KR102102131B1 - 결합형 포커스 링 - Google Patents

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박진경
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주식회사 테크놀로지메이컬스
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Abstract

본 발명은 포커스 링을 복수개로 분리하여 조립하게 되어 플라즈마에 노출되어 식각 소모가 발생하는 부분만 교체할 수 있는 결합형 포커스 링에 관한 것으로, 정전 척의 상부 외측에 놓여지는 상부 플라즈마 노출링과, 상기 상부 플라즈마 노출링의 하부에 밀착 조립되는 하부 열전도 지지링과, 상기 하부 열전도 지지링의 외측에 조립되는 결합링과, 상기 상부 플라즈마 노출링과 하부 열전도 지지링을 결합시키는 제1결합부와, 상기 상부 플라즈마 노출링과 결합링을 결합시키는 제2결합부를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

결합형 포커스 링{COMBINED FOCUS RING}
본 발명은 결합형 포커스 링에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 포커스 링을 복수개로 분리하여 조립하게 되어 플라즈마에 노출되어 식각 소모가 발생하는 부분만 교체할 수 있는 결합형 포커스 링에 관한 것이다.
일반적으로 반도체를 제조하기 위해 사용되는 식각 기술은 반도체 기판에 형성시킨 막질을 원하는 패턴으로 가공하는 기술이며, 이러한 가공을 위해 사용되는 것이 식각장치이다.
특히, 식각장치 중에서도 플라즈마를 이용하여 패턴을 형성하는 식각장치를 플라즈마 에칭장치 또는 건식식각장치라고 하며, 이러한 건식식각장치는 0.15㎛ 이하의 디자인 룰(design rule)이 요구되는 기술에 주로 이용된다.
도 1은 일반적인 건식식각장치를 도시한 것으로서, 프로세스 챔버(10)의 내부에는 웨이퍼(W)가 안착되도록 하는 정전 척(11)이 구비되고, 정전 척(11)의 저면에는 하부 전극(12)이 구비되며, 정전 척(11)으로부터 소정의 높이에는 상부 전극(13)이 구비된다.
그리고, 상부 전극(13)이 구비되는 프로세스 챔버(10)의 상부 또는 일측으로부터는 반응 가스가 공급되도록 한다.
따라서, 프로세스 챔버(10)의 정전 척(11)에 웨이퍼(W)를 안착시킨 상태에서 내부로 반응 가스를 공급하면서 하부 전극(12)과 상부 전극(13)으로 RF 바이어스를 인가하게 되면 웨이퍼(W)의 상부에서는 플라즈마가 발생되면서 이 플라즈마가 웨이퍼(W)의 막질과 충돌하여 식각이 이루어지게 되는 것이다.
플라즈마를 이용하여 웨이퍼(W)를 식각하는 공정 수행 중 정전 척(11)에서 웨이퍼(W)는 통상 에지링(14)에 의해 외측이 감싸지면서 플라즈마가 웨이퍼(W) 에지링(14)에까지 균일하게 분포하도록 하고 있다.
대한민국 공개특허공보 제10-2005-0091854호(이하, '특허문헌 1' 이라 함)의 "반도체 웨이퍼 제조 장치의 포커스 링"에 의한 포커스 링의 구조를 살펴보면, 포커스 링은 외측 링과 내측 링으로 분할 형성되되 외측 링과 내측 링이 서로 수직 형태로 분리되며, 웨이퍼는 내측 링의 상단에만 접촉된다.
또한, 상기 외측 링은 웨이퍼를 중심으로 바깥 쪽에 위치하여 내커버 링의 안쪽과 접촉 결합되며, 내측 링은 외측 링의 안쪽에 결합된다.
이러한 종래의 특허문헌 1에 의한 포커스 링이 외측 링과 내측 링으로 수직 방향으로 분리 조립함으로써 분리 조립된 부분에 갭(gap)이 발생되고 갭에 의해 내측와 외측의 온도 전달율에 차이가 발생하게 되며, 외측 링과 내측 링 사이의 갭에 의해 폴리머가 도포되면 아킹(arcing)이 발생되는 문제점이 있었다.
또한, 외측 링과 내측 링의 분리된 갭의 발생에 의해 플라즈마 전위차가 발생하여 플라즈마 시스의 변화에 의해 웨이퍼 엣지 수율에 문제를 유발하게 된다.
대한민국 공개특허공보 제10-2005-0091854호
따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 그 목적은 포커스 링을 상,하 수평방향으로 복수개로 분리 조립하게 됨으로써 상부 플라즈마 노출 부분만 교체가 가능하고 각각의 포커스 링을 동일 소재 또는 다른 소재를 혼합하여 제조가 가능하게 되어 작업의 효율 및 비용을 절감할 수 있는 결합형 포커스 링을 제공할 수 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 결합형 포커스 링은 정전 척의 상부 외측에 놓여지는 상부 플라즈마 노출링과, 상기 상부 플라즈마 노출링의 하부에 밀착 조립되는 하부 열전도 지지링과, 상기 하부 열전도 지지링의 외측에 조립되는 결합링과, 상기 상부 플라즈마 노출링과 하부 열전도 지지링을 결합시키는 제1결합부와, 상기 상부 플라즈마 노출링과 결합링을 결합시키는 제2결합부를 포함할 수 있다.
상기 제1결합부는 상부 플라즈마 노출링의 안쪽 면 외측에 형성되는 제1조립탭과, 상기 하부 열전도 지지링의 상단 외측면에 형성되고 제1조립탭과 결합되어 상부 플라즈마 노출링과 하부 열전도 지지링을 결합하는 제2조립탭을 포함할 수 있다.
상기 제1조립탭은 상부 플라즈마 노출링의 하부 외측면에 형성되며, 상기 제2조립탭은 하부 열전도 지지링의 상단 내측면에 형성되어 제1조립탭과 조립될 수 있다.
상기 제2결합부는 상부 플라즈마 노출링의 바깥쪽 면 외측에 형성되는 제1체결탭과, 상기 결합링의 상부 내측에 형성되어 제1체결캡과 결합되어 상부 플라즈마 노출링과 결합링을 결합하는 제2체결탭을 포함할 수 있다.
상기 하부 열전도 지지링과 결합링에 형성되어 하부 열전도 지지링과 결합링이 조립될 때 밀착효율을 높일 수 있도록 단차부를 더 포함할 수 있다.
상기 단차부는 하부 열전도 지지링의 상부 외측에 형성되는 상부단턱과, 상기 결합링의 내측 상부에 형성되어 상부단턱과 밀착되는 하부단턱을 포함할 수 있다.
상기 상부 플라즈마 노출링과 하부 열전도 지지링 사이에 구비되어 열전도율을 높일 수 있도록 열전도성 시트를 더 포함할 수 있다.
상기 열전도성 시트는 실리콘으로 이루어지되 알루미나 또는 실리콘 카바이드(SiC)의 열전도성이 높은 첨가제가 함유될 수 있다.
상기 상부 플라즈마 노출링의 하부에 볼트체결홈이 형성되고 상기 하부 열전도 지지링에 상하를 관통하여 볼트체결홈과 연통되도록 삽입홈이 형성되어 상기 삽입홈과 볼트체결홈에 체결볼트가 체결될 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 결합형 포커스 링에 의하면, 포커스 링을 상부 플라즈마 노출링과 하부 열전도 지지링의 상하 수평 방향의 복수개로 나누고, 이들을 제1결합부로 나사 방식으로 조립하여 상부 플라즈마 노출링과 하부 열전도 지지링의 내측와 외측을 균일하게 밀착시키고 하부 열전도 지지링의 하부에 결합링을 밀착시켜 상부 플라즈마 노출링과 제2결합부로 나사 방식으로 조립함으로써 상부 플라즈마 노출링과 하부 열전도 지지링이 갭의 발생 없이 최대한 밀착되어 온도 전달율에 차이가 발생하지 않아 제품성을 극대화할 수 있다.
또한, 본 발명은 포커스 링을 복수개로 나누어 착탈 가능하게 분리 조립함으로써 상부 플라즈마 노출링과 하부 열전도 지지링의 수명이 달라 교체 주기를 달리할 수 있어 비용을 절감할 수 있다.
도 1은 일반적인 식각장치를 도시한 측단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 결합형 포커스 링을 도시한 분해사시도이다.
도 3은 본 발명에 따른 결합형 포커스 링을 도시한 결합사시도이다.
도 4는 본 발명에 따른 결합형 포커스 링을 도시한 절단면도이다.
도 5는 도 4에 따른 결합형 포커스 링의 결합 전 상태를 도시한 절단면도이다.
도 6은 본 발명에 따른 결합형 포커스 링의 다른 조립 상태를 도시한 절단면도이다.
도 7은 본 발명에 따른 결합형 포커스 링의 또 다른 조립 상태를 도시한 절단면도이다.
도 8은 본 발명에 따른 결합형 포커스 링의 다른 일 예를 도시한 분리사시도이다.
도 9는 도 8에 따른 결합형 포커스 링을 도시한 결합단면도이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도면들에 있어서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니며 명확성을 기하기 위하여 과장된 것이다. 본 명세서에서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이며, 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 권리 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다.
본 명세서에서 '및/또는'이란 표현은 전후에 나열된 구성요소들 중 적어도 하나를 포함하는 의미로 사용된다. 또한, '연결되는/결합되는'이란 표현은 다른 구성요소와 직접적으로 연결되거나 다른 구성요소를 통해 간접적으로 연결되는 것을 포함하는 의미로 사용된다. 본 명세서에서 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 또한, 명세서에서 사용되는 '포함한다' 또는 '포함하는'으로 언급된 구성요소, 단계, 동작 및 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및 소자의 존재 또는 추가를 의미한다.
또한, '제1, 제2' 등과 같은 표현은, 복수의 구성들을 구분하기 위한 용도로만 사용된 표현으로써, 구성들 사이의 순서나 기타 특징들을 한정하지 않는다.
실시 예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 측(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 "상/위(on)"에 또는 "하/아래(under)"에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일실시 예를 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명에 따른 결합형 포커스 링을 도시한 분해사시도이며, 도 3은 본 발명에 따른 결합형 포커스 링을 도시한 결합사시도이고, 도 4는 본 발명에 따른 결합형 포커스 링을 도시한 절단면도이며, 도 5는 도 4에 따른 결합형 포커스 링의 결합 전 상태를 도시한 절단면도이고, 도 6은 본 발명에 따른 결합형 포커스 링의 다른 조립 상태를 도시한 절단면도이며, 도 7은 본 발명에 따른 결합형 포커스 링의 또 다른 조립 상태를 도시한 절단면도이고, 도 8은 본 발명에 따른 결합형 포커스 링의 다른 일 예를 도시한 분리사시도이며, 도 9는 도 8에 따른 결합형 포커스 링을 도시한 결합단면도이다.
도 2 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 결합형 포커스 링(100)은 상부 플라즈마 노출링(110)과, 하부 열전도 지지링(120)과, 결합링(130)과, 제1결합부(140)와, 제2결합부(150)를 포함하게 된다.
상기 상부 플라즈마 노출링(110)은 반도체 식각장치의 정전 척(도시하지 않음)의 상부 외측에 놓여지게 된다.
상기 상부 플라즈마 노출링(110)은 실리콘, 실리콘 카바이드(SiC), 보론 카바이드(B4C), 실리카(SiO2), 알루미나 중 적어도 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있다.
상기 하부 열전도 지지링(120)은 상부 플라즈마 노출링(110)과 별도로 분리하여 가공되며, 상기 상부 플라즈마 노출링(110)의 하부에 밀착 조립되게 된다.
상기 하부 열전도 지지링(120)은 실리콘, 실리콘 카바이드(SiC), 보론 카바이드(B4C), 실리카(SiO2), 산화알루미늄(AL2O3), 알루미나 중 적어도 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있다.
상기 결합링(130)은 하부 열전도 지지링(120)의 외측에 밀착되어 상부 플라즈마 노출링(110)과 결합되게 된다.
상기 결합링(130)은 실리콘, 실리콘 카바이드(SiC), 보론 카바이드(B4C), 실리카(SiO2), 산화알루미늄(AL2O3), 알루미나 중 적어도 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있다.
상기 제1결합부(140)는 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)에 구비되어 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)을 분리 가능하게 결합시키게 된다.
또한, 상기 제1결합부(140)는 상부 플라즈마 노출링(110)의 하부에 하부 열전도 지지링(120)을 결합시키되 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)의 내측와 외측을 균일하게 밀착시킬 수 있다.
도 4 내지 도 5에서와 같이, 상기 제1결합부(140)는 제1조립탭(141)과, 제2조립탭(142)을 포함하게 된다.
상기 제1조립탭(141)은 상부 플라즈마 노출링(110)의 안쪽 면 외측에 형성되게 된다.
또한, 상기 제1조립탭(141)은 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)이 나사 조립될 수 있도록 나사산이 형성되되 바람직하게는 암나사산으로 형성될 수 있다.
상기 제2조립탭(142)은 하부 열전도 지지링(120)의 상단 외측면에 형성되게 된다.
또한, 상기 제2조립탭(142)은 제1조립탭(141)과 결합되어 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)이 결합될 수 있도록 나사산이 형성되되 바람직하게는 숫나사산으로 형성될 수 있다.
즉, 상기 제1조립탭(141)과 제2조립탭(142)은 서로 암나사산과 숫나사산으로 형성되어 나사 방식으로 체결될 수 있다.
일 예로, 도 6에서와 같이, 상기 제1조립탭(141)은 상부 플라즈마 노출링(110)의 하부 외측면에 형성되며, 상기 제2조립탭(142)은 하부 열전도 지지링(120)의 상단 내측면에 형성되어 제1조립탭(141)과 연결될 수 있다.
이때, 상기 제1조립탭(141)은 숫나사산으로 형성되고 상기 제2조립탭(142)은 암나사산으로 형성되어 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)이 나사 방식으로 결합될 수 있다.
상기 제2결합부(150)는 상부 플라즈마 노출링(110)과 결합링(130)을 결합시키게 된다.
도 4 내지 도 7에서와 같이, 상기 제2결합부(150)는 제1체결탭(151)과, 제2체결탭(152)을 포함하게 된다.
상기 제1체결탭(151)은 상부 플라즈마 노출링(110)의 바깥쪽 면 외측에 형성되게 된다.
또한, 상기 제1체결탭(151)은 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)이 조립된 상태에서 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 결합링(130)이 나사 조립될 수 있도록 나사산이 형성되되 바람직하게는 숫나사산으로 형성될 수 있다
상기 제2체결탭(152)은 결합링(130)의 상부 내측에 형성되게 된다.
또한, 상기 제2체결탭(152)은 제1체결탭(151)과 결합되어 상부 플라즈마 노출링(110)과 결합링(130)이 결합될 수 있도록 나사산이 형성되되 바람직하게는 암나사산으로 형성될 수 있다.
즉, 상기 제1체결탭(151)과 제2체결탭(152)은 서로 암나사산과 숫나사산으로 형성되어 나사 방식으로 체결될 수 있다.
상기 하부 열전도 지지링(120)과 결합링(130)에는 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)이 결합된 상태에서 결합링(130)이 상부 플라즈마 노출링(110)과 결합될 때 하부 열전도 지지링(120)과 결합링(130)의 밀착효율을 높일 수 있도록 단차부(160)가 형성될 수 있다.
상기 단차부(160)는 하부 열전도 지지링(120)의 상부 외측에 형성되는 상부단턱(161)과, 상기 결합링(130)의 내측 상부에 형성되어 상부단턱(161)과 밀착되는 하부단턱(162)을 포함할 수 있다.
즉, 상기 상부 플라즈마 노출링(110)의 하부에 하부 열전도 지지링(120)이 수평 방향으로 분리되어 제1결합부(140)의 나사 방식으로 조립된 상태에서 상기 하부 열전도 지지링(120)의 외측면에서 결합링(130)이 상부 플라즈마 노출링(110)과 제2결합부(150)로 결합될 때 상기 단차부(160)에 의해 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)의 접촉 부위가 갭 발생 없이 견고하게 밀착될 수 있게 된다.
도 7에서와 같이, 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)은 체결볼트(B)로 체결될 수 있다.
상기 상부 플라즈마 노출링(110)이 하부에는 체결볼트(B)가 체결될 수 있도록 볼트체결홈(111)이 형성될 수 있다.
또한, 상기 하부 열전도 지지링(120)에는 볼트체결홈(111)과 연통되게 상,하를 관통하여 삽입홈(121)이 형성되며 상기 삽입홈(121)을 통해 체결볼트(B)가 삽입되어 볼트체결홈(111)에 체결될 수 있다.
도 8 내지 도 9에서와 같이, 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120) 사이에는 열전도율을 높일 수 있도록 열전도 시트(200)가 삽입될 수 있다.
상기 열전도 시트(200)는 실리콘으로 이루어지되 알루미나 또는 실리콘 카바이드(SiC)의 열전도성이 높은 첨가제가 함유될 수 있다.
상기와 같은 구조로 이루어진 본 발명의 결합형 포커스 링에 따른 작용상태를 살펴보면 아래와 같다.
상기 결합형 포커스 링(100)을 하나의 가공물을 사용하여 가공하지 않고 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)의 복수개로 나누어 각각 별도로 가공하게 된다.
그리고, 상기 상부 플라즈마 노출링(110)의 하부에 하부 열전도 지지링(120)을 수평 방향으로 분리되게 하고 상기 제1조립탭(141)과 제2조립탭(142)을 나사 방식으로 결합하여 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)을 조립하게 된다.
이와 같이, 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)을 분리하여 상,하 수평되게 하고 상기 제1결합부(140)로 나사산을 이용하여 결합함으로써 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)이 최대한 견고하고 균일하게 밀착되어 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)의 내측 또는 외측에 갭이 발생되지 않게 된다.
또한, 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)으로 분리하여 조립함으로써 어느 한 부분에 이상 발생시 결합형 포커스 링(100)의 전체를 교체할 필요가 없으며, 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)을 분리하여 상부 플라즈마 노출 부분만 교체할 수 있다.
따라서, 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120) 간에 서로 수명이 달라 교체 주기를 달리하여 교체비를 절감할 수 있는 것이다.
그리고, 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)이 제1결합부(140)를 통해 조립되고 상기 결합링(130)이 상부 플라즈마 노출링(110)과 제2결합부(150)를 통해 조립됨으로써 상기 상부 플라즈마 노출링(110)과 하부 열전도 지지링(120)의 접촉부위가 견고하게 밀착되어 갭이 발생되지 않아 플라즈마 노출면에 전달되는 플라즈마 열을 하부 열전도 지지링에서 균일한 온도를 유지할 수 있어 공정 변화가 발생되지 않게 된다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.
100 : 결합형 포커스 링 110 : 상부 플라즈마 노출링
111 : 볼트체결홈 120 : 하부 열전도 지지링
121 : 삽입홈 130 : 결합링
140 : 제1결합부 141 : 제1조립탭
142 : 제2조립탭 150 : 제2결합부
151 : 제1체결탭 152 :제2체결탭
160 : 단차부 161 : 상부단턱
162 : 하부단턱 200 : 열전도 시트
B : 체결볼트

Claims (9)

  1. 정전 척의 상부 외측에 놓여지는 상부 플라즈마 노출링;
    상기 상부 플라즈마 노출링의 하부에 밀착 조립되는 하부 열전도 지지링;
    상기 하부 열전도 지지링의 외측에 조립되는 결합링;
    상기 상부 플라즈마 노출링과 하부 열전도 지지링을 결합시키는 제1결합부; 및
    상기 상부 플라즈마 노출링과 결합링을 결합시키는 제2결합부;를 포함하여,
    상부 플라즈마 노출링과 하부 열전도 지지링이 수평 접촉면을 갖도록 결합되고,
    상기 제1결합부는, 상부 플라즈마 노출링과 하부 열전도 지지링을 제1조립탭과 제2조립탭을 통해 결합하되, 각각 암나사산과 숫나사산으로 형성되어 나사 방식으로 결합하며,
    상기 제2결합부는, 상부 플라즈마 노출링의 바깥쪽 면 외측에 형성되는 제1체결탭; 및 상기 결합링의 상부 내측에 형성되어 제1체결캡과 결합되어 상부 플라즈마 노출링과 결합링을 결합하는 제2체결탭;을 포함하고,
    상기 하부 열전도 지지링과 결합링에 형성되어 하부 열전도 지지링과 결합링이 조립될 때 밀착효율을 높일 수 있도록 단차부가 더 포함되며,
    상기 단차부는, 하부 열전도 지지링의 상부 외측에 형성되는 상부단턱; 및 상기 결합링의 내측 상부에 형성되어 상부단턱과 밀착되는 하부단턱;을 포함하고,
    상기 상부 플라즈마 노출링과 하부 열전도 지지링 사이에 구비되어 열전도율을 높일 수 있도록 열전도성 시트를 더 포함하되, 상기 열전도성 시트는 실리콘으로 이루어지고, 알루미나 또는 실리콘 카바이드(SiC)의 열전도성이 높은 첨가제가 더 함유되는 것을 특징으로 하는 결합형 포커스 링.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1결합부의 제1조립탭은, 상부 플라즈마 노출링의 안쪽 면 외측에 형성되고,
    제2조립탭은, 하부 열전도 지지링의 상단 외측면에 형성되는 것을 특징으로 하는 결합형 포커스 링.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1결합부의 제1조립탭은, 상부 플라즈마 노출링의 하부 외측면에 형성되고,
    제2조립탭은, 하부 열전도 지지링의 상단 내측면에 형성되는 것을 특징으로 하는 결합형 포커스 링.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 상부 플라즈마 노출링의 하부에 볼트체결홈이 형성되고 상기 하부 열전도 지지링에 상하를 관통하여 볼트체결홈과 연통되도록 삽입홈이 형성되어 상기 삽입홈과 볼트체결홈에 체결볼트가 체결되는 것을 특징으로 하는 결합형 포커스 링.
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