KR101934846B1

KR101934846B1 - Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer and color filter including the same

Info

Publication number: KR101934846B1
Application number: KR1020160091006A
Authority: KR
Inventors: 서광원; 최은정; 김선대; 김소현; 신명엽; 한규석
Original assignee: 삼성에스디아이 주식회사
Priority date: 2016-07-18
Filing date: 2016-07-18
Publication date: 2019-01-03
Also published as: KR20180009270A

Abstract

(A) 바인더 수지; (B) 광중합성 단량체; (C) 광중합 개시제; (D) 착색제 및 (E) 용매를 포함하며, 상기 착색제는 '하기 화학식 1로 표시되는 양이온 및 음이온으로 구성된 화합물', '상기 화합물과 다른 단량체가 공중합 반응하여 형성된 폴리머' 또는 '이들의 조합'을 포함하는 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터가 제공된다.
[화학식 1]

(상기 화학식 1에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)(A) a binder resin; (B) a photopolymerizable monomer; (C) a photopolymerization initiator; (D) a colorant, and (E) a solvent, wherein the colorant is a compound comprising a cation and an anion represented by the following formula (1), a polymer formed by copolymerization reaction of the compound and another monomer, And a photosensitive resin film and a color filter manufactured using the same.
[Chemical Formula 1]

(Wherein each substituent is as defined in the specification).

Description

감광성 수지 조성물, 감광성 수지막 및 이를 포함하는 컬러필터 {PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAYER AND COLOR FILTER INCLUDING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a photosensitive resin composition, a photosensitive resin film, and a color filter comprising the same. BACKGROUND ART [0002]

본 기재는 신규한 화합물 및/또는 폴리머를 착색제로 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막 및 이를 포함하는 컬러필터에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive resin composition comprising a novel compound and / or a polymer as a colorant, a photosensitive resin film and a color filter comprising the same.

안료분산액의 안정한 분산상태 및 미세화를 용이하게 하기 위해, 합성을 통해 얻어진 안료를 솔트밀링 등의 공정을 통해, 일정한 크기의 입자상태를 가지는 안료를 만들기 위해 여러 연구가 진행되고 있다. 또한, 안료의 경우, 입자 크기에서 비롯되는 휘도와 명암비의 한계가 존재하고, 이미지 센서용 컬러 촬상 소자의 경우에는 미세한 패턴 형성을 위해 더 작은 분산입도를 요구하기 때문에,안료를 단독으로 사용하지 않고, 안료와 염료를 혼합한 하이브리드 형태의 착색제를 이용하여, 휘도, 명암비 등을 물성을 개선하고자 하는 연구도 진행되고 있다. In order to facilitate the stable dispersion and fineness of the pigment dispersion, various studies have been conducted to make pigments having a particle size of a certain size through a process such as salt milling of the pigment obtained through synthesis. Further, in the case of a pigment, there is a limit of brightness and contrast ratio resulting from particle size, and in the case of a color imaging device for an image sensor, a smaller dispersion particle size is required for forming a fine pattern. Therefore, Studies have been made to improve physical properties such as brightness and contrast ratio by using a hybrid type colorant in which a pigment and a dye are mixed.

그러나 현재까지, 종래 착색제 등과 비교하여, 내열성, 휘도 등의 물성 개선의 효과가 큰 착색제는 보고되고 있지 않다.However, up to now, no coloring agent has been reported which has a greater effect of improving physical properties such as heat resistance and brightness as compared with conventional coloring agents and the like.

따라서, 감광성 수지 조성물의 제조에 사용되는 착색제로 적합한 화합물에 대한 연구가 필요한 실정이다.Therefore, it is necessary to study a compound suitable as a coloring agent used in the production of a photosensitive resin composition.

일 구현예는 신규한 화합물 및/또는 폴리머를 착색제로 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.One embodiment is to provide a photosensitive resin composition comprising a novel compound and / or polymer as a colorant.

다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a photosensitive resin film produced using the photosensitive resin composition.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a color filter comprising the photosensitive resin film.

일 구현예는 (A) 바인더 수지; (B) 광중합성 단량체; (C) 광중합 개시제; (D) 착색제 및 (E) 용매를 포함하며, 상기 착색제는 '하기 화학식 1로 표시되는 양이온 및 음이온으로 구성된 화합물', '상기 화합물과 다른 단량체가 공중합 반응하여 형성된 폴리머' 또는 '이들의 조합'을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.One embodiment includes (A) a binder resin; (B) a photopolymerizable monomer; (C) a photopolymerization initiator; (D) a colorant, and (E) a solvent, wherein the colorant is a compound comprising a cation and an anion represented by the following formula (1), a polymer formed by copolymerization reaction of the compound and another monomer, The present invention provides a photosensitive resin composition comprising

[화학식 1][Chemical Formula 1]

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

R¹, R², R⁶ 및 R⁷은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기 또는 하기 화학식 2로 표시되는 치환기이고,R ¹ , R ² , R ⁶ and R ⁷ are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C 1 to C 20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 6 to C 20 aryl group, a substituted or unsubstituted C 2 to C 20 heteroaryl group Or a substituent represented by the following formula (2)

단, R¹, R², R⁶ 및 R⁷ 중 적어도 하나는 반드시 하기 화학식 2로 표시되는 치환기이고,Provided that at least one of R ¹ , R ² , R ⁶ and R ⁷ is a substituent represented by the following formula (2)

R³ 및 R⁴는 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R ³ and R ⁴ are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R⁵는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R < ⁵ > is a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,

X는 -O-, -S- 또는-NR⁸-(R⁸은 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기)이고,X is -O-, -S- or -NR ⁸ - (R ⁸ is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group)

m 및 n은 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고,m and n are each independently an integer of 0 to 5,

[화학식 2](2)

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

L¹내지 L³은 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이고,L ¹ to L ³ are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 arylene group,

R⁹는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이다.R ⁹ is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group.

상기 X는 -O- 또는 -S- 일 수 있다.X may be -O- or -S-.

상기 R¹, R², R⁶ 및 R⁷ 중 적어도 둘은 반드시 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.At least two of R ¹ , R ² , R ⁶ and R ⁷ must be represented by the formula (2).

상기 R¹, R², R⁶ 및 R⁷ 중 적어도 셋은 반드시 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.At least three of R ¹ , R ² , R ⁶ and R ⁷ must be represented by the formula (2).

상기 R¹, R², R⁶ 및 R⁷은 모두 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.R ¹ , R ² , R ⁶ and R ⁷ may all be represented by the general formula (2).

상기 화학식 2는 하기 화학식 2-1 또는 화학식 2-2로 표시될 수 있다.The formula (2) may be represented by the following formula (2-1) or (2-2).

[화학식 2-1][Formula 2-1]

[화학식 2-2][Formula 2-2]

상기 화학식 2-1 및 화학식 2-2에서,In the above Formulas (2-1) and (2-2)

L⁴ 내지 L⁶는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,L ⁴ to L ⁶ each independently represent a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,

상기 화학식 1로 표시되는 양이온은 하기 화학식 3 또는 화학식 4로 표시될 수 있다.The cation represented by the formula (1) may be represented by the following formula (3) or (4).

[화학식 3](3)

[화학식 4][Chemical Formula 4]

상기 화학식 3 및 화학식 4에서,In the above formulas (3) and (4)

R¹, R², R⁶ 및 R⁷은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기이고,R ¹ , R ² , R ⁶ and R ⁷ are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C 1 to C 20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 6 to C 20 aryl group or a substituted or unsubstituted C 2 to C 20 heteroaryl group ego,

R⁹는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,R ⁹ is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

R¹⁰은 할로겐 원자, 니트로기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,R ¹⁰ is a halogen atom, a nitro group or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

X는 -O-, -S- 또는 -NR⁸-(R⁸은 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기)이고,X is -O-, -S- or -NR ⁸ - (R ⁸ is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group)

m, n 및 p는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고,m, n and p are each independently an integer of 0 to 5,

L¹ 내지 L³은 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이다.L ¹ to L ³ are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 arylene group.

상기 화학식 1로 표시되는 양이온은 하기 화학식 5 내지 화학식 7로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.The cation represented by the formula (1) may be represented by any one of the following formulas (5) to (7).

[화학식 5][Chemical Formula 5]

[화학식 6][Chemical Formula 6]

[화학식 7](7)

상기 화학식 5 내지 화학식 7에서,In the above Chemical Formulas 5 to 7,

상기 화학식 1로 표시되는양이온은 하기 화학식 8 또는 화학식 9로 표시될 수 있다.The cation represented by the formula (1) may be represented by the following formula (8) or (9).

[화학식 8][Chemical Formula 8]

[화학식 9][Chemical Formula 9]

상기 화학식 8 및 화학식 9에서,In the above formulas (8) and (9)

R² 및 R⁷은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기이고,R ² and R ⁷ are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group or a substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group,

상기 화학식 1로 표시되는양이온은 하기 화학식 10-1 내지 화학식 10-15로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.The cations represented by the formula (1) may be represented by any one selected from the group consisting of the following formulas (10-1) to (10-15).

[화학식 10-1][Formula 10-1]

[화학식 10-2][Formula 10-2]

[화학식 10-3][Formula 10-3]

[화학식 10-4][Formula 10-4]

[화학식 10-5][Formula 10-5]

[화학식 10-6][Formula 10-6]

[화학식 10-7][Formula 10-7]

[화학식 10-8][Formula 10-8]

[화학식 10-9][Chemical Formula 10-9]

[화학식 10-10][Chemical Formula 10-10]

[화학식 10-11][Chemical Formula 10-11]

[화학식 10-12][Chemical Formula 10-12]

[화학식 10-13][Chemical Formula 10-13]

[화학식 10-14][Chemical Formula 10-14]

[화학식 10-15][Chemical Formula 10-15]

상기 화학식 10-1 내지 화학식 10-15에서,In the above Chemical Formulas 10-1 to 10-15,

R¹⁰ 및 R¹¹은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 니트로기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,R ¹⁰ and R ¹¹ are each independently a halogen atom, a nitro group or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

q1 내지 q3는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이고,q1 to q3 each independently represent an integer of 1 to 10,

p 및 s는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이다.p and s are each independently an integer of 0 to 5;

상기 음이온은 하기 화학식 A 내지 화학식 F로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.The anion may be represented by any one selected from the group consisting of the following chemical formulas (A) to (F).

[화학식 A](A)

[화학식 B][Chemical Formula B]

[화학식 C]&Lt; RTI ID = 0.0 &

PW₁₂O₄₀ ³ ^- PW ₁₂ O ₄₀ ³ ^-

[화학식 D][Chemical Formula D]

SiW₁₂O₄₀ ⁴ ^- SiW ₁₂ O ₄₀ ⁴ ^-

[화학식 E](E)

CF₃SO₃ ^- CF ₃ SO ₃ ^-

[화학식 F][Chemical Formula F]

ClO₄ ^- ClO ₄ ^-

상기 화합물은 550 nm 내지 700 nm의 파장범위에서 최대 흡광도(λ_max)를 가질 수 있다.The compound may have a maximum absorbance (? _Max ) in the wavelength range of 550 nm to 700 nm.

상기 화합물은 400 nm 내지 500 nm의 파장범위에서 최대 투과도(T_max)를 가질 수 있다.The compound may have a maximum transmittance (T _max ) in the wavelength range of 400 nm to 500 nm.

상기 단량체는 에틸렌성 불포화 단량체일 수 있다.The monomer may be an ethylenically unsaturated monomer.

상기 에틸렌성 불포화 단량체는 하기 화학식 11로 표시되는 화합물, 하기 화학식 12로 표시되는 화합물, 하기 화학식 13으로 표시되는 화합물 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The ethylenically unsaturated monomer may include a compound represented by the following formula (11), a compound represented by the following formula (12), a compound represented by the following formula (13), or a combination thereof.

[화학식 11](11)

[화학식 12][Chemical Formula 12]

[화학식 13][Chemical Formula 13]

상기 화학식 11 내지 화학식 13에서,In the above Chemical Formulas 11 to 13,

R¹² 내지 R¹⁴는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,R ¹² to R ¹⁴ are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

L⁷은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다.L ⁷ is a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group.

상기 폴리머는 상기 화합물 및 상기 단량체가 10:90 내지 50:50의 중량비로 포함될 수 있다.The polymer may include the compound and the monomer in a weight ratio of 10:90 to 50:50.

상기 폴리머는 5,000 g/mol 내지 100,000 g/mol의 중량평균분자량을 가질 수 있다.The polymer may have a weight average molecular weight of from 5,000 g / mol to 100,000 g / mol.

상기 감광성 수지 조성물은, 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해, 상기 (A) 바인더 수지 1 중량% 내지 10 중량%; 상기 (B) 광중합성 단량체 1 중량% 내지 15 중량%; 상기 (C) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량%; 상기 (D) 착색제 1 중량% 내지 10 중량% 및 상기 (E) 용매 잔부량을 포함할 수 있다.Wherein the photosensitive resin composition comprises 1 to 10% by weight of the binder resin (A) relative to the total amount of the photosensitive resin composition; 1 to 15% by weight of the photopolymerizable monomer (B); 0.1 to 5% by weight of the photopolymerization initiator (C); (D) 1% to 10% by weight of the colorant and (E) the balance of the solvent.

상기 감광성 수지 조성물은 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 비닐기 또는 (메타)아크릴옥시기를 포함하는 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 및 라디칼 중합 개시제로부터 선택되는 적어도 하나의 첨가제를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may include malonic acid; 3-amino-1,2-propanediol; A coupling agent comprising a vinyl group or (meth) acryloxy group; Leveling agents; Fluorine surfactants; And at least one additive selected from a radical polymerization initiator.

다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공한다.Another embodiment provides a photosensitive resin film produced using the photosensitive resin composition.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다.Another embodiment provides a color filter comprising the photosensitive resin film.

기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Other aspects of the present invention are included in the following detailed description.

일 구현예에 따른 화합물 및 폴리머는 착색력 및 내열성이 뛰어나, 상기 화합물이나 폴리머를 착색제로 포함하는 감광성 수지 조성물을 이용하면 휘도, 내열성, 내화학성이 우수한 컬러필터의 제조가 가능하다.The compounds and polymers according to one embodiment are excellent in tinting strength and heat resistance, and a color filter having excellent brightness, heat resistance, and chemical resistance can be produced by using a photosensitive resin composition containing the above compound or polymer as a coloring agent.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 　다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다.　Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, it should be understood that the present invention is not limited thereto, and the present invention is only defined by the scope of the following claims.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환" 내지 "치환된"이란, 본 발명의 작용기 중의 하나 이상의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Br, Cl 또는 I), 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 아미노기(NH₂, NH(R²⁰⁰) 또는 N(R²⁰¹)(R²⁰²)이고, 여기서 R²⁰⁰, R²⁰¹ 및 R²⁰²는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 독립적으로 C1 내지 C10 알킬기임), 아미디노기, 하이드라진기, 하이드라존기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알키닐기, 치환 또는 비치환된 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 아릴기 및 치환 또는 비치환된 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Means that at least one hydrogen atom of the functional group of the present invention is substituted with a halogen atom (F, Br, Cl or I), a hydroxy group, a nitro group, a cyano group, an amino group NH _2, NH (R ^200), or N (R ²⁰¹⁾ (R ^202), wherein R ^200, R ²⁰¹ and R ²⁰² are the same or different, each independently being a C1 to C10 alkyl groups), amidino group, A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, a substituted or unsubstituted alicyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and a substituted or unsubstituted aryl group, A substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and a substituted or unsubstituted heterocyclic group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C15 알킬기를 의미하고, "사이클로알킬기"란 C3 내지 C20 사이클로알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C3 내지 C18 사이클로알킬기를 의미하고, "알콕시기"란 C1 내지 C20 알콕시기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알콕시기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C18 아릴기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, 구체적으로는 C2 내지 C18 알케닐기를 의미하고, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C16 아릴렌기를 의미한다.Unless otherwise specified in the specification, "alkyl group" means C1 to C20 alkyl group, specifically C1 to C15 alkyl group, "cycloalkyl group" means C3 to C20 cycloalkyl group, specifically C3 Refers to a C1 to C20 alkoxy group, specifically, a C1 to C18 alkoxy group, and an " aryl group " means a C6 to C20 aryl group, specifically, a C6 to C20 aryl group, Refers to a C 2 to C 20 alkenyl group, specifically, a C 2 to C 18 alkenyl group, and the "alkylene group" refers to a C 1 to C 20 alkylene group, specifically, a C1 Refers to a C6 to C20 arylene group, and specifically refers to a C6 to C16 arylene group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다.(Meth) acrylate " refers to both " acrylic acid " and " methacrylic acid " It means both are possible.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다. 또한 "공중합"이란 블록 공중합 내지 랜덤 공중합을 의미하고, "공중합체"란 블록 공중합체 내지 랜덤 공중합체를 의미한다.As used herein, unless otherwise defined, " combination " means mixing or copolymerization. "Copolymerization" means block copolymerization or random copolymerization, and "copolymer" means block copolymer or random copolymer.

본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학 결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져 있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.Unless otherwise defined in the chemical formulas in this specification, when no chemical bond is drawn at the position where the chemical bond should be drawn, it means that the hydrogen atom is bonded at the above position.

본 명세서에서 카도계 수지란, 하기 화학식 14-1 내지 화학식 14-11로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 관능기가 수지 내 주골격(backbone)에 포함되는 수지를 의미한다.In the present specification, the cadmium resin means a resin in which at least one functional group selected from the group consisting of the following formulas (14-1) to (14-11) is contained in the main backbone of the resin.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "＊"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.Unless otherwise defined herein, " * " means the same or different atom or moiety connected to a formula.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

[화학식 2](2)

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

L¹ 내지 L³은 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이고,L ¹ to L ³ are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 arylene group,

예컨대, 상기 X는 -O- 또는 -S- 일 수 있다.For example, X may be -O- or -S-.

(D) 착색제(D) Colorant

최근 고휘도 및 고명암비를 가지는 컬러필터를 제조하기 위해서, 안료보다 내구성이 우수한 염료를 합성하고, 상기 염료를 포함하는 조성물을 이용하여, 컬러필터의 고휘도 및 고명암비를 달성하는 연구가 활발하게 진행되고 있다. 상기 염료 중에서도 청색 염료로 알려진 트리아릴메탄 화합물을 이용한 연구가 많이 진행되고 있다. 상기 트리아릴메탄 염료는 420nm 내지 450nm의 파장범위에서 높은 휘도를 가지는 장점이 있으나, PGMEA 등의 유기용매에 대한 용해도가 좋지 않으며 내열성 또한 좋지 않은 단점을 가진다. 약한 내열성을 극복하기 위해 트리아릴메탄 염료에 나프탈렌술폰산, 나프틸아민술폰산 등의 음이온을 이용하려는 시도가 있었으나, 내열성이 크게 개선되지는 않았다.In recent years, in order to produce a color filter having a high luminance and a high contrast ratio, researches have been actively conducted to synthesize dyes excellent in durability than pigments and to achieve high luminance and high contrast ratio of color filters using a composition containing the dyes have. Among these dyes, many studies using triarylmethane compounds known as blue dyes have been conducted. The triarylmethane dye has an advantage that it has a high luminance in a wavelength range of 420 nm to 450 nm, but has a disadvantage in that it has poor solubility in organic solvents such as PGMEA and heat resistance. In order to overcome the weak heat resistance, attempts have been made to use anions such as naphthalenesulfonic acid and naphthylamine sulfonic acid in triarylmethane dyes, but the heat resistance has not been greatly improved.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 착색제로 '상기 화학식 1로 표시되는 양이온 및 음이온으로 구성된 화합물', '상기 화합물과 다른 단량체가 공중합 반응하여 형성된 폴리머' 또는 '이들의 조합'을 포함하여, 기존 착색제로 사용되는 화합물, 예컨대 트리아릴메탄 화합물 대비, 우수한 분광 특성과 높은 몰흡광계수를 가지며, 착색력 및 내열성을 향상시킬 수 있다. 나아가 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 착색제로 사용되는 화합물은 사이클로헥사논, PGMEA 등의 유기용매에 대한 용해도도 우수하다. 특히, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 착색제로 사용되는 화합물은 중심 탄소에 세 개의 고리가 연결되는데, 상기 세 개의 고리 중 하나의 고리가 시아노기를 포함하는 방향족 헤테로 고리를 가지므로, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 휘도 및 내구성(내열성, 내화학성)이 우수한 컬러필터를 제공할 수 있다.The photosensitive resin composition according to one embodiment includes a compound comprising a cation and an anion represented by Formula 1 as a colorant, a polymer formed by copolymerization reaction of the compound and another monomer, or a combination thereof, Has excellent spectroscopic characteristics and a high molar extinction coefficient as compared with a compound used as a coloring agent such as a triarylmethane compound, and can improve coloring power and heat resistance. Furthermore, the compound used as a coloring agent in the photosensitive resin composition according to one embodiment is excellent in solubility in organic solvents such as cyclohexanone and PGMEA. In particular, in the compound used as the colorant in the photosensitive resin composition according to one embodiment, three rings are connected to the central carbon. Since one of the three rings has an aromatic hetero ring including a cyano group, The photosensitive resin composition according to the example can provide a color filter excellent in luminance and durability (heat resistance and chemical resistance).

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 착색제로 사용되는 '상기 화학식 1로 표시되는 양이온 및 음이온으로 구성된 화합물' 또는 '상기 화합물과 다른 단량체가 공중합 반응하여 형성된 폴리머'는 청색 염료로 사용될 수 있다.The 'polymer composed of the cation and the anion represented by the formula (1)' or 'the polymer formed by the copolymerization reaction of the compound and the other monomer' used as a colorant in the photosensitive resin composition according to one embodiment may be used as a blue dye.

예컨대, 상기 R¹, R², R⁶ 및 R⁷ 중 적어도 둘은 반드시 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.For example, at least two of R ¹ , R ² , R ^6, and R ⁷ may be represented by Formula 2.

예컨대, 상기 R¹, R², R⁶ 및 R⁷ 중 적어도 셋은 반드시 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.For example, at least three of R ¹ , R ² , R ⁶ and R ⁷ must be represented by the formula (2).

예컨대, 상기 R¹, R², R⁶ 및 R⁷는 모두 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.For example, R ¹ , R ² , R ⁶ and R ⁷ may all be represented by the general formula (2).

[화학식 2-1][Formula 2-1]

[화학식 2-2][Formula 2-2]

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 양이온은 하기 화학식 3 또는 화학식 4로 표시될 수 있다.For example, the cation represented by the formula (1) may be represented by the following formula (3) or (4).

[화학식 3](3)

[화학식 4][Chemical Formula 4]

상기 화학식 3 및 화학식 4에서,In the above formulas (3) and (4)

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 양이온은 하기 화학식 5 내지 화학식 7로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.For example, the cation represented by the formula (1) may be represented by any one of the following formulas (5) to (7).

[화학식 5][Chemical Formula 5]

[화학식 6][Chemical Formula 6]

[화학식 7](7)

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 양이온은 하기 화학식 8 또는 화학식 9로 표시될 수 있다.For example, the cation represented by the formula (1) may be represented by the following formula (8) or (9).

[화학식 8][Chemical Formula 8]

[화학식 9][Chemical Formula 9]

상기 화학식 8 및 화학식 9에서,In the above formulas (8) and (9)

예컨대, 상기 할로겐 원자는 F, Cl 또는 Br 일 수 있다.For example, the halogen atom may be F, Cl or Br.

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 양이온은 하기 화학식 10-1 내지 화학식 10-15로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.For example, the cation represented by the formula (1) may be represented by any one selected from the group consisting of the following formulas (10-1) to (10-15).

[화학식 10-1][Formula 10-1]

[화학식 10-2][Formula 10-2]

[화학식 10-3][Formula 10-3]

[화학식 10-4][Formula 10-4]

[화학식 10-5][Formula 10-5]

[화학식 10-6][Formula 10-6]

[화학식 10-7][Formula 10-7]

[화학식 10-8][Formula 10-8]

[화학식 10-9][Chemical Formula 10-9]

[화학식 10-10][Chemical Formula 10-10]

[화학식 10-11][Chemical Formula 10-11]

[화학식 10-12][Chemical Formula 10-12]

[화학식 10-13][Chemical Formula 10-13]

[화학식 10-14][Chemical Formula 10-14]

[화학식 10-15][Chemical Formula 10-15]

일 구현예에 따른 화합물은 음이온을 포함하며, 상기 음이온은 하기 화학식 A 내지 화학식 F로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The compound according to an embodiment includes an anion, and the anion may be represented by any one selected from the group consisting of the following formulas (A) to (F), but is not limited thereto.

[화학식 A](A)

[화학식 B][Chemical Formula B]

[화학식 C]&Lt; RTI ID = 0.0 &

PW₁₂O₄₀ ³ ^- PW ₁₂ O ₄₀ ³ ^-

[화학식 D][Chemical Formula D]

SiW₁₂O₄₀ ⁴ ^- SiW ₁₂ O ₄₀ ⁴ ^-

[화학식 E](E)

CF₃SO₃ ^- CF ₃ SO ₃ ^-

[화학식 F][Chemical Formula F]

ClO₄ ^- ClO ₄ ^-

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 착색제로 사용되는 상기 화합물은 상기 화학식 1로 표시되는 양이온을 포함함으로써, 적은 양으로도 보다 선명한 색의 발현이 가능하여, 착색제로 사용 시 휘도나 명암비 등의 색특성이 우수한 디스플레이 소자의 제조가 가능하다. 예컨대, 상기 화합물은 착색제, 예컨대 염료, 예컨대 청색 염료, 예컨대 550 nm 내지 700 nm의 파장범위, 예컨대 600 nm 내지 650 nm의 파장범위에서 최대흡광도(λ_max)를 가지는 염료일 수 있다. 예컨대, 상기 화합물은 400 nm 내지 500 nm의 파장범위, 예컨대 420 nm 내지 500 nm의 파장범위, 예컨대 430 nm 내지 480 nm의 파장범위에서 T_max를 가지는 염료일 수 있다. T_max는 최대 투과도를 의미할 수 있다.The compound used as a coloring agent in the photosensitive resin composition according to one embodiment contains the cation represented by the above formula (1), whereby a clear color can be expressed with a small amount, and when used as a coloring agent, It is possible to manufacture a display device having excellent characteristics. For example, the compound may be a dye having a maximum absorbance (? _Max ) in the wavelength range of 550 nm to 700 nm, for example in the wavelength range of 600 nm to 650 nm, such as a dye such as a dye such as a blue dye. For example, the compound may be a dye having a T _max in the wavelength range of 400 nm to 500 nm, for example in the wavelength range of 420 nm to 500 nm, for example in the wavelength range of 430 nm to 480 nm. _Tmax can mean maximum transmittance.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 착색제는 상기 화합물 외에 상기 화합물과 다른 단량체가 공중합 반응하여 형성된 폴리머를 포함할 수 있다.The colorant in the photosensitive resin composition according to one embodiment may include a polymer formed by copolymerization reaction of the above compound and another monomer in addition to the above compound.

예컨대, 상기 에틸렌성 불포화 단량체는 방향족 비닐 화합물, 불포화 카르복시산 에스테르 화합물, 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물, 카르복시산 비닐 에스테르 화합물, 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물, 시안화 비닐 화합물, 불포화 아미드 화합물 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나일 수 있다.For example, the ethylenically unsaturated monomer may be an aromatic vinyl compound, an unsaturated carboxylic acid ester compound, an unsaturated carboxylic acid aminoalkyl ester compound, a carboxylic acid vinyl ester compound, an unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compound, a vinyl cyanide compound, an unsaturated amide compound, Lt; / RTI >

예컨대, 상기 에틸렌성 불포화 단량체는 하기 화학식 11로 표시되는 화합물, 하기 화학식 12로 표시되는 화합물, 하기 화학식 13으로 표시되는 화합물 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.For example, the ethylenically unsaturated monomer may include a compound represented by the following formula (11), a compound represented by the following formula (12), a compound represented by the following formula (13), or a combination thereof.

[화학식 11](11)

[화학식 12][Chemical Formula 12]

[화학식 13][Chemical Formula 13]

L⁴는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다.L ⁴ is a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group.

예컨대, 상기 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메타크릴산, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트, 트리사이클로데칸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물 또는 이들의 조합일 수 있다.For example, the ethylenically unsaturated monomer may be an aromatic vinyl compound such as styrene,? -Methylstyrene, vinyltoluene, or vinylbenzyl methyl ether; (Meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Unsaturated carboxylic acid ester compounds such as acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, and tricyclodecane (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl ester compounds such as 2-aminoethyl (meth) acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; Carboxylic acid vinyl ester compounds such as vinyl acetate and vinyl benzoate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl (meth) acrylate; A vinyl cyanide compound such as (meth) acrylonitrile; Unsaturated amide compounds such as (meth) acrylamide, or combinations thereof.

상기 폴리머는 아크릴 폴리머일 수 있다. 즉, 상기 폴리머는 상기 화학식 1로 표시되는 양이온을 포함하는 화합물과 상기 에틸렌성 불포화 단량체가 공중합 반응하여 형성될 수 있다.The polymer may be an acrylic polymer. That is, the polymer may be formed by a copolymerization reaction of a compound containing a cation represented by Formula 1 and the ethylenically unsaturated monomer.

상기 폴리머는 5,000 g/mol 내지 100,000 g/mol의 중량평균분자량, 예컨대 7,000 g/mol 내지 10,000 g/mol의 중량평균분자량, 예컨대 9,000 g/mol 내지 10,000 g/mol의 중량평균분자량을 가질 수 있다.The polymer may have a weight average molecular weight of from 5,000 g / mol to 100,000 g / mol, for example a weight average molecular weight of from 7,000 g / mol to 10,000 g / mol, for example from 9,000 g / mol to 10,000 g / mol .

상기 폴리머는 상기 화학식 1로 표시되는 양이온을 포함하는 화합물과 다른 단량체가 공중합함으로써, 적은 양으로도 보다 선명한 색의 발현이 가능하여, 착색제로 사용 시 휘도나 명암비 등의 색특성이 우수한 디스플레이 소자의 제조가 가능하다. 예컨대, 상기 폴리머는 착색제, 예컨대 염료, 예컨대 청색 염료일 수 있다.By copolymerizing the cation-containing compound represented by the above formula (1) with other monomers, the polymer can exhibit a clearer color even in a small amount, and is excellent in color characteristics such as brightness and contrast ratio when used as a colorant It is possible to manufacture. For example, the polymer may be a colorant, such as a dye, such as a blue dye.

일반적으로, 염료는 컬러필터 내에 사용되는 구성성분 중 가장 고가의 구성성분이다. 그러므로, 원하는 효과, 예컨대 고휘도나 고명암비 등을 달성하기 위해서는 고가의 염료를 더 많이 사용해야 하기 때문에 생산 단가가 상승할 수 밖에 없었다. 그러나, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 상기 화합물 및/또는 폴리머를 착색제, 예컨대 염료, 예컨대 청색 염료로 사용함으로써, 적은 양으로도 고휘도, 고명암비 등의 우수한 색특성을 달성할 수 있어 생산 단가의 절감이 가능하다.In general, dyes are the most expensive component of the components used in color filters. Therefore, in order to achieve a desired effect, for example, a high luminance and a high contrast ratio, it is necessary to use more expensive dye, so that the production cost has to be increased. However, by using the above-mentioned compound and / or polymer as a coloring agent such as a dye, for example, a blue dye, the photosensitive resin composition according to one embodiment can achieve excellent color characteristics such as high luminance and high contrast ratio even in a small amount, Can be saved.

상기 착색제는 상기 화합물 또는 폴리머 이외에, 유기용매 가용성 염료를 더 포함할 수 있다.The colorant may further comprise, in addition to the compound or the polymer, an organic solvent-soluble dye.

상기 유기용매 가용성 염료의 예로는, 트리아릴메탄계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 벤질리덴계 화합물, 시아닌계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 아자포피린계 화합물, 인디고계 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the organic solvent soluble dyes include triarylmethane compounds, anthraquinone compounds, benzylidene compounds, cyanine compounds, phthalocyanine compounds, azapphyrin compounds, and indigo compounds.

상기 착색제는 상기 화합물 및/또는 상기 폴리머 이외에, 안료를 더 포함할 수 있다.The colorant may further comprise a pigment in addition to the compound and / or the polymer.

상기 안료는 청색 안료, 보라색 안료, 적색 안료, 녹색 안료, 황색 안료 등을 포함할 수 있다.The pigment may include a blue pigment, a purple pigment, a red pigment, a green pigment, a yellow pigment and the like.

상기 청색 안료의 예로는, C.I. 청색 안료 15:6, C.I. 청색 안료 15, C.I. 청색 안료 15:1, C.I. 청색 안료 15:2, C.I. 청색 안료 15:3, C.I. 청색 안료 15:4, C.I. 청색 안료 15:5, C.I. 청색 안료 16, C.I. 청색 안료 22, C.I. 청색 안료 60, C.I. 청색 안료 64, C.I. 청색 안료 80 또는 이들의 조합을 들 수 있다. 　Examples of the blue pigments include C.I. Blue pigment 15: 6, C.I. Blue pigment 15, C.I. Blue pigment 15: 1, C.I. Blue pigment 15: 2, C.I. Blue pigment 15: 3, C.I. Blue pigment 15: 4, C.I. Blue pigment 15: 5, C.I. Blue pigment 16, C.I. Blue pigment 22, C.I. Blue pigment 60, C.I. Blue pigment 64, C.I. Blue pigment 80, or a combination thereof.

상기 보라색 안료의 예로는, C.I 보라색 안료 1, C.I 보라색 안료 19, C.I 보라색 안료 23, C.I 보라색 안료 27, C.I 보라색 안료 29, C.I 보라색 안료 30, C.I 보라색 안료 32, C.I 보라색 안료 37, C.I 보라색 안료 40, C.I 보라색 안료 42, C.I 보라색 안료 50 또는 이들의 조합을 들 수 있다.Examples of the purple pigments include CI violet pigment 1, CI violet pigment 19, CI violet pigment 23, CI violet pigment 27, CI violet pigment 29, CI violet pigment 30, CI violet pigment 32, CI violet pigment 37, CI violet pigment 40, CI violet pigment 42, CI violet pigment 50, or a combination thereof.

상기 적색 안료의 예로는, 페릴렌계 안료, 안트라퀴논(anthraquinone)계 안료, 디안토라퀴논계 안료, 아조계 안료, 디아조계 안료, 퀴나크리돈(quinacridone)계 안료, 안트라센(anthracene)계 안료 등을 들 수 있다. 　상기 적색계 안료의 구체적인 예로는 페릴렌 안료, 퀴나크리돈(quinacridone) 안료, 나프톨(naphthol) AS, 시코민 안료, 안트라퀴논(anthraquinone)(sudan I, II, III, R), 디안트라퀴논, 비스 아조(vis azo), 벤조피란 등을 들 수 있다. Examples of the red pigment include pigments such as perylene pigments, anthraquinone pigments, dianthraquinone pigments, azo pigments, diazo pigments, quinacridone pigments, anthracene pigments, and the like. . Specific examples of the red pigments include perylene pigments, quinacridone pigments, naphthol AS, sikomine pigments, anthraquinone (sudan I, II, III, R), dianthraquinone, bis Azo (azo), benzopyran and the like.

상기 녹색 안료의 예로는, 할로겐화 프탈로시아닌계 안료, 예컨대 염소화 구리 프탈로시아닌, 염소화 아연 프탈로시아닌 및/또는 염소화 브롬화 아연 프탈로시아닌 등을 들 수 있다. 　Examples of the green pigment include halogenated phthalocyanine pigments such as chlorophthalocyanine chloride, zinc chlorophthalocyanine and / or chlorinated zinc phthalocyanine bromide.

상기 황색 안료의 예로는, C.I. 안료 황색 139, C.I. 안료 황색 138, C.I. 안료 황색 150 등을 들 수 있다.Examples of the yellow pigments include C.I. Pigment yellow 139, C.I. Pigment yellow 138, C.I. Pigment yellow 150 and the like.

상기 착색제는 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 상기 착색제가 상기 범위로 포함될 경우, 원하는 색좌표에서 높은 휘도를 발현할 수 있으며, 내열성 및 내화학성이 우수한 컬러필터를 제조할 수 있다.The colorant may be included in an amount of 1 to 10% by weight, for example, 1 to 5% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the colorant is included in the above range, it is possible to produce a color filter capable of exhibiting a high luminance in a desired color coordinate, and having excellent heat resistance and chemical resistance.

(A) 바인더 수지(A) Binder resin

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 바인더 수지를 포함하며, 상기 바인더 수지는 카도계 바인더 수지, 아크릴계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition according to one embodiment includes a binder resin, and the binder resin may include a cadmium-based binder resin, an acrylic-based binder resin, or a combination thereof.

상기 카도계 바인더 수지는 하기 화학식 14로 표시될 수 있다.The cationic binder resin may be represented by the following chemical formula (14).

[화학식 14][Chemical Formula 14]

상기 화학식 9에서,In the above formula (9)

R⁵¹및 R⁵²은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 (메타)아크릴로일록시 알킬기이고,R ⁵¹ and R ⁵² are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted (meth) acryloyloxyalkyl group,

R⁵³ 및 R⁵⁴는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지C20 알킬기이고, R ⁵³ and R ⁵⁴ are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

Z¹은 단일결합, O, CO, SO₂, CR⁵⁵R⁵⁶, SiR⁵⁷R⁵⁸(여기서, R⁵⁵ 내지 R⁵⁸은 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기임) 또는 하기 화학식 14-1 내지 화학식14-11로 표시되는 연결기 중 어느 하나이고,Z ¹ is a single bond, O, CO, SO ₂ , CR ⁵⁵ R ⁵⁶ , SiR ⁵⁷ R ⁵⁸ (wherein R ⁵⁵ to R ⁵⁸ are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group) Is a linking group represented by the following formulas (14-1) to (14-11)

[화학식 14-1][Formula 14-1]

[화학식 14-2][Formula 14-2]

[화학식 14-3][Formula 14-3]

[화학식 14-4][Chemical Formula 14-4]

[화학식 14-5][Formula 14-5]

(상기 화학식 14-5에서,(In the above formula (14-5)

R^a는 수소 원자, 에틸기, C₂H₄Cl, C₂H₄OH, CH₂CH=CH₂ 또는 페닐기이다.)R ^a is a hydrogen atom, an ethyl group, C ₂ H ₄ Cl, C ₂ H ₄ OH, CH ₂ CH = CH ₂ or a phenyl group.

[화학식 14-6][Chemical Formula 14-6]

[화학식 14-7][Chemical Formula 14-7]

[화학식 14-8][Chemical Formula 14-8]

[화학식 14-9][Chemical Formula 14-9]

[화학식 14-10][Chemical Formula 14-10]

[화학식 14-11][Chemical Formula 14-11]

Z²는 산이무수물 잔기이고,Z ² is an acid anhydride residue,

n1 및 n2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이다.n1 and n2 are each independently an integer of 0 to 4;

상기 바인더 수지의 중량평균 분자량은 500 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 1,000 g/mol 내지 30,000 g/mol일 수 있다. 상기 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우 차광층 제조 시 잔사 없이 패턴 형성이 잘되며, 현상시 막두께의 손실이 없고, 양호한 패턴을 얻을 수 있다.The weight average molecular weight of the binder resin may be from 500 g / mol to 50,000 g / mol, such as from 1,000 g / mol to 30,000 g / mol. When the weight average molecular weight of the binder resin is within the above range, pattern formation is good without residue during the production of the light-shielding layer, no loss of film thickness during development, and good patterns can be obtained.

상기 바인더 수지는 양 말단 중 적어도 하나에 하기 화학식 15로 표시되는 관능기를 포함할 수 있다.The binder resin may include a functional group represented by the following formula (15) in at least one of the two terminals.

[화학식 15][Chemical Formula 15]

상기 화학식 15에서,In Formula 15,

Z³은 하기 화학식 15-1 내지 화학식 15-7로 표시될 수 있다.Z ³ may be represented by the following general formulas (15-1) to (15-7).

[화학식 15-1][Formula 15-1]

(상기 화학식 15-1에서, R^b 및 R^c는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 에스테르기 또는 에테르기이다.)(Wherein R ^b and R ^c are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, an ester group or an ether group).

[화학식 15-2][Formula 15-2]

[화학식 15-3][Formula 15-3]

[화학식 15-4][Chemical Formula 15-4]

[화학식 15-5][Formula 15-5]

(상기 화학식 15-5에서, R^d는 O, S, NH, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, C1 내지 C20 알킬아민기 또는 C2 내지 C20 알릴아민기이다.)(Wherein R ^d is O, S, NH, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, a C1 to C20 alkylamine group, or a C2 to C20 allylamine group).

[화학식 15-6][Formula 15-6]

[화학식 15-7][Formula 15-7]

상기 바인더 수지는 예컨대, 9,9-비스(4-옥시라닐메톡시페닐)플루오렌 등의 플루오렌 함유 화합물; 벤젠테트라카르복실산 디무수물, 나프탈렌테트라카르복실산 디무수물, 비페닐테트라카르복실산 디무수물, 벤조페논테트라카르복실산 디무수물, 피로멜리틱 디무수물, 사이클로부탄테트라카르복실산 디무수물, 페릴렌테트라카르복실산 디무수물, 테트라히드로푸란테트라카르복실산 디무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물 등의 무수물 화합물; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 등의 글리콜 화합물; 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 사이클로헥산올, 벤질알코올 등의 알코올 화합물; 프로필렌글리콜 메틸에틸아세테이트, N-메틸피롤리돈 등의 용매류 화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물; 및 테트라메틸암모늄 클로라이드, 테트라에틸암모늄 브로마이드, 벤질디에틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 벤질트리에틸암모늄 클로라이드 등의 아민 또는 암모늄염 화합물 중에서 둘 이상을 혼합하여 제조할 수 있다.Examples of the binder resin include fluorene-containing compounds such as 9,9-bis (4-oxiranylmethoxyphenyl) fluorene; Benzene tetracarboxylic dianhydride, benzene tetracarboxylic acid dianhydride, naphthalene tetracarboxylic dianhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, Anhydride compounds such as lyrenetetracarboxylic acid dianhydride, tetrahydrofuran tetracarboxylic acid dianhydride, and tetrahydrophthalic anhydride; Glycol compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, and polyethylene glycol; Alcohol compounds such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, cyclohexanol and benzyl alcohol; Propylene glycol methyl ethyl acetate, and N-methyl pyrrolidone; Phosphorus compounds such as triphenylphosphine; And an amine or an ammonium salt compound such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, benzyldiethylamine, triethylamine, tributylamine, benzyltriethylammonium chloride, or the like.

상기 아크릴계 바인더 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지일 수 있다.The acrylic binder resin is a copolymer of a first ethylenically unsaturated monomer and a second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with the first ethylenically unsaturated monomer, and may be a resin containing at least one acrylic repeating unit.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는　아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산또는 이들의 조합을 들 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer is an ethylenically unsaturated monomer containing at least one carboxyl group, and specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, or a combination thereof.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 바인더 수지 총량에 대하여 5 중량% 내지　50 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer may be included in an amount of 5% by weight to 50% by weight, for example, 10% by weight to 40% by weight based on the total amount of the acrylic binder resin.

상기 제2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The second ethylenically unsaturated monomer may be an aromatic vinyl compound such as styrene,? -Methylstyrene, vinyltoluene, or vinylbenzyl methyl ether; (Meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Unsaturated carboxylic acid ester compounds such as cyclohexyl (meth) acrylate and phenyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl ester compounds such as 2-aminoethyl (meth) acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; Carboxylic acid vinyl ester compounds such as vinyl acetate and vinyl benzoate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl (meth) acrylate; A vinyl cyanide compound such as (meth) acrylonitrile; Unsaturated amide compounds such as (meth) acrylamide; These may be used singly or in combination of two or more.

상기 아크릴계 바인더 수지의 구체적인 예로는 폴리벤질메타크릴레이트, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다. 　Specific examples of the acrylic binder resin include polybenzyl methacrylate, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / styrene copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, and (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, but not limited thereto, Or more may be used in combination.

상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 약 3,000 g/mol 내지 50,000g/mol, 예컨대약 5,000 g/mol 내지 40,000 g/mol 일 수 있다.　상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우, 기판과의 밀착성이 우수하고 물리적, 화학적 물성이 좋으며, 점도가 적절하다.The weight average molecular weight of the acrylic binder resin may be about 3,000 g / mol to about 50,000 g / mol, such as about 5,000 g / mol to about 40,000 g / mol. 　 When the weight average molecular weight of the acrylic binder resin is within the above range, it has good adhesion with the substrate, good physical and chemical properties, and good viscosity.

상기 바인더 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함되는 경우 우수한 감도, 현상성, 해상도 및 패턴의 직진성을 얻을 수 있다.The binder resin may be included in an amount of 1 wt% to 10 wt%, for example, 1 wt% to 5 wt% with respect to the total amount of the photosensitive resin composition. When the binder resin is contained within the above range, excellent sensitivity, developability, resolution, and straightness of the pattern can be obtained.

(B) (B) 광중합성Photopolymerization 단량체 Monomer

일 구현예에 따르는 감광성 수지 조성물은 광중합성 단량체를 포함하며, 상기 광중합성 단량체는 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.The photosensitive resin composition according to one embodiment includes a photopolymerizable monomer, and the photopolymerizable monomer may be a monofunctional or polyfunctional ester of (meth) acrylic acid having at least one ethylenically unsaturated double bond.

상기 광중합성 단량체는 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써,　패턴 형성 공정에서 노광시 충분한 중합을 일으킴으로써 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.Since the photopolymerizable monomer has the ethylenically unsaturated double bond, sufficient polymerization is caused during exposure in the pattern formation step, whereby a pattern having excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance can be formed.

상기 광중합성 단량체의 구체적인 예로는, 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트,　비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸 포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트　등을 들 수 있다. Specific examples of the photopolymerizable monomer include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol Acrylate such as di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, pentaerythritol di (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol di Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, bisphenol A epoxy (meth) acrylate, ethylene glycol There may be mentioned furnace methyl ether (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate, novolak epoxy (meth) acrylate, and the like.

상기 광중합성 단량체의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다. 　상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-101^®, 동 M-111^®, 동 M-114^®등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S^®, 동 TC-120S^®등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-158^®, V-2311^®등을 들 수 있다. 　상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-210^®, 동 M-240^®, 동 M-6200^®등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA^®, 동 HX-220^®, 동 R-604^®등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-260^®, V-312^®, V-335 HP^®등을 들 수 있다. 　상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-309^®, 동 M-400^®, 동 M-405^®, 동 M-450^®, 동 M-7100^®, 동 M-8030^®, 동 M-8060^®등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA^®, 동 DPCA-20^®, 동-30^®, 동-60^®, 동-120^®등; 오사카 유끼 가야꾸 고교(주)社의 V-295^®, 동-300^®, 동-360^®, 동-GPT^®, 동-3PA^®, 동-400^®등을 들 수 있다. 　상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.A commercially available product of the photopolymerizable monomer is exemplified as follows. The (meth) acrylic acid is one example of a polyfunctional ester, such as doah Gosei Kagaku Kogyo's (primary)社Aronix M-101 ^®, the same M-111 ^®, the same M-114 ^®; KAYARAD TC-110S ^® and TC-120S ^{® from} Nihon Kayaku Co., Ltd.; Osaka yukki the like Kagaku Kogyo (main)社of ^{V-158 ®, V-2311} ®. The (meth) transfer function of an example esters of acrylic acid are, doah Gosei Kagaku Kogyo (Note)社of Aronix M-210 ^®, copper or the like M-240 ^®, the same M-6200 ^®; KAYARAD HDDA ^® , HX-220 ^® and R-604 ^{® from} Nihon Kayaku Corporation; Osaka yukki the like Kagaku Kogyo Co., Ltd. of ^{社V-260 ®, V-} 312 ®, V-335 HP ®. Examples of the tri-functional ester of (meth) acrylic acid, doah Gosei Kagaku Kogyo (Note)社of Aronix M-309 ^®, the same M-400 ^®, the same M-405 ^®, the same M-450 ^®, Dong M -7100 ^® , copper M-8030 ^® , copper M-8060 ^® and the like; Nippon Kayaku (Note)社of KAYARAD TMPTA ^®, copper DPCA-20 ^®, ^® copper -30, -60 ^® copper, copper ^® -120 and the like; Osaka yukki Kayaku high (primary)社of V-295 ^®, copper ^® -300, -360 ^® copper, copper -GPT ^®, copper -3PA ^®, and the like copper -400 ^®. These products may be used alone or in combination of two or more.

상기 광중합성 단량체는 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.The photopolymerizable monomer may be treated with an acid anhydride to give better developing properties.

상기 광중합성 단량체는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광중합성 단량체가 상기 범위 내로 포함될 경우, 컬러필터 제조시 패턴 특성 및 현상성이 우수하다.The photopolymerizable monomer may be contained in an amount of 1 wt% to 15 wt%, for example, 1 wt% to 10 wt% with respect to the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerizable monomer is contained within the above range, pattern characteristics and developability are excellent in the production of a color filter.

(C) (C) 광중합Light curing 개시제Initiator

일 구현예에 따르는 감광성 수지 조성물은 광중합 개시제를 포함한다. 상기 광중합 개시제는 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 등을 사용할 수 있다.The photosensitive resin composition according to one embodiment includes a photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator may be an acetophenone-based compound, a benzophenone-based compound, a thioxanthone-based compound, a benzoin-based compound, a triazine-based compound, or an oxime-based compound.

상기 아세토페논계의 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone-based compound include 2,2'-diethoxyacetophenone, 2,2'-dibutoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloroacetophenone, dichloro-4-phenoxyacetophenone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropanone, p-butyldichloroacetophenone, 1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one.

상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논,4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone compound include benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, '-Bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, and 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone.

상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone compound include thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisobutyl Propyl thioxanthone and the like.

상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyl dimethyl ketal.

상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐 4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐 4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine-based compound include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl 4,6-bis (trichloromethyl) (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) Bis (trichloromethyl) -s-triazine, bis (trichloromethyl) -6-styryl-s-triazine, 2- (naphtho 1-yl) -4,6 -Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphtho-1-yl) -4,6- (Trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -s-triazine, and the like.

상기 옥심계 화합물의 예로는 O-아실옥심계 화합물, 2-(O-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(O-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 O-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트및 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트　등을 사용할 수 있다. Examples of the oxime compounds include O-acyloxime compounds, 2- (O-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione, 1- -1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone, O-ethoxycarbonyl-a-oxyamino-1-phenylpropan- Can be used. Specific examples of the O-acyloxime-based compound include 1,2-octanedione, 2-dimethylamino-2- (4-methylbenzyl) -1- (4-morpholin- 2-oxime-O-benzoate, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -octane-1,2-dione -1-one oxime-O-acetate and 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -butan-1-one oxime- O-acetate and the like can be used.

상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물 등을 사용할 수 있다.The photopolymerization initiator may be a carbazole compound, a diketone compound, a sulfonium borate compound, a diazo compound, an imidazole compound, or a nonimidazole compound in addition to the above compounds.

상기 광중합 개시제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 5 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 3 중량%로 포함될 수 있다.　광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 컬러필터 제조를 위한 패턴 형성 공정에서 노광시 광중합이 충분히 일어나게 되어 감도가 우수하며, 투과율이 개선된다.The photopolymerization initiator may be included in an amount of 0.1 wt% to 5 wt%, for example, 0.1 wt% to 3 wt% with respect to the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerization initiator is contained within the above range, photopolymerization occurs sufficiently during exposure in a pattern forming process for producing a color filter, which results in excellent sensitivity and improved transmittance.

(E) 용매(E) Solvent

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 용매를 포함하며, 상기 용매는 상기 바인더 수지, 상기 광중합성 단량체, 상기 광중합 개시제 및 상기 착색제와의 상용성을 가지되 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.The photosensitive resin composition according to one embodiment includes a solvent, and the solvent may be a material that has compatibility with the binder resin, the photopolymerizable monomer, the photopolymerization initiator, and the colorant but does not react.

상기 용매는 특별한 제한은 없으나, 구체적으로 예를 들면, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르, n-부틸 에테르, 디이소아밀 에테르, 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌 글리콜 메틸에테르, 에틸렌 글리콜 에틸에테르, 프로필렌 글리콜 메틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 메틸 락테이트, 에틸 락테이트 등의 락트산 알킬 에스테르류; 메틸 히드록시아세테이트, 에틸 히드록시아세테이트, 부틸 히드록시아세테이트 등의 히드록시아세트산 알킬 에스테르류; 메톡시메틸 아세테이트, 메톡시에틸 아세테이트, 메톡시부틸 아세테이트, 에톡시메틸 아세테이트, 에톡시에틸 아세테이트 등의 아세트산 알콕시알킬 에스테르류; 메틸 3-히드록시프로피오네이트, 에틸 3-히드록시프로피오네이트 등의 3-히드록시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 메틸 3-에톡시프로피오네이트 등의 3-알콕시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-히드록시프로피오네이트, 에틸 2-히드록시프로피오네이트, 프로필 2-히드록시프로피오네이트 등의 2-히드록시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-메톡시프로피오네이트, 에틸 2-메톡시프로피오네이트, 에틸 2-에톡시프로피오네이트, 메틸 2-에톡시프로피오네이트 등의 2-알콕시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트 등의 2-히드록시-2-메틸프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-메톡시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-에톡시-2-메틸프로피오네이트 등의 2-알콕시-2-메틸프로피온산 알킬 에스테르류; 2-히드록시에틸 프로피오네이트, 2-히드록시-2-메틸에틸 프로피오네이트, 히드록시에틸 아세테이트, 메틸 2-히드록시-3-메틸부타노에이트 등의 에스테르류; 또는 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류의 화합물이 있으며, 또한 N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐리드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ-부티로락톤, 에틸렌 카보네이트, 프로필렌 카보네이트, 페닐 셀로솔브 아세테이트 등이 있으며, 이들 단독으로 사용되거나 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The solvent is not particularly limited, but specific examples thereof include alcohols such as methanol and ethanol; Ethers such as dichloroethyl ether, n-butyl ether, diisobutyl ether, methylphenyl ether and tetrahydrofuran; Glycol ethers such as ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether and propylene glycol methyl ether; Cellosolve acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate and diethyl cellosolve acetate; Carbitols such as methylethylcarbitol, diethylcarbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether and diethylene glycol diethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl- ; Saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate and isobutyl acetate; Lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate; Hydroxyacetic acid alkyl esters such as methylhydroxyacetate, ethylhydroxyacetate and butylhydroxyacetate; Alkoxyalkyl esters such as methoxy methyl acetate, methoxy ethyl acetate, methoxy butyl acetate, ethoxy methyl acetate, and ethoxy ethyl acetate; 3-hydroxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-hydroxypropionate and ethyl 3-hydroxypropionate; 3-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-ethoxypropionate; 2-hydroxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate and propyl 2-hydroxypropionate; 2-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate and methyl 2-ethoxypropionate; 2-hydroxy-2-methylpropionic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate and ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate; 2-alkoxy-2-methylpropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxy-2-methylpropionate and ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate; Esters such as 2-hydroxyethyl propionate, 2-hydroxy-2-methyl ethyl propionate, hydroxy ethyl acetate and methyl 2-hydroxy-3-methyl butanoate; Or ethyl pyruvate. Examples of the ketone acid esters include N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N-methylformanilide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide , N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, Ethyl, diethyl oxalate, diethyl maleate,? -Butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, phenyl cellosolve acetate, etc. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 용매 중 혼화성(miscibility) 및 반응성을 고려한다면, 좋게는 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시에틸 프로피오네이트 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르 등의 디에틸렌 글리콜류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류가 사용될 수 있다. In view of the miscibility and reactivity of the solvent, glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and the like; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; Esters such as 2-hydroxyethyl propionate; Diethylene glycol such as diethylene glycol monomethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate can be used.

상기 용매는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 60 중량% 내지 90 중량%, 예컨대 65 중량% 내지 90 중량%로 포함될 수 있다. 상기 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 감광성 수지 조성물의 점도가 적절히 유지되어 제품에 적용할 경우 코팅 공정성이 우수하다.The solvent may be contained in a residual amount, for example, from 60% by weight to 90% by weight, for example, from 65% by weight to 90% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the solvent is included within the above range, the viscosity of the photosensitive resin composition is appropriately maintained and the coating processability is excellent when applied to a product.

(F) 기타 첨가제(F) Other additives

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 도포시 얼룩이나 반점을 방지하고, 레벨링 성능을 개선하기 위해, 또한 미현상에 의한 잔사의 생성을 방지하기 위하여, 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 비닐기 또는 (메타)아크릴옥시기를 포함하는 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 및 라디칼 중합 개시제로부터 선택되는 적어도 하나의 첨가제를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition according to one embodiment may contain at least one selected from the group consisting of malonic acid, malonic acid, and malonic acid to prevent spots and spots upon application, improve leveling performance, 3-amino-1,2-propanediol; A coupling agent comprising a vinyl group or (meth) acryloxy group; Leveling agents; Fluorine surfactants; And at least one additive selected from a radical polymerization initiator.

상기 첨가제는 원하는 물성에 따라 용이하게 조절될 수 있다.The additive can be easily adjusted according to desired properties.

상기 커플링제는 실란계 커플링제일 수 있고, 상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴 벤조산, γ-메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ-이소 시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. The coupling agent may be a silane coupling agent. Examples of the silane coupling agent include trimethoxysilylbenzoic acid,? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and these may be used singly or in combination of two or more Can be mixed and used.

상기 실란계 커플링제는 구체적으로 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부내지 1 중량부로 사용될 수 있다.The silane coupling agent may be used in an amount of 0.01 part by weight to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 불소계 계면활성제를 더 포함할 수 있다. 　The photosensitive resin composition may further contain a fluorine-based surfactant, if necessary.

상기 불소계 계면활성제의 예로는 DIC社의 F-482, F-484, F-478, F-554 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Examples of the fluorine-based surfactant include F-482, F-484, F-478 and F-554 manufactured by DIC Corporation, but are not limited thereto.

상기 불소계 계면활성제는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.01 중량% 내지 1 중량%, 예컨대 0.01 중량% 내지 0.8 중량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 상기 범위를 벗어나는 경우 현상 후 이물질이 발생하는 문제점이 생길 수 있어 바람직하지 못하다.It is more preferable that the fluorine-based surfactant is contained in an amount of 0.01 wt% to 1 wt%, for example, 0.01 wt% to 0.8 wt% with respect to the total amount of the photosensitive resin composition. If it is out of the above range, a foreign matter may be generated after development, which is not preferable.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 빛의 조사에 의해 경화되고 알칼리성 수용액으로 현상 가능한 알칼리 현상형이다.　상기 감광성 수지 조성물을 기판 위에 라미네이션시킨 다음 컬러필터에 필요한 패턴을 형성하도록 활성선을 조사하면 광에 의해 반응하게 되는데, 반응한 부위는 반응하지 않은 부위에 비해 용매에 대한 용해도가 급격히 떨어져 미반응 부위만 선택적으로 용해 가능하게 된다. 이와 같이 비노광 부위를 제거하는 용액을 현상액이라 하는데, 이러한 현상액에는 유기 용매형과 알칼리 현상형의 2가지 타입이 있다. 　이들 가운데 유기 용매형은 대기오염을 유발하고 인체에 유해하므로 환경 면에서 알칼리 현상형을 사용하는 것이 좋다. 　일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 알칼리 현상형　현상액을 사용할 수 있으므로, 환경 면에서 유용하게 사용할 수 있다.The photosensitive resin composition according to one embodiment is an alkali developing type which is cured by irradiation of light and can be developed into an alkaline aqueous solution. When the photosensitive resin composition is laminated on a substrate and irradiated with an active ray to form a pattern necessary for the color filter, the photosensitive resin composition is reacted with light. The reacted site is less soluble in the solvent than the unreacted site, Are selectively soluble. The solution for removing the unexposed portions is called a developer, and there are two types of such developers, organic solvent type and alkali developing type. Among them, organic solvent type causes air pollution and is harmful to human body, so it is better to use alkali developing type in environmental aspect. The photosensitive resin composition according to one embodiment can be used in an environmentally friendly manner since an alkali developing type developer can be used.

다른 일 구현예는 전술한 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공한다. 상기 감광성 수지막은 1 ㎛ 내지 5 ㎛, 예컨대 2 ㎛ 내지 4 ㎛의 두께를 가질 수 있다.Another embodiment provides a photosensitive resin film produced using the above-described photosensitive resin composition. The photosensitive resin film may have a thickness of 1 占 퐉 to 5 占 퐉, for example, 2 占 퐉 to 4 占 퐉.

또 다른 일 구현예는 전술한 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다.Another embodiment provides a color filter comprising the above-described photosensitive resin film.

상기 컬러필터는 통상의 방법에 따라 제조될 수 있으며, 구체적으로는 전술한 감광성 수지 조성물을　글래스 위에 스핀 도포, 슬릿 도포 등의 적당한 방법을 사용하여 1.0 ㎛ 내지 5.0 ㎛의 두께로 도포한다. 도포 후에는 컬러필터에 필요한 패턴을 형성하도록 자외선 광을 조사한 다음, 도포층을 알칼리 현상액으로 처리하면 도포층의 미조사 부분이 용해되고 이미지 컬러필터에 필요한 패턴이 형성된다.　이러한 과정을 필요한 R, G, B 색의 수에 따라 반복수행함으로써, 원하는 패턴을 갖는 컬러필터를 수득할 수 있다. 또한 상기 과정에서, 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 다시 가열하거나 활성선 조사 등에 의해 경화시킴으로써 내크랙성, 내용제성 등을 더욱 향상시킬 수 있다.The color filter may be manufactured according to a conventional method. Specifically, the photosensitive resin composition described above is applied on a glass to a thickness of 1.0 탆 to 5.0 탆 by a suitable method such as spin coating or slit coating. After the application, ultraviolet light is irradiated to form a pattern necessary for the color filter, and then the coated layer is treated with an alkali developing solution to dissolve the unexposed portions of the coating layer and form a pattern necessary for the image color filter. By repeating this process according to the required number of R, G, and B colors, a color filter having a desired pattern can be obtained. In addition, in the above process, the image pattern obtained by development can be further heated, cured by actinic ray irradiation or the like to further improve crack resistance, solvent resistance and the like.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다.　다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. However, the following examples are only a preferred embodiment of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

(화합물 합성)(Compound synthesis)

합성예Synthetic example A-1: 화학식 21-1의 합성 A-1: Synthesis of Formula 21-1

알려진 합성법을 사용하여 말단에 하이드록시기를 가지는 중간체 (a)를 합성한다. 중간체 (a)에 트리에틸아민 (1.1 당량)과 메타크릴산 무수물 (1.1 당량)을 가하여 메타크릴레이트를 가지는 화합물 (b)를 얻는다. 얻어진 화합물 (b)에 1 당량의 치환된 티오펜 화합물 (c)와 4당량의 염화 포스포릴을 가하여 화합물 (d)를 합성한다. 염소염 형태의 화합물 (d)를 리튬 비스트리플루오르메탄설폰이미드와 반응(이온 교환)시켜, 하기 화학식 21-1로 표시되는 화합물을 합성하였다.An intermediate (a) having a hydroxy group at the terminal is synthesized using a known synthesis method. Triethylamine (1.1 eq.) And methacrylic anhydride (1.1 eq.) Are added to the intermediate (a) to obtain a compound (b) having methacrylate. Compound (d) is synthesized by adding 1 equivalent of a substituted thiophene compound (c) and 4 equivalents of phosphorus chloride to the resulting compound (b). Compound (d) in the form of a chlorine salt was reacted (ion-exchanged) with lithium bistrifluoromethane sulfonimide to synthesize a compound represented by the following formula (21-1).

[화학식 21-1][Formula 21-1]

[화학식 21-1로 표시되는 화합물 내 양이온의 NMR 데이터][NMR data of the cations in the compound represented by the formula (21-1)

¹H NMR(300MHz, CDCl₃): δ = 7.59-7.02 (20H), 6.92 (2H), 6.09 (1H), 5.95 (2H), 5.59 (1H), 4.21 (2H), 4.10 (2H), 3.75 (4H), 2.03 (12H), 1.95 (3H), 1.40 (3H), 1.24 (3H) ^{_{1 H NMR (300MHz, CDCl 3}} ): δ = 7.59-7.02 (20H), 6.92 (2H), 6.09 (1H), 5.95 (2H), 5.59 (1H), 4.21 (2H), 4.10 (2H), 3.75 (4H), 2.03 (12H), 1.95 (3H), 1.40 (3H), 1.24

[화학식 21-1로 표시되는 화합물 내 양이온의 LC/MS 데이터][LC / MS data of cations in the compound represented by the formula (21-1)] [

UPLC/TQMS API+ mode, [M]+ = 847.52UPLC / TQMS API + mode, [M] + = 847.52

합성예Synthetic example A-2: 화학식 22-1의 합성 A-2: Synthesis of formula (22-1)

상기 합성예 A-1에서 치환기인 2,6-디메틸아닐린 내 메틸기 대신 플루오로기를 사용한 것을 제외하고는 합성예 A-1과 동일한 방법으로 합성하여, 하기 화학식 22-1로 표시되는 화합물을 합성하였다.Synthesis Example A-1 was synthesized in the same manner as in Synthesis Example A-1 except that a fluoro group was used in place of the methyl group in the substituent group 2,6-dimethylaniline to synthesize a compound represented by the following Formula 22-1 .

[화학식 22-1][Formula 22-1]

[화학식 22-1로 표시되는 화합물 내 양이온의 LC/MS 데이터][LC / MS data of cations in the compound represented by the formula (22-1)

UPLC/TQMS API+ mode, [M]+ = 863.38UPLC / TQMS API + mode, [M] + = 863.38

합성예Synthetic example A-3: 화학식 25-1의 합성 A-3: Synthesis of Compound (25-1)

알려진 합성법을 사용하여 말단에 하이드록시기를 가지는 중간체 (a')를 합성한다. 중간체 (a')에 트리에틸아민 (1.1 당량)과 메타크릴산 무수물 (1.1 당량)을 가하여 메타크릴레이트를 가지는 화합물 (c')를 얻는다. 얻어진 화합물 (c')에 1 당량의 치환된 벤조페논 화합물 (b')와 4당량의 염화 포스포릴을 사용하여 화합물 (d')을 합성한다. 염소염 형태의 화합물 (d')을 리튬 비스트리플루오르메탄설폰이미드와 반응(이온 교환)시켜, 하기 화학식 25-1로 표시되는 화합물을 합성하였다.An intermediate (a ') having a hydroxy group at the terminal is synthesized using a known synthetic method. Triethylamine (1.1 eq.) And methacrylic anhydride (1.1 eq.) Are added to the intermediate (a ') to obtain a compound (c') having methacrylate. Compound (d ') is synthesized by using 1 equivalent of a substituted benzophenone compound (b') and 4 equivalent of phosphorous chloride to the obtained compound (c '). Compound (d ') in the form of a chlorine salt was reacted (ion-exchanged) with lithium bistrifluoromethane sulfonimide to synthesize a compound represented by the following Chemical Formula 25-1.

[화학식 25-1][Formula 25-1]

[화학식 25-1로 표시되는 화합물 내 양이온의 LC/MS 데이터][LC / MS data of cations in the compound represented by Formula 25-1]

UPLC/TQMS API+ mode, [M]+ = 847.63UPLC / TQMS API + mode, [M] + = 847.63

합성예Synthetic example A-4: 화학식 26-1의 합성 A-4: Synthesis of Compound (26-1)

상기 합성예 A-3에서 치환기인 2,6-디메틸아닐린 내 메틸기 대신 플루오로기를 사용한 것을 제외하고는 합성예 A-3과 동일한 방법으로 합성하여, 하기 화학식 26-1로 표시되는 화합물을 합성하였다.Synthesis Example A-3 was synthesized in the same manner as in Synthesis Example A-3 except that a fluoro group was used in place of the methyl group in the substituent group 2,6-dimethylaniline to synthesize a compound represented by the following Formula 26-1 .

[화학식 26-1][Formula 26-1]

[화학식 26-1로 표시되는 화합물 내 양이온의 LC/MS 데이터][LC / MS data of cations in the compound represented by Formula 26-1]

UPLC/TQMS API+ mode, [M]+ = 863.47UPLC / TQMS API + mode, [M] + = 863.47

합성예Synthetic example A-5: 화학식 27-1의 합성 A-5: Synthesis of Compound (27-1)

상기 합성예 A-3에서 치환기인 N-에틸-2,6-디메틸아닐린 대신 N-이소프로필아닐린을 사용한 것을 제외하고는 합성예 A-3과 동일한 방법으로 합성하여, 하기 화학식 27-1로 표시되는 화합물을 합성하였다.Synthesis Example A-3 was synthesized in the same manner as in Synthesis Example A-3 except that N-isopropylaniline was used in place of N-ethyl-2,6-dimethylaniline as a substituent in the above Synthesis Example A-3, Was synthesized.

[화학식 27-1][Formula 27-1]

[화학식 27-1로 표시되는 화합물 내 양이온의 LC/MS 데이터][LC / MS data of cations in the compound represented by the formula (27-1)

UPLC/TQMS API+ mode, [M]+ = 819.50UPLC / TQMS API + mode, [M] + = 819.50

합성예Synthetic example A-6: 화학식 33-1의 합성 A-6: Synthesis of formula (33-1)

알려진 합성법을 사용하여 말단에 하이드록시기를 가지는 중간체 (a'')를 합성한다. 중간체 (a'')에 트리에틸아민 (2.2 당량)과 메타크릴산 무수물 (2.2 당량)을 가하여 메타크릴레이트를 가지는 화합물 (b'')를 얻는다. 얻어진 화합물 (b'')에 1 당량의 치환된 티오펜 화합물 (c)와 4당량의 염화 포스포릴을 가하여 화합물 (d'')를 합성한다. 염소염 형태의 화합물 (d'')를 리튬 비스트리플루오르메탄설폰이미드와 반응(이온 교환)시켜, 하기 화학식 33-1로 표시되는 화합물을 합성하였다.An intermediate (a ") having a hydroxy group at the terminal is synthesized using a known synthetic method. Triethylamine (2.2 equivalents) and methacrylic anhydride (2.2 equivalents) are added to the intermediate (a ") to obtain a compound (b") having methacrylate. Compound (d ") is synthesized by adding 1 equivalent of a substituted thiophene compound (c) and 4 equivalents of phosphorus chloride to the resulting compound (b"). Compound (d '') in the form of a chlorine salt was reacted (ion-exchanged) with lithium bistrifluoromethane sulfonimide to synthesize a compound represented by the following formula (33-1).

[화학식 33-1](33-1)

[화학식 33-1로 표시되는 화합물 내 양이온의 LC/MS 데이터][LC / MS data of the cations in the compound represented by the formula (33-1)

UPLC/TQMS API+ mode, [M]+ = 931.58UPLC / TQMS API + mode, [M] + = 931.58

합성예Synthetic example A-7: 화학식 34-1의 합성 A-7: Synthesis of Compound (34-1)

상기 합성예 A-6에서 치환기인 2,6-디메틸아닐린 내 메틸기 대신 플루오로기를 사용한 것을 제외하고는 합성예 A-6과 동일한 방법으로 합성하여, 하기 화학식 34-1로 표시되는 화합물을 합성하였다.Synthesis Example A-6 was synthesized in the same manner as in Synthesis Example A-6 except that a fluoro group was used in place of the methyl group in the substituent group 2,6-dimethylaniline to synthesize a compound represented by the following Formula 34-1 .

[화학식 34-1](34-1)

[화학식 34-1로 표시되는 화합물 내 양이온의 LC/MS 데이터][LC / MS data of cations in the compound represented by the formula (34-1)

UPLC/TQMS API+ mode, [M]+ = 947.30UPLC / TQMS API + mode, [M] + = 947.30

합성예Synthetic example A-8: 화학식 29-1의 합성 A-8: Synthesis of Compound (29-1)

알려진 합성법을 사용하여 말단에 하이드록시기를 가지는 중간체 (a''')를 합성한다. 중간체 (a''')에 트리에틸아민 (1.1 당량)과 메타크릴산 무수물 (1.1 당량)을 가하여 메타크릴레이트를 가지는 화합물 (c''')를 얻는다. 얻어진 화합물 (c''')에 1 당량의 치환된 벤조페논 화합물 (b')와 4당량의 염화 포스포릴을 사용하여 화합물 (d''')를 합성한다. 염소염 형태의 화합물 (d''')를 리튬 비스트리플루오르메탄설폰이미드와 반응(이온 교환)시켜, 하기 화학식 29-1로 표시되는 화합물을 합성하였다.An intermediate (a '' ') having a hydroxy group at the terminal is synthesized using a known synthetic method. Triethylamine (1.1 eq.) And methacrylic anhydride (1.1 eq.) Are added to the intermediate (a '' ') to obtain a compound (c' '') having methacrylate. Compound (d '' ') is synthesized by using 1 equivalent of substituted benzophenone compound (b') and 4 equivalents of phosphorous chloride to the obtained compound (c '' '). Compound (d '' ') in the form of a chlorine salt was reacted (ion-exchanged) with lithium bistrifluoromethane sulfonimide to synthesize a compound represented by the following Chemical Formula 29-1.

[화학식 29-1][Chemical Formula 29-1]

[화학식 29-1로 표시되는 화합물 내 양이온의 LC/MS 데이터][LC / MS data of the cations in the compound represented by the formula (29-1)

UPLC/TQMS API+ mode, [M]+ = 923.45UPLC / TQMS API + mode, [M] + = 923.45

합성예Synthetic example A-9: 화학식 30-1의 합성 A-9: Synthesis of Compound (30-1)

상기 합성예 A-8에서 치환기인 2,6-디메틸아닐린 내 메틸기 대신 플루오로기를 사용한 것을 제외하고는 합성예 A-8과 동일한 방법으로 합성하여, 하기 화학식 30-1로 표시되는 화합물을 합성하였다.Synthesis Example A-8 was synthesized in the same manner as in Synthesis Example A-8 except that a fluoro group was used in place of the methyl group in the substituent group 2,6-dimethylaniline to synthesize a compound represented by the following Formula 30-1 .

[화학식 30-1](30-1)

[화학식 30-1로 표시되는 화합물 내 양이온의 LC/MS 데이터][LC / MS data of cations in the compound represented by formula (30-1)

UPLC/TQMS API+ mode, [M]+ = 939.49UPLC / TQMS API + mode, [M] + = 939.49

합성예Synthetic example A-10: 화학식 31-1의 합성 A-10: Synthesis of (31-1)

상기 합성예 A-8에서 치환기인 N-에틸-2,6-디메틸아닐린 대신 N-이소프로필아닐린을 사용한 것을 제외하고는 합성예 A-8과 동일한 방법으로 합성하여, 하기 화학식 31-1로 표시되는 화합물을 합성하였다.Was synthesized in the same manner as in Synthesis Example A-8 except that N-isopropylaniline was used in place of the substituent N-ethyl-2,6-dimethyl aniline in Synthesis Example A-8 to obtain Was synthesized.

[화학식 31-1](31-1)

[화학식 31-1로 표시되는 화합물 내 양이온의 LC/MS 데이터][LC / MS data of cations in the compound represented by the formula (31-1)] [

UPLC/TQMS API+ mode, [M]+ = 895.53UPLC / TQMS API + mode, [M] + = 895.53

(( 폴리머Polymer 합성) synthesis)

합성예Synthetic example B-1 B-1

교반자를 넣은 100ml 비커에 개시제인 V-601(Wako 社)을 1.5g 첨가한 뒤, 모노머의 총합 30g을 기준으로 하여 합성예 A-1의 화학식 21-1로 표시되는 염료 화합물 40 중량%, 메타크릴산(대정화금製) 15 중량%, 트리사이클로데칸 메타크릴레이트 30 중량% 및 메틸 메타크릴레이트15 중량%를 차례로 첨가하였다. 용매인 Cyclohexanone을 72g 추가로 첨가하고, 상기 염료 화합물 및 개시제가 완전히 녹을 때까지 30분간 교반하여 모노머 용액을 제조하였다. 중합반응을 진행하기 위해 냉각기와 질소관이 부착된 250ml 3구 유리 반응기에 질소 기류 하에서 상기 용매 54g을 투입한 뒤 85℃까지 승온하여 질소 버블링을 하였다. 이 후 상기 제조된 모노머 용액을 2시간 동안 반응기에 적하 투입하였다. 적하 완료 후 동일 온도에서 10시간 동안 반응을 진행한 뒤, 온도를 상온으로 낮추고 반응을 종결하여 폴리머를 수득하였다.1.5 g of V-601 (Wako) as an initiator was added to a 100 ml beaker equipped with a stirrer, and then 40% by weight of a dye compound represented by the formula (21-1) in Synthesis Example A-1, 15% by weight of acrylic acid (made by purified gold), 30% by weight of tricyclodecane methacrylate and 15% by weight of methyl methacrylate were added in this order. 72 g of Cyclohexanone as a solvent was further added and stirred for 30 minutes until the dye compound and the initiator were completely dissolved to prepare a monomer solution. To proceed the polymerization reaction, 54 g of the above solvent was added to a 250 ml three-necked glass reactor equipped with a condenser and a nitrogen tube, and the temperature was raised to 85 ° C by nitrogen bubbling. The monomer solution prepared above was then added dropwise to the reactor for 2 hours. After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out at the same temperature for 10 hours, the temperature was lowered to room temperature, and the reaction was terminated to obtain a polymer.

폴리스타이렌 환산 중량평균분자량(Mw) = 9,000 g/molPolystyrene equivalent weight average molecular weight (Mw) = 9,000 g / mol

합성예Synthetic example B-2 B-2

상기 화학식 21-1의 화합물 대신 상기 합성예 A-6의 화학식 33-1의 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 B-1과 동일하게 하여, 폴리머를 수득하였다.A polymer was obtained in the same manner as in Synthesis Example B-1, except that the compound of Formula 33-1 of Synthesis Example A-6 was used instead of the compound of Formula 21-1.

폴리스타이렌 환산 중량평균분자량(Mw) = 9,100 g/molPolystyrene equivalent weight average molecular weight (Mw) = 9,100 g / mol

합성예Synthetic example B-3 B-3

상기 화학식 21-1의 화합물 대신 상기 합성예 A-3의 화학식 25-1의 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 B-1과 동일하게 하여, 폴리머를 수득하였다.A polymer was obtained in the same manner as in Synthesis Example B-1, except that the compound of Formula 25-1 of Synthesis Example A-3 was used instead of the compound of Formula 21-1.

폴리스타이렌 환산 중량평균분자량(Mw) = 9,200 g/molPolystyrene equivalent weight average molecular weight (Mw) = 9,200 g / mol

합성예Synthetic example B-4 B-4

상기 화학식 21-1의 화합물 대신 상기 합성예 A-8의 화학식 29-1의 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 B-1과 동일하게 하여, 폴리머를 수득하였다.A polymer was obtained in the same manner as in Synthesis Example B-1, except that the compound of Formula 29-1 in Synthesis Example A-8 was used instead of the compound of Formula 21-1.

폴리스타이렌 환산 중량평균분자량(Mw) = 9,500 g/molPolystyrene equivalent weight average molecular weight (Mw) = 9,500 g / mol

(감광성 수지 조성물 제조)(Preparation of photosensitive resin composition)

실시예Example 1 내지 1 to 실시예Example 4 및 4 and 비교예Comparative Example 1 One

하기 표 1에 기재된 조성으로, 용매에 광중합 개시제를 넣고 1시간 동안 상온에서 교반하여 용해시켰다. 이어서, 바인더 수지 및 광중합성 단량체를 첨가하고, 1시간 동안 상온에서 교반하였다.　여기에, 기타 첨가제를 첨가하고 1시간 동안 상온에서 교반하였다. 여기에, 상기 합성예 B-1 내지 합성예 B-6에서 제조한 폴리머(염료)를 첨가하고 2시간 동안 상온에서 교반한 후, 상기 용액에 대하여 3회에 걸친 여과를 행하여 불순물을 제거하여 실시예 1 내지 실시예 4 및 비교예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다.　상기 감광성 수지 조성물의 제조시 사용된 성분은 아래와 같다.A photopolymerization initiator was added to the solvent in the composition shown in Table 1 below, and the mixture was stirred and dissolved at room temperature for 1 hour. Subsequently, a binder resin and a photopolymerizable monomer were added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. To this, other additives were added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The polymer (dye) prepared in Synthesis Example B-1 to Synthesis Example B-6 was added and stirred for 2 hours at room temperature, and the solution was filtered three times to remove impurities The photosensitive resin compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were prepared. The components used in the production of the photosensitive resin composition are as follows.

(A) 바인더 수지(A) Binder resin

(A-1) 아크릴계 바인더 수지(CF-1106, Wako社) (A-1) Acrylic binder resin (CF-1106, Wako)

(A-2) 카도계 바인더 수지(V259ME, NIPPON STEEL CHEMICAL社)(A-2) Cadmium binder resin (V259ME, manufactured by NIPPON STEEL CHEMICAL)

(B) (B) 광중합성Photopolymerization 단량체 Monomer

(B-1) DPHA(Nippon KAYAKU)(B-1) DPHA (Nippon Kayaku)

(B-2) VISCOAT 1000(Osaka Organic Chemical Industry Ltd.)(B-2) VISCOAT 1000 (Osaka Organic Chemical Industry Ltd.)

(C) (C) 광중합Light curing 개시제Initiator

(C-1) SPI-03(삼양社)(C-1) SPI-03 (Samyang Corporation)

(C-2) OXE01(BASF社)(C-2) OXE01 (BASF)

(D) 착색제(D) Colorant

(D-1) 합성예 B-1에 따른 폴리머(D-1) The polymer according to Synthesis Example B-1

(D-2) 합성예 B-2에 따른 폴리머(D-2) The polymer according to Synthesis Example B-2

(D-3) 합성예 B-3에 따른 폴리머(D-3) The polymer according to Synthesis Example B-3

(D-4) 합성예 B-4에 따른 폴리머(D-4) The polymer according to Synthesis Example B-4

(D-5) 하기 화학식 X-1로 표시되는 염료 (Brilliant Blue, Win-chemical社)(D-5) A dye represented by the following formula (X-1) (Brilliant Blue, Win-chemical)

[화학식 X-1][Chemical Formula X-1]

(E) 용매(E) Solvent

프로필렌글리콜모노메틸에틸아세테이트(PGMEA, sigma-aldrich社)Propylene glycol monomethyl ethyl acetate (PGMEA, Sigma-aldrich)

(G) 기타 첨가제(G) Other additives

불소계 계면활성제(F-554, DIC社)Fluorine-based surfactant (F-554, DIC)

(단위: 중량%)(Unit: wt%) 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 비교예 1Comparative Example 1 (A) 바인더 수지(A) Binder resin (A-1)(A-1) 1.001.00 1.001.00 1.001.00 1.001.00 1.001.00 (A-2)(A-2) 2.502.50 2.502.50 2.502.50 2.502.50 2.502.50 (B) 광중합성 단량체(B) a photopolymerizable monomer (B-1)(B-1) 4.804.80 4.804.80 4.804.80 4.804.80 4.804.80 (B-2)(B-2) 1.801.80 1.801.80 1.801.80 1.801.80 1.801.80 (C) 광중합 개시제(C) a photopolymerization initiator (C-1)(C-1) 0.350.35 0.350.35 0.350.35 0.350.35 0.350.35 (C-2)(C-2) 0.650.65 0.650.65 0.650.65 0.650.65 0.650.65 (D) 착색제(D) Colorant (D-1)(D-1) 3.303.30 -- -- -- -- (D-2)(D-2) -- 3.303.30 -- -- -- (D-3)(D-3) -- -- 3.303.30 -- -- (D-4)(D-4) -- -- -- 3.303.30 -- (D-5)(D-5) -- -- -- -- 3.303.30 (E) 용매(E) Solvent 85.5085.50 85.5085.50 85.5085.50 85.5085.50 85.5085.50 (F) 기타 첨가제(F) Other additives 0.100.10 0.100.10 0.100.10 0.100.10 0.100.10 TotalTotal 100.00100.00 100.00100.00 100.00100.00 100.00100.00 100.00100.00

평가evaluation

컬러필터 시편 제조Color filter specimen manufacturing

스핀-코터(spin-coater, KDNS社의 K-Spin8)를 이용하여, 투명한 사각 유리기판(bare glass)에 실시예 1 내지 실시예 4 및 비교예 1의 감광성 수지 조성물을 각각 3 ㎛의 두께로 도포하였다. 　이후 가열판(hot-plate)을 이용하여 90℃에서 120초 동안 베이킹(baking)을 하고, 노광기(Nikon社의 I10C)를 이용하여 50 mJ의 출력(power)으로 노광한 후, 230℃의 열풍순환식 오븐(convection oven)에서 30분 동안 포스트 베이킹(Post baking)하여 시편을 제조하였다.　The photosensitive resin compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were laminated on a transparent square glass substrate by using a spin-coater (K-Spin 8, KDNS Co., Ltd.) Respectively. Thereafter, baking was performed at 90 ° C for 120 seconds using a hot plate, exposure was performed at an output power of 50 mJ using an exposure machine (I10C, manufactured by Nikon), and then hot air circulation at 230 ° C The specimens were prepared by post baking in a convection oven for 30 minutes.

평가 1: 휘도 특성 평가Evaluation 1: Evaluation of luminance characteristic

상기 실시예 1 내지 실시예 4 및 비교예 1에서 제조된 컬러필터 시편의 색특성을 230℃의 열풍순환식 오븐(convection oven)에서 30분 동안 추가로 베이킹(baking)하여 베이킹 전/후의 색 변화를 분광광도계(Otsuka Electronics사의 MCPD3000)를 사용하여 측정하였고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The color characteristics of the color filter specimens prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were further baked in a convection oven at 230 DEG C for 30 minutes to determine the color change before and after baking Was measured using a spectrophotometer (MCPD3000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.), and the results are shown in Table 2 below.

평가 2: 내열성 평가Evaluation 2: Evaluation of heat resistance

상기 실시예 1 내지 실시예 4 및 비교예 1에서 제조된 컬러필터 시편의 패턴을 230℃의 오븐(oven)에서 40 분간 열처리하여 내열성을 평가하였다. 내열성은 열처리 전후의 컬러필터 패턴의 색 변화로 평가하였으며, 색 변화는 분광광도계(Otsuka Electronics사의 MCPD3000)를 사용하여 측정하였고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The patterns of the color filter specimens prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were subjected to heat treatment in an oven at 230 DEG C for 40 minutes to evaluate heat resistance. The heat resistance was evaluated by the color change of the color filter pattern before and after the heat treatment, and the color change was measured using a spectrophotometer (MCPD3000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.). The results are shown in Table 2 below.

평가 3: 내화학성 평가Evaluation 3: Chemical resistance evaluation

상기 실시예 1 내지 실시예 4 및 비교예 1에서 제조된 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조한 컬러필터 시편을 패턴을 80℃의 NMP용액에 5분간 침지하여 PI용액 내화학성을 평가하였다. 내화학성은 NMP용액의 침지 전후의 컬러필터 패턴의 색 변화 및 박리액 침지 후의 컬러필터 패턴의 박리 여부로 평가하였다. 컬러필터 패턴의 색특성 변화는 분광광도계(Otsuka Electronics社의 MCPD3000)를 사용하여 측정하였고, 컬러필터 패턴의 박리 여부는 광학현미경으로 평가하였다. 평가 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The color filter specimens prepared using the photosensitive resin compositions prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were immersed in a NMP solution at 80 ° C for 5 minutes to evaluate the chemical properties in the PI solution. The chemical resistance was evaluated by the color change of the color filter pattern before and after the immersion of the NMP solution and the peeling of the color filter pattern after immersing the peeling liquid. The change in the color characteristics of the color filter pattern was measured using a spectrophotometer (MCPD3000 from Otsuka Electronics Co., Ltd.), and the peeling of the color filter pattern was evaluated with an optical microscope. The evaluation results are shown in Table 2 below.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 비교예 1Comparative Example 1 포스트 베이킹 후 색차Post-baking color difference Δ Eab*Delta Eab * 2.052.05 1.851.85 2.322.32 2.122.12 5.355.35 포스트 베이킹 후 보정 휘도Corrected brightness after post-baking %% 104.0104.0 104.2104.2 103.8103.8 103.9103.9 100.0100.0 내열성(230℃, 40분)Heat resistance (230 ℃, 40 minutes) Δ Eab*Delta Eab * 2.322.32 2.092.09 2.052.05 2.422.42 7.217.21 내화학성(80℃, 5분)Chemical resistance (80 ° C, 5 minutes) Δ Eab*Delta Eab * 2.452.45 2.022.02 2.322.32 2.382.38 6.376.37

상기 표 2를 통하여, 합성예 B-1 내지 합성예 B-4의 폴리머(염료)를 포함하는 실시예 1 내지 실시예 4의 감광성 수지 조성물은 화학식 X-1로 표시되는 염료를 포함하는 비교예 1과 비교하여, 휘도 등의 색특성 뿐만 아니라, 내열성 및 내화학성도 우수함을 확인할 수 있다.The photosensitive resin compositions of Examples 1 to 4 containing the polymer (dye) of Synthesis Examples B-1 to B-4, respectively, based on the above Table 2, 1, it is confirmed that not only the color characteristics such as luminance but also the heat resistance and the chemical resistance are excellent.

이상 본 발명에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.While the present invention has been described with reference to the exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It is natural to belong.

Claims

(A) 바인더 수지;
(B) 광중합성 단량체;
(C) 광중합 개시제;
(D) 착색제 및
(E) 용매를 포함하며,
상기 착색제는 '하기 화학식 1로 표시되는 양이온 및 음이온으로 구성된 화합물', '상기 화합물과 다른 단량체가 공중합 반응하여 형성된 폴리머' 또는 '이들의 조합'을 포함하는 감광성 수지 조성물:
[화학식 1]

상기 화학식 1에서,
R¹, R², R⁶ 및 R⁷은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기 또는 하기 화학식 2로 표시되는 치환기이고,
단, R¹, R², R⁶ 및 R⁷ 중 적어도 하나는 반드시 하기 화학식 2로 표시되는 치환기이고,
R³ 및 R⁴는 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R⁵는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
X는 -O-, -S- 또는-NR⁸-(R⁸은 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기)이고,
m 및 n은 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고,
[화학식 2]

상기 화학식 2에서,
L¹내지 L³은 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이고,
R⁹는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이다.
(A) a binder resin;
(B) a photopolymerizable monomer;
(C) a photopolymerization initiator;
(D) a colorant and
(E) a solvent,
The colorant may be a compound comprising a cation and an anion represented by the following formula (1), a polymer formed by copolymerization of the compound and another monomer, or a combination thereof:
[Chemical Formula 1]

In Formula 1,
R ¹ , R ² , R ⁶ and R ⁷ are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C 1 to C 20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 6 to C 20 aryl group, a substituted or unsubstituted C 2 to C 20 heteroaryl group Or a substituent represented by the following formula (2)
Provided that at least one of R ¹ , R ² , R ⁶ and R ⁷ is a substituent represented by the following formula (2)
R ³ and R ⁴ are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
R < ⁵ > is a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group,
X is -O-, -S- or -NR ⁸ - (R ⁸ is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group)
m and n are each independently an integer of 0 to 5,
(2)

In Formula 2,
L ¹ to L ³ are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 arylene group,
R ⁹ is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group.

제1항에 있어서,
상기 X는 -O- 또는 -S-인 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein X is -O- or -S-.

제1항에 있어서,
상기 R¹, R², R⁶ 및 R⁷ 중 적어도 둘은 반드시 상기 화학식 2로 표시되는 치환기인 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein at least two of R ¹ , R ² , R ⁶ and R ⁷ are necessarily substituents represented by the above-mentioned general formula (2).

제1항에 있어서,
상기 R¹, R², R⁶ 및 R⁷ 중 적어도 셋은 반드시 상기 화학식 2로 표시되는 치환기인 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein at least three of R ¹ , R ² , R ⁶ and R ⁷ are necessarily substituents represented by the above formula (2).

제1항에 있어서,
상기 화학식 2는 하기 화학식 2-1 또는 화학식 2-2로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 2-1]

[화학식 2-2]

상기 화학식 2-1 및 화학식 2-2에서,
L⁴ 내지 L⁶는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,
R⁹는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이다.
The method according to claim 1,
(2) is a photosensitive resin composition represented by the following general formula (2-1) or (2-2)
[Formula 2-1]

[Formula 2-2]

In the above Formulas (2-1) and (2-2)
L ⁴ to L ⁶ each independently represent a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,
R ⁹ is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group.

제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 양이온은 하기 화학식 3또는 화학식 4로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 3]

[화학식 4]

상기 화학식 3 및 화학식 4에서,
R¹, R², R⁶ 및 R⁷은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기이고,
R³ 및 R⁴는 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R⁹는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
R¹⁰은 할로겐 원자, 니트로기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
X는 -O-, -S- 또는 -NR⁸-(R⁸은 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기)이고,
m, n 및 p는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고,
L¹ 내지 L³은 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이다.
The method according to claim 1,
Wherein the cation represented by Formula 1 is represented by Formula 3 or Formula 4:
(3)

[Chemical Formula 4]

In the above formulas (3) and (4)
R ¹ , R ² , R ⁶ and R ⁷ are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C 1 to C 20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 6 to C 20 aryl group or a substituted or unsubstituted C 2 to C 20 heteroaryl group ego,
R ³ and R ⁴ are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
R ⁹ is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
R ¹⁰ is a halogen atom, a nitro group or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
X is -O-, -S- or -NR ⁸ - (R ⁸ is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group)
m, n and p are each independently an integer of 0 to 5,
L ¹ to L ³ are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 arylene group.

제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 양이온은 하기 화학식 5 내지 화학식 7로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 5]

[화학식 6]

[화학식 7]

상기 화학식 5 내지 화학식 7에서,
R¹, R², R⁶ 및 R⁷은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기이고,
R³ 및 R⁴는 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R⁹는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
R¹⁰은 할로겐 원자, 니트로기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
X는 -O-, -S- 또는 -NR⁸-(R⁸은 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기)이고,
m, n 및 p는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고,
L¹ 내지 L³은 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이다.
The method according to claim 1,
Wherein the cation represented by the formula (1) is represented by any one of the following formulas (5) to (7):
[Chemical Formula 5]

[Chemical Formula 6]

(7)

In the above Chemical Formulas 5 to 7,
R ¹ , R ² , R ⁶ and R ⁷ are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C 1 to C 20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 6 to C 20 aryl group or a substituted or unsubstituted C 2 to C 20 heteroaryl group ego,
R ³ and R ⁴ are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
R ⁹ is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
R ¹⁰ is a halogen atom, a nitro group or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
X is -O-, -S- or -NR ⁸ - (R ⁸ is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group)
m, n and p are each independently an integer of 0 to 5,
L ¹ to L ³ are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 arylene group.

제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 양이온은 하기 화학식 8 또는 화학식 9로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 8]

[화학식 9]

상기 화학식 8 및 화학식 9에서,
R² 및 R⁷은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기이고,
R³ 및 R⁴는 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R⁹는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
R¹⁰은 할로겐 원자, 니트로기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
X는 -O-, -S- 또는 -NR⁸-(R⁸은 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기)이고,
m, n 및 p는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고,
L¹ 내지 L³은 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이다.
The method according to claim 1,
Wherein the cation represented by the formula (1) is represented by the following formula (8) or (9):
[Chemical Formula 8]

[Chemical Formula 9]

In the above formulas (8) and (9)
R ² and R ⁷ are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group or a substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group,
R ³ and R ⁴ are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
R ⁹ is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
R ¹⁰ is a halogen atom, a nitro group or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
X is -O-, -S- or -NR ⁸ - (R ⁸ is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group)
m, n and p are each independently an integer of 0 to 5,
L ¹ to L ³ are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group or a substituted or unsubstituted C6 to C20 arylene group.

제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 양이온은 하기 화학식 10-1 내지 화학식 10-15로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 10-1]

[화학식 10-2]

[화학식 10-3]

[화학식 10-4]

[화학식 10-5]

[화학식 10-6]

[화학식 10-7]

[화학식 10-8]

[화학식 10-9]

[화학식 10-10]

[화학식 10-11]

[화학식 10-12]

[화학식 10-13]

[화학식 10-14]

[화학식 10-15]

상기 화학식 10-1 내지 화학식 10-15에서,
R¹⁰ 및 R¹¹은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 니트로기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
q1 내지 q3는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이고,
p 및 s는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이다.
The method according to claim 1,
Wherein the cation represented by the formula (1) is represented by any one selected from the group consisting of the following formulas (10-1) to (10-15):
[Formula 10-1]

[Formula 10-2]

[Formula 10-3]

[Formula 10-4]

[Formula 10-5]

[Formula 10-6]

[Formula 10-7]

[Formula 10-8]

[Chemical Formula 10-9]

[Chemical Formula 10-10]

[Chemical Formula 10-11]

[Chemical Formula 10-12]

[Chemical Formula 10-13]

[Chemical Formula 10-14]

[Chemical Formula 10-15]

In the above Chemical Formulas 10-1 to 10-15,
R ¹⁰ and R ¹¹ are each independently a halogen atom, a nitro group or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
q1 to q3 each independently represent an integer of 1 to 10,
p and s are each independently an integer of 0 to 5;

제1항에 있어서,
상기 음이온은 하기 화학식 A 내지 화학식 F로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물.
[화학식 A]

[화학식 B]

[화학식 C]
PW₁₂O₄₀ ³ ^-
[화학식 D]
SiW₁₂O₄₀ ⁴ ^-
[화학식 E]
CF₃SO₃ ^-
[화학식 F]
ClO₄ ^-
The method according to claim 1,
Wherein the anion is represented by any one of the following formulas (A) to (F).
(A)

[Chemical Formula B]

&Lt; RTI ID = 0.0 &
PW ₁₂ O ₄₀ ³ ^-
[Chemical Formula D]
SiW ₁₂ O ₄₀ ⁴ ^-
(E)
CF ₃ SO ₃ ^-
[Chemical Formula F]
ClO ₄ ^-

제1항에 있어서,
상기 화합물은 550 nm 내지 700 nm의 파장범위에서 최대 흡광도(λ_max)를 가지는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the compound has a maximum absorbance (? _Max ) in a wavelength range of 550 nm to 700 nm.

제1항에 있어서,
상기 화합물은 400 nm 내지500 nm의 파장범위에서 최대 투과도(T_max)를 가지는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the compound has a maximum transmittance (T _max ) in a wavelength range of 400 nm to 500 nm.

제1항에 있어서,
상기 단량체는 에틸렌성 불포화 단량체인 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the monomer is an ethylenically unsaturated monomer.

제13항에 있어서,
상기 에틸렌성 불포화 단량체는 하기 화학식 11로 표시되는 화합물, 하기 화학식 12로 표시되는 화합물, 하기 화학식 13으로 표시되는 화합물 또는 이들의 조합을 포함하는 감광성 수지 조성물:
[화학식 11]

[화학식 12]

[화학식 13]

상기 화학식 11 내지 화학식 13에서,
R¹² 내지 R¹⁴는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
L⁷은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다.
14. The method of claim 13,
Wherein the ethylenically unsaturated monomer is a photosensitive resin composition comprising a compound represented by the following formula (11), a compound represented by the following formula (12), a compound represented by the following formula (13)
(11)

[Chemical Formula 12]

[Chemical Formula 13]

In the above Chemical Formulas 11 to 13,
R ¹² to R ¹⁴ are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
L ⁷ is a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group.

제1항에 있어서,
상기 폴리머는 상기 화합물 및 상기 단량체가 10:90 내지 50:50의 중량비로 포함되는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the polymer comprises the compound and the monomer in a weight ratio of 10:90 to 50:50.

제1항에 있어서,
상기 폴리머는 5,000 g/mol 내지 100,000 g/mol의 중량평균분자량을 가지는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
The polymer has a weight average molecular weight of 5,000 g / mol to 100,000 g / mol.

제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은, 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해,
상기 (A) 바인더 수지 1 중량% 내지 10 중량%;
상기 (B) 광중합성 단량체 1 중량% 내지 15 중량%;
상기 (C) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량%;
상기 (D) 착색제 1 중량% 내지 10 중량% 및
상기 (E) 용매 잔부량
을 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
The photosensitive resin composition preferably contains, relative to the total amount of the photosensitive resin composition,
1 to 10% by weight of the binder resin (A);
1 to 15% by weight of the photopolymerizable monomer (B);
0.1 to 5% by weight of the photopolymerization initiator (C);
1% to 10% by weight of (D) the colorant and
The amount of the solvent (E)
.

제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 비닐기 또는 (메타)아크릴옥시기를 포함하는 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 및 라디칼 중합 개시제로부터 선택되는 적어도 하나의 첨가제를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
The photosensitive resin composition may include malonic acid; 3-amino-1,2-propanediol; A coupling agent comprising a vinyl group or (meth) acryloxy group; Leveling agents; Fluorine surfactants; And at least one additive selected from a radical polymerization initiator.

제1항 내지 제18항 중 어느 한 항의감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막.
A photosensitive resin film produced by using the photosensitive resin composition of any one of claims 1 to 18.

제19항의 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터.A color filter comprising the photosensitive resin film of claim 19.