KR101960925B1 - Total pitch measuring apparatus of optical film - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 패시브 방식의 디스플레이에 적용되며 서로 다른 광축을 갖는 L 패턴과 R 패턴을 구비하는 광학 필름의 총 피치 측정장치는, 광학 필름이 안착되는 스테이지, 스테이지에 안착된 광학 필름의 총 피치를 촬영하며, 광학 필름의 L 패턴과 R 패턴의 수직 방향으로 이동 가능하게 스테이지에 장착되는 촬영 유닛 및 스테이지와 촬영 유닛 사이에 배치되며, 소정의 편광축을 갖는 적어도 둘 이상의 필터를 구비하는 필터 유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다.An apparatus for measuring the total pitch of an optical film having an L pattern and an R pattern, which are applied to a passive display according to an embodiment of the present invention and have different optical axes, includes a stage on which an optical film is seated, And at least two filters disposed between the stage and the photographing unit and having a predetermined polarization axis, the photographing unit being mounted on the stage so as to be movable in the vertical direction of the L pattern and the R pattern of the optical film, And a filter unit.

Description

광학 필름의 총 피치 측정장치{TOTAL PITCH MEASURING APPARATUS OF OPTICAL FILM}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an optical film measuring apparatus,

본 발명은 광학 필름의 총 피치 측정장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for measuring the total pitch of an optical film.

일반적으로, 인간이 3차원 입체감을 느끼는 이유는 우안과 좌안이 시차를 두고 사물을 인지하기 때문인 것으로 알려져 있다. 즉, 인간의 두 눈은 약 65cm의 간격을 두고 떨어져 위치하기 때문에, 입체감의 인식은 서로 약간 다른 방향의 영상을 보는 과정에서 발생하는 양안 시차에 근거한다.Generally, it is known that human being feels three dimensional feeling because the right eye and the left eye perceive objects with time lag. In other words, because the human eyes are spaced about 65 cm apart, the perception of stereoscopic effect is based on the binocular disparity that occurs in the process of viewing images in slightly different directions.

최근, 사람의 양안에 시차가 있는 영상들을 입력시키는 방법으로 입체 영상을 구현할 수 있는 입체 영상 표시 시스템들에 대한 관심이 높아 지고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, there has been a growing interest in stereoscopic image display systems capable of implementing stereoscopic images by inputting images with parallax in both sides of a person.

일반적으로, 입체 영상 디스플레이 기기들은 셔터 안경, 미세 편광기(Micro Polarizer), 패턴드 리타더(Patterned Retarder) 등과 같은 안경식 3D 디스플레이, 패럴렉스 배리어(Parallax Barrier), 렌티큘러 렌즈(Lenticular Lens) 등과 같은 무안경식 3D 디스플레이, 및 홀로그램식 3D 디스플레이로 구분될 수 있다. 이것들 중에서, 입체 영상 디스플레이 기기는 액티브 방식(셔터 글라스 방식)과, 패시브 방식(FPR 방식)이 보편화 되어 있다.2. Description of the Related Art Generally, stereoscopic image display devices are classified into stereoscopic image display devices such as a spectacular 3D display such as a shutter glasses, a micro polarizer, a patterned retarder and the like, a parallax barrier, a lenticular lens, A 3D display, and a holographic 3D display. Of these, stereoscopic image display devices have become popular as active systems (shutter glass systems) and passive systems (FPR systems).

액티브 방식의 디스플레이는 좌, 우에 해당하는 화면을 매우 빠른 속도로 교대로 송출하고, 이에 맞춰 사용자가 착용한 입체 안경도 이러한 송출 영상에 연동되어 함께 작동된다. 즉, 액티브 방식은 소위, "시간 분할 방식"으로서, 좌안용 영상의 경우 좌안 렌즈가 열릴 때 우안 렌즈가 닫히는 반면, 우안용 영상은 우안 렌즈가 열릴 때 좌안 렌즈가 닫히는 구조이다. 이 방식은 화면을 또렷하게 볼 수 있다는 장점이 있으나, 디스플레이와 안경의 움직임을 동기화시켜야 하는 고도의 기술이 필요하다.In the active display, the left and right screens are alternately transmitted at a very high speed, and the stereoscopic glasses worn by the user in accordance therewith are also operated in conjunction with the output video. That is, the active method is a so-called "time division method ", in the case of a left eye image, the right eye lens is closed when the left eye lens is opened, while the right eye image is a structure in which the left eye lens is closed when the right eye lens is opened. This approach has the advantage of being able to see the screen clearly, but it requires a high level of skill to synchronize the movement of the display with the glasses.

패시브 방식의 디스플레이는 소위, "공간 분할 방식"으로서, 서로 다른 편광 특성을 갖는 좌안용 영상과 우안용 영상을 송출할 수 있으며 전면에 편광 필터가 부착된 디스플레이와 사용자가 착용하는 편광 안경을 구비한다. 편광 안경의 좌안 렌즈에는 디스플레이로부터 송출되는 좌안용 영상만 투시되고, 편광 안경의 우안용 렌즈에는 디스플레이의 우안용 영상만 투시됨으로써 사용자가 입체감을 느낄 수 있다. 이러한 패시브 방식은 기술적 어려움 없이 구현이 용이하다. Passive display is a so-called "space division method" in which a left-eye image and a right-eye image having different polarization characteristics can be transmitted, a display on which a polarizing filter is attached on the front side, and polarizing glasses worn by the user . Only the left eye image transmitted from the display is viewed through the left eye lens of the polarizing glasses and only the right eye image is viewed through the right eye lens of the polarizing glasses. This passive scheme is easy to implement without technical difficulties.

그런데, 패시브 방식에 사용되는 편광 필터는, 편광판 자체가 좌안용 영상 표시부와 우안용 영상 표시부에 대응되도록 패터닝되어 있거나, 편광판에 좌안용 영상 표시부와 우안용 영상 표시부에 각각 대응되도록 편광판에 부착될 수 있는 패터닝된 위상차판(광학 필터)과 같은 L 패턴(좌안용 패턴)과 R 패턴(우안용 패턴)이 구비된, 소위, 패턴드 리타드 필름(FPR: Film type Patterned Retarder)을 사용한다.However, the polarizing filter used in the passive system can be attached to the polarizing plate so that the polarizing plate itself is patterned so as to correspond to the left and right eye image display units, or the polarizing plates are respectively associated with the left and right eye image display units Called patterned retarded film (FPR) having an L pattern (left eye pattern) and an R pattern (right eye pattern) such as a patterned retardation film (optical filter)

또한, 패턴드 리타더(Patterned Retarder)는 기재의 종류에 따라 유리-타입과 필름-타입으로 구분된다. 그러나, 유리-타입 패턴드 리타더는 디스플레이의 대형화 추세에 부합하기 어렵기 때문에, 최근에는 유기 고분자 필름을 기재로 사용하는 패턴드 리타더(Patterned Retarder) 필름이 대세를 이루고 있다. In addition, patterned retarders are classified into glass-type and film-type depending on the type of substrate. However, since the glass-type pattern reliader is difficult to meet the trend of enlargement of the display, recently, a patterned retarder film using an organic polymer film as a substrate has been popular.

그런데, 패턴드 리타더에 형성된 패턴의 크기는 화소 또는 화소 단위 넓이에 해당하여 매우 정교하며 대개 그 패턴의 형태가 LCD의 행 또는 열에 맞추어 형성되고 이를 LCD에 장착할 때 LCD 픽셀의 행 또는 열의 위치와 정확히 일치(Align)시켜 부착해야 할 필요성이 있기 때문에 패턴드 리타더의 제조 과정에서 치수 불량의 발생을 억제해야 함은 물론, 패턴드 리타더의 액정층, 배양층 등의 손상에 기인하는 위상 변화에 의한 불량(2D용 디스플레이 패널의 불량과 무관함)을 엄격하게 제어해야 할 필요성이 있다.However, the size of a pattern formed in the patterned retarder corresponds to the width of a pixel or a pixel and is very precise, and the shape of the pattern is generally formed in accordance with the row or column of the LCD. When the pattern is formed on the LCD, It is necessary to suppress the occurrence of dimensional defects in the manufacturing process of the patterned retarder, and it is necessary to suppress the occurrence of the phase due to the damage of the liquid crystal layer and the culture layer of the patterned retarder, There is a need to strictly control the defects due to the change (irrelevant to the defect of the display panel for 2D).

또한, 종래의 제조 방식에 따르면, 완성된 패턴드 리타더는 운송 불량 등의 이유로 보호 필름을 부착시켜 디스플레이 패널 제조사로 인도되고, 인도된 패턴드 리타더는 패널에 최종적으로 부착되기 전에 예를 들어, 편광판 2장을 크로스시켜 육안으로 검사하는 소위 "풀라인(Full Line)" 검사 방식을 이용하고 있기 때문에 불량률이 매우 높아지는 문제점이 있고, 패턴드 리타더를 제조한 후 총-피치를 측정하는 것은 그 만큼 제조 공정이 복잡해지고, 불량의 확률이 높아지는 문제점이 있었다.In addition, according to the conventional manufacturing method, the completed pattern reliader is attached to a protective film by reason of transportation defect or the like and is led to the display panel manufacturer, and the delivered pattern reliader is transferred to the panel before being finally attached to the panel, Quot; Full Line "inspection method in which two polarizing plates are crossed and inspected with the naked eye, there is a problem in that the defect rate becomes very high. In order to measure the total-pitch after manufacturing the patterned retarder There is a problem that the manufacturing process becomes complicated and the probability of defects increases.

한편, 패턴드 리타더 필름은 그 제조 과정에서 기재의 표면을 코로나 처리하여 기재에 대한 배향막 등의 인쇄를 용이하게 한다. 그런데, 이러한 코로나 처리 공정은 최종적으로 생산되는 패턴드 리타더 필름의 광직진성을 저하시키는 요인이므로 이에 대한 해결책이 요구되고 있다.On the other hand, the patterned retarder film facilitates printing of an alignment film or the like on a substrate by corona treatment of the surface of the substrate during its production. However, such a corona treatment process is a factor that deteriorates the optical linearity of the patterned retarder film finally produced, and a solution thereof is required.

FPR(Film type Patterned Retarder) 필름의 생산 공정에서, "총 피치"는 FPR 제품의 주요한 5개의 품질 보증 항목들 중 하나로서, 상, 하 시야각 및 3D 구현에 영향을 주는 주요 인자들 중 하나이다.In the production process of film type patterned retarder (FPR) film, "total pitch" is one of the main five factors affecting the top and bottom view angles and 3D implementation.

일반적으로, FPR 필름은 온도 및/또는 습도에 민감하여, 공정 이동 중에 필름이 수축 또는 팽창할 가능성이 높기 때문에, 최종적으로 생산되는 FPR 필름의 품질을 보장하기 위해서 정밀 코팅 공정에서 총 피치를 기준치의 범위에 놓이도록 제어할 필요가 있고, 그러한 제어를 위한 기준값 산출을 위한 장비가 필요하다.In general, FPR films are sensitive to temperature and / or humidity, and therefore the film is likely to shrink or expand during process migration, so that in order to ensure the quality of the final produced FPR film, And it is necessary to provide equipment for calculating the reference value for such control.

또한, FPR 필름의 제조 과정에서, 총 피치의 불량이 발생하면 예를 들어, 1080개의 픽셀 라인들로 구성된 3D 필름의 구현성이 저하되어 제품의 대량 손실 및 고객사로부터의 품질 불량에 대한 클레임이 발생된다. 이러한 문제를 방지하기 위해서는 FPR 필름의 총 피치를 측정할 장비가 필요하다.In addition, when the total pitch is defective in the manufacturing process of the FPR film, for example, a 3D film composed of 1080 pixel lines is degraded, and a large loss of the product and a quality defect from the customer are caused do. To prevent this problem, equipment for measuring the total pitch of the FPR film is required.

그런데, 지금까지 알려진 선행기술에 의하면, 3차원의 FPR 필름의 총-피치를 측정할 수 있는 장비들이 존재하지 않았을 뿐만 아니라, 종래의 다른 설비들을 이용하게 되면 측정 오차가 너무 크고 또한 측정 시간이 오래 걸리는 문제가 있다.However, according to the prior art known to date, not only are there no apparatuses capable of measuring the total-pitch of three-dimensional FPR films, but also when using other conventional facilities, measurement errors are too large, There is a problem.

그러므로, FPR 필름의 총 피치 측정시 측정 오차를 줄이고 신속한 측정을 할 수 있는 광학 필름의 총 피치 측정장치를 제공할 수 있는 방안의 모색이 요청된다.Therefore, there is a need to search for a method for providing a total pitch measuring apparatus for an optical film capable of reducing the measurement error and measuring quickly when measuring the total pitch of the FPR film.

따라서, 본 발명의 목적은, 광학 필름의 총 피치 측정시 측정 오차를 줄이고 신속한 측정을 할 수 있는 광학 필름의 총 피치 측정장치를 제공하는 데 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide an apparatus for measuring the total pitch of an optical film, which can reduce the measurement error when measuring the total pitch of the optical film and enable rapid measurement.

상기 목적을 해결하기 위해, 본 발명은, 패시브 방식의 디스플레이에 적용되며 서로 다른 광축을 갖는 L 패턴과 R 패턴을 구비하는 광학 필름의 총 피치 측정장치로서, 상기 광학 필름이 안착되는 스테이지; 상기 스테이지에 안착된 광학 필름의 총 피치를 촬영하며, 상기 광학 필름의 L 패턴과 R 패턴의 수직 방향으로 이동 가능하게 상기 스테이지에 장착되는 촬영 유닛; 및 상기 스테이지와 상기 촬영 유닛 사이에 배치되며, 소정의 편광축을 갖는 적어도 둘 이상의 필터를 구비하는 필터 유닛;을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총 피치 측정장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an apparatus for measuring the total pitch of an optical film having an L pattern and an R pattern which are applied to a passive display and have different optical axes, the apparatus comprising: A photographing unit which photographs the total pitch of the optical film seated on the stage and is mounted on the stage so as to be movable in a direction perpendicular to the L pattern and the R pattern of the optical film; And a filter unit disposed between the stage and the photographing unit, the filter unit having at least two filters having a predetermined polarization axis.

상기 적어도 둘 이상의 필터는 서로 다른 편광축을 가질 수 있다.The at least two filters may have different polarization axes.

상기 필터는 두 개로 구비되며, 상기 두 개의 필터의 편광축은 각각 0도 및 90도일 수 있다.The two filters are provided, and the polarization axes of the two filters may be 0 degrees and 90 degrees, respectively.

상기 필터는 세 개로 구비되며, 상기 세 개의 필터의 편광축은 각각 0도, 45도 및 90도일 수 있다.The filters may be provided in three, and the polarization axes of the three filters may be 0 degrees, 45 degrees, and 90 degrees, respectively.

상기 적어도 둘 이상의 필터는 상기 광학 필름의 L 패턴과 R 패턴 방향을 따라 나란히 배치될 수 있다.The at least two filters may be arranged along the L pattern and the R pattern direction of the optical film.

상기 광학 필름의 총 피치 측정장치는 상기 광학 필름을 사이에 두고 상기 촬영 유닛에 대향 배치되며, 상기 광학 필름을 향해 빛을 조사하는 광원 유닛;을 더 포함할 수 있다.The apparatus for measuring the total pitch of the optical film may further include a light source unit disposed opposite to the photographing unit with the optical film interposed therebetween, and irradiating light toward the optical film.

상기 광원 유닛은 상기 스테이지에 고정 장착될 수 있다.The light source unit may be fixedly mounted on the stage.

상기 광원 유닛은 상기 촬영 유닛의 이동에 대응되게 상기 광학 필름의 L 패턴과 R 패턴의 수직 방향으로 이동 가능하게 상기 스테이지에 장착될 수 있다.The light source unit may be mounted on the stage so as to be movable in a direction perpendicular to the L pattern and the R pattern of the optical film in correspondence with the movement of the photographing unit.

상기 광학 필름의 총 피치 측정장치는 상기 광원 유닛과 상기 광학 필름의 사이에 배치되며, 상기 광원 유닛으로부터 조사된 빛을 편광시키는 조명 필터;를 더 포함할 수 있다.The apparatus for measuring the total pitch of the optical film may further include an illumination filter disposed between the light source unit and the optical film, for polarizing the light emitted from the light source unit.

상기 광학 필름은 FPR 필름일 수 있다.The optical film may be an FPR film.

이상과 같은 다양한 실시예들에 따라, 광학 필름의 총 피치 측정시 측정 오차를 줄이고 신속한 측정을 할 수 있는 광학 필름의 총 피치 측정장치를 제공할 수 있다.According to various embodiments as described above, it is possible to provide an apparatus for measuring the total pitch of an optical film, which can reduce the measurement error and measure quickly when measuring the total pitch of the optical film.

구체적으로, 본 실시예에 따른 광학 필름의 총 피치 측정장치(10)는 촬영 유닛의 1회 촬영으로 다수의 영상 데이터를 확보할 수 있기에, 상대적인 비교 분석에 따른 보다 더 정확한 광학 필름의 총 피치 측정이 가능할 수 있다.More specifically, since the apparatus 10 for measuring the total pitch of the optical film according to the present embodiment can acquire a large number of image data in one shot of the photographing unit, it is possible to measure the total pitch of the optical film more accurately May be possible.

또한, 본 실시예에 따른 광학 필름의 총 피치 측정장치는 1회 촬영으로도 다수의 영상 데이터를 획득하므로, 보다 더 신속한 측정을 도모할 수 있다.In addition, since the apparatus for measuring the total pitch of the optical film according to the present embodiment acquires a large number of image data even by one-time shooting, it is possible to measure more quickly.

아울러, 본 실시예에 따른 광학 필름의 총 피치 측정장치는 1회 촬영으로 획득된 다수의 영상 데이터 중 상대적으로 더 선명한 영상 데이터 분석을 통해, 광학 필름의 총 피치의 측정 정확도를 보다 더 향상시킬 수 있다.In addition, the apparatus for measuring the total pitch of the optical film according to the present embodiment can further improve the measurement accuracy of the total pitch of the optical film through relatively clearer image data analysis among the plurality of image data obtained by one shot have.

도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름의 총 피치 측정장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 도 1의 광학 필름의 총 피치 측정장치를 통해 측정되는 광학 필름의 광 패턴의 일부를 개략적으로 도시한 확대 평면도이다.
도 4 및 도 5는 도 1의 광학 필름의 총 피치 측정장치의 필터 유닛을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 도 1의 광학 필름의 총 피치 측정장치를 통한 광학 필름의 이미지 획득을 설명하기 위한 도면이다.
도 7 내지 도 9는 도 1의 광학 필름의 총 피치 측정장치의 다른 실시예에 따른 필터 유닛을 설명하기 위한 도면이다.1 and 2 are views for explaining an apparatus for measuring the total pitch of an optical film according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is an enlarged plan view schematically showing a part of a light pattern of an optical film measured through a total pitch measuring apparatus of the optical film of FIG. 1;
Figs. 4 and 5 are views for explaining the filter unit of the total pitch measuring apparatus of the optical film of Fig. 1. Fig.
FIG. 6 is a view for explaining image acquisition of an optical film through the apparatus for measuring the total pitch of the optical film of FIG. 1;
7 to 9 are views for explaining a filter unit according to another embodiment of the total pitch measuring apparatus of the optical film of FIG.

본 발명은 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명함으로써 더욱 명백해 질 것이다. 여기서 설명되는 실시예는 발명의 이해를 돕기 위하여 예시적으로 나타낸 것이며, 본 발명은 여기서 설명되는 실시예와 다르게 다양하게 변형되어 실시될 수 있음이 이해되어야 할 것이다. 또한, 발명의 이해를 돕기 위하여, 첨부된 도면은 실제 축척대로 도시된 것이 아니라 일부 구성요소의 치수가 과장되게 도시될 수 있다.The present invention will become more apparent by describing in detail preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. It is to be understood that the embodiments described herein are illustrated by way of example for purposes of clarity of understanding and that the present invention may be embodied with various modifications and alterations. Also, for ease of understanding of the invention, the appended drawings are not drawn to scale, but the dimensions of some of the components may be exaggerated.

도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름의 총 피치 측정장치를 설명하기 위한 도면이다.1 and 2 are views for explaining an apparatus for measuring the total pitch of an optical film according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 먼저, 광학 필름(F)은 패시브 방식의 디스플레이에 적용되는 필름으로서, 서로 다른 광축을 L 패턴(좌안용 패턴)과 R 패턴(우안용 패턴)을 복수 개로 구비하는 FPR 필름으로 구비될 수 있다. 이하에서는, 이러한 광학 필름(F)의 총 피치를 측정하기 위한 광학 필름(F)의 총 피치 측정장치(10)를 살펴보겠다.Referring to FIGS. 1 and 2, first, the optical film F is a film applied to a passive display, and has a plurality of optical axes L (left eye pattern) and R (right eye pattern) As an FPR film. Hereinafter, the total pitch measuring apparatus 10 of the optical film (F) for measuring the total pitch of the optical film (F) will be described.

상기 광학 필름(F)의 총 피치 측정장치(10)는, 스테이지(100), 촬영 유닛(200), 광원 유닛(300), 조명 필터(400) 및 필터 유닛(500)을 포함할 수 있다.The total pitch measuring apparatus 10 of the optical film F may include a stage 100, a photographing unit 200, a light source unit 300, a lighting filter 400 and a filter unit 500.

상기 스테이지(100)에는 상기 광학 필름(F)을 안착될 수 있다. 아울러, 상기 스테이지(100)에는 상기 광학 필름(F)의 총 피치 촬영을 위해, 상기 촬영 유닛(200), 상기 광원 유닛(300), 상기 조명 필터(400) 및 상기 필터 유닛(500)가 장착될 수 있다.The optical film (F) may be seated on the stage (100). The light source unit 300, the illumination filter 400 and the filter unit 500 are mounted on the stage 100 for the total pitch photographing of the optical film F. [ .

이를 위해, 상기 스테이지(100)는 필름 안착부(110), 필름 흡착패드(120) 및 이송부(150)를 포함할 수 있다.To this end, the stage 100 may include a film seating unit 110, a film adsorption pad 120, and a transfer unit 150.

상기 필름 안착부(110)에는 상기 광학 필름(F)이 안착될 수 있다. 이를 위해, 상기 필름 안착부(110)는 적어도 상기 광학 필름(F)의 면적에 대응되는 면적을 갖도록 형성될 수 있다.The optical film (F) may be seated on the film seating part (110). To this end, the film seating part 110 may be formed to have an area corresponding to at least the area of the optical film F. [

상기 필름 흡착패드(120)는 상기 필름 안착부(110)에 구비될 수 있으며, 상기 광학 필름(F)을 흡착하여 상기 광학 필름(F)을 상기 필름 안착부(110)에 안정적으로 안착시킬 수 있다.The film adsorption pad 120 may be provided in the film deposition unit 110 and may adsorb the optical film F to stably mount the optical film F on the film deposition unit 110 have.

상기 이송부(150)는 상기 촬영 유닛(200)를 이동시키기 위한 것으로서, 상기 광학 필름(F)의 L 패턴과 R 패턴의 수직 방향, 즉, 도 1에서의 세로 방향으로 상기 촬영 유닛(200)을 이동시킬 수 있다. 또한, 상기 이송부(150)는 상기 촬영 유닛(200)을 상기 광학 필름(F)의 L 패턴과 R 패턴에 나란한 방향, 즉, 도 1에서의 가로 방향으로 상기 촬영 유닛(200)을 이동시킬 수도 있다.The transfer unit 150 is provided to move the photographing unit 200 in the vertical direction of the L pattern and the R pattern of the optical film F, Can be moved. The transfer unit 150 may move the photographing unit 200 in the direction parallel to the L pattern and the R pattern of the optical film F, that is, in the lateral direction in FIG. 1 have.

상기 촬영 유닛(200)은 상기 스테이지(100)의 상기 필름 안착부(110)에 안착된 상기 광학 필름(F)의 개별 패턴이나 총 피치를 촬영하기 위한 것으로서, 상기 광학 필름(F)의 L 패턴과 R 패턴의 수직 방향으로 이동 가능하게 상기 스테이지(100)의 상기 이송부(150)에 장착될 수 있다.The photographing unit 200 photographs an individual pattern or a total pitch of the optical film F that is seated on the film seating portion 110 of the stage 100. The photographing unit 200 photographs an L pattern And the transfer unit 150 of the stage 100 so as to be movable in the vertical direction of the R pattern.

상기 광원 유닛(300)은 상기 광학 필름(F)을 향해 빛을 조사하기 위한 것으로서, 상기 광학 필름(F)을 사이에 두고 상기 촬영 유닛(200)에 대향 배치될 수 있다.The light source unit 300 is for irradiating light toward the optical film F and may be disposed opposite to the imaging unit 200 with the optical film F interposed therebetween.

상기 광원 유닛(300)은 LED 조명을 이용할 수 있다. 이에 한정되는 것은 아니며, LED 조명 이외의 기타 일반적인 조명 기구들이 이용될 수 있음을 당업자는 이해할 것이다.The light source unit 300 may use LED illumination. Those skilled in the art will appreciate that other lighting fixtures other than LED lighting may be used.

상기 광원 유닛(300)은 상기 스테이지(100)에 장착될 수 있는데, 상기 스테이지(100)에 고정 장착되거나 또는 상기 스테이지(100)에 이동 가능하게 장착될 수 있다. 상기 스테이지(100)에 이동 가능하게 장착될 경우, 상기 광원 유닛(300)은 상기 촬영 유닛(200)의 이동에 대응되게 상기 광학 필름(F)의 L 패턴과 R 패턴의 수직 방향으로 이동 가능하게 상기 스테이지(100)에 장착될 수 있다.The light source unit 300 may be mounted on the stage 100 and may be fixedly mounted on the stage 100 or movably mounted on the stage 100. The light source unit 300 can be moved in the vertical direction of the L pattern and the R pattern of the optical film F in accordance with the movement of the photographing unit 200 when the light source unit 300 is movably mounted on the stage 100 And may be mounted on the stage 100.

상기 조명 필터(400)는 상기 광원 유닛(300)으로부터 조사된 빛을 편광시키며, 상기 광원 유닛(300)과 상기 광학 필름(F)의 사이에 배치될 수 있다. 구체적으로, 상기 조명 필터(400)는 상기 광학 필름(F)의 종류에 상응하는 특정의 각도로 편광 기능을 수행할 수 있다.The illumination filter 400 may polarize light emitted from the light source unit 300 and be disposed between the light source unit 300 and the optical film F. [ Specifically, the illumination filter 400 may perform a polarization function at a specific angle corresponding to the type of the optical film F.

또한, 상기 조명 필터(400)는 상기 광학 필름(F)의 각각의 패턴 경계 지역에 따른 위상 변화를 보상할 수 있다. 즉, 상기 조명 필터(400)는 촬영 유닛(200)을 통해 광학 필름(F)의 총 피치를 촬영하기 전에 광학 필름(F)의 위상차 및 광축에 적합한 위치를 찾을 수 있다. 이를 위해, 상기 조명 필터(400)는 CPL 필터로 구비될 수 있다.In addition, the illumination filter 400 may compensate for a phase change according to each pattern boundary region of the optical film (F). That is, the illumination filter 400 can find a suitable position for the phase difference and the optical axis of the optical film F before taking the total pitch of the optical film F through the photographing unit 200. For this, the illumination filter 400 may be a CPL filter.

상기 필터 유닛(500)은 상기 스테이지(100)와 상기 촬영 유닛(200) 사이에 배치되며, 소정의 편광축을 갖는 적어도 둘 이상의 필터(510, 520, 도 4 및 도 5 참조)를 구비할 수 있다. 이러한 상기 필터 유닛(500)에 대해서는 하기 도면들을 통해 더 자세히 살펴 보겠다.The filter unit 500 may include at least two filters 510 and 520 (see FIGS. 4 and 5) disposed between the stage 100 and the photographing unit 200 and having a predetermined polarization axis . The filter unit 500 will be described in more detail with reference to the drawings.

도 3은 도 1의 광학 필름의 총 피치 측정장치를 통해 측정되는 광학 필름의 광 패턴의 일부를 개략적으로 도시한 확대 평면도이다.FIG. 3 is an enlarged plan view schematically showing a part of a light pattern of an optical film measured through a total pitch measuring apparatus of the optical film of FIG. 1;

도 3을 참조하면, 도 3의 세로 방향은 상기 광학 필름(F)의 폭 방향으로서, 상기 이송부(150, 도 1 참조)에 의한 상기 촬영 유닛(200)의 이동 방향일 수 있다. 즉, 앞선 상기 광학 필름(F)의 L 패턴과 R 패턴의 수직 방향일 수 있다.3, the longitudinal direction of FIG. 3 may be the moving direction of the photographing unit 200 by the conveyance unit 150 (see FIG. 1), as the width direction of the optical film F. FIG. That is, it may be a direction perpendicular to the L pattern and the R pattern of the optical film (F).

여기서, 상기 광학 필름(F)의 총 피치는 상기 광학 필름(F)에 형성된 광학 패턴들에 있어서, 각각의 광학 패턴의 총 피치를 의미하는 것으로서, 도 3의 경우, 상기 광학 필름(F)의 임의의 광학 패턴의 상측 가장자리의 제1 기준선(R1)과 하측 가장자리의 제2 기준선(R2) 사이의 거리를 의미할 수 있다.Here, the total pitch of the optical film (F) refers to the total pitch of each optical pattern in the optical patterns formed on the optical film (F). In the case of FIG. 3, May mean the distance between the first reference line R1 at the upper edge of the arbitrary optical pattern and the second reference line R2 at the lower edge.

여기서, 상기 제1 기준선(R1)은 위로부터 세 번째 패턴 영역(P3)과 네 번째 패턴 영역(P4) 사이의 선이고, 상기 제2 기준선(R2)는 아래로부터 네 번째 패턴 영역(P2)과 다섯 번째 패턴 영역(P1) 사이의 선일 수 있다.Here, the first reference line R1 is a line between a third pattern region P3 and a fourth pattern region P4 from the top, the second reference line R2 is a line between the fourth pattern region P2 from the bottom, And may be a line between the fifth pattern regions P1.

또한, 도 3에서, 총 피치는 1080개의 패턴 영역들의 개별 피치들의 총 합이다. 여기서, 1080개의 패턴 영역들은 디스플레이 장치의 픽셀 라인들에 대응되고, 상측 가장자리와 하측 가장자리의 각각의 두 개의 패턴 영역들은 최종 디스플레이 장치에 사용될 경우 버려지는 부분일 수 있다.Also, in Figure 3, the total pitch is the sum of the individual pitches of the 1080 pattern areas. Here, the 1080 pattern areas correspond to the pixel lines of the display device, and the two pattern areas of the upper edge and the lower edge, respectively, may be discarded parts when used in the final display device.

일반적으로, 상기 광학 필름(F)의 총 피치는 상기 디스플레이 장치의 크기 또는 고객의 요구 사항 등에 달라질 수 있지만 대략 60 마이크로미터 내지 150 마이크로미터 사이에 결정될 수 있다.Generally, the total pitch of the optical film (F) may be determined between about 60 micrometers and 150 micrometers, although it may vary depending on the size of the display device or the requirements of a customer.

이하에서는, 이러한 상기 광학 필름(F)의 총 피치를 측정하기 위한 본 실시예에 따른 구성 및 동작에 대해 더 자세히 살펴 본다.Hereinafter, the structure and operation according to this embodiment for measuring the total pitch of the optical film (F) will be described in more detail.

도 4 및 도 5는 도 1의 광학 필름의 총 피치 측정장치의 필터 유닛을 설명하기 위한 도면이며, 도 6은 도 1의 광학 필름의 총 피치 측정장치를 통한 광학 필름의 이미지 획득을 설명하기 위한 도면이다.4 and 5 are views for explaining a filter unit of the total pitch measurement apparatus of the optical film of FIG. 1, and FIG. 6 are diagrams for explaining the image pickup of the optical film through the total pitch measurement apparatus of the optical film of FIG. FIG.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 상기 필터 유닛(500)은, 제1 필터(510) 및 제2 필터(520)를 포함할 수 있다. 즉, 상기 필터 유닛(500)은 두 개의 필터로 이루어질 수 있고, 두 개의 필터(510, 520), 즉, 제1 필터(510) 및 제2 필터(520)는 상기 광학 필름(F, 도 3 참조)의 L 패턴과 R 패턴 방향을 따라 나란히 배치될 수 있다.Referring to FIGS. 4 to 6, the filter unit 500 may include a first filter 510 and a second filter 520. That is, the filter unit 500 may be composed of two filters, and two filters 510 and 520, that is, a first filter 510 and a second filter 520, (See FIG. 5A) and the R pattern direction.

상기 제1 필터(510)는 0도의 편광축을 가지며, 상기 제2 필터(520)는 90도의 편광축을 가질 수 있다. 즉, 상기 제1 필터(510)와 상기 제2 필터(520)는 서로 다른 편광축을 가질 수 있다.The first filter 510 may have a polarization axis of 0 degree, and the second filter 520 may have a polarization axis of 90 degrees. That is, the first filter 510 and the second filter 520 may have different polarization axes.

이처럼, 본 실시예에 따른 상기 필터 유닛(500)은 서로 다른 편광축을 갖는 제1 필터(510)와 제2 필터(520)를 구비할 수 있다. 이에 따라, 본 실시예에서는 상기 촬영 유닛(200)의 1회 촬영에 따른 촬영 이미지(I) 한 장 획득시, 상기 제1 필터(510)를 거친 영상(I1)과 상기 제2 필터(520)를 거친 영상(I2)으로서 두 가지의 영상을 획득할 수 있다.As described above, the filter unit 500 according to the present embodiment may include a first filter 510 and a second filter 520 having different polarization axes. Accordingly, in the present embodiment, the image I1 through the first filter 510 and the image I1 through the second filter 520 are acquired at the time of acquiring one captured image (I) The two images can be acquired as the image I2 through which the image is acquired.

이후, 측정자 등은 두 개의 영상(I1, I2)을 상대 비교하여 가장 선명한 영상 데이터를 분석하여 광학 필름(F)의 총 피치를 보다 정확하게 파악할 수 있다. 즉, 두 개의 영상(I1, I2)의 비교 분석이나 둘 중 더 선명한 영상 데이터를 기초하여 총 피치를 측정하는 바, 광학 필름(F)의 총 피치 측정시, 측정 오차의 발생할 여지가 현저하게 줄어들 수 있어, 보다 더 정확한 측정을 구현할 수 있다.Thereafter, the measurer can compare the two images I1 and I2 relative to each other to analyze the sharpest image data, thereby grasping the total pitch of the optical film F more accurately. That is, the total pitch is measured based on the comparative analysis of the two images I1 and I2 or the clearer image data of the two images. As a result, when measuring the total pitch of the optical film F, So that a more accurate measurement can be realized.

아울러, 본 실시예에서는 1회 촬영을 통한 촬영 이미지(I) 한 장 획득시, 비교 분석할 수 있는 두 개의 영상(I1, I2)을 획득할 수 있는 바, 보다 더 신속한 측정을 또한 도모할 수 있다.In this embodiment, two images I1 and I2 that can be compared and analyzed can be obtained when acquiring a single captured image I through one shot, have.

도 7 내지 도 9는 도 1의 광학 필름의 총 피치 측정장치의 다른 실시예에 따른 필터 유닛을 설명하기 위한 도면이다.7 to 9 are views for explaining a filter unit according to another embodiment of the total pitch measuring apparatus of the optical film of FIG.

도 7 내지 도 9를 참조하면, 필터 유닛(600)은, 제1 필터(610), 제2 필터(620) 및 제3 필터(630)를 포함할 수 있다. 즉, 본 실시예에 따른 상기 필터 유닛(600)은 세 개의 필터로 이루어질 수 있고, 상기 세 개의 필터(610, 620, 630), 즉, 상기 제1 필터(610), 상기 제2 필터(620) 및 상기 제3 필터(630) 또한, 앞선 실시예와 같이 상기 광학 필름(F, 도 3 참조)의 L 패턴과 R 패턴 방향을 따라 나란히 배치될 수 있다.7 to 9, the filter unit 600 may include a first filter 610, a second filter 620, and a third filter 630. That is, the filter unit 600 according to the present embodiment may include three filters 610, 620, and 630, that is, the first filter 610, the second filter 620 And the third filter 630 may also be arranged along the L pattern and the R pattern direction of the optical film F (see FIG. 3) as in the previous embodiment.

상기 제1 필터(610)는 0도의 편광축을 가지며, 제2 필터(620)는 45도의 편광축을 가지며, 상기 제3 필터(630)는 90도의 편광축을 가질 수 있다. 즉, 상기 제1 필터(610), 상기 제2 필터(620) 및 상기 제3 필터(630)는 서로 다른 편광축을 가질 수 있다.The first filter 610 may have a polarization axis of 0 degree, the second filter 620 may have a polarization axis of 45 degrees, and the third filter 630 may have a polarization axis of 90 degrees. That is, the first filter 610, the second filter 620, and the third filter 630 may have different polarization axes.

이처럼, 본 실시예에 따른 필터 유닛(600)은 서로 다른 편광축을 갖는 제1 필터(610), 제2 필터(620) 및 제3 필터(630)를 구비할 있는 바, 상기 촬영 유닛(200)의 1회 촬영에 따른 촬영 이미지(I') 한 장 획득시, 상기 제1 필터(610)를 거친 영상(I'1), 상기 제2 필터(620)를 거친 영상(I'2)과 상기 제3 필터(630)를 거친 영상(I'3)으로서 세 가지의 영상을 획득할 수 있다.As described above, the filter unit 600 according to the present embodiment includes the first filter 610, the second filter 620, and the third filter 630 having different polarization axes. The image I'1 obtained through the first filter 610, the image I'2 obtained through the second filter 620 and the image I'2 obtained through the second filter 620 are acquired when one captured image I ' Three images can be obtained as the image I'3 through the third filter 630. [

이에 따라, 본 실시예에서는 1회 촬영시, 보다 더 많은 영상(I'1 내지 I'3) 데이터를 확보할 수 있는 바, 상대적인 비교 분석에 따른 보다 더 많은 데이터를 확보할 수 있어, 측정 오차 및 측정 시간을 보다 더 개선할 수 있다.Accordingly, in the present embodiment, more images (I'1 to I'3) data can be secured at the time of one-time photographing, so that more data can be obtained by the relative comparison analysis, And the measurement time can be further improved.

아울러, 설계에 따라서는, 앞선 두 가지 또는 세 가지 영상보다 더 많은 영상 데이터를 확보할 수 있게 서로 다른 편광축을 갖는 네 개 이상의 필터들을 구비하는 필터 유닛이 구비될 수 있는 것도 가능함은 물론이다.It goes without saying that, depending on the design, a filter unit having four or more filters having different polarization axes may be provided so as to obtain more image data than the preceding two or three images.

이처럼, 본 실시예에 따른 상기 광학 필름(F)의 총 피치 측정장치(10)는 상기 촬영 유닛(200)의 1회 촬영으로 다수의 영상 데이터를 확보할 수 있기에, 상대적인 비교 분석에 따른 보다 더 정확한 광학 필름(F)의 총 피치 측정이 가능할 수 있다.As described above, since the total pitch measuring apparatus 10 of the optical film F according to the present embodiment can acquire a large number of image data in one shot of the photographing unit 200, The total pitch measurement of the correct optical film F may be possible.

또한, 본 실시예에 따른 상기 광학 필름(F)의 총 피치 측정장치(10)는 1회 촬영으로도 다수의 영상 데이터를 획득하므로, 보다 더 신속한 측정을 도모할 수 있다.Further, since the apparatus 10 for measuring the total pitch of the optical film (F) according to the present embodiment acquires a large number of image data even in one shot, more rapid measurement can be achieved.

아울러, 본 실시예에 따른 상기 광학 필름(F)의 총 피치 측정장치(10)는 1회 촬영으로 획득된 다수의 영상 데이터 중 상대적으로 더 선명한 영상 데이터 분석을 통해, 상기 광학 필름(F)의 총 피치의 측정 정확도를 보다 더 향상시킬 수 있다.In addition, the apparatus 10 for measuring the total pitch of the optical film F according to the present embodiment can measure the relative pitches of the optical films F, The measurement accuracy of the total pitch can be further improved.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해돼서는 안 될 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the invention as defined by the appended claims. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention.

10: 총 피치 측정장치 100: 스테이지
200: 촬영 유닛 300: 광원 유닛
400: 조명 필터 500: 필터 유닛
510: 제1 필터 520: 제2 필터10: total pitch measuring apparatus 100: stage
200: photographing unit 300: light source unit
400: illumination filter 500: filter unit
510: first filter 520: second filter

Claims (10)

패시브 방식의 디스플레이에 적용되며 서로 다른 광축을 갖는 L 패턴과 R 패턴을 구비하는 광학 필름의 총 피치 측정장치에 있어서,
상기 광학 필름이 안착되는 스테이지;
상기 스테이지에 안착된 광학 필름의 총 피치를 촬영하며, 상기 광학 필름의 L 패턴과 R 패턴의 수직 방향으로 이동 가능하게 상기 스테이지에 장착되는 촬영 유닛; 및
상기 스테이지와 상기 촬영 유닛 사이에 배치되며, 소정의 편광축을 갖는 적어도 둘 이상의 필터를 구비하는 필터 유닛;을 포함하며,
상기 적어도 둘 이상의 필터는 서로 다른 편광축을 가지며,
상기 광학 필름의 총 피치 측정장치는,
상기 촬영 유닛의 1회 촬영에 따른 촬영 이미지 한 장 획득 시, 비교 분석할 수 있는 상기 서로 다른 편광축에 따른 적어도 두 가지의 영상을 획득하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총 피치 측정장치.1. An apparatus for measuring the total pitch of an optical film having an L pattern and an R pattern which are applied to a passive display and have different optical axes,
A stage on which the optical film is seated;
A photographing unit which photographs the total pitch of the optical film seated on the stage and is mounted on the stage so as to be movable in a direction perpendicular to the L pattern and the R pattern of the optical film; And
And a filter unit disposed between the stage and the photographing unit and having at least two filters having a predetermined polarization axis,
Wherein the at least two filters have different polarization axes,
Wherein the total pitch measuring device of the optical film comprises:
Wherein at least two images corresponding to the different polarization axes that can be compared and analyzed are acquired when acquiring one captured image according to one shot of the shooting unit. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 필터는 두 개로 구비되며,
상기 두 개의 필터의 편광축은 각각 0도 및 90도인 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총 피치 측정장치.The method according to claim 1,
The filter is provided in two,
Wherein the polarization axes of the two filters are 0 degrees and 90 degrees, respectively. 제1항에 있어서,
상기 필터는 세 개로 구비되며,
상기 세 개의 필터의 편광축은 각각 0도, 45도 및 90도인 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총 피치 측정장치.The method according to claim 1,
The filter is provided in three,
Wherein the polarization axes of the three filters are 0 deg., 45 deg., And 90 deg., Respectively. 제1항에 있어서,
상기 적어도 둘 이상의 필터는 상기 광학 필름의 L 패턴과 R 패턴 방향을 따라 나란히 배치되는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총 피치 측정장치.The method according to claim 1,
Wherein the at least two filters are arranged side by side along the L pattern and the R pattern direction of the optical film. 제1항에 있어서,
상기 광학 필름을 사이에 두고 상기 촬영 유닛에 대향 배치되며, 상기 광학 필름을 향해 빛을 조사하는 광원 유닛;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총 피치 측정장치.The method according to claim 1,
And a light source unit disposed opposite to the imaging unit with the optical film interposed therebetween, for irradiating light toward the optical film. 제6항에 있어서,
상기 광원 유닛은 상기 스테이지에 고정 장착되는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총 피치 측정장치.The method according to claim 6,
Wherein the light source unit is fixedly mounted on the stage. 제6항에 있어서,
상기 광원 유닛은 상기 촬영 유닛의 이동에 대응되게 상기 광학 필름의 L 패턴과 R 패턴의 수직 방향으로 이동 가능하게 상기 스테이지에 장착되는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총 피치 측정장치.The method according to claim 6,
Wherein the light source unit is mounted on the stage so as to be movable in a direction perpendicular to the L pattern and the R pattern of the optical film in correspondence with the movement of the photographing unit. 제6항에 있어서,
상기 광원 유닛과 상기 광학 필름의 사이에 배치되며, 상기 광원 유닛으로부터 조사된 빛을 편광시키는 조명 필터;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총 피치 측정장치.The method according to claim 6,
And an illumination filter disposed between the light source unit and the optical film to polarize light emitted from the light source unit. 제1항에 있어서,
상기 광학 필름은 FPR 필름인 것을 특징으로 하는 광학 필름의 총 피치 측정장치.The method according to claim 1,
Wherein the optical film is an FPR film.
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