KR102000044B1 - Laser induced thermal imaging film and method of manufacturing organic light emitting diode display device using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 패턴이 형성된 레이저 열 전사 필름 및 이를 이용하여 유기 발광 다이오드 표시 장치를 형성함으로써, 유기물질을 패턴의 정밀도를 향상시킬 수 있는 유기 발광 표시 장치의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 레이저 열 전사 필름은 베이스 필름; 상기 베이스 필름의 상부면, 하부면 중 적어도 한면에 형성된 반사 패턴 또는 흡수 패턴; 상기 베이스 필름 전면에 형성된 광 열 변환층; 및 상기 광 열 변환층 상에 형성된 보호층을 포함한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing an organic light emitting display device capable of improving the pattern accuracy of an organic material by forming a patterned laser heat transfer film and an organic light emitting diode display device using the same, The transfer film comprises a base film; A reflection pattern or an absorption pattern formed on at least one of an upper surface and a lower surface of the base film; A light-to-heat conversion layer formed on the entire surface of the base film; And a protective layer formed on the photothermal conversion layer.

Description

레이저 열 전사 필름 및 이를 이용한 유기 발광 다이오드 표시 장치의 제조 방법{LASER INDUCED THERMAL IMAGING FILM AND METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE DISPLAY DEVICE USING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a laser thermal transfer film and an organic light emitting diode (OLED)

본 발명은 패턴이 형성된 레이저 열 전사 필름 및 이를 이용하는 유기 발광 다이오드 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a patterned laser thermal transfer film and a method of manufacturing an organic light emitting diode display using the same.

다양한 정보를 화면으로 구현해 주는 영상 표시 장치는 정보 통신 시대의 핵심 기술로 더 얇고 더 가볍고 휴대가 가능하면서도 고성능의 방향으로 발전하고 있다. 이에 음극선관(CRT)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 평판 표시 장치로 유기 발광층의 발광량을 제어하여 영상을 표시하는 유기 발광 다이오드 표시 장치가 각광받고 있다.The image display device that realizes various information on the screen is a core technology of the information communication age and it is becoming thinner, lighter, more portable and higher performance. Accordingly, an organic light emitting diode (OLED) display device for displaying an image by controlling the amount of light emitted from the organic light emitting layer by using a flat panel display capable of reducing weight and volume, which is a disadvantage of a cathode ray tube (CRT)

유기 발광 다이오드 표시 장치는 전극 사이의 얇은 발광층을 이용한 자발광 소자인 유기 발광 다이오드(Organic Light Emitting Diode: OLED)를 포함하여 이루어져, 종이와 같이 박막화가 가능하다.The organic light emitting diode display device includes an organic light emitting diode (OLED), which is a self-light emitting device using a thin light emitting layer between electrodes, and can be made thin like paper.

유기 발광 다이오드는 양극(Anode)인 제 1 전극, 유기 발광층(Emission Layer; EML) 및 음극(Cathode)인 제 2 전극을 포함하여 이루어진다. 제 1, 제 2 전극에 전압을 인가하면 정공과 전자가 발광층 내에서 재결합하여 엑시톤(Exciton)을 형성하고, 엑시톤이 기저상태로 떨어지며 발광한다.The organic light emitting diode includes a first electrode that is an anode, an organic emission layer (EML), and a second electrode that is a cathode. When a voltage is applied to the first and second electrodes, holes and electrons recombine in the light emitting layer to form an exciton, and the exciton falls to a ground state and emits light.

이 때, 정공의 주입 및 수송 능력을 향상시키기 위해, 제 1 전극과 유기 발광층 사이에 정공 주입층(Hole Injection Layer; HIL), 정공 수송층(Hole Transport Layer; HTL)과 같은 정공 기능층을 더 형성할 수 있다. 마찬가지로, 제 2 전극과 유기 발광층 사이에 전자 수송층(Electron Transport Layer; ETL), 전자 주입층(Electron Injection Layer; EIL)과 같은 전자 기능층을 더 형성하여 전자의 주입 및 수송 능력을 향상시킬 수 있다.At this time, in order to improve the injection and transport ability of holes, a hole functional layer such as a hole injection layer (HIL) or a hole transport layer (HTL) is further formed between the first electrode and the organic light emitting layer can do. Similarly, an electron functional layer such as an electron transport layer (ETL) and an electron injection layer (EIL) may be further formed between the second electrode and the organic light emitting layer to improve the injection and transport ability of electrons .

일반적으로, 상기와 같은 유기 발광 다이오드의 유기 발광층, 정공 기능층, 전자기능층 등과 같은 유기막 패턴은 파인메탈 마스크(Fine Metal Mast; FMM)를 이용하여 유기 물질을 선택적으로 형성하거나, 잉크 분사 방법 등을 이용하여 형성한다. 그런데, 파인 메탈 마스크를 이용하는 경우 마스크 제작 기술의 한계와 마스크 무게에 의해 마스크가 처지는 문제가 발생한다. 그리고, 잉크분사 방법은 용액을 분사하는 것으로, 공정 진행이 어려운 문제가 있다.In general, an organic layer pattern such as the organic light emitting layer, the hole functional layer, the electron functional layer, and the like of the organic light emitting diode may be formed by selectively forming an organic material using a fine metal mask (FMM) Or the like. However, when a fine metal mask is used, there arises a problem that the mask is sagged by the limitation of the mask making technique and the weight of the mask. Further, the ink jetting method has a problem in that it is difficult to proceed with the process by injecting the solution.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 패턴이 형성된 레이저 열 전사 필름을 이용하여 유기 발광 다이오드를 형성함으로써, 유기물질을 패턴의 정밀도를 향상시킬 수 있는 유기 발광 다이오드 표시 장치의 제조 방법을 제공하는데, 그 목적이 있다.DISCLOSURE Technical Problem The present invention has been devised to solve the problems as described above and it is an object of the present invention to provide an organic light emitting diode display device capable of improving the pattern accuracy of an organic material by forming an organic light emitting diode using a patterned laser heat transfer film Method, which has its purpose.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름은 베이스 필름; 상기 베이스 필름의 상부면, 하부면 중 적어도 한면에 형성된 반사 패턴 또는 흡수 패턴; 상기 베이스 필름 전면에 형성된 광 열 변환층; 및 상기 광 열 변환층 상에 형성된 보호층을 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a thermal transfer film comprising: a base film; A reflection pattern or an absorption pattern formed on at least one of an upper surface and a lower surface of the base film; A light-to-heat conversion layer formed on the entire surface of the base film; And a protective layer formed on the photothermal conversion layer.

상기 반사 패턴은 크롬, 알루미늄 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 불투명 금속으로 형성된다.The reflection pattern is formed of an opaque metal containing at least one selected from chromium and aluminum.

흡수 패턴은 카본, 감광성 컬러 안료, 감광성 컬러 염료, 흑색 수지 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 유기물질로 형성되거나, 산화철, 산화크롬 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 무기물질로 형성된다.The absorption pattern is formed of an organic material containing at least one selected from carbon, a photosensitive color pigment, a photosensitive color dye and a black resin, or formed of an inorganic material containing at least one selected from iron oxide and chromium oxide.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름은 홈을 갖는 홈을 갖는 베이스 필름; 기 홈 내에 채워져 형성된 광 열 변환 패턴; 및 기 광 열 변환 패턴을 덮도록 상기 베이스 필름 상에 형성된 보호층을 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a thermal transfer film comprising: a base film having grooves having grooves; A light heat conversion pattern formed by being filled in the base groove; And a protective layer formed on the base film so as to cover the light-to-heat conversion pattern.

상기 홈은 삼각형 또는 사각형의 단면을 갖는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 필름.Wherein the groove has a triangular or quadrangular cross section.

또한, 동일 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름을 이용하는 유기 발광 다이오드 표시 장치의 제조 방법은 화소 영역마다 형성된 박막 트랜지스터, 상기 각 화소 영역에 형성되어 박막 트랜지스터와 접속된 제 1 전극 및 상기 제 1 전극의 일부 영역을 노출시키는 뱅크홀을 갖는 뱅크 절연막이 형성된 기판을 준비하는 단계; 베이스 필름, 상기 베이스 필름의 상부면, 하부면 중 적어도 한면에 형성된 반사 패턴 또는 흡수 패턴, 상기 베이스 필름 전면에 형성된 광 열 변환층 및 상기 광 열 변환층 상에 형성된 보호층을 포함하는 레이저 열 전사 필름의 상기 보호층 상에 유기물질을 도포하고, 상기 유기물질이 상기 기판을 향하도록 상기 레이저 열 전사 필름을 상기 기판 상에 위치시키는 단계; 및 상기 베이스 필름 상에서 레이저를 조사하여, 상기 유기물질을 상기 뱅크홀에 전사하여 유기막 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.A method of fabricating an organic light emitting diode display device using a laser induced thermal imaging (LDA) film according to a first embodiment of the present invention for achieving the same object includes a thin film transistor formed in each pixel region, Preparing a substrate on which a bank insulating film having a first electrode and a bank hole exposing a part of the first electrode is formed; A base film, a reflective pattern or absorption pattern formed on at least one of an upper surface and a lower surface of the base film, a photothermal conversion layer formed on the entire surface of the base film, and a protective layer formed on the photothermal conversion layer, Applying an organic material onto the protective layer of the film, and positioning the laser heat transfer film on the substrate such that the organic material faces the substrate; And irradiating a laser beam onto the base film to transfer the organic material to the bank holes to form an organic film pattern.

상기 유기막 패턴은 유기 발광층, 정공 기능층, 전자 기능층으로 이루어진 군에서 선택된 단층막 또는 다층막이다.The organic film pattern is a single layer film or a multilayer film selected from the group consisting of an organic light emitting layer, a hole functional layer, and an electron functional layer.

상기 반사 패턴을 크롬, 알루미늄 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 불투명 금속으로 형성한다.The reflective pattern is formed of an opaque metal containing at least one selected from chromium and aluminum.

상기 흡수 패턴을 카본, 감광성 컬러 안료, 감광성 컬러 염료, 흑색 수지 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 유기물질로 형성되거나, 산화철, 산화크롬 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 무기물질로 형성한다.The absorption pattern is formed of an organic material containing at least one selected from carbon, a photosensitive color pigment, a photosensitive color dye and a black resin, or formed of an inorganic material containing at least one selected from iron oxide and chromium oxide.

또한, 동일 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름을 이용하는 유기 발광 다이오드 표시 장치의 제조 방법은 화소 영역마다 형성된 박막 트랜지스터, 상기 각 화소 영역에 형성되어 박막 트랜지스터와 접속된 제 1 전극 및 상기 제 1 전극의 일부 영역을 노출시키는 뱅크홀을 갖는 뱅크 절연막이 형성된 기판을 준비하는 단계; 홈을 갖는 베이스 필름, 상기 홈 내에 채워져 형성된 광 열 변환 패턴 및 상기 광 열 변환 패턴을 덮도록 상기 베이스 필름 상에 형성된 보호층을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 필름의 상기 보호층 상에 유기물질을 도포하고, 상기 유기물질이 상기 기판을 향하도록 상기 레이저 열 전사 필름을 상기 기판 상에 위치시키는 단계; 및 상기 베이스 필름 상에서 레이저를 조사하여, 상기 유기물질을 상기 뱅크홀에 전사하여 유기막 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.A method of fabricating an organic light emitting diode display using a laser induced thermal imaging (LDA) film according to a second embodiment of the present invention includes the steps of forming a thin film transistor Preparing a substrate on which a bank insulating film having a first electrode and a bank hole exposing a part of the first electrode is formed; And a protective layer formed on the base film so as to cover the light heat conversion pattern and the light heat conversion pattern filled in the groove, Applying a material and positioning the laser heat transfer film on the substrate such that the organic material faces the substrate; And irradiating a laser beam onto the base film to transfer the organic material to the bank holes to form an organic film pattern.

상기 유기막 패턴은 유기 발광층, 정공 기능층, 전자 기능층으로 이루어진 군에서 선택된 단층막 또는 다층막이다.The organic film pattern is a single layer film or a multilayer film selected from the group consisting of an organic light emitting layer, a hole functional layer, and an electron functional layer.

상기 홈은 삼각형 또는 사각형의 단면을 갖는다.The grooves have a triangular or rectangular cross section.

상기와 같은 본 발명의 레이저 열 전사 필름 및 이를 이용한 유기 발광 다이오드 표시 장치의 제조 방법은 다음과 같은 효과가 있다.The laser heat transfer film of the present invention and the manufacturing method of the organic light emitting diode display device using the same have the following effects.

첫째, 레이저 열 전사 필름에 반사 또는 흡수 패턴이 형성되어 있으므로, 레이저를 방출하는 광원과 필름 사이에 마스크를 제거할 수 있다. 특히, 레이저 열 전사 필름에 형성된 반사 또는 흡수 패턴의 두께를 조절하여 레이저 투과율을 조절할 수 있다.First, since a reflection or absorption pattern is formed on the laser heat transfer film, the mask can be removed between the light source emitting the laser and the film. In particular, the laser transmittance can be controlled by adjusting the thickness of the reflection or absorption pattern formed on the laser heat transfer film.

둘째, 유기물질을 전사하는 영역에만 대응되도록 베이스 필름에 광 열 변환층 패턴을 형성함으로써, 레이저에 의해 팽창되는 영역과 팽창되지 않는 영역에 대한 경계가 모호해지는 것을 방지할 수 있다. 특히, 레이저 열 전사 필름의 전면에 레이저가 투과되어 불필요한 전력 소모를 방지할 수 있다.Second, by forming the photothermal conversion layer pattern on the base film so as to correspond only to the region where the organic material is transferred, it is possible to prevent the boundary between the region expanded by the laser and the region not swollen from becoming blurred. Particularly, a laser is transmitted to the entire surface of the laser heat transfer film, thereby preventing unnecessary power consumption.

도 1a, 도 1b 및 도 1c는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름의 단면도이다.
도 3a 내지 도 3f는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름을 이용하는 유기 발광 다이오드 표시 장치의 공정 단면도이다.
도 4a 내지 도 4d는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름을 이용하는 유기 발광 다이오드 표시 장치의 공정 단면도이다.
1A, 1B and 1C are sectional views of a laser induced thermal imaging film according to a first embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a laser induced thermal imaging film according to a second embodiment of the present invention.
3A to 3F are process cross-sectional views of an organic light emitting diode display device using a laser induced thermal imaging film according to a first embodiment of the present invention.
4A to 4D are process cross-sectional views of an organic light emitting diode display device using a laser induced thermal transfer film according to a first embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 레이저 열 전사 필름을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the laser induced thermal imaging film of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

* 제 1 실시 예 ** First Embodiment *

도 1a 및 도 1b는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름의 단면도이다. 도 1a는 반사 또는 흡수 패턴이 베이스 필름의 하부면에 형성된 것을 도시하였으며, 도 1b는 반사 또는 흡수 패턴이 베이스 필름의 상부면에 형성된 것을 도시하였다. 그리고, 도 1c는 반사 또는 흡수 패턴이 베이스 필름의 상, 하부면에 형성된 것을 도시하였다.1A and 1B are sectional views of a laser induced thermal imaging film according to a first embodiment of the present invention. 1A shows a reflective or absorptive pattern formed on a lower surface of a base film, and FIG. 1B shows a reflective or absorbing pattern formed on an upper surface of a base film. 1C shows that a reflection or absorption pattern is formed on the upper and lower surfaces of the base film.

먼저, 도 1a와 같이, 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름은 베이스 필름(15), 페이스 필름(15)의 하부면에 형성된 반사 또는 흡수 패턴(25), 반사 또는 흡수 패턴(25)을 덮도록 베이스 필름(15) 전면에 형성된 광 열 변환층(Light To Heat Conversion; LTHC)(10) 및 광 열 변환층(10) 상에 형성된 보호층(30)을 포함한다. 이 때, 베이스 필름(15) 상에 형성된 반사 또는 흡수 패턴(25)은 레이저 열 전사 필름을 이용하여 유기물질을 전사할 때, 원하는 영역에만 유기물질을 전사하기 위한 것이다.First, as shown in FIG. 1A, the laser induced thermal imaging film according to the first embodiment of the present invention includes a base film 15, a reflection or absorption pattern 25 formed on the lower surface of the face film 15, A light to heat conversion (LTHC) 10 formed on the entire surface of the base film 15 and a protective layer 30 formed on the photo-thermal conversion layer 10 so as to cover the light emitting layer 25. At this time, the reflection or absorption pattern 25 formed on the base film 15 is for transferring the organic material only to a desired region when the organic material is transferred using the laser heat transfer film.

베이스 필름(15)은 폴레에틸렌 테레프탈레이트와 같은 폴리에스테르, 폴리아크릴, 폴리에폭시, 폴리에틸렌, 폴리스티렌 등과 같은 투명성 고분자로 형성된다. 특히, 베이스 필름(15)은 광 열 변환층(10) 및 보호층(30)을 지지하도록 충분한 두께를 갖는 것이 바람직하다.The base film 15 is formed of a transparent polymer such as polyester such as polyethylene terephthalate, polyacrylic, polyepoxy, polyethylene, polystyrene and the like. In particular, it is preferable that the base film 15 has a sufficient thickness to support the photo-thermal conversion layer 10 and the protective layer 30.

일반적인 레이저 열 전사 필름은 베이스 필름 상에 차례로 적층된 광 열 변환층 및 보호층을 포함한다. 이 때, 광 열 변환층은 베이스 필름 전면에 형성되며, 레이저가 조사되면 광 열 변환층이 팽창하므로, 광 열 변환층에 부분적으로 레이저가 조사되도록 개구부를 갖는 마스크를 이용하여 레이저를 조사한다.A typical laser heat transfer film includes a photo-thermal conversion layer and a protective layer which are sequentially stacked on a base film. At this time, the photothermal conversion layer is formed on the entire surface of the base film. When the laser beam is irradiated, the photothermal conversion layer expands, and the laser is irradiated using a mask having an opening to partially irradiate the photothermal conversion layer with a laser.

구체적으로, 레이저 열 전사 필름과 레이저를 방출하는 광원 사이에 개구부를 갖는 마스크를 위치시킨다. 그리고, 마스크 상부에서 레이저를 조사하면, 개구부에 대응되는 영역의 광 열 변환층에 부분적으로 레이저가 조사된다. 그리고, 레이저가 조사된 영역의 광 열 변환층이 팽창하여, 보호층 전면에 형성된 유기물질 중 광 열 변환층이 팽창된 영역에만 대응되는 유기물질이 기판에 전사된다. 즉, 기판 중 마스크의 개구부에 대응되는 영역에만 유기물질이 전사된다.Specifically, a mask having an opening between a laser heat transfer film and a light source emitting a laser is placed. When a laser beam is irradiated on the mask, the laser beam is partially irradiated to the photo-thermal conversion layer in the region corresponding to the opening. Then, the photo-thermal conversion layer in the region irradiated with the laser expands, and the organic material corresponding to only the expanded region of the organic material formed on the entire surface of the protective layer is transferred to the substrate. That is, the organic material is transferred only to the region of the substrate corresponding to the opening portion of the mask.

그런데, 이 경우, 기판과 마스크의 얼라인 정밀도에 한계가 있으며, 광원에서 방출되는 레이저의 세기를 조절하여 기판 상에 전사되는 유기물질의 두께를 조절할 수 있으나, 미세한 광량의 조절이 어렵다. 더욱이, 레이저에 의해 광 열 변환층이 팽창될 때, 광 열 변환층의 팽창 면적은 마스크의 개구부에 대응되는 영역보다 넓으므로, 원하지 않는 영역까지 유기물질이 전사될 수 있다. 또한, 개구부를 갖는 마스크를 이용하는 경우, 마스크에 의하여 레이저의 출력 중 일부만이 필름에 도달하게 되므로, 불필요한 전력 소모가 발생한다.However, in this case, there is a limit in alignment accuracy between the substrate and the mask, and the thickness of the organic material transferred onto the substrate can be controlled by adjusting the intensity of the laser emitted from the light source, but it is difficult to control the minute amount of light. Furthermore, when the photothermal conversion layer is expanded by the laser, the expansion area of the photothermal conversion layer is wider than the area corresponding to the opening of the mask, so that the organic material can be transferred to the undesired area. Further, in the case of using a mask having an opening, since only a part of the output of the laser reaches the film due to the mask, unnecessary power consumption occurs.

그러나, 본 발명의 레이저 열 전사 필름은 베이스 필름(15) 상에 반사 또는 흡수 패턴(25)을 직접 형성함으로써, 반사 또는 흡수 패턴(25)을 통해 레이저가 선택적으로 조사된다. 따라서, 개구부를 갖는 마스크를 구비할 필요가 없다.However, the laser heat transfer film of the present invention directly irradiates the laser through the reflection or absorption pattern 25 by directly forming the reflection or absorption pattern 25 on the base film 15. Therefore, it is not necessary to provide a mask having an opening.

예를 들어, 반사 또는 흡수 패턴(25)이 반사 패턴인 경우, 레이저 열 전사 필름에 레이저를 조사하면, 반사 패턴이 형성되지 않은 영역에만 레이저가 투과된다. 이 때, 반사 패턴은 광을 차단하도록 크롬(Cr), 알루미늄(Al) 등에서 선택된 적어도 하나 이상을 포함하는 불투명한 금속 물질로 형성된다.For example, when the reflection or absorption pattern 25 is a reflection pattern, when a laser is irradiated onto the laser heat transfer film, the laser is transmitted only to the region where no reflection pattern is formed. At this time, the reflection pattern is formed of an opaque metal material containing at least one selected from chromium (Cr), aluminum (Al), and the like so as to block light.

반대로, 반사 또는 흡수 패턴(25)이 흡수 패턴인 경우, 흡수 패턴은 광을 흡수하는 카본(Carbon), 감광성 컬러 안료(color pigment), 감광성 컬러 염료(color dye), 흑색 수지(Black Resin) 등에서 선택된 적어도 하나 이상을 포함하는 유기물질로 형성된다. 또한, 흡수 패턴은 산화철(FeOx), 산화크롬(CrOx) 등에서 선택된 적어도 하나 이상을 포함하는 무기물질로도 형성 가능하다.On the other hand, when the reflection or absorption pattern 25 is an absorption pattern, the absorption pattern can be formed by a light-absorbing carbon, a photosensitive color pigment, a photosensitive color dye, a black resin or the like And is formed of an organic material containing at least one selected. The absorption pattern can also be formed of an inorganic material containing at least one selected from iron oxide (FeOx), chromium oxide (CrOx) and the like.

특히, 흡수 패턴의 두께를 조절하면 흡수 패턴이 형성된 영역과 형성되지 않은 영역의 레이저 투과 정도를 조절할 수 있다. 즉, 일반적인 레이저 열 전사 필름은 마스크의 개구부에 대응되는 영역에만 유기물질이 전사되고, 개구부에 대응되지 않은 영역에는 유기물질이 전사되지 않는다. 그러나, 본 발명은 흡수 패턴의 두께를 조절함으로써, 흡수 패턴에 대응되는 영역에 흡수 패턴이 형성되지 않은 영역보다 두께가 얇은 유기물질을 전사할 수 있다.Particularly, by controlling the thickness of the absorption pattern, it is possible to control the laser penetration degree of the region where the absorption pattern is formed and the region where the absorption pattern is not formed. That is, in the general laser heat transfer film, the organic material is transferred only to the region corresponding to the opening portion of the mask, and the organic material is not transferred to the region not corresponding to the opening portion. However, according to the present invention, by regulating the thickness of the absorption pattern, it is possible to transfer the organic material having a smaller thickness than the region where the absorption pattern is not formed in the region corresponding to the absorption pattern.

그리고, 반사 또는 흡수 패턴(25)을 덮도록 베이스 필름(15) 전면에 형성된 광 열 변환층(10)은 광 열 변환 물질로 형성되어 입사된 레이저를 흡수하여 이를 열로 변환한다. 이 때, 광 열 변환 물질은 광 열 변환 물질의 안료 또는 염료와 바인더의 혼합 물질로, 안료 또는 염료가 레이저로부터 조사된 광을 열로 바꾸고, 안료 또는 염료에 의해 열을 전달받은 바인더가 팽창된다.The photo-thermal conversion layer 10 formed on the entire surface of the base film 15 so as to cover the reflection or absorption pattern 25 is formed of a photo-thermal conversion material and absorbs the incident laser to convert it into heat. In this case, the photothermal conversion material is a pigment or a mixed material of a dye and a binder, and the pigment or the dye converts the light irradiated from the laser to heat, and the binder that receives heat by the pigment or dye expands.

광 열 변환층(10) 상에는 아크릴계 및 우레탄계의 유기 바인더 및 결합제를 포함하는 보호층(30)이 형성된다. 보호층(30)의 두께는 2㎛ 내지 3㎛이며, 200℃ 이상의 내열성을 갖는 물질로 형성되는 것이 바람직하다.On the photo-thermal conversion layer 10, a protective layer 30 including an acrylic-based and urethane-based organic binder and a binder is formed. The thickness of the protective layer 30 is preferably 2 탆 to 3 탆 and is preferably formed of a material having heat resistance of 200 캜 or more.

보호층(30)은 레이저 열 전사 필름을 이용하여 기판 상에 유기물질을 전사할 때, 광 열 변환층(10)에 포함된 레이저 흡수 물질이 유기물질에 혼입되어 유기물질이 오염되는 것을 방지한다. 더욱이, 보호층(30)은 광 열 변환층(10)을 통과한 레이저를 다시 광 열 변환층(10)으로 흡수시켜 에너지 효율을 향상시킨다. 특히, 보호층(30)으로 인해 유기물질의 박리가 용이해진다.When the organic material is transferred onto the substrate using the laser heat transfer film, the protective layer 30 prevents the laser absorbing material contained in the photo-thermal conversion layer 10 from being contaminated with the organic material by contamination with the organic material . Furthermore, the protective layer 30 absorbs the laser beam that has passed through the photo-thermal conversion layer 10 into the photo-thermal conversion layer 10, thereby improving energy efficiency. Particularly, the protective layer 30 facilitates peeling of the organic material.

상기와 같은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름은 도 1b와 같이, 반사 또는 흡수 패턴(25)이 베이스 필름(15)의 상부면에 형성되어, 반사 또는 흡수 패턴(25)과 광 열 변환층(10) 및 보호층(30)이 베이스 필름(15)의 서로 다른 면에 형성될 수 있다. 또한, 도 1c와 같이, 반사 또는 흡수 패턴(25)는 베이스 필름(15)의 양 측면, 즉, 베이스 필름(15)의 상부면 및 하부면에 형성될 수 있다. 1B, a reflection or absorption pattern 25 is formed on the upper surface of the base film 15, and the reflection or absorption pattern 25 and the reflection or absorption pattern 25 are formed on the upper surface of the base film 15, The photo-thermal conversion layer 10 and the protective layer 30 may be formed on different surfaces of the base film 15. 1C, a reflection or absorption pattern 25 may be formed on both sides of the base film 15, that is, on the upper surface and the lower surface of the base film 15. [

또한, 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름은 반사 또는 흡수 패턴을 다층 구조로 형성함으로써, 유기물질의 전사 정밀도를 향상시킬 수 있다. 더욱이, 광 열 변환 공정에서 공정 조건을 정밀하게 조절할 수 있으며, 광 열 변환층의 팽창 분포를 산출하여 조절할 수 있다.In addition, the laser thermal transfer film according to the first embodiment of the present invention can improve the transfer accuracy of an organic material by forming a reflection or absorption pattern in a multilayer structure. Further, the process conditions can be precisely controlled in the photo-thermal conversion step, and the expansion distribution of the photo-thermal conversion layer can be calculated and controlled.

* 제 2 실시 예 ** Second Embodiment *

도 2는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a laser induced thermal imaging film according to a second embodiment of the present invention.

도 2와 같이, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름은 광 열 변환층이 베이스 필름(15) 전면에 형성되는 것이 아니라, 유기물질을 전사하기 위한 영역에만 대응되도록 베이스 필름(15)에 광 열 변환 패턴(10a)이 형성된다. 그리고, 광 열 변환 패턴(10a)을 포함한 베이스 필름(15) 전면에 보호층(30)이 형성된다.As shown in FIG. 2, the laser heat transfer film according to the second embodiment of the present invention is not formed on the entire surface of the base film 15, but is formed only on the base film 15 The light-to-heat conversion pattern 10a is formed. A protective layer 30 is formed on the entire surface of the base film 15 including the photo-thermal conversion pattern 10a.

구체적으로, 베이스 필름(15)은 폴레에틸렌 테레프탈레이트와 같은 폴리에스테르, 폴리아크릴, 폴리에폭시, 폴리에틸렌, 폴리스티렌 등과 같은 투명성 고분자로 형성된다. 그리고, 베이스 필름(15)의 일 측면에 홈이 형성된다. 베이스 필름(15)의 홈에는 광 열 변환 물질이 채워져, 광 열 변환 패턴(10a)이 형성된다.Specifically, the base film 15 is formed of a transparent polymer such as polyester such as polyethylene terephthalate, polyacryl, polyepoxy, polyethylene, polystyrene and the like. Then, a groove is formed on one side surface of the base film 15. In the groove of the base film 15, a photo-thermal conversion material is filled to form a photo-thermal conversion pattern 10a.

일반적인 레이저 열 전사 필름은 베이스 필름 전면에 광 열 변환층이 형성되고, 광 열 변환층 상에 보호층이 형성된다. 상기와 같은 일반적인 레이저 열 전사 필름을 이용하여 유기물질을 전사할 때, 상술한 바와 같이, 레이저 열 전사 필름과 레이저를 방출하는 광원 사이에 개구부를 갖는 마스크를 위치시킨다.In a typical laser thermal transfer film, a photothermal conversion layer is formed on the entire surface of the base film, and a protective layer is formed on the photothermal conversion layer. When an organic material is transferred using the general laser thermal transfer film as described above, a mask having an opening is positioned between the laser heat transfer film and a light source that emits a laser, as described above.

그리고, 마스크 상부에서 레이저를 조사하면, 개구부에 대응되는 영역에만 레이저가 조사되어, 기판 중 개구부에 대응되는 영역에만 유기물질이 전사된다. 즉, 일반적인 레이저 열 전사 필름은 마스크에 의하여 레이저의 출력 중 일부만이 필름에 도달하게 되므로, 불필요한 전력 소모가 발생한다.When a laser beam is irradiated from above the mask, only the region corresponding to the opening is irradiated with the laser, and the organic material is transferred only to the region corresponding to the opening in the substrate. That is, since only a part of the output of the laser reaches the film in a general laser heat transfer film, unnecessary power consumption occurs.

특히, 광 열 변환층이 베이스 필름 전면에 형성되므로, 광 열 변환층의 특성상 레이저에 의해 팽창되는 영역과 팽창되지 않는 영역에 대한 경계가 모호하다. 즉, 광 열 변환층의 팽창 영역을 명확하게 구분할 수 없기 때문에 레이저가 조사되지 않은 영역도 팽창된다. 이로 인해, 광 열 변환층의 불규칙한 팽창으로 인해, 원하지 않는 영역에도 유기물질이 전사될 수 있다.Particularly, since the photothermal conversion layer is formed on the entire surface of the base film, the boundaries between the region expanded by the laser and the region not expanding are ambiguous due to the characteristics of the photothermal conversion layer. That is, since the expansion region of the photo-thermal conversion layer can not be clearly distinguished, the region not irradiated with the laser also expands. Due to this, due to the irregular expansion of the photothermal conversion layer, the organic material can be transferred to the undesired area.

따라서, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름은 베이스 필름(15) 중 유기물질을 형성하고자 하는 영역에만 광 열 변환 패턴(10a)이 형성된다. 광 열 변환 패턴(10a)은 물질은 광 열 변환 물질이 베이스 필름(15)의 홈에 채워져 형성된다.Therefore, in the laser induced thermal imaging film according to the second embodiment of the present invention, the photo-thermal conversion pattern 10a is formed only in the region of the base film 15 where the organic material is to be formed. The photo-thermal conversion pattern 10a is formed such that the material is filled in the groove of the base film 15 with the photo-thermal conversion material.

광 열 변환 물질은 안료 또는 염료와 바인더의 혼합물로 형성된다. 구체적으로, 광 열 변환 물질의 안료 또는 염료는 레이저로부터 조사된 광을 열로 바꾸는 물질로, 안료 또는 염료에 의해 열을 전달받은 바인더가 팽창된다.The photothermal conversion material is formed of a pigment or a mixture of a dye and a binder. Specifically, the pigment or dye of the photothermal conversion material is a material that converts light irradiated from the laser into heat, and the binder that receives heat by the pigment or the dye expands.

특히, 베이스 필름(15)은 광 열 변환 패턴(10a)이 충분히 채워지도록 홈이 충분한 깊이를 가져야 하므로, 베이스 필름(15)의 두께는 75㎛ 내지 125㎛이며, 100㎛인 것이 가장 바람직하다. 그리고, 홈은 2㎛ 내지 3㎛의 두께를 가져, 광 열 변환 패턴(10a) 역시 2㎛ 내지 3㎛의 두께로 형성된다. 그리고, 도면에서는 베이스 필름(15)의 홈이 사각형 형태인 것을 도시하였으나, 홈은 삼각형 형태여도 무방하다.In particular, the base film 15 should have a sufficient depth so that the photo-thermal conversion pattern 10a is sufficiently filled, and therefore, the thickness of the base film 15 is most preferably 75 m to 125 m and 100 m. The groove has a thickness of 2 to 3 占 퐉, and the photo-thermal conversion pattern 10a is also formed to a thickness of 2 占 퐉 to 3 占 퐉. Although the grooves of the base film 15 are shown as being rectangular in the figure, the grooves may be triangular.

광 열 변환 패턴(10a)을 덮도록 베이스 필름(15) 전면에는 보호층(30)이 형성된다. 보호층(30)은 아크릴계 및 우레탄계의 유기 바인더 및 결합제를 포함하는 물질로 형성된다. 보호층(30)의 두께는 2㎛ 내지 3㎛이며, 200℃ 이상의 내열성을 갖는 물질로 형성되는 것이 바람직하다.A protective layer 30 is formed on the entire surface of the base film 15 so as to cover the photo-thermal conversion pattern 10a. The protective layer 30 is formed of a material including an acrylic-based and urethane-based organic binder and a binder. The thickness of the protective layer 30 is preferably 2 탆 to 3 탆 and is preferably formed of a material having heat resistance of 200 캜 or more.

상기와 같은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름은 마스크를 구비하지 않고도 레이저 열 전사 필름의 광 열 변환 패턴(10a)을 따라 유기물질을 전사할 수 있다. 특히, 일반적인 레이저 열 전사 필름은 광 열 변환층이 베이스 필름의 전면에 형성되므로, 광 열 변환층 중 레이저에 의해 팽창되는 영역과 팽창되지 않는 영역에 대한 경계가 모호하다. 그러나, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름은 유기물질을 전사하기 위한 영역에만 대응되도록 광 열 변환 패턴(10a)을 형성하고, 레이저에 의해 부분적으로 형성된 광 열 변환 패턴(10a)이 팽창되므로, 유기물질을 정밀하게 전사할 수 있다.The laser heat transfer film according to the second embodiment of the present invention can transfer an organic material along the light heat conversion pattern 10a of the laser heat transfer film without a mask. Particularly, in a general laser heat transfer film, since the photothermal conversion layer is formed on the entire surface of the base film, the boundary between the region expanded by the laser and the region not swollen out of the photothermal conversion layer is ambiguous. However, the laser heat transfer film according to the second embodiment of the present invention forms the light-to-heat conversion pattern 10a so as to correspond only to the region for transferring the organic material, and the light heat conversion pattern 10a, The organic material can be transferred precisely.

특히, 유기물질을 전사하고자 하는 영역에만 대응되도록 베이스 필름(15)에 광 열 변환 패턴(10a)을 형성하므로, 광 열 변환 물질의 양을 최소화하여 제조 비용을 절감할 수 있다. In particular, since the light-to-heat conversion pattern 10a is formed on the base film 15 so as to correspond only to the region to which the organic material is to be transferred, the amount of the photo-thermal conversion material can be minimized, thereby reducing the manufacturing cost.

이하, 상기와 같은 레이저 열 전사 필름을 이용하는 유기 발광 다이오드 표시 장치의 제조 방법을 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a method of manufacturing the organic light emitting diode display using the laser heat transfer film will be described in detail.

도 3a 내지 도 3f는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름을 이용하는 유기 발광 다이오드 표시 장치의 공정 단면도이다.3A to 3F are process cross-sectional views of an organic light emitting diode display device using a laser induced thermal imaging film according to a first embodiment of the present invention.

먼저, 도 3a와 같이, 복수 개의 화소 영역 각각에 박막 트랜지스터(미도시)가 형성된 기판(100) 상에 유기 발광 다이오드의 양극(Anode)으로 기능하는 제 1 전극(110)을 형성한다. 제 1 전극(110)은 각 화소 영역마다 형성되어 박막 트랜지스터와 접속된다.First, as shown in FIG. 3A, a first electrode 110 serving as an anode of an organic light emitting diode is formed on a substrate 100 on which a plurality of pixel regions are formed with thin film transistors (not shown). The first electrode 110 is formed for each pixel region and connected to the thin film transistor.

제 1 전극(110)은 틴 옥사이드(Tin Oxide: TO), 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide: ITO), 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide: IZO), 인듐 틴 징크 옥사이드(Indium Tin Zinc Oxide: ITZO) 등과 같은 투명 전도성 물질로 형성된다. 이 경우, 유기 발광 다이오드에서 방출되는 광은 기판(100)을 통해 외부로 방출된다. The first electrode 110 may include at least one selected from the group consisting of Tin Oxide (TO), Indium Tin Oxide (ITO), Indium Zinc Oxide (IZO), Indium Tin Zinc Oxide (ITZO) And the like. In this case, the light emitted from the organic light emitting diode is emitted to the outside through the substrate 100.

이어, 도 3b와 같이, 제 1 전극(110)의 일부 영역을 노출시키는 뱅크홀(120a)을 갖는 뱅크 절연막(120)을 형성한다. 뱅크 절연막(120)은 발광 영역을 제외한 영역에서 빛 샘이 발생하는 것을 방지한다.Next, as shown in FIG. 3B, a bank insulating film 120 having a bank hole 120a exposing a part of the first electrode 110 is formed. The bank insulating film 120 prevents the generation of light spots in a region other than the light emitting region.

뱅크홀(120a)을 통해 노출된 제 1 전극(110) 상에 유기 발광층을 형성하기 위해, 도 3c와 같이, 기판(100) 상에 레이저 열 전사 필름을 위치시킨다. 레이저 열 전사 필름은 베이스 필름(15), 베이스 필름(15)의 양 측면 중 적어도 한 측면에 형성된 반사 패턴(25a), 베이스 필름(15) 전면에 형성된 광 열 변환층(10) 및 광 열 변환층(10) 상에 형성된 보호층(30)을 포함한다. 도면에서는 반사 패턴(25a)이 베이스 필름(15)의 하부면에만 형성된 것을 도시하였다.In order to form the organic light emitting layer on the first electrode 110 exposed through the bank hole 120a, the laser heat transfer film is placed on the substrate 100 as shown in FIG. The laser heat transfer film has a base film 15, a reflection pattern 25a formed on at least one side of both sides of the base film 15, a light-to-heat conversion layer 10 formed on the entire surface of the base film 15, And a protective layer (30) formed on the layer (10). The figure shows that the reflection pattern 25a is formed only on the lower surface of the base film 15. [

그리고, 보호층(30) 상에 유기물질(130)을 도포한다. 유기물질(130)은 상술한 바와 같이, 유기 발광층을 형성하기 위한 것일 수도 있으며, 정공 수송층(Hole Transport Layer; HTL), 정공 주입층(Hole Injection Layer; HIL)과 같은 정공 기능층 또는 전자 수송층(Electron Transport Layer; ETL), 전자 주입층(Electron Injection Layer; EIL)과 같은 전자 기능층을 형성하기 위한 것일 수도 있다. Then, the organic material 130 is applied on the protective layer 30. [ The organic material 130 may be one for forming an organic light emitting layer or a hole transporting layer such as a hole transport layer (HTL), a hole injection layer (HIL), or an electron transporting layer An electron transport layer (ETL), and an electron injection layer (EIL).

레이저 열 전사 필름의 상부면에 레이저 조사 장치를 위치시키고, 레이저 열 전사 필름의 베이스 필름(15)에 레이저를 조사하면, 도 3d와 같이, 반사 패턴(25a)이 형성되지 않은 영역에만 레이저가 투과된다. 특히, 레이저의 파장은 808nm, 980nm, 1064nm 중 선택되며, 광 열 변환층(10)은 808nm, 980nm, 1064nm의 파장을 갖는 레이저를 흡수하여 열로 바꾸는 물질인 것이 바람직하다.When the laser irradiation device is placed on the upper surface of the laser heat transfer film and the base film 15 of the laser heat transfer film is irradiated with a laser beam, only the region where the reflection pattern 25a is not formed is transmitted do. Particularly, the wavelength of the laser is selected from among 808 nm, 980 nm and 1064 nm, and the photo-thermal conversion layer 10 is preferably a material which absorbs laser having wavelengths of 808 nm, 980 nm and 1064 nm and converts it into heat.

베이스 필름(15)을 통과하여 광 열 변환층(10)으로 조사된 레이저는 광 열 변환층(10)을 팽창시킨다. 이로 인해, 광 열 변환층(10) 상에 형성된 유기물질(130) 중 광 열 변환층(10)이 팽창된 영역에 대응되는 영역만 기판(100)의 제 1 전극(110) 상, 구체적으로는 뱅크홀 내부에 전사되어, 도 3e와 같이, 유기막 패턴(130a)이 형성된다. 유기막 패턴(130)은 유기 발광층, 정공 기능층, 전자 기능층으로 이루어진 군에서 선택된 단층막 또는 다층막이며, 도면에서는 유기막 패턴(130)이 단층의 유기 발광층인 것을 도시하였다. The laser beam passed through the base film 15 and irradiated onto the photo-thermal conversion layer 10 expands the photo-thermal conversion layer 10. Only the region of the organic material 130 formed on the photonic conversion layer 10 corresponding to the expanded region of the photothermal conversion layer 10 is exposed on the first electrode 110 of the substrate 100, Is transferred to the inside of the bank hole, and an organic film pattern 130a is formed as shown in Fig. 3E. The organic film pattern 130 is a single layer or multilayer film selected from the group consisting of an organic light emitting layer, a hole functional layer, and an electron functional layer, and the organic film pattern 130 is a single organic light emitting layer.

그리고, 도 3f와 같이, 유기막 패턴(130a)을 포함한 뱅크 절연막(120) 상에 제 2 전극(140)을 형성한다. 제 2 전극(140)은 음극(Cathode)으로 알루미늄(Al)과 같은 반사성 금속 재질로 형성되어, 유기막 패턴(130a)에서 방출되는 광을 제 1 전극(110) 방향으로 반사시킨다.3F, the second electrode 140 is formed on the bank insulating film 120 including the organic film pattern 130a. The second electrode 140 is a cathode and is formed of a reflective metal such as aluminum to reflect the light emitted from the organic layer pattern 130a toward the first electrode 110.

상기와 같은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름을 이용하여 유기 발광 다이오드 표시 장치는 형성하는 경우, 레이저 열 전사 필름이 반사 또는 흡수 패턴을 포함하므로, 개구부를 갖는 마스크를 구비할 필요가 없다. 또한, 유기물질을 패턴의 정밀도가 향상되어, 고해상도 유기 발광 다이오드 표시 장치를 형성할 수 있다.In the case of forming the organic light emitting diode display device using the laser heat transfer film according to the first embodiment of the present invention as described above, since the laser heat transfer film includes a reflection or absorption pattern, it is necessary to provide a mask having an opening portion There is no. In addition, the pattern accuracy of the organic material is improved, and a high-resolution organic light emitting diode display device can be formed.

특히, 반사 또는 흡수 패턴이 흡수 패턴인 경우, 두께를 조절하여 광 열 변환 패턴의 팽창 정도를 조절할 수 있다. 즉, 일반적인 유기 발광 다이오드 표시 장치는 마스크의 개구부에 대응되는 영역에만 유기물질이 전사되고, 개구부에 대응되지 않은 영역에는 유기물질이 전사되지 않는다. 그러나, 본 발명은 반사 또는 흡수 패턴이 흡수 패턴인 경우, 흡수 패턴의 두께를 조절함으로써, 흡수 패턴에 대응되는 영역에 흡수 패턴이 형성되지 않은 영역보다 두께가 얇은 유기물질을 전사할 수 있다.In particular, when the reflection or absorption pattern is an absorption pattern, the degree of expansion of the light-heat conversion pattern can be adjusted by adjusting the thickness. That is, in a general organic light emitting diode display device, an organic material is transferred only to a region corresponding to an opening portion of a mask, and an organic material is not transferred to a region not corresponding to the opening portion. However, according to the present invention, when the reflection or absorption pattern is an absorption pattern, the thickness of the absorption pattern can be adjusted so that the organic material having a thinner thickness than the region where the absorption pattern is not formed can be transferred to the region corresponding to the absorption pattern.

도 4a 내지 도 4d는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름을 이용하는 유기 발광 다이오드 표시 장치의 공정 단면도이다.4A to 4D are process cross-sectional views of an organic light emitting diode display device using a laser induced thermal imaging film according to a second embodiment of the present invention.

먼저, 도 4a와 같이, 복수 개의 화소 영역 각각에 형성된 박막 트랜지스터(미도시), 각 화소 영역마다 형성되어 박막 트랜지스터와 접속되며, 유기 발광 다이오드의 양극(Anode)으로 기능하는 제 1 전극(110) 및 제 1 전극(110)의 일부 영역을 노출시키는 뱅크홀(120a)을 갖는 뱅크 절연막(120)이 형성된 기판(100) 상에 레이저 열 전사 필름을 위치시킨다. 이 때, 레이저 열 전사 필름은 홈을 갖는 베이스 필름(15), 홈 내에 채워져 형성된 광 열 변환 패턴(10a) 및 광 열 변환 패턴(10a)을 덮도록 베이스 필름(15) 상에 형성된 보호층(30)을 포함한다.First, as shown in FIG. 4A, a thin film transistor (not shown) formed in each of a plurality of pixel regions, a first electrode 110 formed in each pixel region and connected to the thin film transistor, and serving as an anode of the organic light emitting diode, And a bank insulating layer 120 having a bank hole 120a for exposing a part of the first electrode 110 are formed. At this time, the laser heat transfer film is formed on the base film 15 having the grooves, the light-to-heat conversion pattern 10a formed by filling the grooves, and the protective layer (not shown) formed on the base film 15 30).

그리고, 보호층(30) 상에 유기물질(130)을 도포한다. 유기물질(130)은 상술한 바와 같이, 유기 발광층을 형성하기 위한 것일 수도 있으며, 정공 수송층(Hole Transport Layer; HTL), 정공 주입층(Hole Injection Layer; HIL)과 같은 정공 기능층 또는 전자 수송층(Electron Transport Layer; ETL), 전자 주입층(Electron Injection Layer; EIL)과 같은 전자 기능층을 형성하기 위한 것일 수도 있다.Then, the organic material 130 is applied on the protective layer 30. [ The organic material 130 may be one for forming an organic light emitting layer or a hole transporting layer such as a hole transport layer (HTL), a hole injection layer (HIL), or an electron transporting layer An electron transport layer (ETL), and an electron injection layer (EIL).

레이저 열 전사 필름의 상부면에 레이저 조사 장치를 위치시키고, 레이저 열 전사 필름의 베이스 필름(15)에 레이저를 조사하면, 도 4b와 같이, 베이스 필름(15)의 전면에 레이저가 조사된다. 특히, 레이저의 파장은 808nm, 980nm, 1064nm 중 선택되며, 광 열 변환 패턴(10a)은 808nm, 980nm, 1064nm의 파장을 갖는 레이저를 흡수하여 열로 바꾸는 물질인 것이 바람직하다.When the laser irradiation device is placed on the upper surface of the laser heat transfer film and the base film 15 of the laser heat transfer film is irradiated with a laser, the entire surface of the base film 15 is irradiated with a laser, as shown in FIG. Particularly, the wavelength of the laser is selected from 808 nm, 980 nm and 1064 nm, and the light-to-heat conversion pattern 10a is preferably a material which absorbs laser beams having wavelengths of 808 nm, 980 nm and 1064 nm and converts them into heat.

그리고, 부분적으로 형성된 광 열 변환 패턴(10a)이 팽창된다. 이로 인해, 광 열 변환 패턴(10a) 상에 형성된 유기물질(130) 중 광 열 변환 패턴(10a)이 형성된 영역에 대응되는 영역만 기판(100)의 제 1 전극(110) 상, 구체적으로는 뱅크홀 내부에 전사된다.Then, the partially formed photo-thermal conversion pattern 10a is expanded. Therefore, only the region of the organic material 130 formed on the photonic thermal conversion pattern 10a corresponding to the region where the photo-thermal conversion pattern 10a is formed is formed on the first electrode 110 of the substrate 100, And transferred into the bank holes.

이로써, 도 4c와 같이, 유기막 패턴(130a)이 형성된다. 유기막 패턴(130)은 유기 발광층, 정공 기능층, 전자 기능층으로 이루어진 군에서 선택된 단층막 또는 다층막이며, 도면에서는 유기막 패턴(130)이 단층의 유기 발광층인 것을 도시하였다.As a result, an organic film pattern 130a is formed as shown in FIG. 4C. The organic film pattern 130 is a single layer or multilayer film selected from the group consisting of an organic light emitting layer, a hole functional layer, and an electron functional layer, and the organic film pattern 130 is a single organic light emitting layer.

그리고, 도 4d와 같이, 유기막 패턴(130a)을 포함한 뱅크 절연막(120) 상에 제 2 전극(140)을 형성한다. 제 2 전극(140)은 음극(Cathode)으로 알루미늄(Al)과 같은 반사성 금속 재질로 형성되어, 유기막 패턴(130a)에서 방출되는 광을 제 1 전극(110) 방향으로 반사시킨다.4D, a second electrode 140 is formed on the bank insulating film 120 including the organic film pattern 130a. The second electrode 140 is a cathode and is formed of a reflective metal such as aluminum to reflect the light emitted from the organic layer pattern 130a toward the first electrode 110.

상기와 같은, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 레이저 열 전사 필름을 이용하여 유기 발광 다이오드 표시 장치는 형성하는 경우, 레이저 열 전사 필름에 형성된 광 열 변환 패턴에 대응되는 영역에만 유기물질이 전사된다. 따라서, 개구부를 갖는 마스크를 구비할 필요가 없다.In the case of forming the organic light emitting diode display device using the laser heat transfer film according to the second embodiment of the present invention, the organic material is transferred only to the region corresponding to the light heat conversion pattern formed on the laser heat transfer film . Therefore, it is not necessary to provide a mask having an opening.

일반적으로, 레이저 열 전사 필름을 이용하여 유기물질을 전사하는 경우, 레이저를 출력하는 광원과 레이저 열 전사 필름 사이에 개구부를 갖는 마스크를 위치시켜, 개구부에 대응되는 영역에만 레이저가 조사되고, 개구부에 대응되지 않는 영역의 레이저는 차단된다.Generally, when an organic material is transferred using a laser heat transfer film, a mask having an opening between the light source for outputting the laser and the laser heat transfer film is placed, and only the region corresponding to the opening is irradiated with laser, The laser of the unmatched region is cut off.

즉, 레이저의 출력 중 일부만이 레이저 열 전사 필름에 도달하게 되므로 불필요한 전력 소모가 발생된다. 더욱이, 광 열 변환층이 베이스 필름 전면에 형성되므로, 광 열 변환층은 개구부에 대응되는 영역뿐만 아니라, 주변부까지 팽창되어 팽창되는 영역과 팽창되지 않는 영역에 대한 경계가 불명확하다. 따라서, 원하지 않는 영역에도 유기물질이 전사되는 문제가 발생한다.That is, since only a part of the output of the laser reaches the laser heat transfer film, unnecessary power consumption occurs. Further, since the photothermal conversion layer is formed on the entire surface of the base film, the photothermal conversion layer is not bound to the region corresponding to the opening but also the region expanded and expanded to the peripheral portion and the region not expanding. Therefore, there is a problem that the organic material is transferred to an undesired area.

그러나, 본 발명의 유기 발광 다이오드 표시 장치의 제조 방법은 베이스 필름(15) 전면에 레이저가 투과되므로, 불필요한 전력 소모를 방지할 수 있다. 특히, 유기물질을 전사하고자 하는 영역에만 광 열 변환 패턴이 형성되므로, 유기물질의 전사 불량을 방지하여 유기물질을 패턴의 정밀도가 향상되어, 고해상도 유기 발광 다이오드 표시 장치를 형성할 수 있다. 동시에 광 열 변환 물질의 양을 최소화하여 제조 비용을 절감할 수 있다. However, since the laser is transmitted to the entire surface of the base film 15, unnecessary power consumption can be prevented in the manufacturing method of the organic light emitting diode display device of the present invention. Particularly, since a photothermal conversion pattern is formed only in a region to which an organic material is to be transferred, defective transfer of the organic material is prevented, and the pattern accuracy of the organic material is improved, so that a high-resolution organic light emitting diode display device can be formed. At the same time, the amount of the photo-thermal conversion material can be minimized, and manufacturing cost can be reduced.

특히, 본 발명의 유기 발광 표시 장치의 유기막 패턴은 각 화소 영역마다 상이한 면적을 갖도록 형성될 수 있으며, 이 경우, 반사 또는 흡수 패턴 및 광 열 변환 패턴의 크기 또는 형태의 변경이 가능하다.In particular, the organic film pattern of the organic light emitting display of the present invention may be formed to have a different area for each pixel region. In this case, the size or shape of the reflection or absorption pattern and the light conversion pattern may be changed.

한편, 이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be the most practical and preferred embodiment, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. Will be apparent to those of ordinary skill in the art.

10: 광 열 변환층 10a: 광 열 변환 패턴
15: 베이스 필름 25: 반사 또는 흡수 패턴
25a: 반사 패턴 30: 보호층
100: 기판 110: 제 1 전극
120: 뱅크 절연막 120a: 뱅크홀
130: 유기물질 130a: 유기막 패턴
140: 제 2 전극
10: Photothermal conversion layer 10a: Photothermal conversion pattern
15: base film 25: reflection or absorption pattern
25a: reflection pattern 30: protective layer
100: substrate 110: first electrode
120: bank insulating film 120a: bank hole
130: organic material 130a: organic film pattern
140: Second electrode

Claims (12)

레이저가 조사되는 제1면 및 상기 제1면에 대향되는 제2면을 구비한 베이스 필름;
상기 베이스 필름의 제1면에 형성되거나, 상기 베이스 필름의 제1면 및 제2면 모두에 형성되는 흡수 패턴;
상기 베이스 필름의 제2면의 전면에 형성되고, 광 열 변환 물질의 안료 또는 염료와 바인더의 혼합 물질로 구성되어, 상기 안료 또는 염료가 레이저로부터 조사된 광을 열로 바꾸고, 상기 안료 또는 염료에 의해 열을 전달받은 상기 바인더가 팽창되는 광 열 변환층; 및
상기 광 열 변환층 상에 아크릴계 및 우레탄계의 유기 바인더 및 결합제를 포함하는 물질로 형성된 보호층을 포함하고,
상기 흡수 패턴은 카본, 감광성 컬러 안료, 감광성 컬러 염료, 흑색 수지 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 유기물질로 형성되거나, 산화철, 산화크롬 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 무기물질로 형성되며,
상기 보호층의 두께는 2㎛ 내지 3㎛이며, 200℃ 이상의 내열성을 갖는 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 필름.
A base film having a first surface irradiated with a laser and a second surface opposed to the first surface;
An absorption pattern formed on the first surface of the base film or formed on both the first and second surfaces of the base film;
A pigment or dye of a photothermal conversion material formed on the entire surface of the second surface of the base film and a mixed material of a dye and a binder such that the pigment or dye converts the light irradiated from the laser to heat, A photo-thermal conversion layer in which the binder that has been transferred with heat is expanded; And
And a protective layer formed of a material including an acrylic and urethane based organic binder and a binder on the photo-thermal conversion layer,
Wherein the absorption pattern is formed of an organic material containing at least one selected from carbon, a photosensitive color pigment, a photosensitive color dye and a black resin, or formed of an inorganic material containing at least one selected from iron oxide and chromium oxide,
Wherein the protective layer has a thickness of 2 탆 to 3 탆 and is formed of a material having heat resistance of 200 캜 or more.
삭제delete 삭제delete 홈을 갖는 베이스 필름;
상기 홈 내에 채워지고, 광 열 변환 물질의 안료 또는 염료와 바인더의 혼합 물질로 구성되어, 상기 안료 또는 염료가 레이저로부터 조사된 광을 열로 바꾸고, 상기 안료 또는 염료에 의해 열을 전달받은 상기 바인더가 팽창되는 광 열 변환 패턴; 및
상기 광 열 변환 패턴을 덮도록 상기 베이스 필름 상에 아크릴계 및 우레탄계의 유기 바인더 및 결합제를 포함하는 물질로 형성된 보호층을 포함하고,
상기 베이스 필름의 두께는 75㎛ 내지 125㎛이고, 상기 홈은 2㎛ 내지 3㎛의 두께를 갖으며, 상기 광 열 변환 패턴은 2㎛ 내지 3㎛의 두께로 형성되고, 상기 보호층의 두께는 2㎛ 내지 3㎛이며, 200℃ 이상의 내열성을 갖는 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 필름.
A base film having grooves;
A pigment or dye of the photothermal conversion material and a mixed material of a binder and a binder, wherein the pigment or the dye converts the light irradiated from the laser into heat, and the binder, which has received heat by the pigment or the dye, A light heat conversion pattern to be expanded; And
And a protective layer formed on the base film so as to cover the photo-thermal conversion pattern, the material including an acrylic-based and urethane-based organic binder and a binder,
Wherein the base film has a thickness of 75 to 125 탆, the groove has a thickness of 2 to 3 탆, the photo-thermal conversion pattern has a thickness of 2 to 3 탆, 2 탆 to 3 탆, and is formed of a material having heat resistance of 200 캜 or more.
제 4 항에 있어서,
상기 홈은 삼각형 또는 사각형의 단면을 갖는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 필름.
5. The method of claim 4,
Wherein the groove has a triangular or quadrangular cross section.
화소 영역마다 형성된 박막 트랜지스터, 상기 각 화소 영역에 형성되어 박막 트랜지스터와 접속된 제 1 전극 및 상기 제 1 전극의 일부 영역을 노출시키는 뱅크홀을 갖는 뱅크 절연막이 형성된 기판을 준비하는 단계;
레이저가 조사되는 제1면 및 상기 제1면에 대향되는 제2면을 구비한 베이스 필름, 상기 베이스 필름의 제1 면에 형성되거나, 상기 베이스 필름의 제1면 및 제2면 모두에 형성되는 흡수 패턴, 상기 베이스 필름의 제1 면의 전면에 형성되고, 광 열 변환 물질의 안료 또는 염료와 바인더의 혼합 물질로 구성되어, 상기 안료 또는 염료가 레이저로부터 조사된 광을 열로 바꾸고, 상기 안료 또는 염료에 의해 열을 전달받은 상기 바인더가 팽창되는 광 열 변환층 및 상기 광 열 변환층 상에 아크릴계 및 우레탄계의 유기 바인더 및 결합제를 포함하는 물질로 형성된 보호층을 포함하고, 상기 흡수 패턴은 카본, 감광성 컬러 안료, 감광성 컬러 염료, 흑색 수지 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 유기물질로 형성되거나, 산화철, 산화크롬 중 선택된 적어도 하나를 포함하는 무기물질로 형성되며, 상기 보호층의 두께는 2㎛ 내지 3㎛이며, 200℃ 이상의 내열성을 갖는 물질로 형성되는 레이저 열 전사 필름의 상기 보호층 상에 유기물질을 도포하고, 상기 유기물질이 상기 기판을 향하도록 상기 레이저 열 전사 필름을 상기 기판 상에 위치시키는 단계; 및
상기 베이스 필름의 제1 면에서 레이저를 조사하여, 상기 유기물질을 상기 뱅크홀에 전사하여 유기막 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 다이오드 표시 장치의 제조 방법.
Preparing a substrate on which a thin film transistor formed in each pixel region, a first electrode connected to the thin film transistor formed in each pixel region, and a bank insulating film having a bank hole exposing a partial region of the first electrode are formed;
A base film having a first surface irradiated with a laser and a second surface opposed to the first surface, and a second film formed on the first surface of the base film or formed on both the first surface and the second surface of the base film An absorption pattern formed on the entire surface of the first surface of the base film and composed of a pigment or dye of a photo-thermal conversion material and a mixed material of a binder, the pigment or dye changing the light irradiated from the laser to heat, And a protective layer formed of a material including an acrylic and urethane-based organic binder and a binder on the photo-thermal conversion layer, the photo-thermal conversion layer on which the binder that has been heat-transferred by the dye is expanded, A photosensitive color pigment, a photosensitive color dye, and a black resin, or may be formed of an organic material containing at least one selected from iron oxide and chromium oxide. Wherein the protective layer has a thickness of 2 탆 to 3 탆 and is coated with an organic material on the protective layer of a laser heat transfer film formed of a material having a heat resistance of 200 캜 or more, Positioning the laser heat transfer film on the substrate to face the substrate; And
And irradiating a laser on the first surface of the base film to transfer the organic material to the bank hole to form an organic film pattern.
제 6 항에 있어서,
상기 유기막 패턴은 유기 발광층, 정공 기능층, 전자 기능층으로 이루어진 군에서 선택된 단층막 또는 다층막인 것을 특징으로 하는 유기 발광 다이오드 표시 장치의 제조 방법.
The method according to claim 6,
Wherein the organic film pattern is a single layer film or a multilayer film selected from the group consisting of an organic light emitting layer, a hole function layer, and an electron functional layer.
삭제delete 삭제delete 화소 영역마다 형성된 박막 트랜지스터, 상기 각 화소 영역에 형성되어 박막 트랜지스터와 접속된 제 1 전극 및 상기 제 1 전극의 일부 영역을 노출시키는 뱅크홀을 갖는 뱅크 절연막이 형성된 기판을 준비하는 단계;
홈을 갖는 베이스 필름, 상기 홈 내에 채워지고, 광 열 변환 물질의 안료 또는 염료와 바인더의 혼합 물질로 구성되어, 상기 안료 또는 염료가 레이저로부터 조사된 광을 열로 바꾸고, 상기 안료 또는 염료에 의해 열을 전달받은 상기 바인더가 팽창되는 광 열 변환 패턴 및 상기 광 열 변환 패턴을 덮도록 상기 베이스 필름 상에 아크릴계 및 우레탄계의 유기 바인더 및 결합제를 포함하는 물질로 형성된 보호층을 포함하고, 상기 베이스 필름의 두께는 75㎛ 내지 125㎛이고, 상기 홈은 2㎛ 내지 3㎛의 두께를 갖으며, 상기 광 열 변환 패턴은 2㎛ 내지 3㎛의 두께로 형성되고, 상기 보호층의 두께는 2㎛ 내지 3㎛이며, 200℃ 이상의 내열성을 갖는 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 필름의 상기 보호층 상에 유기물질을 도포하고, 상기 유기물질이 상기 기판을 향하도록 상기 레이저 열 전사 필름을 상기 기판 상에 위치시키는 단계; 및
상기 베이스 필름 상에서 레이저를 조사하여, 상기 유기물질을 상기 뱅크홀에 전사하여 유기막 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 다이오드 표시 장치의 제조 방법.
Preparing a substrate on which a thin film transistor formed in each pixel region, a first electrode connected to the thin film transistor formed in each pixel region, and a bank insulating film having a bank hole exposing a partial region of the first electrode are formed;
A base film having grooves, a pigment of the photo-thermal conversion material or a mixed material of a dye and a binder, which is filled in the groove, the pigment or dye changes the light irradiated from the laser to heat, And a protective layer formed on the base film so as to cover the photo-thermal conversion pattern and the acrylic and urethane-based organic binder and the binder, wherein the binder has been inflated, Wherein the groove has a thickness of 2 탆 to 3 탆, the photonic thermal conversion pattern is formed to a thickness of 2 탆 to 3 탆, and the thickness of the protective layer is 2 탆 to 3 탆, and is formed of a material having heat resistance of 200 캜 or more. The organic EL device according to claim 1, wherein the organic material is applied on the protective layer of the laser heat transfer film, Positioning the laser induced thermal imaging film on the substrate so as to face the substrate; And
And irradiating a laser beam onto the base film to transfer the organic material to the bank holes to form an organic film pattern.
제 10 항에 있어서,
상기 유기막 패턴은 유기 발광층, 정공 기능층, 전자 기능층으로 이루어진 군에서 선택된 단층막 또는 다층막인 것을 특징으로 하는 유기 발광 다이오드 표시 장치의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the organic film pattern is a single layer film or a multilayer film selected from the group consisting of an organic light emitting layer, a hole function layer, and an electron functional layer.
제 10 항에 있어서,
상기 홈은 삼각형 또는 사각형의 단면을 갖는 것을 특징으로 하는 유기 발광 다이오드 표시 장치의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the groove has a triangular or quadrangular cross section. ≪ RTI ID = 0.0 > 11. < / RTI >
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KR100759685B1 (en) * 2005-09-08 2007-09-17 삼성에스디아이 주식회사 Transcription Element For Laser Induced Thermal Imaging Method and light emission device and Manufacturing Method using the same
KR20090071111A (en) * 2007-12-27 2009-07-01 엘지디스플레이 주식회사 Transfer substrate and method of manufacturing organic light emitting diode display device using the same
KR101579872B1 (en) * 2008-04-29 2015-12-24 삼성디스플레이 주식회사 Transfer substrate method of manufacturing the same and method of manufacturing organic electric filed emitting element
KR101097308B1 (en) * 2009-04-30 2011-12-23 삼성모바일디스플레이주식회사 Organic light display apparatus

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