KR102154931B1 - Emblem electroforming method and emblem manufactured by thr same - Google Patents

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Abstract

Provided are an emblem electroforming method and an emblem manufactured by the same. The emblem electroforming method comprises the steps of: producing a nickel-based precast piece having a processed surface on a processed mold; processing the precast piece; forming a plating layer by sequentially plating a first material and a second material on the processed surface; and plating the processed surface of the plating layer with trivalent chromium. The emblem electroforming method further comprises the steps of: producing a nickel-based precast piece having a processed surface on a processed mold; processing the precast piece; forming a plating layer by sequentially plating a third material, a first material and a second material on the processed surface; and plating the processed surface of the plating layer with trivalent chromium. Accordingly, it is possible to provide the emblem having a smooth surface and enhanced gloss.

Description

엠블럼 전기 주조 방법 및 이를 통해 제작된 엠블럼 {EMBLEM ELECTROFORMING METHOD AND EMBLEM MANUFACTURED BY THR SAME}Emblem electroforming method and emblem produced through it {EMBLEM ELECTROFORMING METHOD AND EMBLEM MANUFACTURED BY THR SAME}

본 발명은 엠블럼, 휴대용 단말기 등의 외장 케이스를 주조 방법 및 이를 통해 제작된 엠블럼에 관한 것으로서, 특히 전기 주조 방법을 이용한 자동차 외장 부품의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for casting an exterior case of an emblem, a portable terminal, and the like, and to an emblem manufactured through the same, and in particular, to a method of manufacturing an automotive exterior part using an electroforming method.

근래에 세계 각국에서 다양한 종류의 차종이 출시되면서 각 브랜드별 디자인들은 중요한 요소가 되고 있으며, 그중 차량의 외장은 소비자의 소비욕구의 충동하는 매력적인 요소로 자리매김하고 있다.In recent years, as various types of vehicles have been released in various countries around the world, the design of each brand has become an important factor, and the exterior of the vehicle has become an attractive factor that stimulates consumers' consumption needs.

이러한 소비자의 욕구를 만족하기 위해 자동차의 기능성 개선뿐만 아니라 디자인적인 기능미의 개선도 매우 중요하게 연구되고 있다. 특히 최근에는 자동차의 기능성 및 기능미 개선을 위하여 각 부품에 대한 연구가 격화되고 있으며 그 중에 엠블럼은 회사의 상징 및 차량의 가치를 나타내는 중요한 요소로 평가되고 있다.In order to satisfy the needs of these consumers, not only the functional improvement of the automobile but also the improvement of the functional beauty of the design is very important research. In particular, in recent years, research on each component is intensifying to improve the functionality and functional beauty of automobiles, and the emblem is evaluated as an important element representing the company's symbol and the value of the vehicle.

엠블렘은 회사나 단체의 이미지를 도형, 문자, 기호 또는 이들을 조합시켜 형상화한 문장으로, 상품을 제조하는 제조회사의 엠블렘은 보통 그 회사에서 제작된 상품의 표면에 부착되어, 제조회사나 상품을 광고하는 용도로 이용된다. 이와 같은 엠블렘은 이미지 전달이 확연히 이루어질 수 있도록 눈에 잘 띄는 소재를 이용하여 제작된다. 예를 들어, 자동차 등에 부착되는 엠블렘의 경우에는 제조회사의 이미지 형상에 맞게 형성된 플라스틱 또는 금속 표면에 크롬이나 니켈 도금을 하여 제작한다. 상기 도금은 일반적으로 화학도금을 이용하는데 화학도금에서는 표면의 엣지부분 등의 정밀하게 표현하기 어렵다는 문제점이 있다.An emblem is a sentence in which the image of a company or organization is represented by figures, letters, symbols, or combinations thereof.The emblem of a manufacturer that manufactures a product is usually attached to the surface of the product produced by that company to advertise the manufacturer or product. It is used for a purpose. Such an emblem is produced using conspicuous materials so that the image can be conveyed clearly. For example, in the case of an emblem attached to an automobile, etc., it is manufactured by plating chrome or nickel on a plastic or metal surface formed in accordance with the image shape of the manufacturer. Chemical plating is generally used for the plating, but there is a problem in that it is difficult to accurately express the edges of the surface in the chemical plating.

또한 화학도금은 엠블럼 등으로 표현할 수 있는 심미적 한계가 있고 처리하는 화학물을 처리하는 온도자체가 상온에서 진행되기 때문에 제품에 손상이 있으며 화학처리에 따른 사전 처리 및 폐수처리에 문제점이 있어왔다. 또한 화학도금의 경우에는 형상 구현에 한계가 있어서 정밀한 엣지감 구현이 어렵다는 문제점이 제기되고 있다.In addition, chemical plating has an aesthetic limit that can be expressed by an emblem, etc., and because the temperature itself to treat the chemicals to be treated proceeds at room temperature, there has been a problem with the pretreatment and wastewater treatment according to the chemical treatment. In addition, in the case of chemical plating, there is a problem in that it is difficult to implement a precise edge feeling because there is a limitation in implementing the shape.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 전기도금법을 이용하여 광택이 뛰어나고 내식성 또한 우수한 엠블럼 및 이를 제조하는 방법을 제공하는 것이 과제이다.The present invention is to solve the above problems, it is a problem to provide an emblem having excellent gloss and excellent corrosion resistance and a method of manufacturing the same by using an electroplating method.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않는 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기한 과제를 해결하기 위한 엠블럼 전기 주조 방법 및 이를 통해 제작된 엠블럼은, 가공된 금형에 가공면을 가지는 니켈 재질의 전주편을 생산하는 단계, 상기 전주편을 가공하는 단계, 상기 가공면에 제1재료 및 제2재료를 순차적으로 도금하여 도금층을 형성하는 단계 및 상기 도금층의 가공면에 3가 크롬을 도금하는 단계를 포함할 수 있다.The emblem electroforming method for solving the above-described problem and the emblem produced through the same are the steps of producing a nickel-material precast piece having a machined surface in a machined mold, processing the precast piece, and manufacturing the machined surface. It may include forming a plating layer by sequentially plating the first material and the second material, and plating trivalent chromium on the processed surface of the plating layer.

그리고 가공된 금형에 가공면을 가지는 니켈 재질의 전주편을 생산하는 단계, 상기 전주편을 가공하는 단계, 상기 가공면에 제3재료, 제1재료 및 제2재료를 순차적으로 도금하여 도금층을 형성하는 단계 및 상기 도금층의 가공면에 3가 크롬을 도금하는 단계를 포함할 수 있다.And the step of producing an electric cast piece made of nickel material having a processed surface on the processed mold, processing the electric cast piece, and forming a plating layer by sequentially plating a third material, a first material, and a second material on the processed surface. And plating trivalent chromium on the processed surface of the plating layer.

또한 상기 도금층을 형성하는 단계는, 황산니켈 240~320g/l와 염화니켈 40~60g/l와 붕산 35~45g/l을 주재료로 하는 전기 주조액 내에서 상기 전주편의 상기 가공면에 상기 제1재료 및 상기 제2재료를 도금할 수 있다.In addition, the step of forming the plating layer may include the first in an electroforming solution containing 240 to 320 g/l of nickel sulfate, 40 to 60 g/l of nickel chloride, and 35 to 45 g/l of boric acid as main materials. The material and the second material can be plated.

그리고 상기 도금층을 형성하는 단계는, 제1광택제 0.5~1.2ml/l, 제2광택제 10~15ml/l, 제3광택제 1~3ml 및 습윤제 1~2ml를 보조재료로 사용하는 제1재료 도금층 형성할 수 있다.And the step of forming the plating layer, forming a first material plating layer using 0.5 to 1.2 ml/l of the first brightener, 10 to 15 ml/l of the second brightening agent, 1 to 3 ml of the third brightening agent, and 1 to 2 ml of a wetting agent as auxiliary materials. can do.

또한 상기 제1재료 도금층 형성 단계는 섭씨 50~65℃에서 15~25분동안 전류 1~6 A/dm2의 조건으로 7.5~7.8㎛의 도금층을 형성할 수 있다.In addition, in the step of forming the plating layer of the first material, a plating layer having a thickness of 7.5 to 7.8 μm may be formed under the condition of a current of 1 to 6 A/dm 2 for 15 to 25 minutes at 50 to 65°C.

그리고 상기 도금층을 형성하는 단계는 제4광택제 2~6ml/l, 제5광택제 5~15ml/l, 제1MP파우더 0.5~1g/l, 제2MP파우더 0.02~0.2g/l, 제3MP파우더 소량을 보조재료로 사용하는 제2재료 도금층 형성 단계를 포함할 수 있다.And the step of forming the plating layer is a fourth gloss agent 2 ~ 6ml / l, the fifth gloss agent 5 ~ 15ml / l, the first MP powder 0.5 ~ 1g / l, the second MP powder 0.02 ~ 0.2g / l, a small amount of the 3MP powder It may include the step of forming a second material plating layer used as an auxiliary material.

또한 상기 제2재료 도금층 형성 단계는 섭씨 50~60℃에서 2~10분동안 전류 3~5 A/dm2의 조건으로 1.12~1.16㎛의 도금층을 형성할 수 있다.In addition, in the step of forming the second material plating layer, a plating layer having a thickness of 1.12 to 1.16 μm may be formed under a condition of 3 to 5 A/dm 2 of current for 2 to 10 minutes at 50 to 60°C.

그리고 상기 도금층을 형성하는 단계는 황산니켈 280~300g/l와 염화니켈 30~35g/l와 붕산 35~40g/l을 주재료로 하는 전기 주조액 내에서 상기 전주편의 상기 가공면에 상기 제3재료를 도금하는 제3재료 도금층 형성 단계를 포함할 수 있다.And the step of forming the plating layer is the third material on the processed surface of the cast iron in an electroforming solution containing nickel sulfate 280 to 300 g/l, nickel chloride 30 to 35 g/l and boric acid 35 to 40 g/l as main materials. It may include the step of forming a plating layer of the third material plating.

또한 상기 제3재료 도금층 형성 단계는, 제6광택제 0~1ml/l, 제7광택제 1~2ml/l 및 습윤제 1~3ml/l를 보조재료로 사용할 수 있다.In addition, in the step of forming the third material plating layer, 0 to 1 ml/l of the sixth brightener, 1 to 2 ml/l of the seventh brightener, and 1 to 3 ml/l of the wetting agent may be used as auxiliary materials.

그리고 상기 제3재료 도금층 형성 단계는 섭씨 50~60℃에서 13~23분동안 전류 0.5~5 A/dm2의 조건으로 13.1~13.7㎛의 도금층을 형성할 수 있다.In addition, in the step of forming the third material plating layer, a plating layer having a thickness of 13.1 to 13.7 μm may be formed under a condition of 0.5 to 5 A/dm 2 for 13 to 23 minutes at 50 to 60°C.

또한 3가 크롬을 도금하는 단계는 전류 9.2 A/dm2에서 2분의 조건으로 0.44~0.5㎛의 도금층을 형성할 수 있다.In addition, in the step of plating trivalent chromium, a plating layer having a thickness of 0.44 to 0.5 μm may be formed under a condition of 2 minutes at a current of 9.2 A/dm2.

그리고 상기 전주편에서 도금층을 분리하는 이형처리 단계 및 도금층을 프레스 가공하는 프레싱 단계를 포함할 수 있다.And it may include a release treatment step of separating the plating layer from the preform and a pressing step of pressing the plating layer.

본 발명의 엠블럼 전기 주조 방법 및 이를 통해 제작된 엠블럼에 관한 것으로, 보다 상세하게는 전기주조를 통해 정밀한 가공으로 매끄러운 표면감을 가지고 고급화된 광택을 가지는 엠블럼을 제공하기 위함이다.The present invention relates to an emblem electroforming method and an emblem produced through it, and more particularly, to provide an emblem having a smooth surface feel and a high-grade gloss through precise processing through electroforming.

본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.

아래에서 설명하는 본 출원의 바람직한 실시예의 상세한 설명뿐만 아니라 위에서 설명한 요약은 첨부된 도면과 관련해서 읽을 때에 더 잘 이해될 수 있을 것이다. 본 발명을 예시하기 위한 목적으로 도면에는 바람직한 실시예들이 도시되어 있다. 그러나, 본 출원은 도시된 정확한 배치와 수단에 한정되는 것이 아님을 이해해야 한다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 엠블럼 전기주조법을 설명하기 위한 모식도;
도 2는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 엠블럼 전기주조 방법을 설명하기 위한 흐름도;
도 3 내지 도 7은 도 2에 도시된 엠블럼 전기 주조 방법에서 각 단계를 수행함에 따라 제조되는 전주편(120)과 이에 도금층이 형성된 모습을 나타낸 도면;
도 8은 본 발명의 바람직한 제2실시예에 따라 반광니켈 도금층이 추가적으로 형성된 모습을 나타낸 도면;
도 9은 도 3의 개념도에서 금형에 대한 실제 모습을 나타낸 도면;
도 10은 금형에 니켈을 도금하여 형성된 전주편을 금형에서 떼어낸 모습을 나타낸 도면;
도 11은 전주편에 복수의 도금층을 형성하기 위해 전기 주조를 하는 실제 장비를 나타낸 도면;
도 12는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 엠블럼 전기주조 방법 및 이를 통해 제작된 엠블럼의 최종 전주편을 나타낸 도면;
도 13은 종래 기술로서 전주편에 크롬이 도금된 엠블럼의 부식 시험을 통해 도금층의 부식 크기를 나타낸 도면;
도 14는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 엠블럼 전기주조 방법으로 제조된 엠블럼의 부식 시험에서 도금층의 부식 크기를 나타낸 도면이다.
The detailed description of the preferred embodiments of the present application described below, as well as the summary set forth above, may be better understood when read in connection with the accompanying drawings. For the purpose of illustrating the present invention, preferred embodiments are shown in the drawings. However, it should be understood that this application is not limited to the precise arrangements and means shown.
1 is a schematic diagram for explaining an emblem electroforming method according to a preferred embodiment of the present invention;
Figure 2 is a flow chart for explaining the emblem electroforming method according to an embodiment of the present invention;
3 to 7 are views showing an electric cast piece 120 manufactured by performing each step in the emblem electroforming method shown in FIG. 2 and a state in which a plating layer is formed thereon;
8 is a view showing a state in which a semi-gloss nickel plating layer is additionally formed according to a second embodiment of the present invention;
9 is a view showing an actual state of the mold in the conceptual diagram of FIG. 3;
Fig. 10 is a view showing a state in which an electric cast piece formed by plating nickel on a mold is removed from the mold;
11 is a view showing an actual equipment for electroforming to form a plurality of plating layers on the cast iron;
12 is a view showing an emblem electroforming method according to a preferred embodiment of the present invention and a final precast piece of the emblem produced through the method;
13 is a view showing the corrosion size of the plated layer through a corrosion test of an emblem plated with chromium on an electric cast as a prior art;
14 is a view showing the corrosion size of the plating layer in the corrosion test of the emblem produced by the emblem electroforming method according to a preferred embodiment of the present invention.

이하 본 발명의 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention in which the object of the present invention can be realized in detail will be described with reference to the accompanying drawings. In the description of the present embodiment, the same name and the same reference numerals are used for the same configuration, and additional descriptions thereof will be omitted.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 엠블럼 전기주조법으로 도금되는 모습을 나타낸 모식도이고, 도 2는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 엠블럼 전기주조 방법을 설명하기 위한 흐름도이고, 도 3 내지 도 7은 도 2에 도시된 엠블럼 전기 주조 방법에서 각 단계를 수행함에 따라 제조되는 전주편(120)과 이에 도금층이 형성된 모습을 나타낸 도면이고, 도 8은 본 발명의 바람직한 제2실시예에 따라 반광니켈 도금층이 추가적으로 형성된 모습을 나타낸 도면이고 도 9은 도 3의 개념도에서 금형에 대한 실제 모습을 나타낸 도면이며, 도 10은 금형에 니켈을 도금하여 형성된 전주편을 금형에서 떼어낸 모습을 나타낸 도면이고, 도 11은 전주편에 복수의 도금층을 형성하기 위해 전기 주조를 하는 실제 장비를 나타낸 도면이며, 도 12는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 엠블럼 전기주조 방법 및 이를 통해 제작된 엠블럼의 최종 전주편을 나타낸 도면이다.1 is a schematic diagram showing a state that the emblem is plated by the electroforming method according to a preferred embodiment of the present invention, Figure 2 is a flow chart for explaining the emblem electroforming method according to a preferred embodiment of the present invention, Figures 3 to 7 FIG. 2 is a view showing a precast plate 120 manufactured by performing each step in the emblem electroforming method shown in FIG. 2 and a plating layer formed thereon, and FIG. 8 is a semi-gloss nickel according to a second preferred embodiment of the present invention. FIG. 9 is a view showing an actual state of the mold in the conceptual diagram of FIG. 3, and FIG. 10 is a view showing a state in which an electric cast formed by plating nickel on the mold is removed from the mold, FIG. 11 is a view showing an actual equipment for electroforming to form a plurality of plating layers on an electric cast piece, and FIG. 12 is a diagram showing an emblem electroforming method according to a preferred embodiment of the present invention and a final electroforming piece of the emblem produced therethrough. It is a figure shown.

이하, 본 발명의 엠블럼 전기 주조 방법 및 이를 이용한 엠블럼의 일 실시예에 대해서 설명하기로 한다.Hereinafter, an embodiment of an emblem electroforming method and an emblem using the same according to the present invention will be described.

도 2 내지 도 12에 도시된 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 엠블럼 전기 주조 방법은 CNC 가공되어 양각(54)에 각인이 형성된 몰드를 먼저 생산한다(S01).2 to 12, the emblem electroforming method according to a preferred embodiment of the present invention first produces a mold in which a stamp is formed on the relief 54 by CNC processing (S01).

그리고 제작된 금형(110)을 통해서 전주층을 형성하고 이를 박리하여 전주편(120)을 생산하게 된다.In addition, an electric pole layer is formed through the manufactured mold 110 and peeled off to produce the electric cast piece 120.

구체적으로 금형(110)을 제작하여 양각(54)의 가공면(50)의 오차 등을 설계 값과 비교하여 이를 재가공하는 작업을 통해 모서리나 치수부분 등을 전체적으로 수정하며 금형(110)의 최종적인 형태를 잡게 된다.Specifically, by manufacturing the mold 110, the error of the processed surface 50 of the embossing 54 is compared with the design value, and the edge or dimension is entirely corrected by reprocessing it. It takes shape.

본 발명에 설명함에 앞서, 전주품을 전기주조방법으로 도금하는 것은 금형(110)의 표면에 원하는 두께를 얻을 수 있고, 금형 및 전주편을 반복적으로 가공할 수 있어서 최종 전주품의 엣지의 뚜렷함과 고급스러운 표면감을 가진다는 효과가 있다.Prior to the description of the present invention, plating the electroforming product by the electroforming method enables obtaining the desired thickness on the surface of the mold 110, and can repeatedly process the mold and the electroforming product, so that the edge of the final electroplated product is clear and It has the effect of having a luxurious surface.

위에 대한 내용의 엠블럼이 도 9 및 도 10에 도시되어 있다.The emblems for the above are shown in FIGS. 9 and 10.

도시된 바와 같이 최초 금형(110)을 제작하고, 금형(110)에 전주층을 형상한다음, 이를 박리하여 전주편(120)이 생성되는 모습을 나타낸 도면이다.As shown, the first mold 110 is manufactured, an electric pole layer is formed on the mold 110, and then the electric pole piece 120 is formed by peeling it.

박리된 전주편(120)에 대해 가공을 반복하여 구체적인 형상을 제조할 수 있다.It is possible to manufacture a specific shape by repeating the processing for the peeled precast piece 120.

구체적으로 1차 수정된 금형(110)을 통해 1차 전주편(120)을 형성한다(S02).Specifically, to form the first cast iron 120 through the first modified mold 110 (S02).

생산된 전주편(120)은 편마스터로 사용되며 이를 위해 구체적인 형상을 갖추도록 가공을 한다(S03). 1차 전주편(120)은 음각(52)의 가공면(50)으로 형성되고 이때 제품의 외각을 미각하여 양각(54)의 2차 전주편(120)을 생산한다. 그리고 2차 전주편(120)의 표면을 미각하여 음각(52)의 3차 전주편(120)을 생산한다(S03).The produced precast piece 120 is used as a piece master and is processed to have a specific shape for this (S03). The primary precast piece 120 is formed as the processed surface 50 of the intaglio 52, and at this time, the secondary precast piece 120 of the relief 54 is produced by tasting the outer shell of the product. And, by tasting the surface of the secondary jeonjupyeon 120 to produce the third jeonjupyeon 120 of the intaglio 52 (S03).

이렇게 최종의 편마스터의 전주편(120)을 생산하고, 다음으로 도금층을 형성하게 된다. 한가지 이상의 도금재료가 사용되어지면 편마스터 전주편(120)(이하에서는 전주편이라고 지칭한다)의 음각(52) 가공면(50)에 제1재료(134) 및 제2재료(136)를 순차적으로 도금하여 각각의 도금층을 형성한다. 다시 말해 제1재료(134)를 전주편(120)에 도금하여 제1도금층(134)을 형성시키고(S04), 제1도금층(134) 위에 제2재료(136)를 도금하여 제2도금층(136)을 형성한다(S05).In this way, the pre-cast piece 120 of the final piece master is produced, and then a plating layer is formed. If more than one plating material is used, the first material 134 and the second material 136 are sequentially placed on the intaglio 52 and the processed surface 50 of the single master precast piece 120 (hereinafter referred to as the precast piece). To form each plating layer. In other words, the first plating layer 134 is formed by plating the first material 134 on the cast iron 120 (S04), and the second plating layer 136 is plated on the first plating layer 134 to form a second plating layer ( 136) is formed (S05).

그리고 도금층의 가공면(50), 즉 제2도금층(136) 위에 3가 크롬(138)을 도금한다(S06).Then, trivalent chromium 138 is plated on the processed surface 50 of the plating layer, that is, the second plating layer 136 (S06).

도 11에서는 도금층을 형성하기 위한 전기주조 도금되는 모습을 나타내는 그림이다.11 is a diagram showing a state of electroforming plating to form a plating layer.

도금이 완료되면 표면에 잔류하는 전기 주조액 또는 도금액을 세척하고 각인 형상 이외의 연장된 부분을 프레스 가공하여 후처리를 하면 최종 엠블럼이 완성된다(S07).When the plating is completed, the electroforming liquid or plating liquid remaining on the surface is washed, and the extended portion other than the engraved shape is subjected to post-treatment to complete the final emblem (S07).

도 12에 최종 엠블럼을 나타냈다.Fig. 12 shows the final emblem.

본 발명에서 전주품을 엠블럼으로 한정하였지만 휴대폰, 가전의 내/외장 데코물 및 로고배지 등에도 동일한 방법이 사용될 수 있다.In the present invention, the electric pole is limited to the emblem, but the same method can be used for interior/exterior decoration and logo badges of mobile phones and home appliances.

여기서 니켈을 주조함에 있어서 전기 주조액에 상기 금형(110)을 침잠시키고 전기 주조를 실시하게 되는데, 음극판으로는 스테인리스 스틸(stainless steel)을, 양극판으로는 니켈을 각각 이용함으로써 전기 주조가 진행되어 상기 전주층의 두께가 점차 증가하더라도 전기 주조액의 조성에서 니켈의 성분이 감소하는 것을 방지할 수 있다.Herein, in casting nickel, the mold 110 is immersed in an electroforming solution and electroforming is performed, and by using stainless steel as a negative plate and nickel as a positive plate, electroforming is performed. Even if the thickness of the electric pole layer gradually increases, it is possible to prevent the nickel component from decreasing in the composition of the electroforming liquid.

즉, 음극판과 양극판을 스테인리스 스틸과 니켈을 이용함으로써 상기 전주층 형성 단계가 계속 진행되더라도 상기 전기 주조액의 성분을 일정하게 유지할 수 있으며, 이로써 상기 전주층의 결정 구조 등의 특성을 균일하게 유지할 수 있는 것이다. 또한, 상기 전주층 형성 단계가 진행되는 동안 상기 전기 주조액 내에서는 지속적으로 교반을 실시함으로써 상기 전기 주조액 내의 성분 분포를 균일하게 유지하면서 상기 전주층 형성을 보다 활성화시킬 수 있다.That is, by using stainless steel and nickel for the negative electrode plate and the positive electrode plate, the composition of the electroforming liquid can be kept constant even if the electroforming layer continues to proceed, thereby uniformly maintaining the properties such as the crystal structure of the electric electrode layer. There is. In addition, by continuously stirring in the electroforming solution while the electroforming layer is in progress, the electroforming layer can be more activated while maintaining a uniform distribution of components in the electroforming solution.

여기서 전주층은 전주편(120)의 도금층을 말한다.Here, the electric pole layer refers to the plating layer of the electric pole piece 120.

한편 전주편(120) 형성한 다음에는 도금층을 형성하게 되는데 본 실시예에서 제1도금층(134)은 황산니켈 240~320g/l와 염화니켈 40~60g/l와 붕산 35~45g/l을 주재료로 하는 전기 주조액 내에서 전주편(120)의 음각(52) 가공면(50)에 상기 제1재료(134) 및 상기 제2재료(136)를 각각 도금하게 된다.On the other hand, after forming the preform 120, a plating layer is formed. In this embodiment, the first plating layer 134 is made of nickel sulfate 240 to 320 g/l, nickel chloride 40 to 60 g/l and boric acid 35 to 45 g/l. The first material 134 and the second material 136 are respectively plated on the intaglio 52 and the processed surface 50 of the cast iron 120 in the electroforming liquid.

여기서 제1재료(134)는 광택 니켈(Brightenss Nickel) 일 수 있고, 제2재료(136)는 MP 니켈(Micro Porous Nickel) 일 수 있다.Here, the first material 134 may be Brightenss Nickel, and the second material 136 may be Micro Porous Nickel.

건욕 준비는 욕탕(10)에 약 60%의 물을 넣고 약 50℃로 가운하여 상기 황산니켈, 붕산, 염산니켈을 첨가하고 교반하여 용해를 시킨다. 교반 중에 pH(산성도)가 낮은 경우에는 탄산니켈을 첨가하며, 활성탄을 추가적으로 3~5시간 동안 교반하여 준비하게 된다.To prepare a dry bath, about 60% of water is added to the bath 10 and dissolved at about 50° C. by adding nickel sulfate, boric acid, and nickel hydrochloride, followed by stirring. When the pH (acidity) is low during stirring, nickel carbonate is added, and activated carbon is further stirred for 3 to 5 hours to prepare.

위와 같은 주재료 외에 제1재료(134)는 제1광택제 0.5~1.2ml/l, 제2광택제 10~15ml/l, 제3광택제 1~3ml 및 습윤제 1~2ml를 보조재료로 추가하여 도금을 수행하게 된다.In addition to the above main materials, the first material 134 is plated by adding 0.5 to 1.2 ml/l of the first gloss agent, 10 to 15 ml/l of the second gloss agent, 1 to 3 ml of the third gloss agent, and 1 to 2 ml of wetting agent as auxiliary materials. Is done.

이때 전기 도금의 조건은 섭씨 50~65℃에서 15~25분동안 전류 1~6 A/dm2의 조건으로 7.5~7.8㎛의 제1도금층(134)을 형성한다.At this time, the electroplating condition is to form the first plating layer 134 of 7.5 to 7.8 μm under the condition of current 1 to 6 A/dm 2 for 15 to 25 minutes at 50 to 65°C.

전주편(120)에 제1재료(134)를 도금하는 것은 도금피막 전위의 보정이 용이하고 도금층의 외관, 레벨링을 통해 내식성을 우수하게 한다.Plating the first material 134 on the electric cast piece 120 facilitates correction of the plating film potential, and improves corrosion resistance through the appearance and leveling of the plating layer.

한편 제2재료(136)는 제4광택제 2~6ml/l, 제5광택제 5~15ml/l, 제1MP파우더 0.5~1g/l, 제2MP파우더 0.02~0.2g/l, 제3MP파우더 소량을 보조재료로 사용하여 제2도금층(136)을 형성한다.Meanwhile, the second material 136 contains 2 to 6 ml/l of the fourth gloss agent, 5 to 15 ml/l of the fifth gloss agent, 0.5 to 1 g/l of the first MP powder, 0.02 to 0.2 g/l of the second MP powder, and a small amount of the third MP powder. The second plating layer 136 is formed using it as an auxiliary material.

제2재료(136)를 도금하게 되면 피막 자신의 내식성이 향상되어 부식의 진행이 한층 더 완화되고, 욕의 pH 변동이나, 크롬(138)도금 피막두께의 증가에 따른 미공수의 변화가 완화되어 미공수의 관리도 용이하게 되는 효과를 가진다.When the second material 136 is plated, the corrosion resistance of the film itself is improved, thereby further easing the progress of corrosion, and the change in the pH of the bath or the change in the microscopic water due to the increase in the thickness of the chromium 138 plating film is alleviated. It has the effect of facilitating the management of unmanned water.

그리고 균일한 미공수를 얻을 수 있고 표면의 광택성이 뛰어나며, 고형 미립자의 첨가량이 적으므로 여과성이 뛰어나게 된다. 이로 인하여 도금액의 정화에 필요한 번거로움이 대폭 경감되는 장점이 있다.In addition, a uniform micropore can be obtained, the surface has excellent gloss, and the amount of solid fine particles added is small, so that the filterability is excellent. Accordingly, there is an advantage in that the hassle required for purification of the plating solution is greatly reduced.

본 발명의 바람직한 제1실시예에 따라 제2도금층(136)이 형성된 후에는 3가 크롬(138)을 도금한다.After the second plating layer 136 is formed according to the first preferred embodiment of the present invention, trivalent chromium 138 is plated.

3가 크롬(138)은 제2재료(136) 일면에 도금이 되는 것으로 섭씨 50~60℃에서 13~23분동안 전류 0.5~5 A/dm2의 조건으로 13.1~13.7㎛의 도금층을 얻게 되면 도금 조건으로는 전류 9.2 A/dm2에서 2분의 조건으로 0.44~0.5㎛가 된다.Trivalent chromium 138 is plated on one side of the second material 136, and is plated when a plating layer of 13.1 to 13.7 μm is obtained under the condition of 0.5 to 5 A/dm2 for 13 to 23 minutes at 50 to 60°C. Conditions are 0.44~0.5㎛ under the condition of 2 minutes at current 9.2 A/dm2.

위와 같이 제2재료(136) 위에 3가 크롬(138)을 도금하게 되면 3가 크롬도금층(138)에 무수한 포어가 생성되어 피막상에서 부식전류가 분산되므로 도금의 부식속도를 저감 시키고, 제품의 표면을 매끄럽게 한다는 장점이 있다.If trivalent chromium 138 is plated on the second material 136 as above, countless pores are created in the trivalent chromium plating layer 138 and the corrosion current is dispersed on the film, reducing the corrosion rate of plating and reducing the surface of the product. It has the advantage of smoothing.

이와 관련된 실험결과는 후술하도록 하겠다.The experimental results related to this will be described later.

제2실시예에서는 제1재료(134) 및 제2재료(136) 이외에 제3재료(132)가 추가될 수도 있다.In the second embodiment, a third material 132 may be added in addition to the first material 134 and the second material 136.

제3재료(132)는 전주편(120)의 음각(52) 가공면(50)과 제1재료(134) 사이에 도금되는 것으로 제2실시예에서는 제3재료(132)가 먼저 도금되어 제3도금층(132)을 형성한다.The third material 132 is plated between the intaglio 52 processed surface 50 and the first material 134 of the preform 120. In the second embodiment, the third material 132 is first plated to A third plating layer 132 is formed.

제3재료(132)의 건욕 준비는 욕탕(10)에 황산니켈 280~300g/l와 염화니켈 30~35g/l와 붕산 35~40g/l을 주재료로 하며, 제6광택제 0~1ml/l, 제7광택제 1~2ml/l 및 습윤제 1~3ml/l를 보조재료로 사용하여 건욕을 준비한다.The dry bath preparation of the third material 132 is made of 280 to 300 g/l of nickel sulfate, 30 to 35 g/l of nickel chloride, and 35 to 40 g/l of boric acid in the bath 10, and 0 to 1 ml/l of the sixth varnish. , Prepare a dry bath using 1~2ml/l of the 7th brightener and 1~3ml/l of a wetting agent as auxiliary materials.

제3재료(132) 도금 조건은 섭씨 50~60℃에서 13~23분동안 전류 0.5~5 A/dm2의 조건으로 13.1~13.7㎛의 도금층을 얻을 수 있으며, 이후 제1재료(134), 제2재료(136) 및 3가 크롬(138)이 순서대로 도금된다.The plating conditions for the third material 132 are 13.1 to 13.7 μm under the condition of a current of 0.5 to 5 A/dm2 for 13 to 23 minutes at 50 to 60°C. After that, the first material 134 and the first Bimaterial 136 and trivalent chromium 138 are plated in order.

제3재료(132) 도금층이 형성되면 물성이 뛰어나고 경도가 낮은 도금층을 얻을 수 있게 되는 효과가 있다.When the plating layer of the third material 132 is formed, it is possible to obtain a plating layer having excellent physical properties and low hardness.

여기서 제3재료(132)는 반광 니켈(Semi-Bright Nickel)일 수 있다.Here, the third material 132 may be semi-bright nickel.

전주편(120)은 도금하는 공정에서 도금이전에 전주편(120)을 세척하게 되는데 먼저 전주편(120)을 섭씨 50~55℃에서 5~10분정도 산세 및 수세하고 4~7V의 전압으로 50~55℃의 조건으로 전해탈지를 수행한다.In the plating process, the electric cast piece 120 is cleaned before plating. First, the electric cast piece 120 is pickled and washed for 5 to 10 minutes at 50 to 55°C and then with a voltage of 4 to 7V. Electrolytic degreasing is performed under the conditions of 50~55℃.

그리고 제1재료(134), 제2재료(136) 및 제3재료(132)를 도금하는 중간에 15~30초동안 산세를 하여 전주편(120) 표면의 산화 피막을 제거하는 작업을 한다.In the middle of plating the first material 134, the second material 136, and the third material 132, pickling is performed for 15 to 30 seconds to remove the oxide film on the surface of the electric cast piece 120.

이와 같은 전기 주조 방법을 제작된 엠블럼은 광택 니켈, 반광 니켈 및 MP 니켈이 적층되는 형태로 구비되고, 이들이 적층되는 순서는 전주편(120)에 광택 니켈이 도금층을 형성하고, 광택 니켈의 도금층에 MP 니켈이 도금되어 도금층을 형성하며, 그 위에 3가 크롬이 도금되어 다수가 적층되어 도금층은 20~50㎛이고, 최종적으로 200~250㎛의 엠블럼을 완성시킬 수 있다.Emblems manufactured with such an electroforming method are provided in a form in which bright nickel, semi-bright nickel and MP nickel are stacked, and the order in which they are stacked is to form a plated layer of bright nickel on the electroform 120, and on the plated layer of bright nickel. MP nickel is plated to form a plating layer, and trivalent chromium is plated thereon, and a number of them are stacked, so that the plating layer is 20-50 μm, and finally, an emblem of 200-250 μm can be completed.

한편, 앞서 설명한 바와 같이 본 발명으로 제작된 엠블럼은 종래의 엠블럼과 비교하여 우수한 내식성을 가진다고 앞서 설명하였다.On the other hand, as described above, it was previously described that the emblem produced by the present invention has excellent corrosion resistance compared to the conventional emblem.

이와 같이 완성된 엠블럼에 대한 부식환경(제설염 시험)을 통해 부식 정도를 관찰한 그림을 도 13 및 도 14에 나타내었다.Figures 13 and 14 show the degree of corrosion observed through the corrosive environment (snow salt test) for the completed emblem.

도 13은 종래 기술로서 전주편에 크롬이 도금된 엠블럼의 부식 시험을 통해 도금층의 부식 크기를 나타낸 도면이고, 도 14는 본 발명에 따른 제조방법으로 재조된 엠블럼의 부식 시험에서 도금층의 부식 크기를 나타낸 도면이다.13 is a view showing the corrosion size of the plating layer through a corrosion test of the emblem plated with chromium on the entire cast as a prior art, and FIG. 14 is a view showing the corrosion size of the plating layer in the corrosion test of the emblem produced by the manufacturing method according to the present invention. It is a figure shown.

도 13 및 도 14를 살펴보면, 종래에 전기주조로 제작된 엠블럼의 경우에는 전주편(120)에 크롬이 도금되었고, 본 실시예의 엠블럼은 전주편(120)에 제1재료(134), 제2재료(136) 및 제3재료(132)가 도금된 후 3가 크롬이 도금된다.13 and 14, in the case of an emblem manufactured by electroforming in the related art, chrome was plated on the electric cast piece 120, and the emblem of this embodiment was the first material 134 and the second material on the electric cast piece 120. After the material 136 and the third material 132 are plated, trivalent chromium is plated.

도면을 살펴보면, 종래 기술로 제작된 엠블럼의 경우 부식 시험 결과, 엠블럼의 표면에 부식의 크기가 각각285㎛, 478㎛가 관찰되어 불합격으로 판정되었다.Referring to the drawings, in the case of the emblem produced by the prior art, as a result of the corrosion test, the size of corrosion on the surface of the emblem was observed, respectively, 285 μm and 478 μm, and it was determined as failing.

이와 상대적으로 본 발명에 의해 제조된 엠블럼은 부식의 크기가 각각 25㎛, 46㎛인 것으로 관찰되었다.Relatively, it was observed that the size of the emblem produced by the present invention was 25 μm and 46 μm, respectively.

이는 앞서 설명한 바와 같이 제1재료(134), 제2재료(136) 및 제3재료(132)의 도금층이 크롬 표면이 부식되는 것을 크게 억제하는 것을 확인할 수 있었다.As described above, it was confirmed that the plating layers of the first material 134, the second material 136, and the third material 132 greatly suppressed corrosion of the chrome surface.

이상과 같이 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 살펴보았으며, 앞서 설명된 실시예 이외에도 본 발명이 그 취지나 범주에서 벗어남이 없이 다른 특정 형태로 구체화될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다. 그러므로, 상술된 실시예는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 여겨져야 하고, 이에 따라 본 발명은 상술한 설명에 한정되지 않고 첨부된 청구항의 범주 및 그 동등 범위 내에서 변경될 수도 있다.As described above, preferred embodiments according to the present invention have been examined, and the fact that the present invention can be embodied in other specific forms without departing from its spirit or scope in addition to the above-described embodiments is known to those skilled in the art. This is obvious to them. Therefore, the above-described embodiments are to be regarded as illustrative rather than restrictive, and accordingly, the present invention is not limited to the above description and may be modified within the scope of the appended claims and their equivalents.

10: 욕
50: 가공면
52: 음각
54: 양각
110: 금형
120: 전주편(니켈)
130: 재료
132: 제3재료
134: 제1재료
136: 제2재료10: curse
50: processing surface
52: Engraved
54: embossed
110: mold
120: pre-order (nickel)
130: material
132: third material
134: first material
136: second material

Claims (18)

CNC가공되어 각인이 양각으로 형성된 금형을 생산하는 단계;
상기 금형에 음각의 가공면을 가지는 니켈 재질의 전주편을 도금 및 박리하여 설계 값과 비교하고, 상기 설계 값을 기준으로 상기 금형의 모서리나 치수부분을 수정하여 최종 금형을 생산하는 단계;
상기 최종금형에 상기 전주편을 도금 및 박리하여 상기 음각의 가공면의 모서리를 수정하고, 표면을 미각하며, 치수를 조절하는 전주편 가공 단계;
상기 음각의 가공면에 제1재료를 도금하고, 상기 제1재료에 제3재료를 도금하며, 제3재료에 제2재료를 도금하여 도금층을 형성하는 단계;
상기 도금층의 가공면에 3가 크롬을 전류 9.2 A/dm2에서 2분의 조건으로 0.44~0.5㎛으로 3가 크롬을 도금하는 단계;
상기 전주편에서 도금층을 분리하는 이형처리 단계; 및
도금층을 프레스 가공하는 프레싱 단계;
를 포함하고,
상기 제1재료는 광택 니켈(Brightenss Nickel)이고, 상기 제2재료는 MP 니켈(Micro Porous Nickel)이며, 제3재료는 반광 니켈(Semi-Bright Nickel)로 구비되며,
상기 도금층을 형성하는 단계는,
서로 다른 광택제와 습윤제를 보조재료로 사용하며, 섭씨 50~65℃에서 15~25분동안 전류 1~6 A/dm2의 조건으로 7.5~7.8㎛로 도금하는 제1재료 도금층 형성 단계;
상기 제1재료 도금층 형성 단계에서 사용된 광택제와 다른 광택제와, 파우더를 보조재료로 사용하고, 섭씨 50~60℃에서 2~10분동안 전류 3~5 A/dm2의 조건으로 1.12~1.16㎛로 도금하는 제2재료 도금층 형성 단계; 및
황산니켈 280~300g/l와 염화니켈 30~35g/l와 붕산 35~40g/l가 주재료로 사용되고, 제1재료 도금층 형성 단계 및 제2재료 도금층 형성 단계에서 사용된 광택제와 다른 광택제와 습윤제를 보조재료로 사용하여 섭씨 50~60℃에서 13~23분동안 전류 0.5~5 A/dm2의 조건으로 13.1~13.7㎛로 전기 주조액 내에서 상기 전주편의 상기 가공면에 상기 제3재료를 도금하는 제3재료 도금층 형성 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 엠블럼 전기 주조 방법.
CNC machining to produce a mold formed by embossing the engraving;
Plating and peeling a nickel-material precast piece having an intaglio processing surface on the mold, comparing it with a design value, and modifying a corner or dimension part of the mold based on the design value to produce a final mold;
Plating and peeling the electric cast piece on the final mold to correct the edge of the processed surface of the intaglio, taste the surface, and control the size of the electric cast piece;
Plating a first material on the processed surface of the intaglio, plating a third material on the first material, and plating a second material on the third material to form a plating layer;
Plating trivalent chromium on the processed surface of the plating layer at 0.44 ~ 0.5㎛ under the condition of 2 minutes at a current of 9.2 A/dm2;
A release treatment step of separating the plating layer from the precast plate; And
A pressing step of pressing the plated layer;
Including,
The first material is Brightenss Nickel, the second material is MP Nickel, and the third material is Semi-Bright Nickel,
The step of forming the plating layer,
Forming a plating layer of a first material using different brighteners and wetting agents as auxiliary materials, and plating 7.5 to 7.8 μm at a current of 1 to 6 A/dm 2 at 50 to 65° C. for 15 to 25 minutes;
Using the polishing agent and other polishing agent and powder used in the step of forming the plating layer of the first material as auxiliary materials, and at a current of 3 to 5 A/dm2 at 50 to 60°C for 2 to 10 minutes at 1.12 to 1.16 μm. Forming a plating layer of a second material to be plated; And
Nickel sulfate 280~300g/l, nickel chloride 30~35g/l and boric acid 35~40g/l are used as main materials, and the polishing agent used in the plating layer formation step of the first material and the plating layer of the second material, and other brightening agents and wetting agents are used as the main materials. As an auxiliary material, plating the third material on the processed surface of the electric cast plate at 13.1 to 13.7㎛ under the condition of 0.5 to 5 A/dm2 current for 13 to 23 minutes at 50 to 60 ℃ Celsius. Forming a third material plating layer;
Emblem electroforming method comprising a.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항의 엠블럼 전기 주조 방법으로 제작된 엠블럼.
An emblem produced by the emblem electroforming method of claim 1.
제14항에 있어서,
상기 엠블럼은,
패턴이 형성된 금형;
상기 금형에 니켈이 도금되고, 상기 패턴에 대응되는 가공면이 형성된 전주편; 및
상기 가공면에 복수개가 적층 형성되는 도금층;
을 포함하는 엠블럼.
The method of claim 14,
The emblem is,
A mold on which a pattern is formed;
An electric cast plate on which nickel is plated on the mold and a processing surface corresponding to the pattern is formed; And
A plating layer in which a plurality of layers are formed on the processed surface;
Emblem containing.
제15항에 있어서,
상기 도금층은,
상기 광택 니켈을 포함하는 엠블럼.
The method of claim 15,
The plating layer,
Emblem containing the bright nickel.
제16항에 있어서,
상기 도금층은,
상기 광택 니켈의 일면에 도금되는 MP 니켈을 포함하는 엠블럼.
The method of claim 16,
The plating layer,
An emblem comprising MP nickel plated on one surface of the bright nickel.
제17항에 있어서,
상기 도금층은,
상기 가공면과 상기 광택 니켈 사이에서 도금층을 이루는 반광 니켈을 포함하는 엠블럼.
The method of claim 17,
The plating layer,
Emblem including semi-bright nickel forming a plating layer between the processed surface and the bright nickel.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102447305B1 (en) * 2021-03-24 2022-09-23 심재복 Electroplating type roller manufacturing method that expresses nano-scale patterns

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05287579A (en) * 1992-04-10 1993-11-02 Toyoda Gosei Co Ltd Ornamental chrome plating film and its formation
JPH1025594A (en) * 1996-07-09 1998-01-27 Inax Corp Nickel-chromium plating method
KR20040076626A (en) * 2003-02-26 2004-09-01 가부시키가이샤 타이요 고사쿠쇼 Method for Producing Plated Molded Products
KR20090034672A (en) * 2007-10-04 2009-04-08 삼성전자주식회사 Alloy electroforming method
KR101263707B1 (en) * 2010-10-26 2013-05-13 한국내쇼날주식회사 One body shape of emblem ＆ wheel cap, and production method of the one body shaping wheel cap

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05287579A (en) * 1992-04-10 1993-11-02 Toyoda Gosei Co Ltd Ornamental chrome plating film and its formation
JPH1025594A (en) * 1996-07-09 1998-01-27 Inax Corp Nickel-chromium plating method
KR20040076626A (en) * 2003-02-26 2004-09-01 가부시키가이샤 타이요 고사쿠쇼 Method for Producing Plated Molded Products
KR20090034672A (en) * 2007-10-04 2009-04-08 삼성전자주식회사 Alloy electroforming method
KR101263707B1 (en) * 2010-10-26 2013-05-13 한국내쇼날주식회사 One body shape of emblem ＆ wheel cap, and production method of the one body shaping wheel cap

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102447305B1 (en) * 2021-03-24 2022-09-23 심재복 Electroplating type roller manufacturing method that expresses nano-scale patterns

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