KR102074727B1 - Apparatus for measuring gas concentration - Google Patents

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Abstract

배관의 내부에 일단이 배치되며 타단이 배관의 외부에 배치되도록 배관에 설치되며 이중관으로 이루어지는 한 쌍의 광 안내부재와, 상기 한 쌍의 광 안내부재 중 어느 하나의 타단측에 설치되는 발광부와, 상기 한 쌍의 광 안내부재 중 다른 하나의 타단측에 설치되는 수광부와, 상기 광 안내부재의 이중관 사이 공간으로 가열용 스팀을 제공하는 스팀 제공부 및 상기 광 안내부재의 안내홀로 퍼지 가스를 제공하는 퍼지 가스 공급부를 포함하는 측정유닛을 구비하는 가스 농도 측정 장치가 개시된다.One end is disposed inside the pipe and the other end is installed in the pipe so that the other end is disposed outside the pipe, and a pair of light guide member consisting of a double pipe, and the light emitting portion installed on the other end of any one of the pair of light guide member; And a steam providing unit configured to provide a heating steam to a space between the light receiving unit installed at the other end of the pair of light guide members and the double tube of the light guide member, and a purge gas to the guide hole of the light guide member. Disclosed is a gas concentration measuring apparatus including a measuring unit including a purge gas supply unit.

Figure R1020170174357
Figure R1020170174357

Description

가스 농도 측정 장치{Apparatus for measuring gas concentration}Apparatus for measuring gas concentration

본 발명은 가스 농도 측정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a gas concentration measuring apparatus.

화성 공장에서 발생하는 COG는 부생가스로서 열량이 높아 연료로 사용하지만 내부에 존재하는 황화수소(H2S)와 같은 부식성 가스로 인해 배관이 막히거나 설비를 부식시키는 문제가 있다. 따라서 황화수소(H2S)를 제거하기 위하여 정제설비를 이용하고 있으며 황화수소(H2S) scrubber에서 황화수소(H2S)를 포집하고 여기서 포집된 황화수소(H2S)는 유황회수설비를 통해 탈황공정을 거쳐 황을 제거하게 된다. 황화수소(H2S) 정제설비에서 포집효율이나 유황회수설비에서 유황회수를 높이기 위해서 정제설비 전후단의 황화수소(H2S)의 농도 분석, 유황회수설비 후단에서 tail gas의 분석이 중요하나 현재는 간이 검지기를 통한 가스 분석이나 샘플링 방식의 가스 분석으로 분석에 한계가 존재한다. COG generated from the chemical plant is a by-product gas, which is used as a fuel because of high calorific value, but there is a problem in that a pipe is blocked or corroded by a corrosive gas such as hydrogen sulfide (H 2 S). Therefore, hydrogen sulfide has been used for refining to remove the (H 2 S) hydrogen sulfide (H 2 S) collecting the hydrogen sulfide (H 2 S) in a scrubber and the hydrogen sulfide (H 2 S) captured here is desulfurized through the sulfur recovery plant Sulfur is removed through the process. In order to increase the collection efficiency in the hydrogen sulfide (H 2 S) refining system and the recovery of sulfur in the sulfur recovery system, it is important to analyze the concentration of hydrogen sulfide (H 2 S) at the front and rear of the refining plant and tail gas analysis at the rear of the sulfur recovery unit. There is a limit to analysis by gas analysis through simple detector or gas analysis by sampling method.

현재 일반적으로 사용되는 가스감지 방식은 간섭가스가 존재한다거나 실시간으로 배관 내부의 가스농도를 파악하지 못하여 부정확하고 실시간 제어에 문제가 있다.The gas detection method currently commonly used is inaccurate and there is a problem in real time control due to the presence of interference gas or failure to grasp the gas concentration inside the pipe in real time.

일본 공개특허공보 제2014-240808호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-240808

배관 내를 유동하는 측정하고자 하는 가스의 전체적인 농도를 보다 정확하게 측정할 수 있는 가스 농도 측정 장치가 제공된다.A gas concentration measuring apparatus is provided which can more accurately measure the overall concentration of a gas to be measured flowing in a pipe.

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 측정 장치는 배관의 내부에 일단이 배치되며 타단이 배관의 외부에 배치되도록 배관에 설치되며 이중관으로 이루어지는 한 쌍의 광 안내부재와, 상기 한 쌍의 광 안내부재 중 어느 하나의 타단측에 설치되는 발광부와, 상기 한 쌍의 광 안내부재 중 다른 하나의 타단측에 설치되는 수광부와, 상기 광 안내부재의 이중관 사이 공간으로 가열용 스팀을 제공하는 스팀 제공부 및 상기 광 안내부재의 안내홀로 퍼지 가스를 제공하는 퍼지 가스 공급부를 포함하는 측정유닛을 구비한다.Gas measuring device according to an embodiment of the present invention is a pair of light guide member is installed in the pipe so that one end is disposed in the interior of the pipe and the other end is disposed outside the pipe, and the pair of light guide member The steam providing unit for providing heating steam to the space between the light emitting portion provided on the other end side of any one of the, the light receiving portion provided on the other end side of the pair of light guide member, and the double tube of the light guide member And a measurement unit including a purge gas supply unit configured to supply a purge gas to the guide hole of the light guide member.

상기 광 안내부재는 상기 이중관 사이 공간에서 스팀이 순환하도록 형성되는 유입구와 유출구를 구비할 수 있다.The light guide member may have an inlet and an outlet formed to circulate steam in the space between the double pipes.

상기 광 안내부재는 퍼지 가스의 유입을 위한 퍼지 가스 공급구를 구비하며, 상기 퍼지 가스 공급구는 상기 유입구와 상기 유출구 중 어느 하나에 인접 배치될 수 있다.The light guide member may include a purge gas supply port for introducing a purge gas, and the purge gas supply port may be disposed adjacent to any one of the inlet and the outlet.

상기 측정유닛은 제1 측정유닛과, 가스 유동 경로 상 제1 측정유닛의 후단에 배치되는 제2 측정유닛을 구비하며, 상기 제1 측정유닛에 구비되는 한 쌍의 제1 광 안내부재의 배관 내에서의 사이 간격은 상기 제2 측정유닛에 구비되는 한 쌍의 제2 광 안내부재의 배관 내에서의 사이 간격보다 크게 형성될 수 있다.The measuring unit includes a first measuring unit and a second measuring unit disposed at a rear end of the first measuring unit on the gas flow path, and includes a pair of first light guide members provided in the first measuring unit. An interval between s may be greater than an interval between the pairs of second light guide members provided in the second measuring unit in the pipe.

상기 제1 측정유닛은 배관의 내부에 일단이 배치되며 타단이 배관의 외부에 배치되도록 배관에 설치되며 이중관으로 이루어지는 상기 한 쌍의 제1 광 안내부재와, 상기 한 쌍의 제1 광 안내부재 중 어느 하나의 타단측에 설치되는 제1 발광부와, 상기 한 쌍의 제1 광 안내부재의 중 다른 하나의 타단측에 설치되는 제1 수광부와, 상기 제1 광 안내부재의 이중관 사이 공간으로 가열용 스팀을 제공하는 제1 스팀 제공부 및 상기 제1 광 안내부재의 안내홀로 퍼지 가스를 제공하는 제1 퍼지 가스 공급부를 구비할 수 있다.The first measuring unit has one end disposed inside the pipe, and the other end of the pair of first light guide members and the pair of first light guide members installed in the pipe so as to be disposed outside the pipe. Heating to a space between a first light emitting portion provided on one other end side, a first light receiving portion provided on the other end side of the pair of first light guide members, and a double tube of the first light guide member And a first purge gas supply unit configured to supply purge gas to the guide hole of the first light guide member.

상기 제2 측정유닛은 배관의 내부에 일단이 배치되며 타단이 배관의 외부에 배치되도록 배관에 설치되며 이중관으로 이루어지는 상기 한 쌍의 제2 광 안내부재와, 상기 한 쌍의 제2 광 안내부재 중 어느 하나의 타단측에 설치되는 제2 발광부와, 상기 한 쌍의 제2 광 안내부재의 중 다른 하나의 타단측에 설치되는 제2 수광부와, 상기 제2 광 안내부재의 이중관 사이 공간으로 가열용 스팀을 제공하는 제2 스팀 제공부 및 상기 제2 광 안내부재의 안내홀로 퍼지 가스를 제공하는 제2 퍼지 가스 공급부를 구비할 수 있다.One end of the second measuring unit is disposed in the pipe, and the other end of the pair of second light guide members and the pair of second light guide members are installed in the pipe so as to be disposed outside the pipe. Heating to a space between a second light emitting portion provided on one other end side, a second light receiving portion provided on the other end side of the pair of second light guide members, and a double tube of the second light guide member And a second purge gas supply unit providing a purge gas to the guide hole of the second light guide member.

상기 측정유닛은 복수개 종류의 가스 농도 측정이 가능하도록 배관의 원주방향을 따라 복수개가 설치될 수 있다.The measuring unit may be provided in plural along the circumferential direction of the pipe to measure a plurality of kinds of gas concentration.

상기 측정유닛은 가스 정제 설비의 전단과 후단 중 적어도 하나에 배치될 수 있다.The measuring unit may be disposed at at least one of the front end and the rear end of the gas purification plant.

상기 측정유닛은 유황 회수 설비의 전단과 후단 중 적어도 하나에 배치될 수 있다.The measuring unit may be disposed at at least one of the front end and the rear end of the sulfur recovery facility.

상기 광 안내부재는 고압의 스팀이 광 안내부의 안내홀로 제공되도록 하는 스팀 공급구를 구비할 수 있다.The light guide member may include a steam supply port for supplying high pressure steam to the guide hole of the light guide part.

배관 내를 유동하는 측정하고자 하는 가스의 전체적인 농도를 보다 정확하게 측정할 수 있는 효과가 있다.There is an effect that can more accurately measure the overall concentration of the gas to be measured flowing in the pipe.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치를 나타내는 개략 구성도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치가 설치되는 영역을 설명하기 위한 구성도이다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치를 나타내는 개략 구성도이다.
도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치를 나타내는 구성도이다.
도 5는 본 발명의 제4 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치를 나타내는 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram showing a gas concentration measuring apparatus according to a first embodiment of the present invention.
2 is a configuration diagram illustrating an area in which a gas concentration measuring apparatus according to the first embodiment of the present invention is installed.
3 is a schematic block diagram showing a gas concentration measuring apparatus according to a second embodiment of the present invention.
4 is a block diagram showing a gas concentration measuring apparatus according to a third embodiment of the present invention.
5 is a block diagram showing a gas concentration measuring apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당해 기술분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, embodiments of the present invention may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. In addition, embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Shapes and sizes of elements in the drawings may be exaggerated for clarity.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치를 나타내는 개략 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram showing a gas concentration measuring apparatus according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치(100)는 일예로서, 광 안내부재(120), 발광부(130), 수광부(140), 스팀 제공부(150), 퍼지 가스 공급부(160)를 구비하는 측정유닛(110)을 포함하여 구성될 수 있다.Referring to FIG. 1, the gas concentration measuring apparatus 100 according to the first exemplary embodiment of the present invention may be, for example, a light guide member 120, a light emitting unit 130, a light receiving unit 140, and a steam providing unit 150. It may be configured to include a measuring unit 110 having a purge gas supply unit 160.

광 안내부재(120)는 배관(10)의 내부에 일단이 배치되며 타단이 배관(10)의 외부에 배치되도록 배관(10)에 설치되는 이중관으로 이루어진다. 한편, 광 안내부재(120)는 발광부 측 광 안내부재(122)와, 발광부 측 광 안내부재(122)와 이격 배치되는 수광부 측 광 안내부재(124)를 포함하여 구성될 수 있다.The light guide member 120 is composed of a double pipe installed at one end of the pipe 10 and installed at the pipe 10 so that the other end thereof is disposed outside the pipe 10. The light guide member 120 may include a light emitter side light guide member 122 and a light receiver side light guide member 124 spaced apart from the light emitter side light guide member 122.

한편, 광 안내부재(120)에는 이중관 사이 공간으로 가열용 스팀이 순환하도록 형성되는 유입구(122a, 124a)와 유출구(미도시)를 구비할 수 있다. 즉, 유입구(122a, 124a)로부터 유입되는 가열용 스팀은 이중관을 순환한 후 유출구(미도시)를 통해 유출된다.On the other hand, the light guide member 120 may be provided with inlets (122a, 124a) and the outlet (not shown) are formed to circulate the heating steam to the space between the double pipe. That is, the heating steam introduced from the inlets 122a and 124a is circulated through the double pipe and then flows out through the outlet (not shown).

이와 같이, 가열용 스팀이 광 안내부재(120)로 공급되므로, 배관(10) 내를 유동하는 가스의 냉각으로 인한 광 안내부재(120)에의 침적을 방지할 수 있다. 즉, 배관(10) 내 유동하는 가스의 온도가 높은 경우 퍼지 가스 공급부(160)로부터 공급되는 퍼지 가스의 온도가 상온이거나 광 안내부재(120)의 온도가 상온인 경우 유동하는 가스의 냉각으로 인하여 가스의 침적이 발생된다. 그리고, 침적이 지속되면 배관(10)이 좁아지거나 막히게 되고, 결과적으로 발광부(130)에서 수광부(140)로 진행하는 광의 경로를 막히거나 광의 세기가 변화되므로 가스농도 측정에 오류를 발생시키거나 측정을 불가능하게 할 수 있다.As such, since the heating steam is supplied to the light guide member 120, it is possible to prevent deposition on the light guide member 120 due to the cooling of the gas flowing in the pipe 10. That is, when the temperature of the gas flowing in the pipe 10 is high, when the temperature of the purge gas supplied from the purge gas supply unit 160 is room temperature or the temperature of the light guide member 120 is room temperature, due to cooling of the flowing gas Deposition of gases occurs. If the deposition continues, the pipe 10 becomes narrow or clogged, and as a result, the path of the light traveling from the light emitting unit 130 to the light receiving unit 140 is blocked or the intensity of the light is changed, thereby causing an error in the gas concentration measurement. You can make the measurement impossible.

하지만, 광 안내부재(120)의 온도를 상승시키기 위한 가열용 스팀이 광 안내부재(120)의 이중관 내부로 제공되므로 가열용 스팀으로부터 광 안내부재(120)로의 열전달에 의해 가스의 침적을 방지할 수 있다.However, since the heating steam for raising the temperature of the light guide member 120 is provided inside the double tube of the light guide member 120, it is possible to prevent deposition of gas by heat transfer from the heating steam to the light guide member 120. Can be.

또한, 광 안내부재(120)는 퍼지 가스가 안내홀(122c,124c)로 제공되도록 하는 퍼지 가스 공급구(122d,124d)를 구비할 수 있다. 그리고, 퍼지 가스 공급구(122d,124d)는 상기한 유입구(122a, 124a)와 유출구(미도시) 중 어느 하나에 인접 배치될 수 있다.In addition, the light guide member 120 may include purge gas supply holes 122d and 124d to allow the purge gas to be provided to the guide holes 122c and 124c. The purge gas supply ports 122d and 124d may be disposed adjacent to any one of the inlets 122a and 124a and the outlet (not shown).

이에 따라, 퍼지 가스 공급구(122d,124d)로부터 공급되는 퍼지 가스도 가열용 스팀에 의해 온도가 상승하여 광 안내부재(120의 안내홀(122c,124c)로 공급될 수 있는 것이다.Accordingly, the purge gas supplied from the purge gas supply ports 122d and 124d may be supplied to the guide holes 122c and 124c of the light guide member 120 by increasing the temperature by the heating steam.

결국, 퍼지 가스의 냉각으로 인한 퍼지 가스의 침적을 방지할 수 있다.As a result, deposition of the purge gas due to cooling of the purge gas can be prevented.

더불어, 광 안내부재(120)는 고압의 스팀이 광 안내부재(120)의 안내홀(122c,124c)로 제공되도록 하는 스팀 공급구(122e,124e)를 구비할 수 있다. 즉, 발광부(130)와 수광부(140)에 유동하는 가스가 침적되어 레이저의 유동 경로를 막는 현상을 방지하기 위하여 고압의 스팀이 직접 광 안내부재(120)의 안내홀(122c,124c)로 제공되도록 하여 퇴적물이나 불순물에 의한 오염을 방지할 수 있다.In addition, the light guide member 120 may be provided with steam supply ports 122e and 124e to allow high pressure steam to be provided to the guide holes 122c and 124c of the light guide member 120. That is, in order to prevent the phenomenon that the gas flowing in the light emitting unit 130 and the light receiving unit 140 is deposited to block the flow path of the laser, high-pressure steam is directly directed to the guide holes 122c and 124c of the light guide member 120. To prevent contamination by deposits or impurities.

발광부(130)는 한 쌍의 광 안내부재(120) 중 어느 하나의 타단측에 설치된다. 즉, 발광부(130)는 상기한 발광부 측 광 안내부재(122)의 타단측에 설치되며, 발광부 측 광 안내부재(122)의 안내홀(122c)로 특정 파장의 레이저를 발광된다. 일예로서, 특정 파장의 레이저는 측정하고자 하는 가스의 흡수파장을 일컫는다. 이는 측정하고자 하는 가스의 농도에 따라 수광부(140)에서 받아지는 흡수 스펙트럼이 달라지는 원리를 이용하기 위함이다.The light emitting unit 130 is installed at the other end of any one of the pair of light guide members 120. That is, the light emitting unit 130 is installed at the other end side of the light emitting unit side light guide member 122 and emits a laser of a specific wavelength through the guide hole 122c of the light emitting unit side light guide member 122. As an example, the laser of a specific wavelength refers to the absorption wavelength of the gas to be measured. This is to use the principle that the absorption spectrum received from the light receiving unit 140 varies according to the concentration of the gas to be measured.

한편, 발광부(130)는 레이저발생부재(미도시), 스위치(미도시), 광섬유(미도시), 발광부재(미도시) 등 레이저를 발생시켜 발광하기 위한 다양한 구성이 구비될 수 있다.On the other hand, the light emitting unit 130 may be provided with various configurations for generating and emitting a laser, such as a laser generating member (not shown), a switch (not shown), an optical fiber (not shown), a light emitting member (not shown).

수광부(140)는 한 쌍의 광 안내부재(120) 중 다른 하나의 타단측에 설치된다. 즉, 수광부(140)는 상기한 수광부 측 광 안내부재(124)의 타단측에 설치되며, 수광부 측 광 안내부재(124)의 안내홀(124c)로 유입되는 특정 파장의 레이저를 수광한다. 즉, 측정하고자 하는 가스의 에너지를 흡수한 레이저가 수광부(140)에 입사된다. 이에 따라, 측정하고자 하는 가스의 농도를 측정할 수 있는 것이다.The light receiving unit 140 is installed at the other end side of the other of the pair of light guide members 120. That is, the light receiving unit 140 is installed at the other end side of the light receiving unit side light guide member 124 and receives the laser of a specific wavelength flowing into the guide hole 124c of the light receiving unit side light guide member 124. That is, the laser absorbing the energy of the gas to be measured is incident on the light receiving unit 140. Accordingly, the concentration of the gas to be measured can be measured.

일예로서, 수광부(140)에는 제어부(미도시)가 연결되며, 제어부는 수광부(140)에 입사된 레이저에 의한 신호에 따라 측정하고자 하는 가스의 농도를 산출하는 것이다.For example, a control unit (not shown) is connected to the light receiving unit 140, and the control unit calculates a concentration of a gas to be measured according to a signal of a laser incident on the light receiving unit 140.

한편, 수광부(140)는 레이저를 수광시키기 위한 수광부재(미도시), 광섬유(미도시), 스위치(미도시), 스펙트럼 분석부(미도시) 등 다양한 구성이 구비될 수 있다.The light receiving unit 140 may be provided with various components such as a light receiving member (not shown), an optical fiber (not shown), a switch (not shown), and a spectrum analyzer (not shown) for receiving a laser.

스팀 제공부(150)는 광 안내부재(120)의 이중관 사이 공간으로 가열용 스팀을 제공한다. 즉, 스팀 제공부(150)는 광 안내부재(120)의 유입구(122a, 124a)와 유출구(미도시)에 연결되어 스팀이 광 안내부재(120)의 이중관 내부에서 순환하도록 한다.The steam providing unit 150 provides heating steam to a space between the double pipes of the light guide member 120. That is, the steam providing unit 150 is connected to the inlets 122a and 124a and the outlet (not shown) of the light guide member 120 to allow steam to circulate inside the double pipe of the light guide member 120.

한편, 스팀 제공부(150)는 고압의 스팀이 광 안내부재(120)의 안내홀(122c,124c)로 제공되도록 하는 스팀 공급구(122e,124e)에 연결될 수 있다.Meanwhile, the steam providing unit 150 may be connected to steam supply ports 122e and 124e for providing high pressure steam to the guide holes 122c and 124c of the light guide member 120.

퍼지 가스 공급부(160)는 광 안내부재(120)의 안내홀(122c,124c)로 퍼지 가스를 제공한다. 즉, 퍼지 가스 공급부(160)는 퍼지 가스가 안내홀(122c,124c)로 제공되도록 하는 퍼지 가스 공급구(122d,124d)에 연결된다. 일예로서, 퍼지 가스는 질소(N2)일 수 있다. 그리고, 퍼지 가스 공급부(160)가 광 안내부재(120)의 유입구(122a, 124a)와 유출구(미도시)에 인접 배치되는 퍼지 가스 공급구(122d,124d)에 연결되므로, 공급되는 퍼지 가스의 온도를 상승시킬 수 있다.The purge gas supply unit 160 provides the purge gas to the guide holes 122c and 124c of the light guide member 120. That is, the purge gas supply unit 160 is connected to the purge gas supply ports 122d and 124d for supplying the purge gas to the guide holes 122c and 124c. As one example, the purge gas may be nitrogen (N 2 ). Further, since the purge gas supply unit 160 is connected to the inlet 122a and 124a of the light guide member 120 and the purge gas supply ports 122d and 124d disposed adjacent to the outlet port (not shown), the purge gas supplied It can raise the temperature.

상기한 바와 같이, 가열용 스팀이 광 안내부재(120)로 공급되므로, 배관(10) 내를 유동하는 가스의 냉각으로 인한 광 안내부재(120)에의 침적을 방지할 수 있다. 즉, 광 안내부재(120)의 온도를 상승시키기 위한 가열용 스팀이 광 안내부재(120)의 이중관 내부로 제공되므로 가열용 스팀으로부터 광 안내부재(120)로의 열전달에 의해 가스의 침적을 방지할 수 있다.As described above, since the heating steam is supplied to the light guide member 120, it is possible to prevent deposition on the light guide member 120 due to the cooling of the gas flowing in the pipe 10. That is, since the heating steam for raising the temperature of the light guide member 120 is provided inside the double tube of the light guide member 120, it is possible to prevent the deposition of gas by heat transfer from the heating steam to the light guide member 120. Can be.

또한, 퍼지 가스 공급구(122d,124d)로부터 공급되는 퍼지 가스도 가열용 스팀에 의해 온도가 상승하여 광 안내부재(120의 안내홀(122c,124c)로 공급될 수 있다. 이에 따라, 퍼지 가스의 냉각으로 인한 퍼지 가스의 침적을 방지할 수 있다.In addition, the purge gas supplied from the purge gas supply ports 122d and 124d may also be supplied to the guide holes 122c and 124c of the light guide member 120 by raising the temperature by heating steam. It is possible to prevent deposition of purge gas due to cooling of the gas.

더하여, 고압의 스팀이 직접 광 안내부재(120)의 안내홀(122c,124c)로 제공되도록 하여 퇴적물이나 불순물에 의한 오염을 방지할 수 있다.In addition, high pressure steam may be directly provided to the guide holes 122c and 124c of the light guide member 120 to prevent contamination by deposits or impurities.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치가 설치되는 영역을 설명하기 위한 구성도이다.2 is a configuration diagram illustrating an area in which a gas concentration measuring apparatus according to the first embodiment of the present invention is installed.

도 2를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치(100)는 가스 정제 설비(20)의 전단과 후단에 배치되도록 제1 배관(12)에 설치될 수 있으며, 유황 회수 설비(30)의 전단과 후단에 배치되도록 제2 배관(14)에 설치될 수도 있다.Referring to FIG. 2, the gas concentration measuring apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention may be installed in the first pipe 12 to be disposed at the front end and the rear end of the gas purification facility 20, and the sulfur recovery may be performed. It may be installed in the second pipe 14 to be disposed at the front and rear ends of the facility (30).

이와 같이, 가스 정제 설비(20)의 전단과 후단, 유황 회수 설비(30)의 전단과 후단 각각에 배치되도록 가스 농도 측정 장치(100)가 설치될 수 있으므로, 실제 배관(10) 내에서의 가스 농도를 실시간으로 정확하게 측정할 수 있다. 나아가, 가스 정제 설비(20)의 전단과 후단, 유황 회수 설비(30)의 전단과 후단 각각에 배치되도록 가스 농도 측정 장치(100)가 설치되어 동일 가스의 변화를 측정함으로써 정제효율, 회수효율, 정제설비의 진단 등 다양한 분석이 가능할 수 있다.As such, since the gas concentration measuring apparatus 100 may be installed at each of the front and rear ends of the gas purification equipment 20 and the front and rear ends of the sulfur recovery equipment 30, the gas in the actual pipe 10 may be installed. The concentration can be measured accurately in real time. Furthermore, the gas concentration measuring apparatus 100 is installed to be disposed at each of the front and rear ends of the gas purification equipment 20 and the front and rear ends of the sulfur recovery equipment 30 to measure the change in the same gas, thereby purifying purification efficiency, recovery efficiency, Various analyzes may be possible, including diagnostics of the purification plant.

다만, 본 실시예에서는 가스 정제 설비(20)의 전단과 후단, 유황 회수 설비(30)의 전단과 후단 각각에 배치되도록 가스 농도 측정 장치(100)가 설치되는 경우를 예로 들어 설명하고 있으나, 이에 한정되지 않으며 가스 정제 설비(20)의 전단과 후단 중 어느 하나에, 유황 회수 설비(30)의 전단과 후단 중 어느 하나에 배치되도록 가스 농도 측정 장치(100)가 설치될 수도 있을 것이다.In the present embodiment, the gas concentration measuring apparatus 100 is installed so as to be disposed at each of the front and rear ends of the gas purification equipment 20 and the front and rear ends of the sulfur recovery equipment 30. The gas concentration measuring apparatus 100 may be installed at any one of the front end and the rear end of the gas refining installation 20, and the gas concentration measurement device 100 is disposed at any one of the front end and the rear end of the sulfur recovery installation 30.

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치를 나타내는 개략 구성도이다.3 is a schematic block diagram showing a gas concentration measuring apparatus according to a second embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치(200)는 일예로서, 제1 측정유닛(210) 및 제2 측정유닛(270)을 포함하여 구성될 수 있다.Referring to FIG. 3, the gas concentration measuring apparatus 200 according to the second embodiment of the present invention may be configured to include a first measuring unit 210 and a second measuring unit 270 as an example.

제2 측정유닛(270)은 가스의 유동 경로(P) 상 제1 측정유닛(210)의 후단에 배치된다. 일예로서, 제1 측정유닛(210)은 황화수소(H2S)의 농도를 감지하며, 제2 측정유닛(270)은 이산화황(SO2)의 농도를 감지할 수 있다. 다만, 제1,2 측정유닛(210,260)에 의해 측정되는 가스의 종류는 이에 한정되지 않으며, 다양하게 변경 가능할 것이다.The second measuring unit 270 is disposed at the rear end of the first measuring unit 210 on the flow path P of the gas. As an example, the first measuring unit 210 may detect the concentration of hydrogen sulfide (H 2 S), and the second measuring unit 270 may detect the concentration of sulfur dioxide (SO 2 ). However, the type of gas measured by the first and second measuring units 210 and 260 is not limited thereto, and may be variously changed.

제1 측정유닛(210)은 제1 광 안내부재(220), 제1 발광부(230), 제1 수광부(240), 제1 스팀 제공부(250), 제1 퍼지 가스 공급부(260)를 구비할 수 있다.The first measuring unit 210 includes the first light guide member 220, the first light emitting unit 230, the first light receiving unit 240, the first steam providing unit 250, and the first purge gas supply unit 260. It can be provided.

또한, 제2 측정유닛(270)은 제2 광 안내부재(280), 제2 발광부(290), 제2 수광부(300), 제2 스팀 제공부(310), 제2 퍼지 가스 공급부(320)를 구비할 수 있다.In addition, the second measuring unit 270 may include a second light guide member 280, a second light emitting part 290, a second light receiving part 300, a second steam providing part 310, and a second purge gas supply part 320. ) May be provided.

한편, 제1 측정유닛(210)에 구비되는 한 쌍의 제1 광 안내부재(220)의 배관(10) 내에서의 사이 간격(L1)은 제2 측정유닛(270)에 구비되는 한 쌍의 제2 광 안내부재(280)의 배관(10) 내에서의 사이 간격(L2)보다 크게 형성된다.On the other hand, the interval L1 in the pipe 10 of the pair of first light guide member 220 provided in the first measuring unit 210 is a pair of the provided in the second measuring unit 270 The second light guide member 280 is formed larger than the interval L2 in the pipe 10.

즉, 제1 측정유닛(210)으로부터 제공되는 퍼지 가스에 의한 제2 측정유닛(260)의 가스 농도 측정의 오차를 감소시키기 위해 제1 측정유닛(210)에 구비되는 한 쌍의 제1 광 안내부재(220)의 배관(10) 내에서의 사이 간격(L1)은 제2 측정유닛(270)에 구비되는 한 쌍의 제2 광 안내부재(280)의 배관(10) 내에서의 사이 간격(L2)보다 크게 형성한다.That is, a pair of first light guides provided in the first measuring unit 210 to reduce the error of the gas concentration measurement of the second measuring unit 260 by the purge gas provided from the first measuring unit 210. The space L1 between the pipes 220 of the member 220 is a space between the pipes 10 of the pair of second light guide members 280 provided in the second measuring unit 270. It is formed larger than L2).

그리고, 상기한 제1 측정유닛(210)과 제2 측정유닛(270)에 구비되는 각 구성은 상기에서 설명한 구성요소와 실질적으로 동일하므로, 여기서는 자세한 설명을 생략하고 상기한 설명에 갈음하기로 한다.In addition, each of the components provided in the first measuring unit 210 and the second measuring unit 270 is substantially the same as the above-described components, and thus detailed description thereof will be omitted and replaced with the above description. .

한편, 본 실시예에서는 제1,2 측정유닛(210)과 제2 측정유닛(270)이 각각 제1 스팀 제공부(250), 제1 퍼지 가스 공급부(260), 제2 스팀 제공부(310), 제2 퍼지 가스 공급부(320)를 구비하는 경우를 예로 들어 설명하고 있으나, 이에 한정되지 않으며, 하나의 스팀 제공부와 퍼지 가스 공급부를 통해 제1,2 측정유닛(210, 270)에 스팀과 퍼지 가스를 제공할 수 있다.Meanwhile, in the present exemplary embodiment, the first and second measuring units 210 and the second measuring unit 270 are the first steam providing unit 250, the first purge gas supply unit 260, and the second steam providing unit 310, respectively. ), A case in which the second purge gas supply unit 320 is provided as an example, but is not limited thereto, and steam is provided to the first and second measurement units 210 and 270 through one steam providing unit and a purge gas supply unit. And purge gas.

그리고, 본 발명의 제2 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치(200)는 배관(10)이 수평으로 배치되는 경우, 공급되는 퍼지 가스에 의해 가스 농도 측정의 오류를 방지하기 위하여 배관(10)에 설치될 수 있다.In addition, the gas concentration measuring apparatus 200 according to the second embodiment of the present invention, when the pipe 10 is arranged horizontally, the pipe 10 to prevent the error of the gas concentration measurement by the supplied purge gas Can be installed.

도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치를 나타내는 구성도이다.4 is a block diagram showing a gas concentration measuring apparatus according to a third embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치(400)는 복수개의 측정유닛(410,420)을 포함하여 구성될 수 있다. 또한, 복수개의 측정유닛(410,420)은 두 종류의 가스 농도 측정이 가능하도록 배관의 원주방향을 따라 소정 간격 이격 배치된다. 일예로서, 복수개의 측정유닛(410,420)은 직교하도록 배치될 수 있다.Referring to FIG. 4, the gas concentration measuring apparatus 400 according to the third exemplary embodiment of the present invention may include a plurality of measuring units 410 and 420. In addition, the plurality of measuring units 410 and 420 may be spaced apart from each other by a predetermined interval along the circumferential direction of the pipe so as to measure two kinds of gas concentrations. As an example, the plurality of measuring units 410 and 420 may be arranged to be orthogonal.

한편, 본 발명의 제3 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치(400)는 배관(10)이 수직하게 배치되는 경우 배관(10)에 설치될 수 있다. 이에 따라, 퍼지 가스에 의해 측정유닛들(410,420)의 측정 오류를 저감시킬 수 있다. 즉, 가스 농도 측정 장치(400)가 수직하게 배치되는 배관(10)에 설치되므로, 퍼지 가스에 의한 측정유닛들(410,420) 상호 간의 영향을 감소시킬 수 있다.Meanwhile, the gas concentration measuring apparatus 400 according to the third embodiment of the present invention may be installed in the pipe 10 when the pipe 10 is vertically disposed. Accordingly, measurement errors of the measuring units 410 and 420 may be reduced by the purge gas. That is, since the gas concentration measuring apparatus 400 is installed in the pipe 10 which is disposed vertically, the influence between the measuring units 410 and 420 due to the purge gas may be reduced.

도 5는 본 발명의 제4 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치를 나타내는 구성도이다.5 is a block diagram showing a gas concentration measuring apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명의 제4 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치(500)는 복수개의 측정유닛(510,520,530)을 포함하여 구성될 수 있다. 또한, 복수개의 측정유닛(510,520,530)은 세 종류의 가스 농도 측정이 가능하도록 배관의 원주방향을 따라 소정 간격 이격 배치된다. 일예로서, 복수개의 측정유닛(410,420)은 상호 60도의 각도를 가지도록 배치될 수 있다.Referring to FIG. 5, the gas concentration measuring apparatus 500 according to the fourth embodiment of the present invention may include a plurality of measuring units 510, 520, and 530. In addition, the plurality of measuring units 510, 520, 530 are spaced apart by a predetermined interval along the circumferential direction of the pipe so as to measure three kinds of gas concentrations. For example, the plurality of measuring units 410 and 420 may be disposed to have an angle of 60 degrees to each other.

한편, 본 발명의 제4 실시예에 따른 가스 농도 측정 장치(500)도 배관(10)이 수직하게 배치되는 경우 배관(10)에 설치될 수 있다. 이에 따라, 퍼지 가스에 의해 측정유닛들(510,520,530)의 측정 오류를 저감시킬 수 있다. 즉, 가스 농도 측정 장치(500)가 수직하게 배치되는 배관(10)에 설치되므로, 퍼지 가스에 의한 측정유닛들(510,520,530) 상호 간의 영향을 감소시킬 수 있다.Meanwhile, the gas concentration measuring apparatus 500 according to the fourth embodiment of the present invention may also be installed in the pipe 10 when the pipe 10 is vertically disposed. Accordingly, measurement errors of the measurement units 510, 520, and 530 may be reduced by the purge gas. That is, since the gas concentration measuring apparatus 500 is installed in the pipe 10 arranged vertically, the influence between the measuring units 510, 520, and 530 due to the purge gas may be reduced.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and variations can be made without departing from the technical spirit of the present invention described in the claims. It will be obvious to those of ordinary skill in the field.

100, 200, 400, 500 : 가스 농도 측정 장치
110 : 측정유닛
120 : 광 안내부재
130 : 발광부
140 : 수광부
150 : 스팀 제공부
160 : 퍼지 가스 공급부100, 200, 400, 500: gas concentration measuring device
110: measuring unit
120: light guide member
130: light emitting unit
140: light receiver
150: steam provider
160: purge gas supply unit

Claims (10)

가스가 유동되는 배관에 설치되어 가스의 농도를 측정하는 측정유닛을 구비하는 가스 농도 측정 장치에 있어서,
상기 측정유닛은
배관의 내부에 일단이 배치되며 타단이 배관의 외부에 배치되도록 배관에 설치되며 이중관으로 이루어지는 한 쌍의 광 안내부재;
상기 한 쌍의 광 안내부재 중 어느 하나의 타단측에 설치되는 발광부;
상기 한 쌍의 광 안내부재 중 다른 하나의 타단측에 설치되는 수광부;
상기 광 안내부재의 이중관 사이 공간으로 가열용 스팀을 제공하는 스팀 제공부; 및
상기 광 안내부재의 안내홀로 퍼지 가스를 제공하는 퍼지 가스 공급부;
를 포함하며,
상기 측정유닛은 제1 측정유닛과, 가스 유동 경로 상 제1 측정유닛의 후단에 배치되는 제2 측정유닛을 구비하며,
상기 제1 측정유닛에 구비되는 한 쌍의 제1 광 안내부재의 배관 내에서의 사이 간격은 상기 제2 측정유닛에 구비되는 한 쌍의 제2 광 안내부재의 배관 내에서의 사이 간격보다 크게 형성되는 가스 농도 측정 장치.
In the gas concentration measuring apparatus provided in the pipe through which the gas flows, and having a measuring unit for measuring the concentration of the gas,
The measuring unit
A pair of light guide members disposed in the pipe so that one end is disposed inside the pipe and the other end is disposed outside the pipe, and includes a double pipe;
A light emitting unit provided at the other end side of the pair of light guide members;
A light receiving unit installed on the other end side of the pair of light guide members;
Steam providing unit for providing a heating steam to the space between the double pipe of the light guide member; And
A purge gas supply unit providing a purge gas to the guide hole of the light guide member;
Including;
The measuring unit includes a first measuring unit and a second measuring unit disposed at a rear end of the first measuring unit on the gas flow path.
The space between the pipes of the pair of first light guide members provided in the first measurement unit is greater than the space between the pipes of the pair of second light guide members provided in the second measurement unit. Gas concentration measuring device.
제1항에 있어서,
상기 광 안내부재는 상기 이중관 사이 공간에서 가열용 스팀이 순환하도록 형성되는 유입구와 유출구를 구비하는 가스 농도 측정 장치.
The method of claim 1,
The light guide member has a gas concentration measuring device having an inlet and an outlet formed to circulate the heating steam in the space between the double pipe.
제2항에 있어서,
상기 광 안내부재는 퍼지 가스의 유입을 위한 퍼지 가스 공급구를 구비하며,
상기 퍼지 가스 공급구는 상기 유입구와 상기 유출구 중 어느 하나에 인접 배치되는 가스 농도 측정 장치.
The method of claim 2,
The light guide member has a purge gas supply port for the introduction of purge gas,
The purge gas supply port is a gas concentration measuring device disposed adjacent to any one of the inlet and the outlet.
삭제delete 제1항에 있어서, 상기 제1 측정유닛은
배관의 내부에 일단이 배치되며 타단이 배관의 외부에 배치되도록 배관에 설치되며 이중관으로 이루어지는 상기 한 쌍의 제1 광 안내부재;
상기 한 쌍의 제1 광 안내부재 중 어느 하나의 타단측에 설치되는 제1 발광부;
상기 한 쌍의 제1 광 안내부재의 중 다른 하나의 타단측에 설치되는 제1 수광부;
상기 제1 광 안내부재의 이중관 사이 공간으로 가열용 스팀을 제공하는 제1 스팀 제공부; 및
상기 제1 광 안내부재의 안내홀로 퍼지 가스를 제공하는 제1 퍼지 가스 공급부;
를 구비하는 가스 농도 측정 장치.
The method of claim 1, wherein the first measuring unit
A pair of first light guide members disposed in the pipe so that one end is disposed inside the pipe and the other end is disposed outside the pipe, the pair of first light guide members comprising a double pipe;
A first light emitting part installed on the other end side of the pair of first light guide members;
A first light receiving unit installed at the other end side of the pair of first light guide members;
A first steam providing unit providing heating steam to a space between the double pipes of the first light guide member; And
A first purge gas supply unit configured to supply a purge gas to the guide hole of the first light guide member;
Gas concentration measuring apparatus having a.
제1항에 있어서, 상기 제2 측정유닛은
배관의 내부에 일단이 배치되며 타단이 배관의 외부에 배치되도록 배관에 설치되며 이중관으로 이루어지는 상기 한 쌍의 제2 광 안내부재;
상기 한 쌍의 제2 광 안내부재 중 어느 하나의 타단측에 설치되는 제2 발광부;
상기 한 쌍의 제2 광 안내부재의 중 다른 하나의 타단측에 설치되는 제2 수광부;
상기 제2 광 안내부재의 이중관 사이 공간으로 가열용 스팀을 제공하는 제2 스팀 제공부; 및
상기 제2 광 안내부재의 안내홀로 퍼지 가스를 제공하는 제2 퍼지 가스 공급부;
를 구비하는 가스 농도 측정 장치.
The method of claim 1, wherein the second measuring unit
A pair of second light guide members disposed in the pipe so that one end is disposed inside the pipe and the other end is disposed outside the pipe, and the double light guide member comprises a double pipe;
A second light emitting part provided on the other end side of the pair of second light guide members;
A second light receiving unit provided on the other end side of the pair of second light guide members;
A second steam providing unit providing heating steam to a space between the double pipes of the second light guide member; And
A second purge gas supply unit providing a purge gas to the guide hole of the second light guide member;
Gas concentration measuring apparatus having a.
제1항에 있어서,
상기 측정유닛은 복수개 종류의 가스 농도 측정이 가능하도록 배관의 원주방향을 따라 복수개가 설치되는 가스 농도 측정 장치.
The method of claim 1,
And a plurality of measuring units are installed along the circumferential direction of the pipe so that a plurality of kinds of gas concentrations can be measured.
제1항에 있어서,
상기 측정유닛은 가스 정제 설비의 전단과 후단 중 적어도 하나에 배치되는 가스 농도 측정 장치.
The method of claim 1,
The measuring unit is a gas concentration measuring device disposed at at least one of the front and rear ends of the gas purification plant.
제1항에 있어서,
상기 측정유닛은 유황 회수 설비의 전단과 후단 중 적어도 하나에 배치되는 가스 농도 측정 장치.
The method of claim 1,
The measuring unit is a gas concentration measuring device is disposed at at least one of the front end and the rear end of the sulfur recovery facility.
제1항에 있어서,
상기 광 안내부재는 고압의 스팀이 광 안내부의 안내홀로 제공되도록 하는 스팀 공급구를 구비하는 가스 농도 측정 장치.
The method of claim 1,
The light guide member is a gas concentration measuring apparatus having a steam supply port for providing a high-pressure steam to the guide hole of the light guide.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002131198A (en) 2000-08-17 2002-05-09 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Exhaust gas pretreatment equipment and method
JP2011038877A (en) * 2009-08-10 2011-02-24 Nippon Steel Engineering Co Ltd Laser type gas analysis device and method
JP2017173152A (en) 2016-03-24 2017-09-28 ヤンマー株式会社 Gas concentration measuring instrument

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3186602B2 (en) * 1996-09-26 2001-07-11 株式会社島津製作所 Gas analyzer
JP6210195B2 (en) 2013-06-12 2017-10-11 富士電機株式会社 Laser oxygen analyzer

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002131198A (en) 2000-08-17 2002-05-09 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Exhaust gas pretreatment equipment and method
JP2011038877A (en) * 2009-08-10 2011-02-24 Nippon Steel Engineering Co Ltd Laser type gas analysis device and method
JP2017173152A (en) 2016-03-24 2017-09-28 ヤンマー株式会社 Gas concentration measuring instrument

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