KR101941576B1 - Surface resistivity measuring device for wafer equipped with self weight raising and lowering means - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a surface resistivity measuring device for a wafer equipped with a self-weight raising and lowering means, which is capable of pressing a surface of the wafer with uniform pressing force using a weight of the self-weight raising and lowering means, not pressing a probe using a movement of a driving device, through having the self-weight raising and lowering means freely raised and lowered by the self-weight after moving by a predetermined height on one surface of a power main body. Also, the surface resistivity measuring device is capable of preventing the surface of the wafer from being damaged by excessive pressing force. The surface resistivity measuring device for measuring the surface of a wafer comprises: a device main body unit composed of a bent device connection unit; a power raising and lowering means composed of a bent power main body; and a self-weight raising and lowering means composed of a probe housing and a probe.

Description

자중승하강수단이 구비된 웨이퍼용 표면저항측정장치 { Surface resistivity measuring device for wafer equipped with self weight raising and lowering means }BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a surface resistivity measuring device for a wafer having self weight raising and lowering means,

본 발명은 자중승하강수단이 구비된 웨이퍼용 표면저항측정장치에 관한 것으로서 보다 상세하게는 구동장치의 이동을 통하여 탐침을 가압하는 것이 아닌 자중승하강수단의 중량을 통하여 웨이퍼의 표면을 동일한 가압력으로 가압하고, 과도한 압력으로 웨이퍼의 표면이 손상되는 것을 방지하도록 동력본체의 일면에 정해진 높이만큼 이동된 후 자중에 의하여 자유롭게 승하강되는 자중승하강수단이 구비된 웨이퍼용 표면저항측정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a surface resistance measuring apparatus for a wafer provided with a self-weight raising / lowering means, and more particularly, to a surface resistance measuring apparatus for a wafer having a self- And a self-weight raising / lowering means that is lifted and lowered by its own weight after being moved by a predetermined height to one surface of the power main body so as to prevent the surface of the wafer from being damaged by excessive pressure.

일반적으로 표면저항은 웨이퍼(wafer), LCD, 태양전지, 연료전지, OLED 등 박막 증착 후 박막의 전도성을 검사하기 위하여 사용되는 것으로 보통 단위 ohm/sq로 표시된다.In general, surface resistance is used to check the conductivity of a thin film after wafer deposition, LCD, solar cell, fuel cell, OLED, etc. It is usually expressed in units of ohm / sq.

이러한 표면저항을 측정하기 위해서는 동일한 간격의 4개 탐침이 형성된 4포인트 프로브(point probe)가 준비되는데 보통 탐침은 1mm 간격으로 일렬 구성된 프로브를 사용하며, 4개의 탐침으로 전류와 전압을 통해 저항을 검출한 후 표면저항 단위인 ohm/sq로 계산하기 위해 보정계수(C.F)를 적용한다.In order to measure the surface resistance, a 4-point probe having four probes of the same interval is prepared. Normally, the probe uses a probe arranged in a line at intervals of 1 mm. Four probes detect the resistance through current and voltage After that, the correction factor (CF) is applied to calculate the surface resistance unit, ohm / sq.

한편, 종래의 표면저항측정장치에 관한 기술문헌으로 국내등록특허 제10-1562278호가 개시되었고, 도 1은 종래의 표면저항측정장치를 나타내 보인 도면이다.On the other hand, Korean Patent No. 10-1562278 is disclosed as a technical literature on a conventional surface resistance measuring apparatus, and FIG. 1 is a diagram showing a conventional surface resistance measuring apparatus.

여기서, 종래의 표면저항측정장치의 구성을 살펴보면 탐침을 포함하는 4포인트 프로브(310)와, 상기 4포인트 프로브의 몸체와 연결되는 프로브 홀더(320)와, 상기 프로브 홀더와 고정 결합되는 제1 LM 가이드와 제2 LM 가이드와, 상기 4포인트 프로브(310)의 승하강시키는 레버(340)로 구성되었다.Here, the configuration of the conventional surface resistance measuring apparatus includes a 4-point probe 310 including a probe, a probe holder 320 connected to the body of the 4-point probe, a first LM 310 fixedly coupled to the probe holder, A second LM guide, and a lever 340 for moving the 4-point probe 310 up and down.

그러나, 종래의 표면저항측정장치는 웨이퍼의 표면저항을 측정하기 위하여 상기 레버(340)를 사용자가 직접 조작하는 방법이 사용되는데 상기 웨이퍼를 가압하는 가압력이 매번 달라 저항측정값에 오차가 발생되는 문제점이 있었다.However, in the conventional surface resistance measuring apparatus, the user directly manipulates the lever 340 to measure the surface resistance of the wafer. The pressing force for pressing the wafer is different each time, .

또한, 종래의 표면저항측정장치는 저항을 측정하기 위한 최소한의 가압중량이 500g인것에 반해 사용자의 무분별한 가압작동 즉, 500g이 넘어가는 힘으로 상기 웨이퍼의 표면을 가압하는 것으로 측정물의 표면이 손상되는 문제점이 있엇다.In addition, the conventional surface resistance measuring apparatus has a problem that the surface of the object to be measured is damaged by pressing the surface of the wafer at a pressing force of 500 g or more, There was a problem.

이를 해결하기 위하여 종래에는 상기 프로브(310)를 정밀하고 동일한 가압력으로 하강시키는 구동모터 또는 압력피스톤을 구비하게 되었는데 측정물의 두께에 따라 하강거리가 변동되어야 하는 문제점을 극복하지 못하고 저항측정값의 오차 및 측정물의 표면이 손상되는 문제점이 계속 발생되고 있는 실정에 있다.In order to solve this problem, in the related art, a driving motor or a pressure piston for descending the probe 310 with a precise and equal pressing force has been provided. However, the problem that the falling distance has to be varied according to the thickness of the measured object has not been overcome, There is still a problem that the surface of the measurement object is damaged.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 창작된 것으로 본 발명의 목적은 동력본체의 일면에 정해진 높이만큼 이동된 후 자중에 의하여 자유롭게 승하강되는 자중승하강수단을 구비하여 구동장치의 이동을 통하여 탐침을 가압하는 것이 아닌 자중승하강수단의 중량을 통하여 웨이퍼의 표면을 동일한 가압력으로 가압할 수 있고, 과한 가압력으로 웨이퍼의 표면이 손상되는 것을 방지할 수 있는 자중승하강수단이 구비된 웨이퍼용 표면저항측정장치를 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a self-lifting / descending means that is lifted and lowered freely by its own weight after being moved by a predetermined height on one surface of a power main body, There is provided a self-weight raising and lowering means capable of pressing the surface of the wafer with the same pressing force through the weight of the self-weight raising and lowering means not to press the probe through the movement but to prevent the surface of the wafer from being damaged by an excessive pressing force And a device for measuring a surface resistance for a wafer.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 자중승하강수단이 구비된 웨이퍼용 표면저항측정장치는 웨이퍼의 표면을 측정하는 표면저항측정장치로서 박스형상의 본체와, 상기 본체의 상부에 형성되며 상기 웨이퍼가 상면에 안착되는 판형상의 측정판과, 상기 본체의 상부 일면에서 내측방향으로 만곡된 장치연결부로 이루어진 장치본체부와; 상기 장치연결부의 일단면에 연결된 구동장치와, 상기 구동장치의 일면에 부착된 동력리니어가이드와, 상기 동력리니어가이드의 일면에 부착되며 하부에 상기 구동장치의 로드와 연결되도록 직각으로 절곡된 동력본체로 이루어진 동력승하강수단와; 상기 동력본체의 일면에 부착된 자중리니어가이드와, 상기 자중리니어가이드의 일면에 부착된 프로브하우징과, 상기 프로브하우징의 내측에 안착된 프로브로 이루어진 자중승하강수단로 구성된 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a surface resistance measuring apparatus for measuring a surface of a wafer, the apparatus comprising: a box-shaped main body; A device main body part having a plate-like measuring plate on which the wafer is seated on the upper surface and a device connecting part curved inward in the upper surface of the main body; A power linear guide attached to one surface of the drive unit; a power unit attached to one surface of the power linear guide and bent at a right angle so as to be connected to the rod of the drive unit at a lower portion; A power up / down unit comprising: Weight linear guide attached to one surface of the power main body, a probe housing attached to one surface of the self-weight linear guide, and a probe placed on the inner side of the probe housing.

상기 본체의 상부 일면에는 상기 동력본체의 승하강높이를 감지하는 동력거리감지부가 구비되고; 상기 동력거리감지부는 상기 본체의 상면에 수직방향으로 연장된 동력감지편과, 상기 동력감지편의 일면에 정해진 거리만큼 이격된 한 쌍의 동력감지센서와, 상기 동력감지센서로 이동되며 상기 동력본체의 일면에 부착된 동력감지봉으로 이루어진 것을 특징으로 한다.And a power distance sensing part for sensing a height of the power main body to ascend and descend is provided on an upper surface of the main body; The power distance sensing part includes a power sensing part extending in a direction perpendicular to an upper surface of the main body, a pair of power sensing sensors spaced apart from each other by a predetermined distance on one surface of the power sensing piece, And a power sensing rod attached on one surface.

상기 동력본체의 일면에는 상기 프로브의 승하강높이를 감지하는 자중거리감지부가 구비되고; 상기 자중거리감지부는 상기 동력본체의 일면에 부착되는 자중감지센서와, 상기 프로브하우징의 일면에 부착되며 상기 자중감지센서로 이동되는 자중감지봉으로 이루어진 것을 특징으로 한다.Wherein the power main body has a self-weight distance sensing part for sensing a height of the probe to ascend and descend; The self-weight distance sensing unit includes a self-weight sensor attached to one surface of the power main body, and a self-weight sensor attached to one surface of the probe housing and moved to the self-weight sensor.

상기 프로브하우징은 상기 자중리니어가이드에 부착되며 상기 프로브의 외경과 동일한 안착홈이 형성된 프로브안착본체와, 상기 프로브안착본체의 외측부에 상기 안착홈을 덮어주는 덮개홈이 형성된 프로브덮개로 구성된 것을 특징으로 한다.Wherein the probe housing comprises a probe seating main body attached to the self-weight linear guide and having the same seating groove as an outer diameter of the probe, and a probe lid having a lid groove for covering the seating groove on an outer side of the probe seating main body. do.

상기 프로브하우징과 프로브의 합계중량은 500g으로 형성된 것을 특징으로 한다.The total weight of the probe housing and the probe is 500 g.

이와 같이 본 발명에 따른 자중승하강수단이 구비된 웨이퍼용 표면저항측정장치는 효과는 다음과 같다.The effect of the surface resistance measuring apparatus for wafers equipped with the self-weight raising / lowering unit according to the present invention is as follows.

첫째, 동력본체의 일면에 정해진 높이만큼 이동된 후 자중에 의하여 자유롭게 승하강되는 자중승하강수단이 구비됨으로써, 구동장치의 이동을 통하여 탐침을 가압하는 것이 아닌 자중승하강수단의 중량을 통하여 웨이퍼의 표면을 동일한 가압력으로 가압할 수 있어 표면저항을 일정하게 측정할 수 있고,First, since the self-weight raising / lowering means is provided which is moved up to a predetermined height on one surface of the power main body and then is lifted and lowered freely by its own weight, the weight of the wafer The surface can be pressed with the same pressing force, the surface resistance can be measured constantly,

둘째, 자중승하강수단을 통하여 프로브를 정해진 중량으로 가압함으로써, 과한 가압력으로 웨이퍼의 표면이 손상되는 것을 미연에 방지할 수 있으며,Secondly, by pressing the probe with a predetermined weight through the self-weight raising and lowering means, the surface of the wafer can be prevented from being damaged by an excessive pressing force,

셋째, 승하강수단의 일면에 최고 및 최저의 높이을 감지하는 거리감지부를 구비함으로써, 승하강수단의 현재위치를 감지하여 오작동을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.Third, by providing the distance sensing unit that senses the highest and the lowest heights on one surface of the elevating and lowering means, it is possible to detect a current position of the elevating and lowering means and to prevent a malfunction in advance.

도 1은 종래의 표면저항측정장치를 나타내 보인 사시도이고,
도 2는 본 발명에 따른 표면저항측정장치를 나타내 보인 사시도이며,
도 3은 본 발명에 따른 표면저항측정장치를 나타내 보인 분해사시도이고,
도 4는 본 발명에 따른 표면저항측정장치를 나타내 보인 일측면도이며,
도 5는 본 발명에 따른 동력승하강수단의 작용을 나타내 보인 부분작용도이고,
도 6은 본 발명에 따른 자중승하강수단의 작용을 나타내 보인 부분작용도이며,
도 7은 본 발명의 동력거리감지부를 나타내 보인 부분작용도이고,
도 8은 본 발명의 자중거리감지부를 나타내 보인 부분작용도이다.1 is a perspective view showing a conventional surface resistance measuring apparatus,
2 is a perspective view showing a surface resistance measuring apparatus according to the present invention,
3 is an exploded perspective view showing a surface resistance measuring apparatus according to the present invention,
4 is a side view of a surface resistance measuring apparatus according to the present invention,
5 is a partial action diagram showing the action of the power up / down means according to the present invention,
6 is a partial action diagram showing the action of the self-weight raising and lowering means according to the present invention,
FIG. 7 is a partial action diagram showing the power distance sensing portion of the present invention,
Fig. 8 is a partial action diagram showing the self weighting distance sensing portion of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 자중승하강수단이 구비된 웨이퍼용 표면저항측정장치는 도 2 내지 도 6에 도시된 바와 같이 웨이퍼(W)의 표면을 측정하는 표면저항측정장치(1)로서 박스형상의 본체(11)와, 상기 본체(11)의 상부에 형성되며 상기 웨이퍼(W)가 상면에 안착되는 판형상의 측정판(12)과, 상기 본체(11)의 상부 일면에서 내측방향으로 만곡된 장치연결부(13)로 이루어진 장치본체부(10)와; 상기 장치연결부(13)의 일단면에 연결된 구동장치(21)와, 상기 구동장치(21)의 일면에 부착된 동력리니어가이드(22)와, 상기 동력리니어가이드(22)의 일면에 부착되며 하부에 상기 구동장치(21)의 로드(211)와 연결되도록 직각으로 절곡된 동력본체(23)로 이루어진 동력승하강수단(20)과; 상기 동력본체(23)의 일면에 부착된 자중리니어가이드(31)와, 상기 자중리니어가이드(31)의 일면에 부착된 프로브하우징(32)과, 상기 프로브하우징(32)의 내측에 안착된 프로브(33)로 이루어진 자중승하강수단(30)으로 구성된다.As shown in FIGS. 2 to 6, the surface resistance measuring apparatus for a wafer provided with the self-weight raising and lowering means according to the present invention is a surface resistance measuring apparatus 1 for measuring the surface of a wafer W, A measuring plate 12 formed on the upper surface of the main body 11 and having the wafer W seated on the upper surface thereof and a device connection portion 13; < / RTI > A power linear guide 22 attached to one surface of the driving device 21 and a power linear guide 22 attached to one surface of the power linear guide 22, And a power main body 23 bent perpendicularly to be connected to the rod 211 of the drive unit 21; A weighted linear guide 31 attached to one surface of the power main body 23, a probe housing 32 attached to one surface of the self-weighted linear guide 31, a probe mounted on the inside of the probe housing 32, And a self-weight lifting / lowering means (30) composed of a self-

한편, 상기 동력리니어가이드(22)와 상기 자중리니어가이드(31)는 일반적인 LM가이드 구성으로 형성되는 내측으로 요입된 레일홈(미도시)과 상기 레일홈에 삽입되되 일방향으로 미끄러지는 돌출바형상의 레일바(미도시)로 이루어지는 것이 바람직하다.Meanwhile, the power linear guide 22 and the self-weight linear guide 31 are formed with a rail groove (not shown) recessed inwardly formed by a general LM guide structure and a protruding bar shape which is inserted into the rail groove and slides in one direction And a rail bar (not shown).

또한, 상기 동력승하강수단(20) 및 자중승하강수단(30)의 상부에는 외부작용을 차단하는 덮개(C)가 구비되는 것이 바람직하다.It is preferable that a lid C for blocking external action is provided on the power up / down unit 20 and the self weight lifting unit 30.

그리고, 상기 본체(11)의 상부 일면에는 상기 동력본체(23)의 승하강높이를 감지하는 동력거리감지부(40)가 구비된다.A power distance sensing part 40 is provided on the upper surface of the main body 11 to sense the ascending / descending height of the power main body 23.

여기서, 상기 동력거리감지부(40)는 도 7에 도시된 바와 같이 상기 본체(11)의 상면에 수직방향으로 연장된 동력감지편(41)과, 상기 동력감지편(41)의 일면에 정해진 거리만큼 이격된 한 쌍의 동력감지센서(42)와, 상기 동력감지센서(42)로 이동되며 상기 동력본체(23)의 일면에 부착된 동력감지봉(43)으로 이루어진다.7, the power distance sensing part 40 includes a power sensing piece 41 extending in a vertical direction on the upper surface of the main body 11, And a power sensing rod 43 which is moved to the power sensing sensor 42 and attached to one surface of the power main body 23.

또한, 상기 동력본체(23)의 일면에는 상기 프로브(33)의 승하강높이를 감지하는 자중거리감지부(50)가 구비된다. Also, on one side of the power main body 23, a self-weight distance sensing unit 50 for sensing the ascending / descending height of the probe 33 is provided.

여기서, 상기 자중거리감지부(50)는 도 8에 도시된 바와 같이 상기 동력본체(23)의 일면에 부착되는 자중감지센서(51)와, 상기 프로브하우징(32)의 일면에 부착되며 상기 자중감지센서(51)로 이동되는 자중감지봉(52)으로 이루어진다.As shown in FIG. 8, the self-weight distance sensing unit 50 includes a self-weight detection sensor 51 attached to one surface of the power main body 23, and a self weight detection sensor 51 attached to one surface of the probe housing 32, And a self-weight detecting rod 52 which is moved to the sensor 51.

그리고, 상기 프로브하우징(32)은 도 3에 도시된 바와 같이 상기 자중리니어가이드(31)에 부착되며 상기 프로브(33)의 외경과 동일한 안착홈(321a)이 형성된 프로브안착본체(321)와, 상기 프로브안착본체(321)의 외측부에 상기 안착홈(321a)을 덮어주는 덮개홈(322a)이 형성된 프로브덮개(322)로 구성된다.3, the probe housing 32 includes a probe seating body 321 attached to the self-weight linear guide 31 and having a seating groove 321a which is the same as the outer diameter of the probe 33, And a probe lid 322 having a lid groove 322a formed on the outer side of the probe mount main body 321 and covering the mounting groove 321a.

한편, 상기 프로브덮개(322)의 양측면에는 상기 프로브안착본체(321)의 양측면에 관통되며 체결되는 볼트(미도시)가 이동되도록 다수개의 천공부가 형성되는 것이 바람직하다.On both sides of the probe lid 322, a plurality of perforations may be formed to allow the bolts (not shown) to pass through the side surfaces of the probe seating body 321 to be moved.

또한, 상기 프로브하우징(32)과 프로브(33)의 합계중량은 500g으로 형성된다.The total weight of the probe housing 32 and the probe 33 is 500 g.

한편, 상기 프로브하우징(32)과 프로브(33)의 합계중량은 측정되는 웨이퍼(W)의 두께에 따라 변동되되, 최저중량은 상기 500g이상으로 형성되는 것이 바람직하다.The total weight of the probe housing 32 and the probe 33 may vary depending on the thickness of the wafer W to be measured, and the minimum weight may be 500 g or more.

상기와 같은 구성으로 이루어진 본 발명에 따른 자중승하강수단이 구비된 웨이퍼용 표면저항측정장치의 작용을 살펴보면 다음과 같다.The operation of the surface resistance measuring apparatus for wafers having the self-weight raising / lowering unit according to the present invention having the above-described structure will be described below.

본 발명에 따른 자중승하강수단이 구비된 웨이퍼용 표면저항측정장치는 웨이퍼(W)의 표면을 측정하는 표면저항측정장치(1)로서 본체(11)의 상부에 구비된 측정판(12)의 상면에 측정하려는 웨이퍼(W)를 안착한 후 그 상부에서 하강하는 프로브(33)의 탐침을 통하여 웨이퍼(W)의 표면저항을 측정하게 된다.The apparatus for measuring surface resistance for wafers equipped with the self-weight raising and lowering means according to the present invention is a surface resistance measuring apparatus 1 for measuring the surface of a wafer W and includes a measuring plate 12 The surface resistance of the wafer W is measured through the probe of the probe 33 descending from the upper surface after the wafer W to be measured is placed on the upper surface.

이때, 상기 본체(11)의 일면에 상부 내측방향으로 만곡된 장치연결부(13)가 형성되고, 상기 장치연결부(13)의 단부에 구동장치(21)를 통하여 승하강하는 동력승하강수단(20)이 구비됨으로써, 상기 프로브(33)의 승하강을 동작시킬 수 있게 된다.At this time, a device connecting portion 13 curved inward in the upper direction is formed on one surface of the main body 11, and a power up / down means 20 So that the probe 33 can be moved up and down.

여기서, 상기 동력승하강수단(20)은 도 5에 도시된 바와 같이 상기 구동장치(21)의 로드(211)에 연결된 동력본체(23)의 일면에 프로브(33)가 연결됨으로써, 상기 로드(211)의 작동시 상기 프로브(33)를 승하강시킬 수 있게 된다.5, the power ascending / descending means 20 includes a probe 33 connected to one surface of a power main body 23 connected to a rod 211 of the driving device 21, The probe 33 can be moved up and down during operation of the probe.

한편, 상기 동력본체(23)의 일면에 연결된 프로브(33)에는 상기 동력본체(23)가 정해진 높이만큼 이동된 후 자중에 의하여 자유롭게 승하강이동되도록 자중승하강수단(30)이 구비됨으로써, 상기 구동장치(21)의 이동을 통하여 탐침을 가압하는 것이 아닌 상기 자중승하강수단(30)의 중량을 통하여 상기 웨이퍼(W)를 가압할 수 있게 된다.The probe 33 connected to one surface of the power main body 23 is provided with the self weight raising and lowering means 30 so that the power main body 23 is moved by a predetermined height and then freely moved up and down by its own weight, The wafer W can be pressed through the weight of the self-weight-lifting / lowering means 30, not by pressing the probe through the movement of the driving device 21. [

여기서, 상기 자중승하강수단(30)은 도 6에 도시된 바와 같이 상기 프로브(33)의 외측을 잡아주는 프로브하우징(32)과, 상기 프로브하우징(32)을 승하강시키는 자중리니어가이드(31)로 이루어짐으로써, 상기 프로브(33)가 웨이퍼(W)의 표면에 접촉되도록 상기 동력본체(23)가 하강된 후 상기 자중리니어가이드(31)를 통하여 상기 프로브하우징(32)가 상부로 이동되며 자중을 통하여 상기 웨이퍼(W)를 가압할 수 있게 된다.6, the self weight lifting unit 30 includes a probe housing 32 for holding the outside of the probe 33, a self-weight linear guide 31 for moving the probe housing 32 up and down, The power main body 23 is lowered so that the probe 33 contacts the surface of the wafer W and then the probe housing 32 is moved upward through the self-weight linear guide 31 The wafer W can be pressed through its own weight.

이로 인하여 상기 프로브(33)는 상기 웨이퍼(W)의 표면을 일정한 압력 즉, 자중승하강수단(30)의 중량으로 가압할 수 있어 일정하게 표면저항을 측정할 수 있게 된다.Therefore, the probe 33 can pressurize the surface of the wafer W by a certain pressure, that is, the weight of the self-weight-increasing / descending means 30, so that the surface resistance can be constantly measured.

또한, 자중승하강수단(30)으로 통하여 웨이퍼(W)의 표면을 과하게 가압하여 상기 웨이퍼(W)가 손상되는 것을 미연에 방지할 수 있게 된다.In addition, it is possible to prevent the wafer W from being damaged by excessively pressing the surface of the wafer W through the self-weight raising and lowering means 30.

그리고, 상기 본체(11)의 상부 일면에는 도 7과 같이 상기 동력본체(23)의 승하강높이를 감지하는 동력거리감지부(40)와, 상기 동력본체(23)의 일면에는 도 8과 같이 상기 프로브(33)의 승하강 높이를 감지하는 자중거리감지부(50)가 구비됨으로써, 상기 동력본체(23) 및 프로브(33)의 높이에 대한 위치를 쉽게 감지할 수 있게 된다. As shown in FIG. 7, on the upper surface of the main body 11, a power distance sensing part 40 for sensing the ascending / descending height of the power main body 23, The position of the power main body 23 and the probe 33 with respect to the height can be easily detected by providing the self-weight distance sensing portion 50 for sensing the height of the probe 33 ascending and descending.

또한, 상기 프로브하우징(32)은 도 3에 도시된 바와 같이 상기 프로브(33)의 외주면을 감싸며 덮어주며 볼트(미도시)에 의하여 쉽게 탈부착되는 프로브안착본체(321)와 프로브덮개(322)로 구성됨으로써, 상기 프로브덥개(322)의 일면에 추가적인 무게추(미도시)를 부착하는 것으로 다양한 두께의 웨이퍼(W)에 따라 자중이동의 무게를 편리하게 가변시킬 수 있게 된다.3, the probe housing 32 includes a probe mounting body 321 and a probe cover 322 which surround and cover the outer circumferential surface of the probe 33 and are easily detachable by bolts (not shown) (Not shown) is attached to one surface of the probe cover 322, it is possible to conveniently change the weight of the self-weight movement according to the wafer W having various thicknesses.

한편, 상기 프로브하우징(32)과 프로브(33)의 합계중량은 상기 웨이퍼(W)의 최소 가압중량인 500g으로 형성시킴으로써, 적은 가압력으로 측정되지 못하는 것을 미연에 방지할 수 있게 된다.The total weight of the probe housing 32 and the probe 33 is 500 g, which is the minimum pressing weight of the wafer W, so that it is possible to prevent the probe housing 32 from being measured with a small pressing force.

본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims and their equivalents. Of course, such modifications are within the scope of the claims.

<도면의 주요 부분에 대한 부호 설명>
W : 웨이퍼 1 : 표면저항측정장치
10 : 장치본체부 11 : 본체
12 : 측정판 13 : 장치연결부
20 : 동력승하강수단 21 : 구동장치
211 : 로드 22 : 동력리니어가이드
23 : 동력본체 30 : 자중승하강수단
31 : 자중리니어가이드 32 : 프로브하우징
321 : 프로브안착본체 321a : 안착홈
322 : 프로브덮개 322a : 덮개홈
33 : 프로브 40 : 동력거리감지부
41 : 동력감지편 42 : 동력감지센서
43 : 동력감지봉 50 : 자중거리감지부
51 : 자중감지센서 52 : 자중감지봉Description of the Related Art [0002]
W: Wafer 1: Surface resistance measuring device
10: apparatus main body part 11: main body
12: Measuring plate 13: Device connection part
20: power up / down means 21: drive device
211: rod 22: power linear guide
23: power main body 30: self weight lifting / lowering means
31: Self weight linear guide 32: Probe housing
321: probe seating body 321a:
322: probe cover 322a: cover groove
33: probe 40: power distance sensing section
41: Power sensing unit 42: Power sensing sensor
43: Power sensing rod 50: Self-weight distance sensor
51: Self weight detection sensor 52: Self weight sensor

Claims (5)

웨이퍼(W)의 표면을 측정하는 표면저항측정장치(1)에 있어서,
박스형상의 본체(11)와, 상기 본체(11)의 상부에 형성되며 상기 웨이퍼(W)가 상면에 안착되는 판형상의 측정판(12)과, 상기 본체(11)의 상부 일면에서 내측방향으로 만곡된 장치연결부(13)로 이루어진 장치본체부(10)와;
상기 장치연결부(13)의 일단면에 연결된 구동장치(21)와, 상기 구동장치(21)의 일면에 부착된 동력리니어가이드(22)와, 상기 동력리니어가이드(22)의 일면에 부착되며 하부에 상기 구동장치(21)의 로드(211)와 연결되도록 직각으로 절곡된 동력본체(23)로 이루어진 동력승하강수단(20)과;
상기 동력본체(23)의 일면에 부착된 자중리니어가이드(31)와, 상기 자중리니어가이드(31)의 일면에 부착된 프로브하우징(32)과, 상기 프로브하우징(32)의 내측에 안착된 프로브(33)로 이루어진 자중승하강수단(30)으로 구성되고;
상기 본체(11)의 상부 일면에는 상기 동력본체(23)의 승하강높이를 감지하는 동력거리감지부(40)가 구비되고;
상기 동력거리감지부(40)는 상기 본체(11)의 상면에 수직방향으로 연장된 동력감지편(41)과, 상기 동력감지편(41)의 일면에 정해진 거리만큼 이격된 한 쌍의 동력감지센서(42)와, 상기 동력감지센서(42)로 이동되며 상기 동력본체(23)의 일면에 부착된 동력감지봉(43)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 자중승하강수단이 구비된 웨이퍼용 표면저항측정장치.A surface resistance measuring apparatus (1) for measuring a surface of a wafer (W)
A measuring plate 12 in the form of a plate on which the wafer W is mounted on the upper surface of the main body 11; An apparatus main body 10 composed of a curved device connecting portion 13;
A power linear guide 22 attached to one surface of the driving device 21 and a power linear guide 22 attached to one surface of the power linear guide 22, And a power main body 23 bent perpendicularly to be connected to the rod 211 of the drive unit 21;
A weighted linear guide 31 attached to one surface of the power main body 23, a probe housing 32 attached to one surface of the self-weighted linear guide 31, a probe mounted on the inside of the probe housing 32, And a self-weight-lifting means (30) composed of a self-weighting means (33);
A power distance sensing unit 40 for sensing the ascending / descending height of the power main body 23 is provided on the upper surface of the main body 11;
The power distance sensing part 40 includes a power sensing part 41 extending vertically to the upper surface of the main body 11 and a pair of power sensing sensors 41, And a power sensing rod (43) which is moved to the power sensing sensor (42) and attached to one surface of the power main body (23). The surface resistance measurement Device. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 동력본체(23)의 일면에는 상기 프로브(33)의 승하강높이를 감지하는 자중거리감지부(50)가 구비되고;
상기 자중거리감지부(50)는 상기 동력본체(23)의 일면에 부착되는 자중감지센서(51)와, 상기 프로브하우징(32)의 일면에 부착되며 상기 자중감지센서(51)로 이동되는 자중감지봉(52)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 자중승하강수단이 구비된 웨이퍼용 표면저항측정장치.The method according to claim 1,
On one side of the power main body 23, a self-weight distance sensing unit 50 for sensing the height of the probe 33 is provided.
The self-weighted distance sensing unit 50 includes a self-weight detection sensor 51 attached to one surface of the power main body 23, a self weight detection sensor 51 attached to one surface of the probe housing 32, And a rod (52). The device for measuring surface resistance for a wafer is provided with a self-weight raising / lowering means. 제 1 항에 있어서,
상기 프로브하우징(32)은 상기 자중리니어가이드(31)에 부착되며 상기 프로브(33)의 외경과 동일한 안착홈(321a)이 형성된 프로브안착본체(321)와, 상기 프로브안착본체(321)의 외측부에 상기 안착홈(321a)을 덮어주는 덮개홈(322a)이 형성된 프로브덮개(322)로 구성된 것을 특징으로 하는 자중승하강수단이 구비된 웨이퍼용 표면저항측정장치.The method according to claim 1,
The probe housing 32 includes a probe seating body 321 attached to the self-weight linear guide 31 and having a seating groove 321a that is the same as the outer diameter of the probe 33, And a probe lid (322) having a lid groove (322a) for covering the seating groove (321a). 제 1 항에 있어서,
상기 프로브하우징(32)과 프로브(33)의 합계중량은 500g으로 형성된 것을 특징으로 하는 자중승하강수단이 구비된 웨이퍼용 표면저항측정장치.

The method according to claim 1,
Wherein the total weight of the probe housing (32) and the probe (33) is 500 g.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060036154A (en) * 2004-10-25 2006-04-28 유광민 System for measuring and controlling press load of prove head
KR20110032122A (en) * 2009-09-22 2011-03-30 주식회사 메디슨 3d probe apparatus
KR101562278B1 (en) * 2014-07-03 2015-10-21 (주)다솔이엔지 Surface resistance measuring apparatus with four point probe

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060036154A (en) * 2004-10-25 2006-04-28 유광민 System for measuring and controlling press load of prove head
KR20110032122A (en) * 2009-09-22 2011-03-30 주식회사 메디슨 3d probe apparatus
KR101562278B1 (en) * 2014-07-03 2015-10-21 (주)다솔이엔지 Surface resistance measuring apparatus with four point probe

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110736417A (en) * 2019-12-09 2020-01-31 苏州精濑光电有限公司 kinds of resistance detection device
CN110736417B (en) * 2019-12-09 2022-04-29 苏州精濑光电有限公司 Resistance detection device

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