KR102036729B1 - 고압 분사 장치 - Google Patents

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    • B21BROLLING OF METAL
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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 고압 분사 장치는 고압수를 분사 하는 관 형상의 노즐 본체부; 상기 노즐 본체부 내부에 배치되어 상기 노즐 본체부 내부를 복수 개의 유로로 구획하는 구획부; 상기 노즐 본체부의 내경 보다 상기 코어부의 외경이 작게 형성되며, 상기 노즐 본체부 내부에 배치되는 코어를 갖는 코어부; 및 상기 코어부를 상기 노즐 본체부 내부에서 이동시키는 이동부;를 포함한다.

Description

고압 분사 장치{HIGH PRESSURE INJECTOR}
본 발명은 고압 분사 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 슬라브의 스카핑 작업에 적용되는 고압 분사 장치에 관한 것이다.
일반적으로 연주 공정에서 생산된 슬라브(SLAB)는 대기 중 산소와 반응하여 표면에 용융물인 스케일(SCALE)이 발생된다. 이에 슬라브 표면의 스케일은 스카핑 작업을 통해 제거된다. 그리고 스카핑 작업이 완료된 슬라브의 표면에는 고압 분사 장치를 통해서 고압수를 분사하여, 슬라프 표면에 남아 있는 스케일을 제거하며 스케일 핏(SCALE PIT)으로 스케일을 포집한다.
이때, 고압 분사 장치는 유체를 공급할 수 있는 관 형태의 노즐 본체가 구비된다. 그리고 노즐 본체 내부에는 노즐 본체에서 공급되는 유체를 슬라브 표면으로 고압으로 분사 시킬 수 있는 코어가 배치된다.
한편, 코어는 노즐 본체의 내부 중심에 배치되어 노즐 본체에서 분사되는 고압수를 일정한 각도로 유지하여 슬라브의 표면에 분사시킨다. 이에 따라, 노즐 본체에서 분사되는 고압수는 슬라브 표면의 일정 위치에 집중 분사되는 문제점이 있다. 즉, 고압수는 코어에 의해서 슬라브 표면에 일정 위치에 집중 분사됨에 따라 슬라브 표면 전체에 남아 있는 스케일을 원할 하게 제거할 수 없는 문제점이 있다. 또한, 고압수는 슬라브 표면의 일정 위치에 집중 분사됨에 따라 슬라브 표면의 일부분에 스케일이 쌓이게 되어 스케일이 슬라브 표면에 고착되는 문제점이 있다.
등록특허 10-0797310
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 슬라브의 표면에 분사되는 고압수가 슬라브 표면에 전체적으로 고르게 분사되어 슬라브 표면에 스케일이 고착되는 것을 방지하며 스케일 핏으로 스케일을 원활히 포집할 수 있는 고압 분사 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급된 과제에 국한되지 않으며 여기서 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 고압 분사 장치는 고압수를 분사 하는 관 형상의 노즐 본체부; 상기 노즐 본체부 내부에 배치되어 상기 노즐 본체부 내부를 복수 개의 유로로 구획하는 구획부; 상기 노즐 본체부의 내경 보다 외경이 작게 형성되며, 상기 노즐 본체부 내부에 배치되는 코어를 갖는 코어부; 및 상기 코어부를 상기 노즐 본체부 내부에서 이동시키는 이동부;를 포함한다.
또한, 상기 노즐 본체부는 동일 직경을 갖는 복수 개의 관이 상호 결합될 수 있다.
또한, 상기 구획부는 상기 노즐 본체부의 내부에서 길이 방향을 따라 배치될 수 있다.
또한, 상기 구획부는 복수 개의 제1 구획 플레이트와 제2 구획 플레이트가 상호 교차되어 상기 노즐 본체부 내부에 배치될 수 있다.
또한, 상기 코어부는 상기 코어에서 상기 구획부 방향으로 테이퍼 지게 연장되며, 상기 구획부에 인접되게 배치되는 본체를 포함할 수 있다.
또한, 상기 이동부는 상기 구획부의 일측 단부에 형성되는 랙 기어; 상기 랙 기어에 치합되며, 회전 구조를 가지도록 상기 본체에 연결되는 피니언 기어: 및 상기 노즐 본체부를 관통하며 상기 코어부를 상기 노즐 본체부의 중심에서 편심 이동 시키는 복수의 위치 조절 볼트;를 포함하며, 상기 피니언 기어는 상기 위치 조절 볼트에 의해서 상기 코어부가 편심 이동 시 상기 랙 기어에 맞물려 회전할 수 있다.
또한, 상기 본체의 외주면에는 상기 코어부가 상기 노즐 본체부의 내부에서 이탈되는 것을 방지하기 위해 상기 위치 조절 볼트에 대응되게 배치되는 복수의 메인 이탈 방지턱; 및 상기 메인 이탈 방지턱 사이에 구비되는 적어도 하나의 보조 이탈 방지턱;을 포함하며, 상기 보조 이탈 방지턱은 코어부가 유동 시 노즐 본체부 내벽과 접촉될 수 있다.
또한, 상기 보조 이탈 방지턱은 상기 코어부가 상기 고압수에 의해서 상기 노즐 본체부 내부에서 유동 시 상기 피니언 기어가 랙 기어로부터 이탈을 방지하도록 상기 노즐 본체부 내벽과 접촉될 수 있다.
또한, 상기 노즐 본체부의 내주면에는 노즐 본체부의 길이 방향을 따라 제1 나사산이 형성되며, 상기 노즐 본체부의 내주면에 각각 접촉되는 제1 구획 플레이트와 제2 구획 플레이트의 접촉면에는 상기 제1 나사산에 회전 가능하게 결합되는 제2 나사산이 상기 노즐 본체부의 길이 방향을 따라 형성될 수 있다.
상기와 같은 구성을 갖는 본 발명의 실시예에 따르면, 노즐 본체부 내부 중심에 배치된 코어부는 노즐 본체부 내부 중심에서 편심되게 이동되어 고압수의 분사각을 조절하여 슬라브의 표면에 고압수를 고르게 분사시킬 수 있다.
또한, 노즐 본체부 내부 중심에 배치된 코어부는 노즐 본체부 내부에서 노즐 본체부의 길이 방향을 따라 전후 방향으로 이동되어, 노즐 본체부에서 분사되는 고압수의 직진성이 개선될 수 있다. 이에 따라, 노즐 본체부에서 분사되는 고압수는 슬라브의 폭에 맞춰 슬라브 표면에 고르게 고압수가 분사될 수 있다.
또한, 고압수는 분사각의 조절과 직진성이 개선되어 슬라브 표면 스케일을 효율적으로 제거하고 스케일 핏으로 스케일을 원활하게 포집할 수 있다.
또한, 고압수는 슬라브 표면에 고르게 분사되어 스케일이 슬라브 표면에 고착되는 것을 방지하여, 슬라브의 품질을 높일 수 있다.
또한, 노즐 본체부는 동일 직경을 갖는 복수 개의 관이 상호 결합되어 교환 및 수리 시 작업의 효율을 높일 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 고압 분사 장치가 스카핑 머신에 배치된 상태도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 고압 분사 장치의 분해 사시도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 고압 분사 장치의 정면도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 고압 분사 장치의 배면도이다.
도 5는 도 4의 A-A 선에 따른 단면도이다.
도 6 내지 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 고압 분사 장치의 사용 상태도이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
제2, 제1 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용될 수 있다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.
실시 예의 설명에 있어서, 어느 한 구성요소가 다른 구성요소의 " 상(위) 또는 하(아래)(on or under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두 개의 구성요소가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 구성요소가 상기 두 구성요소 사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 '상(위) 또는 하(아래)(on or under)'로 표현되는 경우 하나의 구성요소를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 고압 분사 장치가 스카핑 머신에 배치된 상태도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 고압 분사 장치의 분해 사시도이며, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 고압 분사 장치의 정면도이고, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 고압 분사 장치의 배면도이며, 도 5는 도 4의 A-A 선에 따른 단면도이다.
본 발명의 실시예인 고압 분사 장치(1)는 연주 공정에서 생산된 슬라브(S)의 표면에 발생된 용융물인 스케일(SC)을 제거하고 스케일(SC)을 스케일 핏(3)으로 포집할 수 있다.
이를 위해, 본 발명의 실시예인 고압 분사 장치(1)는 도 1 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 노즐 본체부(10), 구획부(20), 코어부(30) 및 이동부(40)를 포함한다.
일 실시예로 고압 분사 장치(1)는 연주 공정에서 생산된 슬라브(S)의 표면 스케일(SC)을 제거하는 스카핑 머신(2)에 배치될 수 있다. 즉, 고압 분사 장치(1)는 도 1에 도시된 바와 같이, 슬라브(S)의 상부면과 하부면을 향하여 고압수(HW)가 분사될 수 있게, 상호 마주 보게 스카핑 머신(2)에 한 쌍이 배치될 수 있다. 이에 따라, 고압 분사 장치(1)는 슬라브(S)의 상부면과 하부면의 표면에 고압수(HW)를 분사하여, 연주 공정에서 생산된 슬라브(S)의 표면 스케일(SC)을 제거할 수 있다.
노즐 본체부(10)는 도 1 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 슬라브(S)의 표면에 고압수(HW)를 분사할 수 있다. 즉, 노즐 본체부(10)는 고압수(HW)를 분사할 수 있는 관 형태로 이루어 질 수 있다. 또한, 노즐 본체부(10)는 동일 직경을 갖는 복수개의 관이 상호 결합될 수 있다. 일실시예로, 노즐 본체부(10)는 나사산(13)을 통해서 상호 결합될 수 있다.
한편, 노즐 본체부(10)는 스카핑 머신(2)에 한 쌍이 상호 마주보게 배치되어, 슬라브(S)의 상부면과 하부면에 고압수(HW)를 분사할 수 있다.
그리고 구획부(20)는 도 2 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 노즐 본체부(10) 내부에 배치되어 노즐 본체부(10) 내부를 복수 개의 유로(11)로 구획할 수 있다. 그리고 구획부(20)는 노즐 본체부(10)의 내부에서 길이 방향을 따라 배치될 수 있다. 즉, 구획부(20)는 제1 구획 플레이트(21)와 제2 플레이트(22)를 포함한다. 제1 구획 플레이트(21)와 제2 구획 플레이트(22)는 상호 교차되어 노즐 본체부(10) 내부에 배치될 수 있다.
이에 따라, 노즐 본체부(10)의 내부는 구획부(20)에 의해 복수 개의 유로(11)로 구획될 수 있다. 한편, 본 발명의 실시예예서 제1 구획 플레이트(21)는 노즐 본체부(10) 내부 중심에서 수직하게 배치되어 노즐 본체부(10) 내부를 한 쌍의 유로(11)로 구획할 수 있다. 그리고 제2 구획 플레이트(22)는 제1 구획 플레이트(21)와 교차되어 노즐 본체부(10)의 내부에서 수평하게 배치되어 제1 구획 플레이트(21)에 의해서 구획된 한 쌍의 유로(11)를 상하로 각각 구획할 수 있다.
한편, 노즐 본체부(10)의 내주면에는 노즐 본체부(10)의 길이 방향을 따라 제1 나사산(12)이 형성될 수 있다. 그리고 노즐 본체부(10)의 내주면에 각각 접촉되는 제1 구획 플레이트(21)와 제2 구획 플레이트(22)의 접촉면에는 제2 나사산(21a)(22a)이 노즐 본체부(10)의 길이 방향을 따라 형성될 수 있다. 즉, 제1 구획 플레이트(21)와 제2 구획 플레이트(22)는 제2 나사산(21a)(22a)을 통해 제1 나사산(12)에 회전 가능하게 결합될 수 있다. 이에 따라, 구획부(20)는 노즐 본체부(10) 내부에서 회전되어 노즐 본체부(10)의 길이 방향을 따라 전후 방향으로 이동될 수 있다.
코어부(30)는 도 2 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 구획부(20)에 인접되게 배치되며, 노즐 본체부(10) 내부 중심에 배치될 수 있다. 코어부(30)는 코어(31)와 본체(32)를 포함할 수 있다. 코어(31)의 외경(D2)은 노즐 본체부(10)의 내경(D1) 보다 작게 형성될 수 있다. 즉, 코어(31)의 외경(D2)은 노즐 본체부(10)의 내경(D1) 보다 작게 형성되어, 코어(31)의 외경(D2)과 노즐 본체부(10)의 내경(D2)의 사이 공간을 통해서 고압수(HW)가 분사될 수 있는 유로(11)를 형성할 수 있다. 본체(32)는 코어(31)에서 구획부(20) 방향으로 테이퍼 지게 연장되며, 구획부(20)에 인접되게 배치될 수 있다. 일실시예로, 본체(32)가 테이퍼지게 형성되는 경우에는 본체(32)의 최대 외경(D2)은 노즐 본체부(10)의 외경(D1) 보다 작게 형성될 수 있다.
한편, 코어부(30)는 노즐 본체부(10)의 내부에서 구획부(20)에 의해서 전후 방향으로 이동될 수 있다. 즉, 구획부(20)는 노즐 본체부(10)의 제1 나사산(12)에 회전 가능하게 결합되는 제2 나사산(21a)(22a)을 통해서 노즐 본체부(10) 내부에서 회전 이동하여, 구획부(20)에 연결되어 코어부(30)를 노즐 본체부(10) 내부에서 전후 방향으로 이동 시킬 수 있다. 이때, 코어부(30)는 노즐 본체부(10) 내부에서 전후 방향으로 이동되어 노즐 본체부(10)에서 분사되는 고압수(HW)의 직진성을 개선할 수 있다. 이에 따라, 노즐 본체부(10)는 스카핑이 완료된 슬라브(S)의 폭에 맞춰 슬라브(S)의 표면에 고압수(HW)를 고르게 분사할 수 있다. 즉, 폭이 넓은 슬라브(S)인 경우에는 코어부(30)를 노즐 본체부(10)의 내부에서 전방으로 이동 시켜 슬라브(S)의 폭에 맞춰 고압수(HW)를 분사시킬 수 있다. 또한, 폭이 작은 슬라브(S)인 경우에는 코어부(30)를 노즐 본체부(10)의 내부에서 후방으로 이동 시켜 슬라브(S)의 폭에 맞춰 고압수(HW)를 분사시킬 수 있다.
한편, 이동부(40)는 노즐 본체부(10)의 내부 중심에 배치된 코어부(30)를 노즐 본체부(10) 내부 중심에서 편심이동 시킬 수 있다. 이를 위해 이동부(40)는 도 2 내지 5에 도시된 바와 같이, 랙 기어(41), 피니언 기어(42) 및 위치 조절 볼트(43)를 포함할 수 있다. 랙 기어(41)는 구획부(20)의 일측 단부에 형성될 수 있다. 여기서 랙 기어(41)는 구획부(20)의 수직 방향을 따라 형성될 수 있다. 피니언 기어(42)는 랙 기어(41)에 치합되며, 회전 구조를 가지도록 본체(32)에 연결될 수 있다. 즉, 피니언 기어(42)는 랙 기어(41)에 치합되도록 본체(32)의 수직 방향을 따라 형성될 수 있다.
그리고 위치 조절 볼트(43)는 코어부(30)를 노즐 본체부(10)의 중심에서 편심 이동 시킬 수 있도록 복수 개가 배치될 수 있다. 일실시예로, 위치 조절 볼트(43)는 한 쌍이 상호 마주 보게 노즐 본체부(10)를 관통하여 배치될 수 있다. 위치 조절 볼트(43)는 노즐 본체부(10)에 형성된 관통홀(44)을 통해 노즐 본체부(10)를 관통하여, 본체(32)의 외주면을 지지할 수 있다. 위치 조절 볼트(43)는 노즐 본체부(10)에 한 쌍이 상호 마주 보게 배치되어, 코어부(30)를 노즐 본체부(10) 내부 중심에서 상부와 하부 측으로 편심 이동 시킬 수 있다.
즉, 코어부(30)는 위치 조절 볼트(43)를 통해서 노즐 본체부(10)의 내부 중심에서 상하 방향으로 편심 이동 될 수 있다. 이때, 본체(32)에 배치된 피니언 기어(42)는 위치 조절 볼트(43)의 조절 방향에 따라서 구획부(20)에 배치된 랙 기어(41)에 맞물려 회전하며, 코어부(30)의 편심이동을 가이드 할 수 있다. 이에 따라, 위치 조절 볼트(43)는 코어부(30)를 노즐 본체부(10)의 중심에서 상하로 편심 이동 시켜 노즐 본체부(10)에서 분사되는 고압수(HW)의 분사각을 조절할 수 있다.
한편, 노즐 본체부(10)는 스카핑 머신(2)에서 한 쌍이 상호 마주보게 배치될 수 있다. 이에 따라, 노즐 본체부(10)는 슬라브(S)의 상부면과 하부면 표면에 고압수(HW)를 분사할 수 있다. 이때, 노즐 본체부(10)에 배치된 코어부(30)는 위치 조절 볼트(43)를 통해 노즐 본체부(10)의 내부 중심에서 상부와 하부로 편심 이동될 수 있다. 이에 따라, 노즐 본체부(10)에서 분사되는 고압수(HW)는 분사각이 조절되어 슬라브(S)의 상부면과 하부면 표면에 각각 고압수(HW)가 분사될 수 있다.
한편, 본체(32)의 외주면에는 메인 이탈 방지턱(32a) 및 보조 이탈 방지턱(32b)이 형성될 수 있다. 메인 이탈 방지턱(32a)은 코어부(30)가 노즐 본체부(10)의 내부에서 이탈되는 것을 방지하기 위해 위치 조절 볼트(43)에 대응되게 복수 개가 배치될 수 있다. 일실시예로 메인 이탈 방지턱(32a)은 한 쌍이 본체(32)의 외주면에 형성될 수 있다.
메인 이탈 방지턱(32a)은 위치 조절 볼트(43)에 각각 접촉되어 코어부(30)가 노즐 본체부(10)의 내부에서 이탈되는 것을 방지할 수 있다. 실시예에서, 메인 이탈 방지턱(32a)은 노즐 본체부(10) 내부에서 코어부(30)가 전방 측으로 이동 시 노즐 본체부(10)를 관통한 위치 조절 볼트(43)에 접촉되어 코어부(30)의 이동을 제한할 수 있다. 이에 따라. 코어부(30)는 노즐 본체부(10) 내부에서 이탈이 방지될 수 있다.
그리고 보조 이탈 방지턱(32b)은 코어부(30)가 고압수(HW)에 의해서 노즐 본체부(10) 내부에서 발생하는 유동을 방지할 수 있다. 실시예에서 보조 이탈 방지턱(32b)은 메인 이탈 방지턱(32a) 사이에 적어도 하나가 구비되어, 코어부(30)가 고압수(HW)에 의해 유동 시 노즐 본체부(10) 내벽과 접촉될 수 있다.일실시예로 보조 이탈 방지턱(23b)은 메인 이탈 방지턱(32a) 사이에서 한 쌍이 구비될 수 있다.
그리고 보조 이탈 방지턱(32b)은 코어부(30)가 고압수(HW)에 의해서 노즐 본체부(10) 내부에서 유동 시 피니언 기어(42)가 랙 기어(41)로부터 이탈을 방지하도록 노즐 본체부(10) 내벽과 접촉될 수 있다. 일실시예로 보조 이탈 방지턱(32b)은 코어부(30)가 고압수(HW)에 의해서 노즐 본체부(10) 내부에서 유동 시 노즐 본체부(10)의 측벽에서 양측으로 접촉되어 코어부(30)의 유동을 방지할 수 있다. 이에 따라, 피니언 기어(42)는 코어부(30)가 유동 시에도 랙 기어(41)로부터 이탈이 방지될 수 있다.
도 6 내지 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 고압 분사 장치의 사용 상태도이다.
도 6 및 도 7을 참조하여, 본 발명의 실시예인 고압 분사 장치(1)의 작동 상태를 설명하면 다음과 같다.
도 6의 (a)에 도시된 바와 같이, 노즐 본체부(10)는 스카핑이 완료된 슬라브(S)의 상부면 표면에 고압수(HW)를 분사시킬 수 있다. 이때, 노즐 본체부(10)는 슬라브(S)의 상부면과 하부면의 표면에 각각 고압수(HW)를 분사할 수 있도록 스카핑 머신(2)에 한 쌍이 상호 마주보게 배치될 수 있다.
즉, 슬라브(S)의 상부면에 고압수(HW)가 분사될 경우에는 슬라브(S)의 상부면을 향해 배치된 노즐 본체부(10)의 코어부(30)를 위치 조절 볼트(43)를 통해서 편심이동 시켜 슬라브(S)의 상부면을 향하여 분사되는 고압수(HW)의 분사각을 조절할 수 있다. 코어부(30)는 노즐 본체부(10) 내부 중심에서 위치 조절 볼트(43)를 통해서 상부 측으로 편심 이동되어 고압수(HW)의 분사각이 조절될 수 있다. 이에 따라, 노즐 본체부(10)에서 분사되는 고압수(HW)는 슬라브(S)의 상부면에 고르게 분사될 수 있다. 이때, 피니언 기어(42)는 위치 조절 볼트(43)의 조절 방향에 따라서 랙 기어(41)에 맞물려 회전하며, 코어부(30)를 본체부(10)의 내부 중심에서 상부로 편심이동을 가이드할 수 있다.
이에 따라, 위치 조절 볼트(43)는 코어부(30)를 노즐 본체부(10)의 중심에서 상부로 편심 이동 시켜 노즐 본체부(10)에서 분사되는 고압수(HW)의 분사각을 조절할 수 있다.
반면에, 도 6의 (b)에 도시된 바와 같이, 노즐 본체부(10)는 스카핑이 완료된 슬라브(S)의 하부면 표면에 고압수(HW)를 분사시킬 수 있다. 슬라브(S)의 하부면에 고압수(HW)가 분사될 경우에는 슬라브(S)의 하부면을 향해 배치된 노즐 본체부(10)의 코어부(30)를 위치 조절 볼트(43)를 통해서 편심이동 시켜 슬라브(S)의 하부면을 향하여 분사되는 고압수(HW)의 분사각을 조절할 수 있다. 코어부(30)는 노즐 본체부(10) 내부 중심에서 위치 조절 볼트(43)를 통해서 하부 측으로 편심 이동되어 고압수(HW)의 분사각이 조절될 수 있다. 이에 따라, 노즐 본체부(10)에서 분사되는 고압수(HW)는 슬라브(S)의 하부면에 고르게 분사될 수 있다.
이때, 피니언 기어(42)는 위치 조절 볼트(43)의 조절 방향에 따라서 랙 기어(41)에 맞물려 회전하며, 코어부(30)를 본체부(10)의 내부 중심에서 하부로 편심이동을 가이드할 수 있다. 위치 조절 볼트(43)는 코어부(30)를 노즐 본체부(10)의 중심에서 하부로 편심 이동 시켜 노즐 본체부(10)에서 분사되는 고압수(HW)의 분사각을 조절할 수 있다.
이에 따라, 고압수(HW)는 슬라브(S)의 상부면과 하부면을 향하도록 분사각이 조절되어 슬라브(S)표면을 쓸어 내듯이 고르게 분사되어 슬라브(S) 표면에 발생된 스케일(SC)을 제거하며, 스케일 핏(3)으로 스케일(SC)을 포집시킬 수 있다. 또한, 고압수(HW)는 슬라브(S) 표면의 전체를 쓸어 내려 슬라브(S) 표면의 스케일(SC)을 제거하여 슬라브(S) 표면에 스케일(SC)이 고착되는 것을 방지할 수 있다.
한편, 도 7의 (a)에 도시된 바와 같이, 스카핑이 완료된 슬라브(S)의 폭이 넓은 경우에는 노즐 본체부(10)의 내부에서 전후 방향으로 회전가능하게 결합된 구획부(20)를 노즐 본체부(10)의 전방으로 이동 시킬 수 있다.
이때, 코어부(30)는 노즐 본체부(10)의 구획부(20)에 의해서 노블 본체부(10) 내부에서 전방으로 이동될 수 있다. 이에 따라, 노즐 본체부(10)에서 분사되는 고압수(HW)는 직진성이 개선되어, 스카핑이 완료된 슬라브(S)의 폭에 맞춰 슬라브(S)의 표면에 고압수(HW)를 고르게 분사될 수 있다.
또한, 도 7의 (b)에 도시된 바와 같이, 스카핑이 완료된 슬라브(S)의 폭이 작은 경우에는 노즐 본체부(10)의 내부에서 전후 방향으로 회전가능하게 결합된 구획부(20)를 노즐 본체부(10)의 후방으로 이동 시킬 수 있다.
이때, 코어부(30)는 구획부(20)에 의해서 노블 본체부(10) 내부에서 후방으로 이동 될 수 있다. 이에 따라, 노즐 본체부(10)에서 분사되는 고압수(HW)는 슬라브(S)의 폭에 맞춰 슬라브(S)의 표면에 고르게 분사될 수 있다.
지금까지 설명한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 고압 분사 장치(1)는 노즐 본체부(10) 내부 중심에 배치된 코어부(30)를 편심되게 이동시켜 노즐 본체부(10)에서 분사되는 고압수(HW)의 분사각을 조절하여 슬라브(S)의 표면에 고르게 고압수(HW)를 분사할 수 있다.
또한, 노즐 본체부(10) 내부 중심에 배치된 코어부(30)는 노즐 본체부(10)의 내부에서 노즐 본체부(10)의 길이 방향을 따라 전후 방향으로 이동 되어, 노즐 본체부(10)에서 분사되는 고압수(HW)의 직진성을 개선할 수 있다. 이에 따라, 노즐 본체부(10)에서 분사되는 고압수(HW)는 슬라브(S)의 폭에 맞춰 슬라브(S) 표면에 고압수(HW)를 고르게 분사시킬 수 있다.
또한, 고압수(HW)는 분사각의 조절과 직진성이 개선되어 슬라브(S) 표면의 스케일(SC)을 효율적으로 제거하고 스케일 핏(3)으로 스케일(SC)을 원활하게 포집할 수 있다.
또한, 고압수(HW)는 슬라브(S) 표면에 고르게 분사되어 스케일(SC)이 슬라브(S) 표면에 고착되는 것을 방지하여, 슬라브(S)의 품질을 높일 수 있다.
또한, 노즐 본체부(10)는 동일 직경을 갖는 복수 개의 관이 상호 결합되어 교환 및 수리 작업의 효율을 높일 수 있다.
상기에서는 본 발명의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 통상의 지식을 가진자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 그리고, 이러한 수정과 변경에 관계된 차이점들을 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
1: 고압 분사 장치 2: 스카핑 머신
3: 스케일 핏 10: 노즐 본체부
11: 유로 12: 제1 나사산
13: 나사산 D1: 내경
20: 구획부 21: 제1 구획 플레이트
21a: 제2 나사산 22: 제2 구획 플레이트
22a: 제2 나사산 30: 코어부
31 : 코어\ 32: 본체
32a: 메인 이탈 방지턱 32b: 보조 이탈 방지턱
D2: 외경 40: 이동부
41: 랙 기어 42: 피니언 기어
43: 위치 조절 볼트 44: 관통홀
S: 슬라브 SC: 스케일
HW: 고압수

Claims (9)

  1. 고압수를 분사 하는 관 형상의 노즐 본체부;
    상기 노즐 본체부 내부에 배치되어 상기 노즐 본체부 내부를 복수 개의 유로로 구획하는 구획부;
    상기 노즐 본체부의 내경 보다 외경이 작게 형성되며, 상기 노즐 본체부 내부에 배치되는 코어를 갖는 코어부; 및
    상기 코어부를 상기 노즐 본체부 내부에서 이동시키는 이동부;
    를 포함하는 고압 분사 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 노즐 본체부는
    동일 직경을 갖는 복수 개의 관이 상호 결합되는 고압 분사 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 구획부는
    상기 노즐 본체부의 내부에서 길이 방향을 따라 배치되는 고압 분사 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 구획부는
    복수 개의 제1 구획 플레이트와 제2 구획 플레이트가 상호 교차되어 상기 노즐 본체부 내부에 배치되는 고압 분사 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 코어부는
    상기 코어에서 상기 구획부 방향으로 테이퍼 지게 연장되며, 상기 구획부에 인접되게 배치되는 본체를 포함하는 고압 분사 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 이동부는
    상기 구획부의 일측 단부에 형성되는 랙 기어;
    상기 랙 기어에 치합되며, 회전 구조를 가지도록 상기 본체에 연결되는 피니언 기어: 및
    상기 노즐 본체부를 관통하며 상기 코어부를 상기 노즐 본체부의 중심에서 편심 이동 시키는 복수의 위치 조절 볼트;
    를 포함하며,
    상기 피니언 기어는 상기 위치 조절 볼트에 의해서 상기 코어부가 편심 이동 시 상기 랙 기어에 맞물려 회전하는 고압 분사 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 본체의 외주면에는
    상기 코어부가 상기 노즐 본체부의 내부에서 이탈되는 것을 방지하기 위해 상기 위치 조절 볼트에 대응되게 배치되는 복수의 메인 이탈 방지턱; 및
    상기 메인 이탈 방지턱 사이에 구비되는 적어도 하나의 보조 이탈 방지턱;
    을 포함하며,
    상기 보조 이탈 방지턱은 코어부가 유동 시 노즐 본체부 내벽과 접촉되는 고압 분사 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 보조 이탈 방지턱은
    상기 코어부가 상기 고압수에 의해서 상기 노즐 본체부 내부에서 유동 시 상기 피니언 기어가 랙 기어로부터 이탈을 방지하도록 상기 노즐 본체부 내벽과 접촉되는 고압 분사 장치.
  9. 제4항에 있어서,
    상기 노즐 본체부의 내주면에는 노즐 본체부의 길이 방향을 따라 제1 나사산이 형성되며,
    상기 노즐 본체부의 내주면에 각각 접촉되는 제1 구획 플레이트와 제2 구획 플레이트의 접촉면에는 상기 제1 나사산에 회전 가능하게 결합되는 제2 나사산이 상기 노즐 본체부의 길이 방향을 따라 형성되는 고압 분사 장치.
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