KR102205134B1 - 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조 - Google Patents

기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조 Download PDF

Info

Publication number
KR102205134B1
KR102205134B1 KR1020190080553A KR20190080553A KR102205134B1 KR 102205134 B1 KR102205134 B1 KR 102205134B1 KR 1020190080553 A KR1020190080553 A KR 1020190080553A KR 20190080553 A KR20190080553 A KR 20190080553A KR 102205134 B1 KR102205134 B1 KR 102205134B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
ionizer
fixing
fixed
processing chamber
substrate processing
Prior art date
Application number
KR1020190080553A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20210004310A (ko
Inventor
김영미
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020190080553A priority Critical patent/KR102205134B1/ko
Publication of KR20210004310A publication Critical patent/KR20210004310A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102205134B1 publication Critical patent/KR102205134B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67207Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
    • H01L21/67213Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process comprising at least one ion or electron beam chamber
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05FSTATIC ELECTRICITY; NATURALLY-OCCURRING ELECTRICITY
    • H05F3/00Carrying-off electrostatic charges
    • H05F3/06Carrying-off electrostatic charges by means of ionising radiation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조는 수직방향을 길게 형성되는 결합홈을 구비하는 고정구조물과, 상기 결합홈에 고정되고 상기 이오나이저를 수평인 상태 또는 경사진 상태로 고정하는 복수의 브라켓과, 상기 복수의 브라켓에 의해 상기 고정구조물에 고정되는 바 형태의 이오나이저를 포함한다.

Description

기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조{MOUNTING STRUCTURE OF IONIZER IN SUBSTRATE PROCESSING CHAMBER}
본 발명은 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기판처리챔버 내에 이오나이저를 수평 또는 경사진 상태로 고정할 수 있는 이오나이저의 장착구조에 관한 것이다.
최근 들어 정보 처리 기기는 다양한 형태와 기능, 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있으며, 이러한 정보처리 장치는 가공된 정보를 표시하는 디스플레이 장치를 필요로 한다. 정보 디스플레이 장치로는 지금까지 주로 CRT 모니터가 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 경량, 소형이면서 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 장치가 급격히 증대하고 있다.
포토공정, 세정공정, 에칭 공정에서는 평판 디스플레이 장치 내에 정전기가 대전하기 쉬운 물질이 다량으로 이용되는데, 이때 정전기로 인한 먼지 등의 이물질 부착 등의 이슈로 수율 저하, 패턴 파괴 등의 문제가 발생한다.
따라서 평판 디스플레이 장치의 제조공정에서는 정전기를 제거하기 위한 바 형태의 이오나이저가 사용된다.
도 1a 및 도 1b은 종래의 이오나이저의 장착한 기판처리챔버의 구조를 도시한 도면이다.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 기판처리챔버(1) 내의 바 형태의 이오나이저(5)는 브라켓(6)을 이용하여 고정프레임(4)에 장착 고정된다.
고정프레임(4)은 메인프레임(2)의 천정 부분에 수직방향의 연결되어 있다. 고정프레임(4)는 이오나이저(5)를 고정하기 위한 프레임이다. 이오나이저(5)는 브라켓(6)을 이용하여 고정프레임(4)에 고정된다.
정전기를 제거하는 기판처리챔버에는, 도 1a와 같이 공정에 따라 기판이 수평인 상태에서 정전기가 제거되는 경우와 도 1b와 같이 기판이 기울여진 경사진 상태에서 정전기가 제거되는 경우가 존재한다.
도 1a와 같이 기판이 수평인 상태에서 정전기를 제거하는 기판처리챔버의 경우, 이오나이저(5)는 메인프레임(2)의 저면과 수평인 상태에서 고정프레임(4)에 브라켓(6)을 이용하여 고정된다. 그리고 도 1b와 같이 기판이 경사진 상태에서 정전기를 제거하는 기판처리챔버의 경우, 이오나이저(5)는 메인프레임(2)의 저면과 경사진 상태에서 고정프레임(4)에 브라켓(6)을 이용하여 고정된다.
이오나이저를 수평으로 고정하기 위한 고정용 프레임은, 이오나이저를 경사진 상태로 고정하기 위한 고정용 프레임과 서로 호환되지 않는다. 따라서 서로 다른 형태의 프레임이 별도로 설계 제작되어야 한다. 또한 설계 과정에서 오차가 발생하는 경우, 설비 품질이 저하될 수 있다.
대한민국 특허출원 제10-2011-0057605호
본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 바 형태의 이오나이저를 수평인 상태와 경사진 상태로 고정할 수 있는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조를 제공함에 그 목적이 있다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 따른 기판처리챔버 내 바 형태의 이오나이저의 장착구조는, 수직방향을 길게 형성되는 결합홈을 구비하는 고정구조물; 상기 결합홈에 고정되고, 상기 이오나이저를 수평인 상태 또는 경사진 상태로 고정하는 브라켓; 상기 브라켓에 의해 상기 고정구조물에 고정되는 바 형태의 이오나이저를 포함한다.
또한 실시예에 있어서, 상기 브라켓은, 상기 고정구조물의 결합홈에 삽입 고정되는 고정돌기를 구비하는 제1 몸체; 상기 제1 몸체에 회전 가능하게 결합되며, 상기 이오나이저를 고정하는 결속구를 구비하는 제2 몸체를 포함한다.
또한 실시예에 있어서, 상기 결속구는 상기 이오나이저를 탈착식으로 고정할 수 있다.
또한 실시예에 있어서, 상기 제1 몸체에는 상기 제2 몸체에 대한 상대적인 회전각도를 나타내는 회전각도 표식이 구비될 수 있다.
또한 실시예에 있어서, 상기 고정구조물은 수직방향의 복수의 고정프레임을 포함하고, 상기 결합홈은, 상기 이오나이저의 일측 및 타측이 서로 동일한 높이 또는 서로 다른 높이에 고정될 수 있도록, 복수의 고정프레임 각각에 길이방향을 따라 구비될 수 있다.
또한 실시예에 있어서, 상기 복수의 고정프레임 각각에는 상기 이오나이저의 고정각도에 따른 상기 브라켓의 고정위치를 표시하는 높이식별표식이 구비될 수 있다.
또한 실시예에 있어서, 상기 고정구조물은, 수직방향의 복수의 고정프레임과, 기 복수의 고정프레임에 고정되는 고정플레이트를 포함하고, 상기 결합홈은, 상기 이오나이저의 일측 및 타측이 서로 동일한 높이 또는 서로 다른 높이에 고정될 수 있도록, 상기 고정플레이트에 수직방향으로 형성된다.
본 발명에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조에 의하면, 바 형태의 이오나이저를 수평인 상태와 경사진 상태로 선택적으로 고정할 수 있으므로 수평인 상태와 경사진 상태로 고정하기 위한 고정용 프레임을 별도로 설계 제작할 필요가 없다. 또한 이오나이저의 고정각도와 무관하게 동일한 고정프레임을 이용할 수 있으므로 설비 품질을 향상시킬 수 있다.
도 1a 및 도 1b는 종래의 이오나이저의 장착구조를 도시한 도면이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조가 적용된 기판처리챔버를 도시한 도면이다.
도 3은 도 2에 도시된 고정구조물의 다른 예를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조를 도시한 사시도이다.
도 5는 도 4에 도시된 고정프레임을 설명하기 위한 단면도이다.
도 6은 도 4에 도시된 고정프레임에 브라켓이 고정된 구조를 설명하기 위한 단면도이다.
도 7은 도 4에 도시된 브라켓을 설명하기 위한 측면도이다.
도 8은 도 4에 도시된 브라켓을 설명하기 위한 정면도이다.
이하에서는, 본 발명의 실시예에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명에 따른 동작 및 작용을 이해하는 데 필요한 부분을 중심으로 상세히 설명한다.
또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 동일한 명칭의 구성 요소에 대하여 도면에 따라 다른 참조부호를 부여할 수도 있으며, 서로 다른 도면임에도 불구하고 동일한 참조부호를 부여할 수도 있다. 그러나, 이와 같은 경우라 하더라도 해당 구성 요소가 실시예에 따라 서로 다른 기능을 갖는다는 것을 의미하거나, 서로 다른 실시예에서 동일한 기능을 갖는다는 것을 의미하는 것은 아니며, 각각의 구성 요소의 기능은 해당 실시예에서의 각각의 구성 요소에 대한 설명에 기초하여 판단하여야 할 것이다. 또한 본 발명의 구성을 설명하는 데 있어서, 단수로 표현된 구성 요소는 단수 또는 복수개의 구성 요소를 포함한다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 바 형태의 이오나이저의 장착구조가 적용된 기판처리챔버를 도시한 도면이다.
기판처리챔버(10)는 기판의 세정공정, 에칭공정, 포토공정을 진행하기 위한 기판처리장치 내 구비되는 챔버들 중 어느 하나일 수 있다. 기판처리챔버 내에서 처리되는 기판은 반도체, 모니터 또는 TV용 디스플레이 패널, 모바일 디스플레이 패널, 기타 디스플레이 장치의 패널 중 어느 하나일 수 있다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 정전기 제거를 위한 기판처리챔버(10)는 메인프레임(100)과, 메인프레임 하단에 위치하여 기판을 이송하는 기판이송부(200)와, 메인프레임 상단에 연결되어 이오나이저를 고정하기 위한 고정구조물(300)과, 고정용 프레임에 고정되는 이오나이저(400)와, 이오나이저를 고정구조물에 고정하기 위한 브라켓(500)을 포함한다.
메인프레임(100)은 수직방향 및 수평방향의 메인프레임을 포함하며, 기판이송부(200), 고정구조물(300), 이오나이저(400), 브라켓(500)을 내부에 수용한다. 메인프레임(200)의 측면, 상면, 밑면 등에 플레이트가 결합되어 내부가 닫혀 있을 수 있다.
기판이송부(200)는 메인프레임(100)의 하단에 배치되어 도 2a에서 도면을 바라보는 방향 또는 그 반대 방향으로 기판을 이송한다. 기판이송부(200)는 기판을 이송하기 위한 컨베이어 벨트를 이용할 수 있다.
기판처리챔버(10)에는, 도 2a와 같이 기판처리챔버(10)의 저면에 평행한 수평 상태로 기판을 이송하기 위한 구조를 갖는 기판이송부(200) 또는 도 2b와 같이 기판처리챔버(10)의 저면에 경사진 상태로 기판을 이송하기 위한 구조를 갖는 기판이송부(200)가 구비될 수 있다.
고정구조물(300)에는 브라켓(500)에 의해 이오나이저(400)가 고정된다.
고정구조물(300)은 메인프레임(100)의 상단에서 하방으로 일정길이 연장된 수직방향의 복수의 고정프레임(310)을 포함할 수 있다.
복수의 고정프레임(310) 각각에는 브라켓(500)을 고정하기 위한 길이방향 즉, 수직방향으로 길게 형성된 결합홈(320)이 형성된다. 기판이송부(200)에 위치한 기판의 경사에 대응되도록, 어느 하나의 고정프레임에 고정된 브라켓(500)은 다른 하나의 고정프레임에 고정된 브라켓과 서로 동일한 높이 또는 다른 높이에 위치할 수 있다.
도 3은 도 2에 도시된 고정구조물의 다른 예를 도시한 도면이다. 도 3을 참조하면, 기판처리챔버(10)의 복수의 고정프레임(310)에는 고정플레이트(330)가 결합되고, 고정플레이트(330) 상에 수직방향을 길게 형성되는 결합홈(320)이 수평방향으로 복수개 배치될 수도 있다.
다시 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 바 형태의 이오나이저(400)는 기판이송부(200) 상의 기판에 정전기를 제거하는 기능을 수행한다.
바 형태의 이오나이저(400)은 기판이송부(200)의 경사에 대응되도록 도 2a와 같이 메인프레임(100)의 저면과 수평인 상태 또는 도 2b와 같이 경사진 상태로 고정프레임(300)에 고정된다.
브라켓(500)은 이오나이저(400)을 고정프레임(310)에 고정하는 기능을 수행한다.
이하 도 4 내지 도 8을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 기판처리챔버 내 바 형태의 이오나이저의 장착구조에 대해 상세히 설명한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조를 도시한 사시도이다. 도 5는 도 4에 도시된 고정프레임을 설명하기 위한 단면도이고, 도 6은 고정프레임에 브라켓이 고정된 구조를 설명하기 위한 단면도이다. 도 7은 도 4에 도시된 브라켓을 설명하기 위한 측면도이고, 도 8은 도 4에 도시된 브라켓을 설명하기 위한 정면도이다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 수직방향의 고정프레임(310)에는 고정프레임(310)의 길이방향 즉 수직방향으로 길게 형성되는 결합홈(320)이 구비된다. 고정프레임(310)의 길이방향으로 형성되는 결합홈(320) 중 특정 높이에서 브라켓(500)이 고정될 수 있다.
이오나이저의 일측을 고정하는 브라켓(500)이 이오나이저(400)의 타측을 고정하는 브라켓(500)보다 다른 높이에 고정되거나 또는 동일한 높이에 고정될 수 있다. 따라서 이오나이저는 수평인 상태 또는 경사진 상태로 고정될 수 있다.
이오나이저(400)의 고정각도에 따른 상기 브라켓(500)의 고정위치를 표시하는 높이식별표식(340)이 구비된다. 고정각도가 0도가 아닌 경우, 이오나이저의 일측 또는 타측을 각각 고정하는 브라켓의 고정높이는 달라지게 되며, 고정프레임(300)에는 결함홈 주위에 브라켓의 고정위치를 나타내는 높이식별표식(330)이 구비된다.
예를 들어, 이오나이저(400)의 고정각도가 0도, 5도, 10도 인 경우, 고정각도 0도, 5도, 10도 각각에 대응되는 높이식별표식이 고정프레임(310)마다 표시될 수 있다. 이오나이저(400)의 고정각도에 따른 높이식별표식은, 고정프레임(310)에 고정될 브라켓(500)의 위치를 쉽게 파악할 수 있게 한다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 브라켓(500)은, 결합홈(320)에 삽입 고정되는 고정돌기(511)를 구비하는 제1 몸체(510)와, 제1 몸체에 회전 가능하게 결합되며 이오나이저를 고정하는 결속구(521)를 구비하는 제2 몸체(520)를 포함한다.
구체적으로 제1 몸체(510)는, 일측에 형성되며 결합홈(320)에 삽입 고정되는 고정돌기(511)와, 타측에 형성되며 제2 몸체와 회전가능한 결합을 위한 회전돌기(514)와, 가장자리에 형성되는 복수의 고정나사홀(512)과, 제2 몸체에 대한 상대적인 회전각도를 나타내는 회전각도표식(515)을 포함한다.
고정돌기(511)는 수직방향으로 길게 형성되는 결합홈(320)내에 삽입되어 고정되며, 결합홈(320) 내에서 위치이동이 가능하다. 고정돌기(511)의 고정위치가 설정되면, 제1 몸체(510)에 형성된 고정나사홀(512)을 통해 고정나사(513)가 체결됨으로써 브라켓(500)이 고정프레임(300)에 견고히 고정될 수 있다.
회전돌기(514)는 제1 몸체(510)의 타측에 형성되고, 제2 몸체(520)의 회전돌기홈(522)에 삽입된다. 따라서 제2 몸체(520)는 회전돌기(514) 및 회전돌기(514)가 삽입된 회전돌기홈(522)에 의해 제1 몸체(510)에 대해 회전이 가능하게 된다. 따라서 이오나이저(400)를 수평인 상태 또는 경사진 상태에서 결속구(521)에 의한 정확하게 고정할 수 있다.
이와는 다르게 회전돌기(514)가 제2 몸체(520)에 구비되고, 회전돌기홈(522)이 제1 몸체(510)에 구비될 수도 있다.
도 8을 참조하면, 제1 몸체(510)의 회전각도표식(515)는 제2 몸체에 대한 상대적인 회전각도를 나타내는 회전각도표식(515)을 포함한다. 이오나이저의 경사 정도에 따라 제2 몸체(520)를 제1 몸체(510)에 대해 미리 회전시킨 후 결합하는 경우, 이오나이저의 정확한 고정이 가능하게 된다.
다시 도 6 및 도 7을 참조하면, 제2 몸체(520)에는 일측에 형성되고 제1 몸체의 회전돌기(514)를 수용하는 회전돌기홈(522)과, 타측에 형성되고 이오나이저를 고정하는 결속구(521)을 포함한다.
회전돌기홈(522)은 제1 몸체(510)에 구비되는 회전돌기(514)과 체결되어 제1 몸체(510)에 대한 제2 몸체(520)의 회전을 가능하게 한다.
결속구(521)는 이오나이저(400)을 고정한다. 결속구(521)는 이오나이저(400)의 유지 보수를 위해 탈착식으로 이오나이저(400)를 장착할 수 있다. 특히 결속구(521)는 후크(hook) 형태로 구비될 수 있다.
본 발명에 따른 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조에 의하면, 바 형태의 이오나이저를 수평인 상태와 경사진 상태로 선택적으로 고정할 수 있으므로 수평인 상태와 경사진 상태로 고정하기 위한 고정용 프레임을 별도로 설계 제작할 필요가 없다. 또한 이오나이저의 고정각도와 무관하게 동일한 고정프레임을 이용할 수 있으므로 설비 품질을 향상시킬 수 있다.
따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
10: 기판처리챔버 100: 메인프레임
200: 기판이송부 300: 고정구조물
310: 고정프레임 320: 결합홈
330: 고정플레이트 340: 높이식별표식
400: 이오나이저 500: 브라켓
510: 제1 몸체 511: 고정돌기
512: 고정나사홀 513: 고정나사
514: 회전돌기 515: 회전각도표식
520: 제2 몸체 521: 결속구
522: 회전돌기홈

Claims (7)

  1. 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조에 있어서,
    수직방향을 길게 형성되는 결합홈을 구비하는 고정구조물;
    상기 결합홈에 고정되고, 상기 이오나이저를 수평인 상태 또는 경사진 상태로 고정하는 브라켓;
    상기 브라켓에 의해 상기 고정구조물에 고정되는 바 형태의 이오나이저를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 브라켓은,
    상기 고정구조물의 결합홈에 삽입 고정되는 고정돌기를 구비하는 제1 몸체;
    상기 제1 몸체에 회전 가능하게 결합되며, 상기 이오나이저를 고정하는 결속구를 구비하는 제2 몸체를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조
  3. 제2항에 있어서,
    상기 결속구는 상기 이오나이저를 탈착식으로 고정하는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 제1 몸체에는 상기 제2 몸체에 대한 상대적인 회전각도를 나타내는 회전각도 표식이 구비되는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 고정구조물은 복수의 수직방향의 고정프레임을 포함하고,
    상기 결합홈은, 상기 이오나이저의 일측 및 타측이 서로 동일한 높이 또는 서로 다른 높이에 고정될 수 있도록, 상기 복수의 고정프레임 각각에 길이방향을 따라 구비되는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 복수의 고정프레임 각각에는 상기 이오나이저의 고정각도에 따른 상기 브라켓의 고정위치를 표시하는 높이식별표식이 구비되는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 고정구조물은,
    수직방향의 복수의 고정프레임과,
    상기 복수의 고정프레임에 고정되는 고정플레이트를 포함하고,
    상기 결합홈은, 상기 이오나이저의 일측 및 타측이 서로 동일한 높이 또는 서로 다른 높이에 고정될 수 있도록, 상기 고정플레이트의 수직방향으로 길게 형성되고 수평방향으로 배열되는 것을 특징으로 하는 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조.
KR1020190080553A 2019-07-04 2019-07-04 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조 KR102205134B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190080553A KR102205134B1 (ko) 2019-07-04 2019-07-04 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190080553A KR102205134B1 (ko) 2019-07-04 2019-07-04 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210004310A KR20210004310A (ko) 2021-01-13
KR102205134B1 true KR102205134B1 (ko) 2021-01-19

Family

ID=74142212

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190080553A KR102205134B1 (ko) 2019-07-04 2019-07-04 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102205134B1 (ko)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW424001B (en) * 1996-02-02 2001-03-01 Applied Materials Inc An apparatus for the electrostatic collection of contaminant particles from a substrate in semiconductor substrate processing equipment and a method for removing contaminant particles from the surface of a substrate
KR20020092088A (ko) * 2001-06-02 2002-12-11 삼성전자 주식회사 이오나이저가 구비된 진공챔버
JP3887570B2 (ja) * 2002-02-18 2007-02-28 協和化工株式会社 高速乾燥装置
JP5295808B2 (ja) * 2009-02-09 2013-09-18 東京エレクトロン株式会社 パーティクル付着防止方法及び被処理基板の搬送方法
KR101079417B1 (ko) 2009-11-24 2011-11-02 삼성전기주식회사 튜너 및 튜너 어셈블리

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210004310A (ko) 2021-01-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3644166A1 (en) Display screen and mobile terminal
KR101395219B1 (ko) 디스플레이 글라스 안착 모듈
KR102205134B1 (ko) 기판처리챔버 내 이오나이저의 장착구조
KR20110009488A (ko) 기판정렬장치
KR102143503B1 (ko) 디스플레이 패널 이송용 반전장치
KR20210060112A (ko) 카메라 모듈 검사 장치
CN105159021A (zh) 投影机
KR100477855B1 (ko) 액정디스플레이 패널 검사장치
CN109507848A (zh) 一种定位治具及定位方法
US7157929B1 (en) System for testing flat panel display devices
JP2006293047A (ja) 表示装置の保持方法、搬送方法および洗浄方法並びに洗浄装置
CN105404037A (zh) 液晶屏防静电装置
KR20200123349A (ko) 기판 이송 가이드장치
CN220603291U (zh) 一种用于集成电路光学检测设备的电路板承载托盘
KR102035083B1 (ko) 메탈 마스크용 프레임
KR101147263B1 (ko) 기판 고정용 플레이트
KR102439703B1 (ko) 표시장치
KR101163600B1 (ko) 기판 고정용 플레이트
KR101058237B1 (ko) 기판 지지 장치
US11506909B2 (en) Optical mechanism
US11920724B2 (en) Electronic apparatus
KR20080061460A (ko) 기판 정렬기능을 갖는 기판고정장치
KR101202888B1 (ko) 도포 장치 및 시험 도포 방법
KR101055547B1 (ko) 차폐막을 갖는 스퀴지 장치
KR20210051770A (ko) 디스플레이 패널 보호기능을 갖는 패널 이송용 반전장치

Legal Events

Date Code Title Description
GRNT Written decision to grant