KR102131938B1 - Anti-counterfeiting pattern, apparatus and method of processing anti-counterfeiting pattern - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 대상물의 위조를 방지하기 위한 위조 방지 패턴은 제1 거리만큼 서로 떨어져 있는 제1 기준점과 제2 기준점, 제1 기준점의 제1 방향으로 제2 거리만큼 떨어지고, 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 제3 거리만큼 떨어져 있는 정보점을 포함하고, 제1 기준점, 제2 기준점 및 정보점을 단위 패턴으로 하여, 복수의 단위 패턴을 포함한다. The anti-counterfeiting pattern for preventing the forgery of an object according to an embodiment of the present invention is separated by a second distance in a first direction of a first reference point, a second reference point, and a first reference point that are spaced apart from each other by a first distance. It includes information points spaced apart by a third distance in a second direction intersecting the direction, and includes a plurality of unit patterns using a first reference point, a second reference point, and an information point as a unit pattern.

Description

위조 방지 패턴, 위조 방지 패턴 생성 방법 및 장치{ANTI-COUNTERFEITING PATTERN, APPARATUS AND METHOD OF PROCESSING ANTI-COUNTERFEITING PATTERN}Anti-counterfeiting pattern, method and device for generating anti-counterfeiting pattern {ANTI-COUNTERFEITING PATTERN, APPARATUS AND METHOD OF PROCESSING ANTI-COUNTERFEITING PATTERN}

본 발명은 위조 방지 패턴, 위조 방지 패턴 생성 방법 및 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a forgery prevention pattern, a method and apparatus for generating a forgery prevention pattern.

최근 진위 여부를 쉽게 가리기 어려울 정도로 정교하게 위조된 10만원권 위조 수표가 나타나는 등 위, 변조 사건이 위험 수위에 이르렀다고 판단한 금융감독당국은 위조 사건이 빈발한 수표의 불법 위, 변조를 방지하기 위하여 수표의 사용 절차 개선 및 수표 디자인, 재질 변경 등의 다양한 방안을 검토 하고 있다고 한다.Financial supervisory authorities that have determined that the falsification case has reached a dangerous level, such as the appearance of a counterfeit check of 100,000 won, which have been elaborately faked to make it difficult to easily hide the authenticity, have been checked in order to prevent illegal counterfeiting and falsification It is said that it is considering various methods such as improving the use procedure and changing the design of checks and materials.

뿐만 아니라, 수표 이외에도 명품, 보석류, 고문서, 기밀 문서, 여권 등 다양한 분야에서 위조방지 기술이 요구되고 있는 실정이다.In addition, anti-counterfeiting technology is required in various fields such as luxury goods, jewelry, old documents, confidential documents, and passports in addition to checks.

수표 위조 방지 분야에서는 돌출 은화, 무궁화 은화, 이색성 형광 잉크 등의 기술이 적용되고 있으나, 보통 자외선이나 밝은 빛을 비추어 위조 여부를 관찰하게 되어 있다. 대부분 육안으로 판정하기 때문에 판별자 개인에 따른 오차가 있을 수 있다. In the field of check anti-counterfeiting, technologies such as protruding silver, green light, and dichroic fluorescent inks are applied, but it is usually observed to falsify by shining with ultraviolet light or bright light. Since it is mostly determined by the naked eye, there may be errors depending on the discriminator individual.

이러한, 위조 방지 기술 중 가장 고전적인 형태가 워터마크 기술이다. 워터마킹은 빛을 비추면 형태가 나타나는 기술로 화폐에는 강력한 위조 방지로 자주 쓰인다. 그러나 중요한 정보를 담는 기밀 문서에 쓰이기에는 가격이 비싸 비효율적이며 시계나 가방 등 다양한 종류의 물품에 쓰이기에 어렵다.The most classic form of anti-counterfeiting technology is watermark technology. Watermarking is a technology that appears when light is shined, and is often used as a strong anti-counterfeiting measure in money. However, it is expensive and inefficient to be used for confidential documents containing important information, and difficult to use for various kinds of items such as watches and bags.

이외에도, 여권과 같은 주요한 서류는 전파식별칩(RFID chip)을 부착해 위조를 원천적으로 막아보자는 기술도 개발되고 있다. 이러한, 전파식별칩은 위조를 막는 확실한 방법이긴 하나, 개인의 사생활이 침해되기 쉽고 자칫 오용될 경우 첨단 기술 절도범이나 ID 도난범, 심지어 테러리스트들의 목표물이 되기 쉽다. In addition, technology to prevent the forgery by attaching a radio frequency identification chip (RFID chip) to major documents such as passports has been developed. Although the radio wave identification chip is a sure way to prevent counterfeiting, it is easy to infringe on the privacy of individuals and become a target for high-tech theft, ID theft, and even terrorists.

또한, 빠른 반응의 바코드인 큐알(QR)코드 는 제품에 적용된다. 이는 개인 스마트폰의 카메라로 인식해 상품에 대한 카탈로그를 볼 수 있고, 이는 스마트 뱅킹에서 일시적인 보안과 정보 제공형태이며 쉽게 복사되기 쉬우므로 위조 방지에 쓰이기 보다는 정보 전달 또는 일시적인 보안 코드로 쓰인다.In addition, QR code, a fast-reacting barcode, is applied to products. It can be recognized as a camera of a personal smartphone, and a catalog of products can be viewed. This is a temporary security and information provision type in smart banking and is easily copied, so it is used as an information security or temporary security code rather than forgery prevention.

따라서 보다 적은 비용으로 보다 신속하게 위조 방지 패턴을 생성하여 다양한 형태의 대상물에 적용할 수 있는 위조 방지 패턴의 개발과 이러한 위조 방지 패턴을 적은 비용으로 신속하게 검출할 수 있는 위조 방지 패턴 검출 기술의 도입이 요구되고 있다. Therefore, the development of a forgery prevention pattern that can be applied to various types of objects by generating a forgery prevention pattern more quickly and at a lower cost and the introduction of a forgery prevention pattern detection technology capable of quickly detecting such a forgery prevention pattern at a low cost This is required.

따라서 본 발명은 위조가 어려운 위조 방지 패턴을 용이하게 형성할 수 있는 위조 방지 패턴, 위조 방지 패턴의 생성 방법 및 장치를 제공하는 것이다. Accordingly, the present invention is to provide an anti-counterfeiting pattern, a method and apparatus for generating an anti-counterfeiting pattern that can easily form an anti-counterfeiting pattern that is difficult to forge.

본 발명의 일 실시예에 따른 대상물의 위조를 방지하기 위한 위조 방지 패턴은 제1 거리만큼 서로 떨어져 있는 제1 기준점과 제2 기준점, 제1 기준점의 제1 방향으로 제2 거리만큼 떨어지고, 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 제3 거리만큼 떨어져 있는 정보점을 포함하고, 제1 기준점, 제2 기준점 및 정보점을 단위 패턴으로 하여, 복수의 단위 패턴을 포함한다. The anti-counterfeiting pattern for preventing the forgery of an object according to an embodiment of the present invention is separated by a second distance in a first direction of a first reference point, a second reference point, and a first reference point that are spaced apart from each other by a first distance. It includes information points spaced apart by a third distance in a second direction intersecting the direction, and includes a plurality of unit patterns using a first reference point, a second reference point, and an information point as a unit pattern.

상기 복수의 단위 패턴에서 제1 거리는 동일하고, 복수의 단위 패턴에서 제2 거리 및 제3 거리는 동일하거나 서로 다를 수 있다. In the plurality of unit patterns, the first distance may be the same, and in the plurality of unit patterns, the second distance and the third distance may be the same or different.

상기 제1 기준점과 제2 기준점은 제1 기준점과 제2 기준점을 연결하는 가상의 동일선상에 위치하고, 정보점은 제1 기준점과 제2 기준점을 꼭지점으로 하는 사각형의 경계선에 위치하거나 상기 사각형의 경계선 내에 위치할 수 있다.The first reference point and the second reference point are located on a virtual collinear line connecting the first reference point and the second reference point, and the information point is located on a boundary line of a rectangle having a first reference point and a second reference point as a vertex or a boundary line of the rectangle Can be located within.

상기 복수의 단위 패턴은 행렬을 이루고, 복수의 단위 패턴의 제1 기준점과 제2 기준점은 가상의 동일선상에서 교대로 위치할 수 있다.The plurality of unit patterns form a matrix, and the first reference point and the second reference point of the plurality of unit patterns may be alternately positioned on a virtual collinear line.

상기 복수의 단위 패턴은 행렬을 이루고, 행렬의 열방향으로 이웃하는 제1 단위 패턴과 제2 단위 패턴에서, 제1 단위 패턴의 제2 기준점은 제2 단위 패턴의 제1 기준점일 수 있다.The plurality of unit patterns form a matrix, and in the first unit pattern and the second unit pattern neighboring in the column direction of the matrix, the second reference point of the first unit pattern may be a first reference point of the second unit pattern.

상기 제1 기준점과 제2 기준점은 상기 제1 간격을 두고 가상의 원을 이루도록 교대로 배치되며, 정보점은 제1 기준점과 상기 제2 기준점 사이의 원의 원주 상에 하나씩 위치할 수 있다.The first reference point and the second reference point are alternately arranged to form a virtual circle at the first interval, and the information points may be positioned one on the circumference of the circle between the first reference point and the second reference point.

상기 제1 기준점, 제2 기준점 및 정보점은 레이저가공, 기계가공 및 포토리쏘그래피등의 여러가지 방법으로 형성될 수 있다.The first reference point, the second reference point and the information point can be formed by various methods such as laser processing, machining, and photolithography.

상기 제1 기준점, 상기 제2 기준점 및 상기 정보점은 삼각형, 사각형, 십자형 및 원형 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The first reference point, the second reference point, and the information point may include at least one of a triangle, a square, a cross, and a circle.

상기한 다른 실시예에 따른 본 발명의 위조 방지 패턴 형성 방법은 대상물을 준비하는 단계, 대상물에 제1 기준점 및 제2 기준점을 형성하는 단계, 제1 기준점과 제2 기준점을 촬영하는 단계, 촬영된 상기 제1 기준점과 제2 기준점 사이의 제1 거리를 추출하는 단계, 제1 기준점을 기준 좌표 (0, 0)으로 하고, 제1 거리를 제2 기준점의 X값 또는 Y값으로 하는 제2 기준 좌표를 설정하는 단계, 제1 기준점으로부터 제1 방향으로 제2 거리만큼 이격되고, 제1 방향에 대해서 교차하는 제2 방향으로 제3 거리만큼 이격된 정보점을 형성하는 단계를 포함하고, 제2 거리 및 제3 거리는 제1 거리보다 짧으며, 제1 기준점, 제2 기준점 및 정보점은 레이저 가공 장치로 형성한다.The method for forming an anti-counterfeiting pattern according to another embodiment of the present invention includes preparing an object, forming a first reference point and a second reference point on the object, photographing a first reference point and a second reference point, and photographing the object. Extracting a first distance between the first reference point and the second reference point, a second reference using the first reference point as reference coordinates (0, 0), and the first distance as the X or Y value of the second reference point And setting a coordinate, and forming an information point spaced apart from the first reference point by a second distance in a first direction and spaced apart by a third distance in a second direction intersecting with respect to the first direction. The distance and the third distance are shorter than the first distance, and the first reference point, the second reference point, and the information point are formed by a laser processing device.

상기 제2 기준 좌표를 설정하는 단계에서, 제1 거리를 '1'로 변경하는 단계를 더 포함하고, 제2 기준 좌표는 (0, 1) 또는 (1, 0)일 수 있다.In the setting of the second reference coordinates, the method further includes changing the first distance to '1', and the second reference coordinates may be (0, 1) or (1, 0).

상기 정보점을 형성하는 단계는, 제1 거리에 대한 상기 제2 거리의 비율을 X값으로 하고, 상기 제1 거리에 대한 제3 거리의 비율을 Y값으로 하는 정보 좌표에 형성할 수 있다. In the forming of the information point, the ratio of the second distance to the first distance may be formed as X values, and the ratio of the third distance to the first distance may be formed as information coordinates.

상기한 다른 실시예에 따른 본 발명의 위조 방지 패턴 생성 장치는 대상물에 레이저 빔을 조사하는 레이저 발생부, 레이저 빔으로 형성한 위조 방지 패턴을 촬영하는 촬영부, 촬영부로부터 촬영된 영상 데이터를 저장하는 저장부, 레이저 빔의 조사 위치를 제어하는 제어부를 포함하고, 저장부에는 문자 또는 숫자를 포함하는 위조 방지용 데이터에 대응하는 제1 기준점, 제2 기준점 및 정보점의 좌표가 저장되어 있고, 제어부는 저장부에 저장된 좌표에 따라 레이저 빔의 조사 위치를 제어한다.The anti-counterfeiting pattern generating apparatus of the present invention according to another embodiment described above stores a laser generation unit that irradiates a laser beam to an object, a photographing unit that photographs an anti-counterfeiting pattern formed by a laser beam, and stores image data captured by the photographing unit The storage unit includes a control unit for controlling the irradiation position of the laser beam, and the storage unit stores coordinates of a first reference point, a second reference point, and an information point corresponding to data for preventing forgery including letters or numbers, and the control unit. Controls the irradiation position of the laser beam according to the coordinates stored in the storage unit.

상기 제어부는 영상 데이터로부터 제1 기준점과 제2 기준점의 거리를 산출하고, 산출된 거리를 이용하여 상기 정보점의 좌표에 대응하는 레이저 빔 조사 영역을 산출할 수 있다. The controller may calculate a distance between the first reference point and the second reference point from the image data, and calculate a laser beam irradiation area corresponding to the coordinates of the information point using the calculated distance.

본 발명의 실시예에 따른 위조 방지 패턴은 레이저 가공 장치를 이용하여 직접 및 고속으로 가공 함으로써, 다양한 대상물에 용이하게 위조 방지 패턴을 형성할 수 있다.The anti-counterfeiting pattern according to an embodiment of the present invention can be formed directly and at high speed by using a laser processing device, so that the anti-counterfeiting pattern can be easily formed on various objects.

또한, 본 발명에서는 복수의 점을 이용하여 위조 방지 패턴을 형성함으로써, 다양한 위조 방지 패턴을 용이하게 형성할 수 있다. Further, in the present invention, various anti-counterfeiting patterns can be easily formed by forming a plurality of anti-counterfeiting patterns using a plurality of dots.

또한, 본 발명에서는 위조 방지 패턴이 필요한 대상물의 표면 위에 직접 마이크로 크기의 점을 제작 함으로 써, 스티커 방식보다 위조 방지를 더욱 어렵게 할 수 있다. In addition, in the present invention, by making a micro-sized dot directly on the surface of an object in need of an anti-counterfeiting pattern, anti-counterfeiting can be made more difficult than the sticker method.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지 패턴의 배치도이다.
도 2는 도 1의 II-II선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 위조 방지 패턴의 배치도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지 패턴의 오차 범위를 설명하기 위한 배치도이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 위조 방지 패턴의 배치도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치의 개략적인 블록도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지 패턴을 형성하는 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 9은 도 8에 따라서 형성되는 위조 방지 패턴을 도시한 도면이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 여부 판별 장치의 개략적인 블록도이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 여부 판별 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 12는 본 발명의 다른 실시예에 따른 위조 여부 판별 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
1 is a layout view of an anti-counterfeiting pattern according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of FIG. 1 taken along line II-II.
3 is a layout view of an anti-counterfeiting pattern according to another embodiment of the present invention.
4 is a layout view illustrating an error range of a forgery prevention pattern according to an embodiment of the present invention.
5 and 6 are layout views of an anti-counterfeiting pattern according to another embodiment of the present invention.
7 is a schematic block diagram of an anti-counterfeiting pattern generating apparatus according to an embodiment of the present invention.
8 is a flowchart illustrating a method of forming a forgery prevention pattern according to an embodiment of the present invention.
9 is a view showing the anti-counterfeiting pattern formed according to FIG. 8.
10 is a schematic block diagram of a forgery determination device according to an embodiment of the present invention.
11 is a flow chart for explaining a method for determining whether or not a forgery is provided according to an embodiment of the present invention.
12 is a flow chart for explaining a method for determining whether or not counterfeit is in accordance with another embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art to which the present invention pertains can easily practice. The present invention can be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙였다. In order to clearly describe the present invention, parts irrelevant to the description are omitted, and the same reference numerals are assigned to the same or similar elements throughout the specification.

또한, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In addition, throughout the specification, when a part “includes” a certain component, it means that other components may be further included instead of excluding other components, unless otherwise specified.

이하에서는 도면을 참조하면 본 발명에 대해서 구체적으로 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지 패턴의 배치도이고, 도 2는 도 1의 II-II선을 따라 잘라 도시한 단면도이고, 도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 위조 방지 패턴의 배치도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지 패턴의 오차 범위를 설명하기 위한 배치도이다.1 is a layout view of an anti-counterfeiting pattern according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II of FIG. 1, and FIG. 3 is an anti-counterfeiting pattern according to another embodiment of the present invention 4 is a layout view for explaining an error range of an anti-counterfeiting pattern according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지 패턴(301)은 대상물(50)에 형성되는 3개의 점(dot)(D)을 하나의 단위 패턴(G)으로, 복수의 단위 패턴(G)으로 이루어지는 단위 패턴 세트일 수 있다. 단위 그룹 내의 점들은 레이저 가공, 기계가공 및 포토리쏘그래피등의 여러가지 방법을 이용하여 형성될 수 있다. 점(D)은 도 1에서 도시한 바와 같이 원형일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 도 3에 도시한 바와 같이, 삼각형, 사각형 또는 십자형과 같은 다각형과 같이 다양한 형태로 형성할 수 있다. 1 and 2, the anti-counterfeiting pattern 301 according to an embodiment of the present invention has three dot (D) formed on the object 50 as one unit pattern (G) As an example, the unit pattern set may include a plurality of unit patterns (G). The points in the unit group can be formed using various methods such as laser processing, machining, and photolithography. The point D may be circular as illustrated in FIG. 1, but is not limited thereto, and may be formed in various shapes such as a polygon such as a triangle, square or cross, as illustrated in FIG. 3.

도 1, 도 4, 도 5 및 도 8에서 도시된 격자선은 발명의 이해를 돕기 위해서 도시한 것으로, 격자선이 대상물에 직접 형성되는 것은 아니다. The grid lines shown in FIGS. 1, 4, 5 and 8 are shown to help understanding of the present invention, and the grid lines are not directly formed on the object.

각각의 단위 패턴에 포함된 3개의 점은, 한 쌍의 기준점(D1, D2)과 정보점(D3)일 수 있다. The three points included in each unit pattern may be a pair of reference points D1 and D2 and an information point D3.

한 쌍의 기준점(D1, D2)을 제1 기준점(D1)과 제2 기준점(D2)라고 할 때, 제1 기준점(D1)과 제2 기준점(D2) 사이의 제1 거리(L1)를 기준으로, 정보점(D3)은 제1 기준점(D1)으로부터 X축 방향으로 제2 거리(L2), Y축 방향으로 제3 거리(L3) 떨어져 위치한다. 제2 거리(L2) 및 제3 거리(L3)는 제1 거리(L1)보다 짧을 수 있다. When the pair of reference points D1 and D2 are referred to as the first reference point D1 and the second reference point D2, the first distance L1 between the first reference point D1 and the second reference point D2 is referenced. As a result, the information point D3 is located at a second distance L2 in the X-axis direction and a third distance L3 in the Y-axis direction from the first reference point D1. The second distance L2 and the third distance L3 may be shorter than the first distance L1.

제1 거리(L1) 내지 제3 거리(L3)는 레이저의 가공 오차 범위를 초과한 길이일 수 있다. 즉, 제1 기준점(D1)과 제2 기준점(D2) 사이의 거리가 레이저의 가공 오차 범위 이내이면, 제1 기준점(D1)과 제2 기준점(D2)이 하나의 점으로 인지될 수 있다.The first distance L1 to the third distance L3 may be a length exceeding the processing error range of the laser. That is, if the distance between the first reference point D1 and the second reference point D2 is within a laser processing error range, the first reference point D1 and the second reference point D2 may be recognized as one point.

정보점(D3)은 제1 기준점(D1)과 제2 기준점(D2)이 꼭지점에 위치하는 사각형의 경계선 또는 사각형의 경계선 내에 위치할 수 있다. 단위 패턴(G)에 포함된 기준점(D1, D2)과 정보점(D3)의 위치는 좌표로 나타낼 수 있다. 이때, 단위 패턴(G)에 포함된 정보점(D3)의 위치를 다양하게 하면 단위 패턴(G)별로 서로 다른 정보를 나타낼 수 있으며, 이러한 단위 패턴을 복수로 묶어 하나의 정보를 나타낼 수도 있다. The information point D3 may be located within a boundary line of a rectangle or a boundary line of a rectangle in which the first reference point D1 and the second reference point D2 are located at a vertex. The positions of the reference points D1 and D2 and the information points D3 included in the unit pattern G may be represented by coordinates. At this time, if the positions of the information points D3 included in the unit pattern G are varied, different information may be displayed for each unit pattern G, and a plurality of such unit patterns may be grouped to represent one piece of information.

복수의 단위 패턴을 하나의 정보로 사용할 때, 각각의 단위 패턴에 포함된 제1 거리(L1)는 동일하며, 제2 거리(L2) 및 제3 거리(L3)는 다를 수 있고, 복수의 단위 패턴은 행렬을 이루어 배치될 수 있다. When using a plurality of unit patterns as one information, the first distance L1 included in each unit pattern is the same, the second distance L2 and the third distance L3 may be different, and the plurality of units The patterns may be arranged in a matrix.

단위 패턴(G)의 제1 기준점(D1), 제2 기준점(D2) 및 정보점(D3)은 상대적인 거리를 이용하여 좌표로 나타낼 수 있으며, 이하에서는 이들을 좌표화 하는 방법에 대해서 설명한다.The first reference point D1, the second reference point D2, and the information point D3 of the unit pattern G may be represented by coordinates using relative distances, and a method of coordinating them will be described below.

제1 기준점(D1)과 제2 기준점(D2)은 X축 또는 Y축의 동일선상에 위치하며, 제1 거리(L1)만큼 떨어져 위치할 수 있다. The first reference point D1 and the second reference point D2 are located on the same line of the X-axis or the Y-axis, and may be located at a distance from the first distance L1.

기준점이 Y축에 위치할 때, 제1 기준점(D1)의 좌표를 (0, 0)이라 할 때, 제2 기준점(D2)은 (0, L1)이고, X축에 위치할 때, 제2 기준점의 좌표는 (L1, 0)일 수 있다. 예를 들어, 제1 거리(L1)가 100㎛일 때, 제2 기준점(D2)의 좌표는 (0, 100㎛) 또는 (100㎛, 0)일 수 있다.When the reference point is located on the Y axis, when the coordinates of the first reference point (D1) are (0, 0), the second reference point (D2) is (0, L1), when it is located on the X axis, the second The coordinates of the reference point may be (L1, 0). For example, when the first distance L1 is 100 μm, the coordinates of the second reference point D2 may be (0, 100 μm) or (100 μm, 0).

정보점(D3)은 제1 기준점(D1)로부터 X축 방향으로 제2 거리(L2), Y축 방향으로 제3 거리(L3)만큼 떨어져 위치하므로, 정보점(D3)의 위치 좌표는 (L2, L3)일 수 있다. 예를 들어, 제2 거리(L2)가 10㎛이고, 제3 거리(L3)가 10㎛이면 정보점(D3)의 거리 좌표는 (10㎛, 10㎛)이다. Since the information point D3 is located a distance from the first reference point D1 by the second distance L2 in the X-axis direction and the third distance L3 in the Y-axis direction, the position coordinate of the information point D3 is (L2 , L3). For example, if the second distance L2 is 10 μm and the third distance L3 is 10 μm, the distance coordinate of the information point D3 is (10 μm, 10 μm).

한편, 레이저 가공 장치를 이용하여 점을 형성할 때 레이저 가공 장치의 가공 오차에 따라서 제1 거리(L1)가 달라질 수 있으므로, 복수의 단위 그룹의 정보점(D3)의 위치 좌표에 오차가 발생할 수 있다. On the other hand, when forming a point using a laser processing apparatus, since the first distance L1 may vary according to a processing error of the laser processing apparatus, an error may occur in the position coordinates of the information points D3 of a plurality of unit groups. have.

따라서, 제1 거리(L1)를 기준 거리로 하여 정보점(D3)의 비율 좌표를 구할 수 있다. 예를 들어, 100㎛인 제1 거리(L1)를 기준 거리 1로 할 때, (10㎛, 10㎛)의 위치에 있는 정보점의 비율 좌표는 (0.1, 0.1)이 된다. 이하에서는 비율 좌표를 중심으로 설명한다. 이처럼, 제1 거리(L1)를 기준으로 정보점(D3)의 비율 좌표를 구하면, 각각의 단위 패턴에 따른 정보점(D3)의 비율 좌표를 다양하게 생성하고 이를 조합하여 위조 방지 패턴으로 사용할 수 있다. Therefore, the ratio coordinates of the information point D3 can be obtained using the first distance L1 as the reference distance. For example, when the first distance L1 of 100 µm is the reference distance 1, the ratio coordinates of the information points at the positions of (10 µm, 10 µm) are (0.1, 0.1). Hereinafter, a description will be given focusing on ratio coordinates. As described above, when the ratio coordinates of the information point D3 are obtained based on the first distance L1, various ratio coordinates of the information point D3 according to each unit pattern can be generated and combined to be used as an anti-counterfeiting pattern. have.

구체적으로, 제1 거리(L1)에 따라서 구해진 정보점(D3)의 비율 좌표에 각각 위조 방지 패턴에 사용할 문자 또는 숫자를 대응시킬 수 있다. Specifically, letters or numbers to be used in the anti-counterfeiting pattern may be respectively associated with the ratio coordinates of the information point D3 obtained according to the first distance L1.

예를 들어, 정보점의 비율 좌표가 (1, 1)인 경우, 숫자 1 또는 알파벳 A라고 하고, (1, 0)인 경우, 숫자 2 또는 알파벳 B라 하고, (2, 0)인 경우 숫자 3 또는 알파벳 C라 하는 것과 같이 정보점의 비율 좌표에 따라서 위조 방지용 문자 또는 숫자를 부여할 수 있다.For example, if the ratio coordinate of an information point is (1, 1), it is called number 1 or alphabet A, if it is (1, 0), it is called number 2 or alphabet B, and if it is (2, 0) 3 or the letter C for preventing forgery can be assigned according to the ratio coordinates of the information point, such as the letter C.

이를 이용하면, 위조 방지 패턴이 1132일 경우 4개의 단위 패턴으로 이루어질 수 있으며, 정보점(D3)은 각각의 단위 패턴에서 (1, 1), (1, 1), (1, 0), (2, 0)인 비율 좌표에 위치할 수 있다. Using this, when the anti-counterfeiting pattern is 1132, it may be composed of four unit patterns, and the information point D3 is (1, 1), (1, 1), (1, 0), () in each unit pattern. 2, 0).

이러한 정보점(D3)은 각 단위 패턴 별로 다른 정보를 나타낼 수 있으므로, 위조 방지 패턴의 정보량에 따라서 단위 패턴은 복수로 형성되며 다양한 크기의 행렬로 나타낼 수 있다. Since the information point D3 may indicate different information for each unit pattern, a plurality of unit patterns may be formed according to the amount of information of the anti-counterfeiting pattern and may be represented by matrices of various sizes.

4개의 일련 번호를 위조 방지 패턴으로 할 경우, 4개의 그룹을 2X2 또는 1X4와 같이 배열하거나, 9개의 일련 번호를 위조 방지 패턴으로 할 경우, 4개의 그룹을 3X3과 같이 배열할 수 있다.When four serial numbers are used as an anti-counterfeiting pattern, four groups may be arranged as 2X2 or 1X4, or when nine serial numbers are used as an anti-counterfeiting pattern, four groups may be arranged as 3X3.

한편, 도 4에서와 같이, 각 그룹에 포함된 각각의 점은 일정한 오차 범위(S)를 가질 수 있으며, 점을 형성하는 기계의 정밀도에 따라서 오차 범위는 달라질 수 있으며, 오차 범위(S)는 점의 경계선으로부터 대략 1㎛, 즉, 제1 거리(L1)의 1/100 이내인 것이 바람직하다. On the other hand, as shown in Figure 4, each point included in each group may have a certain error range (S), the error range may vary depending on the precision of the machine forming the point, the error range (S) It is preferable that it is approximately 1 µm from the boundary of the point, that is, within 1/100 of the first distance L1.

오차 범위(S) 내에 정보점이 위치(D7)할 경우는 진품인 반면, 오차 범위 밖에 정보점이 위치(D8)할 경우 정보점의 좌표가 달라져 다른 정보를 나타내므로 가품으로 판단할 수 있다. 오차 범위(S) 밖에 위치할 경우, 정보점의 좌표가 달라지므로 다른 정보로 나타나 가품으로 판단할 수 있다. When the information point is positioned (D7) within the error range (S), it is genuine, but when the information point is located (D8) outside the error range, the coordinates of the information point are different, indicating different information. If it is located outside the error range (S), the coordinates of the information point are different, so it can be judged as a fake by showing it as different information.

도 5 및 도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 위조 방지 패턴의 배치도이다. 5 and 6 are layout views of an anti-counterfeiting pattern according to another embodiment of the present invention.

도 5에 도시한 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 다른 위조 방지 패턴은 이웃하는 단위 그룹의 기준점(D1, D2) 중 하나를 공유한다. As shown in FIG. 5, in another embodiment of the present invention, the anti-counterfeiting pattern shares one of the reference points D1 and D2 of a neighboring unit group.

복수의 단위 패턴들이 행렬을 이루어 배치된 위조 방지 패턴(302)에서, 열방향으로 이웃하는 두 단위 그룹(G1, G2)의 제1 기준점(D1) 또는 제2 기준점(D2)은 공유될 수 있다. 이때, 열 방향은 제1 기준점(D1) 및 제2 기준점(D2)을 연결하여 형성되는 가상의 선이 연장되는 방향이다.In the anti-counterfeiting pattern 302 in which a plurality of unit patterns are arranged in a matrix, the first reference point D1 or the second reference point D2 of two neighboring unit groups G1 and G2 in the column direction may be shared. . In this case, the column direction is a direction in which an imaginary line formed by connecting the first reference point D1 and the second reference point D2 extends.

즉, 열 방향으로 이웃하는 두 단위 그룹을 제1 단위 패턴(G1) 및 제2 단위 패턴(G2)이라고 할 때, 제1 단위 패턴(G1)과 제2 단위 패턴(G2)은 각각 제1 기준점(D1), 제2 기준점(D2) 및 정보점(D3)을 포함한다. That is, when the two unit groups neighboring in the column direction are referred to as the first unit pattern G1 and the second unit pattern G2, the first unit pattern G1 and the second unit pattern G2 are respectively first reference points. (D1), a second reference point (D2) and an information point (D3).

이때, 제1 단위 패턴(G1)과 제2 단위 패턴(G2)은 하나의 기준점을 공유할 수 있으며, 예를 들어 제1 단위 패턴(G1)의 제1 기준점(D1)은 제2 단위 패턴(G2)의 제2 기준점(D2)일 수 있으며, 반대로 제1 단위 패턴(G1)의 제1 기준점(D1)은 제2 단위 패턴(G2)의 제2 기준점(D2)일 수 있다. In this case, the first unit pattern G1 and the second unit pattern G2 may share one reference point, for example, the first reference point D1 of the first unit pattern G1 is the second unit pattern ( G2) may be the second reference point D2, and conversely, the first reference point D1 of the first unit pattern G1 may be the second reference point D2 of the second unit pattern G2.

이상의 실시예에서는 기준점이 2개이고 정보점이 1개인 것을 예로 제시하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며 기준점을 3개 이상 정보점을 2개 이상 형성하여 더욱 복잡한 위조 방지 패턴을 형성할 수 도 있다. In the above embodiment, two reference points and one information point are presented as examples, but the present invention is not limited thereto, and more than three reference points may be formed to form two or more information points to form a more complicated anti-counterfeiting pattern.

도 6에 도시한 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 위조 방지 패턴은 복수의 기준점(D) 및 정보점(D3)을 포함한다.6, the anti-counterfeiting pattern according to another embodiment of the present invention includes a plurality of reference points D and information points D3.

복수의 기준점(D)는 일정한 간격을 두고 기준점(D)들을 연결한 선이 가상의 원을 이루도록 배치된다. 정보점(D3)은 이웃하는 두 기준점(D)들 사이의 가상의 원주 상에 위치할 수 있다. 따라서, 기준점(D)과 정보점(D3)의 개수는 동일할 수 있다. The plurality of reference points D are arranged such that a line connecting the reference points D at regular intervals forms an imaginary circle. The information point D3 may be located on a virtual circumference between two neighboring reference points D. Accordingly, the number of reference points D and information points D3 may be the same.

하나의 원에서, 이웃하는 기준점(D) 사이의 제1 거리(L1)는 모두 동일하나, 기준점(D)과 정보점(D3) 사이의 제2 거리(L2)는 다를 수 있다. 또한, 제2 거리(L2)는 제1 거리(L1)보다 짧을 수 있다. In one circle, the first distance L1 between neighboring reference points D is all the same, but the second distance L2 between the reference point D and the information point D3 may be different. Also, the second distance L2 may be shorter than the first distance L1.

도 1 및 도 2에서는 하나의 단위 그룹이 하나의 정보를 나타낼 때, 복수의 숫자로 이루어지는 일련 번호를 위조 방지 패턴으로 사용할 경우, 복수의 단위 패턴을 형성해야 한다. 반면, 도 6에서는 하나의 원만으로도 복수의 숫자를 가지는 일련 번호를 표시할 수 있다. In FIG. 1 and FIG. 2, when one unit group represents one piece of information, when a serial number consisting of a plurality of numbers is used as a forgery prevention pattern, a plurality of unit patterns must be formed. On the other hand, in FIG. 6, a serial number having a plurality of numbers may be displayed using only one circle.

예를 들어, 제1 거리(L1)의 간격으로 8개의 기준점(D)을 배치한 원형의 위조 방지 패턴은 기준점(D) 사이에 위치하는 8개의 정보점(D3)이 형성되어, 8자리의 일련 번호를 표시할 수 있다. For example, in the circular anti-counterfeiting pattern in which eight reference points D are arranged at intervals of the first distance L1, eight information points D3 positioned between the reference points D are formed, and the Serial number can be displayed.

기준점(D)과 정보점(D3) 사이의 상대적 거리인 제2 거리(L2)에 따라서 서로 다른 일련 번호를 표시할 수 있다. 이때, 제2 거리(L2)는 시계 방향 또는 반시계 방향과 같이 어느 한 방향을 따라서 동일하게 측정되어야 하며, 시계 방향일 경우 정보점(D3)의 왼쪽에 위치하는 기준점(D)로부터 정보점(D)까지의 거리이다. Different serial numbers may be displayed according to the second distance L2, which is a relative distance between the reference point D and the information point D3. At this time, the second distance (L2) should be measured equally along either direction, such as clockwise or counterclockwise, and in the clockwise direction, the information point (D) from the reference point (D) located to the left of the information point (D3) D).

이상의 위조 방지 패턴은 위조 방지 패턴 생성 장치를 통해서 형성될 수 있다. 이에 대해서는 도 5를 참조하여 구체적으로 설명한다.The above-described anti-counterfeiting pattern may be formed through an anti-counterfeiting pattern generating device. This will be described in detail with reference to FIG. 5.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치의 개략적인 블록도이다.7 is a schematic block diagram of an anti-counterfeiting pattern generating apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 7에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치(400)는 레이저 발생부(41), 촬영부(42), 저장부(43) 및 제어부(44)를 포함한다. As shown in FIG. 7, the anti-counterfeiting pattern generation apparatus 400 according to an embodiment of the present invention includes a laser generation unit 41, an imaging unit 42, a storage unit 43, and a control unit 44 do.

레이저 발생부(41)는 대상물에 레이저 빔을 조사하여 복수의 점으로 이루어지는 위조 방지 패턴을 형성한다. The laser generation unit 41 irradiates a laser beam to the object to form an anti-counterfeiting pattern composed of a plurality of dots.

촬영부(42)는 레이저 빔으로 형성한 위조 방지 패턴을 촬영하여 영상 데이터를 생성한다. 생성된 영상 데이터는 저장부(43)에 저장될 수 있다. The photographing unit 42 photographs the anti-counterfeiting pattern formed by the laser beam to generate image data. The generated image data may be stored in the storage unit 43.

저장부(43)에는 위조 방지 패턴으로 사용하는 문자 또는 숫자에 대응하는 좌표(표 1 참조)가 저장될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지 패턴(도 1 내지 도 6 참조)은 제1 기준점, 제2 기준점 및 정보점을 포함하며, 상기 좌표는 제1 기준점, 제2 기준점 및 정보점의 상대적인 거리에 따른 좌표일 수 있다. The storage unit 43 may store coordinates (see Table 1) corresponding to letters or numbers used as a forgery prevention pattern. The anti-counterfeiting pattern (see FIGS. 1 to 6) according to an embodiment of the present invention includes a first reference point, a second reference point and an information point, and the coordinates are relative distances between the first reference point, the second reference point and the information point It may be a coordinate according to.

제어부(44)는 레이저 빔의 조사 위치를 제어하는 것으로, 형성하고자 하는 위조 방지 패턴에 따라서 저장부에 저장된 좌표에 레이저 빔이 조사될 수 있도록 레이저 빔의 위치를 제어한다. The control unit 44 controls the irradiation position of the laser beam, and controls the position of the laser beam so that the laser beam can be irradiated to coordinates stored in the storage unit according to an anti-counterfeiting pattern to be formed.

제어부(44)는 저장부에 저장된 영상 데이터로부터 제1 기준점과 제2 기준점 사이의 거리를 산출하고, 산출된 거리를 이용하여 정보점의 기준 좌표에 대응하는 레이저 빔의 조사 영역을 산출할 수 있다. 이에 대해서는, 도 8 및 도 9의 위조 방지 패턴 생성 방법을 참조하여 구체적으로 설명한다. The control unit 44 may calculate a distance between the first reference point and the second reference point from the image data stored in the storage unit, and calculate the irradiation area of the laser beam corresponding to the reference coordinate of the information point using the calculated distance. . This will be described in detail with reference to the methods of generating the anti-counterfeiting patterns in FIGS. 8 and 9.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지 패턴을 형성하는 방법을 설명하기 위한 순서도이고, 도 9은 도 8에 따라서 형성되는 위조 방지 패턴을 도시한 도면이다.8 is a flowchart illustrating a method of forming a forgery prevention pattern according to an embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a view showing a forgery prevention pattern formed according to FIG. 8.

도 8을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 방지 패턴은 대상물을 준비하는 단계(S101), 기준점을 형성하는 단계(S102), 한 단위 패턴의 기준점을 촬영하는 단계(S103), 기준점의 기준 좌표를 설정하는 단계(S104), 정보점을 형성하는 단계(S105)를 포함한다. Referring to FIG. 8, the anti-counterfeiting pattern according to an embodiment of the present invention includes preparing an object (S101 ), forming a reference point (S102 ), and photographing a reference point of one unit pattern (S103 ), a reference point The step of setting the reference coordinates of (S104), and forming an information point (S105).

대상물을 준비하는 단계(S101)에서 대상물은 지폐, 수표, 명품과 같이 위조 방지 패턴을 필요로 하는 물건일 수 있다. In the step (S101) of preparing an object, the object may be an object that requires an anti-counterfeiting pattern, such as bills, checks, and luxury goods.

기준점을 형성하는 단계(S102)에서 기준점은 레이저 가공 장치를 이용하여 형성한다. 위조 방지 패턴이 복수의 단위 패턴을 하나의 세트로 이루어질 경우 각각의 단위 패턴에 포함된 기준점을 일정한 간격을 두고 순서대로 형성한다. In step S102 of forming a reference point, the reference point is formed using a laser processing apparatus. When the anti-counterfeiting pattern is composed of a plurality of unit patterns as a set, the reference points included in each unit pattern are formed in order at regular intervals.

기준점을 촬영하는 단계(S103)에서 기준점은 복수의 단위 패턴 중 어느 하나의 단위 패턴, 즉 제1 단위 패턴에 대해서 고배율 현미경을 통해서 촬영한다. 설명의 편의상, 촬영되는 순서대로 제1 단위 패턴, 제2 단위 패턴, 제3 단위 패턴..이라 한다. In the step S103 of photographing the reference point, the reference point is photographed through a high magnification microscope with respect to any one of the plurality of unit patterns, that is, the first unit pattern. For convenience of description, it is referred to as a first unit pattern, a second unit pattern, and a third unit pattern.. in the order of shooting.

기준점의 기준 좌표를 설정하는 단계(S104)에서, 제1 기준점의 제1 기준 좌표를 (0,0)이라고 할 때, 제2 기준점의 제2 기준 좌표를 (0, 1)이라 한다. 이때, 제2 기준 좌표의 Y값은 제1 거리를 1로 변경하여 설정할 수 있다. 제1 거리(L1)는 제1 기준점(D1)의 중심으로부터 제2 기준점(D2)의 중심까지의 거리이다. In step S104 of setting the reference coordinates of the reference point, when the first reference coordinate of the first reference point is (0,0), the second reference coordinate of the second reference point is referred to as (0, 1). At this time, the Y value of the second reference coordinate may be set by changing the first distance to 1. The first distance L1 is a distance from the center of the first reference point D1 to the center of the second reference point D2.

정보점을 형성하는 단계(S105)에서 정보점(D3)은 기준점(D1, D2)과 동일하게 레이저 가공 장치를 이용하여 형성할 수 있다. In step S105 of forming an information point, the information point D3 may be formed by using a laser processing device in the same manner as the reference points D1 and D2.

정보점(D3)은 형성하고자 하는 위조 방지 패턴에 따라 정해진 좌표에 형성될 수 있다. 이때, 제1 기준점과 정보점의 X축 방향의 거리 및 Y축 방향의 거리와 제1 거리의 비율에 따른 비율 좌표가 정해질 수 있다. 즉, 제1 거리가 100㎛이고, X축 방향 거리가 10㎛, Y축 방향 거리가 10㎛이면, 정보점의 비율 좌표는 (0.1, 0.1)일 수 있다. The information point D3 may be formed at predetermined coordinates according to a forgery prevention pattern to be formed. At this time, ratio coordinates according to the ratio of the distance between the first reference point and the information point in the X-axis direction and the distance between the Y-axis direction and the first distance may be determined. That is, if the first distance is 100 μm, the distance in the X-axis direction is 10 μm, and the distance in the Y-axis direction is 10 μm, the ratio coordinates of the information points may be (0.1, 0.1).

정보점(D3)의 위치에 따른 비율 좌표 별로 위조 방지 패턴에 사용되는 문자 또는 숫자가 대응할 수 있으며, 문자 또는 숫자와 대응하는 정보점(D3)의 비율 좌표는 데이터화되어 참고 데이터로 레이저 가공 장치의 저장부(도시하지 않음)에 저장되어 있다. 따라서 형성하고자 하는 위조 방지 패턴에 따라 참고 데이터로부터 각각의 문자 또는 숫자에 대응하는 비율 좌표에 정보점을 형성한다. Characters or numbers used in the anti-counterfeiting pattern may correspond to the ratio coordinates according to the position of the information point D3, and the ratio coordinates of the information point D3 corresponding to the letters or numbers are dataized and used as reference data. It is stored in a storage unit (not shown). Accordingly, an information point is formed from reference data in a ratio coordinate corresponding to each letter or number according to the forgery prevention pattern to be formed.

예를 들어, 위조 방지 패턴에 사용되는 문자 또는 숫자에 대응하는 비율 좌표는 표 1에서와 같이 참고 데이터로 저장될 수 있다. 참고 데이터를 참고 할때, 형성하고자 하는 위조 방지 패턴이 일련번호로 1346일 때, 1346에 대응하는 정보점(D3)의 비율 좌표는 각각 (0.1, 0.2), (0.1, 0.4), (0.1, 0.5), (0.1, 0.6)이며, 단위 패턴별로 하나의 정보점과 대응할 수 있다.즉, 일련 번호 1346에서 '1'은 제1 단위 패턴(G1), '3'은 제2 단위 패턴(G2), '4'는 제3 단위 패턴(G3), '6'은 제4 단위 패턴(G4)에 형성될 수 있다. For example, ratio coordinates corresponding to letters or numbers used in the anti-counterfeiting pattern may be stored as reference data as shown in Table 1. When referring to the reference data, when the forgery prevention pattern to be formed is a serial number 1346, the ratio coordinates of the information point D3 corresponding to 1346 are (0.1, 0.2), (0.1, 0.4), (0.1, 0.5), (0.1, 0.6), and can correspond to one information point per unit pattern, that is, in serial number 1346, '1' is the first unit pattern (G1), and '3' is the second unit pattern (G2). ), '4' may be formed on the third unit pattern G3, and '6' on the fourth unit pattern G4.

[표 1][Table 1]

Figure 112018066361511-pat00001
Figure 112018066361511-pat00001

따라서, 도 9에서와 같이 일련번호 1346 중 1을 제1 단위 패턴(G1)에 형성할 때, 표 1을 참고하여 '1'에 대응하는 비율 좌표 (0.1, 0.2)에 정보점을 형성한다. Therefore, as shown in FIG. 9, when forming one of the serial numbers 1346 in the first unit pattern G1, an information point is formed in ratio coordinates (0.1, 0.2) corresponding to '1' with reference to Table 1.

반복해서, 제2 단위 패턴(G2), 제3 단위 패턴(G3) 및 제4 단위 패턴(G4) 각각에 대해서도 기준점을 촬영(S103)하고, 기준 좌표를 설정(S104)하고, 정보점을 형성(S105)하는 단계를 진행하여 위조 방지 패턴을 완성한다. Repeatedly, a reference point is photographed (S103), a reference coordinate is set (S104), and an information point is formed for each of the second unit pattern G2, the third unit pattern G3, and the fourth unit pattern G4. Proceeding to step S105, the anti-counterfeiting pattern is completed.

이상의 위조 방지 패턴은 위조 여부 판별 장치를 통해서 진위 여부를 확인할 수 있다. The above-described forgery prevention pattern may be checked for authenticity through a forgery determination device.

도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 여부 판별 장치의 개략적인 블록도이다.10 is a schematic block diagram of a forgery determination device according to an embodiment of the present invention.

도 10에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 여부 판별 장치는 단위 패턴 영상 획득부(10), 구동 제어부(20), 저장부(30) 및 출력부(40)를 포함한다. As illustrated in FIG. 10, the forgery determination apparatus according to an embodiment of the present invention includes a unit pattern image acquisition unit 10, a driving control unit 20, a storage unit 30, and an output unit 40 .

단위 패턴 영상 획득부(10)는 위조 방지 패턴의 영상을 획득하는 기능을 수행하는 것으로, 위조 방지를 위해서 대상물에 형성된 위조 방지 패턴을 촬영하여 영상 데이터를 획득한다. 단위 패턴 영상 획득부(10)는 현미경일 수 있으며, 영상 데이터는 현미경에서 촬영된 현미경 영상 데이터 일 수 있다. The unit pattern image acquisition unit 10 performs a function of acquiring an image of an anti-counterfeiting pattern, and acquires image data by photographing an anti-counterfeiting pattern formed on an object to prevent forgery. The unit pattern image acquiring unit 10 may be a microscope, and the image data may be microscope image data captured by a microscope.

동작 제어부(20)는 표시점 판단 유닛(21) 및 위조 방지 패턴 판단 유닛(22)을 포함한다. The operation control unit 20 includes a display point determination unit 21 and a forgery prevention pattern determination unit 22.

표시점 판정 유닛(21)은 단위 패턴 영상 획득부(10)로부터 단위 패턴 영상 데이터를 수신 받아 기준점 및 정보점을 포함하는 표시점을 추출한다. The display point determination unit 21 receives the unit pattern image data from the unit pattern image acquisition unit 10 and extracts a display point including a reference point and an information point.

표시점은 영상 데이터에서 색상(즉, 계조값)이 다른 영역을 추출하여 정해질 수 있는 것으로, 정해진 알고리즘에 의해서 수행될 수 있다. 영상 데이터에서 표시점을 추출하는 것은 이미 공지되어 있는 처리 동작을 이용하는 것이므로, 이에 대한 자세한 설명은 생략한다. The display point may be determined by extracting an area having different colors (ie, gradation values) from the image data, and may be performed by a predetermined algorithm. Since extracting the display point from the image data uses a known processing operation, detailed description thereof will be omitted.

표시점은 한 쌍의 기준점과 하나의 정보점을 포함하며, 한 쌍의 기준점은 가상의 동일선상에 위치하며 가상의 동일선은 좌표 평면의 X축 또는 Y축 일 수 있다. 정보점은 한 쌍의 기준점을 꼭지점으로 하는 임의의 사각 영역 내에 위치할 수 있다. The display point includes a pair of reference points and one information point, the pair of reference points are located on a virtual collinear line, and the virtual collinear line may be an X-axis or a Y-axis of a coordinate plane. The information point may be located in an arbitrary rectangular area using a pair of reference points as vertices.

표시점 판단 유닛은(21) 표시점 사이의 거리에 따라서 기준점과 정보점을 판정할 수 있다. 즉, 표시점들 사이의 거리가 상대적으로 긴 한 쌍의 표시점은 제1 기준점 및 제2 기준점이고, 거리가 상대적으로 짧은 표시점은 정보점이 된다. The display point determination unit 21 can determine the reference point and the information point according to the distance between the display points. That is, a pair of display points having a relatively long distance between display points is a first reference point and a second reference point, and a display point having a relatively short distance becomes an information point.

위조 방지 패턴 판단 유닛(22)은 표시점 판단 유닛(21)으로부터 판단된 기준점과 정보점을 이용하여 위조 방지 패턴을 추출하고, 추출된 위조 방지 패턴을 통해서 위조 여부를 판단한다. The anti-counterfeiting pattern determination unit 22 extracts the anti-counterfeiting pattern using the reference point and the information point determined from the display point determination unit 21, and determines whether the forgery is counterfeit through the extracted anti-counterfeiting pattern.

이상의 동작 제어부(20)에서 생성된 데이터들은 저장부(30)에 저장될 수 있다. The data generated by the above operation control unit 20 may be stored in the storage unit 30.

저장부(30)는 위조 여부를 판별하기 위한 동작에 필요한 데이터나 정보, 그리고 동작 중에 생성되는 영상 데이터 등을 저장하는 저장 매체로서, 메모리(memory) 등으로 이루어질 수 있다. 저장부(30)는 버퍼(buffer) 등과 같은 임시 저장 장치와 하드 디스크(hard disk)와 같은 영구 저장 장치 중 적어도 하나를 구비할 수 있다. The storage unit 30 is a storage medium that stores data or information necessary for an operation to determine whether it is forged, and image data generated during the operation, and may be formed of a memory or the like. The storage unit 30 may include at least one of a temporary storage device such as a buffer and a permanent storage device such as a hard disk.

출력부(40)는 동작 제어부(20)와 연결되어 있고, 액정 표시 장치(LCD, liquid crystal display)나 유기 발광 표시 장치(OLED, organic light emitting display), 점등 가능한 LED 램프와 같은 시각적 표시체, 소리로 알려주는 스피커일 수 있다. 출력부(40)는 동작 제어부(20)에 의한 위조 방지 패턴의 위조 여부를 출력하여 사용자가 시각적 또는 청각적으로 확인할 수 있도록 한다. The output unit 40 is connected to the operation control unit 20, a visual display such as a liquid crystal display (LCD) or an organic light emitting display (OLED), a lightable LED lamp, It can be a loudspeaker. The output unit 40 outputs whether the anti-counterfeiting pattern is forged by the operation control unit 20 so that the user can visually or audibly check.

이하에서는, 위조 여부 판별 장치를 이용하여 위조 여부 판별하는 방법에 대해서 도면을 참조하여 설명한다. 위조 여부 판별 장치의 부호는 도 9를 참조한다. Hereinafter, a method for determining whether or not a forgery is determined using a forgery determination device will be described with reference to the drawings. 9 shows the sign of the forgery determination device.

도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 여부 판별 방법을 설명하기 위한 순서도이다. 11 is a flow chart for explaining a method for determining whether or not a forgery is provided according to an embodiment of the present invention.

도 11을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 위조 여부를 판별하는 방법은 영상 획득부(10)를 통해서 위조 여부를 판별하고자 하는 대상물의 제1 단위 패턴을 촬영하여 영상 데이터를 획득하고, 획득된 영상 데이터가 동작 제어부(20)로 전달되면서부터 시작된다. Referring to FIG. 11, in a method of determining whether or not counterfeit is performed according to an embodiment of the present invention, image data is acquired by photographing a first unit pattern of an object to be determined as counterfeit through the image acquisition unit 10, It starts from the acquired image data being transferred to the operation control unit 20.

영상 획득부(10)는 사용자에 의한 구동 스위치(도시하지 않음)의 동작에 연동하여 해당 영역(예, 위조 방지 패턴)에 대한 촬영 동작이 이루어지거나, 지정된 영역에 대상물이 감지되면 자동으로 지정된 영역에 위치한 위조 방지 패턴을 촬영할 수 있다.The image acquisition unit 10 is automatically assigned to a designated area when a shooting operation is performed on a corresponding area (eg, an anti-counterfeiting pattern) or an object is detected in a designated area in association with an operation of a driving switch (not shown) by the user The anti-counterfeiting pattern located on can be photographed.

영상 데이터는 촬영하는 현미경의 배율에 따라서 촬영되는 지정 영역이 달라질 수 있으며, 고배율 현미경의 경우 제1 단위 패턴에 대해서만 촬영이 진행된다. 이하에서는, 단위 패턴별로 촬영이 진행되는 것을 예로 들어 설명하며 촬영 순서에 따라 제1 단위 패턴, 제2 단위 패턴 및 제3 단위 패턴이라 한다.In the image data, a designated area to be photographed may vary according to the magnification of the photographing microscope, and in the case of a high magnification microscope, photographing is performed only for the first unit pattern. Hereinafter, it will be described as an example in which shooting is performed for each unit pattern, and is referred to as a first unit pattern, a second unit pattern, and a third unit pattern according to a shooting order.

이러한 영상 획득부의 동작에 의해서 제1 단위 패턴의 영상 데이터가 획득되어, 표시점 판단 유닛(21)으로 입력되면, 표시점 판단 유닛(21)은 입력된 제1 단위 패턴의 영상 데이터를 판독(S11)하고, 판독된 제1 단위 패턴의 영상 데이터를 저장부에 저장(S12)한다. When the image data of the first unit pattern is acquired by the operation of the image acquisition unit and input to the display point determination unit 21, the display point determination unit 21 reads the input image data of the first unit pattern (S11) ), and stores the read image data of the first unit pattern in the storage unit (S12 ).

표시점 판단 유닛(21)은 제1 단위 패턴 영상 데이터에서 표시점들을 추출(S13)한다. The display point determination unit 21 extracts display points from the first unit pattern image data (S13 ).

표시점은 제1 단위 패턴 영상 데이터에서 색상(즉, 계조값)이 다른 영역을 추출하여 정해질 수 있는 것으로, 정해진 알고리즘에 의해서 수행될 수 있다. 영상 데이터에서 표시점을 추출하는 것은 이미 공지되어 있는 처리 동작을 이용하는 것이므로, 이에 대한 자세한 설명은 생략한다. The display point may be determined by extracting a region having a different color (that is, a gradation value) from the first unit pattern image data, and may be performed by a predetermined algorithm. Since extracting the display point from the image data uses a known processing operation, detailed description thereof will be omitted.

그리고, 추출된 표시점들의 원좌표를 판정하고 저장부에 저장(S14)한다. 영상 데이터는 행렬 구조로 배열되어 있는 복수의 화소(pixel)에 대한 위치 좌표를 구비하고 있어, 화소의 위치 좌표가 표시점의 위치 좌표(이하, 원좌표라 함)가 된다. 이때, 표시점의 원좌표는 중심점 화소의 위치 좌표이다. Then, the original coordinates of the extracted display points are determined and stored in the storage unit (S14). The image data includes position coordinates for a plurality of pixels arranged in a matrix structure, and the position coordinates of the pixels become the position coordinates of the display point (hereinafter referred to as circular coordinates). At this time, the circular coordinate of the display point is the position coordinate of the center point pixel.

표시점은 3개의 점을 포함하며, 표시점들의 원좌표를 이용하여 표시점들 사이의 거리를 산출하고 상대적으로 길이가 긴 표시점을 각각 제1 기준점과 제2 기준점으로 판정하고, 상대적으로 표시점들 사이의 거리가 짧은 나머지 표시점을 정보점으로 판정하여 저장부에 저장(S15)한다. The display point includes three points, the distance between the display points is calculated using the circular coordinates of the display points, and the relatively long display point is determined as the first reference point and the second reference point, respectively. The remaining display points having a short distance between the points are determined as information points and stored in the storage unit (S15).

그리고, 제1 기준점과 제2 기준점의 원좌표를 이용하여 제1 기준점과 제2 기준점 사이의 제1 거리를 산출하고, 저장부에 저장(S16)한다. 이때, 제1 기준점과 제2 기준점을 연결하는 가상의 직선은 좌표 평면에서 Y축으로 한다. Then, the first distance between the first reference point and the second reference point is calculated using the circular coordinates of the first reference point and the second reference point, and stored in the storage (S16). At this time, an imaginary straight line connecting the first reference point and the second reference point is a Y axis in a coordinate plane.

제1 기준점의 원좌표를 제1 기준 좌표인 (0, 0)로 변경하여 저장부에 저장(S17)하고, 제2 기준점의 원좌표를 제2 기준 좌표인 (0, 1)로 변경한 후, 저장부에 저장(S18)한다. 이때, 제2 기준점은 제1 기준점의 Y축방향으로 제1 거리에 위치하므로, 제2 기준점의 좌표는 (0, L1)되며, 제1 거리(L1)를 1로 하여 기준 좌표를 설정하면 제2 기준점의 제2 기준 좌표는 (0, 1)로 된다. After changing the original coordinate of the first reference point to the first reference coordinate (0, 0) and storing it in the storage unit (S17), after changing the original coordinate of the second reference point to the second reference coordinate (0, 1) , It is stored in the storage (S18). At this time, since the second reference point is located at the first distance in the Y-axis direction of the first reference point, the coordinates of the second reference point are (0, L1), and when the first distance L1 is set to 1, the reference coordinate is 2 The second reference coordinate of the reference point is (0, 1).

이후, 제1 기준점과 정보점의 원좌표를 이용하여 제1 기준점과 제2 기준점 사이의 제2 거리(X축 방향의 거리)와 제3 거리(Y축 방향의 거리)를 산출하고, 저장부에 저장(S19)한다. Thereafter, the second distance (distance in the X-axis direction) and the third distance (distance in the Y-axis direction) between the first reference point and the second reference point are calculated using the circular coordinates of the first reference point and the information point, and the storage unit Save to (S19).

그런 다음, 제1 기준 좌표 및 제2 기준 좌표를 이용하여, 정보점의 원좌표를 비율 좌표로 변경하고, 저장부에 저장(S20)한다. Then, using the first reference coordinates and the second reference coordinates, the original coordinates of the information points are changed to ratio coordinates and stored in the storage unit (S20).

비율 좌표는 제1 거리에 대한 제2 거리 및 제3 거리의 비율을 이용하여, 산출한다. 예를 들어, 제1 거리가 100㎛이고, 제2 거리가 10㎛이고, 제3 거리가 40㎛이면, 정보 좌표는 (0.1, 0.4)가 된다. The ratio coordinates are calculated using the ratio of the second distance and the third distance to the first distance. For example, if the first distance is 100 μm, the second distance is 10 μm, and the third distance is 40 μm, the information coordinates are (0.1, 0.4).

이후, 저장부(30)에서, 산출된 비율 좌표에 대응하는 정보 데이터를 판정(S21)한다. 예를 들어, 표 1을 참고 데이터라 할 때, 비율 좌표 (0.1, 0.4)에 대응하는 정보 데이터는 숫자 3이 된다. Thereafter, the storage unit 30 determines information data corresponding to the calculated ratio coordinates (S21). For example, when referring to Table 1 as reference data, the information data corresponding to the ratio coordinates (0.1, 0.4) is number 3.

판정된 정보 데이터를 제1 단위 패턴의 제1 정보 데이터로 저장부(30)에 저장(S22)한다. 즉, 정보 데이터인 숫자 '3'이 제1 단위 패턴의 정보 데이터가 되어 저장부(30)에 저장된다. The determined information data is stored in the storage unit 30 as first information data of the first unit pattern (S22). That is, the number '3' which is information data becomes information data of the first unit pattern and is stored in the storage unit 30.

이와 같은 단위 패턴에 대한 정보 데이터를 구하여 저장하는 과정은 단위 패턴별로 반복해서 진행하므로, 현재 제1 단위 패턴이 마지막 패턴인지를 판단(S23)한다. Since the process of obtaining and storing information data about the unit pattern is repeatedly performed for each unit pattern, it is determined whether the current first unit pattern is the last pattern (S23).

현재 제1 단위 패턴이 마지막 패턴이 아니면, 현재 단위 패턴의 순번을 1 증가(S30)시킨 후, 영상 획득부(10)를 통해서 영상 데이터를 획득하고 영상 데이터를 구동 제어부(20)로 입력하여 상기의 단계들(S11~S23)을 수행한다. If the current first unit pattern is not the last pattern, the sequence number of the current unit pattern is increased by 1 (S30), and then the image data is acquired through the image acquisition unit 10, and the image data is input to the driving control unit 20. Steps S11 to S23 are performed.

이상에서와 같이, 복수의 단위 패턴들에 대해서 정보 데이터를 저장하면, 정보 데이터 세트가 된다. As described above, when information data is stored for a plurality of unit patterns, it becomes an information data set.

따라서, 단위 패턴이 마지막 패턴이면, 단위 패턴 세트의 정보 데이터 세트와 진품 판정 데이터를 비교(S24)하여, 정보 데이터 세트와 저장부에 저장된 진품 판정 데이터가 동일한지를 판단(S25)한다. 진품 판정 데이터는 도 7에서와 같이 대상물에 위조 방지 패턴을 형성할 때 결정될 수 있다. Therefore, if the unit pattern is the last pattern, the information data set of the unit pattern set is compared with the authenticity determination data (S24), and it is determined whether the authenticity determination data stored in the information data set and the storage unit are the same (S25). The authenticity determination data may be determined when the anti-counterfeiting pattern is formed on the object, as shown in FIG. 7.

정보 데이터 세트와 진품 판정 데이터가 동일한 경우, 대상물의 상태를 진품으로 판정(S26)하고, 판정 결과를 출력부로 출력(S28)한 후 종료한다. When the information data set and the authenticity judgment data are the same, the state of the object is judged as authentic (S26), the judgment result is output to the output unit (S28), and the process ends.

정보 데이터 세트와 진품 판정 데이터가 동일하지 않은 경우, 대상물의 상태를 가품으로 판정(S27)하고 판정 결과를 출력부로 출력(S28)한 후 종료한다. When the information data set and the authenticity judgment data are not the same, the state of the object is judged as a fake (S27), the judgment result is output to the output unit (S28), and the process ends.

예를 들어, 도 8의 방법으로 생성한 대상물의 위조 방지 패턴이 일련번호 3568일 때, 추출된 진품 판정 데이터가 3568이면 진품이나, 3668과 같이 다른 숫자가 나올 경우 가품으로 판정한다. For example, when the anti-counterfeiting pattern of the object generated by the method of FIG. 8 is serial number 3568, if the extracted authenticity determination data is 3568, it is judged as authentic if other numbers such as 3668 appear.

이처럼, 추출된 정보점의 위치가 실제로 형성한 좌표와 다른 것은 오차 범위를 벗어나 정보점이 형성되어, 정보점의 좌표가 달라지기 때문일 수 있다. 따라서, 오차 정보만으로도 진품 및 양품을 판단할 수 있다. 이에 대해서 도 12를 참조하여 설명한다.In this way, the location of the extracted information point is different from the coordinates actually formed, it may be because the information points are formed outside the error range and the coordinates of the information points are changed. Therefore, authenticity and quality can be judged only by error information. This will be described with reference to FIG. 12.

도 12는 본 발명의 다른 실시예에 따른 위조 여부 판별 방법을 설명하기 위한 순서도이다. 12 is a flow chart for explaining a method for determining whether or not counterfeit is in accordance with another embodiment of the present invention.

도 12의 위조 여부 판별 방법은 도 10의 위조 여부 판별 방법과 대부분 동일하므로 다른 부분에 대해서만 구체적으로 설명한다.The forgery determination method of FIG. 12 is mostly the same as the forgery determination method of FIG. 10, so only the other parts will be described in detail.

도 12를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 위조 여부 판별 방법은 영상 데이터가 동작 제어부(20)로 전달되면서부터 시작되면, 표시점 판단 유닛(21)은 영상 데이터를 판독(S11)하고, 영상 데이터를 저장부에 저장(S12)하고, 영상 데이터에서 표시점들을 추출(S13)하고, 원좌표를 판정하여 저장부에 저장(S14)하고, 제1 기준점, 제2 기준점 및 정보점을 판정하여 저장부에 저장(S15)하고, 제1 거리를 산출 및 저장(S16)하고, 제1 기준 좌표(0, 0)으로 변경 및 저장(S17)한다. Referring to FIG. 12, in the method for determining whether the forgery is in accordance with another embodiment of the present invention, when the image data is transmitted to the operation control unit 20, the display point determination unit 21 reads the image data (S11). , Store the image data in the storage (S12), extract the display points from the image data (S13), determine the original coordinates and store it in the storage (S14), the first reference point, the second reference point and the information point The result is determined and stored in the storage unit (S15), the first distance is calculated and stored (S16), and the first reference coordinates (0, 0) are changed and stored (S17).

이후, 제2 기준점의 제2 기준 좌표를 변경 및 저장(S41)한다. 이때, 제2 기준 좌표는 제1 기준점으로부터 동일축, 예를 들어 Y축 방향으로 제1 거리(L1)만큼 이격되어 있으므로, 제2 기준 좌표는 거리 좌표(0, L1)이 된다. Thereafter, the second reference coordinates of the second reference point are changed and stored (S41). At this time, since the second reference coordinates are spaced apart from the first reference point by the first distance L1 in the same axis, for example, the Y-axis direction, the second reference coordinates become the distance coordinates (0, L1).

제1 기준점과 정보점의 원좌표를 이용하여 제1 기준점과 제2 기준점 사이의 제2 거리(X축 방향의 거리)와 제3 거리(Y축 방향의 거리)를 산출하고, 저장부에 저장(S42)한다. Calculate the second distance (distance in the X-axis direction) and the third distance (distance in the Y-axis direction) between the first reference point and the second reference point using the circular coordinates of the first reference point and the information point, and store it in the storage unit (S42).

그리고, 정보점의 원좌표를 제2 거리 및 제3 거리를 이용하여, 거리 좌표(L2, L3)으로 변경 및 저장(S43)한다. Then, the original coordinates of the information point are changed and stored in the distance coordinates L2 and L3 using the second distance and the third distance (S43).

이와 같은 단위 패턴에 대한 정보 데이터를 구하여 저장하는 과정은 단위 패턴별로 반복해서 진행하므로, 현재 제1 단위 패턴이 마지막 패턴인지를 판단(S44)한다. Since the process of obtaining and storing information data about the unit pattern is repeatedly performed for each unit pattern, it is determined whether the current first unit pattern is the last pattern (S44).

현재 제1 단위 패턴이 마지막 패턴이 아니면, 현재 단위 단위 패턴의 순번을 1 증가(S45) 시킨 후, 영상 획득부(10)를 통해서 영상 데이터를 획득하고 영상 데이터를 구동 제어부(20)로 입력하여 상기의 단계(S11~S43)을 수행한다. If the current first unit pattern is not the last pattern, increase the sequence number of the current unit unit pattern by 1 (S45), acquire image data through the image acquisition unit 10, and input the image data to the driving control unit 20 The above steps (S11 to S43) are performed.

이상에서와 같이, 복수의 단위 패턴들에 대해서 상기 과정을 수행하면, 정보점의 거리 좌표를 정보로 하는 정보 데이터 세트가 된다. As described above, when the above process is performed on a plurality of unit patterns, it becomes an information data set using distance coordinates of information points as information.

제1 단위 패턴이 마지막 패턴이면, 단위 패턴 세트의 정보 데이터 세트와 진품 판정 데이터를 비교(S46)하여, 정보 데이터 세트가 저장부에 저장된 진품 판정 데이터를 만족하는지 판단(S47)한다. If the first unit pattern is the last pattern, the information data set of the unit pattern set is compared with the authenticity determination data (S46), and it is determined whether the information data set satisfies the authenticity determination data stored in the storage (S47).

이때, 진품 판정 데이터는 도 8에서 형성한 위조 방지 패턴으로, 오차 범위를 포함하는 거리 좌표이다. 예를 들어, 오차 범위가 1㎛이고, 형성한 정보점의 거리 좌표가 (10㎛, 10㎛)이면, 진품 판정 데이터는 (9㎛~11㎛, 9㎛~11㎛)이다. 오차 범위는 위조 방지 패턴을 형성할 때 기계의 정밀도 등을 고려해서 설정될 수 있다. At this time, the authenticity determination data is a forgery prevention pattern formed in FIG. 8 and is a distance coordinate including an error range. For example, if the error range is 1 µm, and the distance coordinates of the formed information points are (10 µm, 10 µm), authenticity determination data is (9 µm to 11 µm, 9 µm to 11 µm). The error range may be set in consideration of machine precision and the like when forming the anti-counterfeiting pattern.

정보 데이터 세트가 진품 판정 데이터를 만족할 경우, 대상물의 상태를 진품으로 판정(S48)하고, 판정 결과를 출력부로 출력(S50)한 후 종료한다. When the information data set satisfies the authenticity determination data, the state of the object is judged as authentic (S48), the judgment result is output to the output unit (S50), and the process ends.

정보 데이터 세트가 진품 판정 데이터를 만족하지 않을 경우 대상물의 상태를 가품으로 판정(S49)하고 판정 결과를 출력부로 출력(S50)한 후 종료한다. If the information data set does not satisfy the authenticity determination data, the state of the object is judged as a fake (S49), the judgment result is output to the output unit (S50), and the process ends.

예를 들어, 산출된 정보점의 거리 좌표가 (10㎛, 12㎛)이나, 진품 판정 데이터에 저장된 정보점의 거리 좌표가 (10㎛, 10㎛)이면, 진품 판정 데이터를 만족하지 못하므로 가품으로 판정한다. 그리고 산출된 정보점의 거리 좌표가 (10㎛, 11㎛)이면 진품 판정 데이터를 만족하므로 진품으로 판정된다. For example, if the distance coordinate of the calculated information point is (10 µm, 12 µm), but the distance coordinate of the information point stored in the authenticity determination data is (10 µm, 10 µm), the authenticity determination data is not satisfied, so It is judged. And if the distance coordinates of the calculated information points are (10 µm, 11 µm), the authenticity determination data is satisfied, so it is determined as authentic.

이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described through the above, the present invention is not limited thereto, and it is possible to carry out various modifications within the scope of the claims and detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it is within the scope of the invention.

Claims (13)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 대상물을 준비하는 단계,
상기 대상물에 제1 기준점 및 제2 기준점을 형성하는 단계,
상기 제1 기준점과 상기 제2 기준점을 촬영하는 단계,
촬영된 상기 제1 기준점과 상기 제2 기준점 사이의 제1 거리를 추출하는 단계,
상기 제1 기준점을 제1 기준 좌표 (0, 0)으로 하고, 상기 제1 거리를 상기 제2 기준점의 X값 또는 Y값으로 하는 제2 기준 좌표를 설정하는 단계,
상기 제1 거리를 기준거리로 하여, 형성하고자 하는 정보점의 좌표의 X값 및 Y값에 각각 대응하는 제2 거리 및 제3 거리를 산출하는 단계,
상기 제1 기준점으로부터 제1 방향으로 상기 제2 거리만큼 이격되고, 상기 제1 방향에 대해서 교차하는 제2 방향으로 상기 제3 거리만큼 이격된 위치에 정보점을 형성하는 단계
를 포함하고,
상기 제2 거리 및 제3 거리는 상기 제1 거리보다 짧으며, 상기 제1 기준점, 제2 기준점 및 정보점은 레이저 가공 장치로 형성하고,
상기 정보점의 좌표는 상기 기준거리에 대한 상기 제2 거리의 비율을 X값으로 하고, 상기 제1 거리에 대한 상기 제3 거리의 비율을 Y값으로 하는 비율 좌표이며,
상기 제2 기준 좌표를 설정하는 단계에서,
상기 제1 거리를 '1'로 변경하는 단계를 더 포함하고,
상기 제2 기준 좌표는 (0, 1) 또는 (1, 0)인 위조 방지 패턴 형성 방법.
Preparing the object,
Forming a first reference point and a second reference point on the object,
Photographing the first reference point and the second reference point,
Extracting a first distance between the photographed first reference point and the second reference point,
Setting second reference coordinates, wherein the first reference point is a first reference coordinate (0, 0), and the first distance is an X value or a Y value of the second reference point,
Calculating a second distance and a third distance corresponding to the X and Y values of the coordinates of the information points to be formed, using the first distance as a reference distance,
Forming an information point at a position spaced apart from the first reference point by the second distance in a first direction and spaced apart by the third distance in a second direction intersecting with respect to the first direction
Including,
The second distance and the third distance are shorter than the first distance, and the first reference point, the second reference point, and the information point are formed by a laser processing device,
The coordinates of the information point are ratio coordinates in which a ratio of the second distance to the reference distance is an X value, and a ratio of the third distance to the first distance is a Y value,
In the step of setting the second reference coordinate,
Further comprising the step of changing the first distance to '1',
The second reference coordinate is (0, 1) or (1, 0) anti-counterfeiting pattern forming method.
삭제delete 삭제delete 대상물에 레이저 빔을 조사하는 레이저 발생부,
상기 레이저 빔으로 형성한 위조 방지 패턴을 촬영하는 촬영부,
상기 촬영부로부터 촬영된 영상 데이터를 저장하는 저장부,
상기 레이저 빔의 조사 위치를 제어하는 제어부
를 포함하고,
상기 저장부에는 문자 또는 숫자를 포함하는 위조 방지용 데이터에 대응하는 제1 기준점, 제2 기준점 및 정보점의 좌표가 저장되어 있고,
상기 제어부는 상기 저장부에 저장된 상기 정보점의 좌표에 따라 상기 레이저 빔의 조사 위치를 제어하되,
상기 제어부는 상기 영상 데이터로부터 상기 제1 기준점과 상기 제2 기준점 사이의 제1 거리로 기준 거리를 산출하고,
상기 기준 거리를 이용하여 상기 정보점의 좌표에 대응하는 상기 정보점의 제2 거리 및 제3거리를 산출하여 상기 레이저 빔 조사 위치를 산출하고,
상기 정보점의 좌표는 상기 기준 거리에 대한 상기 제2 거리 및 상기 제3 거리의 비율인 위조 방지 패턴 생성 장치.
A laser generator that irradiates a target with a laser beam,
Shooting unit for photographing the anti-counterfeiting pattern formed by the laser beam,
A storage unit that stores image data captured by the photographing unit,
Control unit for controlling the irradiation position of the laser beam
Including,
The storage unit stores coordinates of a first reference point, a second reference point, and an information point corresponding to data for preventing forgery including letters or numbers,
The control unit controls the irradiation position of the laser beam according to the coordinates of the information point stored in the storage unit,
The control unit calculates a reference distance from the image data as a first distance between the first reference point and the second reference point,
The second distance and the third distance of the information point corresponding to the coordinates of the information point are calculated using the reference distance to calculate the laser beam irradiation position,
The coordinate of the information point is a ratio of the second distance and the third distance to the reference distance, the anti-counterfeiting pattern generating device.
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