KR101936368B1 - Display device and method of fabricating the same - Google Patents
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Abstract
본 발명의 표시장치 및 그 제조방법은 내로우 베젤(narrow bezel)을 위한 듀얼 링크(dual link) 구조에 있어, 링크 배선이 경사지게 배치되는 경사 배선부의 선폭을 각 링크 배선의 비저항에 따라 서로 다르게 설계함으로써 베젤 사이즈를 증가시키지 않으면서 이웃하는 링크 배선들 사이의 저항차이로 인한 화상불량을 개선하기 위한 것으로, 표시영역 및 상기 표시영역 주위에 배치되는 비표시영역으로 구분되는 제 1 기판; 상기 표시영역에 매트릭스 형태로 배치되며, 복수의 데이터라인과 게이트라인이 교차하여 정의되는 복수의 서브 픽셀; 상기 비표시영역에 배치되며, 상기 서브 픽셀의 데이터라인 및 게이트라인을 구동하는 데이터구동부 및 게이트구동부; 상기 비표시영역에 배치되며, 상기 데이터라인과 수직한 방향으로 배치되는 수직 배선부 및 상기 수직 배선부에서 데이터라인 쪽으로 연장되어 경사지게 배치되는 경사 배선부로 구분되는 링크부; 상기 비표시영역의 링크부에 형성되며, 상기 데이터구동부를 통해 상기 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하되, 상기 데이터라인과 동일한 층에 형성된 제 1 데이터 링크 배선 및 상기 게이트라인과 동일한 층에 형성된 제 2 데이터 링크 배선으로 구분되는 데이터 링크 배선; 및 상기 제 1 기판과 합착하는 제 2 기판을 포함하며, 상기 제 1 데이터 링크 배선과 제 2 데이터 링크 배선은 각각의 선폭을 상기 경사 배선부에서 상기 수직 배선부와 달리하는 것을 특징으로 한다.The display device and the method of manufacturing the same according to the present invention are designed in a dual link structure for a narrow bezel so that the line width of the inclined wiring portion in which the link wiring is inclined is designed differently according to the specific resistance of each link wiring A first substrate divided into a display region and a non-display region disposed around the display region for improving image defects due to a resistance difference between neighboring link wirings without increasing the size of the bezel; A plurality of subpixels arranged in a matrix form in the display region and defined by intersecting a plurality of data lines and gate lines; A data driver and a gate driver arranged in the non-display area to drive data lines and gate lines of the subpixels; A link portion disposed in the non-display region, the link portion being divided into a vertical wiring portion arranged in a direction perpendicular to the data line and a sloped wiring portion extending from the vertical wiring portion toward a data line and inclined; A first data link line formed in the same layer as the data line and a second data link line formed in the same layer as the gate line; A data link wiring line formed by a second data link line formed; And a second substrate bonded to the first substrate, wherein the first data link wiring and the second data link wiring each have a different line width from the sloped wiring part to the vertical wiring part.
Description
본 발명은 표시장치 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 내로우 베젤(narrow bezel)을 구현하기 위해 듀얼 링크(dual link) 구조를 적용한 표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a display device using a dual link structure for implementing a narrow bezel and a method of manufacturing the same.
정보화 기술이 발달함에 따라 사용자와 정보간의 연결 매체인 표시장치의 시장이 커지고 있다. 이에 따라 액정표시장치(Liquid Crystal Display: LCD), 유기전계발광표시장치(Organic Light Emitting Display: OLED) 및 전기영동 표시장치(Electrophoretic display; EPD) 등과 같은 표시장치의 사용이 증가하고 있다.As the information technology is developed, the market of display devices, which is a connection medium between users and information, is getting larger. Accordingly, the use of display devices such as a liquid crystal display (LCD), an organic light emitting display (OLED), and an electrophoretic display (EPD) has been increasing.
이와 같은 표시장치는 텔레비전(TV)이나 비디오 등의 가전분야에서 노트북(Note book)과 같은 컴퓨터나 핸드폰 등과 같은 산업분야 등에서 다양한 용도로 사용되고 있다.Such a display device is used in various fields such as a computer such as a notebook computer, a cellular phone, and the like in the field of consumer electronics such as a television (TV) and a video.
이하, 상기의 표시장치에 대해서 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, the display device will be described in detail with reference to the drawings.
도 1은 일반적인 표시장치를 개략적으로 나타내는 평면도이다.1 is a plan view schematically showing a general display device.
도면을 참조하면, 앞서 설명한 표시장치(10)는 매트릭스 형태로 배치된 복수의 서브 픽셀(미도시)이 형성되는 표시영역(20)과 상기 표시영역(20) 주위에 배치되어 상기 서브 픽셀을 구동하는 구동부가 위치하는 비표시영역으로 구분할 수 있다.Referring to the drawings, the
상기 구동부에는 타이밍구동부(미도시)와 데이터구동부(31) 및 게이트구동부(32) 등이 포함된다. 이때, 상기 데이터구동부(31)와 게이트구동부(32)는 표시장치(10)의 패널 상에 형성되고, 상기 타이밍구동부는 패널과 연결되는 연성회로기판(미도시) 등에 형성된다.The driving unit includes a timing driver (not shown), a
이와 같이 구성되는 일반적인 표시장치(10)의 구조는 화면의 가로방향의 폭이 세로방향의 높이보다 큰 가로표시모드(landscape display mode)에 적용하는데는 적합하나, 최근 핸드폰, e-북 등의 모바일 기기의 사용 중에 많은 정보를 표시하여야 하는 작업 등, 예를 들어 다수의 텍스트 파일을 열어서 작업하는 경우인 세로표시모드(portrait display mode)에 적용하는데는 적합하지 못한 것으로 여겨지고 있다.The structure of the
또한, 상기 일반적인 표시장치(10)는 데이터구동부(31)를 예를 들면, 복수의 서브 픽셀의 각 데이터라인(미도시)에 데이터신호를 인가하기 위해서 상기 데이터라인에 대응하는 수만큼의 데이터 링크 배선(26)이 필요하게 된다. 이로 인해, 일반적인 표시장치(10)는 해상도의 증가에 따라 필요한 데이터라인의 수만큼 데이터 링크 배선(26)이 증가하게 되고, 이와 더불어 표시장치(10)의 베젤 폭(w0)이 증가하게 되므로 이를 개선하기 위한 방안이 모색되어야 할 것이다.The
도면부호 27은 복수의 서브 픽셀의 각 게이트라인에 게이트신호를 인가하기 위한 게이트 링크 배선을 나타내며, 동일한 방식으로 해상도의 증가에 따라 필요한 게이트라인의 수만큼 게이트 링크 배선(27)이 증가하게 된다.
본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 세로표시모드에 적합한 구조를 구현하는 동시에 듀얼 링크(dual link) 구조를 적용하여 내로우 베젤(narrow bezel)을 구현하도록 한 표시장치 및 그 제조방법을 제공하는데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a display device which realizes a structure suitable for a vertical display mode and implements a narrow bezel by applying a dual link structure, The purpose is to provide.
본 발명의 다른 목적은 듀얼 링크 설계 시, 이웃하는 링크 배선들 사이의 저항차이를 완화하도록 한 표시장치 및 그 제조방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a display device and a method of manufacturing the display device in which the resistance difference between neighboring link wirings is reduced in the dual link design.
기타, 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 후술되는 발명의 구성 및 특허청구범위에서 설명될 것이다.Other objects and features of the present invention will be described in the following description of the invention and the claims.
상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 표시장치는 표시영역 및 상기 표시영역 주위에 배치되는 비표시영역으로 구분되는 제 1 기판; 상기 표시영역에 매트릭스 형태로 배치되며, 복수의 데이터라인과 게이트라인이 교차하여 정의되는 복수의 서브 픽셀; 상기 비표시영역에 배치되며, 상기 서브 픽셀의 데이터라인 및 게이트라인을 구동하는 데이터구동부 및 게이트구동부; 상기 비표시영역에 배치되며, 상기 데이터라인과 수직한 방향으로 배치되는 수직 배선부 및 상기 수직 배선부에서 데이터라인 쪽으로 연장되어 경사지게 배치되는 경사 배선부로 구분되는 링크부; 상기 비표시영역의 링크부에 형성되며, 상기 데이터구동부를 통해 상기 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하되, 상기 데이터라인과 동일한 층에 형성된 제 1 데이터 링크 배선 및 상기 게이트라인과 동일한 층에 형성된 제 2 데이터 링크 배선으로 구분되는 데이터 링크 배선; 및 상기 제 1 기판과 합착하는 제 2 기판을 포함하며, 상기 제 1 데이터 링크 배선과 제 2 데이터 링크 배선은 각각의 선폭을 상기 경사 배선부에서 상기 수직 배선부와 달리하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a display device including a first substrate divided into a display region and a non-display region disposed around the display region; A plurality of subpixels arranged in a matrix form in the display region and defined by intersecting a plurality of data lines and gate lines; A data driver and a gate driver arranged in the non-display area to drive data lines and gate lines of the subpixels; A link portion disposed in the non-display region, the link portion being divided into a vertical wiring portion arranged in a direction perpendicular to the data line and a sloped wiring portion extending from the vertical wiring portion toward a data line and inclined; A first data link line formed in the same layer as the data line and a second data link line formed in the same layer as the gate line; A data link wiring line formed by a second data link line formed; And a second substrate bonded to the first substrate, wherein the first data link wiring and the second data link wiring each have a different line width from the sloped wiring part to the vertical wiring part.
이때, 상기 제 1 데이터 링크 배선 및 제 2 데이터 링크 배선은 상기 데이터라인의 순서에 따라 교대로 배치되는 것을 특징으로 한다.In this case, the first data link wiring and the second data link wiring are alternately arranged according to the order of the data lines.
상기 제 1 데이터 링크 배선과 제 2 데이터 링크 배선 사이의 비저항 차이를 고려하여 상기 제 1 데이터 링크 배선과 제 2 데이터 링크 배선 각각의 선폭을 결정하는 것을 특징으로 한다.The line width of each of the first data link wiring and the second data link wiring is determined in consideration of a difference in resistivity between the first data link wiring and the second data link wiring.
이때, 상기 제 2 데이터 링크 배선의 비저항이 상기 제 1 데이터 링크 배선의 비저항보다 크다면, 상기 제 2 데이터 링크 배선은 상기 제 1 데이터 링크 배선에 비해 큰 선폭을 가지는 것을 특징으로 한다.In this case, if the specific resistance of the second data link wiring is larger than the specific resistance of the first data link wiring, the second data link wiring has a larger line width than the first data link wiring.
이때, 상기 제 2 데이터 링크 배선은 상기 수직 배선부에서는 상기 제 1 데이터 링크 배선과 동일한 선폭을 가지나, 상기 경사 배선부에서는 상기 제 1 데이터 링크 배선에 비해 큰 선폭을 가지는 것을 특징으로 한다.In this case, the second data link wiring has a line width equal to that of the first data link wiring in the vertical wiring portion, but has a line width larger than that of the first data link wiring in the inclined wiring portion.
상기 서브 픽셀은 상기 표시영역의 상, 하부에 각각 위치하는 상부 서브 픽셀과 하부 서브 픽셀로 구분되며, 상기 데이터구동부는 우측 데이터 링크 배선을 통해 상기 상부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하는 우측 데이터구동부와 좌측 데이터 링크 배선을 통해 상기 하부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하는 좌측 데이터구동부로 구분되는 것을 특징으로 한다.The sub-pixel is divided into an upper sub-pixel and a lower sub-pixel located at the upper and lower portions of the display region, respectively. The data driver supplies data signals to the data lines of the upper sub- And a left data driver for applying a data signal to a data line of the lower sub-pixel through a data driver and a left data link wiring line.
이때, 상기 좌, 우측 데이터구동부 및 게이트구동부는 상기 표시영역 하측의 구동부에 배치되는 것을 특징으로 한다.In this case, the left and right data driver and gate driver are disposed in the driver on the lower side of the display area.
이때, 상기 좌, 우측 데이터 링크 배선은 상기 데이터라인과 동일한 층에 형성된 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선 및 상기 게이트라인과 동일한 층에 형성된 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선으로 구분되는 것을 특징으로 한다.The left and right data link lines are divided into first left and right data link lines formed on the same layer as the data lines and second left and right data link lines formed on the same layer as the gate lines .
이때, 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선의 비저항이 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선의 비저항보다 크다면, 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선은 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선에 비해 큰 선폭을 가지는 것을 특징으로 한다.If the resistances of the second left and right data link wires are larger than the resistances of the first left and right data link wires, the second left and right data link wires are connected to the first left and right data link wires And has a large line width.
이때, 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선은 상기 수직 배선부에서는 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선과 동일한 선폭을 가지나, 상기 경사 배선부에서는 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선에 비해 큰 선폭을 가지는 것을 특징으로 한다.At this time, the second left and right data link wirings have the same line width as the first left and right data link wirings in the vertical wiring portion, while the sloped wiring portions have a larger line width than the first left and right data link wirings .
본 발명의 표시장치의 제조방법은 표시영역 및 상기 표시영역 주위에 배치되는 비표시영역으로 구분되는 제 1 기판을 제공하는 단계; 상기 표시영역에 매트릭스 형태로 형성하되, 복수의 데이터라인과 게이트라인이 교차하여 정의되는 복수의 서브 픽셀을 형성하는 단계; 상기 비표시영역에 형성하되, 상기 서브 픽셀의 데이터라인 및 게이트라인을 구동하는 데이터구동부 및 게이트구동부를 형성하는 단계; 상기 비표시영역에 형성하되, 상기 데이터라인과 수직한 방향으로 배치되는 수직 배선부 및 상기 수직 배선부에서 데이터라인 쪽으로 연장되어 경사지게 배치되는 경사 배선부로 구분되는 링크부를 형성하는 단계; 상기 비표시영역에 형성하되, 상기 데이터구동부를 통해 상기 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하며, 상기 데이터라인과 동일한 층에 형성된 제 1 데이터 링크 배선 및 상기 게이트라인과 동일한 층에 형성된 제 2 데이터 링크 배선으로 구분되는 데이터 링크 배선을 형성하는 단계; 및 상기 제 1 기판과 제 2 기판을 합착하는 단계를 포함하며, 상기 제 1 데이터 링크 배선과 제 2 데이터 링크 배선은 각각의 선폭을 상기 경사 배선부에서 상기 수직 배선부와 달리하여 형성하는 것을 특징으로 한다.A manufacturing method of a display device of the present invention includes: providing a first substrate divided into a display area and a non-display area disposed around the display area; Forming a plurality of subpixels in a matrix form in the display area, the plurality of subpixels defining a plurality of data lines and gate lines crossing each other; Forming a data driver and a gate driver for driving the data lines and the gate lines of the subpixel in the non-display area; Forming a vertical wiring part formed in the non-display area in a direction perpendicular to the data line, and a link part extending in a vertical direction to the data line and separated from the vertical wiring part by a sloped wiring part arranged obliquely; A first data link line formed in the same layer as the data line and a second data line line formed in the same layer as the gate line and a second data link line formed in the same layer as the data line, Forming a data link wiring that is divided into data link wiring; And bonding the first substrate and the second substrate, wherein the first data link wiring and the second data link wiring each have a line width different from that of the vertical wiring portion in the inclined wiring portion .
이때, 상기 제 1 데이터 링크 배선 및 제 2 데이터 링크 배선은 상기 데이터라인의 순서에 따라 교대로 형성되는 것을 특징으로 한다.In this case, the first data link wiring and the second data link wiring are alternately formed in the order of the data lines.
이때, 상기 제 1 데이터 링크 배선과 제 2 데이터 링크 배선 사이의 비저항 차이를 고려하여 상기 제 1 데이터 링크 배선과 제 2 데이터 링크 배선 각각의 선폭을 결정하여 형성하는 것을 특징으로 한다.At this time, the line width of each of the first data link wiring and the second data link wiring is determined in consideration of a difference in resistivity between the first data link wiring and the second data link wiring.
이때, 상기 제 2 데이터 링크 배선의 비저항이 상기 제 1 데이터 링크 배선의 비저항보다 크다면, 상기 제 2 데이터 링크 배선은 상기 제 1 데이터 링크 배선에 비해 큰 선폭을 가지도록 형성하는 것을 특징으로 한다.In this case, if the specific resistance of the second data link wiring is larger than the specific resistance of the first data link wiring, the second data link wiring is formed to have a larger line width than the first data link wiring.
이때, 상기 제 2 데이터 링크 배선은 상기 수직 배선부에서는 상기 제 1 데이터 링크 배선과 동일한 선폭을 가지나, 상기 경사 배선부에서는 상기 제 1 데이터 링크 배선에 비해 큰 선폭을 가지도록 형성하는 것을 특징으로 한다.In this case, the second data link wiring is formed to have a line width equal to that of the first data link wiring in the vertical wiring portion, but to have a larger line width in the inclined wiring portion than the first data link wiring .
상기 서브 픽셀은 상기 표시영역의 상, 하부에 각각 위치하는 상부 서브 픽셀과 하부 서브 픽셀로 구분되며, 상기 데이터구동부는 우측 데이터 링크 배선을 통해 상기 상부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하는 우측 데이터구동부와 좌측 데이터 링크 배선을 통해 상기 하부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하는 좌측 데이터구동부로 구분되는 것을 특징으로 한다.The sub-pixel is divided into an upper sub-pixel and a lower sub-pixel located at the upper and lower portions of the display region, respectively. The data driver supplies data signals to the data lines of the upper sub- And a left data driver for applying a data signal to a data line of the lower sub-pixel through a data driver and a left data link wiring line.
이때, 상기 좌, 우측 데이터구동부 및 게이트구동부는 상기 표시영역 하측의 구동부에 형성하는 것을 특징으로 한다.In this case, the left and right data driver and gate driver are formed in the driver on the lower side of the display area.
이때, 상기 좌, 우측 데이터 링크 배선은 상기 데이터라인과 동일한 층에 형성된 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선 및 상기 게이트라인과 동일한 층에 형성된 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선으로 구분되도록 형성하는 것을 특징으로 한다.In this case, the left and right data link lines are formed so as to be divided into first left and right data link lines formed in the same layer as the data line, and second left and right data link lines formed in the same layer as the gate line .
이때, 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선의 비저항이 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선의 비저항보다 크다면, 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선은 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선에 비해 큰 선폭을 가지도록 형성하는 것을 특징으로 한다.If the resistances of the second left and right data link wires are larger than the resistances of the first left and right data link wires, the second left and right data link wires are connected to the first left and right data link wires And has a large line width.
이때, 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선은 상기 수직 배선부에서는 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선과 동일한 선폭을 가지나, 상기 경사 배선부에서는 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선에 비해 큰 선폭을 가지도록 형성하는 것을 특징으로 한다.At this time, the second left and right data link wirings have the same line width as the first left and right data link wirings in the vertical wiring portion, while the sloped wiring portions have a larger line width than the first left and right data link wirings Is formed.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 표시장치 및 그 제조방법은 내로우 베젤을 위한 듀얼 링크 구조에 있어, 링크 배선이 경사지게 배치되는 경사 배선부의 선폭을 각 링크 배선의 비저항에 따라 서로 다르게 설계함으로써 베젤 사이즈를 증가시키지 않으면서 이웃하는 링크 배선들 사이의 저항차이로 인한 화상불량을 개선할 수 있는 효과를 제공한다.As described above, according to the display device and the manufacturing method thereof according to the present invention, in the dual-link structure for the inner bezel, the line width of the inclined wiring portion in which the link wiring is inclined is designed differently according to the specific resistance of each link wiring, It is possible to improve the image defect due to the resistance difference between the neighboring link wirings without increasing the size.
도 1은 일반적인 표시장치를 개략적으로 나타내는 평면도.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 표시장치를 개략적으로 나타내는 평면도.
도 3은 상기 도 2에 도시된 본 발명의 제 1 실시예에 따른 표시장치에 있어, A-A선에 따른 링크부의 단면 일부를 개략적으로 나타내는 도면.
도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치를 개략적으로 나타내는 평면도.
도 5는 상기 도 4에 도시된 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치에 있어, B-B선에 따른 링크부의 단면 일부를 개략적으로 나타내는 도면.
도 6a 및 도 6b는 상기 도 4에 도시된 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치에 있어, 링크부의 일부를 확대하여 나타내는 평면도.
도 7은 상기 도 4에 도시된 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치에 있어, 수직 배선부와 경사 배선부에서의 링크 배선의 일부를 확대하여 나타내는 평면도.
도 8은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 표시장치를 개략적으로 나타내는 평면도.
도 9a 및 도 9b는 상기 도 8에 도시된 본 발명의 제 3 실시예에 따른 다른 표시장치에 있어, 링크부의 일부를 확대하여 나타내는 평면도.
도 10은 상기 도 8에 도시된 본 발명의 제 3 실시예에 따른 다른 표시장치에 있어, 수직 배선부와 경사 배선부에서의 링크 배선의 일부를 확대하여 나타내는 평면도.
도 11a 내지 도 11e는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 다른 표시장치의 제조공정을 순차적으로 나타내는 단면도.
도 12는 본 발명에 따른 액정표시장치의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도.
도 13은 본 발명에 따른 전기영동 표시장치의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도.1 is a plan view schematically showing a general display device;
2 is a plan view schematically showing a display device according to a first embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a schematic view showing a part of a cross section of a link portion according to an AA line in the display device according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 2;
4 is a plan view schematically showing a display device according to a second embodiment of the present invention.
5 is a view schematically showing a part of a cross section of a link portion according to a BB line in the display device according to the second embodiment of the present invention shown in FIG.
FIGS. 6A and 6B are enlarged plan views of a part of a link portion in the display device according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 4; FIG.
7 is an enlarged plan view showing a part of a link wiring in a vertical wiring portion and a sloped wiring portion in the display device according to the second embodiment of the present invention shown in FIG.
8 is a plan view schematically showing a display device according to a third embodiment of the present invention.
FIGS. 9A and 9B are enlarged plan views of a part of a link portion in another display device according to a third embodiment of the present invention shown in FIG. 8; FIG.
10 is an enlarged plan view showing a part of a link wiring in a vertical wiring portion and a sloped wiring portion in another display device according to the third embodiment of the present invention shown in FIG.
11A to 11E are sectional views sequentially showing a manufacturing process of another display device according to the third embodiment of the present invention;
12 is a cross-sectional view schematically showing a structure of a liquid crystal display device according to the present invention.
13 is a cross-sectional view schematically showing a structure of an electrophoretic display device according to the present invention.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 표시장치 및 그 제조방법의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of a display device and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 표시장치를 개략적으로 나타내는 평면도이다.2 is a plan view schematically showing a display device according to a first embodiment of the present invention.
또한, 도 3은 상기 도 2에 도시된 본 발명의 제 1 실시예에 따른 표시장치에 있어, A-A선에 따른 링크부의 단면 일부를 개략적으로 나타내는 도면이다.3 is a view schematically showing a part of a cross section of a link portion taken along the line A-A in the display device according to the first embodiment of the present invention shown in FIG.
상기 도면들을 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 표시장치(100)는 매트릭스 형태로 배치된 복수의 서브 픽셀(미도시)이 형성되는 표시영역(120)과 상기 표시영역(120) 주위에 배치되어 상기 서브 픽셀을 구동하는 구동부가 위치하는 비표시영역으로 구분할 수 있다.The
이때, 상기 본 발명의 제 1 실시예에 따른 표시장치(100)는 화면의 세로방향의 높이가 가로방향의 폭보다 큰 세로표시모드(portrait display mode)에 적용하는데 적합한 구조로 설계된 것을 특징으로 한다. 상기 세로표시모드는 핸드폰, e-북 등의 모바일 기기의 사용 중에 많은 정보를 표시하여야 하는 작업 등, 예를 들어 다수의 텍스트 파일을 열어서 작업하는 경우에 적합하다.The
상기 구동부에는 타이밍구동부(미도시)와 데이터구동부(131L, 131R) 및 게이트구동부(132) 등이 포함된다. 이때, 상기 데이터구동부(131L, 131R)와 게이트구동부(132)는 표시장치(100)의 패널 상에 형성되고, 상기 타이밍구동부는 패널과 연결되는 연성회로기판(미도시) 등에 형성될 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.The driving unit includes a timing driver (not shown),
상기 데이터구동부(131L, 131R)는 화소부(120)의 중앙을 기준으로 하부의 서브 픽셀에 데이터신호를 인가하기 위한 좌측 데이터구동부(131L)와 상부의 서브 픽셀에 데이터신호를 인가하기 위한 우측 데이터구동부(131R)로 구분할 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 좌측 데이터구동부(131L)는 상부의 서브 픽셀에 데이터신호를 인가하는 한편, 상기 우측 데이터구동부(131R)는 하부의 서브 픽셀에 데이터신호를 인가하도록 구성할 수도 있다. 또한, 본 발명은 하나의 데이터구동부를 구비하여 상기 데이터구동부를 통해 화소부의 모든 서브 픽셀에 차례대로 데이터신호를 인가하도록 구성할 수도 있다.The
이때, 상기 표시장치(100)는 예를 들어, 액정표시장치나 유기전계발광표시장치, 전기영동 표시장치와 같은 평판표시장치를 포함한다.At this time, the
상기 표시장치(100)로 액정표시장치를 예로 드는 경우, 도면에는 자세히 도시하지 않았지만, 상기 표시장치(100)의 패널은 크게 제 1 기판인 컬러필터 기판과 제 2 기판인 어레이 기판(110) 및 상기 컬러필터 기판과 어레이 기판(110) 사이에 형성된 액정층으로 구성될 수 있다.Although not shown in detail in the drawings, the panel of the
이때, 상기 컬러필터 기판은 적, 녹 및 청색의 서브컬러필터로 구성되는 컬러필터와 상기 서브컬러필터 사이를 구분하고 상기 액정층을 투과하는 광을 차단하는 블랙매트릭스, 그리고 상기 컬러필터와 블랙매트릭스 상부에 형성된 오버코트층으로 이루어진다.At this time, the color filter substrate may include a black matrix for separating the sub-color filter from the color filter composed of red, green, and blue sub-color filters and blocking light transmitted through the liquid crystal layer, And an overcoat layer formed on the top.
상기 어레이 기판(110)에는 종횡으로 배열되어 화소영역을 정의하는 게이트라인과 데이터라인이 형성되어 있으며, 상기 게이트라인과 데이터라인의 교차영역, 즉 TFT 영역에는 스위칭소자인 박막 트랜지스터가 형성되어 있다.A gate line and a data line are vertically and horizontally arranged on the
이때, 상기 박막 트랜지스터는 상기 게이트라인에 연결된 게이트전극, 상기 데이터라인에 연결된 소오스전극 및 화소전극에 연결된 드레인전극으로 구성된다. 또한, 상기 박막 트랜지스터는 상기 게이트전극과 소오스/드레인전극 사이의 절연을 위한 게이트절연막(115a) 및 상기 게이트전극에 공급되는 게이트전압에 의해 상기 소오스전극과 드레인전극 사이에 전도채널(conductive channel)을 형성하는 액티브층을 포함한다. 또한, 상기 박막 트랜지스터는 상기 소오스/드레인전극과 화소전극 사이의 절연을 위한 보호막(115b)을 포함한다.The thin film transistor includes a gate electrode connected to the gate line, a source electrode connected to the data line, and a drain electrode connected to the pixel electrode. The thin film transistor includes a
이와 같이 구성되는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 표시장치(100)는 복수의 서브 픽셀의 각 데이터라인에 데이터신호를 인가하기 위해서 상기 데이터라인에 대응하는 수만큼의 데이터 링크 배선(126L, 126R)이 필요하게 된다. 또한, 상기 본 발명의 제 1 실시예에 따른 표시장치(100)는 복수의 서브 픽셀의 각 게이트라인에 게이트신호를 인가하기 위해서 상기 게이트라인에 대응하는 수만큼의 게이트 링크 배선(127)이 필요하다.The
여기서, 상기 데이터 링크 배선(126L, 126R)과 게이트 링크 배선(127)은 각각 데이터구동부(131L, 131R)와 게이트구동부(132)로부터 화소부(120)의 데이터라인과 게이트라인까지 신호를 연결하는 배선을 의미하며, 상기 화소부(120)의 외곽에 배치되어 베젤 폭(w1)을 결정한다.The
이때, 상기 데이터 링크 배선(126L, 126R)은 상기 좌측 데이터구동부(131L)를 통해 하부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하기 위한 좌측 데이터 링크 배선(126L)과 상기 우측 데이터구동부(131R)를 통해 상부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하기 위한 우측 데이터 링크 배선(126R)으로 구분할 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 좌측 데이터 링크 배선(126L)은 상기 좌측 데이터구동부(131L)를 통해 상부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하는 한편, 상기 우측 데이터 링크 배선(126R)은 상기 우측 데이터구동부(131R)를 통해 하부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하도록 구성할 수도 있다. 또한, 일 예로 전술한 바와 같이 하나의 데이터구동부를 구비하는 경우, 상기 데이터 링크 배선은 패널의 일측에만 배치될 수 있으며, 이때 상기 데이터 링크 배선은 상기 데이터구동부를 통해 화소부의 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하게 된다.At this time, the
이와 같이 구성되는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 표시장치(100)는 데이터구동부(131L, 131R)와 게이트구동부(132)를 동일한 위치, 일 예로 도시된 바와 같이 화소부(120)의 하측에 배치함으로써 패널 좌, 우측의 베젤 폭(w1)이 기존의 경우에 비해 줄어드는 한편, 상기 좌, 우측의 베젤이 실질적으로 동일한 폭을 가짐에 따라 전술한 세로표시모드에 적합하게 된다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.In the
다만, 해상도의 증가에 따라 필요한 데이터라인의 수만큼 데이터 링크 배선이 증가하게 되는데, 상기 본 발명의 제 1 실시예의 경우에는 이를 근본적으로 해소하는 데는 미흡하다. 즉, 슬림(slim)한 패널을 제작하기 위해서는 동일한 해상도에 좁은 베젤 폭을 구현하여야 하는데, 데이터 링크 배선은 보통 한 개의 층에 형성하며, 이때 데이터 링크 배선 한 개가 차지하는 최소 공간(line pitch)(p)은 TFT 공정능력에 따라 결정된다.However, as the resolution increases, the number of data link lines increases by the number of data lines required. However, in the case of the first embodiment of the present invention, it is insufficient to fundamentally solve the problem. That is, in order to manufacture a slim panel, a narrow bezel width should be realized with the same resolution. Data link wiring is usually formed in one layer, and the minimum line pitch (p ) Is determined according to the TFT process capability.
이에 데이터배선 층(데이터 배선이 형성되는 층)뿐만 아니라 게이트배선 층(게이트 배선이 형성되는 층)에 데이터 링크 배선을 형성한 듀얼 링크 구조를 적용함에 따라 동일한 수의 데이터 링크 배선을 기존보다 적은 폭의 링크부에 설계할 수 있어 표시장치의 베젤 폭을 획기적으로 감소시킬 수 있게 되는데, 이를 다음의 본 발명의 제 2 실시예를 통해 상세히 설명한다.Thus, by applying the dual link structure in which the data link wiring is formed not only in the data wiring layer (the layer where the data wiring is formed) but also in the gate wiring layer (the layer in which the gate wiring is formed), the same number of data- The width of the bezel of the display device can be drastically reduced. The second embodiment of the present invention will now be described in detail.
도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치를 개략적으로 나타내는 평면도이다.4 is a plan view schematically showing a display device according to a second embodiment of the present invention.
도 5는 상기 도 4에 도시된 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치에 있어, B-B선에 따른 링크부의 단면 일부를 개략적으로 나타내는 도면이다.5 is a view schematically showing a part of a cross section of a link portion along a line B-B in the display device according to the second embodiment of the present invention shown in FIG.
이때, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치는 데이터 링크 배선을 듀얼 링크 구조로 구성한 것을 제외하고는 상기 본 발명의 제 1 실시예와 실질적으로 동일한 구성요소로 이루어져 있다.At this time, the display device according to the second embodiment of the present invention has substantially the same constituent elements as those of the first embodiment of the present invention, except that the data link wiring has a dual link structure.
또한, 도 6a 및 도 6b는 상기 도 4에 도시된 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치에 있어, 링크부의 일부를 확대하여 나타내는 평면도이다. 이때, 상기 도 6a는 패널의 좌측에 위치하는 링크부의 일부(L)를 확대하여 나타내고 있으며, 상기 도 6b는 패널의 우측에 위치하는 링크부의 일부(R)를 확대하여 나타내고 있다.6A and 6B are enlarged plan views of a portion of the link portion in the display device according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 6A is an enlarged view of a portion L of the link portion located on the left side of the panel, and FIG. 6B is an enlarged view of a portion R of the link portion located on the right side of the panel.
도 7은 상기 도 4에 도시된 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치에 있어, 수직 배선부와 경사 배선부에서의 링크 배선의 일부를 확대하여 나타내는 평면도이다.7 is an enlarged plan view showing a part of a link wiring in the vertical wiring portion and the inclined wiring portion in the display device according to the second embodiment of the present invention shown in FIG.
이때, 상기 수직 배선부는 데이터 링크 배선이 데이터구동부에 대해 수직한 방향으로 배치되는 링크부 영역을 나타내며, 상기 경사 배선부는 상기 수직 배선부의 데이터 링크 배선이 화소부 쪽으로 연장되어 경사지게 배치되는 링크부 영역을 나타낸다.In this case, the vertical wiring part indicates a link part area in which the data link wiring is arranged in a direction perpendicular to the data driver, and the inclined wiring part has a link part area in which the data link wiring of the vertical wiring part extends toward the pixel part and is inclined .
상기 도면들을 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치(200)는 매트릭스 형태로 배치된 복수의 서브 픽셀(미도시)이 형성되는 표시영역(220)과 상기 표시영역(220) 주위에 배치되어 상기 서브 픽셀을 구동하는 구동부가 위치하는 비표시영역으로 구분할 수 있다.The
이때, 상기 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치(200)는 전술한 본 발명의 제 1 실시예의 표시장치와 동일하게 세로표시모드에 적용하는데 적합한 구조로 설계된 것을 특징으로 한다.Here, the
상기 구동부에는 타이밍구동부(미도시)와 데이터구동부(231L, 231R) 및 게이트구동부(232) 등이 포함된다. 이때, 상기 데이터구동부(231L, 231R)와 게이트구동부(232)는 표시장치(200)의 패널 상에 형성되고, 상기 타이밍구동부는 패널과 연결되는 연성회로기판(미도시) 등에 형성될 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.The driving unit includes a timing driver (not shown),
상기 데이터구동부(231L, 231R)는 화소부(220)의 중앙을 기준으로 하부의 서브 픽셀에 데이터신호를 인가하기 위한 좌측 데이터구동부(231L)와 상부의 서브 픽셀에 데이터신호를 인가하기 위한 우측 데이터구동부(231R)로 구분할 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 좌측 데이터구동부(231L)는 상부의 서브 픽셀에 데이터신호를 인가하는 한편, 상기 우측 데이터구동부(231R)는 하부의 서브 픽셀에 데이터신호를 인가하도록 구성할 수도 있다. 또한, 본 발명은 하나의 데이터구동부를 구비하여 상기 데이터구동부를 통해 화소부의 모든 서브 픽셀에 차례대로 데이터신호를 인가하도록 구성할 수도 있다.The
이때, 상기 표시장치(200)는 예를 들어, 액정표시장치나 유기전계발광표시장치, 전기영동 표시장치와 같은 평판표시장치를 포함한다.At this time, the
상기 표시장치(200)로 액정표시장치를 예로 드는 경우, 도면에는 자세히 도시하지 않았지만, 상기 표시장치(200)의 패널은 크게 제 1 기판인 컬러필터 기판과 제 2 기판인 어레이 기판(210) 및 상기 컬러필터 기판과 어레이 기판(210) 사이에 형성된 액정층으로 구성될 수 있다.Although not shown in detail in the drawings, the panel of the
이때, 상기 컬러필터 기판은 적, 녹 및 청색의 서브컬러필터로 구성되는 컬러필터와 상기 서브컬러필터 사이를 구분하고 상기 액정층을 투과하는 광을 차단하는 블랙매트릭스, 그리고 상기 컬러필터와 블랙매트릭스 상부에 형성된 오버코트층으로 이루어진다.At this time, the color filter substrate may include a black matrix for separating the sub-color filter from the color filter composed of red, green, and blue sub-color filters and blocking light transmitted through the liquid crystal layer, And an overcoat layer formed on the top.
상기 어레이 기판(210)에는 종횡으로 배열되어 화소영역을 정의하는 게이트라인과 데이터라인이 형성되어 있으며, 상기 게이트라인과 데이터라인의 교차영역, 즉 TFT 영역에는 스위칭소자인 박막 트랜지스터가 형성되어 있다.A gate line and a data line are vertically and horizontally arranged on the
이때, 상기 박막 트랜지스터는 상기 게이트라인에 연결된 게이트전극, 상기 데이터라인에 연결된 소오스전극 및 화소전극에 연결된 드레인전극으로 구성된다. 또한, 상기 박막 트랜지스터는 상기 게이트전극과 소오스/드레인전극 사이의 절연을 위한 게이트절연막(215a) 및 상기 게이트전극에 공급되는 게이트전압에 의해 상기 소오스전극과 드레인전극 사이에 전도채널을 형성하는 액티브층을 포함한다. 또한, 상기 박막 트랜지스터는 상기 소오스/드레인전극과 화소전극 사이의 절연을 위한 보호막(215b)을 포함한다.The thin film transistor includes a gate electrode connected to the gate line, a source electrode connected to the data line, and a drain electrode connected to the pixel electrode. The thin film transistor includes a
이와 같이 구성되는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치(200)는 복수의 서브 픽셀의 각 데이터라인에 데이터신호를 인가하기 위해서 상기 데이터라인에 대응하는 수만큼의 데이터 링크 배선(226L',226L", 226R',226R")이 필요하게 된다. 또한, 상기 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치(200)는 복수의 서브 픽셀의 각 게이트라인에 게이트신호를 인가하기 위해서 상기 게이트라인에 대응하는 수만큼의 게이트 링크 배선(227)이 필요하다.The
이때, 상기 데이터 링크 배선(226L',226L", 226R',226R")은 상기 좌측 데이터구동부(231L)를 통해 하부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하기 위한 좌측 데이터 링크 배선(226L', 226L")과 상기 우측 데이터구동부(231R)를 통해 상부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하기 위한 우측 데이터 링크 배선(226R', 226R")으로 구분할 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 좌측 데이터 링크 배선(226L', 226L")은 상기 좌측 데이터구동부(231L)를 통해 상부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하는 한편, 상기 우측 데이터 링크 배선(226R', 226R")은 상기 우측 데이터구동부(231R)를 통해 하부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하도록 구성할 수도 있다. 또한, 일 예로 전술한 바와 같이 하나의 데이터구동부를 구비하는 경우, 상기 데이터 링크 배선은 패널의 일측에만 배치될 수 있으며, 이때 상기 데이터 링크 배선은 상기 데이터구동부를 통해 화소부의 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하게 된다.The
또한, 상기 좌측 데이터 링크 배선(226L', 226L")은 데이터배선(즉, 소오스전극과 드레인전극 및 데이터라인 등)이 형성되는 데이터배선 층에 형성되는 제 1 좌측 데이터 링크 배선(226L')과 게이트배선(즉, 게이트전극과 게이트라인 등)이 형성되는 게이트배선 층에 형성되는 제 2 좌측 데이터 링크 배선(226L")으로 구분할 수 있다. 또한, 상기 우측 데이터 링크 배선(226R', 226R")은 상기 데이터배선 층에 형성되는 제 1 우측 데이터 링크 배선(226R')과 상기 게이트배선 층에 형성되는 제 2 우측 데이터 링크 배선(226R")으로 구분할 수 있다.The left data link wirings 226L 'and 226L "include first left
이와 같이 구성되는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치(200)는 데이터구동부(231L, 231R)와 게이트구동부(232)를 동일한 위치, 일 예로 도시된 바와 같이 화소부(220)의 하측에 배치함으로써 패널 좌, 우측의 베젤 폭(w2)이 기존의 경우에 비해 줄어드는 한편, 상기 좌, 우측의 베젤이 실질적으로 동일한 폭을 가짐에 따라 전술한 본 발명의 제 1 실시예와 동일하게 세로표시모드에 적합하게 된다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.In the
또한, 상기 본 발명의 제 2 실시예에 따른 표시장치(200)는 데이터배선 층뿐만 아니라 게이트배선 층에 데이터 링크 배선(226L',226L", 226R',226R")을 형성한 듀얼 링크 구조를 적용함에 따라 동일한 수의 데이터 링크 배선(226L',226L", 226R',226R")을 기존보다 적은 폭의 링크부에 설계할 수 있어 베젤 폭(w2)이 전술한 본 발명의 제 1 실시예에 비해 줄어들게 된다. 즉, 본 발명의 제 2 실시예의 경우에는 한 개의 층에 데이터 링크 배선을 형성한 상기 본 발명의 제 1 실시예의 경우에 비해 서로 다른 층, 구체적으로 데이터배선 층과 게이트배선 층에 각각 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L', 226R')과 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L", 226R")을 형성함에 따라 한 개의 데이터 링크 배선(226L',226L", 226R',226R")이 차지하는 최소 공간(p)을 줄일 수 있어 동일한 수의 데이터 링크 배선(226L',226L", 226R',226R")을 기존보다 적은 폭의 링크부에 설계할 수 있게 된다.In addition, the
다만, 이와 같은 2개의 층을 이용한 듀얼 링크 구조는 2개의 층간, 즉 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L', 226R')과 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L", 226R")간 저항차이를 고려하여 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L', 226R')과 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L", 226R") 각각의 배선 폭을 결정하여야 한다.However, the dual link structure using the two layers has a problem in that the distance between the two layers, that is, the first left and right
이는 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L', 226R')과 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L", 226R")간 저항 차이가 클 경우 신호에 왜곡이 발생하여 화상에 문제가 발생하기 때문이다. 특히, 상기 2개의 층을 구성하는 도전물질이 서로 다른 종류의 물질일 경우 비저항이 서로 다르기 때문에 동일 선폭으로 설계할 경우 신호 왜곡이 더 크게 발생한다.This is because when the difference in resistance between the first left and right
이러한 문제를 피하기 위해 본 발명의 제 2 실시예의 경우에는 두 물질간 비저항의 비율만큼 선폭을 조절하게 되는데, 예를 들어 게이트배선 층의 도전물질, 즉, 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L", 226R")의 비저항이 데이터배선 층의 도전물질, 즉 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L', 226R')의 비저항보다 크다면, 도시된 바와 같이 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L", 226R")은 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L', 226R')에 비해 큰 선폭을 가지도록 설계하게 된다.In order to avoid such a problem, in the case of the second embodiment of the present invention, the linewidth is controlled by the ratio of the resistances between the two materials. For example, the conductive material of the gate wiring layer, that is, the second left and right
이때, 일 예로 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L", 226R")은 링크부 전체, 즉 경사 배선부뿐만 아니라 수직 배선부에서도 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L', 226R')에 비해 큰 선폭을 가지도록 설계할 수 있다. 다만, 이 경우에는 수직 배선부에서의 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(226L", 226R")의 선폭 증가만큼 베젤 폭이 증가하게 된다.At this time, for example, the second left and right
다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 베젤 폭을 결정하는 수직 배선부에서는 데이터 링크 배선의 선폭을 동일하게 설계하는 한편, 베젤 폭에 영향이 없는 경사 배선부에서는 비저항이 큰 데이터 링크 배선의 선폭을 보다 크게 설계하여 전체 데이터 링크 배선의 저항을 보상할 수 있으며, 이를 다음의 본 발명의 제 3 실시예를 통해 상세히 설명한다.However, the present invention is not limited to this. In the vertical wiring portion for determining the bezel width, the line width of the data link wiring is designed to be the same, and in the sloped wiring portion having no influence on the bezel width, So that the resistance of the entire data link wiring can be compensated. This will be described in detail in the following third embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 표시장치를 개략적으로 나타내는 평면도이다.8 is a plan view schematically showing a display device according to a third embodiment of the present invention.
이때, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 표시장치는 데이터 링크 배선의 구성을 제외하고는 상기 본 발명의 제 2 실시예와 실질적으로 동일한 구성요소로 이루어져 있다.The display device according to the third embodiment of the present invention is substantially the same as the second embodiment of the present invention except for the configuration of the data link wiring.
또한, 도 9a 및 도 9b는 상기 도 8에 도시된 본 발명의 제 3 실시예에 따른 표시장치에 있어, 링크부의 일부를 확대하여 나타내는 평면도이다. 이때, 전술한 본 발명의 제 2 실시예와 동일하게 상기 도 8a는 패널의 좌측에 위치하는 링크부의 일부를 확대하여 나타내고 있으며, 상기 도 8b는 패널의 우측에 위치하는 링크부의 일부를 확대하여 나타내고 있다.9A and 9B are enlarged plan views showing a part of the link portion in the display device according to the third embodiment of the present invention shown in FIG. 8A is an enlarged view of a portion of the link portion located on the left side of the panel, and FIG. 8B is an enlarged view of a portion of the link portion located on the right side of the panel, have.
도 10은 상기 도 8에 도시된 본 발명의 제 3 실시예에 따른 표시장치에 있어, 수직 배선부와 경사 배선부에서의 링크 배선의 일부를 확대하여 나타내는 평면도이다. 이때, 전술한 바와 같이 상기 수직 배선부는 데이터 링크 배선이 데이터구동부에 대해 수직한 방향으로 배치되는 링크부 영역을 나타내며, 상기 경사 배선부는 상기 수직 배선부의 데이터 링크 배선이 화소부 쪽으로 연장되어 경사지게 배치되는 링크부 영역을 나타낸다.10 is an enlarged plan view showing a part of the link wiring in the vertical wiring portion and the inclined wiring portion in the display device according to the third embodiment of the present invention shown in FIG. In this case, as described above, the vertical wiring part indicates a link part area where the data link wiring is arranged in a direction perpendicular to the data driver, and the inclined wiring part is arranged such that the data link wiring of the vertical wiring part extends toward the pixel part and is inclined Indicates a link sub area.
상기 도면들을 참조하면, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 표시장치(300)는 매트릭스 형태로 배치된 복수의 서브 픽셀(미도시)이 형성되는 표시영역(320)과 상기 표시영역(320) 주위에 배치되어 상기 서브 픽셀을 구동하는 구동부가 위치하는 비표시영역으로 구분할 수 있다.The
이때, 상기 본 발명의 제 3 실시예에 따른 표시장치(300)는 전술한 본 발명의 제 1, 제 2 실시예의 표시장치와 동일하게 세로표시모드에 적용하는데 적합한 구조로 설계된 것을 특징으로 한다.In this case, the
상기 구동부에는 타이밍구동부(미도시), 데이터구동부(331L, 331R), 게이트구동부(332) 및 레벨시프터(level shifter)(미도시) 등이 포함된다. 이때, 상기 데이터구동부(331L, 331R)와 게이트구동부(332)는 표시장치(300)의 패널 상에 형성되고, 상기 타이밍구동부는 패널과 연결되는 연성회로기판(미도시) 상에 형성되거나 연성회로기판과 연결되는 외부시스템 기판 등에 형성될 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 타이밍구동부는 상기 데이터구동부(331L, 331R) 내에 함께 형성될 수 있다.The driving unit includes a timing driver (not shown),
구동부는 집적회로(Integrated Circuit; IC) 형태로 패널 상에 실장되고 패널에는 연성회로기판이 부착된다. 이때, 상기 패널과 연성회로기판은 이방성도전필름(Anisotropy Conductive Film; ACF)에 의해 부착될 수 있다.The driving unit is mounted on a panel in the form of an integrated circuit (IC), and a flexible circuit board is attached to the panel. At this time, the panel and the flexible circuit board may be attached by an anisotropic conductive film (ACF).
전술한 본 발명의 제 2 실시예와 동일하게 상기 데이터구동부(331L, 331R)는 화소부(320)의 중앙을 기준으로 하부의 서브 픽셀에 데이터신호를 인가하기 위한 좌측 데이터구동부(331L)와 상부의 서브 픽셀에 데이터신호를 인가하기 위한 우측 데이터구동부(331R)로 구분할 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 좌측 데이터구동부(331L)는 상부의 서브 픽셀에 데이터신호를 인가하는 한편, 상기 우측 데이터구동부(331R)는 하부의 서브 픽셀에 데이터신호를 인가하도록 구성할 수도 있다. 또한, 본 발명은 하나의 데이터구동부를 구비하여 상기 데이터구동부를 통해 화소부의 모든 서브 픽셀에 차례대로 데이터신호를 인가하도록 구성할 수도 있다.The
이때, 상기 표시장치(300)는 예를 들어, 액정표시장치나 유기전계발광표시장치, 전기영동 표시장치와 같은 평판표시장치를 포함한다.At this time, the
상기 표시장치(300)로 액정표시장치를 예로 드는 경우, 도면에는 자세히 도시하지 않았지만, 상기 표시장치(300)의 패널은 크게 제 1 기판인 컬러필터 기판과 제 2 기판인 어레이 기판(310) 및 상기 컬러필터 기판과 어레이 기판(310) 사이에 형성된 액정층으로 구성될 수 있다.Although not shown in detail in the drawings, the panel of the
이때, 상기 컬러필터 기판은 적, 녹 및 청색의 서브컬러필터로 구성되는 컬러필터와 상기 서브컬러필터 사이를 구분하고 상기 액정층을 투과하는 광을 차단하는 블랙매트릭스, 그리고 상기 컬러필터와 블랙매트릭스 상부에 형성된 오버코트층으로 이루어진다.At this time, the color filter substrate may include a black matrix for separating the sub-color filter from the color filter composed of red, green, and blue sub-color filters and blocking light transmitted through the liquid crystal layer, And an overcoat layer formed on the top.
상기 어레이 기판(310)에는 종횡으로 배열되어 화소영역을 정의하는 게이트라인과 데이터라인이 형성되어 있으며, 상기 게이트라인과 데이터라인의 교차영역, 즉 TFT 영역에는 스위칭소자인 박막 트랜지스터가 형성되어 있다.A gate line and a data line are vertically and horizontally arranged on the
이와 같이 구성되는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 표시장치(300)는 복수의 서브 픽셀의 각 데이터라인에 데이터신호를 인가하기 위해서 상기 데이터라인에 대응하는 수만큼의 데이터 링크 배선(326L',326L", 326R',326R")이 필요하게 된다. 또한, 상기 본 발명의 제 3 실시예에 따른 표시장치(300)는 복수의 서브 픽셀의 각 게이트라인에 게이트신호를 인가하기 위해서 상기 게이트라인에 대응하는 수만큼의 게이트 링크 배선(327)이 필요하다.In order to apply a data signal to each data line of a plurality of subpixels, the
이때, 전술한 본 발명의 제 2 실시예와 동일하게 상기 데이터 링크 배선(326L',326L", 326R',326R")은 상기 좌측 데이터구동부(331L)를 통해 하부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하기 위한 좌측 데이터 링크 배선(326L', 326L")과 상기 우측 데이터구동부(331R)를 통해 상부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하기 위한 우측 데이터 링크 배선(326R', 326R")으로 구분할 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 좌측 데이터 링크 배선(326L', 326L")은 상기 좌측 데이터구동부(331L)를 통해 상부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하는 한편, 상기 우측 데이터 링크 배선(326R', 326R")은 상기 우측 데이터구동부(331R)를 통해 하부 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하도록 구성할 수도 있다. 또한, 일 예로 전술한 바와 같이 하나의 데이터구동부를 구비하는 경우, 상기 데이터 링크 배선은 패널의 일측에만 배치될 수 있으며, 이때 상기 데이터 링크 배선은 상기 데이터구동부를 통해 화소부의 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하게 된다.The
또한, 상기 좌측 데이터 링크 배선(326L', 326L")은 데이터배선(즉, 소오스전극과 드레인전극 및 데이터라인 등)이 형성되는 데이터배선 층에 형성되는 제 1 좌측 데이터 링크 배선(326L')과 게이트배선(즉, 게이트전극과 게이트라인 등)이 형성되는 게이트배선 층에 형성되는 제 2 좌측 데이터 링크 배선(326L")으로 구분할 수 있다. 또한, 상기 우측 데이터 링크 배선(326R', 326R")은 상기 데이터배선 층에 형성되는 제 1 우측 데이터 링크 배선(326R')과 상기 게이트배선 층에 형성되는 제 2 우측 데이터 링크 배선(326R")으로 구분할 수 있다.The left data link wirings 326L 'and 326L "include first left
이와 같이 구성되는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 표시장치(200)는 전술한 본 발명의 제 2 실시예와 동일하게 데이터구동부(331L, 331R)와 게이트구동부(332)를 동일한 위치, 일 예로 도시된 바와 같이 화소부(320)의 하측에 배치함으로써 패널 좌, 우측의 베젤 폭(w3)이 기존의 경우에 비해 줄어드는 한편, 상기 좌, 우측의 베젤이 실질적으로 동일한 폭을 가짐에 따라 전술한 본 발명의 제 1, 제 2 실시예와 동일하게 세로표시모드에 적합하게 된다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.In the
또한, 상기 본 발명의 제 3 실시예에 따른 표시장치(300)는 전술한 본 발명의 제 2 실시예와 동일하게 데이터배선 층뿐만 아니라 게이트배선 층에 데이터 링크 배선(326L',326L", 326R',326R")을 형성한 듀얼 링크 구조를 적용함에 따라 동일한 수의 데이터 링크 배선(326L',326L", 326R',326R")을 기존보다 적은 폭의 링크부에 설계할 수 있어 베젤 폭(w3)이 전술한 본 발명의 제 1 실시예에 비해 줄어들게 된다. 즉, 본 발명의 제 3 실시예의 경우에는 한 개의 층에 데이터 링크 배선을 형성한 상기 본 발명의 제 1 실시예의 경우에 비해 서로 다른 층, 구체적으로 데이터배선 층과 게이트배선 층에 각각 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L', 326R')과 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L", 326R")을 형성함에 따라 한 개의 데이터 링크 배선(326L',326L", 326R',326R")이 차지하는 최소 공간을 줄일 수 있어 동일한 수의 데이터 링크 배선(326L',326L", 326R',326R")을 기존보다 적은 폭의 링크부에 설계할 수 있게 된다.In addition, the
다만, 이와 같은 2개의 층을 이용한 듀얼 링크 구조는 2개의 층간, 즉 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L', 326R')과 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L", 326R")간 저항차이를 고려하여 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L', 326R')과 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L", 326R") 각각의 배선 폭을 결정하여야 한다.However, the dual-link structure using the two layers has a problem in that the distance between the two layers, that is, the first left and right
이는 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L', 326R')과 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L", 326R")간 저항 차이가 클 경우 신호에 왜곡이 발생하여 화상에 문제가 발생하기 때문이다. 특히, 상기 2개의 층을 구성하는 도전물질이 서로 다른 종류의 물질일 경우 비저항이 서로 다르기 때문에 동일 선폭으로 설계할 경우 신호 왜곡이 더 크게 발생한다.This is because when the resistance difference between the first left and right
이러한 문제를 피하기 위해 본 발명의 제 3 실시예의 경우에는 두 물질간 비저항의 비율만큼 선폭을 조절하게 되는데, 예를 들어 게이트배선 층의 도전물질, 즉, 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L", 326R")의 비저항이 데이터배선 층의 도전물질, 즉 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L', 326R')의 비저항보다 크다면, 도시된 바와 같이 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L", 326R")은 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L', 326R')에 비해 큰 선폭을 가지도록 설계하게 된다.In order to avoid such a problem, in the case of the third embodiment of the present invention, the linewidth is controlled by the ratio of the resistances between two materials. For example, the conductive material of the gate wiring layer, that is, the second left and right
이때, 상기 본 발명의 제 3 실시예의 경우에는 전술한 본 발명의 제 2 실시예와는 다르게 베젤 폭에 영향이 없는 경사 배선부에서만 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L", 326R")을 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L', 326R')에 비해 큰 선폭을 가지도록 설계하는 한편, 베젤 폭을 결정하는 수직 배선부에서는 데이터 링크 배선(326L',326L", 326R',326R")의 선폭을 동일하게 설계하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라 한 개의 데이터 링크 배선(326L',326L", 326R',326R")이 차지하는 최소 공간을 전술한 본 발명의 제 2 실시예의 경우보다 더 줄일 수 있어 동일한 수의 데이터 링크 배선(326L',326L", 326R',326R")을 더 적은 폭의 링크부에 설계할 수 있게 된다.In the case of the third embodiment of the present invention, the second left and right
한편, 상기 실시예들에서는 데이터 링크 배선에 대해서만 설명하고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 본 발명은 게이트 링크 배선이 듀얼 링크 구조를 가지는 경우에도 적용 가능하며, 이 경우 제 2 좌, 우측 게이트 링크 배선의 비저항이 제 1 좌, 우측 게이트 링크 배선의 비저항보다 크다면, 경사 배선부에서만 제 2 좌, 우측 게이트 링크 배선을 제 1 좌, 우측 게이트 링크 배선에 비해 큰 선폭을 가지도록 설계할 수 있다.In the above embodiments, only the data link wiring is described, but the present invention is not limited thereto. In this case, if the resistivity of the second left and right gate link wiring is larger than the resistivity of the first left and right gate link wiring, then the present invention is applicable to a case where the gate wiring wiring has a dual- The left and right gate link wirings can be designed to have a larger line width than the first left and right gate link wirings.
이하, 상기와 같이 구성되는 표시장치의 제조방법을 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a manufacturing method of the display device constructed as above will be described in detail with reference to the drawings.
도 11a 내지 도 11e는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 표시장치의 제조공정을 순차적으로 나타내는 단면도로써, 화소부의 TFT 영역 및 링크부의 수직 배선부와 경사 배선부의 액정표시장치용 어레이 기판의 제조공정을 예를 들어 나타내고 있다.FIGS. 11A to 11E are cross-sectional views sequentially showing a manufacturing process of a display device according to a third embodiment of the present invention. In FIGS. 11A to 11E, the steps of manufacturing the array substrate for a liquid crystal display of the vertical wiring portion and the sloped wiring portion of the TFT region and the link portion of the pixel portion For example.
이때, 설명의 편의를 위해 상기 도 11a 내지 도 11e는 패널 좌측에 위치하는 링크부의 수직 배선부와 경사 배선부의 액정표시장치용 어레이 기판의 제조공정을 예를 들어 나타내고 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 본 발명은 패널의 일측에만 데이터 링크 배선이 형성된 경우에도 적용 가능하다.Here, for convenience of explanation, FIGS. 11A to 11E show the steps of manufacturing the vertical wiring portion and the inclined wiring portion of the link portion located on the left side of the panel, for example, the array substrate for a liquid crystal display device. However, the present invention is not limited thereto, and the present invention is also applicable to a case where a data link wiring is formed only on one side of a panel.
도 11a에 도시된 바와 같이, 유리와 같은 투명한 절연물질로 이루어진 어레이 기판(310)의 화소부에 게이트전극(321)과 게이트라인(미도시)을 형성하며, 상기 어레이 기판(310)의 구동부에 게이트배선 층의 제 2 좌측 데이터 링크 배선(326L')과 제 2 우측 데이터 링크 배선(미도시)을 형성한다.A
이때, 상기 게이트전극(321), 게이트라인, 제 2 좌측 데이터 링크 배선(326L') 및 제 2 우측 데이터 링크 배선은 제 1 도전막을 상기 어레이 기판(310) 전면에 차례대로 증착한 후 포토리소그래피공정(제 1 마스크공정)을 통해 선택적으로 패터닝하여 형성하게 된다.In this case, the
여기서, 상기 제 1 도전막은 알루미늄(aluminium; Al), 알루미늄 합금(Al alloy), 텅스텐(tungsten; W), 구리(copper; Cu), 크롬(chromium; Cr), 몰리브덴(molybdenum; Mo) 및 몰리브덴 합금 등과 같은 저저항 불투명 도전물질로 형성할 수 있다. 또한, 상기 제 1 도전막은 상기 저저항 도전물질이 2가지 이상 적층된 다층구조로 형성할 수 있다.The first conductive layer may include at least one selected from the group consisting of aluminum (Al), aluminum alloy (Al alloy), tungsten (W), copper (Cu), chromium (Cr), molybdenum Or a low-resistance opaque conductive material such as an alloy or the like. The first conductive layer may have a multi-layer structure in which two or more low-resistance conductive materials are stacked.
다음으로, 도 11b에 도시된 바와 같이, 상기 게이트전극(221), 게이트라인, 제 2 좌측 데이터 링크 배선(326L') 및 제 2 우측 데이터 링크 배선이 형성된 어레이 기판(310) 전면에 게이트절연막(315a)과 비정질 실리콘 박막 및 n+ 비정질 실리콘 박막을 형성한다.11B, a gate insulating film (not shown) is formed on the entire surface of the
이후, 포토리소그래피공정(제 2 마스크공정)을 통해 상기 비정질 실리콘 박막과 n+ 비정질 실리콘 박막을 선택적으로 제거함으로써 상기 어레이 기판(310)의 TFT 영역에 상기 비정질 실리콘 박막으로 이루어진 액티브층(324)을 형성한다.Thereafter, the amorphous silicon thin film and the n + amorphous silicon thin film are selectively removed through a photolithography process (second mask process) to form an
이때, 상기 액티브층(324) 위에는 상기 액티브층(324)과 실질적으로 동일한 형태로 패터닝된 n+ 비정질 실리콘 박막패턴(325)이 형성되게 된다.At this time, an n + amorphous silicon
다음으로, 도 11c에 도시된 바와 같이, 상기 액티브층(324)과 n+ 비정질 실리콘 박막패턴(325)이 형성된 어레이 기판(310) 전면에 제 2 도전막을 형성한다. 이때, 상기 제 2 도전막은 알루미늄, 알루미늄 합금, 텅스텐, 구리, 크롬, 몰리브덴 및 몰리브덴 합금 등과 같은 저저항 불투명 도전물질로 형성할 수 있다. 또한, 상기 제 1 도전막은 상기 저저항 도전물질이 2가지 이상 적층된 다층구조로 형성할 수 있다.Next, as shown in FIG. 11C, a second conductive layer is formed on the entire surface of the
이후, 포토리소그래피공정(제 3 마스크공정)을 통해 상기 n+ 비정질 실리콘 박막 및 제 2 도전막을 선택적으로 제거함으로써 상기 액티브층(324) 상부에 상기 제 2 도전막으로 이루어진 소오스전극(322)과 드레인전극(323)을 형성한다.Thereafter, the n + amorphous silicon thin film and the second conductive film are selectively removed through a photolithography process (a third mask process), thereby forming the
이때, 상기 제 3 마스크공정을 통해 상기 어레이 기판(310)의 데이터라인 영역에 상기 제 2 도전막으로 이루어진 데이터라인(미도시)을 형성하는 동시에 상기 어레이 기판(310)의 링크부에 상기 제 2 도전막으로 이루어진 데이터배선 층의 제 1 좌측 데이터 링크 배선(326L")과 제 1 우측 데이터 링크 배선(미도시)을 형성하게 된다.At this time, a data line (not shown) made of the second conductive film is formed in the data line region of the
상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L')과 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L")은 데이터라인의 순서에 따라 교대로 형성되게 되는데, 이 경우 예를 들어 홀수 번째 데이터라인은 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L')과 연결되고 짝수 번째 데이터라인은 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L")과 연결될 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 홀수 번째 데이터라인은 상기 제 2 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L")과 연결되고, 짝수 번째 데이터라인은 상기 제 1 좌, 우측 데이터 링크 배선(326L')과 연결될 수도 있다. 또한, 상기 홀수 번째 데이터라인은 상기 제 1 좌측 데이터 링크 배선(326L')과 제 2 우측 데이터 링크 배선과 연결되고, 상기 짝수 번째 데이터라인은 상기 제 2 좌측 데이터 링크 배선(326L")과 제 1 우측 데이터 링크 배선과 연결될 수도 있다.The first left and right data link wirings 326L 'and the second left and right
이때, 상기 액티브층(324) 상부에는 상기 n+ 비정질 실리콘 박막으로 이루어지며 상기 액티브층(324)의 소오스/드레인영역과 상기 소오스/드레인전극(322, 323) 사이를 오믹-콘택시키는 오믹-콘택층(325n)이 형성되게 된다.At this time, on the
여기서 상기 액티브층(324)과 데이터배선, 즉 소오스전극(322), 드레인전극(323), 데이터라인, 제 1 좌측 데이터 링크 배선(326L") 및 제 1 우측 데이터 링크 배선은 2번의 마스크공정을 통해 개별적으로 형성한 경우를 예를 들어 설명하고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 액티브층(324)과 데이터배선은 회절노광이나 하프-톤(half tone) 노광을 이용함으로써 한번의 마스크공정을 통해 형성할 수 있다.Here, the
다음으로, 도 11d에 도시된 바와 같이, 상기 소오스/드레인전극(322, 323), 데이터라인, 제 1 좌측 데이터 링크 배선(326L") 및 제 1 우측 데이터 링크 배선이 형성된 어레이 기판(310) 전면에 보호막(315b)을 형성한다.11D, the front surface of the
그리고, 포토리소그래피공정(제 4 마스크공정)을 통해 상기 보호막(315b)을 선택적으로 제거함으로써 상기 어레이 기판(310)의 화소부에 상기 드레인전극(323)의 일부를 노출시키는 콘택홀(340)을 형성하게 된다.Then, the
다음으로, 도 11e에 도시된 바와 같이, 상기 보호막(315b)이 형성된 어레이 기판(310) 전면에 투명한 도전물질로 이루어진 제 3 도전막을 형성한 후, 포토리소그래피공정(제 5 마스크공정)을 이용하여 선택적으로 패터닝함으로써 상기 어레이 기판(310)의 화소부에 상기 콘택홀(340)을 통해 상기 드레인전극(323)과 전기적으로 접속하는 화소전극(318)을 형성하게 된다.Next, as shown in FIG. 11E, a third conductive film made of a transparent conductive material is formed on the entire surface of the
이와 같이 구성된 상기 어레이 기판(310)은 화상표시 영역의 외곽에 형성된 실런트에 의해 컬러필터 기판(미도시)과 대향하여 합착되게 되는데, 이때 상기 컬러필터 기판에는 상기 박막 트랜지스터와 게이트라인 및 데이터라인으로 빛이 새는 것을 방지하는 블랙매트릭스와 적, 녹 및 청색의 컬러를 구현하기 위한 컬러필터가 형성되어 있다.The
이때, 상기 컬러필터 기판과 어레이 기판(310)의 합착은 상기 컬러필터 기판 또는 어레이 기판에 형성된 합착키를 통해 이루어진다.At this time, the color filter substrate and the
전술한 바와 같이 본 발명은 액정표시장치뿐만 아니라 박막 트랜지스터를 이용하여 제작하는 다른 표시장치, 예를 들면 유기전계발광표시장치나 전기영동 표시장치에도 이용될 수 있다.As described above, the present invention can be applied not only to liquid crystal display devices but also to other display devices manufactured using thin film transistors, for example, organic light emitting display devices and electrophoretic display devices.
도 12는 본 발명에 따른 액정표시장치의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다.12 is a cross-sectional view schematically showing a structure of a liquid crystal display device according to the present invention.
도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 액정표시장치(400)는 어레이 기판(460)과 컬러필터 기판(480) 및 이들 사이에 개재된 액정층(490)으로 구성된다.As shown in the figure, a liquid
어레이 기판(460)은 하부 기판(410) 상에 게이트절연막(415a)을 사이에 두고 교차하게 형성된 게이트라인(미도시) 및 데이터라인(미도시), 게이트라인과 데이터라인의 교차 영역에 형성된 박막 트랜지스터(TFT) 및 게이트라인과 데이터라인의 교차 영역에 정의되는 단위 화소에 형성되며, 박막 트랜지스터(TFT)와 전기적으로 연결되는 화소전극(418)을 구비한다.The
이때, 상기 하부 기판(410)은 유연한 성질을 가진 플라스틱으로 이루어질 수 있으며 예를 들어, 폴리아크릴레이트, 폴리에틸렌에테르프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리에테르술폰 및 폴리이미드로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있다.At this time, the
박막 트랜지스터(TFT)는 게이트 신호가 공급되는 게이트전극(421), 데이터라인에 접속된 소오스전극(422), 화소전극(418)에 접속된 드레인전극(423) 및 게이트전극(421)과 중첩되고 소오스전극(422)과 드레인전극(423) 사이에 채널을 형성하는 반도체층(424)을 포함할 수 있다.The thin film transistor TFT is superimposed on the
반도체층(424)은 소오스전극(422) 및 드레인전극(423)과 중첩되게 형성되고 소오스전극(422)과 드레인전극(423) 사이의 채널부를 더 포함한다. 반도체층(424) 위에는 소오스전극(422) 및 드레인전극(423)과 오믹콘택을 위한 오믹-콘택층(425n)이 더 형성된다.The
화소전극(418)은 박막 트랜지스터(TFT)를 보호하는 보호막(415b)을 관통하여 드레인전극(423)을 노출시키는 콘택홀을 통해 드레인전극(423)과 접촉된다.The
한편, 어레이 기판(460)과 대향 배치되는 컬러필터 기판(480)은 상부 기판(401) 블랙 매트릭스(407), 블랙 매트릭스(407) 사이에 위치하는 컬러필터(406), 블랙 매트릭스(407)와 컬러필터(406)를 덮는 오버코트층(405) 및 오버코트층(405) 상에 위치하는 공통전극(408)을 포함할 수 있다.The
이때, 상부 기판(401)은 전술한 하부 기판(410)과 동일하게 유연한 플라스틱으로 이루어질 수 있다.At this time, the
블랙 매트릭스(407)는 액정층(490)을 제어할 수 없는 영역을 통해 광이 투과되는 것을 막기 위해 불투명한 유기물질 또는 불투명한 금속으로 이루어질 수 있다.The
그리고, 오버코트층(405)은 컬러필터(406)를 보호하며 공통전극(408)의 양호한 스텝 커버리지를 위해 투명한 유기물질로 형성될 수 있다. 공통전극(408)은 인듐-틴-옥사이드(ITO), 인듐-징크-옥사이드(IZO) 등과 같은 투명한 금속으로 형성되며, 공통 전압을 액정층(490)에 인가하는 역할을 한다.The
그리고, 전술한 표시장치 어레이 기판(460)과 컬러필터 기판(480)이 합착된 사이에는 액정층(490)이 위치할 수 있다.The
도 13은 본 발명에 따른 전기영동 표시장치의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다.13 is a cross-sectional view schematically showing the structure of an electrophoretic display device according to the present invention.
도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 전기영동 표시장치(500)는 어레이 기판(560)과 대향 기판(580)으로 구성된다.As shown in the figure, an
어레이 기판(560)은 하부 기판(510) 상에 게이트절연막(515a)을 사이에 두고 교차하게 형성된 게이트라인(미도시) 및 데이터라인(미도시), 게이트라인과 데이터라인의 교차 영역에 형성된 박막 트랜지스터(TFT) 및 게이트라인과 데이터라인의 교차 영역에 정의되는 단위 화소에 형성되며, 박막 트랜지스터(TFT)와 전기적으로 연결되는 화소전극(518)을 구비한다.The
이때, 하부 기판(510)은 유연한 성질을 가진 플라스틱으로 이루어질 수 있으며 예를 들어, 폴리아크릴레이트, 폴리에틸렌에테르프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리에테르술폰 및 폴리이미드로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있다.At this time, the
박막 트랜지스터(TFT)는 게이트 신호가 공급되는 게이트전극(521), 데이터라인에 접속된 소오스전극(522), 화소전극(518)에 접속된 드레인전극(523) 및 게이트전극(521)과 중첩되고 소오스전극(522)과 드레인전극(523) 사이에 채널을 형성하는 반도체층(524)을 포함할 수 있다.The thin film transistor TFT is overlapped with the
여기서, 게이트전극(521)은 예를 들면, 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta) 또는 이들의 합금 등으로 이루어질 수 있다.Here, the
또한, 게이트전극(521)은 물리적 성질이 다른 2개의 도전막(도시하지 않음)을 포함하는 이중막 구조를 가질 수 있다. 이 중 하나의 도전막은 게이트전극(521)의 신호 지연이나 전압 강하를 줄일 수 있도록 낮은 비저항(resistivity)의 금속, 예를 들면 알루미늄(또는 그 합금), 은(또는 그 합금), 구리(또는 그 합금) 등으로 이루어질 수 있다. 다른 도전막은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide) 등과 접촉 특성이 우수한 물질, 예를 들면 몰리브덴, 크롬, 티타늄, 탄탈륨 또는 이들의 합금 등으로 이루어질 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 게이트전극(521)은 다양한 여러 가지 금속과 도전체로 만들어질 수 있다. 또한 이중막 구조로 제한되지 않으며, 삼중막 이상의 다층 구조를 가질 수 있다.In addition, the
게이트전극(521) 위에는 게이트절연막(515a)이 형성되어 있다. 이때, 게이트절연막(515a)은 실리콘질화막(SiNx), 실리콘산화막(SiO2)과 같은 무기절연막 또는 하프늄(hafnium; Hf) 옥사이드, 알루미늄 옥사이드와 같은 고유전성 산화막으로 이루어질 수 있다.On the
소오스전극(522) 및 드레인전극(523)은 예를 들면, 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta) 또는 이들의 합금 등으로 이루어질 수 있다. 이러한 소오스전극(522) 및 드레인전극(523)은 물리적 성질이 다른 2개의 도전막(도시하지 않음)을 포함하는 이중막 또는 삼중막의 구조를 가질 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니며, 소오스전극(522) 및 드레인전극(523)은 다양한 여러 가지 금속과 도전체로 이루어진 다층 구조일 수 있다.The
반도체층(524)은 소오스전극(522) 및 드레인전극(523)과 중첩되게 형성되고 소오스전극(522) 및 드레인전극(523) 사이의 채널부를 더 포함한다. 반도체층(524) 위에는 소오스전극(522) 및 드레인전극(523)과 오믹콘택을 위한 오믹-콘택층(525n)이 더 형성될 수 있다.The
화소전극(518)은 박막 트랜지스터(TFT)를 보호하는 보호막(515b)을 관통하여 드레인전극(523)을 노출시키는 콘택홀을 통해 드레인전극(523)과 접촉된다.The
한편, 어레이 기판(560)과 대향 배치되는 대향 기판(580)은 상부 기판(501) 상에 형성된 공통전극(508), 공통전극(508) 상에 위치하는 전기영동필름(590)을 포함한다.The
이때, 상부 기판(501)은 전술한 하부 기판(510)과 동일하게 유연한 플라스틱으로 이루어질 수 있다.At this time, the
전기영동필름(590)은 하전 염료 입자(charge pigment particle)를 포함하는 캡슐(592), 캡슐(592)의 상하에 위치하는 상부 및 하부 보호층(509, 519)으로 구성됨과 아울러 캡슐(592)과 하부 보호층(519) 사이에 컬러필터(516)를 포함할 수 있다.The
캡슐(592)에는 정극성 전압에 반응하는 블랙 염료 입자(592a), 부극성 전압에 반응하는 화이트 염료 입자(592b) 및 솔벤트(592c)가 포함된다.
상부 및 하부 보호층(509, 519)은 구형의 캡슐(592)의 유동을 차단함과 아울러 캡슐(592)을 보호하는 역할을 한다. 이러한, 상부 및 하부 보호층(509, 519)은 유연성을 가지는 플라스틱, 쉽게 구부러지는 베이스 필름, 또는 유연성을 가지는 금속 등이 이용될 수 있다.The upper and lower
이러한, 구성을 가지는 전기영동 표시장치는 컬러필터(516)를 구비하여 컬러를 구현할 수 있게 된다. 또한, 평판 디스플레이 패널에서의 상부 유리 기판이 아닌 유연성을 가지는 상부 기판(501)을 이용함으로써 유연성을 유지할 수 있게 된다.The electrophoretic display device having such a configuration can be provided with a
그리고, 점착제(515c)를 이용한 라미네이션 공정에 의해 어레이 기판(560)과 대향 기판(580)이 합착된다.Then, the
상기한 설명에 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나 이것은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 따라서 발명은 설명된 실시예에 의하여 정할 것이 아니고 특허청구범위와 특허청구범위에 균등한 것에 의하여 정하여져야 한다.While a great many are described in the foregoing description, it should be construed as an example of preferred embodiments rather than limiting the scope of the invention. Therefore, the invention should not be construed as limited to the embodiments described, but should be determined by equivalents to the appended claims and the claims.
100,200,300 : 표시장치 110,210,310 : 어레이 기판
120,220,320 : 화소부
126L,226L',326L" : 좌측 데이터 링크 배선
126R,226R',226R" : 우측 데이터 링크 배선
131L,231L,331L, 131R,231R,331R : 데이터구동부
132,232,332 : 게이트구동부100, 200, 300:
120, 220,
126L, 226L ', 326L ": Left data link wiring
126R, 226R ', 226R ": Right data link wiring
131L, 231L, 331L, 131R, 231R, 331R:
132, 232,
Claims (21)
상기 표시영역에 매트릭스 형태로 배치되며, 복수의 데이터라인과 게이트라인이 교차하여 정의되는 복수의 서브 픽셀;
상기 비표시영역에 배치되며, 상기 서브 픽셀의 데이터라인 및 게이트라인을 구동하는 데이터구동부 및 게이트구동부;
상기 비표시영역에 배치되며, 상기 데이터라인과 수직한 방향으로 배치되는 수직 배선부 및 상기 수직 배선부에서 데이터라인 쪽으로 연장되어 경사지게 배치되는 경사 배선부로 구분되는 링크부;
상기 비표시영역의 링크부에 형성되며, 상기 데이터구동부를 통해 상기 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하되, 상기 데이터라인과 동일한 층에 형성된 제 1 데이터 링크 배선 및 상기 게이트라인과 동일한 층에 형성된 제 2 데이터 링크 배선으로 구분되는 데이터 링크 배선; 및
상기 제 1 기판과 합착하는 제 2 기판을 포함하며,
상기 제 2 데이터 링크 배선은 상기 경사 배선부에서 상기 수직 배선부보다 큰 선폭을 갖는 것을 특징으로 하는 표시장치.A first substrate divided into a display region and a non-display region disposed around the display region;
A plurality of subpixels arranged in a matrix form in the display region and defined by intersecting a plurality of data lines and gate lines;
A data driver and a gate driver arranged in the non-display area to drive data lines and gate lines of the subpixels;
A link portion disposed in the non-display region, the link portion being divided into a vertical wiring portion arranged in a direction perpendicular to the data line and a sloped wiring portion extending from the vertical wiring portion toward a data line and inclined;
A first data link line formed in the same layer as the data line and a second data link line formed in the same layer as the gate line; A data link wiring line formed by a second data link line formed; And
And a second substrate bonded to the first substrate,
And the second data link wiring has a line width larger than that of the vertical wiring portion in the inclined wiring portion.
상기 표시영역에 매트릭스 형태로 형성하되, 복수의 데이터라인과 게이트라인이 교차하여 정의되는 복수의 서브 픽셀을 형성하는 단계;
상기 비표시영역에 형성하되, 상기 서브 픽셀의 데이터라인 및 게이트라인을 구동하는 데이터구동부 및 게이트구동부를 형성하는 단계;
상기 비표시영역에 형성하되, 상기 데이터구동부를 통해 상기 서브 픽셀의 데이터라인에 데이터신호를 인가하며, 상기 데이터라인과 동일한 층에 형성된 제 1 데이터 링크 배선 및 상기 게이트라인과 동일한 층에 형성된 제 2 데이터 링크 배선으로 구분되는 데이터 링크 배선을 형성하는 단계; 및
상기 제 1 기판과 제 2 기판을 합착하는 단계를 포함하며,
상기 제 2 데이터 링크 배선은 상기 데이터라인과 수직한 방향으로 배치되는 수직 배선부와 상기 수직 배선부에서 데이터라인 쪽으로 연장되어 경사지게 배치되는 경사 배선부를 포함하고,
상기 제 2 데이터 링크 배선은 상기 경사 배선부에서 상기 수직 배선부보다 큰 선폭을 갖는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법.Providing a first substrate, the first substrate being divided into a display region and a non-display region disposed around the display region;
Forming a plurality of subpixels in a matrix form in the display area, the plurality of subpixels defining a plurality of data lines and gate lines crossing each other;
Forming a data driver and a gate driver for driving the data lines and the gate lines of the subpixel in the non-display area;
A first data link line formed in the same layer as the data line and a second data line line formed in the same layer as the gate line and a second data link line formed in the same layer as the data line, Forming a data link wiring that is divided into data link wiring; And
And bonding the first substrate and the second substrate,
Wherein the second data link wiring includes a vertical wiring portion arranged in a direction perpendicular to the data line and a sloped wiring portion extending from the vertical wiring portion toward a data line and inclined,
And the second data link wiring has a line width larger than that of the vertical wiring portion in the inclined wiring portion.
상기 표시영역에 배치되며 서로 교차하여 복수의 서브 픽셀을 정의하는 다수의 제 1 신호라인 및 다수의 제 2 신호라인과;
상기 제 1 비표시영역에 배치되며 상기 제 1 및 제 2 신호라인 각각에 연결되는 제 1 및 제 2 구동부와;
상기 제 1 구동부에 연결되며 각각이 상기 제 2 비표시영역으로 연장되는 수직 배선부와 상기 수직 배선부에서 상기 표시영역으로 연장되어 상기 제 1 신호라인 중 둘에 각각 연결되는 경사 배선부를 포함하는 제 1 및 제 2 링크 배선을 포함하며,
상기 수직 배선부에서 상기 제 1 및 제 2 링크 배선의 선폭은 같고, 상기 경사 배선부에서 상기 제 1 및 제 2 링크 배선의 선폭은 서로 다른 것을 특징으로 하는 표시장치용 어레이 기판.A substrate divided into a display area and first and second non-display areas arranged around two adjacent sides of the display area;
A plurality of first signal lines and a plurality of second signal lines arranged in the display region and intersecting with each other to define a plurality of subpixels;
A first and a second driver arranged in the first non-display area and connected to the first and second signal lines, respectively;
And a sloped wiring part connected to the first driving part and each extending to the second non-display area and a sloped wiring part extending from the vertical wiring part to the display area and connected to two of the first signal lines, respectively 1 and a second link wiring,
Wherein the line widths of the first and second link wirings in the vertical wiring portion are the same and the line widths of the first and second link wirings in the inclined wiring portion are different from each other.
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