KR102207656B1 - Electron beam treatment method of air pollutants and treatment device therefor - Google Patents

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Abstract

본 발명은 전자선을 이용하여 대기 오염 물질을 처리하는 방법 및 이를 위한 전자선 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법은 수용액 유래의 가습 분위기 하에서 대기 오염 물질 함유 피처리 기체에 대하여 전자선을 조사하여서, 상기 수용액의 기액 접촉 공간에서 상기 대기 오염 물질을 비오염 물질로 전환시키는 반응을 수행하는 단계를 포함한다.The present invention relates to a method for treating air pollutants using an electron beam and an apparatus for treating an electron beam therefor. The method of treating an air pollutant with an electron beam of the present invention is a reaction of irradiating an electron beam to a target gas containing an air pollutant in a humidified atmosphere derived from an aqueous solution, and converting the air pollutant into a non-polluting material in the gas-liquid contact space of the aqueous solution. And performing.

Description

대기 오염 물질의 전자선 처리 방법 및 이를 위한 처리 장치{Electron beam treatment method of air pollutants and treatment device therefor}Electron beam treatment method of air pollutants and treatment device therefor

본 발명은 전자선을 이용하여 대기 오염 물질을 처리하는 방법 및 이를 위한 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method for treating air pollutants using an electron beam and an apparatus therefor.

전자 가속기를 이용한 환경정화기술은 1970년대 이후로 전세계적으로 활발하게 개발되어 왔다. 특히 대기 오염 물질 제어를 위해서 일본, 폴란드, 중국 등에서는 배연가스 중의 질소산화물(NOx), 황산화물(SOx)의 처리를 위한 전자선 처리 기술을 개발하여 상용화한 바가 있다. 이들 기개발된 전자선을 이용한 대기 오염 물질 처리공정에서는 질소산화물(NO, NO2), 황산화물(SO2)의 처리를 위하여 공기 중에서 전자선 조사 반응을 일으키면 OH 라디칼, OH2 라디칼, H 라디칼, 수화전자(e- aq) 등의 다양한 라디칼들을 발생시켜 HNO3, H2SO4 등의 중간부산물로 전환시키고, 최종적으로 첨가제인 암모니아(NH3) 가스와 반응하여 NH4NO3, (NH4)2SO4와 같은 고체 염(salt) 형태의 생성물로 전환되게 된다.Environmental purification technology using electronic accelerators has been actively developed worldwide since the 1970s. In particular, in order to control air pollutants, Japan, Poland, and China have developed and commercialized electron beam treatment technology for the treatment of nitrogen oxides (NOx) and sulfur oxides (SOx) in flue gas. In the air pollutant treatment process using these previously developed electron beams, OH radicals, OH 2 radicals, H radicals, and hydration reactions occur in the air to treat nitrogen oxides (NO, NO 2 ) and sulfur oxides (SO 2 ). It generates various radicals such as electrons (e - aq ) and converts them into intermediate by-products such as HNO 3 , H 2 SO 4 , and finally reacts with ammonia (NH 3 ) gas, which is an additive, to NH 4 NO 3 , (NH 4 ) It is converted into a solid salt product such as 2 SO 4 .

여기서, 전자선이 물에 조사되면 수화전자(e- aq), 수소 라디칼, 수산화라디칼 등의 반응성이 뛰어난 라디칼들이 다량 생성되기 때문에, 반응 효율을 높이기 위해서는 첨가제로 물(H2O)를 첨가해줌으로써 더 많은 양의 중간생성 라디칼을 만들고 전체 반응 효율을 향상시킬 수 있고, 일부 황산화물은 습식 세정의 원리로 저감 효율을 향상시킬 수 있는 부가적인 효과도 거둘 수 있어 여러 측면에서 물과 같은 액상 용액을 첨가제로 주입하는 습식 방식의 전자선 조사 반응이 장점이 많은 것으로 알려져 있다.Here, when the electron beam is irradiated with water, a large amount of highly reactive radicals such as hydration electrons (e - aq ), hydrogen radicals, and hydroxyl radicals are generated. Therefore, to increase the reaction efficiency, water (H 2 O) is added as an additive. It can create a larger amount of intermediate radicals and improve the overall reaction efficiency, and some sulfur oxides can have an additional effect that can improve the reduction efficiency through the principle of wet cleaning, so in many aspects, liquid solutions such as water can be used. It is known that a wet electron beam irradiation reaction injected as an additive has many advantages.

그러나, 대용량의 연속식 전자선 조사 반응기를 습식 방식으로 구현하기 위해서는 노즐 방식이나 초음파 방식으로 액상 용액을 미립자 형태로 반응기 내에 분사시키게 되는데, 이 경우 액적 분사를 위한 추가적인 에너지 공급 및 노즐 막힘 현상, 초음파 장치의 내구성 문제 등으로 장기간 운전에 불리한 측면이 있다. 이에 따라, 습식 방식으로 대기 오염 물질을 처리하면서 대용량을 연속적으로 처리할 수 있으면서도 경제적이고 고효율을 구현할 수 있는 전자선 조사 반응 장치 및 방법에 대한 개발이 필요한 실정이다.However, in order to implement a large-capacity continuous electron beam irradiation reactor in a wet method, a liquid solution is sprayed into the reactor in the form of particles by a nozzle method or an ultrasonic method.In this case, additional energy supply for droplet injection, nozzle clogging phenomenon, and ultrasonic device There is a disadvantage in long-term operation due to the durability problem of Accordingly, there is a need for development of an electron beam irradiation reaction apparatus and method capable of continuously treating large volumes of air pollutants while treating air pollutants in a wet manner and implementing economical and high efficiency.

본 발명은 위와 같은 문제를 해결하고, 전자선을 이용하여 기체 상의 대기 오염 물질을 처리하는데 있어 방법의 효율성을 향상시키고자 한다.An object of the present invention is to solve the above problems and to improve the efficiency of a method in treating gaseous air pollutants using an electron beam.

또한, 전자선을 이용하여 기체 상의 대기 오염 물질을 처리하는 장치의 성능을 향상시키면서도 규모를 간소화하고자 한다.In addition, it is intended to simplify the scale while improving the performance of an apparatus that treats gaseous air pollutants using electron beams.

위와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 수용액 유래의 가습 분위기 하에서 대기 오염 물질 함유 피처리 기체에 대하여 전자선을 조사하여서, 상기 수용액의 기액 접촉 공간에서 상기 대기 오염 물질을 비오염 물질로 전환시키는 반응을 수행하는 단계를 포함하는 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is a reaction of converting the air pollutants into non-polluting substances in the gas-liquid contact space of the aqueous solution by irradiating electron beams to the gas to be treated containing air pollutants in a humidified atmosphere derived from an aqueous solution. It provides a method of treating an electron beam of air pollutants comprising the step of performing.

또한, 본 발명은 가습 분위기 하에서 전자선 조사에 의하여 피처리 기체 중의 대기 오염 물질을 비오염 물질로 전환시키기 위한 반응이 일어나는 반응부, 상기 반응부의 내부로 상기 대기 오염 물질 함유 피처리 기체를 유입시키기 위한 유입부, 상기 반응부의 내부에서 형성된 상기 비오염 물질 함유 처리 기체를 외부로 배출시키기 위한 배출부, 상기 반응부에 가습 분위기를 제공하는 수용액을 수용하기 위하여, 상기 반응부의 하부에 배치된 수조부, 및 상기 반응부에 전자선을 조사하기 위한 전자선 조사부를 포함하는 대기 오염 물질의 처리 장치를 제공한다.In addition, the present invention is a reaction unit in which a reaction for converting air pollutants in a gas to be treated into non-polluting substances by electron beam irradiation in a humidified atmosphere occurs, and for introducing a target gas containing the air pollutants into the reaction unit. An inlet part, a discharge part for discharging the non-pollutant-containing treatment gas formed inside the reaction part to the outside, a water tank part disposed under the reaction part to receive an aqueous solution providing a humidified atmosphere to the reaction part, And an electron beam irradiating unit for irradiating electron beams to the reaction unit.

본 발명의 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법을 이용하면, 반응부 내부에서 기화하는 수분을 이용하기 때문에, 기존 노즐이나 초음파 방식의 습식 전자선 반응에서 수분을 주입하기 위해 사용되던 외부 에너지원 또는 초음파 발생을 위한 전기 에너지의 사용을 줄일 수 있을 뿐만 아니라, 반응 동안 수분의 공급률이 개선되어 반응 효율 또한 향상시킬 수 있다.When the electron beam treatment method of air pollutants of the present invention is used, moisture vaporized inside the reaction unit is used, so that the external energy source or the generation of ultrasonic waves used to inject moisture in the wet electron beam reaction of the existing nozzle or ultrasonic method Not only can the use of electrical energy for the reaction be reduced, but also the reaction efficiency can be improved by improving the supply rate of moisture during the reaction.

또한, 본 발명의 대기 오염 물질의 전자선 처리 장치를 이용하면, 전자선 조사에 의해 높아진 반응기 내부의 온도를 낮추기 위해 필수적으로 구비하였던 냉각 장치의 구성을 생략 또는 최소화할 수 있는 장점이 있다.In addition, when the electron beam treatment apparatus for air pollutants of the present invention is used, there is an advantage of omitting or minimizing the configuration of a cooling device that is essentially provided to lower the temperature inside the reactor, which is increased by irradiation with the electron beam.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니 된다.
도 1에는 본 발명에 따른 대기 오염 물질의 전자선 처리 장치의 일 실시예가 도시되어 있다.
도 2에는 본 발명에 따른 배플을 포함하는 대기 오염 물질의 전자선 처리 장치의 일 실시예가 도시되어 있다.
도 3에는 본 발명에 따른 금속 소재의 3차원 망상 구조체를 포함하는 대기 오염 물질의 전자선 처리 장치의 일 실시예가 도시되어 있다. The following drawings attached to the present specification illustrate preferred embodiments of the present invention, and serve to further understand the technical idea of the present invention together with the content of the above-described invention, so the present invention is limited to the matters described in such drawings. It is limited and should not be interpreted.
1 shows an embodiment of an apparatus for treating an electron beam of air pollutants according to the present invention.
2 shows an embodiment of an apparatus for treating an electron beam of air pollutants including a baffle according to the present invention.
FIG. 3 shows an embodiment of an apparatus for treating an electron beam of air pollutants including a three-dimensional network structure made of a metal material according to the present invention.

본 발명의 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법은, 수용액 유래의 가습 분위기 하에서 대기 오염 물질 함유 피처리 기체에 대하여 전자선을 조사하여서, 상기 수용액의 기액 접촉 공간에서 상기 대기 오염 물질을 비오염 물질로 전환시키는 반응을 수행하는 단계를 포함한다.In the method of treating an air pollutant with an electron beam of the present invention, the air pollutant is converted into a non-polluting substance in a gas-liquid contact space of the aqueous solution by irradiating an electron beam to a gas to be treated containing an air pollutant in a humidified atmosphere derived from an aqueous solution. And carrying out the reaction.

본 발명에 있어서, 상기 대기 오염 물질은 질소 산화물 및 황 산화물 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것일 수 있으며, 예를 들어 NO, NO2, SO2, VOCs(휘발성유기화합물), 온실가스, 악취물질 및 다이옥신류 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것일 수 있다. 상기 VOCs는 이에 제한되는 것은 아니나, 예를 들어 아세트알데하이드(Acetaldehyde), 아세틸렌(Acetylene), 아세틸렌 다이클로라이드(Acetylene dichloride), 아크롤레인(Acrolein), 아크릴로나이트릴(Acrylonitrile), 벤젠(Benzene), 1,3-부타디엔(1,3-Butadiene), 부테인(Butane), 1-부텐(1-Butene), 2-부텐(2-Butene), 카본 테트라클로라이드(Carbon Tetrachloride), 클로로포름(Chloroform), 사이클로헥세인(Cyclohexane), 1,2-다이클로로에테인(1,2-Dichloroethane), 다이에틸아민(Diethylamine), 다이메틸아민(Dimethylamine), 에틸 알코올(Ethyl Alcohol), 에틸렌(Ethylene), 포름알데하이드(Formaldehyde), n-헥세인(n-Hexane), 이소프로필 알코올(Isopropyl Alcohol), 메탄올(Methanol), 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone), 메틸렌 클로라이드(Methylene Chloride), 메틸 터셔리 바이틸 에터(Methyl Tertiary Bytyl Ether), 프로필렌(Propylene), 프로필렌 옥사이드(Propylene Oxide), 1,1,1-트리클로로에테인(1,1,1-Trichloroethane), 트리클로로에틸렌(Trichloroethylene), 휘발유, 납사 및 원유 등을 들 수 있다. 상기 온실가스는 이에 제한되는 것은 아니나, 예를 들어 이산화탄소(CO2), 메테인(CH4), 아산화질소(N2O), 수소불화탄소(HFCs), 과불화탄소(PFCs) 및 육불화황(SF6) 등을 들 수 있다. 상기 대기 오염 물질 함유 피처리 기체는 공장의 굴뚝에서 배출되는 배연가스, 자동차의 배기관에서 배출되는 배기가스, 오폐수 및 슬러지로부터 발생되는 오염 가스 등 대기 오염 물질을 포함하는 것이면 그 근원에 대해서는 특별히 제한되지 않는다.In the present invention, the air pollutant may include at least one of nitrogen oxides and sulfur oxides, for example NO, NO 2 , SO 2 , VOCs (volatile organic compounds), greenhouse gases, odor substances, and It may include at least any one selected from the group consisting of dioxins and the like. The VOCs are not limited thereto, for example, acetaldehyde, acetylene, acetylene dichloride, acrolein, acrylonitrile, benzene, 1 ,3-Butadiene, Butane, 1-Butene, 2-Butene, Carbon Tetrachloride, Chloroform, Cyclo Hexane (Cyclohexane), 1,2-Dichloroethane (1,2-Dichloroethane), Diethylamine, Dimethylamine, Ethyl Alcohol, Ethylene, Formaldehyde ( Formaldehyde), n-Hexane, Isopropyl Alcohol, Methanol, Methyl Ethyl Ketone, Methylene Chloride, Methyl Tertiary Vityl Ether (Methyl Tertiary Bytyl Ether), Propylene, Propylene Oxide, 1,1,1-Trichloroethane, Trichloroethylene, Gasoline, Naphtha and Crude Oil Can be lifted. The greenhouse gas is not limited thereto, for example, carbon dioxide (CO 2 ), methane (CH 4 ), nitrous oxide (N 2 O), hydrogen fluorocarbons (HFCs), perfluorocarbons (PFCs), and sulfur hexafluoride. (SF 6 ) and the like. If the gas to be treated containing air pollutants contains air pollutants such as flue gas discharged from the chimney of a factory, exhaust gas discharged from exhaust pipes of automobiles, waste water and pollutant gases generated from sludge, the source is not particularly limited Does not.

상기 대기 오염 물질은 가습 분위기 하에서 전자선 조사에 의해 생성되는 라디칼 종에 의해 분해 및 산화, 환원 등의 기전에 의하여 비오염 물질로 전환되며, 상기 비오염 물질은 이에 제한되는 것은 아니나 예를 들어 N2, O2, HNO3, H2SO4, H2O 및 CO2로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것일 수 있다.The air pollutants are converted into non-polluting substances by mechanisms such as decomposition, oxidation, and reduction by radical species generated by electron beam irradiation in a humidified atmosphere, and the non-polluting substances are not limited thereto, but, for example, N 2 , O 2 , HNO 3 , H 2 SO 4 , H 2 O and CO 2 It may include at least any one selected from the group consisting of.

본 발명의 기전이 이에 제한되는 것은 아니나, 예를 들어 상기 가습 분위기 하에서 전자선이 조사되는 경우, 수분으로부터 다음의 라디칼 종 또는 분자 생성물을 생성할 수 있으며, 상기 수용액의 기액 접촉 공간에서 이러한 생성물과 대기 오염 물질과의 산화·환원 반응에 의해 상기 대기 오염 물질이 비오염 물질로 전환될 수 있다.Although the mechanism of the present invention is not limited thereto, for example, when an electron beam is irradiated under the humidified atmosphere, the following radical species or molecular products may be generated from moisture, and these products and atmosphere in the gas-liquid contact space of the aqueous solution The air pollutants may be converted into non-pollutants by oxidation and reduction reactions with pollutants.

[식 1][Equation 1]

(전자선 조사 시) H2O → e- aq, ·H, ·OH, H2, H2O2, HO2, H+ aq, OH- aq (In case of electron beam irradiation) H 2 O → e - aq , ·H, ·OH, H 2 , H 2 O 2 , HO 2 , H + aq , OH - aq

본 발명에 있어서, 상기 가습 분위기는 수용액의 온도가 10 내지 100℃의 온도, 구체적으로 40 내지 100℃의 온도로 유지되는 것일 수 있으며, 10 내지 100(%)의 상대 습도, 구체적으로 30 내지 100(%)의 상대 습도로 유지되는 것일 수 있다.In the present invention, the humidifying atmosphere may be that the temperature of the aqueous solution is maintained at a temperature of 10 to 100 °C, specifically 40 to 100 °C, and a relative humidity of 10 to 100 (%), specifically 30 to 100 It may be maintained at a relative humidity of (%).

상기 수용액 유래의 가습 분위기를 형성하는 수용액은 이에 제한되는 것은 아니나, 예를 들어 순수(H2O), NH4OH, NaOH, NaCl, Ca(OH)2, CaCl2, NaClO2 및 H2O2로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것일 수 있다.The aqueous solution forming a humidified atmosphere derived from the aqueous solution is not limited thereto, but, for example, pure water (H 2 O), NH 4 OH, NaOH, NaCl, Ca(OH) 2 , CaCl 2 , NaClO 2 and H 2 O It may include at least one selected from the group consisting of 2 .

상기 수용액 '유래'의 가습 분위기는 상기 전자선 조사에 의한 직·간접적인 열에 의하여 상기 수용액으로부터 기화한 수분에 의해 가습 분위기가 형성된 것을 나타낸다. 본 발명은 상기 전자선 조사에 의하여 발생한 열을 상기 수용액이 직·간접적으로 흡수하기 때문에 전자선 조사에 의하여 높아진 온도를 낮추기 위한 별도의 단계를 생략 또는 최소화할 수 있는 장점이 있다.The humidifying atmosphere of the aqueous solution'derived' indicates that the humidifying atmosphere is formed by moisture vaporized from the aqueous solution by direct or indirect heat caused by the electron beam irradiation. In the present invention, since the aqueous solution directly or indirectly absorbs the heat generated by the electron beam irradiation, a separate step for lowering the temperature raised by the electron beam irradiation can be omitted or minimized.

또한, 상기 열에 의하여 기화한 수분에 의해 가습 분위기를 형성하기 때문에, 상기 대기 오염 물질의 비오염 물질로의 전환 반응이 일어나는 공간에 노즐 등을 통하여 별도로 스팀을 공급하거나, 초음파 등을 통하여 액적을 형성하는 단계를 포함하지 않고서도, 가습 분위기를 형성하여 상기 반응을 촉진할 수 있는 장점이 있다.In addition, since the humidified atmosphere is formed by the moisture vaporized by the heat, steam is separately supplied through a nozzle or the like to the space where the conversion reaction of the air pollutant to non-polluted material occurs, or droplets are formed through ultrasonic waves. Without including the step of, there is an advantage that the reaction can be promoted by forming a humidified atmosphere.

본 발명에 있어서, 상기 가습 분위기의 유지를 위해서 상기 수용액을 보충하는 단계를 더 포함할 수 있으며, 예를 들어 상기 수용액의 보충 시점 및/또는 보충 속도는 상기 가습 분위기의 유지를 위한 온도 및 상대 습도의 측정값에 따라서 조절될 수 있다. 또한, 본 발명은 상기 가습 분위기의 유지를 위한 온도 및/또는 상대 습도를 측정하는 단계를 더 포함할 수 있다.In the present invention, it may further include the step of replenishing the aqueous solution to maintain the humidified atmosphere, for example, the replenishment time and/or replenishment rate of the aqueous solution is a temperature and relative humidity for maintaining the humidified atmosphere. It can be adjusted according to the measured value of. In addition, the present invention may further include measuring a temperature and/or relative humidity for maintaining the humidified atmosphere.

또한, 상기 피처리 기체는 상기 대기 오염 물질뿐만 아니라 먼지 등을 포함하고 있을 수 있어서, 본 발명은 사전에 상기 피처리 기체로부터 먼지를 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다. 예컨대 상기 피처리 기체에 전자선을 조사하기 전 임의의 단계에서 상기 먼지를 제거하는 단계는 먼지 필터를 이용하는 등 당업계에 공지된 수단을 이용할 수 있으며, 그 시점이나 수단에 특별히 제한되는 것은 아니다.In addition, since the gas to be treated may contain dust as well as the air pollutants, the present invention may further include removing dust from the gas to be treated in advance. For example, the step of removing the dust in an arbitrary step before irradiating the target gas with an electron beam may use a means known in the art such as using a dust filter, and is not particularly limited to the time point or means.

상술한 바와 같이, 본 발명에 있어서 상기 전자선 조사에 의해서 라디칼 반응의 촉진을 통하여 대기 오염 물질이 비오염 물질로 전환되는 것이며, 이때 상기 전자선은 처리 대상의 기체의 양, 가습 분위기의 온도, 습도 등에 따라 조절할 수 있는 것이나, 상기 전자선 조사는 예를 들어 1 내지 1000 kGy의 조사선량으로 조사할 수 있으며, 구체적으로 5 내지 100 kGy의 조사선량으로 조사하는 것이 소비되는 에너지 절감 및 처리 효율 개선의 측면에서 바람직할 수 있다.As described above, in the present invention, air pollutants are converted into non-polluting substances through the promotion of radical reactions by irradiation of the electron beams, and the electron beams are the amount of gas to be treated, the temperature of the humidified atmosphere, humidity, etc. However, the electron beam irradiation can be irradiated with an irradiation dose of 1 to 1000 kGy, and specifically, irradiation with an irradiation dose of 5 to 100 kGy is used in terms of energy saving and improvement of treatment efficiency. It may be desirable.

본 발명의 대기 오염 물질의 전자선 처리 장치는 가습 분위기 하에서 전자선 조사에 의하여 피처리 기체 중의 대기 오염 물질을 비오염 물질로 전환시키기 위한 반응이 일어나는 반응부, 상기 반응부의 내부로 상기 대기 오염 물질 함유 피처리 기체를 유입시키기 위한 유입부, 상기 반응부의 내부에서 형성된 상기 비오염 물질 함유 처리 기체를 외부로 배출시키기 위한 배출부, 상기 반응부에 가습 분위기를 제공하는 수용액을 수용하기 위하여, 상기 반응부의 하부에 배치된 수조부, 및 상기 반응부에 전자선을 조사하기 위한 전자선 조사부를 포함한다.The electron beam treatment apparatus for air pollutants of the present invention is a reaction part in which a reaction for converting air pollutants in a gas to be treated into non-pollutants by irradiation with electron beams in a humidified atmosphere occurs, and the air pollutants are contained in the reaction part. An inlet portion for introducing a processing gas, an outlet portion for discharging the non-pollutant-containing processing gas formed inside the reaction portion to the outside, and a lower portion of the reaction portion for accommodating an aqueous solution providing a humidified atmosphere to the reaction portion And an electron beam irradiation section for irradiating an electron beam to the water tank and the reaction section.

상기 대기 오염 물질은 상술한 바와 같이, NO, NO2, SO2, VOCs(휘발성유기화합물), 온실가스, 악취물질 및 다이옥신류 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것일 수 있으며, 상기 비오염 물질은 N2, O2, HNO3, H2SO4, H2O 및 CO2로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.As described above, the air pollutant may include at least one selected from the group consisting of NO, NO 2 , SO 2 , VOCs (volatile organic compounds), greenhouse gases, malodorous substances, and dioxins, The non-polluting material may include at least any one selected from the group consisting of N 2 , O 2 , HNO 3 , H 2 SO 4 , H 2 O and CO 2 .

본 발명에 있어서, 상기 반응부에 수용된 수용액이 기화하여 반응부 내 가습 분위기를 형성할 수 있다. 이때, 상기 수용액은 순수(H2O), NH4OH, NaOH, NaCl, Ca(OH)2, CaCl2, NaClO2 및 H2O2로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 본 발명의 대기 오염 물질의 처리 방법에서 상술한 바와 같이, 상기 수용액 유래의 가습 분위기에서 전자선이 조사됨으로써 상기 수용액의 기액 접촉 공간에서 상기 대기 오염 물질이 비오염 물질로 전환될 수 있다.In the present invention, the aqueous solution contained in the reaction unit may be vaporized to form a humidified atmosphere in the reaction unit. At this time, the aqueous solution may contain at least one selected from the group consisting of pure water (H 2 O), NH 4 OH, NaOH, NaCl, Ca(OH) 2 , CaCl 2 , NaClO 2 and H 2 O 2 . As described above in the method of treating air pollutants of the present invention, the air pollutants may be converted into non-polluting substances in the gas-liquid contact space of the aqueous solution by irradiating an electron beam in a humidified atmosphere derived from the aqueous solution.

본 발명에 있어서, 상기 가습 분위기는 수용액의 온도가 10 내지 100℃의 온도, 구체적으로 40 내지 100℃의 온도로 유지되는 것일 수 있으며, 10 내지 100(%)의 상대 습도, 구체적으로 30 내지 100(%)의 상대 습도로 형성될 수 있다.In the present invention, the humidifying atmosphere may be that the temperature of the aqueous solution is maintained at a temperature of 10 to 100 °C, specifically 40 to 100 °C, and a relative humidity of 10 to 100 (%), specifically 30 to 100 It can be formed with a relative humidity of (%).

또한, 본 발명에 있어서 상기 반응부의 내부의 온도 및 상대 습도를 측정하기 위한 제1 센서부 및 제2 센서부, 및 상기 수조부의 수용액의 수위를 측정하기 위한 제3 센서부 중 적어도 어느 하나를 더 포함할 수 있다. 상기 제1 내지 제3 센서부를 통해 반응부 내부의 온도, 습도, 또는 수위를 조절함으로써 반응의 모니터링 및 대기 오염 물질 함유 피처리 기체, 수용액 등의 반응부 내부로의 주입을 조절할 수 있다.In addition, in the present invention, at least one of a first sensor unit and a second sensor unit for measuring the temperature and relative humidity inside the reaction unit, and a third sensor unit for measuring the water level of the aqueous solution of the water tank unit It may contain more. By adjusting the temperature, humidity, or water level inside the reaction unit through the first to third sensor units, it is possible to monitor the reaction and control the injection of gas or aqueous solution containing air pollutants into the reaction unit.

본 발명에 있어서, 반응이 진행됨에 따라 수용액의 기화 등에 의한 손실이 발생하게 되므로, 상기 반응부 내부의 가습 분위기의 유지를 위해서 상기 반응부 내부로 수용액을 보충적으로 공급하기 위한 수용액 공급부를 더 포함할 수 있다. 상기 수용액 공급부를 포함하여 일정한 가습 분위기를 유지하여 연속적인 반응이 수행될 수 있게 하여 반응 효율을 증대시킬 수 있다.In the present invention, since loss due to vaporization of the aqueous solution occurs as the reaction proceeds, an aqueous solution supply unit for supplementally supplying the aqueous solution into the reaction unit in order to maintain a humidified atmosphere inside the reaction unit is further included. I can. By maintaining a constant humidifying atmosphere including the aqueous solution supply unit, a continuous reaction can be performed, thereby increasing reaction efficiency.

상기 수용액이 수용되는 수조부는 상기 반응부의 하부에 일체형 또는 착탈형으로 연결되어 있을 수 있다. 또한, 상기 수조부의 상부는 개방형일 수도 있으나, 상기 수조부의 상부에는 상기 반응부의 내부 공간과 상기 수조부의 내부 공간을 분리하기 위하여, 상기 수조부에 수용되는 수용액의 수면의 적어도 일부를 덮는 적어도 하나의 덮개부를 더 포함할 수도 있다. 상기 수조부의 상부에 덮개를 포함하는 경우 수조부에 수용되는 수용액에 전자선이 직접적으로 조사되어 수용액이 분해되어 손실되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 상기 덮개부를 금속 소재로 구비하거나, 및/또는 덮개부에 별도의 열선을 배치함으로써 수조부에 수용되는 수용액에의 열전도율을 높여 수용액의 기화를 촉진하는 효과를 나타낼 수 있다.The water tank in which the aqueous solution is accommodated may be connected integrally or detachably to the lower part of the reaction part. In addition, the upper portion of the water tank may be an open type, but in order to separate the inner space of the reaction portion and the inner space of the water tank, the upper portion of the water tank portion covers at least a part of the water surface of the aqueous solution accommodated in the water tank. It may further include at least one cover. When the cover is included on the upper portion of the water tank, electron beams are directly irradiated to the aqueous solution accommodated in the water tank to prevent the aqueous solution from being decomposed and lost. In addition, it is possible to exhibit an effect of promoting vaporization of the aqueous solution by increasing the thermal conductivity of the aqueous solution accommodated in the water tank by providing the cover part with a metallic material and/or disposing a separate heating wire in the cover part.

또한, 상기 반응부의 내부에는 상기 피처리 기체의 흐름 방향을 불규칙하게 변화시키기 위해서 적어도 하나의 배플이 배치될 수 있다. 상기 배플이 두 개 이상 배치되는 경우 서로 이격하여 배치되는 것이 기체의 흐름 방향 변화의 측면에서 바람직하다. 또한, 상기 배플이 두 개 이상 배치되는 경우 제1 배플이 반응부의 상부에 접촉하여 형성되는 경우 제2 배플은 반응부의 상부에 이격하여 배치될 수도 있고, 또는 제2 배플은 반응부의 하부에 연결되어 있는 수조부에 접촉하여, 또는 수조부의 상부에 배치된 덮개에 접촉하여 형성됨으로써 지그재그 형태를 구성할 수 있다.In addition, at least one baffle may be disposed inside the reaction unit to irregularly change the flow direction of the gas to be treated. When two or more baffles are disposed, it is preferable in terms of changing the flow direction of the gas to be disposed apart from each other. In addition, when two or more baffles are disposed, when the first baffle is formed in contact with the upper part of the reaction part, the second baffle may be disposed spaced apart from the upper part of the reaction part, or the second baffle is connected to the lower part of the reaction part. The zigzag shape can be configured by being formed in contact with the water tank part or the cover disposed on the upper part of the water tank.

상기 배플은 상기 피처리 기체의 흐름 방향을 거스르는 판상형 또는 나선형의 배플일 수 있다.The baffle may be a plate-shaped or spiral baffle that opposes the flow direction of the gas to be treated.

본 발명의 장치의 동작이 이에 제한되는 것은 아니나, 본 발명에 있어서 적어도 하나의 배플을 포함하는 경우, 상기 피처리 기체는 상기 반응부 상단의 일 측면에 접촉한 배플의 상기 피처리 기체의 유입부와 가까운 면에서는 위에서 아래로 흐르고, 상기 반응부 하부의 일 측면에 접촉한 배플의 상기 피처리 기체의 유입부와 가까운 면에서는 아래에서 위로 흐르게 되어, 상기 피처리 기체의 상기 반응부에서의 체류 시간, 구체적으로 상기 수용액의 기액 접촉 공간에의 체류 시간을 증가시킴으로써 반응 효율을 증가시킬 수 있다.Although the operation of the apparatus of the present invention is not limited thereto, in the case of including at least one baffle in the present invention, the gas to be treated is an inlet portion of the baffle in contact with one side of the upper end of the reaction unit. It flows from top to bottom on a side close to and flows from bottom to top on a side close to the inlet of the gas to be treated of the baffle in contact with one side of the lower part of the reaction part, and the residence time of the gas to be treated in the reaction part In particular, the reaction efficiency may be increased by increasing the residence time of the aqueous solution in the gas-liquid contact space.

또한, 상기 수조부에는 금속 소재의 3차원 망상 구조체가 수용되어 있을 수 있다. 본 발명의 동작이 이에 제한되는 것은 아니나, 예를 들어 상기 수조부에 상기 금속 소재의 3차원 망상 구조체가 수용되어 있을 때 상기 수조부에 수용액이 수용되는 경우 가열된 상기 금속 소재의 3차원 망상 구조체에 의해 수조부에 수용되는 수용액의 온도를 상승시켜 가습효과를 높이게 되며, 수용액 상의 열전도율을 높여 상기 가습 분위기를 우수하게 유지하는 효과를 나타낼 수 있다.In addition, a three-dimensional network structure made of a metal material may be accommodated in the water tank. Although the operation of the present invention is not limited thereto, for example, when an aqueous solution is accommodated in the water tank when the three-dimensional network structure of the metallic material is accommodated in the water tank, the heated three-dimensional network structure of the metallic material is As a result, the temperature of the aqueous solution accommodated in the water tank is increased to increase the humidification effect, and the thermal conductivity of the aqueous solution may be increased to maintain an excellent humidification atmosphere.

또한, 본 발명에 있어서, 상기 유입부 전에 피처리 기체로부터 먼지를 제거할 수 있는 수단을 구비한 집진부를 더 포함할 수 있다.In addition, in the present invention, it may further include a dust collecting unit provided with a means for removing dust from the gas to be treated before the inlet.

도 1 내지 3에는 본 발명에 따른 대기 오염 물질의 처리 장치의 일 실시예가 개략적으로 도시되어 있다. 하지만, 본 명세서에 기재된 도면에 도시된 구성은 본 발명의 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등론과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.1 to 3 schematically shows an embodiment of an apparatus for treating air pollutants according to the present invention. However, since the configuration shown in the drawings described in the present specification is only an embodiment of the present invention and does not represent all the technical spirit of the present invention, various equivalences and modifications that can replace them at the time of application It should be understood that there may be.

도 1에 도시된 대기 오염 물질의 전자선 처리 장치는 가습 분위기 하에서 전자선 조사에 의하여 피처리 기체 중의 대기 오염 물질을 비오염 물질로 전환시키기 위한 반응이 일어나는 반응부(100), 상기 반응부의 내부로 상기 대기 오염 물질 함유 피처리 기체를 유입시키기 위한 유입부(101), 상기 반응부의 내부에서 형성된 비오염 물질 함유 처리 기체를 외부로 배출시키기 위한 배출부(102), 상기 반응부에 가습 분위기를 제공하는 수용액을 수용하기 위하여 상기 반응부의 하부에 배치된 수조부(200) 및 상기 반응부에 전자선을 조사하기 위한 전자선 조사부(300)를 포함한다. 상기 일 실시예에 따른 전자선 처리 장치를 이용하면 수조부(200)에 수용되는 수용액에 의해 반응부(100) 내부에 가습 분위기를 형성함으로써 전자선 조사에 의한 대기 오염 물질의 처리 효율을 크게 개선하는 효과를 나타낼 수 있다.The electron beam treatment apparatus for air pollutants illustrated in FIG. 1 includes a reaction unit 100 in which a reaction for converting air pollutants in a gas to be treated into non-polluting substances is generated by irradiation of an electron beam in a humidified atmosphere, and the reaction unit is placed inside the reaction unit. An inlet unit 101 for introducing an air pollutant-containing gas to be treated, a discharge unit 102 for discharging a non-pollutant-containing treatment gas formed inside the reaction unit to the outside, and providing a humidified atmosphere to the reaction unit. A water tank part 200 disposed under the reaction part to accommodate an aqueous solution, and an electron beam irradiation part 300 for irradiating an electron beam to the reaction part. When the electron beam treatment device according to the embodiment is used, a humidifying atmosphere is formed inside the reaction unit 100 by an aqueous solution accommodated in the water tank unit 200, thereby greatly improving the treatment efficiency of air pollutants by electron beam irradiation. Can represent.

도 2에 도시된 대기 오염 물질의 처리 장치는 가습 분위기 하에서 전자선 조사에 의하여 피처리 기체 중의 대기 오염 물질을 비오염 물질로 전환시키기 위한 반응이 일어나는 반응부(100), 상기 반응부의 내부로 상기 대기 오염 물질 함유 피처리 기체를 유입시키기 위한 유입부(101), 상기 반응부의 내부에서 형성된 비오염 물질 함유 처리 기체를 외부로 배출시키기 위한 배출부(102), 상기 반응부에 가습 분위기를 제공하는 수용액을 수용하기 위하여 상기 반응부의 하부에 배치된 수조부(200), 상기 반응부 내부로 수용액을 보충적으로 공급하기 위한 수용액 공급부(202), 상기 반응부에 전자선을 조사하기 위한 전자선 조사부(300), 및 상기 유입된 피처리 기체의 흐름 방향을 불규칙하게 변화시키기 위해 배치된 배플(500)을 포함한다. 또한, 상기 일 실시예에 따른 상기 장치는 상기 수조부의 상부에 덮개부(201)가 배치되어 수조부에 수용되는 수용액 표면의 일부만이 상기 반응부의 내부 공간에 노출되어 있다. 또한, 온도 및 습도 측정을 위한 제1 및 제2 센서부(400) 및 수조부에 수용되는 수용액의 수위 측정을 위한 제3 센서부(401)가 구비되어 있다. 일 실시예에 따른 상기 장치에 따르면, 상기 수조부(200)에 수용되는 수용액이 전자선 조사에 의해 높아진 반응부(100) 내부의 열에 의해 기화하여 형성된 수분이 반응부(100) 내부에 확산된다. 이때 형성되는 수분에 전자선이 조사되면 반응성이 높은 라디칼종을 형성하게 된다. 이때, 유입부(101)를 통해 유입된 피처리 기체에 함유된 대기 오염 물질이 상기 생성되는 라디칼종과 반응하여 비오염 물질로 전환되며, 비오염 물질 함유된 처리 기체는 다시 배출부(102)를 통해 반응부 외부로 배출된다. 여기서, 유입부(101)를 통해 유입된 피처리 기체의 이동 경로가 상기 배플(500)에 의해 증가되어 반응 효율을 증대시킬 수 있다. 또한, 수용액 공급부(202)를 통해 반응기 내부의 가습 분위기를 유지함으로써 연속 반응을 유도할 수 있다.The apparatus for treating air pollutants shown in FIG. 2 includes a reaction unit 100 in which a reaction for converting air pollutants in a gas to be treated into non-polluting substances by electron beam irradiation in a humidified atmosphere occurs, and the atmosphere into the reaction unit An inlet part 101 for introducing a pollutant-containing gas to be treated, an outlet part 102 for discharging a non-pollutant-containing treatment gas formed inside the reaction part to the outside, and an aqueous solution providing a humidified atmosphere to the reaction part A water tank part 200 disposed under the reaction part to accommodate the water tank part 200, an aqueous solution supply part 202 for supplementally supplying an aqueous solution into the reaction part, an electron beam irradiation part 300 for irradiating an electron beam to the reaction part, And a baffle 500 disposed to irregularly change the flow direction of the introduced gas. In addition, in the apparatus according to the exemplary embodiment, a cover part 201 is disposed on the upper part of the water tank, so that only a part of the surface of the aqueous solution accommodated in the water tank is exposed to the inner space of the reaction part. In addition, first and second sensor units 400 for measuring temperature and humidity and a third sensor unit 401 for measuring the water level of an aqueous solution accommodated in the water tank are provided. According to the apparatus according to an embodiment, moisture formed by vaporizing an aqueous solution accommodated in the water tank 200 by heat inside the reaction unit 100 increased by electron beam irradiation is diffused into the reaction unit 100. At this time, when the formed moisture is irradiated with an electron beam, a highly reactive radical species is formed. At this time, the air pollutants contained in the gas to be treated introduced through the inlet 101 are converted into non-polluting substances by reacting with the generated radical species, and the treated gas containing the non-polluting substances is again discharged to the discharge unit 102 It is discharged to the outside of the reaction unit through. Here, the movement path of the gas to be treated introduced through the inlet 101 is increased by the baffle 500 to increase reaction efficiency. In addition, a continuous reaction may be induced by maintaining a humidified atmosphere inside the reactor through the aqueous solution supply unit 202.

도 3에 도시된 대기 오염 물질의 처리 장치는 가습 분위기 하에서 전자선 조사에 의하여 피처리 기체 중의 대기 오염 물질을 비오염 물질로 전환시키기 위한 반응이 일어나는 반응부(100), 상기 반응부의 내부로 상기 대기 오염 물질 함유 피처리 기체를 유입시키기 위한 유입부(101), 상기 반응부의 내부에서 형성된 비오염 물질 함유 처리 기체를 외부로 배출시키기 위한 배출부(102), 상기 반응부에 가습 분위기를 제공하는 수용액을 수용하기 위하여 상기 반응부의 하부에 배치된 수조부(200), 상기 반응부 내부로 수용액을 보충적으로 공급하기 위한 수용액 공급부(202), 상기 반응부에 전자선을 조사하기 위한 전자선 조사부(300), 및 상기 수조부에 수용된 금속 소재의 3차원 망상 구조체(501)를 포함한다. 또한, 상기 일 실시예에 따른 상기 장치는 상기 수조부의 상부에 덮개부(201)가 배치되어 수조부에 수용되는 수용액 표면의 일부만이 상기 반응부의 내부 공간에 노출되어 있다. 또한, 온도 및 습도 측정을 위한 제1 및 제2 센서부(400) 및 수조부에 수용되는 수용액의 수위 측정을 위한 제3 센서부(401)가 구비되어 있다. 이에 따르면, 일정 간격으로 배열된 금속 소재의 3차원 망상 구조체(501)에 전자선이 조사되면 가열됨으로써 온도가 올라가게 되어 수조부(200)에 수용되는 수용액의 온도를 상승시켜 가습효과를 높이게 되며, 부가적으로 열 전도율을 우수하게 개선할 수 있다. 또한, 상기 3차원 망상 구조체 자체가 열선이거나, 이에 열선을 배합하여 가습 분위기의 유지도를 향상시킬 수 있다.The apparatus for treating air pollutants shown in FIG. 3 includes a reaction unit 100 in which a reaction for converting air pollutants in a gas to be treated into non-polluting substances by irradiation with electron beams in a humidified atmosphere occurs, and the atmosphere into the reaction unit An inlet part 101 for introducing a pollutant-containing gas to be treated, an outlet part 102 for discharging a non-pollutant-containing treatment gas formed inside the reaction part to the outside, and an aqueous solution providing a humidified atmosphere to the reaction part A water tank part 200 disposed under the reaction part to accommodate the water tank part 200, an aqueous solution supply part 202 for supplementally supplying an aqueous solution into the reaction part, an electron beam irradiation part 300 for irradiating an electron beam to the reaction part, And a three-dimensional network structure 501 made of a metal material accommodated in the water tank. In addition, in the apparatus according to the exemplary embodiment, a cover part 201 is disposed on the upper part of the water tank, so that only a part of the surface of the aqueous solution accommodated in the water tank is exposed to the inner space of the reaction part. In addition, first and second sensor units 400 for measuring temperature and humidity and a third sensor unit 401 for measuring the water level of an aqueous solution accommodated in the water tank are provided. According to this, when an electron beam is irradiated to the three-dimensional network structure 501 of a metallic material arranged at regular intervals, the temperature increases by heating, thereby increasing the temperature of the aqueous solution accommodated in the water tank 200 to increase the humidification effect, Additionally, the thermal conductivity can be excellently improved. In addition, the three-dimensional network structure itself may be a hot wire, or by combining a hot wire therewith to improve the maintenance of the humidified atmosphere.

100 - 반응부 400 - 제1 및 제2 센서부
101 - 피처리 기체 유입부 401 - 제3 센서부
102 - 피처리 기체 배출부 500 - 배플
200 - 수조부 501 - 3차원 망상 구조체
201 - 덮개부
202 - 수용액 공급부
300 - 전자선 조사부100-reaction part 400-first and second sensor parts
101-Target gas inlet part 401-3rd sensor part
102-Processing target gas outlet 500-Baffle
200-Water tank 501-3D network structure
201-cover
202-aqueous solution supply
300-electron beam irradiation unit

Claims (20)

수용액 유래의 가습 분위기 하에서 대기 오염 물질 함유 피처리 기체에 대하여 전자선을 조사하여서, 상기 수용액의 기액 접촉 공간에서 상기 대기 오염 물질을 비오염 물질로 전환시키는 반응을 수행하는 단계를 포함하는 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법에 있어서,
상기 가습 분위기는 수면의 적어도 일부가 덮개에 의해 덮인 수용액으로부터 기화하는 수분에 의해 형성되는 것을 포함하거나, 또는
금속 소재의 3차원 망상 구조체가 수용되어 있는 수조에 담긴 수용액으로부터 기화하는 수분에 의해 형성되는 것을 포함하는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법.Air pollutants comprising the step of performing a reaction of converting the air pollutants into non-pollutants in the gas-liquid contact space of the aqueous solution by irradiating electron beams to the gas to be treated containing air pollutants in a humidified atmosphere derived from an aqueous solution In the electron beam treatment method,
The humidified atmosphere includes that at least a part of the water surface is formed by moisture vaporizing from an aqueous solution covered by a cover, or
A method for treating electron beams of air pollutants, comprising forming by moisture vaporizing from an aqueous solution contained in a water tank in which a three-dimensional network structure of a metal material is accommodated. 청구항 1에 있어서,
상기 가습 분위기는 10 내지 100℃의 수용액 온도로 유지되는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법.The method according to claim 1,
The humidifying atmosphere is maintained at a temperature of the aqueous solution of 10 to 100 ℃, electron beam treatment method of air pollutants. 청구항 1에 있어서,
상기 가습 분위기는 10 내지 100(%)의 상대 습도로 유지되는 것인 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법.The method according to claim 1,
The method of treating an air pollutant with an electron beam, wherein the humidified atmosphere is maintained at a relative humidity of 10 to 100 (%). 청구항 1에 있어서,
상기 수용액은 순수(H2O), NH4OH, NaOH, NaCl, Ca(OH)2, CaCl2, NaClO2 및 H2O2로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법.The method according to claim 1,
The aqueous solution contains at least one selected from the group consisting of pure water (H 2 O), NH 4 OH, NaOH, NaCl, Ca(OH) 2 , CaCl 2 , NaClO 2 and H 2 O 2 , the atmosphere How to treat pollutants with electron beams. 청구항 1에 있어서,
상기 가습 분위기의 유지를 위해서 상기 수용액을 보충하는 단계를 더 포함하는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법.The method according to claim 1,
The method further comprising the step of replenishing the aqueous solution to maintain the humidified atmosphere. 청구항 5에 있어서,
상기 가습 분위기의 유지를 위해서 온도 및 상대 습도의 측정값에 따라서 상기 수용액의 보충 시점 또는 보충 속도를 조절하는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법.The method of claim 5,
In order to maintain the humidified atmosphere, the replenishment timing or replenishment rate of the aqueous solution is adjusted according to the measured values of temperature and relative humidity. 청구항 1에 있어서,
사전에 상기 피처리 기체로부터 먼지를 제거하는 단계를 더 포함하는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법.The method according to claim 1,
The method further comprising removing dust from the gas to be processed in advance. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 전자선의 조사에 의해서 라디칼 반응의 촉진을 통하여 대기 오염 물질이 비오염 물질로 전환되는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법.The method according to claim 1 or 2,
The electron beam treatment method of air pollutants is converted into non-pollutants by promoting a radical reaction by irradiation of the electron beam. 청구항 1에 있어서,
상기 대기 오염 물질은 NO, NO2, SO2, VOCs(휘발성유기화합물), 온실가스, 악취물질 및 다이옥신류로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법.The method according to claim 1,
The air pollutant contains at least one selected from the group consisting of NO, NO 2 , SO 2 , VOCs (volatile organic compounds), greenhouse gases, malodorous substances, and dioxins, the electron beam treatment method of air pollutants . 청구항 1에 있어서,
상기 비오염 물질은 N2, O2, HNO3, H2SO4, H2O 및 CO2로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 방법.The method according to claim 1,
The non-polluting material is N 2 , O 2 , HNO 3 , H 2 SO 4 , H 2 O and CO 2 That contains at least any one selected from the group consisting of, electron beam treatment method of air pollutants. 가습 분위기 하에서 전자선 조사에 의하여 피처리 기체 중의 대기 오염 물질을 비오염 물질로 전환시키기 위한 반응이 일어나는 반응부;
상기 반응부의 내부로 상기 대기 오염 물질 함유 피처리 기체를 유입시키기 위한 유입부;
상기 반응부의 내부에서 형성된 상기 비오염 물질 함유 처리 기체를 외부로 배출시키기 위한 배출부;
상기 반응부에 가습 분위기를 제공하는 수용액을 수용하기 위하여, 상기 반응부의 하부에 배치된 수조부; 및
상기 반응부에 전자선을 조사하기 위한 전자선 조사부;를 포함하고,
상기 수조부의 상부에는 상기 반응부의 내부 공간과 상기 수조부의 내부 공간을 분리하기 위하여, 상기 수조부에 수용된 수용액의 수면의 적어도 일부를 덮는 적어도 하나의 덮개부를 포함하거나, 또는
상기 수조부에는 금속 소재의 3차원 망상 구조체가 수용되어 있는 것인 대기 오염 물질의 전자선 처리 장치.A reaction unit in which a reaction for converting air pollutants in the gas to be treated into non-polluting substances by irradiation with electron beams in a humidified atmosphere occurs;
An inlet part for introducing the gas to be treated containing the air pollutant into the reaction part;
A discharge unit for discharging the processing gas containing non-polluting substances formed inside the reaction unit to the outside;
A water tank part disposed below the reaction part to accommodate an aqueous solution providing a humidified atmosphere to the reaction part; And
Includes; an electron beam irradiation unit for irradiating an electron beam to the reaction unit,
The upper portion of the water tank includes at least one cover part covering at least a part of the water surface of the aqueous solution accommodated in the water tank to separate the inner space of the reaction part and the inner space of the water tank, or
The apparatus for treating electron beams of air pollutants in which a three-dimensional network structure made of a metal material is accommodated in the water tank. 청구항 11에 있어서,
상기 반응부의 내부의 온도 및 상대 습도를 측정하기 위한 제1 센서부 및 제2 센서부; 및 상기 수조부의 수용액의 수위를 측정하기 위한 제3 센서부를 더 포함하는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 장치.The method of claim 11,
A first sensor unit and a second sensor unit for measuring the temperature and relative humidity inside the reaction unit; And a third sensor unit for measuring the water level of the aqueous solution of the water tank unit. 청구항 11에 있어서,
상기 반응부 내부의 가습 분위기의 유지를 위해서 상기 반응부 내부로 수용액을 보충적으로 공급하기 위한 수용액 공급부를 더 포함하는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 장치.The method of claim 11,
The electron beam treatment apparatus for air pollutants further comprising an aqueous solution supply unit for supplementally supplying an aqueous solution to the inside of the reaction unit to maintain a humidified atmosphere inside the reaction unit. 청구항 11에 있어서,
상기 수조부는 상기 반응부의 하부에 일체형 또는 착탈형으로 연결되어 있는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 장치.The method of claim 11,
The water tank unit is integrally or detachably connected to the lower portion of the reaction unit, the electron beam treatment apparatus for air pollutants. 청구항 11에 있어서,
상기 반응부의 내부에는 상기 피처리 기체의 흐름 방향을 불규칙하게 변화시키기 위해서 적어도 하나의 배플이 배치되어 있는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 장치.The method of claim 11,
At least one baffle is disposed inside the reaction unit to irregularly change the flow direction of the gas to be treated. 청구항 15에 있어서,
상기 적어도 하나의 배플은 상기 피처리 기체의 흐름 방향을 거스르는 판상형 또는 나선형의 배플을 포함하는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 장치.The method of claim 15,
The at least one baffle includes a plate-shaped or helical baffle opposite to the flow direction of the gas to be processed. 삭제delete 삭제delete 청구항 11에 있어서,
상기 대기 오염 물질은 NO, NO2, SO2, VOCs(휘발성유기화합물), 온실가스, 악취물질 및 다이옥신류로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것인, 대기 오염 물질의 전자선 처리 장치.The method of claim 11,
The air pollutant contains at least one selected from the group consisting of NO, NO 2 , SO 2 , VOCs (volatile organic compounds), greenhouse gases, malodorous substances, and dioxins. . 청구항 11에 있어서,
상기 수용액은 순수(H2O), NH4OH, NaOH, NaCl, Ca(OH)2, CaCl2, NaClO2 및 H2O2로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것인 대기 오염 물질의 전자선 처리 장치.The method of claim 11,
The aqueous solution contains at least one selected from the group consisting of pure water (H 2 O), NH 4 OH, NaOH, NaCl, Ca(OH) 2 , CaCl 2 , NaClO 2 and H 2 O 2 Device for processing electron beams of matter.
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