KR101884893B1 - 광학 다층막 구조체 및 이를 구비한 표시 장치 - Google Patents
광학 다층막 구조체 및 이를 구비한 표시 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101884893B1 KR101884893B1 KR1020170052358A KR20170052358A KR101884893B1 KR 101884893 B1 KR101884893 B1 KR 101884893B1 KR 1020170052358 A KR1020170052358 A KR 1020170052358A KR 20170052358 A KR20170052358 A KR 20170052358A KR 101884893 B1 KR101884893 B1 KR 101884893B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- layer
- thickness
- refractive index
- depositing
- index layer
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 34
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 36
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 19
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 16
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 claims description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Chemical compound O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 31
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 9
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 4
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
- G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
광학 다층막 구조체가 제공된다. 상기 광학 다층막 구조체는, 디스플레이 장치의 전면에 배치되는 투명기재; 및 상기 투명기재의 표면에 다수의 층으로 적층되어 가시광선 투과율을 높이는 동시에 적외선 차폐율을 높이는 다층막을 포함하고, 상기 다층막은, Nb2O5 재질로 구성되며, 105nm~115nm의 두께로 상기 투명기재의 표면에 적층되는 제1-1 고굴절층, SiO2 재질로 구성되며, 165nm~175nm의 두께로 상기 제1-1 고굴절층 상에 적층되는 제2-1 저굴절층, Nb2O5 재질로 구성되며, 95nm~105nm의 두께로 상기 제1-1 저굴절층 상에 적층되는 제1-2 고굴절층 및, SiO2 재질로 구성되며, 75nm~85nm의 두께로 상기 제1-1 저굴절층 상에 적층되는 제2-2 저굴절층을 포함한다.
Description
본 발명은 광학 다층막 구조체 및 이를 구비한 표시 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 표시 장치 내의 표시 패널의 표면으로 입사되는 가시광 영역의 빛 반사를 최소화하고, 적외선 차폐율을 높여 열에 의해 표시 장치의 구성 부품이 손상되는 것을 방지하는 광학 다층막 구조체 및 이를 구비한 표시 장치에 관한 것이다.
최근 표시 장치는 화상부의 면적에 비해 그 두께를 얇게 유지할 수 있는 LCD(Liquid Crystal Display), LED(Light Emitting Diodes) 또는 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 등으로 제작되고 있다.
현재 광고 등을 위해 옥외에 설치되어 화상을 표시하는 옥외용 표시 장치, 특히 옥외용 DID(Digital Information Display) 장치의 사용이 날로 증가하고 있는 추세이다.
이러한 옥외용 표시 장치는 외부에 노출된 상태로 배치되므로 외부 빛(태양광, 옥외 광고판 불빛)이 표시 화면에서 반사되므로, 눈부심 현상이 발생되고, 사물의 형상이 표시 화면에 비치는 현상이 발생되는 문제점이 있다. 또한, 옥외용 표시 장치는 태양 열에 의해 과열되어 액정의 상전이 등과 같은 손상을 유발한다.
따라서, 본 발명의 목적은 옥외 디스플레이 장치의 전면에 배치되는 투명 기재에 광학 다층막 구조체를 형성하여 가시광선 투과율을 높여, 표시 화면으로 입사되는 빛의 반사를 최소화하는 동시에 적외선 차폐율을 향상시켜 표시 장치의 구성부품들이 과열되는 것을 방지할 수 있는 광학 다층막 구조체, 이를 구비한 표시 장치 및 상기 광학 다층막 구조체의 제조 방법을 제공하는 데 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일면에 따른 광학 다층막 구조체는,
디스플레이 장치의 전면에 배치되는 투명기재; 및 상기 투명기재의 표면에 다수의 층으로 적층되어 가시광선 투과율을 높이는 동시에 적외선 차폐율을 높이는 다층막을 포함하고, 상기 다층막은, Nb2O5 재질로 구성되며, 105nm~115nm의 두께로 상기 투명기재의 표면에 적층되는 제1-1 고굴절층, SiO2 재질로 구성되며, 165nm~175nm의 두께로 상기 제1-1 고굴절층 상에 적층되는 제2-1 저굴절층, Nb2O5 재질로 구성되며, 95nm~105nm의 두께로 상기 제1-1 저굴절층 상에 적층되는 제1-2 고굴절층 및, SiO2 재질로 구성되며, 75nm~85nm의 두께로 상기 제1-1 저굴절층 상에 적층되는 제2-2 저굴절층을 포함한다.
본 발명의 다른 일면에 따른 표시 장치는, 광학 다층막 구조체를 포함하도록 구성된다.
본 발명의 다른 일면에 따른 광학 다층막 구조체의 제조 방법은, 디스플레이 장치의 전면에 배치되는 투명기재를 준비하는 단계; 및 상기 투명기재의 표면에 다수의 층으로 적층되어 가시광선 투과율을 높이는 동시에 적외선 차폐율을 높이는 다층막을 상기 투명기재상에 증착하는 단계를 포함하고, 상기 증착하는 단계는, Nb2O5 재질의 제1-1 고굴절층을 105nm~115nm의 두께로 상기 투명기재의 표면에 증착하는 단계; SiO2 재질의 제2-1 저굴절층을 165nm~175nm의 두께로 상기 제1-1 고굴절층 상에 증착하는 단계; Nb2O5 재질의 제1-2 고굴절층을 95nm~105nm의 두께로 상기 제2-1 저굴절층 상에 증착하는 단계; 및 SiO2 재질의 제2-2 저굴절층을 75nm~85nm의 두께로 상기 제1-2 고굴절층 상에 증착하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따르면, 표시 장치의 전면에 광학 다층 구조체를 배치하여 가시광선 투과율을 높여, 표시 화면으로 입사되는 가시광 빛의 반사를 최소화는 동시에 적외선 차폐율을 향상시켜 옥외 표시 장치가 과열되는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 표시 장치에 구비된 광학 다층막 구조체의 단면도이다.
도 2는 표 1의 두께 조건으로 제작된 광학 다층막 구조체의 가시광 영역에서의 반사율과 광 투과율을 함께 나타난 그래프이다.
도 3은 표 1의 두께 조건으로 제작된 광학 다층막 구조체의 적외선 영역에서의 반사율과 광 투과율을 함께 나타난 그래프이다.
도 4는 표 2의 두께 조건으로 제작된 광학 다층막 구조체의 가시광 영역에서의 반사율과 광 투과율을 함께 나타난 그래프이다.
도 5는 표 2의 두께 조건으로 제작된 광학 다층막 구조체의 적외선 영역에서의 반사율과 광 투과율을 함께 나타난 그래프이다.
도 2는 표 1의 두께 조건으로 제작된 광학 다층막 구조체의 가시광 영역에서의 반사율과 광 투과율을 함께 나타난 그래프이다.
도 3은 표 1의 두께 조건으로 제작된 광학 다층막 구조체의 적외선 영역에서의 반사율과 광 투과율을 함께 나타난 그래프이다.
도 4는 표 2의 두께 조건으로 제작된 광학 다층막 구조체의 가시광 영역에서의 반사율과 광 투과율을 함께 나타난 그래프이다.
도 5는 표 2의 두께 조건으로 제작된 광학 다층막 구조체의 적외선 영역에서의 반사율과 광 투과율을 함께 나타난 그래프이다.
이하, 본 발명의 다양한 실시예가 첨부된 도면과 연관되어 기재된다. 본 발명의 다양한 실시예는 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들이 도면에 예시되고 관련된 상세한 설명이 기재되어 있다. 그러나, 이는 본 발명의 다양한 실시예를 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 다양한 실시예의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경 및/또는 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 도면의 설명과 관련하여, 유사한 구성요소에 대해서는 유사한 참조 부호가 사용되었다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 표시 장치에 구비된 광학 다층막 구조체의 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 표시 장치는 LCD(Liquid Crystal Display), LED(Light Emitting Diodes), OLED(Organic Light Emitting Diodes) 또는 DID(Digital Information Display) 장치일 수 있다.
이러한 표시 장치는 광고 등을 위해 옥외에 설치되는 옥외용 표시 장치, 특히 옥외용 DID에 적용되는 것이 바람직하다.
옥외용 표시 장치의 경우 태양 광에 그대로 노출되는 외부에 설치되어 있기 때문에 태양 광이 표시 화면에서 반사되어 눈부심이 발생되고 태양 열에 의해 표시 패널이 과열되는 현상이 발생되는 데, 본 발명의 실시 예에 따른 표시 장치에 포함되는 광학 다층막 구조체가 가시광선 투과율을 높여 표시 패널로 입사되는 빛의 반사를 줄이고, 적외선을 차폐하여 태양 열에 의한 표시 패널의 손상을 방지하는 역할을 하게 된다.
이를 위해, 본 발명의 실시 예에 따른 표시 장치는 표시 패널과 상기 표시 패널의 전면에 배치되는 광학 다층막 구조체(100)를 포함하도록 구성될 수 있다. 본 발명의 기술적 핵심은 표시 패널이 아니므로, 이에 대한 설명은 공지의 기술로 대체하며, 도 1에서, 표시 패널의 도시는 생략한다.
본 발명의 실시 예에 따른 광학 다층막 구조체(100)는 표시 패널(도시하지 않음)의 전면에 배치될 수 있으며, 표시 패널(도시하지 않음)과 일정 거리를 두고, 이격되어 배치될 수도 있다. 나아가, 표시 패널(도시하지 않음)의 전면에 일체형으로 부착되도록 배치될 수도 있다.
이러한 광학 다층막 구조체(100)는 투명 기재(10), 상기 투명 기재(10) 상에 적층되는 다층막(15)을 포함하도록 구성된다.
투명 기재(10)의 재질은 반강화 유리 또는 투명 고분자 수지일 있다. 상기 투명 고분자 수지는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PolyEtylene Terephthalate, PET), 아크릴(Acryl), 폴리카보네이트(Polycabonate, PC), 우레탄 아크릴레이트(Urethane Acrylate), 폴리에스테르(Polyester), 에폭시 아크릴레이트(Epoxy Acrylate), 브롬화 아크릴레이트(Brominate Acrylate), 폴리염화비닐(PolyVinyl Chloride, PVC) 등일 수 있다.
다층막(15)은 제1 굴절률을 갖는 고굴절층(11)과 상기 제1 굴절률보다 낮은 제2 굴절률을 갖는 저굴절층(12)이 반복 적층되는 구조를 가지며, 본 실시 예에서는, 가시광선 투과율을 높이는 동시에 적외선 차폐율을 높이도록 4층 구조로 적층된 다층막(15)이 예시된다.
이에 따라, 상기 다층막(15)은 상기 투명 기재(10) 상에 적층되는 제1-1 고굴절층(11), 제1-1 고굴절층(11) 상에 적층되는 제2-1 저굴절층(12), 제2-1 저굴절층(12) 상에 적층되는 제1-2 고굴절층(13) 및 제1-2 고굴절층(13) 상에 적층되는 제2-2 저굴절층(14)을 포함하도록 구성될 수 있다.
이러한 다층막(15) 구조에서, 상기 제1-1 고굴절층(11)이 상기 투명 기재(10)에 직접 적층되는 제일 안쪽층을 형성하고, 상기 제2-2 저굴절층(14)이 외부에 노출되는 제일 바깥쪽 층을 형성한다.
이러한 다층막(15) 구조에서, 고굴절층(11, 13)은 2.0~2.3의 제1 굴절률을 가지며, 그 재질은 Ti3O5, ZrO2, Nb2O5, Si3N4 또는 이들의 조합물 중 어느 하나일 수 있으며, 저굴절층(12, 14)은 1.3~1.5의 제2 굴절률을 가지며, 그 재질은 SiO2, MgF2 또는 이들의 조합물 중 어느 하나일 수 있다.
본 실시 예에 따른 다층막(15)을 구성하는 각 층의 두께는 가시광선 투과율을 높이는 동시에 적외선 차폐율을 높이도록 다양하게 형성될 수 있다.
제1 실시 예로, 고굴절층(11, 13)의 재질이 Nb2O5이고, 저굴절층(12, 14)의 재질이 SiO2로 이루어진 4층 구조의 다층막(15)에서, 각 층의 두께는 아래의 표 1과 같다.
| 물질 | 두께(nm) | 최적 두께(nm) |
| SiO2 (제일 바깥층) |
75~85 | 80 |
| Nb2O5 | 95~105 | 100 |
| SiO2 | 165~175 | 170 |
| Nb2O5 (제일 안쪽층 ) |
105~115 | 110 |
| 유리 기판 | ||
위의 표 1에 나타낸 각 층별 두께는 사전에 제작한 다수의 다층막 샘플에서 가시광선 투과율이 우수하고, 동시에 적외선 차폐율이 우수한 샘플들을 시험을 통해 선별하고, 선별된 다수의 다층막 샘플에서 획득한 결과치이고, 각 층별 최적 두께는 선별된 다수의 다층막 샘플 중에서 가시광선 투과율이 가장 우수하고, 동시에 적외선 차폐율이 가장 우수한 샘플에서 획득한 결과치이다.
본 출원인은 SiO2의 저굴절층의 두께가 표 1에 나타나는 상한치보다 두껍게 제작된 샘플에서, 가시광선 영역에서의 투과율 및 반사율에는 큰 변화가 없지만, 적외선 영역에서의 적외선 차단율이 감소(투과율이 증가하고 반사율은 감소)하여 디스플레이가 태양열 등으로 받는 열적 데미지가 증가함을 확인할 수 있었다.
또한, 본 출원인은 SiO2의 저굴절층의 두께가 표 1에 나타나는 하한치보다 얇게 제작된 샘플에서, 적외선 영역에서의 적외선 차단율이 증가(투과율이 감소하고 반사율은 증가)하여 디스플레이가 태양열 등으로 받는 열적 데미지가 감소하지만, 가시광선 영역에서의 광 투과율은 감소하고 반사율은 증가하여 사용자가 디스플레이를 인식하는데 문제가(화면이 어둡게 보임. 인식률이 떨어짐) 발생함을 다수의 실험을 통해 확인할 수 있었다.
또한, 본 출원인은 Nb2O5의 고굴절층의 두께가 표 1에 나타나는 상한치보다 두껍게 제작된 샘플에서, 적외선 영역에서의 적외선 차단율이 증가(투과율이 감소하고 반사율은 증가)하여 디스플레이가 태양열 등으로 받는 열적 데미지가 감소하지만, 가시광선 영역에서의 광 투과율은 감소하고 반사율은 증가하여 사용자가 디스플레이를 인식하는데 문제가(화면이 어둡게 보임. 인식률이 떨어짐) 발생함을 확인할 수 있었다.
또한, 본 출원인은 Nb2O5의 고굴절층의 두께가 표 1에 나타나는 하한치보다 얇게 제작된 샘플에서, 가시광선 영역에서의 투과율 및 반사율에는 큰 변화가 없지만, 적외선영역에서의 적외선 차단율이 감소(투과율이 증가하고 반사율은 감소)하여 디스플레이가 태양열 등으로 받는 열적 데미지가 증가함을 확인할 수 있었다.
표 1의 두께 조건으로 제작된 다층막 구조체의 특성이 아래의 표 2와 같다.
| 가시광 | 550 nm | 투과 | 투과율 | 92.13 |
| L* | 95.72 | |||
| a* | -1.34 | |||
| b* | 2.73 | |||
| 반사 | 반사율 | 4.93 | ||
| L* | 29.62 | |||
| a* | 0.7 | |||
| b* | -12.3 | |||
| 380~780 nm | 투과율 | 84.77 | ||
| 반사율 | 8.97 | |||
| 적외선 | 1050 nm | 투과율 | 35.53 | |
| 반사율 | 52.59 | |||
| 780~2500 nm | 투과율 | 64.36 | ||
| 반사율 | 21.08 | |||
| 열차단율 | 23.9 | |||
아래의 표 3은 표 1의 두께 범위에 속하지 않은 제2 실시 예에 따른 각 층의 두께를 나타낸 것이다.
| 물질 | 두께 (nm) |
| SiO2 | 70 |
| Nb2O5 | 125 |
| SiO2 | 185 |
| Nb2O5 | 110 |
| 유리 기판 | |
위의 표3에서, 상기 투명 기재(10) 상에 직접 적층되는 Nb2O5의 제1-1 고굴절층(11)의 두께(110 nm)를 제외하면, 나머지 각 층별 두께는 표 1에서 대응하는 각층의 두께 범위에 속하지 않는다.
그럼에도 불구하고, 표 3과 같은 결과치에서도 우수한 가시광선 투과율과 우수한 적외선 차폐율을 달성할 수 있는 다층막 구조체를 획득할 수 있었다.
표 1 및 3으로부터, 공통적으로 알 수 있는 사실은, 고굴절층과 저굴절층이 반복되는 4층 구조를 갖는 다층막(15)에서는, 4층 구조에서 제2-1 저굴절층(12)의 두께가 가장 두껍고, 제2-2 저굴절층(14)의 두께가 가장 얇게 설계되어야 하며, 제1-1 고굴절층의 두께가 제1-2 고굴절층보다 두께보다 작게 설계되어야 함이다.
아래의 표 4는 표 3의 두께 조건으로 제작된 광학 다층막 구조체의 특성을 나타낸 것이다.
| 가시광 | 550 nm | 투과 | 투과율 | 90.5 |
| L* | 94.59 | |||
| a* | -2.97 | |||
| b* | 1.09 | |||
| 반사 | 반사율 | 5.7 | ||
| L* | 35.87 | |||
| a* | 6.91 | |||
| b* | -3.79 | |||
| 380~780 nm | 투과율 | 80.9 | ||
| 반사율 | 11.6 | |||
| 적외선 | 1050 nm | 투과율 | 35.27 | |
| 반사율 | 52.82 | |||
| 780~2500 nm | 투과율 | 63.11 | ||
| 반사율 | 23.31 | |||
| 열차단율 | 30.6 | |||
광학
다층막
구조체(100)의 제조 방법
본 발명의 실시 예에서는, 고굴절층(11, 13)의 재질이 Nb2O5이고, 저굴절층(12, 14)의 재질이 SiO2로 이루어진 4층 구조의 다층막(15)을 갖는 광학 다층막 구조체의 제조 방법에 대해서 기술한다.
본 발명의 실시 예에 따른 광학 다층막 구조체(100)의 제조 방법에서는, 증착 공정이 이용될 수 있다.
SiO2의 저굴절층(12, 14)은, 예를 들면, 단결정의 Si 타겟을 사용하여, 아르곤대 산소의 비율이 7 %(예를 들어 아르곤 100 sccm(standard cubic centimeter per minute)에 산소 7.6 sccm)에서 MF(Mid-range Frequency sputtering power) 또는 DC(Direct Current sputtering power)와 같은 에너지로 발생된 플라즈마를 이용하여 증착될 수 있다.
Nb2O5의 고굴절층(11, 13)은, 예를 들면, 다결정의 Nb2O5 타겟을 사용하여, 아르곤대 산소의 비율이 5 %(예를 들어 아르곤 100 sccm에 산소 5.3 sccm)에서 MF 또는 DC를 사용하여 증착될 수 있다.
이러한 다층막 증착 공정은 모두 상온에서 진행되며, 다층막 증착 후 600~650 도의 온도로 열처리 공정을 진행할 수 있다. 이러한 열처리 공정을 통하여 다층막 상호간의 계면 특성을 향상시켜 가시광 및 적외선 영역에서의 광학적 특성을 향상시킬 수 있다. 여기서, 600 도 이하에서는 SiO2와 Nb2O5 박막에 충분한 열에너지가 공급되지 못하여 계면 특성의 변화가 없어 광학적 특성 변화가 없으며, 650 도 이상에서는 투명 기재들의 변형으로 인하여 제품이 변형되는 문제가 발생할 수 있으므로, 다층막 증착 후 진행되는 열처리 공정은 600~650 도의 온도로 진행하는 것이 바람직하다.
도 2는 표 1의 두께 조건으로 제작된 광학 다층막 구조체의 가시광 영역에서의 반사율과 광 투과율을 함께 나타난 그래프이고, 도 3은 표 1의 두께 조건으로 제작된 광학 다층막 구조체의 적외선 영역에서의 반사율과 광 투과율을 함께 나타난 그래프이고, 도 4는 표 2의 두께 조건으로 제작된 광학 다층막 구조체의 가시광 영역에서의 반사율과 광 투과율을 함께 나타난 그래프이다. 그리고, 도 5는 표 2의 두께 조건으로 제작된 광학 다층막 구조체의 적외선 영역에서의 반사율과 광 투과율을 함께 나타난 그래프이다.
도 2 내지 도 5에서 볼 수 있듯이, 표 1 및 표 2의 두께 조건에 따라 제작된 광학 다층막 구조체에서 가시광선 투과율과 적외선 차폐율을 향상시킬 수 있음을 확인할 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 광학 다층막 구조체를 옥외 디스플레이 장치의 전면에 배치하는 경우, 가시광선 투과율을 높여, 표시 화면으로 입사되는 빛의 반사를 최소화하는 동시에 적외선 차폐율을 향상시켜 표시 장치의 구성부품들이 과열되는 것을 방지할 수 있다.
이상에서 본 발명에 대하여 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 본 발명의 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
Claims (7)
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 옥외 디스플레이 장치의 전면에 배치되는 투명 기재의 전면에 배치하여, 가시광선 투과율을 높이고 표시 화면으로 입사되는 빛의 반사를 최소화하는 동시에 780 ~ 2500nm 대역의 적외선 차폐율을 향상시켜 상기 옥외 디스플레이 장치의 구성 부품들이 과열되는 것을 방지하는 광학 다층막 구조체의 제조 방법에서,
상기 옥외 디스플레이 장치의 전면에 배치되는 상기 투명기재를 준비하는 단계; 및
상기 투명기재의 표면에 다수의 층으로 적층되어 가시광선 투과율을 높이는 동시에 적외선 차폐율을 높이는 다층막을 상기 투명기재상에 증착하는 단계를 포함하고,
상기 증착하는 단계는, 상온에서 진행되는 증착 공정에 따라 4층 구조의 다층막을 증착하는 단계로서,
105nm~115nm의 두께로 상기 투명기재의 표면에 Nb2O5 재질의 제1-1 고굴절층을 증착하는 단계;
165nm~175nm의 두께로 상기 제1-1 고굴절층 상에 SiO2 재질의 제2-1 저굴절층을 증착하는 단계;
95nm~105nm의 두께로 상기 제2-1 저굴절층 상에 Nb2O5 재질의 제1-2 고굴절층을 증착하는 단계; 및
75nm~85nm의 두께로 상기 제1-2 고굴절층 상에 SiO2 재질의 제2-2 저굴절층을 증착하는 단계를 포함하며,
상기 제2-2 저굴절층을 증착하는 단계 이후, 600-650도의 온도로 열처리 공정을 진행하는 단계를 더 포함하는 광학 다층막 구조체의 제조 방법.
- 삭제
- 제4항에서, 상기 제1-1 고굴절층과 상기 제1-2 고굴절층을 증착하는 단계 각각은,
다결정의 Nb2O5 타겟을 사용하여, 아르곤 100 sccm 및 산소 5.3 sccm에서 MF(Mid-range Frequency sputtering power)로 발생된 플라즈마를 이용하여, 증착하는 단계임을 특징으로 하는 광학 다층막 구조체의 제조 방법.
- 제4항에서, 상기 제2-1 저굴절층과 상기 제2-2 저굴절층을 증착하는 단계 각각은,
단결정의 Si 타겟을 사용하여, 아르곤 100 sccm 및 산소 5.3 sccm에서 MF(Mid-range Frequency sputtering power)로 발생된 플라즈마를 이용하여, 증착하는 단계임을 특징으로 하는 광학 다층막 구조체의 제조 방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020170052358A KR101884893B1 (ko) | 2017-04-24 | 2017-04-24 | 광학 다층막 구조체 및 이를 구비한 표시 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020170052358A KR101884893B1 (ko) | 2017-04-24 | 2017-04-24 | 광학 다층막 구조체 및 이를 구비한 표시 장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR101884893B1 true KR101884893B1 (ko) | 2018-08-03 |
Family
ID=63250307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020170052358A KR101884893B1 (ko) | 2017-04-24 | 2017-04-24 | 광학 다층막 구조체 및 이를 구비한 표시 장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101884893B1 (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102022250B1 (ko) * | 2019-02-08 | 2019-11-04 | 주식회사 포메링 | 스퍼터링 공정을 이용한 ar/ir의 반사율 및 투과율을 개선한 코팅층이 형성된 디스플레이 장치 |
| KR20210004413A (ko) * | 2019-07-04 | 2021-01-13 | 윤세원 | 재귀반사시트 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006205729A (ja) * | 1993-12-21 | 2006-08-10 | 3M Co | 多層光学フィルム |
| JP2010044278A (ja) * | 2008-08-15 | 2010-02-25 | Jsr Corp | 光学積層フィルムの製造方法および該方法により得られる光学積層フィルム |
| JP2010078714A (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-08 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 広域熱線カットフィルタ |
| JP2010175838A (ja) * | 2009-01-29 | 2010-08-12 | Daishinku Corp | 光線カットフィルタ |
-
2017
- 2017-04-24 KR KR1020170052358A patent/KR101884893B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006205729A (ja) * | 1993-12-21 | 2006-08-10 | 3M Co | 多層光学フィルム |
| JP2009143236A (ja) * | 1993-12-21 | 2009-07-02 | 3M Co | 多層光学フィルム |
| JP2010044278A (ja) * | 2008-08-15 | 2010-02-25 | Jsr Corp | 光学積層フィルムの製造方法および該方法により得られる光学積層フィルム |
| JP2010078714A (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-08 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 広域熱線カットフィルタ |
| JP2010175838A (ja) * | 2009-01-29 | 2010-08-12 | Daishinku Corp | 光線カットフィルタ |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102022250B1 (ko) * | 2019-02-08 | 2019-11-04 | 주식회사 포메링 | 스퍼터링 공정을 이용한 ar/ir의 반사율 및 투과율을 개선한 코팅층이 형성된 디스플레이 장치 |
| KR20210004413A (ko) * | 2019-07-04 | 2021-01-13 | 윤세원 | 재귀반사시트 |
| KR102225452B1 (ko) * | 2019-07-04 | 2021-03-08 | 윤세원 | 재귀반사시트 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20230152493A1 (en) | Transparent covering having anti-reflective coatings | |
| RU2439009C2 (ru) | Смотровое окно устройств | |
| KR102482628B1 (ko) | 디스플레이 영역을 포함하는 투명 층상 요소 | |
| CN102909918B (zh) | 双面镀膜玻璃及其制备方法 | |
| JP2020166290A (ja) | 映像表示透明部材、映像表示システムおよび映像表示方法 | |
| US10816703B2 (en) | Near infrared reflective coatings | |
| US11056661B2 (en) | Color conversion layer, manufacturing method thereof, and display panel | |
| US11054559B2 (en) | Reflective transparent screen having metal alloy thin film and concavo-convex structure | |
| KR101884893B1 (ko) | 광학 다층막 구조체 및 이를 구비한 표시 장치 | |
| JP2004184579A (ja) | 導電性を有する多層反射防止膜付透明基板 | |
| CN101556344A (zh) | 光学元件 | |
| JP2015001578A (ja) | 低放射率部材 | |
| JP2013205805A (ja) | 光学部材 | |
| CN110376664A (zh) | 遮光隔圈及其制造方法、成像镜头组、摄像装置 | |
| KR20190049277A (ko) | 광학용 반사방지 필름 및 이의 제조방법 | |
| Lee et al. | Deposition of a conductive near-infrared cutoff filter by radio-frequency magnetron sputtering | |
| KR101606172B1 (ko) | 디스플레이 장치용 기판 | |
| JP3750570B2 (ja) | 反射防止材の製造方法及び光学部材 | |
| JP2020076883A (ja) | 反射防止フィルム | |
| CN212655701U (zh) | 一种抗红外辐射减反射镀膜盖板 | |
| KR102623556B1 (ko) | 광학 부재, 이의 제조방법 및 상기 광학 부재를 포함하는 표시 장치 | |
| JP2022053388A (ja) | ガラス材、及び窓材 | |
| TWI590949B (zh) | 抗藍光螢幕保護膜 | |
| KR101574850B1 (ko) | 방현필름 및 이를 포함하는 디스플레이장치 | |
| KR20170019121A (ko) | 색상구현이 가능한 적외선차폐 단열코팅 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |