KR102085715B1 - Substrate inversion device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기반반전장치에 관한 것으로, 기판이 안착된 캐리어를 반전시키기 위한 기판반전장치는, 캐리어가 수용되기 위한 캐리어 수용부가 구비된 반전 스테이지 유닛과, 반전 스테이지 유닛에 일체로 장착되는 링회전체와, 링회전체를 회전 가능하게 지지하는 회전체 지지부와, 링회전체를 회전시키는 구동부를 포함하며, 링회전체를 다이렉트로 회전시켜 반전 스테이지 유닛이 반전 회전할 수 있게 함으로써, 기판 반전 시간을 단축하고 안정성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a base inversion apparatus, wherein a substrate inversion apparatus for inverting a carrier on which a substrate is mounted comprises: an inversion stage unit having a carrier accommodating portion for accommodating a carrier; a ring rotating body integrally mounted to the inversion stage unit; And a rotating body supporting part for rotatably supporting the ring rotating body, and a driving part for rotating the ring rotating body, and by rotating the ring rotating body directly, the inverting stage unit can be reversely rotated, thereby shortening substrate inversion time and improving stability and Reliability can be improved.
Description
본 발명은 기판반전장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 기판 반전 시간을 단축하고 안정성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있는 기판반전장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate inversion apparatus, and more particularly, to a substrate inversion apparatus capable of shortening a substrate inversion time and improving stability and reliability.
최근 정보 디스플레이에 관한 관심이 고조되고 휴대가 가능한 정보매체를 이용하려는 요구가 높아지면서 기존의 표시장치인 브라운관(Cathode Ray Tube; CRT)을 대체하는 경량 박형 평판표시장치(Flat Panel Display; FPD)에 대한 연구 및 상업화가 중점적으로 이루어지고 있다.Recently, with increasing interest in information display and increasing demand for using a portable information carrier, a lightweight flat panel display (FPD), which replaces a conventional display device, a cathode ray tube (CRT), is used. The research and commercialization of Korea is focused on.
이러한 평판표시장치 분야에서, 지금까지는 가볍고 전력소모가 적은 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device; LCD)가 가장 주목받는 디스플레이 장치였지만, 상기 액정표시장치는 발광소자가 아니라 수광소자이며, 밝기, 명암비(contrast ratio) 및 시야각 등에 단점이 있기 때문에, 이러한 단점을 극복할 수 있는 새로운 디스플레이 장치에 대한 개발이 활발하게 전개되고 있다.In the field of flat panel display devices, a liquid crystal display device (LCD) has been the most noticeable display device until now, but the liquid crystal display device is not a light emitting device but a light receiving device, and has a brightness and contrast ratio ( Due to disadvantages such as contrast ratio and viewing angle, development of a new display device capable of overcoming these disadvantages is being actively developed.
최근에 각광받고 있는 차세대 디스플레이 중 하나로서, 유기발광 디스플레이(OLED: Organic Light Emitting Display)가 있다.One of the next generation displays that are in the spotlight recently is an organic light emitting display (OLED).
유기발광 디스플레이 장치는 자체발광형이기 때문에, 상기 액정표시장치에 비해 시야각과 명암비 등이 우수하며 백라이트(backlight)가 필요하지 않기 때문에 경량 박형이 가능하고, 소비전력 측면에서도 유리하다. 또한, 직류 저전압 구동이 가능하고 응답속도가 빠르다는 장점이 있으며, 특히 제조 비용 측면에서도 유리한 장점을 가지고 있다.Since the organic light emitting display device is a self-luminous type, the viewing angle and contrast ratio are superior to those of the liquid crystal display device, and since the backlight is not required, the organic light emitting display device is light in weight and is advantageous in terms of power consumption. In addition, there is an advantage that the DC low voltage drive is possible and the response speed is fast, in particular, it has an advantage in terms of manufacturing cost.
이러한 유기발광 디스플레이 장치의 제조공정에는 액정표시장치나 플라즈마 표시패널(Plasma Display Panel; PDP)과는 달리 증착 및 봉지(encapsulation) 공정이 공정의 전부라고 할 수 있기 때문에 제조공정이 매우 단순하다. 또한, 각 화소마다 스위칭 소자인 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT)를 가지는 능동 매트릭스(active matrix)방식으로 유기발광 디스플레이 장치를 구동하게 되면, 낮은 전류를 인가하더라도 동일한 휘도를 나타내므로 저소비 전력, 고정세 및 대형화가 가능한 장점을 가진다.Unlike the liquid crystal display device or the plasma display panel (PDP), the deposition and encapsulation process are all processes in the manufacturing process of the organic light emitting display device. In addition, when the organic light emitting display device is driven by an active matrix method having a thin film transistor (TFT) which is a switching element for each pixel, the same luminance is displayed even when a low current is applied. It has the advantage that it can be aged and large.
일반적으로 유기발광 디스플레이 제조 장치에서는 기판을 반전시키기 위한 기판반전장치를 필요로 한다. 일 예로, 트랜스퍼모듈(Transfer module)에 의해 이송된 기판은 캐리어 상에 얼라인되어 안착되고, 기판반전장치에 의해 반전된 후, 증착 공정이 수행될 수 있고, 증착 공정이 완료된 후에는 다시 반대 방향으로 반전된 상태로 이송될 수 있다.In general, an organic light emitting display manufacturing apparatus requires a substrate inversion apparatus for inverting a substrate. For example, the substrate transferred by the transfer module is aligned and seated on the carrier, inverted by the substrate inversion apparatus, and then a deposition process may be performed, and again after the deposition process is completed, in the opposite direction. Can be transferred in an inverted state.
도 1은 기존 기판반전장치를 도시한 도면이다. 도 1을 참조하면, 기존 기판반전장치는 기판(12)이 안착된 캐리어(10)가 배치되는 반전스테이지(20), 구동모터에 의해 회전하는 회전체(30), 회전체(30)와 반전스테이지(20)를 연결하는 연결부재(40)를 포함한다. 기판(12)이 안착된 캐리어(10)는 제1위치(P1)에서 반전스테이지(20)에 로딩될 수 있고, 반전스테이지(20)가 180도 반전된 후에는, 기판(12)이 안착된 캐리어(10)가 제2위치(P2)에서 언로딩될 수 있다.1 is a view illustrating a conventional substrate inversion apparatus. Referring to FIG. 1, the conventional substrate reversing apparatus includes an inverting
한편, 유기발광 디스플레이 제조 공정 중에, 기판의 반전에 필요한 시간이 증가하면, 수율 및 생산성이 낮아지기 때문에 기판의 반전이 최대한 빠르고 안정적으로 정확하게 이루어질 수 있어야 한다. 특히, 여러장의 기판에 대한 처리 공정이 계속적으로 수행되는 경우, 기판의 반정 공정에 필요한 시간이 증가할수록 수율 및 생산성이 낮아지기 때문에, 기판의 반전 공정이 최단 시간 내에 수행될 수 있어야 한다.On the other hand, during the organic light emitting display manufacturing process, if the time required for the inversion of the substrate increases, the yield and productivity is lowered, so that the inversion of the substrate should be as fast and stable as possible. In particular, when the treatment process for several substrates is continuously performed, the yield and productivity decrease as the time required for the substrate cleaning process increases, so that the substrate reversal process must be able to be performed in the shortest time.
그러나, 기존 기판반전장치는 기판의 반전에 필요한 시간을 일정 이상 단축하기 어렵고, 기판반전장치를 소형으로 제작하기 어려운 문제점이 있을 뿐만 아니라, 기판의 반전 위치를 미세한 단위로 정확하게 일치시키기 어려운 문제점이 있다.However, the existing substrate inversion apparatus has a problem that it is difficult to shorten the time required for the inversion of the substrate more than a certain amount, and it is difficult to manufacture the substrate inversion apparatus compactly, and it is difficult to accurately match the inversion positions of the substrate in minute units. .
특히, 기판이 기판반전장치에 의해 반전된 후 증착설비로 이송되기 위해서는, 기판의 반전 위치가 의도된 위치와 미세한 단위로 정확하게 일치될 수 있어야 하지만, 기존에는 기판의 반전 위치를 의도된 위치에 정확하게 일치시키기 어려운 문제점이 있다.In particular, in order for the substrate to be inverted by the substrate inversion apparatus and then transferred to the deposition equipment, the inversion position of the substrate should be able to exactly match the intended position in minute units. There is a problem that is difficult to match.
그러나, 기존에는 구동부에 의한 구동접점(기어 치합 지점)과 기판이 배치되는 위치 사이의 거리를 일정 이상 작게 형성하기 어렵고, 구동접점과 기판이 배치되는 위치 사이의 거리가 증가할수록 구동접점에서의 기어 백래쉬(backlash) 현상에 의해 기판의 반전 위치 편차가 증가하는 문제점이 있다.However, in the past, it is difficult to form a distance between the driving contact point (gear engagement point) by the driving unit and the position where the substrate is arranged to be smaller than a certain level. There is a problem in that the inversion position deviation of the substrate increases due to a backlash phenomenon.
또한, 기존에는 회전체를 회전시켜 연결부재에 연결된 반전스테이지를 반전 회전시키도록 구성됨에 따라, 8세대 기판과 같은 대면적 기판을 반전시키기 위해서는 불가피하게 매우 큰 용량의 구동모터를 사용할 수 밖에 없고, 반전 시간이 증가하는 문제점이 있다.In addition, conventionally configured to rotate the rotating body to reverse the reverse stage connected to the connecting member, inevitably use a very large capacity drive motor to invert a large area substrate, such as the 8th generation substrate, There is a problem that the inversion time increases.
또한, 기존에는 반전스테이지에 새로운 기판을 공급하기 위해, 제2위치 배치된 반전스테이지를 다시 제1위치로 복귀시켜야 하는 번거로운 공정을 거쳐야 하기 때문에, 여러장의 기판에 대한 처리 공정이 계속적으로 수행되는 경우 반전스테이지를 초기 위치로 복귀시키는데 필요한 시간 로스가 발생되는 문제점이 있다.In addition, in order to supply a new substrate to the reversal stage, since the reversal stage disposed in the second position has to go through the cumbersome process of returning to the first position, when the processing process for a plurality of substrates is continuously performed There is a problem that a time loss required for returning the inversion stage to the initial position occurs.
이를 위해, 최근에는 기판을 의도된 정확한 위치로 반전시킬 수 있으며, 반전 시간을 단축하기 위한 다양한 검토가 이루어지고 있으나, 아직 미흡하여 이에 대한 개발이 요구되고 있다.To this end, in recent years, the substrate can be inverted to the intended correct position, and various studies have been made to shorten the inversion time, but there is still a need for development thereof.
본 발명은 기판의 반전 시간을 단축할 수 있으며 안정성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있는 기판반전장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a substrate inverting device which can shorten the inversion time of the substrate and can improve the stability and reliability.
특히, 본 발명은 구동부에 의해 다이렉트로 회전하는 링회전체를 이용하여 반전 스테이지 유닛을 반전 회전시킬 수 있는 기판반전장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In particular, it is an object of the present invention to provide a substrate inversion apparatus capable of inverting and rotating an inversion stage unit by using a ring rotating body that is directly rotated by a driving unit.
또한, 본 발명은 기판의 반전 위치 정확도를 향상시킬 수 있는 기판반전장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a substrate inversion device capable of improving the inversion position accuracy of a substrate.
또한, 본 발명은 기판의 반전 공정 중 기판의 손상 및 파손을 방지하고, 수율 및 생산성을 향상시킬 수 있는 기판반전장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a substrate inversion apparatus which can prevent damage and breakage of the substrate during the inversion process of the substrate and improve the yield and productivity.
또한, 본 발명은 구조를 간소화할 수 있으며, 장치의 소형화에 기여할 수 있으며, 설비의 설계 자유도를 향상시킬 수 있는 기판반전장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a substrate inversion apparatus that can simplify the structure, contribute to the miniaturization of the apparatus, and can improve the design freedom of equipment.
또한, 본 발명은 대면적 기판을 안정적으로 빠르게 처리할 수 있는 기판반전장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a substrate inversion apparatus capable of processing a large area substrate stably and quickly.
상술한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 기판이 안착된 캐리어를 반전시키기 위한 기판반전장치는, 캐리어가 수용되기 위한 캐리어 수용부가 구비된 반전 스테이지 유닛과, 반전 스테이지 유닛에 일체로 장착되는 링회전체와, 링회전체를 회전 가능하게 지지하는 회전체 지지부와, 링회전체를 회전시키는 구동부를 포함하며, 링회전체를 다이렉트로 회전시켜 반전 스테이지 유닛이 반전 회전할 수 있게 함으로써, 기판 반전 시간을 단축하고 안정성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.According to a preferred embodiment of the present invention for achieving the above object of the present invention, a substrate inversion apparatus for inverting a carrier on which a substrate is mounted, an inversion stage unit having a carrier accommodating portion for accommodating a carrier, and an inversion stage A ring rotating body integrally mounted to the unit, a rotating body supporting portion for rotatably supporting the ring rotating body, and a driving portion for rotating the ring rotating body, and rotating the ring rotating body directly so that the inversion stage unit can be reversely rotated. In addition, the substrate reversal time can be shortened and stability and reliability can be improved.
참고로, 기판의 반전 공정은 대기압 상태 및 진공 상태에서 모두 수행될 수 있으며, 반전 공정시 주변 환경 조건에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다.For reference, the inversion process of the substrate may be performed at both atmospheric pressure and vacuum state, the present invention is not limited or limited by the ambient environmental conditions during the inversion process.
참고로, 캐리어에 안착된 기판의 안착 상태는 통상의 유지수단에 의해 유지 및 고정될 수 있다. 유지수단으로서는 요구되는 조건 및 설계 사양에 다양한 유지수단이 사용될 수 있으며, 유지수단의 종류 및 특성에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 일 예로, 캐리어에는 통상의 ESC(Electro Static Chuck) 장치가 제공될 수 있으며, 캐리어에 안착된 기판은 ESC 장치에 의한 정전기력(Electrostatic Force)에 의해 안착 상태가 유지될 수 있다. 경우에 따라서는 캐리어에 안착된 기판이 물리적인 접촉력을 제공하는 유지수단에 의해 안착 상태를 유지하도록 구성되는 것도 가능하다.For reference, the seating state of the substrate seated on the carrier may be held and fixed by conventional holding means. As the holding means, various holding means may be used for the required conditions and design specifications, and the present invention is not limited or limited by the type and characteristics of the holding means. For example, the carrier may be provided with a conventional ESC (Electro Static Chuck) device, the substrate seated on the carrier may be maintained in the seated state by the electrostatic force (Electrostatic Force) by the ESC device. In some cases, it is also possible for the substrate seated on the carrier to be configured to maintain a seated state by holding means for providing a physical contact force.
반전 스테이지 유닛은 캐리어 수용부를 가지며, 링회전체와 일체로 회전할 수 있는 다양한 구조로 제공될 수 있으며, 반전 스테이지 유닛의 구조에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 일 예로, 반전 스테이지 유닛은 제1스테이지 플레이트와, 제1스테이지 플레이트를 마주하도록 이격되게 배치되는 제2스테이지 플레이트와, 일단은 제1스테이지 플레이트에 고정되고 타단은 제2스테이지 플레이트에 고정되는 지지프레임과, 지지프레임에 연결되며 캐리어 수용부를 정의하는 가이드프레임을 포함할 수 있다.The inversion stage unit may have a carrier accommodating portion and may be provided in various structures capable of rotating integrally with the ring rotating body, and the present invention is not limited or limited by the structure of the inversion stage unit. For example, the reversal stage unit may include a first stage plate, a second stage plate disposed to face the first stage plate, and a support frame having one end fixed to the first stage plate and the other end fixed to the second stage plate. And, it may include a guide frame connected to the support frame and defining a carrier receiving portion.
반전 스테이지 유닛 상에 제공되는 캐리어 수용부의 갯수 및 위치는 요구되는 조건에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 일 예로, 반전 스테이지 유닛에는 제1캐리어 수용부 및 제2캐리어 수용부가 형성될 수 있고, 제1캐리어 수용부 및 제2캐리어 수용부에는 캐리어가 동시에 수용되거나 순차적으로 수용될 수 있다. 경우에 따라서는 반전 스테이지 유닛에 단 하나의 캐리어 수용부가 형성되거나, 3개 이상의 캐리어 수용부가 형성되는 것도 가능하다.The number and position of the carrier receptacles provided on the reversal stage unit may vary in accordance with the required conditions. For example, the first carrier receiving part and the second carrier receiving part may be formed in the inversion stage unit, and the carrier may be simultaneously or sequentially received in the first carrier receiving part and the second carrier receiving part. In some cases, only one carrier accommodating portion may be formed in the inversion stage unit, or three or more carrier accommodating portions may be formed.
또한, 캐리어 수용부에는 캐리어를 이송시키기 위한 캐리어 이송부가 제공될 수 있다. 캐리어 이송부로서는 캐리어 수용부 상에서 캐리어를 이송시킬 수 있는 다양한 이송수단이 사용될 수 있으며, 캐리어 이송부의 종류 및 특성에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 일 예로, 캐리어 이송부로서는 통상의 직선운동시스템(Linear Motion System)이 사용될 수 있다. 경우에 따라서는 리드스크류 또는 여타 다른 이송수단을 이용하여 캐리어 수용부 상에서 캐리어가 이송되도록 구성할 수 있다.In addition, the carrier receiving part may be provided with a carrier conveying part for conveying the carrier. As the carrier conveying unit, various conveying means capable of conveying the carrier on the carrier accommodating unit may be used, and the present invention is not limited or limited by the type and characteristic of the carrier conveying unit. As an example, a conventional linear motion system may be used as the carrier transfer unit. In some cases, the carrier may be configured to be transferred on the carrier accommodating portion using a lead screw or other transfer means.
캐리어 수용부 상에는 가이드레일이 제공될 수 있고, 상기 캐리어는 캐리어 수용부 상에서 가이드레일을 따라 이동하도록 구성될 수 있다. 가이드레일은 캐리어 수용부의 길이 방향을 따라 형성되는 측면레일부, 측면레일부의 상단에 연결되는 상부레일부, 및 측면레일부의 하단에 연결되는 하부레일부를 포함하여 구성될 수 있고, 캐리어에는 측면레일부에 구름 접촉되는 제1롤러와, 상부레일부 및 하부레일부에 구름 접촉되는 제2롤러가 장착될 수 있다.A guide rail may be provided on the carrier receptacle, and the carrier may be configured to move along the guide rail on the carrier receptacle. The guide rail may include a side rail portion formed along the longitudinal direction of the carrier accommodating portion, an upper rail portion connected to an upper end of the side rail portion, and a lower rail portion connected to a lower end of the side rail portion, A first roller in rolling contact with the rail unit and a second roller in rolling contact with the upper rail part and the lower rail part may be mounted.
링회전체는 요구되는 조건 및 설계 사양에 다양한 구조로 제공될 수 있다. 일 예로, 링회전체는, 링회전체의 회전축 방향을 따라 반전 스테이지 유닛의 일단에 장착되는 제1링플레이트와, 링회전체의 회전축 방향을 따라 반전 스테이지 유닛의 타단에 장착되는 제2링플레이트를 포함하여 구성될 수 있다.The ring rotating body may be provided in various structures to the required conditions and design specifications. For example, the ring rotating body includes a first ring plate mounted to one end of the inversion stage unit along the rotation axis direction of the ring rotating body, and a second ring plate mounted to the other end of the inversion stage unit along the rotation axis direction of the ring rotation body. Can be configured.
링회전체의 표면에는 기어부가 형성되며, 구동부는 기어부에 치합(engage)되어 링회전체를 다이렉트로 회전시킬 수 있다. 일 예로, 링회전체의 내주면에는 각각 내치기어부가 형성될 수 있고, 구동부는 내치기어부에 치합될 수 있다. 경우에 따라서는 링회전체의 외주면에 외치기어부가 형성될 수 있고, 구동부는 외치기어부에 치합되어 링회전체를 회전시킬 수 있다.A gear part is formed on a surface of the ring rotating body, and the driving part is engaged with the gear part to directly rotate the ring rotating body. For example, internal gears may be formed on the inner circumferential surface of the ring rotating body, and the driving part may be engaged with the internal gear. In some cases, the outer gear may be formed on the outer circumferential surface of the ring rotating body, and the driving unit may be engaged with the outer gear to rotate the ring rotating body.
회전체 지지부는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양한 방식으로 링회전체를 회전 가능하게 지지할 수 있다. 일 예로, 회전체 지지부는 링회전체를 무축(Shaft-less) 회전 가능하게 지지할 수 있다. 여기서, 링회전체를 무축 회전 가능하게 지지한다 함은, 링회전체 상에 별도의 회전축을 형성하지 않고 링회전체를 회전 가능하게 지지하는 구조로 이해될 수 있다. 경우에 따라서는 링회전체 상에 별도의 회전축을 형성하고 회전체 지지부가 링회전체의 회전축을 지지하도록 구성하는 것도 가능하다.The rotating body support may rotatably support the ring rotating body in various ways depending on the required conditions and design specifications. For example, the rotating body support may support the ring rotating body in a shaftless manner. Here, supporting the ring rotating body rotatably may be understood as a structure for rotatably supporting the ring rotating body without forming a separate rotating shaft on the ring rotating body. In some cases, it is also possible to form a separate rotating shaft on the ring rotating body and to configure the rotating body support portion to support the rotating shaft of the ring rotating body.
일 예로, 회전체 지지부는 베이스 플레이트, 및 베이스 플레이트에 고정되되 링회전체의 회전 궤적을 정의하도록 링회전체의 가장자리를 지지하는 복수개의 베어링부재를 포함할 수 있다.For example, the rotating body support may include a base plate and a plurality of bearing members fixed to the base plate to support the edge of the ring rotating body to define a rotational trajectory of the ring rotating body.
아울러, 베어링부재는 링회전체의 가장자리를 구름 회전 가능하게 지지할 수 있는 다양한 구조로 제공될 수 있다. 일 예로, 베어링부재는 베이스 플레이트에 장착되는 브라켓, 브라켓에 회전 가능하게 제공되며 링회전체의 일면에 구름 접촉하는 제1구름부재, 제1구름부재를 마주하도록 브라켓에 회전 가능하게 제공되며 링회전체의 타면에 구름 접촉하는 제2구름부재, 및 브라켓에 회전 가능하게 제공되며 링회전체의 외주면에 구름 접촉하는 제3구름부재를 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the bearing member may be provided in various structures that can support the edge of the ring rotating body rotatably. For example, the bearing member is rotatably provided on the bracket and the bracket mounted on the base plate, and is rotatably provided on the bracket to face the first cloud member and the first cloud member in contact with one surface of the ring rotating body. It may include a second cloud member in contact with the other surface, and a third cloud member rotatably provided in the bracket and in contact with the outer circumferential surface of the ring rotating body.
구동부는 링회전체에 접촉되며 링회전체를 다이렉트로 회전시키도록 제공되는 바, 여기서, 구동부가 링회전체를 다이렉트로 회전시킨다 함은, 구동부에 의해 링회전체가 직접 회전되는 구조로 이해될 수 있다. 이와 같은 구조는, 기판이 배치되는 위치(예를 들어, 캐리어 수용부)와 구동부에 의한 구동접점(기어 치합 지점) 사이의 거리를 최소화할 수 있게 함으로써, 구동접점에서의 기어 백래쉬 현상에 의한 기판의 반전 위치 편차를 최소화할 수 있게 한다.The driving unit is provided to contact the ring rotating body and directly rotates the ring rotating body. Here, the driving unit directly rotates the ring rotating body can be understood as a structure in which the ring rotating body is directly rotated by the driving unit. Such a structure makes it possible to minimize the distance between the position where the substrate is placed (for example, the carrier accommodating portion) and the driving contact (gear engagement point) by the driving portion, whereby the substrate is caused by the gear backlash phenomenon at the driving contact. It is possible to minimize the inversion position deviation of.
구동부는 링회전체에 접촉되며 링회전체를 다이렉트로 회전시킬 수 있는 다양한 구조로 제공될 수 있다. 일 예로, 구동부는 구동력을 제공하는 구동모터, 상기 링회전체의 기어부에 치합(engage)되며 구동모터에 의해 회전하는 동력전달부재를 포함할 수 있다.The driving unit may be provided in various structures to contact the ring rotating body and directly rotate the ring rotating body. For example, the driving unit may include a driving motor providing a driving force, a power transmission member engaged with the gear unit of the ring rotating body and rotating by the driving motor.
아울러, 구동부는 제1링플레이트에 접촉되며 제1링플레이트를 다이렉트로 회전시키는 제1구동부와, 제2링플레이트에 접촉되며 제2링플레이트를 다이렉트로 회전시키는 제2구동부를 포함할 수 있으며, 제1구동부와 제2구동부는 동기화되어 동시에 구동될 수 있다.In addition, the driving unit may include a first driving unit which contacts the first ring plate and directly rotates the first ring plate, and a second driving unit which contacts the second ring plate and directly rotates the second ring plate, The first driving unit and the second driving unit may be synchronized and driven simultaneously.
또한, 기판반전장치는 캐리어 수용부에 수용된 캐리어를 고정시키기 위한 캐리어 고정부를 포함할 수 있다. 캐리어 고정부는 캐리어 수용부에 수용된 캐리어를 고정 가능한 다양한 구조로 형성될 수 있다. 일 예로, 캐리어 고정부는 캐리어에 형성되는 고정홈과, 고정홈에 고정되는 고정위치와 고정홈으로부터 고정이 해제되는 해제위치로 이동 가능하게 반전 스테이지 유닛에 장착되는 고정핀을 포함할 수 있다.In addition, the substrate reversing apparatus may include a carrier fixing part for fixing the carrier accommodated in the carrier receiving part. The carrier fixing part may be formed in various structures capable of fixing the carrier accommodated in the carrier accommodating part. For example, the carrier fixing part may include a fixing groove formed in the carrier, a fixing pin fixed to the fixing groove and a fixing pin mounted to the inversion stage unit to be movable to a release position from which the fixing is released from the fixing groove.
또한, 본 발명에 따른 기판반전장치는 회전체 지지부에 대한 상기 링회전체의 회전을 일시적으로 구속하기 위한 회전구속부를 포함할 수 있다. 회전구속부는 회전체 지지부에 대한 링회전체의 회전을 일시적으로 구속 가능한 다양한 구조로 형성될 수 있다. 일 예로, 회전구속부는 링회전체에 형성되는 구속홀, 및 구속홀에 구속되는 구속위치 및 구속홀로부터 구속이 해제되는 해제위치로 이동 가능하게 회전체 지지부에 장착되는 구속로드를 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the substrate inverting apparatus according to the present invention may include a rotation restraining unit for temporarily restraining the rotation of the ring rotating body relative to the rotating body support. The rotary restraint part may be formed in various structures capable of temporarily restraining the rotation of the ring rotor relative to the rotor support. For example, the rotational constraining part may include a constraining hole formed in the ring rotating body, and a constraining rod mounted on the rotatable support so as to be moved to a restraining position constrained by the constraining hole and a release position from which the constraining hole is released. have.
또한, 본 발명에 따른 기판반전장치는 기판의 반전 위치를 정확히 감지할 수 있도록, 캐리어의 반전 회전 상태를 감지하기 위한 회전감지부를 포함할 수 있다. 회전감지부로서는 캐리어의 반전 회전 상태를 감지할 수 있는 다양한 감지수단이 사용될 수 있다. 일 예로, 회전감지부는 반전 스테이지 유닛 상에 제공되는 피감지부, 및 회전체 지지부에 장착되며 피감지부를 센싱하는 센싱부를 포함할 수 있으며, 회전체 지지부에 대한 반전 스테이지 유닛의 회전을 감지함으로써 캐리어의 반전 회전 상태를 감지할 수 있다.In addition, the substrate inversion apparatus according to the present invention may include a rotation sensing unit for sensing the inverted rotation state of the carrier to accurately detect the inverted position of the substrate. As the rotation detecting unit, various sensing means capable of detecting a reverse rotation state of the carrier may be used. For example, the rotation sensing unit may include a sensing unit provided on the inverting stage unit, and a sensing unit mounted on the rotating body support unit and sensing the sensing unit, and detecting a rotation of the inverting stage unit relative to the rotating body support unit. It can detect the reverse rotation state of.
본 발명의 다른 바람직한 실시예에 따르면, 기판반전장치는, 캐리어가 수용되기 위한 캐리어 수용부가 구비된 반전 스테이지 유닛과, 반전 스테이지 유닛에 일체로 장착되는 링회전체와, 링회전체를 회전 가능하게 지지하는 회전체 지지부와, 링회전체를 회전시키는 구동부를 포함하되, 구동부는 링회전체를 비접촉 회전시키도록 구성될 수 있다.According to another preferred embodiment of the present invention, the substrate reversing apparatus includes a reversal stage unit having a carrier accommodating portion for accommodating a carrier, a ring rotating body integrally mounted to the reversing stage unit, and rotatably supporting the ring rotating body. It includes a rotating body support and a drive for rotating the ring rotating body, the driving unit may be configured to rotate the ring rotating body non-contact.
여기서, 구동부가 링회전체를 비접촉 회전시킨다 함은, 구동부가 링회전체의 표면에 물리적으로 접촉되지 않고 링회전체를 회전시킬 수 있는 것으로 이해될 수 있다.Here, it can be understood that the driving unit rotates the ring rotating body in a non-contact manner, and the driving part can rotate the ring rotating body without physically contacting the surface of the ring rotating body.
비접촉식 구동부는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양한 방식으로 제공될 수 있다. 일 예로, 구동부는, 링회전체의 표면에 제공되는 마그네트 유닛과, 마그네트 유닛과 상호 자기력을 형성하도록 마그네트 유닛에 인접하게 제공되는 코일 유닛을 포함하여 구성될 수 있다. 경우에 따라서는 구동부가 여타 다른 직선운동시스템(Linear Motion System)을 이용하여 링회전체를 비접촉 회전시키도록 구성될 수 있다.The contactless drive can be provided in a variety of ways depending on the conditions and design specifications required. For example, the driving unit may include a magnet unit provided on the surface of the ring rotating body, and a coil unit provided adjacent to the magnet unit to form a mutual magnetic force with the magnet unit. In some cases, the driving unit may be configured to non-contact rotate the ring rotating body by using another linear motion system.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 기판의 반전 시간을 단축할 수 있으며 안정성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.As described above, according to the present invention, the inversion time of the substrate can be shortened and stability and reliability can be improved.
특히, 본 발명에 따르면 구동부에 의해 다이렉트로 회전하는 링회전체를 이용하여 반전 스테이지 유닛을 반전 회전시킬 수 있다. 따라서, 구동접점과 기판이 배치되는 위치 사이의 거리를 최소화하는 것이 가능하며, 구동접점에서의 기어 백래쉬(backlash) 현상에 의한 기판의 반전 위치 편차를 줄일 수 있고, 궁극적으로 기판의 반전 위치 정확도를 향상시킬 수 있다.In particular, according to the present invention, the reverse stage unit can be reversely rotated by using a ring rotating body that is directly rotated by the driving unit. Therefore, it is possible to minimize the distance between the driving contact and the position where the substrate is placed, to reduce the inversion position deviation of the substrate due to the gear backlash phenomenon at the driving contact, and ultimately to improve the inversion position accuracy of the substrate. Can be improved.
또한, 본 발명에 따르면 기판의 반전 공정 중 기판의 손상 및 파손을 방지하고, 수율 및 생산성을 향상시킬 수 있다.In addition, according to the present invention it is possible to prevent damage and breakage of the substrate during the inversion process of the substrate, and to improve yield and productivity.
또한, 본 발명에 따르면 링회전체를 이용하여 반전 스테이지 유닛을 반전 회전시킬 수 있기 때문에, 구조를 간소화할 수 있고, 장치의 소형화에 기여할 수 있으며, 설비의 설계 자유도를 향상시킬 수 있다. 특히, 본 발명에 따르면 링회전체의 중심을 기준으로 반전 스테이지 유닛이 반전 회전할 수 있기 때문에, 기존 반전장치보다 작은 크기로 기판반전장치를 설계하는 것이 가능하다.Further, according to the present invention, since the inversion stage unit can be reversely rotated by using a ring rotating body, the structure can be simplified, it can contribute to the miniaturization of the device, and the design freedom of the equipment can be improved. In particular, according to the present invention, since the inversion stage unit can be inverted and rotated with respect to the center of the ring rotating body, it is possible to design a substrate inversion device with a size smaller than that of the existing inversion device.
또한, 본 발명에 따르면 링회전체를 이용하여 반전 스테이지 유닛을 반전 회전시킬 수 있기 때문에, 대면적 기판을 안정적으로 빠르게 반전 처리할 수 있으며, 작은 용량의 구동원을 이용하여 반전 처리 공정을 수행하는 것이 가능하다.In addition, according to the present invention, since the inversion stage unit can be inverted and rotated using the ring rotating body, the large area substrate can be reversed stably and quickly, and the inversion treatment process can be performed using a small-capacity drive source. Do.
또한, 본 발명에 따르면 반전 스테이지 유닛을 반전 회전시킨 후, 반전 스테이지 유닛을 다시 초기 위치로 복귀시킬 필요없이, 곧바로 다른 기판에 대한 반전 처리 공정을 수행할 수 있기 때문에, 초기 위치 복귀에 따른 시간 로스를 방지할 수 있고, 여러장의 기판에 대한 반전 공정을 신속하게 수행할 수 있다.Further, according to the present invention, since the inversion processing unit can be performed immediately after the inversion stage unit is inverted and rotated, without having to return the inversion stage unit back to the initial position, the time loss caused by the initial position return Can be prevented, and the reversal process for a plurality of substrates can be performed quickly.
도 1은 기존 기판반전장치를 도시한 도면,
도 2는 본 발명에 따른 기판반전장치를 설명하기 위한 사시도,
도 3은 본 발명에 따른 기판반전장치를 도시한 정면도,
도 4는 본 발명에 따른 기판반전장치를 도시한 측면도,
도 5는 본 발명에 따른 기판반전장치를 도시한 평면도,
도 6은 본 발명에 따른 기판반전장치로서, 캐리어 고정부를 설명하기 위한 도면,
도 7은 본 발명에 따른 기판반전장치로서, 회전감지부를 설명하기 위한 도면,
도 8은 본 발명에 따른 기판반전장치의 작동 구조를 설명하기 위한 도면,
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판반전장치를 설명하기 위한 도면이다.1 is a view showing a conventional substrate inversion apparatus,
2 is a perspective view illustrating a substrate inversion device according to the present invention;
3 is a front view showing a substrate inversion device according to the present invention;
4 is a side view showing a substrate inversion device according to the present invention;
5 is a plan view showing a substrate inversion apparatus according to the present invention;
6 is a substrate inverting apparatus according to the present invention, a view for explaining a carrier fixing portion,
7 is a substrate inversion apparatus according to the present invention, a view for explaining a rotation sensing unit,
8 is a view for explaining the operation structure of the substrate inverting apparatus according to the present invention;
9 is a view for explaining a substrate inversion apparatus according to another embodiment of the present invention.
이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 참고로, 본 설명에서 동일한 번호는 실질적으로 동일한 요소를 지칭하며, 이러한 규칙 하에서 다른 도면에 기재된 내용을 인용하여 설명할 수 있고, 당업자에게 자명하다고 판단되거나 반복되는 내용은 생략될 수 있다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited or limited by the embodiments. For reference, in the present description, the same numbers refer to substantially the same elements, and may be described by referring to the contents described in the other drawings under these rules, and the contents repeated or deemed apparent to those skilled in the art may be omitted.
도 2는 본 발명에 따른 기판반전장치를 설명하기 위한 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 기판반전장치를 도시한 정면도이며, 도 4는 본 발명에 따른 기판반전장치를 도시한 측면도이다. 또한, 도 5는 본 발명에 따른 기판반전장치를 도시한 평면도이고, 도 6은 본 발명에 따른 기판반전장치로서, 캐리어 고정부를 설명하기 위한 도면이며, 도 7은 본 발명에 따른 기판반전장치로서, 회전감지부를 설명하기 위한 도면이다. 또한, 도 8은 본 발명에 따른 기판반전장치의 작동 구조를 설명하기 위한 도면이다.2 is a perspective view illustrating a substrate inversion device according to the present invention, FIG. 3 is a front view of the substrate inversion device according to the present invention, and FIG. 4 is a side view of the substrate inversion device according to the present invention. 5 is a plan view showing a substrate inversion apparatus according to the present invention, FIG. 6 is a substrate inversion apparatus according to the present invention, which is a view for explaining a carrier fixing part, and FIG. 7 is a substrate inversion apparatus according to the present invention. As a figure, it is a figure for demonstrating a rotation detection part. 8 is a view for explaining the operation structure of the substrate inversion apparatus according to the present invention.
이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 기판반전장치는 반전 스테이지 유닛(200), 링회전체(300), 회전체 지지부(400) 및 구동부를 포함한다.As shown in these drawings, the substrate inversion apparatus according to the present invention includes an
참고로, 통상의 트랜스퍼모듈(Transfer module)에 의해 이송된 기판(12)은 캐리어(110)의 상면에 얼라인되어 안착될 수 있으며, 기판반전장치는 기판(12)이 안착된 캐리어(110)를 반전시켜 증착 공정이 수행될 수 있게 하고, 증착 공정이 완료된 후에는 기판반전장치가 기판(12)이 안착된 캐리어(110)를 다시 반대 방향으로 반전시킬 수 있다.For reference, the
상기 캐리어(110)에 안착된 기판(12)의 안착 상태는 통상의 유지수단에 의해 유지 및 고정될 수 있다. 상기 유지수단으로서는 요구되는 조건 및 설계 사양에 다양한 유지수단이 사용될 수 있으며, 유지수단의 종류 및 특성에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 일 예로, 상기 캐리어(110)에는 통상의 ESC(Electro Static Chuck) 장치가 제공될 수 있으며, 캐리어(110)에 안착된 기판(12)은 ESC 장치에 의한 정전기력(Electrostatic Force)에 의해 안착 상태가 유지될 수 있다. 경우에 따라서는 캐리어에 안착된 기판이 물리적인 접촉력을 제공하는 유지수단에 의해 안착 상태를 유지하도록 구성되는 것도 가능하다.The seating state of the
상기 반전 스테이지 유닛(200)에는 캐리어(110)가 수용되기 위한 캐리어 수용부가 된다.The
상기 반전 스테이지 유닛(200)은 캐리어 수용부를 가지며, 후술할 링회전체(300)를 매개로 회전할 수 있는 다양한 구조로 제공될 수 있으며, 반전 스테이지 유닛(200)의 구조에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다.The
일 예로, 상기 반전 스테이지 유닛(200)은 제1스테이지 플레이트(210)와, 상기 제1스테이지 플레이트(210)를 마주하도록 이격되게 배치되는 제2스테이지 플레이트(220)와, 일단은 제1스테이지 플레이트(210)에 고정되고 타단은 제2스테이지 플레이트(220)에 고정되는 지지프레임(230)과, 상기 지지프레임(230)에 연결되며 캐리어 수용부를 정의하는 가이드프레임(240)을 포함하여 구성될 수 있다.For example, the
상기 제1스테이지 플레이트(210) 및 제2스테이지 플레이트(220)는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양한 형태로 형성될 수 있다. 일 예로, 상기 제1스테이지 플레이트(210) 및 제2스테이지 플레이트(220)는 원형 형태로 형성될 수 있다. 경우에 따라서는 제1스테이지 플레이트 및 제2스테이지 플레이트가 다각형 형태 또는 여타 다른 기하학적 형태로 형성되는 것이 가능하다. 다르게는 제1스테이지 플레이트 및 제2스테이지 플레이트가 서로 다른 형태로 형성되는 것도 가능하다.The
아울러, 상기 제1스테이지 플레이트(210) 및 제2스테이지 플레이트(220) 중 적어도 어느 하나에는 캐리어(110)가 출입되기 위한 출입부가 캐리어 수용부와 연통되게 형성될 수 있다. 이하에서는 상기 제1스테이지 플레이트(210) 및 제2스테이지 플레이트(220)에 각각 제1출입부(211) 및 제2출입부(212)가 형성된 예를 들어 설명하기로 한다.In addition, at least one of the
상기 지지프레임(230)의 일단은 제1스테이지 플레이트(210)에 고정되고, 타단은 제2스테이지 플레이트(220)에 고정되며, 제1스테이지 플레이트(210)와 제2스테이지 플레이트(220)는 지지프레임(230)에 의해 일체로 연결될 수 있다.One end of the
상기 지지프레임(230)은 복수개가 제공될 수 있으며, 상기 지지프레임(230)의 갯수 및 배치 위치는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 적절히 변경될 수 있다. 아울러, 각 지지프레임(230)은 서로 동일한 구조로 제공되거나, 서로 다른 구조로 제공되는 것이 가능하다.The
상기 가이드프레임(240)은 지지프레임(230) 상에 연결되어 캐리어 수용부를 정의한다. 여기서, 상기 가이드프레임(240)이 캐리어 수용부를 정의한다 함은, 가이드프레임(240)에 의해 사방이 막히거나, 적어도 일부가 개방된 구조의 캐리어(110) 수용공간이 형성되는 것으로 이해될 수 있다. 참고로, 본 발명의 실시예에서는 제1스테이지 플레이트(210)와 제2스테이지 플레이트(220)의 사이에 각 지지프레임(230)이 수평하게 배치되고, 가이드프레임(240)이 지지프레임(230)에 대해 수직한 방향으로 교차하도록 배치된 예를 들어 설명하고 있지만, 다르게는 지지프레임(230) 및 가이드프레임(240)이 경사지게 배치되는 것도 가능하다.The
이하에서는 상기 반전 스테이지 유닛(200) 상에 가이드프레임(240)에 의해 정의되는 제1캐리어 수용부(201) 및 제2캐리어 수용부(202)가 형성된 예를 들어 설명하기로 한다. 경우에 따라서는 반전 스테이지 유닛에 단 하나의 캐리어 수용부가 형성되거나, 3개 이상의 캐리어 수용부가 형성되는 것도 가능하다.Hereinafter, an example in which the first
아울러, 상기 제1캐리어 수용부(201) 및 제2캐리어 수용부(202)에는 캐리어(110)가 동시에 수용되거나 순차적으로 수용될 수 있다. 상기 제1캐리어 수용부(201) 및 제2캐리어 수용부(202)에 캐리어(110)가 동시에 수용되는 방식에서는, 2개의 캐리어(110)가 동시에 반전되는 것이 가능하다. 반면, 상기 제1캐리어 수용부(201) 및 제2캐리어 수용부(202)에 캐리어(110)가 순차적으로 수용되는 방식에서는, 제1캐리어 수용부(201)에서 반전된 캐리어(110)가 인출되는 동안, 재2캐리어 수용부에는 반전이 수행될 다른 캐리어(110)가 수용됨으로써, 여러장의 기판(12)에 대한 처리 공정이 계속적으로 수행되는 경우 캐리어(110)의 배치에 필요한 시간을 단축할 수 있다.In addition, the
상기 캐리어 수용부는 반전 스테이지 유닛(200)의 회전 중심부에 형성되는 것이 바람직할 수 있다. 즉, 캐리어 수용부가 반전 스테이지 유닛(200)의 회전 중심부(예를 들어, 제1스테이지 플레이트(210)의 중앙부)에 형성된 경우에는 캐리어 수용부에 출입되는 출입 위치가 동일하게 설정될 수 있기 때문에, 캐리어(110)의 출입 공정을 간소화하는 것이 가능하다. 다만, 상기 반전 스테이지 유닛(200)은 회전하기 때문에, 후술할 캐리어 이송부(700) 및 각종 장비의 배선 처리 용이함을 제공할 수 있도록, 반전 스테이지 유닛(200)의 회전 중심부(제1스테이지 플레이트와 제2스테이지 플레이트)의 중앙부에는 배선출입부가 형성될 수 있고, 캐리어 수용부는 반전 스테이지 유닛(200)의 중앙부에 인접하도록 편심지게 형성될 수 있다.The carrier accommodating portion may be formed at the center of rotation of the
또한, 상기 캐리어 수용부에는 캐리어(110)를 이송시키기 위한 캐리어 이송부(700)가 제공될 수 있다.In addition, the carrier accommodating part may be provided with a
상기 캐리어 이송부(700)로서는 캐리어 수용부 상에서 캐리어(110)를 이송시킬 수 있는 다양한 이송수단이 사용될 수 있으며, 캐리어 이송부(700)의 종류 및 특성에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 일 예로, 캐리어 이송부(700)로서는 통상의 직선운동시스템(Linear Motion System)이 사용될 수 있다. 경우에 따라서는 리드스크류 또는 여타 다른 이송수단을 이용하여 캐리어 수용부 상에서 캐리어가 이송되도록 구성할 수 있다.As the
또한, 상기 캐리어 수용부 상에는 가이드레일(720)이 제공될 수 있고, 상기 캐리어(110)는 캐리어 수용부 상에서 가이드레일(720)을 따라 이동하도록 구성될 수 있다.In addition, a
바람직하게 상기 가이드레일(720)은 반전 스테이지 유닛(200)의 반전 회전시 가이드레일(720)에 대한 캐리어(110)의 배치 상태를 유지하도록 구성될 수 있다. 일 예로, 상기 가이드레일(720)은 캐리어 수용부의 길이 방향을 따라 형성되는 측면레일부(722), 상기 측면레일부(722)의 상단에 연결되는 상부레일부(724), 및 상기 측면레일부(722)의 하단에 연결되는 하부레일부(726)를 포함하여 대략 "ㄷ"자 단면 형태를 갖도록 형성될 수 있고, 상기 캐리어(110)에는 측면레일부(722)에 구름 접촉되는 제1롤러(114)와, 상기 상부레일부(724) 및 하부레일부(726)에 구름 접촉되는 제2롤러(116)가 장착될 수 있다.Preferably, the
상기 링회전체(300)는 회전 가능한 링 형태로 제공되며, 반전 스테이지 유닛(200)에 일체로 장착된다.The
상기 링회전체(300)는 요구되는 조건 및 설계 사양에 다양한 구조로 제공될 수 있다. 일 예로, 상기 링회전체(300)는, 링회전체(300)의 회전축 방향을 따라 반전 스테이지 유닛(200)의 일단(예를 들어, 제1스테이지 플레이트)에 장착되는 제1링플레이트(310)와, 상기 링회전체(300)의 회전축 방향을 따라 반전 스테이지 유닛(200)의 타단(예를 들어, 제2스테이지 플레이트)에 장착되는 제2링플레이트(320)를 포함하여 구성될 수 있다.The
상기 링회전체(300)의 표면에는 기어부가 형성되며, 후술할 구동부는 기어부에 치합(engage)되어 링회전체(300)를 다이렉트로 회전시킬 수 있다. 예를 들어, 상기 제1링플레이트(310) 및 제2링플레이트(320)의 내주면에는 각각 내치기어부(312,322)가 형성될 수 있다.A gear part is formed on a surface of the
참고로, 상기 내치기어부(312,322)의 기어 피치 및 높이는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양하게 변경될 수 있으며, 내치기어부(312,322)의 특성에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다.For reference, the gear pitch and height of the
상기 회전체 지지부(400)는 링회전체(300)를 회전 가능하게 지지하도록 제공된다.The rotating
상기 회전체 지지부(400)는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양한 방식으로 링회전체(300)를 회전 가능하게 지지할 수 있다. 일 예로, 상기 회전체 지지부(400)는 링회전체(300)를 무축(Shaft-less) 회전 가능하게 지지할 수 있다. 여기서, 링회전체(300)를 무축 회전 가능하게 지지한다 함은, 링회전체(300) 상에 별도의 회전축을 형성하지 않고 링회전체(300)를 회전 가능하게 지지하는 구조로 이해될 수 있다. 경우에 따라서는 링회전체 상에 별도의 회전축을 형성하고 회전체 지부가 링회전체의 회전축을 지지하도록 구성하는 것도 가능하다.The
이하에서는 상기 회전체 지지부(400)가 베이스 플레이트(410), 및 상기 베이스 플레이트(410)에 고정되되 링회전체(300)의 회전 궤적을 정의하도록 링회전체(300)의 가장자리를 지지하는 복수개의 베어링부재(420)를 포함하며, 링회전체(300)를 무축 회전 가능하게 지지하도록 구성된 예를 들어 설명하기로 한다.Hereinafter, a plurality of bearings for supporting the edge of the
상기 베이스 플레이트(410)에는 통과홀(미도시)이 형성될 수 있으며, 반전 스테이지 유닛(200)의 단부는 통과홀을 통과하여 베이스 플레이트(410)의 외측에 장착되는 링회전체(300)에 연결될 수 있다.A passage hole (not shown) may be formed in the
상기 베어링부재(420)는 링회전체(300)의 원주 방향을 따라 배치되어 링회전체(300)가 회전할 수 있는 회전 궤적을 정의할 수 있다. 바람직하게 보다 많은 하중이 작용하는 링회전체(300)의 하부 부위에는 링회전체(300)의 상부 부위보다 상대적으로 많은 갯수의 베어링부재(420)가 배치될 수 있다.The bearing
상기 베어링부재(420)는 링회전체(300)의 가장자리를 구름 회전 가능하게 지지할 수 있는 다양한 구조로 제공될 수 있다. 일 예로, 상기 베어링부재(420)는 대략 "ㄷ"자 형상으로 형성되며 베이스 플레이트(410)에 장착되는 브라켓(422), 상기 브라켓(422)에 회전 가능하게 제공되며 상기 링회전체(300)의 일면에 구름 접촉하는 제1구름부재(424), 상기 제1구름부재(424)를 마주하도록 브라켓(422)에 회전 가능하게 제공되며 링회전체(300)의 타면에 구름 접촉하는 제2구름부재(426), 및 상기 브라켓(422)에 회전 가능하게 제공되며 링회전체(300)의 외주면에 구름 접촉하는 제3구름부재(428)를 포함하여 구성될 수 있다.The bearing
상기 제1구름부재(424) 내지 제3구름부재(428)로서는 통상의 롤러 또는 볼 부재가 사용될 수 있으며, 구름부재의 종류 및 특성에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다.As the
상기 구동부는 링회전체(300)에 접촉되며 링회전체(300)를 다이렉트로 회전시키도록 제공된다.The driving part is in contact with the
여기서, 상기 구동부가 링회전체(300)를 다이렉트로 회전시킨다 함은, 구동부에 의해 링회전체(300)가 직접 회전되는 구조로 이해될 수 있다. 이와 같은 구조는, 기판(12)이 배치되는 위치(예를 들어, 캐리어 수용부)와 구동부에 의한 구동접점(기어 치합 지점) 사이의 거리를 최소화할 수 있게 함으로써, 구동접점에서의 기어 백래쉬 현상에 의한 기판(12)의 반전 위치 편차를 최소화할 수 있게 한다.Here, the driving unit to directly rotate the
상기 구동부는 링회전체(300)에 접촉되며 링회전체(300)를 다이렉트로 회전시킬 수 있는 다양한 구조로 제공될 수 있다. 일 예로, 상기 구동부는 구동력을 제공하는 구동모터, 상기 링회전체(300)의 기어부(예를 들어, 내치기어부)에 치합(engage)되며 구동모터에 의해 회전하는 동력전달부재를 포함할 수 있다.The driving unit may contact the
상기 구동모터로서는 통상의 모터가 사용될 수 있으며, 모터의 종류 및 특성은 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 적절히 변경될 수 있다.As the driving motor, a conventional motor may be used, and the type and characteristics of the motor may be appropriately changed according to required conditions and design specifications.
상기 동력전달부재로서는 구동모터에 의해 회전하며 링회전체(300)의 기어부에 치합 가능한 다양한 전달부재가 사용될 수 있다. 일 예로, 상기 동력전달부재로서는 통상의 롤러기어(Roller Gear)가 사용될 수 있다. 상기 롤러 기어는 치형이 롤러에 의해 이루어져 있기 때문에, 백래쉬 현상을 최소화할 수 있으며, 마찰 특성이 우수한 장점을 갖는다. 경우에 따라서는 동력전달부재로서 통상의 피니언기어 또는 여타 다른 기어를 사용하는 것이 가능하다.As the power transmission member, various transmission members that are rotated by a driving motor and can be engaged with a gear part of the
이하에서는 상기 구동부가 제1링플레이트(310)에 접촉되며 제1링플레이트(310)를 다이렉트로 회전시키는 제1구동부(500)와, 상기 제2링플레이트(320)에 접촉되며 제2링플레이트(320)를 다이렉트로 회전시키는 제2구동부(500')를 포함하여 구성되며, 상기 제1구동부(500)와 제2구동부(500')는 동기화되어 동시에 구동되도록 구성된 예를 들어 설명하기로 한다. 아울러, 상기 제1구동부(500) 및 제2구동부(500')는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 각각 복수개가 제공되는 것이 가능하며, 상기 제1구동부(500) 및 제2구동부(500')의 배치 위치 역시 다양하게 변경될 수 있다.Hereinafter, the driving unit is in contact with the
전술 및 도시한 본 발명의 실시예에서는 링회전체(300)의 내주면에 기어부가 형성된 예를 들어 설명하고 있지만, 경우에 따라서는 링회전체의 외주면에 기어부를 형성하는 것도 가능하다. 예를 들어, 제1링플레이트의 외주면 및 제2링플레이트의 외주면에는 외치기어부가 형성될 수 있으며, 구동부는 외치기어부에 치합되어 제1 및 제2링플레이트를 다이렉트로 회전시킬 수 있다.In the above-described and illustrated embodiments of the present invention, the gear portion is formed on the inner circumferential surface of the
한편, 본 발명에 따른 기판반전장치는 캐리어 수용부에 수용된 캐리어(110)를 고정시키기 위한 캐리어 고정부(800)를 포함할 수 있다.On the other hand, the substrate reversing apparatus according to the present invention may include a
도 6을 참조하면, 상기 캐리어 고정부(800)는 캐리어 수용부에 수용된 캐리어(110)를 고정 가능한 다양한 구조로 형성될 수 있다. 바람직하게 상기 캐리어 고정부(800)는 반전 스테이지 유닛(200)의 반전 회전시 캐리어(110)의 유동을 구속할 수 있는 구조로 제공될 수 있다.Referring to FIG. 6, the
아울러, 상기 캐리어 고정부(800)의 갯수 및 위치는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 이하에서는 4개의 캐리어 고정부(800)에 의해 캐리어(110)의 일단 및 타단이 2지점에서 각각 고정되도록 구성된 예를 들어 설명하기로 한다.In addition, the number and location of the
일 예로, 상기 캐리어 고정부(800)는 상기 캐리어(110)에 형성되는 고정홈(810)과, 상기 고정홈(810)에 고정되는 고정위치와 고정홈(810)으로부터 고정이 해제되는 해제위치로 이동 가능하게 반전 스테이지 유닛(200)(예를 들어, 스테이지 플레이트)에 장착되는 고정핀(820)을 포함하여 구성될 수 있다.For example, the
여기서, 고정위치라 함은 고정핀(820)이 고정홈(810)에 수용되는 위치로 이해될 수 있고, 해제위치라 고정핀(820)이 고정홈(810)의 외측으로 인출된 위치로 이해될 수 있다.Here, the fixed position may be understood as a position in which the
상기 고정핀(820)은 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양한 방식으로 고정위치 및 해제위치로 이동할 수 있다. 일 예로, 상기 고정핀(820)은 직선 이동하며 고정위치 및 해제위치로 이동하도록 구성될 수 있다. 고정핀(820)의 직선 이동은 통상의 솔레노이드 또는 모터에 의해 회전하는 리드스크류 등을 이용하여 구성될 수 있다. 경우에 따라서는 고정핀이 회전 운동하며 고정위치 및 해제위치로 이동하도록 구성하는 것도 가능하다.The fixing
상기 캐리어 고정부(800)는 캐리어 수용부에 캐리어(110)가 수용되면 캐리어(110)를 고정할 수 있고, 캐리어(110)가 캐리어 고정부(800)에 의해 고정된 상태에서 반전 스테이지 유닛(200)이 반전 회전할 수 있다. 반전 회전이 완료된 후에는 캐리어 고정부(800)에 의한 구속이 해제될 수 있다.The
참고로, 상기 캐리어 수용부에 캐리어(110)가 수용된 상태에서 캐리어(110)의 상면 및 저면에 소정 간극이 제공되기 때문에, 반전 스테이지 유닛(200)의 반전 회전시 간극만큼 캐리어(110)가 캐리어 수용부 내에서 유동될 수 있고, 캐리어(110)의 유동시 기판(12)이 캐리어(110)로부터 의도하지 않게 분리될 수 있는 문제점이 있다. 하지만, 본 발명에서는 캐리어(110)가 캐리어 고정부(800)에 의해 고정된 상태에서 반전 스테이지 유닛(200)이 반전 회전할 수 있기 때문에 캐리어(110)의 비정상적인 유동 및 기판(12)의 분리를 미연에 방지할 수 있다.For reference, since a predetermined gap is provided on the top and bottom surfaces of the
또한, 본 발명에 따른 기판반전장치는 회전체 지지부(400)에 대한 상기 링회전체(300)의 회전을 일시적으로 구속하기 위한 회전구속부(600)를 포함할 수 있다.In addition, the substrate reversing apparatus according to the present invention may include a
상기 회전구속부(600)는 회전체 지지부(400)에 대한 링회전체(300)의 회전을 일시적으로 구속 가능한 다양한 구조로 형성될 수 있다. 일 예로, 상기 회전구속부(600)는 링회전체(300)에 형성되는 구속홀(610), 및 상기 구속홀(610)에 구속되는 구속위치 및 구속홀(610)로부터 구속이 해제되는 해제위치로 이동 가능하게 회전체 지지부(400)에 장착되는 구속로드(620)를 포함하여 구성될 수 있다.The rotational constraining
아울러, 상기 회전구속부(600)의 갯수 및 위치는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 이하에서는 2개의 회전구속부(600)에 의해 제1링플레이트(310) 및 제2링플레이크가 각각 고정되도록 구성된 예를 들어 설명하기로 한다. 이하에서는 링회전체(300)를 구성하는 제1링플레이트(310) 및 제2링플레이트(320)에 각각 구속홀(610)이 형성된 예를 들어 설명하기로 한다.In addition, the number and position of the
여기서, 고정위치라 함은 구속로드(620)가 구속홀(610)에 수용되는 위치로 이해될 수 있고, 해제위치라 구속로드(620)가 구속홀(610)의 외측으로 인출된 위치로 이해될 수 있다.Here, the fixed position may be understood as a position where the
상기 구속로드(620)는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양한 방식으로 고정위치 및 해제위치로 이동할 수 있다. 일 예로, 상기 구속로드(620)는 직선 이동하며 고정위치 및 해제위치로 이동하도록 구성될 수 있다. 구속로드(620)의 직선 이동은 통상의 솔레노이드 또는 모터에 의해 회전하는 리드스크류 등을 이용하여 구성될 수 있다. 경우에 따라서는 구속로드가 회전 운동하며 고정위치 및 해제위치로 이동하도록 구성하는 것도 가능하다.The restraining
상기 회전구속부(600)는 캐리어(110)가 캐리어 수용부에 수용되거나 캐리어 수용부로부터 인출될 시, 또는 기판반전장치의 보수시 회전체 지지부(400)에 대한 링회전체(300)의 회전이 구속될 수 있게 한다. 반면, 반전 스테이지 유닛(200)의 반전 회전하는 동안에는 회전구속부(600)에 의해 구속이 해제될 수 있다.The rotational constraining
또한, 전술한 바와 같이, 캐리어(110)에 안착된 기판(12)이 반전 스테이지 유닛(200)에 의해 반전된 후 증착설비로 이송되기 위해서는, 기판(12)의 반전 위치(도 1의 P2 참조)가 의도된 위치와 미세한 단위로 정확하게 일치될 수 있어야 한다.In addition, as described above, in order for the
이를 위해, 본 발명에 따른 기판반전장치는 기판(12)의 반전 위치를 정확히 감지할 수 있도록, 상기 캐리어(110)의 반전 회전 상태를 감지하기 위한 회전감지부(900)를 포함할 수 있다.To this end, the substrate reversing apparatus according to the present invention may include a
상기 회전감지부(900)로서는 캐리어(110)의 반전 회전 상태를 감지할 수 있는 다양한 감지수단이 사용될 수 있다. 일 예로, 도 7을 참조하면, 상기 회전감지부(900)는 상기 반전 스테이지 유닛(200) 상에 제공되는 피감지부(910), 및 상기 회전체 지지부(400)에 장착되며 피감지부(910)를 센싱하는 센싱부(920)를 포함할 수 있으며, 회전체 지지부(400)에 대한 반전 스테이지 유닛(200)의 회전을 감지함으로써 캐리어(110)의 반전 회전 상태를 감지할 수 있다.As the
상기 센싱부(920)로서는 피감지부(910)를 감지할 수 있는 다양한 센서가 사용될 수 있으며, 센싱부(920)의 종류 및 특성은 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 가령, 센싱부(920)로서는 통상의 광센서 또는 근접센서 등이 사용될 수 있으며, 센싱부(920)와 피감지부(910)의 거리를 감지함으로써 회전체 지지부(400)에 대한 반전 스테이지 유닛(200)의 회전량을 정확히 감지하는 것이 가능하다.As the
이러한 구성에 의해 도 7을 참조하면, 기판(12)은 캐리어(110)에 안착된 상태로 캐리어 수용부에 수용될 수 있고, 구동부의 구동력에 의해 링회전체(300)가 다이렉트로 회전함에 따라 링회전체(300)에 연결된 반전 스테이지 유닛(200)이 반전 회전할 수 있다.Referring to FIG. 7 by such a configuration, the
한편, 도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판반전장치를 설명하기 위한 도면이다. 아울러, 전술한 구성과 동일 및 동일 상당 부분에 대해서는 동일 또는 동일 상당한 참조 부호를 부여하고, 그에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.9 is a diagram for describing a substrate inversion apparatus according to another embodiment of the present invention. Incidentally, the same or equivalent components as those described above are given the same or equivalent reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
전술 및 도시한 본 발명의 실시예에서는 구동부가 링회전체의 표면에 접촉되며 링회전체를 회전시키도록 구성된 예를 들어 설명하고 있지만, 경우에 따라서는 구동부가 링회전체를 비접촉 회전시키도록 구성되는 것도 가능하다.In the above-described and illustrated embodiments of the present invention, the driving unit is in contact with the surface of the ring rotating body and is configured to rotate the ring rotating body. However, in some cases, the driving unit may be configured to non-contactly rotate the ring rotating body. Do.
도 9를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기판반전장치는, 반전 스테이지 유닛(200)과, 링회전체(300)와, 회전체 지지부(400), 구동부를 포함하되, 상기 구동부는 링회전체를 비접촉 회전시키도록 구성될 수 있다.Referring to FIG. 9, according to another embodiment of the present invention, the substrate reversing apparatus includes an
여기서, 구동부가 링회전체(300)를 비접촉 회전시킨다 함은, 구동부가 링회전체의 표면에 물리적으로 접촉되지 않고 링회전체(300)를 회전시킬 수 있는 것으로 이해될 수 있다.Here, it can be understood that the driving unit rotates the
상기 비접촉식 구동부(미도시)는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양한 방식으로 링회전체(300)를 비접촉 회전시키도록 제공될 수 있다. 일 예로, 상기 구동부는, 상기 링회전체(300)의 표면(내표면 또는 외표면)에 제공되는 마그네트 유닛(510")과, 상기 마그네트 유닛(510")과 상호 자기력을 형성하도록 마그네트 유닛(510")에 인접하게 배치되는 코일 유닛(520")을 포함하여 구성될 수 있다.The non-contact driver (not shown) may be provided to non-contact rotate the
일 예로, 상기 마그네트 유닛(510")은 극성이 교번되게 영구자석을 배치하여 구성될 수 있으며, 상기 코일 유닛(520")은 보빈에 코일을 권선하여 구성될 수 있다. 상기 코일 유닛(520")에 전류가 인가됨에 따라 코일 유닛(520")에서 발생하는 자기력과 마그네트 유닛(510")의 자기력 사이의 상호 작용에 의해 링회전체(300)가 회전될 수 있다. 경우에 따라서는 구동부가 여타 다른 통상의 직선운동시스템을 이용하여 링회전체를 비접촉 회전시키도록 구성될 수 있다.For example, the
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.As described above, although described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and modified within the scope of the present invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below. It will be understood that it can be changed.
110 : 캐리어 200 : 반전 스테이지 유닛
210 : 제1스테이지 플레이트 220 : 제2스테이지 플레이트
230 : 지지프레임 240 : 가이드프레임
300 : 링회전체 310 : 제1링플레이트
312 : 내치기어부 320 : 제2링플레이트
400 : 회전체 지지부 410 : 베이스 플레이트
420 : 베어링부재 422 : 브라켓
424 : 제1구름부재 426 : 제2구름부재
428 : 제3구름부재 500 : 제1구동부
510 : 제1구동모터 520 : 제1동력전달부재
500' : 제2구동부 510' : 제2구동모터
520' : 제2동력전달부재 600 : 회전구속부
610 : 구속홀 620 : 구속로드
700 : 캐리어 이송부 720 : 가이드레일
722 : 측면레일부 724 : 상부레일부
726 : 하부레일부 800 : 캐리어 고정부
810 : 고정홈 820 : 고정핀
900 : 회전감지부 910 : 피감지부
920 : 센싱부110
210: first stage plate 220: second stage plate
230: support frame 240: guide frame
300: ring rotating body 310: first ring plate
312: internal gear 320: second ring plate
400: rotating body support 410: base plate
420: bearing member 422: bracket
424: first cloud member 426: second cloud member
428: third cloud member 500: first driving part
510: first drive motor 520: first power transmission member
500 ': second drive part 510': second drive motor
520 ': second power transmission member 600: rotational restriction
610: restraint hole 620: restraint rod
700: carrier transfer unit 720: guide rail
722: side rail portion 724: upper rail portion
726: lower rail portion 800: carrier fixing portion
810: fixing groove 820: fixing pin
900: rotation detection unit 910: to be detected
920: sensing unit
Claims (21)
상기 캐리어가 수용되기 위한 캐리어 수용부가 구비된 반전 스테이지 유닛과;
상기 반전 스테이지 유닛에 일체로 장착되는 링회전체와;
상기 링회전체를 회전 가능하게 지지하는 회전체 지지부와;
상기 링회전체를 회전시키는 구동부와;
상기 링회전체에 형성되는 구속홀과, 상기 구속홀에 구속되는 구속위치 및 상기 구속홀로부터 구속이 해제되는 해제위치로 이동 가능하게 상기 회전체 지지부에 장착되는 구속로드를 구비하여, 상기 회전체 지지부에 대한 상기 링회전체의 회전을 일시적으로 구속하는 회전구속부를;
포함하는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
In the substrate inverting device for inverting the carrier on which the substrate is seated,
An inverting stage unit provided with a carrier accommodating portion for accommodating the carrier;
A ring rotating body integrally mounted to the inversion stage unit;
A rotating body support part rotatably supporting the ring rotating body;
A driving unit for rotating the ring rotating body;
And a constraining hole formed in the ring rotating body, and a constraining rod mounted on the rotatable support so as to be movable to a restraining position constrained by the constraining hole and a restraining position from which the constraining hole is released. A rotational restraining unit for temporarily restraining the rotation of the ring rotating body with respect to;
Substrate inversion device comprising a.
상기 캐리어가 수용되기 위한 캐리어 수용부가 구비된 반전 스테이지 유닛과;
상기 반전 스테이지 유닛에 일체로 장착되는 링회전체와;
상기 링회전체를 회전 가능하게 지지하는 회전체 지지부와;
상기 링회전체를 회전시키는 구동부와;
상기 캐리어에 형성되는 고정홈과, 상기 고정홈에 고정되는 고정위치와 상기 고정홈으로부터 고정이 해제되는 해제위치로 이동 가능하게 상기 반전 스테이지 유닛에 장착되는 고정핀을 구비하여, 상기 캐리어 수용부에 수용된 상기 캐리어를 고정시키는 캐리어 고정부를;
포함하는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
In the substrate inverting device for inverting the carrier on which the substrate is seated,
An inverting stage unit provided with a carrier accommodating portion for accommodating the carrier;
A ring rotating body integrally mounted to the inversion stage unit;
A rotating body support part rotatably supporting the ring rotating body;
A driving unit for rotating the ring rotating body;
And a fixing pin formed in the carrier, a fixing pin fixed to the fixing groove, and a fixing pin mounted to the inversion stage unit to move to a release position from which the fixing groove is released. A carrier fixing portion for fixing the received carrier;
Substrate inversion device comprising a.
상기 링회전체의 표면에는 기어부가 형성되고,
상기 구동부는,
구동력을 제공하는 구동모터와;
상기 기어부에 치합(engage)되며, 상기 구동모터에 의해 회전하는 동력전달부재를;
포함하는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method according to claim 1 or 2,
Gear part is formed on the surface of the ring rotating body,
The drive unit,
A drive motor for providing a driving force;
A power transmission member engaged with the gear unit and rotating by the drive motor;
Substrate inversion device comprising a.
상기 링회전체의 내주면에는 내치기어부가 형성되고,
상기 구동부는 상기 내치기어부에 치합되어 상기 링회전체를 회전시키는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method of claim 3,
An internal gear part is formed on an inner circumferential surface of the ring rotating body,
And the drive unit is engaged with the internal gear to rotate the ring rotating body.
상기 링회전체의 외주면에는 외치기어부가 형성되고,
상기 구동부는 상기 외치기어부에 치합되어 상기 링회전체를 회전시키는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method of claim 3,
The outer gear is formed on the outer circumferential surface of the ring rotating body,
And the driving unit is engaged with the external gear and rotates the ring rotating body.
상기 링회전체는,
상기 링회전체의 회전축 방향을 따라 상기 반전 스테이지 유닛의 일단에 장착되는 제1링플레이트와;
상기 링회전체의 회전축 방향을 따라 상기 반전 스테이지 유닛의 타단에 장착되는 제2링플레이트를;
포함하는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method according to claim 1 or 2,
The ring rotating body,
A first ring plate mounted to one end of the inversion stage unit along a rotation axis direction of the ring rotating body;
A second ring plate mounted to the other end of the inversion stage unit along a rotation axis direction of the ring rotating body;
Substrate inversion device comprising a.
상기 구동부는,
상기 제1링플레이트에 접촉되며, 상기 제1링플레이트를 다이렉트로 회전시키는 제1구동부와;
상기 제2링플레이트에 접촉되며, 상기 제2링플레이트를 다이렉트로 회전시키는 제2구동부를; 포함하며,
상기 제1구동부와 상기 제2구동부는 동기화되어 동시에 구동되는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method of claim 6,
The drive unit,
A first driving part in contact with the first ring plate and directly rotating the first ring plate;
A second driving part in contact with the second ring plate and directly rotating the second ring plate; Include,
And the first driving part and the second driving part are synchronized and driven simultaneously.
상기 회전체 지지부는 상기 링회전체를 무축(Shaft-less) 회전 가능하게 지지하는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method according to claim 1 or 2,
The rotating body support unit substrate inverting apparatus, characterized in that for supporting the ring rotating body (Shaft-less) rotatably.
상기 회전체 지지부는,
베이스 플레이트와;
상기 베이스 플레이트에 고정되되, 상기 링회전체의 회전 궤적을 정의하도록 상기 링회전체의 가장자리를 지지하는 복수개의 베어링부재를;
포함하는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method of claim 8,
The rotating body support portion,
A base plate;
A plurality of bearing members fixed to the base plate, the bearing members supporting edges of the ring rotating bodies to define rotational trajectories of the ring rotating bodies;
Substrate inversion device comprising a.
상기 베어링부재는,
상기 베이스 플레이트에 장착되는 브라켓;
상기 브라켓에 회전 가능하게 제공되며, 상기 링회전체의 일면에 구름 접촉하는 제1구름부재와;
상기 브라켓에 회전 가능하게 제공되며, 상기 링회전체의 타면에 구름 접촉하는 제2구름부재와;
상기 브라켓에 회전 가능하게 제공되며, 상기 링회전체의 외주면에 구름 접촉하는 제3구름부재를;
포함하는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method of claim 9,
The bearing member,
A bracket mounted to the base plate;
A first cloud member rotatably provided on the bracket and in contact with one surface of the ring rotating body;
A second cloud member rotatably provided on the bracket and in contact with the other surface of the ring rotating body;
A third cloud member rotatably provided on the bracket and contacting the outer circumferential surface of the ring rotating body with a cloud;
Substrate inversion device comprising a.
상기 반전 스테이지 유닛은,
제1스테이지 플레이트와;
상기 제1스테이지 플레이트를 마주하도록 이격되게 배치되는 제2스테이지 플레이트와;
일단은 상기 제1스테이지 플레이트에 고정되고, 타단은 상기 제2스테이지 플레이트에 고정되는 지지프레임과;
상기 지지프레임에 연결되며 상기 캐리어 수용부를 정의하는 가이드프레임을;
포함하는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method according to claim 1 or 2,
The inversion stage unit,
A first stage plate;
A second stage plate disposed to be spaced apart to face the first stage plate;
A support frame having one end fixed to the first stage plate and the other end fixed to the second stage plate;
A guide frame connected to the support frame and defining the carrier receiving portion;
Substrate inversion device comprising a.
상기 구동부는 상기 링회전체를 비접촉 회전시키는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method according to claim 1 or 2,
And the driving unit rotates the ring rotating body in a non-contact manner.
상기 구동부는,
상기 링회전체의 표면에 제공되는 마그네트 유닛과;
상기 마그네트 유닛과 상호 자기력을 형성하도록 상기 마그네트 유닛에 인접하게 제공되는 코일 유닛을;
포함하는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method of claim 12,
The drive unit,
A magnet unit provided on a surface of the ring rotating body;
A coil unit provided adjacent to the magnet unit to form mutual magnetic force with the magnet unit;
Substrate inversion device comprising a.
상기 캐리어 수용부 상에서 상기 캐리어를 이송시키기 위한 캐리어 이송부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method according to claim 1 or 2,
And a carrier transporting unit for transporting the carrier on the carrier receiving unit.
상기 캐리어 수용부 상에는 가이드레일이 제공되고,
상기 캐리어는 상기 캐리어 수용부 상에서 상기 가이드레일을 따라 이동하는 하는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method according to claim 1 or 2,
A guide rail is provided on the carrier receiving portion,
And the carrier moves along the guide rail on the carrier accommodating portion.
상기 캐리어의 반전 회전 상태를 감지하기 위한 회전감지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method according to claim 1 or 2,
And a rotation sensing unit for sensing an inverted rotation state of the carrier.
상기 회전감지부는,
상기 반전 스테이지 유닛 상에 제공되는 피감지부와;
상기 회전체 지지부에 장착되며 상기 피감지부를 센싱하는 센싱부를;
포함하는 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method of claim 16,
The rotation detection unit,
A sensing unit provided on the inversion stage unit;
A sensing unit mounted to the rotatable support and sensing the sensing unit;
Substrate inversion device comprising a.
상기 반전 스테이지 유닛에는 제1캐리어 수용부 및 제2캐리어 수용부가 제공되며,
상기 제1캐리어 수용부 및 상기 제2캐리어 수용부에는 상기 캐리어가 동시에 수용되거나 순차적으로 수용 가능한 것을 특징으로 하는 기판반전장치.
The method according to claim 1 or 2,
The inversion stage unit is provided with a first carrier receiving portion and a second carrier receiving portion,
And the carrier is simultaneously accommodated or sequentially accommodated in the first carrier receiving part and the second carrier receiving part.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| KR1020150183762A KR102085715B1 (en) | 2015-12-22 | 2015-12-22 | Substrate inversion device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020150183762A KR102085715B1 (en) | 2015-12-22 | 2015-12-22 | Substrate inversion device |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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