KR102076303B1 - Manufacturing Method of Decorative Stone Block - Google Patents

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KR102076303B1
KR102076303B1 KR1020190040945A KR20190040945A KR102076303B1 KR 102076303 B1 KR102076303 B1 KR 102076303B1 KR 1020190040945 A KR1020190040945 A KR 1020190040945A KR 20190040945 A KR20190040945 A KR 20190040945A KR 102076303 B1 KR102076303 B1 KR 102076303B1
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한일욱
신상호
노지훈
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주식회사 하은산업
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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing a decorative stone block comprising: a step of making a surface pattern of a natural stone sample to 3D data; a step of synthesizing surface pattern data of the natural stone sample on 3D data of a mold for a silicon layer of a basic shape in which a pattern is not formed to form 3D data of the mold for the silicon layer having the pattern; a step of 3D printing the mold for the silicon layer from 3D data of the mold for the silicon layer; a step of transferring the pattern of the mold for the silicon layer to the surface of the silicon layer; a step of depositing and curing mortar in a block mold having the silicone layer formed on the inner surface; and a demolding step of separating a cured decorative stone block from the block mold. The present invention has an effect of shortening the manufacturing time of the mold for the silicon layer to shorten the manufacturing time of the decorative stone block.

Description

조형석 블록 제조 방법 {Manufacturing Method of Decorative Stone Block}Manufacturing Method of Decorative Stone Block

본 발명은 옹벽에 사용되는 블록의 외장 표면에 자연석의 문양이 형성된 조형석 블록을 제조하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 자연석 샘플의 표면 문양을 3D 데이터화하는 단계와, 문양이 형성되지 않은 기본 형상의 실리콘층용 몰드의 3D 데이터에 자연석 샘플의 표면 문양 데이터를 합성하여 문양이 형성된 실리콘층용 몰드의 3D 데이터를 형성하는 단계와, 실리콘층용 몰드의 3D 데이터로부터 실리콘층용 몰드를 3D 프린팅하는 단계와, 실리콘층용 몰드의 문양을 실리콘 층 표면에 전사하는 단계와, 내측 표면에 실리콘 층이 형성된 블록 몰드에 몰탈을 타설하여 양생하는 단계 및 양생된 조형석 블록을 블록 몰드로부터 분리하는 탈형 단계로 이루어지는 조형석 블록 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a shaped stone block in which a natural stone pattern is formed on an exterior surface of a block used for a retaining wall, and more particularly, 3D data of a surface pattern of a natural stone sample, and a basic shape in which a pattern is not formed. Synthesizing the surface glyph data of the natural stone sample to the 3D data of the silicon layer mold to form 3D data of the silicon layer mold having the pattern; and 3D printing the silicon layer mold from the 3D data of the silicon layer mold; Transferring the pattern of the layer mold to the surface of the silicon layer, the step of curing by pouring mortar on the block mold with a silicon layer formed on the inner surface, and the demolding step of separating the cured sculpture stone blocks from the block mold It is about.

일반적으로 옹벽을 축조할 때에는 몰드에 시멘트 몰탈 등을 타설 및 양생하여 형성된 블록이나 자연석 블록을 적층하는 방식을 통해 축조하게 되는데, 자연석블록을 이용하여 옹벽을 축조하는 경우 안정적인 적층을 위한 자연석 블록간 정밀한 배열 및 옹벽 전체를 축조하는데 필요한 양의 자연석을 조달하는데 어려움이 있어 주로 시멘트 몰탈 등으로 이루어진 블록을 이용하여 옹벽을 축조하게 된다.In general, when the retaining wall is constructed, it is constructed by laminating and curing cement mortar on the mold or by stacking natural stone blocks.In the case of building the retaining wall using natural stone blocks, the precision between natural stone blocks for stable lamination is precise. Since it is difficult to procure the amount of natural stone required to build the entire array and retaining wall, the retaining wall is constructed using blocks made mainly of cement mortar.

이와 같은 시멘트 몰탈 블록은 자연석에 비하여 표면 재질로부터 오는 심미감이 부족하게 되므로, 심미감을 향상시키기 위하여 시멘트 몰탈 블록의 표면에 자연석과 유사한 질감을 형성한 조형석을 부착하게 되며, 대한민국 등록특허공보 제10-1327351호에는 옹벽 블록의 심미감을 향상시키기 위해 옹벽 블록에 부착되는 조형석의 제조 방법이 개발되었다.Since the cement mortar block lacks the aesthetics coming from the surface material as compared to the natural stone, in order to improve the aesthetics, the cement mortar block is attached to the surface of the cement mortar block having a texture similar to the natural stone, Republic of Korea Patent Publication No. 10 -1327351 has developed a method of manufacturing sculpture stone that is attached to a retaining wall block to enhance the aesthetics of the retaining wall block.

그러나 위와 같은 조형석은 각각의 조형석을 옹벽 블록에 부착하는데 많은 시간이 소요되어 옹벽 공사의 시공시간이 증가하게 되고, 부착된 조형석의 반복되는 문양에 의해 시각적 단조로움이 발생하며, 시각적 단조로움을 줄이기 위해 조형석이 부착된 블록의 배열 조합을 다양화하기 위해서는 조형석의 몰드를 새로 제조하는 과정을 필요로 하게 되고, 조형석의 몰드를 새로 제조하는 과정에서 조형석간 자연스러운 배치를 형성하기 위해 조형석 몰드의 원석을 가공하는 공정이 부가되어야 하는 문제가 있었다.However, the above-mentioned sculpture stone takes a lot of time to attach each sculpture stone to the retaining wall block, which increases the construction time of the retaining wall construction, and visual monotony is generated by repeated patterns of attached sculpture stone, and reduces visual monotony. In order to diversify the arrangement of blocks with sculptured stones, it is necessary to manufacture new molds of sculptures, and to prepare natural shapes of sculptures in order to create natural arrangements between sculptures. There was a problem that the process to be added must be added.

대한민국 등록특허공보 제10-1327351호 (2013.11.04. 등록)Republic of Korea Patent Publication No. 10-1327351 (registered on November 4, 2013)

본 발명의 실시 예에서는 형틀에 몰탈을 타설 및 양생하여 제조된 조형석을 옹벽 블록에 부착하는 기존의 옹벽 축조 공정에서, 조형석을 옹벽 블록에 부착 공정을 생략함으로써, 조형석의 부착에 소요되는 시간만큼 옹벽 시공에 소요되는 공정 시간을 단축시키고, 이에 따라 옹벽 시공 공정의 효율성을 보다 향상시키는 것을 목적으로 한다.In the embodiment of the present invention, in the existing retaining wall construction process of attaching the sculpture stone prepared by placing and curing mortar on the mold to the retaining wall block, by omitting the step of attaching the sculpture stone to the retaining wall block, the retaining wall by the time required to attach the sculpture stone It is an object of the present invention to shorten the process time required for construction and thereby to further improve the efficiency of the retaining wall construction process.

본 발명의 실시 예에서는 자연석의 표면 문양이 형성된 블록 몰드의 실리콘 층 표면 문양 형성 과정을 단축하여 조형석 블록 제조공정을 단순화 함으로써, 조형석 블록의 종류를 다양화할 때 블록 몰드의 실리콘 층 문양을 새로 제조하는 비용을 감소시키고, 조형석 블록의 제조 공정 및 시간을 단축시키는 것을 목적으로 한다.In an embodiment of the present invention, by shortening the process of forming a silicon layer surface pattern of a block mold on which a surface pattern of natural stone is formed, thereby simplifying a process of manufacturing a sculpture stone block, newly manufacturing a silicon layer pattern of a block mold when diversifying the type of the stone block. It is aimed at reducing costs and shortening the manufacturing process and time of the shaped stone block.

본 발명의 실시 예에서는 조형석 블록의 표면 문양 및 블록 규격의 다양화를 보다 쉽게 함으로써, 다양한 규격의 옹벽 축조에 대응 가능하도록 하고, 축조된 옹벽의 반복되는 조형석 블록 표면 문양에 의한 단조로움을 경감시켜 심미감을 향상시키는 것을 목적으로 한다.In an embodiment of the present invention, it is easier to diversify the surface pattern and block size of the sculpture stone block, so that it is possible to cope with the retaining wall construction of various standards, and to reduce the monotony by the repeated pattern stone block surface pattern of the built retaining wall It aims to improve aesthetics.

본 발명의 실시 예에 따르면 외장 표면에 자연석의 문양이 형성된 조형석 블록을 제조하는 방법에 있어서, 자연석 샘플의 표면 문양을 3D 데이터화하는 단계와, 문양이 형성되지 않은 기본 형상의 실리콘층용 몰드의 3D 데이터에 자연석 샘플의 표면 문양 데이터를 합성하여 문양이 형성된 실리콘층용 몰드의 3D 데이터를 형성하는 단계와, 실리콘층용 몰드의 3D 데이터로부터 실리콘층용 몰드를 3D 프린팅하는 단계와, 실리콘층용 몰드의 문양을 실리콘 층 표면에 전사하는 단계와, 내측 표면에 실리콘 층이 형성된 블록 몰드에 몰탈을 타설하여 양생하는 단계 및 양생된 조형석 블록을 블록 몰드로부터 분리하는 탈형 단계로 구성된다.According to an embodiment of the present invention, in the method of manufacturing a shaped stone block having a pattern of natural stone on the exterior surface, 3D data of the surface pattern of the natural stone sample, and 3D data of the mold for the silicon layer of the basic shape without the pattern formed Synthesizing the surface glyph data of the natural stone sample into 3D data of the silicon layer mold having the pattern formed thereon, 3D printing the silicon layer mold from the 3D data of the silicon layer mold, and forming the pattern of the silicon layer mold into the silicon layer Transferring to a surface, pouring mortar into the block mold on which the silicon layer is formed on the inner surface, and releasing the cured stone blocks from the block mold.

본 발명의 실시 예에 따르면 상기 자연석 샘플의 표면 문양을 3D 데이터화하는 단계에서는 2차원 평면 이미지 데이터로부터 명도(brightness)를 측정하고, 측정된 명도의 크기에 따라 샘플의 표면 문양의 높낮이를 계산한 후, 계산된 높낮이에 따라 자연석 샘플 표면 문양의 3D 데이터를 추출하되, 측정된 명도의 최고값과 최저값이 미리 설정된 명도의 제한범위에 초과 또는 미달되는 경우 측정된 명도 및 대비(contrast) 값을 조절함으로써, 형성되는 자연석 샘플의 표면 문양 3D 데이터의 높낮이차가 적정치로 조절된다.According to an embodiment of the present invention, in the step of converting the surface pattern of the natural stone sample into 3D data, the brightness is measured from two-dimensional planar image data, and the height of the surface pattern of the sample is calculated according to the measured brightness. By extracting 3D data of natural stone sample surface patterns according to the calculated height, and adjusting the measured brightness and contrast when the maximum and minimum values of measured brightness exceed or fall below the preset brightness limits , The height difference of the surface pattern 3D data of the natural stone sample to be formed is adjusted to an appropriate value.

본 발명의 실시 예에 따르면 상기 실리콘층용 몰드를 3D 프린팅하는 단계를 수행하기 전, 미리 생성된 데이터베이스 내의 실리콘층용 몰드의 3D 데이터를 선택하는 단계가 부가된다.According to an embodiment of the present invention, before performing the 3D printing of the silicon layer mold, a step of selecting 3D data of the silicon layer mold in a pre-generated database is added.

본 발명의 실시 예에 따르면 상기 실리콘층용 몰드를 3D 프린팅하는 단계는 열경화성 폴리우레탄 수지를 프린터 노즐에서 분사한 뒤 광에너지를 이용하여 응고시켜 형성한 레이어를 적층하여 실리콘층용 몰드를 형성한다.According to an embodiment of the present invention, the step of 3D printing the mold for the silicon layer may be performed by spraying a thermosetting polyurethane resin from the printer nozzle and stacking a layer formed by solidification using light energy to form a mold for the silicon layer.

본 발명의 실시 예에 따르면 상기 블록 몰드에 몰탈을 타설하여 양생하는 단계 수행 전 실리콘 층 표면의 문양에 분말형태의 색소를 분사하는 단계가 부가된다.According to an embodiment of the present invention, before the step of curing by pouring mortar on the block mold, a step of spraying a pigment in powder form on the pattern of the surface of the silicon layer is added.

본 발명의 실시 예에 따르면 상기 탈형 단계 완료 후 제조된 조형석 블록을 정확한 치수로 가공하는 연마 단계가 부가된다.According to an embodiment of the present invention, after completion of the demolding step, a polishing step of processing a manufactured stone block to an accurate dimension is added.

본 발명의 실시 예에 따르면 상기 열경화성 폴리우레탄 수지의 각 레이어는 1.0~1.4mm 범위 내의 높이로 적층되고, 열경화성 폴리우레탄 수지의 경도는 50~70 쇼어(Shore) D 범위 내에 형성된다.According to an embodiment of the present invention, each layer of the thermosetting polyurethane resin is laminated at a height within a range of 1.0 to 1.4 mm, and the hardness of the thermosetting polyurethane resin is formed within a range of 50 to 70 Shore D.

본 발명의 실시 예에 따르면 상기 분말형태의 색소를 분사하는 단계 수행 전, 실리콘 층 표면에 액상의 경화제를 도포하는 단계가 부가된다.According to an embodiment of the present invention, before the step of spraying the pigment in powder form, a step of applying a liquid curing agent to the surface of the silicon layer is added.

본 발명의 실시 예에 따르면 3D 프린팅을 활용하여 실리콘층용 몰드를 형성함으로써, 조형석 블록의 문양을 형성하는 문양틀인 실리콘 층의 문양을 형성하는데 소요되는 시간을 단축하고, 이를 통해 다양한 디자인의 조형석 블록의 제조를 가능하게 하여 축조된 옹벽의 시각적 단조로움을 경감시킬 수 있는 효과가 있다.According to an embodiment of the present invention by forming a mold for the silicon layer by using the 3D printing, to shorten the time required to form the pattern of the silicon layer, which is a pattern frame to form the pattern of the sculpture stone blocks, through which the design stone blocks of various designs It is possible to reduce the visual monotony of the built retaining wall by enabling the production of.

본 발명의 실시 예에 따르면 조형석 블록 생산시 다양한 규격의 블록 및 자연석 문양를 조합하여 데이터베이스화된 복수의 실리콘층용 몰드의 3D 데이터 중 어느 하나를 선택한 후 3D 프린팅함으로써, 실리콘층용 몰드의 제작 시간을 단축하여 조형석 블록의 제조 시간을 단축할 수 있는 효과가 있다.According to an embodiment of the present invention, by selecting any one of the 3D data of the plurality of silicon layer molds in the database by combining blocks and natural stone patterns of various specifications in the production of sculpture stone blocks by shortening the production time of the silicon layer mold by 3D printing There is an effect that can shorten the manufacturing time of the shaped stone block.

본 발명의 실시 예에 따르면 주문자의 요청에 따라 조형석 블록 표면에 특정 문양이나 로고 등을 부가하는 등 실리콘층용 몰드의 3D 도면 데이터 변경을 통해 조형석 블록 디자인을 쉽게 변경하여 제조할 수 있도록 함으로써, 조형석 블록의 상품성을 보다 향상시킬 수 있는 효과가 있다.According to an embodiment of the present invention, by adding a specific pattern or logo to the surface of the stone blocks at the request of the orderer, it is possible to easily change and manufacture the design of the stone blocks by changing the 3D drawing data of the mold for the silicone layer, There is an effect that can improve the marketability of.

본 발명의 실시 예에 따르면 문양 전사가 완료된 실리콘 층 표면에 액상의 경화제를 도포함으로써, 실리콘 층의 수축에 의한 불량제품 발생을 방지하고, 자연석 표면 질감 표현을 위해 실리콘 층의 문양 표면에 도포되는 분말 형태의 색소가 조형석 블록 표면에 안정적으로 정착되도록 하여 조형석 블록 표면의 착색 정밀도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.According to an embodiment of the present invention by applying a liquid curing agent to the surface of the silicon layer completed the pattern transfer, preventing the generation of defective products due to shrinkage of the silicon layer, powder applied to the pattern surface of the silicon layer to express the natural stone surface texture The pigment of the form is stably settled on the surface of the sculpture stone block, thereby improving the coloring accuracy of the surface of the sculpture stone block.

본 발명의 실시 예에 따르면 2차원 평면 자연석 표면 문양 이미지의 명도차로부터 실리콘층용 몰드의 자연석 문양의 높이차 3D 도면 데이터를 형성함으로써, 실리콘층용 몰드의 3D 도면 데이터를 보다 쉽게 형성하는 효과가 있다.According to an embodiment of the present invention, by forming the height difference 3D drawing data of the natural stone pattern of the silicon layer mold from the brightness difference of the two-dimensional planar natural stone surface pattern image, the 3D drawing data of the silicon layer mold may be more easily formed.

본 발명의 실시 예에 따르면 2차원 평면 이미지로부터 실리콘층용 몰드의 3D 도면 데이터를 형성할 때, 이미지의 명도가 설정된 최고값 및 최저값에 초과 또는 미달하는 경우 대비를 자동으로 조절함으로써, 실리콘층용 몰드 3D 도면 데이터의 자연석 문양 높이차가 적정 수준을 이루도록 하는 효과가 있다.According to an embodiment of the present invention, when forming 3D drawing data of a mold for a silicon layer from a two-dimensional planar image, the mold 3D for the silicon layer is automatically adjusted by automatically adjusting the contrast when the brightness of the image exceeds or falls below the set maximum and minimum values. There is an effect to achieve the appropriate level of natural stone pattern height difference in the drawing data.

도 1 및 도 2는 본 발명의 실시 예들에 따른 조형석 블록 제조공정 순서도를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 블록 몰드 및 실리콘층용 몰드의 단면 구조와, 조형석 블록의 양생 및 탈형 과정을 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 실리콘층용 몰드의 3D 프린팅시 레이어의 적층 과정을 나타내는 도면이다.
도 5는 2차원 평면 이미지 데이터로부터 측정된 명도의 크기에 따라 형성된 자연석 샘플 표면 문양의 3D 데이터의 높낮이가 설정되는 과정을 나타내는 도면이다.1 and 2 is a view showing a flow chart manufacturing process stone blocks according to embodiments of the present invention.
3 is a cross-sectional view of a block mold and a mold for a silicon layer according to an exemplary embodiment of the present invention, and a diagram illustrating a curing and demolding process of a sculpture stone block.
4 is a view illustrating a lamination process of a layer during 3D printing of a mold for a silicon layer according to an exemplary embodiment of the present invention.
5 is a view showing a process of setting the height of the 3D data of the natural stone sample surface pattern formed according to the size of the brightness measured from the two-dimensional plane image data.

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 동작 및 작용을 이해하는 데 필요한 부분을 중심으로 상세히 설명한다. It will be described in detail focusing on the parts necessary to understand the operation and action according to the present invention.

본 발명의 실시 예를 설명하면서, 본 발명이 속하는 기술 분야에 익히 알려졌고 본 발명과 직접적으로 관련이 없는 기술 내용에 대해서는 설명을 생략한다. In describing the embodiments of the present invention, descriptions of technical contents which are well known in the technical field to which the present invention belongs and are not directly related to the present invention will be omitted.

이는 불필요한 설명을 생략함으로써 본 발명의 요지를 흐리지 않고 더욱 명확히 전달하기 위함이다.This is to more clearly communicate without obscure the subject matter of the present invention by omitting unnecessary description.

또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 동일한 명칭의 구성 요소에 대하여 도면에 따라 다른 참조부호를 부여할 수도 있으며, 서로 다른 도면임에도 동일한 참조부호를 부여할 수도 있다. In addition, in describing the components of the present invention, different reference numerals may be given to components having the same name according to the drawings, and the same reference numerals may be given to different drawings.

그러나 이와 같은 경우라 하더라도 해당 구성 요소가 실시 예에 따라 서로 다른 기능을 갖는다는 것을 의미하거나, 서로 다른 실시 예에서 동일한 기능을 갖는다는 것을 의미하는 것은 아니며, 각각의 구성 요소의 기능은 해당 실시 예에서의 각각의 구성 요소에 대한 설명에 기초하여 판단하여야 할 것이다.However, even in such a case, it does not mean that the corresponding components have different functions according to embodiments, or does not mean that they have the same functions in different embodiments, and the function of each component is not limited thereto. Judgment should be made based on the description of each component in.

또한, 본 명세서에서 사용되는 기술적 용어는 본 명세서에서 특별히 다른 의미로 정의되지 않는 한 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 일반적으로 이해되는 의미로 해석되어야 하며, 과도하게 포괄적인 의미로 해석되거나, 과도하게 축소된 의미로 해석되지 않아야 한다.In addition, the technical terms used in the present specification should be interpreted as meanings generally understood by those skilled in the art to which the present invention belongs, unless specifically defined otherwise in the present specification, and excessively comprehensive It should not be construed in meaning or in excessively reduced sense.

또한, 본 명세서에서 사용되는 단수의 표현은 문맥상 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. Also, the singular forms used herein include the plural forms unless the context indicates otherwise.

본 출원에서, "구성된다" 또는 "포함한다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 여러 구성요소들, 또는 여러 단계들을 반드시 모두 포함하는 것으로 해석되지 않아야 하며, 그 중 일부 구성 요소들 또는 일부 단계들은 포함되지 않을 수도 있고, 또는 추가적인 구성 요소 또는 단계들을 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다. In the present application, terms such as “consisting of” or “comprising” should not be construed as necessarily including all of the various components or steps described in the specification, and some of the components or some steps It should be construed that it may not be included or may further include additional components or steps.

본 발명의 실시 예에서는 옹벽의 축조시 옹벽을 구성하는 각각의 블록을 옹벽 블록이라 하고, 축조된 옹벽의 심미감을 향상시키기 위하여 축조된 옹벽 외부로 노출되는 측면 표면에 자연석의 무늬가 형성된 옹벽 블록을 조형석 블록(1)이라 기재한다.In the embodiment of the present invention, each block constituting the retaining wall when the retaining wall is constructed is called a retaining wall block, and in order to improve the aesthetics of the retained wall, the retaining wall block having a natural stone pattern is formed on the side surface exposed to the outside of the retained wall. It describes as a stone block 1.

또한, 조형석 블록(1)을 제조하기 위하여 시멘트 등의 몰탈을 타설하여 양생하는 형틀을 블록 몰드(10)라고 하고, 조형석 블록(1)의 제조시 상기 블록 몰드(10) 내부에 장착되어 조형석 블록(1)의 표면에 자연석 문양을 형성하기 위하여 표면에 자연석 문양과 상보되는 문양이 형성되는 문양틀을 실리콘 층(11)이라고 하며, 실리콘 층(11)의 표면에 자연석 문양과 상보적인 문양을 형성하는 형틀을 실리콘층용 몰드(20)라고 기재하여 설명한다.In addition, the mold for pouring and curing mortar such as cement to manufacture the shaped stone block 1 is called a block mold 10, and is manufactured inside the block mold 10 when the shaped stone block 1 is manufactured. To form a natural stone pattern on the surface of (1), the pattern frame in which a pattern complementary to the natural stone pattern is formed on the surface is called a silicon layer 11, and a pattern complementary to the natural stone pattern on the surface of the silicon layer 11 is formed. The mold to be described will be described as a silicon layer mold 20.

본 발명의 실시 예에 따른 조형석 블록(1) 제조 방법은 도 1 및 도 3에서 도시하는 바와 같이 조형석 블록(1) 표면에 형성되는 자연석 문양의 원형(原形)이 되는 자연석 샘플의 표면 문양을 3D 데이터화하는 단계(S10)와, 문양이 형성되지 않은 기본 옹벽 블록 외측 표면 형상과 동일한 치수를 가지는 실리콘층용 몰드(20)의 3D 데이터에 상기 자연석 샘플의 표면 문양 3D 데이터를 합성하여 문양이 형성된 실리콘층용 몰드(20)의 3D 데이터를 형성하는 단계(S20)와, 실리콘층용 몰드(20)의 합성 3D 데이터로부터 문양이 형성된 실리콘층용 몰드(20)를 3D 프린팅하는 단계(S30)와, 실리콘층용 몰드(20)의 문양을 실리콘 층(11) 표면에 전사하는 단계(S40)와, 내측 표면에 실리콘 층(11)이 형성된 블록 몰드(10)에 몰탈(3)을 타설하여 양생하는 단계(S50) 및 양생된 조형석 블록(1)을 블록 몰드(10)로부터 분리하는 탈형 단계(S60)로 이루어진다.According to an embodiment of the present invention, the method of manufacturing a sculpture stone block 1 may include a 3D surface pattern of a natural stone sample that is a circular shape of a natural stone pattern formed on the surface of the sculpture stone block 1, as shown in FIGS. 1 and 3. Step (S10) of the data, and the silicon pattern formed by combining the surface pattern 3D data of the natural stone sample on the 3D data of the mold 20 for the silicon layer having the same dimensions as the outer surface shape of the basic retaining wall block is not formed Forming 3D data of the mold 20 (S20), 3D printing the silicon layer mold 20 having a pattern formed from the synthetic 3D data of the silicon layer mold 20 (S30), and the silicon layer mold ( Transferring the pattern of 20 to the surface of the silicon layer 11 (S40), and placing and curing mortar 3 on the block mold 10 having the silicon layer 11 formed on an inner surface thereof (S50); Cured Sculpture Block (1) It comprises a demoulding step (S60) of separating the mold from the lock (10).

자연석 샘플의 표면 문양을 3D 데이터화하는 단계(S10)에서는 조형석 블록(1)의 표면에 형성할 자연석 샘플의 3D 문양 데이터를 취득하게 되는데, 자연석 샘플은 필요에 따라 2차원 평면 이미지 또는 3차원 입체 형상으로 이루어질 수 있고, 샘플 문양 데이터는 카메라, 스캐너, 3D 스캐너 등의 장비에 의해 취득될 수 있다.In the step (S10) of converting the surface pattern of the natural stone sample into 3D data, the 3D pattern data of the natural stone sample to be formed on the surface of the sculpture stone block 1 is acquired, and the natural stone sample is a two-dimensional plane image or a three-dimensional solid shape as necessary. The sample pattern data may be acquired by equipment such as a camera, a scanner, a 3D scanner, or the like.

상기 자연석 샘플의 표면 문양을 3D 데이터화하는 단계(S10)에서 2차원 평면 이미지로부터 자연석 샘플의 문양 데이터를 취득하는 경우, 스캐너 등에 의해 입력된 2차원 평면 이미지 데이터로부터 명도(brightness)를 측정하고, 측정된 명도의 크기에 비례하여 표면 문양의 3D 데이터의 돌출 높이를 계산하게 되며, 구체적으로 도 5a에서 도시하는 바와 같이 자연석 샘플 문양 데이터의 밝은 부분을 상대적으로 어두운 부분보다 높이 돌출된 부위로 판정하고, 어두은 부분을 상대적으로 밝은 부분보다 낮게 돌출된 부위로 판정함으로써, 2차원 평면 이미지 데이터로부터 자연석 샘플 표면 무늬의 3D 데이터를 추출하게 된다.When acquiring the pattern data of the natural stone sample from the two-dimensional plane image in the step S10 of converting the surface pattern of the natural stone sample into 3D data, the brightness is measured from the two-dimensional plane image data input by a scanner or the like. The protrusion height of the 3D data of the surface pattern is calculated in proportion to the size of the lightness. Specifically, as shown in FIG. 5A, the light portion of the natural stone sample pattern data is determined to be a portion projecting higher than the dark portion. By determining the dark portion as a projecting portion lower than the relatively bright portion, 3D data of the natural stone sample surface fringe is extracted from the two-dimensional planar image data.

이때, 이미지 데이터의 명도가 전반적으로 낮은 경우에는 도 5b에서 도시하는 바와 같이 완성된 조형석 블록(1)의 표면 무늬의 입체감이 제대로 나타나지 않게 되고, 반대로 이미지 데이터의 명도가 전반적으로 높은 경우에는 도 5c에서 도시하는 바와 같이 완성된 조형석 블록(1)의 표면 무늬가 필요 이상 높게 형성될 수 있다.At this time, when the brightness of the image data is generally low, as shown in FIG. 5B, the three-dimensional effect of the surface pattern of the completed sculpture block 1 does not appear properly. On the contrary, when the brightness of the image data is high overall, FIG. 5C. As shown in the figure of the surface of the completed sculpture stone block 1 can be formed higher than necessary.

또한, 이미지 데이터로부터 측정된 명도의 최대값과 최저값의 차이가 작은 경우 명도의 대비(contrast)값이 낮아지면서 완성된 조형석 블록(1)의 표면 문양의 입체감이 제대로 나타나지 않게 되고, 반대로 이미지 데이터로부터 측정된 명도의 최대값과 최저값의 차이가 큰 경우 명도의 대비값이 커지면서 완성된 조형석 블록(1)의 표면 문양 돌출 높이가 필요 이상 높게 형성될 수 있다.In addition, when the difference between the maximum value and the minimum value of the brightness measured from the image data is small, the contrast value of the brightness decreases and the three-dimensional effect of the surface pattern of the completed sculpture block 1 does not appear properly. When the difference between the maximum value and the minimum value of the measured brightness is large, as the contrast value of the brightness increases, the surface pattern protrusion height of the completed sculpture stone block 1 may be formed higher than necessary.

조형석 블록(1)의 표면 문양 높이가 지나치게 낮게 형성되면 완성된 조형석 블록(1)의 심미성이 감소하고, 조형석 블록(1)의 표면 문양 높이가 지나치게 높게 형성되면 조형석 블록(1) 문양부의 내구성 저하 및 조형석 블록(1) 전체의 무게 증가가 발생할 수 있게 된다.If the surface glyph height of the sculpture stone block (1) is formed too low, the aesthetics of the finished sculpture stone block (1) is reduced, if the surface glyph height of the sculpture stone block (1) is formed too high, the durability of the glyph block (1) glyphs And an increase in the weight of the entire sculpture stone block (1) can occur.

따라서 미리 설정된 명도의 최고값 및 최저값 제한범위를 벗어나지 않도록 측정된 명도 또는 대비(contrast) 값을 조절함으로써, 형성되는 자연석 샘플의 표면 문양 3D 데이터의 높낮이차를 적정치로 유지할 수 있으며, 명도 또는 대비의 조절은 미리 설정된 기준치에 따라 이미지 보정 프로그램에 의해 자동 또는 수동으로 진행될 수 있다.Therefore, by adjusting the measured brightness or contrast value so as not to deviate from the preset maximum and minimum value limits, the height difference of the surface pattern 3D data of the natural stone sample being formed can be maintained at an appropriate value. The adjustment of may be performed automatically or manually by the image correction program according to a preset reference value.

자연석 샘플의 표면 문양의 3D 데이터화(S10)가 완료되면 옹벽 블록의 외측 표면과 동일한 치수를 가지는 문양이 형성되지 않은 3D 도면 데이터에 상기 S10단계에서 취득한 자연석 샘플 무늬의 3D 데이터를 합성하여 실리콘층용 몰드(20)의 3D 도면 데이터를 형성하는 단계(S20)가 수행된다.When the 3D data of the surface pattern of the natural stone sample is completed (S10), the 3D data of the natural stone sample pattern obtained in the step S10 is synthesized on the 3D drawing data having the same dimension as the outer surface of the retaining wall block, thereby forming a mold for the silicon layer. A step S20 of forming 3D drawing data of 20 is performed.

3D 프린팅하는 단계(S30)에서는 상기 S20단계에서 형성된 실리콘층용 몰드(20)의 3D 도면 데이터를 이용하여 3D 프린터로 실리콘층용 몰드(20)를 출력하게 된다.In the step 3D printing (S30), the silicon layer mold 20 is output to the 3D printer using the 3D drawing data of the silicon layer mold 20 formed in step S20.

상기 S30단계에서는 도 4에서 도시하는 바와 같이 열경화성 폴리우레탄 수지(2)를 프린터 노즐에서 분사한 뒤 광에너지를 이용하여 응고시켜 레이어를 형성하고, 복수의 레이어가 적층되면서 실리콘층용 몰드(20)를 형성하는 POLYJET 방식의 3D 프린팅을 수행하게 된다.In step S30, as shown in FIG. 4, the thermosetting polyurethane resin 2 is sprayed from the printer nozzle and then solidified using light energy to form a layer, and a plurality of layers are stacked to form the silicon layer mold 20. 3D printing of the POLYJET method to be formed is performed.

POLYJET 방식에 따른 프린팅 결과물은 내열성 및 강도가 우수하고, 표면 정밀도 향상을 위한 후속 가공이 최소화되며, 출력물의 치수 오차가 낮은 특징을 가지게 되는데, 이에 따라 출력된 실리콘층용 몰드(20)의 형상 정밀도 향상시킬 수 있고, 3D 프린팅하는 단계(S30)의 공정시간 단축을 이룰 수 있도록 한다.The printing result according to the POLYJET method has excellent heat resistance and strength, minimizes subsequent processing for improving surface precision, and has a low dimensional error of the output, thereby improving the shape precision of the output mold 20 for silicon layer. And it can be made to shorten the process time of the step (S30) 3D printing.

또한, 열경화성 폴리우레탄 수지(2)는 높은 유연성을 가지고 있어, 실리콘층용 몰드(20)로부터 실리콘 층(11) 표면에 문양을 전사를 수행할 때 문양의 전사가 정밀하게 진행될 수 있도록 하며, 무독성의 친환경 소재로 이루어져 환경오염 및 독성에 의한 작업자의 건강문제 발생 등을 예방할 수 있다.In addition, the thermosetting polyurethane resin (2) has a high flexibility, so that the transfer of the pattern can be precisely performed when transferring the pattern from the mold for silicon layer 20 to the surface of the silicon layer 11, non-toxic It is made of eco-friendly materials to prevent worker's health problems caused by environmental pollution and toxicity.

상기 적층된 열경화성 폴리우레탄 수지(2)를 구성하는 각각의 레이어는 1.0~1.4mm 범위 내의 높이로 형성되고, 50~70 쇼어(Shore) D 범위 내의 경도를 가지는 열경화성 폴리우레탄 수지를 이용하는 것이 바람직하며, 190~220℃ 내의 온도 범위에서 출력을 수행하는 것이 바람직하다.Each layer constituting the laminated thermosetting polyurethane resin 2 is formed to a height within the range of 1.0 ~ 1.4mm, it is preferable to use a thermosetting polyurethane resin having a hardness within the range of 50 ~ 70 Shore (Shore) D, It is desirable to perform the output in the temperature range within 190 ~ 220 ℃.

S30 단계가 완료되면 블록 몰드(10)의 내면에 장착되어 조형석 블록(1)의 표면 문양을 형성하기 위한 문양틀로 사용되는 실리콘 층(11)의 표면에 실리콘층용 몰드(20)의 문양을 전사하는 단계(S40)가 수행된다.When the step S30 is completed, the pattern of the silicon layer mold 20 is transferred to the surface of the silicon layer 11 mounted on the inner surface of the block mold 10 and used as a pattern frame for forming the surface pattern of the sculpture stone block 1. Step S40 is performed.

S40단계에서는 블록 몰드(10) 내면 표면 또는 블록 몰드(10) 외부에 별도로 마련된 평판에 실리콘을 도포한 다음, 실리콘이 경화되기 전 실리콘 표면 위에 실리콘층용 몰드(20)를 가압하여 실리콘을 경화시키게 되며(도 3a), 실리콘이 경화되면 실리콘층용 몰드(20)를 실리콘으로부터 분리(도 3b)하여 실리콘층용 몰드(20)의 문양과 상보되는 형상의 문양이 표면에 전사된 실리콘 층(11)을 형성(도 3c)하게 된다.In step S40 after applying the silicon to the inner surface of the block mold 10 or a plate provided separately outside the block mold 10, the silicon layer mold 20 is pressed onto the silicon surface to cure the silicon before the silicon is cured. 3A, when the silicon is cured, the silicon layer mold 20 is separated from the silicon (FIG. 3B) to form a silicon layer 11 having a shape complementary to the pattern of the silicon layer mold 20 transferred to the surface. (FIG. 3C).

블록 몰드(10) 외부에 마련된 평판에서 실리콘 층(11)을 형성하는 경우, 평판으로부터 경화된 실리콘 층(11)을 분리하여 블록 몰드(10) 내면에 장착하는 과정이 추가적으로 수행될 수 있다.When the silicon layer 11 is formed from the flat plate provided outside the block mold 10, a process of separating the hardened silicon layer 11 from the flat plate and mounting the silicon layer 11 on the inner surface of the block mold 10 may be additionally performed.

이때, 기존의 조형석 블록(1) 제조 방식을 따르는 경우 자연석 샘플을 형틀에 배치하여 원형(原形) 틀을 형성하고, 그 위에 실리콘을 도포하여 자연석 문양이 형성된 실리콘 층(11)을 블록 몰드(10)에 장착한 다음, 블록 몰드(10) 내부에 몰탈(3)을 타설하여 양생함으로써 조형석 블록(1)을 형성하게 되는데, 조형석 블록(1)의 표면 문양을 변경하기 위해서는 조형석 블록(1)의 표면 문양의 형틀이 되는 실리콘 층(11)의 표면 문양을 변경하여야 하였고, 이를 위해 실리콘 층(11) 표면 문양을 형성하기 위해 자연석 샘플을 배치한 원형(原形) 틀을 새로 제조하는 과정을 반복 수행하여야 하기 때문에 제조 비용 및 제조 시간이 증가하게 되었으며, 이에 따라 다양한 문양의 조형석 블록(1)을 제조하는데 어려움이 있었다. At this time, in accordance with the existing manufacturing method of the block stone (1) by placing a natural stone sample in the mold to form a circular frame, by applying the silicon on the silicon layer (11) formed with natural stone patterns on the block mold (10) ), And then mortar 3 is poured into the block mold 10 to cure the shaped stone block 1. In order to change the surface pattern of the shaped stone block 1, It was necessary to change the surface pattern of the silicon layer 11, which is the shape of the surface pattern, and for this purpose, the process of newly manufacturing a circular frame in which natural stone samples were placed to form the surface pattern of the silicon layer 11 was repeated. Since the manufacturing cost and manufacturing time have to be increased, there was a difficulty in manufacturing a variety of patterned stone blocks (1).

따라서 본 발명의 실시 예에 따른 조형석 블록(1)의 제조 방법을 따르는 경우 S10 내지 S30단계를 통해 조형석 블록(1)의 표면에 형성할 문양과 동일한 문양이 형성된 실리콘층용 몰드(20)를 보다 쉽게 제조할 수 있게 되고, 문양이 형성되지 않은 상태의 실리콘 층(11) 표면에 실리콘층용 몰드(20)의 문양을 전사함으로써 실리콘 층(11)의 문양을 형성하는 단계(S40)를 단순화하여, 조형석 블록(1)에 문양을 형성하는 과정 및 비용을 감소시킬 수 있도록 한다.Therefore, according to the manufacturing method of the sculpture stone block 1 according to an embodiment of the present invention through the steps S10 to S30 more easily to the silicon layer mold 20 in which the same pattern is formed on the surface of the sculpture stone block 1 is formed. It becomes possible to manufacture, by simplifying the step (S40) to form the pattern of the silicon layer 11 by transferring the pattern of the silicon layer mold 20 on the surface of the silicon layer 11 in the state where the pattern is not formed, It is possible to reduce the process and cost of forming a pattern on the block (1).

특히, 고객의 요구에 따라 상기 S20단계에서 형성된 실리콘층용 몰드(20)의 3D 도면 데이터에 고객이 원하는 문양 또는 문구 등을 삽입하는 과정이 추가로 수행되어야 할 수 있는데, S10 및 S20단계에서 조형석 블록(1)의 표면 문양 또는 문구 등을 자유롭게 변경하여 적용하면서 완성될 조형석 블록(1)의 형상을 3D 데이터로부터 미리 확인할 수 있기 때문에, 조형석 블록(1)의 최적화된 문양 또는 문구의 디자인 조합을 형성하는 작업을 보다 용이하게 하고, 낮은 비용으로 수행할 수 있도록 한다.In particular, a process of inserting a pattern or phrase desired by a customer into the 3D drawing data of the silicon layer mold 20 formed in step S20 may be additionally performed according to a customer's request. Since the shape of the figurine block 1 to be completed can be confirmed in advance from the 3D data while the surface glyph or the phrase of (1) is freely changed and applied, the design combination of the optimized pattern or the phrase of the figurine block 1 is formed. To make the job easier and to perform at a lower cost.

이를 통해 조형석 블록(1)의 문양 디자인을 쉽게 변경하여 적용할 수 있게 되어, 서로 다른 문양을 가지는 다수의 조형석 블록(1) 디자인을 적용하여 옹벽 축조시 반복되는 문양에 의해 시각적 단조로움이 발생하는 것을 방지하는 등 조형석 블록(1)의 상품성을 보다 향상시킬 수 있도록 한다.Through this, it is possible to easily change and apply the design of the design of the stone block (1), by applying a plurality of design of the design of the stone block (1) having a different pattern that visual monotony is generated by the repeated pattern when building the retaining wall It is possible to improve the marketability of the sculpture stone block 1, such as to prevent.

또한, 상기 S10단계 및 S20단계를 반복 수행함으로써, 다양한 규격의 옹벽 블록에 대응하는 실리콘층용 몰드 3D 데이터를 미리 형성하고, 여러 종류의 자연석 샘플 표면 문양에 대하여 표면 문양 3D 데이터를 미리 형성하여, 다양한 규격과 표면 문양을 가지는 실리콘층용 몰드(20) 3D 도면 데이터를 데이터베이스화할 수 있으며, 도 2에서 도시하는 바와 같이 S30단계를 수행하기 전 미리 생성된 데이터베이스 내의 실리콘층용 몰드(20)의 3D 데이터를 선택하는 단계(S21)를 부가하여 실시함으로써, 주문 생산시 S10 및 S20단계에서 3D 도면 데이터를 형성하는데 소요되는 시간을 단축할 수 있다.In addition, by repeatedly performing the steps S10 and S20, the mold 3D data for the silicon layer corresponding to the retaining wall block of various specifications in advance, and the surface pattern 3D data for various types of natural stone sample surface patterns in advance, The 3D drawing data of the silicon layer mold 20 having the standard and the surface pattern can be made into a database, and as shown in FIG. 2, the 3D data of the silicon layer mold 20 in the pre-generated database is selected before performing the step S30. In addition to the step (S21) to be carried out, it is possible to reduce the time required to form the 3D drawing data in the step S10 and S20 during the order production.

S40단계가 완료되면 도 3d에서 도시하는 바와 같이 블록 몰드(10) 내부에 몰탈(3)을 타설하여 양생하는 단계(S50)가 진행되고, 몰탈(3)의 양생이 완료되면 도 3e에서 도시하는 바와 같이 블록 몰드(10)로부터 조형석 블록(1)을 분리하는 탈형 단계(S60)가 진행된다.When the step S40 is completed, as shown in FIG. 3D, the step S50 of curing mortar 3 is poured into the block mold 10, and when curing of the mortar 3 is completed, the process shown in FIG. 3E is completed. As described above, a demolding step S60 of separating the shaped stone block 1 from the block mold 10 is performed.

S50단계에서는 실리콘 층(11) 표면에 형성된 문양이 조형석 블록(1) 표면에 전사되는데, 실리콘 층(11)의 재질 특성상 전사된 조형석 블록(1)의 문양이 자연석과 유사한 질감을 형성할 수 있도록 한다. In the step S50, the pattern formed on the surface of the silicon layer 11 is transferred to the surface of the sculpted stone block 1, so that the pattern of the transferred stone block 1 due to the material characteristics of the silicon layer 11 forms a texture similar to that of natural stone. do.

이때, 블록 몰드(10)에 몰탈(3)을 타설하여 양생하는 단계(S50)의 수행 전 분말형태의 색소를 실리콘 층(11) 표면에 분사하는 단계(S42)가 부가되어 실시될 수 있으며, 분사된 색소가 타설된 몰탈(3) 표면에 침투하면서 제조된 조형석 블록(1)이 자연석과 유사한 색상을 형성하여 심미감을 더욱 향상시킬 수 있도록 하고, 액상이 아닌 분말형태의 색소를 사용함으로써 액체상태의 색소가 흘러나와 조형석 블록(1)의 착색불량이 발생하는 것을 방지한다.In this case, the step (S42) of spraying a pigment in the form of powder onto the surface of the silicon layer 11 may be performed before the step S50 of pouring the mortar 3 into the block mold 10 to perform curing. Sculpted stone blocks (1) manufactured while the injected pigment penetrates into the surface of the mortar (3) on which it is poured make it possible to further enhance the aesthetics by forming a color similar to that of natural stone, and by using a pigment in the form of a powder rather than a liquid The pigment | dye of this flows out, and the coloring fault of the shaped-stone block 1 is prevented from generating.

또한, 분말형태의 색소를 분사하는 단계(S42)의 수행 전, S40단계가 완료된 실리콘 층(11) 표면에 액상의 경화제를 도포하는 단계(S41)가 부가되어 수행될 수 있는데, 경화제를 통해 실리콘 층(11)의 수축을 방지하여 조형석 블록(1)의 치수 정밀도를 보다 향상시키고, 실리콘 층(11) 표면에 분사된 분말형태의 색소가 정착되면서 색소 번짐 등 조형석 블록(1) 표면의 착색 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.In addition, before the step of spraying the pigment in the form of powder (S42), the step (S41) of applying a liquid curing agent to the surface of the silicon layer 11, the step S40 is completed may be performed by adding a silicone through the curing agent By preventing the shrinkage of the layer 11, the dimensional precision of the shaped stone block 1 is further improved, and the pigmentation defects on the surface of the shaped stone block 1, such as pigment bleeding as the pigment in the powder form sprayed on the surface of the silicon layer 11 are fixed, are fixed. This can be prevented from occurring.

탈형 단계(S60)가 완료된 후 제조된 조형석 블록(1)의 측면 및 배면 표면 및 모서리를 연마 가공하는 연마 단계(S70)가 부가되어 수행될 수 있으며, 이를 통해 조형석 블록(1)의 치수정밀도를 향상시킬 수 있도록 한다.After the demolding step S60 is completed, a polishing step S70 for polishing the side surfaces and the back surface and the edges of the manufactured stone blocks 1 may be added, thereby improving the dimensional accuracy of the stone blocks 1. To improve.

상기 내용을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.Although embodiments of the present invention have been described with reference to the above contents, those skilled in the art will understand that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features.

그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 상기 상세한 설명에서 기술된 본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허 청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Therefore, the above-described embodiments are to be understood in all respects as illustrative and not restrictive, and the scope of the present invention described in the above detailed description is represented by the following claims, and the meanings of the claims and All changes or modifications derived from the scope and equivalent concepts thereof should be construed as being included in the scope of the present invention.

1: 조형석 블록
2: 수지
3: 몰탈
10: 블록 몰드
11: 실리콘 층
20: 실리콘층용 몰드1: sculpture stone block
2: resin
3: mortar
10: block mold
11: silicone layer
20: mold for silicon layer

Claims (8)

외장 표면에 자연석의 문양이 형성된 조형석 블록(1)을 제조하는 방법에 있어서,
자연석 샘플의 표면 문양을 3D 데이터화하는 단계(S10)와;
문양이 형성되지 않은 기본 형상의 실리콘층용 몰드(20)의 3D 데이터에 자연석 샘플의 표면 문양 데이터를 합성하여 문양이 형성된 실리콘층용 몰드(20)의 3D 데이터를 형성하는 단계(S20)와;
실리콘층용 몰드(20)의 3D 데이터로부터 실리콘층용 몰드(20)를 3D 프린팅하는 단계(S30)와;
실리콘층용 몰드(20)의 문양을 실리콘 층(11) 표면에 전사하는 단계(S40)와;
내측 표면에 실리콘 층(11)이 형성된 블록 몰드(10)에 몰탈(3)을 타설하여 양생하는 단계(S50); 및
양생된 조형석 블록(1)을 블록 몰드(10)로부터 분리하는 탈형 단계(S60);로 구성되고,
상기 자연석 샘플의 표면 문양을 3D 데이터화하는 단계(S10)에서는 2차원 평면 이미지 데이터로부터 명도(brightness)를 측정하고, 측정된 명도의 크기에 따라 샘플의 표면 문양의 높낮이를 계산한 후, 계산된 높낮이에 따라 자연석 샘플 표면 문양의 3D 데이터를 추출하되, 측정된 명도의 최고값과 최저값이 미리 설정된 명도의 제한범위에 초과 또는 미달되는 경우 측정된 명도 및 대비(contrast) 값을 조절함으로써, 형성되는 자연석 샘플의 표면 문양 3D 데이터의 높낮이차가 적정치로 조절되고,
상기 실리콘층용 몰드(20)를 3D 프린팅하는 단계(S30)를 수행하기 전, 미리 생성된 데이터베이스 내의 실리콘층용 몰드(20)의 3D 데이터를 선택하는 단계(S21)가 부가되고,
상기 블록 몰드(10)에 몰탈(3)을 타설하여 양생하는 단계(S50) 수행 전 실리콘 층(11) 표면에 액상의 경화제를 도포하는 단계(S41)와 실리콘 층(11) 표면의 문양에 분말형태의 색소를 분사하는 단계(S42)가 부가되고,
상기 실리콘층용 몰드(20)를 3D 프린팅하는 단계(S30)는 열경화성 폴리우레탄 수지(2)를 프린터 노즐에서 분사한 뒤 광에너지를 이용하여 응고시켜 형성한 레이어를 적층하여 실리콘층용 몰드(20)를 형성하되, 상기 열경화성 폴리우레탄 수지(2)의 각 레이어는 1.0~1.4mm 범위 내의 높이로 적층되고, 열경화성 폴리우레탄 수지(2)의 경도는 50~70 쇼어(Shore) D 범위 내에 형성되는 것을 특징으로 하는 조형석 블록 제조 방법.In the method of manufacturing a sculpture stone block (1) in which a pattern of natural stone is formed on the exterior surface,
3D data converting the surface pattern of the natural stone sample (S10);
Synthesizing the surface pattern data of the natural stone sample with the 3D data of the silicon layer mold 20 having a basic shape in which the pattern is not formed to form 3D data of the silicon layer mold 20 in which the pattern is formed (S20);
3D printing the silicon layer mold 20 from the 3D data of the silicon layer mold 20 (S30);
Transferring the pattern of the silicon layer mold 20 to the surface of the silicon layer 11 (S40);
Placing and curing mortar 3 in the block mold 10 in which the silicon layer 11 is formed on the inner surface (S50); And
Consists of the demolding step (S60) for separating the cured stone blocks (1) from the block mold 10,
In the step (S10) of converting the surface pattern of the natural stone sample into 3D data, brightness is measured from two-dimensional planar image data, the height of the surface pattern of the sample is calculated according to the measured brightness, and then the calculated height The natural stone is formed by extracting 3D data of natural stone sample surface patterns, and adjusting the measured brightness and contrast values when the highest and lowest values of the measured brightness are above or below the preset brightness limits. The height difference of the surface glyph 3D data of the sample is adjusted to an appropriate value,
Before performing the step S30 of 3D printing the mold 20 for silicon layer, a step S21 of selecting 3D data of the mold 20 for silicon layer in a previously generated database is added,
Applying a liquid curing agent to the surface of the silicon layer 11 before performing the curing step (S50) by pouring mortar (3) on the block mold 10 (S41) and powder on the pattern of the surface of the silicon layer (11) Spraying the pigment of the form (S42) is added,
3D printing the mold 20 for the silicon layer (S30) by spraying the thermosetting polyurethane resin (2) from the printer nozzle and stacking the layer formed by solidification using light energy to form a silicon layer mold (20) Wherein each layer of the thermosetting polyurethane resin (2) is laminated to a height within the range of 1.0 ~ 1.4mm, the hardness of the thermosetting polyurethane resin (2) is characterized in that it is formed within the range of 50 ~ 70 Shore (Shore D) Sculpted stone block manufacturing method. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 탈형 단계(S60) 완료 후 제조된 조형석 블록(1)을 정확한 치수로 가공하는 연마 단계(S70)가 부가되는 것을 특징으로 하는 조형석 블록 제조 방법.The method of claim 1,
Sculpture block manufacturing method, characterized in that the grinding step (S70) for processing the prepared stone block (1) manufactured after the completion of the demolding step (S60) to the correct dimensions is added. 삭제delete 삭제delete
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