KR101865926B1 - Method for fabricating Shadow mask for organic electroluminescent display device - Google Patents

Method for fabricating Shadow mask for organic electroluminescent display device Download PDF

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Abstract

본 발명은 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 및 그 제조방법을 개시한다. 개시된 본 발명의 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크는, 제 1 두께(L1)를 갖는 영역과 제 2 두께(L2)를 갖는 영역으로 구분되는 쉐도우 마스크에 있어서, 상기 제 2 두께(L2)를 갖는 영역은 유기전계 발광 표시장치의 액티브 영역과 대응되는 영역이고, 상기 제 2 두께(L2)를 갖는 영역에는 상기 유기전계 발광 표시장치의 픽셀들과 대응되도록 다수개의 개구부가 형성되고, 상기 개구부들 사이에는 제 2 두께(L2)를 갖는 립이 형성된 것을 특징으로 한다.
본 발명의 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 및 그 제조방법은, 쉐도우 마스크의 기계적 강도를 확보하면서 고해상도를 구현할 수 있는 효과가 있다.The present invention discloses a shadow mask for an organic electroluminescence display and a method of manufacturing the same. A shadow mask for an organic electroluminescence display device according to the present invention is a shadow mask divided into a region having a first thickness (L1) and a region having a second thickness (L2), wherein the shadow mask has the second thickness (L2) A plurality of openings corresponding to the pixels of the organic light emitting display device are formed in a region having the second thickness L 2, A lip having a second thickness L2 is formed.
INDUSTRIAL APPLICABILITY The shadow mask for an organic electroluminescence display device and the manufacturing method thereof according to the present invention have an effect of realizing a high resolution while securing the mechanical strength of the shadow mask.

Description

유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법{Method for fabricating Shadow mask for organic electroluminescent display device}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a shadow mask for organic electroluminescent display device,

본 발명은 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 및 그 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a shadow mask for an organic electroluminescence display and a method of manufacturing the same.

최근에 평판표시장치의 표시품질을 높이고 대화면화를 시도하는 연구들이 활발히 진행되고 있다. 이들 중 유기전계 발광 표시장치(Organic Electroluminescent Display Device)는 스스로 발광하는 자발광 소자이다. 유기전계 발광 표시장치는 전자 및 정공 등의 캐리어를 이용하여 형광물질을 여기 시킴으로써 비디오 영상을 표시하게 된다.Recently, researches for increasing the display quality of a flat panel display device and attempting to make it larger have been actively conducted. Of these, an organic electroluminescent display device is a self-luminous element that emits light by itself. The organic light emitting display device displays a video image by exciting a fluorescent material using carriers such as electrons and holes.

또한, 유기전계 발광 표시장치는 넓은 시야각, 고속 응답성, 고 콘트라스트비(contrast ratio) 등의 뛰어난 특징이 있으므로, 그래픽 디스플레이의 픽셀(pixel), 텔레비젼 영상 디스플레이나 표면 광원(Surface Light Source)의 픽셀로서 사용될 수 있으며, 얇고 가벼우며 색감이 좋기 때문에 차세대 평면 디스플레이로써 적합하다.Since the organic light emitting display device has excellent characteristics such as a wide viewing angle, a high speed response, and a high contrast ratio, the pixel of the graphic display, the pixel of the television image display or the surface light source It is thin, light and well-suited for next-generation flat panel displays.

한편, 이러한 유기전계 발광 표시장치의 구동방식으로는 별도의 박막트랜지스터를 구비하지 않는 패시브 매트릭스 방식(Passive matrix type)과, 박막트랜지스터를 구비하는 액티브 매트릭스형 유기전계 발광 표시장치로 구분된다.The driving method of the organic light emitting display device is classified into a passive matrix type which does not include a separate thin film transistor, and an active matrix organic light emitting display device which includes a thin film transistor.

상기 유기전계 발광 표시장치에는 각각의 픽셀 영역에 유기 발광 소자들이 형성되어 있는데, 유기 발광소자는, 양극과 음극을 사이에 두고 유기 발광 물질로써 이루어진 유기 발광층이 게재되어 있다.In the organic light emitting display, organic light emitting devices are formed in respective pixel regions. The organic light emitting device includes an organic light emitting layer formed of an organic light emitting material with an anode and a cathode sandwiched therebetween.

또한, 유기 발광 소자의 유기 발광층은 복수의 기능층들(홀 주입층, 홀 전달층, 발광층, 전자 전달층, 전자 주입층 등)을 포함하고, 이러한 기능층의 조합 및 배열 등을 통해 발광 성능을 더욱 발현하게 된다.The organic light emitting layer of the organic light emitting device includes a plurality of functional layers (a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, an electron transporting layer, an electron injecting layer, etc.) .

전술한 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역에 형성되는 유기 발광층은 진공 증착 프로세스를 이용하여 유기 발광 물질이 기판 상에 증착되어 형성하는 것이 일반적이다.The organic light emitting layer formed in the pixel region of the organic light emitting display device is generally formed by depositing an organic light emitting material on a substrate using a vacuum deposition process.

진공 증착 프로세스에서, 유기 발광층을 형성하는 유기 발광 물질은 배출구를 갖는 증착원에 놓여지고, 증착원은 진공이 유지되는 챔버에서 가열되어 배출구를 통해 증발된 유기 발광 물질을 방출하며, 방출된 유기 발광 물질은 증착원에서 떨어져 기판 상에 증착된다.In the vacuum deposition process, the organic luminescent material forming the organic luminescent layer is placed in an evaporation source having an outlet, the evaporation source is heated in a chamber where the vacuum is maintained to discharge the evaporated organic luminescent material through the discharge port, The material is deposited on the substrate away from the vapor source.

이러한 유기전계 발광 표시장치의 제조에서, 원하는 패턴을 갖는 유기 발광층들이 다수일 경우 다수의 개구부 패턴을 갖는 쉐도우 마스크(shadow mask)를 이용하여 증착 공정이 이루어진다.In the fabrication of such an organic light emitting display, when a plurality of organic light emitting layers having a desired pattern are formed, a deposition process is performed using a shadow mask having a plurality of opening patterns.

다수의 개부를 갖는 쉐도우 마스크를 기판과 근접하게 위치시킨 후, 상기 유기 발광 물질을 상기 쉐도우 마스크 통해 기판에 증착시킴으로써 소정의 패턴형태로 다수의 이격 패턴을 갖는 유기 발광층을 형성할 수 있다.An organic light emitting layer having a plurality of spacing patterns may be formed in a predetermined pattern shape by positioning a shadow mask having a plurality of openings in close proximity to the substrate and then depositing the organic light emitting material on the substrate through the shadow mask.

도 1은 일반적으로 쉐도우 마스크를 이용하여 기판 상에 유기 발광층을 형성하는 모습을 도시한 도면으로서, 도시된 바와 같이, 유기전계 발광 표시장치의 액티브 영역(Active Area)에 형성되는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 유기 발광층은 유기 발광 물질을 포함하는 보트(Boat: 20)를 가열하여 기판(10) 상에 형성된다.FIG. 1 is a view illustrating an organic light emitting layer formed on a substrate using a shadow mask. As shown in FIG. 1, red (R), green The green (G) and blue (B) organic luminescent layers are formed on the substrate 10 by heating a boat (20) containing the organic luminescent material.

즉, 유기 발광층 형성을 위한 챔버 내에 기판(10)이 로딩되면, 마스크 프레임(15)에 안착된 쉐도우 마스크(30)가 기판(10)과 얼라인 된다. 그런 다음, 적, 녹 및 청색 유기 발광 물질이 담겨진 보트(20)를 가열하여, 기판(10) 상에 적색 유기발광층(R), 녹색 유기 발광층(G) 및 청색 유기 발광층(B)을 순차적으로 형성한다.That is, when the substrate 10 is loaded in the chamber for forming the organic light emitting layer, the shadow mask 30 seated on the mask frame 15 is aligned with the substrate 10. Then, the boat 20 containing the red, green, and blue organic luminescent materials is heated so that the red organic luminescent layer (R), the green organic luminescent layer (G), and the blue organic luminescent layer (B) .

도 2는 유기전계 발광 표시장치의 유기 발광층을 형성하기 위하여 사용되는 쉐도우 마스크의 구조를 도시한 도면으로서, 도시된 바와 같이, 쉐도우 마스크(30)는 (a)에서와 같이 슬릿(Slit) 타입의 개구부(31)가 형성된 구조와, (b)에서와 같이 슬롯(Slot) 타입의 개구부(32)가 형성된 구조로 구분된다. 상기 개구부(32)와 개구부(32) 사이에는 브릿지(33)가 형성되어 있다.FIG. 2 is a view showing a structure of a shadow mask used for forming an organic light emitting layer of an organic light emitting display device. As shown in FIG. 2, the shadow mask 30 is a slit type A structure in which the opening 31 is formed and a structure in which a slot type opening 32 is formed as shown in FIG. A bridge (33) is formed between the opening (32) and the opening (32).

상기 슬릿 타입의 쉐도우 마스크는 세로 방향으로 동일 컬러의 유기 발광층을 형성할 수 있도록 최대의 개구율을 갖도록 형성되고, 상기 슬롯 타입의 쉐도우 마스크는 각각의 서브 픽셀(sub pixel)별 개구부를 형성하는데, 슬릿 타입보다 개구율은 감소하나 마스크의 기계적 강도는 증가한다.The slit type shadow mask is formed to have a maximum aperture ratio so as to form an organic light emitting layer of the same color in the longitudinal direction, and the slot type shadow mask forms an opening for each sub pixel, The aperture ratio is reduced, but the mechanical strength of the mask is increased.

상기와 같은 종래 쉐도우 마스크는 최대 240[ppi] 정도의 해상도를 갖는데, 280[ppi]에서 300[ppi]의 고해상도를 갖도록 쉐도우 마스크를 형성하기에는 한계가 있다.The above conventional shadow mask has a resolution of about 240 [ppi], but there is a limit to form the shadow mask to have a high resolution of 280 [ppi] to 300 [ppi].

특히, 고해상도 쉐도우 마스크를 형성하기 위해서는 개구부가 좁거나 개구부간의 거리가 짧아야하는데, 단순히 개구부를 좁히게 되면 개구부들 사이에 형성되는 립(Rib)이 서로 붙어버리는 문제가 발생한다.Particularly, in order to form a high-resolution shadow mask, the aperture needs to be narrow and the distance between the apertures must be short. If the aperture is simply narrowed, ribs formed between the apertures will stick together.

또한, 종래 쉐도우 마스크 제조방법에서는 개구부들 사이에 형성되는 립(Rib) 폭을 줄이는데도 한계가 있어 240[ppi] 이상의 고해상도 마스크를 제조하는 데는 물리적으로 한계가 있었다.
In addition, in the conventional shadow mask manufacturing method, there is a limitation in reducing the width of the rib formed between the openings, and thus there is a physical limitation in manufacturing a high resolution mask of 240 [ppi] or more.

본 발명은, 쉐도우 마스크의 기계적 강도를 확보하면서 고해상도를 구현할 수 있는 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 및 그 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a shadow mask for an organic electroluminescent display device which can realize high resolution while securing mechanical strength of a shadow mask and a method for manufacturing the same.

또한, 본 발명은, 쉐도우 마스크의 정면에 2차 식각 공정을 진행하여 고해상도의 개구부를 확보하면서, 개구부들 사이에 형성되는 립(Rib)의 붙음 및 꼬임 불량을 방지한 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 및 그 제조방법을 제공하는데 다른 목적이 있다.
It is another object of the present invention to provide a shadow mask for an organic electroluminescence display device capable of preventing the sticking and twisting of ribs formed between openings while securing an opening of a high resolution by performing a secondary etching process on the front surface of the shadow mask Another object is to provide a mask and a manufacturing method thereof.

상기와 같은 종래 기술의 과제를 해결하기 위한 본 발명의 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크는, 제 1 두께(L1)를 갖는 영역과 제 2 두께(L2)를 갖는 영역으로 구분되는 쉐도우 마스크에 있어서, 상기 제 2 두께(L2)를 갖는 영역은 유기전계 발광 표시장치의 액티브 영역과 대응되는 영역이고, 상기 제 2 두께(L2)를 갖는 영역에는 상기 유기전계 발광 표시장치의 픽셀들과 대응되도록 다수개의 개구부가 형성되고, 상기 개구부들 사이에는 제 2 두께(L2)를 갖는 립이 형성된 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a shadow mask for an organic light emitting display, the shadow mask including a region having a first thickness (L1) and a region having a second thickness (L2) , The second region having the second thickness (L2) corresponds to the active region of the organic light emitting display, and the region having the second thickness (L2) has a plurality of regions corresponding to the pixels of the organic light emitting display And a lip having a second thickness (L2) is formed between the openings.

또한, 본 발명의 다른 실시예에 의한 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크는, 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역과 대응되는 영역에 다수개의 개구부들이 형성되고, 상기 개구부들 사이에는 립들이 형성되는 쉐도우 마스크에 있어서, 상기 립들은 쉐도우 마스크의 두께와 동일한 두께를 갖되, 상기 립은 3개의 서로 다른 제 1, 2 및 제 3 폭(W1, W2, W3)을 갖는 것을 특징으로 한다.
According to another aspect of the present invention, there is provided a shadow mask for an organic light emitting display having a plurality of openings formed in a region corresponding to a pixel region of an organic light emitting display, In the mask, the ribs have a thickness equal to the thickness of the shadow mask, wherein the ribs have three different first, second and third widths (W1, W2, W3).

또한, 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법은, 제 1 두께(L1)를 갖는 기판의 양면에 제 1 포토레지스트층과 제 2 포토레지스트층을 형성하는 단계; 상기 제 2 포토레지스트층을 유기전계 발광 표시장치의 액티브 영역과 대응되는 기판 영역이 노출되도록 패터닝한 다음, 노출된 영역의 기판 두께가 제 2 두께(L2)를 갖도록 1차 식각 공정을 진행하는 단계; 상기 패터닝된 제 2 포토레지스트층을 제거한 다음, 상기 기판의 제 2 두께를 갖는 영역에 상기 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역들과 대응되는 영역이 노출되도록 제 3 포토레지스트층을 형성하고, 이를 마스크로 2차 식각 공정을 진행하는 단계; 및 상기 제1 포토레지스트층을 패터닝한 다음, 이를 마스크로 기판을 식각하여 상기 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역들과 대응되는 다수의 개구부와, 상기 개구부들 사이에 형성된 립을 형성하는 단계를 포함한다.
According to still another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a shadow mask for an organic light emitting display, the method including forming a first photoresist layer and a second photoresist layer on both sides of a substrate having a first thickness L1 ; Patterning the second photoresist layer so as to expose the substrate region corresponding to the active region of the organic light emitting display device and then performing the first etching process so that the substrate thickness of the exposed region has the second thickness L2 ; A third photoresist layer is formed on the substrate so as to expose a region corresponding to pixel regions of the organic light emitting display device in a region having a second thickness of the substrate, A step of performing a second etching process on the substrate; And patterning the first photoresist layer and etching the substrate with the mask to form a plurality of openings corresponding to pixel regions of the organic light emitting display device and forming a lip between the openings do.

또한, 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법은, 제 1 두께(L1)를 갖는 기판의 양면에 제 1 포토레지스트층과 제 2 포토레지스트층을 형성하는 단계; 상기 제 2 포토레지스트층을 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역과 대응되는 기판 영역이 노출되도록 패터닝한 다음, 노출된 영역의 기판 두께가 제 2 두께(L2)를 갖도록 1차 식각 공정을 진행하는 단계; 상기 패터닝된 제 2 포토레지스트층을 제거한 다음, 상기 기판의 제 2 두께를 갖는 영역에 상기 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역들과 대응되는 영역이 노출되도록 제 3 포토레지스트층을 형성하고, 이를 마스크로 2차 식각 공정을 진행하는 단계; 및 상기 제1 포토레지스트층을 패터닝한 다음, 이를 마스크로 기판을 식각하여 상기 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역들과 대응되는 다수의 개구부와, 상기 개구부들 사이에 형성된 립을 형성하는 단계를 포함한다.
According to still another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a shadow mask for an organic light emitting display, the method including forming a first photoresist layer and a second photoresist layer on both sides of a substrate having a first thickness L1 ; Patterning the second photoresist layer to expose a substrate region corresponding to a pixel region of an organic light emitting display device and then performing a first etching process so that a substrate thickness of the exposed region has a second thickness (L2) ; A third photoresist layer is formed on the substrate so as to expose a region corresponding to pixel regions of the organic light emitting display device in a region having a second thickness of the substrate, A step of performing a second etching process on the substrate; And patterning the first photoresist layer and etching the substrate with the mask to form a plurality of openings corresponding to pixel regions of the organic light emitting display device and forming a lip between the openings do.

또한, 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법은, 제 1 두께(L1)를 갖는 기판의 양면에 제 1 포토레지스트층과 제 2 포토레지스트층을 형성하는 단계; 상기 제 2 포토레지스트층을 유기전계 발광 표시장치의 액티브 영역 또는 픽셀 영역과 대응되는 기판 영역이 노출되도록 패터닝한 다음, 노출된 영역의 기판 두께가 제 2 두께(L2)를 갖도록 1차 식각 공정을 진행하는 단계; 및 상기 패터닝된 제 1 및 제 2 포토레지스트층을 제거한 다음, 레이저 가공 공정을 적용하여, 상기 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역과 대응되는 기판 상에 다수개의 개구부와 상기 개구부 사이에 형성된 립을 형성하는 단계를 포함한다.
According to still another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a shadow mask for an organic light emitting display, the method including forming a first photoresist layer and a second photoresist layer on both sides of a substrate having a first thickness L1 ; The second photoresist layer is patterned to expose an active region of the organic light emitting display device or a substrate region corresponding to a pixel region and then a first etching process is performed so that the substrate thickness of the exposed region has a second thickness L2 An advancing step; And removing the patterned first and second photoresist layers and applying a laser processing process to form a plurality of openings on the substrate corresponding to the pixel region of the organic light emitting display and a lip formed between the openings .

본 발명의 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 및 그 제조방법은, 쉐도우 마스크의 기계적 강도를 확보하면서 고해상도를 구현할 수 있는 효과가 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The shadow mask for an organic electroluminescence display device and the manufacturing method thereof according to the present invention have an effect of realizing a high resolution while securing the mechanical strength of the shadow mask.

또한, 본 발명의 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 및 그 제조방법은, 쉐도우 마스크의 정면에 2차 식각 공정을 진행하여 고해상도의 개구부를 확보하면서, 개구부들 사이에 형성되는 립(Rib)의 붙음 및 꼬임 불량을 방지한 효과가 있다.
In addition, the shadow mask and the method for fabricating the shadow mask for an organic electroluminescence display of the present invention are characterized in that a secondary etching process is performed on the front surface of the shadow mask to secure a high-resolution opening, And an effect of preventing a twist failure.

도 1은 일반적으로 쉐도우 마스크를 이용하여 기판 상에 유기 발광층을 형성하는 모습을 도시한 도면이다.
도 2는 유기전계 발광 표시장치의 유기 발광층을 형성하기 위하여 사용되는 쉐도우 마스크의 구조를 도시한 도면이다.
도 3a 내지 도 3e는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법을 도시한 도면이다.
도 4a 내지 4e는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법을 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 의해 제조된 쉐도우 마스크의 립(rib) 구조를 도시한 도면이다.
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법을 도시한 도면이다.
도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법을 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 제 4 실시예에 의해 제조된 쉐도우 마스크의 립(rib) 구조를 도시한 도면이다.1 is a view showing a state in which an organic light emitting layer is formed on a substrate using a shadow mask in general.
2 is a view showing a structure of a shadow mask used for forming an organic light emitting layer of an organic light emitting display device.
3A to 3E are views illustrating a method of manufacturing a shadow mask for an organic light emitting display according to a first embodiment of the present invention.
4A to 4E are views illustrating a method of manufacturing a shadow mask for an organic light emitting display according to a second embodiment of the present invention.
5 is a view showing a rib structure of a shadow mask manufactured by the second embodiment of the present invention.
6A to 6C are views illustrating a method of manufacturing a shadow mask for an organic light emitting display according to a third embodiment of the present invention.
7A to 7C are views illustrating a method of manufacturing a shadow mask for an organic light emitting display according to a fourth embodiment of the present invention.
8 is a view showing a rib structure of a shadow mask manufactured by the fourth embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시예들은 도면을 참고하여 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The following embodiments are provided by way of example so that those skilled in the art can fully understand the spirit of the present invention. Therefore, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be embodied in other forms. In the drawings, the size and thickness of the device may be exaggerated for convenience. Like reference numerals designate like elements throughout the specification.

도 3a 내지 도 3e는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법을 도시한 도면이다.3A to 3E are views illustrating a method of manufacturing a shadow mask for an organic light emitting display according to a first embodiment of the present invention.

도 3a 내지 도 3e를 참조하면, 소정의 두께(L1)를 갖는 금속재질의 기판(100)을 표면 산화물 또는 이물을 제거하는 전처리 공정을 실시한 후, 상기 기판(100)의 양면에 포토레지스트를 도포하여 제 1 및 제 2 포토레지스트층(200, 201)을 형성한다.3A to 3E, after a pretreatment process for removing a surface oxide or foreign matter is performed on a substrate 100 made of a metal having a predetermined thickness L1, a photoresist is applied on both surfaces of the substrate 100 Thereby forming first and second photoresist layers 200 and 201, respectively.

먼저, 상기 기판(100)의 정면에 형성된 제 2 포토레지스트층(201)은 노광 및 현상 공정을 진행하여 패터닝한 다음, 이를 마스크로 하여 유기전계 발광 표시장치의 액티브 영역(Active Area)과 대응되는 영역을 1차적으로 식각한다. 이때, 식각 깊이는 기판(100)의 두께(L1)를 기준으로 10~75% 범위로 진행한다.First, a second photoresist layer 201 formed on the front surface of the substrate 100 is patterned by performing exposure and development processes, and then patterned using the photoresist layer as a mask. Then, the second photoresist layer 201 is patterned to correspond to an active area of the organic light emitting display The area is primarily etched. At this time, the etching depth is in the range of 10 to 75% based on the thickness L1 of the substrate 100.

여기서, 액티브 영역은 유기전계 발광 표시장치의 디스플레이 영역으로써, 다수개의 픽셀(sub-pixel)들이 매트릭스 형태로 형성된 영역을 의미한다. 각각의 픽셀 영역에는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 유기발광층을 포함하는 발광소자들이 형성되어 있다.
Here, the active region means a display region of an organic light emitting display, in which a plurality of sub-pixels are formed in a matrix form. Emitting element including red (R), green (G) and blue (B) organic light emitting layers is formed in each pixel region.

또한, 상기 기판(100)의 배면에 형성된 제 1 포토레지스트층(200)은 식각 공정시, 기판(100)의 배면이 식각되는 것을 방지하는 역할을 한다. In addition, the first photoresist layer 200 formed on the backside of the substrate 100 serves to prevent the backside of the substrate 100 from being etched during the etching process.

상기 1차 식각 공정으로 액티브 영역과 대응되는 기판(100)의 두께는 L2로 얇아지는데, L2는 식각 깊이에 따라 기판(100) 두께(L1)의 0.25~0.9배 정도의 값을 갖는다. 즉, 1차 식각 공정으로 유기전계 발광 표시장치의 액티브 영역과 대응되는 영역의 기판(100) 상에는 L2의 두께를 갖는 단차 영역이 형성된다.In the first etching process, the thickness of the substrate 100 corresponding to the active region is reduced to L2, and L2 is about 0.25 to 0.9 times the thickness L1 of the substrate 100 according to the etching depth. That is, in the first etching step, a stepped region having a thickness of L2 is formed on the substrate 100 in the region corresponding to the active region of the organic light emitting display.

상기와 같이, 1차 식각 공정에 의해 기판(100)의 액티브 영역이 식각되면, 도 3b 및 도 3c에 도시된 바와 같이, 패터닝된 제 2 포토레지스층을 제거한다음, 제 3 포토레지스트층(202)을 기판(100) 상에 형성한다. 상기 제 3 포토레지스트층(202)은 노광 및 현상 공정을 진행하여, 두께가 L2인 기판(100)에 대해 픽셀 단위로 기판(100)이 노출되도록 패터닝되어 있다.As described above, when the active region of the substrate 100 is etched by the first etching process, the patterned second photoresist layer is removed as shown in FIGS. 3B and 3C, and then the third photoresist layer 202 Is formed on the substrate 100. [ The third photoresist layer 202 is patterned so as to expose the substrate 100 in units of pixels with respect to the substrate 100 having a thickness of L2 by performing exposure and development processes.

그런 다음, 상기 제 3 포토레지스트층(202)을 마스크로 하여 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역과 대응되는 기판(100)을 2차 식각한다.Then, using the third photoresist layer 202 as a mask, the substrate 100 corresponding to the pixel region of the organic light emitting display device is secondarily etched.

상기와 같이, 2차 식각 공정이 진행되면, 도 3d 및 도 3e에 도시한 바와 같이, 제1 포토레지스트층을 패터닝하여, 포토레지스트 패턴(205)을 형성한 다음, 이를 마스크로 하여 2단 식각 처리가된 기판(100)의 배면에 3차 식각 공정을 진행하여 개구부(OA)와 립(Rib: R)을 형성한다. 이후, 제 3 포토레지스트층과 포토레지스트 패턴(205)을 제거하는 에싱(Ashing) 공정을 진행하여 쉐도우 마스크(150)를 완성한다.As described above, when the second etching process is performed, the first photoresist layer is patterned to form a photoresist pattern 205, as shown in FIGS. 3D and 3E, A third etching process is performed on the back surface of the processed substrate 100 to form an opening portion OA and a rib R. Thereafter, an ashing process for removing the third photoresist layer and the photoresist pattern 205 is performed to complete the shadow mask 150.

도면에 도시된 바와 같이, 유기전계 발광 표시장치의 액티브 영역과 대응되는 기판 영역이 1차적으로 식각된 후, 개구부 형성을 위한 2차 식각 공정이 진행되어 쉐도우 마스크(150)의 립(R)의 두께는 L2의 값을 갖는다.As shown in the figure, after the substrate region corresponding to the active region of the organic light emitting display device is primarily etched, a secondary etching process for forming an opening is performed to form the rib R of the shadow mask 150 The thickness has a value of L2.

또한, 유기전계 발광 표시장치의 액티브 영역 이외의 영역과 대응되는 쉐도우 마스크(150)의 두께는 L1의 값을 갖는다.In addition, the thickness of the shadow mask 150 corresponding to the region other than the active region of the organic light emitting display device has a value of L1.

이와 같이, 본 발명은 기판의 정면을 2단 식각한 후, 배면 식각을 진행하여 개구부를 형성함으로써, 기계적 강도를 확보하면서 고해상도의 쉐도우 마스크를 형성할 수 있다.
As described above, the present invention can form a shadow mask of high resolution while securing mechanical strength by etching the front surface of the substrate in two steps and then performing back surface etching to form an opening portion.

도 4a 내지 4e는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법을 도시한 도면이다.4A to 4E are views illustrating a method of manufacturing a shadow mask for an organic light emitting display according to a second embodiment of the present invention.

도 4a 내지 도 4e를 참조하면, 소정의 두께(L1)를 갖는 금속재질의 기판(300)을 표면 산화물 또는 이물을 제거하는 전처리 공정을 실시한 후, 상기 기판(300)의 양면에 포토레지스트를 도포하여 제 1 및 제 2 포토레지스트층(400, 401)을 형성한다.4A to 4E, after a pretreatment process for removing a surface oxide or foreign matter is performed on a substrate 300 made of a metal having a predetermined thickness L1, a photoresist is applied to both surfaces of the substrate 300 Thereby forming first and second photoresist layers 400 and 401.

먼저, 상기 기판(300)의 정면에 형성된 제 2 포토레지스트층(401)은 노광 및 현상 공정으로 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 단위로 패터닝한다. 그런 다음, 이를 마스크로 하여 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역(sub pixel)과 대응되는 기판(300)을 1차 식각한다. 식각 깊이는 기판(300)의 두께(L1)를 기준으로 10~75% 범위로 진행한다. First, the second photoresist layer 401 formed on the front surface of the substrate 300 is patterned in units of pixels of the organic light emitting display device by the exposure and development processes. Then, the substrate 300 corresponding to a pixel area (sub pixel) of the organic light emitting display is firstly etched using the same as a mask. The etch depth is in the range of 10 to 75% based on the thickness L1 of the substrate 300.

이때, 제 1 포토레지스트층(400)은 기판(300)의 배면 식각을 방지하기 위한 보호층 역할을 한다.At this time, the first photoresist layer 400 serves as a protective layer for preventing the rear surface of the substrate 300 from being etched.

상기 1차 식각 공정으로 픽셀 영역과 대응되는 기판(300)의 두께는 L2가 되고, L2는 식각 깊이에 따라 L1의 0.25~0.9배 정도의 값을 갖는다. 즉, 제 1 실시예와 달리 제 2 실시예에서는 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역과 대응되는 영역에 단차가 형성된다.The thickness of the substrate 300 corresponding to the pixel region in the primary etching process is L2, and L2 has a value of about 0.25 to 0.9 times of L1 according to the etching depth. That is, in the second embodiment, unlike the first embodiment, a step is formed in a region corresponding to the pixel region of the organic light emitting display device.

상기와 같이, 1차 식각 공정에 의해 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 단위로 기판(300)이 식각되면, 도 4b 및 도 4c에 도시된 바와 같이, 제 2 포토레지스트층을 제거한 다음, 기판(300) 상에 제 3 포토레지스트층(402)을 형성한다. As described above, when the substrate 300 is etched by a pixel unit of the organic light emitting display device by the first etching process, the second photoresist layer is removed as shown in FIGS. 4B and 4C, and then the substrate 300 A third photoresist layer 402 is formed.

상기 제 3 포토레지스트층(402)은 노광 및 현상 공정을 진행하여, 두께가 L2인 픽셀 영역의 기판(100)이 노출되도록 패터닝되어 있다.The third photoresist layer 402 is patterned so as to expose the substrate 100 in the pixel region having the thickness of L2 through the exposure and development processes.

그런 다음, 상기 제 3 포토레지스트층(402)을 마스크로 하여 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역과 대응되는 기판(300)을 2차 식각한다.Then, using the third photoresist layer 402 as a mask, the substrate 300 corresponding to the pixel region of the organic light emitting display device is secondarily etched.

상기와 같이, 2차 식각 공정이 진행되면, 도 4d 및 도 4e에 도시한 바와 같이, 제1 포토레지스트층을 패터닝하여, 포토레지스트 패턴(403)을 형성한 다음, 이를 마스크로 하여 2단 식각 처리가된 기판(300)의 배면에 3차 식각 공정을 진행하여 개구부(OA)와 립(R)을 형성한다. 이후 제 3 포토레지스트층(402)과 포토레지스트 패턴(403)을 제거하는 에싱(Ashing) 공정을 진행하여 쉐도우 마스크(350)를 완성한다.4D and 4E, the first photoresist layer is patterned to form a photoresist pattern 403, and then a second photoresist pattern 403 is formed using the photoresist pattern 403 as a mask. Then, as shown in FIGS. 4D and 4E, A third etching process is performed on the back surface of the processed substrate 300 to form an opening portion OA and a lip R. [ Thereafter, an ashing process for removing the third photoresist layer 402 and the photoresist pattern 403 is performed to complete the shadow mask 350.

도면에 도시된 바와 같이, 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역과 대응되는 쉐도우 마스크 영역에는 2단 식각 공정이 진행되어, 개구부들(OA) 간에 형성된 립(rib)의 전체 두께는 L1의 값을 갖지만, 개구부(OA) 영역에서는 2단 식각으로 인하여 L2의 두께를 갖는다. 또한, 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역 이외의 영역과 대응되는 쉐도우 마스크(150)의 두께는 L1의 값을 갖는다.As shown in the figure, a two-step etching process is performed on the shadow mask region corresponding to the pixel region of the organic light emitting display, so that the total thickness of the rib formed between the openings OA has a value of L1 , And the thickness of the opening (OA) region is L2 due to the two-step etching. In addition, the thickness of the shadow mask 150 corresponding to the region other than the pixel region of the organic light emitting display device has a value of L1.

이와 같이, 본 발명에서는 기판의 정면을 2단 식각한 후, 배면 식각을 진행하여 고해상도의 쉐도우 마스크를 형성하면서, 쉐도우 마스크의 기계적 강도를 강화시킨 효과가 있다.As described above, the present invention has the effect of enhancing the mechanical strength of the shadow mask while forming a high-resolution shadow mask by etching the front surface of the substrate in two steps and then performing rear etching.

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 의해 제조된 쉐도우 마스크의 립(rib) 구조를 도시한 도면으로서, 립(Rib: R)의 구조를 보면, 기판의 정면에서 2단 식각과 배면에서의 식각으로 인하여, 3개의 서로 다른 제1, 2 및 제3 폭(W1, W2, W3)을 갖는다. 또한, 립(R)의 전체 두께는 쉐도우 마스크의 두께(L1)와 동일하고, 개구부 영역의 두께는 L2의 값을 갖는다.FIG. 5 is a view showing a rib structure of a shadow mask manufactured according to the second embodiment of the present invention. In the structure of the rib (Rib: R), a two-step etching process is performed on the front surface of the substrate, Due to the etching, it has three different first, second and third widths W1, W2 and W3. The total thickness of the rib R is equal to the thickness L1 of the shadow mask, and the thickness of the opening region has a value of L2.

또한, 상기 립(R)의 중심부의 제 2 폭(W2)은 립 상부면의 제 1 폭(W1)과 하부면의 제 3 폭(W3) 합의 절반보다 같거나 크게 형성된다.(W2≥(W1+W3)/2))The second width W2 of the center of the lip R is equal to or greater than half the sum of the first width W1 of the lip upper surface and the third width W3 of the lower surface. W1 + W3) / 2))

본 발명의 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 및 그 제조방법은, 쉐도우 마스크의 기계적 강도를 확보하면서 고해상도를 구현할 수 있는 효과가 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The shadow mask for an organic electroluminescence display device and the manufacturing method thereof according to the present invention have an effect of realizing a high resolution while securing the mechanical strength of the shadow mask.

또한, 본 발명의 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 및 그 제조방법은, 쉐도우 마스크의 정면에 2차 식각 공정을 진행하여 고해상도 개구부를 확보하면서, 개구부들 사이에 형성되는 립(Rib)의 붙음 및 꼬임 불량을 방지한 효과가 있다.
In addition, the shadow mask and the method of manufacturing the same of the present invention are characterized in that a secondary etching process is performed on the front surface of the shadow mask to secure a high-resolution opening, and the adhesion of the rib formed between the openings and It has an effect of preventing defective kinks.

도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법을 도시한 도면이다.6A to 6C are views illustrating a method of manufacturing a shadow mask for an organic light emitting display according to a third embodiment of the present invention.

도 6a 내지 도 6c를 참조하면, 소정의 두께(L1)를 갖는 금속재질의 기판(500)을 표면 산화물 또는 이물을 제거하는 전처리를 실시한 후, 상기 기판(500)의 양면에 포토레지스트를 도포하여 제 1 및 제 2 포토레지스트층(601, 602)을 형성한다.6A to 6C, a substrate 500 made of a metal having a predetermined thickness L1 is subjected to a pretreatment for removing surface oxides or foreign substances, and then a photoresist is applied to both surfaces of the substrate 500 First and second photoresist layers 601 and 602 are formed.

먼저, 상기 기판(500)의 정면에 형성된 제 2 포토레지스트층(201)은 노광 및 현상 공정으로 패터닝한 다음, 이를 마스크로 하여 유기전계 발광 표시장치의 액티브 영역(Active Area)과 대응되는 기판(500)을 1차 식각한다. 식각 깊이는 기판(500)의 두께(L1)를 기준으로 10~75% 범위로 진행한다. First, a second photoresist layer 201 formed on the front surface of the substrate 500 is patterned by an exposure and development process, and then patterned using the photoresist layer as a mask to form a substrate (not shown) corresponding to an active area of the organic light emitting display 500) is firstly etched. The etching depth is in the range of 10 to 75% based on the thickness L1 of the substrate 500.

이때, 상기 제 1 포토레지스층(601)은 식각 공정으로 기판(500)의 배면이 식각되는 것을 보호하는 기능을 한다.At this time, the first photoresist layer 601 protects the back surface of the substrate 500 from being etched by the etching process.

상기 1차 식각 공정으로 액티브 영역과 대응되는 기판(500)은 L2의 두께를 갖는데, L2는 식각 깊이에 따라 L1의 0.25~0.9배 정도의 두께를 갖는다.The substrate 500 corresponding to the active region in the primary etching process has a thickness of L2, and L2 has a thickness of about 0.25 to 0.9 times as large as L1 according to the etching depth.

상기와 같이, 1차 식각 공정에 의해 기판(500)의 액티브 영역이 식각되면, 도면에 도시된 바와 같이, 레이저(1000)를 이용하여, 액티브 영역에서 각각의 픽셀 단위로 개구부(OA)를 형성하여 쉐도우 마스크(550)를 형성한다. 개구부들 사이에는 립(Rib: R)이 형성이 형성된다.As described above, when the active region of the substrate 500 is etched by the first etching process as described above, the opening portion OA is formed for each pixel in the active region using the laser 1000, as shown in the figure Thereby forming a shadow mask 550. A rib (Rib: R) is formed between the openings.

즉, 본 발명의 제 3 실시예에서는 유기전계 발광 표시장치의 액티브 영역과 대응되는 기판(500)을 1차적으로 식각 공정으로 두께를 줄인 다음, 2차적으로 레이저 가공 공정을 이용하여, 픽셀 단위로 개구부(OA)와 립(R)들을 형성하였다.That is, in the third embodiment of the present invention, the substrate 500 corresponding to the active region of the organic light emitting display device is first reduced in thickness by an etching process, and then, by using a laser processing process, Thereby forming an opening (OA) and a lip (R).

따라서, 본 발명의 제 3 실시예에 의한 쉐도우 마스크(550)는 전체 두께가 L1의 값을 갖고, 액티브 영역과 대응되는 영역의 립(R) 두께는 L2의 값을 갖는다.Therefore, in the shadow mask 550 according to the third embodiment of the present invention, the entire thickness has a value of L1, and the thickness of the rib (R) in the region corresponding to the active region has a value of L2.

이와 같이, 본 발명에서는 기판의 정면을 식각 공정으로 두께를 얇게 형성하고, 이후 레이저 가공 공정으로 쉐도우 마스크의 개구부를 형성함으로써, 기계적 강도를 유지하면서 고해상도의 쉐도우 마스크를 형성하였다.
As described above, in the present invention, the front surface of the substrate is thinned by the etching process and then the opening portion of the shadow mask is formed by a laser machining process to form a high-resolution shadow mask while maintaining the mechanical strength.

도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법을 도시한 도면이다.7A to 7C are views illustrating a method of manufacturing a shadow mask for an organic light emitting display according to a fourth embodiment of the present invention.

도 7a 내지 도 7c를 참조하면, 소정의 두께(L1)를 갖는 금속재질의 기판(700)을 표면 산화물 또는 이물을 제거하는 전처리 공정을 실시한 후, 상기 기판(700)의 양면에 포토레지스트를 도포하여 제 1 및 제 2 포토레지스트층(801, 802)을 형성한다.7A to 7C, a pretreatment process of removing a surface oxide or foreign matter is performed on a substrate 700 made of a metal having a predetermined thickness L1, and then a photoresist is applied to both surfaces of the substrate 700 The first and second photoresist layers 801 and 802 are formed.

먼저, 상기 기판(700)의 정면에 형성된 제 2 포토레지스트층(801)은 노광 및 현상 공정으로 유기전계 발광 표시장치의 픽셀과 대응되도록 패터닝한 다음, 이를 마스크로 하여 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역(sub pixel)과 대응되는 기판(700)을 식각한다. 식각 깊이는 기판(700)의 두께(L1)를 기준으로 10~75% 범위로 진행한다. First, a second photoresist layer 801 formed on the front surface of the substrate 700 is patterned to correspond to pixels of an organic light emitting display device in an exposure and development process, and then patterned using the photoresist layer as a mask, The substrate 700 corresponding to the sub pixel is etched. The etch depth is in the range of 10 to 75% based on the thickness L1 of the substrate 700.

상기 식각 공정으로 픽셀 영역과 대응되는 기판(700)은 L2의 두께를 갖는데, L2는 식각 깊이에 따라 L1의 0.25~0.9배 정도의 두께를 갖는다. 제 1 포토레지스트층(801)은 식각 공정으로 기판(700)의 배면이 식각되는 것을 보호하는 기능을 한다.The substrate 700 corresponding to the pixel region in the etching process has a thickness of L2, and L2 has a thickness of about 0.25 to 0.9 times of L1 according to the etching depth. The first photoresist layer 801 functions to protect the back surface of the substrate 700 from being etched by the etching process.

상기와 같이, 식각 공정에 의해 기판(700)이 픽셀 단위로 식각되면, 도면에 도시된 바와 같이, 레이저(1000)를 이용하여, 각각의 픽셀 단위에 개구부(OA)와 립(R)을 형성하여 쉐도우 마스크(750)를 완성한다. As described above, when the substrate 700 is etched in the pixel unit by the etching process, the opening OA and the lip R are formed in each pixel unit using the laser 1000 as shown in the drawing Thereby completing the shadow mask 750.

즉, 본 발명의 제 4 실시예에서는 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역과 대응되는 기판(700)을 식각 공정으로 두께를 줄인 다음, 레이저 가공 공정을 이용하여, 픽셀 단위로 개구부(OA)들을 형성하였다.That is, in the fourth embodiment of the present invention, the substrate 700 corresponding to the pixel region of the organic light emitting display device is reduced in thickness by an etching process, and then the openings OA are formed in units of pixels using a laser processing process Respectively.

따라서, 본 발명의 제 4 실시예에 의한 쉐도우 마스크(750)는 전체 두께가 L1의 값을 갖고, 액티브 영역과 대응되는 영역의 립(R)의 전체 두께도 L1의 값을 갖지만, 개구부(OA)와 대응되는 영역에서는 L2의 두께를 갖는다.Therefore, the shadow mask 750 according to the fourth embodiment of the present invention has a total thickness L 1 and a total thickness of the rib R of the region corresponding to the active region has a value of L 1, And the thickness of the region corresponding to the thickness L2.

이와 같이, 본 발명에서는 기판의 정면을 식각한 후, 레이저 가공 공정에 의해 쉐도우 마스크(750)의 개구부를 형성하므로, 쉐도우 마스크(750)의 기계적 강도를 강화시키면서 고해상도 마스크를 구현할 수 있는 효과가 있다.As described above, in the present invention, since the opening portion of the shadow mask 750 is formed by laser processing after the front surface of the substrate is etched, a high-resolution mask can be realized while enhancing the mechanical strength of the shadow mask 750 .

도 8은 본 발명의 제 4 실시예에 의해 제조된 쉐도우 마스크의 립(rib) 구조를 도시한 도면이다.8 is a view showing a rib structure of a shadow mask manufactured by the fourth embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 제 4 실시예에 의한 쉐도우 마스크의 립(Rib: R)의 구조는 기판의 정면에서 1차 식각 공정을 진행하여, 단차가 발생된 상태에서 픽셀 단위로 레이저 가공 공정이 진행되므로 3개의 서로 다른 제4, 5 및 제 6 폭(W4, W5, W6)을 갖는다. 또한, 립(R)의 전체 두께는 쉐도우 마스크의 두께(L1)와 동일하고, 개구부 영역의 두께는 L2의 값을 갖는다.Referring to FIG. 8, in the structure of the shadow mask Rib (R) according to the fourth embodiment, a first etching process is performed on the front surface of the substrate, and a laser processing process is performed on a pixel- And thus have three different fourth, fifth and sixth widths W4, W5 and W6. The total thickness of the rib R is equal to the thickness L1 of the shadow mask, and the thickness of the opening region has a value of L2.

또한, 상기 립(R)의 중심부의 제 5 폭(W5)은 립 상부면의 제 6 폭(W6)과 하부면의 제 4 폭(W4) 합의 절반보다 같거나 크게 형성된다.(W5≥(W6+W4)/2))The fifth width W5 of the center of the lip R is formed to be equal to or greater than half the sum of the sixth width W6 of the lip upper surface and the fourth width W4 of the lower surface. W6 + W4) / 2))

본 발명의 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 및 그 제조방법은, 쉐도우 마스크의 기계적 강도를 확보하면서 고해상도를 구현할 수 있는 효과가 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The shadow mask for an organic electroluminescence display device and the manufacturing method thereof according to the present invention have an effect of realizing a high resolution while securing the mechanical strength of the shadow mask.

또한, 본 발명의 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 및 그 제조방법은, 쉐도우 마스크의 정면에 식각 공정과 레이저 가공 공정을 진행하여 고해상도의 개구부를 확보하면서, 개구부들 사이에 형성되는 립(Rib)의 붙음 및 꼬임 불량을 방지한 효과가 있다.
A shadow mask for an organic light emitting display device and a method of manufacturing the shadow mask according to the present invention are characterized in that the shadow mask is etched by etching and a laser processing process is performed on the front surface of the shadow mask to secure a high- It is possible to prevent sticking and defective twisting.

100: 기판 200: 제 1 포토레지스트층
201: 제 2 포토레지스트층 150: 쉐도우 마스크
OA: 개구부 R: 립(Rib)
1000: 레이저100: substrate 200: first photoresist layer
201: second photoresist layer 150: shadow mask
OA: opening R: rib (rib)
1000: Laser

Claims (17)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 두께(L1)를 갖는 기판의 양면에 제 1 포토레지스트층과 제 2 포토레지스트층을 형성하는 단계;
상기 제 2 포토레지스트층을 유기전계 발광 표시장치의 액티브 영역과 대응되는 기판 영역이 노출되도록 패터닝한 다음, 노출된 영역의 기판 두께가 제 2 두께(L2)를 갖도록 1차 식각 공정을 진행하는 단계;
상기 패터닝된 제 2 포토레지스트층을 제거한 다음, 상기 기판의 제 2 두께를 갖는 영역에 상기 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역들과 대응되는 영역이 노출되도록 제 3 포토레지스트층을 형성하고, 이를 마스크로 2차 식각 공정을 진행하는 단계; 및
상기 제1 포토레지스트층을 패터닝한 다음, 이를 마스크로 기판을 식각하여 상기 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역들과 대응되는 다수의 개구부와, 상기 개구부들 사이에 형성된 립을 형성하는 단계를 포함하는 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법.
Forming a first photoresist layer and a second photoresist layer on both sides of a substrate having a first thickness (L1);
Patterning the second photoresist layer so as to expose the substrate region corresponding to the active region of the organic light emitting display device and then performing the first etching process so that the substrate thickness of the exposed region has the second thickness L2 ;
A third photoresist layer is formed on the substrate so as to expose a region corresponding to pixel regions of the organic light emitting display device in a region having a second thickness of the substrate, A step of performing a second etching process on the substrate; And
Patterning the first photoresist layer and etching the substrate with a mask to form a plurality of openings corresponding to pixel regions of the organic light emitting display and a lip formed between the openings, A method of manufacturing a shadow mask for an organic electroluminescent display device.
제 6 항에 있어서, 상기 1차 식각 공정으로 인하여 형성되는 기판의 제 2 두께(L2)는 기판의 제 1 두께(L1)의 0.25~0.9배의 범위인 것을 특징으로 하는 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법.
The organic electroluminescent display device according to claim 6, wherein the second thickness (L2) of the substrate formed by the first etching process is in the range of 0.25 to 0.9 times the first thickness (L1) of the substrate A method of manufacturing a shadow mask.
제 7 항에 있어서, 상기 개구부들 사이에 형성되는 립들은 제 2 두께(L2)인 것을 특징으로 하는 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법.
[8] The method of claim 7, wherein the lips formed between the openings have a second thickness (L2).
제 1 두께(L1)를 갖는 기판의 양면에 제 1 포토레지스트층과 제 2 포토레지스트층을 형성하는 단계;
상기 제 2 포토레지스트층을 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역과 대응되는 기판 영역이 노출되도록 패터닝한 다음, 노출된 영역의 기판 두께가 제 2 두께(L2)를 갖도록 1차 식각 공정을 진행하는 단계;
상기 패터닝된 제 2 포토레지스트층을 제거한 다음, 상기 기판의 제 2 두께를 갖는 영역에 상기 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역들과 대응되는 영역이 노출되도록 제 3 포토레지스트층을 형성하고, 이를 마스크로 2차 식각 공정을 진행하는 단계; 및
상기 제1 포토레지스트층을 패터닝한 다음, 이를 마스크로 기판을 식각하여 상기 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역들과 대응되는 다수의 개구부와, 상기 개구부들 사이에 형성된 립을 형성하는 단계를 포함하는 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법.
Forming a first photoresist layer and a second photoresist layer on both sides of a substrate having a first thickness (L1);
Patterning the second photoresist layer to expose a substrate region corresponding to a pixel region of an organic light emitting display device and then performing a first etching process so that a substrate thickness of the exposed region has a second thickness (L2) ;
A third photoresist layer is formed on the substrate so as to expose a region corresponding to pixel regions of the organic light emitting display device in a region having a second thickness of the substrate, A step of performing a second etching process on the substrate; And
Patterning the first photoresist layer and etching the substrate with a mask to form a plurality of openings corresponding to pixel regions of the organic light emitting display and a lip formed between the openings, A method of manufacturing a shadow mask for an organic electroluminescent display device.
제 9 항에 있어서, 상기 1차 식각 공정으로 인하여 형성되는 기판의 제 2 두께(L2)는 기판의 제 1 두께(L1)의 0.25~0.9배의 범위인 것을 특징으로 하는 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법.
The organic electroluminescent display device according to claim 9, wherein the second thickness (L2) of the substrate formed by the first etching process ranges from 0.25 to 0.9 times the first thickness (L1) of the substrate. A method of manufacturing a shadow mask.
제 9 항에 있어서, 상기 개구부들 사이에 형성되는 립들은 3개의 서로 다른 제 1, 2 및 제 3 폭(W1, W2, W3)을 갖는 것을 특징으로 하는 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법.
The method of claim 9, wherein the lips formed between the openings have three different first, second, and third widths (W1, W2, W3). .
제 11 항에 있어서, 상기 립 중앙의 제 2 폭(W2)은 상기 립의 상하면의 제 1 및 제 3 폭(W1, W3)의 합의 절반보다 같거나 큰 것을 특징으로 하는 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법.
12. The organic electroluminescent display device according to claim 11, wherein a second width (W2) of the center of the rib is equal to or greater than half of a sum of first and third widths (W1, W3) A method of manufacturing a shadow mask.
제 1 두께(L1)를 갖는 기판의 양면에 제 1 포토레지스트층과 제 2 포토레지스트층을 형성하는 단계;
상기 제 2 포토레지스트층을 유기전계 발광 표시장치의 액티브 영역 또는 픽셀 영역과 대응되는 기판 영역이 노출되도록 패터닝한 다음, 노출된 영역의 기판 두께가 제 2 두께(L2)를 갖도록 1차 식각 공정을 진행하는 단계; 및
상기 패터닝된 제 1 및 제 2 포토레지스트층을 제거한 다음, 레이저 가공 공정을 적용하여, 상기 유기전계 발광 표시장치의 픽셀 영역과 대응되는 기판 상에 다수개의 개구부와 상기 개구부 사이에 형성된 립을 형성하는 단계를 포함하는 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법.
Forming a first photoresist layer and a second photoresist layer on both sides of a substrate having a first thickness (L1);
The second photoresist layer is patterned to expose an active region of the organic light emitting display device or a substrate region corresponding to a pixel region and then a first etching process is performed so that the substrate thickness of the exposed region has a second thickness L2 An advancing step; And
Removing the patterned first and second photoresist layers and then applying a laser processing process to form a plurality of openings on the substrate corresponding to the pixel region of the organic light emitting display and a lip formed between the openings And forming a shadow mask on the substrate.
제 13 항에 있어서, 상기 1차 식각 공정으로 인하여 상기 액티브 영역과 대응되는 기판의 제 2 두께(L2)는 기판의 제 1 두께(L1)의 0.25~0.9배의 범위인 것을 특징으로 하는 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법.
14. The organic electroluminescent device according to claim 13, wherein the second thickness (L2) of the substrate corresponding to the active region due to the first etching process is in the range of 0.25 to 0.9 times the first thickness (L1) A method of manufacturing a shadow mask for a light emitting display.
제 14 항에 있어서, 상기 개구부들 사이에 형성되는 립들은 제 2 두께(L2)인 것을 특징으로 하는 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법.
15. The method of claim 14, wherein the lips formed between the openings have a second thickness (L2).
제 13 항에 있어서, 상기 개구부들 사이에 형성되는 립들은 3개의 서로 다른 제 1, 2 및 제 3 폭(W1, W2, W3)을 갖는 것을 특징으로 하는 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법.
14. The method of claim 13, wherein the ribs formed between the openings have three different first, second and third widths (W1, W2, W3). .
제 16 항에 있어서, 상기 립 중앙의 제 2 폭(W2)은 상기 립의 상하면의 제 1 및 제 3 폭(W1, W3)의 합의 절반보다 같거나 큰 것을 특징으로 하는 유기전계 발광 표시장치용 쉐도우 마스크 제조방법.



The organic electroluminescent display device according to claim 16, wherein a second width (W2) of the center of the rib is equal to or greater than half the sum of the first and third widths (W1, W3) A method of manufacturing a shadow mask.



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