KR101974841B1 - 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터 - Google Patents

감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터 Download PDF

Info

Publication number
KR101974841B1
KR101974841B1 KR1020160165978A KR20160165978A KR101974841B1 KR 101974841 B1 KR101974841 B1 KR 101974841B1 KR 1020160165978 A KR1020160165978 A KR 1020160165978A KR 20160165978 A KR20160165978 A KR 20160165978A KR 101974841 B1 KR101974841 B1 KR 101974841B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
photosensitive resin
chemical formula
weight
resin composition
Prior art date
Application number
KR1020160165978A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20180065325A (ko
Inventor
윤진섭
김미선
이범진
한현주
김종기
김진규
백호정
유윤제
임지현
장영웅
정민결
정지영
형경희
Original Assignee
삼성에스디아이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성에스디아이 주식회사 filed Critical 삼성에스디아이 주식회사
Priority to KR1020160165978A priority Critical patent/KR101974841B1/ko
Publication of KR20180065325A publication Critical patent/KR20180065325A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101974841B1 publication Critical patent/KR101974841B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/223Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(A) 양자점; (B) 바인더 수지; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; (E) 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물 및 (F) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터가 제공된다.
[화학식 1]
Figure 112016120108935-pat00144

(상기 화학식 1에서, 각 연결기는 명세서에 정의된 바와 같다.)

Description

감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터 {PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAYER USING THE SAME AND COLOR FILTER}
본 기재는 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터에 관한 것이다.
일반적으로 디스플레이에 적용하는 컬러필터는 감광성 수지 조성물을 사용하여 포토마스크를 적용한 노광공정을 통해 원하는 패턴을 형성하고, 현상 공정을 통해 비노광부를 용해시켜 제거하는 패터닝 공정을 통해 컬러필터를 형성한다. 컬러필터용 소재는 알칼리 가용성이며 높은 감도, 기판에 대한 부착력, 내화학성, 내열성 등이 요구된다.
한편, 컬러필터 형성에 사용되는 감광성 수지 조성물 내 착색제로 안료 또는 염료 등의 색재료를 사용하는 것이 일반적인데, 이들은 감광성 수지 조성물 내 광중합 개시제와 광에너지를 경쟁적으로 흡수하고, 생성된 라디칼을 제거하는 작용을 하기 때문에 경화율이 낮아 신뢰성이 저하되는 문제가 있다.
따라서, 기존의 염료 혹은 안료 등을 대신할 수 있는 색재료를 사용함으로써 내화학성, 내열성 등의 신뢰성을 현저히 향상시킬 수 있는, 감광성 수지 조성물을 개발하려는 노력이 계속되고 있다.
특히, 디스플레이 분야에 새로운 기술 트렌드로 자리잡고 있는 양자점은 TV, LED 외에 다양한 디스플레이, 전자 소자 등에 적용이 가능하다. CdSe, InP 등으로 대표되는 양자점은 발광효율 (Quantum Yield)적인 면에서 빠르게 발전하여, 발광효율 100%에 가까운 합성법들이 소개되고 있다. 이를 토대로 현재 양자점 시트를 적용한 TV가 상품화 되기까지 하였다. 다음 단계로 양자점을 기존 LED TV의 컬러필터층에 포함(안료, 염료 배제)하여 컬러필터층에서 필터링 방식이 아닌 자체 발광 버전으로의 양자점 TV가 개발되고 있다. 이러한 TV 개발의 핵심은 양자점 함유 감광성 수지 조성물의 패터닝성과 1차 열 공정-노광-현상-수세-증착 및 2차 열 공정 등의 공정에서 양자점의 광효율을 얼마나 잘 유지하여 패턴성을 잘 구현하느냐 이다. 이러한 맥락에서 양자점을 패시베이션 또는 랩핑하여 효율을 유지시킬 수 있는 기술에 대한 개발이 지속적으로 요구되고 있다.
일 구현예는 열 이력 공정 상에서의 양자점의 광유지율을 개선시키고, 조성물 내에서의 양자점의 분산성, 내화학성을 향상시킬 수 있는 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.
다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공하기 위한 것이다.
또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.
일 구현예는 (A) 양자점; (B) 바인더 수지; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; (E) 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물 및 (F) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure 112016120108935-pat00001
상기 화학식 1에서,
L1은 *-NH-*, *-O-* 또는 *-S-* 이고,
L2는 2가의 유기기이다.
상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물은 500 g/mol 내지 20,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가질 수 있다.
상기 L2는 하기 화학식 2-1 내지 화학식 2-9로 표시되는 연결기 중 어느 하나일 수 있다.
[화학식 2-1]
Figure 112016120108935-pat00002
(상기 화학식 2-1에서,
L3은 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기, *-O-*, *-S-* 또는 *-S(=O)2-* 이다)
[화학식 2-2]
Figure 112016120108935-pat00003
[화학식 2-3]
Figure 112016120108935-pat00004
(상기 화학식 2-3에서,
L4 내지 L6는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
[화학식 2-4]
Figure 112016120108935-pat00005
(상기 화학식 2-4에서,
L7 및 L8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
[화학식 2-5]
Figure 112016120108935-pat00006
(상기 화학식 2-5에서,
L9 내지 L11은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
[화학식 2-6]
Figure 112016120108935-pat00007
(상기 화학식 2-6에서,
L12 및 L13은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
[화학식 2-7]
Figure 112016120108935-pat00008
(상기 화학식 2-7에서,
R1 및 R2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이다)
[화학식 2-8]
Figure 112016120108935-pat00009
(상기 화학식 2-8에서,
L14 및 L15는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
[화학식 2-9]
Figure 112016120108935-pat00010
(상기 화학식 2-9에서,
L16 및 L17은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,
m은 0 내지 100의 정수이다)
상기 화학식 1로 표시되는 구조단위는 하기 화학식 3-1 내지 화학식 3-18로 표시될 수 있다.
[화학식 3-1]
Figure 112016120108935-pat00011
[화학식 3-2]
Figure 112016120108935-pat00012
[화학식 3-3]
Figure 112016120108935-pat00013
[화학식 3-4]
Figure 112016120108935-pat00014
[화학식 3-5]
Figure 112016120108935-pat00015
[화학식 3-6]
Figure 112016120108935-pat00016
[화학식 3-7]
Figure 112016120108935-pat00017
[화학식 3-8]
Figure 112016120108935-pat00018
[화학식 3-9]
Figure 112016120108935-pat00019
[화학식 3-10]
Figure 112016120108935-pat00020
[화학식 3-11]
Figure 112016120108935-pat00021
[화학식 3-12]
Figure 112016120108935-pat00022
[화학식 3-13]
Figure 112016120108935-pat00023
[화학식 3-14]
Figure 112016120108935-pat00024
[화학식 3-15]
Figure 112016120108935-pat00025
[화학식 3-16]
Figure 112016120108935-pat00026
[화학식 3-17]
Figure 112016120108935-pat00027
[화학식 3-18]
Figure 112016120108935-pat00028
상기 양자점은 360nm 내지 780nm의 광을 흡수해, 450nm 내지 600nm에서 형광을 방출하는 양자점일 수 있다.
상기 바인더 수지는 카도계 바인더 수지를 포함할 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은 확산제를 더 포함할 수 있다.
상기 확산제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 0.5 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다.
상기 확산제는 황산바륨, 탄산칼슘, 이산화티타늄, 지르코니아 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은, 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해, 상기 (A) 양자점 1 중량% 내지 30 중량%; 상기 (B) 바인더 수지 1 중량% 내지 30 중량%; 상기 (C) 광중합성 단량체 1 중량% 내지 20 중량%; 상기 (D) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 10 중량%; 상기 (E) 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물 0.1 중량% 내지 30 중량% 및 상기 (F) 용매 잔부량을 포함할 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.
다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공한다.
또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다.
기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은, 조성물 내에서 양자점의 분산성 및 내화학성을 향상시키고, 컬러필터 공정 중 열 공정 전후로 양자점의 광유지율이 크게 저하되는 현상을 방지하여, 우수한 광변환율을 달성할 수 있다.
도 1은 양자점 표면의 댕글링 본드(dangling bond) 및 상기 댕글링 본드에 바인딩(binding)하여 양자점을 안정화시키는 리간드를 나타낸 그림이다.
이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, "사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 사이클로알케닐기를 의미하고, "헤테로사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, "아릴알킬기"란 C6 내지 C20 아릴알킬기를 의미하며, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, "알킬아릴렌기"란 C6 내지 C20 알킬아릴렌기를 의미하고, "헤테로아릴렌기"란 C3 내지 C20 헤테로아릴렌기를 의미하고, "알콕실렌기"란 C1 내지 C20 알콕실렌기를 의미한다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환"이란 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 이미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그것의 염, 술폰산기 또는 그것의 염, 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C20 아릴기, C3 내지 C20 사이클로알킬기, C3 내지 C20 사이클로알케닐기, C3 내지 C20 사이클로알키닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, C3 내지 C20 헤테로아릴기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "헤테로"란, 화학식 내에 N, O, S 및 P 중 적어도 하나의 헤테로 원자가 적어도 하나 포함된 것을 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다.
본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.
본 명세서에서 카도계 수지란, 하기 화학식 6-1 내지 화학식 6-11로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 관능기가 수지 내 주골격(backbone)에 포함되는 수지를 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 (A) 양자점; (B) 바인더 수지; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; (E) 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물 및 (F) 용매를 포함한다.
[화학식 1]
Figure 112016120108935-pat00029
상기 화학식 1에서,
L1은 *-NH-*, *-O-* 또는 *-S-* 이고,
L2는 2가의 유기기이다.
일반적으로 감광성 수지 조성물은 착색제로 안료나 염료 등을 사용하나, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 안료나 염료 대신 양자점을 사용하며, 열안정성을 부가하기 위해 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물을 포함한다. 또한, 효과적인 광확산을 위해 확산제를 더 포함할 수 있다. 이러한 구성을 가진 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터형 자발광 LCD는 종래 LCD에 배히 색재현율 및 휘도를 개선시킬 수 있다.
일반적으로 양자점 표면, 예컨대 InP/ZnS 양자점의 경우 ZnS 표면에는 더 이상 반응하지 못하고 남아있는 댕글링 본드가 존재하는데, 상기 댕글링 본드는 비어있는 오비탈(vacant orbital)을 포함하여, 양자점의 산화, PL quenching 등 양자점의 광효율과 광안정성을 저하시키는 역할을 하였다.
상기 비어있는 오비탈에 바인딩하여 양자점을 안정화시키는 역할을 하는 것이 바로 리간드(본원 발명의 경우, 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물)이다. 상기 리간드로 활용되는 작용기에는 카르복실기, 3차 아민, 티올기 등이 있는데, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 상기 리간드로 활용되는 작용기로, 종래의 작용기와 상이한, 페닐티오포스폰기(phenylthiophosphonic group)를 사용하여, 양자점 표면에 대한 리간드의 접합력(binding affinity)과 함께, 조성물 내에서 양자점의 분산성, 양자효율, 광안정성 등을 크게 향상시킬 수 있다. 특히, 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물은 페닐티오포스폰 계열의 폴리머로서, 킬레이트 효과(chelate effect)를 이용하여 양자점 표면을 둘러싸게(wrapping) 되어 산소, 수분, 열, 라디칼, 조성물 내 이종의 화학물질에 대한 안정도를 높임과 동시에, 유기용매 또는 바인더 수지에 대한 분산도 또한 향상시킬 수 있다. 보다 구체적으로, 페닐티오포스폰 코어(P=S)는 하기 도식과 같이, 극성이 커서 쉽게 극성화(polarization)되기 때문에, 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물은 매우 높은 굴절률(약 1.65 내지 약 1.68)을 가진다. 따라서, 전자밀도가 높아진 황 원자가 양자점 표면의 금속과 강한 바인딩을 함으로써, 킬레이트 효과와 함께, 강한 리간드로서 작용할 수 있게 된다.
[도식]
Figure 112016120108935-pat00030
이하에서 각 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.
(E) 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물
상기 양자점의 안정성 및 분산성 향상을 위해, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 적어도 하나 이상 포함하는 화합물을 포함한다.
상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물은 후술하는 양자점의 쉘 표면에 치환되어, 용매에 대한 양자점의 분산 안정성을 향상시켜, 양자점을 안정화시킬 수 있다.
상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물은 양 말단 중 어느 한 쪽에 아민기(*-NH2), 히드록시기(*-OH) 또는 티올기(*-SH)를 가질 수 있다.
예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물이 양 말단 중 어느 한 쪽에 아민기, 히드록시기 또는 티올기를 가질 수 있는데, 이 경우 하기 반응식 1에서와 같이, “페닐티오포스포닉 디클로라이드(phenylthiophosphonic dichloride)”와 “디-아민(di-amine) 단량체, 디-올(di-ol) 단량체 또는 디-티올(di-thiol) 단량체”를 염기(Et3N, pyridine, K2CO3 등) 조건 하에서 반응시켜, 양 말단 중 어느 한 쪽에 아민기, 히드록시기 또는 티올기를 가지는, 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물을 합성할 수 있다.
[반응식 1]
Figure 112016120108935-pat00031
(상기 반응식 1에서,
Y는 NH2, OH 또는 SH 이다)
상기 디-아민(di-amine) 단량체로는 하기 화학식 M-1 내지 화학식 M-4 등을 들 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 M-1]
Figure 112016120108935-pat00032
[화학식 M-2]
Figure 112016120108935-pat00033
[화학식 M-3]
Figure 112016120108935-pat00034
[화학식 M-4]
Figure 112016120108935-pat00035
상기 디-티올(di-thiol) 단량체로는 하기 화학식 M-5 내지 화학식 M-14 등을 들 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 M-5]
Figure 112016120108935-pat00036
[화학식 M-6]
Figure 112016120108935-pat00037
[화학식 M-7]
Figure 112016120108935-pat00038
[화학식 M-8]
Figure 112016120108935-pat00039
[화학식 M-9]
Figure 112016120108935-pat00040
[화학식 M-10]
Figure 112016120108935-pat00041
[화학식 M-11]
Figure 112016120108935-pat00042
[화학식 M-12]
Figure 112016120108935-pat00043
[화학식 M-13]
Figure 112016120108935-pat00044
[화학식 M-14]
Figure 112016120108935-pat00045
상기 디-올(di-ol) 단량체로는 하기 화학식 M-15 내지 화학식 M-18 등을 들 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 M-15]
Figure 112016120108935-pat00046
[화학식 M-16]
Figure 112016120108935-pat00047
[화학식 M-17]
Figure 112016120108935-pat00048
[화학식 M-18]
Figure 112016120108935-pat00049
(상기 화학식 M-18에서,
m은 0 내지 100의 정수이다)
상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물은 500 g/mol 내지 20,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가질 수 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물을 상기 범위로 사용할 경우, 내열성, 내화학성 및 코팅성 측면에서 유리한 효과가 있다.
예컨대, 상기 L2는 하기 화학식 2-1 내지 화학식 2-9로 표시되는 연결기 중 어느 하나일 수 있다.
[화학식 2-1]
Figure 112016120108935-pat00050
(상기 화학식 2-1에서,
L3은 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기, *-O-*, *-S-* 또는 *-S(=O)2-* 이다)
[화학식 2-2]
Figure 112016120108935-pat00051
[화학식 2-3]
Figure 112016120108935-pat00052
(상기 화학식 2-3에서,
L4 내지 L6는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
[화학식 2-4]
Figure 112016120108935-pat00053
(상기 화학식 2-4에서,
L7 및 L8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
[화학식 2-5]
Figure 112016120108935-pat00054
(상기 화학식 2-5에서,
L9 내지 L11은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
[화학식 2-6]
Figure 112016120108935-pat00055
(상기 화학식 2-6에서,
L12 및 L13은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
[화학식 2-7]
Figure 112016120108935-pat00056
(상기 화학식 2-7에서,
R1 및 R2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이다)
[화학식 2-8]
Figure 112016120108935-pat00057
(상기 화학식 2-8에서,
L14 및 L15는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
[화학식 2-9]
Figure 112016120108935-pat00058
(상기 화학식 2-9에서,
L16 및 L17은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,
m은 0 내지 100의 정수이다)
예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위는 하기 화학식 3-1 내지 화학식 3-18로 표시될 수 있다.
[화학식 3-1]
Figure 112016120108935-pat00059
[화학식 3-2]
Figure 112016120108935-pat00060
[화학식 3-3]
Figure 112016120108935-pat00061
[화학식 3-4]
Figure 112016120108935-pat00062
[화학식 3-5]
Figure 112016120108935-pat00063
[화학식 3-6]
Figure 112016120108935-pat00064
[화학식 3-7]
Figure 112016120108935-pat00065
[화학식 3-8]
Figure 112016120108935-pat00066
[화학식 3-9]
Figure 112016120108935-pat00067
[화학식 3-10]
Figure 112016120108935-pat00068
[화학식 3-11]
Figure 112016120108935-pat00069
[화학식 3-12]
Figure 112016120108935-pat00070
[화학식 3-13]
Figure 112016120108935-pat00071
[화학식 3-14]
Figure 112016120108935-pat00072
[화학식 3-15]
Figure 112016120108935-pat00073
[화학식 3-16]
Figure 112016120108935-pat00074
[화학식 3-17]
Figure 112016120108935-pat00075
[화학식 3-18]
Figure 112016120108935-pat00076
상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물은 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우, 양자점의 안정성을 향상시킬 수 있으며, 성분 내 설파이드기가 후술하는 바인더 수지 또는 광중합성 단량체의 아크릴기와 반응하여 공유결합을 형성함으로써 양자점의 내열성 향상 효과도 가질 수 있다.
(A) 양자점
상기 양자점은 360nm 내지 780nm의 파장영역, 예컨대 400nm 내지 780nm의 파장영역의 광을 흡수하여, 450nm 내지 600nm의 파장영역, 예컨대 500nm 내지 550nm에서 형광을 방출할 수 있다. 즉, 상기 광변환 물질은 450nm 내지 650nm, 예컨대 500nm 내지 550nm에서 최대 형광 발광 파장(fluorescence λem)을 가질 수 있다.
예컨대, 상기 양자점은 녹색 양자점일 수 있다. 상기 녹색 양자점은 5nm 내지 10nm의 평균 입경을 가질 수 있다.
상기 양자점은 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 5 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 상기 양자점이 상기 범위 내로 포함될 경우, 양자점 고유의 광변환 특성 발현 및 광변환 효율의 감소를 막을 수 있다.
또한, 상기 양자점은 감광성 수지 조성물 고형분 총량에 대해 10 중량% 내지 60 중량%로 포함될 수 있다.
상기 양자점은 20nm 내지 100nm, 예컨대 20nm 내지 50nm의 반치폭(Full width at half maximum; FWHM)을 가질 수 있다. 상기 양자점이 상기 범위의 반치폭을 가질 경우, 색순도가 높음에 따라, 컬러필터 소재로 사용 시 색재현율이 높은 효과가 있다.
상기 양자점은 유기물, 무기물 또는 유기물과 무기물의 하이브리드(혼성물)일 수 있다.
상기 양자점은 코어 및 상기 코어를 감싸는 쉘로 구성될 수 있으며, 상기 코어 및 쉘은 각각 독립적으로 II-IV족, III-V족 등으로 이루어진 코어, 코어/쉘, 코어/제1쉘/제2쉘, 합금, 합금/쉘 등의 구조를 가질 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.
예컨대, 상기 코어는 CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, GaN, GaP, GaAs, InP, InAs 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 코어를 둘러싼 쉘은 CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, HgSe 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 양자점의 구조는 특별하게 한정되지 않으나, 상기 코어/쉘, 코어/제1쉘/제2쉘 또는 합금/쉘 구조의 양자점의 경우, 쉘을 포함한 전체 양자점의 크기(평균 입경)는 1nm 내지 15nm, 예컨대 5nm 내지 10nm 일 수 있다.
상기 양자점의 안정성 및 분산성 향상을 위해 쉘 표면에 유기물질을 치환하여 안정화할 수 있으며, 상기 유기물질은 티올(thiol)계, 아민(amine)계, 포스핀옥사이드(phosphine oxide)계, 아크릴(acryl)계, Si계 등을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
일 구현예에서는, 최근 전 세계적으로 환경에 대한 관심이 크게 증가하고 유독성 물질에 대한 규제가 강화되고 있으므로, 카드뮴계 코어를 갖는 발광물질을 대신하여, 양자 효율(quantum yield)은 다소 낮지만 친환경적인 비카드뮴계 발광소재, 예컨대 InP/ZnSe/ZnS(코어/제1쉘/제2쉘) 구조의 양자점(core-first shell-second shell type quantum dots)을 사용하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
한편, 상기 양자점의 분산 안정성을 위해, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 분산제를 더 포함할 수도 있다. 상기 분산제는 양자점이 감광성 수지 조성물 내에서 균일하게 분산되도록 도와주며, 비이온성, 음이온성 또는 양이온성 분산제 모두를 사용할 수 있다. 구체적으로는 폴리알킬렌 글리콜 또는 이의 에스테르류, 폴리옥시 알킬렌, 다가 알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올 알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산 염, 카르복시산 에스테르, 카르복시산 염, 알킬 아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 사용할 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 상기 분산제는 양자점의 고형분 대비 0.1 중량% 내지 100 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 20 중량%로 사용될 수 있다.
(B) 바인더 수지
상기 바인더 수지는 카도계 바인더 수지를 포함할 수 있다.
상기 카도계 바인더 수지는 하기 화학식 6으로 표시되는 구조단위를 포함할 수 있다.
[화학식 6]
Figure 112016120108935-pat00077
상기 화학식 6에서,
R11 및 R12은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 (메타)아크릴로일옥시 알킬기이고,
R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
Z1은 단일결합, O, CO, SO2, CR17R18, SiR19R20(여기서, R17 내지 R20은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기임) 또는 하기 화학식 6-1 내지 화학식 6-11로 표시되는 연결기 중 어느 하나이고,
[화학식 6-1]
Figure 112016120108935-pat00078
[화학식 6-2]
Figure 112016120108935-pat00079
[화학식 6-3]
Figure 112016120108935-pat00080
[화학식 6-4]
Figure 112016120108935-pat00081
[화학식 6-5]
Figure 112016120108935-pat00082
(상기 화학식 6-5에서,
Ra는 수소 원자, 에틸기, C2H4Cl, C2H4OH, CH2CH=CH2 또는 페닐기이다.)
[화학식 6-6]
Figure 112016120108935-pat00083
[화학식 6-7]
Figure 112016120108935-pat00084
[화학식 6-8]
Figure 112016120108935-pat00085
[화학식 6-9]
Figure 112016120108935-pat00086
[화학식 6-10]
Figure 112016120108935-pat00087
[화학식 6-11]
Figure 112016120108935-pat00088
Z2는 산무수물 잔기이고,
t1 및 t2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이다.
상기 카도계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 500 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 1,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 카도계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우 감광성 유기막 제조 시 잔사 없이 패턴 형성이 잘되며, 현상 시 막 두께의 손실이 없고, 양호한 패턴을 얻을 수 있다.
상기 카도계 바인더 수지는 양 말단 중 적어도 하나에 하기 화학식 7로 표시되는 관능기를 포함할 수 있다.
[화학식 7]
Figure 112016120108935-pat00089
상기 화학식 7에서,
Z3은 하기 화학식 7-1 내지 화학식 7-7로 표시될 수 있다.
[화학식 7-1]
Figure 112016120108935-pat00090
(상기 화학식 7-1에서, Rb 및 Rc는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 에스테르기 또는 에테르기이다.)
[화학식 7-2]
Figure 112016120108935-pat00091
[화학식 7-3]
Figure 112016120108935-pat00092
[화학식 7-4]
Figure 112016120108935-pat00093
[화학식 7-5]
Figure 112016120108935-pat00094
(상기 화학식 7-5에서, Rd는 O, S, NH, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, C1 내지 C20 알킬아민기 또는 C2 내지 C20 알케닐아민기이다.)
[화학식 7-6]
Figure 112016120108935-pat00095
[화학식 7-7]
Figure 112016120108935-pat00096
상기 카도계 바인더 수지는 예컨대, 9,9-비스(4-옥시라닐메톡시페닐)플루오렌 등의 플루오렌 함유 화합물; 벤젠테트라카르복실산 디무수물, 나프탈렌테트라카르복실산 디무수물, 비페닐테트라카르복실산 디무수물, 벤조페논테트라카르복실산 디무수물, 피로멜리틱 디무수물, 사이클로부탄테트라카르복실산 디무수물, 페릴렌테트라카르복실산 디무수물, 테트라히드로푸란테트라카르복실산 디무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물 등의 무수물 화합물; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 등의 글리콜 화합물; 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 사이클로헥산올, 벤질알코올 등의 알코올 화합물; 프로필렌글리콜 메틸에틸아세테이트, N-메틸피롤리돈 등의 용매류 화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물; 및 테트라메틸암모늄 클로라이드, 테트라에틸암모늄 브로마이드, 벤질디에틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 벤질트리에틸암모늄 클로라이드 등의 아민 또는 암모늄염 화합물 중에서 둘 이상을 혼합하여 제조할 수 있다.
상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지를 더 포함할 수 있다.
상기 아크릴계 바인더 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지일 수 있다.
상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산 또는 이들의 조합을 들 수 있다.
상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 바인더 수지 총량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.
상기 제2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 아크릴계 바인더 수지의 구체적인 예로는 폴리벤질메타크릴레이트, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다.  
상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 5,000 g/mol 내지 15,000 g/mol 일 수 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우, 기판과의 밀착성이 우수하고 물리적, 화학적 물성이 좋으며, 점도가 적절하다.
상기 아크릴계 바인더 수지의 산가는 80 mgKOH/g 내지 130 mgKOH/g 일 수 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수하다.
상기 바인더 수지가 카도계 바인더 수지일 경우, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물의 현상성이 우수하고, 광경화 시 감도가 좋아 미세 패턴 형성성이 우수하다.
상기 바인더 수지는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 3 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함되는 경우 우수한 감도, 현상성, 해상도 및 패턴의 직진성을 얻을 수 있다.
(C) 광중합성 단량체
상기 광중합성 단량체는, 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.
상기 광중합성 단량체는 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써, 패턴 형성 공정에서 노광시 충분한 중합을 일으킴으로써 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.
상기 광중합성 단량체의 구체적인 예로는, 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸 포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트등을 들 수 있다.
상기 광중합성 단량체의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다. 상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-101®, 동 M-111®, 동 M-114® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S®, 동 TC-120S® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-158®, V-2311® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸고교(주)社의 아로닉스 M-210®, 동 M-240®, 동 M-6200® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA®, 동 HX-220®, 동 R-604® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-260®, V-312®, V-335 HP® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M-400®, 동 M-405®, 동 M-450®, 동 M-7100®, 동 M-8030®, 동 M-8060® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA®, 동 DPCA-20®, 동-30®, 동-60®, 동-120® 등; 오사카 유끼 가야꾸 고교(주)社의 V-295®, 동-300®, 동-360®, 동-GPT®, 동-3PA®, 동-400® 등을 들 수 있다. 상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.
상기 광중합성 단량체는 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.
상기 광중합성 단량체는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 3 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다. 광중합성 단량체가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 패턴의 내열성, 내광성, 내화학성, 해상도 및 밀착성 또한 우수하다.
(D) 광중합 개시제
상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 개시제로서, 예를 들어 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 등을 사용할 수 있다.
상기 아세토페논계 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.
상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.
상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.
상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.
상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진,2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진,2-(4-메톡시나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진 등을 들 수 있다.
상기 옥심계 화합물의 예로는 O-아실옥심계 화합물, 2-(O-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(O-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 O-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 들 수 있다.
상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물 등을 사용할 수 있다.
상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광 증감제와 함께 사용될 수도 있다.
상기 광 증감제의 예로는, 테트라에틸렌글리콜 비스-3-머캡토 프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트, 디펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트 등을 들 수 있다.
상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며, 패턴의 내열성, 내광성, 내화학성, 해상도 및 밀착성이 우수하며, 미반응 개시제로 인한 투과율의 저하를 막을 수 있다.
(F) 용매
상기 용매는 상기 양자점과 상용성을 가지는 용매 및 상기 바인더 수지, 상기 광중합성 단량체, 상기 광중합 개시제, 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물, 후술하는 확산제 및 기타 첨가제와 상용성을 가지되, 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.
상기 양자점과 상용성을 가지는 용매의 예로는, 펜탄, 헥산, 헵탄 등과 같은 알칸류(R-H); 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류(Ar-H); 디이소아밀 에테르, 디부틸 에테르, 에틸렌글리콜 디메틸 에테르 등의 에테르류(R-O-R); 클로로포름, 트리클로로 메탄 등과 같은 알킬 할라이드류(R-X); 사이클로프로판, 사이클로부탄, 사이클로펜탄, 사이클로헥산 등과 같은 사이클로 알칸류 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 바인더 수지, 상기 광중합성 단량체, 상기 광중합 개시제, 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물, 후술하는 확산제 및 기타 첨가제와 상용성을 가지는 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르, n-부틸 에테르, 디이소아밀 에테르, 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화 수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 젖산 메틸, 젖산 에틸 등의 젖산 에스테르류; 옥시 초산 메틸, 옥시 초산 에틸, 옥시 초산 부틸 등의 옥시 초산 알킬 에스테르류; 메톡시 초산 메틸, 메톡시 초산 에틸, 메톡시 초산 부틸, 에톡시 초산 메틸, 에톡시 초산 에틸 등의 알콕시 초산 알킬 에스테르류; 3-옥시 프로피온산 메틸, 3-옥시 프로피온산 에틸 등의 3-옥시 프로피온산 알킬에스테르류; 3-메톡시 프로피온산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸,3-에톡시 프로피온산 메틸 등의 3-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시 프로피온산 메틸, 2-옥시 프로피온산 에틸, 2-옥시 프로피온산 프로필 등의 2-옥시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-메톡시 프로피온산 메틸, 2-메톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 메틸 등의 2-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에스테르류, 2-메톡시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-알콕시-2-메틸 프로피온산 알킬류의 모노옥시 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 2-히드록시 프로피온산 에틸, 2-히드록시-2-메틸 프로피온산 에틸, 히드록시 초산 에틸, 2-히드록시-3-메틸 부탄산 메틸 등의 에스테르류; 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류 등이 있으며, 또한, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐라드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ-부티로락톤, 탄산 에틸렌, 탄산 프로필렌, 페닐 셀로솔브 아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다.
이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시 프로피온산 에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류가 사용될 수 있다.
상기 바인더 수지, 상기 광중합성 단량체, 상기 광중합 개시제, 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물, 후술하는 확산제 및 기타 첨가제와 상용성을 가지는 용매의 함량은 상기 양자점과 상용성을 가지는 용매의 함량의 1배 내지 3배, 예컨대 1배 내지 2배로 사용될 수 있다. 이 경우, 알칼리 현상액에 따른 현상성을 조절하는데 유리한 효과가 있다.
상기 용매는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 30 중량% 내지 80 중량%, 예컨대 40 중량% 내지 75 중량%로 포함될 수 있다. 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 감광성 수지 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 감광성 유기막 제조 시 공정성이 우수하다.
(G) 확산제
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 확산제를 더 포함할 수 있다. 예컨대, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 상기 확산제가 분산된 확산제 분산액을 더 포함할 수 있다. 상기 확산제가 분산되는 분산액으로는 PGMEA 등의 유기용매라면 특별한 제한없이 사용 가능하다.
예컨대, 상기 확산제는 황산바륨(BaSO4), 탄산칼슘(CaCO3), 이산화티타늄(TiO2), 지르코니아(ZrO2) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
상기 확산제는 전술한 광변환 물질에 흡수되지 않은 광을 반사시키고, 상기 반사된 광을 광변환 물질이 다시 흡수할 수 있도록 한다. 즉, 상기 확산제는 광변환 물질에 흡수되는 광의 양을 증가시켜, 감광성 수지 조성물의 광변환 효율을 증가시킬 수 있다.
상기 확산제는 평균 입경(D50)이 150nm 내지 250nm 일 수 있으며, 구체적으로는 180nm 내지 230nm일 수 있다. 상기 확산제의 평균 입경이 상기 범위 내일 경우, 보다 우수한 광확산 효과를 가질 수 있으며, 광변환 효율을 증가시킬 수 있다.
상기 확산제, 구체적으로 상기 확산제 고형분은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 0.5 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 8 중량%로 포함될 수 있다. 상기 확산제가 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 0.5 중량% 미만으로 포함될 경우, 확산제를 사용함에 따른 광변환 효율 향상 효과를 기대하기가 어렵고, 10 중량%를 초과하여 포함할 경우에는 컬러필터 내 감광성 유기막의 패턴특성이 저하되며, 광변환 효율 또한 저하될 수 있다. 즉, 상기 확산제 분산액은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 2.5 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 5 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.
(H) 기타 첨가제
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.
예컨대, 감광성 수지 조성물은 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 비닐기, 카르복실기, 메타크릴옥시기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란계 커플링제를 더 포함할 수 있다.
상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴 벤조산, γ-메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ-이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 실란계 커플링제는 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 실란계 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다.
또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면 활성제, 예컨대 불소계 계면활성제를 더 포함할 수 있다.
상기 불소계 계면활성제로는, BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1100® 등; 다이 닛폰 잉키 가가꾸 고교(주)社의 메카 팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183® 등; 스미토모 스리엠(주)社의 프로라드 FC-135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-431® 등; 아사히 그라스(주)社의 사프론 S-112®, 동 S-113®, 동 S-131®, 동 S-141®, 동 S-145® 등; 도레이 실리콘(주)社의 SH-28PA®, 동-190®, 동-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등; DIC(주)社의 F-482, F-484, F-478, F-554 등의 명칭으로 시판되고 있는 불소계 계면활성제를 사용할 수 있다.
상기 불소계 계면활성제는 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다. 상기 불소계 계면활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, 유리 기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.
또한 상기 감광성 수지 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 더 첨가될 수도 있다.
다른 일 구현예는 전술한 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공한다.
또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다. 상기 컬러필터의 제조 방법은 다음과 같다.
(1) 도포 및 도막 형성 단계
전술한 감광성 수지 조성물을 소정의 전처리를 한 기판 상에 스핀 또는 슬릿 코트법, 롤 코트법, 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여 원하는 두께, 예를 들어 3㎛ 내지 10㎛의 두께로 도포한 후, 약 90℃ 내지 120℃의 온도에서 1분 내지 10분 동안 가열하여 용매를 제거함으로써 도막을 형성한다.
(2) 노광 단계
상기 얻어진 도막에 필요한 패턴 형성을 위해 소정 형태의 마스크를 개재한 뒤, 200nm 내지 500nm의 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로는 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 금속 할로겐화물 램프, 아르곤 가스 레이저 등을 사용할 수 있으며, 경우에 따라 X선, 전자선 등도 이용할 수 있다.
노광량은 상기 감광성 수지 조성물 각 성분의 종류, 배합량 및 건조 막 두께에 따라 다르지만, 예를 들어 고압 수은등을 사용할 경우 500 mJ/cm2 이하(365 nm 센서에 의함)이다.
(3) 현상 단계
상기 노광 단계에 이어, 알칼리성 수용액을 현상액으로 이용하여 불필요한 부분을 용해, 제거함으로써 노광 부분만을 잔존시켜 화상 패턴을 형성시킨다.
(4) 후처리 단계
상기 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 내열성, 내광성, 밀착성, 내크랙성, 내화학성, 고강도, 저장 안정성 등의 면에서 우수한 패턴을 얻기 위해, 다시 가열하거나 활성선 조사 등을 행하여 경화시킬 수 있다.
전술한 감광성 수지 조성물을 이용함으로써, 저온 공정에서도 우수한 내화학성 등의 신뢰성 및 공정성을 얻을 수 있다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
제조예 1
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 10.52g (42.38 mmol), 3-methoxybutyl 3-mercaptopropionate(Wako社) 1.92g (10 mmol) 및 phenylthiophosphonic dichloride(TCI社) 10g (47.38 mmol)을 THF 100g에 교반하며 녹인다. 여기에 Triethylamine(삼전화학) 9.99g을 첨가하고 상온에서 5시간동안 교반한다. 이 후 5㎛ 멤브레인 필터 글래스를 이용하여 triethylamine-hydrochloride salt를 필터링하고, 50g의 THF를 이용하여 세척한 후 걸러진 THF solution을 감압 하에서 농축하여 하기 화학식 4-1로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 2,000 g/mol )을 제조하였다.
[반응식 2]
Figure 112016120108935-pat00097
제조예 2
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 Bis(4-aminophenylether(Alfa Aesar社) 8.49g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-2로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 3,000 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-2]
Figure 112016120108935-pat00098
제조예 3
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 4-4'-diaminodiphenylmetane (Alfa Aesar社) 8.40g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-3으로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 3,500 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-3]
Figure 112016120108935-pat00099
제조예 4
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 1,3-diaminobenzene(Alfa Aesar社) 8.49g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-4로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 2,500 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-4]
Figure 112016120108935-pat00100
제조예 5
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 3,6-dioxa-1,8-octanedithiol(Alfa Aesar社) 7.73g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-5로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 3,500 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-5]
Figure 112016120108935-pat00101
제조예 6
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 2,2'-Thiodiethanethiol(Alfa Aesar社) 8.49g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-6으로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 3,500 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-6]
Figure 112016120108935-pat00102
제조예 7
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 Ethylene glycol bis(mercaptoacetate)(Sigma Aldrich社) 8.91g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-7로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 4,000 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-7]
Figure 112016120108935-pat00103
제조예 8
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 Ethylene glycol bis(3-mercaptopropionate)(Sigma Aldrich社) 10.10g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-8로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 4,000 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-8]
Figure 112016120108935-pat00104
제조예 9
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 1,4-Butanediol bis(3-mercaptopropionate)(Sigma Aldrich社) 10.10g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-9로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 4,000 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-9]
Figure 112016120108935-pat00105
제조예 10
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 1,4-Butanediol bis(3-mercaptopropionate)(Sigma Aldrich社) 11.29g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-10으로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 3,500 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-10]
Figure 112016120108935-pat00106
제조예 11
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 4-mercaptothiophenol(Sigma Aldrich社) 6.03g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-11로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 3,200 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-11]
Figure 112016120108935-pat00107
제조예 12
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 4-4' biphenyldithiol(TCI r社) 9.25g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-12로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 3,500 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-12]
Figure 112016120108935-pat00108
제조예 13
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 Bis(4-mercaptophenyl)ether(Renno Tech社) 5.69g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-13으로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 4,000 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-13]
Figure 112016120108935-pat00109
제조예 14
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 Bis(4-mercaptophenyl)thioether(Renno Tech社) 10.61g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-14로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 3,500 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-14]
Figure 112016120108935-pat00110
제조예 15
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene(TCI社) 14.85g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-15로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 4,500 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-15]
Figure 112016120108935-pat00111
제조예 16
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 Bisphenol A(TCI 社) 9.67g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-16으로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 2,800 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-16]
Figure 112016120108935-pat00112
제조예 17
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 1,4-bis(2-hydroxyethoxy)bezene(TCI社) 8.40g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-17로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 3,500 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-17]
Figure 112016120108935-pat00113
제조예 18
4,4'-diaminodiphenylsulfone(Alfa Aesar社) 대신 1,4-bis(2-hydroxyethoxy)bezene(TCI社) 6.36g (42.38 mmol)을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 실시하여, 하기 화학식 4-18로 표시되는 화합물(GPC 측정에 의한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량: 3,200 g/mol)을 제조하였다.
[화학식 4-18]
Figure 112016120108935-pat00114
제조예 19
9,9-bis(40hydroxyphenyl)fluorine(TCI社) 5g (0.0143mol), epichlorohydrine(Sigma Aldrich社) 2.914g (0.0315mol), tetrabutylammonium chloride(삼전화학) 3397g(0.00143mol) 및 potassium hydroxide (삼전화학) 2.677g (0.0473mol)을 ethanol/THF 혼합용매 15g (ethanol/THF = 1:2 중량비)에 녹인 후, 50℃에서 10시간 동안 교반시켰다. 이후 상온(23℃)으로 내린 후, 감압하에 용매를 제거한 다음, Ethyl acetate 100g을 첨가한 후 증류수룰 이용하여 유기층을 3회 세척하였다. 세척한 유기층을 을 sodium sulfate를 이용하여 수분을 제거하고, 감압필터하고, 필터링된 유기층을 다시 감압하에 건조하여 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 제조하였다.
[화학식 5]
Figure 112016120108935-pat00115
(감광성 수지 조성물 제조)
실시예 1 내지 실시예 18 및 비교예 1 내지 비교예 3
하기 언급된 구성성분들을 이용하여 하기 표 1 내지 표 3에 나타낸 조성으로 실시예 1 내지 실시예 18 및 비교예 1 내지 비교예 3에 따른 감광성 수지 조성물을 각각 제조하였다.
구체적으로, 용매에 광중합 개시제를 용해시킨 후, 1시간 동안 상온에서 충분히 교반하였다. 이어서, 광중합성 단량체, 바인더 수지 및 양자점을 투입하고, 다시 1시간 동안 상온에서 교반하였다. 여기에 상기 제조예 1 내지 제조예 19에 따른 화합물을 첨가하여 30분 동안 상온에서 1시간 정도 충분히 혼합하였다. 이 후, 상기 혼합물을 3회 여과하여 불순물을 제거함으로써, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
(A) 양자점
InP/ZnS 양자점 (fluorescence λem=525nm, FWHM=40nm, Green QD, 한솔케미칼社)
(B) 바인더수지
카도계 바인더 수지 (KBR-101, 경인社)
(C) 광중합성 단량체
디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (DPHA, Nippon Kayaku社)
(D) 광중합 개시제
옥심계 개시제 (PBG-305, Tronyl社)
(E) 추가 화합물
(E-1) 제조예 1에 따른 화합물
(E-2) 제조예 2에 따른 화합물
(E-3) 제조예 3에 따른 화합물
(E-4) 제조예 4에 따른 화합물
(E-5) 제조예 5에 따른 화합물
(E-6) 제조예 6에 따른 화합물
(E-7) 제조예 7에 따른 화합물
(E-8) 제조예 8에 따른 화합물
(E-9) 제조예 9에 따른 화합물
(E-10) 제조예 10에 따른 화합물
(E-11) 제조예 11에 따른 화합물
(E-12) 제조예 12에 따른 화합물
(E-13) 제조예 13에 따른 화합물
(E-14) 제조예 14에 따른 화합물
(E-15) 제조예 15에 따른 화합물
(E-16) 제조예 16에 따른 화합물
(E-17) 제조예 17에 따른 화합물
(E-18) 제조예 18에 따른 화합물
(E-19) 제조예 19에 따른 화합물
(E-20) 카도계 바인더 수지 (V259ME, 신일철화학社)
(F) 용매
(F-1) 사이클로헥산 (Sigma-Aldrich社)
(F-2) 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 (PGMEA, Sigma-Aldrich社)
(G) 확산제
이산화티타늄 분산액 (TiO2 고형분 20중량% in PGMEA, 평균입경: 200nm, 디토테크놀로지㈜)
(단위: 중량%)
실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 실시예 5 실시예 6 실시예 7
(A) 양자점 9.33 9.33 9.33 9.33 9.33 9.33 9.33
(B) 바인더 수지 8.75 8.75 8.75 8.75 8.75 8.75 8.75
(C) 광중합성 단량체 2.70 2.70 2.70 2.70 2.70 2.70 2.70
(D) 광중합 개시제 0.35 0.35 0.35 0.35 0.35 0.35 0.35
(E) 추가 화합물 (E-1) 5.71 - - - - - -
(E-2) - 5.71 - - - - -
(E-3) - - 5.71 - - - -
(E-4) - - - 5.71 - - -
(E-5) - - - - 5.71 - -
(E-6) - - - - - 5.71 -
(E-7) - - - - - - 5.71
(F) 용매 (F-1) 34.54 34.54 34.54 34.54 34.54 34.54 34.54
(F-2) 20.05 20.05 20.05 20.05 20.05 20.05 20.05
(G) 확산제 12.61 12.61 12.61 12.61 12.61 12.61 12.61
(H) 기타 첨가제 5.96 5.96 5.96 5.96 5.96 5.96 5.96
(단위: 중량%)
실시예 8 실시예 9 실시예 10 실시예 11 실시예 12 실시예 13 실시예 14
(A) 양자점 9.33 9.33 9.33 9.33 9.33 9.33 9.33
(B) 바인더 수지 8.75 8.75 8.75 8.75 8.75 8.75 8.75
(C) 광중합성 단량체 2.70 2.70 2.70 2.70 2.70 2.70 2.70
(D) 광중합 개시제 0.35 0.35 0.35 0.35 0.35 0.35 0.35
(E) 추가 화합물 (E-8) 5.71 - - - - - -
(E-9) - 5.71 - - - - -
(E-10) - - 5.71 - - - -
(E-11) - - - 5.71 - - -
(E-12) - - - - 5.71 - -
(E-13) - - - - - 5.71 -
(E-14) - - - - - - 5.71
(F) 용매 (F-1) 34.54 34.54 34.54 34.54 34.54 34.54 34.54
(F-2) 20.05 20.05 20.05 20.05 20.05 20.05 20.05
(G) 확산제 12.61 12.61 12.61 12.61 12.61 12.61 12.61
(H) 기타 첨가제 5.96 5.96 5.96 5.96 5.96 5.96 5.96
(단위: 중량%)
실시예 15 실시예 16 실시예 17 실시예 18 비교예 1 비교예 2 비교예
3
(A) 양자점 9.33 9.33 9.33 9.33 9.33 9.33 9.33
(B) 바인더 수지 8.75 8.75 8.75 8.75 14.46 8.75 8.75
(C) 광중합성 단량체 2.70 2.70 2.70 2.70 2.70 2.70 2.70
(D) 광중합 개시제 0.35 0.35 0.35 0.35 0.35 0.35 0.35
(E) 추가 화합물 (E-15) 5.71 - - - - - -
(E-16) - 5.71 - - - - -
(E-17) - - 5.71 - - - -
(E-18) - - - 5.71 - - -
(E-19) - - - - - 5.71 -
(E-20) - - - - - - 5.71
(F) 용매 (F-1) 34.54 34.54 34.54 34.54 34.54 34.54 34.54
(F-2) 20.05 20.05 20.05 20.05 20.05 20.05 20.05
(G) 확산제 12.61 12.61 12.61 12.61 12.61 12.61 12.61
(H) 기타 첨가제 5.96 5.96 5.96 5.96 5.96 5.96 5.96
평가: 양자점의 광 변환율 및 공정 유지율 평가
실시예 1 내지 실시예 18 및 비교예 1 내지 비교예 3에서 제조된 감광성 수지 조성물을 각각 유리 기판 위에 스핀 코팅기(Mikasa社, Opticoat MS-A150, 150rpm)를 사용하여 10㎛의 두께로 단막 코팅한 후, 열판(hot-plate)을 이용하여 100℃에서 2분 동안 프리-베이킹(pre-baking; PRB)을 하고, 초기 청색 광변환율을 측정하였다.
노광기(Ushio社, ghi broadband)를 이용하여 100mJ/cm2의 출력(power)으로 UV를 조사한 후, convection clean oven(jongro 주식회사)에서 180℃로 30분 동안 포스트-베이킹(post-baking; POB)을 진행하고, 청색 광변환율을 측정하였다.
프리-베이킹 단계 및 포스트-베이킹 단계에 대해, BLU로부터 입사되는 청색광의 녹색으로의 광변환율 및 공정 유지율을 평가하여, 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다. 여기서 청색 광변환율 측정은 CAS 140 CT spectrometer 장비로 측정하였고, diffusing film이 덮인 blue BLU 위에 bare glass를 놓고 디텍터로 측정하여 먼저 reference를 잡은 다음, 같은 위치에서 실시예 1 내지 실시예 18 및 비교예 1 내지 비교예 3에 따른 감광성 수지 조성물이 코팅된 단막을 올려 놓고, 청색광 흡수 피크의 감소량 대비 녹색으로 변환된 피크의 증가량을 계산하여, 광변환율(Green/Blue)을 측정하였다. 또한, 초기 PRB 단계에서의 광변환율이 POB 단계에서 얼마나 유지되는지, 즉 PRB 단계에서 POB 단계까지 진행되는 과정에서의 공정 유지율도 함께 측정하였다.
초기 광 변환율(%) 공정 유지율
(%)
초기 광 변환율(%) 공정 유지율
(%)
실시예 1 28.3 89 실시예 12 27.5 81
실시예 2 28.5 88 실시예 13 27.8 88
실시예 3 28.1 89 실시예 14 27.5 90
실시예 4 27.4 87 실시예 15 28.3 85
실시예 5 28.9 85 실시예 16 28.1 81
실시예 6 28.5 84 실시예 17 28.4 87
실시예 7 27.9 85 실시예 18 27.4 82
실시예 8 28.7 87 비교예 1 25.0 75
실시예 9 28.3 90 비교예 2 25.8 78
실시예 10 28.6 79 비교예 3 26.1 72
실시예 11 29.4 80
상기 표 4에서 보는 바와 같이, 실시예 1 내지 실시예 18에 따른 감광성 수지 조성물은 비교예 1 내지 비교예 3에 따른 감광성 수지 조성물에 비해, 컬러필터 공정이 진행됨에 따른 청색 광변환율 저하가 작고, 공정 유지율이 높음을 확인할 수 있다. 이로부터, 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물 및 양자점을 필수 구성요소로 포함하는 감광성 수지 조성물은 종래 양자점을 필수 구성요소로 포함하는 감광성 수지 조성물에 비해, 컬러필터 공정별 청색 광변환율 저하를 방지하여, 공정 유지율을 효과적으로 상승시킬 수 있음을 확인할 수 있다.
본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.  그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

Claims (12)

  1. (A) 양자점;
    (B) 바인더 수지;
    (C) 광중합성 단량체;
    (D) 광중합 개시제;
    (E) 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물 및
    (F) 용매
    를 포함하는 감광성 수지 조성물:
    [화학식 1]
    Figure 112016120108935-pat00116

    상기 화학식 1에서,
    L1은 *-NH-*, *-O-* 또는 *-S-* 이고,
    L2는 2가의 유기기이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물은 500 g/mol 내지 20,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가지는 감광성 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 L2는 하기 화학식 2-1 내지 화학식 2-9로 표시되는 연결기 중 어느 하나인 감광성 수지 조성물.
    [화학식 2-1]
    Figure 112016120108935-pat00117

    (상기 화학식 2-1에서,
    L3은 단일결합, 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기, *-O-*, *-S-* 또는 *-S(=O)2-* 이다)
    [화학식 2-2]
    Figure 112016120108935-pat00118

    [화학식 2-3]
    Figure 112016120108935-pat00119

    (상기 화학식 2-3에서,
    L4 내지 L6는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
    [화학식 2-4]
    Figure 112016120108935-pat00120

    (상기 화학식 2-4에서,
    L7 및 L8은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
    [화학식 2-5]
    Figure 112016120108935-pat00121

    (상기 화학식 2-5에서,
    L9 내지 L11은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
    [화학식 2-6]
    Figure 112016120108935-pat00122

    (상기 화학식 2-6에서,
    L12 및 L13은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
    [화학식 2-7]
    Figure 112016120108935-pat00123

    (상기 화학식 2-7에서,
    R1 및 R2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이다)
    [화학식 2-8]
    Figure 112016120108935-pat00124

    (상기 화학식 2-8에서,
    L14 및 L15는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다)
    [화학식 2-9]
    Figure 112016120108935-pat00125

    (상기 화학식 2-9에서,
    L16 및 L17은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,
    m은 0 내지 100의 정수이다)
  4. 제1항에 있어서,
    상기 화학식 1로 표시되는 구조단위는 하기 화학식 3-1 내지 화학식 3-18로 표시되는 감광성 수지 조성물.
    [화학식 3-1]
    Figure 112016120108935-pat00126

    [화학식 3-2]
    Figure 112016120108935-pat00127

    [화학식 3-3]
    Figure 112016120108935-pat00128

    [화학식 3-4]
    Figure 112016120108935-pat00129

    [화학식 3-5]
    Figure 112016120108935-pat00130

    [화학식 3-6]
    Figure 112016120108935-pat00131

    [화학식 3-7]
    Figure 112016120108935-pat00132

    [화학식 3-8]
    Figure 112016120108935-pat00133

    [화학식 3-9]
    Figure 112016120108935-pat00134

    [화학식 3-10]
    Figure 112016120108935-pat00135

    [화학식 3-11]
    Figure 112016120108935-pat00136

    [화학식 3-12]
    Figure 112016120108935-pat00137

    [화학식 3-13]
    Figure 112016120108935-pat00138

    [화학식 3-14]
    Figure 112016120108935-pat00139

    [화학식 3-15]
    Figure 112016120108935-pat00140

    [화학식 3-16]
    Figure 112016120108935-pat00141

    [화학식 3-17]
    Figure 112016120108935-pat00142

    [화학식 3-18]
    Figure 112016120108935-pat00143

  5. 제1항에 있어서,
    상기 양자점은 360nm 내지 780nm의 광을 흡수해, 450nm 내지 600nm에서 형광을 방출하는 양자점인 감광성 수지 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 바인더 수지는 카도계 바인더 수지를 포함하는 감광성 수지 조성물.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 감광성 수지 조성물은 확산제를 더 포함하고,
    상기 확산제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 0.5 중량% 내지 10 중량%로 포함되는 감광성 수지 조성물.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 확산제는 황산바륨, 탄산칼슘, 이산화티타늄, 지르코니아 또는 이들의 조합을 포함하는 감광성 수지 조성물.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 감광성 수지 조성물은, 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해,
    상기 (A) 양자점 1 중량% 내지 30 중량%;
    상기 (B) 바인더 수지 1 중량% 내지 30 중량%;
    상기 (C) 광중합성 단량체 1 중량% 내지 20 중량%;
    상기 (D) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 10 중량%;
    상기 (E) 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 화합물 0.1 중량% 내지 30 중량% 및
    상기 (F) 용매 잔부량
    을 포함하는 감광성 수지 조성물.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 감광성 수지 조성물은 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막.
  12. 제11항의 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터.
KR1020160165978A 2016-12-07 2016-12-07 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터 KR101974841B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160165978A KR101974841B1 (ko) 2016-12-07 2016-12-07 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160165978A KR101974841B1 (ko) 2016-12-07 2016-12-07 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180065325A KR20180065325A (ko) 2018-06-18
KR101974841B1 true KR101974841B1 (ko) 2019-05-03

Family

ID=62767871

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160165978A KR101974841B1 (ko) 2016-12-07 2016-12-07 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101974841B1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102287216B1 (ko) * 2019-03-19 2021-08-06 삼성에스디아이 주식회사 양자점 함유 경화성 조성물, 이를 이용한 수지막 및 디스플레이 장치
KR102599002B1 (ko) * 2020-11-23 2023-11-03 삼성에스디아이 주식회사 경화성 조성물, 이를 이용한 경화막, 컬러필터 및 디스플레이 장치
KR102648366B1 (ko) * 2020-12-08 2024-03-14 삼성에스디아이 주식회사 전기영동 장치용 경화성 조성물, 이를 이용한 감광성 경화막 및 전기영동 장치

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015044760A (ja) 2013-08-27 2015-03-12 学校法人東京理科大学 塩基増殖剤及び当該塩基増殖剤を含有する塩基反応性樹脂組成物

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05279479A (ja) * 1992-03-31 1993-10-26 Tokuyama Soda Co Ltd 重合性組成物
KR20130136259A (ko) * 2012-06-04 2013-12-12 삼성전자주식회사 양자점을 이용한 발광소자 패키지
KR102126176B1 (ko) * 2014-02-05 2020-06-25 삼성디스플레이 주식회사 파장 변환 부재 및 그 제조 방법, 및 이를 포함하는 백라이트 어셈블리
KR101895356B1 (ko) * 2015-03-24 2018-09-05 동우 화인켐 주식회사 자발광 감광성 수지 조성물, 이로부터 제조된 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 화상표시장치

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015044760A (ja) 2013-08-27 2015-03-12 学校法人東京理科大学 塩基増殖剤及び当該塩基増殖剤を含有する塩基反応性樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180065325A (ko) 2018-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101906279B1 (ko) 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101976659B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
TWI689781B (zh) 包含量子點的組成物、量子點與畫素的製造方法以及彩色濾光器
KR101970724B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막 및 이를 이용한 컬러필터
KR101858086B1 (ko) 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20170101005A (ko) 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101998731B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막 및 이를 이용한 컬러필터
KR102028640B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막 및 이를 이용한 컬러필터
TW202028418A (zh) 量子點、組合物與使用其的固化層、包含固化層的濾色器與顯示裝置以及製造固化層的方法
KR101869392B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 유기막 및 컬러필터
KR101895909B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 컬러필터 및 컬러필터 제조방법
KR101858085B1 (ko) 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20190047573A (ko) 양자점 함유 감광성 수지 조성물, 양자점 제조방법 및 컬러필터
TW201925915A (zh) 可固化組成物、感光性樹脂組成物、感光性樹脂膜、彩色濾光片及製造像素的方法
KR102237366B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
KR20180047317A (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
KR101974841B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터
KR101998732B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터
KR101931249B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러필터
KR102244473B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
KR101863248B1 (ko) 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
TWI791937B (zh) 包括量子點的可固化組成物、包括其的樹脂層以及顯示裝置
KR101837969B1 (ko) 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20190065865A (ko) 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 포함하는 화상표시장치
KR102471748B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right