를 저장하고, 상기 시료 스트립의 종류에 따라 상기 메인 수광 센서에서 검출되는 반사광의 광량 정보를 기초로 설정된 상기 슬릿부의 기준 형상 정보 및 기준 크기 정보를 저장하는 데이터 저장부; 및
상기 슬릿부의 형성 위치가 조절되도록 상기 마스크를 동작 제어하는 마스크 제어부를 포함하고,
상기 마스크는 상기 마스크 제어부에 의해 동작 제어되어 상기 시료 스트립의 복수개 반응 영역으로부터 반사되는 반사광이 선택적으로 상기 메인 수광 센서에 수광되도록 상기 슬릿부의 형성 위치가 조절되되,
상기 모드 선택부에 의해 작동 모드가 선택되면, 상기 마스크 제어부는 상기 데이터 저장부에 저장된 상기 슬릿부의 기준 위치 정보에 따라 상기 슬릿부의 형성 위치가 조절되도록 상기 마스크를 동작 제어함과 동시에 상기 데이터 저장부에 저장된 상기 슬릿부의 기준 형상 정보 및 기준 크기 정보에 따라 상기 슬릿부의 형상 및 크기가 조절되도록 상기 마스크를 동작 제어하며,
작동 모드에 따른 상기 슬릿부의 기준 위치 정보는 상기 시료 스트립의 종류에 따라 반응 영역의 중심과 상기 슬릿부의 중심을 연결한 가상의 직선이 검사광의 광축과 평행한 상태를 갖는 위치로 설정되는 것을 특징으로 하는 면역 분석 진단 장치.

a sample strip having a plurality of reaction regions in which a sample is adsorbed and supplied and a separate reaction material is applied to form a light reflection complex by reacting with the supplied sample;
an optical module irradiating inspection light to the sample strip;
a main light receiving sensor for receiving and detecting reflected light reflected from the light reflection complex of the sample strip by irradiation of the inspection light;
A mask case formed of a material that blocks light, a slit portion through which light can pass is formed in a partial area, and a mask case made of a transparent material to allow the inspection light and reflected light to pass through, and disposed in the inner space of the mask case and a liquid crystal module including a liquid crystal that operates to pass or block light by changing an arrangement state by an electric signal, and the formation of the slit portion and the slit portion through adjustment of the liquid crystal arrangement state of the liquid crystal module by an electrical signal a mask formed so as to be able to adjust the formation position and at the same time adjust the shape and size of the slit portion;
a mode selector operated by a user to select different operating modes according to the type of the sample strip;
The reference shape of the slit part is set based on the information on the amount of reflected light detected by the main light receiving sensor according to the type of the sample strip, and stores the reference position information of the slit part set according to the operation mode selected by the mode selection part. a data storage unit for storing information and reference size information; and
And a mask control unit for controlling the operation of the mask so that the formation position of the slit portion is adjusted,
The mask is controlled by the mask control unit to adjust the formation position of the slit portion so that the reflected light reflected from the plurality of reaction regions of the sample strip is selectively received by the main light receiving sensor,
When an operation mode is selected by the mode selection unit, the mask control unit operates and controls the mask so that the formation position of the slit portion is adjusted according to the reference position information of the slit portion stored in the data storage unit, and at the same time, the data storage unit operating the mask so that the shape and size of the slit part are adjusted according to the reference shape information and the reference size information of the slit part stored in
The reference position information of the slit part according to the operation mode is set to a position where an imaginary straight line connecting the center of the reaction region and the center of the slit part is parallel to the optical axis of the inspection light according to the type of the sample strip. Immunoassay diagnostic device.

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