KR101983846B1 - 자외선 차단 기능이 있는 산업용 필름 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 자외선 차단 기능이 있는 산업용 필름 제조방법에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 상품을 포장할 때 자외선을 차단하여 유통과정에서 발생하는 상품의 변질을 막아주는 기능을 갖는 자외선 차단 기능이 있는 산업용 필름 제조방법에 관한 것이다.

Description

자외선 차단 기능이 있는 산업용 필름 제조방법 {Manufacturing Method for Indurstrial Film Bloking Ultraviolet Rays}
본 발명은 자외선 차단 기능이 있는 산업용 필름 제조방법에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 상품을 포장할 때 자외선을 차단하여 유통과정에서 발생하는 상품의 변질을 막아주는 기능을 갖는 자외선 차단 기능이 있는 산업용 필름 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 다층 필름은 식품 산업에 있어서 포장재로서 광범위한 용도를 제공한다. 이와 같은 적용에 있어서, 포장재는 식품을 담아야할 뿐만 아니라, 제품을 보존해야 한다. 식품은 상하기 쉬운 성질을 가지므로, 포장재의 특성들은 주어진 식품의 유효 유통 기한에 매우 큰 영향을 미칠 것이다.
산소의 존재 하에서 화학적 변화들, 예를 들어 산화 및 미생물 성장이 가속화될 수 있다. 따라서, 포장 내 산소 함량 또는 포장에 산소가 침투하는 속도를 제어하는 것은 종종 차단 포장(barrier packaging)의 가장 중요한 속성들 중 하나이다.
다층 차단막은 일반적으로 내부층이 극성 중합체로 제작되며, 상기 내부층은 무극성 중합체로 덮여있다. 극성 중합체는 기체 차단막으로서의 역할을 하고, 무극성 중합체는 내부층에 수분이 급속하게 흡수되는 것을 막기 위하여 수증기 투과율이 작은 소수성 스킨으로서의 역할을 한다. 극성 중합체 층을 덮고 있는 폴리올레핀 스킨층, 예를 들어 폴리에틸렌-비닐알코올 공중합체(PE-EVOH)를 덮고 있는 폴리에틸렌 스킨층이 일반적으로 사용된다.
EVOH 공중합체는 낮은 습도, 통상적으로 0% 내지 60%의 범위에서 우수한 산소 차단 특성을 나타낸다. 그러나, 상기 EVOH 공중합체의 기체 차단 특성은, 습도가 75% 내지 90%의 범위에 있을 때 높은 습도 조건 하에서 극적으로 저하된다.
사실, EVOH의 극성으로 인하여, 이와 같은 필름은 일반적으로 불량한 수분 차단능을 나타낸다. 그러므로, EVOH를 습도 영향으로부터 보호하기 위하여, EVOH는 통상적으로 필름의 양쪽 면이 폴리올레핀으로 라미네이팅되어 실제 포장에의 적용에 대하여 차단 특성을 제공한다.
그러나, 시간이 경과함에 따라서 충분한 수분이 폴리올레핀 소수성 스킨을 투과할 수 있게 되어, EVOH 층의 산소 차단 특성은 약해질 것이다. EVOH 재료는 또한 이 EVOH 재료를 폴리올레핀 기재와 적절히 결합시키기 위해 접착 증진제 및/또는 연결층 수지(tie-layer resin)의 사용을 필요로 한다.
이와 같은 연결 수지가 사용되지 않으면 EVOH 재료는 폴리올레핀 기재로부터 쉽게 벗겨지는 경향이 있어서, 차단 특성의 손실과 외관 불량을 가져오게 된다. EVOH의 추가의 단점으로서는 비교적 비용이 많이 든다는 점이 있다. 추가적으로, 재생의 관점에서 EVOH는 전적으로 화석 연료로부터 유래된다. 특히 습도가 높을 때 차단 특성이 뛰어나고, 저렴하면서 재생 가능한 재료를 사용하는 다층 필름을 제공하는 것이 바람직할 것이다.
또한, 필름을 이용한 포장재에 자외선 차단 기능의 첨가제를 삽입 및 혼입하여 차단기능을 취한 기술로 단순 자외선 차단 기능은 있으나 필름간 합지 및 인쇄기법에 접목하기에는 첨가된 차단제가 필름 표면으로 배출됨으로서 필름의 박리 현상이나 인쇄시에 잉크의 전이 현상등이 발생하는 문제점이 있다.
대한민국 특허 제10-0716762호
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 필름 표면에 이물질이 없는 자외선 차단 필름으로 2차 및 3차의 후가공(합지 및 인쇄)을 용이하게 하여 진공기능이나 식품 및 기타 고급품질 포장재로 사용될 수 있는 자외선 차단 기능이 있는 산업용 필름 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명은 상기의 목적을 달성하기 위하여 인쇄 필름층, UV 차단 필름층, 보호 필름층을 갖는 상기 필름층이 하나의 산업용 필름으로 합지되도록,
상기 인쇄 필름층의 원료칩용호퍼에는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩이 저장되는 단계; 상기 UV 차단 필름층의 원료칩용호퍼에는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩과 UV 차단물질 벤조페논(Bebzophenon계열) 또는 벤조트리아졸(Benzotriazol계열) 이 저장되는 단계; 상기 보호 필름층의 원료칩용호퍼에는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩이 저장되는 단계; 상기 원료칩용호퍼에 저장된 원료를 가열분사장치에 순차적으로 공급하는 단계; 상기 가열분사장치에 의해 인쇄 필름층, UV 차단 필름층, 보호 필름층을 갖는 산업용 필름으로 형성되는 단계;로 이루어지는 자외선 차단 기능이 있는 산업용 필름 제조방법에 관한 것이다.
또한, 상기 인쇄 필름층을 구성하는 칩의 물성조건은 130-140℃의 용융온도, 0.6-1.1g/10min의 용융지수, 0.915-0.956g/㎤의 밀도를 유지하되, 0.950g/㎤ 이상의 고밀도수지를 외층 전체 수지에 대해 10-50중량% 범위로 포함하여야 하며;
상기 UV 차단 필름층을 구성하는 칩은 저융점의 수지로서, 저융점 수지의 물성조건은 40-120℃의 용융온도, 1.0-2.0g/10min의 용융지수, 0.915-0.920g/㎤의 밀도, 10-40MU의 점도 및 3-15중량%의 VA(Vinyl acetate)를 포함하여야 하고;
상기 보호 필름층을 구성하는 칩의 물성조건은 130-140℃의 용융온도, 0.6-1.1g/10min의 용융지수, 0.915-0.956g/㎤의 밀도를 유지하되, 0.950g/㎤ 이상의 고밀도수지를 외층 전체 수지에 대해 10-50중량% 범위로 포함하여야 하며;
상기 인쇄 필름층의 조성물은 폴리에틸렌(polyethylene) 수지 100중량부에 대해 탄산칼슘 5-20중량부, 폴리이미드 수지 2-4중량부, 글리세롤 모노스테아레이트 3-5중량부, 벤젠산에스테르 5-7중량부를 포함하여 구성되고,
상기 UV 차단 필름층의 조성물은 폴리에틸렌(polyethylene) 수지 100중량부에 대해, 프탈산디부틸(DBP) 15-20중량부, 알킬아민 10-20중량부, 수산화알루미늄 10-15중량부, UV 차단 기능을 갖는 벤조페논(Bebzophenon계열) 또는 벤조트리아졸(Benzotriazol계열) 5-15중량부를 포함하여 구성되고;
상기 보호 필름층의 조성물은 폴리에틸렌(polyethylene) 수지 100중량부에 대해 탄산칼슘 5-20중량부, 폴리이미드 수지 2-4중량부, 글리세롤 모노스테아레이트 3-5중량부, 벤젠산에스테르 5-7중량부를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 자외선 차단 기능이 있는 산업용 필름 제조방법에 관한 것이다.
본 발명은 UV 차단 기능을 포함하고 있어 유통기간의 연장 효과가 매우 큰 특징과 함께 식품 포장과 장시간 노지에 노출되는 제품에 효율적으로 사용할 수 있는 효과가 있다.
그리고 합지되는 필름을 삼중구조로 개량하여 합지성을 증대시킴과 아울러 생산공정상 흐름성이 우수하여 제조하기 쉬워 생산성도 향상시키며, 저렴한 비용으로 제조할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 필름간 합지 및 인쇄기법에 접목하기에 용이함은 물론, 첨가된 차단제가 필름 표면으로 배출되는 것을 미연에 방지하고 필름의 박리 현상이나 인쇄시에 잉크의 전이 현상등을 방지할 수 있는 특징이 있다.
도 1은 본 발명에 따른 자외선 차단 기능이 있는 산업용 필름의 예시적인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 요부가 설치되어 작동되는 상태를 나타낸 정면도이다.
아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
먼저, 본 발명은 도 1 및 도 2와 같이 인쇄 필름층(10), UV 차단 필름층(20), 보호 필름층(30)을 갖는 필름층이 하나의 산업용 필름(40)으로 형성되는 구성이다.
여기서, 산업용 필름(40)을 구성하는 인쇄 필름층(10), UV 차단 필름층(20), 보호 필름층(30)은 각 원료칩용호퍼(100,200,300)에서 공급되는 원료를 단계적으로 공급받는 가열분사장치(400)를 통하여 형성된다.
여기서, 인쇄 필름층(10)의 원료칩용호퍼(100)에는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩이 저장되며, 상기 UV 차단 필름층(20)의 원료칩용호퍼(200)에는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩과 UV 차단물질 벤조페논(Bebzophenon계열) 또는 벤조트리아졸(Benzotriazol계열)이 저장되고, 상기 보호 필름층(30)의 원료칩용호퍼(300)에는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩이 각각으로 저장되는 구성이다.
한편, 상기 인쇄 필름층(10), UV 차단 필름층(20), 보호 필름층(30)의 각 원료칩용호퍼(100,200,300)에서 공급되는 원료는 단계적으로 가열분사장치(400)로 공급된다.
이때, 상기 가열분사장치(400)는 상기 각 원료칩용호퍼(100,200,300)에서 공급되는 칩을 단계적으로 녹여 삼중 구조의 산업용 필름(40)으로 형성시킬 수 있다.
이와 같은 구성의 본 발명은 아래와 같은 단계 공정을 통하여 형성될 수 있다.
먼저, 인쇄 필름층(10), UV 차단 필름층(20), 보호 필름층(30)을 갖는 상기 필름층이 하나의 산업용 필름(40)으로 합지 형성되도록,
상기 인쇄 필름층(10)의 원료칩용호퍼(100)에는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩이 저장되는 단계;
상기 UV 차단 필름층(20)의 원료칩용호퍼(200)에는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩과 UV 차단물질 벤조페논(Bebzophenon계열) 또는 벤조트리아졸(Benzotriazol계열) 이 저장되는 단계;
상기 보호 필름층(30)의 원료칩용호퍼(300)에는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩이 저장되는 단계;
상기 원료칩용호퍼(100,200,300)에 저장된 원료를 가열분사장치(400)에 순차적으로 공급하는 단계;
상기 가열분사장치(400)에 의해 인쇄 필름층(10), UV 차단 필름층(20), 보호 필름층(30)을 갖는 산업용 필름(40)으로 형성되는 단계;로 이루어진다.
그리고, 상기 인쇄 필름층(10)을 구성하는 칩의 물성조건은 130-140℃의 용융온도, 0.6-1.1g/10min의 용융지수, 0.915-0.956g/㎤의 밀도를 유지하되, 0.950g/㎤ 이상의 고밀도수지를 외층 전체 수지에 대해 10-50중량% 범위로 이루어진다.
상기 UV 차단 필름층(20) 구성하는 칩은 저융점의 수지로서, 저융점 수지의 물성조건은 40-120℃의 용융온도, 1.0-2.0g/10min의 용융지수, 0.915-0.920g/㎤의 밀도, 10-40MU의 점도 및 3-15중량%의 VA(Vinyl acetate)를 포함하여야 한다.
상기 보호 필름층(30)을 구성하는 칩의 물성조건은 130-140℃의 용융온도, 0.6-1.1g/10min의 용융지수, 0.915-0.956g/㎤의 밀도를 유지하되, 0.950g/㎤ 이상의 고밀도수지를 외층 전체 수지에 대해 10-50중량% 범위로 포함하여야 한다.
또한, 인쇄 필름층(10)의 조성물은 폴리에틸렌(polyethylene) 수지 100중량부에 대해 탄산칼슘 5-20중량부, 폴리이미드 수지 2-4중량부, 글리세롤 모노스테아레이트 3-5중량부, 벤젠산에스테르 5-7중량부를 포함하여 구성된다.
상기 UV 차단 필름층(20)의 조성물은 폴리에틸렌(polyethylene) 수지 100중량부에 대해, 프탈산디부틸(DBP) 15-20중량부, 알킬아민 10-20중량부, 수산화알루미늄 10-15중량부, UV 차단 기능을 갖는 벤조페논(Bebzophenon계열) 또는 벤조트리아졸(Benzotriazol계열) 5-15중량부를 포함하여 구성된다.
상기 보호 필름층(30)의 조성물은 폴리에틸렌(polyethylene) 수지 100중량부에 대해 탄산칼슘 5-20중량부, 폴리이미드 수지 2-4중량부, 글리세롤 모노스테아레이트 3-5중량부, 및 벤젠산에스테르 5-7중량부를 포함하여 구성된다.
즉, 본 발명은 인쇄 필름층(10), UV 차단 필름층(20), 보호 필름층(30)의 삼중화 합지가되도로 동일계 수지인 폴리에틸렌(polyethylene) 수지 가운데 저밀도, 저융점의 수지로 구성하여 열접합성을 높이고, 보호 필름층은 물성이 다른 수지로 구성하여 내열성, 내크립성을 비롯한 안전성과 관련된 특성들을 높이도록 함으로써 합지면에서의 주름억제, 기포억제를 달성하여 고품질화를 가능하게하고, 동시에 작업 흐름성을 높여 빠르고 정확한 성형을 통한 생산성 향상에 기여하며, 이를 통해 제조비용을줄일 수 있도록 구성된다.
한편, UV 차단 필름층(20)을 구성하는 칩은 저융점의 수지로서, 저융점 수지의 물성조건은 40-120℃의 용융온도, 1.0-2.0g/10min의 용융지수, 0.915-0.920g/㎤의 밀도, 10-40MU의 점도를 가져야 하고, 전체 수지 100 중량%에 대하여 3-15중량%의 VA(Vinyl acetate)를 포함하여야 한다.
그리고, UV 차단 필름층(20)의 조성물은 폴리에틸렌(polyethylene) 수지 100중량부에 대해, 프탈산디부틸(DBP) 15-20중량부, 알킬아민 10-20중량부, 수산화알루미늄 10-15중량부, UV 차단 기능을 갖는 벤조페논(Bebzophenon계열) 또는 벤조트리아졸(Benzotriazol계열) 5-15중량부을 포함하여 구성된다.
그리고, 상기 프탈산디부틸(DBP)은 수지의 사슬고분자간의 인력을 약화시켜 연화되게 하는 성분으로서 25중량부를 초과하면 연화도가 너무 커 성형이 안되고, 15중량부 미만으로 첨가되면 수지의 유동성을 떨어뜨리므로 상기 범위로 한정해야 한다.
또한, 상기 알킬아민은 윤활성을 좋게 하기 위한 것으로 압출성을 높이는데 사용되며, 20중량부를 넘어서면 성형성을 떨어뜨리고, 10중량부 미만으로 첨가되면 압출성을 약화시키므로 상기 범위로 한정해야 한다.
아울러, 상기 수산화알루미늄은 수지의 소수화를 막고 친수화를 유도하여 결합력을 높이기 위해 첨가되며, 20중량부를 초과하면 성형성이 떨어지고, 10중량부 미만으로 첨가되면 결합력이 떨어지므로 상기 범위로 한정해야한다.
한편, 인쇄 필름층(10)과 보호 필름층(30)은 내열성을 가져야 한다. 이것은 합지될 때 인쇄 필름층(10)이 변형되지 않고 편평도를 유지하여 보호 필름층(30)을 잘 잡아주어야 하기 때문이며, 이와 함께 외부를 충분히 보호하여 안전성과 보냉성을 확보할 수 있도록 해야 하기 때문이다.
따라서, 조성물은 인쇄 필름층(10)과 보호 필름층(30)을 동일하게 조성하여야 한다.
이를 위해, 상기 인쇄 필름층(10)과 보호 필름층(30)의 조성물은 폴리에틸렌(polyethylene) 수지 100중량부에 대해 탄산칼슘 5-20중량부, 폴리이미드 수지 2-4중량부, 글리세롤 모노스테아레이트 3-5중량부, 및 벤젠산에스테르 5-7중량부를 포함하여 구성된다.
또한, 상기 인쇄 필름층(10)과 보호 필름층(30)의 물성조건은 130-140℃의 용융온도, 0.6-1.1g/10min의 용융지수, 0.915-0.956g/㎤의 밀도를 유지하되, 0.950g/㎤ 이상의 고밀도수지를 외층 전체 수지에 대해 10-50중량% 범위로 이루어진다.
그리고, 상기 탄산칼슘은 내열성 및 편평도를 증대시키기 위해 첨가되며 20 중량부를 초과하면 접착성을 떨어뜨리고, 5중량부 미만으로 첨가되면 내열성 증진효과가 없으므로 상기 범위로 한정해야 한다.
또한, 상기 폴리이미드 수지는 상기 탄산칼슘의 내열성을 더욱 보충하기 위해 첨가되는 대표적인 내열성 수지로서, 4중량부를 초과하면 경도가 급격히 증가되어 유연성을 저해하고, 2중량부 미만으로 첨가되면 내열성 보강기능이 없기 때문에 상기 범위로 한정해야 한다.
그리고, 상기 글리세롤 모노스테아레이트는 통상 활제로 사용되지만, 본 발명에서는 계면에서의 활성도를 높여 평탄도를 증대시키기 위해 첨가되는 바, 과량 첨가되면 비누화에 따른 물성 저하를 초래하므로 상기 범위로 한정해야 한다.
이와 같은 조성으로 인쇄 필름층(10), UV 차단 필름층(20), 보호 필름층(30)의 조성물이 확보되면, 이어 삼중구조의 산업용 필름(40)을 생산하는 본 발명의 공정이 수행된다.
상기 산업용 필름 생산 공정은 각 원료칩용호퍼(100,200,300)에서 공급되는 원료를 단계적으로 공급받는 가열분사장치(400)를 통하여 생산공정이 수행된다.
이후, UV 차단 필름층(20)을 중심으로 인쇄 필름층(10)과 보호 필름층(30)을 갖는 삼중구조의 필름을 합지하여 하나의 산업용 필름(40)이 완성될 수 있다.
이상과 같이 본 발명은 UV 차단 기능을 포함하고 있어 유통기간의 연장 효과가 매우 큰 특징과 함께 식품 포장과 장시간 노지에 노출되는 제품에 효율적으로 사용할 수 있는 효과가 있다.
그리고 합지되는 필름을 삼중구조로 개량하여 합지성을 증대시킴과 아울러 생산공정상 흐름성이 우수하여 제조하기 쉬워 생산성도 향상시키며, 저렴한 비용으로 제조할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 필름간 합지 및 인쇄기법에 접목하기에 용이함은 물론, 첨가된 차단제가 필름 표면으로 배출되는 것을 미연에 방지하고 필름의 박리 현상이나 인쇄시에 잉크의 전이 현상등을 방지할 수 있는 특징이 있다.
전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해 할 수 있을 것이다.
그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어 단일형 으로 설명되어 있는 각 구성요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허 청구범위에 의하여 나타내어지며, 청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석 되어야 한다.
10. 인쇄 필름층
20. UV 차단 필름층
30. 보호 필름층
40. 산업용 필름
100. 인쇄 원료칩용호퍼
200. UV차단 원료칩용호퍼
300. 보호 원료칩용호퍼
400. 가열분사장치

Claims (7)

  1. 인쇄 필름층(10), UV 차단 필름층(20), 보호 필름층(30)을 갖는 상기 필름층이 하나의 산업용 필름(40)으로 합지되도록,
    상기 인쇄 필름층(10)의 원료칩용호퍼(100)에는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩이 저장되는 단계;
    상기 UV 차단 필름층(20)의 원료칩용호퍼(200)에는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩과 UV 차단물질 벤조페논(Bebzophenon계열) 또는 벤조트리아졸(Benzotriazol계열) 이 저장되는 단계;
    상기 보호 필름층(30)의 원료칩용호퍼(300)에는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩이 저장되는 단계;
    상기 원료칩용호퍼(100,200,300)에 저장된 원료를 가열분사장치(400)에 순차적으로 공급하는 단계; 및
    상기 가열분사장치(400)에 의해 인쇄 필름층(10), UV 차단 필름층(20), 보호 필름층(30)을 갖는 산업용 필름(40)으로 형성되는 단계;를 포함하고,
    상기 인쇄 필름층(10)을 구성하는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩의 물성조건은 130-140℃의 용융온도, 0.6-1.1g/10min의 용융지수, 및 0.915-0.956g/㎤의 밀도를 유지하되, 0.950g/㎤ 이상의 고밀도수지를 외층 전체 수지에 대해 10-50중량% 범위로 포함하여야 하는 것이며,
    상기 UV 차단 필름층(20)을 구성하는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩은 저융점의 수지로서, 저융점 수지의 물성조건은 40-120℃의 용융온도, 1.0-2.0g/10min의 용융지수, 0.915-0.920g/㎤의 밀도, 10-40MU의 점도를 가지고, 전체 수지 100 중량%에 대하여 3-15중량%의 VA(Vinyl acetate)를 포함하여야 하는 것이고,
    상기 보호 필름층(30)을 구성하는 폴리에틸렌(polyethylene) 칩의 물성조건은 130-140℃의 용융온도, 0.6-1.1g/10min의 용융지수, 0.915-0.956g/㎤의 밀도를 유지하되, 0.950g/㎤ 이상의 고밀도수지를 외층 전체 수지에 대해 10-50중량% 범위로 포함하는 것이며,
    상기 인쇄 필름층(10)의 조성물은 폴리에틸렌(polyethylene) 수지 100중량부에 대해 탄산칼슘 5-20중량부, 폴리이미드 수지 2-4중량부, 글리세롤 모노스테아레이트 3-5중량부, 및 벤젠산에스테르 5-7중량부를 포함하는 것이고,
    상기 UV 차단 필름층(20)의 조성물은 폴리에틸렌(polyethylene) 수지 100중량부에 대해, 프탈산디부틸(DBP) 15-20중량부; 알킬아민 10-20중량부; 수산화알루미늄 10-15중량부; UV 차단 기능을 갖는 벤조페논(Bebzophenon계열) 또는 벤조트리아졸(Benzotriazol계열) 5-15중량부을 포함하는 것이며,
    상기 보호 필름층(30)의 조성물은 폴리에틸렌(polyethylene) 수지 100중량부에 대해 탄산칼슘 5-20중량부, 폴리이미드 수지 2-4중량부, 글리세롤 모노스테아레이트 3-5중량부, 및 벤젠산에스테르 5-7중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는, 자외선 차단 기능이 있는 산업용 필름 제조방법.
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