KR101985894B1 - 터치 스크린 패널 및 그의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 터치 스크린 패널 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 다수의 제 1 전극패턴 및 다수의 제 2 전극패턴으로 이루어지는 전극부와; 제 1 라우팅 배선 및 제 2 라우팅 배선으로 이루어지는 라우팅 배선부와; 제 1 패드전극 및 제 2 패드전극을 포함하는 패드부를 포함하며, 상기 다수의 제 1 전극패턴 상부에는 메쉬 구조인 메쉬금속 패턴이 형성되며, 상기 제 1 라우팅 배선은 투명 전극 재질의 라우팅 배선 패턴과 저저항 금속 재질의 금속배선 패턴으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

Description

터치 스크린 패널 및 그의 제조방법{TOUCH SCREEN PANEL AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}
터치 스크린 패널 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 얼라인 공정 에러를 개선하기 위한 터치 스크린 패널 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
최근 정보화 사회가 발전함에 따라 디스플레이 분야에 대한 요구도 다양한 형태로 증가하고 있으며, 이에 부응하여 박형화, 경량화, 저소비 전력화 등의 특징을 지닌 여러 평판 표시 장치(Flat Panel Display device), 예를 들어, 액정표시장치(Liquid Crystal Display device), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device), 전기발광표시장치(Electro Luminescent Display device) 등이 연구되고 있다.
그리고, 표시장치의 표시패널 상에 터치패널(touch panel)을 부착한 터치스크린이 각광받고 있다.
터치스크린은, 영상을 표시하는 출력수단으로 사용되는 동시에, 표시된 영상의 특정부위를 터치하여 사용자의 명령을 입력 받는 입력수단으로 사용되는 것으로, 위치정보 검출방식에 따라 저항막방식, 정전용량방식, 적외선방식, 초음파방식 등으로 구분될 수 있다.
즉, 사용자가 표시패널에 표시되는 영상을 보면서 터치패널을 터치하면, 터치패널은 해당 부위의 위치정보를 검출하고 검출된 위치정보를 영상의 위치정보와 비교하여 사용자의 명령을 인식할 수 있다.
도1및 도2는 종래의 터치 스크린 패널의 제조공정 중 메탈 패터닝 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다. 도2는 도1를 절단선 Ⅱ-Ⅱ'를 따라 절단한 부분에 대한 단면도를 개략적으로 도시한 도면이다.
종래의 터치 스크린 패널의 메탈 패터닝 공정에서는 도1및 도2에 도시한 바와 같이, 투명 기판(10) 상에 제 1 마스크 공정을 통해 다수의 연결 패턴(11)과 제 1 및 제 2 라우팅 배선(TL, RL)과 그리고, 제 1 및 제 2 패드전극(52, 54) 등이 형성된다.
이때, 다수의 연결 패턴(11)과 제 1 및 제 2 라우팅 배선(TL, RL)과 그리고, 제 1 및 제 2 패드전극(52, 54)은 동일 공정을 통해 투명 기판(10) 상에 형성되며, 예를 들어 알루미늄(Al), 구리(Cu) 등의 전도성이 우수한 금속으로 형성될 수 있다.
여기서, 다수의 연결 패턴(11)은 이후에 형성될 이웃하는 제 1 전극패턴들을 전기적으로 연결시키는 역할을 한다.
도3 및 도4는 종래의 터치 스크린 패널의 제조공정 중 절연막 패터닝 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다. 도4는 도3을 절단선 Ⅳ-Ⅳ'를 따라 절단한 부분에 대한 단면도를 개략적으로 도시한 도면이다.
종래의 터치 스크린 패널의 절연막 패터닝 공정에서는 도3 및 도4에 도시한 바와 같이, 제 2 마스크 공정을 통해 다수의 연결 패턴(11)과 제 1 및 제 2 라우팅 배선(TL, RL)과 그리고, 제 1 및 제 2 패드전극(52, 54) 상부에 전면적으로 절연막(20)이 형성된다.
이때, 절연막(20)에는 각각의 연결 패턴(11) 양단에 각각 대응되는 제 1 및 제 2 콘택홀(CH1, CH2)과 제 1 및 제 2 패드전극(52, 54)을 노출시키기 위한 개구부(OA)가 형성된다.
절연막(20)은 질화실리콘(SiNx) 등으로 이루어지며, 절연막(20)의 두께는 5,000Å~7,000Å인 것이 바람직하다.
도5 및 도6은 종래의 터치 스크린 패널의 제조공정 중 전극 패터닝 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다.
종래의 터치 스크린 패널의 전극 패터닝 공정에서는 도5 및 도6에 도시한 바와 같이, 제 3 마스크 공정을 통해 절연막(20) 상부에 다수의 제 1 전극패턴(12) 및 제 2 전극패턴(14)이 형성된다.
여기서, 제 1 전극패턴(12)은 서로 분리되어 형성되기 때문에 절연막(20)에 형성된 제 1 및 제 2 콘택홀(도4의 CH1, CH2)을 통해 연결 패턴(도1의 12)과 전기적으로 연결되며, 제 1 방향(가로방향)으로 나란하게 배열되어 제 1 전극열을 이룬다.
반면에, 다수의 제 2 전극패턴(14)은 동일한 물질로 이루어지는 연결 전극(16)을 통해 서로 연결되며, 제 2 방향(세로방향)으로 나란하게 배열되어 제 2 전극열을 이룬다.
이와 같이, 종래의 터치 스크린 패널은 전극부와 제 1 및 제 2 라우팅 배선(RL, TL)을 포함하는 라우팅 배선부 및 제 1 및 제 2 패드전극(52, 54)을 포함하는 패드부를 포함한다.
전극부는 예를 들어, 마름모 형상의 제 1 전극패턴(12) 및 제 2 전극패턴(14)을 포함할 수 있다.
그리고, 전극부에 형성되는 다수의 제 1 전극패턴(12) 및 제 2 전극패턴(14)과 다수의 연결 전극(16)은 동일 재료로 이루어지며, 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide)일 수 있다.
라우팅 배선부는 전극부의 외곽에 형성되며, 제 1 라우팅 배선(TL)은 제 1 전극패턴(12)과 제 1 패드전극(52)을 연결하고, 제 2 라우팅 배선(RL)은 제 2 전극패턴(14)과 제 2 패드전극(54)을 연결하는 역할을 한다.
종래의 터치 스크린 패널의 제조공정에서는 절연막 패터닝 공정 전과 전극 패터닝 공정 전에 두 번의 얼라인(Align) 공정이 필요했다.
한편, 최근에는 롤투롤 공정을 이용하여 PET 등의 플렉서블 기판 상에 터치 센서를 제작하는 공정이 개발되고 있다.
이때, 터치 스크린 패널의 전극부에 마름모 구조(Diamond 구조)의 전극패턴을 적용하면 제 1 및 제 2 전극패턴을 기판의 단면에 형성 가능하기 때문에, 플렉서블 기판 상에 터치 센서를 제작할 수 있는 장점이 있다.
그런데, 종래의 터치 스크린 패널에서의 제 1 전극패턴 및 제 2 전극패턴 사이의 간격은 5~10㎛이므로, 얼라인 공정 시 정밀함이 요구되었었다.
본 발명은, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 전극층과 절연층과 금속층을 동시에 증착하고 임프린팅 공정으로 통해 형성된 다단의 패턴을 이용하여 에싱 및 에칭 공정 등을 반복함에 따라 얼라인 공정 에러를 해결할 수 있는 터치 스크린 패널 및 그의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 터치 스크린 패널은, 다수의 제 1 전극패턴 및 다수의 제 2 전극패턴으로 이루어지는 전극부와; 제 1 라우팅 배선 및 제 2 라우팅 배선으로 이루어지는 라우팅 배선부와; 제 1 패드전극 및 제 2 패드전극을 포함하는 패드부를 포함하며, 상기 다수의 제 2 전극패턴 상부에는 메쉬 구조인 메쉬금속 패턴이 형성되며, 상기 제 1 라우팅 배선은 투명 전극 재질의 라우팅 배선 패턴과 저저항 금속 재질의 금속배선 패턴으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 다수의 제 1 전극패턴은 서로 상기 투명 전극 재질의 연결전극으로 연결되고, 상기 다수의 제 2 전극패턴은 브리지 패턴으로 연결될 수 있다.
그리고, 상기 브리지 패턴은 저저항 금속 재질의 브리지 금속패턴 및 상기 브리지 금속패턴 하부에 형성되는 브리지 절연패턴을 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 브리지 패턴과 상기 연결전극과의 교차영역에서는 상기 브리지 절연패턴 하부 중 상기 연결전극이 형성될 수 있다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 제조방법은, 투명 기판 상에 전극층과 절연층과 금속층을 증착하는 단계와; 임프린팅 공정을 통해 상기 금속층 상부에 제 1 내지 제 3 레진패턴을 형성하는 단계와; 상기 제 1 내지 제 3 레진패턴을 마스크로 하여 상기 금속층 및 상기 절연층 그리고 상기 금속층을 에칭하여 제 1 내지 제 3 금속 패턴과 제 1 내지 제 3 절연 패턴 그리고, 제 1 전극패턴 및 제 2 전극패턴과 라우팅 배선 패턴을 형성하는 단계와; 상기 제 1 레진패턴을 에싱하고 제 3 금속 패턴과 제 3 절연 패턴을 에칭하여 상기 라우팅 배선 패턴을 노출시키는 단계와; 상기 제 2 레진패턴 및 상기 제 3 레진패턴의 일부를 에싱하고 상기 제 2 금속 패턴을 에칭하여 브리지 금속패턴 및 메쉬금속 패턴을 형성하는 단계와; 상기 제 1 전극패턴 및 제 2 금속 패턴을 단선시키고 상기 제 1 절연 패턴 및 제 2 절연 패턴의 일부를 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 제 1 내지 제 3 레진패턴은 각각 높이가 상이할 수 있으며, 예를 들어, 제 1 레진패턴은 제 1 높이가 되도록 형성되고, 제 2 레진패턴은 제 1 높이 보다 높은 제 2 높이가 되도록 형성되며, 제 3 레진패턴은 제 2 높이의 일단과 제 4 높이인 2단으로 형성될 수 있다.
그리고, 제 1 내지 제 3 금속 패턴과 제 1 내지 제 3 절연 패턴 그리고, 제 1 전극패턴 및 제 2 전극패턴과 라우팅 배선 패턴을 형성하는 단계에서, 라우팅 배선부에는 상기 제 3 금속 패턴과 상기 제 3 절연 패턴과 상기 라우팅 배선 패턴이 형성되고, 전극부에는 상기 제 1 및 제 2 금속 패턴과 상기 제 1 및 제 2 절연 패턴과 상기 제 1 및 제 2 전극패턴이 형성되며, 상기 제 1전극패턴과 상기 제 2 전극패턴은 연결 전극패턴에 의해 서로 연결되는 것이 바람직하다.
한편, 상기 제 1 절연 패턴 및 제 2 절연 패턴의 일부를 에칭하는 단계에서, 상기 제 2 절연패턴의 일부를 에싱하여 상기 브리지 금속패턴 하부에 브리지 절연패턴을 형성할 수 있다.
그리고, 상기 제 1 전극패턴 및 제 2 금속 패턴을 단선시키는 단계에서, 상기 제 1전극패턴과 상기 제 2 전극패턴의 연결 전극패턴 일부를 제거하여 이웃하는 상기 제 1전극패턴을 연결하는 연결전극이 형성될 수 있다.
또한, 상기 라우팅 배선 패턴 상부에 금속배선 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널 및 그의 제조방법에서는, 전극층과 절연층과 금속층을 순차적으로 증착하고 임프린팅 공정을 통해 형성된 다단의 패턴을 이용하여 에싱 및 에칭 공정 등을 반복함에 따라 얼라인 공정 에러를 해결할 수 있다.
그리고, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널의 제조방법은 롤투롤 공정을 이용하여 Flexible 기판 상에 터치 센서 제작하는데 적합하다.
또한, 일 전극열을 형성하는 다수의 전극패턴에는 메탈 메쉬 구조를 적용함에 따라 전체저항을 줄여 터치 센서의 성능을 향상시킬 수 있다.
도1및 도2는 종래의 터치 스크린 패널의 제조공정 중 메탈 패터닝 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다.
도3 및 도4는 종래의 터치 스크린 패널의 제조공정 중 절연막 패터닝 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다.
도5 및 도6은 종래의 터치 스크린 패널의 제조공정 중 전극 패터닝 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다.
도7은 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널을 개략적으로 도시한 도면이다.
도8은 도7의 A부분을 확대한 확대도로, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널에서의 전극부를 설명하기 위해 참조되는 도면이다.
도9는 도8를 절단선 Ⅸ-Ⅸ'를 따라 절단한 부분에 대한 단면도를 개략적으로 도시한 도면이다.
도10은 도8를 절단선 Ⅹ-Ⅹ'를 따라 절단한 부분에 대한 단면도를 개략적으로 도시한 도면이다.
도11a 내지 도11f는 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 제조 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도7은 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널을 개략적으로 도시한 도면이고, 도8은 도7의 A부분을 확대한 확대도로, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널에서의 전극부를 설명하기 위해 참조되는 도면이다.
도7에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널은 전극부, 라우팅 배선부 및 제 1 패드전극(152) 및 제 2 패드전극(154)을 포함하는 패드부 등을 포함한다.
전극부는 예를 들어, 마름모 형상의 제 1 전극패턴(112) 및 제 2 전극패턴(114)을 포함할 수 있다.
여기서, 제 1 전극패턴(112)은 동일한 물질로 이루어지는 연결 전극(116)을 통해 서로 연결되며, 제 2 방향(세로방향)으로 나란하게 배열되어 제 1 전극열을 이룬다.
반면에, 다수의 제 2 전극패턴(114)은 서로 분리되어 형성되는데, 제 1 방향(가로방향)으로 나란하게 배열되고 브리지 패턴(BP)에 의해 연결되어 제 2 전극열을 이룬다.
그리고, 전극부에 형성되는 다수의 제 1 전극패턴(112) 및 제 2 전극패턴(114)과 다수의 연결 전극(116)은 동일 재료로 이루어지며, 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide)일 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널에 있어서, 제 2 전극패턴(114)의 상부에는 메쉬 구조의 메쉬금속 패턴(도8의 138)이 형성된다.
이를 자세히 설명하면, 도8에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널은 제 2 전극열을 이루는 다수의 제 2 전극패턴(114)의 상부에 메탈 메쉬 구조의 메쉬금속 패턴(138)을 형성하고 있다.
이때, 터치 스크린 패널을 구동하기 위한 신호들은 제 1 전극패턴(112) 및 메쉬금속 패턴(138)으로 각각 인가될 수 있다.
그런데, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널에서는 제 1 전극열 및 제 2 전극열 중에서 제 2 전극열의 길이가 더 길게 형성된다.
그 결과 길이가 긴 제 2 전극열을 이루는 다수의 제 2 전극패턴(114)에 의한 저항이 상대적으로 높다.
따라서, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널에서는 길이가 긴 제 2 전극열에 의한 저항을 차별적으로 낮추기 위해 다수의 제 2 전극패턴(114) 상부에 나노 메쉬 구조의 메쉬금속 패턴(138)을 형성하고 있다.
즉, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널은 길이가 긴 제 2 전극열을 이루는 다수의 전극패턴을 ITO 전극 대신에 나노 메쉬 구조의 메쉬금속 패턴을 형성함에 따라 전체저항을 감소시킬 수 있고, 그 결과 터치 스크린 패널의 성능도 향상시킬 수 있다.
다시 도7를 참조하면, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널의 라우팅 배선부는 전극부의 외곽에 형성되며, 제 1 라우팅 배선(TL) 및 제 2 라우팅 배선(RL)을 포함한다.
여기서, 제 1 라우팅 배선(TL)은 제 1 전극패턴(112)과 제 1 패드전극(152)을 연결하고, 제 2 라우팅 배선(RL)은 제 2 전극패턴(114)과 제 2 패드전극(154)을 연결하는 역할을 한다.
이때, 제 1 라우팅 배선(TL)은 ITO 배선패턴과 금속배선 패턴의 2단으로 형성될 수 있으며, 제 2 라우팅 배선(RL)은 ITO 배선패턴과 절연 배선 패턴 그리고 금속배선 패턴의 3단으로 형성될 수 있다.
그리고, 제 1 및 제 2 패드전극(152, 154)은 동일 공정을 통해 투명 기판 상에 형성되며, 예를 들어 알루미늄(Al), 구리(Cu) 등의 전도성이 우수한 금속으로 형성될 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널에서 제 1 라우팅 배선(TL)은 도금(Plating) 공정을 진행하여 라우팅 배선 패턴 상에 금속배선 패턴을 형성할 수 있다. 이는 도11d에서 자세히 설명하기로 한다.
여기서는 제 1 라우팅 배선(TL)에 도금(Plating) 공정을 진행하는 것을 예를 들어 설명하나, 이에 한정되지 아니하고, 제 2 라우팅 배선(RL)에서 도금(Plating) 공정을 진행할 수도 있다.
그리고, 전극부에 형성되는 다수의 제 1 전극패턴(112) 및 제 2 전극패턴(114)과 다수의 연결 전극(116)은 동일 재료로 이루어지며, 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide)일 수 있다.
도9는 도8를 절단선 Ⅸ-Ⅸ'를 따라 절단한 부분에 대한 단면도를 개략적으로 도시한 도면이고, 도10은 도8를 절단선 Ⅹ-Ⅹ'를 따라 절단한 부분에 대한 단면도를 개략적으로 도시한 도면이다.
도9에 도시한 바와 같이, 투명 기판(110) 상에 제 1 전극패턴(112)이 형성되어 있고, 제 1 전극패턴(112)와 상이한 층에 브리지 절연패턴(126) 및 브리지 금속패턴(136)으로 구성되는 브리지 패턴(BP)이 형성되어 있다.
여기서, 절단선 Ⅸ-Ⅸ'를 따라 절단한 부분에서 브리지 패턴(BP)의 브리지 절연패턴(126)의 하부에는 제 1 전극패턴(112)과 동일한 층에 ITO 전극이 형성되지 않는다.
반면에, 도10에 도시한 바와 같이, 절단선 Ⅹ-Ⅹ'를 따라 절단한 부분에서 브리지 패턴(BP)의 브리지 절연패턴(126)의 하부에는 ITO 전극인 연결 전극(116)이 형성되어 있다.
다시 말해서, 제 1 전극패턴(112)은 연결 전극(116)에 의해 연결되어 있고, 연결 전극(116)과 브리지 패턴(BP)이 교차하는 영역(제 1 영역)에는 브리지 패턴(BP) 하부에 ITO 전극이 형성된다.
그리고, 연결 전극(116)은 브리지 절연패턴(126)에 의해 브리지 금속패턴(136)과 절연된다.
반면에, 브리지 패턴(BP) 중에서 연결 전극(116)과 교차하는 영역을 제외한 영역(제 2 영역)에는 브리지 패턴(BP) 하부에 ITO 전극이 형성되지 않는다.
따라서, 제 2 전극패턴(도7의 114)은 서로 분리되어 형성되며, 브리지 패턴(BP)에 의해서 서로 연결된다.
결과적으로 이와 같은 구조의 본 발명에 따른 터치 스크린 패널에서는 동일한 층에 형성되는 제 1 전극패턴(112) 및 제 2 전극패턴(114)은 단선시키고, 제 1 전극패턴(112)은 동일한 층에 형성되는 연결 전극(116)에 연결시키고, 제 2 전극패턴(114)은 상이한 층에 형성되는 브리지 패턴(BP)에 의해 연결시킬 수 있다.
이와 같은 구조의 본 발명에 따른 터치 스크린 패널을 적용하면, 종래의 터치 스크린 패널에서 연결 패턴을 형성하고 절연막을 형성한 후 제 1 전극패턴 및 제 2 전극패턴을 형성하는 공정에서 각각 얼라인을 위한 과정을 제거할 수 있다.
이에 대해서는 이하의 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 제조 공정을 통해 자세히 설명하기로 한다.
도11a 내지 도11f는 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 제조 공정을 설명하기 위해 참조되는 도면이다. 도11a 내지 도11f에서 라우팅 배선부는 도7를 절단선 XI-XI'를 따라 절단한 부분에 대한 단면을 나타낸다.
먼저, 도11a에 도시한 바와 같이, 투명 기판(110) 상에 전극층(210)과 절연층(220)과 금속층(230)을 순차적으로 증착한다. 그리고 금속층(230) 상부에 레진층(미도시)을 도포한 후 임프린팅(Imprinting) 공정을 통해 제 1 내지 제 3 레진패턴(242, 244, 246)을 형성한다.
여기서, 투명 기판(110)은 플렉서블 재질의 플락스틱 기판일 수 있으며, 전극층(210)은 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide) 등의 투명 전극으로 이루어질 수 있다.
그리고, 절연층(220)은 질화실리콘(SiNx) 등으로 이루어질 수 있다.
또한, 금속층(230)은 예를 들어 알루미늄(Al), 구리(Cu) 등의 전도성이 우수한 금속으로 형성될 수 있다.
한편, 제 1 레진패턴(242)은 라우팅 배선부에 형성되며, 제 2 내지 제 3 레진패턴(244, 246)은 전극부에 형성될 수 있다.
그리고, 제 1 내지 제 3 레진패턴(242, 244, 246)은 각각 높이가 상이할 수 있으며, 예를 들어, 제 1 레진패턴(242)은 제 1 높이(h1)가 되도록 형성되고, 제 2 레진패턴(244)은 제 1 높이(h1) 보다 높은 제 2 높이(h2)가 되도록 형성될 수 있다.
그리고, 제 3 레진패턴(246)은 제 2 높이(h2)를 가지는 일단과 제 4 높이(h4)를 가지는 2단으로 형성될 수 있다. (h4=h3+h2)
다음으로, 도11b에 도시한 바와 같이, 제 1 내지 제 3 레진패턴(242, 244, 246)을 마스크로 하여 잔막을 에싱하는 에싱 공정과 금속 등을 에칭하는 에칭 공정을 수행할 수 있다.
에칭 공정시 금속층(230)과 절연층(220)과 전극층(210)이 순차적으로 제거될 수 있다.
그 결과 라우팅 배선부에는 제 3 금속 패턴(231)과 제 3 절연 패턴(221)과 라우팅 배선 패턴(211)이 형성되고, 전극부에는 제 1 금속 패턴(232)과 제 1 절연 패턴(222)과 제 1 전극패턴(212) 및 제 2 금속 패턴(234)과 제 2 절연 패턴(224)과 연결 전극패턴(214)이 형성될 수 있다.
이때, 제 1 전극패턴(112)과 제 2 전극패턴(114)은 연결 전극패턴(214)에 의해 서로 연결되어 있다.
도11c에 도시한 바와 같이, 레진패턴을 에싱하는 에싱공정을 진행하여 라우팅 배선부에서 제 1 높이(h1)인 제 1 레진패턴(242)을 제거할 수 있다.
그리고, 순차적으로 제 3 금속 패턴(231)과 제 3 절연 패턴(221)을 에칭할 수 있다.
이때, 레진패턴 에싱공정 시 전극부의 제 2 레진패턴(244)의 제 2 높이(h2)가 제 2 변경높이(h2')로 변경되고, 제 3 레진패턴(246)의 제 2 높이(h2) 및 제 4 높이(h4)가 각각 제 2 변경높이(h2') 및 제 4 변경높이(h4')로 변경될 수 있다. (h4'=h3'+h2')
도11d에 도시한 바와 같이, 라우팅 배선부에서는 도금(Plating) 공정을 진행하여 라우팅 배선 패턴(211) 상에 금속배선 패턴(223)을 형성할 수 있다.
즉, 제 1 라우팅 배선(TL)은 라우팅 배선 패턴(211)과 금속배선 패턴(223)의 2단으로 형성될 수 있다.
여기서는 라우팅 배선부에서 도금(Plating) 공정이 먼저 진행되는 것을 예를 들어 설명하지만 이에 한정되지 아니하고 이하에 설명하고 있는 전극부에서 메쉬 구조의 메쉬금속 패턴 및 브리지 패턴을 먼저 형성하고, 그 이후에 라우팅 배선부에서 도금(Plating) 공정이 진행되어도 무관하다.
한편, 도11e에 도시한 바와 같이, 전극부에서는 레진패턴을 에싱하는 에싱공정을 진행하여 제 2 변경높이(h2')인 제 2 레진패턴(244)을 제거할 수 있다.
그리고 나서, 제 1 금속 패턴(232) 및 제 2 금속 패턴(234)을 에칭할 수 있다.
이때, 제 3 레진패턴(246)의 제 2 변경높이(h2')의 일단은 제거되고, 제 4 변경높이(h4')가 줄어들어 h4''로 변경될 수 있다.
한편, 제 1 금속 패턴(232)은 전부 에칭되어 제 1 절연 패턴(222)을 노출시키고, 제 2 금속 패턴(234)은 일부 에칭되어 제 3 레진패턴(246)에 대응하는 브리지 금속패턴(236)이 형성될 수 있다.
그리고, 도시되지는 않았지만, 제 1 금속 패턴(232) 및 제 2 금속 패턴(234) 에칭 시 제 1 금속 패턴(232) 및 제 2 금속 패턴(234)과 동일한 층에 있으며 제 2 전극패턴(도7의 114)에 대응되는 금속 패턴(미도시)도 에칭될 수 있다.
그 결과 제 2 전극패턴(114)에 대응되는 금속 패턴은 나노 메쉬구조가 되도록 에칭되어 메쉬 구조의 메쉬금속 패턴(도7의 138)을 형성할 수 있다.
또한, 도시되지는 않았지만, 라우팅 배선부에서는 제 2 라우팅 배선(RL)을 형성될 수 있으며, 이때, 제 2 라우팅 배선(RL)은 ITO 배선패턴과 절연패턴 그리고 금속배선 패턴의 3단으로 형성될 수 있다.
그리고 나서, 도11f에 도시한 바와 같이, 제 1 절연 패턴(222)을 에칭하여 제 1 전극패턴(212)을 노출시키고, 제 3 레진패턴(246) 부근의 제 2 절연 패턴(224)의 일부 에칭하고 제 1 전극패턴(212) 및 제 2 전극패턴(도7의 114)을 단선시키도록 연결 전극패턴(214)의 일부를 에칭할 수 있다.
좀 더 자세히 설명하면, 제 3 레진패턴(246) 부근의 제 2 절연 패턴(224) 중 에칭되는 영역은 그 상부에 형성된 브리지 금속패턴(236)과 대응되는 부분을 제외한 영역이다.
그리고 나서 제 1 전극패턴(212) 및 제 2 전극패턴(114)을 단선시키기 위하여 제 1 전극패턴(212)과 제 2 전극패턴(114)을 연결하는 연결 전극패턴(214)의 일부를 Over Etch 방법에 의해 제거할 수 있다.
이때, 연결 전극패턴(214) 중 잔존하는 영역은 이웃하는 제 1 전극패턴(212)을 연결시키는 연결 전극(도7의116)이 될 수 있다.
이와 같은 제조방법에 의해 제조된 본 발명에 따른 터치 스크린 패널은 전극층과 절연층과 금속층을 순차적으로 증착하고 다수의 레진패턴을 이용하여 에싱 및 에칭 공정 등을 반복함에 따라 제 1 전극패턴과 제 2 전극패턴을 동시에 형성하기 때문에 별도의 얼라인 공정을 제거할 수 있어 얼라인 공정 시 발생하는 얼라인 에러를 방지할 수 있다.
그리고, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널의 제조방법은 롤투롤 공정을 이용하여 플렉서블 기판 상에 터치 센서 제작하는데 효과적일 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널은 일 전극열을 형성하는 다수의 전극패턴에 메탈 메쉬 구조를 적용함에 따라 전체저항을 줄여 터치 센서의 성능을 향상시킬 수 있다.
한편, 이와 같이 제조된 터치 스크린 패널은 유기발광 다이오드 표시장치 및 액정표시장치 등에 적용될 수 있다.
이상과 같은 본 발명의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 자유로운 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명의 보호범위는 첨부된 특허청구범위 및 이와 균등한 범위 내에서의 본 발명의 변형을 포함한다.
112: 제 1 전극패턴 114: 제 2 전극패턴
116: 연결 전극 BP: 브리지 패턴
TL: 제 1 라우팅 배선 RL: 제 2 라우팅 배선
152: 제 1 패드전극 154: 제 2 패드전극

Claims (10)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 투명 기판 상에 전극층과 절연층과 금속층을 증착하는 단계와;
    임프린팅 공정을 통해 상기 금속층 상부에 제 1 내지 제 3 레진패턴을 형성하는 단계와;
    상기 제 1 내지 제 3 레진패턴을 마스크로 하여 상기 금속층 및 상기 절연층 그리고 상기 전극층을 에칭하여 제 1 내지 제 3 금속 패턴과 제 1 내지 제 3 절연 패턴 그리고, 제 1 전극패턴 및 제 2 전극패턴과 라우팅 배선 패턴을 형성하는 단계와;
    상기 제 1 레진패턴을 에싱하고 제 3 금속 패턴과 제 3 절연 패턴을 에칭하여 상기 라우팅 배선 패턴을 노출시키는 단계와;
    상기 제 2 레진패턴 및 상기 제 3 레진패턴의 일부를 에싱하고 상기 제 2 금속 패턴을 에칭하여 브리지 금속패턴 및 메쉬금속 패턴을 형성하는 단계와;
    상기 제 1 전극패턴 및 제 2 금속 패턴을 단선시키고 상기 제 1 절연 패턴 및 제 2 절연 패턴의 일부를 에칭하는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
  6. 제5항에 있어서,
    제 1 내지 제 3 레진패턴은 각각 높이가 상이할 수 있으며, 예를 들어, 제 1 레진패턴은 제 1 높이가 되도록 형성되고,
    제 2 레진패턴은 제 1 높이 보다 높은 제 2 높이가 되도록 형성되며,
    제 3 레진패턴은 제 2 높이의 일단과 제 4 높이인 2단으로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
  7. 제5항에 있어서,
    제 1 내지 제 3 금속 패턴과 제 1 내지 제 3 절연 패턴 그리고, 제 1 전극패턴 및 제 2 전극패턴과 라우팅 배선 패턴을 형성하는 단계에서,
    라우팅 배선부에는 상기 제 3 금속 패턴과 상기 제 3 절연 패턴과 상기 라우팅 배선 패턴이 형성되고,
    전극부에는 상기 제 1 및 제 2 금속 패턴과 상기 제 1 및 제 2 절연 패턴과 상기 제 1 및 제 2 전극패턴이 형성되며,
    상기 제 1전극패턴과 상기 제 2 전극패턴은 연결 전극패턴에 의해 서로 연결되는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 제 1 절연 패턴 및 제 2 절연 패턴의 일부를 에칭하는 단계에서,
    상기 제 2 절연패턴의 일부를 에싱하여 상기 브리지 금속패턴 하부에 브리지 절연패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
  9. 제5항에 있어서,
    상기 제 1 전극패턴 및 제 2 금속 패턴을 단선시키는 단계에서,
    상기 제 1전극패턴과 상기 제 2 전극패턴의 연결 전극패턴 일부를 제거하여 이웃하는 상기 제 1전극패턴을 연결하는 연결전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
  10. 제5항에 있어서,
    상기 라우팅 배선 패턴 상부에 금속배선 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조방법.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100909265B1 (ko) * 2009-02-23 2009-07-27 (주)이엔에이치테크 정전용량 방식의 터치스크린 패널의 제조방법
JP2010271796A (ja) * 2009-05-19 2010-12-02 Optrex Corp 電極間接続構造およびタッチパネル

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100909265B1 (ko) * 2009-02-23 2009-07-27 (주)이엔에이치테크 정전용량 방식의 터치스크린 패널의 제조방법
JP2010271796A (ja) * 2009-05-19 2010-12-02 Optrex Corp 電極間接続構造およびタッチパネル

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