KR102052279B1 - Plasma reactor having plural electrode assemblies - Google Patents

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Abstract

A plasma reactor having a plurality of electrode assemblies is disclosed. The plasma reactor includes a body and a plurality of electrode assemblies spaced apart from each other and formed on the body. Here, the electrode assemblies have a dielectric formed on the body and an electrode formed on the dielectric. As power is applied to the electrodes of the electrode assemblies, a plasma reaction is generated to decompose contaminants flowing through the body. The lifetime of the plasma reactor can be increased.

Description

복수의 전극 어셈블리들을 가지는 플라즈마 반응기{PLASMA REACTOR HAVING PLURAL ELECTRODE ASSEMBLIES}Plasma reactor having a plurality of electrode assemblies {PLASMA REACTOR HAVING PLURAL ELECTRODE ASSEMBLIES}

본 발명은 복수의 전극 어셈블리들을 가지는 플라즈마 반응기에 관한 것이다. The present invention relates to a plasma reactor having a plurality of electrode assemblies.

기존 플라즈마 반응기는 유전체 주위를 원형으로 말아 놓은 형태로 1개의 전극 어셈블리를 사용한다. Conventional plasma reactors use one electrode assembly in a circular roll around a dielectric.

따라서, 상기 전극 어셈블리에 문제가 발생하면 전원을 오프하여야 하였으며, 그 결과 플라즈마 반응을 수행하지 못하여 공정 챔버로부터 유입된 오염 물질이 진공 펌프로 흐르는 문제점이 있다. Therefore, when a problem occurs in the electrode assembly, the power supply must be turned off, and as a result, a pollutant introduced from the process chamber flows to the vacuum pump because the plasma reaction cannot be performed.

KRKR 10-188281310-1882813 BB

본 발명은 복수의 전극 어셈블리들을 가지는 플라즈마 반응기를 제공하는 것이다.The present invention provides a plasma reactor having a plurality of electrode assemblies.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 반응기는 바디; 및 상기 바디 상에 형성된 상호 이격된 복수의 전극 어셈블리들을 포함한다. 여기서, 상기 전극 어셈블리들은 상기 바디 상에 형성된 유전체 및 상기 유전체 위에 형성된 전극을 가지고, 상기 전극 어셈블리들의 전극들로 전원이 인가됨에 따라 플라즈마 반응이 일어나 상기 바디 내부를 통하여 흐르는 오염 물질이 분해된다. In order to achieve the above object, the plasma reactor according to an embodiment of the present invention includes a body; And a plurality of spaced apart electrode assemblies formed on the body. Here, the electrode assemblies have a dielectric formed on the body and an electrode formed on the dielectric, and as a power is applied to the electrodes of the electrode assemblies, a plasma reaction occurs to decompose contaminants flowing through the body.

본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 반응기는 공정 챔버로부터 입력된 가스가 내부를 통하여 흐르며, 접지로서 동작하는 바디; 상기 바디 상에 형성된 전극; 및 상기 바디 내측에 형성되는 접지를 포함한다. 여기서, 상기 전극으로 전원이 인가됨에 따라 상기 전극과 상기 접지들 사이에 전기장이 발생하며, 상기 전기장에 의해 상기 가스가 분해된다. According to another embodiment of the present invention, a plasma reactor includes a body in which a gas input from a process chamber flows through and operates as a ground; An electrode formed on the body; And a ground formed inside the body. Here, as power is applied to the electrode, an electric field is generated between the electrode and the grounds, and the gas is decomposed by the electric field.

본 발명에 따른 플라즈마 반응기는 복수의 전극 어셈블리들을 사용하며, 그 결과 플라즈마 반응기의 수명 및 기능이 향상될 수 있다. The plasma reactor according to the present invention uses a plurality of electrode assemblies, and as a result, the life and function of the plasma reactor can be improved.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 시스템을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 플라즈마 반응기를 도시한 사시도이다.
도 3은 도 2의 플라즈마 반응기에서의 전기장의 흐름을 도시한 도면이다.
도 4는 도 2의 플라즈마 반응기에서의 오염 물질의 흐름을 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 반응기를 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 플라즈마 반응기를 도시한 도면이다. 1 is a view schematically showing a process system according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view showing a plasma reactor according to a first embodiment of the present invention.
3 is a view showing the flow of the electric field in the plasma reactor of FIG.
4 is a diagram illustrating the flow of contaminants in the plasma reactor of FIG. 2.
5 is a view showing a plasma reactor according to another embodiment of the present invention.
6 is a view showing a plasma reactor according to another embodiment of the present invention.

본 명세서에서 사용되는 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "구성된다" 또는 "포함한다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 여러 구성 요소들, 또는 여러 단계들을 반드시 모두 포함하는 것으로 해석되지 않아야 하며, 그 중 일부 구성 요소들 또는 일부 단계들은 포함되지 않을 수도 있고, 또는 추가적인 구성 요소 또는 단계들을 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다. 또한, 명세서에 기재된 "...부", "모듈" 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미하며, 이는 하드웨어 또는 소프트웨어로 구현되거나 하드웨어와 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있다.As used herein, the singular forms "a", "an" and "the" include plural forms unless the context clearly indicates otherwise. In this specification, terms such as “consisting of” or “comprising” should not be construed as necessarily including all of the various components or steps described in the specification, and some of the components or some steps It should be construed that it may not be included or may further include additional components or steps. In addition, the terms "... unit", "module", etc. described in the specification mean a unit for processing at least one function or operation, which may be implemented in hardware or software or a combination of hardware and software. .

본 발명은 플라즈마 반응기에 관한 것으로서, 복수의 전극 어셈블리들을 구현하여 오염 물질을 분해할 수 있다. The present invention relates to a plasma reactor, and may implement a plurality of electrode assemblies to decompose contaminants.

종래 플라즈마 반응기에서는 바디 전체에 걸쳐서 하나의 전극 어셈블리가 형성된다. 따라서, 이 때, 상기 전극 어셈블리에 문제가 발생하였을 경우 상기 전극 어셈블리로 공급되는 전원이 차단되며, 그 결과 플라즈마 반응이 일어나지 않는다. 결과적으로, 공정 챔버로부터 유입된 오염 물질이 진공 펌프로 그대로 흐르는 문제가 발생한다. In a conventional plasma reactor, one electrode assembly is formed over the entire body. Therefore, in this case, when a problem occurs in the electrode assembly, the power supplied to the electrode assembly is cut off, and as a result, the plasma reaction does not occur. As a result, a problem arises that contaminants introduced from the process chamber flow directly into the vacuum pump.

반면에, 본 발명의 플라즈마 반응기에서는 바디 상에 복수의 전극 어셈블리들이 형성되므로, 일부 전극 어셈블리에 문제가 발생하더라도 정상적인 전극 어셈블리에 의해 계속적으로 플라즈마 반응이 일어나며, 그 결과 공정 중 오염 물질이 진공 펌프로 흐르는 문제가 발생하지 않는다. On the other hand, in the plasma reactor of the present invention, since a plurality of electrode assemblies are formed on the body, even if a problem occurs in some electrode assemblies, the plasma reaction is continuously performed by the normal electrode assembly, and as a result, contaminants during the process are transferred to the vacuum pump. There is no flow problem.

이하, 본 발명의 다양한 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상술하겠다. Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 시스템을 개략적으로 도시한 도면이다. 1 is a view schematically showing a process system according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 실시예의 공정 시스템은 공정 챔버(102), 플라즈마 반응기(100) 및 진공 펌프(104)를 포함할 수 있다. 공정 챔버(102)와 플라즈마 반응기(100)는 제 1 진공 배관(110)을 통하여 연결되고, 플라즈마 반응기(100)와 진공 펌프(104)는 제 2 진공 배관(112)을 통하여 연결될 수 있다. Referring to FIG. 1, the process system of this embodiment may include a process chamber 102, a plasma reactor 100, and a vacuum pump 104. The process chamber 102 and the plasma reactor 100 may be connected through the first vacuum pipe 110, and the plasma reactor 100 and the vacuum pump 104 may be connected through the second vacuum pipe 112.

다만, 플라즈마 반응기(100)는 공정 챔버(102)와 진공 펌프(104) 사이에만 배치되는 것은 아니며, 진공 펌프(104)와 스크러버 사이 또는 스크러버 상단에 설치될 수도 있다. 또한, 복수의 플라즈마 반응기들이 공정 챔버, 진공 배관, 진공 펌프, 스크러버 사이에의 여러 위치에 설치될 수 있다. 즉, 플라즈마 반응기(100)는 플라즈마 반응을 이용하여 오염 물질을 분해하는 한 위치적인 제한은 없다.However, the plasma reactor 100 is not only disposed between the process chamber 102 and the vacuum pump 104, but may be installed between the vacuum pump 104 and the scrubber or on the top of the scrubber. In addition, a plurality of plasma reactors may be installed at various locations between the process chamber, the vacuum piping, the vacuum pump, and the scrubber. That is, the plasma reactor 100 is not limited in position as long as it decomposes contaminants using the plasma reaction.

이하, 설명의 편의를 위하여 플라즈마 반응기(100)가 공정 챔버(102)와 진공 펌프(104) 사이에 배치되는 것으로 가정하겠다. Hereinafter, for convenience of description, it will be assumed that the plasma reactor 100 is disposed between the process chamber 102 and the vacuum pump 104.

공정 챔버(102)는 진공 상태에서 증착 공정, 식각 공정 또는 세정 공정 등을 수행할 수 있다. 다만, 공정에 따라 공정 챔버(102)에서 사용하는 가스 등이 달라지게 된다.The process chamber 102 may perform a deposition process, an etching process, or a cleaning process in a vacuum state. However, the gas used in the process chamber 102 varies depending on the process.

결과적으로, 공정에 따라 공정 챔버(102)로부터 전구체, 공정 가스, 세정 가스 또는 부산물을 포함하는 배기 가스가 제 1 진공 배관(110)을 통하여 플라즈마 반응기(100)로 입력된다. 즉, 오염 물질이 공정 챔버(102)로부터 플라즈마 반응기(100)로 입력된다. As a result, the exhaust gas including the precursor, the process gas, the cleaning gas, or the byproduct is input from the process chamber 102 to the plasma reactor 100 through the first vacuum pipe 110 according to the process. That is, contaminants enter the plasma reactor 100 from the process chamber 102.

이러한 오염 물질은 배관 내부 표면에 증착되어 배관 내부를 막을 수 있다. 또한, 오염 물질이 진공 펌프(104)로 입력될 경우 진공 펌프(104) 내부에서 온도 조건과 압력 조건이 급격이 변화할 수 있으며, 그 결과 상기 오염 물질이 상 변화를 일으켜 진공 펌프(104) 내부에서 고체화되거나 액체화될 수 있다. 이는 진공 펌프(104)의 고장을 야기시킬 수 있다. 특히, 상기 오염 물질이 대기 중으로 배출되면 큰 문제를 일으킨다. Such contaminants may be deposited on the inner surface of the pipe and block the inside of the pipe. In addition, when the contaminants are input to the vacuum pump 104, the temperature conditions and the pressure conditions within the vacuum pump 104 may change rapidly, and as a result, the contaminants cause a phase change and thus the inside of the vacuum pump 104. Can be solidified or liquefied at This may cause failure of the vacuum pump 104. In particular, the release of the pollutants into the atmosphere causes a great problem.

따라서, 이러한 오염물질을 제거하기 위한 플라즈마 반응기(100)가 공정 챔버(102)와 진공 펌프(104) 사이에 설치될 수 있다. Thus, a plasma reactor 100 for removing such contaminants may be installed between the process chamber 102 and the vacuum pump 104.

플라즈마 반응기(100)는 상기 입력된 오염 물질을 분해하여 제거하는 역할을 수행한다. 구체적으로는, 플라즈마 반응기(100)는 전극을 이용하여 전기장을 발생시키되, 상기 전기장에 의해 상기 오염 물질이 플라즈마 반응하여 분해될 수 있다. The plasma reactor 100 serves to decompose and remove the input contaminants. Specifically, the plasma reactor 100 generates an electric field using an electrode, the contaminant may be decomposed by the plasma reaction by the electric field.

여기서, 상기 전극이 파괴되면 플라즈마 반응기(100)에서 플라즈마 반응이 일어나지 않는다. 결과적으로, 공정 챔버(102)로부터 입력된 오염 물질이 진공 펌프(104)로 입력될 수 있다. Here, if the electrode is destroyed, the plasma reaction does not occur in the plasma reactor 100. As a result, contaminants input from the process chamber 102 can be input to the vacuum pump 104.

따라서, 본 발명의 플라즈마 반응기(100)는 하나의 전극이 아닌 복수의 전극들을 이용한다. 결과적으로, 일부 전극이 파괴되더라도 다른 전극이 정상적으로 동작하므로, 플라즈마 반응기(100)는 계속적으로 오염 물질을 분해하여 제거할 수 있다. 즉, 플라즈마 반응기(100)의 수명을 연장시키고 기능을 향상시킬 수 있다. Therefore, the plasma reactor 100 of the present invention uses a plurality of electrodes instead of one electrode. As a result, even if some electrodes are destroyed, the other electrodes operate normally, so that the plasma reactor 100 can continuously decompose and remove contaminants. That is, it is possible to extend the life of the plasma reactor 100 and improve its function.

이하, 플라즈마 반응기(100)의 다양한 실시예들을 구체적으로 살펴보겠다. Hereinafter, various embodiments of the plasma reactor 100 will be described in detail.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 플라즈마 반응기를 도시한 사시도이고, 도 3은 도 2의 플라즈마 반응기에서의 전기장의 흐름을 도시한 도면이며, 도 4는 도 2의 플라즈마 반응기에서의 오염 물질의 흐름을 도시한 도면이다. 2 is a perspective view showing a plasma reactor according to a first embodiment of the present invention, Figure 3 is a view showing the flow of the electric field in the plasma reactor of Figure 2, Figure 4 is a contamination in the plasma reactor of Figure 2 A diagram showing the flow of matter.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 본 실시예의 플라즈마 반응기(100)는 바디(200), 복수의 전극 어셈블리들(202a, 202b, 202c 및 202d), 입구부(210) 및 출구부(212)를 포함할 수 있다. 또한, 플라즈마 반응기(100)는 바디(200)를 관통하여 형성되는 접지(204)를 추가적으로 포함할 수 있다. 2 to 4, the plasma reactor 100 of the present embodiment includes a body 200, a plurality of electrode assemblies 202a, 202b, 202c and 202d, an inlet 210 and an outlet 212. It may include. In addition, the plasma reactor 100 may further include a ground 204 formed through the body 200.

바디(200)는 하우징으로서, 내부를 통하여 오염 물질이 흐른다. 일 실시예에 따르면, 바디(200)는 접지로서 동작할 수 있다. The body 200 is a housing, in which pollutants flow. According to one embodiment, the body 200 may operate as ground.

전극 어셈블리(202)는 바디(200)의 일부면 상에 형성되며, 바디(200) 위에 형성된 유전체(300) 및 유전체(300) 위에 형성된 전극(302)을 포함할 수 있다. 여기서, 전극(302)에는 양의 전압이 인가될 수 있다. 결과적으로, 도 3에 도시된 바와 같이 전극(302)과 접지로서 동작하는 바디(200) 사이에 전기장이 형성되며, 이 전기장에 의해 플라즈마 반응이 일어나 오염 물질이 분해되어 제거될 수 있다. The electrode assembly 202 is formed on a portion of the body 200 and may include a dielectric 300 formed on the body 200 and an electrode 302 formed on the dielectric 300. In this case, a positive voltage may be applied to the electrode 302. As a result, as shown in FIG. 3, an electric field is formed between the electrode 302 and the body 200 operating as the ground, and the electric field may cause a plasma reaction to decompose and remove contaminants.

구체적으로, 입구부(210)를 통하여 입력되는 오염 물질들이 도 4에 도시된 바와 같이 바디(200)와 접지(204) 사이의 공간을 통하여 흐르며, 이러한 오염 물질은 출구부(212)를 통하여 진공 펌프(104)로 흐를 수 있다. Specifically, contaminants input through the inlet 210 flow through the space between the body 200 and the ground 204 as shown in FIG. 4, and these contaminants are vacuumed through the outlet 212. May flow to the pump 104.

이렇게 오염 물질이 바디(200)의 내측으로 흐르는 동안, 전극(302)에 양의 전압이 인가되면 전기장이 발생되어 플라즈마 반응이 일어나며, 플라즈마 반응에 의해 상기 오염 물질들이 분해되어 제거될 수 있다. 예를 들어, 가스가 이온화되고, 이온이 부산물과 반응하여 부산물이 분해될 수 있다. While the contaminants flow inside the body 200, when a positive voltage is applied to the electrode 302, an electric field is generated to generate a plasma reaction, and the contaminants may be decomposed and removed by the plasma reaction. For example, the gas may be ionized and the ions may react with the byproduct to decompose the byproduct.

일 실시예에 따르면, 2개 이상의 전극 어셈블리들(202), 예를 들어 4개의 전극 어셈블리들(202a, 202b, 202c 및 202d)이 바디(200) 위에 상호 이격되어 형성될 수 있다. According to one embodiment, two or more electrode assemblies 202, for example four electrode assemblies 202a, 202b, 202c and 202d, may be formed spaced apart from each other on the body 200.

예를 들어, 도 3에 도시된 바와 같이 바디(200)가 6각형 형상을 가질 수 있으며, 6면들 중 4개의 면들 위에 각기 전극 어셈블리(202a, 202b, 202c 또는 202d)가 형성될 수 있다. 구체적으로는, 제 1 전극 어셈블리(202a) 및 제 2 전극 어셈블리(202b)가 소정 간격 이격된 상태로 바디(200)의 면들 중 우측의 2개의 면에 각기 형성되고, 제 3 전극 어셈블리(202c) 및 제 4 전극 어셈블리(202d)가 소정 간격 이격된 상태로 바디(200)의 면들 중 좌측의 2개의 면에 각기 형성될 수 있다. For example, as shown in FIG. 3, the body 200 may have a hexagonal shape, and electrode assemblies 202a, 202b, 202c, or 202d may be formed on four of the six surfaces. Specifically, the first electrode assembly 202a and the second electrode assembly 202b are respectively formed on two surfaces on the right side of the surfaces of the body 200 with a predetermined distance from each other, and the third electrode assembly 202c. And the fourth electrode assembly 202d may be formed on two surfaces on the left side of the surfaces of the body 200 in a state where the fourth electrode assembly 202d is spaced apart from each other by a predetermined interval.

바디(200) 전체에 걸쳐서 하나의 전극만이 형성된다면, 유전체 또는 전극의 파손 등의 이유로 전극이 정상적으로 동작하지 못하는 경우 오염 물질이 바디(200)를 통하여 진공 펌프(104)로 흐를 수 있다. 따라서, 플라즈마 반응기의 동작을 즉시 중지시켜야 하며, 즉 상기 전극으로 인가되는 전원을 즉시 차단하여야 한다. If only one electrode is formed throughout the body 200, contaminants may flow through the body 200 to the vacuum pump 104 when the electrode does not operate normally due to breakage of the dielectric or the electrode. Therefore, the operation of the plasma reactor must be stopped immediately, i.e., the power applied to the electrode must be cut off immediately.

반면에, 바디(200)에 복수의 전극 어셈블리들(202)이 형성되면, 일부 전극 어셈블리(202)가 정상적으로 동작하지 못하더라도 다른 전극 어셈블리(202)가 정상적으로 동작하므로 오염 물질을 계속적으로 제거할 수 있다. 즉, 플라즈마 반응기(100)의 수명이 연장될 수 있다. On the other hand, when the plurality of electrode assemblies 202 are formed in the body 200, even if some electrode assemblies 202 do not operate normally, the other electrode assembly 202 operates normally so that contaminants may be continuously removed. have. That is, the lifetime of the plasma reactor 100 can be extended.

일 실시예에 따르면, 전극 어셈블리들(202)에 각기 전원이 인가될 수 있다. 이 때, 전원들은 하나의 전원으로부터 분리된 서브 전원일 수 있다. According to an embodiment, power may be applied to the electrode assemblies 202, respectively. In this case, the power sources may be sub-power sources separated from one power source.

전극 어셈블리들(202) 중 일부 전극 어셈블리가 정상적으로 동작하지 않는 경우, 정상적으로 동작하는 전극 어셈블리에 더 강한 전원이 인가되어 플라즈마 밀도가 높아질 수 있다. 이 때, 정상적으로 동작하지 않는 전극 어셈블리의 전극에는 전원 공급이 차단될 수 있다. 결과적으로, 일부 전극 어셈블리가 정상적으로 동작하지 않더라도 오염 물질 제거 효율은 모든 전극 어셈블리들이 정상적으로 동작할 때와 유사할 수 있다. When some of the electrode assemblies 202 do not operate normally, a stronger power may be applied to the normally operating electrode assembly to increase the plasma density. At this time, the power supply may be cut off to the electrode of the electrode assembly that does not operate normally. As a result, the contaminant removal efficiency may be similar to when all electrode assemblies operate normally even though some electrode assemblies do not operate normally.

일 실시예에 따르면, 바디(200)의 중앙 부분을 관통하여 접지(204)가 형성될 수 있으며, 그 결과 바디(200)의 내측에 접지(204)의 적어도 일부가 배열되게 된다. 이러한 접지(204)는 전극 간의 간섭을 최소화하여 플라즈마 반응을 안정화시키는 역할을 수행할 수 있다. 즉, 접지(204)로 인하여 전극에 의한 전기장들 사이의 간섭이 최소화되어 플라즈마 반응이 안정화될 수 있다. According to one embodiment, the ground 204 may be formed through the central portion of the body 200, such that at least a portion of the ground 204 is arranged inside the body 200. The ground 204 may serve to stabilize the plasma reaction by minimizing interference between electrodes. That is, the ground 204 may minimize interference between electric fields by the electrode and stabilize the plasma reaction.

또한, 접지(204)로 인하여 플라즈마가 입구로 진행하는 것을 최대로 억제시킬 수 있다. 플라즈마가 입구로 향하게 되면, 상기 입구 측의 플라즈마의 밀도가 낮아서 오염 물질을 완벽하지 처리하지 못하며, 그 결과 고형 물질이 형성되어 상기 입구 또는 상기 입구와 연결된 배관을 막는 현상이 발생할 수 있다. 접지(204)를 이용하면 전기장이 상기 입구로 영향을 미치는 것을 최소화할 수 있으며, 따라서 상기 입구 또는 상기 배관이 막히는 현상을 최대한 방지할 수 있다. In addition, the ground 204 can prevent the plasma from advancing to the maximum. When the plasma is directed to the inlet, the density of the plasma on the inlet side is low, so that contaminants may not be completely processed. As a result, a solid material may be formed to block the inlet or the pipe connected to the inlet. Using the ground 204 can minimize the effect of the electric field to the inlet, and thus can prevent the blockage of the inlet or the pipe as much as possible.

게다가, 접지(204)는 안테나로서 기능할 수도 있다. In addition, ground 204 may function as an antenna.

한편, 바디(200)가 접지로 동작하므로, 접지(204)는 생략될 수도 있다. 또는, 접지(204)가 존재하는 경우 바디(200)가 접지로 동작하지 않아도 된다. 다만, 오염 물질 분해 효율 등을 고려하면, 하나의 접지만 형성되는 것보다 바디(200)가 접지로 동작하고 접지(204)가 바디(200)의 내측에 형성되는 것이 유리하다. On the other hand, since the body 200 operates as the ground, the ground 204 may be omitted. Alternatively, when the ground 204 is present, the body 200 does not have to operate as the ground. However, in consideration of the decomposition efficiency of pollutants, it is advantageous that the body 200 operates as the ground and the ground 204 is formed inside the body 200 rather than only one ground.

일 실시예에 따르면, 접지(204)는 원통형으로 말아진 형태로 형성될 수 있으며, 그 결과 전극 어셈블리들(202a, 202b, 202c 및 202d)과 각기 마주볼 수 있다. According to one embodiment, the ground 204 may be formed in a cylindrical rolled shape, and as a result, may face the electrode assemblies 202a, 202b, 202c and 202d, respectively.

정리하면, 바디(200)의 표면 상에 상호 이격된 복수의 전극 어셈블리들(200)이 형성되며, 바디(200)의 내측에 추가적인 접지(204)가 형성될 수 있다. In summary, a plurality of electrode assemblies 200 spaced apart from each other on the surface of the body 200 may be formed, and an additional ground 204 may be formed inside the body 200.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 반응기를 도시한 도면이다. 5 is a view showing a plasma reactor according to another embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 실시예의 플라즈마 반응기는 바디(500), 전극들(502a 및 502b), 하나의 입구부(510) 및 복수의 출구부들(512, 514 및 516)을 포함할 수 있다. 이 때, 출구부들(512, 514 및 516)에 각기 진공 펌프들이 연결될 수 있다. Referring to FIG. 5, the plasma reactor according to the present embodiment may include a body 500, electrodes 502a and 502b, one inlet 510, and a plurality of outlets 512, 514, and 516. At this time, the vacuum pumps may be connected to the outlets 512, 514, and 516, respectively.

도 2에서는 하나의 출구부(212)와 하나의 진공 펌프(104)가 존재하여 진공 펌프(104)의 용량이 부족할 수 있는 반면에, 본 실시예의 플라즈마 반응기에서는 복수의 진공 펌프들을 사용하므로 충분한 용량을 확보할 수 있다. In FIG. 2, one outlet 212 and one vacuum pump 104 may be present, resulting in insufficient capacity of the vacuum pump 104, whereas the plasma reactor of this embodiment uses a plurality of vacuum pumps to provide sufficient capacity. Can be secured.

다만, 복수의 출구부들(512, 514 및 516)을 포함할 지라도, 바디(500) 상에 복수의 전극 어셈블리들(502a 및 502b)이 형성될 수 있다. 도 2와 비교하였을 때, 전극 어셈블리들(202b 및 202c) 대신에 출구부들(514 및 516)이 형성된다. However, even though the outlet parts 512, 514, and 516 are included, a plurality of electrode assemblies 502a and 502b may be formed on the body 500. Compared with FIG. 2, outlets 514 and 516 are formed instead of electrode assemblies 202b and 202c.

도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 플라즈마 반응기를 도시한 도면이다. 6 is a view showing a plasma reactor according to another embodiment of the present invention.

도 6의 (A) 및 (B)를 살펴보면, 본 실시예의 플라즈마 반응기는 바디(600) 및 바디(600) 위에 형성되는 복수의 전극 어셈블리들(602a, 602b, 602c 및 602d)을 포함할 수 있다. 또한, 입구부(610)와 바디(600) 사이의 버퍼 챔버(614) 및 출구부(612)와 바디(600) 사이의 버퍼 챔버(616)를 더 포함할 수도 있다. Referring to FIGS. 6A and 6B, the plasma reactor according to the present embodiment may include a body 600 and a plurality of electrode assemblies 602a, 602b, 602c, and 602d formed on the body 600. . In addition, a buffer chamber 614 between the inlet 610 and the body 600 and a buffer chamber 616 between the outlet 612 and the body 600 may be further included.

도 2에서 바디(200)가 6면체인 반면에, 본 실시예에서는 바디(600)가 사각형이다. 다각형 형상에 관계없이, 복수의 전극 어셈블리들이 복수의 면들에 형성될 수 있다. 물론, 원통형의 바디 상에 상호 이격된 복수의 전극 어셈블리들이 형성될 수도 있다. 즉, 바디의 외측면 상에 상호 이격된 복수의 전극 어셈블리들이 형성되는 한, 특별한 제한이 없다. In FIG. 2, the body 200 is a hexahedron, whereas in the present embodiment, the body 600 is rectangular. Regardless of the polygonal shape, a plurality of electrode assemblies may be formed on the plurality of surfaces. Of course, a plurality of electrode assemblies spaced apart from each other may be formed on the cylindrical body. That is, as long as a plurality of electrode assemblies spaced from each other on the outer surface of the body is formed, there is no particular limitation.

한편, 전술된 실시예의 구성 요소는 프로세스적인 관점에서 용이하게 파악될 수 있다. 즉, 각각의 구성 요소는 각각의 프로세스로 파악될 수 있다. 또한 전술된 실시예의 프로세스는 장치의 구성 요소 관점에서 용이하게 파악될 수 있다.On the other hand, the components of the above-described embodiment can be easily identified from a process point of view. That is, each component can be identified as a respective process. In addition, the process of the above-described embodiment can be easily understood in terms of the components of the apparatus.

상기한 본 발명의 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다. The embodiments of the present invention described above are disclosed for purposes of illustration, and those skilled in the art having ordinary knowledge of the present invention may make various modifications, changes, and additions within the spirit and scope of the present invention. Should be considered to be within the scope of the following claims.

100 : 플라즈마 반응기 102 : 공정 챔버
104 : 진공 펌프 200 : 바디
202 : 전극 어셈블리 210 : 입구부
212 : 출구부 214 : 접지100: plasma reactor 102: process chamber
104: vacuum pump 200: body
202: electrode assembly 210: inlet
212 outlet 214 ground

Claims (8)

접지로서 기능하는 바디; 및
상기 바디 상에 형성된 상호 이격된 복수의 전극 어셈블리들을 포함하되,
상기 전극 어셈블리들은 상기 바디 상에 형성된 유전체 및 상기 유전체 위에 형성된 전극을 가지고, 상기 전극 어셈블리들의 전극들로 전원이 인가됨에 따라 플라즈마 반응이 일어나 상기 바디 내부를 통하여 흐르는 오염 물질이 분해되며,
상기 바디의 내측 중앙에 상기 전극 어셈블리들에 의해 형성된 전기장들 사이의 간섭을 최소화시키는 추가 접지가 형성되고, 상기 전극 어셈블리들과 상기 추가 접지에 의한 전기장이 상기 오염 물질이 유입되는 입구로 형성되지 않도록 상기 전극 어셈블리들이 상기 입구와 상기 추가 접지 사이에 위치한 상태로 상기 추가 접지를 향하여 배열되어 상기 입구로의 플라즈마 진행이 억제되며,
일부 전극 어셈블리가 정상적으로 동작하지 않는 경우 상기 일부 전극 어셈블리로의 전원 공급이 차단되고 정상적으로 동작하는 전극 어셈블리에 더 높은 전원이 인가되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기.A body functioning as a ground; And
Comprising a plurality of spaced apart electrode assemblies formed on the body,
The electrode assemblies have a dielectric formed on the body and an electrode formed on the dielectric, and as a power is applied to the electrodes of the electrode assemblies, a plasma reaction occurs to decompose contaminants flowing through the interior of the body,
An additional ground is formed at the inner center of the body to minimize the interference between the electric fields formed by the electrode assemblies, so that the electric field by the electrode assemblies and the additional ground is not formed as an inlet through which the pollutant is introduced. The electrode assemblies are arranged toward the additional ground with the electrode assemblies located between the inlet and the additional ground, thereby inhibiting plasma propagation to the inlet,
The plasma reactor, characterized in that when some electrode assembly does not operate normally, the power supply to the some electrode assembly is cut off and higher power is applied to the normally operating electrode assembly. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 바디에는 복수의 출구부들이 형성되되, 상기 출구부들은 각기 진공 펌프들과 연결되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기. The plasma reactor of claim 1, wherein a plurality of outlets are formed in the body, and the outlets are connected to vacuum pumps, respectively. 제1항에 있어서, 상기 바디는 다면체이되, 상기 전극 어셈블리들은 상기 다면체 상의 면들 위에 상호 이격되어 배열되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기. The plasma reactor of Claim 1, wherein the body is a polyhedron, and the electrode assemblies are arranged spaced apart from one another on the faces on the polyhedron. 삭제delete 삭제delete
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