KR102194805B1 - Light emitting device - Google Patents

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KR102194805B1
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Abstract

신뢰성이 향상된 발광소자가 개시된다.
일 실시예에 따른 발광소자는 복수 개의 발광 셀; 및 인접한 두 개의 발광 셀을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극;을 포함하고, 상기 복수 개의 발광 셀은 제1 도전형 반도체층, 제2 도전형 반도체층, 상기 제1 도전형 반도체층과 상기 제2 도전형 반도체층 사이의 활성층을 포함하는 발광 구조물과, 상기 제1 도전형 반도체층 상의 제1 전극과, 상기 제2 도전형 반도체층 상의 제2 전극을 각각 포함하며, 상기 브릿지 전극은 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극보다 두꺼운 부분을 갖는다.
A light emitting device with improved reliability is disclosed.
A light emitting device according to an embodiment includes a plurality of light emitting cells; And a bridge electrode electrically connecting two adjacent light emitting cells, wherein the plurality of light emitting cells include a first conductivity type semiconductor layer, a second conductivity type semiconductor layer, the first conductivity type semiconductor layer and the second conductivity A light emitting structure including an active layer between the type semiconductor layers, a first electrode on the first conductivity type semiconductor layer, and a second electrode on the second conductivity type semiconductor layer, wherein the bridge electrode is the first electrode Alternatively, it has a portion thicker than the second electrode.

Description

발광소자{LIGHT EMITTING DEVICE}Light emitting device{LIGHT EMITTING DEVICE}

실시 예는 발광 소자에 관한 것이다.The embodiment relates to a light emitting device.

반도체의 3-5족 또는 2-6족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드(Light Emitting Diode)나 레이저 다이오드와 같은 발광소자는 박막 성장 기술 및 소자 재료의 개발로 적색, 녹색, 청색 및 자외선 등 다양한 색을 구현할 수 있으며, 형광 물질을 이용하거나 색을 조합함으로써 효율이 좋은 백색 광선도 구현이 가능하며, 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저소비전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경친화성의 장점을 가진다.Light-emitting devices such as light emitting diodes and laser diodes using semiconductor materials of Group 3-5 or Group 2-6 compound are developed in various colors such as red, green, blue and ultraviolet light through the development of thin film growth technology and device materials. It is possible to implement white light with good efficiency by using fluorescent materials or by combining colors, and has low power consumption, semi-permanent life, fast response speed, safety, and environmental friendliness compared to conventional light sources such as fluorescent lamps and incandescent lamps. Has an advantage.

따라서, 광 통신 수단의 송신 모듈, LCD(Liquid Crystal Display) 표시 장치의 백라이트를 구성하는 냉음극관(CCFL: Cold Cathode Fluorescence Lamp)을 대체하는 발광 다이오드 백라이트, 형광등이나 백열 전구를 대체할 수 있는 백색 발광 다이오드 조명 장치, 자동차 헤드 라이트 및 신호등에까지 응용이 확대되고 있다.Therefore, a light emitting diode backlight that replaces the cold cathode fluorescent lamp (CCFL) that constitutes the transmission module of the optical communication means, the backlight of the LCD (Liquid Crystal Display) display, and white light that can replace fluorescent or incandescent bulbs. Applications are expanding to diode lighting devices, automobile headlights and traffic lights.

직렬 또는 병렬 연결된 복수 개의 발광 셀을 포함하는 발광소자에는 인접한 발광 셀 사이를 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(bridge electrode)이 존재한다. 복수 개의 발광 셀을 포함하는 발광소자에서는, 발광소자의 작동시 좁은 면적의 브릿지 전극으로 전류가 집중되면서 브릿지 전극이 타버리는 등 신뢰성 문제가 초래되기도 한다.In a light emitting device including a plurality of light emitting cells connected in series or in parallel, a bridge electrode electrically connecting adjacent light emitting cells exists. In a light-emitting device including a plurality of light-emitting cells, when the light-emitting device is operated, current is concentrated to a bridge electrode having a narrow area, and the bridge electrode is burned, resulting in reliability problems.

실시예는 신뢰성이 향상된 발광소자를 제공하고자 한다.The embodiment is to provide a light emitting device with improved reliability.

일 실시예에 따른 발광소자는 복수 개의 발광 셀; 및 인접한 두 개의 발광 셀을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극;을 포함하고, 상기 복수 개의 발광 셀은 제1 도전형 반도체층, 제2 도전형 반도체층, 상기 제1 도전형 반도체층과 상기 제2 도전형 반도체층 사이의 활성층을 포함하는 발광 구조물과, 상기 제1 도전형 반도체층 상의 제1 전극과, 상기 제2 도전형 반도체층 상의 제2 전극을 각각 포함하며, 상기 브릿지 전극은 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극보다 두꺼운 부분을 갖는다.A light emitting device according to an embodiment includes a plurality of light emitting cells; And a bridge electrode electrically connecting two adjacent light emitting cells, wherein the plurality of light emitting cells include a first conductivity type semiconductor layer, a second conductivity type semiconductor layer, the first conductivity type semiconductor layer and the second conductivity A light emitting structure including an active layer between the type semiconductor layers, a first electrode on the first conductivity type semiconductor layer, and a second electrode on the second conductivity type semiconductor layer, wherein the bridge electrode is the first electrode Alternatively, it has a portion thicker than the second electrode.

상기 브릿지 전극의 폭이 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극의 폭보다 클 수 있다.A width of the bridge electrode may be greater than a width of the first electrode or the second electrode.

상기 발광 구조물은 일부가 식각되어 상기 제1 도전형 반도체층을 노출하는 식각 영역을 포함하고, 상기 제1 전극은 노출된 상기 제1 도전형 반도체층 상에 배치될 수 있다.The light emitting structure may include an etching region in which a portion is etched to expose the first conductivity type semiconductor layer, and the first electrode may be disposed on the exposed first conductivity type semiconductor layer.

상기 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 중 어느 하나의 발광 셀의 제1 전극과 접하는 제1 부분, 다른 하나의 발광 셀의 제2 전극과 접하는 제2 부분, 상기 제1 부분과 상기 제2 부분 사이의 제3 부분을 포함할 수 있다.The bridge electrode includes a first portion in contact with a first electrode of any one of two adjacent light-emitting cells, a second portion in contact with a second electrode of another light-emitting cell, and between the first portion and the second portion. May include a third part of.

상기 브릿지 전극은 상기 제3 부분의 두께가 가장 클 수 있다.The bridge electrode may have the largest thickness of the third portion.

상기 제3 부분은 인접한 두 개의 발광 셀의 사이에 배치될 수 있다.The third portion may be disposed between two adjacent light emitting cells.

상기 브릿지 전극은 상기 제1 부분 또는 상기 제2 부분에서 각각 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극과 높이가 같을 수 있다.The bridge electrode may have the same height as the first electrode or the second electrode in the first portion or the second portion, respectively.

상기 브릿지 전극은 복수 개 존재할 수 있다.There may be a plurality of bridge electrodes.

상기 제1 부분의 일부가 상기 제1 전극의 상부에 배치되고, 상기 제2 부분의 일부가 상기 제2 전극의 상부에 배치될 수 있다.A portion of the first portion may be disposed above the first electrode, and a portion of the second portion may be disposed above the second electrode.

상기 브릿지 전극은 상기 제1 부분과 상기 제3 부분의 사이 및 상기 제2 부분과 상기 제3 부분의 사이에 배치되는 제4 부분을 더 포함하고, 상기 제4 부분의 두께가 상기 제1 부분, 상기 제2 부분 또는 상기 제3 부분 각각의 두께보다 작을 수 있다.The bridge electrode further includes a fourth portion disposed between the first portion and the third portion and between the second portion and the third portion, and the thickness of the fourth portion is the first portion, It may be smaller than the thickness of each of the second portion or the third portion.

다른 실시예에 따른 발광소자는 복수 개의 발광 셀; 및 인접한 두 개의 발광 셀을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극;을 포함하고, 상기 복수 개의 발광 셀은 제1 도전형 반도체층, 제2 도전형 반도체층, 상기 제1 도전형 반도체층과 상기 제2 도전형 반도체층 사이의 활성층을 포함하는 발광 구조물을 각각 포함하며, 상기 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 중 어느 하나의 발광 셀의 제1 도전형 반도체층과 다른 하나의 발광 셀의 제2 도전형 반도체층을 전기적으로 연결하고, 상기 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 사이에 복수 개 존재한다.A light emitting device according to another embodiment includes a plurality of light emitting cells; And a bridge electrode electrically connecting two adjacent light emitting cells, wherein the plurality of light emitting cells include a first conductivity type semiconductor layer, a second conductivity type semiconductor layer, the first conductivity type semiconductor layer and the second conductivity Each includes a light emitting structure including an active layer between the type semiconductor layers, wherein the bridge electrode is a first conductive type semiconductor layer of one light emitting cell among two adjacent light emitting cells and a second conductive type semiconductor layer of the other light emitting cell The layers are electrically connected, and a plurality of bridge electrodes are present between two adjacent light emitting cells.

상기 복수 개의 발광 셀은 제1 도전형 반도체층 상의 제1 전극 및 상기 제2 도전형 반도체층 상의 제2 전극을 각각 더 포함하고, 상기 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 중 어느 하나의 발광 셀의 제1 전극과 다른 하나의 발광 셀의 제2 전극 사이에 복수 개가 이격되어 배치될 수 있다.Each of the plurality of light emitting cells further includes a first electrode on a first conductive type semiconductor layer and a second electrode on the second conductive type semiconductor layer, and the bridge electrode is a light emitting cell of any one of two adjacent light emitting cells. A plurality of the first electrode and the second electrode of the other light emitting cell may be spaced apart and disposed.

상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 제1 방향의 길이 방향을 갖고, 상기 복수 개의 브릿지 전극은 상기 제1 방향과 같은 길이 방향을 가질 수도 있고 상기 제1 방향과 다른 제2 방향의 길이 방향을 가질 수 있다.The first electrode and the second electrode may have a length direction in a first direction, and the plurality of bridge electrodes may have the same length direction as the first direction, or a length direction in a second direction different from the first direction. Can have.

상기 복수 개의 브릿지 전극은 인접한 두 개의 발광 셀 중 어느 하나의 발광 셀의 제1 도전형 반도체층 상의 제1 부분, 다른 하나의 발광 셀의 제2 도전형 반도체층 상의 제2 부분, 상기 제1 부분과 상기 제2 부분 사이의 제3 부분을 각각 포함할 수 있다.The plurality of bridge electrodes may include a first portion on a first conductivity type semiconductor layer of one of two adjacent light emitting cells, a second portion on a second conductivity type semiconductor layer of the other light emitting cell, and the first portion And a third portion between the and the second portion, respectively.

상기 제1 부분 또는 상기 제2 부분 각각의 두께가 상기 제3 부분의 두께와 동일할 수 있다.The thickness of each of the first portion or the second portion may be the same as the thickness of the third portion.

상기 복수의 브릿지 전극들 각각의 폭은 상기 제1 전극의 폭 또는 상기 제2 전극의 폭보다 넓을 수 있다.The width of each of the plurality of bridge electrodes may be greater than the width of the first electrode or the width of the second electrode.

상기 발광 소자는 상기 복수의 발광 셀 아래에 배치되는 기판; 및 인접하는 발광 셀들 사이에 위치하는 상기 기판의 상부면의 일 영역에 형성되는 제1 요철을 더 포함할 수 있다.The light emitting device may include a substrate disposed under the plurality of light emitting cells; And first irregularities formed in a region of the upper surface of the substrate positioned between adjacent light emitting cells.

상기 브릿지 전극의 제3 부분은 상기 인접하는 발광 셀들 사이에 위치하는 상기 기판의 상부면의 상기 일 영역 상에 배치되고, 상기 브릿지 전극의 제3 부분의 상부면에는 상기 제1 요철에 대응하는 제2 요철이 형성될 수 있다.The third portion of the bridge electrode is disposed on the one region of the upper surface of the substrate positioned between the adjacent light emitting cells, and a third portion corresponding to the first irregularities on the upper surface of the third portion of the bridge electrode 2 Unevenness may be formed.

상기 기판의 상부면을 기준으로 상기 브릿지 전극의 제3 부분의 상부면의 높이는 상기 브릿지 전극의 제1 부분의 상부면의 높이보다 낮거나 동일할 수 있다.The height of the upper surface of the third portion of the bridge electrode may be lower than or equal to the height of the upper surface of the first portion of the bridge electrode with respect to the upper surface of the substrate.

실시예에 따르면 브릿지 전극으로 전류가 집중되는 현상을 개선함으로써 신뢰성이 향상된 발광소자를 제작할 수 있다. 또한 저항이 높은 부분에서의 저항을 감소시켜 효율을 향상시킬 수 있다.According to the embodiment, a light emitting device having improved reliability can be manufactured by improving a phenomenon in which current is concentrated to a bridge electrode. In addition, it is possible to improve the efficiency by reducing the resistance in the portion with high resistance.

도 1은 제1 실시예에 따른 발광소자의 평면도.
도 2는 도 1의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도.
도 3은 도 2를 AA 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도.
도 4는 제2 실시예에 따른 발광소자의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도.
도 5는 제3 실시예에 따른 발광소자의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도.
도 6은 제4 실시예에 따른 발광소자의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도.
도 7은 도 6을 AA 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도.
도 8은 제5 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도.
도 9는 제6 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도.
도 10은 제7 실시예에 따른 발광소자의 평면도.
도 11은 도 9의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도.
도 12는 도 11을 BB 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도.
도 13은 제8 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도.
도 14는 제9 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도.
도 15는 제10 실시예에 따른 발광소자의 평면도.
도 16은 도 15의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도.
도 17은 도 16을 BB 방향으로 절단하여 바라본 단면도.
도 18은 제11 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도.
도 19는 제12 실시 예에 따른 발광 소자의 단면도이다.
도 20은 제13 실시 예에 따른 발광 소자의 단면도이다.
도 21은 실시예들에 따른 발광소자를 포함한 발광소자 패키지의 일실시예를 도시한 도면.
도 22는 실시예들에 따른 발광소자 또는 발광소자 패키지가 배치된 헤드램프의 일실시예를 도시한 도면.
도 23은 실시예에 따른 발광소자 패키지가 배치된 표시장치의 일실시예를 도시한 도면.
1 is a plan view of a light emitting device according to a first embodiment.
2 is a plan view showing an enlarged portion of FIG. 1;
Figure 3 is a cross-sectional view viewed from the front by cutting Figure 2 in the AA direction.
4 is an enlarged plan view of a part of a light emitting device according to the second embodiment.
5 is an enlarged plan view of a part of a light emitting device according to the third embodiment.
6 is an enlarged plan view of a part of a light emitting device according to the fourth embodiment.
7 is a cross-sectional view as viewed from the front by cutting FIG. 6 in the AA direction.
8 is a side cross-sectional view of a portion of a light emitting device according to a fifth embodiment.
9 is a side cross-sectional view of a portion of a light emitting device according to the sixth embodiment.
10 is a plan view of a light emitting device according to a seventh embodiment.
11 is a plan view showing an enlarged portion of FIG. 9;
12 is a cross-sectional view of FIG. 11 viewed from the front by cutting in the BB direction.
13 is a side cross-sectional view of a portion of a light emitting device according to the eighth embodiment.
14 is a side cross-sectional view of a portion of a light emitting device according to the ninth embodiment.
15 is a plan view of a light emitting device according to a tenth embodiment.
16 is a plan view showing an enlarged portion of FIG. 15;
17 is a cross-sectional view of FIG. 16 cut in the BB direction.
18 is a side cross-sectional view of a portion of a light emitting device according to an eleventh embodiment.
19 is a cross-sectional view of a light emitting device according to a twelfth embodiment.
20 is a cross-sectional view of a light emitting device according to a thirteenth embodiment.
21 is a view showing an embodiment of a light emitting device package including a light emitting device according to the embodiments.
22 is a view showing an embodiment of a headlamp in which a light emitting device or a light emitting device package is disposed according to the embodiments.
23 is a diagram illustrating an embodiment of a display device in which a light emitting device package according to the embodiment is disposed.

이하, 실시 예들은 첨부된 도면 및 실시 예들에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다. 실시 예의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 "상/위(on)"에 또는 "하/아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상/위(on)"와 "하/아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 층을 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.Hereinafter, embodiments will be clearly revealed through the accompanying drawings and descriptions of the embodiments. In the description of the embodiment, each layer (film), region, pattern, or structure is "on" or "under" of the substrate, each layer (film), region, pad or patterns. In the case of being described as being formed in, "on" and "under" includes both "directly" or "indirectly" formed do. In addition, the standards for the top/top or bottom/bottom of each layer will be described based on the drawings.

도면에서 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 또한 각 구성요소의 크기는 실제크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. 또한 동일한 참조번호는 도면의 설명을 통하여 동일한 요소를 나타낸다.In the drawings, sizes are exaggerated, omitted, or schematically illustrated for convenience and clarity of description. Also, the size of each component does not fully reflect the actual size. Also, the same reference numerals denote the same elements throughout the description of the drawings.

도 1은 제1 실시예에 따른 발광소자의 평면도이고, 도 2는 도 1의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도이고, 도 3은 도 2를 AA 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도이다.FIG. 1 is a plan view of a light emitting device according to a first embodiment, FIG. 2 is an enlarged plan view of a part of FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view of FIG. 2 cut in AA direction and viewed from the front.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 제1 실시예에 따른 발광소자(200A)는 복수 개의 발광 셀(light emitting cell, 100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(bridge electrode, 150)을 포함한다.1 to 3, the light emitting device 200A according to the first embodiment is a bridge electrode that electrically connects a plurality of light emitting cells 100 and two adjacent light emitting cells 100. electrode, 150).

복수 개의 발광 셀(100)은 복수의 화합물 반도체층, 예를 들어 3족-5족 또는 2족-6족 원소의 반도체층을 이용한 LED(Light Emitting Diode)를 포함하며, LED는 청색, 녹색 또는 적색 등과 같은 광을 방출하는 유색 LED이거나, 백색 LED 또는 UV LED일 수 있다. LED의 방출광은 반도체층을 이루는 물질의 종류 및 농도를 변형하여 다양하게 구현될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The plurality of light emitting cells 100 includes a plurality of compound semiconductor layers, for example, a light emitting diode (LED) using a semiconductor layer of a group 3-5 or group 2-6 element, and the LED is blue, green, or It may be a colored LED that emits light such as red, or a white LED or a UV LED. The emission light of the LED may be variously implemented by changing the type and concentration of the material constituting the semiconductor layer, but is not limited thereto.

복수 개의 발광 셀(100)의 하부에 기판(110)이 배치된다. 복수 개의 발광 셀(100)은 기판(110)에 의해 지지되며, 기판(110) 상에 서로 이격되어 배치된다.The substrate 110 is disposed under the plurality of light emitting cells 100. The plurality of light emitting cells 100 are supported by the substrate 110 and are disposed on the substrate 110 to be spaced apart from each other.

기판(110)은 반도체 물질 성장에 적합한 재료, 열전도성이 뛰어난 물질로 형성될 수 있다. 기판(110)은 예를 들어, 사파이어(Al2O3), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge, and Ga203 중 적어도 하나를 사용할 수 있다. 기판(110)에 대해 습식세척 또는 플라즈마 처리를 하여 표면의 불순물을 제거할 수 있다.The substrate 110 may be formed of a material suitable for growth of semiconductor materials and a material having excellent thermal conductivity. The substrate 110 may be, for example, at least one of sapphire (Al 2 O 3 ), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge, and Ga 2 0 3 . Impurities on the surface may be removed by performing wet cleaning or plasma treatment on the substrate 110.

복수 개의 발광 셀(100)은 제1 도전형 반도체층(122), 제2 도전형 반도체층(126), 제1 도전형 반도체층(122)과 제2 도전형 반도체층(126) 사이의 활성층(124)을 포함하는 발광 구조물(120)과, 제1 도전형 반도체층(122) 상의 제1 전극(130)과, 제2 도전형 반도체층(126) 상의 제2 전극(140)을 각각 포함한다.The plurality of light emitting cells 100 include a first conductivity type semiconductor layer 122, a second conductivity type semiconductor layer 126, an active layer between the first conductivity type semiconductor layer 122 and the second conductivity type semiconductor layer 126 A light emitting structure 120 including 124, a first electrode 130 on the first conductivity type semiconductor layer 122, and a second electrode 140 on the second conductivity type semiconductor layer 126, respectively. do.

발광 구조물(120)은 예를 들어, 유기금속 화학 증착법(MOCVD; Metal Organic Chemical Vapor Deposition), 화학 증착법(CVD; Chemical Vapor Deposition), 플라즈마 화학 증착법(PECVD; Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition), 분자선 성장법(MBE; Molecular Beam Epitaxy), 수소화물 기상 성장법(HVPE; Hydride Vapor Phase Epitaxy) 등의 방법을 이용하여 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The light emitting structure 120 is, for example, metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), chemical vapor deposition (CVD), plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD), molecular ray growth It may be formed using a method such as a Molecular Beam Epitaxy (MBE) method or a Hydride Vapor Phase Epitaxy (HVPE) method, but is not limited thereto.

제1 도전형 반도체층(122)은 반도체 화합물로 형성될 수 있으며, 예를 들어 3족-5족 또는 2족-6족 등의 화합물 반도체로 형성될 수 있다. 또한 제1 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다. 상기 제1 도전형 반도체층(122)이 n형 반도체층인 경우, 상기 제1 도전형 도펀트는 n형 도펀트로서 Si, Ge, Sn, Se, Te 등을 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 상기 제1 도전형 반도체층(122)이 p형 반도체층인 경우, 상기 제1 도전형 도펀트는 p형 도펀트로서 Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등을 포함할 수 있으나 이에 한정하지 않는다.The first conductivity type semiconductor layer 122 may be formed of a semiconductor compound, for example, a compound semiconductor such as Group 3-5 or Group 2-6. Also, a first conductivity type dopant may be doped. When the first conductivity-type semiconductor layer 122 is an n-type semiconductor layer, the first conductivity-type dopant is an n-type dopant and may include Si, Ge, Sn, Se, and Te, but is not limited thereto. When the first conductivity-type semiconductor layer 122 is a p-type semiconductor layer, the first conductivity-type dopant may include Mg, Zn, Ca, Sr, Ba, etc. as a p-type dopant, but is not limited thereto.

제1 도전형 반도체층(122)은 AlxInyGa(1-x-y)N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질을 포함할 수 있다. 제1 도전형 반도체층(122)은 Ga, N, In, Al, As, P 중 적어도 하나 이상의 원소를 포함할 수 있으며, GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, InP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다.The first conductivity type semiconductor layer 122 includes a semiconductor material having a composition formula of Al x In y Ga (1-xy) N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1) can do. The first conductivity type semiconductor layer 122 may include at least one element of Ga, N, In, Al, As, and P, and may include GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, may be formed of any one or more of InP.

제2 도전형 반도체층(126)은 반도체 화합물로 형성될 수 있으며, 예를 들어 3족-5족 또는 2족-6족 등의 화합물 반도체로 형성될 수 있다. 또한 제2 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(126)이 p형 반도체층인 경우, 상기 제2 도전형 도펀트는 p형 도펀트로서 Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등을 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 제2 도전형 반도체층(126)이 n형 반도체층인 경우, 상기 제2 도전형 도펀트는 n형 도펀트로서 Si, Ge, Sn, Se, Te 등을 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The second conductivity type semiconductor layer 126 may be formed of a semiconductor compound, for example, a compound semiconductor such as Group 3-5 or Group 2-6. Also, a second conductivity type dopant may be doped. When the second conductivity-type semiconductor layer 126 is a p-type semiconductor layer, the second conductivity-type dopant may include Mg, Zn, Ca, Sr, Ba, etc. as a p-type dopant, but is not limited thereto. When the second conductivity-type semiconductor layer 126 is an n-type semiconductor layer, the second conductivity-type dopant is an n-type dopant and may include Si, Ge, Sn, Se, and Te, but is not limited thereto.

제2 도전형 반도체층(126)은 AlxInyGa(1-x-y)N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질을 포함할 수 있다. 제2 도전형 반도체층(126)은 Ga, N, In, Al, As, P 중 적어도 하나 이상의 원소를 포함할 수 있으며, GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, InP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다.The second conductivity type semiconductor layer 126 includes a semiconductor material having a composition formula of Al x In y Ga (1-xy) N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1) can do. The second conductivity type semiconductor layer 126 may include at least one element of Ga, N, In, Al, As, and P, and may include GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, may be formed of any one or more of InP.

이하에서는, 제1 도전형 반도체층(122)이 n형 반도체층, 제2 도전형 반도체층(126)이 p형 반도체층인 경우를 예로 들어 설명한다.Hereinafter, a case where the first conductivity-type semiconductor layer 122 is an n-type semiconductor layer and the second conductivity-type semiconductor layer 126 is a p-type semiconductor layer will be described as an example.

상기 제2 도전형 반도체층(126) 상에는 상기 제2 도전형과 반대의 극성을 갖는 반도체, 예컨대 상기 제2 도전형 반도체층(126)이 p형 반도체층일 경우 n형 반도체층(미도시)을 형성할 수 있다. 이에 따라 발광 구조물은 n-p 접합 구조, p-n 접합 구조, n-p-n 접합 구조, p-n-p 접합 구조 중 어느 한 구조로 구현할 수 있다.On the second conductivity-type semiconductor layer 126, a semiconductor having a polarity opposite to that of the second conductivity type, for example, an n-type semiconductor layer (not shown) when the second conductivity-type semiconductor layer 126 is a p-type semiconductor layer. Can be formed. Accordingly, the light emitting structure may be implemented in any one of an n-p junction structure, a p-n junction structure, an n-p-n junction structure, and a p-n-p junction structure.

제1 도전형 반도체층(122)과 제2 도전형 반도체층(126) 사이에 활성층(124)이 배치된다.An active layer 124 is disposed between the first conductivity type semiconductor layer 122 and the second conductivity type semiconductor layer 126.

활성층(124)은 전자와 정공이 서로 만나서 활성층(발광층) 물질 고유의 에너지 밴드에 의해서 결정되는 에너지를 갖는 빛을 방출하는 층이다. 제1 도전형 반도체층(122)이 n형 반도체층이고 제2 도전형 반도체층(126)이 p형 반도체층인 경우, 상기 제1 도전형 반도체층(122)으로부터 전자가 주입되고 상기 제2 도전형 반도체층(126)으로부터 정공이 주입될 수 있다.The active layer 124 is a layer in which electrons and holes meet each other to emit light having energy determined by an energy band inherent in an active layer (light emitting layer) material. When the first conductivity-type semiconductor layer 122 is an n-type semiconductor layer and the second conductivity-type semiconductor layer 126 is a p-type semiconductor layer, electrons are injected from the first conductivity-type semiconductor layer 122 and the second Holes may be injected from the conductive semiconductor layer 126.

활성층(124)은 단일 우물 구조, 다중 우물 구조, 양자선(Quantum-Wire) 구조, 또는 양자 점(Quantum Dot) 구조 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 활성층(124)은 트리메틸 갈륨 가스(TMGa), 암모니아 가스(NH3), 질소 가스(N2), 및 트리메틸 인듐 가스(TMIn)가 주입되어 다중 양자 우물 구조가 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The active layer 124 may be formed of at least one of a single well structure, a multiple well structure, a quantum-wire structure, or a quantum dot structure. For example, in the active layer 124, trimethyl gallium gas (TMGa), ammonia gas (NH 3 ), nitrogen gas (N 2 ), and trimethyl indium gas (TMIn) may be injected to form a multiple quantum well structure. It is not limited thereto.

활성층(124)이 다중 우물 구조로 형성되는 경우, 활성층(124)의 우물층/장벽층은 InGaN/GaN, InGaN/InGaN, GaN/AlGaN, InAlGaN/GaN, GaAs(InGaAs)/AlGaAs, GaP(InGaP)/AlGaP 중 어느 하나 이상의 페어 구조로 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 상기 우물층은 상기 장벽층의 밴드 갭보다 작은 밴드 갭을 갖는 물질로 형성될 수 있다.When the active layer 124 is formed in a multi-well structure, the well layer/barrier layer of the active layer 124 is InGaN/GaN, InGaN/InGaN, GaN/AlGaN, InAlGaN/GaN, GaAs (InGaAs)/AlGaAs, GaP (InGaP). )/AlGaP may be formed in one or more pair structures, but is not limited thereto. The well layer may be formed of a material having a band gap smaller than the band gap of the barrier layer.

발광 구조물(120)과 기판(110) 사이에는 버퍼층(112)이 배치될 수 있다. 버퍼층(112)은 발광 구조물(120)과 기판(110)의 재료의 격자 부정합 및 열팽창 계수의 차이를 완화하기 위한 목적일 수 있다. 버퍼층(112)의 재료는 3족-5족 또는 2족-6족의 화합물 반도체일 수 있으며, 예를 들어, GaN, InN, AlN, InGaN, InAlGaN, AlInN 중 적어도 하나로 형성될 수 있다.A buffer layer 112 may be disposed between the light emitting structure 120 and the substrate 110. The buffer layer 112 may be used to mitigate differences in lattice mismatches and thermal expansion coefficients between materials of the light emitting structure 120 and the substrate 110. The material of the buffer layer 112 may be a compound semiconductor of Group 3-5 or Group 2-6, and may be formed of at least one of GaN, InN, AlN, InGaN, InAlGaN, and AlInN.

기판(110)과 제1 도전형 반도체층(122) 사이에 언도프트 반도체층(114)이 배치될 수도 있다. 언도프트 반도체층(114)은 제1 도전형 반도체층(122)의 결정성 향상을 위해 형성되는 층으로, 제1 반도체층(122)과 동일한 물질 또는 제1 반도체층(122)과 다른 물질로 형성될 수 있다. 언도프트 반도체층(114)은 제1 도전형 도펀트가 도핑되지 않아 제1 도전형 반도체층(122)에 비해 낮은 전기 전도성을 나타낸다. 언도프트 반도체층(114)은 버퍼층(112)의 상부에서 제1 도전형 반도체층(122)과 접하여 배치될 수 있다. 언도프트 반도체층(114)은 버퍼층(112)의 성장 온도보다 높은 온도에서 성장되며, 버퍼층(112)에 비해 좋은 결정성을 나타낸다.An undoped semiconductor layer 114 may be disposed between the substrate 110 and the first conductivity type semiconductor layer 122. The undoped semiconductor layer 114 is a layer formed to improve the crystallinity of the first conductivity type semiconductor layer 122 and is made of the same material as the first semiconductor layer 122 or a material different from the first semiconductor layer 122. Can be formed. The undoped semiconductor layer 114 is not doped with a first conductivity type dopant and thus exhibits lower electrical conductivity than the first conductivity type semiconductor layer 122. The undoped semiconductor layer 114 may be disposed on the buffer layer 112 in contact with the first conductivity type semiconductor layer 122. The undoped semiconductor layer 114 is grown at a temperature higher than the growth temperature of the buffer layer 112 and exhibits better crystallinity than the buffer layer 112.

실시예에 따라, 발광 구조물(120)은 측면이 경사면을 포함할 수 있다. 발광 구조물(120)의 측면이 경사면을 포함하는 경우, 경사면인 측면은 기판(110)과 둔각을 이룰 수 있다.Depending on the embodiment, the light emitting structure 120 may have an inclined side surface. When the side surface of the light emitting structure 120 includes an inclined surface, the side surface that is the inclined surface may form an obtuse angle with the substrate 110.

발광 구조물(120)은 일부가 식각되어 제1 도전형 반도체층(122)을 노출하는 식각 영역(E)을 포함한다. 즉, 발광 구조물(120)의 제2 도전형 반도체층(126), 활성층(124) 및 제1 도전형 반도체층(122)의 일부가 선택적으로 식각되어 제1 도전형 반도체층(122)의 일부가 노출된다. 제1 전극(130)은 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치되며, 제2 전극(140)은 식각되지 않은 제2 도전형 반도체층(126) 상에 배치된다. 제1 전극(122)은 제1 도전형 반도체층(122)과 전기적으로 연결되며, 제2 전극(140)은 제2 도전형 반도체층(126)과 전기적으로 연결된다.The light emitting structure 120 includes an etching region E in which a portion is etched to expose the first conductivity type semiconductor layer 122. That is, some of the second conductivity-type semiconductor layer 126, the active layer 124, and the first conductivity-type semiconductor layer 122 of the light emitting structure 120 are selectively etched to form a portion of the first conductivity-type semiconductor layer 122 Is exposed. The first electrode 130 is disposed on the first conductivity type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E, and the second electrode 140 is on the second conductivity type semiconductor layer 126 that is not etched. Is placed in The first electrode 122 is electrically connected to the first conductivity type semiconductor layer 122, and the second electrode 140 is electrically connected to the second conductivity type semiconductor layer 126.

제1 전극(130)과 제2 전극(140)은 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 금(Au), 알루미늄(Al), 타이타늄(Ti), 백금(Pt), 바나듐(V), 텅스텐(W), 납(Pd), 구리(Cu), 로듐(Rh) 또는 이리듐(Ir) 중 적어도 하나를 포함하여 단층 또는 다층 구조로 형성될 수 있다.The first electrode 130 and the second electrode 140 are molybdenum (Mo), chromium (Cr), nickel (Ni), gold (Au), aluminum (Al), titanium (Ti), platinum (Pt), vanadium. It may include at least one of (V), tungsten (W), lead (Pd), copper (Cu), rhodium (Rh), or iridium (Ir) in a single-layer or multi-layered structure.

제2 전극(140)이 형성되기 전 제2 도전형 반도체층(126) 상에는 투명 전극층(142)이 배치될 수 있다.Before the second electrode 140 is formed, a transparent electrode layer 142 may be disposed on the second conductivity type semiconductor layer 126.

실시예에 따라, 제2 도전형 반도체층(126)이 노출되도록 투명 전극층(142)의 일부가 오픈되어 제2 도전형 반도체층(126)과 제2 전극(140)이 접할 수 있다.According to an exemplary embodiment, a part of the transparent electrode layer 142 is opened so that the second conductivity type semiconductor layer 126 is exposed so that the second conductivity type semiconductor layer 126 and the second electrode 140 may come into contact with each other.

또는, 도 3에 도시된 바와 같이, 투명 전극층(142)을 사이에 두고 제2 도전형 반도체층(126)과 제2 전극(140)이 전기적으로 연결될 수도 있다.Alternatively, as shown in FIG. 3, the second conductivity type semiconductor layer 126 and the second electrode 140 may be electrically connected with the transparent electrode layer 142 therebetween.

투명 전극층(142)은 제2 도전형 반도체층(126)의 전기적 특성을 향상시키고 제2 전극(140)과의 전기적 접촉을 개선하기 위한 것으로, 층 또는 복수의 패턴으로 형성될 수 있다.The transparent electrode layer 142 is to improve electrical characteristics of the second conductivity type semiconductor layer 126 and to improve electrical contact with the second electrode 140, and may be formed as a layer or a plurality of patterns.

투명 전극층(142)에는 투광성 전도층과 금속이 선택적으로 사용될 수 있으며, 예를 들어, ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IZON(IZO Nitride), AGZO(Al-Ga ZnO), IGZO(In-Ga ZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 또는 Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Sn, In, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있으나, 이러한 재료에 한정되지 않는다.The transparent electrode layer 142 may include a light-transmitting conductive layer and a metal selectively, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc tin oxide (IZTO), indium aluminum zinc oxide (IAZO). ), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IZON(IZO Nitride), AGZO(Al-Ga ZnO), IGZO (In-Ga ZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, or Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Sn, In, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, may be formed by including at least one of Hf, but is not limited to these materials.

인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이에 브릿지 전극(150)이 배치된다. 브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결한다. 브릿지 전극(150)은, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)을 연속되게 연결함으로써 복수 개의 발광 셀(100)을 직렬 연결할 수 있다. 또는, 브릿지 전극(150)은, 도시하지는 않았으나, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)과 다른 하나의 발광 셀(100)에서 동일한 극성의 전극(130과 130; 140과 140)을 연결함으로써 복수 개의 발광 셀(100)을 병렬 연결할 수도 있다.A bridge electrode 150 is disposed between two adjacent light emitting cells 100. The bridge electrode 150 electrically connects two adjacent light emitting cells 100. As shown in FIGS. 1 to 3, the bridge electrode 150 is a first electrode 130 of one of two adjacent light emitting cells 100 and one other light emitting cell 100. A plurality of light emitting cells 100 may be connected in series by connecting the second electrodes 140 of) in series. Alternatively, although not shown, the bridge electrode 150 has the same polarity in one of the two adjacent light-emitting cells 100 and the other one of the light-emitting cells 100 and 130 and 130; 140. A plurality of light emitting cells 100 may be connected in parallel by connecting the and 140.

일 예로서, 도 3을 참조하면, 브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 직렬 연결한다. 구체적으로, 브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중에서 어느 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)에서부터 발광 셀(100)의 측면 및 다른 하나의 발광 셀(100)의 측면을 따라 상기 다른 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)까지 연장되어 배치됨으로써, 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 직렬 연결할 수 있다.As an example, referring to FIG. 3, the bridge electrode 150 connects two adjacent light emitting cells 100 in series. Specifically, the bridge electrode 150 is from the second electrode 140 of one of the two adjacent light emitting cells 100 to the side of the light emitting cell 100 and the other light emitting cell 100 By extending to the first electrode 130 of the other light emitting cell 100 along the side of the light emitting cell 100, two adjacent light emitting cells 100 may be connected in series.

브릿지 전극(150)은 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)과 동일한 물질을 포함하여 이루어질 수 있으며, 예를 들어, 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 금(Au), 알루미늄(Al), 타이타늄(Ti), 백금(Pt), 바나듐(V), 텅스텐(W), 납(Pd), 구리(Cu), 로듐(Rh) 또는 이리듐(Ir) 중 적어도 하나를 포함하여 단층 또는 다층 구조로 형성될 수 있다.The bridge electrode 150 may be made of the same material as the first electrode 130 or the second electrode 140, for example, molybdenum (Mo), chromium (Cr), nickel (Ni), gold ( At least one of Au), aluminum (Al), titanium (Ti), platinum (Pt), vanadium (V), tungsten (W), lead (Pd), copper (Cu), rhodium (Rh), or iridium (Ir) Including a single layer or may be formed in a multi-layer structure.

발광 구조물(120)의 측면에는 절연층(160)이 배치된다. 절연층(160)은, 브릿지 전극(150)이 존재하는 부분에서는 발광 셀(100)과 브릿지 전극(150)의 사이에 배치된다.An insulating layer 160 is disposed on the side of the light emitting structure 120. The insulating layer 160 is disposed between the light emitting cell 100 and the bridge electrode 150 in a portion where the bridge electrode 150 is present.

절연층(160)은 인접한 발광 셀(100) 사이 또는 브릿지 전극(150)과 발광 셀(100) 사이를 전기적으로 분리하는 역할을 한다. 절연층(160)에 의해, 이웃하는 발광 셀(100) 사이의 전기적 쇼트를 막을 수 있고, 하나의 발광 셀(100)에서는 제1 도전형 반도체층(122)과 제2 도전형 반도체층(126) 사이의 전기적 쇼트를 방지할 수 있다.The insulating layer 160 serves to electrically separate the adjacent light emitting cells 100 or between the bridge electrode 150 and the light emitting cell 100. The insulating layer 160 prevents an electric short between neighboring light emitting cells 100, and in one light emitting cell 100, the first conductivity type semiconductor layer 122 and the second conductivity type semiconductor layer 126 ) To prevent electrical short.

절연층(160)은 비전도성 산화물 또는 질화물로 이루어질 수 있으며, 일 예로서, 실리콘 산화물(SiO2)층, 산화 질화물층, 산화 알루미늄층으로 이루어질 수 있으나 이에 한정하지 않는다.The insulating layer 160 may be formed of a non-conductive oxide or nitride. For example, the insulating layer 160 may be formed of a silicon oxide (SiO 2 ) layer, an oxide nitride layer, and an aluminum oxide layer, but is not limited thereto.

브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)보다 두꺼운 부분을 가질 수 있다.The overall thickness of the bridge electrode 150 may not be constant. The bridge electrode 150 may have a portion thicker than the first electrode 130 or the second electrode 140.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하는 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하는 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 in contact with the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and a second portion of the other light emitting cell 100. A second portion 152 in contact with the electrode 140 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152 may be included, and the first portion 151 and the third portion The portion 153 or the fourth portion 154 positioned on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting between the second portion 152 and the third portion 153 may be included.

상기 제1 부분(151)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하면서 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치되며, 상기 제2 부분(152)은 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하면서 제2 도전형 반도체층(126) 상에 배치될 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된 부분일 수 있다. The first portion 151 is disposed on the first conductivity type semiconductor layer 122 while contacting the first electrode 130 of any one of the two adjacent light emitting cells 100, The second part 152 may be disposed on the second conductivity type semiconductor layer 126 while contacting the second electrode 140 of the other light emitting cell 100. The first portion 151 may be a portion disposed on the first conductivity type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E of the light emitting structure 120.

또한 상기 제1 부분(151)은, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130) 상에 위치할 수 있으며, 동시에 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된다. 상기 제2 부분(152)은 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140) 상에 위치할 수 있으며 또한 제2 도전형 반도체층(126) 상에 배치될 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된 부분일 수 있다.In addition, the first portion 151 may be positioned on the first electrode 130 of any one of two adjacent light emitting cells 100, and at the same time, the first conductive type semiconductor layer 122 ) Is placed on. The second part 152 may be disposed on the second electrode 140 of the other light emitting cell 100 and may also be disposed on the second conductivity type semiconductor layer 126. The first portion 151 may be a portion disposed on the first conductivity type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E of the light emitting structure 120.

상기 제3 부분(153)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)의 사이에 배치되며, 기판(110) 상에 배치된다. 즉, 상기 제3 부분(153)은, 기판(110) 상에 배치된 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이의 이격 공간에 배치될 수 있다.The third portion 153 is disposed between two adjacent light emitting cells 100 and disposed on the substrate 110. That is, the third portion 153 may be disposed in a space between two adjacent light emitting cells 100 disposed on the substrate 110.

상기 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 사이 및 제2 부분(152)과 제3 부분(153) 사이의 측면에는 브릿지 전극(150)의 제4 부분(154)이 배치될 수 있다. 상기 제4 부분(154)은 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 및 제2 부분과 제3 부분을 전기적으로 연결해준다.A fourth portion 154 of the bridge electrode 150 may be disposed on a side surface between the first portion 151 and the third portion 153 and between the second portion 152 and the third portion 153. . The fourth portion 154 electrically connects the first portion 151 and the third portion 153 and the second portion and the third portion.

브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 제1 전극(130)의 두께(T1) 또는 제2 전극(140)의 두께(T2)보다 클 수 있다. 브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않으며, 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 클 수 있다. 또한, 브릿지 전극(150)은 상기 제4 부분(154)의 두께(TB4)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께와 동일하거나, 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 작을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 가장 클 수 있다.In the bridge electrode 150, a thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than a thickness T 1 of the first electrode 130 or a thickness T 2 of the second electrode 140. The overall thickness of the bridge electrode 150 is not constant, and the thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than the thickness of the first portion 151 or the second portion 152. In addition, the thickness of the fourth portion 154 (T B4 ) of the bridge electrode 150 is the same as the thickness of the first portion 151 or the second portion 152, or the first portion 151 or It may be smaller than the thickness of the second portion 152. The bridge electrode 150 may have the largest thickness T B3 of the third portion 153.

실시예에 따르면, 브릿지 전극(150)의 적어도 일부를 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)보다 두껍게 형성하여 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힘으로써, 발광소자의 동작 중 좁은 면적의 브릿지 전극(150)으로 전류가 집중되어 브릿지 전극(150)이 타버리는 등의 신뢰성 저하 문제를 개선할 수 있다.According to the embodiment, by forming at least a portion of the bridge electrode 150 to be thicker than the first electrode 130 or the second electrode 140 to increase the area of the bridge electrode 150, a small area during operation of the light emitting device Since the current is concentrated to the bridge electrode 150, a problem of reducing reliability such as burning of the bridge electrode 150 may be improved.

실시예에 따라, 브릿지 전극(150)은 상기 제1 부분(151) 또는 상기 제2 부분(152)의 두께가 각각 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)의 두께와 같을 수 있다.According to an embodiment, the thickness of the first portion 151 or the second portion 152 of the bridge electrode 150 may be the same as the thickness of the first electrode 130 or the second electrode 140, respectively.

또는, 브릿지 전극(150)은 상기 제1 부분(151) 또는 상기 제2 부분(152)에서 각각 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)과 높이가 같을 수 있다. 즉, 브릿지 전극(150)은 제1 부분(151)의 표면에서 제1 전극(130)과 단차를 갖지 않고 제1 전극(130)과 접하며, 제2 부분(152)의 표면에서 제2 전극(140)과 단차를 갖지 않고 제2 전극(140)과 접할 수 있다.Alternatively, the bridge electrode 150 may have the same height as the first electrode 130 or the second electrode 140 in the first portion 151 or the second portion 152, respectively. That is, the bridge electrode 150 contacts the first electrode 130 without having a step difference from the first electrode 130 on the surface of the first part 151, and the second electrode ( 140 and the second electrode 140 may be in contact without having a step difference.

다시 도 1을 참조하면, 복수 개의 발광 셀(100)의 배열에서 일 단부에 배치되는 발광 셀(100Z1)은 제2 전극(140)이 제2 전극 패드(140P)를 포함하여 와이어 본딩을 위한 면적을 확보할 수 있다. 마찬가지로, 복수 개의 발광 셀(100)의 배열에서 다른 단부에 배치되는 발광 셀(100Z2)은 제1 전극(130)이 제1 전극 패드(130P)를 포함하여 와이어 본딩을 위한 면적을 확보할 수 있다.Referring back to FIG. 1, in an array of a plurality of light emitting cells 100, a light emitting cell 100Z 1 disposed at one end is a second electrode 140 including a second electrode pad 140P for wire bonding. Area can be secured. Similarly, in the light emitting cell 100Z 2 disposed at the other end of the array of the plurality of light emitting cells 100, the first electrode 130 may secure an area for wire bonding including the first electrode pad 130P. have.

도 4는 제2 실시예에 따른 발광소자의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도이다. 상술한 실시예와 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다. 도 4를 AA 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도는 도 3과 같으므로 도 3을 같이 참조한다.4 is an enlarged plan view of a part of a light emitting device according to the second embodiment. Contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the following will focus on differences. A cross-sectional view of FIG. 4 cut in the AA direction and viewed from the front is the same as FIG. 3, so that FIG. 3 is referred to.

도 4를 참조하면, 제2 실시예에 따른 발광소자(200B)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.Referring to FIG. 4, the light emitting device 200B according to the second embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 electrically connecting two adjacent light emitting cells 100.

브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않다. 브릿지 전극(150)은 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)보다 두꺼운 부분을 갖는다.The overall thickness of the bridge electrode 150 is not uniform. The bridge electrode 150 has a portion thicker than the first electrode 130 or the second electrode 140.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하는 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하는 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 in contact with the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and a second portion of the other light emitting cell 100. A second portion 152 in contact with the electrode 140 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152 may be included, and the first portion 151 and the third portion The portion 153 or the fourth portion 154 positioned on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting between the second portion 152 and the third portion 153 may be included.

브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 제1 전극(130)의 두께(T1) 또는 제2 전극(140)의 두께(T2)보다 클 수 있다. 브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않으며, 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 클 수 있다. 또한, 브릿지 전극(150)은 상기 제4 부분(154)의 두께(TB4)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께와 동일하거나, 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 작을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 가장 클 수 있다.In the bridge electrode 150, a thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than a thickness T 1 of the first electrode 130 or a thickness T 2 of the second electrode 140. The overall thickness of the bridge electrode 150 is not constant, and the thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than the thickness of the first portion 151 or the second portion 152. In addition, the thickness of the fourth portion 154 (T B4 ) of the bridge electrode 150 is the same as the thickness of the first portion 151 or the second portion 152, or the first portion 151 or It may be smaller than the thickness of the second portion 152. The bridge electrode 150 may have the largest thickness T B3 of the third portion 153.

제2 실시예에 따른 발광소자(200B)가 제1 실시예에 따른 발광소자(200A)와 다른 점은, 브릿지 전극(150)의 폭(WB)이 제1 전극(130)의 폭(W1) 또는 제2 전극(140)의 폭(W2)보다 크다는 점이다.The difference between the light emitting device 200B according to the second embodiment and the light emitting device 200A according to the first embodiment is that the width W B of the bridge electrode 150 is the width W of the first electrode 130. The point is that it is larger than 1 ) or the width W 2 of the second electrode 140.

브릿지 전극(150)의 폭(WB)은 25㎛ ~ 35㎛일 수 있다. 예컨대, 브릿지 전극(50)의 폭(WB)은 30㎛일 수 있다. 또한 제1 전극(130)의 폭(W1) 또는 제2 전극(140)의 폭(W2)은 5㎛ ~ 10㎛일 수 있다. 예컨대, 제1 전극(130)의 폭(W1) 또는 제2 전극(140)의 폭(W2)은 7㎛일 수 있으며, 제1 전극(130)의 폭(W1)은 제2 전극폭(W2)보다 좁거나 동일할 수 있다.The width W B of the bridge electrode 150 may be 25 μm to 35 μm. For example, the width W B of the bridge electrode 50 may be 30 μm. Also, the width W 1 of the first electrode 130 or the width W 2 of the second electrode 140 may be 5 μm to 10 μm. For example, the width W 1 of the first electrode 130 or the width W 2 of the second electrode 140 may be 7 μm, and the width W 1 of the first electrode 130 is the second electrode It may be narrower or equal to the width W 2 .

제2 실시예에 따르면, 브릿지 전극(150)의 폭(WB)을 제1 전극(130)의 폭(W1) 또는 제2 전극(140)의 폭(W2)보다 넓혀서 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힘으로써 신뢰성을 더욱 더 향상시킬 수 있으며 브릿지 전극(150)의 단선 불량 등의 문제를 개선할 수 있다. 브릿지 전극(150)은 발광 셀(100)의 에지 부분에 배치되기 때문에 브릿지 전극(150)의 폭(WB) 증가에 의한 광 흡수를 최소화할 수 있다.According to the second embodiment, the width of the bridge electrode (150) (W B) of the width of the first electrode (130) (W 1) or the second width of the electrode (140) (W 2) than the widen bridge electrode (150 By increasing the area of ), reliability may be further improved, and problems such as disconnection of the bridge electrode 150 may be improved. Since the bridge electrode 150 is disposed at an edge portion of the light emitting cell 100, light absorption due to an increase in the width W B of the bridge electrode 150 can be minimized.

도 5는 제3 실시예에 따른 발광소자의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다. 도 5를 AA 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도는 도 3과 같으므로 도 3을 같이 참조한다.5 is a plan view showing an enlarged portion of a light emitting device according to the third embodiment. Contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the following will focus on differences. A cross-sectional view of FIG. 5 cut in the AA direction and viewed from the front is the same as FIG. 3, so that FIG. 3 is also referred to.

도 5를 참조하면, 제3 실시예에 따른 발광소자(200C)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.Referring to FIG. 5, a light emitting device 200C according to the third embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 electrically connecting two adjacent light emitting cells 100.

제3 실시예에 따른 발광소자(200C)가 제1 실시예에 따른 발광소자(200A)와 다른 점은, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이에 브릿지 전극(150)이 복수 개 배치된다는 점이다.The difference between the light emitting device 200C according to the third embodiment and the light emitting device 200A according to the first embodiment is that a plurality of bridge electrodes 150 are disposed between two adjacent light emitting cells 100. .

예컨대, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이에는 서로 이격하는 2개의 브릿지 전극들(150)이 배치될 수 있다.For example, two bridge electrodes 150 spaced apart from each other may be disposed between two adjacent light emitting cells 100.

서로 이격하는 2개의 브릿지 전극들(150) 각각의 폭은 제1 전극(130)의 폭 또는 제2 전극(140)의 폭보다 클 수 있다.The width of each of the two bridge electrodes 150 spaced apart from each other may be greater than the width of the first electrode 130 or the width of the second electrode 140.

서로 이격하는 2개의 브릿지 전극들(150) 각각의 폭은 15㎛ ~ 25㎛일 수 있다. 예컨대, 2개의 브릿지 전극들(150) 각각의 폭은 20㎛일 수 있다. 또한 제1 전극(130)의 폭 또는 제2 전극(140)의 폭은 도 4에서 설명한 바와 동일할 수 있다.Each of the two bridge electrodes 150 spaced apart from each other may have a width of 15 μm to 25 μm. For example, the width of each of the two bridge electrodes 150 may be 20 μm. In addition, the width of the first electrode 130 or the width of the second electrode 140 may be the same as described in FIG. 4.

브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않다. 각각의 브릿지 전극(150)은 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)보다 두꺼운 부분을 갖는다.The overall thickness of the bridge electrode 150 is not uniform. Each of the bridge electrodes 150 has a portion thicker than the first electrode 130 or the second electrode 140.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하는 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하는 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 각각 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 in contact with the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and a second portion of the other light emitting cell 100. A second portion 152 in contact with the electrode 140 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152 may be included, respectively, and the first portion 151 and the first portion 151 The third portion 153 or the fourth portion 154 positioned on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting between the second portion 152 and the third portion 153 may be included.

브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 제1 전극(130)의 두께(T1) 또는 제2 전극(140)의 두께(T2)보다 클 수 있다. 브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않으며, 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 클 수 있다. 또한, 브릿지 전극(150)은 상기 제4 부분(154)의 두께(TB4)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께와 동일하거나, 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 작을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 가장 클 수 있다.In the bridge electrode 150, a thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than a thickness T 1 of the first electrode 130 or a thickness T 2 of the second electrode 140. The overall thickness of the bridge electrode 150 is not constant, and the thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than the thickness of the first portion 151 or the second portion 152. In addition, the thickness of the fourth portion 154 (T B4 ) of the bridge electrode 150 is the same as the thickness of the first portion 151 or the second portion 152, or the first portion 151 or It may be smaller than the thickness of the second portion 152. The bridge electrode 150 may have the largest thickness T B3 of the third portion 153.

제3 실시예에 따르면, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이에 브릿지 전극(150)을 복수 개 배치하여 결과적으로 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힐 수 있으며, 어느 하나의 브릿지 전극(150)이 단선되더라도 다른 브릿지 전극(150)에 의해 단선 불량을 해소할 수 있으므로 신뢰성이 향상될 수 있다. 브릿지 전극(150)은 발광 셀(100)의 에지 부분에 배치되기 때문에 브릿지 전극(150)의 개수 증가에 의한 광 흡수를 최소화할 수 있다.According to the third embodiment, by disposing a plurality of bridge electrodes 150 between two adjacent light emitting cells 100, the area of the bridge electrode 150 may be increased as a result, and any one bridge electrode 150 Even if the wire is disconnected, the disconnection defect can be eliminated by the other bridge electrode 150, so that reliability may be improved. Since the bridge electrode 150 is disposed at an edge portion of the light emitting cell 100, light absorption due to an increase in the number of bridge electrodes 150 can be minimized.

도 6은 제4 실시예에 따른 발광소자의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도이고, 도 7은 도 6을 AA 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다.6 is an enlarged plan view of a part of the light emitting device according to the fourth embodiment, and FIG. 7 is a cross-sectional view of FIG. 6 taken in the AA direction and viewed from the front. Contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the following will focus on differences.

도 6 및 도 7을 참조하면, 제4 실시예에 따른 발광소자(200D)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.6 and 7, the light emitting device 200D according to the fourth exemplary embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 electrically connecting two adjacent light emitting cells 100. .

브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)보다 두꺼운 부분을 가질 수 있다.The overall thickness of the bridge electrode 150 may not be constant. The bridge electrode 150 may have a portion thicker than the first electrode 130 or the second electrode 140.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하는 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하는 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 in contact with the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and a second portion of the other light emitting cell 100. A second portion 152 in contact with the electrode 140 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152 may be included, and the first portion 151 and the third portion The portion 153 or the fourth portion 154 positioned on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting between the second portion 152 and the third portion 153 may be included.

상기 제1 부분(151)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)의 상면과 접한다. 즉, 상기 제1 부분(151)은, 일부는, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122)의 상부에 배치되고, 또 다른 일부는, 상기 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)의 상부에 배치된다. 또한, 상기 제2 부분(152)은 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)의 상면과 접한다. 즉, 상기 제2 부분(152)은, 일부는, 상기 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 도전형 반도체층(126)의 상부에 배치되고, 또 다른 일부는, 상기 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)의 상부에 배치된다.The first portion 151 contacts the upper surface of the first electrode 130 of any one of the two adjacent light emitting cells 100. That is, the first portion 151 is partially disposed on the first conductivity type semiconductor layer 122 of any one of the two adjacent light emitting cells 100, and another portion Is disposed above the first electrode 130 of any one of the light emitting cells 100. In addition, the second portion 152 contacts the upper surface of the second electrode 140 of the other light emitting cell 100. That is, the second part 152 is partially disposed on the second conductivity type semiconductor layer 126 of the other light emitting cell 100, and another part is the other light emitting cell It is disposed on the second electrode 140 of (100).

브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 제1 전극(130)의 두께(T1) 또는 제2 전극(140)의 두께(T2)보다 클 수 있다. 브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않으며, 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 클 수 있다. 또한, 브릿지 전극(150)은 상기 제4 부분(154)의 두께(TB4)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께와 동일하거나, 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 작을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 가장 클 수 있다. 실시예에 따르면, 발광 셀(100)의 전극(130, 140)과 브릿지 전극(150)의 연결부와 같이 저항이 큰 부분에서 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힘으로써, 발광소자의 동작 중 좁은 면적의 브릿지 전극(150)으로 전류가 집중되어 브릿지 전극(150)이 타버리는 등의 신뢰성 저하 문제를 개선할 수 있다.In the bridge electrode 150, a thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than a thickness T 1 of the first electrode 130 or a thickness T 2 of the second electrode 140. The overall thickness of the bridge electrode 150 is not constant, and the thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than the thickness of the first portion 151 or the second portion 152. In addition, the thickness of the fourth portion 154 (T B4 ) of the bridge electrode 150 is the same as the thickness of the first portion 151 or the second portion 152, or the first portion 151 or It may be smaller than the thickness of the second portion 152. The bridge electrode 150 may have the largest thickness T B3 of the third portion 153. According to the embodiment, by increasing the area of the bridge electrode 150 in a portion having high resistance, such as a connection portion between the electrodes 130 and 140 of the light emitting cell 100 and the bridge electrode 150, a narrow area during operation of the light emitting device Since the current is concentrated to the bridge electrode 150 of the bridge electrode 150, it is possible to improve a problem of reducing reliability such as burning of the bridge electrode 150.

도 8은 제5 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다. 도 8의 평면도는 도 6과 같으므로 도 6을 같이 참조한다.8 is a side cross-sectional view of a portion of a light emitting device according to the fifth embodiment. Contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the following will focus on differences. Since the plan view of FIG. 8 is the same as that of FIG. 6, reference is made to FIG. 6.

도 8을 참조하면, 제5 실시예에 따른 발광소자(200E)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.Referring to FIG. 8, the light emitting device 200E according to the fifth embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 electrically connecting two adjacent light emitting cells 100.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하는 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하는 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다.상기 제1 부분(151)은 제1 전극(130)의 상면 및 적어도 일 측면과 접할 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 제1 전극(130)을 둘러싸도록 배치될 수 있다. 또한, 상기 제2 부분(152)은 제2 전극(140)의 상면 및 적어도 일 측면과 접할 수 있다. 상기 제2 부분(152)은 제2 전극(140)을 둘러싸도록 배치될 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 in contact with the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and a second portion of the other light emitting cell 100. A second portion 152 in contact with the electrode 140 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152 may be included, and the first portion 151 and the third portion The portion 153 or the fourth portion 154 positioned on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting between the second portion 152 and the third portion 153 may be included. One portion 151 may contact the upper surface and at least one side surface of the first electrode 130. The first portion 151 may be disposed to surround the first electrode 130. In addition, the second portion 152 may contact an upper surface and at least one side surface of the second electrode 140. The second portion 152 may be disposed to surround the second electrode 140.

상기 제1 부분(151)은 제1 도전형 반도체층(122) 상에 위치하는 부분의 두께(TB11)와 제1 전극(130) 상에 위치하는 부분의 두께(TB12)가 실질적으로 동일할 수 있다. 또한, 상기 제2 부분(152)은 제2 도전형 반도체층(126) 상에 위치하는 부분의 두께(TB21)와 제2 전극(140) 상에 위치하는 부분의 두께(TB22)가 실질적으로 동일할 수 있다.The first portion 151 has substantially the same thickness (TB 11 ) of the portion positioned on the first conductivity type semiconductor layer 122 and the thickness (TB 12 ) of the portion positioned on the first electrode 130 can do. In addition, the second portion 152 has a thickness TB 21 of a portion positioned on the second conductivity type semiconductor layer 126 and a thickness TB 22 of a portion positioned on the second electrode 140. Can be the same as

도 9는 제6 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다.9 is a side cross-sectional view of a portion of a light emitting device according to the sixth embodiment. Contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the following will focus on differences.

도 9를 참조하면, 제6 실시예에 따른 발광소자(200F)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.Referring to FIG. 9, a light emitting device 200F according to the sixth embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 electrically connecting two adjacent light emitting cells 100.

발광소자(200F)는 브릿지 전극(152)과 제1 전극(130)이 전기적으로 연결되는 부분 및 브릿지 전극(152)과 제2 전극(140)이 전기적으로 연결되는 부분을 제외하고, 발광소자(200F)의 표면에 패시베이션층(160)이 배치될 수 있다.The light-emitting device 200F includes a light-emitting device except for a portion in which the bridge electrode 152 and the first electrode 130 are electrically connected, and a portion in which the bridge electrode 152 and the second electrode 140 are electrically connected. The passivation layer 160 may be disposed on the surface of 200F).

도 10은 제7 실시예에 따른 발광소자의 평면도이고, 도 11은 도 9의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도이고, 도 12는 도 11을 BB 방향으로 절단하여 정면에서 바라본 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다.10 is a plan view of a light emitting device according to the seventh embodiment, FIG. 11 is a partially enlarged plan view of FIG. 9, and FIG. 12 is a cross-sectional view of FIG. 11 cut in the BB direction and viewed from the front. Contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the following will focus on differences.

도 10 내지 도 12를 참조하면, 제7 실시예에 따른 발광소자(300A)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.10 to 12, the light emitting device 300A according to the seventh embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 electrically connecting two adjacent light emitting cells 100. .

복수 개의 발광 셀(100)의 하부에 기판(110)이 배치된다. 복수 개의 발광 셀(100)은 기판(110)에 의해 지지되며, 기판(110) 상에 서로 이격되어 배치된다.The substrate 110 is disposed under the plurality of light emitting cells 100. The plurality of light emitting cells 100 are supported by the substrate 110 and are disposed on the substrate 110 to be spaced apart from each other.

인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이에 복수 개의 브릿지 전극(150)이 배치된다. 브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결한다.A plurality of bridge electrodes 150 are disposed between two adjacent light emitting cells 100. The bridge electrode 150 electrically connects two adjacent light emitting cells 100.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122)과 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 도전형 반도체층(126)을 전기적으로 연결할 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first conductivity type semiconductor layer 122 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and a second conductivity type semiconductor layer of the other light emitting cell 100 ( 126) can be electrically connected.

제4 실시예에 따르면, 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이에 브릿지 전극(150)을 복수 개 배치하여 결과적으로 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힐 수 있으며, 어느 하나의 브릿지 전극(150)이 단선되더라도 다른 브릿지 전극(150)에 의해 단선 불량을 해소할 수 있으므로 신뢰성이 향상될 수 있다.According to the fourth embodiment, by disposing a plurality of bridge electrodes 150 between two adjacent light emitting cells 100, the area of the bridge electrode 150 may be increased as a result, and any one bridge electrode 150 Even if the wire is disconnected, the disconnection defect can be eliminated by the other bridge electrode 150, so that reliability may be improved.

복수 개의 브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122) 상의 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 도전형 반도체층(126) 상의 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 각각 포함할 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된 부분일 수 있다.The plurality of bridge electrodes 150 includes a first portion 151 on the first conductivity type semiconductor layer 122 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and the other light emitting cell 100. ), a second portion 152 on the second conductivity type semiconductor layer 126 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152, respectively. The first portion 151 may be a portion disposed on the first conductivity type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E of the light emitting structure 120.

상기 제3 부분(153)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)의 사이에 배치되며, 기판(110) 상에 배치된다. 즉, 상기 제3 부분(153)은, 기판(110) 상에 배치된 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이의 이격 공간에 배치될 수 있다.The third portion 153 is disposed between two adjacent light emitting cells 100 and disposed on the substrate 110. That is, the third portion 153 may be disposed in a space between two adjacent light emitting cells 100 disposed on the substrate 110.

상기 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 사이의 브릿지 전극(150) 및 제2 부분(152)과 제3 부분(153) 사이의 브릿지 전극(150)은 발광 구조물(120)의 측면에 배치된 부분일 수 있다.The bridge electrode 150 between the first portion 151 and the third portion 153 and the bridge electrode 150 between the second portion 152 and the third portion 153 are side surfaces of the light emitting structure 120 It may be a part arranged in.

제7 실시예에서, 브릿지 전극(150)은 별도의 제1 전극 또는 제2 전극 없이 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122) 및 제2 도전형 반도체층(126)과 직접 전기적으로 연결될 수 있다. 즉, 브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122)과 제1 부분(151)이 접하고, 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 도전형 반도체층(126)과 제2 부분(152)이 접할 수 있다.In the seventh embodiment, the bridge electrode 150 is directly electrically connected to the first conductive type semiconductor layer 122 and the second conductive type semiconductor layer 126 of the light emitting cell 100 without a separate first or second electrode. Can be connected to. That is, the bridge electrode 150 is in contact with the first conductive semiconductor layer 122 and the first portion 151 of any one of the two adjacent light emitting cells 100, and the other light emitting cell The second conductivity type semiconductor layer 126 of (100) and the second portion 152 may contact each other.

도 10을 참조하면, 복수 개의 발광 셀(100)의 배열에서 일 단부에 배치되는 발광 셀(100Z1)은 제2 도전형 반도체층(126) 상에 제2 전극 패드(140P)가 배치되어 와이어 본딩을 위한 면적을 확보할 수 있다. 마찬가지로, 복수 개의 발광 셀(100)의 배열에서 다른 단부에 배치되는 발광 셀(100Z2)은 제1 도전형 반도체층(122) 상에 제1 전극 패드(130P)가 배치되어 와이어 본딩을 위한 면적을 확보할 수 있다.Referring to FIG. 10, a light emitting cell 100Z 1 disposed at one end of an array of a plurality of light emitting cells 100 has a second electrode pad 140P disposed on the second conductivity type semiconductor layer 126 to form a wire. You can secure an area for bonding. Similarly, in the light emitting cell 100Z 2 disposed at the other end of the array of the plurality of light emitting cells 100, the first electrode pad 130P is disposed on the first conductivity type semiconductor layer 122 to provide an area for wire bonding. Can be secured.

도 13은 제8 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다. 도 13의 평면도는 도 11과 같으므로 도 11을 같이 참조한다.13 is a side cross-sectional view of a portion of a light emitting device according to the eighth embodiment. Contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the following will focus on differences. Since the plan view of FIG. 13 is the same as that of FIG. 11, reference is made to FIG.

도 13을 참조하면, 제8 실시예에 따른 발광소자(300B)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.Referring to FIG. 13, a light emitting device 300B according to an eighth embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 electrically connecting two adjacent light emitting cells 100.

제8 실시예에 따른 발광소자(300B)가 제7 실시예에 따른 발광소자(300A)와 다른 점은, 브릿지 전극(150)의 두께가 전체적으로 일정하지 않다는 점이다.The difference between the light emitting device 300B according to the eighth embodiment and the light emitting device 300A according to the seventh embodiment is that the thickness of the bridge electrode 150 is not uniform as a whole.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122) 상의 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 도전형 반도체층(126) 상의 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된 부분일 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 on the first conductivity type semiconductor layer 122 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and the other light emitting cell 100. A second portion 152 on the second conductivity type semiconductor layer 126 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152 may be included, and the first portion 151 ) And the third portion 153 or the fourth portion 154 positioned on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting between the second portion 152 and the third portion 153 have. The first portion 151 may be a portion disposed on the first conductivity type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E of the light emitting structure 120.

상기 제3 부분(153)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)의 사이에 배치되며, 기판(110) 상에 배치된다. 즉, 상기 제3 부분(153)은, 기판(110) 상에 배치된 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이의 이격 공간에 배치될 수 있다.The third portion 153 is disposed between two adjacent light emitting cells 100 and disposed on the substrate 110. That is, the third portion 153 may be disposed in a space between two adjacent light emitting cells 100 disposed on the substrate 110.

상기 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 사이 및 제2 부분(152)과 제3 부분(153) 사이의 측면에는 브릿지 전극(150)의 제4 부분(154)이 배치될 수 있다. 상기 제4 부분(154)은 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 및 제2 부분과 제3 부분을 전기적으로 연결해준다.A fourth portion 154 of the bridge electrode 150 may be disposed on a side surface between the first portion 151 and the third portion 153 and between the second portion 152 and the third portion 153. . The fourth portion 154 electrically connects the first portion 151 and the third portion 153 and the second portion and the third portion.

브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 상기 제1 부분(151)의 두께(TB1) 또는 상기 제2 부분(152)의 두께(TB2)보다 클 수 있다. 또한, 브릿지 전극(150)은 상기 제4 부분(154)의 두께(TB4)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께와 동일하거나, 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 작을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 가장 클 수 있다.The bridge electrode 150 may have a thickness T B3 of the third portion 153 greater than a thickness T B1 of the first portion 151 or a thickness T B2 of the second portion 152. have. In addition, the thickness of the fourth portion 154 (T B4 ) of the bridge electrode 150 is the same as the thickness of the first portion 151 or the second portion 152, or the first portion 151 or It may be smaller than the thickness of the second portion 152. The bridge electrode 150 may have the largest thickness T B3 of the third portion 153.

제8 실시예에 따르면, 브릿지 전극(150)의 적어도 일부를 두껍게 형성하여 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힘으로써, 발광소자의 동작 중 좁은 면적의 브릿지 전극(150)으로 전류가 집중되어 브릿지 전극(150)이 타버리는 등의 신뢰성 저하 문제를 개선할 수 있다.According to the eighth embodiment, by forming at least a part of the bridge electrode 150 to be thick to increase the area of the bridge electrode 150, the current is concentrated to the bridge electrode 150 having a narrow area during operation of the light emitting device. Problems of lowering reliability, such as burning 150, can be improved.

도 14는 제9 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다. 도 14의 평면도는 도 11과 같으므로 도 11을 같이 참조한다.14 is a side cross-sectional view of a portion of a light emitting device according to the ninth embodiment. Contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the following will focus on differences. Since the plan view of FIG. 14 is the same as that of FIG. 11, reference is made to FIG. 11 as well.

도 14를 참조하면, 제9 실시예에 따른 발광소자(300C)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.Referring to FIG. 14, the light emitting device 300C according to the ninth embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 electrically connecting two adjacent light emitting cells 100.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122) 상의 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 도전형 반도체층(126) 상의 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된 부분일 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 on the first conductivity type semiconductor layer 122 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and the other light emitting cell 100. A second portion 152 on the second conductivity type semiconductor layer 126 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152 may be included, and the first portion 151 ) And the third portion 153 or the fourth portion 154 positioned on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting between the second portion 152 and the third portion 153 have. The first portion 151 may be a portion disposed on the first conductivity type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E of the light emitting structure 120.

제9 실시예에 따른 발광소자(300C)가 제8 실시예에 따른 발광소자(300B)와 다른 점은, 제1 부분(151)의 두께(TB1) 또는 제2 부분(152)의 두께(TB2)가 상기 제4 부분(154)의 두께(TB4)보다 크다는 것이다. 상기 제1 부분(151)의 두께(TB1) 또는 제2 부분(152)의 두께(TB2)는 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)보다 작거나, 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)와 같거나 비슷할 수 있다.The difference between the light emitting device 300C according to the ninth embodiment and the light emitting device 300B according to the eighth embodiment is the thickness T B1 of the first part 151 or the thickness of the second part 152 ( T B2 ) is greater than the thickness T B4 of the fourth portion 154. The thickness of the first part 151 (T B1 ) or the thickness of the second part 152 (T B2 ) is less than the thickness of the third part 153 (T B3 ), or the third part 153 ) May be the same as or similar to the thickness (T B3 ).

실시예에 따르면, 발광 셀(100)의 제1,2 도전형 반도체층(122, 126)과 브릿지 전극(150)의 연결부와 같이 저항이 큰 부분에서 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힘으로써, 발광소자의 동작 중 좁은 면적의 브릿지 전극(150)으로 전류가 집중되어 브릿지 전극(150)이 타버리는 등의 신뢰성 저하 문제를 개선할 수 있다.According to the embodiment, by increasing the area of the bridge electrode 150 at a portion having a high resistance, such as a connection portion between the first and second conductivity type semiconductor layers 122 and 126 of the light emitting cell 100 and the bridge electrode 150, During the operation of the light-emitting device, a problem of reducing reliability such as burning of the bridge electrode 150 due to the concentration of current to the bridge electrode 150 having a narrow area may be improved.

도 15는 제10 실시예에 따른 발광소자의 평면도이고, 도 16은 도 15의 일부분을 확대하여 나타낸 평면도이고, 도 17은 도 16을 BB 방향으로 절단하여 바라본 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다.15 is a plan view of a light emitting device according to the tenth embodiment, FIG. 16 is a partially enlarged plan view of FIG. 15, and FIG. 17 is a cross-sectional view of FIG. 16 cut in the BB direction. Contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the following will focus on differences.

도 15 내지 도 17를 참조하면, 제10 실시예에 따른 발광소자(300D)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.15 to 17, the light emitting device 300D according to the tenth embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 electrically connecting two adjacent light emitting cells 100. .

복수 개의 발광 셀(100)의 하부에 기판(110)이 배치된다. 복수 개의 발광 셀(100)은 기판(110)에 의해 지지되며, 기판(110) 상에 서로 이격되어 배치된다.The substrate 110 is disposed under the plurality of light emitting cells 100. The plurality of light emitting cells 100 are supported by the substrate 110 and are disposed on the substrate 110 to be spaced apart from each other.

인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이에 복수 개의 브릿지 전극(150)이 배치된다. 브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결한다.A plurality of bridge electrodes 150 are disposed between two adjacent light emitting cells 100. The bridge electrode 150 electrically connects two adjacent light emitting cells 100.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140) 사이에 복수 개가 이격되어 배치된다.A plurality of bridge electrodes 150 are formed between the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and the second electrode 140 of the other light emitting cell 100 They are arranged spaced apart.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하는 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하는 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 in contact with the first electrode 130 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and a second portion of the other light emitting cell 100. A second portion 152 in contact with the electrode 140 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152 may be included.

상기 제1 부분(151)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 전극(130)과 접하면서 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치되며, 상기 제2 부분(152)은 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 전극(140)과 접하면서 제2 도전형 반도체층(126) 상에 배치될 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된 부분일 수 있다.The first portion 151 is disposed on the first conductivity type semiconductor layer 122 while contacting the first electrode 130 of any one of the two adjacent light emitting cells 100, The second part 152 may be disposed on the second conductivity type semiconductor layer 126 while contacting the second electrode 140 of the other light emitting cell 100. The first portion 151 may be a portion disposed on the first conductivity type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E of the light emitting structure 120.

상기 제3 부분(153)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)의 사이에 배치되며, 기판(110) 상에 배치된다. 즉, 상기 제3 부분(153)은, 기판(110) 상에 배치된 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이의 이격 공간에 배치될 수 있다.The third portion 153 is disposed between two adjacent light emitting cells 100 and disposed on the substrate 110. That is, the third portion 153 may be disposed in a space between two adjacent light emitting cells 100 disposed on the substrate 110.

상기 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 사이의 브릿지 전극(150) 및 제2 부분(152)과 제3 부분(153) 사이의 브릿지 전극(150)은 발광 구조물(120)의 측면에 배치된 부분일 수 있다.The bridge electrode 150 between the first portion 151 and the third portion 153 and the bridge electrode 150 between the second portion 152 and the third portion 153 are side surfaces of the light emitting structure 120 It may be a part arranged in.

도 16을 참조하면, 제1 전극(130) 및 제2 전극(140)은 제1 방향의 길이 방향을 갖도록 배열될 수 있다. 복수 개의 브릿지 전극(150)은 상기 제1 방향과 다른 제2 방향의 길이 방향을 각각 가질 수 있다. 일 예로서, 제1 방향과 제2 방향은 직교할 수 있다.Referring to FIG. 16, the first electrode 130 and the second electrode 140 may be arranged to have a longitudinal direction in the first direction. The plurality of bridge electrodes 150 may each have a length direction in a second direction different from the first direction. As an example, the first direction and the second direction may be orthogonal.

실시예에 따라, 브릿지 전극(150)은 제1 방향의 길이 방향을 갖도록 배열된 제1 전극(130)과 제1 방향의 길이 방향을 갖도록 배열된 제2 전극(140)의 사이에서 제2 방향의 길이 방향을 갖도록 복수 개가 이격되어 배치될 수 있다. 이때, 복수 개의 브릿지 전극(150) 각각은 제1 부분(151)이 제1 전극(130)과 접하고 제2 부분(152)이 제2 전극(130)과 접한다.According to the embodiment, the bridge electrode 150 is in a second direction between the first electrode 130 arranged to have a longitudinal direction in the first direction and the second electrode 140 arranged to have a longitudinal direction in the first direction. A plurality of pieces may be spaced apart from each other to have a length direction of. In this case, in each of the plurality of bridge electrodes 150, the first portion 151 contacts the first electrode 130 and the second portion 152 contacts the second electrode 130.

실시예에 따라, 브릿지 전극(150)은 상기 제1 부분(151) 또는 상기 제2 부분(152)의 두께가 각각 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)의 두께와 같을 수 있다.According to an embodiment, the thickness of the first portion 151 or the second portion 152 of the bridge electrode 150 may be the same as the thickness of the first electrode 130 or the second electrode 140, respectively.

또는, 브릿지 전극(150)은 상기 제1 부분(151) 또는 상기 제2 부분(152)에서 각각 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)과 높이가 같을 수 있다. 즉, 브릿지 전극(150)은 제1 부분(151)의 표면에서 제1 전극(130)과 단차를 갖지 않고 제1 전극(130)과 접하며, 제2 부분(152)의 표면에서 제2 전극(140)과 단차를 갖지 않고 제2 전극(140)과 접할 수 있다.Alternatively, the bridge electrode 150 may have the same height as the first electrode 130 or the second electrode 140 in the first portion 151 or the second portion 152, respectively. That is, the bridge electrode 150 contacts the first electrode 130 without having a step difference from the first electrode 130 on the surface of the first part 151, and the second electrode ( 140 and the second electrode 140 may be in contact without having a step difference.

다시 도 15를 참조하면, 복수 개의 발광 셀(100)의 배열에서 일 단부에 배치되는 발광 셀(100Z1)은 제2 전극(140)이 제2 전극 패드(140P)를 포함하여 와이어 본딩을 위한 면적을 확보할 수 있다. 마찬가지로, 복수 개의 발광 셀(100)의 배열에서 다른 단부에 배치되는 발광 셀(100Z2)은 제1 전극(130)이 제1 전극 패드(130P)를 포함하여 와이어 본딩을 위한 면적을 확보할 수 있다.Referring back to FIG. 15, in the array of the plurality of light emitting cells 100, the light emitting cells 100Z 1 disposed at one end are formed in which the second electrode 140 includes a second electrode pad 140P for wire bonding. Area can be secured. Similarly, in the light emitting cell 100Z 2 disposed at the other end of the array of the plurality of light emitting cells 100, the first electrode 130 may secure an area for wire bonding including the first electrode pad 130P. have.

도 18은 제11 실시예에 따른 발광소자의 일부분의 측 단면도이다. 상술한 실시예들과 중복되는 내용은 다시 설명하지 않으며, 이하에서는 차이점을 중심으로 설명한다. 도 18의 평면도는 도 16과 같으므로 도 16을 같이 참조한다.18 is a side cross-sectional view of a portion of a light emitting device according to an eleventh embodiment. Contents overlapping with the above-described embodiments will not be described again, and the following will focus on differences. Since the plan view of FIG. 18 is the same as that of FIG. 16, reference is made to FIG. 16.

도 18을 참조하면, 제11 실시예에 따른 발광소자(300E)는 복수 개의 발광 셀(100) 및 인접한 두 개의 발광 셀(100)을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(150)을 포함한다.Referring to FIG. 18, the light emitting device 300E according to the eleventh embodiment includes a plurality of light emitting cells 100 and a bridge electrode 150 electrically connecting two adjacent light emitting cells 100.

제11 실시예에 따른 발광소자(300E)가 제10 실시예에 따른 발광소자(300D)와 다른 점은, 브릿지 전극(150)의 두께가 전체적으로 일정하지 않다는 점이다.The difference between the light emitting device 300E according to the eleventh embodiment and the light emitting device 300D according to the tenth embodiment is that the thickness of the bridge electrode 150 is not uniform as a whole.

브릿지 전극(150)은 인접한 두 개의 발광 셀(100) 중 어느 하나의 발광 셀(100)의 제1 도전형 반도체층(122) 상의 제1 부분(151), 다른 하나의 발광 셀(100)의 제2 도전형 반도체층(126) 상의 제2 부분(152), 상기 제1 부분(151)과 상기 제2 부분(152) 사이의 제3 부분(153)을 포함할 수 있으며 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 또는 제2 부분(152)과 제3 부분(153)의 사이를 전기적으로 연결하여 발광 셀(100)의 측면 상에 위치하는 제4 부분(154)를 포함할 수 있다. 상기 제1 부분(151)은 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)에 의해 노출된 제1 도전형 반도체층(122) 상에 배치된 부분일 수 있다.The bridge electrode 150 includes a first portion 151 on the first conductivity type semiconductor layer 122 of one of the two adjacent light emitting cells 100 and the other light emitting cell 100. A second portion 152 on the second conductivity type semiconductor layer 126 and a third portion 153 between the first portion 151 and the second portion 152 may be included, and the first portion 151 ) And the third portion 153 or the fourth portion 154 positioned on the side of the light emitting cell 100 by electrically connecting between the second portion 152 and the third portion 153 have. The first portion 151 may be a portion disposed on the first conductivity type semiconductor layer 122 exposed by the etching region E of the light emitting structure 120.

상기 제3 부분(153)은 인접한 두 개의 발광 셀(100)의 사이에 배치되며, 기판(110) 상에 배치된다. 즉, 상기 제3 부분(153)은, 기판(110) 상에 배치된 인접한 두 개의 발광 셀(100) 사이의 이격 공간에 배치될 수 있다.The third portion 153 is disposed between two adjacent light emitting cells 100 and disposed on the substrate 110. That is, the third portion 153 may be disposed in a space between two adjacent light emitting cells 100 disposed on the substrate 110.

상기 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 사이 및 제2 부분(152)과 제3 부분(153) 사이의 측면에는 브릿지 전극(150)의 제4 부분(154)이 배치될 수 있다. 상기 제4 부분(154)은 제1 부분(151)과 제3 부분(153) 및 제2 부분과 제3 부분을 전기적으로 연결해준다.A fourth portion 154 of the bridge electrode 150 may be disposed on a side surface between the first portion 151 and the third portion 153 and between the second portion 152 and the third portion 153. . The fourth portion 154 electrically connects the first portion 151 and the third portion 153 and the second portion and the third portion.

브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 제1 전극(130)의 두께(T1) 또는 제2 전극(140)의 두께(T2)보다 클 수 있다. 브릿지 전극(150)은 전체적으로 두께가 일정하지 않으며, 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 클 수 있다. 또한, 브릿지 전극(150)은 상기 제4 부분(154)의 두께(TB4)가 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께와 동일하거나, 상기 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 작을 수 있다. 브릿지 전극(150)은 상기 제3 부분(153)의 두께(TB3)가 가장 클 수 있다.In the bridge electrode 150, a thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than a thickness T 1 of the first electrode 130 or a thickness T 2 of the second electrode 140. The overall thickness of the bridge electrode 150 is not constant, and the thickness T B3 of the third portion 153 may be greater than the thickness of the first portion 151 or the second portion 152. In addition, the thickness of the fourth portion 154 (T B4 ) of the bridge electrode 150 is the same as the thickness of the first portion 151 or the second portion 152, or the first portion 151 or It may be smaller than the thickness of the second portion 152. The bridge electrode 150 may have the largest thickness T B3 of the third portion 153.

제11 실시예에 따르면, 브릿지 전극(150)의 적어도 일부를 두껍게 형성하여 브릿지 전극(150)의 면적을 넓힘으로써, 발광소자의 동작 중 좁은 면적의 브릿지 전극(150)으로 전류가 집중되어 브릿지 전극(150)이 타버리는 등의 신뢰성 저하 문제를 개선할 수 있다.According to the eleventh embodiment, by forming at least a part of the bridge electrode 150 to be thick to increase the area of the bridge electrode 150, the current is concentrated to the bridge electrode 150 having a narrow area during operation of the light emitting device. Problems of lowering reliability, such as burning 150, can be improved.

실시예에 따라, 브릿지 전극(150)은 상기 제1 부분(151) 또는 상기 제2 부분(152)의 두께가 각각 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)의 두께와 같을 수 있다.According to an embodiment, the thickness of the first portion 151 or the second portion 152 of the bridge electrode 150 may be the same as the thickness of the first electrode 130 or the second electrode 140, respectively.

또는, 브릿지 전극(150)은 상기 제1 부분(151) 또는 상기 제2 부분(152)에서 각각 제1 전극(130) 또는 제2 전극(140)과 높이가 같을 수 있다. 즉, 브릿지 전극(150)은 제1 부분(151)의 표면에서 제1 전극(130)과 단차를 갖지 않고 제1 전극(130)과 접하며, 제2 부분(152)의 표면에서 제2 전극(140)과 단차를 갖지 않고 제2 전극(140)과 접할 수 있다.Alternatively, the bridge electrode 150 may have the same height as the first electrode 130 or the second electrode 140 in the first portion 151 or the second portion 152, respectively. That is, the bridge electrode 150 contacts the first electrode 130 without having a step difference from the first electrode 130 on the surface of the first part 151, and the second electrode ( 140 and the second electrode 140 may be in contact without having a step difference.

도 19는 제12 실시 예에 따른 발광 소자(400A)의 단면도이다. 도 3과 동일한 도면 부호는 동일한 구성을 나타내며, 동일한 구성에 대해서는 설명을 생략한다.19 is a cross-sectional view of a light emitting device 400A according to the twelfth embodiment. The same reference numerals as in FIG. 3 denote the same configuration, and description of the same configuration is omitted.

도 19를 참조하면, 기판(110)의 상부 표면에는 발광 구조물(120)로부터 조사되는 광을 산란시켜, 광 추출을 향상시키는 요철(110a)이 형성될 수 있다. 예컨대, 기판(110)은 PSS(Patterned Sapphire Substrate)일 수 있다.Referring to FIG. 19, an irregularity 110a for improving light extraction by scattering light irradiated from the light emitting structure 120 may be formed on the upper surface of the substrate 110. For example, the substrate 110 may be a Patterned Sapphire Substrate (PSS).

요철(110a)은 인접하는 발광 셀들 사이에 위치하는 기판(110)의 상부면의 일 영역(이하 "기판(110)의 제1 영역(S1)"이라 한다)에도 형성될 수 있다. The irregularities 110a may also be formed in a region of the upper surface of the substrate 110 (hereinafter referred to as “the first region S1 of the substrate 110”) positioned between adjacent light emitting cells.

기판(110)의 제1 영역(S1)에 형성되는 요철(110a) 상에 배치되는 절연층(160)의 일부는 요철(110a)에 대응하는 곡면을 가질 수 있으며, 절연층(160)의 곡면의 형상은 요철(110a)의 외주면의 형상과 동일할 수 있다.A portion of the insulating layer 160 disposed on the unevenness 110a formed in the first region S1 of the substrate 110 may have a curved surface corresponding to the unevenness 110a, and the curved surface of the insulating layer 160 The shape of may be the same as the shape of the outer peripheral surface of the irregularities (110a).

또한 기판(110)의 제1 영역(S1)에 위치하는 절연층(160) 상에 배치되는 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 상부면에는 기판(110)의 요철(110a)에 대응하는 요철(153a)이 형성될 수 있다. 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 요철(153a)은 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 상부면으로부터 돌출되는 복수의 돌출부들을 포함할 수 있다. In addition, on the upper surface of the third portion 153 of the bridge electrode 150 disposed on the insulating layer 160 positioned in the first region S1 of the substrate 110, the unevenness 110a of the substrate 110 Corresponding irregularities 153a may be formed. The unevenness 153a of the third portion 153 of the bridge electrode 150 may include a plurality of protrusions protruding from the upper surface of the third portion 153 of the bridge electrode 150.

브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 두께(TB3)는 브릿지 전극(150)의 제1 부분(151) 또는 제2 부분(152)의 두께보다 클 수 있다. The thickness T B3 of the third portion 153 of the bridge electrode 150 may be greater than the thickness of the first portion 151 or the second portion 152 of the bridge electrode 150.

또한 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 두께(TB3)는 브릿지 전극(150)의 제1 부분(151)의 두께와 제1 두께(T5)의 합보다 작거나 같을 수 있다. 제1 두께(T5)는 버퍼층(115), 언도프트 반도체층(114), 및 발광 구조물(120)의 식각 영역(E)의 두께의 합일 수 있다.In addition, the thickness T B3 of the third portion 153 of the bridge electrode 150 may be less than or equal to the sum of the thickness of the first portion 151 of the bridge electrode 150 and the first thickness T5. The first thickness T5 may be the sum of the thicknesses of the buffer layer 115, the undoped semiconductor layer 114, and the etching region E of the light emitting structure 120.

즉 기판(110)의 상부면을 기준으로 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 상부면의 높이는 브릿지 전극(150)의 제1 부분(151)의 상부면의 높이보다 낮거나 동일할 수 있다.That is, the height of the upper surface of the third part 153 of the bridge electrode 150 based on the upper surface of the substrate 110 may be lower than or equal to the height of the upper surface of the first part 151 of the bridge electrode 150. I can.

도 20은 제13 실시 예에 따른 발광 소자(400B)의 단면도이다. 도 12와 동일한 도면 부호는 동일한 구성을 나타내며, 동일한 구성에 대해서는 설명을 생략한다.20 is a cross-sectional view of a light emitting device 400B according to the thirteenth embodiment. The same reference numerals as in FIG. 12 denote the same configuration, and description of the same configuration is omitted.

도 20일 참조하면, 기판(110)의 제1 영역(S1)에 위치하는 절연층(160) 상에 배치되는 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)은 기판(110)의 요철(110a)에 대응하는 요철(153a)을 구비할 수 있다. 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 요철(153a)은 브릿지 전극(150)의 제3 부분(153)의 상부면으로부터 돌출되는 복수의 돌출부들을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 20, the third portion 153 of the bridge electrode 150 disposed on the insulating layer 160 positioned in the first region S1 of the substrate 110 is the unevenness 110a of the substrate 110. ) May be provided with a corresponding unevenness (153a). The unevenness 153a of the third portion 153 of the bridge electrode 150 may include a plurality of protrusions protruding from the upper surface of the third portion 153 of the bridge electrode 150.

제12 실시 예와 비교할 때 다른 점은 제13 실시 예는 브릿지 전극(150)의 제1 부분 내지 제3 부분들(151,152,153) 각각의 두께가 모두 동일하다는 점이다.Compared to the twelfth embodiment, the thirteenth embodiment is that the first to third portions 151, 152, and 153 of the bridge electrode 150 have the same thickness.

도 21은 실시예들에 따른 발광소자를 포함한 발광소자 패키지의 일실시예를 도시한 도면이다.21 is a diagram illustrating an embodiment of a light emitting device package including a light emitting device according to the embodiments.

일실시예에 따른 발광소자 패키지(400)는 몸체(410)와, 상기 몸체(410)에 배치된 제1 리드 프레임(421) 및 제2 리드 프레임(422)과, 상기 몸체(410)에 배치되어 상기 제1 리드 프레임(421) 및 제2 리드 프레임(422)과 전기적으로 연결되는 상술한 실시예들에 따른 발광소자(200; 300)와, 상기 캐비티에 형성된 몰딩부(440)를 포함한다. 상기 몸체(410)에는 캐비티가 형성될 수 있다. 발광소자(200; 300)는 상술한 바와 같이 직렬 또는 병렬 연결된 복수 개의 발광 셀이 하나의 칩으로 형성된 것이다.The light emitting device package 400 according to an embodiment includes a body 410, a first lead frame 421 and a second lead frame 422 disposed on the body 410, and disposed on the body 410 And a light emitting device 200; 300 according to the above-described embodiments electrically connected to the first lead frame 421 and the second lead frame 422 and a molding part 440 formed in the cavity. . A cavity may be formed in the body 410. As described above, the light-emitting devices 200 and 300 include a plurality of light-emitting cells connected in series or in parallel as a single chip.

상기 몸체(410)는 실리콘 재질, 합성수지 재질, 또는 금속 재질을 포함하여 형성될 수 있다. 상기 몸체(410)가 금속 재질 등 도전성 물질로 이루어지면, 도시되지는 않았으나 상기 몸체(410)의 표면에 절연층이 코팅되어 상기 제1,2 리드 프레임(421, 422) 간의 전기적 단락을 방지할 수 있다.The body 410 may be formed of a silicon material, a synthetic resin material, or a metal material. When the body 410 is made of a conductive material such as a metal material, although not shown, an insulating layer is coated on the surface of the body 410 to prevent an electrical short between the first and second lead frames 421 and 422. I can.

상기 제1 리드 프레임(421) 및 제2 리드 프레임(422)은 서로 전기적으로 분리되며, 상기 발광소자(200; 300)에 전류를 공급한다. 또한, 상기 제1 리드 프레임(421) 및 제2 리드 프레임(422)은 상기 발광소자(200; 300)에서 발생된 광을 반사시켜 광 효율을 증가시킬 수 있으며, 상기 발광소자(200; 300)에서 발생된 열을 외부로 배출시킬 수도 있다.The first lead frame 421 and the second lead frame 422 are electrically separated from each other, and supply current to the light emitting devices 200 and 300. In addition, the first lead frame 421 and the second lead frame 422 may reflect light generated from the light emitting devices 200; 300 to increase light efficiency, and the light emitting devices 200; 300 The heat generated in can be discharged to the outside.

상기 발광소자(200; 300)는 상기 몸체(410) 상에 배치되거나 상기 제1 리드 프레임(421) 또는 제2 리드 프레임(422) 상에 배치될 수 있다. 본 실시예에서는 제1 리드 프레임(421)과 발광소자(200; 300)가 직접 통전되고, 제2 리드 프레임(422)과 상기 발광소자(200; 300)는 와이어(430)를 통하여 연결되어 있다. 발광소자(200; 300)는 와이어 본딩 방식 외에 플립칩 방식 또는 다이 본딩 방식 등에 의하여 리드 프레임(421, 422)과 연결될 수 있다.The light emitting device 200 or 300 may be disposed on the body 410 or may be disposed on the first lead frame 421 or the second lead frame 422. In this embodiment, the first lead frame 421 and the light emitting devices 200; 300 are directly energized, and the second lead frame 422 and the light emitting devices 200; 300 are connected through a wire 430. . The light emitting devices 200 or 300 may be connected to the lead frames 421 and 422 by a flip chip method or a die bonding method in addition to the wire bonding method.

상기 몰딩부(440)는 상기 발광소자(200; 300)를 포위하여 보호할 수 있다. 또한, 상기 몰딩부(440) 상에는 형광체(450)가 포함되어, 상기 발광소자(200; 300)로부터 방출되는 빛의 파장을 변화시킬 수 있다.The molding part 440 may surround and protect the light emitting devices 200 (300). In addition, a phosphor 450 is included on the molding part 440 to change the wavelength of light emitted from the light emitting devices 200 or 300.

형광체(450)는 가넷(Garnet)계 형광체, 실리케이트(Silicate)계 형광체, 니트라이드(Nitride)계 형광체, 또는 옥시니트라이드(Oxynitride)계 형광체를 포함할 수 있다.The phosphor 450 may include a garnet-based phosphor, a silicate-based phosphor, a nitride-based phosphor, or an oxynitride-based phosphor.

예를 들어, 상기 가넷계 형광체는 YAG(Y3Al5O12:Ce3 +) 또는 TAG(Tb3Al5O12:Ce3 +)일 수 있고, 상기 실리케이트계 형광체는 (Sr,Ba,Mg,Ca)2SiO4:Eu2 +일 수 있고, 상기 니트라이드계 형광체는 SiN을 포함하는 CaAlSiN3:Eu2 +일 수 있고, 상기 옥시니트라이드계 형광체는 SiON을 포함하는 Si6 - xAlxOxN8 -x:Eu2 +(0<x<6)일 수 있다.For example, the garnet-based phosphor may be YAG (Y 3 Al 5 O 12 :Ce 3 + ) or TAG (Tb 3 Al 5 O 12 :Ce 3 + ), and the silicate-based phosphor is (Sr,Ba, Mg, Ca) 2 SiO 4: Eu 2 + one can, the nitride-based fluorescent material is CaAlSiN 3 containing SiN: Eu 2 + one can, Si 6 of the oxynitride-based fluorescent material includes SiON - x Al x O x N 8 -x :Eu 2 + (0<x<6).

상기 발광소자(200; 300)에서 방출된 제1 파장 영역의 광이 상기 형광체(350)에 의하여 여기되어 제2 파장 영역의 광으로 변환되고, 상기 제2 파장 영역의 광은 렌즈(미도시)를 통과하면서 광경로가 변경될 수 있다.Light in the first wavelength region emitted from the light emitting device 200; 300 is excited by the phosphor 350 and converted into light in the second wavelength region, and the light in the second wavelength region is a lens (not shown) The light path may change while passing through.

실시예에 따른 발광소자 패키지는 복수 개가 기판 상에 어레이되며, 상기 발광소자 패키지의 광 경로 상에 광학 부재인 도광판, 프리즘 시트, 확산 시트 등이 배치될 수 있다. 이러한 발광소자 패키지, 기판, 광학 부재는 라이트 유닛으로 기능할 수 있다. 또 다른 실시 예는 상술한 실시 예들에 기재된 반도체 발광소자 또는 발광소자 패키지를 포함하는 표시 장치, 지시 장치, 조명 시스템으로 구현될 수 있으며, 예를 들어, 조명 시스템은 램프, 가로등을 포함할 수 있다.A plurality of light emitting device packages according to the embodiment may be arranged on a substrate, and an optical member, such as a light guide plate, a prism sheet, and a diffusion sheet, may be disposed on an optical path of the light emitting device package. Such a light emitting device package, a substrate, and an optical member may function as a light unit. Another embodiment may be implemented as a display device, an indication device, and a lighting system including the semiconductor light emitting device or the light emitting device package described in the above-described embodiments, and for example, the lighting system may include a lamp and a street light. .

이하에서는 상술한 발광소자 또는 발광소자 패키지가 배치된 조명 시스템의 일실시예로서, 헤드램프와 백라이트 유닛을 설명한다.Hereinafter, a headlamp and a backlight unit will be described as an embodiment of a lighting system in which the above-described light emitting device or light emitting device package is disposed.

도 22는 실시예들에 따른 발광소자 또는 발광소자 패키지가 배치된 헤드램프의 일실시예를 도시한 도면이다.22 is a diagram illustrating an embodiment of a headlamp in which a light emitting device or a light emitting device package is disposed according to the embodiments.

도 22를 참조하면, 실시예들에 따른 발광소자 또는 발광소자 패키지가 배치된 발광 모듈(710)에서 방출된 빛이 리플렉터(720)와 쉐이드(730)에서 반사된 후 렌즈(740)를 투과하여 차체 전방을 향할 수 있다.Referring to FIG. 22, light emitted from the light emitting device or the light emitting module 710 in which the light emitting device package is disposed according to the embodiments is reflected by the reflector 720 and the shade 730 and then passes through the lens 740. Can face the front of the body.

상기 발광 모듈(710)은 회로기판 상에 발광소자가 복수 개로 탑재될 수 있으며, 이에 대해 한정하지 않는다.The light-emitting module 710 may have a plurality of light-emitting elements mounted on a circuit board, but is not limited thereto.

도 23은 실시예에 따른 발광소자 패키지가 배치된 표시장치의 일실시예를 도시한 도면이다.23 is a diagram illustrating an embodiment of a display device in which a light emitting device package according to the embodiment is disposed.

도 23을 참조하면, 실시예에 따른 표시장치(800)는 발광 모듈(830, 835)과, 바텀 커버(810) 상의 반사판(820)과, 상기 반사판(820)의 전방에 배치되며 상기 발광 모듈에서 방출되는 빛을 표시장치 전방으로 가이드하는 도광판(840)과, 상기 도광판(840)의 전방에 배치되는 제1 프리즘시트(850)와 제2 프리즘시트(860)와, 상기 제2 프리즘시트(860)의 전방에 배치되는 패널(870)과 상기 패널(870)의 전반에 배치되는 컬러필터(880)를 포함하여 이루어진다.Referring to FIG. 23, a display device 800 according to an embodiment includes light emitting modules 830 and 835, a reflector 820 on the bottom cover 810, and a reflector 820 disposed in front of the light emitting module. A light guide plate 840 that guides light emitted from the front of the display device, a first prism sheet 850 and a second prism sheet 860 disposed in front of the light guide plate 840, and the second prism sheet ( A panel 870 disposed in front of the panel 860 and a color filter 880 disposed in front of the panel 870 are included.

발광 모듈은 회로 기판(830) 상의 상술한 발광소자 패키지(835)를 포함하여 이루어진다. 여기서, 회로 기판(830)은 PCB 등이 사용될 수 있고, 발광소자 패키지(835)는 실시 예들 중 어느 하나일 수 있다.The light emitting module includes the above-described light emitting device package 835 on the circuit board 830. Here, the circuit board 830 may be a PCB or the like, and the light emitting device package 835 may be any one of the embodiments.

상기 바텀 커버(810)는 표시 장치(800) 내의 구성 요소들을 수납할 수 있다. 상기 반사판(820)은 본 도면처럼 별도의 구성요소로 마련될 수도 있고, 상기 도광판(840)의 후면이나, 상기 바텀 커버(810)의 전면에 반사도가 높은 물질로 코팅되는 형태로 마련되는 것도 가능하다.The bottom cover 810 may accommodate components in the display device 800. The reflective plate 820 may be provided as a separate component as shown in this drawing, or may be provided in a form coated with a material having high reflectivity on the rear surface of the light guide plate 840 or the front surface of the bottom cover 810 Do.

여기서, 반사판(820)은 반사율이 높고 초박형으로 사용 가능한 소재를 사용할 수 있고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PolyEthylene Terephtalate; PET)를 사용할 수 있다.Here, the reflective plate 820 may be made of a material that has high reflectivity and is ultra-thin, and may be made of polyethylene terephtalate (PET).

도광판(840)은 발광소자 패키지 모듈에서 방출되는 빛을 산란시켜 그 빛이 액정 표시 장치의 화면 전영역에 걸쳐 균일하게 분포되도록 한다. 따라서, 도광판(830)은 굴절률과 투과율이 좋은 재료로 이루어지는데, 폴리메틸메타크릴레이트(PolyMethylMethAcrylate; PMMA), 폴리카보네이트(PolyCarbonate; PC), 또는 폴리에틸렌(PolyEthylene; PE) 등으로 형성될 수 있다. 그리고, 도광판이 생략되어 반사시트(820) 위의 공간에서 빛이 전달되는 에어 가이드 방식도 가능하다.The light guide plate 840 scatters light emitted from the light emitting device package module so that the light is uniformly distributed over the entire screen area of the liquid crystal display. Accordingly, the light guide plate 830 is made of a material having a good refractive index and transmittance, and may be formed of polymethylmethacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), or polyethylene (PolyEthylene; PE). In addition, an air guide method in which light is transmitted in the space above the reflective sheet 820 is also possible because the light guide plate is omitted.

상기 제1 프리즘 시트(850)는 지지필름의 일면에, 투광성이면서 탄성을 갖는 중합체 재료로 형성되는데, 상기 중합체는 복수 개의 입체구조가 반복적으로 형성된 프리즘층을 가질 수 있다. 여기서, 상기 복수 개의 패턴은 도시된 바와 같이 마루와 골이 반복적으로 스트라이프 타입으로 구비될 수 있다.The first prism sheet 850 is formed of a light-transmitting and elastic polymer material on one surface of the support film, and the polymer may have a prism layer in which a plurality of three-dimensional structures are repeatedly formed. Here, the plurality of patterns may be repeatedly provided in a stripe type with floors and valleys as shown.

상기 제2 프리즘 시트(860)에서 지지필름 일면의 마루와 골의 방향은, 상기 제1 프리즘 시트(850) 내의 지지필름 일면의 마루와 골의 방향과 수직할 수 있다. 이는 발광 모듈과 반사시트로부터 전달된 빛을 상기 패널(870)의 전방향으로 고르게 분산하기 위함이다.In the second prism sheet 860, a direction of a floor and a valley on one side of the support film may be perpendicular to a direction of a floor and a valley on one side of the support film in the first prism sheet 850. This is to evenly distribute the light transmitted from the light emitting module and the reflective sheet in all directions of the panel 870.

본 실시예에서 상기 제1 프리즘시트(850)과 제2 프리즘시트(860)가 광학시트를 이루는데, 상기 광학시트는 다른 조합 예를 들어, 마이크로 렌즈 어레이로 이루어지거나 확산시트와 마이크로 렌즈 어레이의 조합 또는 하나의 프리즘 시트와 마이크로 렌즈 어레이의 조합 등으로 이루어질 수 있다.In this embodiment, the first prism sheet 850 and the second prism sheet 860 form an optical sheet, and the optical sheet is formed of a different combination, for example, a micro lens array, or a diffusion sheet and a micro lens array. It may be made of a combination or a combination of a single prism sheet and a micro lens array.

상기 패널(870)은 액정 표시 패널(Liquid crystal display)가 배치될 수 있는데, 액정 표시 패널(860) 외에 광원을 필요로 하는 다른 종류의 디스플레이 장치가 구비될 수 있다.The panel 870 may include a liquid crystal display. In addition to the liquid crystal display panel 860, other types of display devices requiring a light source may be provided.

상기 패널(870)은, 유리 바디 사이에 액정이 위치하고 빛의 편광성을 이용하기 위해 편광판을 양 유리바디에 올린 상태로 되어있다. 여기서, 액정은 액체와 고체의 중간적인 특성을 가지는데, 액체처럼 유동성을 갖는 유기분자인 액정이 결정처럼 규칙적으로 배열된 상태를 갖는 것으로, 상기 분자 배열이 외부 전계에 의해 변화되는 성질을 이용하여 화상을 표시한다.The panel 870 is in a state in which a liquid crystal is placed between the glass bodies and polarizing plates are placed on both glass bodies in order to utilize the polarization of light. Here, the liquid crystal has an intermediate characteristic between a liquid and a solid, and the liquid crystal, which is an organic molecule having fluidity like a liquid, has a state that is regularly arranged like a crystal, and the molecular arrangement is changed by an external electric field. Display an image.

표시장치에 사용되는 액정 표시 패널은, 액티브 매트릭스(Active Matrix) 방식으로서, 각 화소에 공급되는 전압을 조절하는 스위치로서 트랜지스터를 사용한다.A liquid crystal display panel used in a display device is an active matrix type, and uses a transistor as a switch for controlling a voltage supplied to each pixel.

상기 패널(870)의 전면에는 컬러 필터(880)가 구비되어 상기 패널(870)에서 투사된 빛을, 각각의 화소마다 적색과 녹색 및 청색의 빛만을 투과하므로 화상을 표현할 수 있다.A color filter 880 is provided on the front surface of the panel 870 to transmit light projected from the panel 870 and transmits only red, green, and blue light for each pixel, thereby displaying an image.

이상에서 실시 예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시 예에 포함되며, 반드시 하나의 실시 예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시 예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시 예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시 예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Features, structures, effects, etc. described in the embodiments above are included in at least one embodiment of the present invention, and are not necessarily limited to only one embodiment. Furthermore, the features, structures, effects, etc. illustrated in each embodiment may be combined or modified for other embodiments by a person having ordinary knowledge in the field to which the embodiments belong. Accordingly, contents related to such combinations and modifications should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

100: 발광 셀 110: 기판
120: 발광 구조물 122: 제1 도전형 반도체층
124: 활성층 126: 제2 도전형 반도체층
130: 제1 전극 140: 제2 전극
150: 브릿지 전극 151: 제1 부분
152: 제2 부분 153: 제3 부분
160: 절연층 200A~200C, 300A~300D: 발광소자
310: 패키지 몸체 321, 322: 제1,2 리드 프레임
330: 와이어 340: 몰딩부
350: 형광체 710: 발광 모듈
720: 리플렉터 730: 쉐이드
800: 표시장치 810: 바텀 커버
820: 반사판 840: 도광판
850: 제1 프리즘시트 860: 제2 프리즘시트
870: 패널 880: 컬러필터
100: light emitting cell 110: substrate
120: light emitting structure 122: first conductivity type semiconductor layer
124: active layer 126: second conductivity type semiconductor layer
130: first electrode 140: second electrode
150: bridge electrode 151: first part
152: second part 153: third part
160: insulating layer 200A~200C, 300A~300D: light emitting device
310: package body 321, 322: first and second lead frames
330: wire 340: molding part
350: phosphor 710: light emitting module
720: reflector 730: shade
800: display device 810: bottom cover
820: reflector 840: light guide plate
850: first prism sheet 860: second prism sheet
870: panel 880: color filter

Claims (20)

기판;
상기 기판 상에 배치되는 복수 개의 발광 셀들;
상기 복수 개의 발광 셀들 중 인접한 두 개의 발광 셀들을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극;
상기 복수의 발광 셀들과 상기 브릿지 전극 사이에 배치되는 절연층을 포함하고,
상기 복수의 발광 셀들 각각은,
제1 도전형 반도체층, 제2 도전형 반도체층, 상기 제1 도전형 반도체층과 상기 제2 도전형 반도체층 사이의 활성층을 포함하는 발광 구조물;
상기 제1 도전형 반도체층 상의 제1 전극; 및
상기 제2 도전형 반도체층 상의 제2 전극을 포함하며,
인접하는 발광 셀들 사이에 위치하는 상기 기판의 상면의 제1 영역에는 제1 요철이 형성되고,
상기 브릿지 전극은,
상기 인접하는 두 개의 발광 셀들 중 어느 하나의 발광 셀의 상기 제1 도전형 반도체층 상에 배치되고 상기 어느 하나의 발광 셀의 상기 제1 전극과 접하는 제1 부분;
상기 인접하는 두 개의 발광 셀들 중 나머지 다른 하나의 발광 셀의 상기 제2 도전형 반도체층 상에 배치되고 상기 나머지 다른 하나의 발광 셀의 상기 제2 전극에 접촉하는 제2 부분;
상기 기판의 상면의 제1 영역 상에 배치되는 제3 부분; 및
상기 제1 부분과 상기 제3 부분의 일단 사이를 연결하고 상기 제2 부분과 상기 제3 부분의 타단 사이를 연결하는 제4 부분을 포함하고,
상기 제3 부분의 두께는 상기 제1 부분의 두께, 상기 제2 부분의 두께, 및 상기 제4 부분의 두께보다 크고, 상기 제3 부분은 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극보다 두껍고,
상기 제3 부분의 상면에는 상기 제1 요철에 대응되는 제2 요철이 형성되고, 상기 제2 요철은 상기 활성층의 하면보다 아래에 위치하는 발광 소자.
Board;
A plurality of light emitting cells disposed on the substrate;
A bridge electrode electrically connecting two adjacent light emitting cells among the plurality of light emitting cells;
Including an insulating layer disposed between the plurality of light emitting cells and the bridge electrode,
Each of the plurality of light emitting cells,
A light emitting structure including a first conductivity type semiconductor layer, a second conductivity type semiconductor layer, and an active layer between the first conductivity type semiconductor layer and the second conductivity type semiconductor layer;
A first electrode on the first conductivity type semiconductor layer; And
And a second electrode on the second conductivity type semiconductor layer,
First unevenness is formed in the first region of the upper surface of the substrate positioned between adjacent light emitting cells,
The bridge electrode,
A first portion disposed on the first conductivity-type semiconductor layer of any one of the two adjacent light-emitting cells and in contact with the first electrode of the one light-emitting cell;
A second portion disposed on the second conductivity type semiconductor layer of the other one of the two adjacent light emitting cells and contacting the second electrode of the other light emitting cell;
A third portion disposed on the first area of the upper surface of the substrate; And
And a fourth portion connecting between one end of the first portion and the third portion and connecting between the second portion and the other end of the third portion,
A thickness of the third portion is greater than a thickness of the first portion, a thickness of the second portion, and a thickness of the fourth portion, the third portion is thicker than the first electrode and the second electrode,
A light emitting device having a second unevenness corresponding to the first unevenness formed on an upper surface of the third portion, and the second unevenness being positioned below a lower surface of the active layer.
제1항에 있어서,
상기 브릿지 전극의 폭은 상기 제1 전극의 폭 또는 상기 제2 전극의 폭보다 큰 발광 소자.
The method of claim 1,
The width of the bridge electrode is larger than the width of the first electrode or the width of the second electrode.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 절연층은 상기 기판의 상면의 제1 영역과 상기 제3 부분 사이에 배치되는 제1 부분을 포함하고, 상기 절연층의 제1 부분은 상기 제1 요철의 외주면과 동일한 형상을 갖는 곡면을 포함하고,
상기 제3 부분의 두께는 상기 절연층의 제1 부분의 두께보다 큰 발광 소자.
The method of claim 1,
The insulating layer includes a first portion disposed between the first region and the third portion of the upper surface of the substrate, and the first portion of the insulating layer includes a curved surface having the same shape as an outer circumferential surface of the first irregularities. and,
The thickness of the third portion is greater than the thickness of the first portion of the insulating layer.
제1항에 있어서,
상기 브릿지 전극은 상기 인접한 두 개의 발광셀들 사이에 복수 개가 존재하는 발광 소자.
The method of claim 1,
A light emitting device in which a plurality of bridge electrodes are present between the two adjacent light emitting cells.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102343087B1 (en) * 2017-04-28 2021-12-24 엘지이노텍 주식회사 Semiconductor device package
KR102619665B1 (en) * 2018-06-29 2023-12-29 삼성전자주식회사 Light emitting device
CN110957404A (en) * 2019-12-17 2020-04-03 佛山市国星半导体技术有限公司 High-voltage LED chip and manufacturing method thereof
US20220399397A1 (en) 2020-03-03 2022-12-15 Hcp Technology Co., Ltd. Light emitting diode and preparation method therefor

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100006870A1 (en) * 2005-06-22 2010-01-14 Seoul Opto Device Co., Ltd Light emitting device
KR101014155B1 (en) * 2010-03-10 2011-02-10 엘지이노텍 주식회사 Light emitting device, method for fabricating the light emitting device and light emitting device package
JP2011171739A (en) * 2010-02-19 2011-09-01 Samsung Led Co Ltd Semiconductor light-emitting device having multi-cell array, light-emitting module, and illumination apparatus
US20120061694A1 (en) * 2010-09-13 2012-03-15 Epistar Corporation Light-emitting structure

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100966372B1 (en) * 2007-11-23 2010-06-28 삼성엘이디 주식회사 Monolithic light emitting diode array and method of manufacturing the same
EP2158618A1 (en) * 2008-05-20 2010-03-03 Panasonic Corporation Semiconductor light-emitting device as well as light source device and lighting system including the same
TW201011890A (en) * 2008-09-04 2010-03-16 Formosa Epitaxy Inc Alternating current light emitting device
KR20130035658A (en) * 2011-09-30 2013-04-09 서울옵토디바이스주식회사 Method for fabricating a substrate for light emitting diode device
JP6176032B2 (en) * 2013-01-30 2017-08-09 日亜化学工業株式会社 Semiconductor light emitting device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100006870A1 (en) * 2005-06-22 2010-01-14 Seoul Opto Device Co., Ltd Light emitting device
JP2011171739A (en) * 2010-02-19 2011-09-01 Samsung Led Co Ltd Semiconductor light-emitting device having multi-cell array, light-emitting module, and illumination apparatus
KR101014155B1 (en) * 2010-03-10 2011-02-10 엘지이노텍 주식회사 Light emitting device, method for fabricating the light emitting device and light emitting device package
US20120061694A1 (en) * 2010-09-13 2012-03-15 Epistar Corporation Light-emitting structure

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