KR102172722B1 - Sealing capsule for inspecting extreme ultra violet lithography pellicle - Google Patents

Sealing capsule for inspecting extreme ultra violet lithography pellicle Download PDF

Info

Publication number
KR102172722B1
KR102172722B1 KR1020180169347A KR20180169347A KR102172722B1 KR 102172722 B1 KR102172722 B1 KR 102172722B1 KR 1020180169347 A KR1020180169347 A KR 1020180169347A KR 20180169347 A KR20180169347 A KR 20180169347A KR 102172722 B1 KR102172722 B1 KR 102172722B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pellicle
channel
vacuum
ultra
inspection
Prior art date
Application number
KR1020180169347A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20200079793A (en
Inventor
권혁민
Original Assignee
주식회사 에프에스티
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에프에스티 filed Critical 주식회사 에프에스티
Priority to KR1020180169347A priority Critical patent/KR102172722B1/en
Publication of KR20200079793A publication Critical patent/KR20200079793A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102172722B1 publication Critical patent/KR102172722B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • G03F1/84—Inspecting
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 디바이스를 제조할 때 방진막으로 사용되는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사시에 초극자외선 리소그라피용 펠리클을 보호하기 위해 사용되는 캡슐에 관한 것이다. 본 발명은 중심부에 개구가 형성된 상판과, 상기 상판의 개구에 설치되며, 반사 방지 코팅층이 형성된 상판 윈도우와, 상기 상판과 결합하여, 초극자외선 리소그라피용 펠리클이 수납되는 내부공간을 형성하며, 상기 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 펠리클 프레임을 흡착하여 고정하기 위해 바닥면에 형성된 복수의 진공 홀들과 적어도 한쪽 측면에 형성된 진공 보조장치 장착 홈이 형성된 하판과, 상기 하판의 진공 보조장치 장착 홈에 설치되며, 진공 발생장치와 연결되는 가스 배출구와 상기 가스 배출구와 연결된 제1 유로가 형성된 진공 보조장치를 포함하며, 상기 하판에는 상기 제1 유로와 상기 진공 홀들을 연결하는 제2 유로가 형성된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다. 본 발명에 따른 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 사용하면 검사과정에서 초극자외선용 펠리클의 펠리클 막이 파손되는 것을 최소화할 수 있다. 또한, 만일 펠리클 막이 파손되어도 펠리클 막의 입자들이 비산되어 검사장치를 오염시키는 것을 방지할 수 있다.The present invention relates to a capsule used to protect a pellicle for ultra-ultraviolet lithography during inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography used as a dustproof film when manufacturing a semiconductor device. The present invention forms an inner space in which a pellicle for ultra-ultraviolet lithography is accommodated by a top plate having an opening in the center, a top panel window installed in the opening of the top plate and having an antireflection coating layer formed thereon, and the top plate A lower plate having a plurality of vacuum holes formed on the bottom surface to adsorb and fix the pellicle frame of the pellicle for ultraviolet lithography and a vacuum auxiliary device mounting groove formed on at least one side thereof, and a vacuum auxiliary device mounting groove of the lower plate, and vacuum And a vacuum auxiliary device having a gas outlet connected to the generator and a first flow path connected to the gas outlet, and the lower plate includes a pellicle for ultra-ultraviolet lithography having a second flow path connecting the first flow path and the vacuum holes. Provide capsules used for testing. When the capsule used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography according to the present invention is used, it is possible to minimize damage to the pellicle film of the pellicle for ultra-ultraviolet light during the inspection process. In addition, even if the pellicle film is damaged, it is possible to prevent particles of the pellicle film from scattering and contaminating the inspection apparatus.

Description

초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐{Sealing capsule for inspecting extreme ultra violet lithography pellicle}Sealing capsule for inspecting extreme ultra violet lithography pellicle {Sealing capsule for inspecting extreme ultra violet lithography pellicle}

본 발명은 반도체 디바이스를 제조할 때 방진막으로 사용되는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사시에 초극자외선 리소그라피용 펠리클을 보호하기 위해 사용되는 캡슐에 관한 것이다.The present invention relates to a capsule used to protect a pellicle for ultra-ultraviolet lithography during inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography used as a dustproof film when manufacturing a semiconductor device.

반도체 디바이스 또는 액정 표시판 등의 제조에 반도체 웨이퍼 또는 액정용 기판에 패터닝을 하는 경우에 포토 리소그라피라는 방법이 사용된다. 포토 리소그라피에서는 패터닝의 원판으로서 마스크가 사용되고, 마스크상의 패턴이 웨이퍼 또는 액정용 기판에 전사된다. 이 마스크에 먼지가 부착되어 있으면 이 먼지로 인하여 빛이 흡수되거나, 반사되기 때문에 전사한 패턴이 손상되어 반도체 장치나 액정 표시판 등의 성능이나 수율의 저하를 초래한다는 문제가 발생한다. 따라서, 이들의 작업은 보통 클린룸에서 행해지지만 이 클린룸 내에도 먼지가 존재하므로, 마스크 표면에 먼지가 부착하는 것을 방지하기 위하여 펠리클을 부착하는 방법이 행해지고 있다. 이 경우, 먼지는 마스크의 표면에는 직접 부착되지 않고, 펠리클 막 위에 부착되고, 리소그라피 시에는 초점이 마스크의 패턴 상에 일치되어 있으므로 펠리클 상의 먼지는 초점이 맞지 않아 패턴에 전사되지 않는 이점이 있다. In the case of patterning a semiconductor wafer or a liquid crystal substrate in the manufacture of a semiconductor device or a liquid crystal panel, a method called photolithography is used. In photolithography, a mask is used as the original plate for patterning, and the pattern on the mask is transferred to a wafer or a substrate for liquid crystal. If dust adheres to the mask, light is absorbed or reflected by the dust, and thus the transferred pattern is damaged, leading to a problem that the performance or yield of a semiconductor device or a liquid crystal panel is deteriorated. Therefore, these operations are usually performed in a clean room, but since dust also exists in this clean room, a method of attaching a pellicle has been performed to prevent dust from adhering to the mask surface. In this case, the dust does not directly adhere to the surface of the mask, but adheres to the pellicle film. During lithography, since the focus is aligned on the pattern of the mask, there is an advantage that the dust on the pellicle is out of focus and is not transferred to the pattern.

점차 반도체 제조용 노광 장치의 요구 해상도는 높아져 가고 있고, 그 해상도를 실현하기 위해서 광원의 파장이 점점 더 짧아지고 있다. 구체적으로, UV 광원은 자외광 g선(436), I선(365), KrF 엑시머 레이저(248), ArF 엑시머 레이저(193)에서 초극자외선(EUV, extreme UltraViolet, 13.5㎚)로 점점 파장이 짧아지고 있다. 이러한 초극자외선을 이용한 노광 기술을 실현하기 위해서는 새로운 광원, 레지스트, 마스크, 펠리클의 개발이 불가결하다. 즉, 종래의 유기 펠리클 막은 높은 에너지를 가진 노광 광원에 의해서 물성이 변화되고, 수명이 짧기 때문에 초극자외선용 펠리클에는 사용되기 어렵다는 문제가 있다. 이러한 문제를 해결하기 위해서 다양한 시도가 진행되고 있다.Gradually, the required resolution of the exposure apparatus for semiconductor manufacturing is increasing, and in order to realize the resolution, the wavelength of the light source is becoming shorter and shorter. Specifically, the UV light source is gradually shorter in wavelength from ultraviolet g-rays (436), I-rays (365), KrF excimer lasers (248), and ArF excimer lasers (193) to ultra-ultraviolet (EUV, extreme UltraViolet, 13.5 nm). Is losing. Development of new light sources, resists, masks and pellicles is indispensable in order to realize such an exposure technology using ultra-ultraviolet rays. That is, the conventional organic pellicle film has a problem in that it is difficult to be used in a pellicle for ultra-ultraviolet rays because its physical properties are changed by an exposure light source having high energy and its life is short. Various attempts are being made to solve this problem.

펠리클의 제조는 보통 슈퍼 클린룸에서 행해지고 생산된 펠리클은 펠리클 전용 케이스에 보관하게 되며, 제품 출하 전에 투과율 측정과 이물 검사를 진행하게 된다. 또한, 입고 후에도 케이스를 개봉하여 마스크에 부착하기 전 혹은 마스크에 부착한 뒤에 이물검사를 진행하게 된다. The production of pellicles is usually carried out in a super clean room, and the produced pellicles are stored in a pellicle case, and the transmittance measurement and foreign matter inspection are performed before product shipment. In addition, even after wearing, foreign matter inspection is performed before opening the case and attaching it to the mask or after attaching it to the mask.

그런데 이러한 초극자외선용 펠리클의 펠리클 막은 두께 수십㎚ 수준의 초박막이며, 길이와 폭은 6인치 정도이기 때문에 펠리클 막의 표면에 부착된 이물질 등을 검사하는 과정에서 쉽게 파손될 수 있다는 문제가 있다. However, since the pellicle film of such an ultra-ultraviolet pellicle is an ultra-thin film having a thickness of several tens of nm, and has a length and width of about 6 inches, there is a problem that it can be easily damaged in the process of inspecting foreign substances attached to the surface of the pellicle film.

즉, 펠리클 보관 케이스를 개봉하는 과정, 펠리클을 검사 장치의 이동 테이블에 장착하는 과정, 검사 장치의 이동 테이블 위에 고정된 상태에서 펠리클이 이동하는 과정에서 가해지는 진동, 검사 장치의 내부에 양압을 유지하기 위해서 검사 장치에 공급되는 공기의 흐름, 펠리클 막의 반대쪽 표면 검사를 위해서 펠리클을 뒤집는 과정에서 가해지는 압력이나 진동 등에 의해서 펠리클이 쉽게 파손될 수 있다는 문제가 있다.That is, the process of opening the pellicle storage case, the process of mounting the pellicle on the moving table of the inspection device, the vibration applied during the movement of the pellicle while it is fixed on the moving table of the inspection device, and maintaining a positive pressure inside the inspection device. In order to do so, there is a problem that the pellicle can be easily damaged due to the flow of air supplied to the inspection device, pressure or vibration applied during the process of overturning the pellicle for inspection of the opposite surface of the pellicle membrane.

또한, 종래의 펠리클 막은 단순히 찢어지지만, 초극자외선용 펠리클의 펠리클 막은 파손되면 막을 구성하고 있는 입자들이 비산되어 검사장치에 들러붙게 되는 치명적인 문제를 발생시킬 수 있다.In addition, although the conventional pellicle film is simply torn, if the pellicle film of the pellicle for ultra-ultraviolet rays is damaged, particles constituting the film may scatter and stick to the inspection device, which may cause a fatal problem.

등록특허 10-1738887Registered Patent 10-1738887 등록특허 10-1807396Registered Patent 10-1807396 공개특허 10-2017-0085118Patent Publication 10-2017-0085118

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 초극자외선용 펠리클이 밀봉된 상태로 검사될 수 있도록 초극자외선용 펠리클을 저 진공 상태로 밀봉하는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is to solve the above problems, and provides a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography that seals a pellicle for ultra-ultraviolet rays in a low vacuum state so that the pellicle for ultra-ultraviolet rays can be inspected in a sealed state. It is aimed at.

상술한 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은,In order to achieve the above object, the present invention,

중심부에 개구가 형성된 상판과,A top plate with an opening formed in the center,

상기 상판의 개구에 설치되며, 반사 방지 코팅층이 형성된 상판 윈도우와,An upper plate window installed in the opening of the upper plate and having an antireflection coating layer formed thereon,

상기 상판과 결합하여, 초극자외선 리소그라피용 펠리클이 수납되는 내부공간을 형성하며, 상기 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 펠리클 프레임을 흡착하여 고정하기 위해 바닥면에 형성된 복수의 진공 홀들과 적어도 한쪽 측면에 형성된 진공 보조장치 장착 홈이 형성된 하판과,Combined with the upper plate to form an inner space in which a pellicle for ultra-ultraviolet lithography is accommodated, and a plurality of vacuum holes formed on the bottom surface to adsorb and fix the pellicle frame of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography and a vacuum formed on at least one side A lower plate on which an auxiliary device mounting groove is formed,

상기 하판의 진공 보조장치 장착 홈에 설치되며, 진공 발생장치와 연결되는 가스 배출구와 상기 가스 배출구와 연결된 제1 유로가 형성된 진공 보조장치를 포함하며,It is installed in the vacuum auxiliary device mounting groove of the lower plate, and includes a vacuum auxiliary device having a gas outlet connected to the vacuum generator and a first flow path connected to the gas outlet,

상기 하판에는 상기 제1 유로와 상기 진공 홀들을 연결하는 제2 유로가 형성된 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.The lower plate is provided with a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography in which a second flow path connecting the first flow path and the vacuum holes is formed.

또한, 상기 하판의 중심부에는 개구가 형성되며, 상기 하판의 개구에 설치되며, 반사 방지 코팅층이 형성된 하판 윈도우를 더 포함하는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography is provided, further comprising a lower panel window having an opening formed in the center of the lower panel, installed in the opening of the lower panel, and having an antireflection coating layer formed thereon.

또한, 상기 진공 보조장치는 몸체부와, 상기 몸체부의 일측면에서 연장되며, 상기 진공 보조장치 장착 홈에 끼워지며 상기 제1 유로가 형성된 흡입부를 포함하며,In addition, the vacuum auxiliary device includes a body portion and a suction portion extending from one side surface of the body portion, being fitted into the vacuum auxiliary device mounting groove, and having the first flow path,

상기 캡슐은 상기 진공 보조장치에 결합되는 진공 벤트 부시를 더 포함하며,The capsule further includes a vacuum vent bush coupled to the vacuum auxiliary device,

상기 진공 벤트 부시에는 제1 벽면과 반대 측 제2 벽면에 의해서 양단부가 막힌 가로 방향으로 연장된 제1 채널과, 상기 제1 채널과 각을 이루며 연결되며 상기 제1 채널과 진공 발생장치의 흡입구를 연결하는 제2 채널이 형성되며, The vacuum vent bush has a first channel extending in a transverse direction in which both ends are blocked by a second wall surface opposite to the first wall, and is connected to the first channel at an angle, and the first channel and the suction port of the vacuum generator are connected. A second channel to connect is formed,

상기 진공 벤트 부시는 상기 제1 채널을 따라서 상기 제1 벽면과 제2 벽면 사이를 직선 운동하며, 중심부에 관통구멍이 형성된 피스톤을 더 포함하며,The vacuum vent bush further includes a piston that moves linearly between the first wall surface and the second wall surface along the first channel and has a through hole formed in a center thereof,

상기 진공 보조장치의 흡입부에는 상기 제1 채널과 다른 높이로 가로 방향으로 연장된 제3 채널이 형성되며,A third channel extending in a horizontal direction to a height different from that of the first channel is formed in the suction part of the vacuum auxiliary device,

상기 진공 벤트 부시에는 상기 제1 채널과 상기 제3 채널을 연결하는 제4 채널이 형성되고,A fourth channel connecting the first channel and the third channel is formed in the vacuum vent bush,

상기 피스톤이 상기 제1 벽면과 접하면, 상기 제1 채널과 제2 채널의 연결부가 폐쇄되며, 상기 피스톤이 상기 제2 벽면에 접하면 상기 제1 채널과 제4 채널의 연결부가 폐쇄되는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.When the piston contacts the first wall surface, the connection portion between the first channel and the second channel is closed, and when the piston contacts the second wall surface, the connection portion between the first channel and the fourth channel is closed. It provides a capsule used for inspection of pellicles for lithography.

또한, 상기 진공 벤트 부시에는 상기 제1 채널과 연결된 제5 채널이 형성되며, 상기 피스톤이 상기 제1 벽면과 접하면, 상기 제1 채널과 제5 채널의 연결부가 폐쇄되는 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, a fifth channel connected to the first channel is formed in the vacuum vent bush, and when the piston contacts the first wall surface, the connection portion of the first channel and the fifth channel is closed. Provide capsules used for testing.

또한, 상기 피스톤의 제1 벽면 측 끝단에는 상기 제5 채널을 통해서 유입된 가스가 부딪혀 상기 피스톤을 상기 제2 벽면 측으로 밀어낼 수 있도록 경사진 절개부가 형성된 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography is formed with an inclined incision so as to push the piston toward the second wall by colliding with the gas introduced through the fifth channel at the end of the first wall side of the piston Provides.

또한, 상기 흡입부에는 상기 제3 채널과 연통된 챔버가 형성되며, 상기 챔버의 개방된 상면에는 다공성 플레이트인 흡입판이 배치된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography is provided, in which a chamber in communication with the third channel is formed in the suction part, and a suction plate, which is a porous plate, is disposed on an open upper surface of the chamber.

또한, 상기 흡입판은 다공성 세라믹인 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, the suction plate provides a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography, which is a porous ceramic.

또한, 상기 제1 유로는 상기 제4 채널과 연결된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, the first flow path provides a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography connected to the fourth channel.

또한, 상기 제1 벽면은 상기 피스톤과 상기 제1 벽면이 가까워지는 방향으로 상기 피스톤에 자기력을 인가하는 자석을 포함하는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, the first wall surface provides a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography including a magnet for applying a magnetic force to the piston in a direction in which the piston and the first wall surface become closer.

또한, 상기 제2 벽면은 상기 피스톤과 상기 제2 벽면이 가까워지는 방향으로 상기 피스톤에 자기력을 인가하는 자석을 포함하는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, the second wall surface provides a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography including a magnet for applying a magnetic force to the piston in a direction in which the piston and the second wall surface are close.

또한, 힌지 핀에 의해서 회동 가능하게 상기 진공 벤트 부시의 인디케이터 설치부에 고정된 한 쌍의 아암과, 상기 한 쌍의 아암의 일단에 각각 고정된 한 쌍의 볼 샤프트 플런저를 구비한 진공 인디케이터를 더 포함하며,In addition, a vacuum indicator having a pair of arms fixed to the indicator mounting portion of the vacuum vent bush so as to be rotatable by a hinge pin, and a pair of ball shaft plungers fixed to one end of the pair of arms, respectively, is further provided. Includes,

상기 볼 샤프트 플런저는 배럴과 상기 배럴 안에 배치되는 볼 샤프트와 일단은 배럴 안에 배치되며 타단은 상기 아암에 결합하는 압축 스프링을 포함하며,The ball shaft plunger includes a barrel, a ball shaft disposed in the barrel, and a compression spring having one end disposed in the barrel and the other end coupled to the arm,

상기 볼 샤프트 플런저는 상기 인디케이터 설치부와 상기 제1 채널 사이의 벽면을 관통하는 관통구멍에 설치되며,The ball shaft plunger is installed in a through hole penetrating a wall surface between the indicator installation part and the first channel,

상기 볼 샤프트의 볼 형태의 끝단은 상기 제1 채널의 내부에 배치되며, 상기 피스톤이 상기 볼 샤프트의 아래를 지나가면 상기 볼 샤프트가 상승하면서 상기 볼 플런저의 압축 스프링과 연결된 아암을 회전시키는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.The ball-shaped end of the ball shaft is disposed inside the first channel, and when the piston passes under the ball shaft, the ball shaft rises and an ultra-ultraviolet ray that rotates the arm connected to the compression spring of the ball plunger. It provides a capsule used for inspection of pellicles for lithography.

또한, 상기 진공 보조장치와 상기 진공 벤트 부시는 일체를 이루는 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, the vacuum auxiliary device and the vacuum vent bush provide a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography that is integral.

본 발명에 따른 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 사용하면 검사과정에서 초극자외선용 펠리클의 펠리클 막이 파손되는 것을 최소화할 수 있다. 또한, 만일 펠리클 막이 파손되어도 펠리클 막의 입자들이 비산되어 검사장치를 오염시키는 것을 방지할 수 있다.When the capsule used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography according to the present invention is used, it is possible to minimize damage to the pellicle film of the pellicle for ultra-ultraviolet light during the inspection process. In addition, even if the pellicle film is damaged, it is possible to prevent particles of the pellicle film from scattering and contaminating the inspection apparatus.

또한, 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐은 펠리클 케이스를 대체할 수 있다는 장점도 있다. 또한, 검사과정에서 펠리클 케이스를 개봉하지 않으므로, 펠리클 케이스를 개봉하는 공정을 줄일 수 있다는 장점이 있다.In addition, capsules used for inspection of pellicles for ultra-ultraviolet lithography have the advantage of being able to replace the pellicle case. In addition, since the pellicle case is not opened during the inspection process, there is an advantage in that the process of opening the pellicle case can be reduced.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐의 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐의 분해사시도이다.
도 3은 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 일 예를 나타낸 사시도이다.
도 4와 5는 도 1에 도시된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐이 진공 발생장치에 장착된 상태의 일부를 나타낸 단면도이다.
도 6은 도 4와 5에 도시된 피스톤의 사시도이다.
도 7은 1에 도시된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐의 상판을 제거한 상태를 나타낸 평면도이다.
도 8은 도 5의 일부를 확대한 단면도이다.
도 9는 도 2에 도시된 볼 플런저를 나타낸 도면이다.1 is a perspective view of a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography according to an embodiment of the present invention.
2 is an exploded perspective view of a capsule used for inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography shown in FIG. 1.
3 is a perspective view showing an example of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography.
4 and 5 are cross-sectional views illustrating a part of a state in which a capsule used for inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography shown in FIG. 1 is mounted in a vacuum generator.
6 is a perspective view of the piston shown in FIGS. 4 and 5.
7 is a plan view showing a state in which the upper plate of the capsule used for inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography shown in 1 is removed.
8 is a partially enlarged cross-sectional view of FIG. 5.
9 is a view showing the ball plunger shown in FIG. 2.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들에 의거하여 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예는 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서 본 발명은 이하 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고 도면들에서, 구성요소의 폭, 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The following embodiments are provided as examples in order to sufficiently convey the spirit of the present invention to those skilled in the art. Therefore, the present invention is not limited to the embodiments described below and may be embodied in other forms. In addition, in the drawings, the width, length, thickness, etc. of the component may be exaggerated for convenience. The same reference numbers throughout the specification denote the same elements.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐의 사시도이다. 도 2는 도 1에 도시된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐의 분해사시도이다. 도 1과 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐(100)은 상판(10), 상판 윈도우(20), 하판(30), 하판 윈도우(40), 진공 보조장치(50), 진공 벤트 부시(60) 및 볼 플런저(80)를 포함한다.1 is a perspective view of a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography according to an embodiment of the present invention. 2 is an exploded perspective view of a capsule used for inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography shown in FIG. 1. 1 and 2, the capsule 100 used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography according to an embodiment of the present invention includes an upper panel 10, an upper panel window 20, a lower panel 30, and a lower panel. It includes a window 40, a vacuum auxiliary device 50, a vacuum vent bush 60 and a ball plunger 80.

캡슐(100)은 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)의 검사과정에서 초극자외선 리소그래피용 펠리클(1)을 저 진공 상태로 밀봉하여 보호하는 역할을 한다.The capsule 100 serves to seal and protect the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography in a low vacuum state during the inspection of the pellicle 1 for ultra-ultraviolet light lithography.

도 3은 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 일 예를 나타낸 사시도이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)은 펠리클 막(2)과 펠리클 프레임(5)를 포함한다. 펠리클 프레임(5)은 한 쌍의 장변과 한 쌍의 단변을 포함하는 프레임부(3)와 프레임부(3)의 한 쌍의 장변 각각에 결합하는 픽스처(4, fixture)를 포함한다. 하나의 장변에는 두 개의 픽스처(4)가 결합한다. 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)은 픽스처(4)를 포토 마스크에 설치된 스터드(stud)에 결합하는 방식으로 포토 마스크에 설치된다.3 is a perspective view showing an example of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography. As shown in FIG. 3, the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography includes a pellicle film 2 and a pellicle frame 5. The pellicle frame 5 includes a frame portion 3 including a pair of long sides and a pair of short sides, and a fixture 4 coupled to each of the pair of long sides of the frame portion 3. Two fixtures 4 are combined on one long side. The pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography is installed on a photo mask by coupling the fixture 4 to a stud installed on the photo mask.

다시 도 1과 2를 참고하여, 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐(100)에 대해서 설명한다. 상판(10)은 직사각형 형태의 플레이트로서, 중심부에 개구(11)가 형성되어 있다. 상판(10)의 하면 모서리들에는 자리 맞춤 홈(미도시)들이 형성되어 있다.Referring again to Figs. 1 and 2, the capsule 100 used for inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography will be described. The upper plate 10 is a rectangular plate and has an opening 11 formed in the center. Alignment grooves (not shown) are formed in the lower corners of the upper plate 10.

상판 윈도우(20)는 상판(10)의 개구(11)에 설치된다. 상판 윈도우(20)는 반사 방지 코팅층이 형성된 유리로 이루어질 수 있다. 상판 윈도우(20)는 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)의 펠리클 막(2)의 상면 검사시에 검사 광학계에서 조사된 빛과 펠리클 막(2)에서 반사된 빛이 통과하는 통로가 된다.The upper panel window 20 is installed in the opening 11 of the upper panel 10. The upper window 20 may be made of glass having an antireflection coating layer formed thereon. The upper window 20 serves as a path through which light irradiated from the inspection optical system and light reflected from the pellicle film 2 pass when inspecting the upper surface of the pellicle film 2 of the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography.

하판(30)은 대체로 직사각형 형태의 플레이트이다. 하판(30)은 상판(10)과 결합하여, 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)이 수납되는 내부공간을 형성한다. 하판(30)의 중심부에는 개구(31)가 형성되어 있다. 하판(30)의 둘레에는 상판(10) 방향으로 돌출된 둘레부(32)가 형성된다. 둘레부(32)의 모서리에는 자리 맞춤 핀(33)들이 설치되어 있다. 상판(10)의 모서리에 형성된 자리 맞춤 홈들에 자리 맞춤 핀(33)들을 끼우면 상판(10)과 하판(30)이 결합된다. 하판(30)의 둘레부(32)는 상판(10)의 하면에 접한다. 상판(10)의 하면, 둘레부(32)의 내면, 하판(30)의 상면에 둘러싸인 공간에 초극자외선 리소그래피용 펠리클(1)이 배치된다.The lower plate 30 is a generally rectangular plate. The lower plate 30 is combined with the upper plate 10 to form an inner space in which the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography is accommodated. An opening 31 is formed in the center of the lower plate 30. A circumferential portion 32 protruding in the direction of the upper plate 10 is formed around the lower plate 30. Alignment pins 33 are installed at the corners of the circumferential portion 32. When the alignment pins 33 are inserted into the alignment grooves formed at the corners of the upper plate 10, the upper plate 10 and the lower plate 30 are coupled. The circumferential portion 32 of the lower plate 30 is in contact with the lower surface of the upper plate 10. A pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography is disposed in a space surrounded by the lower surface of the upper plate 10, the inner surface of the circumferential portion 32, and the upper surface of the lower plate 30.

하판(30)의 바닥면에는 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)가 안착될 수 있는 오목한 안착 홈(35)이 형성되어 있다. 안착 홈(35)은 픽스처(4)의 형태와 거의 동일하게 형성된다. 또한, 안착 홈(35)에는 적어도 하나의 진공 홀(36)이 형성된다. 진공 홀(36)은 하판(30)에 놓인 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)를 흡착하여 안착 홈(35)에 고정하는 역할을 한다.The bottom surface of the lower plate 30 is formed with a concave seating groove 35 through which the fixture 4 of the pellicle frame 5 can be seated. The seating groove 35 is formed almost the same as the shape of the fixture 4. In addition, at least one vacuum hole 36 is formed in the seating groove 35. The vacuum hole 36 serves to adsorb the fixture 4 of the pellicle frame 5 placed on the lower plate 30 and fix it to the seating groove 35.

또한, 하판(30)의 양 측면에는 진공 보조장치(50)를 장착할 수 있는 진공 보조장치 장착 홈(37)이 형성된다. 진공 보조장치 장착 홈(37)은 하판(30)의 측면을 따라서 길게 형성된다. 진공 보조장치 장착 홈(37)의 캡슐(100)의 내부공간 쪽 끝 부분의 상부(38)는 개방되어 있다. 따라서 진공 보조장치 장착 홈(37)은 캡슐(100)의 내부공간과 연통된다.In addition, a vacuum auxiliary device mounting groove 37 is formed on both sides of the lower plate 30 to mount the vacuum auxiliary device 50. The vacuum auxiliary device mounting groove 37 is formed long along the side of the lower plate 30. The upper portion 38 at the end of the inner space side of the capsule 100 of the vacuum auxiliary device mounting groove 37 is open. Accordingly, the vacuum auxiliary device mounting groove 37 communicates with the inner space of the capsule 100.

하판 윈도우(40)는 하판(30)의 개구(31)에 설치된다. 하판 윈도우(40)는 상판 윈도우(20)와 마찬가지로 반사 방지 코팅층이 형성된 유리로 이루어질 수 있다. 하판 윈도우(40)는 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)의 펠리클 막(2)의 하면과 펠리클 프레임(5)의 내면의 검사시에 검사 광학계에서 조사된 빛이 통과하는 통로가 된다. 하판 윈도우(40)를 구비하므로, 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)을 캡슐(100)에서 분리하여 뒤집은 후에 검사할 필요가 없이, 캡슐(100)을 바로 뒤집어서 펠리클 막(2)의 하면과 펠리클 프레임(5)의 내면을 검사할 수 있다.The lower panel window 40 is installed in the opening 31 of the lower panel 30. Like the upper window 20, the lower window 40 may be made of glass having an antireflection coating layer formed thereon. The lower window 40 becomes a passage through which light irradiated from the inspection optical system passes during inspection of the lower surface of the pellicle film 2 and the inner surface of the pellicle frame 5 of the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography. Since the lower panel window 40 is provided, there is no need to inspect the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography after being separated from the capsule 100 and turned over, and the capsule 100 is immediately turned over to the lower surface of the pellicle film 2 and the pellicle frame. (5) can be inspected inside.

진공 보조장치(50)는 하판(30)의 양 측면의 진공 보조장치 장착 홈(37)에 설치된다. 진공 보조장치(50)는 진공 발생장치(8)가 도킹되는 몸체부(51)와 몸체부(51)의 한쪽 측면에서 연장되며, 하판(30)의 진공 보조장치 장착 홈(37)에 끼워지는 흡입부(55)를 포함한다. 몸체부(51)에는 진공 벤트 부시(60)가 결합되는 제1 관통 구멍(511)과 제2 관통 구멍(512)이 형성된다.The vacuum auxiliary device 50 is installed in the vacuum auxiliary device mounting grooves 37 on both sides of the lower plate 30. The vacuum auxiliary device 50 extends from one side of the body portion 51 and the body portion 51 to which the vacuum generator 8 is docked, and is fitted into the vacuum auxiliary device mounting groove 37 of the lower plate 30. It includes a suction part (55). A first through hole 511 and a second through hole 512 to which the vacuum vent bush 60 are coupled are formed in the body part 51.

도 4와 5는 도 1에 도시된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐이 진공 발생장치에 장착된 상태의 일부를 나타낸 단면도이다.4 and 5 are cross-sectional views showing a part of a state in which a capsule used for inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography shown in FIG. 1 is mounted in a vacuum generator.

도 4와 5에 도시된 바와 같이, 진공 벤트 부시(60)는 본체부(61)와 본체부(61)에서 돌출된 제1 돌기부(62) 및 제2 돌기부(63)를 포함한다. 제1 돌기부(62)는 진공 보조장치(50)의 제1 관통 구멍(511)에 끼워지며, 제2 돌기부(63)는 진공 보조장치(50)의 제2 관통 구멍(512)에 끼워진다. 제1 관통 구멍(511)에는 진공 발생장치(8)의 핀형 흡입구(9)도 끼워진다.As shown in FIGS. 4 and 5, the vacuum vent bush 60 includes a main body 61 and a first protrusion 62 and a second protrusion 63 protruding from the main body 61. The first protrusion 62 is fitted into the first through hole 511 of the vacuum assist device 50, and the second protrusion part 63 is fitted into the second through hole 512 of the vacuum assist device 50. The pin-shaped suction port 9 of the vacuum generator 8 is also fitted in the first through hole 511.

진공 벤트 부시(60)의 본체부(61)의 내부에는 가로 방향으로 제1 채널(611)이 형성된다. 제1 채널(611)의 양단부는 제1 벽면(617)과 제2 벽면(618)에 의해서 차단되어 있다. 제1 벽면(617)과 제2 벽면(618)은 영구자석으로 이루어질 수 있다. 제1 채널(611)에는 제1 채널(611)을 따라서 슬라이딩할 수 있는 원통형 피스톤(64)이 배치된다. 피스톤(64)은 제1 벽면(617)과 제2 벽면(618) 사이에서 제1 채널(611)을 따라서 이동한다.A first channel 611 is formed in the body portion 61 of the vacuum vent bush 60 in the horizontal direction. Both ends of the first channel 611 are blocked by the first wall surface 617 and the second wall surface 618. The first wall surface 617 and the second wall surface 618 may be formed of a permanent magnet. A cylindrical piston 64 capable of sliding along the first channel 611 is disposed in the first channel 611. The piston 64 moves along the first channel 611 between the first wall surface 617 and the second wall surface 618.

도 6은 도 4와 5에 도시된 피스톤의 사시도이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 피스톤(64)의 중심에는 관통구멍(641)이 형성된다. 피스톤(64)의 우측 끝단의 상부에는 대각선 방향으로 절개된 절개부(642)가 형성된다. 절개부(642)의 깊이는 깊지 않아서, 절개부(642)를 통해서 관통구멍(641)이 노출되지 않는다.6 is a perspective view of the piston shown in FIGS. 4 and 5. As shown in Fig. 6, a through hole 641 is formed in the center of the piston 64. A cutout 642 cut in a diagonal direction is formed at an upper portion of the right end of the piston 64. The depth of the cut-out portion 642 is not deep, so that the through-hole 641 is not exposed through the cut-out portion 642.

피스톤(64)의 외주면은 제1 채널(611)의 내면에 밀착된다. 따라서 피스톤(64)의 외주면과 제1 채널(611)의 내면 사이에는 가스가 흐르지 않는다. 제1 채널(611)을 흐르는 가스는 피스톤(64)의 관통구멍(641)을 통해서 흐른다.The outer circumferential surface of the piston 64 is in close contact with the inner surface of the first channel 611. Accordingly, gas does not flow between the outer peripheral surface of the piston 64 and the inner surface of the first channel 611. The gas flowing through the first channel 611 flows through the through hole 641 of the piston 64.

제1 채널(611)의 우측 단부에는 제1 채널(611)과 핀형 흡입구(9)를 연결하는 제2 채널(612)이 형성된다. 제2 채널(612)은 제1 채널(611)과 각을 이루며 연결된다. 본 실시예에 있어서, 제2 채널(612)을 제1 채널(611)과 직각을 이룬다. 피스톤(64)의 우측 끝단이 제1 벽면(617)에 밀착되면, 제2 채널(612)과 제1 채널(611)이 연결되는 부분이 피스톤(64)에 의해서 차단된다.A second channel 612 connecting the first channel 611 and the fin-shaped suction port 9 is formed at the right end of the first channel 611. The second channel 612 is connected to the first channel 611 in an angle. In this embodiment, the second channel 612 is perpendicular to the first channel 611. When the right end of the piston 64 is in close contact with the first wall 617, the portion where the second channel 612 and the first channel 611 are connected is blocked by the piston 64.

또한, 제1 채널(611)의 우측 단부 측에는 제1 채널(611)과 가스 주입장치(6)의 가스 주입구(7)를 연결하는 제5 채널(615)이 형성된다. 가스 주입장치(6)는 고순도 질소 등을 캡슐 내부에 공급하는 역할을 한다. 제5 채널(615)은 제1 채널(611)과 각을 이루며 연결된다. 본 실시예에 있어서, 제5 채널(615)을 제1 채널(611)과 직각을 이룬다. 피스톤(64)의 우측 끝단이 제1 벽면(617)에 밀착되면, 제5 채널(615)과 제1 채널(611)이 연결되는 부분도 피스톤(64)에 의해서 차단된다.In addition, a fifth channel 615 connecting the first channel 611 and the gas injection port 7 of the gas injection device 6 is formed at the right end side of the first channel 611. The gas injection device 6 serves to supply high-purity nitrogen or the like into the capsule. The fifth channel 615 is connected to the first channel 611 in an angle. In this embodiment, the fifth channel 615 is perpendicular to the first channel 611. When the right end of the piston 64 is in close contact with the first wall surface 617, the portion where the fifth channel 615 and the first channel 611 are connected is also blocked by the piston 64.

진공 보조장치(50)의 흡입부(55)의 내부에는 가로 방향으로 제3 채널(551)이 형성된다. 제3 채널(551)은 제1 채널(611)과 다른 높이로 가로 방향으로 형성된다. 그리고 제3 채널(551)의 좌측 끝 부분에는 챔버(552)가 형성된다. 챔버(552)는 제3 채널(551)과 연통된다. 챔버(552)는 흡입부(55)의 폭 방향을 따라서 길게 형성된다. 챔버(552)의 상면은 개방되어 있으며, 개방된 상면에는 흡입판(553)이 설치된다. 흡입판(553)은 진공 보조장치 장착 홈(37)의 끝 부분의 개방된 상부(38)를 통해서 캡슐(100)의 내부공간을 향한다. 흡입판(553)은 미세기공이 형성된 다공성 세라믹으로 이루어질 수 있다.A third channel 551 is formed in the suction part 55 of the vacuum auxiliary device 50 in the horizontal direction. The third channel 551 is formed in a horizontal direction at a height different from that of the first channel 611. In addition, a chamber 552 is formed at the left end of the third channel 551. The chamber 552 communicates with the third channel 551. The chamber 552 is formed long along the width direction of the suction part 55. The upper surface of the chamber 552 is open, and a suction plate 553 is installed on the open upper surface. The suction plate 553 faces the inner space of the capsule 100 through the open upper portion 38 of the end of the vacuum assist device mounting groove 37. The suction plate 553 may be made of a porous ceramic having micropores.

진공 벤트 부시(60)의 제1 채널(611)의 좌측 단부 측에는 제1 채널(611)과 제3 채널(551)을 연결하는 제4 채널(614)이 형성된다. 제4 채널(614)은 제1 채널(611)과 각을 이루며 연결된다. 그리고 제4 채널(614)은 제3 채널(551)과 마주보며 연결된다. 피스톤(64)의 좌측 끝단이 제2 벽면(618)에 밀착되면, 제1 채널(611)과 제4 채널(614)이 연결되는 부분이 피스톤(64)에 의해서 차단된다.A fourth channel 614 connecting the first channel 611 and the third channel 551 is formed on the left end side of the first channel 611 of the vacuum vent bush 60. The fourth channel 614 is connected to the first channel 611 in an angle. In addition, the fourth channel 614 is connected to face the third channel 551. When the left end of the piston 64 is in close contact with the second wall surface 618, the portion where the first channel 611 and the fourth channel 614 are connected is blocked by the piston 64.

도 7은 도 1에 도시된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐의 상판을 제거한 상태를 나타낸 평면도이다. 7 is a plan view showing a state in which the upper plate of the capsule used for inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography shown in FIG. 1 is removed.

도 7에 도시된 바와 같이, 제4 채널(614)에는, 또한, 한 쌍의 제1 유로(519)가 연결된다. 한 쌍의 제1 유로(519)는 제4 채널(614)에서 진공 보조장치(50)의 폭 방향 양쪽으로 각각 연장된다. 그리고 제1 유로(519)의 제4 채널(614)과 먼 끝단은 하판(30)에 형성된 제2 유로(39)와 연통된다. 제2 유로(39)는 하판(30)의 진공 홀(36)과 제1 유로(519)를 연결한다.As shown in FIG. 7, a pair of first flow paths 519 are further connected to the fourth channel 614. The pair of first flow paths 519 extend from the fourth channel 614 in the width direction of the vacuum auxiliary device 50, respectively. In addition, the fourth channel 614 and the distal end of the first flow path 519 communicate with the second flow path 39 formed in the lower plate 30. The second flow path 39 connects the vacuum hole 36 of the lower plate 30 and the first flow path 519.

또한, 진공 벤트 부시(60)에는 진공 인디케이터(70)가 설치된다. 진공 인디케이터(70)는 캡슐(100)의 내부공간의 압력 상태를 외부에서 확인할 수 있도록 표시하는 역할을 한다.In addition, a vacuum indicator 70 is installed on the vacuum vent bush 60. The vacuum indicator 70 serves to display the pressure state of the inner space of the capsule 100 so that it can be checked from the outside.

도 8은 도 5의 일부를 확대한 단면도이다. 도 8에 도시된 바와 같이, 진공 인디케이터(70)는 중심부가 힌지 핀(72)에 의해서 회동 가능하게 고정되며, 대체로 서로 X자로 교차하는 한 쌍의 아암(71a, 71b)과 한 쌍의 볼 샤프트 플런저(73a, 73b)를 포함한다. 아암(71a, 71b)은 진공 벤트 부시(60)의 상면에 오목하게 형성된 인디케이터 설치부(65)에 회동 가능하게 설치된다.8 is a partially enlarged cross-sectional view of FIG. 5. As shown in FIG. 8, the vacuum indicator 70 has a central portion rotatably fixed by a hinge pin 72, a pair of arms 71a, 71b and a pair of ball shafts that generally cross each other in an X-shape. It includes plungers 73a and 73b. The arms 71a and 71b are rotatably installed in the indicator mounting portion 65 formed concave on the upper surface of the vacuum vent bush 60.

볼 샤프트 플런저(73a, 73b)는 배럴(732a, 732b)과 배럴(732a, 732b) 안에 배치되는 볼 샤프트(731a, 731b)와 일부가 배럴(732a, 732b) 안에 배치되는 압축 스프링(733a, 733b)을 포함한다. 볼 샤프트 플런저(73a, 73b)는 인디케이터 설치부(65)와 제1 채널(611) 사이의 벽면을 관통하는 관통구멍(619)에 설치된다. 이때, 볼 샤프트(731a, 731b)의 볼 형태의 끝단의 절반 정도는 제1 채널(611)의 내부로 들어간다. 그리고 볼 샤프트 플런저(73a, 73b)의 압축 스프링(733a, 733b)의 반대 측 끝단은 아암(71a, 71b)의 일단에 결합한다. 따라서 볼 샤프트(731a, 731b)가 상승하면 아암(71a, 71b)이 회전하면서 압축 스프링(733a, 733b)이 결합된 끝단의 반대쪽 끝단이 하강한다.Ball shaft plungers (73a, 73b) are barrels (732a, 732b), ball shafts (731a, 731b) disposed in the barrels (732a, 732b) and compression springs (733a, 733b) partially disposed in the barrels (732a, 732b). ). The ball shaft plungers 73a and 73b are installed in the through hole 619 penetrating the wall surface between the indicator mounting portion 65 and the first channel 611. At this time, about half of the ball-shaped ends of the ball shafts 731a and 731b enter the inside of the first channel 611. Further, opposite ends of the compression springs 733a and 733b of the ball shaft plungers 73a and 73b are coupled to one end of the arms 71a and 71b. Accordingly, when the ball shafts 731a and 731b rise, the arms 71a and 71b rotate, and the opposite end of the end to which the compression springs 733a and 733b are coupled descends.

한 쌍의 볼 샤프트 플런저(73a, 73b)의 볼 샤프트(731a, 731b)의 끝단의 볼은 일정한 간격으로 제1 채널(611)의 내부에 배치된다. 따라서 도 8에 도시된 바와 같이, 피스톤(64)이 제1 벽면(617)에 밀착된 경우에는 우측의 볼 샤프트(731a)는 상승하고, 그 결과 우측의 볼 샤프트(731a)와 연결된 아암(71a)이 힌지 핀(72)을 중심으로 반시계방향으로 회전한다. Balls at the ends of the ball shafts 731a and 731b of the pair of ball shaft plungers 73a and 73b are disposed inside the first channel 611 at regular intervals. Therefore, as shown in Fig. 8, when the piston 64 is in close contact with the first wall surface 617, the right ball shaft 731a rises, and as a result, the arm 71a connected to the right ball shaft 731a ) Rotates counterclockwise around the hinge pin 72.

반대로 피스톤(64)이 제2 벽면(618)에 밀착된 경우에는 좌측의 볼 샤프트(731b)가 상승하고, 좌측의 볼 샤프트(731b)와 연결된 아암(71b)이 힌지 핀(72)을 중심으로 시계방향으로 회전한다. On the contrary, when the piston 64 is in close contact with the second wall surface 618, the ball shaft 731b on the left rises, and the arm 71b connected to the ball shaft 731b on the left is centered on the hinge pin 72. It rotates clockwise.

따라서 아암(72a, 71b)의 위치에 따라서 캡슐(100)의 내부가 저 진공 상태인지 진공이 파기된 상태인지 알 수 있다. 즉, 아암(72a, 71b)의 상부를 기준으로, 좌측 아암(71a)이 내려가면, 저 진공 상태이며, 우측 아암(71b)이 내려가면, 진공이 파기된 상태이다.Therefore, depending on the positions of the arms 72a and 71b, it can be seen whether the inside of the capsule 100 is in a low vacuum state or in a state in which the vacuum is destroyed. That is, when the left arm 71a is lowered relative to the upper portions of the arms 72a and 71b, the vacuum is in a low vacuum state, and when the right arm 71b is lowered, the vacuum is discarded.

도 2에 도시된 바와 같이, 볼 플런저(80)는 상판(10)의 하면에 설치된다. 볼 플런저(80)는 평면상 하판(30)의 진공 홀(36)의 위치와 동일한 위치에 설치될 수 있다.As shown in FIG. 2, the ball plunger 80 is installed on the lower surface of the upper plate 10. The ball plunger 80 may be installed at the same position as the vacuum hole 36 of the lower plate 30 on a plane.

볼 플런저(80)는 하판(30)에 있는 진공 홀(36)에 의해 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)가 하판(30)에 흡착될 때, 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)를 하판(30) 방향으로 눌러서, 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)를 하판(30)의 안착 홈(35)에 밀착시키는 역할을 한다. 따라서 진공 발생장치(8)를 캡슐(100)의 진공 보조장치(50)에 도킹한 후 진공 발생장치(8)를 가동할 때 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)와 안착 홈(36) 사이에 틈이 생겨서 가스가 새는 것을 방지할 수 있다.When the fixture 4 of the pellicle frame 5 is adsorbed to the lower plate 30 by the vacuum hole 36 in the lower plate 30, the ball plunger 80 removes the fixture 4 of the pellicle frame 5 By pressing in the direction of the lower plate 30, the fixture 4 of the pellicle frame 5 is in close contact with the seating groove 35 of the lower plate 30. Therefore, when the vacuum generator 8 is docked to the vacuum auxiliary device 50 of the capsule 100 and the vacuum generator 8 is operated, between the fixture 4 of the pellicle frame 5 and the seating groove 36 This can prevent gas from leaking by creating a gap.

또한, 어떤 이유로 흡착이 잘 이루어지지 않은 상태에서 캡슐(100)의 이동 및 플립(flip)이 진행될 경우 펠리클(1)을 고정하여 펠리클(1)이 손상되는 것을 방지하는 역할도 한다.In addition, when the capsule 100 is moved or flipped in a state where adsorption is not performed well for some reason, the pellicle 1 is fixed to prevent the pellicle 1 from being damaged.

도 9는 도 2에 도시된 볼 플런저를 나타낸 도면이다. 도 9에 도시된 바와 같이, 볼 플런저(80)는 원통형의 배럴(81)과 배럴(81)에 끼워진 볼(82)과 배럴(81)의 바닥면과 볼(82) 사이에 배치되어 볼(82)이 배럴(81)의 바닥면으로부터 멀어지는 방향으로 볼(82)에 탄성력을 가하는 코일 스프링(83)을 포함한다. 배럴(81)의 상부는 볼(82)이 빠지지 않도록 오므려져 있다.9 is a view showing the ball plunger shown in FIG. 2. As shown in Fig. 9, the ball plunger 80 is disposed between the ball 82 and the bottom surface of the barrel 81 and the ball 82 fitted in the barrel 81 and the barrel 81 of a cylindrical shape ( 82 includes a coil spring 83 that applies an elastic force to the ball 82 in a direction away from the bottom surface of the barrel 81. The upper part of the barrel 81 is closed so that the ball 82 does not come off.

이하에서는 상술한 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐의 작용에 대해서 설명한다.Hereinafter, the action of the capsule used for inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography will be described.

먼저, 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐(100)의 하판(30)에 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)을 안착시킨다. 이때, 펠리클(1)의 픽스처(4)가 안착 홈(35)에 놓인다. 그리고 상판(10)을 하판(30)에 결합한다.First, the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography is seated on the lower plate 30 of the capsule 100 used for inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography. At this time, the fixture 4 of the pellicle 1 is placed in the seating groove 35. And the upper plate 10 is coupled to the lower plate 30.

다음, 피스톤(64)이 제2 벽면(618)에 밀착되어 있는 상태에서, 진공 발생장치(8)가 가동하면, 핀형 흡입구(9)를 통해서 가스가 배출된다. 그러면 제1 채널(611) 내부에서 우측으로 가스의 흐름이 발생하고, 제1 채널(611)의 우측의 압력이 좌측의 압력보다 낮아진다. 압력 차이가 영구자석과 피스톤(64) 사이의 인력 이상이 되면, 피스톤(64)이 우측으로 이동하기 시작한다.Next, when the vacuum generator 8 is operated with the piston 64 in close contact with the second wall surface 618, gas is discharged through the pin-shaped suction port 9. Then, a gas flow occurs from the inside of the first channel 611 to the right, and the pressure on the right side of the first channel 611 is lower than the pressure on the left side. When the pressure difference becomes more than the attractive force between the permanent magnet and the piston 64, the piston 64 starts to move to the right.

피스톤(64)이 우측으로 이동하기 시작하면, 피스톤(64)에 의해서 막혀있던 제4 채널(614)과 제1 채널(611)의 연결부분이 개방된다. 그러면 흡입판(553), 챔버(552), 제3 채널(551), 제4 채널(614), 제1 채널(611), 피스톤(64)의 관통구멍(641), 제1 채널(611), 제2 채널(612), 핀형 흡입구(9)를 연결하는 경로도 개방된다.When the piston 64 starts to move to the right, the connecting portion of the fourth channel 614 and the first channel 611 that was blocked by the piston 64 is opened. Then, the suction plate 553, the chamber 552, the third channel 551, the fourth channel 614, the first channel 611, the through hole 641 of the piston 64, the first channel 611 , The path connecting the second channel 612 and the pin-shaped inlet 9 is also opened.

따라서 캡슐(100)의 내부공간의 공기가 이러한 경로를 따라서 핀형 흡입구(9)로 배출되어, 캡슐(100)의 내부 압력이 낮아진다.Accordingly, the air in the inner space of the capsule 100 is discharged to the pin-shaped inlet 9 along this path, so that the internal pressure of the capsule 100 is lowered.

또한, 동시에 제4 채널(614), 제1 유로(519), 제2 유로(39), 진공 홀(36)을 연결하는 경로로 형성된다. 따라서 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)가 안착 홈(35)에 밀착된다. In addition, it is formed as a path connecting the fourth channel 614, the first flow path 519, the second flow path 39, and the vacuum hole 36 at the same time. Therefore, the fixture 4 of the pellicle frame 5 is in close contact with the seating groove 35.

피스톤(64)이 계속 우측으로 이동하여, 도 5에 도시된 바와 같이, 피스톤(64)이 제1 벽면(617)에 밀착되면 피스톤(64)에 의해서 제1 채널(611)과 제2 채널(612)의 연결부가 폐쇄된다. 그러면 더는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐(100)의 내부공간의 공기가 가스 배출구(511)를 통해서 배출될 수 없는 상태가 된다. The piston 64 continues to move to the right, and as shown in FIG. 5, when the piston 64 is in close contact with the first wall 617, the first channel 611 and the second channel ( 612) is closed. Then, the air in the inner space of the capsule 100 used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography cannot be discharged through the gas outlet 511.

따라서 캡슐(100)의 내부공간의 압력은 저절로 적절한 저 진공 상태로 조절된다. 진공도가 너무 낮아지면, 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)이 찢어질 우려가 있다. 피스톤(64)은 피스톤(64)과 제1 벽면(617)의 자석 사이의 자기력에 의해서 제1 벽면(617)에 밀착된 상태로 유지된다.Therefore, the pressure in the inner space of the capsule 100 is automatically adjusted to an appropriate low vacuum state. If the degree of vacuum is too low, there is a fear that the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography may be torn. The piston 64 is kept in close contact with the first wall surface 617 by a magnetic force between the piston 64 and the magnet of the first wall surface 617.

그리고 이때에는 피스톤(64)에 의해서, 우측의 볼 샤프트(731a)가 상승하고, 그 결과 우측의 볼 샤프트(731a)와 연결된 아암(71a)이 힌지 핀(72)을 중심으로 반시계방향으로 회전하여, 내려가므로 진공 상태인 것을 확인할 수 있다.And at this time, by the piston 64, the right ball shaft 731a rises, and as a result, the arm 71a connected to the right ball shaft 731a rotates counterclockwise around the hinge pin 72. Thus, it can be confirmed that it is in a vacuum state because it goes down.

다음, 캡슐(100)의 내부의 진공을 파기할 필요가 있는 경우에는, 피스톤(64)이 제1 벽면(617)에 밀착된 상태에서 가스 주입장치(6)의 가스 주입구(7)를 제5 채널(615) 측에 밀착시킨 후 가스 주입장치(6)를 가동하여 고순도의 질소 등의 가스를 주입한다.Next, when it is necessary to break the vacuum inside the capsule 100, the gas injection port 7 of the gas injection device 6 is opened to a fifth state while the piston 64 is in close contact with the first wall surface 617. After making close contact with the channel 615, the gas injection device 6 is operated to inject a high-purity gas such as nitrogen.

제5 채널(615)을 통해서 가스가 주입되면, 피스톤(64)의 사선으로 절단된 절개부(642)에 압력이 가해진다. 압력이 피스톤(64)과 제1 벽면(617) 사이의 자기력에 비해서 커지면, 피스톤(64)이 제1 채널(611)을 따라서 좌측으로 이동한다. When gas is injected through the fifth channel 615, pressure is applied to the incision 642 cut diagonally of the piston 64. When the pressure increases compared to the magnetic force between the piston 64 and the first wall 617, the piston 64 moves to the left along the first channel 611.

그러면 흡입판(553), 챔버(552), 제3 채널(551), 제4 채널(614), 제1 채널(611), 피스톤(64)의 관통구멍(641), 제1 채널(611), 제5 채널(615), 가스 주입구(7)를 연결하는 경로가 개방된다. Then, the suction plate 553, the chamber 552, the third channel 551, the fourth channel 614, the first channel 611, the through hole 641 of the piston 64, the first channel 611 , A path connecting the fifth channel 615 and the gas inlet 7 is opened.

따라서 가스 주입구(7)를 통해서 주입된 질소 가스가 캡슐(100)의 내부에 주입되어 캡슐(100)의 내부 압력이 높아진다. Accordingly, the nitrogen gas injected through the gas injection port 7 is injected into the capsule 100, thereby increasing the internal pressure of the capsule 100.

또한, 동시에 제4 채널(614), 제1 유로(519), 제2 유로(39), 진공 홀(36)을 연결하는 경로로 개방된다. 따라서 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)가 안착 홈(35)에서 분리될 수 있는 상태가 된다. In addition, it is simultaneously opened to a path connecting the fourth channel 614, the first flow path 519, the second flow path 39, and the vacuum hole 36. Accordingly, the fixture 4 of the pellicle frame 5 is in a state in which it can be separated from the seating groove 35.

피스톤(64)이 계속 좌측으로 이동하여, 도 4에 도시된 바와 같이, 피스톤(64)이 제2 벽면(618)에 밀착되면 피스톤(64)에 의해서 제1 채널(611)과 제4 채널(614)의 연결부가 폐쇄된다. 그러면 더는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐(100)의 내부공간에 질소가 공급될 수 없는 상태가 된다. 따라서 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐(100)의 내부공간의 압력은 지나치게 높아지는 것을 방지할 수 있다.The piston 64 continues to move to the left, and as shown in FIG. 4, when the piston 64 is in close contact with the second wall surface 618, the first channel 611 and the fourth channel ( 614) is closed. Then, nitrogen cannot be supplied to the inner space of the capsule 100 used for inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography anymore. Therefore, it is possible to prevent the pressure in the inner space of the capsule 100 used for inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography from being excessively high.

그리고 이때에는 피스톤(64)에 의해서, 좌측의 볼 샤프트(731b)가 상승하고, 그 결과 좌측의 볼 샤프트(731b)와 연결된 아암(71b)이 힌지 핀(72)을 중심으로 시계방향으로 회전하여, 내려가므로 진공이 파기된 상태인 것을 확인할 수 있다.And at this time, by the piston 64, the left ball shaft 731b rises, and as a result, the arm 71b connected to the left ball shaft 731b rotates clockwise around the hinge pin 72 , As it goes down, it can be confirmed that the vacuum is destroyed.

진공이 파기되어도 상판(10)과 하판(30)이 분리되기 전까지는 볼 플런저(80)에 의해서 펠리클(1)이 안착 홈(35)에 고정된 상태가 유지된다.Even if the vacuum is destroyed, the pellicle 1 is fixed to the seating groove 35 by the ball plunger 80 until the upper plate 10 and the lower plate 30 are separated.

이상에서 설명된 실시예는 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한 것에 불과하고, 본 발명의 권리범위는 설명된 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상과 특허청구범위 내에서 이 분야의 당업자에 의하여 다양한 변경, 변형 또는 치환이 가능할 것이며, 그와 같은 실시예들은 본 발명의 범위에 속하는 것으로 이해되어야 한다.The above-described embodiments are merely describing preferred embodiments of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the described embodiments, and those skilled in the art within the scope of the technical spirit and claims of the present invention Various changes, modifications, or substitutions may be made by this, and such embodiments are to be understood as being within the scope of the present invention.

예를 들어, 진공 보조장치(50)에 진공 벤트 부시(60)를 결합하는 것으로 설명하였으나, 진공 보조장치와 진공 벤트 부시가 일체로 이루어질 수도 있다.For example, although it has been described that the vacuum vent bush 60 is coupled to the vacuum assist device 50, the vacuum assist device and the vacuum vent bush may be integrally formed.

100: 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐
10: 상판
20: 상판 윈도우
30: 하판
40: 하판 윈도우
50: 진공 보조장치
60: 진공 벤트 부시
70: 진공 인디케이터
80: 볼 플런저100: capsule used for inspection of pellicle for ultra-ultraviolet lithography
10: top
20: top window
30: lower plate
40: lower window
50: vacuum aid
60: vacuum vent bush
70: vacuum indicator
80: ball plunger

Claims (12)

중심부에 개구가 형성된 상판과,
상기 상판의 개구에 설치되며, 반사 방지 코팅층이 형성된 상판 윈도우와,
상기 상판과 결합하여, 초극자외선 리소그라피용 펠리클이 수납되는 내부공간을 형성하며, 상기 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 펠리클 프레임을 흡착하여 고정하기 위해 바닥면에 형성된 복수의 진공 홀들과 적어도 한쪽 측면에 형성된 진공 보조장치 장착 홈이 형성된 하판과,
상기 하판의 진공 보조장치 장착 홈에 설치되며, 진공 발생장치와 연결되는 가스 배출구와 상기 가스 배출구와 연결된 제1 유로가 형성된 진공 보조장치를 포함하며,
상기 하판에는 상기 제1 유로와 상기 진공 홀들을 연결하는 제2 유로가 형성된 캡슐로서,
상기 진공 보조장치는 몸체부와, 상기 몸체부의 일측면에서 연장되며, 상기 진공 보조장치 장착 홈에 끼워지며 상기 제1 유로가 형성된 흡입부를 포함하며,
상기 캡슐은 상기 진공 보조장치에 결합되는 진공 벤트 부시를 더 포함하며,
상기 진공 벤트 부시에는 제1 벽면과 반대 측 제2 벽면에 의해서 양단부가 막힌 가로 방향으로 연장된 제1 채널과, 상기 제1 채널과 각을 이루며 연결되며 상기 제1 채널과 진공 발생장치의 흡입구를 연결하는 제2 채널이 형성되며,
상기 진공 벤트 부시는 상기 제1 채널을 따라서 상기 제1 벽면과 제2 벽면 사이를 직선 운동하며, 중심부에 관통구멍이 형성된 피스톤을 더 포함하며,
상기 진공 보조장치의 흡입부에는 상기 제1 채널과 다른 높이로 가로 방향으로 연장된 제3 채널이 형성되며,
상기 진공 벤트 부시에는 상기 제1 채널과 상기 제3 채널을 연결하는 제4 채널이 형성되고,
상기 피스톤이 상기 제1 벽면과 접하면, 상기 제1 채널과 제2 채널의 연결부가 폐쇄되며, 상기 피스톤이 상기 제2 벽면에 접하면 상기 제1 채널과 제4 채널의 연결부가 폐쇄되는 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐. A top plate with an opening formed in the center,
An upper plate window installed in the opening of the upper plate and having an antireflection coating layer formed thereon,
Combined with the upper plate to form an inner space in which a pellicle for ultra-ultraviolet lithography is accommodated, and a plurality of vacuum holes formed on the bottom surface to adsorb and fix the pellicle frame of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography and a vacuum formed on at least one side A lower plate on which an auxiliary device mounting groove is formed,
It is installed in the vacuum auxiliary device mounting groove of the lower plate and includes a vacuum auxiliary device having a gas outlet connected to the vacuum generating device and a first flow path connected to the gas outlet,
A capsule having a second flow path connecting the first flow path and the vacuum holes formed on the lower plate,
The vacuum auxiliary device includes a body portion and a suction portion extending from one side of the body portion, being fitted into the vacuum auxiliary device mounting groove, and having the first flow path,
The capsule further includes a vacuum vent bush coupled to the vacuum auxiliary device,
The vacuum vent bush has a first channel extending in a transverse direction in which both ends are blocked by a second wall surface opposite to the first wall, and is connected to the first channel at an angle, and the first channel and the suction port of the vacuum generator are connected. A second channel to connect is formed,
The vacuum vent bush further includes a piston that moves linearly between the first wall surface and the second wall surface along the first channel and has a through hole formed in a center thereof,
A third channel extending in a horizontal direction at a height different from that of the first channel is formed in the suction part of the vacuum auxiliary device,
A fourth channel connecting the first channel and the third channel is formed in the vacuum vent bush,
When the piston contacts the first wall surface, the connection portion between the first channel and the second channel is closed, and when the piston contacts the second wall surface, the connection portion between the first channel and the fourth channel is closed. Capsules used for inspection of pellicles for lithography. 제1항에 있어서,
상기 하판의 중심부에는 개구가 형성되며,
상기 하판의 개구에 설치되며, 반사 방지 코팅층이 형성된 하판 윈도우를 더 포함하는 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.The method of claim 1,
An opening is formed in the center of the lower plate,
A capsule installed in the opening of the lower plate and used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography further comprising a lower panel window having an antireflection coating layer formed thereon. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 진공 벤트 부시에는 상기 제1 채널과 연결된 제5 채널이 형성되며, 상기 피스톤이 상기 제1 벽면과 접하면, 상기 제1 채널과 제5 채널의 연결부가 폐쇄되는 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.The method of claim 1,
In the vacuum vent bush, a fifth channel connected to the first channel is formed, and when the piston contacts the first wall, the connection part between the first channel and the fifth channel is closed, for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography. Capsules used. 제4항에 있어서,
상기 피스톤의 제1 벽면 측 끝단에는 상기 제5 채널을 통해서 유입된 가스가 부딪혀 상기 피스톤을 상기 제2 벽면 측으로 밀어낼 수 있도록 경사진 절개부가 형성된 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.The method of claim 4,
A capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography, in which an inclined incision is formed so that the gas introduced through the fifth channel collides with the end of the piston on the first wall side to push the piston toward the second wall. 제1항에 있어서,
상기 흡입부에는 상기 제3 채널과 연통된 챔버가 형성되며, 상기 챔버의 개방된 상면에는 다공성 플레이트인 흡입판이 배치된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.The method of claim 1,
A capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography in which a chamber in communication with the third channel is formed in the suction part, and a suction plate, which is a porous plate, is disposed on an open upper surface of the chamber. 제6항에 있어서,
상기 흡입판은 다공성 세라믹인 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.The method of claim 6,
The suction plate is a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography, which is a porous ceramic. 제1항에 있어서,
상기 제1 유로는 상기 제4 채널과 연결된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.The method of claim 1,
The first flow path is a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography connected to the fourth channel. 제1항에 있어서,
상기 제1 벽면은 상기 피스톤과 상기 제1 벽면이 가까워지는 방향으로 상기 피스톤에 자기력을 인가하는 자석을 포함하는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.The method of claim 1,
The first wall surface is a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography comprising a magnet for applying a magnetic force to the piston in a direction in which the piston and the first wall surface are close. 제1항에 있어서,
상기 제2 벽면은 상기 피스톤과 상기 제2 벽면이 가까워지는 방향으로 상기 피스톤에 자기력을 인가하는 자석을 포함하는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.The method of claim 1,
The second wall surface is a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography comprising a magnet for applying a magnetic force to the piston in a direction in which the piston and the second wall surface are close. 제1항에 있어서,
힌지 핀에 의해서 회동 가능하게 상기 진공 벤트 부시의 인디케이터 설치부에 고정된 한 쌍의 아암과, 상기 한 쌍의 아암의 일단에 각각 고정된 한 쌍의 볼 샤프트 플런저를 구비한 진공 인디케이터를 더 포함하며,
상기 볼 샤프트 플런저는 배럴과 상기 배럴 안에 배치되는 볼 샤프트와 일단은 배럴 안에 배치되며 타단은 상기 아암에 결합하는 압축 스프링을 포함하며,
상기 볼 샤프트 플런저는 상기 인디케이터 설치부와 상기 제1 채널 사이의 벽면을 관통하는 관통구멍에 설치되며,
상기 볼 샤프트의 볼 형태의 끝단은 상기 제1 채널의 내부에 배치되며, 상기 피스톤이 상기 볼 샤프트의 아래를 지나가면 상기 볼 샤프트가 상승하면서 상기 볼 샤프트 플런저의 압축 스프링과 연결된 아암을 회전시키는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.The method of claim 1,
Further comprising a vacuum indicator having a pair of arms fixed to the indicator mounting portion of the vacuum vent bush so as to be rotatable by a hinge pin, and a pair of ball shaft plungers each fixed to one end of the pair of arms, ,
The ball shaft plunger includes a barrel, a ball shaft disposed in the barrel, and a compression spring having one end disposed in the barrel and the other end coupled to the arm,
The ball shaft plunger is installed in a through hole penetrating a wall surface between the indicator mounting portion and the first channel,
The ball-shaped end of the ball shaft is disposed inside the first channel, and when the piston passes under the ball shaft, the ball shaft rises and the arm connected to the compression spring of the ball shaft plunger rotates. A capsule used for inspection of pellicles for ultraviolet lithography. 제1항에 있어서,
상기 진공 보조장치와 상기 진공 벤트 부시는 일체를 이루는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.The method of claim 1,
A capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography in which the vacuum auxiliary device and the vacuum vent bush are integrated.
KR1020180169347A 2018-12-26 2018-12-26 Sealing capsule for inspecting extreme ultra violet lithography pellicle KR102172722B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180169347A KR102172722B1 (en) 2018-12-26 2018-12-26 Sealing capsule for inspecting extreme ultra violet lithography pellicle

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180169347A KR102172722B1 (en) 2018-12-26 2018-12-26 Sealing capsule for inspecting extreme ultra violet lithography pellicle

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200079793A KR20200079793A (en) 2020-07-06
KR102172722B1 true KR102172722B1 (en) 2020-11-02

Family

ID=71571510

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180169347A KR102172722B1 (en) 2018-12-26 2018-12-26 Sealing capsule for inspecting extreme ultra violet lithography pellicle

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102172722B1 (en)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002156744A (en) 2000-11-17 2002-05-31 Asahi Kasei Electronics Co Ltd Container for housing pellicle
JP2002299220A (en) * 2001-04-02 2002-10-11 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc Photomask container, photomask unit, photomask device, projection aligner and projection exposing method
JP2003228163A (en) 2002-02-05 2003-08-15 Canon Inc Method and apparatus for replacing inert gas, exposure device, reticle cabinet, reticle inspection apparatus, reticle conveyance box, and method of manufacturing device
US20050074352A1 (en) 2003-10-07 2005-04-07 Asml Holding N.V. Method and system for active purging of pellice volumes
JP2007329439A (en) 2006-05-12 2007-12-20 Miraial Kk Reticle case
JP2009094368A (en) 2007-10-10 2009-04-30 Canon Inc Original conveying device, exposure device, and device manufacturing method
WO2015182483A1 (en) 2014-05-27 2015-12-03 三井化学株式会社 Pellicle-manufacturing device

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110119979A (en) * 2010-04-28 2011-11-03 주식회사 피케이엘 Method for preventing pollusion of pellicle and inspection apparatus applying to thereof
US10558129B2 (en) 2014-11-17 2020-02-11 Asml Netherlands B.V. Mask assembly
JP6519190B2 (en) * 2015-01-16 2019-05-29 日本軽金属株式会社 Support frame for pellicle
KR101738887B1 (en) 2016-01-15 2017-06-08 주식회사 에프에스티 METHOD AND DEVICE FOR Actinic EUV PELLICLE INSPECTION
KR101807396B1 (en) 2016-03-23 2017-12-11 한양대학교 산학협력단 Testing device for pellicle and method for testing using same

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002156744A (en) 2000-11-17 2002-05-31 Asahi Kasei Electronics Co Ltd Container for housing pellicle
JP2002299220A (en) * 2001-04-02 2002-10-11 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc Photomask container, photomask unit, photomask device, projection aligner and projection exposing method
JP2003228163A (en) 2002-02-05 2003-08-15 Canon Inc Method and apparatus for replacing inert gas, exposure device, reticle cabinet, reticle inspection apparatus, reticle conveyance box, and method of manufacturing device
US20050074352A1 (en) 2003-10-07 2005-04-07 Asml Holding N.V. Method and system for active purging of pellice volumes
JP2007329439A (en) 2006-05-12 2007-12-20 Miraial Kk Reticle case
JP2009094368A (en) 2007-10-10 2009-04-30 Canon Inc Original conveying device, exposure device, and device manufacturing method
WO2015182483A1 (en) 2014-05-27 2015-12-03 三井化学株式会社 Pellicle-manufacturing device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200079793A (en) 2020-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8231005B2 (en) Reticle pod
US7528936B2 (en) Substrate container with pressure equalization
KR101486086B1 (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
KR101217616B1 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
TWI411563B (en) Reticle pod
JP5674314B2 (en) Reticle SMIF pod or substrate container and purge method thereof
JP6322638B2 (en) Reticle pod with a mechanism to align the cover with the base plate
KR100632891B1 (en) Lithographic Apparatus and Device Manufacturing Method
TWI645264B (en) Liquid immersion exposure apparatus, and method for manufacturing device
JP4790076B2 (en) Lithographic apparatus
JP2008531416A (en) Reticle pod with insulation system
KR20210049981A (en) Substrate-holding apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US20150131071A1 (en) Semiconductor device manufacturing apparatus
JP2004228497A (en) Exposure device and manufacturing method of electronic device
KR102172722B1 (en) Sealing capsule for inspecting extreme ultra violet lithography pellicle
US7656507B2 (en) Processing unit, exposure apparatus having the processing unit, and protection unit
WO2013031928A1 (en) Exposure apparatus, liquid holding method, and device manufacturing method
KR20140056284A (en) Exposure apparatus and method of confining a liquid
JP2007506155A (en) Method and apparatus for protecting reticles used in chip production from contamination
KR20130019416A (en) Filter holder, exposure device, and device production method
JP2009260352A (en) Exposure apparatus, cleaning method, and device manufacturing method
JP2009267401A (en) Exposure apparatus, cleaning method, and device fabricating method
JP2006060037A (en) Exposure apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant