KR102168380B1 - 냉각 유닛, 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판을 냉각하는 냉각 유닛을 제공한다. 냉각 유닛은, 내부에 유로가 형성된 온도 조절 플레이트와; 상기 유로로 온도 조절 유체를 공급하는 유체 공급 부재를 포함하고, 상기 유로는, 일단이 각각 상기 유체 공급 부재와 연결되는 복수의 제1유로와; 복수의 상기 제1유로의 타단들과 연통되어 상기 온도 조절 유체를 배출하는 제2유로를 포함하고, 상기 온도 조절 플레이트에는 복수의 상기 제1유로의 타단들과 상기 제2유로의 일단을 연통시키는 버퍼 공간이 형성될 수 있다.

Description

냉각 유닛, 이를 포함하는 기판 처리 장치{A cooling unit, and a substrate processing apparatus including the same}
본 발명은 냉각 유닛, 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자를 제조하기 위해서는 세정, 증착, 사진, 에칭, 그리고 이온 주입 등과 같은 다양한 공정이 수행된다. 패턴을 형성하기 위해 수행되는 사진 공정은 반도체 소자의 고 집적화를 이루는데 중요한 역할을 수행한다.
사진 공정은 기판 상에 패턴을 형성하기 위해 수행된다. 사진 공정은 도포 공정, 노광 공정, 그리고 현상 공정이 순차적으로 진행되며, 각 공정들은 복수의 기판 처리 단계들을 포함한다. 이러한 기판 처리 단계들은 하나의 처리 단계가 진행된 후 다음 단계의 진행을 위해 기판을 임시 보관하는 과정을 거친다. 기판을 임시 보관하는 과정 중에는, 일반적으로 처리가 완료된 기판이 고온의 상태를 유지하므로, 이를 냉각시키기 위한 기판을 냉각시키는 공정이 수행된다. 따라서, 일반적으로 기판에 대해 사진 공정을 수행하는 기판 처리 장치는 기판을 임시 보관하는 과정 중에 기판을 냉각시키는 냉각 플레이트를 포함한다.
도 1은 일반적인 냉각 플레이트를 보여주는 사시도이다. 도 1을 참조하면, 일반적으로 냉각 플레이트(5000)는 내부에 냉각 유체가 흐르는 냉각 유로(5100)가 형성된다. 그리고, 냉각 유로(5100)의 일단은 냉각 유체를 공급하는 공급 라인(5202)과 연결된다. 그리고 공급 라인(5202)은 냉매 공급원(5200)과 연결된다. 냉각 유로(5100)의 타단은 배출 라인(5204)과 연결된다. 냉매 공급원(5200)은 냉각 유로(5100)로 냉각 유체를 공급한다. 냉각 유체(5100)로 공급된 냉각 유체는 냉각 유로(5100)에 흐르고, 배출 라인(5204)을 통해 외부로 배출된다.
냉각 유체가 가지는 냉열은 냉각 유로(5100)를 따라 흐르면서 냉각 플레이트(5000)의 온도를 낮춘다. 그리고, 냉각 플레이트(5000)는 냉각 플레이트(5000)에 놓이는 기판과 열 교환 한다. 그러나, 냉각 유로(5100)에 흐르는 냉각 유체의 온도는 냉각 유로(5100)의 영역 별로 상이하다. 예를 들어, 공급 라인(5202)과 연결된 냉각 유로(5100)의 일단과 배출 라인(5204)과 연결된 냉각 유로(5100)의 타단은 온도가 상이하다. 이에 기판에 대한 냉각 처리가 균일하게 수행되지 않는다.
본 발명은 기판을 효율적으로 처리할 수 있는 냉각 유닛, 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 기판에 대한 냉각 처리를 효율적으로 수행할 수 있는 냉각 유닛, 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 기판에 대한 냉각 처리를 균일하게 수행할 수 있는 냉각 유닛, 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 온도 조절 플레이트에서 온도 조절 유체를 배출시 온도 조절 유체가 유로 내에서 정체되는 것을 최소화 하는 냉각 유닛, 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판을 처리하는 장치는, 기판이 수납된 용기가 놓이는 로드 포트가 제공되는 인덱스 모듈과; 상기 인덱스 모듈로부터 반송되는 기판을 처리하는 처리 모듈을 포함하고, 상기 처리 모듈은, 기판을 처리하는 공정 챔버와; 기판을 일시적으로 보관하는 버퍼 챔버를 포함하고, 상기 버퍼 챔버는, 내부에 공간을 가지는 하우징과; 상기 공간에서 기판을 냉각하는 냉각 유닛을 포함하되, 상기 냉각 유닛은, 내부에 유로가 형성된 온도 조절 플레이트와; 상기 유로로 온도 조절 유체를 공급하는 유체 공급 부재를 포함하고, 상기 유로는, 일단이 각각 상기 유체 공급 부재와 연결되는 복수의 제1유로와; 복수의 상기 제1유로의 타단들과 연통되어 상기 온도 조절 유체를 배출하는 제2유로를 포함하고, 상기 온도 조절 플레이트에는 복수의 상기 제1유로의 타단들과 상기 제2유로의 일단을 연통시키는 버퍼 공간이 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 버퍼 공간의 직경은 상기 제1유로의 직경보다 클 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 버퍼 공간의 직경은 상기 제2유로의 직경보다 클 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 복수의 상기 제1유로의 타단들은 각각 상기 버퍼 공간과 연결되고, 상기 제2유로의 일단은 상기 버퍼 공간과 연결될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 버퍼 공간은 상부에서 바라볼 때, 상기 온도 조절 플레이트의 중앙 영역에 형성 될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 온도 조절 플레이트의 종단면에서 바라볼 때, 복수의 상기 제1유로는 상기 제2유로보다 위 영역에 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 버퍼 공간은, 상기 온도 조절 플레이트의 종단면에서 바라볼 때, 상기 제1유로와 상기 제2유로의 사이 영역에 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 온도 조절 플레이트는, 제1플레이트와; 상기 제1플레이트의 하부에 제공되는 제2플레이트를 포함하되, 상기 제1유로는 상기 제1플레이트에 형성되고, 상기 제2유로는 상기 제2플레이트에 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 버퍼 공간은 상기 제1플레이트에 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 온도 조절 플레이트는, 알루미늄, 구리, 또는 탄소계 복합 소재를 포함하는 재질로 제공될 수 있다.
또한, 본 발명은 기판을 냉각하는 냉각 유닛을 제공한다. 냉각 유닛은, 내부에 유로가 형성된 온도 조절 플레이트와; 상기 유로로 온도 조절 유체를 공급하는 유체 공급 부재를 포함하고, 상기 유로는, 일단이 각각 상기 유체 공급 부재와 연결되는 복수의 제1유로와; 복수의 상기 제1유로의 타단들과 연통되어 상기 온도 조절 유체를 배출하는 제2유로를 포함하고, 상기 온도 조절 플레이트에는 복수의 상기 제1유로의 타단들과 상기 제2유로의 일단을 연통시키는 버퍼 공간이 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 버퍼 공간의 직경은 상기 제1유로, 그리고 상기 제2유로의 직경보다 클 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 복수의 상기 제1유로의 타단들은 각각 상기 버퍼 공간과 연결되고, 상기 제2유로의 일단은 상기 버퍼 공간과 연결될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 버퍼 공간은 상부에서 바라볼 때, 상기 플레이트의 중앙 영역에 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 플레이트의 종단면에서 바라볼 때, 복수의 상기 제1유로는 상기 제2유로보다 위 영역에 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 버퍼 공간은, 상기 플레이트의 종단면에서 바라볼 때, 상기 제1유로와 상기 제2유로의 사이 영역에 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 플레이트는, 제1플레이트와; 상기 제1플레이트의 하부에 제공되는 제2플레이트를 포함하되, 상기 제1유로는 상기 제1플레이트에 형성되고, 상기 제2유로는 상기 제2플레이트에 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 버퍼 공간은 상기 제1플레이트에 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 플레이트는, 상기 플레이트의 상부에 지지된 기판의 온도를 조절하는 온도 조절 플레이트이고, 상기 유체는 상기 플레이트의 온도를 변화시키는 온도 조절 유체일 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판을 효율적으로 처리할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판에 대한 냉각 처리를 효율적으로 수행할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판에 대한 냉각 처리를 균일하게 수행할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 온도 조절 플레이트에서 온도 조절 유체를 배출시 온도 조절 유체가 유로 내에서 정체되는 것을 최소화 할 수 있다.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 일반적인 냉각 플레이트를 보여주는 사시도이다.
도 2는 본 발명의 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 사시도이다.
도 3은 도 2의 도포 블럭 또는 현상 블럭을 보여주는 기판 처리 장치의 단면도이다.
도 4는 도 2의 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 5는 도 4의 반송 유닛의 핸드를 보여주는 도면이다.
도 6은 도 4의 열처리 챔버를 개략적으로 보여주는 평단면도이다.
도 7은 도 6의 열처리 챔버의 정단면도이다.
도 8은 도 4의 버퍼 챔버를 개략적으로 보여주는 사시도이다.
도 9는 도 8의 냉각 유닛, 버퍼 플레이트 및 지지축을 보여주는 사시도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시 예에 따른 냉각 유닛을 보여주는 평면도이다.
도 11은 도 10의 냉각 유닛을 보여주는 단면도이다.
도 12와 도 10의 냉각 유닛에서 온도 조절 유체가 흐르는 모습을 보여주는 도면이다.
도 13은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 냉각 유닛을 보여주는 단면도이다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.
어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다. 구체적으로, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.
도 2는 본 발명의 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 사시도이고, 도 3은 도 2의 도포 블럭 또는 현상 블럭을 보여주는 기판 처리 장치의 단면도이며, 도 4는 도 2의 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 2 내지 도 4를 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 인덱스 모듈(20,index module), 처리 모듈(30, treating module), 그리고 인터페이스 모듈(40, interface module)을 포함한다. 일 실시예에 의하며, 인덱스 모듈(20), 처리 모듈(30), 그리고 인터페이스 모듈(40)은 순차적으로 일렬로 배치된다. 이하, 인덱스 모듈(20), 처리 모듈(30), 그리고 인터페이스 모듈(40)이 배열된 방향을 X축 방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때 X축 방향(12)과 수직한 방향을 Y축 방향(14)이라 하고, X축 방향(12) 및 Y축 방향(14)에 모두 수직한 방향을 Z축 방향(16)이라 한다.
인덱스 모듈(20)은 기판(W)이 수납된 용기(10)로부터 기판(W)을 처리 모듈(30)로 반송하고, 처리가 완료된 기판(W)을 용기(10)로 수납한다. 인덱스 모듈(20)의 길이 방향은 Y축 방향(14)으로 제공된다. 인덱스 모듈(20)은 기판(W)이 수납된 용기(10)가 놓이는 로드 포트(22)를 가질 수 있다. 또한, 인덱스 모듈(20)은 로드 포트(22)와 인덱스 프레임(24)을 가진다. 인덱스 프레임(24)을 기준으로 로드 포트(22)는 처리 모듈(30)의 반대 측에 위치된다. 기판(W)들이 수납된 용기(10)는 로드 포트(22)에 놓인다. 로드 포트(22)는 복수 개가 제공될 수 있으며, 복수의 로드 포트(22)는 Y축 방향(14)을 따라 배치될 수 있다.
용기(10)로는 전면 개방 일체 식 포드(Front Open Unified Pod:FOUP)와 같은 밀폐용 용기(10)가 사용될 수 있다. 용기(10)는 오버헤드 트랜스퍼(Overhead Transfer), 오버헤드 컨베이어(Overhead Conveyor), 또는 자동 안내 차량(Automatic GuidedVehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)이나 작업자에 의해 로드 포트(22)에 놓일 수 있다.
인덱스 프레임(24)의 내부에는 인덱스 로봇(2200)이 제공된다. 인덱스 프레임(24) 내에는 길이 방향이 Y축 방향(14)으로 제공된 가이드 레일(2300)이 제공되고, 인덱스 로봇(2200)은 가이드 레일(2300) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 인덱스 로봇(2200)은 기판(W)이 놓이는 핸드(2220)를 포함하며, 핸드(2220)는 전진 및 후진 이동, Z축 방향(16)을 축으로 한 회전, 그리고 Z축 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다.
처리 모듈(30)은 인덱스 모듈(20)로부터 반송되는 기판(W)을 처리할 수 있다. 처리 모듈(30)은 기판(W)에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행한다. 처리 모듈(30)은 도포 블럭(30a) 및 현상 블럭(30b)을 가진다. 도포 블럭(30a)은 기판(W)에 대해 도포 공정을 수행하고, 현상 블럭(30b)은 기판(W)에 대해 현상 공정을 수행한다. 도포 블럭(30a)은 복수 개가 제공되며, 이들은 서로 적층되게 제공된다. 현상 블럭(30b)은 복수 개가 제공되며, 현상 블럭들(30b)은 서로 적층되게 제공된다. 도 3의 실시예에 의하면, 도포 블럭(30a)은 2개가 제공되고, 현상 블럭(30b)은 2개가 제공된다. 도포 블럭들(30a)은 현상 블럭들(30b)의 아래에 배치될 수 있다. 일 예에 의하면, 2개의 도포 블럭들(30a)은 서로 동일한 공정을 수행하며, 서로 동일한 구조로 제공될 수 있다. 또한, 2개의 현상 블럭들(30b)은 서로 동일한 공정을 수행하며, 서로 동일한 구조로 제공될 수 있다.
도 4를 참조하면, 도포 블럭(30a)은 열처리 챔버(3200), 반송 챔버(3400), 액 처리 챔버(3600), 그리고 버퍼 챔버(3800)를 가진다. 열처리 챔버(3200)는 기판(W)에 대해 열처리 공정을 수행한다. 열처리 공정은 냉각 공정 및 가열 공정을 포함할 수 있다. 액 처리 챔버(3600)는 기판(W) 상에 액을 공급하여 액막을 형성한다. 액막은 포토레지스트막 또는 반사방지막일 수 있다. 반송 챔버(3400)는 도포 블럭(30a) 내에서 열처리 챔버(3200)와 액처리 챔버(3600) 간에 기판(W)을 반송한다.
반송 챔버(3400)는 그 길이 방향이 X축 방향(12)과 평행하게 제공된다. 반송 챔버(3400)에는 반송 유닛(3420)이 제공된다. 반송 유닛(3420)은 열처리 챔버(3200), 액 처리 챔버(3600), 그리고 버퍼 챔버(3800) 간에 기판을 반송한다. 일 예에 의하면, 반송 유닛(3420)은 기판(W)이 놓이는 핸드(A)를 가지며, 핸드(A)는 전진 및 후진 이동, Z축 방향(16)을 축으로 한 회전, 그리고 Z축 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 반송 챔버(3400) 내에는 그 길이 방향이 X축 방향(12)과 평행하게 제공되는 가이드 레일(3300)이 제공되고, 반송 유닛(3420)은 가이드 레일(3300) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다.
도 5는 도 4의 반송 유닛의 핸드의 일 예를 보여주는 도면이다. 도 4를 참조하면, 핸드(A)는 베이스(3428) 및 지지 돌기(3429)를 가진다. 베이스(3428)는 원주의 일부가 절곡된 환형의 링 형상을 가질 수 있다. 베이스(3428)는 기판(W)의 직경보다 큰 내경을 가진다. 지지 돌기(3429)는 베이스(3428)로부터 그 내측으로 연장된다. 지지 돌기(3429)는 복수 개가 제공되며, 기판(W)의 가장자리 영역을 지지한다. 일 예에 의하며, 지지 돌기(3429)는 등 간격으로 4개가 제공될 수 있다.
다시 도 3과 도 4를 참조하면, 열 처리 챔버(3200)는 복수 개로 제공된다. 열 처리 챔버들(3200)은 제1방향(12)을 따라 나열되게 배치된다. 열 처리 챔버(3200)들은 반송 챔버(3400)의 일측에 위치된다.
도 6은 도 4의 열처리 챔버를 개략적으로 보여주는 평단면도이고, 도 7은 도 6의 열처리 챔버의 정단면도이다. 열처리 챔버(3200)는 처리 용기(3201), 냉각 유닛(3220), 가열 유닛(3230)을 포함한다.
처리 용기(3201)는 내부 공간(3202)을 가진다. 처리 용기(3201)는 대체로 직육면체의 형상으로 제공된다. 처리 용기(3201)의 측벽에는 기판(W)이 출입되는 반입구(미도시)가 형성된다. 또한, 반입구를 개폐하도록 도어(미도시)가 제공될 수 있다. 반입구는 선택적으로 개방된 상태로 유지될 수 있다. 반입구는 냉각 유닛(3220)과 인접한 영역에 형성될 수 있다. 냉각 유닛(3220), 가열 유닛(3230), 측정 유닛(3240)은 처리 용기(3201)의 내부 공간(3202) 내에 제공된다. 냉각 유닛(3220) 및 가열 유닛(3230)은 Y축 방향(14)을 따라 나란히 제공된다. 처리 용기(3201)에는 배기 라인(3210)이 연결될 수 있다. 배기 라인(3210)은 팬 유닛(3250)이 공급하는 가스를 처리 용기(3201)의 외부로 배기할 수 있다. 배기 라인(3210)은 처리 용기(3201)의 하부에 연결될 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니고 배기 라인(3210)은 처리 용기(3201)의 측부 등에 연결될 수 있다.
냉각 유닛(3220)은 냉각 플레이트(3222)를 가진다. 냉각 플레이트(3222)에는 기판(W)이 안착될 수 있다. 냉각 플레이트(3222)는 상부에서 바라볼 때 대체로 원형의 형상을 가질 수 있다. 냉각 플레이트(3222)에는 냉각 부재(미도시)가 제공된다. 일 예에 의하면, 냉각 부재는 냉각 플레이트(3222)의 내부에 형성되며, 냉각 유체가 흐르는 유로로 제공될 수 있다. 이에 냉각 플레이트(3222)는 기판(W)을 냉각시킬 수 있다. 냉각 플레이트(3222)는 기판(W)과 대응하는 직경을 가질 수 있다. 냉각 플레이트(3222)의 가장 자리에는 노치가 형성될 수 있다. 노치는 상술한 핸드(A)에 형성된 지지 돌기(3429)와 대응되는 형상을 가질 수 있다. 또한, 노치는 핸드(A)에 형성된 지지 돌기(3429)와 대응되는 수로 제공되고, 지지 돌기(3429)에 대응되는 위치에 형성될 수 있다. 핸드(A)와 냉각 플레이트(3222)의 상하 위치가 변경하면 핸드(A)와 냉각 플레이트(3222) 간에 기판(W)의 전달이 이루어진다. 냉각 플레이트(3222)에는 슬릿 형상의 가이드 홈(3224)이 복수 개 제공된다. 가이드 홈(3224)은 냉각 플레이트(3222)의 끝단에서 냉각 플레이트(3222)의 내부까지 연장된다. 가이드 홈(3224)은 그 길이 방향이 Y축 방향(14)을 따라 제공되고, 가이드 홈(3224)들은 X축 방향(12)을 따라 서로 이격되게 위치된다. 가이드 홈(3224)은 냉각 플레이트(3222)와 가열 유닛(3230) 간에 기판(W)의 인수인계가 이루어질 때 냉각 플레이트(3222)와 리프트 핀(3236)이 서로 간섭되는 것을 방지한다.
냉각 플레이트(3222)는 지지 부재(3237)에 의해 지지될 수 있다. 지지 부재(3237)는 막대 형상의 제1지지 부재와 제1지지 부재의 중단에 결합되는 제2지지 부재를 포함할 수 있다. 제1지지 부재의 일단과 타단은 구동기(3226)와 결합된다. 구동기(3226)는 가이드 레일(3229) 상에 장착된다. 가이드 레일(3229)은 상부에서 바라볼 때, 그 길이 방향이 Y축 방향(14)이고 처리 용기(3201)의 양측에 제공될 수 있다. 냉각 플레이트(3222)는 가이드 레일(3229)에 장착되는 구동기(3226)에 의해 Y축 방향(14)을 따라 이동할 수 있다.
가열 유닛(3230)은 하우징(3232), 가열 플레이트(3234), 히터(3235), 리프트 핀(3236), 그리고 구동 부재(3238)를 포함할 수 있다. 하우징(3232)은 바디, 그리고 커버를 포함할 수 있다. 바디는 커버의 하부에 배치될 수 있다. 바디는 상부가 개방된 형상을 가질 수 있다. 바디는 상부가 개방된 원통 형상을 가질 수 있다. 커버는 바디의 상부를 덮을 수 있다. 커버는 하부가 개방된 원통 형상을 가질 수 있다. 이와 달리 커버는 바디의 상부를 덮는 판 형상을 가질 수도 있다. 바디와 커버는 서로 조합되어 처리 공간(3233)을 형성할 수 있다. 또한, 커버는 커버를 상하 방향으로 이동시키는 구동 부재(3238)와 연결될 수 있다. 이에, 커버는 상하 방향으로 이동하여 처리 공간(3233)을 개폐할 수 있다. 예컨대, 기판(W)이 처리 공간(3233)으로 반입 또는 반입되는 경우 커버는 상승하여, 처리 공간(3233)을 개방할 수 있다. 또한, 기판(W)이 처리 공간(3233)에서 처리되는 경우 커버를 하강하여 처리 공간(3233)을 폐쇄할 수 있다.
가열 플레이트(3234)는 처리 공간(3233)에서 기판(W)을 지지할 수 있다. 가열 플레이트(3234)에는 기판(W)이 안착될 수 있다. 가열 플레이트(3234)는 상부에서 바라볼 때 대체로 원형의 형상을 가진다. 가열 플레이트(3234)는 기판(W)보다 큰 직경을 가진다. 가열 플레이트(3234)에는 히터(3235)가 설치된다. 히터(3235)는 전류가 인가되는 발열 저항체로 제공될 수 있다. 이에 가열 플레이트(3234)는 기판(W)을 가열할 수 있다. 가열 플레이트(3234)에는 Z축 방향(16)을 따라 상하 방향으로 구동 가능한 리프트 핀(3236)들이 제공된다. 리프트 핀(3236)은 가열 유닛(3230) 외부의 반송 수단으로부터 기판(W)을 인수받아 가열 플레이트(3234) 상에 내려놓거나 가열 플레이트(3234)로부터 기판(W)을 들어올려 가열 유닛(3230) 외부의 반송 수단으로 인계한다. 일 예에 의하면, 리프트 핀(3236)은 3개가 제공될 수 있다.
다시 도 3 및 도 4를 참조하면, 버퍼 챔버(3800)는 복수 개로 제공된다. 버퍼 챔버들(3800) 중 일부는 인덱스 모듈(20)과 반송 챔버(3400) 사이에 배치된다. 이하, 이들 버퍼 챔버를 전단 버퍼(3802)(front buffer)라 칭한다. 전단 버퍼들(3802)은 복수 개로 제공되며, 상하 방향을 따라 서로 적층되게 위치된다. 버퍼 챔버들(3802, 3804) 중 다른 일부는 반송 챔버(3400)와 인터페이스 모듈(40) 사이에 배치된다 이하. 이들 버퍼 챔버를 후단 버퍼(3804)(rear buffer)라 칭한다. 후단 버퍼들(3804)은 복수 개로 제공되며, 상하 방향을 따라 서로 적층되게 위치된다. 전단 버퍼들(3802) 및 후단 버퍼들(3804) 각각은 복수의 기판들(W)을 일시적으로 보관한다. 전단 버퍼(3802)에 보관된 기판(W)은 인덱스 로봇(2200) 및 반송 유닛(3420)에 의해 반입 또는 반출된다. 후단 버퍼(3804)에 보관된 기판(W)은 반송 유닛(3420) 및 제1로봇(4602)에 의해 반입 또는 반출된다.
도 8은 도 4의 버퍼 챔버를 개략적으로 보여주는 사시도이다. 도 8을 참조하면, 버퍼 챔버(3800)는 하우징(3810), 버퍼 플레이트(3820), 그리고 지지 유닛(4000)을 포함할 수 있다.
하우징(3810)은 내부에 공간을 가진다. 하우징(3810)의 내부 공간은 기판이 일시적으로 보관되는 공간으로 기능한다. 하우징(3810)은 대체로 직육면체 형상을 가진다. 하우징(3810)은 양 측부가 개방된다. 일 예로 하우징(3810)은 개방된 양측부는 서로 대향되게 위치되며, 이 중 하나는 인덱스 모듈(20)을 향하도록 제공된다. 하우징(3810)의 개방된 양측부는 기판(W)이 출입하는 입구로 기능한다.
하우징(3810)의 내부에는 받침대(3812)가 제공된다. 받침대(3810)는 직사각의 판으로 제공될 수 있다. 받침대(3812)는 복수 개가 제공될 수 있다. 각각의 받침대(3812)는 상하 방향으로 서로 이격되게 위치한다. 이에 따라 하우징(3812)의 내부 공간은 상하 방향으로 구획된다. 일 예로 받침대(3812)는 3 개가 제공된다. 선택적으로 받침대(513)는 2 개 이하 또는 4 개 이상으로 제공될 수 있다.
도 9는 도 8의 냉각 유닛, 버퍼 플레이트 및 지지축을 보여주는 사시도이다. 도 9를 참조하면, 버퍼 플레이트(3820) 및 냉각 유닛(4000)은 구획된 하우징(3810)의 내부 공간에 각각 위치된다. 버퍼 플레이트(3820) 및 냉각 유닛(4000)은 상하 방향을 따라 서로 이격되게 위치될 수 있다. 버퍼 플레이트(3820) 및 냉각 유닛(4000)은 위에서 아래를 향하는 방향을 따라 순차적으로 배치된다. 일 예에 의하면, 냉각 유닛(4000)은 복수 개로 제공되며, 버퍼 플레이트(3820) 및 복수의 냉각 유닛(4000)은 순차적으로 배치될 수 있다. 선택적으로 버퍼 플레이트(3820)는 복수 개로 제공될 수 있다. 버퍼 플레이트(3820) 및 냉각 유닛(4000)은 각각 원형의 판 형상을 가질 수 있다.
복수 개의 냉각 유닛(4000)은 받침대(3812)와 버퍼 플레이트(3820) 사이에 배치된다. 복수 개의 냉각 유닛(4000)은 상하 방향을 따라 서로 이격되게 위치된다. 복수 개의 냉각 플레이트(4000)는 서로 인접하도록 적층된다. 냉각 유닛(4000)의 상부에는 기판(W)이 안착될 수 있다.
지지축(3850)은 버퍼 플레이트(3820) 및 냉각 유닛(4000)을 지지한다. 지지축(3850)은 복수 개의 지지 블록들(3850a, 3850b, 3850c, 3850d, 3850e)를 포함할 수 있다. 지지 블록들(3850a, 3850b, 3850c, 3850d, 3850e)은 서로 적층되게 배치된다. 지지 블록들(3850a, 3850b, 3850c, 3850d, 3850e)은 직육면체 형상의 블록으로 제공된다. 지지 블록들(3850a, 3850b, 3850c, 3850d, 3850e)은 각각 하나의 냉각 유닛(4000)을 지지한다.
도 10은 본 발명의 일 실시 예에 따른 냉각 유닛을 보여주는 평면도이고, 도 11은 도 10의 냉각 유닛을 보여주는 단면도이다. 냉각 유닛(4000)은 냉각 유닛(4000)에 지지된 기판(W)의 온도를 조절할 수 있다, 냉각 유닛(4000)은 냉각 유닛(4000)에 지지된 기판(W)의 온도를 낮출 수 있다. 예컨대, 냉각 유닛(4000)은 냉각 유닛(4000)에 지지된 기판(W)에 냉열을 제공할 수 있다. 이와 달리 냉각 유닛(4000)은 냉각 유닛(4000)에 지지된 기판(W)에 온열을 제공할 수 있다. 냉각 유닛(4000)은 온도 조절 플레이트(4100), 유체 공급 부재(4200), 배출 라인(4300), 그리고 감압 부재(4400)를 포함한다.
온도 조절 플레이트(4100)는 상부에서 바라볼 때 대체로 원형의 형상을 가질 수 있다. 지지 플레이트(4100)는 외주부에 노치(Notch)가 형성될 수 있다. 노치는 복수 개가 형성될 수 있다. 또한, 온도 조절 플레이트(4100)는 금속을 포함하는 재질로 제공될 수 있다. 예컨대, 온도 조절 플레이트(4100)는 알루미늄, 또는 구리를 포함하는 재질로 제공될 수 있다. 또한, 온도 조절 플레이트(4100)는 탄소계 복합 소재를 포함하는 재질로 제공될 수 있다. 예컨대, 온도 조절 플레이트(4100)는 흑연과, 구리를 포함하는 탄소계 복합 소재를 포함하는 재질로 제공될 수 있다.
온도 조절 플레이트(4110)는 제1플레이트(4101), 그리고 제2플레이트(4102)를 포함할 수 있다. 제2플레이트(4102)는 제1플레이트(4101)의 하부에 배치될 수 있다. 예컨대, 제1플레이트(4101)의 하면과 제2플레이트(4102)의 상면은 서로 접할 수 있다. 제1플레이트(4101)와 제2플레이트(4102)는 동일한 재질로 제공될 수 있다. 예컨대 제1플레이트(4101)와 제2플레이트(4102)는 금속을 포함하는 재질로 제공될 수 있다. 또한, 제1플레이트(4101)와 제2플레이트(4102)는 탄소계 복합 소재를 포함하는 재질로 제공될 수 있다.
온도 조절 플레이트(4100)는 내부에는 유로(4110, 4120)가 형성될 수 있다. 유로(4110, 4120)는 제1유로(4110), 그리고 제2유로(4120)를 포함할 수 있다.
제1유로(4110)에는 온도 조절 유체가 공급될 수 있다. 제1유로(4110)는 복수로 제공될 수 있다. 예컨대, 제1유로(4110)는 제1-1유로(4111), 제1-2유로(4112), 제1-3유로(4113), 그리고 제1-4유로(4114)를 포함할 수 있다. 제1유로(4110)는 온도 조절 플레이트(4100)의 미들 영역, 그리고 에지 영역에 형성될 수 있다. 예를 들어, 제1-1유로(4111), 제1-2유로(4112), 제1-3유로(4113), 그리고 제1-4유로(4114)는 상부에서 바라볼 때 온도 조절 플레이트(4100)의 미들 영역, 그리고 에지 영역에 형성될 수 있다. 제1-1유로(4111), 제1-2유로(4112), 제1-3유로(4113), 그리고 제1-4유로(4114)의 일부는 구부러진 형상을 가질 수 있다. 복수의 제1유로(4110)의 각각의 일단은 유체 공급 부재(4200)와 연결될 수 있다. 유체 공급 부재(4200)가 공급하는 온도 조절 유체는 복수의 제1유로(4110) 각각으로 공급될 수 있다. 또한, 복수의 제1유로(4110)는 제1플레이트(4101) 내에 형성될 수 있다.
제2유로(4120)는 제1유로(4110)에 공급된 온도 조절 유체를 외부로 배출할 수 있다. 제2유로(4120)는 복수의 제1유로(4110)의 타단들과 연통될 수 있다. 제2유로(4120)는 단일 개로 제공될 수 있다. 제2유로(4120)의 타단은 배출 라인(4300)과 연결될 수 있다. 또한, 온도 조절 플레이트(4100)의 종단면에서 바라볼 때, 복수의 제1유로(4110)는 제2유로(4120)보다 위 영역에 형성될 수 있다. 또한 제2유로(4120)는 제2플레이트(4102) 내에 형성될 수 있다.
온도 조절 플레이트(4100)에는 버퍼 공간(4150)이 형성될 수 있다.
버퍼 공간(4150)은 온도 조절 플레이트(4100) 내에 형성될 수 있다. 버퍼 공간(4150)은 복수의 제1유로(4110)들과 제2유로(4120)를 연통시킬 수 있다. 버퍼 공간(4150)에는 복수의 제1유로(4110)의 타단들이 각각 연결될 수 있다. 또한, 버퍼 공간(4150)에는 제2유로(4120)의 일단이 연결될 수 있다. 버퍼 공간(4150)은 온도 조절 플레이트(4100)를 상부에서 바라볼 때 중앙 영역에 형성될 수 있다. 또한, 버퍼 공간(4150)은 온도 조절 플레이트(4100)의 종단면에서 바라볼 때, 제1유로(4110)와 제2유로(4120)의 사이 영역에 형성될 수 있다. 버퍼 공간(4150)의 직경은 제1유로(4110)의 직경보다 클 수 있다. 버퍼 공간(4150)의 직경은 제2유로(4120)의 직경보다 클 수 있다. 또한, 버퍼 공간(4150)은 온도 조절 플레이트(4100) 중 제1플레이트(4101)에 형성될 수 있다.
온도 조절 플레이트(4100)에는 진공 유로(4160)가 형성될 수 있다. 진공 유로(4160)는 감압 부재(4400)로부터 감압을 제공받을 수 있다. 진공 유로(4160)는 온도 조절 플레이트(4100)에 안착되는 기판(W)의 하면에 감압을 제공할 수 있다. 진공 유로(4160)는 온도 조절 플레이트(4100) 내부에 형성될 수 있다. 진공 유로(4160)는 상부에서 바라볼 때 제1유로(4110)의 사이 영역에 형성될 수 있다. 예컨대, 진공 유로(4160)는 상부에서 바라볼 때 인접하는 제1유로(4110)의 사이 영역에 형성될 수 있다. 또한, 진공 유로(4160)는 분기될 수 있다. 예컨대, 진공 유로(4160)는 복수로 분기될 수 있다. 복수로 분기된 진공 유로(4160)들 각각은 인접하는 제1유로(4110)의 사이 영역에 제공될 수 있다.
진공 유로(4160)는 일단이 감압 부재(4400)와 연결될 수 있다. 또한, 진공 유로(4160)의 타단은 흡착홀(4162)과 연결될 수 있다. 흡착홀(4162)은 온도 조절 플레이트(4100)의 상면에 형성될 수 있다. 진공 유로(4160)는 온도 조절 플레이트(4100)의 내부에 형성되고, 온도 조절 플레이트(4100)의 상면까지 연장될 수 있다. 이에, 진공 유로(4160)는 흡착홀(4162)에 연결될 수 있다.
감압 부재(4400)는 진공 유로(4160)에 감압을 제공할 수 있다. 감압 부재(4400)는 펌프일 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니고 감압 부재(4400)는 진공 유로(4160)에 감압을 제공할 수 있는 공지의 장치로 다양하게 변형될 수 있다.
유체 공급 부재(4200)는 온도 조절 플레이트(4100)의 온도를 조절할 수 있다. 유체 공급 부재(4200)는 유체 공급원(4210), 유체 공급 라인(4212), 그리고 밸브(4220)를 포함할 수 있다. 유체 공급원(4210)은 유체를 저장할 수 있다. 유체 공급원(4210)이 저장하는 유체는 온도 조절 유체일 수 있다. 온도 조절 유체는 냉각 유체일 수 있다. 예컨대, 온도 조절 유체는 냉각수일 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니고 온도 조절 유체는 온도 조절 플레이트(4100)의 온도를 조절하는 다양한 유체로 변경될 수 있다.
유체 공급원(4210)은 유체 공급 라인(4212)과 연결될 수 있다. 유체 공급 라인(4212)은 제1유로(4110)와 연결될 수 있다. 유체 공급 라인(4212)은 유체 공급원(4210)으로부터 온도 조절 유체를 전달 받을 수 있다. 이에, 유체 공급 라인(4212)은 제1유로(4110)로 온도 조절 유체를 공급할 수 있다. 유체 공급 라인(4212)은 복수로 분기될 수 있다. 복수로 분기된 유체 공급 라인(4212)은 각각 제1유로(4110)들 각각에 연결될 수 있다. 또한, 유체 공급 라인(4212)에는 밸브(4220)가 제공될 수 있다. 밸브(4220)는 온/오프 밸브일 수 있다. 이와 달리 밸브(4220)는 유량 조절 밸브일 수 있다. 밸브(4220)는 제1밸브(4221), 제2밸브(4222), 제3밸브(4223), 그리고 제4밸브(4224)를 포함할 수 있다. 제1밸브(4221)가 제공되는 유체 공급 라인(4212)은 제1-1유로(4111)와 연결될 수 있다. 제2밸브(4222)가 제공되는 유체 공급 라인(4212)은 제1-2유로(4112)와 연결될 수 있다. 제3밸브(4223)가 제공되는 유체 공급 라인(4212)은 제1-3유로(4113)와 연결될 수 있다. 제4밸브(4224)가 제공되는 유체 공급 라인(4212)은 제1-4유로(4114)와 연결될 수 있다. 즉, 제1유로(4110)들 각각에 흐르는 온도 조절 유체의 공급 여부는 밸브(4220)의 온/오프에 따라 달라질 수 있다. 또한, 제1유로(4110)들 각각에 흐르는 온도 조절 유체의 단위 시간 당 공급 유량은 밸브(4220)의 개방률에 따라 달라질 수 있다.
일반적인 냉각 플레이트에는 내부에 냉각 유체가 흐르는 유로가 형성된다. 그리고 유로에 흐르는 냉각 유체는 냉각 플레이트의 온도를 조절한다. 냉각 플레이트는 냉각 플레이트에 놓인 기판과의 열 교환을 통해 기판의 온도를 조절한다. 그러나, 냉각 플레이트와 기판이 서로 열 교환을 하는 과정에서 냉각 플레이트의 온도는 균일하게 유지되지 않는다. 일 예로, 냉매 공급원과 인접한 유로에 흐르는 냉각 유체의 온도와 냉매 공급원과의 거리가 먼 유로에 흐르는 냉각 유체의 온도는 서로 상이하다. 냉매 공급원에 인접한 유로에 흐르는 냉각 유체의 온도는 냉매 공급원과의 거리가 먼 유로에 흐르는 냉각 유체의 온도보다 낮을 수 있다. 이에, 냉각 플레이트의 온도는 균일하게 유지되지 못한다. 이에 기판에 대한 냉각 처리가 균일하게 수행되지 않을 수 있다.
그러나, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 온도 조절 플레이트(4100)에는 복수의 제1유로(4110)가 형성된다. 또한, 복수의 제1유로(4110) 각각에 흐르는 온도 조절 유체는 단일의 제2유로(4120)를 통해 외부로 배출된다. 즉, 온도 조절 플레이트(4100)에 형성되는 각각의 제1유로(4110)의 길이가 짧다. 이에, 제1유로(4110)에 흐르는 온도 조절 유체 온도의 영역별 편차는 작아진다. 이에, 온도 조절 플레이트(4100)의 온도가 균일하게 유지될 수 있다. 또한, 복수의 제1유로(4110)에 흐르는 온도 조절 유체가 단일의 제2유로(4120)를 통해 외부로 배출되는 경우, 온도 조절 유체의 유동에 정체가 발생할 수 있다. 그러나, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 제1유로(4110)와 제2유로(4120)는 버퍼 공간(4150)을 통해 연통된다. 버퍼 공간(4150)은 제1유로(4110), 그리고 제2유로(4120)보다 직경이 크다. 이에, 도 12에 도시된 바와 같이 제1유로(4110)에 흐르는 온도 조절 유체가 제2유로(4120)를 통해 배출되는 과정에서 유체 유동의 정체가 발생하는 것을 최소화 할 수 있다.
다시 도 2 내지 도 4를 참조하면, 현상 블럭(30b)은 열처리 챔버(3200), 반송 챔버(3400), 그리고 액처리 챔버(3600)를 가진다. 현상 블럭(30b)의 열처리 챔버(3200), 반송 챔버(3400), 그리고 액처리 챔버(3600)는 도포 블럭(30a)의 열처리 챔버(3200), 반송 챔버(3400), 그리고 액처리 챔버(3600)와 대체로 유사한 구조 및 배치로 제공되므로, 이에 대한 설명은 생략한다. 다만, 현상 블록(30b)에서 액처리 챔버들(3600)은 모두 동일하게 현상액을 공급하여 기판을 현상 처리하는 현상 챔버(3600)로 제공된다.
인터페이스 모듈(40)은 처리 모듈(30)을 외부의 노광 장치(50)와 연결한다. 인터페이스 모듈(40)은 인터페이스 프레임(4100), 부가 공정 챔버(4200), 인터페이스 버퍼(4400), 그리고 반송 부재(4600)를 가진다.
인터페이스 프레임(4100)의 상단에는 내부에 하강기류를 형성하는 팬필터유닛이 제공될 수 있다. 부가 공정 챔버(4200), 인터페이스 버퍼(4400), 그리고 반송 부재(4600)는 인터페이스 프레임(4100)의 내부에 배치된다. 부가 공정 챔버(4200)는 도포 블럭(30a)에서 공정이 완료된 기판(W)이 노광 장치(50)로 반입되기 전에 소정의 부가 공정을 수행할 수 있다. 선택적으로 부가 공정 챔버(4200)는 노광 장치(50)에서 공정이 완료된 기판(W)이 현상 블럭(30b)으로 반입되기 전에 소정의 부가 공정을 수행할 수 있다. 일 예에 의하면, 부가 공정은 기판(W)의 에지 영역을 노광하는 에지 노광 공정, 또는 기판(W)의 상면을 세정하는 상면 세정 공정, 또는 기판(W)의 하면을 세정하는 하면 세정공정일 수 있다. 부가 공정 챔버(4200)는 복수 개가 제공되고, 이들은 서로 적층되도록 제공될 수 있다. 부가 공정 챔버(4200)는 모두 동일한 공정을 수행하도록 제공될 수 있다. 선택적으로 부가 공정 챔버(4200)들 중 일부는 서로 다른 공정을 수행하도록 제공될 수 있다.
인터페이스 버퍼(4400)는 도포 블럭(30a), 부가 공정챔버(4200), 노광 장치(50), 그리고 현상 블럭(30b) 간에 반송되는 기판(W)이 반송도중에 일시적으로 머무르는 공간을 제공한다. 인터페이스 버퍼(4400)는 복수 개가 제공되고, 복수의 인터페이스 버퍼들(4400)은 서로 적층되게 제공될 수 있다.
일 예에 의하면, 반송 챔버(3400)의 길이 방향의 연장선을 기준으로 일 측면에는 부가 공정 챔버(4200)가 배치되고, 다른 측면에는 인터페이스 버퍼(4400)가 배치될 수 있다.
반송 부재(4600)는 도포 블럭(30a), 부가 공정챔버(4200), 노광 장치(50), 그리고 현상 블럭(30b) 간에 기판(W)을 반송한다. 반송 부재(4600)는 1개 또는 복수 개의 로봇으로 제공될 수 있다. 일 예에 의하면, 반송 부재(4600)는 제1로봇(4602) 및 제2로봇(4606)을 가진다. 제1로봇(4602)은 도포 블럭(30a), 부가 공정챔버(4200), 그리고 인터페이스 버퍼(4400) 간에 기판(W)을 반송하고, 인터페이스 로봇(4606)은 인터페이스 버퍼(4400)와 노광 장치(50) 간에 기판(W)을 반송하고, 제2로봇(4604)은 인터페이스 버퍼(4400)와 현상 블럭(30b) 간에 기판(W)을 반송하도록 제공될 수 있다.
제1로봇(4602) 및 제2로봇(4606)은 각각 기판(W)이 놓이는 핸드를 포함하며, 핸드는 전진 및 후진 이동, Z축 방향(16)에 평행한 축을 기준으로 한 회전, 그리고 Z축 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다.
상술한 예에서는 온도 조절 플레이트(4100)가 제1플레이트(4101), 그리고 제2플레이트(4102)를 포함하는 것을 예로 들어 설명하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 온도 조절 플레이트(4100)는 도 13에 도시된 것처럼 제1플레이트(4101)와 제2플레이트(4102)의 구분 없이 일체의 구성으로 제공될 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
냉각 유닛 : 4000
온도 조절 플레이트 : 4100
제1플레이트 : 4101
제2플레이트 : 4102
제1유로 : 4110
제1-1유로 : 4111
제1-2유로 : 4112
제1-3유로 : 4113
제1-4유로 : 4114
제2유로 : 4120
버퍼 공간 : 4150
진공 라인 : 4160
흡착홀 : 4162
유체 공급 부재 : 4200
유체 공급원 : 4210
유체 공급 라인 : 4212
공급 밸브 : 4220
제1밸브 : 4221
제2밸브 : 4222
제3밸브 : 4223
제4밸브 : 4224
배출 라인 : 4300
감압 부재 : 4400

Claims (19)

  1. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    기판이 수납된 용기가 놓이는 로드 포트가 제공되는 인덱스 모듈과;
    상기 인덱스 모듈로부터 반송되는 기판을 처리하는 처리 모듈을 포함하고,
    상기 처리 모듈은,
    기판을 처리하는 공정 챔버와;
    기판을 일시적으로 보관하는 버퍼 챔버를 포함하고,
    상기 버퍼 챔버는,
    내부에 공간을 가지는 하우징과;
    상기 공간에서 기판을 냉각하는 냉각 유닛을 포함하되,
    상기 냉각 유닛은,
    내부에 유로가 형성된 온도 조절 플레이트와;
    상기 유로로 온도 조절 유체를 공급하는 유체 공급 부재를 포함하고,
    상기 유로는,
    일단이 각각 상기 유체 공급 부재와 연결되는 복수의 제1유로와;
    복수의 상기 제1유로의 타단들과 연통되어 상기 온도 조절 유체를 배출하는 제2유로를 포함하고,
    상기 온도 조절 플레이트에는 복수의 상기 제1유로의 타단들과 상기 제2유로의 일단을 연통시키는 버퍼 공간이 형성되는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 버퍼 공간의 직경은 상기 제1유로의 직경보다 큰 기판 처리 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 버퍼 공간의 직경은 상기 제2유로의 직경보다 큰 기판 처리 장치,
  4. 제1항에 있어서,
    복수의 상기 제1유로의 타단들은 각각 상기 버퍼 공간과 연결되고,
    상기 제2유로의 일단은 상기 버퍼 공간과 연결되는 기판 처리 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 버퍼 공간은 상부에서 바라볼 때, 상기 온도 조절 플레이트의 중앙 영역에 형성되는 기판 처리 장치.
  6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 온도 조절 플레이트의 종단면에서 바라볼 때, 복수의 상기 제1유로는 상기 제2유로보다 위 영역에 형성되는 기판 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 버퍼 공간은,
    상기 온도 조절 플레이트의 종단면에서 바라볼 때, 상기 제1유로와 상기 제2유로의 사이 영역에 형성되는 기판 처리 장치.
  8. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 온도 조절 플레이트는,
    제1플레이트와;
    상기 제1플레이트의 하부에 제공되는 제2플레이트를 포함하되,
    상기 제1유로는 상기 제1플레이트에 형성되고,
    상기 제2유로는 상기 제2플레이트에 형성되는 기판 처리 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 버퍼 공간은 상기 제1플레이트에 형성되는 기판 처리 장치.
  10. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 온도 조절 플레이트는,
    알루미늄, 구리, 또는 탄소계 복합 소재를 포함하는 재질로 제공되는 기판 처리 장치.
  11. 기판을 냉각하는 냉각 유닛에 있어서,
    내부에 유로가 형성된 온도 조절 플레이트와;
    상기 유로로 온도 조절 유체를 공급하는 유체 공급 부재를 포함하고,
    상기 유로는,
    일단이 각각 상기 유체 공급 부재와 연결되는 복수의 제1유로와;
    복수의 상기 제1유로의 타단들과 연통되어 상기 온도 조절 유체를 배출하는 제2유로를 포함하고,
    상기 온도 조절 플레이트에는 복수의 상기 제1유로의 타단들과 상기 제2유로의 일단을 연통시키는 버퍼 공간이 형성되는 냉각 유닛.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 버퍼 공간의 직경은 상기 제1유로, 그리고 상기 제2유로의 직경보다 큰 냉각 유닛.
  13. 제11항에 있어서,
    복수의 상기 제1유로의 타단들은 각각 상기 버퍼 공간과 연결되고,
    상기 제2유로의 일단은 상기 버퍼 공간과 연결되는 냉각 유닛.
  14. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 버퍼 공간은 상부에서 바라볼 때, 상기 플레이트의 중앙 영역에 형성되는 냉각 유닛.
  15. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 플레이트의 종단면에서 바라볼 때, 복수의 상기 제1유로는 상기 제2유로보다 위 영역에 형성되는 냉각 유닛.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 버퍼 공간은,
    상기 플레이트의 종단면에서 바라볼 때, 상기 제1유로와 상기 제2유로의 사이 영역에 형성되는 냉각 유닛.
  17. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 플레이트는,
    제1플레이트와;
    상기 제1플레이트의 하부에 제공되는 제2플레이트를 포함하되,
    상기 제1유로는 상기 제1플레이트에 형성되고,
    상기 제2유로는 상기 제2플레이트에 형성되는 냉각 유닛.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 버퍼 공간은 상기 제1플레이트에 형성되는 냉각 유닛.
  19. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 플레이트는,
    상기 플레이트의 상부에 지지된 기판의 온도를 조절하는 온도 조절 플레이트이고,
    상기 유체는 상기 플레이트의 온도를 변화시키는 온도 조절 유체인 냉각 유닛.
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