KR101910174B1 - Liquid Crystal Display Cell and Manufacturing Method of thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시예는, 다수의 액정표시셀이 형성된 셀영역을 포함하는 모기판; 모기판의 셀영역의 외곽에 위치하며 셀영역 내에 형성된 정전기에 대한 등전위 패스를 형성하도록 셀영역에 형성된 배선에 연결된 정전기패스; 및 정전기패스와 모기판의 엣지 사이에 위치하며 정전기패스와 전기적으로 분리된 정전기방지전극을 포함하는 액정표시셀을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a liquid crystal display comprising: a mother substrate including a cell region in which a plurality of liquid crystal display cells are formed; An electrostatic path located at the periphery of the cell region of the mother substrate and connected to a wiring formed in the cell region to form an equipotential path with respect to static electricity formed in the cell region; And an antistatic electrode located between the electrostatic path and the edge of the mother substrate and electrically separated from the electrostatic pass.

Description

액정표시셀 및 이의 제조방법{Liquid Crystal Display Cell and Manufacturing Method of thereof}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a liquid crystal display cell,

본 발명의 실시예는 액정표시셀 및 이의 제조방법에 관한 것이다.An embodiment of the present invention relates to a liquid crystal display cell and a method of manufacturing the same.

정보화 기술이 발달함에 따라 사용자와 정보간의 연결 매체인 표시장치의 시장이 커지고 있다. 이에 따라, 액정표시장치(Liquid Crystal Display: LCD), 유기전계발광소자(Organic Light Emitting Diodes: OLED) 및 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: PDP) 등과 같은 평판표시장치(Flat Panel Display: FPD)의 사용이 증가하고 있다. 그 중 고해상도를 구현할 수 있고 소형화뿐만 아니라 대형화가 가능한 액정표시장치가 널리 사용되고 있다.As the information technology is developed, the market of display devices, which is a connection medium between users and information, is getting larger. Accordingly, a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display (LCD), an organic light emitting diode (OLED), and a plasma display panel (PDP) Usage is increasing. Among them, liquid crystal display devices capable of realizing high resolution and capable of not only miniaturization but also enlargement are widely used.

액정표시장치는 트랜지스터, 스토리지 커패시터 및 픽셀전극 등이 형성된 트랜지스터기판과 컬러필터 및 블랙매트릭스 등이 형성된 컬러필터기판 사이에 위치하는 액정층을 갖는 액정패널을 포함한다. 액정패널은 화소전극과 공통전극에 형성되는 전계로 액정층의 배열 방향을 조절하여 백라이트유닛으로부터 입사된 광을 출사하는 방식으로 영상을 표시한다.The liquid crystal display device includes a liquid crystal panel having a transistor substrate formed with a transistor, a storage capacitor, a pixel electrode, and the like, and a liquid crystal layer positioned between a color filter substrate and a color filter substrate on which a color filter and a black matrix are formed. The liquid crystal panel displays an image in such a manner that light incident from the backlight unit is emitted by adjusting the arrangement direction of the electric field liquid crystal layer formed on the pixel electrode and the common electrode.

액정패널은 모기판 상에 다수의 액정표시셀을 형성하고 이를 표시셀 단위로 절단하는 공정을 진행하는 방법 등에 의해 형성된다. 한편, 모기판 상에는 액정층이 방향성을 갖고 형성되도록 돕는 배향막이 형성된다. 배향막은 기판 상에 폴리이미드 또는 폴리머 등과 같은 얇은 두께의 수지에 의한 러빙(rubbing) 공정을 통해 형성된다. 러빙 공정은 일반적으로 러빙 포가 부착된 드럼이 이용된다.The liquid crystal panel is formed by a method of forming a plurality of liquid crystal display cells on a mother substrate and cutting the same in units of display cells. On the other hand, an alignment film is formed on the mother substrate to help the liquid crystal layer to be oriented and formed. The alignment layer is formed on the substrate through a rubbing process using a thin-walled resin such as polyimide or polymer. In the rubbing process, a drum having a rubbing cloth is generally used.

러빙 공정 진행시, 러빙 포가 부착된 드럼은 배향막 상에서 회전할 때 발생 되는 마찰에 의해 러빙 포에 전하가 차지되면서 정전기가 발생하게 된다. 이와 같이 정전기가 발생하게 되면 기판 상에 형성된 금속 배선들의 단선 및 단락이나 소자의 손상이 야기된다.During the rubbing process, the rubbing drum is charged with electric charge by the rubbing generated when the drum is rotated on the alignment film, and static electricity is generated. When such static electricity is generated, disconnection and short-circuit of the metal wiring formed on the substrate and damage of the element are caused.

종래에는 러빙 공정시 유발되는 정전기에 의한 문제를 해결하고자 기판의 외곽 엣지영역에 정전기방지전극을 형성하였다. 그런데, 종래 적용된 정전기방지전극의 경우 러빙 공정 중 발생하는 정전기를 오히려 액정패널의 내부로 유입시키는 통로 역할을 하는 구조적 오류를 나타내고 있어 이의 개선이 요구된다.In order to solve the problem caused by the static electricity generated in the rubbing process, the anti-static electrode is formed in the edge region of the substrate. However, in the case of the conventional antistatic electrode, a structural error that acts as a channel for introducing static electricity generated during the rubbing process into the inside of the liquid crystal panel has been shown to be required.

상술한 배경기술의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 실시예는, 러빙 포와 모기판의 접촉 및 이격시 발생하는 정전기가 액정표시셀 내부로 유입되는 통로를 차단할 수 있도록 모기판의 외곽에 전기적으로 분리된 정전기방지전극과 정전기패스가 형성된 액정표시셀 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.According to an aspect of the present invention, there is provided an electrophoretic display device comprising: a liquid crystal cell; a liquid crystal cell; The present invention also provides a liquid crystal display cell in which an electrostatic discharge electrode and an electrostatic path are formed, and a method of manufacturing the same.

상술한 과제 해결 수단으로 본 발명의 실시예는, 다수의 액정표시셀이 형성된 셀영역을 포함하는 모기판; 모기판의 셀영역의 외곽에 위치하며 셀영역 내에 형성된 정전기에 대한 등전위 패스를 형성하도록 셀영역에 형성된 배선에 연결된 정전기패스; 및 정전기패스와 모기판의 엣지 사이에 위치하며 정전기패스와 전기적으로 분리된 정전기방지전극을 포함하는 액정표시셀을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a liquid crystal display comprising: a mother substrate including a cell region in which a plurality of liquid crystal display cells are formed; An electrostatic path located at the periphery of the cell region of the mother substrate and connected to a wiring formed in the cell region to form an equipotential path with respect to static electricity formed in the cell region; And an antistatic electrode located between the electrostatic path and the edge of the mother substrate and electrically separated from the electrostatic pass.

정전기방지전극은 러빙장치에 의해 발생된 정전기가 모기판의 엣지영역에서 셀영역 내부로 유입되는 경로를 차단하도록 모기판의 엣지로부터 일정 거리 이격된 위치에 형성될 수 있다.The antistatic electrode may be formed at a position spaced a distance from the edge of the mother substrate so as to block the passage of static electricity generated by the rubbing device into the cell region at the edge region of the mother substrate.

정전기패스 및 정전기방지전극은 다수의 액정표시셀의 단변 방향에 대응되는 셀영역 외곽의 일측과 일측과 대향하는 타측에 형성될 수 있다.The electrostatic path and the antistatic electrode may be formed on one side of the cell region outside the cell region corresponding to the short side direction of the plurality of liquid crystal display cells and on the other side opposite to the one side.

정전기패스 및 정전기방지전극은 셀영역 외곽의 일측과 일측과 대향하는 타측에 직사각형 형상을 갖고 형성될 수 있다.The electrostatic path and the anti-static electrode may have a rectangular shape on one side and the other side opposite to the one side of the cell area.

정전기패스는 셀영역의 길이에 대응하여 형성되고 정전기방지전극은 정전기패스의 길이보다 크고 모기판의 길이보다 작거나 대응되는 길이를 갖도록 형성될 수 있다.The electrostatic pass may be formed to correspond to the length of the cell area and the antistatic electrode may be formed to have a length greater than the length of the electrostatic pass and less than or equal to the length of the mother board.

다른 측면에서 본 발명의 실시예는, 모기판에 다수의 액정표시셀이 형성될 셀영역을 정의하고, 셀영역에 전극 및 배선을 포함하는 박막트랜지스터를 형성하는 단계; 모기판의 셀영역의 외곽에 셀영역 내에 형성된 정전기에 대한 등전위 패스를 형성하도록 셀영역에 형성된 배선에 연결된 정전기패스를 형성하는 단계; 정전기패스와 모기판의 엣지 사이에 위치하며 정전기패스와 전기적으로 분리된 정전기방지전극을 형성하는 단계; 및 모기판의 박막트랜지스터 상에 배향막을 형성하고, 정전기방지전극이 형성된 방향에 러빙장치를 위치시키고 러빙을 하는 단계를 포함하는 액정표시셀의 제조방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: defining a cell region where a plurality of liquid crystal display cells are to be formed on a mother substrate; forming a thin film transistor including electrodes and wiring in the cell region; Forming an electrostatic path connected to a wiring formed in the cell region to form an equipotential path for static electricity formed in the cell region at the periphery of the cell region of the mother substrate; Forming an electrostatic discharge electrode positioned between the electrostatic path and the edge of the mother substrate and electrically separated from the electrostatic path; And a step of forming an alignment film on the thin film transistor of the mother substrate and positioning the rubbing device in the direction in which the antistatic electrode is formed and rubbing the liquid crystal display cell.

정전기방지전극은 러빙장치에 의해 발생된 정전기가 모기판의 엣지영역에서 셀영역 내부로 유입되는 경로를 차단하도록 모기판의 엣지로부터 일정 거리 이격된 위치에 형성될 수 있다.The antistatic electrode may be formed at a position spaced a distance from the edge of the mother substrate so as to block the passage of static electricity generated by the rubbing device into the cell region at the edge region of the mother substrate.

정전기패스 및 정전기방지전극은 다수의 액정표시셀의 단변 방향에 대응되는 셀영역 외곽의 일측과 일측과 대향하는 타측에 형성될 수 있다.The electrostatic path and the antistatic electrode may be formed on one side of the cell region outside the cell region corresponding to the short side direction of the plurality of liquid crystal display cells and on the other side opposite to the one side.

정전기패스 및 정전기방지전극은 셀영역 외곽의 일측과 일측과 대향하는 타측에 직사각형 형상을 갖고 형성될 수 있다.The electrostatic path and the anti-static electrode may have a rectangular shape on one side and the other side opposite to the one side of the cell area.

정전기패스는 셀영역의 길이에 대응하여 형성되고, 정전기방지전극은 정전기패스의 길이보다 크고 모기판의 길이보다 작거나 대응되는 길이를 갖도록 형성될 수 있다.The electrostatic pass may be formed to correspond to the length of the cell area, and the antistatic electrode may be formed to have a length greater than the length of the electrostatic pass and less than or equal to the length of the mother board.

본 발명의 실시예는, 러빙 포와 모기판의 접촉 및 이격시 발생하는 정전기가 액정표시셀 내부로 유입되는 통로를 차단할 수 있도록 모기판의 외곽에 전기적으로 분리된 정전기방지전극과 정전기패스가 형성된 액정표시셀 및 이의 제조방법을 제공하는 효과가 있다. 또한, 본 발명의 실시예는 러빙 공정시 러빙 포에 잔존하는 정전기를 효과적으로 제거하여 정전기에 의한 액정표시셀의 구동불량 및 배선 결함을 개선하고 수율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.The embodiment of the present invention is a liquid crystal display device in which an electrostatic discharge electrode electrically separated from the outer surface of a mother substrate so as to block a passage of static electricity generated upon contact and separation of a rubbing cloth and a mother substrate, Display cells and a manufacturing method thereof. In addition, the embodiment of the present invention has the effect of effectively removing the static electricity remaining in the rubbing cloth during the rubbing process, thereby improving the defective driving and wiring defects of the liquid crystal display cell due to static electricity and improving the yield.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시셀의 평면도.
도 2는 도 1에 도시된 "Z"영역의 확대도.
도 3은 액정표시셀의 일부 단면도.
도 4는 모기판에 배향막을 형성하기 위한 러빙 공정을 설명하기 위한 도면.
도 5 및 도 6은 도 4의 러빙 공정시 발생된 정전기 전하의 액정표시셀 내의 유입방지를 설명하기 위한 도면.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 의해 제작된 액정표시패널의 단면도.
도 8은 도 7에 도시된 액정표시패널을 이용한 액정표시장치의 구성도.1 is a plan view of a liquid crystal display cell according to an embodiment of the present invention;
Fig. 2 is an enlarged view of the "Z" area shown in Fig.
3 is a partial cross-sectional view of a liquid crystal display cell.
4 is a view for explaining a rubbing process for forming an alignment film on a mother substrate;
FIGS. 5 and 6 are views for explaining the prevention of the flow of static electricity generated in the rubbing process in FIG. 4 into the liquid crystal display cell.
7 is a sectional view of a liquid crystal display panel manufactured according to an embodiment of the present invention;
8 is a configuration diagram of a liquid crystal display device using the liquid crystal display panel shown in Fig.

이하, 본 발명의 실시를 위한 구체적인 내용을 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시셀의 평면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 "Z"영역의 확대도이다.FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display cell according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of a "Z" region shown in FIG.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시셀에는 모기판(110), 정전기패스(130) 및 정전기방지전극(140)이 포함된다.1 and 2, a liquid crystal display cell according to an exemplary embodiment of the present invention includes a mother substrate 110, a static electricity path 130, and an anti-static electrode 140.

모기판(110)에는 다수의 액정표시셀(120)이 형성된 셀영역(CA)이 포함된다. 다수의 액정표시셀(120)에는 각각 개별적인 표시영역을 이루도록 전극 및 배선을 포함하는 박막트랜지스터들이 형성된다.The mother substrate 110 includes a cell region CA having a plurality of liquid crystal display cells 120 formed thereon. Thin film transistors including electrodes and wirings are formed in the plurality of liquid crystal display cells 120 to form individual display regions.

정전기패스(130)는 모기판(110)의 셀영역(CA)의 외곽에 위치하며 셀영역(CA) 내에 형성된 정전기에 대한 등전위 패스를 형성하도록 셀영역(CA)에 형성된 배선(135)에 연결된다. 정전기패스(130)는 배선(135)을 통해 셀영역(CA) 내에 형성된 공통전압배선에 연결된다.The electrostatic pass 130 is connected to the wiring 135 formed in the cell area CA so as to form an equipotential path with respect to static electricity which is located outside the cell area CA of the mother substrate CA and is formed in the cell area CA do. The electrostatic pass 130 is connected to the common voltage wiring formed in the cell region CA via the wiring 135. [

정전기방지전극(140)은 정전기패스(130)와 모기판(110)의 엣지(110e) 사이에 위치하며 정전기패스(130)와 전기적으로 분리되도록 형성된다. 정전기방지전극(140)은 배향막 형성시 러빙장치에 의해 발생된 정전기가 모기판(110)의 엣지영역에서 셀영역(CA) 내부로 유입되는 경로를 차단하도록 모기판(110)의 엣지(110e)로부터 일정 거리 이격된 위치에 형성된다.The antistatic electrode 140 is positioned between the electrostatic pass 130 and the edge 110e of the mother substrate 110 and is configured to be electrically isolated from the electrostatic pass 130. The antistatic electrode 140 is formed on the edge 110e of the mother substrate 110 so as to block the passage of static electricity generated by the rubbing device in the edge region of the mother substrate 110 into the cell region CA, As shown in FIG.

정전기패스(130) 및 정전기방지전극(140)은 다수의 액정표시셀(120)의 단변 방향(y)에 대응되는 셀영역(CA) 외곽의 일측(EA1)과 일측(EA1)과 대향하는 타측(EA2)에 각각 형성된다. 즉, 정전기패스(130) 및 정전기방지전극(140)은 러빙방향(RD)의 시작점과 끝점에 위치하도록 모기판(110)의 일측(EA1)과 타측(EA2)에 형성된다. 이때, 정전기패스(130) 및 정전기방지전극(140)은 셀영역(CA) 외곽의 일측(EA1)과 타측(EA2)에 직사각형 형상을 갖고 각각 형성된다.The electrostatic path 130 and the antistatic electrode 140 are formed on one side EA1 of the cell region CA corresponding to the short side direction y of the plurality of liquid crystal display cells 120 and on the other side (EA2). That is, the electrostatic path 130 and the anti-static electrode 140 are formed on one side EA1 and the other side EA2 of the mother substrate 110 so as to be located at the starting and end points of the rubbing direction RD. At this time, the static electricity pass 130 and the anti-static electrode 140 have a rectangular shape on one side (EA1) and the other side (EA2) outside the cell area (CA).

정전기패스(130)는 셀영역(CA)의 길이에 대응하여 형성된다. 그리고 정전기방지전극(140)은 정전기패스(130)의 길이보다 크고 모기판(110)의 길이보다 작거나 모기판(110)의 길이에 대응되는 길이를 갖도록 형성된다. 여기서, 정전기방지전극(140)의 길이를 위와 같이 하는 이유는 러빙장치의 러빙 포로부터 발생된 정전기의 패스를 효과적으로 형성하기 위함이다.The electrostatic pass 130 is formed corresponding to the length of the cell area CA. The electrostatic discharge electrode 140 is formed to have a length larger than the length of the electrostatic pass 130 and smaller than the length of the mother substrate 110 or a length corresponding to the length of the mother substrate 110. The reason why the length of the antistatic electrode 140 is set as described above is to effectively form the path of the static electricity generated from the rubbing cloth of the rubbing device.

앞서 설명하였듯이, 정전기방지전극(140)은 모기판(110)의 엣지영역에서 셀영역(CA) 내부로 유입되는 경로를 차단하도록 모기판(110)의 엣지(110e)로부터 일정 거리 이격된 위치에 형성된다. 더욱 자세히 설명하면, 정전기방지전극(140)은 모기판(110)의 엣지(110e)의 단변 방향(y)으로부터 제1거리(Dy)를 갖도록 이격된 위치에 형성된다. 여기서, 제1거리(Dy)는 모기판(110)의 설계치에 따라 최적화된다.The antistatic electrode 140 is positioned at a position spaced from the edge 110e of the mother substrate 110 by a distance from the edge 110e of the mother substrate 110 so as to block the flow of the edge into the cell region CA from the edge region of the mother substrate 110 . More specifically, the antistatic electrode 140 is formed at a position spaced apart from the short side direction y of the edge 110e of the mother substrate 110 by a first distance Dy. Here, the first distance Dy is optimized according to the design value of the mother board 110. [

위와 같이, 정전기패스(130) 및 정전기방지전극(140)이 전기적으로 분리되도록 모기판(110) 상에 구분하여 형성함과 더불어 정전기방지전극(140)을 모기판(110)의 엣지(110e)로부터 일정 거리 이격된 위치에 형성하는 이유는 이하의 제조방법에서 더욱 자세히 설명한다.The electrostatic discharge electrode 140 is formed on the edge 110e of the mother substrate 110 and the electrostatic discharge electrode 140 is formed on the mother substrate 110 so as to be electrically separated from the electrostatic discharge path 130 and the anti- In the following manufacturing method will be described in more detail.

도 3은 액정표시셀의 일부 단면도이고, 도 4는 모기판에 배향막을 형성하기 위한 러빙 공정을 설명하기 위한 도면이며, 도 5 및 도 6은 도 4의 러빙 공정시 발생된 정전기 전하의 액정표시셀 내의 유입방지를 설명하기 위한 도면이다.FIG. 3 is a partial cross-sectional view of a liquid crystal display cell, FIG. 4 is a view for explaining a rubbing process for forming an alignment film on a mother substrate, FIGS. 5 and 6 are cross- Fig. 8 is a view for explaining inflow prevention in a cell.

도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 모기판(110)에 다수의 액정표시셀(120)이 형성될 셀영역(CA)을 정의하고, 셀영역(CA)에 전극 및 배선을 포함하는 박막트랜지스터를 형성한다.1 to 6, a cell region CA in which a plurality of liquid crystal display cells 120 are to be formed is defined in the mother substrate 110, and a thin film Thereby forming a transistor.

셀영역(CA)에는 다수의 액정표시셀(120) 마다 도 3과 같은 박막트랜지스터(111, 113, 114a, 114b)가 형성된다. 박막트랜지스터(111, 113, 114a, 114b)의 구조에 대해 개략적으로 설명하면 다음과 같다.The thin film transistors 111, 113, 114a and 114b as shown in FIG. 3 are formed in each of the plurality of liquid crystal display cells 120 in the cell region CA. The structure of the thin film transistors 111, 113, 114a and 114b will be schematically described as follows.

모기판(110)의 일면에는 게이트전극(111)이 형성된다. 게이트전극(111)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층으로 형성될 수 있다.A gate electrode 111 is formed on one surface of the mother substrate 110. The gate electrode 111 is formed of a material selected from the group consisting of molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd) and copper And may be formed of a single layer or a multilayer composed of any one or an alloy thereof.

게이트전극(111) 상에는 제1절연막(112)이 형성된다. 제1절연막(112)은 산화막(SiOx) 또는 실리콘 질화막(SiNx)으로 형성될 수 있다.A first insulating layer 112 is formed on the gate electrode 111. The first insulating layer 112 may be formed of an oxide film (SiOx) or a silicon nitride film (SiNx).

제1절연막(112) 상에는 액티브층(113)이 형성된다. 액티브층(113)은 비정질 실리콘 또는 이를 결정화한 다결정 실리콘을 포함할 수 있다. 미도시되어 있으나, 액티브층(113) 상에는 소오스 및 드레인전극(114a, 114b)과의 접촉 저항을 낮추기 위한 오믹콘택층이 더 형성될 수 있다.An active layer 113 is formed on the first insulating layer 112. The active layer 113 may comprise amorphous silicon or polycrystalline silicon crystallized therefrom. An ohmic contact layer may be further formed on the active layer 113 to reduce the contact resistance with the source and drain electrodes 114a and 114b.

액티브층(113) 상에는 소오스 및 드레인전극(114a, 114b)이 형성된다. 소오스 및 드레인전극(114a, 114b)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층으로 형성될 수 있다.On the active layer 113, source and drain electrodes 114a and 114b are formed. The source and drain electrodes 114a and 114b may be formed of a material selected from the group consisting of Mo, Al, Cr, Au, Ti, Or a single layer or a multilayer composed of any one selected from the group consisting of alloys thereof.

소오스 및 드레인전극(114a, 114b) 상에는 제2절연막(115)이 소오스 또는 드레인전극(114a, 114b)을 노출하도록 형성된다. 제2절연막(115)은 산화막(SiOx) 또는 실리콘 질화막(SiNx)으로 형성될 수 있다.A second insulating layer 115 is formed on the source and drain electrodes 114a and 114b to expose the source or drain electrodes 114a and 114b. The second insulating layer 115 may be formed of an oxide film (SiOx) or a silicon nitride film (SiNx).

제2절연막(115) 상에는 화소전극(116)이 형성된다. 화소전극(116)은 ITO(Indium Tin Oxide)나 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 투명 산화물 전극으로 형성될 수 있다.A pixel electrode 116 is formed on the second insulating film 115. The pixel electrode 116 may be formed of a transparent oxide electrode such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

미도시되어 있으나, 화소전극(116)과 함께 전계를 형성하는 공통전극은 액정표시셀의 구동 모드에 따라 모기판(110) 또는 모기판(110)을 덮는 컬러필터기판에 형성될 수 있으므로 이는 생략한다. 아울러, 도시된 화소전극(116)은 구조적 이해를 돕기 위한 것일 뿐, 이 또한 액정표시셀의 구동 모드에 따라 다양하게 형성될 수 있음은 물론이다.A common electrode for forming an electric field together with the pixel electrode 116 may be formed on the color filter substrate covering the mother substrate 110 or the mother substrate 110 according to the driving mode of the liquid crystal display cell, do. In addition, the illustrated pixel electrode 116 may be formed in various ways depending on the driving mode of the liquid crystal display cell.

모기판(110)의 셀영역(CA)의 외곽에 셀영역(CA) 내에 형성된 정전기에 대한 등전위 패스를 형성하도록 셀영역(CA)에 형성된 배선(135)에 연결된 정전기패스(130)를 형성한다. 정전기패스(130)는 모기판(110)의 일면에 박막트랜지스터(111, 113, 114a, 114b) 및 화소전극(116)을 형성하는 공정 중 하나의 단계와 동일한 공정 및 동일한 재료로 형성된다.An electrostatic pass 130 connected to the wiring 135 formed in the cell area CA is formed so as to form an equipotential path with respect to static electricity formed in the cell area CA at the outer periphery of the cell area CA of the mother substrate 110 . The electrostatic pass 130 is formed of the same process and the same material as one of the steps of forming the thin film transistors 111, 113, 114a and 114b and the pixel electrode 116 on one surface of the mother substrate 110. [

정전기패스(130)와 모기판(110)의 엣지(110e) 사이에 위치하며 정전기패스(130)와 전기적으로 분리된 정전기방지전극(140)을 형성한다.An antistatic electrode 140 is disposed between the electrostatic pass 130 and the edge 110e of the mother substrate 110 and electrically separated from the electrostatic pass 130.

정전기방지전극(140)은 배향막 형성시 러빙장치(170)에 의해 발생된 정전기가 모기판(110)의 엣지영역에서 셀영역(CA) 내부로 유입되는 경로를 차단하도록 모기판(110)의 엣지(110e)로부터 일정 거리 이격된 위치에 형성된다.The antistatic electrode 140 is disposed on the edge of the mother substrate 110 so as to block the passage of the static electricity generated by the rubbing device 170 into the cell area CA in the edge area of the mother substrate 110, (110e).

정전기패스(130) 및 정전기방지전극(140)은 다수의 액정표시셀(120)의 단변 방향(y)에 대응되는 셀영역(CA) 외곽의 일측(EA1)과 일측(EA1)과 대향하는 타측(EA2)에 각각 형성된다. 이때, 정전기패스(130) 및 정전기방지전극(140)은 셀영역(CA) 외곽의 일측(EA1)과 타측(EA2)에 직사각형 형상을 갖고 각각 형성된다.The electrostatic path 130 and the antistatic electrode 140 are formed on one side EA1 of the cell region CA corresponding to the short side direction y of the plurality of liquid crystal display cells 120 and on the other side (EA2). At this time, the static electricity pass 130 and the anti-static electrode 140 have a rectangular shape on one side (EA1) and the other side (EA2) outside the cell area (CA).

정전기패스(130)는 셀영역(CA)의 길이에 대응하여 형성된다. 그리고 정전기방지전극(140)은 정전기패스(130)의 길이보다 크고 모기판(110)의 길이보다 작거나 대응되도록 형성될 수 있다.The electrostatic pass 130 is formed corresponding to the length of the cell area CA. The antistatic electrode 140 may be formed to be larger than the length of the electrostatic pass 130 and less than or equal to the length of the mother substrate 110.

모기판(110)에 형성된 다수의 액정표시셀(120) 상에 폴리이미드 또는 폴리머 등으로 이루어진 배향막(125)을 형성하고, 정전기방지전극(140)이 형성된 방향에 일방향으로 회전하는 드럼(171)과 러빙 포(175)를 포함하는 러빙장치(170)를 위치시킨다. 그리고 러빙방향(RD)으로 러빙을 한다. 여기서, 배향막(125)은 액정표시셀(120)을 구성하는 절연막의 최상부에 형성되며, 러빙공정이 완료되면 배향막(125)에는 액정이 정렬되는 배향홈이 형성된다.An alignment film 125 made of polyimide or polymer is formed on a plurality of liquid crystal display cells 120 formed on the mother substrate 110 and a drum 171 rotated in one direction in the direction in which the anti- And the rubbing device 170 including the rubbing cloth 175 are positioned. Then rubbing in the rubbing direction (RD). Here, the alignment film 125 is formed on the uppermost portion of the insulating film constituting the liquid crystal display cell 120. When the rubbing process is completed, the alignment film 125 is formed with alignment grooves for aligning the liquid crystal.

한편, 도 5 및 도 6과 같이 정전기패스(130) 및 정전기방지전극(140)을 형성하면 러빙장치(170)에 의해 발생된 정전기에 의한 문제는 다음과 같이 방지된다.5 and FIG. 6, the problem caused by the static electricity generated by the rubbing device 170 is prevented as follows.

먼저, 이전 공정 또는 다른 매체와의 마찰 등에 의해 러빙장치(170)의 러빙 포(175)에 차징된 정전기 전하는 모기판(110)의 일측(EA1)에 형성된 제1정전기방지전극(140a)에 의해 디스차징된다.The electrostatic charge charged in the rubbing bobbin 175 of the rubbing device 170 by the previous process or friction with other media is transferred to the first antistatic electrode 140a formed on the first side EA1 of the mother substrate 110 Is charged.

이때, 제1정전기방지전극(140a)과 제1정전기패스(130a)는 전기적으로 분리된 상태이므로, 제1정전기방지전극(140a)에 디스차징된 정전기 전하는 제1정전기패스(130a)에 영향을 미치지 않게 된다.Since the first electrostatic discharge prevention electrode 140a and the first electrostatic discharge passage 130a are electrically isolated from each other, the electrostatic charge charged in the first electrostatic discharge prevention electrode 140a affects the first electrostatic discharge passage 130a. It will not go crazy.

이후, 러빙장치(170)가 러빙방향(RD)으로 이동을 하면, 배향막(125)에는 배향홈이 형성된다. 이와 같은 과정에서, 러빙장치(170)의 회전과 모기판(110) 과의 마찰에 의해 러빙장치(170)의 러빙 포(175)에는 정전기 전하가 대전 되지만 이는 제1정전기패스(130a) 및 제2정전기패스(130b)로 디스차징된다.Thereafter, when the rubbing device 170 moves in the rubbing direction RD, alignment grooves are formed in the alignment film 125. The electrostatic charge is charged in the rubbing bobbin 175 of the rubbing device 170 by the rotation of the rubbing device 170 and the friction between the rubbing device 170 and the mother substrate 110, 2 electrostatic pass 130b.

이후, 러빙장치(170)가 모기판(110)의 타측(EA2)을 지나게 되면, 러빙장치(170)의 러빙 포(175)에 잔존하는 정전기 전하는 제2정전기방지전극(140b)으로 디스차징된다.Thereafter, when the rubbing device 170 passes the other side EA2 of the mother substrate 110, the static electricity remaining in the rubbing cloth 175 of the rubbing device 170 is discarded to the second antistatic electrode 140b .

위의 설명에서 알 수 있듯이, 러빙 포(175)에 형성된 정전기 전하는 러빙 공정의 시작점과 끝점에 위치하는 제1정전기방지전극(140a)과 제2정전기방지전극(140b)에 의해 대부분 방전된다. 설사, 미방전된 정전기 전하가 존재하더라도 다른 모기판에 위의 구조와 같은 정전기방지전극 및 정전기패스가 형성되어 있으므로, 러빙 공정시 발생하는 정전기에 의한 영향은 최소화될 것이다.As can be seen from the above description, the electrostatic charge formed on the rubbing cloth 175 is largely discharged by the first antistatic electrode 140a and the second antistatic electrode 140b located at the start and end points of the rubbing process. Even if diarrhea and uncharged electrostatic charges are present, the static electricity generated in the rubbing process will be minimized because the static electricity prevention electrode and the electrostatic path such as the above structure are formed on the other mother board.

앞서 설명한 바와 같이, 모기판(110) 상에 배향막(125)을 형성함과 더불어 컬러필터기판 상에 배향막을 형성한다. 그리고 두 기판 사이에 액정층을 형성하고 합착한 액정표시셀 단위로 절단을 하면 액정표시패널이 완성된다.As described above, the alignment film 125 is formed on the mother substrate 110, and an alignment film is formed on the color filter substrate. Then, a liquid crystal layer is formed between the two substrates, and the liquid crystal display panel is completed by cutting the bonded liquid crystal display cell unit.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 의해 제작된 액정표시패널의 단면도이고, 도 8은 도 7에 도시된 액정표시패널을 이용한 액정표시장치의 구성도이다.FIG. 7 is a cross-sectional view of a liquid crystal display panel manufactured according to an embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a configuration diagram of a liquid crystal display device using the liquid crystal display panel shown in FIG.

도 7에 도시된 바와 같이, 액정표시패널(110, 180)에는 박막트랜지스터(111, 113, 114a, 114b), 화소전극(116) 및 하부배향막(125)을 포함하는 박막트랜지스터기판(110)과 블랙매트릭스(117), 컬러필터(118), 오버코팅층(119) 및 상부배향막(129)을 포함하는 컬러필터기판(180) 사이에 형성된 액정층(127)이 포함된다.7, the thin film transistor substrate 110 including the thin film transistors 111, 113, 114a and 114b, the pixel electrode 116 and the lower alignment film 125 is formed on the liquid crystal display panels 110 and 180, A liquid crystal layer 127 formed between the color filter substrate 180 including the black matrix 117, the color filter 118, the overcoat layer 119 and the upper alignment film 129 is included.

도시된 액정표시패널(110, 180)의 경우, TN(Twisted Nematic) 모드 및 VA(Vertical Alignment) 모드와 같은 수직전계 구동방식 또는 IPS(In Plane Switching) 모드 및 FFS(Fringe Field Switching) 모드와 같은 수평전계 구동방식으로 구성될 수 있다. 미도시된 공통전극은 액정표시패널(110, 180)의 구동방식에 따라 박막트랜지스터기판(110)에 형성되거나 컬러필터기판(180)에 형성될 수 있다. 아울러, 화소전극(125) 또한 액정표시패널(110, 180)의 구동방식에 따라 다양한 구조로 형성될 수 있다.In the case of the liquid crystal display panels 110 and 180 shown in the drawings, a vertical electric field driving method such as TN (Twisted Nematic) mode and VA (Vertical Alignment) mode, or the like such as IPS (In Plane Switching) mode and FFS And may be configured as a horizontal electric field driving method. The common electrode not shown may be formed on the TFT substrate 110 or on the color filter substrate 180 according to the driving method of the liquid crystal display panels 110 and 180. In addition, the pixel electrode 125 may have a variety of structures depending on the driving method of the liquid crystal display panels 110 and 180.

앞서 설명된 액정표시패널(110, 180)은 게이트구동부, 데이터구동부 및 타이밍제어부의 제어하에 구동을 하게 되며, 하부에 배치된 백라이트유닛으로부터 제공된 광의 투과도를 액정층(127)으로 조절함으로써 영상을 표시할 수 있게 된다. 여기서, 게이트구동부, 데이터구동부 및 타이밍제어부는 다음과 같이 구성될 수 있다.The liquid crystal display panels 110 and 180 described above are driven under the control of the gate driver, the data driver, and the timing controller. By controlling the transmittance of the light provided from the backlight unit disposed below by the liquid crystal layer 127, . Here, the gate driver, the data driver, and the timing controller may be configured as follows.

도 8에 도시된 바와 같이, 액정표시패널(110, 180)에는 게이트신호를 공급하는 게이트구동부(191), 데이터신호를 공급하는 데이터구동부(192) 및 게이트구동부(191) 및 데이터구동부(192)를 제어하는 타이밍제어부(195)가 포함된다.8, the liquid crystal display panels 110 and 180 are provided with a gate driver 191 for supplying a gate signal, a data driver 192 for supplying a data signal, a gate driver 191 and a data driver 192, And a timing control unit 195 for controlling the timing control unit.

게이트구동부(191)는 박막트랜지스터 공정시 기판에 형성되는 게이트인패널(Gate-In Panel) 방식으로 구성되어 액정표시패널(110, 180)의 제1측 또는 제2측 비표시영역 중 하나 이상에 형성되거나 집적회로(IC) 방식으로 구성될 수 있다. 데이터구동부(192)는 테이프케리어패키지(193)에 실장된 형태로 액정표시패널(110, 180)의 제3측 비표시영역에 인쇄회로기판(194)과 연결된 상태로 부착될 수 있다. 타이밍제어부(195)는 시스템보드와 연동하여 게이트구동부(191) 및 데이터구동부(192)를 제어하도록 인쇄회로기판(194)에 실장될 수 있다.The gate driver 191 may be formed of a gate-in-panel type formed on the substrate during the thin film transistor process, and may be formed on at least one of the first side or the second side non-display region of the liquid crystal display panels 110 and 180 Or may be configured in an integrated circuit (IC) manner. The data driver 192 may be attached to the printed circuit board 194 in the third side non-display area of the liquid crystal display panels 110 and 180 in a form mounted on the tape carrier package 193. [ The timing control unit 195 may be mounted on the printed circuit board 194 to control the gate driving unit 191 and the data driving unit 192 in cooperation with the system board.

이상, 본 발명의 실시예는 러빙 포와 모기판의 접촉 및 이격시 발생하는 정전기가 액정표시셀 내부로 유입되는 통로를 차단할 수 있도록 모기판의 외곽에 전기적으로 분리된 정전기방지전극과 정전기패스가 형성된 액정표시셀 및 이의 제조방법을 제공한다. 본 발명의 실시예는 종래 구조대비 정전기방지전극이 차지하는 패턴의 면적을 축소하면서도 정전기패스와의 전기적인 분리로 정전기에 의한 영향을 최소화한다. 본 발명의 실시예는 러빙 공정시 러빙 포에 잔존하는 정전기를 효과적으로 제거하여 정전기에 의한 액정표시셀의 구동불량 및 배선 결함을 개선하고 수율을 향상시킬 수 있게 된다.
As described above, according to the embodiment of the present invention, the electrostatic discharge electrode and the electrostatic discharge electrode, which are electrically separated from each other, are formed on the outer surface of the mother substrate so as to block the passage of static electricity generated when the rubbing cloth contacts the mother substrate, A liquid crystal display cell and a method of manufacturing the same are provided. Embodiments of the present invention minimize the area of the pattern occupied by the antistatic electrode compared to the conventional structure, while minimizing the influence of static electricity by electrically separating the static electricity path from the static electricity path. The embodiment of the present invention can effectively remove the static electricity remaining in the rubbing cloth during the rubbing process to improve the defective driving and wiring defects of the liquid crystal display cell due to static electricity and improve the yield.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다. 아울러, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어진다. 또한, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood that the invention may be practiced. It is therefore to be understood that the embodiments described above are to be considered in all respects only as illustrative and not restrictive. In addition, the scope of the present invention is indicated by the following claims rather than the detailed description. Also, all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present invention.

110: 모기판 130: 정전기패스
140: 정전기방지전극 CA: 셀영역
135: 배선 120: 액정표시셀
170: 러빙장치 171: 드럼
175: 러빙 포 RD: 러빙방향110: Mosquito plate 130: Electrostatic path
140: antistatic electrode CA: cell area
135: wiring 120: liquid crystal display cell
170: rubbing device 171: drum
175: rubbing the RD: rubbing direction

Claims (10)

다수의 액정표시셀이 형성된 셀영역을 포함하는 모기판;
상기 모기판의 상기 셀영역의 외곽에 위치하며 상기 셀영역 내에 형성된 정전기에 대한 등전위 패스를 형성하도록 상기 셀영역에 형성된 배선에 연결된 정전기패스; 및
상기 정전기패스와 상기 모기판의 엣지 사이에 위치하며 상기 정전기패스와 전기적으로 분리되고 또한 상기 모기판 상의 전극이나 배선에 연결되지 않고 전기적으로 플로팅 된 정전기방지전극을 포함하는 액정표시셀.A mother substrate including a cell region in which a plurality of liquid crystal display cells are formed;
An electrostatic path located at an outer portion of the cell region of the mother substrate and connected to a wiring formed in the cell region to form an equipotential path for static electricity formed in the cell region; And
And an electrostatic discharge electrode electrically positioned between the electrostatic path and the edge of the mother substrate and electrically isolated from the electrostatic path and electrically connected to the electrode or wiring on the mother substrate. 제1항에 있어서,
상기 정전기방지전극은
러빙장치에 의해 발생된 정전기가 상기 모기판의 엣지영역에서 상기 셀영역 내부로 유입되는 경로를 차단하도록 상기 모기판의 엣지로부터 일정 거리 이격된 위치에 형성된 액정표시셀.The method according to claim 1,
The antistatic electrode
And a static electricity generated by the rubbing device is spaced from the edge of the mother substrate by a predetermined distance so as to block the passage of the static electricity generated from the edge region of the mother substrate into the cell region. 제1항에 있어서,
상기 정전기패스 및 상기 정전기방지전극은
상기 다수의 액정표시셀의 단변 방향에 대응되는 상기 셀영역 외곽의 일측과 상기 일측과 대향하는 타측에 형성된 액정표시셀.The method according to claim 1,
The electrostatic path and the antistatic electrode
A liquid crystal display cell formed on one side of the outside of the cell region corresponding to the short side direction of the plurality of liquid crystal display cells and on the other side opposite to the one side. 제1항에 있어서,
상기 정전기패스 및 상기 정전기방지전극은
상기 셀영역 외곽의 일측과 상기 일측과 대향하는 타측에 직사각형 형상을 갖고 형성된 액정표시셀.The method according to claim 1,
The electrostatic path and the antistatic electrode
A liquid crystal cell having a rectangular shape on one side of the outside of the cell region and on the other side opposite to the one side. 제3항 또는 제4항에 있어서,
상기 정전기패스는 상기 셀영역의 길이에 대응하여 형성되고
상기 정전기방지전극은 상기 정전기패스의 길이보다 크고 상기 모기판의 길이보다 작거나 대응되는 길이를 갖도록 형성된 액정표시셀.The method according to claim 3 or 4,
The electrostatic path is formed corresponding to the length of the cell region
Wherein the electrostatic discharge electrode has a length greater than the length of the electrostatic pass and less than or equal to a length of the mother substrate. 모기판에 다수의 액정표시셀이 형성될 셀영역을 정의하고, 상기 셀영역에 전극 및 배선을 포함하는 박막트랜지스터를 형성하는 단계;
상기 모기판의 상기 셀영역의 외곽에 상기 셀영역 내에 형성된 정전기에 대한 등전위 패스를 형성하도록 상기 셀영역에 형성된 배선에 연결된 정전기패스를 형성하는 단계;
상기 정전기패스와 상기 모기판의 엣지 사이에 위치하며 상기 정전기패스와 전기적으로 분리되고 또한 상기 모기판 상의 전극이나 배선에 연결되지 않고 전기적으로 플로팅 된 정전기방지전극을 형성하는 단계; 및
상기 모기판의 상기 박막트랜지스터 상에 배향막을 형성하고, 상기 정전기방지전극이 형성된 방향에 러빙장치를 위치시키고 러빙을 하는 단계를 포함하는 액정표시셀의 제조방법.Defining a cell region in which a plurality of liquid crystal display cells are to be formed on a mother substrate, and forming a thin film transistor including electrodes and wiring in the cell region;
Forming an electrostatic pass connected to a wiring formed in the cell region so as to form an equipotential path with respect to static electricity formed in the cell region at the periphery of the cell region of the mother substrate;
Forming an electrically floated antistatic electrode located between the electrostatic path and the edge of the mother substrate and electrically isolated from the electrostatic path and not connected to an electrode or wiring on the mother substrate; And
Forming an orientation film on the thin film transistor of the mother substrate and locating a rubbing device in a direction in which the antistatic electrode is formed and rubbing the rubbing device. 제6항에 있어서,
상기 정전기방지전극은
상기 러빙장치에 의해 발생된 정전기가 상기 모기판의 엣지영역에서 상기 셀영역 내부로 유입되는 경로를 차단하도록 상기 모기판의 엣지부터 일정 거리 이격된 위치에 형성된 액정표시셀의 제조방법.The method according to claim 6,
The antistatic electrode
And a static electricity generated by the rubbing device is blocked at a certain distance from an edge of the mother substrate so as to block the flow of the static electricity generated from the edge of the mother substrate into the cell region. 제6항에 있어서,
상기 정전기패스 및 상기 정전기방지전극은
상기 다수의 액정표시셀의 단변 방향에 대응되는 상기 셀영역 외곽의 일측과 상기 일측과 대향하는 타측에 형성된 액정표시셀의 제조방법.The method according to claim 6,
The electrostatic path and the antistatic electrode
Wherein the liquid crystal display cell is formed on one side of the outside of the cell region corresponding to the short side direction of the plurality of liquid crystal display cells and on the other side opposite to the one side. 제6항에 있어서,
상기 정전기패스 및 상기 정전기방지전극은
상기 셀영역 외곽의 일측과 상기 일측과 대향하는 타측에 직사각형 형상을 갖고 형성된 액정표시셀의 제조방법.The method according to claim 6,
The electrostatic path and the antistatic electrode
And a rectangular shape is formed on one side of the outside of the cell region and on the other side opposite to the one side. 제8항 또는 제9항에 있어서,
상기 정전기패스는 상기 셀영역의 길이에 대응하여 형성되고,
상기 정전기방지전극은 상기 정전기패스의 길이보다 크고 상기 모기판의 길이보다 작거나 대응되는 길이를 갖도록 형성된 액정표시셀의 제조방법.10. The method according to claim 8 or 9,
Wherein the electrostatic path is formed corresponding to the length of the cell region,
Wherein the electrostatic discharge electrode has a length greater than the length of the electrostatic pass and less than or equal to a length of the mother substrate.
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