KR101944221B1 - Artificial Diamond Preprocessing System - Google Patents

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KR101944221B1
KR101944221B1 KR1020180112687A KR20180112687A KR101944221B1 KR 101944221 B1 KR101944221 B1 KR 101944221B1 KR 1020180112687 A KR1020180112687 A KR 1020180112687A KR 20180112687 A KR20180112687 A KR 20180112687A KR 101944221 B1 KR101944221 B1 KR 101944221B1
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artificial diamond
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KR1020180112687A
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안흥수
조정자
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(주) 우성프레이팅
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Abstract

The present invention relates to a system for preprocessing an artificial diamond. The system comprises: fixing units into which an artificial diamond having a cylindrical shape is inserted and fixed; batch plates on which a plurality of the fixing units are arranged; a batch rack in which the batch plates are stacked and arranged; and a plurality of solution boxes having a preprocessing solution therein and arranged in the batch rack. According to the present invention, a plurality of artificial diamonds may be preprocessed in a single operation, thereby improving the work efficiency.

Description

인조다이아몬드 전처리 시스템 { Artificial Diamond Preprocessing System }Artificial Diamond Preprocessing System {Artificial Diamond Preprocessing System}

본 발명은 전처리 시스템에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 절삭공구에 사용되는 인조다이아몬드의 표면을 전처리하는 인조다이아몬드 전처리 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a pretreatment system, and more particularly, to a synthetic diamond pre-treatment system for pretreating the surface of artificial diamond used in a cutting tool.

다이아몬드는 경도와 열전도율이 가장 우수하고, 많은 실용금속에 대해 0.1 이하의 마찰계수를 갖는 유일한 물질로서 절삭공구에 널리 이용되고 있다.Diamond has the best hardness and thermal conductivity, and is the only material with a friction coefficient of less than 0.1 for many practical metals and is widely used in cutting tools.

에너지 자원의 효율성 증대를 위해 고Si-Al합금, CFRP 등의 복합재료 등과 같은 기존 절삭공구로는 가공하기 어려운 고강도, 초경량 소재의 수요증가에 따라 이를 가공할 수 있는 고경도의 다이아몬드 절삭공구에 대한 수요가 증가하는 추세이다.In order to increase the efficiency of energy resources, it is necessary to develop a high-strength diamond cutting tool which can process such high-strength and ultra-lightweight materials that are difficult to process with conventional cutting tools such as high Si-Al alloys and CFRP Demand is increasing.

다이아몬드 코팅공구는 모재와의 밀착성이 낮고 절삭가공 후 피삭제의 표면거칠기가 좋지 않아 정밀가공에는 다소 사용되지 않아 황삭가공 등 한정된 용도에만 사용된다.The diamond coated tool has low adhesion with the base material and is not used for precision machining because the surface roughness of the surface after cutting is not good. It is used only for limited applications such as roughing.

다이아몬드 코팅의 품질은 전처리에 크게 의존되는데, 기판과 코팅층 사이의 밀착력과 핵생성 밀도를 높여 코팅공구의 수명을 향상하고 평탄한 표면코팅을 얻어 정밀가공에 사용하기 위한 다양한 전처리 방법들이 시도되고있다.The quality of the diamond coating depends greatly on the pretreatment. Various preprocessing methods have been attempted to increase the adhesion and nucleation density between the substrate and the coating layer to improve the life of the coating tool and to obtain a smooth surface coating for use in precision machining.

한국등록실용신안 제20-0486120호 (2018.03.29) "홀더 겸용 스토퍼 및 이를 포함하는 드릴용 비트"Korean Registered Utility Model No. 20-0486120 (Aug. 29, 2018) " Holder combined stopper and drill bit including it "

본 발명의 목적은 동시에 복수개의 인조다이아몬드를 전처리할 수 있는 인조다이아몬드 전처리 시스템을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a synthetic diamond pre-treatment system capable of pretreating a plurality of artificial diamonds at the same time.

상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 하나의 특징에 따른 인조다이아몬드 전처리 시스템은, 원기둥형상의 인조다이아몬드가 삽입되어 고정되는 고정유닛; 복수의 상기 고정유닛이 배치되는 배치플레이트; 복수의 상기 배치플레이트가 적층되어 배치되는 배치랙(Rack); 및 내부에 전처리용액이 내장되고, 상기 배치랙이 내부에 배치되는 복수의 용액박스를 포함한다.According to one aspect of the present invention, there is provided a synthetic diamond pre-treatment system including: a fixed unit into which a synthetic diamond having a cylindrical shape is inserted and fixed; A placement plate on which a plurality of said fixed units are disposed; A placement rack (Rack) in which a plurality of the placement plates are stacked and arranged; And a plurality of solution boxes in which a pretreatment solution is embedded and in which the placement rack is disposed.

상기 고정유닛은, 원통 형상으로 구비되고, 상기 인조다이아몬드가 삽입되는 삽입공간이 내부를 관통하여 형성되는 삽입부; 상기 삽입부의 하측에 결합되어 상기 삽입공간의 하측을 마감하는 하측마감부; 및 상기 삽입부의 상측에 결합되고, 상기 삽입공간의 상측을 마감하며 상기 인조다이아몬드의 상면을 노출시키는 상측마감부를 포함할 수 있다.Wherein the fixing unit comprises: an insertion portion formed in a cylindrical shape and having an insertion space through which the artificial diamond is inserted; A lower finish portion coupled to a lower side of the insertion portion to finish a lower side of the insertion space; And an upper finishing portion coupled to the upper portion of the insert portion and finishing the upper side of the insert space to expose an upper surface of the artificial diamond.

여기서, 상기 하측마감부는, 원판형상으로 구비고, 상면에, 상기 삽입공간에 삽입되어 상기 삽입공간의 하측을 폐쇄하는 마감돌기를 포함할 수 있다.Here, the lower end portion may be a disk-like shape, and may include a finishing projection which is inserted into the insertion space and closes the lower side of the insertion space, on an upper surface thereof.

그리고, 상기 삽입부는, 상측 외면에 나사산이 형성되고, 상기 삽입공간에 배치된 상기 인조다이아몬드의 상측 외주면을 따라 배치되는 O링을 포함하며,The insertion portion includes an O-ring having a screw thread formed on its upper outer surface and disposed along the upper outer circumferential surface of the artificial diamond disposed in the insertion space,

상기 상측마감부는, 하면이 개방된 원통형상으로 구비되고, 내면에 나사산이 형성돼 상기 상입부의 상부가 삽입되어 상기 삽입부와 나사산 결합으로 결합되어 상기 O링과 밀착하여 상기 삽입부의 상측을 마감하며, 상면에 상기 인조다이아몬드의 상면이 노출될 수 있도록 노출홀이 형성될 수 있다.The upper end portion is formed in a cylindrical shape with an opened lower surface. A screw thread is formed on the inner surface of the upper end portion. The upper end portion of the upper end portion is inserted and coupled with the insertion portion by thread engagement, , And an exposure hole may be formed on the upper surface so that the upper surface of the artificial diamond is exposed.

또한, 상기 배치플레이트는, 판형상으로 구비되고, 상기 고정유닛이 삽입되어 배치되는 복수의 배치홀이 형성될 수 있다.In addition, the placement plate is provided in a plate shape, and a plurality of placement holes into which the fixation unit is inserted can be formed.

그리고, 상기 배치랙은, 상면 및 하면이 개방되고, 네 측면의 일부가 개방된 박스 형상으로 구비되며, 마주보는 어느 한 쌍의 측면의 내부에 복수의 상기 배치플레이트가 일정거리 이격되어 적층될 수 있도록 복수로 구비된 한 쌍의 적층레일; 한 쌍의 상기 적층레일의 일측면에 한 쌍의 상기 적층레일로 상기 배치플레이트가 삽입되는 위치를 가이드하는 가이드플레이트; 및 한 쌍의 상기 적층레일 각각의 양측 상부에 배치되어 상기 배치플레이트의 상측에서 상기 배치플레이트의 위치를 고정하는 고정돌기를 포함할 수 있다.The arrangement rack may have a box shape in which upper and lower surfaces are opened and part of four sides are open, and a plurality of the placement plates are stacked with a predetermined distance in a pair of opposite side surfaces A pair of stacked rails provided so as to be spaced apart from each other; A guide plate for guiding a position where the placement plate is inserted into a pair of the lamination rails on one side of the pair of the lamination rails; And fixing protrusions disposed on both sides of each of the pair of the lamination rails to fix the position of the placement plate on the placement plate.

여기서, 상기 적층레일은, 일측에서 타측으로 갈수록 내리막으로 경사지도록 구비될 수 있다.Here, the lamination rail may be inclined downward from one side to the other side.

또한, 상기 용액박스는, 내부에 전처리용액이 내장되고, 내부에 상기 배치랙이 배치되는 몸체; 상기 몸체의 상면을 폐쇄하는 커버; 상기 몸체 내부로 스팀을 공급하여 상기 전처리용액을 가열하는 스팀라인; 상기 몸체 내부의 상기 전처리용액의 온도를 측정하는 온도센서; 및 상기 커버의 상측에 배치되고, 스팀에 의해 기화하여 상기 커버를 통과하여 노출되는 상기 전처리용액 기체를 흡입하는 후드를 포함할 수 있다.Also, the solution box may include: a body having a pre-treatment solution therein and in which the placement rack is disposed; A cover for closing an upper surface of the body; A steam line for supplying steam into the body to heat the pretreatment solution; A temperature sensor for measuring a temperature of the pretreatment solution in the body; And a hood disposed above the cover for sucking the pretreatment solution gas that is vaporized by the steam and is exposed through the cover.

그리고, 상기 전처리용액은, 55% 농도의 불산용액과 68% 농도의 질산용액을 9:1로 혼합한 것일 수 있다.The pretreatment solution may be a mixture of a hydrofluoric acid solution having a concentration of 55% and a nitric acid solution having a concentration of 68% in a ratio of 9: 1.

본 발명의 인조다이아몬드 전처리 시스템에 따르면,According to the artificial diamond pre-treatment system of the present invention,

첫째, 한번의 작업으로 복수개의 인조다이아몬드를 전처리할 수 있어 작업효율을 향상시킬 수 있다.First, a plurality of artificial diamonds can be pretreated in a single operation, thereby improving work efficiency.

둘째, O링과 상측마감부에 의해 인조다이아몬드의 상부만 전처리할 수 있어 작업에 용이하다.Secondly, O-ring and upper finishing can be used to pre-treat only the upper part of artificial diamond, making it easy to work.

셋째, 하측마감부에 의해 삽입부에서 인조다이아몬드를 해제하기에 용이하다.Third, it is easy to release artificial diamonds from the insert by the lower finish.

넷째, 배치플레이트에 복수의 배치홀이 형성되어 복수의 고정유닛을 동시에 이동시키기에 편리하다.Fourth, a plurality of placement holes are formed in the placement plate, which is convenient for simultaneously moving a plurality of fixed units.

다섯째, 배치랙에 복수의 배치플레이트를 수용할 수 있어 동시에 복수의 인조다이아몬드를 작업할 수 있다.Fifth, a plurality of batch plates can be accommodated in the batch rack, and a plurality of artificial diamonds can be simultaneously processed.

여섯째, 적층레일이 일측에서 타측으로 갈수록 경사지도록 구비되어 배치랙을 용액박스에서 꺼내면 전처리용액이 배치플레이트에 고이지 않고 흘러내려 전처리용액이 배치플레이트에 남아있는 것을 방지할 수 있고, 별도의 고정장치 없이 배치플레이트를 배치할 수 있다.Sixth, when the stacking rack is inclined from one side to the other side and the arrangement rack is taken out from the solution box, it is possible to prevent the pretreatment solution from flowing on the placement plate without being accumulated on the placement plate, A placement plate can be arranged.

일곱째, 온도센서와 스팀라인으로 전처리용액을 적정온도로 유지할 수 있어 작업효율을 향상시킬 수 있다.Seventh, the temperature sensor and the steam line can maintain the pre-treatment solution at the proper temperature, which can improve the working efficiency.

여덟째, 후드에 의해 기화된 전처리용액을 흡입하여 작업자의 안전을 확보할 수 있다.Eighth, it is possible to ensure the safety of the operator by sucking the pretreatment solution vaporized by the hood.

아홉째, 고정돌기에 의해 배치플레이트가 부력에 의해 뜨는 것을 방지하여 안정적으로 배치시킬 수 있다.Ninthly, it is possible to prevent the placement plate from floating by buoyancy by the fixing protrusions and to arrange them stably.

도 1은 본 발명의 인조다이아몬드 전처리 시스템의 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 인조다이아몬드 전저리 시스템의 분해 사시도이다.
도 3은 도 2에 도시된 고정유닛의 사시도이다.
도 4는 도 3에 도시된 고정유닛이 분해 사시도이다.
도 5는 도 3에 도시된 삽입부의 분해 사시도이다.
도 6은 도 3에 도시된 상측마감부의 하면 사시도이다.
도 7은 도 2에 도시된 배치플레이트의 사시도이다.
도 8은 도 2에 도시된 배치랙의 사시도이다.
도 9는 도 8에 도시된 배치랙의 측면도이다.
도 10은 도 2에 도시된 용액박스의 사시도이다.1 is a perspective view of a synthetic diamond pre-treatment system of the present invention.
FIG. 2 is an exploded perspective view of the artificial diamond front lowering system shown in FIG. 1. FIG.
3 is a perspective view of the fixed unit shown in Fig.
4 is an exploded perspective view of the fixed unit shown in Fig.
5 is an exploded perspective view of the insertion portion shown in Fig.
6 is a bottom perspective view of the upper end portion shown in Fig.
Figure 7 is a perspective view of the placement plate shown in Figure 2;
8 is a perspective view of the placement rack shown in Fig.
Figure 9 is a side view of the arrangement rack shown in Figure 8;
10 is a perspective view of the solution box shown in Fig.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명한다. 이때, 첨부된 도면에서 동일한 구성 요소는 가능한 동일한 부호로 나타내고 있음에 유의한다. 또한, 본 발명의 요지를 흐리게 할 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 설명은 생략할 것이다. 마찬가지 이유로 첨부 도면에 있어서 일부 구성 요소는 과장되거나 생략되거나 개략적으로 도시되었다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Note that, in the drawings, the same components are denoted by the same reference symbols as possible. Further, the detailed description of known functions and configurations that may obscure the gist of the present invention will be omitted. For the same reason, some of the components in the drawings are exaggerated, omitted, or schematically illustrated.

도 1은 본 발명의 인조다이아몬드 전처리 시스템의 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 인조다이아몬드 전저리 시스템의 분해 사시도이며, 도 3은 도 2에 도시된 고정유닛의 사시도이고, 도 4는 도 3에 도시된 고정유닛이 분해 사시도이며, 도 5는 도 3에 도시된 삽입부의 분해 사시도이고, 도 6은 도 3에 도시된 상측마감부의 하면 사시도이다.FIG. 1 is a perspective view of the artificial diamond pre-treatment system of the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view of the artificial diamond front lowering system shown in FIG. 1, FIG. 3 is a perspective view of the fixed unit shown in FIG. 3 is an exploded perspective view of the fixing unit shown in Fig. 3, Fig. 5 is an exploded perspective view of the insertion portion shown in Fig. 3, and Fig. 6 is a bottom perspective view of the upper end portion shown in Fig.

그리고, 도 7은 도 2에 도시된 배치플레이트의 사시도이고, 도 8은 도 2에 도시된 배치랙의 사시도이며, 도 9는 도 8에 도시된 배치랙의 측면도이고, 도 10은 도 2에 도시된 용액박스의 사시도이다.Fig. 7 is a perspective view of the placement plate shown in Fig. 2, Fig. 8 is a perspective view of the placement rack shown in Fig. 2, Fig. 9 is a side view of the placement rack shown in Fig. 8, 1 is a perspective view of the illustrated solution box.

도 1 내지 도 10을 참조하면, 본 발명의 인조다이아몬드 전처리 시스템(100)은 고정유닛(110), 배치플레이트(120), 배치랙(Rack)(130) 및 용액박스(140)를 포함한다.1 to 10, the artificial diamond pre-treatment system 100 of the present invention includes a fixing unit 110, a placement plate 120, a placement rack 130, and a solution box 140.

고정유닛(110)은 윈기둥 형상의 인조다이아몬드(D)가 삽입되어 고정된다.The fixed unit 110 is inserted and fixed with a wedge-shaped artificial diamond (D).

고정유닛(110)은 삽입부(111), 하측마감부(112) 및 상측마감부(113)를 포함한다.The fixing unit 110 includes an insertion portion 111, a lower end portion 112, and an upper end portion 113.

삽입부(111)는 원통 형상으로 구비되어 내부에 인조다이아몬드(D)가 삽입되는 삽입공간(114)이 내부를 관통하여 형성된다.The insertion portion 111 is formed in a cylindrical shape and has an insertion space 114 through which the artificial diamond D is inserted.

그리고, 삽입부(111)는 상측 외면에 나사산(S)이 형성되고, 삽입공간(114)에 배치된 인조다이아몬드(D)의 상측 외주면을 따라 배치되는 O링(117)을 포함한다.The insertion portion 111 includes an O-ring 117 having a thread S formed on its upper outer surface and disposed along the upper outer peripheral surface of the artificial diamond D disposed in the insertion space 114.

따라서, 삽입공간(114)의 내부로 전처리용액(W)이 유입되는 것을 방지할 수 있다.Therefore, it is possible to prevent the pre-treatment solution W from flowing into the insertion space 114.

하측마감부(112)는 삽입부(111)의 하측에 결합되어 삽입공간(114) 하측을 마감한다.The lower end portion 112 is coupled to the lower side of the insertion portion 111 to close the lower side of the insertion space 114.

하측마감부(112)는 원판형상으로 구비되고, 상면에 삽입공간(114)에 삽입되어 삽입공간(114)의 하측을 마감하는 마감돌기(115)를 포함한다.The lower end portion 112 is formed in a disk shape and includes a finishing projection 115 which is inserted into the insertion space 114 on the upper surface and finishes the lower side of the insertion space 114.

전처리가 완료되면 인조다이아몬드(D)를 삽입부(111)에서 해제하기에 어려움이 있는데, 하측마감부(112)를 삽입부(111)의 하측에서 해제하여 삽입부(111)의 하측에서 인조다이아몬드(D)를 밀어 해제하기에 용이하다.When the preprocessing is completed, it is difficult to release the artificial diamond D from the insertion portion 111. When the lower end portion 112 is released from the lower side of the insertion portion 111, (D).

하측마감부(112)는 전처리를 하는 동안에는 삽입부(111)의 하측을 마감하여 전처리용액(W)이 삽입부(111)의 하측으로 유입되는 것을 막고, 전처리가 완료되면 삽입부(111)에서 해제되어 인조다이아몬드(D)를 삽입부(111)에서 해제하기에 용이하도록 한다.The lower end portion 112 is closed at the lower side of the insertion portion 111 to prevent the pre-treatment solution W from flowing into the lower side of the insertion portion 111, and when the pre- So that it is easy to release the artificial diamond D from the insertion portion 111.

상측마감부(113)는 삽입부(111)의 상측에 결합되어 삽입부(111)의 상측을 마감하며, 인조다이아몬드(D)의 상면을 노출시킨다.The upper end portion 113 is coupled to the upper side of the insertion portion 111 to close the upper side of the insertion portion 111 to expose the upper surface of the artificial diamond D.

여기서, 상측마감부(113)는 하면이 개방된 원통형 상으로 구비되고, 내면에 나사산이 형성돼 삽입부(111)의 상부가 삽입되어 삽입부(111)와 나사산 결합으로 결합되어 O링(117)과 밀착한다.The upper end portion 113 is formed in a cylindrical shape with an opened lower surface and a thread is formed on the inner surface so that the upper portion of the insertion portion 111 is inserted and threadably engaged with the insertion portion 111 to form an O- ).

그리고, 상측마감부(113)의 상면에는 인조다이아몬드(D)의 상면을 노출시키는 노출홀(116)이 형성된다.On the upper surface of the upper finishing portion 113, an exposure hole 116 for exposing the upper surface of the artificial diamond D is formed.

따라서, 상측마감부(113)는 O링(117)과 밀착하여 삽입공간(114) 내부로 전처리용액(W)이 유입되는 것을 방지하며 인조다이아몬드(D)의 상측에만 전처리작업을 적용할 수 있다.Thus, the upper finishing portion 113 is in close contact with the O-ring 117 to prevent the pre-treatment solution W from flowing into the insert space 114, and a pre-treatment operation can be applied only to the upper side of the artificial diamond D .

배치플레이트(120)는 복수의 고정유닛(110)이 배치되는데, 배치플레이트(120)는 판 형상으로 구비되고, 고정유닛(110)이 삽입되어 배치되는 배치홀(121)이 복수로 형성된다.The placement plate 120 is provided with a plurality of fixed units 110. The placement plates 120 are provided in a plate shape and a plurality of placement holes 121 in which the fixed units 110 are inserted are formed.

따라서, 복수의 배치홀(121)에 의해 복수의 고정유닛(110)을 동시에 이동시키기에 편리하다.Therefore, it is convenient to simultaneously move the plurality of fixed units 110 by the plurality of placement holes 121. [

그리고, 배치플레이트(120)는 작업자가 배치랙(130)에서 꺼내기 용이하도록 일측에 그립홀(122)를 포함한다.The placement plate 120 includes a grip hole 122 on one side for facilitating an operator to take it out of the placement rack 130.

배치랙(130)은 복수의 배치플레이트(120)가 배치된다.The placement rack 130 has a plurality of placement plates 120 disposed thereon.

따라서, 배치랙(130)에 복수의 배치플레이트(120)를 수용할 수 있어 동시에 복수의 인조다이아몬드(D)를 작업할 수 있다.Therefore, a plurality of placement plates 120 can be accommodated in the placement rack 130, and a plurality of artificial diamonds D can be simultaneously operated.

여기서, 배치랙(130)은 상면 및 하면이 개방되고, 네 측면의 일부가 개방된 박스형상으로 구비되고, 적층레일(131), 가이드플레이트(132) 및 고정돌기(133)를 포함한다.Here, the placement rack 130 is formed in a box shape with its upper and lower surfaces opened and a part of four sides thereof opened, and includes a lamination rail 131, a guide plate 132, and a fixing protrusion 133.

적층레일(131)은 한 쌍으로 구비되고, 배치랙(130)의 마주보는 어느 한 쌍의 측면 내부에 배치되며, 복수의 배치플레이트(120)가 일정거리 이격되어 적층될 수 있도록 복수로 구비된다. The stacking rails 131 are provided in pairs and are disposed inside a pair of opposite side surfaces of the placement rack 130. A plurality of placement plates 120 are provided so as to be stacked at a predetermined distance .

가이드플레이트(132)는 한 쌍의 적층레일(131)의 일측면에 배치되고, 복수로 구비되어 한 쌍의 적층레일(131)로 배치플레이트(120)가 삽입되는 위치를 가이드하한다.The guide plate 132 is disposed on one side of the pair of lamination rails 131 and is provided with a plurality of guide rails 131 to guide a position where the placement plate 120 is inserted into the pair of lamination rails 131.

고정돌기(133)는 한 쌍의 적층레일(131) 각각의 양측 상부에에 배치되어 배치플레이트(120)의 상측에서 배치플레이트(120)의 위치를 고정한다.The fixing protrusions 133 are disposed on both sides of each of the pair of lamination rails 131 to fix the position of the positioning plate 120 on the upper side of the positioning plate 120.

전처리용액(W)의 경우 물보다 부력이 커 배치플레이트(120)가 부력에 의해 상승할 수 있는데, 고정돌기(133)에 의해 배치플레이트(120)가 부력에 의해 뜨는 것을 방지하여 배치플레이트(120)를 안정적으로 배치할 수 있다.In the case of the pretreatment solution W, the buoyancy force of the placement plate 120 is higher than that of water, so that the placement plate 120 is prevented from floating by the buoyancy force by the fixing protrusions 133, ) Can be stably arranged.

여기서, 적층레일(131)은 도 9에 도시된 것처럼 일측에서 타측으로 갈수록 내리막으로 경사지도록 구비된다.Here, as shown in FIG. 9, the lamination rail 131 is inclined downward from one side toward the other side.

그러므로, 배치랙(130)을 용액박스(140)에서 꺼내면 전처리용액(W)이 배치플레이트(120)에 고이지 않고 흘러내려 전처리용액(W)이 배치플레이트(120)에 남아있는 것을 방지할 수 있다.Therefore, when the batch rack 130 is taken out from the solution box 140, the pretreatment solution W can be prevented from flowing to the batch plate 120 without being accumulated on the batch plate 120, thereby preventing the pretreatment solution W from remaining in the batch plate 120 .

그리고, 별도의 고정장치 없이도 배치플레이트(120)를 배치랙(130)에 배치시킬 수 있어 배치에 용이하다.Further, the placement plate 120 can be disposed in the placement rack 130 without a separate fixing device, which facilitates the placement.

용액박스(140)는 복수로 구비되어 내부에 전처리용액(W)이 내장되고, 배치랙(130)이 내부에 배치된다.A plurality of solution boxes 140 are provided, and a pretreatment solution W is contained therein, and a placement rack 130 is disposed therein.

용액박스(140)는, 몸체(141), 커버(142), 스팀라인(143), 온도센서(144) 및 후드(145)를 포함한다.The solution box 140 includes a body 141, a cover 142, a steam line 143, a temperature sensor 144 and a hood 145.

몸체(141)는 내부에 전처리용액이 내장되고, 내부에 배치랙(130)이 배치된다.The body 141 has a built-in pretreatment solution therein, and a placement rack 130 is disposed therein.

커버(142)는 몸체(141)의 상면을 폐쇄한다. The cover 142 closes the upper surface of the body 141.

스팀라인(143)은 몸체(141) 내부로 스팀을 공급하여 전처리용액(W)을 가열하고, 온도센서(144)는 전처리용액(W)의 온도를 측정한다.The steam line 143 supplies steam to the interior of the body 141 to heat the pretreatment solution W and the temperature sensor 144 measures the temperature of the pretreatment solution W.

여기서, 스팀라인(143)은 온도센서(144)와 연동되어 전처리용액(W)이 관리자에 의해 설정된 온도범위로 가열되면 가열을 중지하고 설정범위 아래로 떨어지면 가열을 시작한다.Here, the steam line 143 is interlocked with the temperature sensor 144 to stop heating when the pretreatment solution W is heated to the temperature range set by the manager, and starts heating when the temperature falls below the set range.

따라서, 전처리용액(W)을 적정온도로 유지할 수 있어 작업효율을 향상시킬 수 있다.Therefore, the pretreatment solution W can be maintained at an appropriate temperature, and the working efficiency can be improved.

전처리과정에서 인조다이아몬드(D)는 45℃의 전처리용액(W)에 2주동안, 30℃의 전처리용액(W)에 3주동안 담겨진다.In the pretreatment process, artificial diamond (D) is immersed in pretreatment solution (W) at 45 ℃ for 2 weeks and in pretreatment solution (W) at 30 ℃ for 3 weeks.

따라서, 온도의 유지가 굉장히 중요한 요소이므로 전처리용액(W)의 온도를 유지하여 작업효율을 향상시킬 수 있다.Therefore, maintaining the temperature is a very important factor, so that the working efficiency can be improved by maintaining the temperature of the pretreatment solution W.

후드(145)는 커버(142)의 상측에 배치되고, 스팀에 의해 기화하여 커버(142)를 통과하여 노출되는 전처리용액(W)의 기체를 흡입한다.The hood 145 is disposed on the upper side of the cover 142 and sucks the gas of the pretreatment solution W which is vaporized by the steam and passes through the cover 142 and is exposed.

따라서, 기화된 전처리용액(W)을 흡입하여 작업자의 안전을 확보할 수 있다.Therefore, safety of the operator can be ensured by sucking the vaporized pretreatment solution W.

여기서, 전처리용액(W)은, 55% 농도의 불산용액과 68% 농도의 질산용액을 9:1로 혼합한 용액이다.Here, the pretreatment solution W is a solution in which a 55% concentration hydrofluoric acid solution and a 68% concentration nitric acid solution are mixed at a ratio of 9: 1.

이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims. It will be possible.

110...고정유닛 111..삽입부
112...하측마감부 113...상측마감부
114...삽입공간 115...마감돌기
116...삽입홀 120...배치플레이트
121...배치홀 122...그립홀
130...배치랙 131...적층레일
132...가이드플레이트 133....고정돌기
140...용액박스 141...몸체
142...커버 143...스팀라인
144...온도센서 145...후드110 ... fixed unit 111 .. insertion portion
112 ... lower end portion 113 ... upper end portion
114 ... insertion space 115 ... finishing projection
116 ... insertion hole 120 ... placement plate
121 ... placement hole 122 ... grip hole
130 ... placement rack 131 ... lamination rail
132 ... Guide plate 133 .... Fixing projection
140 ... solution box 141 ... body
142 ... cover 143 ... steam line
144 ... temperature sensor 145 ... hood

Claims (9)

원기둥형상의 인조다이아몬드가 삽입되어 고정되는 고정유닛;
복수의 상기 고정유닛이 배치되는 배치플레이트;
복수의 상기 배치플레이트가 적층되어 배치되는 배치랙(Rack); 및
내부에 전처리용액이 내장되고, 상기 배치랙이 내부에 배치되는 복수의 용액박스를 포함하고,
상기 배치랙은,
상면 및 하면이 개방되고, 네 측면의 일부가 개방된 박스 형상으로 구비되며,
마주보는 어느 한 쌍의 측면의 내부에 복수의 상기 배치플레이트가 일정거리 이격되어 적층될 수 있도록 복수로 구비된 한 쌍의 적층레일;
한 쌍의 상기 적층레일의 일측면에 한 쌍의 상기 적층레일로 상기 배치플레이트가 삽입되는 위치를 가이드하는 가이드플레이트; 및
한 쌍의 상기 적층레일 각각의 양측 상부에 배치되어 상기 배치플레이트의 상측에서 상기 배치플레이트의 위치를 고정하는 고정돌기를 포함하는 것을 특징으로 하는 인조다이아몬드 전처리 시스템.A fixed unit into which a synthetic diamond having a cylindrical shape is inserted and fixed;
A placement plate on which a plurality of said fixed units are disposed;
A placement rack (Rack) in which a plurality of the placement plates are stacked and arranged; And
And a plurality of solution boxes in which the pretreatment solution is embedded and the placement rack is disposed therein,
Wherein the placement rack comprises:
An upper surface and a lower surface are opened and a part of four sides are opened in a box shape,
A pair of stacked rails provided inside a pair of side surfaces facing each other so that a plurality of the placement plates are spaced apart from each other by a predetermined distance;
A guide plate for guiding a position where the placement plate is inserted into a pair of the lamination rails on one side of the pair of the lamination rails; And
And a fixing protrusion disposed on both sides of each of the pair of the lamination rails to fix the position of the arrangement plate on the upper side of the arrangement plate. 제1항에 있어서,
상기 고정유닛은,
원통 형상으로 구비되고, 상기 인조다이아몬드가 삽입되는 삽입공간이 내부를 관통하여 형성되는 삽입부;
상기 삽입부의 하측에 결합되어 상기 삽입공간의 하측을 마감하는 하측마감부; 및
상기 삽입부의 상측에 결합되고, 상기 삽입공간의 상측을 마감하며 상기 인조다이아몬드의 상면을 노출시키는 상측마감부를 포함하는 것을 특징으로 하는 인조다이아몬드 전처리 시스템.The method according to claim 1,
The fixed unit includes:
An insertion portion provided in a cylindrical shape and formed with an insertion space through which the artificial diamond is inserted;
A lower finish portion coupled to a lower side of the insertion portion to finish a lower side of the insertion space; And
And an upper finishing unit coupled to an upper side of the insert unit and closing an upper side of the insert space to expose an upper surface of the artificial diamond. 제2항에 있어서,
상기 하측마감부는,
원판형상으로 구비되고,
상면에, 상기 삽입공간에 삽입되어 상기 삽입공간의 하측을 폐쇄하는 마감돌기를 포함하는 것을 특징으로 하는 인조다이아몬드 전처리 시스템.3. The method of claim 2,
The lower-
Like shape,
And a finishing projection inserted into the insertion space and closing a lower side of the insertion space on an upper surface thereof. 제3항에 있어서,
상기 삽입부는,
상측 외면에 나사산이 형성되고,
상기 삽입공간에 배치된 상기 인조다이아몬드의 상측 외주면을 따라 배치되는 O링을 포함하며,
상기 상측마감부는,
하면이 개방된 원통형상으로 구비되고,
내면에 나사산이 형성돼 상기 삽입부의 상부가 삽입되어 상기 삽입부와 나사산 결합으로 결합되어 상기 O링과 밀착하여 상기 삽입부의 상측을 마감하며,
상면에 상기 인조다이아몬드의 상면이 노출될 수 있도록 노출홀이 형성된 것을 특징으로 하는 인조다이아몬드 전처리 시스템.The method of claim 3,
The insertion portion
A thread is formed on the upper outer surface,
And an O-ring disposed along an upper outer circumferential surface of the artificial diamond disposed in the insertion space,
The upper-
The lower surface is provided in an open cylindrical shape,
And an upper portion of the insertion portion is inserted and coupled with the insertion portion by thread engagement so as to be in close contact with the O-ring to close the upper side of the insertion portion,
And an exposure hole is formed on the upper surface of the synthetic diamond to expose the upper surface of the artificial diamond. 제4항에 있어서,
상기 배치플레이트는,
판형상으로 구비되고,
상기 고정유닛이 삽입되어 배치되는 복수의 배치홀이 형성된 것을 특징으로 하는 인조다이아몬드 전처리 시스템.5. The method of claim 4,
Wherein the positioning plate comprises:
Like shape,
Wherein a plurality of arrangement holes into which the fixed unit is inserted are formed. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 적층레일은,
일측에서 타측으로 갈수록 내리막으로 경사지도록 구비되는 것을 특징으로 하는 인조다이아몬드 전처리 시스템.The method according to claim 1,
The laminated rails may be formed by,
And the inclined surface is inclined downward from one side to the other side. 제7항에 있어서,
상기 용액박스는,
내부에 전처리용액이 내장되고, 내부에 상기 배치랙이 배치되는 몸체;
상기 몸체의 상면을 폐쇄하는 커버;
상기 몸체 내부로 스팀을 공급하여 상기 전처리용액을 가열하는 스팀라인;
상기 몸체 내부의 상기 전처리용액의 온도를 측정하는 온도센서; 및
상기 커버의 상측에 배치되고, 스팀에 의해 기화하여 상기 커버를 통과하여 노출되는 상기 전처리용액으로부터 발생되는 기체를 흡입하는 후드를 포함하는 것을 특징으로 하는 인조다이아몬드 전처리 시스템. 8. The method of claim 7,
The solution box includes:
A body in which a pretreatment solution is contained, and in which the placement rack is disposed;
A cover for closing an upper surface of the body;
A steam line for supplying steam into the body to heat the pretreatment solution;
A temperature sensor for measuring a temperature of the pretreatment solution in the body; And
And a hood that is disposed above the cover and sucks gas generated from the pretreatment solution that is vaporized by the steam and is exposed through the cover. 삭제delete
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