KR102181607B1 - 글래스의 표면 처리 방법 및 표면 처리된 글래스 - Google Patents

Abstract

본 발명은 글래스의 표면에 알루미늄 층을 형성하는 단계; 및 상기 글래스의 표면이 노출되도록 상기 알루미늄 층에 복수의 홀(hole)을 형성하는 다공층 형성 단계; 를 포함하는 글래스의 표면 처리 방법에 관한 것이다.

Description

글래스의 표면 처리 방법 및 표면 처리된 글래스{surface treatment method for glass and surface-treated glass}

본 발명은 글래스의 표면 처리 방법 및 표면 처리된 글래스에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 휴대용 통신기기에 사용되는 글래스의 표면 처리 방법 및 휴대용 통신기기에 사용되는 표면 처리된 글래스에 관한 것이다.

휴대용 통신기기의 외관에 다양한 소재가 적용됨에 따라, 내구성을 확보하면서도 질감이나 색감을 확보하는 방안이 다양하게 제시되고 있다.

플라스틱 소재의 경우, 사출 표면에 투명 도료를 이용하여 하도 도장을 진행한 후 주석 및 인듐을 증착하는 방법으로 금속질감 및 비전도성을 구현할 수 있다. 이때, 주석 및 인듐 증착 후 유색도료를 도장하여 색상을 구현할 수 있고, 추가로 투명 상도 도료를 도장할 수 있다. 다만, 이 방법은 내구성 문제로 스마트폰에 사용되는 소재의 표면처리로는 선호되지 않는다.

글래스 소재에 금속질감 및 비전도성을 구현하는 방법으로는 멀티(multi) 증착과 색상 인쇄방식을 겸해서 비전도성 및 색상을 구현하는 방법이 사용되고 있으나 휴대용 통신기기에 적용하고자 하는 다양한 색상을 구현하지 못하는 문제가 있다. 또한, 종래 사용되는 멀티 증착의 경우 글래스 소재의 투광성을 충분히 살릴 수 없는 문제가 있다.

나아가, 휴대용 통신기기의 전면 또는 후면 커버 글라스에 금속을 코팅할 경우에는 전자파 차폐 현상으로 인해 안테나의 성능이 저하되고 통신상에 장애를 가져오게 된다. 따라서 기존의 휴대용 통신기기의 커버 글라스에는 전자파 차폐를 회피하기 위해 비전도성 다층박막으로 이루어진 광학 코팅을 적용해 왔으며, 이러한 비전도성 다층박막으로 이루어진 광학 코팅은 실제의 금속 질감을 구현하기 어렵고 시야 각에 따른 색상의 변화, 무지개 색상 현상이 발생하는 등의 단점이 있다.

세라믹 소재에 금속질감, 비전도성 및 색상을 구현하는 방법으로는 멀티(multi) 증착이 사용되고 있으나 휴대용 통신기기에 적용하고자 하는 다양한 색상을 구현하지 못하는 문제가 있다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 개선할 수 있는 글래스의 표면처리 방법 및 그에 따라 제조된 표면 처리된 글래스를 제공하고자 한다.

또한, 본 발명은 휴대용 통신기기에 사용하기 적합한 글래스를 제공할 수 있는 글래스의 표면처리 방법 및 그에 따라 제조된 표면 처리된 글래스를 제공하고자 한다.

또한, 본 발명은 휴대용 통신기기에 사용되기에 충분한 투광성을 가질 수 있고, 내구성을 확보하면서도 미려하고 다양한 색상을 구현할 수 있는 글래스의 표면처리 방법 및 표면 처리된 글래스를 제공하고자 한다.

본 발명자들은 예의 검토한 결과, 글래스의 표면에 알루미늄 층을 형성한 뒤, 상기 알루미늄 층이, 글래스의 표면까지 도달하는 복수의 홀(hole)을 구비한 다공층이 되게 하는 표면 처리를 함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

즉, 본 발명은, 이하와 같다.

[1] 글래스의 표면에 알루미늄 층을 형성하는 단계; 및 상기 글래스의 표면이 노출되도록 상기 알루미늄 층에 복수개의 홀(hole)을 형성하는 다공층 형성 단계; 를 포함하는 글래스의 표면 처리 방법.

[2] 상기 다공층은 상기 알루미늄 층을 양극 산화시켜 형성되는 것인, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.

[3] 상기 복수의 홀은 균일한 간격으로 형성되는, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.

[4] 상기 알루미늄 층의 두께는 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 인, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.

[5] 상기 다공층 형성 단계는, a) 상기 알루미늄 층을 1 차 양극산화하는 단계; 및 b) 1차 양극산화된 알루미늄 층을 2차 양극산화하는 단계; 를 포함하는, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.

[6] 상기 2차 양극산화는 상기 1차 양극산화보다 높은 전압으로 수행되는, [5] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.

[7] 상기 1차 양극산화는 13V 내지 17V 에서 수행되고, 상기 2차 양극산화는 18V 내지 22V 에서 수행되는, [5] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.

[8] 상기 1차 양극산화 단계 이후 상기 2차 양극산화 단계 이전에, c) 상기 알루미늄 층에 생성된 불규칙한 배열의 홀을 제거하는 에칭 단계를 포함하는, [5] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.

[9] 상기 알루미늄 층은 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) 방식으로 글래스 표면에 형성되는, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.

[10] 상기 다공층 형성 단계 이후에, 후처리 단계를 더 포함하는, [1] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.

[11] 상기 후처리 단계는 상기 다공층에 전해착색, 봉공처리 및 전착도장 중 하나 이상을 수행하는 것인, [10] 에 기재된 글래스의 표면 처리 방법.

[12] 글래스; 및 상기 글래스 상에 형성되며, 상기 글래스의 표면까지 도달하는 복수개의 홀(hole)을 갖는 다공층; 을 포함하고, 상기 다공층은 산화알루미늄을 포함하는 표면 처리 글래스.

[13] 상기 다공층은 알루미늄 층을 양극 산화시켜 형성된 것인, [12] 에 기재된 표면 처리 글래스.

[14] 상기 복수의 홀은 균일한 간격을 갖는, [12] 에 기재된 표면 처리 글래스.

[15] 상기 다공층의 두께는 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 인, [12] 에 기재된 표면 처리 글래스.

[16] 상기 표면 처리 글래스는 휴대용 통신기기에 사용되는 것인, [12] 에 기재된 표면 처리 글래스.

본 발명에 의하면, 휴대용 통신기기에 사용하기 적합하도록 글래스를 표면 처리하는 방법 및 표면 처리된 글래스를 제공할 수 있다.

또한, 본 발명에 따르면 스마트폰의 지문인식 모듈, 백커버, 볼륨키 등에 적용할 수 있는 표면 처리된 글래스를 제공할 수 있다.

또한, 본 발명의 표면 처리된 글래스는 충분한 투광성을 가질 수 있으며, 내구성 및 내식성이 우수하고, 미려하고 다양한 색상을 구현하면서도 균일한 색상의 구현이 가능하여 휴대용 통신기기 외장재의 품질을 향상시킬 수 있다.

도 1a는, 글래스의 표면에 알루미늄 층이 형성된 것을 나타내는 단면도이다.
도 1b는, 글래스의 표면에 다공층이 형성된 것을 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 글래스의 표면 처리 방법에서 다공층을 형성하는 방법을 순차적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은 다공층에 염료 착색층이 형성된 것을 나타내는 단면도이다.
도 4는 다공층에 염료 착색층 및 표면층이 형성된 것을 나타내는 단면도이다.

이하에 본 발명의 실시형태를 상세하게 설명하지만, 이하에 기재하는 구성 요건의 설명은 본 발명의 실시양태의 일례이며, 본 발명은 그 요지를 초과하지 않는 한, 이하의 내용에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있으며, 도면상의 동일한 부호로 표시되는 요소는 동일한 요소이다.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.

그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하고, 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙이도록 한다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태를 설명한다.

본 발명은, 글래스의 표면에 알루미늄 층을 형성하는 단계 및 상기 알루미늄 층을, 글래스의 표면까지 도달하는 복수개의 홀(hole) 을 구비한 다공층이 되도록 하는 다공층 형성 단계를 포함하는 글래스의 표면 처리 방법에 관한 것이다.

도 1a 는, 글래스(10)의 표면에 알루미늄 층(11)이 형성된 것을 나타내는 단면도이다.

상기 글래스(10)는 특별히 제한되지 않고, 통상적으로 사용되는 글래스 소재를 모두 사용할 수 있으며, 사용되고자 하는 목적에 따라 다양한 형상으로 준비될 수 있다.

상기 알루미늄 층(11)은 상기 글래스(10)상에 형성된다. 상기 알루미늄 층(11)의 두께는 특별히 제한되지는 않으나, 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 의 두께로 형성되는 것이 바람직하다. 상기 알루미늄 층(11)의 두께가 너무 얇은 경우 양극 산화 처리시 다양한 색상을 구현하기 어려우며, 너무 두꺼우면 비용이 증가하는 문제가 있다.

이때 상기 알루미늄 층의 형성방법은 PVD(physical vapor deposition) 방식이 사용될 수 있으며, 이 중 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) 방식이 보다 바람직하다. 알루미늄 층을 마그네트론 스퍼터링으로 형성하는 경우 알루미늄 층의 미세구조 성막속도가 일정하고, 높은 생산성을 가질 수 있다. 또한, 알루미늄 층을 마그네트론 스퍼터링으로 형성하는 경우, 형성된 알루미늄 층은 증착 밀착강도가 크고 고밀도의 균일 조직을 가져 막의 균일도가 큰 이점이 있다. 또한, 마그네트론 스퍼터링으로 형성된 알루미늄 층의 미세구조는 매끄러운 표면과 치밀한 미세구조를 보인다.

도 1b는, 글래스(10)의 표면에 다공층(12)이 형성된 것을 나타내는 단면도이다.

상기 다공층(12)은 상기 알루미늄 층(11)을 양극산화시켜 형성할 수 있다. 특히, 기공형(porous type) 산화 피막을 형성하는 기공형 양극산화법을 사용할 수 있다. 기공형 양극산화를 실시하는 경우, 알루미늄 층이 산화되면서, 알루미늄 층은 복수의 홀이 형성된 다공층으로 변경될 수 있다. 이로서, 상기 다공층(12)에는 복수의 홀(hole)이 형성될 수 있다. 이때, 알루미늄 층(11)의 양극산화는 산을 이용하여 수행할 수 있다.

상기 복수의 홀(h)은 균일한 간격으로 형성될 수 있다. 상기 홀을 균일한 간격으로 형성함으로써 글래스 표면 구조의 내구성을 향상시키고 균일한 투광성을 확보할 수 있다.

상기 홀(h)은 나노(nano) 또는 마이크로(micro) 수준의 크기(직경)를 가질 수 있으며, 복수의 홀 사이의 간격은 나노(nano) 또는 마이크로(micro) 수준으로 형성될 수 있다. 형성되는 홀의 크기와 간격은 양극산화 조건, 예를 들어 양극산화 전압, 산 용액의 종류와 농도 및 온도 등을 변화시켜 조절할 수 있다.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 복수의 홀의 평균 직경은 5 내지 50 nm 인 것이 바람직하다. 상기 홀의 평균 직경은 인접한 100 개 홀들의 직경의 수평균을 계산하여 구할 수 있다.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 복수의 홀 사이의 간격은 10 내지 100 nm 인 것이 바람직하다.

이때, 상기 홀(h)은 비전도성 물질인 글래스(10)의 표면까지 도달하여 글래스(10)의 표면이 노출되도록 형성될 수 있다. 상기 다공층(12)에 형성된 복수의 홀(h)이 글래스의 표면까지 도달하도록 상기 알루미늄 층을 양극산화하는 경우, 알루미늄 층의 잔류하는 부분(다공층을 구성하는 부분)이 모두 산화 알루미늄으로 산화될 수 있다. 즉, 다공층(12)은 산화 알루미늄을 포함하고, 바람직하게는, 다공층(12)은 산화 알루미늄으로 이루어 질 수 있다.

또한, 상기 글래스(10)의 표면이 노출되도록 홀이 형성되는 경우, 표면 처리된 글래스는 휴대용 통신기기에 사용될 수 있는 충분한 투광성을 확보할 수 있다.

도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 글래스의 표면 처리 방법에서 다공층을 형성하는 방법을 나타내는 단면도이다.

우선, 도 2의 (a)에 도시된 바와 같이, 알루미늄 층(11) 상에 마스크(15)를 형성하는 마스킹이 수행된다. 상기 마스크를 이용하여 다공층에 형성될 홀의 크기 및 직경을 조절하고 홀의 정렬을 조절할 수 있다. 상기 마스크(15)는 알루미늄 층을 양극산화하는 과정에서 일부 표면을 보호하는 용도로 사용되기 때문에, 그 재질은 특별히 제한되지 않으며, 드라이 필름 등을 사용할 수 있다.

다음으로, 마스크(15)가 형성된 알루미늄 층을 1차 양극산화하여 복수의 홀을 형성한다. 도 2의 (b)는 1차 양극산화 후에 형성된 홀을 대략적으로 표시하는 단면도이다. 1차 양극산화 후 형성된 홀은 글래스의 표면까지 도달하지 않으며, 불규칙한 배열을 갖는 홀이 포함될 수 있다. 이때, 알루미늄 층(11')은 부분적으로 산화되어 알루미늄으로 이루어진 부분과 산화알루미늄으로 이루어진 부분을 모두 포함할 수 있다.

1차 양극산화 후에 생성된 불규칙한 배열을 갖는 홀을 제거하기 위하여 1차 양극산화된 알루미늄 층을 에칭하여, 도 2의 (c)에 표시된 바와 같이 알루미늄 층(11")에 형성된 홀을 균일하게 정렬할 수 있다.

다음으로, 도 2의 (d)와 같이, 홀(h)이 글래스(10)의 표면에 도달할 때까지 즉, 글래스(10)의 표면이 홀에 의해 노출될 때까지 알루미늄 층을 2차 양극산화하여 다공층(12)을 형성할 수 있다.

상기 1차 및 2 차 양극산화는 산을 이용하여 수행할 수 있고, 예를 들어 황산, 인산, 옥살산, 크롬산 등을 이용할 수 있다.

한편, 상기 1차 양극산화와 상기 2차 양극산화는 서로 다른 조건에서 수행될 수 있다. 상기 2차 양극산화는 상기 1차 양극산화보다 높은 전압 하에서 수행될 수 있다.

바람직하게는, 1차 양극산화는 13V 내지 17V 의 전압에서 수행되고, 상기 2차 양극산화는 18V 내지 22V 의 전압에서 수행될 수 있다.

이에 제한 되는 것은 아니나, 상기 1차 양극산화는 15 내지 30 분 동안 수행되고, 상기 2차 양극산화는 60 내지 210 분 동안 수행될 수 있다.

예를 들어, 1차 양극산화로는 정렬되지 않은 홀이 형성되게 된다. 이때, 1차 양극산화 시간이 길어지게 되면 정렬되지 않은 홀의 깊이가 깊어져, 불규칙한 배열의 홀을 제거하는 데 어려움이 있고 이후 2차 양극산화된 표면의 형상에 영향을 미치게 된다. 이에, 1차 양극산화와 2차 양극산화를 상기와 같은 조건에서 수행함으로써 1차 양극산화로 홀의 위치를 조절하고 2차 양극산화로 산화되는 깊이를 조절할 수 있다. 또한, 상기 1차 양극산화와 상기 2차 양극산화를 수행하는 조건을 상기와 같이 함으로써, 보다 균일한 배열의 홀을 얻을 수 있다.

본 발명에 따른 글래스의 표면 처리 방법은 다공층을 형성한 이후의, 후처리 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 후처리 단계는, 상기 다공층에 전해착색(electric coloring), 봉공처리(sealing) 및 전착도장(electric deposition) 중 하나 이상을 수행하는 것일 수 있다.

도 3 에 도시된 바와 같이, 다공층(12)에 전해착색을 하여 다공층(12)의 홀에 염료가 착색된 염료 착색층(13)을 형성할 수 있다. 전해착색은 도금 또는 전해로 산화물이나 화학물을 침착하는 전기화학 방법으로 실시할 수 있다.

또한, 도 4 에 도시된 바와 같이, 전해 착색 이후 봉공처리 또는 전착도장을 수행하여, 다공층(12) 및 염료 착색층(13)상에 표면층(14)을 형성할 수 있다. 상기 표면층(14) 은 봉공층 또는 전착도장층 일 수 있다.

상기 봉공처리는 수화 봉공, 금속성 봉공, 유기물 봉공, 저온 봉공 등의 방법을 이용할 수 있다. 양극산화로 형성된 다공층은 형성초기에 매우 활성으로서, 그대로 방치해 두면 공기 중의 가스 등을 흡착하여 불활성(오염상태)이 된다. 따라서, 안정된 표면을 얻기 위해 봉공처리를 할 수 있다. 이를 통해 형성된 다공층의 내식성을 향상시키고 수명을 연장할 수 있다.

상기 전착도장은 일정 농도의 수용성 도료를 채운 탱크 중에 피도장물체와 대극사이에 전류를 통하게 하여 피도장물체에 균일한 도막을 전기적으로 석출시켜 수행될 수 있다.

상기와 같이, 다공층에 형성된 홀에 전해착색을 수행하고 봉공처리 또는 전착도장 처리를 하여 미려하고 다양한 색상이 만들어 지게되며, 착색의 내후성, 내구성 및 다공층의 내식성을 개선할 수 있다.

본 발명에 의하면, 글래스 소재의 표면 처리방법으로 사용되었던 멀티코팅, 인쇄, 도장 방법의 기술적 문제점을 극복할 수 있으며, 글래스 소재에 내식성, 내구성이 우수한 미려하고 다양한 금속 질감의 색상을 구현할 수 있다.

도 1b를 참조하면, 본 발명의 다른 일 실시형태는, 글래스(10) 및 상기 글래스 상에 형성되며 상기 글래스의 표면까지 도달하는 복수개의 홀(hole)을 갖는 다공층(12)을 포함하고, 상기 다공층(12)은 산화알루미늄을 포함하는 표면 처리 글래스를 제공한다. 상기 다공층은 알루미늄 층을 양극 산화시켜 형성될 수 있다.

바람직하게는, 다공층으로 잔류하는 알루미늄 층 전체가 산화되어 상기 다공층(12)은 산화알루미늄으로 이루어질 수 있다.

상기 다공층에 형성된 복수의 홀은 균일한 간격으로 배열될 수 있다.

상기 다공층의 두께는 이에 제한되는 것은 아니나, 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 일 수 있다.

상기 표면 처리 글래스는 휴대용 통신기기에 사용될 수 있으며, 상기 휴대용 통신기기의 예로는 휴대폰, 스마트폰, 테블릿 PC 등을 들 수 있다. 본 발명의 표면 처리 글래스는, 예를 들어, 휴대용 통신기기의 케이스, 지문인식 모듈, 백커버, 볼륨키 등에 사용될 수 있다.

또한, 본 발명에 따른 표면 처리 글래스는 휴대용 통신기기의 전면 및 후면 커버 글라스로 사용될 수 있으며, 이 경우 글라스 커버에 금속의 질감과 색상을 그대로 살리면서 전자파를 흡수하지 않아서 설계상의 문제를 해소할 수 있다.

상기 표면 처리 글래스는 상술한 글래스의 표면 처리 방법에 따라 제조될 수 있으며, 앞서 글래스의 표면 처리 방법에서 설명한 구성과 중복되는 구성에 대한 설명은 생략하도록 한다.

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은, 그 요지를 초과하지 않는 한, 이하의 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.

실시예

글래스(상품명: 고릴라4) 소재 표면을 유기용제와 초음파세척 장치를 이용하여 세척한다. 세척된 글래스를 마그네트론 스퍼터링 시스템(Magnetron Sputtering System)에 장착한 후 아르곤(Ar) 가스와 산소(O2) 가스를 투입하고 펄스 직류(Pulsed DC)전압을 인가하여 플라즈마처리(Plasma Treatment)를 실시한다. 마그네트론 스퍼터링 시스템에 아르곤(Ar) 가스를 주입하고 스퍼터 캐소드(Sputter Cathode)에 450V의 직류(DC) 전압을 인가하여 Al 박막을 50㎛ 증착하였다.

글래스 상에 증착된 알루미늄 층에 홀을 형성하기 위한 양극산화에 앞서 알루미늄 층 표면의 유기물 및 불순물을 제거하기 위해 아세톤 용액에 침지하여 10 분간 초음파로 세척하였고, 또한 알루미늄 층의 균일한 표면조도를 구현하고 산화층을 제거하기 위해 과염소산과 에틸알콜을 혼합한 용액에서 150 mA/cm²의 정전류 하에서 3분간 전해연마를 실시하였다.

1차 양극산화는 전해질로 1.8M 의 황산을 사용하였으며, 15V 의 전압을 인가하여 1℃ 에서 30분간 수행하였다. 다음으로, 1차 양극산화 후에 생성되는 불규칙한 배열을 갖는 홀을 1.8 wt% 크롬산과 6 wt%의 인산이 들어있는 용액에 1 시간동안 침지하여 제거하였다(에칭 단계). 이후, 2차 양극산화는 전해질로 0.1M 의 인산을 사용하였으며, 20V의 전압을 인가하여 1℃ 에서 3시간 30분간 실시하였다.

양극산화 완료 후, 0.1M 의 염화구리와 20vol% 염산용액을 이용하여 산화되지 않은 잔류 알루미늄을 제거하였다. 홀의 크기를 균일하게 하기위해 5 wt%의 인산용액에 20분 간 침지하여 포어 와이드닝(pore widening)을 실시하였다.

하기 표 1은, 상기와 같은 조건으로 1차 양극산화 및 2차 양극산화를 수행하였을 때 형성되는 기공의 직경과 홀 사이의 간격을 나타내는 것이다.

	전해질	적용 전압	진행 시간	기공 직경	홀 사이의 간격
1차 양극산화	1.8M 황산	15V	30분	14nm	15nm
2차 양극산화	0.1M 인산	20V	210분	19nm	45nm

평가

상기의 실시예의 방법에 따라 표면 처리된 글래스에 대해 투광성, 내구성, 내산성 및 색상 구현성에 대한 평가를 다음의 방법으로 실시하였다.

투광성은 표면 처리전 글래스(상품명: 고릴라4) 의 시편에 대한 빛의 투과율을 측정하여 평가하였으며, 투과율은 히타치사의 U-4100 분광광도계로 측정하였다.

내구성 평가 및 색상 구현성 평가는 실시예의 방법에 따라 표면 처리된 각 시편에 대해 전해착색과 봉공처리를 추가로 실시한 뒤 수행되었다.

내구성 평가는 표면 처리된 글래스 표면에 1mm 간격의 X-Cut(격자형태로 표면에 흠집을 형성하는 것)을 한 후, OPP 테이프로 착탈을 3회 수행하고, 5wt%의 염화나트륨(Nacl) 수용액을 35℃ 에서 72시간 동안 지속 분무한 후 pH4.6 용액에 48 시간 침지하여 신뢰성 불량 발생 여부를 확인하는 방법으로 수행되었다.

상기 염화나트륨 수용액을 제조하는데 있어서, 염화나트륨을 탈이온수에 녹이고 염농도 5±0.5 중량%로 조정하였다. 조정결과는 비중계를 사용하여 비중을 측정하고, 35℃에서 1.0259~1.0329의 범위에 있음을 확인하였다. 이경우, 규정된 비중범위를 벗어났을 때는 다시 제조하였다.

색상 구현성은 육안 평가로 실시되었다.

실시예에 따라 형성된 표면 처리된 글래스는 투광성이 92% 이상으로 우수하고, 내구성 평가에서 신뢰성 불량이 발생하지 않았으며, 목표 색상이 정확하고 균일하게 구현되었다.

본 발명은 상술한 실시형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며, 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다. 따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.

10: 글래스
11: 알루미늄 층
12: 다공층
h: 홀
13: 염료 착색층
14: 표면층
15: 마스크

Claims (16)

1. 글래스의 표면에 알루미늄 층을 형성하는 단계; 및
   상기 글래스의 표면이 노출되도록 상기 알루미늄 층에 복수의 홀(hole)을 형성하는 다공층 형성 단계;
   를 포함하는 글래스의 표면 처리 방법으로서,
   상기 다공층 형성 단계는,
   a) 상기 알루미늄 층을 1 차 양극산화하는 단계; 및
   b) 1차 양극산화된 알루미늄 층을 2차 양극산화하는 단계; 를 포함하고,
   상기 2차 양극산화는 상기 1차 양극산화보다 높은 전압으로 수행되는 글래스의 표면 처리 방법.
2. 삭제
3. 제1항에 있어서,
   상기 복수의 홀은 균일한 간격으로 형성되는 글래스의 표면 처리 방법.
4. 제1항에 있어서,
   상기 알루미늄 층의 두께는 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 인 글래스의 표면 처리 방법.
5. 삭제
6. 삭제
7. 제1항에 있어서,
   상기 1차 양극산화는 13V 내지 17V 에서 수행되고, 상기 2차 양극산화는 18V 내지 22V 에서 수행되는 글래스의 표면 처리 방법.
8. 제1항에 있어서,
   상기 1차 양극산화 단계 이후 상기 2차 양극산화 단계 이전에, c) 상기 알루미늄 층에 생성된 불규칙한 배열의 홀을 제거하는 에칭 단계를 포함하는 글래스의 표면 처리방법.
9. 제1항에 있어서,
   상기 알루미늄 층은 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) 방식으로 글래스 표면에 형성되는 글래스의 표면 처리 방법.
10. 제1항에 있어서,
    상기 다공층 형성 단계 이후에, 후처리 단계를 더 포함하는 글래스의 표면 처리 방법.
11. 제10항에 있어서,
    상기 후처리 단계는 상기 다공층에 전해착색, 봉공처리 및 전착도장 중 하나 이상을 수행하는 것인 글래스의 표면 처리 방법.
12. 글래스; 및
    상기 글래스 상에 형성되며, 상기 글래스의 표면까지 도달하는 복수개의 홀(hole)을 갖는 다공층; 을 포함하고,
    상기 다공층은 산화알루미늄을 포함하는 표면 처리 글래스로서,
    상기 다공층은 알루미늄 층을 1 차 양극산화하고, 1차 양극산화된 알루미늄 층을 2차 양극산화하여 형성되고, 상기 2차 양극산화는 상기 1차 양극산화보다 높은 전압으로 수행된 것인, 글래스.
13. 삭제
14. 제12항에 있어서,
    상기 복수의 홀은 균일한 간격을 갖는 표면 처리 글래스.
15. 제12항에 있어서,
    상기 다공층의 두께는 20 ㎛ 내지 50 ㎛ 인 표면 처리 글래스.
16. 제12항에 있어서,
    상기 표면 처리 글래스는 휴대용 통신기기의 케이스에 사용되는 것인 표면 처리 글래스.

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