KR102123275B1 - 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 - Google Patents

사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 Download PDF

Info

Publication number
KR102123275B1
KR102123275B1 KR1020190012030A KR20190012030A KR102123275B1 KR 102123275 B1 KR102123275 B1 KR 102123275B1 KR 1020190012030 A KR1020190012030 A KR 1020190012030A KR 20190012030 A KR20190012030 A KR 20190012030A KR 102123275 B1 KR102123275 B1 KR 102123275B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
wafer
flow path
pipe
storage
Prior art date
Application number
KR1020190012030A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20200008492A (ko
Inventor
주영병
Original Assignee
주식회사 에이케이테크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에이케이테크 filed Critical 주식회사 에이케이테크
Priority to KR1020190012030A priority Critical patent/KR102123275B1/ko
Publication of KR20200008492A publication Critical patent/KR20200008492A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102123275B1 publication Critical patent/KR102123275B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67389Closed carriers characterised by atmosphere control
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

개시되는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛이 측면 노즐 몸체, 측면 노즐측 가스 공급관 및 복수 개의 측면 노즐을 포함함에 따라, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 통해 가스가 공급관 연결 홀 및 가스 확산 홀의 후면의 연장선으로부터 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분에 이르는 범위로 상기 가스 확산 홀을 통해 확산되면서 유동됨에 따라, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 개구 부분에서의 와류 형성이 억제되고, 그에 따라 퓸이 상기 와류에 의해 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 개구 부분을 통해 역류하는 현상이 방지될 수 있는 장점이 있다.

Description

사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트{Side wall nozzle unit for wafer seating cassette of side storage and wafer seating cassette of side storage comprising the side wall nozzle unit for wafer seating cassette of side storage}
본 발명은 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트에 관한 것이다.
반도체 제조를 위한 웨이퍼의 가공을 위해서는 웨이퍼 이송 자동화 모듈(EFEM, equipment front end module)이 사용되는데, 이러한 웨이퍼 이송 자동화 모듈에는 웨이퍼를 가공하는 공정 챔버(process chamber)와, 상기 공정 챔버 내부로 웨이퍼를 이송시키는 트랜스퍼 챔버(transfer chamber)와, 상기 트랜스퍼 챔버 전에 웨이퍼가 거치는 로드락 챔버(loadlock chamber)와, 상기 공정 챔버를 경유한 웨이퍼가 일정 시간 동안 수용되는 사이드 스토리지(side storage)를 포함한다.
위와 같은 사이드 스토리지의 예로 제시될 수 있는 것이 아래 제시된 등록특허 제 10-1758213호(발명의 명칭: 가스 노즐플레이트를 구비한 사이드 스토리지)의 그 것이다.
상기 사이드 스토리지에서 웨이퍼가 수용되는 부분이 웨이퍼 수용 카세트인데, 이러한 웨이퍼 수용 카세트에 웨이퍼가 머무는 동안, 웨이퍼 쪽으로 퍼지 가스 등의 가스가 분사되어, 웨이퍼에 묻은 이물질을 제거하게 된다. 따라서, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트에는 가스 분사를 위한 유로가 형성된다.
이러한 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부로 가스 분사를 위하여, 등록특허 제 10-1444241호(발명의 명칭: 웨이퍼 처리장치의 배기시스템)에서는, 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 후면 및 각 측면에서 가스를 분사하는 구조를 이루고 있다.
그러나, 상기와 같은 종래 방식에서는, 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 각 측면에서 각각 수직 방향으로 가스가 분사되는 형태를 이루기 때문에, 상기와 같이 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 각 측면에서 각각 수직 방향으로 분사된 가스와 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 후면에서 분사된 가스가 서로 혼합되면서 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 개구 부분에서 와류(vortex)가 형성되고, 그에 따라 퓸(fume)이 그러한 와류에 의해 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 개구 부분을 통해 역류하여 웨이퍼가 오염되는 문제가 있었다.
또한, 종래의 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 후면에서 가스를 분사하는 유로에 의하면, 상기 웨이퍼 수용 카세트의 벽면 쪽에 상기 웨이퍼 수용 카세트의 저면에서 상단까지 연결된 가스 배관이 형성되고, 그러한 가스 배관을 통해 상기 웨이퍼 수용 카세트의 외부에서 공급된 가스가 상기 웨이퍼 수용 카세트의 저면에서 상기 웨이퍼 수용 카세트의 상단까지 수직 방향으로 그대로 상승되면서 단일한 가스 배관을 통해 공급되다가, 각 웨이퍼 사이의 노즐을 통해 분사되는 구조를 이룸으로써, 상기 웨이퍼 수용 카세트의 저면으로부터 상기 웨이퍼 수용 카세트의 상단으로 갈수록 서로 다른 높이로 배치된 각 웨이퍼에 각각 공급되는 가스의 압력이 균일하지 못하게 되는 문제가 있었다.
등록특허 제 10-1758213호, 등록일자: 2017.07.10., 발명의 명칭: 가스 노즐플레이트를 구비한 사이드 스토리지 등록특허 제 10-1444241호, 등록일자: 2014.09.18., 발명의 명칭: 웨이퍼 처리장치의 배기시스템
본 발명은 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 개구 부분에서의 와류 형성을 억제함으로써, 퓸이 상기 와류에 의해 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 개구 부분을 통해 역류하는 현상을 방지할 수 있는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적은 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내에 서로 다른 높이로 배치된 각 웨이퍼에 각각 공급되는 가스의 압력이 균일해질 수 있는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛은 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 각 측면에서 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부에 서로 다른 높이로 적층된 복수 개의 웨이퍼 사이로 가스를 분사하기 위한 것으로서,
상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 각 측면에 배치되되, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부에 서로 다른 높이로 적층된 복수 개의 상기 웨이퍼를 커버하는 면적으로 형성되는 측면 노즐 몸체; 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 외부에서 상기 측면 노즐 몸체 내부로 상기 가스를 공급하는 측면 노즐측 가스 공급관; 및 상기 측면 노즐측 가스 공급관을 통해 공급된 상기 가스를 복수 개의 상기 각 웨이퍼 사이 공간으로 각각 분사해주는 복수 개의 측면 노즐;을 포함하고,
상기 각 측면 노즐은 상기 가스가 상기 각 측면 노즐의 전방으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분까지 확산되도록 상기 가스를 분사하고,
상기 각 측면 노즐은 상기 측면 노즐측 가스 공급관과 연통되어 상기 측면 노즐측 가스 공급관을 통해 공급된 상기 가스가 유동되되, 일정 크기로 상기 측면 노즐 몸체를 관통하는 공급관 연결 홀과, 상기 공급관 연결 홀과 연통되어 상기 공급관 연결 홀을 통해 유동된 상기 가스가 유동되는 가스 확산 홀을 포함하고,
상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 이격된 상기 가스 확산 홀의 후면은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 이격된 상기 공급관 연결 홀의 후면의 연장선 상에 형성되고, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 근접된 상기 가스 확산 홀의 정면은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 근접된 상기 공급관 연결 홀의 정면에서 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분 쪽으로 점진적으로 향하는 경사면으로 형성됨으로써, 상기 측면 노즐측 가스 공급관 및 상기 공급관 연결 홀을 통해 유동된 상기 가스가 상기 공급관 연결 홀 및 상기 가스 확산 홀의 후면의 연장선으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분에 이르는 범위로 상기 가스 확산 홀을 통해 확산되면서 유동되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 후면에서 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부에 서로 다른 높이로 적층된 복수 개의 웨이퍼 사이로 가스를 분사하기 위한 후면 분사 유닛; 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 각 측면에서 복수 개의 상기 각 웨이퍼 사이로 가스를 분사하기 위한 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛;을 포함하고,
상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 각 측면에 배치되되, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부에 서로 다른 높이로 적층된 복수 개의 상기 웨이퍼를 커버하는 면적으로 형성되는 측면 노즐 몸체와, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 외부에서 상기 측면 노즐 몸체 내부로 상기 가스를 공급하는 측면 노즐측 가스 공급관과, 상기 측면 노즐측 가스 공급관을 통해 공급된 상기 가스를 복수 개의 상기 각 웨이퍼 사이 공간으로 각각 분사해주는 복수 개의 측면 노즐을 포함하고, 상기 각 측면 노즐은 상기 가스가 상기 각 측면 노즐의 전방으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분까지 확산되도록 상기 가스를 분사하고,
상기 각 측면 노즐은 상기 측면 노즐측 가스 공급관과 연통되어 상기 측면 노즐측 가스 공급관을 통해 공급된 상기 가스가 유동되되, 일정 크기로 상기 측면 노즐 몸체를 관통하는 공급관 연결 홀과, 상기 공급관 연결 홀과 연통되어 상기 공급관 연결 홀을 통해 유동된 상기 가스가 유동되는 가스 확산 홀을 포함하고,
상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 이격된 상기 가스 확산 홀의 후면은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 이격된 상기 공급관 연결 홀의 후면의 연장선 상에 형성되고, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 근접된 상기 가스 확산 홀의 정면은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 근접된 상기 공급관 연결 홀의 정면에서 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분 쪽으로 점진적으로 향하는 경사면으로 형성됨으로써, 상기 측면 노즐측 가스 공급관 및 상기 공급관 연결 홀을 통해 유동된 상기 가스가 상기 공급관 연결 홀 및 상기 가스 확산 홀의 후면의 연장선으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분에 이르는 범위로 상기 가스 확산 홀을 통해 확산되면서 유동되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트에 의하면, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛이 측면 노즐 몸체, 측면 노즐측 가스 공급관 및 복수 개의 측면 노즐을 포함함에 따라, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 통해 가스가 공급관 연결 홀 및 가스 확산 홀의 후면의 연장선으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분에 이르는 범위로 상기 가스 확산 홀을 통해 확산되면서 유동됨에 따라, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 개구 부분에서의 와류 형성이 억제되고, 그에 따라 퓸이 상기 와류에 의해 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 개구 부분을 통해 역류하는 현상이 방지될 수 있는 효과가 있다.
본 발명의 다른 측면에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트에 의하면, 후면 분사 유닛이 원관 연결 분할 분지관, 복수의 상승 유로관 및 복수의 분지 유로관을 포함하고, 상기 각 상승 유로관과 상기 각 분지 유로관의 연결 지점은 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부의 서로 다른 높이에 각각 형성됨으로써, 가스 공급 원관을 통해 공급된 가스가 상기 원관 연결 분할 분지관, 복수의 상기 상승 유로관 및 복수의 상기 분지 유로관을 경유하면서, 균일한 압력으로 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부에 함께 공급될 수 있으므로, 단일한 가스 배관을 통해 각 웨이퍼에 상기 가스를 공급하던 종래 방식에 비해 서로 다른 높이로 배치된 상기 각 웨이퍼에 각각 공급되는 상기 가스의 압력이 균일해질 수 있게 되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트를 위에서 내려다본 수평 단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부에서의 가스 유동을 위에서 내려다본 수평 단면도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 측면 노즐 유닛을 보이는 정면도.
도 4는 도 3에 도시된 A-A'선에 따른 단면도.
도 5는 도 4에 도시된 B부분을 확대한 도면.
도 6은 도 5에 도시된 측면 노즐 유닛에서의 가스 유동을 보이는 수평 단면도.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트를 구성하는 후면 분사 유닛을 정면에서 바라본 수직 단면도.
도 8은 도 7에 도시된 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트를 구성하는 후면 분사 유닛에서의 가스 흐름을 보이는 수직 단면도.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트를 구성하는 후면 분사 유닛을 정면에서 바라본 수직 단면도.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트를 구성하는 후면 분사 유닛에 적용되는 제 1 압력 조절 부재를 보이는 단면도.
도 11은 도 10에 도시된 제 1 압력 조절 부재가 확장된 모습을 보이는 단면도.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트를 위에서 내려다본 수평 단면도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부에서의 가스 유동을 위에서 내려다본 수평 단면도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 측면 노즐 유닛을 보이는 정면도이고, 도 4는 도 3에 도시된 A-A'선에 따른 단면도이고, 도 5는 도 4에 도시된 B부분을 확대한 도면이고, 도 6은 도 5에 도시된 측면 노즐 유닛에서의 가스 유동을 보이는 수평 단면도이고, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트를 구성하는 후면 분사 유닛을 정면에서 바라본 수직 단면도이고, 도 8은 도 7에 도시된 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트를 구성하는 후면 분사 유닛에서의 가스 흐름을 보이는 수직 단면도이다.
도 1 내지 도 8을 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛(140)은 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 각 측면에서 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100) 내부에 서로 다른 높이로 적층된 복수 개의 웨이퍼(W) 사이로 가스를 분사하기 위한 것으로서, 측면 노즐 몸체(141)와, 측면 노즐측 가스 공급관(142)과, 복수 개의 측면 노즐(145)을 포함한다.
본 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)는 후면 분사 유닛(130)과, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛(140)을 포함한다.
도면 번호 110은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 케이스로 그 내부에 상기 웨이퍼가 복수 개 서로 다른 높이로 수용되는 것이고, 도면 번호 120은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 케이스(110) 내부의 양 측면에서 서로 다른 높이로 복수 개 돌출되어 상기 각 웨이퍼를 받쳐주는 웨이퍼 받침대이다.
상기 측면 노즐 몸체(141)는 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 각 측면에 배치되되, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100) 내부에 서로 다른 높이로 적층된 복수 개의 상기 웨이퍼를 커버하는 면적으로 형성되는 것이다.
상기 측면 노즐측 가스 공급관(142)는 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 외부에서 상기 측면 노즐 몸체(141) 내부로 상기 가스를 공급하는 것이다.
복수 개의 상기 측면 노즐(145)은 상기 측면 노즐측 가스 공급관(142)을 통해 공급된 상기 가스를 복수 개의 상기 각 웨이퍼 사이 공간으로 각각 분사해주는 것이다.
상기 측면 노즐 몸체(141)는 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 각 측면을 덮을 수 있는 플레이트 형태로 형성되고, 상기 측면 노즐측 가스 공급관(142)은 상기 측면 노즐 몸체(141)의 하부에서 그 상부까지 연통된 형태로 형성되고, 상기 각 측면 노즐(145)은 상기 측면 노즐측 가스 공급관(142)과 서로 다른 높이에서 연통되되 상기 각 웨이퍼 사이 공간을 향해 개구됨으로써 상기 각 웨이퍼 사이 공간을 통해 상기 가스를 분사할 수 있다.
본 실시예에서는, 상기 각 측면 노즐(145)은 상기 가스가 상기 각 측면 노즐(145)의 전방으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분(111)까지 확산되도록 상기 가스를 분사하는 것을 특징으로 한다.
상세히, 상기 각 측면 노즐(145)은 공급관 연결 홀(146)과, 가스 확산 홀(147)을 포함한다.
상기 공급관 연결 홀(146)은 상기 측면 노즐측 가스 공급관(142)과 연통되어 상기 측면 노즐측 가스 공급관(142)을 통해 공급된 상기 가스가 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100) 내부 쪽으로 유동되되, 일정 크기로 상기 측면 노즐 몸체(141)를 관통하는 형태로 이루어진다.
상기 공급관 연결 홀(146)은 상기 측면 노즐측 가스 공급관(142)으로부터 상기 가스 확산 홀(147)에 이르기까지 동일한 단면 형태 및 동일한 크기로 형성될 수 있다.
상기 가스 확산 홀(147)은 상기 공급관 연결 홀(146)과 연통되어 상기 공급관 연결 홀(146)을 통해 유동된 상기 가스가 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100) 내부 쪽으로 분사되도록 하는 것이다.
본 실시예에서는, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분(111)과 상대적으로 가장 이격된 상기 가스 확산 홀(147)의 후면은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분(111)과 상대적으로 가장 이격된 상기 공급관 연결 홀(146)의 후면의 연장선 상에 형성되고, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분(111)과 상대적으로 가장 근접된 상기 가스 확산 홀(147)의 정면은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분(111)과 상대적으로 가장 근접된 상기 공급관 연결 홀(146)의 정면에서 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분(111) 쪽으로 점진적으로 향하는 경사면으로 형성됨으로써, 상기 측면 노즐측 가스 공급관(142) 및 상기 공급관 연결 홀(146)을 통해 유동된 상기 가스가 상기 공급관 연결 홀(146) 및 상기 가스 확산 홀(147)의 후면의 연장선으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분(111)에 이르는 범위로 상기 가스 확산 홀(147)을 통해 확산되면서 유동될 수 있게 된다.
상기와 같이, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛(140)을 통해 상기 가스가 상기 공급관 연결 홀(146) 및 상기 가스 확산 홀(147)의 후면의 연장선으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분(111)에 이르는 범위로 상기 가스 확산 홀(147)을 통해 확산되면서 유동됨에 따라, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 개구 부분에서의 와류 형성이 억제되고, 그에 따라 퓸이 상기 와류에 의해 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 개구 부분(111)을 통해 역류하는 현상이 방지될 수 있다.
상기 후면 분사 유닛(130)은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 후면에서 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100) 내부에 서로 다른 높이로 적층된 복수 개의 상기 웨이퍼 사이로 가스를 분사하기 위한 것이다.
상세히, 상기 후면 분사 유닛(130)은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 케이스(110) 후면에 설치되어, 외부에서 공급되는 퍼지 가스 등의 가스를 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 케이스(110) 내부의 상기 각 웨이퍼 쪽으로 후방에서 분사해준다.
도면 번호 135는 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 후면에서의 가스 공급을 위해 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 외부에서 상기 후면 분사 유닛(130)으로 상기 가스가 공급되는 가스 공급 원관이다.
도면 번호 132는 상기 후면 분사 유닛(130)에 형성되어, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100) 내부에 서로 다른 높이로 배치된 각 상기 웨이퍼 사이로 상기 가스를 각각 분사해주는 복수의 후면 노즐이다.
상기 후면 분사 유닛(130)은 상기 가스 공급 원관(135)을 통해 공급된 상기 가스를 상기 각 후면 노즐(132)까지 분배하기 위하여, 원관 연결 분할 분지관(151)과, 복수의 상승 유로관(152, 153)과, 복수의 분지 유로관(154, 155, 156)을 포함하고, 상기 각 상승 유로관(152, 153)과 상기 각 분지 유로관(154, 155, 156)의 연결 지점은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100) 내부의 서로 다른 높이에 각각 형성됨으로써, 상기 가스 공급 원관(135)을 통해 공급된 상기 가스가 상기 원관 연결 분할 분지관(151), 복수의 상기 상승 유로관(152, 153) 및 복수의 상기 분지 유로관(154, 155, 156)을 경유하면서, 균일한 압력으로 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100) 내부에 함께 공급될 수 있는 것을 특징으로 한다.
도면 번호 131은 상기 각 후면 노즐(132)이 서로 다른 높이로 배열되고, 그 하부에 상기 가스 공급 원관(135)이 연결되는 후면 분사 케이스이다.
복수의 상기 후면 노즐(132)은 서로 다른 높이로 배치된 상기 각 웨이퍼 사이로 상기 가스를 각각 분사해주도록 상기 후면 분사 케이스(131) 내부에 배치되되, 상기 각 후면 노즐(132)은 상기 각 웨이퍼의 폭 방향으로 일정 길이로 길게 형성되며, 상기 각 후면 노즐(132)에는 각각 복수 개의 분사공(133)이 형성됨으로써, 상기 각 후면 노즐(132)을 통해 상기 각 웨이퍼의 폭 방향으로 넓게 상기 가스가 분사될 수 있게 된다.
상기 원관 연결 분할 분지관(151)은 상기 가스 공급 원관(135)과 연결되되, 상기 가스 공급 원관(135)을 통해 공급된 상기 가스가 복수로 분할 유동되도록 상기 가스 공급 원관(135)으로부터 복수로 분할된 형태로 이루어지는 것이다.
상세히, 상기 가스 공급 원관(135)은 상기 후면 분사 케이스(131)의 바닥 부분을 통해 외부의 가스 공급 유닛(미도시)과 연결되고, 상기 원관 연결 분할 분지관(151)은 상기 후면 분사 케이스(131)의 바닥 부분에서 상기 가스 공급 원관(135)과 연통되되 수평 방향으로 복수로 분지된 형태를 이룬다.
더욱 상세히, 상기 원관 연결 분할 분지관(151)은 상기 후면 분사 케이스(131)의 바닥 부분에서 수평 방향으로 서로 멀어지도록 복수 개로 분지되되, 상기 각 후면 노즐(132)의 각 외곽까지 각각 연장된다.
본 실시예에서는, 상기 원관 연결 분할 분지관(151)이 상기 후면 분사 케이스(131)의 바닥 부분의 중앙부에서 상기 가스 공급 원관(135)과 연결되되 그로부터 상기 후면 분사 케이스(131)의 바닥 부분의 양 측면 방향을 따라 두 갈래로 수평 방향으로 서로 대칭되도록 분지되되, 상기 후면 분사 케이스(131)에서 상기 각 후면 노즐(132)의 각 외곽 부분에 이르기까지 연장된 형태를 이룬다.
복수의 상기 상승 유로관(152, 153)은 상기 원관 연결 분할 분지관(151)의 복수의 각 말단부와 연결되되, 상기 원관 연결 분할 분지관(151)을 통해 각각 유동된 상기 가스가 상기 후면 분사 케이스(131)의 내부를 따라 복수의 유로로 각각 상승되도록 상기 후면 분사 케이스(131) 내부를 따라 상하 방향으로 연결된 것이다.
상세히, 상기 각 상승 유로관(152, 153)은 상기 후면 분사 케이스(131)의 수직 방향으로 서로 이격된 형태로 배열된다.
더욱 상세히, 상기 각 상승 유로관(152, 153)은 상기 각 후면 노즐(132)의 외곽 쪽을 따라 각각 배열된다.
본 실시예에서는, 상기 상승 유로관(152, 153)은 제 1 상승 유로관(152)과, 제 2 상승 유로관(153)을 포함한다.
상기 제 1 상승 유로관(152)은 상기 원관 연결 분할 분지관(151)의 일 측 말단부에서 굽혀진 형태로 이루어지되, 상기 후면 분사 케이스(131)에서 상기 각 후면 노즐(132)의 일 측 외곽을 따라 수직으로 상승하는 형태로 배열되는 것이다.
상기 제 2 상승 유로관(153)은 상기 원관 연결 분할 분지관(151)의 타 측 말단부에서 굽혀진 형태로 이루어지되, 상기 후면 분사 케이스(131)에서 상기 각 후면 노즐(132)의 타 측 외곽을 따라 수직으로 상승하는 형태로 배열된다.
상기 제 1 상승 유로관(152)은 상기 후면 분사 케이스(131)에서 상기 각 후면 노즐(132)의 일 측 외곽을 따라 수직으로 상승된 형태로 배열되되, 상기 후면 분사 케이스(131)의 일 측면 중앙부까지 연장된 형태를 이루고, 상기 제 2 상승 유로관(153)은 상기 후면 분사 케이스(131)에서 상기 각 후면 노즐(132)의 타 측 외곽을 따라 수직으로 상승된 형태로 배열되되, 상기 후면 분사 케이스(131)의 타 측면 상부까지 연장된 형태를 이룬다.
복수의 상기 분지 유로관(154, 155, 156)은 상기 각 상승 유로관(152, 153)과 상기 후면 분사 케이스(131) 내부에 서로 다른 높이로 형성된 상기 각 후면 노즐(132)을 연결하는 것이다.
상세히, 상기 각 분지 유로관(154, 155, 156)은 상기 후면 분사 케이스(131)의 수평 방향으로 상기 후면 분사 케이스(131)의 서로 다른 높이 상에 각각 배열되는 것이다.
더욱 상세히, 상기 각 분지 유로관(154, 155, 156)은 상기 각 후면 노즐(132)의 중앙부와 연결되어 상기 가스를 공급하되, 상기 각 상승 유로관(152, 153)에서 분지되는 상기 각 분지 유로관(154, 155, 156)은 상기 후면 분사 케이스(131)의 하부에서 상기 후면 분사 케이스(131)의 상부로 갈수록 서로 교차되도록 대향되는 방향으로 상기 가스를 각각 공급한다.
상기 각 분지 유로관(154, 155, 156)은 서로 다른 높이의 상기 각 후면 노즐(132) 사이로 배열되어, 그 이웃하는 적어도 두 개의 상기 후면 노즐(132)에 상기 가스를 공급한다.
본 실시예에서는, 상기 분지 유로관(154, 155, 156)은 제 1 분지 유로관(154)과, 제 2 분지 유로관(155)과, 제 3 분지 유로관(156)을 포함한다.
상기 제 1 분지 유로관(154)은 상기 제 1 상승 유로관(152)에서 분지되되, 복수의 상기 후면 노즐(132) 중 이웃하는 두 개 사이를 따라 배열되어, 복수의 상기 후면 노즐(132) 중 상기 이웃하는 두 개를 포함한 복수 개의 상기 후면 노즐(132)로 함께 상기 가스를 분할 공급하는 것이다.
상기 제 2 분지 유로관(155)은 상기 제 2 상승 유로관(153)에서 분지되되, 복수의 상기 후면 노즐(132) 중 상기 제 1 분지 유로관(154)과 미연결된 이웃하는 두 개 사이를 따라 배열되어, 복수의 상기 후면 노즐(132) 중 상기 제 1 분지 유로관(154)과 미연결된 상기 이웃하는 두 개를 포함한 복수 개의 상기 후면 노즐(132)로 함께 상기 가스를 분할 공급하는 것이다.
상기 제 3 분지 유로관(156)은 상기 제 2 상승 유로관(153)에서 분지되되, 복수의 상기 후면 노즐(132) 중 상기 제 1 분지 유로관(154) 및 상기 제 2 분지 유로관(155)과 미연결된 이웃하는 두 개 사이를 따라 배열되어, 복수의 상기 후면 노즐(132) 중 상기 제 1 분지 유로관(154) 및 상기 제 2 분지 유로관(155)과 미연결된 상기 이웃하는 두 개를 포함한 복수 개의 상기 후면 노즐(132)로 함께 상기 가스를 분할 공급하는 것이다.
상기 제 1 분지 유로관(154)을 따라 유동되는 상기 가스는 상기 제 2 분지 유로관(155) 및 상기 제 3 분지 유로관(156)을 따라 각각 유동되는 상기 가스와 서로 평행하되, 서로 대향류가 되는 방향으로 유동된다.
상기 제 1 분지 유로관(154), 상기 제 2 분지 유로관(155) 및 상기 제 3 분지 유로관(156)은 복수 개의 상기 후면 노즐(132) 중 동일한 것에는 연결되지 아니하고, 복수 개의 상기 후면 노즐(132) 중 서로 다른 것에만 연결된다.
또한, 상기 제 1 분지 유로관(154)이 복수 개의 상기 후면 노즐(132) 중 상기 후면 분사 케이스(131)의 중앙부 높이에 있는 것에 상기 후면 분사 케이스(131)의 일 측면에서 상기 후면 분사 케이스(131)의 중앙부를 향해 상기 가스를 공급하고, 상기 제 2 분지 유로관(155)이 복수 개의 상기 후면 노즐(132) 중 상기 후면 분사 케이스(131)의 하부 높이에 있는 것에 상기 후면 분사 케이스(131)의 타 측면에서 상기 후면 분사 케이스(131)의 중앙부를 향해 상기 가스를 공급하고, 상기 제 3 분지 유로관(156)이 복수 개의 상기 후면 노즐(132) 중 상기 후면 분사 케이스(131)의 상부 높이에 있는 것에 상기 후면 분사 케이스(131)의 타 측면에서 상기 후면 분사 케이스(131)의 중앙부를 향해 상기 가스를 공급하는 형태를 이룬다.
도면 번호 157은 복수 개의 상기 후면 노즐(132) 중 상기 제 1 분지 유로관(154)과 연결된 것들과 상기 제 1 분지 유로관(154)을 연결시켜주는 제 1 말단 유로이고, 도면 번호 158은 복수 개의 상기 후면 노즐(132) 중 상기 제 2 분지 유로관(155)과 연결된 것들과 상기 제 2 분지 유로관(155)을 연결시켜주는 제 2 말단 유로이고, 도면 번호 159는 복수 개의 상기 후면 노즐(132) 중 상기 제 3 분지 유로관(156)과 연결된 것들과 상기 제 3 분지 유로관(156)을 연결시켜주는 제 3 말단 유로이다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛(140) 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛(140)을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 작동에 대하여 간단히 설명한다.
먼저, 외부에서 공급된 상기 가스가 상기 측면 노즐측 가스 공급관(142)을 통해 상기 측면 노즐 몸체(141)의 하부에서 그 상부 쪽으로 상승되다가, 상기 각 측면 노즐(145)을 통해 각각 분사된다.
그러면, 상기 각 측면 노즐(145)을 통해 분사되는 상기 가스가 상기 공급관 연결 홀(146) 및 상기 가스 확산 홀(147)의 후면의 연장선으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분(111)에 이르는 범위로 상기 가스 확산 홀(147)을 통해 확산되면서 분사된다.
한편, 상기 후면 분사 케이스(131)의 하부에 연결된 상기 가스 공급 원관(135)을 통해 공급된 상기 가스가 상기 원관 연결 분할 분지관(151)을 통해 상기 후면 분사 케이스(131)의 하부를 통해 양 방향으로 퍼진다.
그런 다음, 상기 원관 연결 분할 분지관(151)의 각 말단부에 연결된 상기 각 상승 유로관(152, 153)을 통해 상기 후면 분사 케이스(131)의 각 측면을 따라 상기 가스가 동시에 상승된다.
그런 다음, 상기 각 상승 유로관(152, 153)에서 각각 분지된 상기 분지 유로관(154, 155, 156)을 통해 상기 가스가 각각 유동되어 상기 각 후면 노즐(132)에 함께 공급됨으로써, 상기 각 후면 노즐(132)을 통해 균일한 압력으로 상기 각 웨이퍼로 상기 가스가 분사될 수 있게 된다.
상기와 같이, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛(140)을 통해 상기 가스가 상기 공급관 연결 홀(146) 및 상기 가스 확산 홀(147)의 후면의 연장선으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분(111)에 이르는 범위로 상기 가스 확산 홀(147)을 통해 확산되면서 유동됨에 따라, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛(140)을 통해 분사된 상기 가스가 상기 후면 분사 유닛(130)을 통해 분사된 상기 가스와 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 개구 부분에서 만나더라도, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 개구 부분에서 의 와류 형성이 억제되고, 그에 따라 퓸이 상기 와류에 의해 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 개구 부분(111)을 통해 역류하는 현상이 방지될 수 있다.
상기와 같이, 상기 후면 분사 유닛(130)이 상기 원관 연결 분할 분지관(151), 복수의 상기 상승 유로관(152, 153) 및 복수의 상기 분지 유로관(154, 155, 156)을 포함하고, 상기 각 상승 유로관(152, 153)과 상기 각 분지 유로관(154, 155, 156)의 연결 지점은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100) 내부의 서로 다른 높이에 각각 형성됨으로써, 상기 가스 공급 원관(135)을 통해 공급된 상기 가스가 상기 원관 연결 분할 분지관(151), 복수의 상기 상승 유로관(152, 153) 및 복수의 상기 분지 유로관(154, 155, 156)을 경유하면서, 균일한 압력으로 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100) 내부에 함께 공급될 수 있으므로, 단일한 가스 배관을 통해 상기 각 웨이퍼에 상기 가스를 공급하던 종래 방식에 비해 서로 다른 높이로 배치된 상기 각 웨이퍼에 각각 공급되는 상기 가스의 압력이 균일해질 수 있게 된다.
또한, 본 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛(140)이 상기 측면 노즐 몸체(141), 상기 측면 노즐측 가스 공급관(142) 및 복수 개의 상기 측면 노즐(145)을 포함함에 따라, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛(140)을 통해 상기 가스가 상기 공급관 연결 홀(146) 및 상기 가스 확산 홀(147)의 후면의 연장선으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분(111)에 이르는 범위로 상기 가스 확산 홀(147)을 통해 확산되면서 유동됨에 따라, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 개구 부분에서의 와류 형성이 억제되고, 그에 따라 퓸이 상기 와류에 의해 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트(100)의 개구 부분(111)을 통해 역류하는 현상이 방지될 수 있다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트에 대하여 설명한다. 이러한 설명을 수행함에 있어서, 상기된 본 발명의 일 실시예에서 이미 기재된 내용과 중복되는 설명은 그에 갈음하고, 여기서는 생략하기로 한다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트를 구성하는 후면 분사 유닛을 정면에서 바라본 수직 단면도이고, 도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트를 구성하는 후면 분사 유닛에 적용되는 제 1 압력 조절 부재를 보이는 단면도이고, 도 11은 도 10에 도시된 제 1 압력 조절 부재가 확장된 모습을 보이는 단면도이다.
도 9 내지 도 11을 함께 참조하면, 본 실시예에서는, 각 분지 유로관(254, 255, 256) 상에 압력 조절 부재(260, 270, 280)가 각각 적용된다.
상기 각 압력 조절 부재(260, 270, 280)는 상기 각 분지 유로관(254, 255, 256) 내부의 각 가스의 유동 압력이 동일해지도록 조절할 수 있는 것이다.
상세히, 제 1 분지 유로관(254)에는 제 1 압력 조절 부재(260)가 적용되고, 제 2 분지 유로관(255)에는 제 2 압력 조절 부재(270)가 적용되고, 제 3 분지 유로관(256)에는 제 3 압력 조절 부재(280)가 적용된다.
여기서, 상기 제 2 압력 조절 부재(270)와 상기 제 3 압력 조절 부재(280)의 구조는 상기 제 1 압력 조절 부재(260)의 구조와 동일하므로, 이하에서는 상기 제 1 압력 조절 부재(260)의 구조에 대하여 상세히 설명하고, 그러한 상기 제 1 압력 조절 부재(260)에 대한 설명으로 상기 제 2 압력 조절 부재(270) 및 상기 제 3 압력 조절 부재(280)에 대한 설명을 갈음한다.
상세히, 상기 제 1 압력 조절 부재(260)는 제 1 압력 조절 케이스(261)와, 제 1 압력 조절 탄성 변형 수단(265)과, 제 1 연결 수단(262)을 포함한다.
상기 제 1 압력 조절 케이스(261)는 상기 제 1 분지 유로관(254)의 일부가 외측으로 확장된 형태를 이루어, 상기 제 1 압력 조절 탄성 변형 수단(265)의 탄성 변형 시에 그러한 탄성 변형이 가능하도록 공간을 제공하는 것이다.
상기 제 1 압력 조절 탄성 변형 수단(265)은 상기 제 1 분지 유로관(254) 내부에 배치되어, 상기 제 1 분지 유로관(254)을 따라 유동되는 상기 가스의 유동 압력에 따라 탄성 변형되는 것이다.
더욱 상세히, 상기 제 1 압력 조절 탄성 변형 수단(265)은 전체적으로 실리콘 고무 등 탄성을 가진 물질로 이루어지고 상기 제 1 분지 유로관(254)에서의 상기 가스의 유동 방향에 대해 수직 방향으로 일정 길이로 길게 형성된 제 1 압력 조절 탄성 변형 몸체(266)와, 상기 제 1 압력 조절 탄성 변형 몸체(266)에서 상기 제 1 분지 유로관(254)을 따라 유동되는 상기 가스의 유동 방향에 대면되는 면 상에 일정 곡률로 이루어진 곡면 형태로 함몰 형성되는 제 1 압력 조절 함몰면(267)을 포함한다.
상기 제 1 연결 수단(262)은 상기 제 1 압력 조절 탄성 변형 몸체(266)를 상기 제 1 분지 유로관(254)의 내벽에 고정시킬 수 있는 볼트 등의 고정 수단이다.
상기 제 1 분지 유로관(254)을 따라 유동되는 상기 가스가 제 1 유동 압력으로 유동되는 경우에는, 도 5에 도시된 바와 같이 상기 제 1 압력 조절 탄성 변형 몸체(266)가 변형되지 아니한 원형을 그대로 유지한다.
그러다가, 상기 제 1 분지 유로관(254)을 따라 유동되는 상기 가스의 유동 압력이 변하여 상기 제 1 유동 압력에 비해 상대적으로 더 큰 제 2 유동 압력이 된 경우에는, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 압력 조절 함몰면(267)에는 상기 가스의 유동 압력이 상기 제 2 유동 압력과 상기 제 1 유동 압력의 차이만큼 더 걸리게 되므로, 상기 제 2 유동 압력과 상기 제 1 유동 압력의 차이만큼 더 걸리는 상기 가스의 유동 압력에 의해 상기 제 1 압력 조절 탄성 변형 몸체(266)가 상기 제 1 분지 유로관(254)을 따라 유동되는 상기 가스의 유동 방향에 대해 수직 방향으로 상대적으로 늘어나도록 탄성 변형되고, 그에 따라 상기 제 1 유동 압력으로 상기 가스가 유동되는 경우에 비해 상기 제 2 유동 압력으로 상기 가스가 유동되는 경우에 상기 제 1 압력 조절 탄성 변형 몸체(266)가 그 변형된 만큼 상기 제 1 압력 조절 케이스(261) 및 상기 제 1 분지 유로관(254) 내부를 상대적으로 좁아지도록 하여, 상기 제 1 분지 유로관(254)을 따라 유동되는 상기 가스의 유동 압력을 그만큼 감소시키게 된다.
상기 제 1 압력 조절 부재(260), 상기 제 2 압력 조절 부재(270) 및 상기 제 3 압력 조절 부재(280)는 동일한 구조를 이룸으로써, 상기 제 1 분지 유로관(254), 상기 제 2 분지 유로관(255) 및 상기 제 3 분지 유로관(256)에 동일한 유동 압력이 걸리는 경우, 상기 제 1 압력 조절 부재(260), 상기 제 2 압력 조절 부재(270) 및 상기 제 3 압력 조절 부재(280) 각각에 적용된 각 압력 조절 탄성 변형 몸체는 동일한 형태를 이루게 되지만, 상기 제 1 분지 유로관(254), 상기 제 2 분지 유로관(255) 및 상기 제 3 분지 유로관(256) 중 어느 하나에 다른 유동 압력이 걸리는 경우, 상기 제 1 압력 조절 부재(260), 상기 제 2 압력 조절 부재(270) 및 상기 제 3 압력 조절 부재(280) 중 해당하는 다른 유동 압력이 걸리는 것에 적용된 압력 조절 탄성 변형 몸체가 그 유동 압력의 차이만큼 변형되면서 그 유동 압력의 차이를 상쇄시키게 된다. 그러면, 상기 제 1 분지 유로관(254), 상기 제 2 분지 유로관(255) 및 상기 제 3 분지 유로관(256) 내부의 상기 가스의 유동 압력은 항상 일정하게 유지될 수 있게 된다.
상기에서 본 발명은 특정한 실시예에 관하여 도시되고 설명되었지만, 당업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 알 수 있을 것이다. 그렇지만 이러한 수정 및 변형 구조들은 모두 본 발명의 권리범위 내에 포함되는 것임을 분명하게 밝혀두고자 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트에 의하면, 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 개구 부분에서의 와류 형성을 억제함으로써, 퓸이 상기 와류에 의해 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 개구 부분을 통해 역류하는 현상을 방지할 수 있고, 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내에 서로 다른 높이로 배치된 각 웨이퍼에 각각 공급되는 가스의 압력이 균일해질 수 있으므로, 그 산업상 이용가능성이 높다고 하겠다.
100 : 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트
130 : 후면 분사 유닛
140 : 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛
141 : 측면 노즐 몸체
142 : 측면 노즐측 가스 공급관
145 : 측면 노즐

Claims (4)

  1. 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 각 측면에서 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부에 서로 다른 높이로 적층된 복수 개의 웨이퍼 사이로 가스를 분사하기 위한 것으로서,
    상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 각 측면에 배치되되, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부에 서로 다른 높이로 적층된 복수 개의 상기 웨이퍼를 커버하는 면적으로 형성되는 측면 노즐 몸체;
    상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 외부에서 상기 측면 노즐 몸체 내부로 상기 가스를 공급하는 측면 노즐측 가스 공급관; 및
    상기 측면 노즐측 가스 공급관을 통해 공급된 상기 가스를 복수 개의 상기 각 웨이퍼 사이 공간으로 각각 분사해주는 복수 개의 측면 노즐;을 포함하고,
    상기 각 측면 노즐은 상기 가스가 상기 각 측면 노즐의 전방으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분까지 확산되도록 상기 가스를 분사하고,
    상기 각 측면 노즐은
    상기 측면 노즐측 가스 공급관과 연통되어 상기 측면 노즐측 가스 공급관을 통해 공급된 상기 가스가 유동되되, 일정 크기로 상기 측면 노즐 몸체를 관통하는 공급관 연결 홀과,
    상기 공급관 연결 홀과 연통되어 상기 공급관 연결 홀을 통해 유동된 상기 가스가 유동되는 가스 확산 홀을 포함하고,
    상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 이격된 상기 가스 확산 홀의 후면은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 이격된 상기 공급관 연결 홀의 후면의 연장선 상에 형성되고,
    상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 근접된 상기 가스 확산 홀의 정면은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 근접된 상기 공급관 연결 홀의 정면에서 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분 쪽으로 점진적으로 향하는 경사면으로 형성됨으로써,
    상기 측면 노즐측 가스 공급관 및 상기 공급관 연결 홀을 통해 유동된 상기 가스가 상기 공급관 연결 홀 및 상기 가스 확산 홀의 후면의 연장선으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분에 이르는 범위로 상기 가스 확산 홀을 통해 확산되면서 유동되는 것을 특징으로 하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛.
  2. 삭제
  3. 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 후면에서 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부에 서로 다른 높이로 적층된 복수 개의 웨이퍼 사이로 가스를 분사하기 위한 후면 분사 유닛; 및
    상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 각 측면에서 복수 개의 상기 각 웨이퍼 사이로 가스를 분사하기 위한 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛;을 포함하고,
    상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛은
    상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 각 측면에 배치되되, 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부에 서로 다른 높이로 적층된 복수 개의 상기 웨이퍼를 커버하는 면적으로 형성되는 측면 노즐 몸체와,
    상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 외부에서 상기 측면 노즐 몸체 내부로 상기 가스를 공급하는 측면 노즐측 가스 공급관과,
    상기 측면 노즐측 가스 공급관을 통해 공급된 상기 가스를 복수 개의 상기 각 웨이퍼 사이 공간으로 각각 분사해주는 복수 개의 측면 노즐을 포함하고,
    상기 각 측면 노즐은 상기 가스가 상기 각 측면 노즐의 전방으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분까지 확산되도록 상기 가스를 분사하고,
    상기 각 측면 노즐은
    상기 측면 노즐측 가스 공급관과 연통되어 상기 측면 노즐측 가스 공급관을 통해 공급된 상기 가스가 유동되되, 일정 크기로 상기 측면 노즐 몸체를 관통하는 공급관 연결 홀과,
    상기 공급관 연결 홀과 연통되어 상기 공급관 연결 홀을 통해 유동된 상기 가스가 유동되는 가스 확산 홀을 포함하고,
    상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 이격된 상기 가스 확산 홀의 후면은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 이격된 상기 공급관 연결 홀의 후면의 연장선 상에 형성되고,
    상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 근접된 상기 가스 확산 홀의 정면은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분과 상대적으로 가장 근접된 상기 공급관 연결 홀의 정면에서 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분 쪽으로 점진적으로 향하는 경사면으로 형성됨으로써,
    상기 측면 노즐측 가스 공급관 및 상기 공급관 연결 홀을 통해 유동된 상기 가스가 상기 공급관 연결 홀 및 상기 가스 확산 홀의 후면의 연장선으로부터 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 상기 각 웨이퍼 진출입을 위한 개구 부분에 이르는 범위로 상기 가스 확산 홀을 통해 확산되면서 유동되는 것을 특징으로 하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트는
    상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트의 외부에서 상기 후면 분사 유닛으로 상기 가스가 공급되는 가스 공급 원관;을 포함하고,
    상기 후면 분사 유닛은 상기 가스 공급 원관을 통해 공급된 상기 가스를 후면 노즐까지 분배하기 위하여, 원관 연결 분할 분지관과, 복수의 상승 유로관과, 복수의 분지 유로관을 포함하고,
    상기 각 상승 유로관과 상기 각 분지 유로관의 연결 지점은 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부의 서로 다른 높이에 각각 형성됨으로써, 상기 가스 공급 원관을 통해 공급된 상기 가스가 상기 원관 연결 분할 분지관, 복수의 상기 상승 유로관 및 복수의 상기 분지 유로관을 경유하면서, 균일한 압력으로 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 내부에 함께 공급될 수 있고,
    복수의 상기 후면 노즐은 서로 다른 높이로 배치된 상기 각 웨이퍼 사이로 상기 가스를 각각 분사해주도록 후면 분사 케이스 내부에 배치되되, 상기 각 후면 노즐은 상기 각 웨이퍼의 폭 방향으로 일정 길이로 길게 형성되며, 상기 각 후면 노즐에는 각각 복수 개의 분사공이 형성됨으로써, 상기 각 후면 노즐을 통해 상기 각 웨이퍼의 폭 방향으로 넓게 상기 가스가 분사될 수 있게 되고,
    상기 원관 연결 분할 분지관은 상기 가스 공급 원관과 연결되되, 상기 가스 공급 원관을 통해 공급된 상기 가스가 복수로 분할 유동되도록 상기 가스 공급 원관으로부터 복수로 분할된 형태로 이루어지고, 상기 가스 공급 원관은 상기 후면 분사 케이스의 바닥 부분을 통해 외부의 가스 공급 유닛과 연결되고, 상기 원관 연결 분할 분지관은 상기 후면 분사 케이스의 바닥 부분에서 상기 가스 공급 원관과 연통되되 수평 방향으로 복수로 분지된 형태를 이루고, 상기 원관 연결 분할 분지관은 상기 후면 분사 케이스의 바닥 부분에서 수평 방향으로 서로 멀어지도록 복수 개로 분지되되, 상기 각 후면 노즐의 각 외곽까지 각각 연장되고, 상기 원관 연결 분할 분지관이 상기 후면 분사 케이스의 바닥 부분의 중앙부에서 상기 가스 공급 원관과 연결되되 그로부터 상기 후면 분사 케이스의 바닥 부분의 양 측면 방향을 따라 두 갈래로 수평 방향으로 서로 대칭되도록 분지되되, 상기 후면 분사 케이스에서 상기 각 후면 노즐의 각 외곽 부분에 이르기까지 연장된 형태를 이루고,
    복수의 상기 상승 유로관은 상기 원관 연결 분할 분지관의 복수의 각 말단부와 연결되되, 상기 원관 연결 분할 분지관을 통해 각각 유동된 상기 가스가 상기 후면 분사 케이스의 내부를 따라 복수의 유로로 각각 상승되도록 상기 후면 분사 케이스 내부를 따라 상하 방향으로 연결된 것이고, 상기 각 상승 유로관은 상기 후면 분사 케이스의 수직 방향으로 서로 이격된 형태로 배열되고, 상기 각 상승 유로관은 상기 각 후면 노즐의 외곽 쪽을 따라 각각 배열되고, 상기 상승 유로관은 제 1 상승 유로관과, 제 2 상승 유로관을 포함하고, 상기 제 1 상승 유로관은 상기 원관 연결 분할 분지관의 일 측 말단부에서 굽혀진 형태로 이루어지되, 상기 후면 분사 케이스에서 상기 각 후면 노즐의 일 측 외곽을 따라 수직으로 상승하는 형태로 배열되고, 상기 제 2 상승 유로관은 상기 원관 연결 분할 분지관의 타 측 말단부에서 굽혀진 형태로 이루어지되, 상기 후면 분사 케이스에서 상기 각 후면 노즐의 타 측 외곽을 따라 수직으로 상승하는 형태로 배열되고, 상기 제 1 상승 유로관은 상기 후면 분사 케이스에서 상기 각 후면 노즐의 일 측 외곽을 따라 수직으로 상승된 형태로 배열되되, 상기 후면 분사 케이스의 일 측면 중앙부까지 연장된 형태를 이루고, 상기 제 2 상승 유로관은 상기 후면 분사 케이스에서 상기 각 후면 노즐의 타 측 외곽을 따라 수직으로 상승된 형태로 배열되되, 상기 후면 분사 케이스의 타 측면 상부까지 연장된 형태를 이루고,
    복수의 상기 분지 유로관은 상기 각 상승 유로관과 상기 후면 분사 케이스 내부에 서로 다른 높이로 형성된 상기 각 후면 노즐을 연결하고, 상기 각 분지 유로관은 상기 후면 분사 케이스의 수평 방향으로 상기 후면 분사 케이스의 서로 다른 높이 상에 각각 배열되고, 상기 각 분지 유로관은 상기 각 후면 노즐의 중앙부와 연결되어 상기 가스를 공급하되, 상기 각 상승 유로관에서 분지되는 상기 각 분지 유로관은 상기 후면 분사 케이스의 하부에서 상기 후면 분사 케이스의 상부로 갈수록 서로 교차되도록 대향되는 방향으로 상기 가스를 각각 공급하고, 상기 각 분지 유로관은 서로 다른 높이의 상기 각 후면 노즐 사이로 배열되어, 그 이웃하는 적어도 두 개의 상기 후면 노즐에 상기 가스를 공급하고, 상기 분지 유로관은 제 1 분지 유로관과, 제 2 분지 유로관과, 제 3 분지 유로관을 포함하고, 상기 제 1 분지 유로관은 상기 제 1 상승 유로관에서 분지되되, 복수의 상기 후면 노즐 중 이웃하는 두 개 사이를 따라 배열되어, 복수의 상기 후면 노즐 중 상기 이웃하는 두 개를 포함한 복수 개의 상기 후면 노즐로 함께 상기 가스를 분할 공급하고, 상기 제 2 분지 유로관은 상기 제 2 상승 유로관에서 분지되되, 복수의 상기 후면 노즐 중 상기 제 1 분지 유로관과 미연결된 이웃하는 두 개 사이를 따라 배열되어, 복수의 상기 후면 노즐 중 상기 제 1 분지 유로관과 미연결된 상기 이웃하는 두 개를 포함한 복수 개의 상기 후면 노즐로 함께 상기 가스를 분할 공급하고, 상기 제 3 분지 유로관은 상기 제 2 상승 유로관에서 분지되되, 복수의 상기 후면 노즐 중 상기 제 1 분지 유로관 및 상기 제 2 분지 유로관과 미연결된 이웃하는 두 개 사이를 따라 배열되어, 복수의 상기 후면 노즐 중 상기 제 1 분지 유로관 및 상기 제 2 분지 유로관과 미연결된 상기 이웃하는 두 개를 포함한 복수 개의 상기 후면 노즐로 함께 상기 가스를 분할 공급하고, 상기 제 1 분지 유로관을 따라 유동되는 상기 가스는 상기 제 2 분지 유로관 및 상기 제 3 분지 유로관을 따라 각각 유동되는 상기 가스와 서로 평행하되, 서로 대향류가 되는 방향으로 유동되고, 상기 제 1 분지 유로관, 상기 제 2 분지 유로관 및 상기 제 3 분지 유로관은 복수 개의 상기 후면 노즐 중 서로 다른 것에만 연결되고, 상기 제 1 분지 유로관이 복수 개의 상기 후면 노즐 중 상기 후면 분사 케이스의 중앙부 높이에 있는 것에 상기 후면 분사 케이스의 일 측면에서 상기 후면 분사 케이스의 중앙부를 향해 상기 가스를 공급하고, 상기 제 2 분지 유로관이 복수 개의 상기 후면 노즐 중 상기 후면 분사 케이스의 하부 높이에 있는 것에 상기 후면 분사 케이스의 타 측면에서 상기 후면 분사 케이스의 중앙부를 향해 상기 가스를 공급하고, 상기 제 3 분지 유로관이 복수 개의 상기 후면 노즐 중 상기 후면 분사 케이스의 상부 높이에 있는 것에 상기 후면 분사 케이스의 타 측면에서 상기 후면 분사 케이스의 중앙부를 향해 상기 가스를 공급하는 형태를 이루는 것을 특징으로 하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트.
KR1020190012030A 2019-01-30 2019-01-30 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트 KR102123275B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190012030A KR102123275B1 (ko) 2019-01-30 2019-01-30 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190012030A KR102123275B1 (ko) 2019-01-30 2019-01-30 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180082341A Division KR101954671B1 (ko) 2018-07-16 2018-07-16 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200008492A KR20200008492A (ko) 2020-01-28
KR102123275B1 true KR102123275B1 (ko) 2020-06-16

Family

ID=69370590

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190012030A KR102123275B1 (ko) 2019-01-30 2019-01-30 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102123275B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021178703A1 (en) * 2020-03-06 2021-09-10 Entegris, Inc. Manifold for a substrate container

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002096718A (ja) * 2000-09-26 2002-04-02 Mitsuba Corp ウォッシャ液噴射装置におけるノズル構造
KR101444241B1 (ko) * 2013-01-14 2014-09-26 우범제 웨이퍼 처리장치의 배기시스템
KR101611514B1 (ko) 2014-01-22 2016-04-11 우범제 퓸 제거 장치
JP2018503506A (ja) 2014-12-24 2018-02-08 ヴェオリア・ウォーター・ソリューションズ・アンド・テクノロジーズ・サポート 溶解ガスを含む加圧水を噴射するための最適化されたノズル

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101758213B1 (ko) 2015-09-25 2017-07-14 주식회사 싸이맥스 가스 노즐플레이트를 구비한 사이드 스토리지

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002096718A (ja) * 2000-09-26 2002-04-02 Mitsuba Corp ウォッシャ液噴射装置におけるノズル構造
KR101444241B1 (ko) * 2013-01-14 2014-09-26 우범제 웨이퍼 처리장치의 배기시스템
KR101611514B1 (ko) 2014-01-22 2016-04-11 우범제 퓸 제거 장치
JP2018503506A (ja) 2014-12-24 2018-02-08 ヴェオリア・ウォーター・ソリューションズ・アンド・テクノロジーズ・サポート 溶解ガスを含む加圧水を噴射するための最適化されたノズル

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200008492A (ko) 2020-01-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11993843B2 (en) Substrate processing apparatus
KR100725108B1 (ko) 가스 공급 장치 및 이를 갖는 기판 가공 장치
KR102465613B1 (ko) 챔버 흡기 구조 및 반응 챔버
KR101562327B1 (ko) 가스분배판 및 이를 포함하는 기판처리장치
US10847395B2 (en) Wafer storage container
KR101526505B1 (ko) 냉각 유닛 및 이를 이용한 냉각 방법, 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법
TW201113946A (en) Side gas injector for plasma reaction chamber
KR102123275B1 (ko) 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트
KR101954671B1 (ko) 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛 및 상기 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 측면 노즐 유닛을 포함하는 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트
KR20190011191A (ko) 가스 처리 장치
TWI746741B (zh) 氣體處理裝置及氣體處理方法
JP4971376B2 (ja) 気体噴射モジュール
KR100943431B1 (ko) 플라즈마 처리장치
KR102212856B1 (ko) 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 내부 후면 가스 분사 유닛
JP2004158499A (ja) 成膜装置
KR102080015B1 (ko) 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 가스 분지 유로 구조
KR101440415B1 (ko) 진공처리장치
CN113013011B (zh) 气体分配装置及等离子体处理装置
KR20070021637A (ko) 샤워 헤드 및 샤워 헤드를 포함하는 기판 처리 장치
KR100364571B1 (ko) 박막증착용 반응용기
KR102141009B1 (ko) 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 가스 분사 구조
KR100475016B1 (ko) 확산로의반응튜브
KR20190111600A (ko) 가스 분배 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR100682743B1 (ko) 쓰리윙 타입의 박막증착장치용 샤워헤드
US20230162993A1 (en) Fluid delivery system

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant