KR101870579B1 - Display manufacturing apparatus and display manufacturing method using the same - Google Patents

Display manufacturing apparatus and display manufacturing method using the same Download PDF

Info

Publication number
KR101870579B1
KR101870579B1 KR1020170095728A KR20170095728A KR101870579B1 KR 101870579 B1 KR101870579 B1 KR 101870579B1 KR 1020170095728 A KR1020170095728 A KR 1020170095728A KR 20170095728 A KR20170095728 A KR 20170095728A KR 101870579 B1 KR101870579 B1 KR 101870579B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cover
moving mechanism
cover member
movable
moving
Prior art date
Application number
KR1020170095728A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
유키 아이자와
타카오 호시노
노리야스 사토
Original Assignee
캐논 톡키 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 캐논 톡키 가부시키가이샤 filed Critical 캐논 톡키 가부시키가이샤
Priority to KR1020170095728A priority Critical patent/KR101870579B1/en
Priority to JP2018115773A priority patent/JP6401885B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101870579B1 publication Critical patent/KR101870579B1/en
Priority to CN201810657092.9A priority patent/CN109306453B/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67196—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the transfer chamber
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67201—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the load-lock chamber
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742—Mechanical parts of transfer devices
    • H01L51/56—
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Bearings For Parts Moving Linearly (AREA)
  • Recrystallisation Techniques (AREA)

Abstract

The present invention relates to a display manufacturing apparatus, which comprises: a chamber performing treatment for an object to be treated; a moving body moving in the chamber; a moving mechanism moving the moving body and including a lubricated portion to which a lubricating member is applied; and a cover member installed in close contact with the moving mechanism to cover at least the lubricated portion of the moving mechanism. Accordingly, the lubricating member scattered from the moving mechanism in the chamber towards the object to be treated can be prevented by the cover member.

Description

디스플레이 제조장치 및 이를 사용한 디스플레이 제조방법 {DISPLAY MANUFACTURING APPARATUS AND DISPLAY MANUFACTURING METHOD USING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display manufacturing apparatus and a display manufacturing method using the same,

본 발명은 디스플레이 제조 장치 및 이를 사용한 디스플레이 제조방법에 관한 것으로, 구체적으로는, 유기전계발광 디스플레이(OLED) 의 제조장치 내에서 피이동체를 이동시키기 위한 이동기구로부터 윤활부재가 비산되어 피증착체나 마스크에 부착되는 것을 저감하기 위한 구조를 가지는 디스플레이 제조 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display manufacturing apparatus and a display manufacturing method using the display manufacturing apparatus. More particularly, the present invention relates to a manufacturing apparatus for an organic electroluminescence display (OLED), in which a lubricating member is scattered from a moving mechanism for moving a moving object, To a display manufacturing apparatus having a structure for reducing the adherence to the display.

최근 평판 디스플레이로서 유기전계발광 디스플레이가 각광을 받고 있다. 유기전계발광 디스플레이는 자발광 디스플레이로서, 응답 속도, 시야각, 박형화 등의 특성이 액정 패널 디스플레이보다 우수하여, 모니터, 텔레비전, 스마트폰으로 대표되는 각종 휴대 단말 등에서 기존의 액정 패널 디스플레이를 빠르게 대체하고 있다. 또한, 자동차용 디스플레이 등으로도 그 응용분야를 넓혀가고 있다. BACKGROUND ART [0002] Recently, an organic electroluminescent display has attracted attention as a flat panel display. The organic electroluminescence display is a self-luminous display, and its characteristics such as response speed, viewing angle, and thinness are superior to liquid crystal panel display, and thus various types of portable terminals represented by monitors, televisions, and smart phones are rapidly replacing existing liquid crystal panel displays . In addition, automotive displays are expanding their applications.

유기전계발광 디스플레이 소자는 2개의 마주보는 전극(캐소드 전극, 애노드 전극) 사이에 발광을 일으키는 유기물 층이 형성된 기본 구조를 가지고 있는데, 유기전계발명 디스플레이 소자의 유기물 층은 진공 챔버 내에서 증발원에 수용되어 있는 증착 물질을 증발시켜 진공 챔버 내의 피증착체에 증착함으로써 형성된다. The organic electroluminescence display device has a basic structure in which an organic layer for emitting light is formed between two opposing electrodes (a cathode electrode and an anode electrode). An organic layer of the organic electroluminescent display device is accommodated in an evaporation source in a vacuum chamber And evaporating the deposited material in the vacuum chamber and depositing the deposited material in the vacuum chamber.

대형화된 피증착체상에 일정한 막두께를 가지는 유기물층을 형성하기 위하여, 진공 챔버내에 정지되어 있는 피증착체에 대해 증발원이 이동하면서 증착공정이 수행된다. 이와 같이 증발원이 이동하는 무빙 소스로 이루어지는 경우, 증발원의 이동을 위하여 가이드 레일이 설치되고 그 가이드 레일 위를 증발원이 이동하게 된다. In order to form an organic layer having a constant film thickness on the enlarged body, a deposition process is performed while the evaporation source moves to the body to be vaporized which is stationary in the vacuum chamber. When the evaporation source is made of a moving source, the guide rail is installed for moving the evaporation source, and the evaporation source moves on the guide rail.

이때 가이드레일 상에는 가이드 레일을 따라 이동하는 가이드 블록이 설치되며, 가이드 블록 위에 증발원 몸체가 안착된다. 증발원이 안착된 가이드 블록은 가이드 레일을 따라 이동하기 때문에, 가이드 블록과 가이드 레일간의 마찰을 저감시키기 위해서, 가이드 레일과 가이드 블록 사이에는 그리스(grease)와 같은 윤활제가 가해진다. At this time, a guide block moving along the guide rail is provided on the guide rail, and the evaporation source body is seated on the guide block. Since the guide block on which the evaporation source is mounted moves along the guide rail, a lubricant such as grease is applied between the guide rail and the guide block to reduce the friction between the guide block and the guide rail.

그런데, 진공 증착 공정이 이루어지는 동안, 가이드 레일과 이와 상대적으로 이동하는 가이드 블록간의 마찰열이 지속적으로 발생하며, 또한, 증착 물질을 증발시키기 위한 증발 유닛의 가열로 인해 진공 챔버 내부의 온도 자체가 올라가게 된다. 이에 의해 그리스가 가열되어 증발되어 버린다. 특히, 증착 공정은 진공상태에서 이루어지기 때문에, 그리스 성분이 증발되기가 쉬울 뿐만 아니라 공기저항이 없기 때문에 증발된 그리스가 진공 챔버의 상부에 배치되는 피증착체나 마스크를 향해 비산하기 쉬워, 피증착체의 증착면이나 마스크에 부착될 수 있다. 이렇게 피증착체의 증착면에 부착된 그리스는, 유기 전계 발광 표시 소자의 수명을 단축시키는 원인이 된다. However, during the vacuum deposition process, frictional heat is continuously generated between the guide rail and the guide block that moves relative to the guide rail, and the temperature inside the vacuum chamber increases due to the heating of the evaporation unit for evaporating the evaporation material do. As a result, the grease is heated and evaporated. Particularly, since the deposition process is performed in a vacuum state, not only is the grease component evaporated easily, but also there is no air resistance, the evaporated grease is easily scattered toward the evaporator or the mask disposed on the upper portion of the vacuum chamber, Or on the deposition surface or mask of the mask. Thus, the grease adhering to the deposition surface of the evaporation material causes the lifetime of the organic electroluminescence display device to shorten.

이러한 그리스 비산에 의한 문제는 진공 증착 장치뿐만 아니라 진공 증착 장치와 함께 유기전계발광 디스플레이 제조 라인을 구성하는 다른 장치(마스크 스톡 챔버, 피증착체 스톡 챔버, 패스 챔버 등)와 같이 이동기구나 승강기구를 사용하여 피증착체나 마스크의 이송/승강을 행하는 장치에서도 마찬가지로 문제가 된다.The problems caused by the grease scattering include not only a vacuum deposition apparatus but also a vacuum deposition apparatus and other apparatuses (mask stock chamber, deposited body stock chamber, pass chamber, etc.) constituting the organic electroluminescence display manufacturing line, This is also problematic in an apparatus for carrying / lifting / lowering a deposited body or a mask by using the mask.

본 발명이 해결하고자 하는 과제 내지 목적은, 마찰열 등에 의해 비산된 그리스가 피증착체나 마스크에 부착되는 것을 저감할 수 있는 디스플레이 제조 장치를 제공하는 것이다. A problem to be solved by the present invention is to provide a display manufacturing apparatus capable of reducing the adhesion of grease scattered by frictional heat or the like to a deposited body or a mask.

본 발명의 과제 내지 목적은 위에서 언급한 기술적 과제 내지 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제 내지 목적은 이하의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The object or object of the present invention is not limited to the above-mentioned technical object or purpose but another technical object or purpose not mentioned can be understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 디스플레이 제조 장치는, 처리 대상체에 대한 처리가 이루어지는 챔버; 상기 챔버 내에서 이동하는 이동체; 상기 이동체를 이동시키기 위한 이동 기구로서, 윤활 부재가 가해지는 윤활 부위를 포함하는 이동 기구; 및 적어도 상기 이동 기구의 상기 윤활부위를 덮도록, 상기 이동 기구에 인접하게 설치되는 커버 부재를 포함한다.A display manufacturing apparatus of the present invention comprises: a chamber in which processing is performed on a treatment object; A moving body moving in the chamber; A moving mechanism for moving the moving body, the moving mechanism comprising: a moving mechanism including a lubricating portion to which a lubricating member is applied; And a cover member provided adjacent to the moving mechanism so as to cover at least the lubricating portion of the moving mechanism.

본 발명의 일 양태에 따른 디스플레이 제조 장치는, 피증착체에 대한 증착이 이루어지는 진공 챔버; 증착 물질이 충전되는 증발원을 포함하는 증발원 유닛; 상기 증발원 유닛을 제1 방향으로 이동시키기 위한 제1 이동기구로서, 윤활 부재가 가해지는 윤활 부위를 포함하는 제1 이동기구; 및 적어도 상기 제1 이동기구의 상기 윤활부위를 덮도록, 상기 제1 이동기구에 인접하게 설치되는 제1 이동기구 커버부재를 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a display manufacturing apparatus comprising: a vacuum chamber in which deposition is performed on an evaporated material; An evaporation source unit including an evaporation source to which the evaporation material is charged; A first moving mechanism for moving the evaporation source unit in a first direction, the first moving mechanism including: a first moving mechanism including a lubricating portion to which a lubricating member is applied; And a first moving mechanism cover member provided adjacent to the first moving mechanism so as to cover at least the lubricating portion of the first moving mechanism.

본 발명의 다른 양태에 따른 디스플레이 제조 장치는, 피증착체에 대한 증착이 이루어지는 진공 챔버; 증착 물질이 충전되는 증발원을 포함하는 증발원 유닛; 상기 증발원 유닛을 제1 방향으로 이동시키기 위한 제1 이동기구; 상기 제1 이동기구를 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 이동시키기 위한 제2 이동기구로서, 윤활부재가 가해지는 윤활 부위를 포함하는 제2 이동기구; 및 적어도 상기 제2 이동기구의 상기 윤활부위를 덮도록 상기 제2 이동기구에 인접하게 설치되는 제2 이동기구 커버부재를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a display manufacturing apparatus including: a vacuum chamber in which deposition is performed on an evaporated material; An evaporation source unit including an evaporation source to which the evaporation material is charged; A first moving mechanism for moving the evaporation source unit in a first direction; A second moving mechanism for moving the first moving mechanism in a second direction intersecting with the first direction, the second moving mechanism including a lubricating portion to which the lubricating member is applied; And a second moving mechanism cover member provided adjacent to the second moving mechanism so as to cover at least the lubricating portion of the second moving mechanism.

본 발명의 다른 양태에 따른 디스플레이 제조 장치는, 피이동체가 수납되는 챔버; 상기 챔버내의 피이동체를 이동시키기 위한 이동기구로서, 윤활부재가 가해지는 윤활부위를 포함하는 이동기구; 및 적어도 상기 이동기구의 상기 윤활부위를 덮도록, 상기 이동기구에 인접하게 설치되는 이동기구 커버부재를 포함한다.A display manufacturing apparatus according to another aspect of the present invention includes: a chamber in which a moving object is received; A moving mechanism for moving a moving object in the chamber, the moving mechanism comprising: a moving mechanism including a lubricating portion to which a lubricating member is applied; And a moving mechanism cover member provided adjacent to the moving mechanism so as to cover at least the lubricating portion of the moving mechanism.

본 발명의 다른 양태에 따른 디스플레이 제조 장치는, 마스크가 수납되는 챔버; 사용 전후의 마스크를 구분하여 수납하는 복수의 카세트; 상기 카세트를 승강시키기 위한 승강기구로서, 윤활부재가 가해지는 윤활부위를 포함하는 승강기구; 및 적어도 상기 승강기구의 상기 윤활 부위를 덮도록, 상기 승강기구에 인접하게 설치되는 승강기구 커버부재를 포함한다.A display manufacturing apparatus according to another aspect of the present invention includes: a chamber in which a mask is housed; A plurality of cassettes for storing masks separately before and after use; An elevating mechanism for elevating and lowering the cassette, comprising: a lift mechanism including a lubricating portion to which a lubricating member is applied; And an elevating mechanism cover member provided adjacent to the elevating mechanism so as to cover at least the lubricating portion of the elevating mechanism.

본 발명의 다른 양태에 따른 디스플레이 제조 장치는, 피증착체가 수납되는 챔버; 상기 피증착체를 수납하는 카세트; 상기 챔버 내에서, 상기 카세트를 승강시키는 승강기구로서, 윤활부재가 가해지는 윤활부위를 포함하는 승강기구; 및 적어도 상기 승강기구의 상기 윤활부위를 덮도록, 상기 승강기구에 인접하게 설치되는 승강기구 커버부재를 포함한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a display manufacturing apparatus including: a chamber in which an evaporation material is accommodated; A cassette for containing the object to be vapor deposited; An elevating mechanism for elevating and lowering the cassette in the chamber, the elevating mechanism including a lubrication portion to which a lubrication member is applied; And an elevating mechanism cover member provided adjacent to the elevating mechanism so as to cover at least the lubricating portion of the elevating mechanism.

본 발명의 다른 양태에 따른 디스플레이 제조 장치는, 피증착체의 흐름 방향으로의 하류측의 증착스테이션으로 피증착체를 전달하는 챔버; 상기 챔버내에서 피증착체가 놓이는 스테이지; 상기 스테이지의 하부에 설치되며, 상기 스테이지를 이송하기 위한 이송기구로서, 윤활부재가 가해지는 윤활부위를 포함하는 이송기구; 및 적어도 상기 이송기구의 상기 윤활부위를 덮도록, 상기 이송기구에 인접하게 설치되는 이송기구 커버부재를 포함한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a display manufacturing apparatus comprising: a chamber for transferring an evaporated material to an evaporation station on a downstream side in a flow direction of an evaporated material; A stage in which the deposited material is placed in the chamber; A transfer mechanism installed at a lower portion of the stage, the transfer mechanism including a lubrication portion to which the lubrication member is applied; And a feed mechanism cover member provided adjacent to the feed mechanism so as to cover at least the lubricating portion of the feed mechanism.

본 발명에 의하면, 진공 증착 장치에 있어서 증발원 유닛을 진공 챔버내에서 이동시키기 위한 증발원 이동기구로부터 비산되는 불화물 그리스와 같은 윤활부재가 피증착체나 마스크에 부착되는 것을 저감할 수 있으며, 이에 따라, 본 발명의 진공 증착 장치에 의해 제조되는 유기전계발광 디스플레이의 불량을 효과적으로 방지할 수 있다. 또한, 마스크 스톡 챔버, 피증착체 스톡 챔버, 패스 챔버와 같이 유기전계발광 디스플레이의 제조 라인을 구성하는 각 챔버내에서 피증착체나 마스크의 이송/승강기구로부터 그리스 등이 비산하여 피증착체나 마스크에 부착되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.According to the present invention, it is possible to reduce adhesion of a lubricant such as fluoride grease scattered from the evaporation source moving mechanism for moving the evaporation source unit in the vacuum chamber to the evaporated body or the mask in the vacuum evaporation apparatus, It is possible to effectively prevent defects of the organic electroluminescence display manufactured by the vacuum vapor deposition apparatus of the present invention. Further, in the chambers constituting the production line of the organic electroluminescence display, such as the mask stock chamber, the evaporated material stock chamber, and the pass chamber, grease or the like is scattered from the evaporator or the transfer / It is possible to effectively prevent adhesion.

도 1은 유기전계발광 디스플레이 제조라인의 개략도이다.
도 2는 유기전계발광 디스플레이 제조라인에 사용되는 진공 증착 장치의 개략도이다.
도 3은 진공 증착 장치의 증발원 유닛을 이동시키기 위한 제1 이동기구 및 윤활부재의 비산을 방지하기 위한 커버부재의 개략도이다.
도 4는 진공 증착 장치의 증발원 유닛을 진공 증착 장치의 스테이지 간에 이동시키기 위한 제2 이동기구 및 윤활부재의 비산을 방지하기 위한 커버부재의 개략도이다.
도 5는 마스크 스톡 챔버내의 마스크카세트를 승강시키기 위한 승강기구 및 윤활부재의 비산을 방지하기 위한 커버부재의 개략도이다.
도 6은 피증착체 스톡 챔버내에서 피증착체 카세트를 승강시키기 위한 승강기구 및 윤활부재의 비산을 방지하기 위한 커버부재의 개략도이다.
도 7은 패스 챔버내에서 피증착체를 이송하기 위한 이송기구 및 윤활부재의 비산을 방지하기 위한 커버 부재의 개략도이다.
도 8은 본 발명의 디스플레이 제조 장치를 사용하여 유기전계발광 디스플레이를 제조하는 방법에 대한 흐름도이다.1 is a schematic view of an organic electroluminescent display manufacturing line.
2 is a schematic view of a vacuum deposition apparatus used in an organic electroluminescence display production line.
3 is a schematic view of a first moving mechanism for moving the evaporation source unit of the vacuum vapor deposition apparatus and a cover member for preventing scattering of the lubricant member.
4 is a schematic view of a second moving mechanism for moving the evaporation source unit of the vacuum evaporation apparatus between the stages of the vacuum evaporation apparatus and a cover member for preventing scattering of the lubricant member.
5 is a schematic view of a cover member for preventing raising and lowering of the mask cassette in the mask stock chamber and scattering of the lubrication member.
6 is a schematic view of a lift member for lifting and lowering the cassette in the deposit chamber stock chamber and a cover member for preventing scattering of the lubricant member.
7 is a schematic view of a conveying mechanism for conveying the evaporated material in the pass chamber and a cover member for preventing scattering of the lubricant member.
8 is a flow chart of a method of manufacturing an organic electroluminescent display using the display manufacturing apparatus of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에는 다양한 변경이 가해질 수 있고 다양한 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예를 도면에 예시하여 설명한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정의 실시예로 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Various modifications may be made to the present invention and various embodiments may be made, and specific embodiments will be illustrated and illustrated in the drawings. It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

도 1은 유기전계발광 디스플레이의 제조라인의 구성을 간략히 나타낸 도면이다. 유기전계발광 디스플레이 제조라인은 복수 개의 증착 스테이션으로 이루어지며, 각 증착 스테이션은 트랜스퍼 챔버(1)(transfer chamber), 트랜스퍼 챔버(1)에 연결된 복수의 진공 증착 장치(2), 트랜스퍼 챔버(1)에 연결되며, 사용전후의 마스크가 수납되는 마스크 스톡 챔버(3)를 포함한다. 각 증착 스테이션 사이에는 피증착체의 흐름 방향으로 상류측의 증착 스테이션으로부터 피증착체를 받아 하류측의 증착스테이션으로 피증착체를 전달하기 전에 일시적으로 피증착체를 수납하는 피증착체 스톡 챔버(4), 피증착체 스톡 챔버(4)의 하류측에 설치되며 피증착체 스톡 챔버(4)내의 피증착체를 수평선회시키기 위한 턴 챔버(5)(turn chamber), 턴 챔버(5)로부터 피증착체를 받아 다음 증착 스테이션으로 피증착체를 패스하기 위한 패스 챔버(6)(pass chamber) 등이 설치된다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic view showing the construction of a manufacturing line of an organic electroluminescence display. FIG. Each of the deposition stations includes a transfer chamber 1, a plurality of vacuum deposition apparatuses 2 connected to the transfer chamber 1, a transfer chamber 1, And a mask stock chamber 3 in which a mask before and after use is accommodated. Between each vapor deposition station, a vaporized material stocked in the vapor deposition station on the upstream side in the flow direction of the vapor deposited body and temporarily stored in the vaporized material deposition chamber before the vaporized material is delivered to the vapor deposition station on the downstream side 4, a turn chamber 5 installed on the downstream side of the deposit stock chamber 4 for horizontally rotating the deposited material in the deposit stock chamber 4, a turn chamber 5 A pass chamber 6 for receiving the object to be deposited and passing the object to be deposited to a next deposition station, and the like are provided.

유기전계발광 디스플레이 제조라인 중에는 턴 챔버(5)가 없는 경우도 있으며, 이러한 제조라인에서는 패스 챔버(6) 내에 피증착체를 180도 회전시키는 회전장치 및 회전시킨 피증착체를 수평방향으로 이송하기 위한 이송기구를 설치하는 것이 일반적이다.There may be no turn chamber 5 in the manufacturing line of the organic electroluminescence display. In this manufacturing line, in the horizontal direction, the rotating device rotating the object to be deposited by 180 degrees and the rotated object to be deposited are transported in the pass chamber 6 It is a common practice to install a transport mechanism.

본 발명은 이러한 유기전계발광 디스플레이 제조라인을 구성하는 여러 장치 내지 챔버내의 이동/승강기구로부터 비산된 윤활부재가 각 장치 내지 챔버내의 피증착체나 마스크에 부착하여 피증착체나 마스크를 오염시키는 문제를 저감시키기 위한 것이다. The present invention reduces the problem that the scattered lubricating members from various apparatuses or chambers constituting the organic electroluminescence display manufacturing line are adhered to the evaporated body or the mask in each apparatus or chamber to contaminate the evaporated body or the mask .

이를 위해 본 발명에서는, 윤활부재의 비산원인 이동기구 또는 승강기구와 피증착체 내지 마스크와의 사이의 윤활부재 비산 경로를 막는 커버부재를 이동기구/승강기구의 주위에 인접하게 설치하는 것을 특징으로 한다. 즉, 본 발명의 디스플레이 제조 장치는, 윤활부재의 비산원인 이동기구/승강기구의 윤활부위(즉, 이동기구/승강기구에서 윤활부재가 가해지는 부위)를 적어도 덮도록, 이동기구/승강기구에 인접하게 설치되는 커버부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.To this end, the present invention is characterized in that a cover member for blocking the lubricant member scattering path between the elevating mechanism and the evaporator or the mask is provided adjacent to the moving mechanism / elevator mechanism. That is, the display manufacturing apparatus of the present invention includes a moving mechanism / elevator mechanism (not shown) so as to cover at least the lubrication site of the moving mechanism / elevator mechanism causing scattering of the lubrication member (that is, the portion to which the lubrication member is applied in the moving mechanism / And a cover member which is installed to the housing.

이하, 각 장치 내지 챔버 별로 본 발명의 구성에 대해 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail for each device or chamber.

(제1 실시예)(Embodiment 1)

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 증착 장치(2)의 전체적인 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다.2 is a view schematically showing the overall configuration of a vacuum deposition apparatus 2 according to an embodiment of the present invention.

도 2(a)에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 증착 장치(2)는, 감압분위기에서 피증착체(7)(처리대상체, 예컨대, 기판)에 대해 증착이 이루어지는 공간을 정의하는 진공 챔버(10) 및 증착 물질을 증발시켜 방출하는 증발원 유닛(11)을 포함한다. 2 (a), the vacuum vapor deposition apparatus 2 according to an embodiment of the present invention is a vacuum vapor deposition apparatus in which a vapor deposition chamber 7 (a processing target body, for example, a substrate) And an evaporation source unit 11 for evaporating and discharging evaporation material.

증발원 유닛(11)은 증착 물질을 수용하고, 증착 물질을 가열하여 증발시키기 위한 증발원(12)을 포함한다. 증발원(12)은, 피증착체(7)의 증착면을 향하여 증착 물질을 방출하는 방출공 내지 노즐을 복수 구비한 구조를 가지나, 이에 한정되지 않고, 피증착체(7), 마스크(8)의 패턴, 증착 물질의 종류 등에 따라, 적절히 선택할 수 있다. 예컨대, 점(point) 증발원이나 선형(linear) 증발원, 소형의 증착 물질 수용부에, 증착 물질을 방출하는 복수의 방출공을 구비하는 확산실을 접속한 구조의 증발원 등을 사용해도 된다. The evaporation source unit (11) includes an evaporation source (12) for receiving the evaporation material and for heating and evaporating the evaporation material. The evaporation source 12 has a structure in which a plurality of discharge holes or nozzles for discharging the evaporation material toward the evaporation face of the evaporation body 7 are provided but the present invention is not limited thereto and the evaporation source 7, The type of the deposition material, and the like. For example, an evaporation source having a structure in which a diffusion chamber having a plurality of discharge holes for discharging evaporation material is connected to a point evaporation source, a linear evaporation source, and a small evaporation material accommodating portion may be used.

또한, 본 발명의 진공 증착 장치(2)는, 도2(b)에 도시된 바와 같이, 증발원(12)으로부터 증발되어 피증착체을 향해 분사되는 증착 물질을 차단 내지 통과시키는 개폐 셔터(미도시), 증발원(12)으로부터 방출된 증착 물질의 증발 레이트(rate)를 모니터링하는 막두께 모니터(13), 막두께 모니터(13)로부터 입력신호를 받아 막두께를 계측하는 막두께 계측기(14), 증발원(12)에 설치된 가열장치를 제어하는 전원(15), 피증착체(7)를 지지하고, 피증착체(7)를 마스크(8)나 증발원(12)에 대해 상대적으로 이동시킬 수 있는 피증착체 홀더(16), 마스크(8)를 지지하고 마스크(8)를 피증착체(7)나 증발원(12)에 대해 상대적으로 이동시킬 수 있는 마스크 홀더(17) 등의 다른 구성부품을 더 포함할 수 있다.2 (b), the vacuum evaporation apparatus 2 of the present invention includes an opening / closing shutter (not shown) for blocking or passing the evaporation material evaporated from the evaporation source 12 and ejected toward the evaporation material, A film thickness monitor 13 for monitoring the evaporation rate of the evaporation material discharged from the evaporation source 12, a film thickness meter 14 for receiving an input signal from the film thickness monitor 13 to measure the film thickness, Which can move the evaporation source 7 relative to the mask 8 or the evaporation source 12 while supporting the source 15 and the evaporation source 7 for controlling the heating device provided in the evaporation source 12, A deposition holder holder 16 and other components such as a mask holder 17 which supports the mask 8 and is capable of moving the mask 8 relative to the evaporation source 7 or evaporation source 12 .

이러한 구성을 가지는 진공 증착 장치(2)는 진공 챔버(10) 내를 감압분위기(예컨대, 진공)로 한 상태에서 증발원 유닛(11)의 증발원(12) 내에 수용되어 있는 증착 물질을 가열 및 증발시키고, 증발된 증착 물질을 소정의 패턴이 형성된 마스크(8) 또는 패턴 시트를 통해 피증착체(7) 상에 증착시켜, 피증착체(7) 상에 원하는 패턴을 가진 증착 물질의 박막을 형성한다. 본 발명의 진공 증착 장치(2)를 사용하여 유기 전계 발광 디스플레이 디바이스를 제조하는 구체적인 방법에 대해서는 후술한다.The vacuum vapor deposition apparatus 2 having such a configuration heats and evaporates the evaporation material contained in the evaporation source 12 of the evaporation source unit 11 in a state where the inside of the vacuum chamber 10 is set to a reduced pressure atmosphere , The evaporated evaporation material is deposited on the evaporation material 7 via a mask 8 or a pattern sheet having a predetermined pattern formed thereon to form a thin film of evaporation material having a desired pattern on the evaporation material 7 . A specific method of manufacturing an organic electroluminescence display device using the vacuum vapor deposition apparatus (2) of the present invention will be described later.

증발원(12)을 포함하는 증발원 유닛(11)은 통상적으로 진공 챔버(10)의 하부에 하나가 배치되는데, 하나의 증발원 유닛(11)을 사용하면서도 피증착체(7) 전체에 대해 균일한 두께의 박막을 증착하기 위해, 증발원 유닛(11)을 피증착체(7)의 길이 방향을 따라 진공 챔버(10)의 도어측으로부터 진공 챔버(10)의 안쪽으로 (도 2(a)에 도시된 화살표 방향으로) 슬라이딩 이동시켜 가면서 증착을 행한다. The evaporation source unit 11 including the evaporation source 12 is usually disposed at a lower portion of the vacuum chamber 10. The evaporation source unit 11 has a uniform thickness The evaporation source unit 11 is moved from the door side of the vacuum chamber 10 to the inside of the vacuum chamber 10 along the longitudinal direction of the evaporation body 7 In the direction of the arrow).

도 2(a)의 진공 증착 장치(2)는, 하나의 진공 챔버(10) 내로 2개의 피증착체(7)가 반입되고, 그 중 하나의 피증착체(7)에 대해 증착이 행해지는 동안(예컨대, A측 스테이지) 다른 피증착체(7)에 대해서(예컨대, B측 스테이지)는 마스크(8)와 피증착체(7) 간의 정렬(얼라인먼트)이 수행되는, 소위 "듀얼 스테이지" 구성의 진공 증착 장치(2)를 도시한 것이다. The vacuum vapor deposition apparatus 2 shown in Fig. 2 (a) has a structure in which two evaporated bodies 7 are carried into one vacuum chamber 10 and deposition is performed on one of the evaporated bodies 7 Quot; dual stage " in which alignment (alignment) between the mask 8 and the evaporated substance 7 is performed with respect to the other evaporated substance 7 (e.g., the B-side stage) 1 shows a vacuum vapor deposition apparatus 2 of the constitution.

이러한 듀얼 스테이지 구성의 진공 증착 장치(2)에 있어서는, 각각의 스테이지 내에서 증착 공정이 행해질 때 피증착체(7)의 길이 방향을 따라 증발원 유닛(11)을 이동시키는 것에 더하여, 증발원 유닛(11)을 각 스테이지 간을 이동시킨다. 이하에서는, 듀얼 스테이지 구성의 진공 증착 장치(2)의 예를 들어 본 발명의 구성을 설명하는 것으로 하지만, 본 발명은 반드시 이에만 한정되는 것은 아니고, 진공 챔버(10) 내에서의 증발원 유닛(11)의 이동이 수반되는 경우에 적용 가능하다. In addition to moving the evaporation source unit 11 along the longitudinal direction of the evaporated substance 7 when the evaporation process is performed in each stage in the vacuum deposition apparatus 2 of the dual stage configuration, ) Between each stage. Hereinafter, the configuration of the present invention will be described as an example of the vacuum deposition apparatus 2 having a dual-stage configuration. However, the present invention is not necessarily limited thereto, and the evaporation source unit 11 ) Is accompanied by the movement of the object.

증발원 유닛(11)을 피증착체(7)에 대향하는 면 내에서 피증착체(7)의 길이 방향으로 이동시키거나 각 스테이지 간에 이동시키기 위해, 진공 챔버(10)의 하부에는 증발원 이동기구(18)가 배치된다. 즉, 증발원 이동기구(18)는 증발원 유닛(11)을 피증착체의 길이방향인 제1 방향으로 이동시키기 위한 제1 이동기구와 증발원 유닛(11)을 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 이동시키기 위한 제2 이동기구를 포함한다.In order to move the evaporation source unit 11 in the longitudinal direction of the evaporation material 7 or move between the respective stages in the plane facing the evaporation material 7, an evaporation source movement mechanism 18 are disposed. That is, the evaporation source moving mechanism 18 includes a first moving mechanism for moving the evaporation source unit 11 in the first direction, which is the longitudinal direction of the evaporation source, and a second moving mechanism, for moving the evaporation source unit 11 in the second direction intersecting the first direction And a second moving mechanism for moving the second moving mechanism.

증발원 이동기구(18)의 제1 이동기구 및 제2 이동기구는 각각, 증발원 유닛(11)을 이동시키기 위한 구동력을 제공하고 그 이동을 가이드하기 위해, 구동력을 제공하는 서보 모터와, 서보 모터의 회전 구동력을 직선 구동력으로 전환하는 구동력전환기구로서의 랙/피니언과, 증발원 유닛(11)의 이동을 가이드하는 가이드 레일 및 가이드 레일상에서 가이드 레일을 따라 이동 가능한 가이드 블록 등을 포함한다. The first moving mechanism and the second moving mechanism of the evaporation source moving mechanism 18 each include a servo motor for providing a driving force for providing a driving force for moving the evaporation source unit 11 and guiding the movement thereof, A rack / pinion as a driving force switching mechanism for switching the rotational driving force to a linear driving force, a guide rail for guiding movement of the evaporation source unit 11, and a guide block movable along the guide rail on the guide rail.

구체적으로, 도 3에 도시된 바와 같이, 증발원 유닛(11)을 피증착체의 길이방향으로 이동시키기 위한 이동기구인 제1 이동 기구는 피증착체의 길이방향인 제1 방향으로 연장하는 2개의 제1 가이드 레일(19)(제1 레일 부재), 각각의 제1 가이드 레일(19) 상에 설치되며 제1 방향으로 이동가능한 제1 가이드 블록(20)(제1 이동가능 부재)을 포함한다. 제1 가이드 블록(20)은 증발원 유닛(11)을 지지하며, 증발원 유닛(11)의 대기 박스 내의 제1 서보 모터(21)의 회전축단에 연결된 제1 피니언 기어(22)와 베이스 플레이트(29)에 고정된 제1 랙(23)간의 연결에 의해, 제1 서보 모터(21)로부터 구동력을 전달받아 제1 가이드 레일(19) 상에서, 제1 방향으로 이동한다. 제1 피니언 기어(22)와 제1 랙(23)이 본 실시예의 제1 구동력전환기구에 해당하나, 본 발명은 이러한 구동력 전환기구에 한정되는 것은 아니며, 구동원인 모터의 회전구동력을 직선구동력으로 전환할 수 있는 다른 구동력 전환기구를 포함할 수 있다. 예컨대, 볼-스크류와 같은 다른 구동력 전환기구를 포함할 수도 있다.3, the first moving mechanism, which is a moving mechanism for moving the evaporation source unit 11 in the longitudinal direction of the object to be vapor deposited, is composed of two elements extending in the first direction, 1 guide rails 19 (first rail members), and first guide blocks 20 (first movable members) provided on the respective first guide rails 19 and movable in a first direction. The first guide block 20 supports the evaporation source unit 11 and includes a first pinion gear 22 connected to the rotary shaft end of the first servo motor 21 in the standby box of the evaporation source unit 11, The first rack 23 is moved in the first direction on the first guide rail 19 by receiving the driving force from the first servo motor 21 by the connection between the first rack 23 and the first rack 23. [ The first pinion gear 22 and the first rack 23 correspond to the first driving force switching mechanism of the present embodiment. However, the present invention is not limited to such a driving force switching mechanism, and the rotational driving force of the driving- And may include another driving force switching mechanism capable of switching. For example, another driving force switching mechanism such as a ball-screw.

제1 가이드 레일(19)과 제1 가이드 블록(20) 사이, 그리고, 제1 서보 모터(21)의 회전축단에 연결된 제1 피니언 기어(22)와 베이스 플레이트(29)에 고정된 제1 랙(23) 사이에는 마찰저항을 저감시키기 위해 불소성분의 그리스(grease)와 같은 윤활부재가 가해진다. A first pinion gear 22 connected to the first guide rail 19 and the first guide block 20 and connected to the rotating shaft end of the first servo motor 21 and a second pinion gear 22 fixed to the base plate 29, A lubricating member such as a grease of a fluorine component is applied in order to reduce the frictional resistance.

본 실시예에 따른 진공 증착 장치(2)는, 증발원 유닛(11)을 제1 방향으로 이동시키는 제1 이동 기구의 윤활부위(윤활부재가 가해진 부위)로부터 피증착체(7)나 마스크(8)로 향하는 윤활부재의 비산 경로를 차단하기 위해, 적어도 제1 이동기구의 윤활 부위를 덮도록 제1 이동기구에 인접하게 설치되는 제1 이동기구 커버부재를 포함한다. The vacuum evaporation apparatus 2 according to the present embodiment is configured such that the evaporation source unit 7 and the mask 8 are moved from the lubricating portion (the portion where the lubricant is applied) of the first moving mechanism for moving the evaporation source unit 11 in the first direction, And a first shifting mechanism cover member provided adjacent to the first shifting mechanism so as to cover at least the lubricating portion of the first shifting mechanism in order to block the scattering path of the lubricating member toward the second shifting mechanism.

구체적으로, 도 3에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 진공 증착 장치(2)는 제1 이동기구 커버부재로서, 제1 가이드 블록(20)에 고정되며, 제1 가이드 레일(19)의 상면의 적어도 일부를 덮도록 제1 가이드 블록(20)의 제1 방향의 전단 및 후단으로부터 제1 방향으로 소정의 길이로 연장하는 제1 커버부재(25)를 포함한다. 제1 커버부재(25)는 제1 가이드 레일(19)과 제1 가이드 블록(20) 사이의 윤활부재가 진공 챔버(10) 내의 상부에 위치하는 피증착체(7)나 마스크(8)에 도달하는 경로를 차단하는 기능을 한다. 3, the vacuum deposition apparatus 2 according to the present embodiment is a first moving mechanism cover member, which is fixed to the first guide block 20, and the first guide rail 19 And a first cover member (25) extending from the front end and the rear end of the first guide block (20) in the first direction to a predetermined length so as to cover at least a part of the upper surface. The first cover member 25 is provided with a lid member between the first guide rail 19 and the first guide block 20 to be attached to the object 7 or mask 8 located in the upper portion of the vacuum chamber 10 And blocks the route to reach.

제1 커버부재(25)는, 제1 가이드 레일(19)과 제1 가이드 블록(20)으로부터 피증착체로 향하는 윤활부재의 비산 경로를 보다 확실하게 차단하기 위해서, 도 3(b)에 도시된 바와 같이 제1 가이드 레일(19)을 3개의 면(즉, 상면 및 제1방향에서 볼 때의 양 측면)으로 둘러싸도록 형성하는 것이 보다 바람직하다. 즉, 윤활부재의 비산원인 이동기구로부터 피증착체(7)나 마스크(8)가 보이지 않도록 비산원인 이동기구를 덮는 위치뿐만 아니라, 직접적인 시선(line of sight) 경로상이 아닌 위치(이동기구로부터 피증착체로 직접적으로 향하는 방향이 아닌 위치)에도 커버부재를 설치함으로써 윤활부재의 비산을 더욱 확실하게 차단할 수 있다. 이는 일단 윤활부재가 피증착체(7)나 마스크(8)로 직접적으로 향하는 방향이 아닌 다른 방향으로 비산하기 시작하였다고 하더라도, 다시 피증착체(7)나 마스크(8)로 향하도록 비산 경로가 바뀔 수 있기 때문이다.The first cover member 25 is provided on the first guide rail 19 and the first guide block 20 so as to more reliably block the scattering path of the lubricating member from the first guide rail 19 and the first guide block 20 toward the material to be deposited, It is more preferable that the first guide rail 19 is formed so as to surround the three surfaces (that is, both the upper surface and both sides when viewed in the first direction). That is, not only the positions where the evaporation body 7 and the mask 8 are covered from the moving mechanism due to scattering of the lubricant member but also the position where they are not directly on the line of sight path It is possible to prevent scattering of the lubricant member more reliably by providing the cover member even in a position not directly facing the evaporator. This means that even if the lubrication member starts scattering in a direction other than the direction directly directed to the evaporation body 7 or the mask 8, the scattering path is again directed toward the evaporation body 7 or the mask 8 It can change.

도3(a)에 도시된 바와 같이, 제1 커버부재(25)의 제1 방향의 길이는 피증착체(7)로 향하는 비산경로의 차단 정도 및 진공 증착 장치(2)의 다른 구성부품과의 간섭 여부를 고려하여 정하는 것이 바람직하다. 즉, 제1 커버부재(25)의 제1 방향의 길이를 길게 할수록 피증착체(7)으로 향하는 비산 경로를 보다 더 확실하게 차단할 수 있게 되나, 슬라이딩 이동의 양단에서 제1 커버부재(25)가 예컨대, 진공 챔버(10)의 벽면에 부딪힐 가능성이 있게 되므로, 이러한 요소들의 균형을 고려하여 제1 방향의 길이를 정하는 것이 바람직하다. 예컨대, 제1 커버부재(25) 중, 진공챔버(10)의 안쪽 벽면측을 향하는 커버부재를 그 반대측의 커버부재보다 짧게 형성하여, 진공챔버(10)의 안쪽 벽면과 부딪히는 것을 방지할 수 있다.3 (a), the length of the first cover member 25 in the first direction corresponds to the degree of blocking of the scattering path toward the evaporated body 7 and the degree of blocking of the other components of the vacuum evaporator 2 It is preferable to determine whether or not interference occurs. That is, the longer the length of the first cover member 25 in the first direction, the more reliable shutoff of the scattering path toward the evaporated body 7 can be achieved. However, the first cover member 25 at both ends of the sliding movement, Is likely to hit the wall surface of the vacuum chamber 10, it is desirable to determine the length of the first direction in consideration of the balance of these elements. For example, among the first cover members 25, the cover member facing the inner wall surface side of the vacuum chamber 10 may be formed to be shorter than the cover member on the opposite side to prevent it from colliding with the inner wall surface of the vacuum chamber 10 .

본 실시예의 진공 증착 장치(2)는 제1 이동기구 커버부재로서, 도 3에 도시된 바와 같이, 제1 커버부재(25) 이외에, 제1 피니언 기어(22)와 제1 랙(23) 사이(제1 구동력전환기구의 윤활부위)에 가해진 윤활 부재의 비산 경로를 차단하기 위한 제2 커버부재(26)를 포함할 수 있다. 3, the vacuum deposition apparatus 2 of this embodiment is a first moving mechanism cover member which is provided between the first pinion gear 22 and the first rack 23 in addition to the first cover member 25, And a second cover member 26 for blocking the scattering path of the lubricating member applied to the first driving force switching mechanism (the lubricating portion of the first driving force switching mechanism).

제2 커버부재(26)는 도 3(b)에 도시된 바와 같이, 적어도 제1 피니언 기어(22)와 제1 랙(23) 간의 윤활부위를 덮도록 형성되는데, 구체적으로, 제1 피니언 기어(22)의 상면의 적어도 일부를 덮을 수 있도록 형성된다. 제2 커버부재(26)는, 윤활 부재의 비산경로를 보다 확실하게 차단하기 위해, 제1 피니언 기어(22)의 상면의 적어도 일부뿐만 아니라, 제1 피니언 기어(22)와 제1 랙(23)간의 결합 부위의 바깥쪽 측면(제1 방향에서 볼 때 제1 랙(23)에 대해 증발원 유닛(11)과 반대측)의 적어도 일부도 덮을 수 있도록 형성되는 것이 보다 바람직하다. 이를 위해, 제2 커버부재(26)는, 제1 랙(23)의 바깥쪽에서 수직방향(제3 방향)으로 연장하며, 그 상단부가 제1 피니언 기어(22)의 상부측으로(제1 방향과 교차하는 제2 방향으로) 휘어진 형상을 가진다. 제2 커버부재(26)는, 도3(a)에 도시된 바와 같이, 제1 가이드 레일(19)의 제1 방향으로 연장하도록 형성되는데, 제1 가이드 레일(19)의 제1 방향의 길이 전체에 걸쳐 설치하는 것이 더욱 바람직하다. 이러한 제2 커버부재(26)는, 증발원 유닛(11)이 A 스테이지의 피증착체(7)에 증착을 수행하는 과정에서 비산되는 윤활부재가 B 스테이지 측의 피증착체(7) 및 마스크(8)를 향하여 비산하거나, 그 반대로 B 스테이지측의 증발원 유닛(11)으로부터 A 스테이지측의 피증착체(7)나 마스크(8)로 향하여 비산하는 것도 저감할 수 있다. The second cover member 26 is formed so as to cover at least the lubricating portion between the first pinion gear 22 and the first rack 23 as shown in FIG. Is formed so as to cover at least a part of the upper surface of the substrate (22). The second cover member 26 is fixed to the first pinion gear 22 and the first rack 23 by not only at least part of the upper surface of the first pinion gear 22 but also at least part of the upper surface of the first pinion gear 22, (The side opposite to the evaporation source unit 11 with respect to the first rack 23 as viewed in the first direction) of the coupling portion between the first rack 23 and the first rack 23. To this end, the second cover member 26 extends in the vertical direction (third direction) from the outside of the first rack 23, and the upper end thereof extends toward the upper side of the first pinion gear 22 (In the second direction intersecting). The second cover member 26 is formed so as to extend in the first direction of the first guide rail 19 as shown in Fig. 3 (a). The length of the first guide rail 19 in the first direction It is more preferable to install it all over. The second cover member 26 is disposed between the evaporation source unit 11 on the B stage side and the mask 7 on the B stage side in the process of depositing the evaporation source 7 on the A stage, Scattering from the evaporation source unit 11 on the B stage side toward the evaporated body 7 or the mask 8 on the A stage side can be reduced.

이상에서는, 증발원 유닛(11)의 제1 이동기구로부터의 윤활부재가 진공 챔버(10) 내의 피증착체(7)나 마스크(8)로 향하는 경로를 차단하기 위한 커버부재로서 제1 커버부재(25) 및 제2 커버부재(26)를 설명하였으나, 본 실시예의 진공 증착 장치(2)는, 이외에도 증발원 유닛(11)의 제1 이동기구로부터 피증착체(7)나 마스크(8)로 향하는 경로를 차단할 수 있는 다른 커버부재를 추가로 가질 수도 있다. 또한, 제1 커버부재(25) 및 제2 커버부재(26)는 진공 증착 장치(2)의 전체적인 구조에 따라, 그 구체적인 형상, 길이나 설치위치가 변경될 수 있다. 특히, 윤활부재의 비산원인 이동기구에 가능한 인접하게 설치함으로써, 커버 부재의 크기를 줄일 수 있을 뿐만 아니라 윤활부재의 비산을 보다 효과적으로 차단할 수 있게 된다. The lid member from the first moving mechanism of the evaporation source unit 11 is provided as the cover member for shielding the path toward the evaporated substance 7 or the mask 8 in the vacuum chamber 10, The vacuum evaporation apparatus 2 according to the present embodiment is different from the first evaporation source unit 11 in that the evaporation source unit 11 is moved from the first moving mechanism to the evaporation body 7 or the mask 8 It may also have another cover member that can block the path. Further, the first cover member 25 and the second cover member 26 can be changed in their specific shapes, lengths, and installation positions according to the overall structure of the vacuum evaporator 2. In particular, by providing the lubrication member as close as possible to the moving mechanism for scattering the lubricating member, it is possible not only to reduce the size of the cover member but also to more effectively block scattering of the lubricating member.

이하에서는, 도 4를 참조하여, 본 실시예의 진공 증착 장치(2)에 있어서, 증발원 유닛(11)의 스테이지간의 이동에 사용되는 제2 이동기구와 제2 이동기구의 윤활부위로부터 피증착체(7)나 마스크(8)로 향하는 윤활부재의 비산 경로를 차단하기 위한 제2 이동기구 커버부재에 대해 설명한다. 제2 이동기구 커버부재는 적어도 제2 이동기구의 윤활부위를 덮도록, 제2 이동기구에 인접하게 설치된다.Hereinafter, with reference to FIG. 4, in the vacuum vapor deposition apparatus 2 of the present embodiment, from the lubricating portions of the second moving mechanism and the second moving mechanism used for moving between the stages of the evaporation source unit 11, 7 and the second moving mechanism cover member for blocking the scattering path of the lubricating member facing the mask 8 will be described. The second moving mechanism cover member is installed adjacent to the second moving mechanism so as to cover at least the lubricating portion of the second moving mechanism.

본 실시예의 진공 증착 장치(2)의 제2 이동기구는, 증발원 유닛(11)을 A 스테이지로부터 B 스테이지로(또는 그 반대로) 이동시키기 위해, 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장하는 제2 가이드 레일(27)(제2 레일 부재) 및 제2 가이드 레일(27) 상에서 제2 방향으로 이동가능한 제2 가이드 블록(28)(제2 이동가능 부재)을 포함한다. 제2 가이드 블록(28) 상의 베이스 플레이트(29)에는 제1 이동기구(제1 가이드 레일(19)과 제1 가이드 블록(20) 등)가 설치된다. 제2 가이드 블록(28)은, 제2 방향으로의 이동의 구동원인 제2 서보 모터(30)와, 제2 서보 모터(30)의 회전 구동력을 직선 구동력으로 전환하기 위한 제2 구동력전환기구로서의 제2 랙(32)과 제2 피니언 기어(31)에 의해, 제2 가이드 레일(27) 상을 제2 방향으로 이동한다. 이에 의해, 제2 가이드 블록(28)에 의해 지지된 제1 이동기구 및 제1 이동기구의 제1 가이드 블록상에 얹혀진 증발원 유닛(11)은 제2 방향으로 스테이지간을 이동할 수 있게 된다. 본 실시예에서는, 제2 구동력전환기구로서, 제2 랙(32)과 제2 피니언 기어(31)를 예시하고 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며, 구동원인 모터의 회전구동력을 직선구동력으로 전환할 수 있는 다른 구동력 전환기구를 사용할 수 있다. 예컨대, 볼-스크류와 같은 다른 구동력 전환기구를 포함할 수 있다.The second moving mechanism of the vacuum vapor deposition apparatus 2 of this embodiment is a mechanism for moving the evaporation source unit 11 from the A stage to the B stage (or vice versa) And a second guide block 28 (second movable member) movable in the second direction on the second guide rail 27 (second rail member) and the second guide rail 27. [ A first moving mechanism (a first guide rail 19 and a first guide block 20 or the like) is provided on the base plate 29 on the second guide block 28. The second guide block 28 includes a second servo motor 30 serving as a drive source for the movement in the second direction and a second drive motor 30 serving as a second drive force switching mechanism for switching the rotational drive force of the second servo motor 30 to a linear drive force The second rack 32 and the second pinion gear 31 move the second guide rail 27 in the second direction. Thereby, the first moving mechanism supported by the second guide block 28 and the evaporation source unit 11 placed on the first guide block of the first moving mechanism can move between the stages in the second direction. In the present embodiment, the second rack 32 and the second pinion gear 31 are illustrated as the second driving force switching mechanism, but the present invention is not limited to this, and the rotational driving force of the driving motor may be a linear driving force It is possible to use another driving force switching mechanism capable of switching. For example, other driving force switching mechanisms such as ball-screws.

제2 방향으로의 이동의 구동원인 제2 서보 모터(30)는, 도4(c)에 도시된 바와 같이, 진공 챔버(10)의 저면에 고정되며, 제2 서보 모터(30)의 회전축에 제2 피니언 기어(31)를 설치하고, 이를 베이스 플레이트(29)의 측면에 형성된 제2 랙(32)과 맞물리도록 함으로써, 제2 가이드 블록(28)을 제2 방향으로 이동시킨다. The second servo motor 30 which is the driving source of the movement in the second direction is fixed to the bottom surface of the vacuum chamber 10 as shown in Fig. The second pinion gear 31 is provided and the second pinion gear 31 is engaged with the second rack 32 formed on the side surface of the base plate 29 to move the second guide block 28 in the second direction.

제2 가이드 레일(27)과 제2 가이드 블록(28)과의 사이 및 제2 피니언 기어(31)와 제2 랙(32)과의 사이에도 마찰저항의 감소를 위해, 불소 성분이 함유된 그리스와 같은 윤활 부재가 가해지기 때문에, 진공 증착 장치(2) 내의 또 다른 그리스 비산원이 된다. 따라서, 본 실시예의 진공 증착 장치(2)는 제2 이동기구 커버부재로서, 제2 가이드 레일(27)과 제2 가이드 블록(28) 사이의 윤활부재가 피증착체를 향해 비산하는 경로를 차단하기 위한 제3 커버 부재(33) 및 제4 커버부재(34)와, 제2 피니언 기어(31)와 제2 랙32 사이(제2 구동력전환부재의 윤활부위)의 윤활부재의 비산 경로를 차단하기 위한 제5 커버부재(35) 및 제6 커버부재(36)를 포함한다. In order to reduce frictional resistance between the second guide rail 27 and the second guide block 28 and between the second pinion gear 31 and the second rack 32, And thus becomes another grease scattering source in the vacuum evaporator 2. Therefore, the vacuum evaporation apparatus 2 of the present embodiment is a second moving mechanism cover member that blocks the path in which the lubricating member between the second guide rail 27 and the second guide block 28 is scattered toward the evaporated body The third cover member 33 and the fourth cover member 34 for preventing the lubricating member from sliding between the second pinion gear 31 and the second rack 32 (the lubricating portion of the second driving force switching member) And a fifth cover member 35 and a sixth cover member 36, respectively.

제3 커버부재(33)는, 제2 가이드 레일(27)과 제2 가이드 블록(28) 사이로부터 피증착체로 향하는 윤활부재의 비산 경로를 차단하기 위해, 도 4(b)에 도시된 바와 같이, 제2 가이드 블록(28)의 상면의 적어도 일부를 덮으며, 또한, 도 4(a)에 도시된 바와 같이, 제2 방향으로 연장하는 구조를 가진다. 윤활부재의 비산을 더욱 확실하게 저감시키기 위해, 제3 커버부재(33)는 제2 가이드 레일(27)의 안쪽(제2 방향으로 볼 때 제2 서보 모터(30)의 반대편측)에서 제2 가이드 레일(27)과 제2 가이드 블록의 측면의 적어도 일부를 더 덮도록 형성될 수 있다. 즉, 제3 커버부재(33)는, 2개의 제2 가이드 레일(27)의 안쪽에서 제2 가이드 레일(27)에 인접하게 수직방향(제3 방향)으로 연장하여 제2 가이드 레일(27)과 제2 가이드 블록(28)의 안쪽 측면의 적어도 일부를 덮고, 그 상단부가 제2 가이드 블록(28)측을 향해(즉, 제1 방향으로) 휘어져 제2 가이드 블록(28)의 상면의 적어도 일부를 덮는 구조를 가지는 것이 더욱 바람직하다. 또한, 제3 커버부재(33)는 제2 방향으로는, 제2 가이드 레일(27)의 전체 길이 대부분에 걸쳐 제2 가이드 레일(27)에 평행하게 형성되는 것이 더욱 바람직하다.4 (b), the third cover member 33 is disposed in the vicinity of the second guide rail 27 so as to block the scattering path of the lubrication member from between the second guide rail 27 and the second guide block 28, , Covers at least a part of the upper surface of the second guide block 28, and has a structure extending in the second direction as shown in Fig. 4 (a). The third cover member 33 is provided on the inner side of the second guide rail 27 (on the side opposite to the second servo motor 30 when viewed in the second direction) in order to more reliably reduce the scattering of the lubricant member, And may further be formed to cover at least a part of the side surfaces of the guide rail 27 and the second guide block. That is, the third cover member 33 extends from the inside of the two second guide rails 27 in the vertical direction (third direction) adjacent to the second guide rails 27, And at least a part of the upper surface of the second guide block 28 is curved toward the second guide block 28 side (i.e., in the first direction) It is more preferable to have a structure for covering a part thereof. It is further preferable that the third cover member 33 is formed parallel to the second guide rail 27 in the second direction over most of the entire length of the second guide rail 27.

본 실시예의 진공 증착 장치(2)는, 제2 가이드 레일(27)과 제2 가이드 블록(28)으로부터의 윤활부재의 비산을 차단하는 또 다른 커버 부재인 제4 커버부재(34)를 가질 수 있다. 제4 커버부재(34)는, 2개의 제2 가이드 레일(27) 중 진공 챔버(10) 안쪽에 위치한 제2 가이드 레일(27)의 바깥쪽(진공 챔버(10) 안쪽의 제2 가이드 레일(27)과 진공 챔버(10)의 안쪽 벽면과의 사이)에서 제2 가이드 레일(27)과 제2 가이드 블록(28)의 측면(진공 챔버(10)의 안쪽 벽면을 향하는 측면)의 적어도 일부를 덮도록 제2 가이드 레일(27)의 바깥쪽 측면과 인접하게 설치된다. 제4 커버부재(34)는 제2 방향으로는 제2 가이드 레일(27)을 따라 연장되도록 형성된다.The vacuum vapor deposition apparatus 2 of the present embodiment has a fourth cover member 34 which is another cover member for shielding the scattering of the lubricant member from the second guide rail 27 and the second guide block 28 have. The fourth cover member 34 is disposed outside the second guide rail 27 located inside the vacuum chamber 10 of the two second guide rails 27 (the second guide rail inside the vacuum chamber 10 At least a part of the side surfaces of the second guide rail 27 and the second guide block 28 (the side facing the inner wall surface of the vacuum chamber 10) between the first guide rail 27 and the inner wall surface of the vacuum chamber 10 And is disposed adjacent to the outer side surface of the second guide rail (27). The fourth cover member 34 is formed to extend along the second guide rail 27 in the second direction.

본 실시예의 제5 커버부재(35)는 제2 구동력 변환기구인 제2 피니언 기어(31) 및 제2 랙(32)의 윤활부위를 덮기 위한 커버부재로서, 도 4(c)에 도시된 바와 같이, 제2 피니언 기어(31)의 상면과 제2 랙(32)의 상면의 적어도 일부를 덮도록 형성된다. 제2 구동력변환기구로부터의 그리스 비산을 더욱 확실하게 방지하기 위해서, 제5 커버부재(35)는, 제2 방향에서 볼 때 제2 피니언 기어(31)의 바깥쪽(제2 방향으로 볼 때, 진공 챔버(10)의 도어측 및 안쪽 벽면측) 측면의 적어도 일부를 더 덮도록 형성되는 것이 바람직하다. 즉, 제5 커버부재(35)는, 제2 서보 모터(30)의 회전축 상단에 연결된 제2 피니언 기어(31)의 바깥쪽 측면(제2 방향에서 볼 때 바깥쪽 측면)의 적어도 일부를 덮도록 수직방향(제3방향)으로 연장하며, 제5 커버부재(35)의 상부는 적어도 제2 피니언 기어(31)의 상면 및 제2 랙(32)의 상면의 일부를 덮도록 제2 레일 부재측으로(즉, 제1 방향으로) 휘어진다. 제2 피니언 기어(31)와 제2 랙(32)간의 비산원으로부터의 윤활부재의 비산 경로를 더욱 확실하게 차단하기 위해, 제5 커버부재(35)는, 도 4(a)에 도시된 바와 같이, 제2 피니언 기어(31)의 제1 방향에서 볼 때의 양 측면을 추가로 덮도록(따라서, 전체적으로 상면과 3측면을 덮도록) 형성될 수 있으며, 제2 피니언 기어(31)와 맞물리는 제2 랙(32)의 적어도 일부를 덮도록 제2 방향으로 연장할 수 있다. The fifth cover member 35 of this embodiment is a cover member for covering the lubricating portions of the second pinion gear 31 and the second rack 32, which are the second driving force converter, as shown in Fig. 4 (c) And is formed so as to cover at least a part of the upper surface of the second pinion gear 31 and the upper surface of the second rack 32. The fifth cover member 35 is disposed outside the second pinion gear 31 in the second direction (as viewed in the second direction), as viewed in the second direction, in order to more reliably prevent the grease scattering from the second driving force conversion mechanism. Side surface and the inner wall side of the vacuum chamber 10). That is, the fifth cover member 35 covers at least a part of the outer side surface (the outer side surface when viewed in the second direction) of the second pinion gear 31 connected to the upper end of the rotating shaft of the second servo motor 30 And the upper portion of the fifth cover member 35 extends in the vertical direction (third direction) so as to cover at least the upper surface of the second pinion gear 31 and a part of the upper surface of the second rack 32, (I.e., in the first direction). The fifth cover member 35 is arranged in the same manner as the first cover member 35 shown in Fig. 4 (a) in order to more reliably block the scattering path of the lubricant member from the non-scattering source between the second pinion gear 31 and the second rack 32 The second pinion gear 31 may be formed so as to cover both sides of the second pinion gear 31 viewed from the first direction (so as to cover the upper surface and the three side surfaces as a whole) The mats may extend in a second direction to cover at least a portion of the second rack (32).

제2 피니언 기어(31)/제2 랙(32)으로부터 피증착체로 향하는 비산 경로를 더욱 확실하게 차단하기 위해, 도 4(c)에 도시된 바와 같이, 제1 가이드 레일(19)이 얹혀지며 제2 가이드 블록(28) 위에 설치되는 베이스 플레이트(29)(base plate)에 수직방향(제3 방향)으로 연장하는 제6 커버부재(36)를 추가로 설치할 수 있다. 제6 커버부재(36)는 제1 방향으로는 제2 피니언 기어(31)보다 안쪽에 설치되며, 제2 방향으로는 제2 가이드 레일(27)을 따라 제2 가이드 레일(27)의 길이 전체에 걸쳐 설치될 수 있다.The first guide rail 19 is placed on the second pinion gear 31 / second rack 32 as shown in Fig. 4 (c) to more reliably block the scattering path from the second pinion gear 31 / A sixth cover member 36 extending in a direction perpendicular to the base plate 29 (third direction) provided on the second guide block 28 may be additionally provided. The sixth cover member 36 is provided inside the second pinion gear 31 in the first direction and extends along the second guide rail 27 in the second direction to the entire length of the second guide rail 27 Lt; / RTI >

도 4에는, 제2 이동기구로부터 피증착체로의 윤활부재 비산 경로를 차단하기 위해, 제3 내지 제6 커버부재를 도시하였으나, 제2 이동기구의 구조에 따라, 이들 커버부재 이외의 다른 커버부재들이 제2 이동기구와 피증착체 사이의 공간에서(제2 이동기구에 인접하여) 적어도 제2 이동기구의 윤활부위를 덮도록 형성될 수 있으며, 제3 내지 제6 커버부재의 구체적인 형상이나 설치위치 역시 본 발명의 기술사상의 범위내에서 변경될 수 있다.4 shows the third to sixth cover members for blocking the lubrication member scattering path from the second moving mechanism to the material to be deposited. However, according to the structure of the second moving mechanism, (Adjacent to the second moving mechanism) at least in the space between the second moving mechanism and the material to be deposited, and may be formed so as to cover at least the lubricating portion of the second moving mechanism, The position can also be changed within the scope of the technical idea of the present invention.

본 실시예에서는, 진공 증착 장치(2) 내의 증발원 유닛(11)의 이동기구로부터 비산되는 윤활부재를 차단하기 위한 커버부재를 위주로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 진공 증착 장치(2)의 다른 피이동체의 이동기구로부터 피증착체나 마스크로 향하는 경로를 차단하기 위한 커버부재를 포함할 수 있다. 예컨대, 피증착체 홀더(16)나 마스크 홀더(17) 등의 이동기구에도 필요에 따라, 윤활부재의 비산경로를 차단하기 위한 커버부재를 설치할 수 있다.Although the cover member for blocking the lubricating member scattered from the moving mechanism of the evaporation source unit 11 in the vacuum evaporation apparatus 2 has been described in the present embodiment, the present invention is not limited to this, And a cover member for blocking a path from the moving mechanism of the other moving object to the evaporated body or the mask. For example, a cover member for blocking the scattering path of the lubricant member may be provided, if necessary, in the moving mechanism of the evaporation material holder 16, the mask holder 17, and the like.

(제2 실시예)(Second Embodiment)

이하, 도 5를 참조하여, 본 발명에 따른 제2 실시예의 구성을 설명한다. The configuration of the second embodiment according to the present invention will be described below with reference to Fig.

제2 실시예는, 유기전계발광 디스플레이 제조 라인의 마스크 스톡 챔버(3) 내에서 그리스 비산원으로부터 마스크로 향하는 경로를 차단하기 위해 커버부재를 설치한다는 점에서 진공 증착 장치(2) 내의 그리스 비산원의 커버 부재에 관한 제1 실시예의 구성과 다르다. The second embodiment differs from the second embodiment in that a cover member is provided to block a path from the grease scattering source to the mask in the mask stock chamber 3 of the organic electroluminescence display manufacturing line, Which is different from that of the first embodiment.

마스크 스톡 챔버(3)는 진공 증착 장치(2) 내에서 피증착체에 증착 공정을 행할 때 사용되는 마스크(8)를 수납하는 챔버로서, 진공 증착 공정에 사용되기 전의 새로운 마스크와 사용이 끝난 마스크를 별도의 마스크 카세트(39)에 수납하는 구조를 가진다. 마스크 스톡 챔버(3)에서는 마스크가 수납된 복수의 마스크 카세트(39)를 제1 스테이지(40) 상에 올려 놓고, 제1 스테이지(40)를 마스크 출입구를 향해 승강기구에 의해 승강시켜 마스크 스톡 챔버(3)로부터 원하는 마스크를 반출입시킨다. The mask stock chamber 3 is a chamber for accommodating the mask 8 used in the vacuum deposition apparatus 2 for performing the deposition process on the object to be vapor deposited. The mask stock chamber 3 includes a new mask before being used in the vacuum deposition process, Is accommodated in a separate mask cassette (39). In the mask stock chamber 3, a plurality of mask cassettes 39 containing masks are placed on the first stage 40, and the first stage 40 is lifted and raised by the elevating mechanism toward the mask entrance, The desired mask is carried in and out from the mask 3.

마스크 스톡 챔버(3)에 사용되는 승강 기구는 제1 볼-스크류(41)와 제1 볼-스크류(41)의 양측에 설치되는 제3 가이드 레일(42)(제3 레일 부재)과 제3 가이드 블록(43)(제3 이동가능 부재)을 포함한다. 구동원인 제3 모터(미도시)는 제1 볼-스크류(41)의 하단에 연결되어 있으며, 제3 모터로부터의 구동력은 제1 볼-스크류(41)와 제3 가이드 레일(42)상에 이동가능하게 설치된 제3 가이드 블록(43)을 통해, 제3 가이드 블록(43)에 연결된 제1 스테이지(40)로 전달된다.The lifting mechanism used in the mask stock chamber 3 includes a first ball screw 41 and a third guide rail 42 (third rail member) provided on both sides of the first ball screw 41 and a third guide rail 42 And a guide block 43 (third movable member). The third motor (not shown) is connected to the lower end of the first ball screw 41 and the driving force from the third motor is transmitted to the first ball screw 41 and the third guide rail 42 Is transmitted to the first stage (40) connected to the third guide block (43) through the third guide block (43) movably installed.

마스크 스톡 챔버(3) 내의 승강장치인 제1 볼-스크류(41) 및 제3 가이드 레일(42)/제3 가이드 블록(43)에도 마찰저항을 저감시키기 위해 윤활부재가 가해지기 때문에, 본 실시예에서는, 이들로부터 마스크 스톡 챔버(3) 내에 수납된 마스크(8)로 윤활부재가 비산되는 경로를 차단하기 위한 승강기구 커버부재를 적어도 승강기구의 윤활부위를 덮도록 승강기구에 인접하게 설치한다. Since the lubrication member is also applied to the first ball screw 41 and the third guide rail 42 / the third guide block 43 in the mask stock chamber 3 to reduce frictional resistance, An elevator cover member for blocking a path through which the lubricating member is scattered from the mask 8 accommodated in the mask stock chamber 3 is installed adjacent to the elevating mechanism so as to cover at least the lubrication portion of the elevating mechanism.

구체적으로, 본 실시예의 마스크 스톡 챔버는, 제1 볼-스크류(41)의 윤활부위로부터 비산하는 그리스를 차단하기 위한 마스크 스톡 챔버 승강기구 커버부재로서, 제7 커버부재(44)를 포함한다. 제7 커버부재(44)는, 마스크 스톡 챔버(3) 내에서 수직방향(승강기구의 승강방향)으로 연장하는 제1 볼-스크류(41)로부터 마스크 수납 공간으로 향하는 면의 적어도 일부를 덮도록, 제1 볼-스크류(41)와 마스크 카세트(39) 사이의 공간에서 제1 볼-스크류(41)를 따라 연장한다. 본 실시예에 의한 제7 커버부재(44)는 제1 볼-스크류(41)의 승강방향 길이 전체에 걸쳐 연장하는 판형 부재의 형상을 가지는 것이 보다 바람직하다. Specifically, the mask stock chamber of the present embodiment includes a seventh cover member 44 as a mask stock chamber elevator cover member for shielding grease scattering from the lubricating portion of the first ball-screw 41. The seventh cover member 44 is provided so as to cover at least a part of the surface from the first ball-screw 41 extending in the vertical direction (the lift-up direction of the elevator tool) in the mask stock chamber 3, And extends along the first ball-screw 41 in the space between the first ball-screw 41 and the mask cassette 39. It is preferable that the seventh cover member 44 according to the present embodiment has a shape of a plate-like member extending over the entire length of the first ball-screw 41 in the elevation direction.

제1 볼-스크류(41)로부터 마스크로 향하는 윤활부재의 비산경로를 더 확실히 차단하기 위해, 도 5에 도시된 바와 같이, 제1 볼-스크류(41)를 3개의 면(마스크 수납 공간을 향하는 면 및 양측면)으로 감싸는 구조로 제7 커버부재(44)를 형성하는 것이 더욱 바람직하다. 도 5에 도시된 바와 같이, 제7 커버부재(44)는 제1 볼-스크류(41)로부터 마스크 수납 공간을 향하는 면을 덮는 부분과 그 양측면을 덮는 부분을 별도의 부재로 하여도 되고, 일체로 형성해도 된다. 5, the first ball-screw 41 is divided into three surfaces (the surface facing the mask receiving space, the surface facing the mask receiving space, and the surface facing the mask receiving space), in order to more reliably block the scattering path of the lubricating member from the first ball- It is more preferable to form the seventh cover member 44 with a structure that the first cover member 44 and the second cover member 44 are wrapped around each other. As shown in Fig. 5, the seventh cover member 44 may be a separate member that covers a portion of the seventh cover member 44 covering the surface facing the mask accommodation space from the first ball-screw 41 and portions covering both side surfaces thereof, .

도 5(b)에는 제7 커버부재(44)가 제1 볼-스크류(41) 주위의 직사각형의 형태로 3개의 면을 감싸는 구조로 도시되었으나, 본 실시예의 제7 커버부재(44)는 이에 한정되지 않으며, 제1 볼-스크류(41)의 설치상태 및 마스크 수납 공간과의 공간적인 배치에 따라 다양한 형상을 가질 수 있다. 5 (b), the seventh cover member 44 is shown as having a rectangular shape surrounding the first ball screw 41, but the seventh cover member 44 of the present embodiment is not limited thereto. And may have various shapes depending on the installation state of the first ball-screw 41 and the spatial arrangement with respect to the mask receiving space.

또한, 본 실시예의 마스크 스톡 챔버는, 마스크 스톡 챔버(3)내의 제3 가이드 레일(42)과 제3 가이드 블록(43)간의 윤활부재의 비산을 차단하기 위한 승강기구 커버부재로서, 제8 커버부재(45)를 포함할 수 있다. 본 실시예에 의한 제8 커버부재(45)는, 도 5(c)에 도시된 바와 같이, 윤활부재 제3 가이드 블록(43)의 상하의 양단부으로부터 수직방향(승강 방향)으로 소정의 길이만큼 연장하며 제3 가이드 레일(42) 주위를 감싸는 구조를 가진다. The mask stock chamber of the present embodiment is an elevating mechanism cover member for blocking scattering of the lubricant between the third guide rail 42 and the third guide block 43 in the mask stock chamber 3, Member (45). The eighth cover member 45 according to the present embodiment is extended from the upper and lower ends of the lubrication member third guide block 43 by a predetermined length in the vertical direction And surrounds the third guide rail 42.

본 실시예에서는, 마스크 스톡 챔버(3) 내의 카세트 승강기구로부터의 윤활부재의 비산을 차단하기 위한 승강기구 커버부재를 위주로 설명하였으나, 마스크 스톡 챔버(3) 내의 다른 이동기구로부터의 윤활부재의 비산을 차단하기 위한 커버 부재도 본 발명의 범위에 포함된다.Although the elevator cover member for shielding the scattering of the lubricant member from the cassette elevator in the mask stock chamber 3 has been described as the main embodiment in this embodiment, the scattering of the lubricant member from another moving mechanism in the mask stock chamber 3 Is also included in the scope of the present invention.

(제3 실시예)(Third Embodiment)

이하, 도 6을 참조하여, 본 발명에 따른 제3 실시예의 구성을 설명한다. Hereinafter, the configuration of the third embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG.

제3 실시예는, 유기전계발광 디스플레이 제조 라인의 피증착체 스톡 챔버(4) 내에서 윤활부재의 비산원으로부터 피증착체로 향하는 경로를 차단하기 위해 커버 부재를 설치한다는 점에서 다른 실시예의 구성과 다르다.The third embodiment is different from the third embodiment in that the cover member is provided to block the path from the source of scattering of the lubrication member to the deposited body in the deposit chamber stock chamber 4 of the organic electroluminescence display production line different.

피증착체 스톡 챔버(4)는 피증착체의 흐름 방향의 상류측 증착 스테이션에서 증착이 완료된 피증착체를 하류측 증착 스테이션으로 이송하기 전에 일시적으로 수납하는 챔버로서, 피증착체(7)가 수납된 피증착체 카세트(46)를 피증착체 스톡 챔버(4)의 제2 스테이지(47) 상에 올려 둔 후, 필요에 따라, 원하는 피증착체(7)를 반출입시키기 위해, 제2 스테이지(47)를 반출입구를 향해 승강시킨다. 이를 위한 승강기구로서, 제2 볼-스크류(48) 및 제2 볼-스크류(48)의 양측에 설치된 제4 가이드 레일(49)(제4 레일 부재) 및 제4 가이드 블록(50)(제4 이동가능 부재)을 사용한다. 피증착체 스톡 챔버(4)에서도, 제2 볼-스크류(48) 및 제4 가이드 레일(49)과 제4 가이드 블록(50)간의 마찰저항을 저감시키기 위해, 불소 성분의 그리스와 같은 윤활부재를 사용한다.The deposited material stock chamber 4 is a chamber for temporarily storing the deposited material, which has been deposited at the upstream-side deposition station in the flow direction of the deposited material, before being transferred to the downstream-side deposition station, After the deposited material cassette 46 is placed on the second stage 47 of the material stock chamber 4 and the desired deposited material 7 is taken in and out as required, (47) is moved toward and away from the entrance. A fourth guide rail 49 (a fourth rail member) and a fourth guide block 50 (a fourth guide rail) provided on both sides of the second ball-screw 48 and the second ball- 4 movable member) is used. In order to reduce the frictional resistance between the second ball-screw 48 and the fourth guide rail 49 and the fourth guide block 50, a lubricating member such as fluorine component grease Lt; / RTI >

본 실시예의 피증착체 스톡 챔버는, 적어도 피증착체 스톡 챔버 승강기구의 윤활부위를 덮는 승강기구 커버부재로서, 제9 커버부재(51)를 포함한다. 즉, 본 실시예에서는, 윤활부재가 피증착체 스톡 챔버(4) 내에 설치된 제2 볼-스크류(48) 및 제4 가이드 레일(49)과 제4 가이드 블록(50)의 사이로부터 피증착체의 수납 공간을 향해 비산하는 경로를 차단하기 위해, 제9 커버부재(51)를 적어도 승강기구의 윤활부위를 덮도록 승강기구에 인접하게 설치한다. The deposit body stock chamber of this embodiment is an elevating mechanism cover member that covers at least the lubricating portion of the deposit body stock chamber elevating mechanism and includes a ninth cover member 51. [ That is, in this embodiment, the lubrication member is disposed between the second ball-screw 48 and the fourth guide rail 49, which are provided in the deposit stock chamber 4, and the fourth guide block 50, The ninth cover member 51 is provided adjacent to the elevating mechanism so as to cover at least the lubricating portion of the elevating mechanism.

구체적으로, 도 6(a)에 도시된 바와 같이, 본 실시예의 제9 커버부재(51)는 수직방향(승강방향)으로 연장하는 제2 볼-스크류(48) 및 제4 가이드 레일(49)과 제4 가이드 블록(50)으로부터 피증착체(피증착체 수납 공간)를 향하는 면의 적어도 일부를 덮도록 그 수직방향(승강방향)으로 연장한다. 제9 커버부재(51)는 제2 볼-스크류(48)의 승강방향 길이 전체에 걸쳐 형성되는 것이 보다 바람직하다. 보다 윤활부재의 비산 경로를 확실하게 차단하기 위해, 도 6(b)에 도시된 바와 같이, 제2 볼-스크류(48) 및 제4 가이드 레일(49)/제4 가이드 블록(50)을 3면(피증착체 수납공간을 향하는 면과 그 양측면)에서 감싸는 구조로 제9 커버부재(51)를 형성하여도 된다. 이때, 피증착체 수납공간을 향하는 면(정면)을 덮기 위한 부재와 양 측면측을 덮기 위한 부재는 서로 별도의 부재로 설치해도 된다. 제9 커버부재(51)의 구체적인 구조는 피증착체 스톡 챔버(4) 내의 승강장치의 구조 및 피증착체 수납 공간의 구조에 따라 이와 다른 구조를 가질 수 있다. 6 (a), the ninth cover member 51 of the present embodiment includes a second ball-screw 48 and a fourth guide rail 49 extending in the vertical direction (elevating direction) And the fourth guide block 50 so as to cover at least a part of the surface facing the deposited body (the deposited body accommodating space). It is more preferable that the ninth cover member 51 is formed over the entire length of the second ball-screw 48 in the ascending direction. The second ball-screw 48 and the fourth guide rail 49 / the fourth guide block 50 are connected to the third guide block 50 as shown in Fig. 6 (b) to reliably block the scattering path of the lubrication member. It is also possible to form the ninth cover member 51 with a structure that wraps around the surface (the surface facing the evaporated substance storage space and both side surfaces thereof). At this time, the member for covering the face (front face) facing the evaporated substance storage space and the member for covering both side faces may be provided as separate members. The specific structure of the ninth cover member 51 may have a different structure depending on the structure of the lift device in the deposit stock chamber 4 and the structure of the deposit space for the deposited material.

본 실시예에서는, 피증착체 스톡 챔버(4) 내의 피증착체 승강기구로부터의 윤활부재의 비산을 차단하기 위한 승강기구 커버 부재를 위주로 설명하였으나, 피증착체 스톡 챔버(4) 내의 다른 이동기구로부터의 윤활부재의 비산을 차단하기 위한 커버 부재도 본 발명의 범위에 포함된다.In this embodiment, the lift mechanism cover member for blocking scattering of the lubricant member from the deposit mechanism body elevating mechanism in the deposit body stock chamber 4 has been described as the main body. However, the other movement mechanism in the deposit body stock chamber 4 A cover member for blocking scattering of the lubricant member from the cover member is also included in the scope of the present invention.

(제4 실시예)(Fourth Embodiment)

이하, 도 7을 참조하여, 본 발명에 따른 제4 실시예의 구성을 설명한다. Hereinafter, the configuration of the fourth embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG.

제4 실시예는, 유기전계발광 디스플레이 제조 라인의 패스 챔버(6) 내에서 그리스 비산원으로부터 마스크로 향하는 경로를 차단하기 위해 커버 부재를 설치한다는 점에서 다른 실시예의 구성과 다르다.The fourth embodiment differs from the configuration of the other embodiments in that a cover member is provided to block the path from the grease free source to the mask in the pass chamber 6 of the production line of the organic electroluminescence display.

패스 챔버(6)는 유기전계발광 디스플레이 제조 라인의 타입에 따라, 턴 챔버(5)가 없는 경우에는, 피증착체 스톡 챔버(4)로부터 이송된 피증착체를 다음 증착 스테이션의 트랜스퍼 챔버(1)의 로보트 아암에 전하기 전에, 피증착체(7)를 평면상에서 180도 회전시키고, 피증착체(7)를 사전 정렬 스테이지로 수평 방향으로 이송하여 피증착체의 사전 정렬을 수행하는 기능을 하는 챔버이다. 턴 챔버(5)가 있는 경우에는 턴 챔버(5)로부터 전달된 기판을 다음 증착스테이션으로 보내기 전에 사전 정렬시키는 기능을 한다. The path chamber 6 is moved to the transfer chamber 1 of the next deposition station in the absence of the turn chamber 5 depending on the type of the organic electroluminescence display production line, , The substrate 7 is rotated 180 degrees on the plane and the substrate 7 is horizontally transferred to the pre-alignment stage to carry out pre-alignment of the deposited body Chamber. When the turn chamber 5 is present, it functions to pre-align the substrate transferred from the turn chamber 5 before sending it to the next deposition station.

패스 챔버(6)의 수평 이송기구는 도 7에 도시된 바와 같이, 피증착체(7)가 놓이는 제3 스테이지(55)의 하부에 패스 챔버(6)의 길이방향으로 연장하는 제3 볼-스크류(52) 및 제3 볼-스크류(52) 양측에 설치된 제5 가이드 레일(53)/제5 가이드 블록(54)을 포함한다. 이들 제3 볼-스크류(52) 및 제5 가이드 레일(53)과 제5 가이드 블록(54) 사이에는 마찰저항을 저감시키기 위해 불소 성분이 함유된 그리스와 같은 윤활부재가 가해진다.The horizontal transfer mechanism of the path chamber 6 is provided with a third ball-and-socket structure extending in the longitudinal direction of the pass chamber 6 at the lower portion of the third stage 55 where the evaporated substance 7 is placed, And a fifth guide rail 53 / a fifth guide block 54 installed on both sides of the screw 52 and the third ball-screw 52. A lubricating member such as a grease containing a fluorine component is applied between the third ball screw 52 and the fifth guide rail 53 and the fifth guide block 54 to reduce frictional resistance.

본 실시예의 패스 챔버는 적어도 이송기구의 윤활부위를 덮는 이송기구 커버부재로서, 제10 커버부재(56)를 포함한다. 제10 커버부재(56)는, 패스 챔버(6)의 길이방향으로 연장하는 제3 볼-스크류(52)와 제5 가이드 레일(53)로부터 제3 스테이지(55)를 향하는, 제3 볼-스크류(52)와 제5 가이드 레일(53)의 상면의 적어도 일부를 덮도록 설치된다. 제10 커버부재(56)는 제3 볼-스크류(52)와 제5 가이드 레일(53)의 길이 전체에 걸쳐 설치되는 것이 보다 바람직하다. 또한, 보다 확실하게 윤활부재의 비산 경로를 차단하기 위해, 도 7에 도시된 바와 같이, 제3 볼-스크류(52) 및 제5 가이드 레일(53)/제5 가이드 블록(54)을 3면(상면 및 양측면)에서 감싸는 구조로 제10 커버부재(56)를 형성하여도 된다. 이때, 피증착체(또는 제3 스테이지(55))를 향하는 면(상면)을 덮기 위한 커버 부재와 양 측면측을 덮기 위한 커버 부재는 서로 별도의 부재로 설치해도 된다. 그 외, 제10 커버부재(56)의 구체적인 구조는 패스 챔버(6) 내의 이송장치의 구조 및 제3 스테이지(55)의 구조에 따라 이와 다른 구조를 가질 수 있다. The pass chamber of the present embodiment includes a tenth cover member 56 as a feed mechanism cover member that covers at least the lubricating portion of the feed mechanism. The tenth cover member 56 includes a third ball screw 52 extending in the longitudinal direction of the path chamber 6 and a third ball screw 52 extending from the fifth guide rail 53 toward the third stage 55. [ And covers at least a part of the upper surface of the screw 52 and the fifth guide rail 53. It is more preferable that the tenth cover member 56 is installed over the entire length of the third ball-screw 52 and the fifth guide rail 53. 7, the third ball-screw 52 and the fifth guide rail 53 / fifth guide block 54 are provided on three surfaces (Upper surface and both side surfaces) of the tenth cover member 56 may be formed. At this time, the cover member for covering the surface (upper surface) facing the evaporation body (or the third stage 55) and the cover member for covering both side surfaces may be provided separately from each other. In addition, the specific structure of the tenth cover member 56 may have a different structure depending on the structure of the transfer device in the path chamber 6 and the structure of the third stage 55. [

이상에서는, 유기전계발광 디스플레이 제조라인에서 그리스 비산원으로부터 피증착체나 마스크로 향하는 윤활부재의 비산경로를 차단하기 위한 커버 부재를, 진공 증착 장치(2), 마스크 스톡 챔버(3), 피증착체 스톡 챔버(4), 패스 챔버(6)를 예를 들어 설명하였으나, 본 발명의 기술적 사상은 이들 장치나 챔버에 한정되는 것은 아니며, 피증착체나 마스크의 이송/승강 기구를 포함하는 다른 장치나 챔버 등에도 사용될 수 있다. In the above, a cover member for shielding the scattering path of the lubrication member from the grease scattering source toward the evaporation body or mask in the production line of the organic electroluminescence display is formed by the vacuum evaporation apparatus 2, the mask stock chamber 3, The stock chamber 4 and the pass chamber 6 have been described by way of example. However, the technical idea of the present invention is not limited to these apparatuses and chambers, but may be applied to other apparatuses including transferring / And the like.

(본 발명의 디스플레이 제조장치를 사용한 디스플레이 디바이스의 제조방법)(A method of manufacturing a display device using the display manufacturing apparatus of the present invention)

이하에서는, 도2 및 8을 참조하여, 본 발명의 디스플레이 제조장치를 사용하여 디바이스를 제조하는 방법에 대하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, with reference to FIGS. 2 and 8, a method of manufacturing a device using the display manufacturing apparatus of the present invention will be described in detail.

우선, 증발원(12)은, 증착 재료를 기화시키기 위해, 증발원(12)에 설치된 가열장치를 전원(15)에 의해 제어한다. 이 때는, 증발원(12)에 설치된 셔터(미도시)가 닫혀 있기 때문에, 기화된 증착 재료는 진공 챔버(10) 내로 방출되지는 않는다. 셔터가 닫혀진 상태에서 증발원(12)에 설치된 가열장치에 전원(15)을 공급한다(S1).First, the evaporation source 12 controls the heating device provided in the evaporation source 12 by the power source 15 in order to vaporize the evaporation material. At this time, since the shutter (not shown) provided in the evaporation source 12 is closed, the vaporized evaporation material is not discharged into the vacuum chamber 10. In a state in which the shutter is closed, the power supply 15 is supplied to the heating device installed in the evaporation source 12 (S1).

이어서, 피증착체(7)에 증착하고자 하는 패턴이 형성된 마스크(8)가, 반송수단(미도시)에 의해, 진공 챔버(10) 내에 반입되어, 마스크(8)를 지지하는 마스크 홀더(17)에 배치된다. 마스크 홀더(17)는 이동기구를 가지고 있어, 마스크(8)의 위치를 소정의 위치로 이동시킨다(S2). 이 때, 마스크(8)를 관리하는 제어부(미도시)는, 마스크 사용회수(M)를 1로 한다.The mask 8 having the pattern to be deposited formed thereon is carried into the vacuum chamber 10 by carrying means (not shown) and held in the mask holder 17 . The mask holder 17 has a moving mechanism, and moves the position of the mask 8 to a predetermined position (S2). At this time, the control section (not shown) that manages the mask 8 sets the mask use count M to 1.

이 상태에서, 증착 재료가 증착되는 대상인 피증착체(7)가 반송수단에 의해, 진공 챔버(10) 내에 반입되어, 피증착체 홀더(16)에 배치된다. 마스크(8)에 형성된 얼라인먼트 마크와 피증착체(7)에 형성된 얼라인먼트 마크를 사용하여 피증착체 홀더(16)의 이동기구를 제어함으로써, 마스크(8)와 피증착체(7)간의 얼라인먼트를 행한다(S3). 피증착체 홀더(16)를 이동 제어하여 피증착체(7)와 마스크(8)간의 정렬을 수행하는 대신에, 피증착체(7)가 진공 챔버(10) 내에 반입되어, 피증착체 홀더(16)에 의해 소정의 위치에 배치된 후에, 마스크(8)를 마스크 홀더(17)의 이동기구에 의해 이동하여, 마스크(8)와 피증착체(7)간의 얼라인먼트를 수행해도 된다.In this state, the object to be vapor deposited 7, which is an object on which the evaporation material is deposited, is carried into the vacuum chamber 10 by the conveying means and placed in the object holder 16 for deposition. Alignment between the mask 8 and the evaporated substance 7 is controlled by controlling the movement mechanism of the evaporated substance holder 16 using the alignment marks formed on the mask 8 and the alignment marks formed on the evaporated substance 7 (S3). Instead of carrying out alignment between the evaporated body 7 and the mask 8 by controlling the movement of the evaporated substance holder 16, the evaporated substance 7 is carried into the vacuum chamber 10, Alignment between the mask 8 and the evaporated substance 7 may be performed by moving the mask 8 by the moving mechanism of the mask holder 17 after the mask 8 is disposed at a predetermined position by the mask 16.

얼라인먼트 종료 후, 증발원(12)의 셔터를 열고, 기화된 증착 재료를 방출하여, 마스크 패턴에 따라 피증착체(7)에 증착 물질을 증착한다(S4). After completion of the alignment, the shutter of the evaporation source 12 is opened, the vaporized evaporation material is discharged, and the evaporation material is deposited on the evaporation material 7 according to the mask pattern (S4).

이 때, 피증착체(7) 전체에 걸쳐 균일한 두께로 증착을 행하기 위해서, 증발원(12)은 증발원 이동기구(18)에 의해 도 2(b)의 지면에 수직인 방향으로 이동(예컨대, 슬라이딩 이동)한다. 이러한 증착 공정에 있어서, 증발원 이동기구(18)와 피증착체(7) 또는 마스크(8)와의 사이에 증발원 이동기구(18)에 인접하도록 설치된 커버부재(25, 26, 33, 34, 35, 36)를 포함하는 본 발명의 디스플레이 제조장치(진공 증착 장치(2))를 사용함으로써, 증발원 이동기구(18)의 윤활부위에 가해진 윤활부재가 증발원 이동기구(18)의 윤활부위로부터 피증착체(7)나 마스크(8)로 비산하는 경로를 효과적으로 차단할 수 있게 되고, 이에 따라, 디스플레이 디바이스의 불량을 저감할 수 있게 된다. At this time, the evaporation source 12 is moved by the evaporation source moving mechanism 18 in the direction perpendicular to the paper surface of Fig. 2 (b), for example, in order to deposit the uniform thickness of the entire evaporable material 7 , Sliding movement). 26, 33, 34, 35, and 35 provided adjacent to the evaporation source moving mechanism 18 between the evaporation source moving mechanism 18 and the evaporation source 7 or the mask 8 in this deposition process, The lubrication member applied to the lubricating portion of the evaporation source moving mechanism 18 is moved from the lubricating portion of the evaporation source moving mechanism 18 to the evaporation source moving mechanism 18 by using the display manufacturing apparatus (vacuum evaporation apparatus 2) It is possible to effectively block the path of scattering by the mask 7 or the mask 8, thereby making it possible to reduce the defects of the display device.

증착공정동안 수정진동자 등의 막두께 모니터(13)는, 증발레이트를 계측하여, 막두께 계측기(14)에서 막두께를 환산한다. 막두께 계측기(14)에서 환산된 막두께가 목표로 하는 막두께가 될 때까지 증착을 계속한다(S5). During the deposition process, the film thickness monitor 13 such as a quartz crystal vibrator measures the evaporation rate and converts the film thickness in the film thickness meter 14. The deposition is continued until the film thickness calculated by the film thickness meter 14 reaches a target film thickness (S5).

막두께 계측기(14)로 환산된 막두께가 목표값에 도달한 후, 증발원(12)의 셔터를 닫아 증착을 종료한다. 그 후, 반송수단에 의해 피증착체(7)를 진공 챔버(10) 외부로 반출한다(S6). 마스크(8)는 전술한 마스크 사용회수(M)가 소정의 매수 이상(n≥2)이 될 때마다 교환한다. 사용회수(M)가 소정회수(n)보다 작은 경우에는 사용회수(M)를 1만큼 올리고, 다음 피증착체(7)를 반입하여 마찬가지 공정으로 증착을 행한다(S7). 마스크(8)의 교환빈도는 마스크(8)에 증착 재료의 퇴적 정도에 따라 적절히 정할 수 있다. After the film thickness calculated by the film thickness meter 14 reaches the target value, the shutter of the evaporation source 12 is closed to complete the deposition. Thereafter, the deposited body 7 is taken out of the vacuum chamber 10 by the conveying means (S6). The mask 8 is exchanged every time when the above-mentioned number of times of mask use M becomes a predetermined number or more (n? 2). When the number M of times of use is smaller than the predetermined number of times (n), the number of times of use M is increased by 1, and the next deposition body 7 is carried in and deposition is performed in the same step (S7). The frequency of replacement of the mask 8 can be appropriately determined in accordance with the degree of deposition of the evaporation material in the mask 8. [

이러한 공정을 통해, 유기 전계 발광 디스플레이 디바이스와 같은 디바이스를 제조할 수 있으나, 본 발명의 디바이스 제조방법은 이에 한정되지 않고, 각 공정의 구체적인 구성은 적절히 변경가능하다.Through such a process, a device such as an organic electroluminescent display device can be manufactured. However, the device manufacturing method of the present invention is not limited to this, and the specific configuration of each process can be appropriately changed.

이상 설명한 본 발명에 의하면, 유기전계발광 디스플레이 제조라인에서 증발원 유닛(11), 피증착체(7)나 마스크(8) 등을 이동 내지 승강시키기 위한 기구의 윤활부위로부터 피증착체(7)나 마스크(8)로 향하는 윤활부재의 비산 경로를 커버 부재에 의해 차단함으로써, 이들 이동기구에 사용되는 윤활부재가 피증착체(7)나 마스크(8)에 부착되고, 이로 인해, 유기전계발광 디스플레이 소자에 불량이 발생하는 문제를 저감시킬 수 있게 된다. According to the present invention described above, in the production line of the organic electroluminescence display, the evaporation source 7, the evaporation source 7, the mask 8 and the like are moved from the lubricating portion of the mechanism for moving or lifting the evaporation source unit 11, The lubrication member used in these moving mechanisms is attached to the evaporated substance 7 or the mask 8 by blocking the scattering path of the lubrication member toward the mask 8 by the cover member, It is possible to reduce the problem of defective devices.

1 트랜스퍼 챔버
2 진공 증착 장치
3 마스크 스톡 챔버
4 피증착체 스톡 챔버
5 턴 챔버
6 패스 챔버
7 피증착체
8 마스크
10 진공 챔버
11 증발원 유닛
12 증발원
13 막두께 모니터
14 막두께 계측기
15 전원
16 피증착체 홀더
17 마스크 홀더
18 증발원 이동기구
19 제1 가이드 레일(제1 레일 부재)
20 제1 가이드 블록(제1 이동가능 부재)
21 제1 서보 모터
22 제1 피니언 기어
23 제1 랙
25 제1 커버부재
26 제2 커버부재
27 제2 가이드 레일(제2 레일 부재)
28 제2 가이드 블록(제2 이동가능 부재)
29 베이스 플레이트
30 제2 서보 모터
31 제2 피니언 기어
32 제2 랙
33 제3 커버부재
34 제4 커버부재
35 제5 커버부재
36 제6 커버부재
39 마스크 카세트
40 제1 스테이지
41 제1 볼-스크류
42 제3 가이드 레일(제3 레일 부재)
43 제3 가이드 블록(제3 이동가능 부재)
44 제7 커버부재
45 제8 커버부재
46 피증착체 카세트
47 제2 스테이지
48 제2 볼-스크류
49 제4 가이드 레일(제4 레일 부재)
50 제4 가이드 블록(제4 이동가능 부재)
51 제9 커버부재
52 제3 볼-스크류
53 제5 가이드 레일(제5 레일 부재)
54 제5 가이드 블록(제5 이동가능 부재)
55 제3 스테이지
56 제10 커버부재1 transfer chamber
2 Vacuum deposition equipment
3 mask stock chamber
4 Deposited body Stock chamber
5 turn chamber
6-pass chamber
7 Deposited body
8 Mask
10 Vacuum chamber
11 Evaporation source unit
12 evaporation source
13 Thickness Monitor
14 Thickness meter
15 Power
16: Deposited body holder
17 Mask holder
18 Evaporation source moving mechanism
19 First guide rail (first rail member)
20 First guide block (first movable member)
21 1st Servo Motor
22 First pinion gear
23 First rack
25 first cover member
26 second cover member
27 Second guide rail (second rail member)
28 Second guide block (second movable member)
29 base plate
30 2nd servo motor
31 2nd pinion gear
32 second rack
33 third cover member
34 fourth cover member
35 fifth cover member
36 sixth cover member
39 Mask cassette
40 First stage
41 1st ball screw
42 Third guide rail (third rail member)
43 Third guide block (third movable member)
44 seventh cover member
45 eighth cover member
46 Cassette of deposited material
47 Second stage
48 2nd ball screw
49 Fourth guide rail (fourth rail member)
50 fourth guide block (fourth movable member)
51 ninth cover member
52 Third ball screw
53 fifth guide rail (fifth rail member)
54 fifth guide block (fifth movable member)
55 third stage
56 10th cover member

Claims (26)

디스플레이 제조 장치에 있어서,
처리 대상체에 대한 처리가 이루어지는 챔버,
상기 챔버 내에서 이동하는 이동체,
상기 이동체를 이동시키기 위한 이동 기구로서, 제1 부재와, 상기 이동체와 함께 상기 제1 부재에 대하여 상대적으로 이동하는 제1 이동가능 부재를 포함하고, 윤활 부재가 가해지는 윤활부위를 상기 제1 부재와 상기 제1 이동가능 부재의 사이에 포함하는 이동 기구, 및
적어도 상기 이동 기구의 상기 윤활부위를 덮도록 설치된 커버 부재로서, 상기 이동 기구의 상기 제1 부재에 대하여 상대적으로 이동 가능하도록 상기 제1 이동 가능 부재에 고정되게 설치되는 커버 부재
를 포함하는 디스플레이 제조 장치.In the display manufacturing apparatus,
A chamber in which processing is performed on the object to be treated,
A moving body moving in the chamber,
And a first movable member that moves relative to the first member together with the moving body, wherein the moving member includes a first member and a first movable member that moves relative to the first member, And a moving mechanism included between the first movable member and the second movable member,
A cover member provided so as to cover at least the lubricating portion of the moving mechanism, the cover member being fixed to the first movable member so as to be movable relative to the first member of the moving mechanism,
. 디스플레이 제조 장치에 있어서,
피증착체에 대한 증착이 이루어지는 진공 챔버,
증착 물질이 충전되는 증발원을 포함하는 증발원 유닛,
상기 증발원 유닛을 제1 방향으로 이동시키기 위한 제1 이동기구로서, 제1 부재와 상기 증발원 유닛과 함께 상기 제1 부재에 대하여 상대적으로 이동하는 제1 이동가능 부재를 포함하고, 윤활 부재가 가해지는 윤활부위를 상기 제1 부재와 상기 제1 이동가능 부재의 사이에 포함하는 제1 이동기구, 및
적어도 상기 제1 이동기구의 상기 윤활부위를 덮도록 설치된 제1 이동기구 커버 부재로서, 상기 제1 이동기구의 상기 제1 부재에 대하여 상대적으로 이동 가능하도록 상기 제1 이동가능 부재에 고정되게 설치되는 제1 이동기구 커버부재
를 포함하는 디스플레이 제조 장치.In the display manufacturing apparatus,
A vacuum chamber in which vapor deposition is performed on the evaporated material,
An evaporation source unit including an evaporation source to which evaporation material is charged,
A first moving mechanism for moving the evaporation source unit in a first direction, the first moving mechanism including a first movable member which moves together with the first member and the evaporation source unit relative to the first member, A first moving mechanism including a lubricating portion between the first member and the first movable member, and
A first moving mechanism cover member provided so as to cover at least the lubricating portion of the first moving mechanism and fixed to the first movable member so as to be movable relative to the first member of the first moving mechanism The first moving mechanism cover member
. 제2항에 있어서,
상기 제1 부재는,
상기 제1 방향으로 연장되게 설치되는 제1 레일 부재를 포함하고,
상기 제1 이동 가능 부재는, 상기 증발원 유닛을 지지하며, 상기 제1 레일 부재상에 상기 제1 방향으로 이동가능하게 설치되고,
상기 제1 이동기구 커버부재는, 적어도 상기 제1 레일 부재와 상기 제1 이동가능부재의 윤활부위를 덮도록 상기 제1 이동가능 부재에 고정되게 설치되는 제1 커버 부재를 포함하는
디스플레이 제조 장치. 3. The method of claim 2,
Wherein the first member comprises:
And a first rail member extending in the first direction,
Wherein the first movable member is provided to support the evaporation source unit and is movably provided in the first direction on the first rail member,
The first moving mechanism cover member includes a first cover member fixedly attached to the first movable member so as to cover at least the lubricating portion of the first rail member and the first movable member
Display manufacturing apparatus. 제3항에 있어서,
상기 제1 이동기구는 상기 진공 챔버의 하부에 배치되며,
상기 제1 커버부재는 상기 제1 레일 부재의 상면의 적어도 일부를 덮도록 상기 제1 이동가능 부재의 상기 제1 방향의 전단 및 후단으로부터 상기 제1 방향으로 소정의 길이만큼 연장하는, 디스플레이 제조 장치.The method of claim 3,
Wherein the first moving mechanism is disposed below the vacuum chamber,
Wherein the first cover member extends a predetermined length in the first direction from a front end and a rear end in the first direction of the first movable member so as to cover at least a part of an upper surface of the first rail member, . 제4항에 있어서,
상기 제1 커버부재는 상기 제1 방향에서 볼 때 상기 제1 레일 부재의 양 측면의 적어도 일부를 더 덮도록 형성되는, 디스플레이 제조 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the first cover member is formed to cover at least a part of both sides of the first rail member when viewed in the first direction. 제2항에 있어서,
상기 제1 부재는, 상기 제1 방향으로 연장되게 설치되는 제1 레일 부재를 포함하고,
상기 제1 이동 가능 부재는, 상기 증발원 유닛을 지지하며, 상기 제1 레일 부재상에 상기 제1 방향으로 이동가능하게 설치되고,
상기 제1 이동 기구는 상기 제1 이동가능 부재를 상기 제1 방향으로 이동시키기 위한 회전구동력을 발생시키는 제1 모터, 및
상기 제1 모터의 회전구동력을 직선구동력으로 전환하기 위한 제1 구동력 전환기구를 더 포함하며,
상기 제1 이동기구 커버부재는, 적어도 상기 제1 구동력 전환기구의 윤활부위를 덮도록, 상기 제1 구동력 전환기구에 인접하게 설치되는 제2 커버 부재를 포함하는,
디스플레이 제조 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the first member includes a first rail member extending in the first direction,
Wherein the first movable member is provided to support the evaporation source unit and is movably provided in the first direction on the first rail member,
The first moving mechanism includes a first motor for generating a rotational driving force for moving the first movable member in the first direction,
Further comprising a first driving force switching mechanism for switching the rotational driving force of the first motor to a linear driving force,
Wherein the first moving mechanism cover member includes a second cover member that is provided adjacent to the first driving force switching mechanism so as to cover at least the lubricating portion of the first driving force switching mechanism,
Display manufacturing apparatus. 제6항에 있어서,
상기 제1 이동기구는 상기 진공 챔버의 하부에 배치되며,
상기 제1 구동력 전환기구는 상기 제1 모터의 회전축에 연결된 제1 피니언 기어 및 상기 제1 피니언 기어와 맞물리는 제1 랙을 포함하며,
상기 제2 커버부재는 상기 제1 피니언 기어의 상면의 적어도 일부를 덮도록 형성되며, 상기 제1 방향으로 연장하는, 디스플레이 제조 장치. The method according to claim 6,
Wherein the first moving mechanism is disposed below the vacuum chamber,
The first driving force switching mechanism includes a first pinion gear connected to a rotation axis of the first motor and a first rack engaged with the first pinion gear,
And the second cover member is formed to cover at least a part of the upper surface of the first pinion gear and extends in the first direction. 제7항에 있어서,
상기 제2 커버 부재는 상기 제1 방향에서 볼 때, 상기 제1 랙의 바깥쪽에서 상기 제1 피니언 기어와 상기 제1 랙의 측면의 적어도 일부를 더 덮도록 형성되는, 디스플레이 제조 장치.8. The method of claim 7,
And the second cover member is formed so as to cover at least a part of the side surface of the first rack and the first pinion gear outside the first rack when viewed in the first direction. 제2항에 있어서,
상기 제1 이동기구를 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 이동시키기 위한 제2 이동기구로서, 윤활부재가 가해지는 윤활부위를 포함하는 제2 이동기구, 및
적어도 상기 제2 이동기구의 상기 윤활부위를 덮도록 상기 제2 이동기구에 인접하게 설치되는 제2 이동기구 커버부재
를 더 포함하는, 디스플레이 제조 장치.3. The method of claim 2,
A second moving mechanism for moving the first moving mechanism in a second direction intersecting with the first direction, the second moving mechanism including a lubricating portion to which the lubricating member is applied,
And a second moving mechanism cover member provided adjacent to the second moving mechanism so as to cover at least the lubricating portion of the second moving mechanism
Further comprising: 제9항에 있어서,
상기 제2 이동기구는,
상기 제2 방향으로 연장되게 설치되는 제2 레일 부재, 및
상기 제1 이동기구를 지지하며, 상기 제2 레일 부재상에 상기 제2 방향으로 이동가능하게 설치되는 제2 이동가능 부재
를 포함하며,
상기 제2 이동기구 커버부재는,
적어도 상기 제2 레일 부재와 상기 제2 이동가능 부재의 윤활부위를 덮도록 상기 제2 레일 부재 및 상기 제2 이동가능 부재에 인접하게 설치되는 제3 커버 부재
를 포함하는, 디스플레이 제조 장치.10. The method of claim 9,
The second moving mechanism includes:
A second rail member extending in the second direction,
A second movable member that supports the first moving mechanism and is movably installed on the second rail member in the second direction,
/ RTI >
The second moving mechanism cover member
A third cover member mounted adjacent to the second rail member and the second movable member to cover at least the lubricating portion of the second rail member and the second movable member,
And a display device. 제10항에 있어서,
상기 제2 이동기구는 상기 진공 챔버의 하부에 설치되며,
상기 제3 커버 부재는, 상기 제2 이동가능 부재의 상면의 적어도 일부를 덮도록 형성되며, 상기 제2 방향으로 연장하는,
디스플레이 제조 장치.11. The method of claim 10,
Wherein the second moving mechanism is installed at a lower portion of the vacuum chamber,
Wherein the third cover member is formed to cover at least a part of the upper surface of the second movable member,
Display manufacturing apparatus. 제11항에 있어서,
상기 제3 커버 부재는, 상기 제2 방향에서 볼 때 상기 제2 레일 부재의 안쪽에서 상기 제2 레일 부재 및 제2 이동가능부재의 측면의 적어도 일부를 더 덮도록 형성되는,
디스플레이 제조 장치.12. The method of claim 11,
Wherein the third cover member is formed to cover at least a part of the side surfaces of the second rail member and the second movable member inside the second rail member when viewed in the second direction,
Display manufacturing apparatus. 제9항에 있어서,
상기 제2 이동기구는,
상기 제2 방향으로 연장되게 설치되는 제2 레일 부재, 및
상기 제1 이동기구를 지지하며, 상기 제2 레일 부재상에 상기 제2 방향으로 이동가능하게 설치되는 제2 이동가능 부재
를 포함하며,
상기 제2 이동기구 커버부재는,
상기 제2 방향에서 볼 때 상기 제2 레일 부재 및 상기 제2 이동가능 부재의 측면 중 상기 진공 챔버의 벽면을 향하는 바깥쪽 측면의 적어도 일부를 덮도록 형성되는 제4 커버부재를 포함하는,
디스플레이 제조 장치.10. The method of claim 9,
The second moving mechanism includes:
A second rail member extending in the second direction,
A second movable member that supports the first moving mechanism and is movably installed on the second rail member in the second direction,
/ RTI >
The second moving mechanism cover member
And a fourth cover member formed to cover at least a part of the side surface of the second rail member and the second movable member facing the wall surface of the vacuum chamber when viewed in the second direction.
Display manufacturing apparatus. 제9항에 있어서,
상기 제2 이동기구는
상기 제2 방향으로 연장되게 설치되는 제2 레일 부재,
상기 제1 이동기구를 지지하며, 상기 제2 레일 부재상에 상기 제2 방향으로 이동가능하게 설치되는 제2 이동가능 부재,
상기 제2 이동 가능 부재를 상기 제2 방향으로 이동시키기 위한 구동력을 발생시키는 제2 모터, 및
상기 제2 모터의 회전구동력을 직선구동력으로 전환시키기 위한 제2 구동력전환기구
를 포함하고,
상기 제2 이동기구 커버부재는, 적어도 상기 제2 구동력 전환기구의 윤활부위를 덮도록 상기 제2 구동력 전환기구에 인접하게 설치되는 제5 커버 부재를 포함하는,
디스플레이 제조 장치.10. The method of claim 9,
The second moving mechanism
A second rail member extending in the second direction,
A second movable member for supporting the first moving mechanism and movably installed on the second rail member in the second direction,
A second motor for generating a driving force for moving the second movable member in the second direction,
A second driving force switching mechanism for switching the rotational driving force of the second motor to a linear driving force,
Lt; / RTI >
And the second moving mechanism cover member includes a fifth cover member provided adjacent to the second driving force switching mechanism so as to cover at least the lubricating portion of the second driving force switching mechanism.
Display manufacturing apparatus. 제14항에 있어서,
상기 제2 이동기구는 상기 진공 챔버의 하부에 설치되며,
상기 제2 구동력 전환기구는,
상기 제2 모터의 회전축에 연결된 제2 피니언 기어, 및
상기 제2 피니언 기어에 맞물리며, 제2 방향으로 연장되는 제2 랙
을 포함하며,
상기 제5 커버부재는 상기 제2 피니언 기어의 상면 및 상기 제2 랙의 상면의 적어도 일부를 덮도록 형성되는,
디스플레이 제조 장치.15. The method of claim 14,
Wherein the second moving mechanism is installed at a lower portion of the vacuum chamber,
The second driving force switching mechanism includes:
A second pinion gear connected to a rotation axis of the second motor,
A second pinion gear meshing with the second pinion gear and extending in a second direction,
/ RTI >
The fifth cover member is formed to cover at least a part of the upper surface of the second pinion gear and the upper surface of the second rack,
Display manufacturing apparatus. 제15항에 있어서,
상기 제5 커버부재는 상기 제2 방향에서 볼 때 상기 제2 피니언 기어의 측면 중 제2 피니언 기어의 바깥쪽 측면의 적어도 일부를 더 덮도록 형성되는, 디스플레이 제조 장치.16. The method of claim 15,
And the fifth cover member is formed so as to cover at least a part of the outer side surface of the second pinion gear of the side surface of the second pinion gear as viewed in the second direction. 제9항에 있어서,
상기 제1 이동기구가 고정 설치되며, 상기 제2 이동기구에 의해 상기 제2 방향으로 이동하는 베이스 플레이트를 더 포함하고,
상기 제2 이동기구 커버부재는, 상기 베이스 플레이트로부터 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 교차하는 제3 방향으로 연장하는 제6 커버 부재를 포함하는, 디스플레이 제조 장치.10. The method of claim 9,
Further comprising a base plate fixedly installed with the first moving mechanism and moving in the second direction by the second moving mechanism,
And the second moving mechanism cover member includes a sixth cover member extending from the base plate in the first direction and the third direction intersecting the second direction. 디스플레이 제조 장치에 있어서,
피이동체가 수납되는 챔버
상기 챔버 내의 피이동체를 이동시키기 위한 이동기구로서, 제1 부재와 상기 피이동체와 함께 상기 제1 부재에 대해서 상대적으로 이동하는 제1 이동 가능 부재를 포함하고, 윤활부재가 가해지는 윤활부위를 상기 제1 부재와 상기 제1 이동 가능 부재의 사이에 포함하는 이동기구, 및
적어도 상기 이동기구의 상기 윤활부위를 덮도록 설치된 이동 기구 커버 부재로서, 상기 이동기구의 상기 제1 부재에 대하여 상대적으로 이동가능 하도록 상기 제1 이동 가능 부재에 고정되게 설치되는 이동기구 커버부재
를 포함하는 디스플레이 제조 장치. In the display manufacturing apparatus,
The chamber in which the moving object is housed
And a first movable member that moves relative to the first member together with the first member and the movable body, wherein the first movable member moves the lubrication region to which the lubricating member is applied, A moving mechanism included between the first member and the first movable member, and
A moving mechanism cover member provided so as to cover at least the lubricating portion of the moving mechanism, the moving mechanism cover member being fixed to the first movable member so as to be movable relative to the first member of the moving mechanism,
. 디스플레이 제조 장치에 있어서,
마스크가 수납되는 챔버,
사용 전후의 마스크를 구분하여 수납하는 복수의 카세트,
상기 카세트를 승강시키기 위한 승강기구로서, 제3 부재와 상기 카세트와 함께 상기 제3 부재에 대하여 상대적으로 이동하는 제3 이동가능 부재를 포함하고, 윤활부재가 가해지는 윤활부위를 상기 제3 부재와 상기 제 3 이동 가능 부재의 사이에 포함하는 승강기구, 및
적어도 상기 승강기구의 상기 윤활부위를 덮도록 설치된 승강기구 커버 부재로서, 상기 승강기구의 상기 제3 부재에 대하여 상대적으로 이동 가능하도록 상기 제3 이동 가능 부재로부터 연장하여 설치되는 승강기구 커버부재를 포함하는,
디스플레이 제조 장치.In the display manufacturing apparatus,
A chamber in which the mask is housed,
A plurality of cassettes for storing masks before and after use,
And a third movable member that moves relative to the third member together with the third member and the cassette, wherein the third movable member moves the lubricating portion to which the lubricating member is applied to the third member An elevating mechanism included between the third movable members, and
And an elevating mechanism cover member provided so as to cover at least the lubricating portion of the elevating mechanism, wherein the elevating mechanism cover member extends from the third movable member so as to be movable relative to the third member of the elevating mechanism.
Display manufacturing apparatus. 제19항에 있어서,
상기 승강기구는 상기 승강기구의 승강방향으로 연장하는 볼-스크류를 더 포함하고,
상기 제3 부재는 상기 볼-스크류의 양측에 형성되는 제3 레일 부재를 포함하고,
상기 제3 이동 가능 부재는, 상기 제3 레일 부재상에 상기 승강방향으로 이동 가능하게 설치되고,
상기 승강기구 커버부재는, 적어도 상기 볼-스크류의 윤활부위를 덮도록 상기 볼-스크류와 상기 카세트 사이에서 상기 볼-스크류에 인접하게 설치되는 제7 커버부재를 포함하는,
디스플레이 제조 장치. 20. The method of claim 19,
Wherein the elevating mechanism further comprises a ball-screw extending in a direction of elevation of the elevating mechanism,
Wherein the third member includes a third rail member formed on both sides of the ball-screw,
The third movable member is provided on the third rail member so as to be movable in the lifting direction,
Wherein the elevating mechanism cover member includes a seventh cover member disposed adjacent to the ball-screw between the ball-screw and the cassette so as to cover at least the lubricating portion of the ball-screw,
Display manufacturing apparatus. 제19항에 있어서,
상기 승강기구는, 상기 승강기구의 승강방향으로 연장하는 볼-스크류를 더 포함하고,
상기 제3 부재는 상기 볼-스크류의 양측에 형성되는 제3 레일 부재를 포함하고,
상기 제3 이동 가능 부재는 상기 제3 레일 부재상에 상기 승강방향으로 이동 가능하게 설치되고,
상기 승강기구 커버부재는, 상기 제3 이동가능 부재의 상기 승강방향 단부로부터 상기 승강방향으로 소정의 길이만큼 연장하며, 상기 제3 레일 부재의 주위를 감싸도록 형성되는 제8 커버 부재를 포함하는, 디스플레이 제조 장치.20. The method of claim 19,
The elevating mechanism may further include a ball screw extending in a direction of elevation of the elevating mechanism,
Wherein the third member includes a third rail member formed on both sides of the ball-screw,
The third movable member is provided on the third rail member so as to be movable in the lifting direction,
The elevating mechanism cover member includes an eighth cover member extending from the elevating direction end portion of the third movable member by a predetermined length in the elevating direction and enclosing the periphery of the third rail member, Display manufacturing apparatus. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항 내지 제21항 중 어느 한 항의 디스플레이 제조 장치를 사용하여, 디스플레이를 제조하는 방법.21. A method of manufacturing a display, using the apparatus of any one of claims 1 to 21.
KR1020170095728A 2017-07-27 2017-07-27 Display manufacturing apparatus and display manufacturing method using the same KR101870579B1 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170095728A KR101870579B1 (en) 2017-07-27 2017-07-27 Display manufacturing apparatus and display manufacturing method using the same
JP2018115773A JP6401885B1 (en) 2017-07-27 2018-06-19 Display manufacturing apparatus and device manufacturing method using the same
CN201810657092.9A CN109306453B (en) 2017-07-27 2018-06-25 Display manufacturing apparatus and display manufacturing method using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170095728A KR101870579B1 (en) 2017-07-27 2017-07-27 Display manufacturing apparatus and display manufacturing method using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101870579B1 true KR101870579B1 (en) 2018-06-22

Family

ID=62768356

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170095728A KR101870579B1 (en) 2017-07-27 2017-07-27 Display manufacturing apparatus and display manufacturing method using the same

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6401885B1 (en)
KR (1) KR101870579B1 (en)
CN (1) CN109306453B (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7379072B2 (en) * 2019-01-11 2023-11-14 キヤノントッキ株式会社 Film forming equipment, electronic device manufacturing equipment, film forming method, and electronic device manufacturing equipment
KR20200087549A (en) * 2019-01-11 2020-07-21 캐논 톡키 가부시키가이샤 Film forming apparatus, manufacturing apparatus of electronic device, film forming method, and manufacturing method of electronic device
JP7358124B2 (en) * 2019-09-06 2023-10-10 川崎重工業株式会社 Greasing device for board transfer equipment
JP2021095609A (en) * 2019-12-18 2021-06-24 キヤノントッキ株式会社 Film deposition device, film deposition method, and method for manufacturing electronic device
JP7309773B2 (en) * 2021-03-31 2023-07-18 キヤノントッキ株式会社 Film forming apparatus and electronic device manufacturing method
JP7507182B2 (en) 2022-01-25 2024-06-27 キヤノントッキ株式会社 Transport device and film forming device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120004303U (en) * 2010-12-08 2012-06-18 미래산업 주식회사 Apparatus for Transferring Substrate
KR20150008302A (en) * 2013-07-12 2015-01-22 현대중공업 주식회사 Cover Fastening Apparatus and Transferring Apparatus having the same for Substrate
KR20160049629A (en) * 2014-10-28 2016-05-10 주식회사 선익시스템 Cassette stoker and casette loading/unloading method using thereof
KR20160150034A (en) * 2015-06-18 2016-12-28 캐논 톡키 가부시키가이샤 Vacuum deposition apparatus and method for producing vapor deposited film and organic electronic device

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3732250B2 (en) * 1995-03-30 2006-01-05 キヤノンアネルバ株式会社 In-line deposition system
US7611124B2 (en) * 2004-12-22 2009-11-03 Tokyo Electron Limited Vacuum processing apparatus
JP4806241B2 (en) * 2005-09-14 2011-11-02 東京エレクトロン株式会社 Substrate processing apparatus and substrate lift apparatus
FR2907186B1 (en) * 2006-10-16 2009-01-16 Sidel Participations PRESSURE ROTATING DISPENSER AND CARROUSEL HOLLOW BODY TREATMENT MACHINE EQUIPPED WITH SAME
CN201265040Y (en) * 2008-09-13 2009-07-01 苏东艺 Vacuum ion film coater
JP2010159439A (en) * 2009-01-06 2010-07-22 Shinko Seiki Co Ltd Film-forming apparatus
CN103233210B (en) * 2013-05-20 2015-06-03 吉林大学 Organic metal chemical vapor deposition equipment for high-temperature growth of oxide film
JP2016117915A (en) * 2014-12-18 2016-06-30 キヤノントッキ株式会社 Device and method of vapor deposition
JP6537324B2 (en) * 2015-04-03 2019-07-03 キヤノントッキ株式会社 Vapor deposition apparatus and vapor deposition method
JP6243474B2 (en) * 2015-06-18 2017-12-06 キヤノントッキ株式会社 Vacuum deposition apparatus, method for producing deposited film, and method for producing organic electronic device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120004303U (en) * 2010-12-08 2012-06-18 미래산업 주식회사 Apparatus for Transferring Substrate
KR20150008302A (en) * 2013-07-12 2015-01-22 현대중공업 주식회사 Cover Fastening Apparatus and Transferring Apparatus having the same for Substrate
KR20160049629A (en) * 2014-10-28 2016-05-10 주식회사 선익시스템 Cassette stoker and casette loading/unloading method using thereof
KR20160150034A (en) * 2015-06-18 2016-12-28 캐논 톡키 가부시키가이샤 Vacuum deposition apparatus and method for producing vapor deposited film and organic electronic device

Also Published As

Publication number Publication date
CN109306453A (en) 2019-02-05
JP2019026931A (en) 2019-02-21
JP6401885B1 (en) 2018-10-10
CN109306453B (en) 2021-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101870579B1 (en) Display manufacturing apparatus and display manufacturing method using the same
JP6741594B2 (en) System for depositing one or more layers on a substrate supported by a carrier, and methods of using the system
EP3187618A1 (en) Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic materials in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material
CN106133184B (en) Evaporation source for organic material
US20170092899A1 (en) Evaporation source for organic material
KR101821926B1 (en) Vacuum deposition apparatus and device manufacturing method using the same
KR101941404B1 (en) Plate-to-be-treated storage apparatus, plate-to-be-treated storage method and deposition method using the same
US20210269912A1 (en) Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic materials in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material
TW201441393A (en) Apparatus for depositing organic film on substrate
JP2020139227A (en) Film deposition apparatus, film deposition method, and manufacturing method of electronic device
KR20120077382A (en) Evaporation device
KR20190045606A (en) Deposition apparatus
KR102014606B1 (en) Vacuum deposition apparatus and device manufacturing method using the same
JP6343036B2 (en) Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material
JP2014014816A (en) Substrate treating method and substrate treating apparatus
CN112442660A (en) Shutter device, film forming apparatus, film forming method, and method of manufacturing electronic device
JP7509809B2 (en) Evaporation source unit, film forming apparatus and film forming method
WO2024116668A1 (en) Evaporation source unit, film forming device, and film forming method
JP2017214654A (en) Vapor deposition source for organic material, device having vapor deposition source for organic material, system having evaporation deposition device including vapor deposition source for organic material, and method for operating vapor deposition source for organic material
JP2024080105A (en) Evaporation source unit, film forming apparatus and film forming method
KR20220154021A (en) Posture changing device and film forming apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant